WO2014101279A1 - 一种scr脱硝催化剂再生方法及其设备 - Google Patents

一种scr脱硝催化剂再生方法及其设备 Download PDF

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WO2014101279A1
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cleaning
catalyst
liquid
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gas
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郭桦
汪德志
路光杰
吴刚
肖雨亭
赵建新
欧阳丽华
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国电新能源技术研究院
北京国电龙源环保工程有限公司
江苏龙源催化剂有限公司
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    • B01J38/64—Liquid treating or treating in liquid phase, e.g. dissolved or suspended using alkaline material; using salts

Definitions

  • the present invention belongs to the field of air pollution control, and relates to a method for regenerating an SCR denitration catalyst and an apparatus therefor. In particular, it relates to a process and apparatus for cleaning and recovering the activity of a spent SCR denitration catalyst.
  • the principle of the SC denitration technology is to inject a reducing agent such as NH :i into the flue gas discharged from the boiler, and these reducing agents react with the NO in the flue gas under the action of the catalyst to form harmless nitrogen and water.
  • the core of the SCR denitration technology is the SCR catalyst.
  • the typical commercial SCR catalyst uses T iO as the carrier and the noble metal oxide such as VA-W0., (oO:, ) as the active component.
  • the appearance of the SCR denitration catalyst is honeycomb, flat plate and corrugated plate. The arrangement is vertically filled in a box about 2 meters long, 1 meter wide and 2 meters high to form a denitration catalyst module.
  • SC denitration catalysts have a problem of reduced activity during long-term operation.
  • reasons for the deactivation of the catalyst which are affected by operating conditions, such as dust and temperature fluctuations in the flue gas, which cause damage to the macroscopic results of the catalyst, as well as various toxic and harmful chemical components in the flue gas.
  • Alizarin, alkali metals, alkaline earth metals and metal oxides have the most toxic effects. These factors make the service life of the SCR denitration catalyst only 2-3 years, and the initial investment of the catalyst accounts for 40-60% of the total investment of the SCR system, which makes the catalyst an expensive consumable.
  • inactivated SCR catalysts can be extremely toxic to humans and the environment if not properly disposed of. If the deactivated SCR catalyst is regenerated, the life cycle of the SCR catalyst can be effectively extended, and the economic cost and toxicity can be reduced.
  • the deactivated SCR denitration catalyst with regenerative treatment conditions accounts for about 2/3 of the total amount of deactivated SCR denitration catalyst, about 12 to 150,000 mV. If it is re-used and reused by appropriate methods, it will save huge costs for thermal power plants, and also save a lot of resources for related catalyst raw materials industries such as titanium dioxide and chemical industries. According to the forecast, the regeneration cost of the catalyst is about 1,500 yuan / m', which will create a service industry output value of about 18-22.50 billion yuan per year. Wf sees that the regeneration of SCR denitration catalyst can not only reduce the cost of flue gas denitration operation in thermal power plants, but also reduce the environmental pollution caused by solid waste. Therefore, it is of great significance to regenerate the SCR denitration catalyst.
  • Japanese Patent Application No. 201 12049 1314. 8 discloses a method for online regeneration of a flue gas denitration catalyst. The method does not need to remove the catalyst module from the flue, but it is necessary to construct a catalyst regeneration system in the flue gas denitration system to complete the catalyst module in the flue. Regeneration steps such as soot blowing, washing, drying, and activation.
  • a reactor apparatus in which an SCR catalyst can achieve denitration reaction and regeneration is disclosed in Chinese Patent Application No. 201010599886. 8 and Chinese Patent Application No. 201020674106.
  • the SCR catalyst denitration reaction and the SCR catalyst regeneration can be carried out at intervals in the same reaction apparatus.
  • the regeneration process includes air purging, pickling and alkali removal, main agent replenishment, and dry roasting.
  • Chinese Patent Application No. 200920039767. X and Chinese Patent Application No. 200910031207. 4 discloses an off-line regeneration apparatus for a denitration catalyst.
  • the device is sequentially provided with a purging pool, a washing pool, an activation tank, and a drying tank.
  • the device can be used to purify, clean, dry, activate, etc. the deactivated SCR denitration catalyst.
  • this patent does not specifically disclose a method of regenerating an SCR denitration catalyst.
  • Cipheral Patent Application No. 200910031206 discloses an SCR denitration catalyst regeneration liquid.
  • the composition of the regenerant includes a penetration enhancer, a surfactant, ammonium metavanadate, ammonium paratungstate, ammonium paramolybdate, water, and an acid.
  • the regenerant can be used to supplement the active component of the SCR catalyst.
  • this patent does not describe the regeneration method of the SCR denitration catalyst. If the regenerant is used alone, the amount of the catalyst regeneration liquid is large. In addition, the regenerating liquid contains toxic elements such as vanadium, and a large amount of emissions will cause environmental pollution.
  • U.S. Patent No. 7,592,283 describes a method of regenerating a honeycomb type SCR denitration catalyst using a bubble agitation device.
  • a regeneration liquid composed of ammonium vanadate, ammonium paratungstate, acid, and deionized water is used, and the deactivated SCR catalyst is cleaned and regenerated in a bubble agitated apparatus.
  • FIG. 201 1 10071623. 4 discloses a VA-W (VTi (recycling method after the alkali metal poisoning of Cuihua agent, using a DC stabilized power source for electrophoresis of an alkali metal poisoning catalyst immersed in water, The stable voltage is 1.6 V, the electrophoresis time is 24 36 h, and finally dried in an oven at 100-120 ° C for 12-20 h, so that the alkali metal ions adsorbed on the surface of the catalyst leave the surface of the catalyst and enter the water body under the action of an electric field. Thus, the activity of the catalyst is recovered.
  • the method is simple, it is only suitable for the SCR catalyst of alkali metal poisoning. There are many factors causing the deactivation of the SCR catalyst, such as the pores, pore diameter, etc. of the fly ash blocking catalyst.
  • the present invention provides a method for regenerating an SCR denitration catalyst, which is mainly to remove contaminants on a deactivated SCR denitration catalyst by mechanical cleaning.
  • the SCR denitration catalyst to be treated may be a honeycomb type, a flat plate type, and a corrugated plate type; it may be a vanadium tungsten titanium base or a vanadium molybdenum titanium base catalyst.
  • the contaminants to be treated are the ash deposited on the catalyst by various components of the flue gas.
  • the composition of ash includes silica, alumina, potassium oxide, sodium oxide, lead oxide, arsenic oxide, copper oxide, zinc oxide, mercury oxide, chromium oxide, phosphorus pentoxide, calcium oxide, magnesium oxide, lithium oxide, oxidation.
  • an SCR denitration catalyst regeneration method includes process steps of
  • a gas cleaning process including a soot blowing process and a vacuuming process.
  • Soot blowing process removing ash on the deactivated SCR denitration catalyst by gas cleaning, wherein the gas cleaning technique comprises blowing the catalyst to be treated with the compressed gas and sucking off the fly ash on the catalyst using the suction device .
  • the gases used may be air, nitrogen, carbon dioxide, oxygen, hydrogen, helium, neon, argon, methane, ethane, and mixtures thereof.
  • the soot blowing method is to purify the deactivated SCR denitration catalyst monolith or assembly module using a compressed gas of 0-5. 0 MPa and a flow rate of 0-1 m7s in an open or closed space.
  • the catalyst composition module is generally composed of a plurality of monolithic catalysts vertically stacked in a box having a length of about 2 meters, a width of 1 meter, and a height of 2 meters.
  • the gas nozzle and the catalyst should be kept at a distance of 0.01 to 5.
  • the angle between the gas purging direction and the direction of the catalyst channel is less than 60 °, and the gas nozzle or catalyst can be moved at a speed of 0 5 m/s in the direction of 30 ° -90 ° from the catalyst channel.
  • the goal is to clear the blockage. Fly ash from the catalyst channels.
  • the above gas soot blowing process may be carried out continuously or intermittently; the intermittent purging time is 0-5 h each time, and the interval of blowing is 0 0 h at each interval of 0 5 h.
  • sootblowing and ash doping processes described above may be alternated or may be sequentially interchanged.
  • Liquid cleaning process liquid cleaning is used to remove contaminants on the catalyst.
  • the liquid used can be water or an aqueous solution.
  • the water includes tap water, distilled water, demineralized water, deionized water, and water; the solute of the aqueous solution includes '; one of a penetration enhancer, an emulsifier, a leveling agent, a corrosion inhibitor, a complexing agent, an acid or a base or Several.
  • Its acidity]' is hydrochloric acid, nitrate Acid, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, carbonic acid; the alkali may be sodium hydroxide, potassium hydroxide or ammonia.
  • the penetration enhancer in the aqueous solution accounts for 0-5% of the mass fraction of the cleaning solution
  • the emulsifier accounts for 0-5% of the mass fraction of the cleaning solution
  • the leveling agent accounts for 0-5% of the mass fraction of the cleaning solution
  • the acid or alkali accounts for the mass of the cleaning solution.
  • the score is 0-10%
  • the corrosion inhibitor accounts for 0-5% of the cleaning liquid mass fraction
  • the complexing agent accounts for 0-10% of the cleaning liquid mass fraction.
  • Liquid cleaning includes high pressure liquid rinsing, chemical cleaning, and ultrasonic cleaning.
  • the flushing method is to flush the deactivated SCR denitration catalyst of a monolithic or assembled module using a high pressure liquid of 0-50 MPa, a temperature of 0 100 V, and a flow rate of 0-1 m : 7 s in an open or closed space.
  • a high pressure liquid 0-50 MPa
  • a temperature of 0 100 V a temperature of 0 100 V
  • 005 ⁇ The distance between the liquid outlet and the catalyst is maintained at a distance of 0. 005 5. 0 m.
  • the angle between the direction of liquid ejection and the direction of the channel of the catalyst during high pressure liquid rinsing is between 0° and 60°.
  • the high-pressure liquid rinsing process can be carried out by moving the catalyst with a fixed catalyst moving liquid nozzle or a fixed nozzle.
  • the liquid nozzle or the moving direction of the catalyst is in any direction at an angle of 30-90° with the direction of the catalyst channel; the moving speed of the liquid nozzle or catalyst is 0- 5 m/s.
  • the high pressure liquid rinsing process can be carried out intermittently or continuously; the intermittent rinsing time is 0-5 h each time, each interval is 0-5 h, and the cumulative rinsing time is 0-8 ho
  • the chemical cleaning method is to inject the deactivated SCR denitration catalyst of the monolithic or assembled module into the cleaning tank containing the above aqueous solution to soak the catalyst, and the catalyst can be completely immersed in the aqueous solution.
  • the liquid agitation device and the liquid heating device may be installed in the cleaning tank to improve the cleaning efficiency.
  • the liquid agitation may be mechanical agitation paddle stirring, electromagnetic stirring, vibrating agitation or gas agitation stirring.
  • the heating device is capable of controlling the liquid temperature between 0 and 100 °C.
  • the catalyst can be placed in the wash tank intermittently or continuously during the chemical cleaning process for cleaning.
  • the catalyst In the process of intermittently placing the catalyst, the catalyst is placed in a cleaning tank containing an aqueous solution for 10 8 hours, and then taken out, and then other catalysts are immersed and washed as described above; the catalyst is continuously placed in the cleaning process to be filled with solid materials in the cleaning tank.
  • the transfer device can continuously place the catalyst on the transfer device, and the catalyst enters the cleaning tank at a speed of 0 5 m/s, and advances with the transfer device in the cleaning tank until it exits the cleaning pool from the outlet of the cleaning pool.
  • the chemical cleaning process can be intermittently immersed or continuously immersed and cleaned; intermittent immersion cleaning time is 0-5 h each time, each interval is 0-5 h, and the cumulative immersion cleaning time is 0 8 h. Chemical cleaning removes contaminants from the catalyst surface or catalyst channels.
  • Ultrasonic cleaning is performed on the deactivated SCR denitration catalyst by ultrasonic means, and the ultrasonic cleaning can remove the pollutants in the catalyst pores and the pores.
  • the ultrasonic cleaning method is to clean the catalyst by placing the deactivated SCR denitration catalyst of the monolith or assembly module into an ultrasonic cleaning tank containing water or an aqueous solution, and the catalyst can be completely immersed in the cleaning liquid.
  • the ultrasonic cleaning process can place the catalyst into the ultrasonic cleaning vessel intermittently or continuously.
  • the ultrasonic cleaning process is intermittently placed in the ultrasonic cleaning process for the catalyst to be placed in an ultrasonic cleaning container containing water or an aqueous solution for 0-8 hours, and then the other catalyst is added for ultrasonic cleaning according to the above method;
  • a solid material conveying device is installed in the ultrasonic cleaning vessel containing water or an aqueous solution, so that the catalyst is continuously placed on the upper conveying device at a rate of (5 m / s)
  • the degree of entry into the ultrasonic cleaning container, in the ultra-wave cleaning container the catalyst moves forward with the conveyor until it exits from the ultrasonic cleaning container outlet.
  • the catalyst can be placed in the catalyst channel and the liquid surface.
  • the catalyst channel is at an angle of 0° - 90° to the direction of the ultrasonic wave; a single catalyst or catalyst module can be placed side by side or up and down.
  • the ultrasonic device has acid, alkali and corrosion resistance; the ultrasonic device is equipped with a heating device to clean the catalyst from room temperature to 100 °C.
  • the ultrasonic frequency can be continuously adjusted between 20 and 300 kHz during ultrasonic cleaning; the ultrasonic power can be continuously adjusted between 0 and 5 kW.
  • the ultrasonic cleaning process can be intermittently cleaned or continuously cleaned; the intermittent ultrasonic cleaning time is 0-5 h each time, each interval is 0 5 h, and the cumulative ultrasonic cleaning time is 0-8 h.
  • the treated catalyst is sent to a drying process.
  • the drying process is carried out in a dry box. It can be dried intermittently or continuously.
  • the batch drying is carried out after the catalyst is placed in a closed desiccator for a period of time, and then other catalysts are put into the drying method as described above; the continuous drying process is equipped with a solid material conveying device in the drying device, and the catalyst can be continuously placed.
  • the catalyst enters the dryer at a rate of 0-5 ni/s and the catalyst moves forward with the conveyor until it exits the dryer outlet.
  • the temperature of the dryer can be manually adjusted or programmed.
  • the temperature in the dryer can be adjusted at different positions along the direction of movement of the catalyst during continuous drying.
  • the drying time is generally 40-300 ° C; the drying time is 0.124 h.
  • the water content of the catalyst after drying was less than 1.1% of the mass of the catalyst.
  • the deactivated SCR denitration catalyst is regenerated by the method of the invention, and the catalyst after regeneration has at least one of the following indexes: the denitration efficiency of the catalyst reaches 40%-90%, and reaches 50% of the original fresh catalyst denitration efficiency 1 15%;
  • the axial compressive strength of the catalyst was 200 N/cm 2 , the radial compressive strength was 70 N/cm 2 ; S (the conversion of VS0 :i was 1%; the ammonia escape rate was 3 ⁇ 43 ppm).
  • the advantages of the present invention are: 1. A large amount of concentrated treatment of the deactivated SCR denitration catalyst. 2. It can remove the surface of the SCR denitration catalyst and the catalyst pores and contaminants in the pore size. 3. Ability to handle deactivated SCR catalysts produced by different factors.
