WO2014073548A1 - Système optique de modulation spatiale de lumière, système optique d'éclairage, dispositif d'exposition et procédé de fabrication du dispositif - Google Patents
Système optique de modulation spatiale de lumière, système optique d'éclairage, dispositif d'exposition et procédé de fabrication du dispositif Download PDFInfo
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- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
Abstract
La présente invention concerne un système optique d'éclairage pouvant atteindre une distribution souhaitée d'intensité de pupille par la suppression de l'effet de lumière inutile ne provenant pas d'un élément miroir d'un modulateur spatial de lumière. Le système selon l'invention est équipé : d'un modulateur spatial de lumière comprenant une pluralité d'éléments miroirs qui sont disposés en réseau selon un plan prédéterminé et sont commandés individuellement; et d'un système optique de formation de distribution qui amène la lumière qui a traversé le modulateur spatial de lumière à être distribuée suivant une distribution prédéterminée d'intensité lumineuse sur la pupille d'éclairage du système optique d'éclairage. La direction d'une quelconque paire donnée de bords opposés de deux éléments miroirs adjacents de la pluralité d'éléments miroirs du modulateur spatial de lumière, et la direction de la ligne d'intersection entre un plan prédéterminé et un plan perpendiculaire au plan prédéterminé contenant la ligne axiale d'un faisceau lumineux entrant dans le modulateur spatial de lumière se croisent à un angle requis qui n'est pas égal à 0 °.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261723600P | 2012-11-07 | 2012-11-07 | |
US61/723,600 | 2012-11-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2014073548A1 true WO2014073548A1 (fr) | 2014-05-15 |
Family
ID=50684650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/079955 WO2014073548A1 (fr) | 2012-11-07 | 2013-11-06 | Système optique de modulation spatiale de lumière, système optique d'éclairage, dispositif d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
WO (1) | WO2014073548A1 (fr) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09230257A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロミラー装置 |
JP2008058965A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Spatial Photonics Inc | 抗スティクション材料を有するマイクロデバイス |
WO2009125511A1 (fr) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 株式会社ニコン | Unité de modulation spatiale de la lumière, système optique d'éclairage, aligneur et procédé de fabrication du dispositif |
JP2011521445A (ja) * | 2008-05-09 | 2011-07-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | フーリエ光学系を含む照明系 |
JP2011170299A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Nikon Corp | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 |
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2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09230257A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロミラー装置 |
JP2008058965A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Spatial Photonics Inc | 抗スティクション材料を有するマイクロデバイス |
WO2009125511A1 (fr) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | 株式会社ニコン | Unité de modulation spatiale de la lumière, système optique d'éclairage, aligneur et procédé de fabrication du dispositif |
JP2011521445A (ja) * | 2008-05-09 | 2011-07-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | フーリエ光学系を含む照明系 |
JP2011170299A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Nikon Corp | 空間光変調器、照明装置、露光装置およびそれらの製造方法 |
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