  • An SCR denitration catalyst regeneration method of the present invention comprises the following technical solutions:
  • a method for regenerating an SCR denitration catalyst comprising first using a gas cleaning process, then using a liquid cleaning process, and finally using a drying process, or comprising first using a liquid cleaning process, then using a gas cleaning process, and finally using drying.
  • the process removes contaminants from the deactivated SCK denitration catalyst.
  • the SCR denitration catalyst may be a honeycomb type, a flat plate type, a corrugated plate type, or may be a monolithic catalyst or a catalyst constituent module.
  • the module is a plurality of monolithic catalysts which are vertically stacked at a length of about 2 meters, a width of 1 meter, and a height of 2 meters.
  • the module forms a module.
  • composition of the ash comprises silica, alumina, potassium oxide, sodium oxide, lead oxide, arsenic oxide, copper oxide, Zinc oxide, oxidized mercury, chromium oxide, phosphorus pentoxide, calcium oxide, magnesium oxide, lithium oxide, cerium oxide, cerium oxide, iron oxide, potassium chloride, sodium chloride, magnesium chloride, ferric chloride, ammonium chloride, Aluminum chloride, iron sulfate, ammonium sulfate, potassium sulfate, sodium sulfate, magnesium sulfate, calcium sulfate, aluminum sulfate, copper sulfate, zinc sulfate, iron sulfite, ammonium sulfite, potassium sulfite, sodium sulfite, magnesium sulfite, sub- Calcium sulfate, aluminum sulfite, copper sulfite, zinc sulfite,
  • the gas sootblowing and ash doping process described above may be carried out in a closed system or in an open system.
  • liquid cleaning comprises liquid washing, chemical washing, and ultrasonic cleaning.
  • the distance between the liquid nozzle and the catalyst is 0.005 - 5.0 m.
  • the pressure of the high-pressure liquid is 0-50 Pa
  • the flow rate of the high-pressure liquid is 0-1 ms
  • the liquid can be heated to room temperature 100.
  • °C. 32)
  • the ultrasonic cleaning process described in the present invention may be performed by intermittently or continuously placing the catalyst in an ultrasonic cleaning container for cleaning.
  • the batch is placed in the ultrasonic cleaning
  • the in-tank cleaning process is to clean the catalyst by placing it in an ultrasonic cleaning container containing the water or aqueous solution described in (3).
  • the intermittent cleaning time is 0-5 h after each time, the catalyst is taken out, and then other catalysts are added and washed according to the above method, each interval is 0-5 h, and the cumulative ultrasonic cleaning time is 0-8 ho.
  • the water content of the catalyst after drying is 1.1% of the mass of the catalyst.
  • the upper limit of the gas purge time (H(H) is 2 - 8
  • the lower limit of the gas soot time range is 0 - 2.5 according to any one of (1) to (61).
  • the upper limit of the liquid rinsing time is 2-8.
  • the lower limit of the liquid rinsing time (!, -,) ranges from 0 to 5.
  • the upper limit of the ultrasonic cleaning time (H s -,) is 2 - 8 h
  • the lower limit (Ls - , ) is 0 - 3
  • the upper limit of the ultrasonic cleaning solution concentration is 4-10%
  • the lower limit of the ultrasonic cleaning solution concentration (Ls-c) is 0-5. %.
  • the upper limit of the drying temperature (H is 150 300 V, and the lower limit of the drying temperature ( ) ranges from 40 to 160 V, according to any one of the methods (1) to (82).
  • An SCR denitration catalyst regeneration apparatus of the present invention comprises the following technical solutions:
  • An SCR denitration catalyst regeneration apparatus comprising a gas cleaning device, a liquid cleaning device, and a drying device.
  • the gas sweeping device comprises a soot blowing device and a dust collecting device; the gas cleaning device further comprises a sending device for transmitting catalyst.
  • the liquid washing apparatus comprises a liquid washing apparatus, a chemical washing apparatus, and an ultrasonic cleaning apparatus.
  • the liquid rinsing apparatus includes an open or closed space, a nozzle, and a conveying device;
  • the chemical cleaning device includes a washing pool, a stirring device, and a heating device, on which a conveying device is provided for conveying a catalyst;
  • the ultrasonic cleaning device comprises a cleaning tank, a heating device and an ultrasonic device, and a conveying device is provided on the cleaning pool for conveying the catalyst.
  • the regeneration of the SCR denitration catalyst using the process of the invention comprises various embodiments.
  • the factors affecting the catalyst regeneration effect in these embodiments are mainly the type of cleaning liquid, the temperature of the cleaning liquid, the concentration of the cleaning liquid, the time, and the regeneration process.
  • the regeneration process can be divided into ultrasonic cleaning process, referred to as “ultrasound” and other processes, referred to as “other”; cleaning liquid can be divided into acidic cleaning liquid, referred to as “acid” and alkaline cleaning liquid, referred to as "alkali”;
  • An upper limit range is called H w and the lower limit range is L, .- 1 .
  • the upper limit of the concentration of the cleaning solution (H ⁇ ) is 3 10%, and in this range, 3 ⁇ 4 can be lower than 9%, and the ideal value is 7%; H, _- t can be even lower than 5%, and most preferably 4%.
  • the lower limit of the concentration of the cleaning solution (L L - C ) ranges from 0 to 4%, and may be higher than 0.1% in this range, and the ideal value is 0.5%; even higher than 2%, and most preferably 2.5%.
  • the upper limit of the regeneration time ( ⁇ , ⁇ ) is 2-8 h, which can be lower than 7 h in this range, and the ideal value is 5 h ; even lower than 3 h, and optimally 2.5 h.
  • the lower limit of the regeneration time (L I ) ranges from 0 to 2.5 h, and can be higher than 0.1 h in this range, and the ideal value is 0.5 h; ⁇ can even be higher than 1.0 h, the best is 1.5 ho.
  • the temperature of the cleaning solution has an upper limit range.
  • the lower and lower limits are for L.. composer,.
  • the upper limit is 60-100 °C. Within this range, ⁇ Below 90 V, the ideal value is 80 °C ; ⁇ can even be lower than 70 V, preferably 65 V.
  • the lower limit of the cleaning solution temperature (-) ranges from room temperature to 65 °C, which can be higher than 40 in this range. V, ideally 45 °C; even higher than 50 °C, optimally 55 ° C
  • Each of these factors may select an upper limit value and a lower limit value in these specific implementations, and may be arbitrarily selected between the upper limit value and the lower limit value.
  • the washing liquid temperature may be arbitrarily selected between and L ⁇ TM; cleaning fluid and concentration may be arbitrarily selected between ⁇ ; ⁇ and time may ⁇ ⁇ - arbitrarily selected between Î ⁇ ; regeneration process may be used in combination.
  • Table 1 contains some of the design embodiments of the method of using the regenerated SCR denitration catalyst of the present invention.
  • Table 1 contains some of the design embodiments of the method of using the regenerated SCR denitration catalyst of the present invention.
  • Each implementation contains one or more processes, each with its own influencing factors.
  • the main processes during catalyst regeneration include high pressure gas soot, ash absorption, high pressure liquid rinsing, chemical cleaning and ultrasonic cleaning.
  • the factors affecting high-pressure gas soot blowing are gas pressure, gas flow rate, soot blowing time, soot blowing angle and nozzle-to-catalyst distance; the factors affecting the suction are vacuum, ashing time and distance between gas inlet and catalyst; high pressure liquid
  • the factors affecting the rinsing are liquid pressure, liquid flow rate, rinsing time, liquid temperature, rinsing angle and distance between the liquid nozzle and the catalyst.
  • the factors affecting the chemical cleaning include the type of cleaning liquid, the concentration, the temperature of the cleaning solution and the cleaning time.
  • the influencing factors are ultrasonic power, ultrasonic frequency, type of cleaning fluid, concentration of cleaning fluid, temperature of cleaning fluid, and ultrasonic cleaning time.
  • the lower limit range is the upper limit of the gas pressure.
  • the range is 2-5 MPa, and within this range, it can be lower than 4.5 Wa, ideal value. It is 4.0 MPa ; ⁇ , .. can even be less than 3 MPa, and most preferably 2.5 MPa.
  • the gas pressure limit ( , - P ) ranges from 0 to 2.5 1 Pa. In this range, L ( can be higher than ().1 MPa, ideally 0.5 MPa; even higher than 1.0 MPa, optimally 1. ⁇ MPa.
  • the gas purge time has -... an upper limit range, and the b-limit range is "-".
  • the upper limit of the gas purge time (H Reid,) is 2-8 h, which is 3 ⁇ 4 in this range ; 1 can be lower than 7 h, ideal value is 5 h ; I even lower is -3 h, optimally 2.5 h.
  • the gas soot time limit (L) ranges from 0 to 2.5 h, in this range L, 3 ⁇ 4 ⁇ ' 0. 1 h, ideal value is 0.5 h ; L,;-, even ⁇ at 1.0 h, optimally 1.5 gas flow has an upper limit
  • the lower limit range is L ( H.
  • the upper limit of the gas flow rate (H ( , - is 0.4-l mVs, in this range H M : can be lower than 0.9 m7s, ideally 0.8 mVs; even lower than 0.7 m 'Vs, preferably 0.5 m : 7 s .
  • the lower limit of gas flow (L ( , - F ) range 0 0.5 mVs, in this range L argue can be higher than 0.1 mVs, ideally 0.2 mVs ; L ( H. even It can be higher than 0.3 mVs, preferably 0.35 m7s.
  • the upper limit of the soot blowing angle is H and the lower limit is L c - A.
  • the upper limit of the soot angle ( _ ⁇ ) is 20° -60° , In this range, H can be lower than 50°, and the ideal value is 40°; - ⁇ can even be lower than 30°, and optimally is 25°.
  • the lower limit of the soot angle (; - ⁇ ) range is 0° 25°, in this range
  • the inner ⁇ can be higher than 1 °, the ideal value is 4 °; L can even be higher than 10 °, and the optimum is 15 °.
  • the nozzle and catalyst distance has an upper limit range of 3 ⁇ 4, - and the lower limit range is L t; - .. upper nozzle and the distance from the catalyst (.
  • H (, -) of 1-5 m, ⁇ within this range) may be less than 4 m, the ideal value of 3 m; - even.
  • the range of 0.01-1.1 m, L within this range (; - may be greater than 0.1 m, the ideal value of 0.2 m.;. It can even be higher than 0.3 m, preferably 0.5 m.
  • the vacuum degree of the ash suction device has an upper limit range, that is, ⁇ , -, ' and the lower limit range is L- v .
  • the upper limit of the degree of vacuum ( ⁇ ⁇ — J is - 40 0 kPa, in this range H, , - t can be lower than -5 kPa, ideally - 20 kPa ; ⁇ ⁇ -, or even less than -30 kPa The optimum is -35 kPa.
  • the lower limit of the vacuum (L,,) ranges from -101 to -35 kPa.
  • L, -v can be higher than 90 kPa, and the ideal value is -70 kPa ; It can be higher than 60 kPa, and preferably is -50 kPa.
  • the upper limit of the ashing time is the range of H and the lower limit, i.
  • the upper limit of the ashing time ( ⁇ ⁇ - ⁇ ) is 2 8 h, within this range.
  • ⁇ ⁇ - can be lower than 7 h, ideal value is 5 h; 11, and even less than 3 h, the optimal lower limit of 2.5 ashing time is 0-2.5, which can be higher than 0.1 ideal value in this range may be even higher than 1.0 to 0.5, most preferably 1.5 catalyst from the gas inlet and an upper limit range, i.e., for ⁇ ⁇ -.
  • H ) can be lower than 4 m, ideally 3 m; H M can be even lower than 2 m, preferably 1.5 m.
  • the lower limit of distance a, , - u ) range 0.00 5-1. lm, in this range criz can be higher than 0.1 m, ideally 0.2 m; L M can even be higher than 0.3 m, preferably 0.5 m.
  • the liquid pressure has an upper limit range, that is, the lower and lower limit ranges.
  • the upper limit of the liquid pressure ( ⁇ , .- ⁇ ) is 20 50 MPa, in this range H ⁇ . can be lower than 45 MPa, ideally 40 MPa; -p can even be lower than 30 MPa, optimally 25 MPa .
  • the lower limit of liquid pressure (1 ⁇ ,) ranges from 0 25 MPa, which can be higher than 1 VlPa in this range, ideally 5 MPa; L can even be higher than 10 MPa, and ift is preferably 15 MPa.
  • the liquid rinsing time has an upper limit range that is the lower and lower range.
  • the upper limit of the liquid rinsing time is 2-8 h, in this range ⁇ : can be lower than 7 h, the ideal value is 5 h ; the total wf is less than 3 h, and the best is 2. ⁇ h.
  • the liquid rinsing time limit (LH) ranges from 0 to 2.5 h. In this range, L, : ⁇ is 0.1 0.1 h, ideally 0.5 h; even higher than 1.0 h, optimally 1.5 h. There is an upper limit to the liquid flow rate.
  • the upper limit of the liquid flow rate (H w .) is 0.4-1 m7s, which can be less than 0.9 m7s in this range, ideally 0.8 mVs ; even lower than 0.7 m'/s, optimally 0.5 m'/s.
  • the lower limit of the liquid flow rate (L w .) ranges from 0 to 0.5 mVs, which can be higher than 0.1 m :, /s, ideally 0.2 m'/s; - F can even be higher than 0.3 m7s, optimally 0.35 m'Vs.
  • Rinse angle range i.e., as an upper limit and lower limits i.e., as ⁇ .- A.
  • the upper limit of the flushing angle (3 ⁇ 4- A ) is 20° - 60°, in this range « can be lower than 50°, ideally 40°; - ⁇ can even be lower than 30°, optimally 25°.
  • the lower limit of the flushing angle ranges from 0° to 25°. In this range, -A can be higher than ⁇ , and the ideal value is 4°; even higher than 10°, and most preferably 15°.
  • the catalyst from the liquid nozzle has a range that is, for H_ D upper and lower limits i.e., as L H).
  • the upper limit of the distance between the liquid nozzle and the catalyst is 1-5 m, which can be less than 4 m in this range, ideally 3 m ; strictly even less than 2 m, preferably 1.5 m.
  • the lower limit of the distance between the liquid nozzle and the catalyst (L- D ) Range 0.01-1.1 m, above 0.1 m in this range, ideally 0.2 m ; L LD can even be higher than 0.3 m, preferably 0.5 ⁇
  • the cleaning liquid may be an organic cleaning liquid or an inorganic cleaning liquid; the concentration of the cleaning liquid has an upper limit range and the lower limit range is -t .
  • the upper limit of the concentration of the cleaning solution (H c - C ) is 3-1%, and within this range ⁇ can be less than 9%, ideally 7%; even lower than 5%, optimally 4%.
  • the lower limit (p) of the liquid concentration ranges from 0% to 4%, and in this range, 1 can be higher than 0.1%, ideally 0.5%; even higher than 2%, optimally 2.5%.
  • Chemical cleaning time has an upper limit range
  • the immediate and lower range is [".
  • the upper limit of chemical cleaning time ( — ⁇ ) is 2-8 h, which can be less than 7 h in this range, ideally 5 h; - ⁇ can be even lower than 3 h, optimally 2.5 ho chemical cleaning time
  • the lower limit (Lc-r) ranges from 0 to 2.5 h. In this range, L t _ T can be higher than 0.1 h, and the ideal value is 0.5 h ; even higher than 1.0 h, the optimum is 1.5 ho.
  • the upper limit range and the lower limit range are the upper limit range (H t — I ,) is 60-100 V, and in this range can be lower than 90 V, the ideal value is 80 V; - ⁇ can even be lower than 70 V, the most Good for 65 V.
  • the lower limit of the cleaning solution temperature (U-,,; ranges from room temperature to 65 V, in this range -ford. unbe can be higher than 40 V, ideally 45 °C; Lc— I1: M can even be higher than 50 °C , the best is 55 °C.
  • the cleaning liquid may be an organic cleaning liquid or an inorganic cleaning liquid.
  • the ultrasonic frequency has an upper limit range, that is, the lower limit range is L sl .
  • Upper limit range (Hs-r) 3 ⁇ 4 70-300 kHz, within this range + can be lower than 200 kHz, ideally 150 kHz; even low D ⁇ 100 kHz, optimally 80 kllzo lower limit of ultrasonic frequency (L)
  • the range is 20-75 kll'z, which can be higher than 25 kHz in this range, ideally 35 kHz; even higher than 40 kHz, optimally kW.
  • the upper limit range is 1, ) 3 ⁇ 42-8 h, in this range H, can be less than 6 h, ideally 4 h ; H s __i can even be less than 3 h, preferably 2.5 h.
  • the range of b' is 0-3 h, which can be higher than 0.1 h in this range, and the ideal value is 0.5 h ; even ⁇ 1.0 h, the best is 1.5 h.
  • Ultrasonic power has The upper limit range is called - P and the lower limit range is L s .
  • the upper limit range (H M) of ultrasonic power is 2-5 kW.
  • H s - P can be lower than 4.5 kW, ideally 4.0 kW ; H S _ P can be even lower than 3.0 kW, optimally 2.5 kW.
  • the lower limit of the ultrasonic frequency (the range is 0 3 kW, which can be higher than 0.1 kW in this range, ideally 0.5 kW ; P can even be higher than 1.0 kW, optimally 2.0 kW.
  • the concentration of the cleaning solution has an upper limit range That is, H s and the lower limit range are L s -c.
  • the upper limit range of the cleaning solution concentration (H SE ) is 4-10%, and in this range, it can be lower than 9%, and the ideal value is 8%; even lower than 7%, optimally 5%.
  • the lower limit of the concentration of the cleaning solution ranges from 0 to 5%, in this range L s - C can be higher than 0.1%, ideally 0.5%; even higher than 2.0 %, optimally 3.5%.
  • the temperature of the cleaning solution has an upper limit range of H s - Tl .:, and the lower limit range is for ra .
  • the upper limit of the cleaning solution temperature is 60-100 V, within this range H S - IIA can be less than 90 V, ideally 80; HS-, ⁇ , even lower than 70 V, preferably 65 ° C.
  • the lower limit of the cleaning solution temperature (L s -êt,) ranges from room temperature to 65 V, in this range - Tl . constructive can be higher than 35 V, ideally 40 V; even higher than 50 V, optimally 55 °C.
  • the lower limit range that is, the upper limit range (H u - r ) of the drying time is 10-48 h, and in this range, it may be lower than 40 h.
  • the ideal value is 30 h; H M can be even lower than 20 h, preferably 12 h.
  • the lower limit of the drying time (-,) ranges from 0. b 11 h, in this range - it can be higher than 1 h, and the ideal value is 5 h ; L I) can be even higher than 7 h, preferably 9 h.
  • the drying temperature has an upper limit range of H i II , and the lower limit range is 1 ⁇ .
  • the upper limit range ( ⁇ ) is 150-300 V, which can be less than 250 V in this range, ideally 200 °C; Hvisor- , , or even less than 170 V, optimally 165 V.
  • Lower limit of drying temperature The range of (L.,) is 40-160 V. In this range, -n, can be higher than 70 °C, and the ideal value is 95 V. L.- M can even be higher than 12 CTC, and most preferably 145 °C.
  • the upper limit value and the lower limit value may be selected for each factor value in these specific implementations, and may be arbitrarily selected between the upper limit value and the lower limit value.
  • the gas pressure during gas purge can be arbitrarily selected between L ( , _ and ⁇ , -p; the gas soot time can be arbitrarily chosen between -; the gas flow can be in L (; -,. and H ( H. arbitrarily choose between; gas nozzle and catalyst distance can be arbitrarily selected between Spotify and 3 ⁇ 4—“; the soot blowing angle can be arbitrarily chosen between L and, -,, etc.
  • the vacuum degree of the equipment can be in and ,, -, arbitrarily select between; soot absorption time and can be arbitrarily selected between H, V1; a gas inlet from the catalyst can ⁇ 1 "and ⁇ ⁇ , arbitrarily selected pressure of the liquid between the liquid flushing procedure may be L.
  • liquid rinsing time can be arbitrarily chosen between I; liquid flow can be arbitrarily chosen between Li-i and arbitrarily; the rinsing angle can be arbitrarily selected between -B, liquid nozzle and catalyst distance ⁇ Any choice between and.
  • Chemical cleaning process cleaning solution can be used together with inorganic cleaning solution and inorganic cleaning solution: liquid concentration can be arbitrarily selected between 1 ⁇ and Hc-; liquid temperature can be in L ⁇ ,, ⁇ ⁇ , Arbitrary choice between; time wi
  • the ultrasonic frequency can be arbitrarily selected between 1 ⁇ and; the ultrasonic power can be arbitrarily selected between L S and ; the ultrasonic cleaning time can be in L, - Any choice between i and ;
  • the organic cleaning solution is used as "yes", and the inorganic cleaning solution is used as "none”;
  • the concentration of the cleaning solution can be arbitrarily selected between ⁇ and H s ;
  • the temperature of the cleaning solution can be in -TM and QH s -TM is optional.
  • the drying temperature during the drying process can be in the ⁇ H. If you choose between _ ra , the drying time can be arbitrarily chosen between a ⁇ creme- ⁇ .
  • Table 2 contains some design implementations of the gas sootblowing process in the regenerated SCR denitration catalyst process of the present invention used.
  • Embodiment vacuum distance time Some design implementations of the liquid rinsing process in the method.
  • Table 5 contains some of the design embodiments of the chemical cleaning process in the regenerated SCR denitration catalyst process of the present invention used.
  • Table 6 contains some design implementations of the ultrasonic cleaning process in the regenerated SCR denitration catalyst process of the present invention used.
  • Table 7 contains some designs of the drying process in the re-t SCR denitration catalyst process of the present invention used.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a regeneration apparatus mechanism of an SCR denitration catalyst
  • 1 is a gas cleaning device
  • 1-1 is a soot blowing device
  • 1-2 is a vacuuming device
  • 2 is a liquid washing device
  • 2-1 is an open or closed space
  • 2 2 is the nozzle
  • 2 3 is the conveying device
  • 3 is the chemical cleaning equipment
  • 3 1 is the cleaning tank
  • 3 2 is the stirring equipment
  • 3 3 is the heating equipment
  • 3 4 is the conveying device
  • 4 is the ultrasonic cleaning equipment
  • 4 -1 is the cleaning tank
  • 4 2 is the heating device
  • 4-3 is the ultrasonic device
  • 4-4 is the conveying device
  • 5 is the drying device
  • 5-1 is the conveying device.
  • This embodiment provides a method for regenerating an SCR denitration catalyst, which comprises the following process steps:
  • Penetration enhancers JFC take account of the cleaning liquid fraction of 0.1% by mass, emulsifier 0P - 10 representing the cleaning liquid fraction of 0.1% by mass, a leveling agent +0 flat cleaning liquid mass fraction representing 0.1%, HN0: accounting cleaning liquid mass! 1.2% of the fraction, corrosion inhibitor accounted for 0.1% of the mass fraction of the cleaning solution, and the balance was deionized water.
  • the above materials were placed in the same container and mechanically stirred for 30 min to make them evenly mixed to obtain a cleaning solution.
  • the catalyst sample treated by the above method was subjected to denitration efficiency test, and the denitration efficiency was 60%.
  • This embodiment provides a method for regenerating an SCR denitration catalyst, which includes the following process steps:
  • the above-mentioned liquid-washed SCR denitration catalyst sample was ultrasonically cleaned using an ultrasonic device.
  • the ultrasonic frequency is 40 kHz
  • the ultrasonic power is 660 W
  • the cleaning medium is water
  • the cleaning time is 30 min.
  • the catalyst sample treated by the above method was subjected to a denitration efficiency test, and as a result, the denitration efficiency was 63%.
  • the catalyst sample denitration efficiency test method in this embodiment is the same as that in the first embodiment.
  • This embodiment provides a method for regenerating a SCR denitration catalyst, including a process step:
  • the above-mentioned liquid-washed SCR denitration catalyst sample was ultrasonically cleaned using an ultrasonic device.
  • the ultrasonic frequency is 40 kHz
  • the ultrasonic power is 660 W
  • the cleaning medium is water
  • the cleaning time is 20 min.
  • the catalyst sample denitration efficiency test method in this embodiment is the same as in the first embodiment.
  • Table 8 summarizes the process conditions and results of the above examples.
  • the chemical cleaning solution of Example 1 is: Take the penetration enhancer. IFC accounts for 0.1% of the mass fraction of the cleaning solution, the emulsifier 0P-10 accounts for 0.1% of the mass fraction of the cleaning solution, and the leveling agent is level + ⁇ 0.1% of the mass fraction of the liquid ⁇ 03 accounts for 1.2% of the mass fraction of the cleaning solution, and the corrosion inhibitor accounts for 0.1% of the mass fraction of the cleaning solution.
  • the balance is deionized water.
  • Example 2 The cleaning solution is: taking the penetration enhancer JFC as the cleaning liquid mass fraction of 0., the emulsifier OP-10 accounting for 0.5% of the cleaning liquid mass fraction, the leveling agent leveling +0 accounting for the cleaning liquid mass fraction 0.5% ⁇ accounted for : ⁇ liquid quality W: 5% of the score, corrosion inhibitor accounted for 0.3% of the cleaning liquid mass fraction
  • Example 4 The cleaning solution is: taking the penetration enhancer JFC as the cleaning liquid mass fraction of 0., the emulsifier OP-10 accounting for 0.5% of the cleaning liquid mass fraction, the leveling agent leveling +0 accounting for the cleaning liquid mass fraction 0.5% accounted for : ⁇ liquid quality W: 5% of the score, corrosion inhibitor accounted for 0.3% of the cleaning liquid mass fraction
  • Example 4 The cleaning solution is: taking the penetration enhancer JFC as the cleaning liquid mass fraction of 0., the emulsifier OP-10 accounting for 0.5% of the cleaning liquid mass fraction, the leveling agent leveling +0 accounting for the cleaning liquid mass fraction 0.5% accounted for : ⁇ liquid
  • an SCR denitration catalyst regeneration apparatus includes a gas cleaning device 1, a liquid cleaning device, and a drying device 5.
  • the gas cleaning device includes a soot blowing device 1-1 and a dust collecting device 1-2, and the gas cleaning device 1 further includes a conveying device 1-3 for conveying a catalyst.
  • the liquid washing apparatus includes a liquid washing apparatus 2, a chemical cleaning apparatus 3, and an ultrasonic cleaning apparatus 4.
  • the liquid rinsing device 2 comprises an open or closed space 2-1, a nozzle 2-2 and a conveying device 2-3;
  • the chemical cleaning device 3 comprises a washing tank 3-1, a stirring device 3-2 and a heating device 3 - 3, in the cleaning pool
  • a conveyor 3-4 is provided on the 3- 1 for conveying the catalyst;
  • the ultrasonic cleaning device 4 includes a cleaning tank 4- 1 , a heating device
  • a transfer device 4-4 is provided on the cleaning tank 4-1 for transferring a catalyst.
  • the transfer device 1-3, the transfer device 2-3, the transfer device 3-4, and the transfer device 4-4 are sequentially connected.
  • the gas cleaning device, the liquid cleaning device, and the drying device are sequentially connected by a conveying device, or the liquid cleaning device, the gas cleaning device, and the drying device are sequentially connected by a conveying device, and the invention can be achieved. purpose.

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Abstract

本发明涉及一种SCR脱硝催化剂再生方法及其设备，方法包括先使用气体清扫工艺、然后使用液体清洗工艺、最后使用干燥工艺，或者包括先使用液体清洗工艺、然后使用气体清扫工艺、最后使用干燥工艺，去除失活SCR脱硝催化剂上的污染物；设备包括气体清扫设备、液体清洗设备和干燥设备。本发明提供的一种SCR脱硝催化剂再生方法及其设备能够大量的集中处理失活SCR脱硝催化剂；能够对SCR脱硝催化剂的表面和催化剂孔道、孔径内的污染物进行清除；能够处理不同因素产生的失活SCR催化剂；使失活SCR脱硝催化剂集中再生处理，效率高。

Description

一种 SCR脱硝催化剂再生方法及其设备 技术领域
[0001 ] 本发明属于大气污染控制领域， 涉及一种 SCR脱硝催化剂的再生方法及其设备。 特别是涉及一种清洗恢复废 SCR脱硝催化剂活性的工艺及其设备。
背景技术
[0002] 随着 "十二五"期间我国对氮氧化物 （N0X ) 排放的控制越来越严格， 选择性催化 还原（SCR )脱硝技术因具有高效、 可靠的脱硝性能被广泛应用于燃煤电厂的脱硝系统。 目前 在国内燃煤电厂锅炉烟气脱硝系统中， 约 90%以上采用 SCR脱硝技术。
[0003] SC 脱硝技术的原理是向锅炉排放烟气中喷入 NH:i等还原剂， 这些还原剂在催化剂 的作用下与烟气中的 NO、发生反应生成无害的氮气和水。 SCR脱硝技术的核心是 SCR催化剂， 典型商业 SCR催化剂以 T iO,为载体， 以 VA-W0., ( oO:, ) 等贵金属氧化物为活性组分。 SCR 脱硝催化剂的外观形态有蜂窝式、平板式和波纹板式， 布置方式为竖直布满在一个约长 2米、 宽 1米、 高 2米的箱体内， 构成脱硝催化剂模块。
[0004] SC 脱硝催化剂在长期运行过程中存在活性下降问题。 造成该催化剂失活的原因 有很多， 既有运行工况的影响， 例如烟气中的粉尘和温度波动对催化剂宏观结果造成的损害， 也有烟气中各种有毒有害化学成分的作用， 其中砷兀素、 碱金属、 碱土金属及金属氧化物所 具有的毒害作用最为明显。 这些因素使得 SCR脱硝催化剂的使用寿命仅为 2-3年， 而催化剂 的初期投资占 SCR系统总投资的 40-60%, 这使催化剂成为昂贵的消耗品。 此外失活的 SCR催 化剂若不加以适当处置将对人体和环境造成极强的毒害作用。 若将失活的 SCR催化剂进行再 生处理， 则可有效延长 SCR催化剂使用周期， 降低经济成本和毒害作用。
[0005] 据统计具备再生处理条件的失活 SCR脱硝催化剂约占失活 SCR脱硝催化剂总量的 2/3， 约 12- 15万 mV年。 如果采用合适的方法予以再生重复使用， 将为火电厂节约巨大的成 本， 也为相关的催化剂原材料行业如钛白粉、 化工等行业节约大量的资源。 根据预测催化剂 的再生成本约为 1. 5万元 / m'， 将为社会创造服务业产值约 18-22. 5亿元 /年。 wf见对 SCR脱 硝催化剂再生不仅可以降低火电厂烟气脱硝运行的成本， 而且可以减少固体废弃物对环境造 成的污染。 因此， 对 SCR脱硝催化剂进行再生具有屯大意义。
[0006] 针对 SCR脱硝催化剂再生， H前存在的技术有在线再生和离线再生。 屮国专利申 请号 201 12049 1314. 8公开了一种烟气脱硝催化剂在线再生方法。该方法无需将催化剂模块移 出烟道， 但需要在烟气脱硝系统 h配套建设催化剂再生系统， 来完成对烟道内催化剂模块的 吹灰、 清洗、 干燥、 活化等再生步骤。 中国专利申请号 201010599886. 8 和中国专利申请号 201020674106. 7公开了一种 SCR催化剂可实现脱硝反应与再生的反应器装置。 该发明中 SCR 催化剂脱硝反应和 SCR催化剂再生可在同一个反应装置中间隔进行。 其中再生过程包括空气 吹扫、 酸洗除碱、 主剂补充、 干燥焙烧等过程。 上述方法虽然避免了对催化剂模块的移动， 但需要在每套烟气脱硝系统上建设催化剂再生系统。 而 SCR催化剂 2-3年才需要再生一次， 使得催化剂在线再生系统的利用率低下。 其建设、 维护和运行成本将远高于离线再生。
[0007] 中国专利申请号 200920039767. X和中国专利申请号 200910031207. 4公开了一种 用于脱硝催化剂离线再生装置。 该装置依次设有吹扫池、 清洗池、 活化池、 干燥池。 使用该 装置能够对失活 SCR脱硝催化剂进行吹扫、 清洗、 干燥、 活化等再生操作。 但该专利并未具 体公开 SCR脱硝催化剂的再生方法。
[0008] 中国专利申请号 200910031206. X公开了一种 SCR脱硝催化剂再生液。该再生液的 组成包括渗透促进剂、 表面活性剂、 偏钒酸氨、 仲钨酸氨、 仲钼酸氨、 水和酸。 使用该再生 液能够补充 SCR催化剂的活性组分。 但该专利并未说明 SCR脱硝催化剂的再生方法， 如果单 独使用该再生液冲洗催化剂再生液用量较大。 此外该再生液中含有钒等有毒元素， 大量排放 将造成环境污染。
[0009] 美国专利 US7， 592， 283介绍了一种采用气泡鼓动装置再生蜂窝型 SCR脱硝催化 剂的方法。 该方法中使用由钒酸氨、 仲钨酸氨、 酸和去离子水组成的再生液， 在有气泡鼓动 的装置内对失活的 SCR催化剂进行清洗再生。
[0010] 中国专利申请号 201 1 10071623. 4公开了一种 VA-W(VTi( 崔化剂碱金属中毒后的 再生方法，应用直流稳压电源对浸泡在水中的碱金属中毒催化剂进行电泳，稳定电压为 1. 6 V， 电泳时间为 24 36 h， 最后在 100- 120 °C的烘箱中干燥 12-20 h， 使吸附在催化剂表面的碱 金属离子在电场作用下离开催化剂表面进入水体， 从而使催化剂活性恢复。 该方法虽然简单 但仅适用于碱金属中毒的 SCR催化剂。 而引起 SCR催化剂失活的因素有很多， 如飞灰堵塞催 化剂的孔道、 孔径等。
[001 1 ] 综上所述， 现有的 SCR脱硝催化剂再生技术都不能很好的解决催化剂再生问题， 为了能够集中处理由各种原因产生的失活催化剂， 降低 SCR催化剂再生成本， 需要进一步开 发 SCR脱硝催化剂再生技术。
发明内容
[0012] 本发明的目的是提供一种简单^行的用于火电厂失活 SCR脱硝催化剂再生的方法 及其设备。 本发明的优点是不需要进行活性组分负载， 完成清洗后可以直接投入火电厂烟气 脱硝工程使用。 [0013] 本发明提供了一种 SCR脱硝催化剂再生方法， 该方法主要是采用机械清洗的方法 去除失活的 SCR脱硝催化剂上的污染物。 待处理的 SCR脱硝催化剂可以是蜂窝式、 平板式和 波纹板式； 可以是钒钨钛基也可以是钒钼钛基催化剂。 待处理的污染物为烟气中各种组分在 催化剂上沉积的灰分。 灰分的组成包括二氧化硅、 氧化铝、 氧化钾、 氧化钠、 氧化铅、 氧化 砷、 氧化铜、 氧化锌、 氧化汞、 氧化铬、 五氧化二磷、 氧化钙、 氧化镁、 氧化锂、 氧化铯、 氧化铷、 氧化铁、 氯化钾、 氯化钠、 氯化镁、 氯化铁、 氯化铵、 氯化铝、 硫酸铁、 硫酸铵、 硫酸钾、 硫酸钠、 硫酸镁、 硫酸钙、 硫酸铝、 硫酸铜、 硫酸锌、 亚硫酸铁、 亚硫酸铵、 亚硫 酸钾、 亚硫酸钠、 亚硫酸镁、 亚硫酸钙、 亚硫酸铝、 亚硫酸铜、 亚硫酸锌、 硝酸铁、 硝酸铵、 硝酸钾、 硝酸钠、 硝酸镁、 硝酸钙、 硝酸铝、 硝酸铜、 硝酸锌。 根据本发明的具体实施方案， 本发明提供的一种 SCR脱硝催化剂再生方法包括气体清扫、 液体清洗、 干燥等工艺步骤。 具 体工艺步骤如下：
[0014] 1、 气体清扫工艺， 包括吹灰工艺和吸尘工艺。
[0015] ( 1 )吹灰工艺： 使用气体清扫去除失活 SCR脱硝催化剂上的灰分， 其中气体清扫 技术包括使用压缩气体对待处理的催化剂进行吹灰和使用吸灰设备吸除催化剂上的飞灰。 所 用气体可以是空气、 氮气、 二氧化碳、 氧气、 氢气、 氦气、 氖气、 氩气、 甲烷、 乙烷以及它 们的混合气体。 吹灰方法为在一个敞开或封闭的空间内使用 0-5. 0 MPa， 流量为 0- 1 m7s的 压缩气体对失活 SCR脱硝催化剂单块或组装模块进行吹扫。 催化剂组成模块一般为多个单块 催化剂竖直布满在一个约长 2米、 宽 1米、 高 2米的箱体内构成。 吹扫时可以同时使用单个 或多个气体喷嘴， 气体喷嘴与催化剂要保持 0. 01 -5 的距离。 气体吹扫方向与催化剂孔道方 向的夹角要小于 60 ° ， 同时可以在与催化剂孔道成 30 ° -90 ° 的方向上以 0 5 m/s的速度移 动气体喷嘴或催化剂， 目标是清除堵塞在催化剂孔道的飞灰。 上述的气体吹灰过程可以连续 进行也可以间歇进行； 间歇吹扫时间每次 0-5 h， 每次间隔 0 5 h， 吹灰时间累计为 0-8 h。
[0016] ( 2 ) 吸尘工艺： 使用真空度在 101 -0 kPa的吸灰设备吸除 SCR脱硝催化剂上的 飞灰。 吸灰方法为打开吸尘设备， 将吸尘设备的气体入口对准催化剂的孔道， 同时与催化剂 保持 0. 005-5 m距离， 并且吸尘设备的气体入口能够以 0-5 r s的速度在与催化剂孔道方向 呈 30 ° -90 ° 角的方向移动来吸除催化剂上的飞灰。 吸灰过程可以连续进行也可以间歇进行； 间歇吸灰时间每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h . 吸灰时间累计 0-8 h o
[0017 ] 上述吹灰和吸灰工艺可以交替进行， 也可以顺序互换。
[0018] 2、 液体清洗工艺： 采用液体清洗去除催化剂上的污染物。 所用的液体可以是水或 水溶液。 水包括自来水、 蒸馏水、 除盐水、 去离子水、 离了水； 水溶液的溶质包括'；参透促进 剂、 乳化剂、 匀染剂、 缓蚀剂、 络合剂、 酸或碱中的一种或几种。 其屮的酸 ]'以是盐酸、 硝 酸、 硫酸、 磷酸、 醋酸、 碳酸； 碱可以是氢氧化钠、 氢氧化钾、 氨水。 水溶液中渗透促进剂 占清洗液质量分数的 0-5%， 乳化剂占清洗液质量分数的 0-5%， 匀染剂占清洗液质量分数的 0-5%， 酸或碱占清洗液质量分数的 0-10%， 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0-5%， 络合剂占清洗 液质量分数的 0-10%。 液体清洗包括高压液体冲洗、 化学清洗和超声清洗。
[0019] ( 1 )采用高压液体对 SCR脱硝催化剂进行冲洗。 冲洗方法为在一个敞开或封闭的 空间内使用 0-50 MPa, 温度为 0 100 V， 流量为 0-1 m:7s的高压液体对单块或组装模块的 失活 SCR脱硝催化剂进行冲洗。 冲洗时高压液体从液体喷嘴喷出， 可以使用单个或多个液体 喷嘴， 液体出口与催化剂要保持 0. 005 5. 0 m的距离。 高压液体冲洗过程中液体喷射方向与 催化剂的孔道方向之间的夹角在 0° -60° 之间。 高压液体冲洗过程可以采用固定催化剂移动 液体喷嘴或固定喷嘴移动催化剂的方式进行， 液体喷嘴或催化剂移动方向与催化剂孔道方向 呈 30-90° 角的任意方向； 液体喷嘴或催化剂的移动速度为 0-5 m/s。 高压液体冲洗过程可以 间歇进行也可以连续进行； 间歇冲洗时间为每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h， 累计冲洗时间为 0-8 h o
[0020] ( 2 )采用化学清洗去除 SCR脱硝催化剂上的污染物。 化学清洗方法为将单块或组 装模块的失活 SCR脱硝催化剂放入装有上述水溶液的清洗池内对催化剂进行浸泡清洗， 催化 剂能完全浸入到水溶液内。 在清洗池内可以装有液体搅动设备和液体加热设备有利于提高清 洗效率， 液体搅动可以是机械搅拌桨搅拌， 电磁搅拌， 震动搅拌或气体鼓动式搅拌。 加热设 备能够控制液体温度在 0-100 °C。 在化学清洗过程中可以间歇或连续将催化剂放入清洗池进 行清洗。 其中间歇放入催化剂清洗过程为将催化剂放入盛有水溶液的清洗池内浸泡 0 8 h后 取出， 再放入其它催化剂按上述方法浸泡清洗； 连续放入催化剂清洗过程为在清洗池内装有 固体物料传送装置， 可以不断地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0 5 m/s的速度进入清 洗池， 在清洗池内随传送装置向前直至从清洗池出口离开清洗池。 该化学清洗过程， 可以间 歇浸泡清洗也可以连续浸泡清洗； 间歇浸泡清洗时间为每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h， 累计浸 泡清洗时间为 0 8 h。 化学清洗能够清除催化剂表面或催化剂孔道内的污染物。
[0021 ] ( 3 )采用超声波装置对失活 SCR脱硝催化剂进行超声清洗， 超声清洗能够清除催 化剂孔道和孔径内的污染物。 超声清洗方法为将单块或组装模块的失活 SCR脱硝催化剂放入 装有水或水溶液的超声波清洗池内对催化剂进行清洗， 催化剂能完全浸入清洗液。 超声清洗 过程可以间歇或连续将催化剂放入超声波清洗容器内。 间歇放入催化剂超声波清洗过程为将 催化剂放入盛有水或水溶液的超声波清洗容器内清洗 0-8 h后取出， 再放入其它催化剂按上 述方法进行超声波清洗； 连续放入催化剂超声清洗过程为在盛有水或水溶液的超声波清冼容 器内装有固体物料传送装置， ^以不断地将催化剂放/上传送装置上， 催化剂以（) 5 m/s的速 度进入超声波清洗容器内， 在超) ^波清洗容器内催化剂随传送装置向前移动直至从超声波清 洗容器出口离开。 在超声波清洗催化剂过程中催化剂的放置方式可以是催化剂孔道与液面呈
0° -90° 角， 催化剂孔道与超声波发生方向呈 0° -90° 角； 单块催化剂或催化剂模块可以并 排或上下放置。 超声装置具有防酸、 碱， 耐腐蚀性能； 超声装置上设有加热装置能够在室温 至 100 °C内对催化剂进行清洗。 超声清洗过程中超声频率可以在 20- 300 kHz之间连续调节； 超声波功率可以在 0-5 kW之间连续调节。 超声波清洗过程可以间歇清洗也可以连续清洗； 间 歇超声清洗时间为每次 0-5 h， 每次间隔 0 5 h， 累计超声清洗时间为 0-8 h。
[0022] 上述液体清洗过程中的化学清洗与超声清洗的顺序可以互换。
[0023] 经过气体吹灰、 吸灰、 液体清洗后用水冲洗催化剂除去残留的化学物质。
[0024] 上述工序完成后将处理后的催化剂送入干燥程序。 干燥过程在干燥箱内进行。 可 以间歇干燥， 也可以连续干燥。 其中间歇干燥为将催化剂放入封闭的干燥器内一段时间后取 出， 再放入其它催化剂按上述方法进行干燥； 连续千燥过程为干燥装置内装有固体物料传送 装置， 可以连续地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 ni/s的速度进入干燥器内， 催化 剂随传送装置向前移动直至从干燥器出口离开。干燥器的温度可手动调控， 也可以程序调控； 连续干燥过程中干燥器内沿催化剂移动方向不同位置的温度可以随意调节。 干燥温度一般为 40-300 °C ; 干燥时间为 0. 1 24 h。 干燥后催化剂的含水量低于催化剂质量的 1. 1%。
[0025] 当然气体清扫工艺和液体清洗工艺顺序可以互换。
[0026] 使用本发明的方法再生失活 SCR脱硝催化剂， 再生后催化剂至少满足下列一种指 标： 催化剂的脱硝效率达到 40%_90%， 达到原新鲜催化剂脱硝效率的 50% 1 15%; 再生后催化 剂的轴向抗压强度 200 N/cm2, 径向抗压强度 70 N/cm2; S(VS0:i的转化率 1%; 氨逃逸率 =¾3 ppm。
[0027] 本发明的优点在于： 1、 能够大量的集中处理失活 SCR脱硝催化剂。 2、 能够对 SCR 脱硝催化剂的表面和催化剂孔道、 孔径内的污染物进行清除。 3、 能够处理不同因素产生的失 活 SCR催化剂。
[0028] 本发明的一种 SCR脱硝催化剂再生方法包含如下技术方案：
[0029] ( 1 ) 一种 SCR脱硝催化剂再生方法， 包括先使用气体清扫工艺、 然后使用液体清 洗工艺、 最后使用干燥工艺， 或者包括先使用液体清洗工艺、 然后使用气体洁扫工艺、 最后 使用干燥工艺， 去除失活 SCK脱硝催化剂上的污染物。
[0030] ( 2 ) 根据 （1 ) 的方法， 其中所述的气体为空气、 氮 、 二氧化碳、 氧气、 氢气、 氦气、 氖气、 氩气、 甲垸、 乙烷以及它们的混合气休。
[0031 ] ( 3 ) 根据 （1 ) 至 （2 ) 的任一方法， 其屮所述的液体为水或水溶液。 [0032] (4)根据 （1)至（3) 的任一方法， 其中所述的水包括自来水、 蒸馏水、 除盐水、 去离子水、 离子水。
[0033] (5) 根据 （1) 至 （4) 的任一方法， 其中所述的水溶液的溶质包括渗透促进剂、 乳化剂、 匀染剂、 缓蚀剂、 络合剂、 酸或碱中的一种或几种。
[0034] (6)根据（1)至（5) 的任一方法， 其中所述的酸包括盐酸、 硝酸、 硫酸、 磷酸、 乙酸。
[0035] (7) 根据 （1) 至 （6) 的任一方法， 其中所述的碱包括氢氧化钠、 氢氧化钾、 氨 水。
[0036] (8) 根据 （1) 至 （7) 的任一方法， 其中所述的水溶液中渗透促进剂占清洗液质 量分数的 0-5%， 乳化剂占清洗液质量分数的 0-5%, 匀染剂占清洗液质量分数的 0-5%， 酸或 碱占清洗液质量分数的 0-10%, 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0-5%, 络合剂占清洗液质量分数 的 0 10%。
[0037] (9) 根据 （1) 至 （8) 的任一方法， 其中所述的 SCR脱硝催化剂可以是蜂窝式、 平板式、 波纹板式， 可以是单块催化剂也可以是催化剂组成模块。
[0038] (10) 根据 （1) 至 （9) 的任一方法， 其中所述的模块为多个单块催化剂被竖直 布满在一个约长 2米、 宽 1米、 高 2米的箱体内构成模块。
[0039] (11) 根据 （1) 至 （10) 的任一方法， 其中所述的污染物为烟气中各种组分在催 化剂上沉积的灰分。
[0040] (12) 根据 （1) 至 （11) 的任一方法， 其屮所述的灰分的组成包括二氧化硅、 氧 化铝、 氧化钾、 氧化钠、 氧化铅、 氧化砷、 氧化铜、 氧化锌、 氧化汞、 氧化铬、 五氧化二磷、 氧化钙、 氧化镁、 氧化锂、 氧化铯、 氧化铷、 氧化铁、 氯化钾、 氯化钠、 氯化镁、 氯化铁、 氯化铵、 氯化铝、 硫酸铁、 硫酸铵、 硫酸钾、 硫酸钠、 硫酸镁、 硫酸钙、 硫酸铝、 硫酸铜、 硫酸锌、 亚硫酸铁、 亚硫酸铵、 亚硫酸钾、 亚硫酸钠、 亚硫酸镁、 亚硫酸钙、 亚硫酸铝、 亚 硫酸铜、 亚硫酸锌、 硝酸铁、 硝酸铵、 硝酸钾、 硝酸钠、 硝酸镁、 硝酸钙、 硝酸铝、 硝酸铜、 硝酸锌。
[0041] (13)根据（1)至 U2) 的任一方法， 其中所述的气体清扫包括气体吹灰和吸灰。
[0042] (14) 根据 （1) 至 （13) 的仟- -方法， 其屮所述的气体吹灰和吸灰工艺可以在封 闭系统内进行， 也可以在敞开系统内进行。
[0043] (15) 根据 （1) 至 （14) 的任一方法， 其11'所述的 〔体吹灰和吸灰可以反复交替 进行。
[0044] (16) 根据 （1) 至 （15) 的仟一方法， 其中所述的气体吹灰工艺， 采用压缩 体 进行吹灰； 气体压力在 0-5.0 MPa之间， 气体流量 0-1 mVs。
[0045] (17) 根据 （1) 至 （16) 的任一方法， 其中所述的气体吹灰过程， 气体喷嘴或催 化剂以固定或移动的方式进行。
[0046] (18) 根据 （1) 至 （17) 的任一方法， 其中所述的气体喷嘴数量可以是单个也可 以是多个。
[0047] (19) 根据 （1) 至 （18) 的任一方法， 其中所述的气体喷嘴与催化剂的距离为 0.01-5.00 m。
[0048] (20) 根据 （1) 至 （19) 的任一方法， 其中所述的气体吹灰过程， 可以采用固定 催化剂移动气体喷嘴或固定喷嘴移动催化剂的方式进行，气体喷嘴或催化剂的移动速度为 0 - 5 m/s; 气体喷嘴或催化剂移动方向与催化剂孔道方向呈 30° -90° 角的任意方向。
[0049] (21) 根据 （1) 至 （20) 的任一方法， 其中所述的气体吹灰过程可以连续进行也 可以间歇进行； 间歇吹灰时间每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h; 吹灰时间累计 0-8 h。
[0050] (22) 根据 （1) 至 （21) 的任一方法， 其中所述的吸灰过程中使用吸尘设备。
[0051] (23)根据 (1)至 (22)的任一方法， 其屮所述的吸尘设备的真空度为 -lOlkPa 0 kPa。
[0052] (24) 根据 （1) 至 （23) 的任一方法， 其中所述的吸尘设备的气体入口对准催化 剂孔道， 气体入口在距离催化剂 0.005〜5 m处进行吸灰。
[0053] (25)据具（1)至（24) 的任一方法， 其中所述的吸尘设备的气体入口以 0-5 m/s 的速度在与催化剂孔道方向呈 30° -90° 角的方向移动。
[0054] (26) 根据 （1) 至 （25) 的任一方法， 其中所述的吸灰过程可以连续进行也可以 间歇进行； 间歇吸灰时间每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h; 吸灰时间累计为 0-8 h。
[0055] (27)根据 （1) 至 （26) 的任一方法， 其中所述的液体清洗包括液体冲洗、 化学 清洗和超声清洗。
[0056] (28) 根据 （1) 至 （27) 的任一方法， 其中所述的液体冲洗过程采用高压液体冲 洗， 高压液体从液体喷嘴喷出。
[0057] (29) 根据 （1) 至 （28) 的仟 方法， 其中所述的液体喷嘴数量可以是单个也可 以是多个。
[0058] (30) 根据 (1 ) 至 （29〕 的仃： - .法， 其屮所述的液体喷嘴与催化剂的距离为 0.005-5.0 m。
[0059] (31) 根据 （1) 至 (30) 的仟一方法， 中所述的高压液体的压力为 0-50 Pa, 高压液体的流量为 0-1 m s, 液体可被加热至室温 100 °C。 [0060] (32) 根据 （1) 至 （31) 的任一方法， 其中气体吹灰和高压液体冲洗过程中气体 或液体喷射方向与催化剂的孔道方向之间的夹角在 0° -60° 。
[0061] (33) 根据 （1) 至 （32) 的任一方法， 其中所述的高压液体冲洗过程， 可以采用 固定催化剂移动液体喷嘴或固定喷嘴移动催化剂的方式进行， 液体喷嘴或催化剂移动方向与 催化剂孔道方向呈 30° -90° 角的任意方向； 液体喷嘴或催化剂的移动速度为 0-5 m/s。
[0062] (34) 根据 （1) 至 （33) 的任一方法， 其中所述的高压液体冲洗可以间歇进行也 可以连续进行； 间歇冲洗时间为每次 0-5 ， 每次间隔 0 5 h; 累计冲洗时间 0 8
[0063] (35) 根据 （1) 至 （34) 的任一方法， 其中所述的化学清洗为使用 （3) 所述的 水溶液在清洗池内对催化剂进行浸泡清洗。
[0064] (36) 根据 （1) 至 （35) 的任一方法， 其中所述的化学清洗可以是间歇或连续将 催化剂放入清洗池进行清洗。
[0065] (37) 根据具 (1) 至 (36) 的任一方法， 其中所述的间歇将催化剂放入清洗池清 洗过程为将催化剂放入盛有 （3) 所述的水溶液的清洗池内浸泡， 间歇浸泡时间为每次 0-5 h 之后取出催化剂， 再放入其它催化剂按上述方法浸泡清洗， 每次间隔 0-5 h， 累计浸泡清洗 时间为 0-8
[0066] (38) 根据 （1) 至 （37) 的任一方法， 其中所述的连续放入催化剂清洗过程为在 盛有（3)所述的水溶液的清洗池内装有固体物料传送装置，不断地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 m/s速度进入清洗池， 在清洗池内随传送装置向前直至从清洗池出口离开清洗 池， 清洗时间为 0-8
[0067] (39) 根据 （1) 至 （38) 的任一方法， 其中所述的固体物料可以是催化剂也可以 是其它固体。
[0068] (40) 根据 （1) 至 （39) 的任一方法， 其中所述的清洗池内装有液体搅动设备。
[0069] (41) 根据 （1) 至 （40) 的任一方法， 其屮所述的液体搅动可以是机械搅拌桨搅 拌， 电磁搅拌， 震动搅拌， 气体鼓动式搅拌。
[0070] (42)根据 （1) 至 （41) 的任一方法， 其中所述的化学清洗过程的水溶液温度为 室温至 100 °C。
[0071] (43) 根据 （1) 至 （42) 的任一方法， 其中所述的超声清洗为使用 （3) 中所述 的水或水溶液在超声波清洗容器内对催化剂进行清洗。
[0072] (44) 根据 （1) 至 （43) 的任 法， 中所述的超声清洗过程可以是间歇或连 续将催化剂放入超声波清洗容器内清洗。
[0073] (45) 根据 （1) 至 （44) 的仟一方法， 其屮所述的间歇将催化剂放入超声波清洗 容器内清洗过程为将催化剂放入盛有（3)所述的水或水溶液的超声波清洗容器内清洗。 间歇 清洗时间为每次 0-5 h之后取出催化剂，再放入其它催化剂按上述方法清洗，每次间隔 0-5 h， 累计超声清洗时间 0-8 ho
[0074] (46) 根据 （1) 至 （45) 的任一方法， 其中所述的连续将催化剂放入超声清洗容 器内清洗过程为在盛有（3)所述的水或水溶液的超声波清洗容器内装有如（38)所述的固体 物料传送装置， 可以不断地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 m/s的速度进入超声波 清洗容器内并随传送装置向前移动直至从超声波清洗容器出口离开， 清洗时间为 0-8 ho [0075] (47) 根据 （1) 至 （46) 的任一方法， 其中所述的超声波清洗催化剂过程中催化 剂的放置方式可以为催化剂孔道与液面呈 0° -90° 角； 催化剂孔道与超声波发生方向呈 0° -90° 角； 可以并排或上下放置多块催化剂或催化剂模块。
[0076] (48)根据 （1) 至 （47) 的任一方法， 其中所述的超声清洗过程中清洗液体温度 介于室温 -100 °C。
[0077] (49) 根据 （1) 至 （48) 的任一方法， 其中所述的超声清洗过程中超声频率为 20-300 kHz; 超声波功率为 0 5 kW。
[0078] (50) 根据 （1) 至 （49) 的任一方法， 其中所述的干燥过程可以间歇干燥， 也可 以连续干燥。
[0079] (51)根据 （1) 至 （50) 的任一方法， 其中所述的间歇干燥为将催化剂放入封闭 的干燥器内 0.1 48 h后取出， 再放入其它催化剂按上述方法进行干燥。
[0080] (52) 根据 （1) 至 （51) 的任一方法， 其中所述的干燥器内的温度可手动调控， 也可以程序调控。
[0081] (53) 根据 （1) 至 （52) 的任一方法， 其中所述的连续干燥过程为在干燥装置内 装有如（38)所述的固体物料传送装置， 可以连续地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 m/s的速度进入干燥器内并随传送装置向前移动直至从干燥器出口离开， 干燥时间为 0.1-48
[0082] (54) 根据 （1) 至 （53) 的任一方法， 其中所述的连续干燥过程中干燥器内沿催 化剂移动方向不同位置的温度可以随意调节。
[0083] (55)根据（1)至（54)的任一方法，其中所述的干燥过程的干燥温度为 40-300 Γ。
[0084] (56) 根据 （1 ) 至 （55) 的仟一方法， 其屮所述的干燥过程， 干燥后催化剂的含 水量低丁-催化剂质量的 1.1%。
[0085] (57) 根据 U ) 至 （56) 所述的任一方法再生失活 SCI 脱硝催化剂， 再生后催化 剂至少满足下列- -种指标： 催化剂的脱硝效率达到 40%-90%， 达到原新鲜催化剂脱硝效率的 50%- 115%； 再生后催化剂的轴向抗压强度 200 N/cm2, 径向抗压强度 70 N/cm2; S(VS03的 转化率 1%; 氨逃逸率 3 ppm。
[0086] (58)根据（1)至 (57)所述的任一方法， 清洗液浓度的上限范围 ( — t)为 3-10%, 清洗液浓度的下限 （Lw) 范围为 0-4%。
[0087] (59) 根据 （1) 至 （58) 所述的任一方法， 再生时间的上限范围 （ — τ) 为 2 8 h， 再生时间的下限 （ -T) 范围为 0-2.5 ho
[0088] (60)根据（1)至 (59)所述的任一方法，清洗液温度上限范围 (H,-TM)为 60-100 V, 清洗液温度的下限 （LL-te«) 范围为室温 -65 °C。
[0089] (61) 根据 （1) 至 （60) 所述的任一方法， 气体吹灰气体压力的上限范围 （H(H.) 为 2- 5 MPa, 气体压力的下限 （L(H>) 范围为 0-2.5 MPa。
[0090] (62) 根据 (1) 至 (61) 所述的任一方法， 气体吹扫时间的上限范围 （H(H) 为 2- 8 ， 气体吹灰时间的下限 范围 0-2.5
[0091] (63) 根据 （1) 至 （62) 所述的任一方法， 气体吹扫气体流量的上限范围 （H(;-F) 为 0.4 1 m7s， 气体流量的下限 ( F) 范围 0 0.5 m'Vs。
[0092] (64)根据（1)至 (63)所述的任一方法， 吹灰角度的上限范围 (Η(,—Λ)为 20° -60。 ， 吹灰角度的下限 （ -,、） 范围 0° -25°
[0093] (65) 根据 (1) 至 (64) 所述的任一方法， 喷嘴与催化剂距离的上限 (Η (；„) 为卜 5 m， 喷嘴与催化剂距离的下限 （ -u) 范围 0.01-1.1 m。
[0094] (66) 根据 （1) 至 （65) 所述的任一方法， 吸灰设备的真空度的上限范围 （ΗΛ_ν) 为 40-0 kPa, 真空度的下限 ( — V) 范围为 -101至- 35 kPa。
[0095] (67) 根据 (1) 至 (66) 所述的任一方法， 吸灰时间的上限范围 (ΗΛ―,) 为 2 8 h， 吸灰时间的下限 (L-, ) 范围 0-2.5
[0096] (68)根据（1)至（67)所述的任一方法， 吸灰气体入口与催化剂距离的上限（HM) 为 1-5 m， 距离的下限 （ -u) 范围 0.005:1.1
[0097] (69) 根据 （1) 至 （68) 所述的任一方法， 液体冲洗的液体压力的上限范围 （ .-P) 为 20- 50 MPa, 液体压力的下限 ( — 范围为 0_25 MPa
[0098] (70) 根据 （1) 至 （69) 所述的任 ·方法， 液体冲洗时间的上限范围 为 2-8 液体冲洗时间的下限 (!,-,) 范围为 0 5
[0099] (71 )根据（ 1 )至（70)所述的任一方法， 液体冲洗液体流景的 h限 ,)为 0.4-1 mVs, 液体流景的下限 （l ) 范围为 0 0.5 m7s。
[0100] (72)根据（ 1 )至（71 )所述的任 -方法， 液体冲洗冲洗角度的上限（1L、）为 20° -60° ， 冲洗角度的下限 - Λ) 范围为 0° -25° 。
[0101] (73)根据 （1) 至 （72) 所述的任一方法， 液体冲洗中液体喷嘴与催化剂距离的上 限 为 1 5 m, 液体喷嘴与催化剂距离的下限 （LH)) 范围为 0.01- L I m。
[0102] (74)根据（1)至（73)所述的任一方法， 化学清洗中清洗液浓度的上限范围（Η ) 为 3-10%， 清洗液浓度的下限 (LL— 范围为 0-4%。
[0103] (75) 根据 (1) 至 (74) 所述的任一方法， 化学清洗时间的上限范围 ( — τ) 为 2- 8 h， 化学清洗时间的下限 范围为 0-2.5
[0104] (76)根据 （1)至 （75)所述的任一方法， 化学清洗中清洗液温度上限范围 （HM ) 为 60-100 。C, 清洗液温度的下限 (Lc-™) 范围为室温 -65 V
[0105] (77)根据（1)至 (76)所述的任一方法，超声波频率上限范围 ( —〖.)为 70-300 kHz, 超声波频率的下限 （ - 范围为 20-75 kHz
[0106] (78) 根据 (1) 至 (77) 所述的任- --方法， 超声波清洗时间上限范围 (Hs-,) 为 2- 8 h, 下限 (Ls-,) 范围为 0-3
[0107] (79)根据 (1)至 (78)所述的任一方法， 超声波功率的上限范围 (Hs— 为 2- 5 kW， 超声波频率的下限 （Lw.) 范围为 0 3 kW。
[0108] (80) 根据 （1) 至 （79) 所述的任 -方法， 超声波清洗液浓度的上限范围 为 4-10%， 超声波清洗液浓度的下限 (Ls-c) 范围为 0-5%。
[0109] (81) 根据 (1) 至 (80) 所述的任一方法， 超声波清洗液温度的上限范围 (H 为 60-100 V, 超声波清洗液温度的下限 (Ls— ra) 范围为室温 -65 °C。
[0110] (82)根据 （1) 至 （81) 所述的任一方法， 干燥时间的上限范围 （HD— τ) 为 10- 48h， 干燥时间的下限 （L„-T) 范围为 0.1 11 h。
[0111] (83)根据 (1)至 (82)所述的任一方法，干燥温度上限范围 (H 为 150 300 V, 干燥温度的下限 ( ) 范围为 40-160 V。
[0112] 本发明的一种 SCR脱硝催化剂再生设备包含如下技术方案：
[0113] (1) 一种 SCR脱硝催化剂再生设备， 包括气体清扫设备、 液体清洗设备和干燥设 备。
[0114] (2) 根据 （1) 所述的设备， 通过传送装置依次将气体清扫设备、 液体清洗设备和 干燥设备连接， 或者通过传送装置依次将液体清洗设备、 气体清扫设备和干燥设备连接。
[0115] (3) 根据 （1) - (2) 任一项所述的设备， 所述气体淸扫设备包括吹灰设备和吸尘 设备； 所述气体清扫设备还包括 ½送装置用于传送催化剂。
[0116] (4) 根据 （1) - (8) 任 -项所述的设备， 所述液体清洗设备包括液体冲洗设备、 化学清洗设备和超声清洗设备。 [0117] (5) 根据 （1) (4) 任一项所述的设备， 所述液体冲洗设备包括敞开或封闭的空 间、 喷嘴和传送装置； 所述化学清洗设备包括清洗池、 搅动设备和加热设备， 在所述清洗池 上设有传送装置用于传送催化剂； 所述超声清洗设备包括清洗池、 加热装置和超声装置， 在 所述清洗池上设有传送装置用于传送催化剂。
[0118] 使用本发明的方法再生 SCR脱硝催化剂包含多种实施方式。 在这些实施方式中影 响催化剂再生效果的因素主要有清洗液种类、 清洗液温度、 清洗液浓度、 时间和再生工艺。 再生工艺可以分为超声清洗工艺， 简称 "超声"和其它工艺， 简称 "其它"； 清洗液可分为酸 性清洗液， 简称 "酸"和碱性清洗液， 简称 "碱"； 清洗液浓度有一个上限范围即作 Hw和下 限范围即作 L,.— 1。 清洗液浓度的上限范围 （H^) 为 3 10%， 在这个范围内 ¾ 可以低于 9%， 理 想值为 7%; H,_—t甚至可以低于 5%， 最佳为 4%。 清洗液浓度的下限 (LL—C) 范围为 0-4%， 在这个 范围内 可以高于 0.1%， 理想值为 0.5%; 甚至可以高于 2%, 最佳为 2.5%。 再生时间有 一个上限范围即作！^和下限范围即作 1^。 再生时间的上限范围 （Η,Η) 为 2-8 h， 在这个范 围内 可以低于 7 h， 理想值为 5 h; 甚至可以低于 3 h， 最佳为 2.5 h。 再生时间的下 限 (LI ) 范围为 0-2.5 h， 在这个范围内 可以高于 0.1 h， 理想值为 0.5 h; ！^甚至可以 高于 1.0 h， 最佳为 1.5 ho 清洗液温度有一个上限范围即作 和下限范围即作 L..„、,。 上限 范围 为 60-100 °C， 在这个范围内 ΙΙΛ,可以低于 90 V， 理想值为 80 °C; ^甚至 可以低于 70 V, 最佳为 65 V。 清洗液温度的下限 （ - ) 范围为室温 -65 °C， 在这个范围 内 可以高于 40 V， 理想值为 45 °C; 甚至可以高于 50°C， 最佳为 55 。C。
[0119] 在这些具体实施过程中每个因素可以选择上限值和下限值， 并且可以在上限值与 下限值之间任意选择。如清洗液温度可以在 和 L^™之间任意选择；清洗液浓度可以在 和 ^之间任意选择； 时间可以在 ^和 ΗΚ-Τ之间任意选择； 再生工艺可以组合使用。 表 1 包 含使用本发明再生 SCR脱硝催化剂方法中的一些设计实施方式。
[0120] 表 1
实施方式 时间 清洗液 浓度 温度 工艺
1 ' 酸 Η, ' Η,. 超声
2 HR-, 酸 Η, , Hi II; \I 其它
3 酸 Η, , L, ™ 超声
4 H„ , 酸 Hi n'、i 其它
5 HR , 酸 Ll r 111 超声
6 H,< , 酸 I.I ' 1 其它
7 酸 L, , Ll ΙΙΛΙ 超声
8 Ηκ 1 酸 L, ' Ll Π M 其它
9 H„ , 碱 H, ( H] 超声
10 H„ , 碱 H, , Hi ii.、i 其它
11 Ηκ , 碱 H, , -i II、i 超声 12 HR-T 碱 Hi.c L|. I 其它
13 HR-T 碱 L, c Hi. 超声
14 HR T 碱 L, ,· Hi ΙΙ Ι 其它
15 Ηκ 碱 L,. , Ll 超声
16 Hfi-τ 碱 L,. Li. 其它
17 LR- 酸 HL-C H[. 超声
18 LR-T 酸 Hi. Γ H]. f 其它
19 Lfi T 酸 HL-C L| 1H\| 超声
20 LR-T 酸 H L] 、， 其它
21 LK-T 酸 LL-C Hi. [[；\| 超声
22 LR-T 酸 L,.r Hi Ί 其它
23 L T 酸 LL-C Ll. -1H\| 超声
24 Lii T 酸 L,. ,· Li II: 其它
25 Lii 碱 H H] 超声
26 Lfi Γ 碱 Hi. r Hi i、i 其它
27 LR-T 碱 H Li 、 超声
28 LI;-T 碱 Hi-,- L|. 、 其它
29 LR T 碱 LL-C Hi Μ Ι 超声
30 Lli T 碱 Hi 、I 其它
31 u , 碱 U Ll II \l 超声
32 LR I 碱 L. , L IKM 其它
[0121] 表 1 包含了使用本发明再生 SCR脱硝催化剂方法中的一些设计实施方式。 每个实 施方式中又包含一个或多个工艺， 每个工艺都有各自的影响因素。 在催化剂再生过程中主要 工艺包括高压气体吹灰、 吸灰、 高压液体冲洗、 化学清洗和超声波清洗。 高压气体吹灰的影 响因素有气体压力、 气体流量、 吹灰时间、 吹灰角度和喷嘴与催化剂的距离； 吸灰的影响因 素有真空度、 吸灰时间和气体入口与催化剂的距离； 高压液体冲洗的影响因素有液体压力、 液体流量、 冲洗时间、 液体温度、 冲洗角度和液体喷嘴与催化剂的距离； 化学清洗的影响因 素有清洗液的种类、 浓度、 清洗液温度和清洗时间； 超声波清洗的影响因素有超声波功率、 超声波频率、 清洗液种类、 清洗液浓度、 清洗液温度和超声波清洗时间。
[Θ122] 在气体吹灰具体实施过程中气体压力有一个上限范围即作 ,— 和下限范围即作 气体压力的上限范围 ) 为 2-5MPa， 在这个范围内卜 可以低于 4.5 Wa， 理想值为 4.0 MPa; Η, .甚至可以低于 3MPa， 最佳为 2.5 MPa。 气体压力的卜限 ( ,— P)范围为 0 2.5 1Pa， 在这个范围内 L( .可以高于（).1 MPa， 理想值为 0.5 MPa; 甚至可以高于 1.0 MPa， 最佳为 1. δ MPa。 气体吹扫时间有-…个上限范围即作 ,和卜 -限范围即作 ―,。 气体吹扫时间的上限范 围 (H„ ,) 为 2-8 h， 在这个范围内 ¾; 1可以低于 7 h， 理想值为 5 h; I 甚至 以低丁 - 3 h， 最佳为 2.5 h。 气体吹灰时间的 限 （L ) 范围 0-2.5 h， 在这个范围内 L , 以¾丁' 0. 1 h， 理想值为 0.5 h; L,;-,甚至可以 ^于 1.0 h, 最佳为 1.5 气体流量有一个上限范围即作 和下限范围即作 L(H。 气体流量的上限范围 （H(,- 为 0.4-l mVs, 在这个范围内 HM:可以低于 0.9 m7s, 理想值为 0.8 mVs; 甚至可以低于 0.7 m'Vs, 最佳为 0.5 m:7s。 气体流量的下 限 （L(,-F) 范围 0 0.5 mVs, 在这个范围内 L„可以高于 0.1 mVs, 理想值为 0.2 mVs; L(H.甚 至可以高于 0.3 mVs， 最佳为 0.35 m7s。 吹灰角度有一个上限范围即作 H 和下限范围即作 Lc-A。 吹灰角度的上限范围 （ _Λ) 为 20° -60° ， 在这个范围内 H 可以低于 50° ， 理想值为 40° ； -Λ甚至可以低于 30° ， 最佳为 25° 。 吹灰角度的下限 (;-Λ) 范围 0° 25° ， 在这个 范围内 ^可以高于 1° ， 理想值为 4° ； L 甚至可以高于 10° ， 最佳为 15° 。 喷嘴与催化 剂距离有一个上限范围即作 ¾,—。和下限范围即作 Lt;-。。喷嘴与催化剂距离的上限（H(, -。）为 1-5 m， 在这个范围内 Η )可以低于 4 m， 理想值为 3 m; —。甚至可以低于 2 m, 最佳为 1.5 m。 喷嘴 与催化剂距离的下限 α(,—„) 范围 0.01-1.1 m, 在这个范围内 L(;—。可以高于 0.1 m， 理想值为 0.2 m; 。甚至可以高于 0.3 m， 最佳为 0.5 m。
[0123] 在吸灰具体实施过程中吸灰设备的真空度有一个上限范围即作 Π,、-、'和下限范围即 作 L— v。 真空度的上限范围 (ΗΛ— J 为- 40 0 kPa, 在这个范围内 H,、—t可以低于 -5 kPa， 理想值 为- 20 kPa; ΗΛ -、甚至可以低于 -30 kPa, 最佳为 -35 kPa。 真空度的下限 (L、、) 范围为 -101至 -35 kPa, 在这个范围内 L,、-v可以高于 90 kPa, 理想值为- 70 kPa; 、甚至可以高于 60 kPa， 最佳为 -50kPa。 吸灰时间有一个上限范围即作 H和下限范围即作 i。 吸灰时间的上限范围 (ΗΛ-Τ) 为 2 8 h, 在这个范围内 ΗΛ-,可以低于 7 h， 理想值为 5 h; 11,、 甚至可以低于 3 h， 最 佳为 2.5 吸灰时间的下限 范围 0-2.5 ， 在这个范围内 可以高于 0.1 理想 值为 0.5 甚至可以高于 1.0 ， 最佳为 1.5 气体入口与催化剂距离有一个上限范围 即作 ΗΛ-„和下限范围即作 L-u。 气体入口与催化剂距离的上限 （H ) 为 1 5 m， 在这个范围内 H )可以低于 4 m， 理想值为 3 m; HM甚至可以低于 2 m， 最佳为 1.5 m。 距离的下限 a,、—u) 范围 0.005-1. l m， 在这个范围内 „可以高于 0.1 m， 理想值为 0.2 m; LM甚至可以高于 0.3 m， 最佳为 0.5 m。
[0124] 在液体冲洗的具体实施过程中液体压力有一个上限范围即作 和下限范围即作 — ',。 液体压力的上限范围 (Η,.-Ρ) 为 20 50 MPa, 在这个范围内 H^.可以低于 45 MPa, 理想值 为 40 MPa; -p甚至可以低于 30 MPa, 最佳为 25 MPa。液体压力的下限（1^,)范围为 0 25 MPa, 在这个范围内 可以高于 1 VlPa， 理想值为 5 MPa; L 甚至可以高于 10 MPa, ift佳为 15MPa。 液体冲洗时间有一个上限范围即作 和下限范围即作 。 液体冲洗时间的上限范围 ） 为 2-8 h， 在这个范围内 Π: 可以低于 7 h， 理想值为 5 h; 共至 wf以低于 3 h， 最佳为 2. δ h。 液体冲洗时间的卜限 (LH) 范围为 0 2.5 h， 在这个范围内 L,： ^以卨于 0.1 h， 理想值 为 0.5 h; 甚至可以高于 1.0 h, 最佳为 1.5 h。 液体流量有一个上限范围即作 「和卜 艮 范围即作 ：。 液体流量的上限 （Hw.) 为 0.4- 1 m7s， 在这个范围内 可以低于 0.9 m7s， 理想值为 0.8 mVs; 甚至可以低于 0.7 m'/s, 最佳为 0.5 m'/s。 液体流量的下限 （Lw.) 范 围 0 0.5 mVs, 在这个范围内 可以高于 0.1 m:,/s, 理想值为 0.2 m'/s; —F甚至可以高于 0.3 m7s, 最佳为 0.35 m'Vs。 冲洗角度有一个上限范围即作 ^和下限范围即作 .—A。 冲洗角 度的上限（¾-A)为 20° -60° ， 在这个范围内 «可以低于 50° ， 理想值为 40° ； -Λ甚至可 以低于 30° , 最佳为 25° 。 冲洗角度的下限 范围 0° -25° ， 在这个范围内 -A可以高 于 Γ ， 理想值为 4° ； 甚至可以高于 10° , 最佳为 15° 。 液体喷嘴与催化剂距离有一个 上限范围即作 H_D和下限范围即作 LH)。 液体喷嘴与催化剂距离的上限 为 1-5 m， 在这 个范围内 可以低于 4 m， 理想值为 3 m; „甚至可以低于 2 m， 最佳为 1.5 m。 液体喷嘴 与催化剂距离的下限 （L-D) 范围 0.01-1.1 m， 在这个范围内 以高于 0.1 m， 理想值为 0.2 m; LL-D甚至可以高于 0.3 m, 最佳为 0.5 ι
[0125] 在化学清洗的具体实施过程中， 清洗液可以选用有机清洗液， 也可以选用无机清 洗液；清洗液浓度有一个上限范围即作 和下限范围即作 -t。清洗液浓度的上限范围（Hc-C) 为 3- 10%， 在这个范围内 Η„可以低于 9%， 理想值为 7%; 甚至可以低于 5%， 最佳为 4%。 清洗液浓度的下限（ p)范围为 0 4%, 在这个范围内 1 可以高于 0.1%， 理想值为 0.5%; 甚至可以高于 2%， 最佳为 2.5%。 化学清洗时间有一个上限范围即作 和下限范围即作 ["。 化学清洗时间的上限范围 （ — τ) 为 2-8 h， 在这个范围内 可以低于 7 h， 理想值为 5 h; -τ甚至可以低于 3 h， 最佳为 2.5 ho 化学清洗时间的下限 (Lc-r) 范围为 0-2.5 h， 在这个 范围内 Lt_T可以高于 0.1 h， 理想值为 0.5 h; 甚至可以高于 1.0 h， 最佳为 1.5 ho 清洗 液温度有一个上限范围即作 和下限范围即作 上限范围（Ht—I ,)为 60- 100 V, 在这 个范围内 可以低于 90 V， 理想值为 80 V； -π 甚至可以低于 70 V, 最佳为 65 V。 清洗液温度的下限 (U-,,; 范围为室温 65 V, 在这个范围内 -„.„可以高于 40 V， 理想值为 45 °C; Lc—I1:M甚至可以高于 50°C， 最佳为 55 °C。
[0126] 在超声波清洗的具体实施过程中清洗液可以是有机清洗液也可以是无机清洗液。 超声波频率有一个上限范围即作 和下限范围即作 Ls l。 上限范围 (Hs-r) ¾ 70-300 kHz, 在 这个范围内 +可以低于 200 kHz, 理想值为 150 kHz; 甚至可以低丁 · 100 kHz, 最佳为 80 kllzo 超声波频率的下限 （L ) 范围为 20-75 kll'z, 在这个范围内 可以高于 25 kHz, 理想 值为 35 kHz; 甚至可以高于 40 kHz, 最佳为 kW。 超声波清洗时问有一个 t限范围即作 Hs l和下限范围即作 IS I。 上限范围 1 ,) ¾2-8 h, 在这个范围内 H、 可以低于 6 h， 理想使 为 4 h; Hs__i甚至可以低于 3 h, 最佳为 2.5 h。 卜'限 范围为 0-3 h， 在这个范围内 可以高于 0.1 h， 理想值为 0.5 h; 甚至 以^」· 1.0 h， 最佳为 1.5 h。 超声波功率有一 个上限范围即作 -P和下限范围即作 Ls 。 超声波功率的上限范围 （HM)) 为 2-5kW， 在这个范 围内 Hs-P可以低于 4.5 kW, 理想值为 4.0 kW; HS_P甚至可以低于 3.0 kW, 最佳为 2.5 kW。 超 声波频率的下限 （ — 范围为 0 3 kW， 在这个范围内 可以高于 0.1 kW， 理想值为 0.5 kW; P甚至可以高于 1.0 kW， 最佳为 2.0 kW。 清洗液的浓度有一个上限范围即作 Hs 和下限范围 即作 Ls-c。 清洗液浓度的上限范围 （HS-E) 为 4-10%, 在这个范围内 可以低于 9%， 理想值为 8%； 甚至可以低于 7%， 最佳为 5%。 清洗液浓度的下限 （Ls ) 范围为 0-5%， 在这个范围内 Ls-C可以高于 0.1%, 理想值为 0.5%; 甚至可以高于 2.0%， 最佳为 3.5%。 清洗液的温度有 一个上限范围即作 Hs-Tl.：、,和下限范围即作 ra。 清洗液温度的上限范围 为 60-100 V, 在这个范围内 HS-IIA可以低于 90 V，理想值为 80 ； HS-,Β,甚至可以低于 70 V，最佳为 65 °C。 清洗液温度的下限（Ls—„,)范围为室温 -65 V, 在这个范围内 -Tl.„可以高于 35 V, 理想值为 40 V； 甚至可以高于 50 V, 最佳为 55 °C。
[0127] 在千燥的具体实施过程中干燥时间有一个上限范围即作 下限范围即作 干燥时间的上限范围 (Hu-r) 为 10- 48 h， 在这个范围内 可以低于 40 h， 理想值为 30 h; HM甚至可以低于 20 h， 最佳为 12 h。 干燥时间的下限 （ -,) 范围为 0.卜 11 h, 在这个范围 内 —，可以高于 1 h， 理想值为 5 h; LI) 甚至可以高于 7 h， 最佳为 9 h。 干燥温度有一个上 限范围即作 Hi II,和下限范围即作 1^.、,。 上限范围 （Η ) 为 150-300 V, 在这个范围内 可以低于 250 V, 理想值为 200 °C; H„- 、,甚至可以低于 170 V, 最佳为 165 V。 干燥温度 的下限（L。，）范围为 40-160 V, 在这个范围内 -n,可以高于 70 °C， 理想值为 95 V； L。— M 甚至可以高于 12CTC, 最佳为 145 °C。
[0128] 在这些具体实施过程中每个因素值可以选择上限值和下限值， 并且可以在上限值 与下限值之间任意选择。 如气体吹扫过程气体压力可以在 L(,_和 Η,,-p之间任意选择； 气体吹灰 时间可以在 -,之间任意选择； 气体流量可以在 L(;-,.和 H(H.之间任意选择； 气体喷嘴与催 化剂距离可以在 „和 ¾—„之间任意选择； 吹灰角度可以在 L 和 ,-,、之间任意选择。吸灰过程 设备真空度可以在 和 Η,、-、之间任意选择； 吸灰时间可以在 和 H,V1之间任意选择； 气体入 口与催化剂距离可以在 1^„和 ΗΛ,之间任意选择。液体冲洗过程液体压力可以在 L 和 之间 任意选择； 液体冲洗时间可以在 I之间任意选择； 液体流量可以在 Li—i和 之间任意 选择； 冲洗角度可以在 - B 、之间任意选择； 液体喷嘴与催化剂距离^以在 和 之间 任意选择。 化学清洗过程清洗液可以选用 机洁洗液与无机清洗液配合使用： 液体浓度可以 在 1^和 Hc-之间任意选择； 液体温度可以在 L π、,禾 Π Η, 之间任意选择； 时间 wi以在 1«禾口 Η, , 之间任意选择。 超声波清洗过程屮超声波频率可以在 1^和 之间任意选择； 超声波功率可 以在 LS.和 之间任意选择； 超声波清洗时间可以在 L、- i和 之间任意选择； 清洗液种类可 以选择有机与无机配合使用， 有机清洗液即作 "有"， 无机清洗液即作 "无 "； 清洗液浓度值 可以在 ^和 Hs 之间任意选择； 清洗液温度可以在 -™禾 Q Hs-™之间任意选择。干燥过程中干 燥温度可以在 禾 π H。_ra之间任意选择， 干燥时间可以在 a Η„-τ之间任意选择。
[0129] 表 2 包含使用的本发明再生 SCR脱硝催化剂方法中气体吹灰工艺的一些设计实施 方式。
[013
Figure imgf000019_0001
[013 式。
[0132] 表 3
实施方式 真空度 距离 时间
Figure imgf000020_0001
方法中液体冲洗工艺的一些设计实施 方式。
Figure imgf000020_0002
[0135] 表 5包含使用的本发明再生 SCR脱硝催化剂方法中化学清洗工艺的一些设计实施 方式。
[0136] 表 5
Figure imgf000021_0002
[0137] 表 6包含使用的本发明再生 SCR脱硝催化剂方法中超声清洗工艺的一些设计实施 方式。
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000022_0001
ZST00/C10ZN3/X3d 6 ΐ0ΐ/ 0Ζ OAV 63 LS I: Ls 无 Ls-r Ls Hs ,
64 无 Ls Ls Ls ,
[0139] 表 7包含使用的本发明再 tl SCR脱硝催化剂方法中干燥工艺的一些设计
[0140] 表 7
Figure imgf000023_0001
附图说明
[0141] 下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
[0142] 图 1为 SCR脱硝催化剂的再生设备机构示意图；
[0143] 图中 1为气体清扫设备， 1-1为吹灰设备， 1-2为吸尘设备， 1-3传送装置； 2为 液体冲洗设备， 2-1为括敞开或封闭的空间， 2 2为喷嘴， 2 3为传送装置； 3为化学清洗设 备， 3 1为清洗池， 3-2为搅动设备， 3 3为加热设备， 3- 4为传送装置； 4为超声清洗设备， 4-1为清洗池， 4 2为加热装置， 4-3为超声装置， 4-4为传送装置； 5为干燥设备， 5-1为传 送装置。
具体实施方式
[0144] 实施例 1:
[0145] 本实施例提供了一种 SCR脱硝催化剂再生方法， 包括以下工艺步骤：
[0146] (1) 配制清洗液。 取渗透促进剂 JFC 占清洗液质量分数的 0.1%、 乳化剂 0P - 10 占清洗液质量分数的 0.1%、匀染剂平平 +0占清洗液质量分数的 0.1%、 HN0:!占清洗液质量分数 的 1.2%、 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0.1%， 余量为去离子水， 将上述物质放入同一容器内机 械搅拌 30 min, 使其混合均匀， 制得清洗液。
[0147] (2) 取催化效率由 80%降至 33%的某厂钒钨钛基催化剂样品， 该催化剂样品尺寸 为 （15 cmX15 cmX 100cm), 使用 0.5 MPa压缩空气对该样品吹灰 30 min。
[0148] (3) 使用 12 MPa高压水对空气吹扫后的催化剂样品进行间歇冲洗， 累计冲洗时 间为 30 min。
[0149] (4)使用超声装置对上述高压水冲洗后的 SCR脱硝催化剂样品进行超声清洗。 超 声波频率为 40 kHz, 超声波功率为 660 W， 在室温下用水对所述样品超声清洗 30 min0 [0150] (5) 使用 （1) 中配制的清洗液， 在室温下对上述超声清洗后的催化剂样品进行 化学清洗， 浸泡时间为 δ h。
[0151] (6) 将上述化学清洗后的催化剂样品用水冲洗后， 先在 80 °C干燥 5 h， 然后在 120 °C干燥 5 ho
[0152] 经上述方法处理后的催化剂样品经脱硝效率测试， 结果脱硝效率达 60%。
[0153] 上述催化剂样品脱硝效率测试方法： 将催化剂样品放入固定管式反应器， 将模拟 烟气和还原剂 N (c (NO) =c (NH3) =0.2%， c (02) =3%), 在空速 =40000 h—'的测试条件下， 通入反应器， 用烟气分析仪检测反应器进出口的 NO浓度， 脱硝效率以公式计算： 脱硝效率= ( [N0]ail [NO]出 u) /[N0]ailX 100%。
[0154] 实施例 2:
[0155] 本实施例提供了一种 SCR脱硝催化剂再生方法， 包括以下工艺步骤：
[0156] (1) 配制清洗液。 取渗透促进剂 JFC 占清洗液质量分数的 0.5%、 乳化剂 0P-10 占清洗液质量分数的 0.5%、匀染剂平平 +0占清洗液质量分数的 0.5%、 HN0:,占清洗液质量分数 的 5%、 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0.3%， 余量为去离子水。 将上述物质加入容器内机械搅拌 30 mi n使其混合均匀， 制得清洗液。
[0157] (2)气体吹灰。 取催化效率由 80%降至 33%的某厂钒钨钛基 SCR脱硝催化剂样品， 该样品的尺寸为 15 cmX15 cmXIOO cm, 使用 0.5 MPa压缩空气对所述催化剂样品进行吹扫 除灰， 累计吹扫 30 mino
[0158] (3) 液体冲洗。 使用 12 Μί¾高压水对上述空气吹扫后的催化剂样品进行间歇冲 洗， 累计冲洗时间为 30 mino
[0159] (4)超声清洗。 使用超声装置对上述液体冲洗后的 SCR脱硝催化剂样品进行超声 清洗。 超声波频率为 40 kHz, 超声波功率为 660 W， 清洗介质为水， 清洗时间为 30 min。
[0160] (5) 化学清洗。 使用 （1) 配制的清洗液在室温下对上述超声清洗后的催化剂样 品进行化学清洗。 催化剂在清洗液中浸泡 5 h。
[0161] (6) 将上述化学清洗后的催化剂样品用水冲洗后， 先在 80 °C干燥 5 h， 然后在 120 °C干燥 5 ho
[0162] 经上述方法处理后的催化剂样品经脱硝效率测试， 结果脱硝效率达 63%。
[0163] 本实施例中催化剂样品脱硝效率测试方法同实施例 1。
[0164] 实施例 3:
[0165] 本实施例提供了 '种 SCR脱硝催化剂再生方法， 包括以卜-工艺步骤：
[0166] (1) 配制清洗液。 取渗透促进剂 JFC 占清洗液质量分数的 0.5%、 乳化剂 0P-10 占清洗液质量分数的 0.5%、匀染剂平平 +0占清洗液质量分数的 0.5%、 H\():占清洗液质量分数 的 5%、 缓蚀剂占清洗液质景分数的 0.3%， 余量为去离子水。 将 h述物质加入容器内机械搅拌 30 niin使其混合均匀， 制得清洗液。 [0167] (2)气体吹灰。 取催化效率由 80%降至 33%的某厂钒钨钛基 SCR脱硝催化剂样品， 该样品的尺寸为 15 cmX15 cmXIOO cm, 使用 0.5 MPa压缩空气对所述催化剂样品进行吹扫 除灰， 累计吹扫 30 min。
[0168] (3) 液体冲洗。 使用 12 MPa高压水对上述空气吹扫后的催化剂样品进行间歇冲 洗， 累计冲洗时间为 30 min
[0169] (4)超声清洗。 使用超声装置对上述液体冲洗后的 SCR脱硝催化剂样品进行超声 清洗。 超声波频率为 40 kHz, 超声波功率为 660 W, 清洗介质为水， 清洗时间为 20 min
[0170] (5) 化学清洗。 使用 （1) 配制的清洗液在室温下对上述超声清洗后的催化剂样 品进行化学清洗。 催化剂在清洗液中浸泡 4 h
[0171] (6) 将上述化学清洗后的催化剂样品用水冲洗后， 先在 80 Ό干燥 5 h， 然后在 120 °C干燥 5 ho
[0172] 经上述方法处理后的催化剂样品经脱硝效率测试， 结果其脱硝效率达 59%。
[0173] 本实施例中催化剂样品脱硝效率测试方法同实施例 1。
[0174] 表 8总结了上述实施例工艺条件及结果。
[0175] 表 8
Figure imgf000025_0001
[0176] 注： 实施例 1化学清洗液为： 取渗透促进剂 .IFC占清洗液质量分数的 0.1%、 乳化剂 0P-10 占清洗液质量分数的 0.1%、 匀染剂平平 +ϋ占清洗液质量分数的 0.1% ΙΙΝ03 占清洗液 质量分数的 1.2%、 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0.1%， 余量为去离子水。 实施例 2, 实施例 3 清洗液为： 取渗透促进剂 JFC占清洗液质量分数的 0. 、 乳化剂 OP-10占清洗液质量分数的 0.5%、 匀染剂平平 +0占清洗液质量分数的 0.5% ΗΝΌ 占 :冼液质 W：分数的 5%、 缓蚀剂占清 洗液质量分数的 0.3% [0177] 实施例 4:
[0178] 如图 1所示， 一种 SCR脱硝催化剂再生设备， 包括气体清扫设备 1、 液体清洗设备 和干燥设备 5。 所述气体清扫设备包括吹灰设备 1 -1和吸尘设备 1-2， ； 所述气体清扫设备 1 还包括传送装置 1-3用于传送催化剂。 所述液体清洗设备包括液体冲洗设备 2、 化学清洗设 备 3和超声清洗设备 4。所述液体冲洗设备 2包括敞开或封闭的空间 2-1、喷嘴 2-2和传送装 置 2-3; 所述化学清洗设备 3包括清洗池 3-1、 搅动设备 3-2和加热设备 3-3， 在所述清洗池
3- 1上设有传送装置 3-4用于传送催化剂； 所述超声清洗设备 4包括清洗池 4- 1、 加热装置
4- 2和超声装置 4 3， 用于发生超声波； 在所述清洗池 4-1上设有传送装置 4-4用于传送催化 剂。 传送装置 1-3、 传送装置 2-3、 传送装置 3- 4和传送装置 4- 4依次相连接。
[0179] 当然通过传送装置依次将所述气体清扫设备、液体清洗设备和干燥设备连接， 或者 通过传送装置依次将所述液体清洗设备、 气体清扫设备和千燥设备连接， 都能达到本发明的 目的。
[0180] 上述实施例并非具体实施方式的穷举， 还可有其他的实施例， 上述实施例目的在于 说明本发明， 而非限制本发明的保护范围， 所有由本发明简单变化而来的应用均落在本发明 的保护范围内。
[0181 ] 此专利说明书使用实例去展示本发明， 其中包括最佳模式， 并且使熟悉本领域的技 术人员制造和使用此项发明。 此发明可授权的范围包括权利要求书的内容和说明书内的具体 实施方式和其它实施例的内容。 这些其它实例也应该属于本发明专利权要求的范围， 只要它 们含有权利要求相同书面语言所描述的技术特征， 或者它们包含有与权利要求无实质差异的 类似字面语言所描述的技术特征。
[0182] 所有专利， 专利申请和其它参考文献的全部内容应通过引用并入本申请文件。但是 如果本申请中的一个术语和己纳入参考文献的术语相冲突， 以本申请的术语优先。
[0183] 本文中公开的所有范围都包括端点， 并且端点之间是彼此独立地组合。
[0184] 需要注意的是， "第一 "， "第二"或者类似词汇并不表示任何顺序，质量或重要性， 只是用来区分不同的技术特征。 结合数量使用的修饰词 "大约" 包含所述值和内容上下文指 定的含义。 （例如： 它包含有测量特定数量时的误差）

Claims

1.一种 SCR脱硝催化剂再生方法， 其特征在于： 包括先使用气体清扫工艺、 然后使用液 体清洗工艺、 最后使用干燥工艺， 或者包括先使用液体清洗工艺、 然后使用气体清扫工艺、 最后使用干燥工艺， 去除失活 SCR脱硝催化剂上的污染物。
2. 根据权利要求 1所述的方法， 其特征在于： 所述的液体为水或水溶液， 水溶液的溶质 包括渗透促进剂、 乳化剂、 匀染剂、 缓蚀剂、 络合剂、 酸或碱中的一种或几种。
3. 根据权利要求 1-2任一项所述的方法， 其特征在于： 其中渗透促进剂占清洗液质量分 数的 0-5%， 乳化剂占清洗液质量分数的 0-5%， 匀染剂占清洗液质量分数的 0-5%， 酸或碱占 清洗液质量分数的 0-10%， 缓蚀剂占清洗液质量分数的 0-5%， 络合剂占清洗液质量分数的 0- 10%。
4. 根据权利要求 1 -3任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的气体清扫包括气体吹灰和 吸灰工艺。
5.根据权利要求 1 -4任一项所述的方法， 其特征在于： 所述气体吹灰和吸灰工艺交替进 行； 所述气体吹灰工艺采用压力为 0 5. 0 MPa， 流量为 0- 1 mVs的压缩气体进行间歇或连续 吹灰， 间歇吹灰时间为每次 0-5 h， 每次间隔 0-5 h， 吹灰时间累计 0 8 h ; 所述的吸灰过程 使用真空度为 - 101 kPa -0 kPa的吸尘设备间歇或连续吸灰， 间歇吸灰时间为每次 0-5 h， 每 次间隔 0-5 h， 吸灰时间累计 0 8
6. 根据权利要求 1 -5任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的液体清洗包括液体冲洗、 化学清洗和超声清洗。
7. 根据权利要求 1-6任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的液体冲洗工艺为使用压力 为 0 50 MPa， 流量为 0- 1 mVs , 温度为室温- 100 °C的高压液体冲洗 SCR催化剂； 所述的液 体冲洗可以间歇进行也可以连续进行， 间歇冲洗时间为每次 0 5 h， 每次间隔 0-5 h， 累计冲 洗时间 0-8
8. 根据权利要求 1-7任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的化学清洗工艺为将催化剂 放入盛有权利要求 2所述的水溶液的清洗池内， 在室温 100 °C下间歇或连续漬洗催」化剂， 间 歇清洗为每次 0 5 h， 每次间隔 0-5 h， 累计清洗时间为 0-8 h。
9. 根据权利要求 1 -8任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的化学清洗工艺为在盛有权 利要求 2所述的水溶液的清洗池内装有固体物料传送装置， 可以不断地将催化剂放在传送装 置上， 催化剂以 0-5 m/s速度进入清洗池， 并随传送装置向前移动直至从清洗池出 Π离开清 洗池， 清洗时间为 0-8
10. 根据权利要求 1 -9仃: -项所述的方法， 其特征在于： 所述的超声清洗为使用权利要 求 2所述的水或水溶液在超声波清洗容器内，在超声频率为 20-300 kHz，超声波功率为 0 5 kW , 液体温度为室温 -100 °c下清洗催化剂。
1 1 . 根据权利要求 1 -10任一项所述的方法， 其特征在于： 其中所述的超声清洗工艺可以 间歇超声清洗也可以连续超声清洗， 间歇清洗时间为每次 0-5 h , 每次间隔 0-5 h， 累计清洗 时间 0 8 h o
12. 根据权利要求 1 -1 1任一项所述的方法， 其特征在于： 其中所述的超声清洗工艺为在 超声波清洗容器内装有固体物料传送装置， 可以不断地将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 m/s 的速度进入超声波清洗容器内并随传送装置向前移动直至从超声波清洗容器出口离 开， 超声清洗时间为 0-8 h o
13. 根据权利要求 1- 12任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的干燥工艺为将催化剂放 入封闭的干燥器内， 在 40-300 °C下干燥催化剂， 干燥时间为 0. 1-48 h。
14. 根据权利要求 1 - 13任一项所述的方法， 其特征在于： 所述的干燥工艺为在干燥器内 装有固体物料传送装置， 可以连续将催化剂放在传送装置上， 催化剂以 0-5 m/s的速度进入 到 40 300 的干燥器内并随传送装置向前移动直至从干燥器出 U离开， 干燥时间为 0. 1 -48 h o
15. 一种 SCR脱硝催化剂再生设备， 其特征在于： 包括气体清扫设备、 液体清洗设备和 干燥设备。
16. 根据权利要求 15所述的设备，其特征在于：通过传送装置依次将所述气体清扫设备、 液体清洗设备和干燥设备连接， 或者通过传送装置依次将所述液体清洗设备、 气体清扫设备 和干燥设备连接。
17. 根据权利要求 15-16任一项所述的设备， 其特征在于： 所述气体清扫设备包括吹灰 设备和吸尘设备； 所述气体清扫设备还包括传送装置用于传送催化剂。
18. 根据权利要求 15- 1 7任一项所述的设备， 其特征在于： 所述液体清洗设备包括液体 冲洗设备、 化学清洗设备和超声清洗设备。
19. 根据权利要求 1 5- 18任一项所述的设备， 其特征在于： 所¾液体冲洗设备包括敞幵 或封闭的空间、 喷嘴和传送装置； 所述化学清洗设备包括清洗池、 搅动设备和加热设备， 在 所述清洗池上设有传送装置用于传送催化剂； 所述超声清洗设备包括清洗池、 加热装置和超 声装置， 在所述清洗池 h设有传送装置用于传送催化剂。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113019471A (zh) * 2021-02-07 2021-06-25 铜仁市诚一环保科技有限公司 一种脱硝催化剂的清洗方法以及设备

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103055962B (zh) * 2012-12-25 2014-08-13 国电新能源技术研究院 一种scr脱硝催化剂再生方法
CN103350004B (zh) * 2013-08-02 2016-05-11 张权 一种scr脱硝催化剂的再生方法及用于scr脱硝催化剂再生液的混合物
CN103436378B (zh) * 2013-08-23 2014-12-24 重庆远达催化剂制造有限公司 火电厂脱硝催化剂孔道堵塞的清洗液及其清洗方法
CN103769247B (zh) * 2013-11-21 2015-11-18 浙江大学 用于scr催化剂再生的清扫除尘装置
CN103846112B (zh) * 2014-03-10 2015-09-16 北京国电龙源环保工程有限公司 一种利用废弃scr催化剂回收液再生脱硝催化剂的方法
CN104190479B (zh) * 2014-08-01 2016-06-29 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司 一种微波辅助脱硝催化剂的再生方法
CN104437673B (zh) * 2014-11-27 2016-08-24 华南理工大学 一种去除失活scr脱硝催化剂表面铁化合物的方法
CN104722559A (zh) * 2015-03-05 2015-06-24 无锡华光新动力环保科技股份有限公司 一种废烟气脱硝催化剂的回收处理方法
CN107159318A (zh) * 2017-05-24 2017-09-15 清华大学 一种用于钙中毒脱硝催化剂的中性络合清洗液及再生方法
CN107252706A (zh) * 2017-06-07 2017-10-17 江苏龙净科杰催化剂再生有限公司 中毒脱硝催化剂中金属氧化物的去除方法
CN108126521B (zh) * 2017-12-27 2020-09-08 吉林省电力科学研究院有限公司 一种针对火电厂烟气脱硝钒钛基催化剂的再生方法
CN108543549B (zh) * 2018-04-19 2020-12-29 南京信息工程大学 一种除尘脱硝多功能滤料再生方法
CN108654368A (zh) * 2018-06-15 2018-10-16 苏州西热节能环保技术有限公司 燃气scr脱硝催化剂模块及降低燃气scr脱硝催化剂阻力的方法
CN110694697A (zh) * 2019-11-29 2020-01-17 安徽元琛环保科技股份有限公司 一种脱硝催化剂二次回收处理系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101543794A (zh) * 2009-04-29 2009-09-30 常州市肯创环境工程技术有限公司 催化剂的清洗再生装置
US20100240523A1 (en) * 2008-03-11 2010-09-23 Evonik Energy Services Llc Method of regeneration of scr catalyst poisoned by phosphorous components in flue gas
CN201969496U (zh) * 2010-12-22 2011-09-14 浙江天蓝环保技术有限公司 一种scr催化剂可实现脱硝反应与再生的装置
CN103055962A (zh) * 2012-12-25 2013-04-24 国电新能源技术研究院 一种scr脱硝催化剂再生方法及其设备
CN103464221A (zh) * 2013-09-03 2013-12-25 广东电网公司电力科学研究院 Scr脱硝系统催化剂再生设备及再生工艺方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006075671A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Babcock Hitachi Kk 脱硝触媒の再生方法
KR20080114051A (ko) * 2007-06-26 2008-12-31 한국전력공사 배연탈질 폐촉매의 재생 방법 및 그에 이용되는 배연탈질폐촉매의 세정 시간 결정 방법
CN201445960U (zh) * 2009-04-29 2010-05-05 常州市肯创环境工程技术有限公司 催化剂的清洗再生装置的结构
CN102101060B (zh) * 2009-12-21 2013-01-09 中国科学院城市环境研究所 一种用于烟气脱硝催化剂活性复苏的工艺和装置
CN102389838B (zh) * 2011-09-21 2013-07-10 西安交通大学 一种scr脱硝催化剂在线清洗的装置及其清洗工艺
CN202315908U (zh) * 2011-11-30 2012-07-11 徐树元 一种烟气脱硝催化剂的在线再生系统
CN102658170B (zh) * 2012-04-11 2014-09-03 西安交通大学 钒钛基蜂窝状scr脱硝催化剂再生工艺及装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100240523A1 (en) * 2008-03-11 2010-09-23 Evonik Energy Services Llc Method of regeneration of scr catalyst poisoned by phosphorous components in flue gas
CN101543794A (zh) * 2009-04-29 2009-09-30 常州市肯创环境工程技术有限公司 催化剂的清洗再生装置
CN201969496U (zh) * 2010-12-22 2011-09-14 浙江天蓝环保技术有限公司 一种scr催化剂可实现脱硝反应与再生的装置
CN103055962A (zh) * 2012-12-25 2013-04-24 国电新能源技术研究院 一种scr脱硝催化剂再生方法及其设备
CN103464221A (zh) * 2013-09-03 2013-12-25 广东电网公司电力科学研究院 Scr脱硝系统催化剂再生设备及再生工艺方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113019471A (zh) * 2021-02-07 2021-06-25 铜仁市诚一环保科技有限公司 一种脱硝催化剂的清洗方法以及设备

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