WO2014035172A1 - 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법 - Google Patents

나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
WO2014035172A1
WO2014035172A1 PCT/KR2013/007794 KR2013007794W WO2014035172A1 WO 2014035172 A1 WO2014035172 A1 WO 2014035172A1 KR 2013007794 W KR2013007794 W KR 2013007794W WO 2014035172 A1 WO2014035172 A1 WO 2014035172A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
sol
coating layer
nanowire
carbon nanotube
layer
Prior art date
Application number
PCT/KR2013/007794
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
천기영
정다정
방윤영
김승렬
Original Assignee
(주)탑나노시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)탑나노시스 filed Critical (주)탑나노시스
Publication of WO2014035172A1 publication Critical patent/WO2014035172A1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00—Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B18/00—Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
    • B32B2264/10—Inorganic particles
    • B32B2264/105—Metal
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202—Conductive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208—Touch screens

Definitions

  • the present invention relates to a nanowire-carbon nanotube hybrid film, and more specifically, to a nanowire-carbon nanotube hybrid film applicable to various fields such as charging, display, optics, and lighting, and a manufacturing method thereof. It is about.
  • the transparent conductive film has high conductivity (for example, sheet resistance of 1 ⁇ 10 3? / Sq or less) and high transmittance (80% or more) in the visible region.
  • the transparent conductive film may include a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD) device, a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), and an organic light emitting diode (OLED).
  • PDP plasma display panel
  • LCD liquid crystal display
  • LED light emitting diode
  • OLED organic light emitting diode
  • OLED organic light emitting diode
  • OLED organic light emitting diode
  • OLED organic light emitting diode
  • the silver nanowires have an advantage of having high conductivity and excellent transmittance.
  • the silver nanowires are deteriorated in corrosion resistance and high temperature due to oxidation and have a problem in that they are not suitable for flexible displays due to their rigid properties.
  • the durability is low, such as low temperature and thermal shock.
  • the present invention provides a nanowire-carbon nanotube hybrid film having excellent conductivity at high temperature, high humidity, thermal shock, low temperature, corrosion resistance, and flexibility while deteriorating conductivity and permeability while using a metal nanowire as a conductive layer. It aims to do it.
  • Another object of the present invention is to provide a nanowire-carbon nanotube hybrid film capable of wet etching and a method of manufacturing the same.
  • the nanowire-carbon nanotube hybrid film of the present invention includes a substrate, a nanowire layer, a carbon nanotube layer, and a top coating layer.
  • the nanowire layer is formed on the substrate and has a metal nanowire as a main component.
  • the carbon nanotube layer is formed on the nanowire layer, and has a carbon nanotube as a main component, and has a network structure with the nanowire layer.
  • the top coating layer is formed on the carbon nanotube layer and has insulation.
  • the nanowire layer, carbon nanotube layer, and top coating layer may include a ceramic binder and ceramic nanoparticles or metal oxide nanoparticles.
  • the ceramic binder is TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CuO2 sol, CuO2 sol, CuO2 sol, At least one or more of Co 3 O 4 sol may be selected, and the nanoparticles may include TiO 2 , SiO 2 , SiON, SiN x , SiN x , ZnO, SnO, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , WO 3 , V 2 O 5 , NiO, Mn 3 O 4 , MgO, La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Co 3 O 4
  • the nanowire-carbon nanotube hybrid film according to another aspect of the present invention is a one-component type in which metal nanowires and carbon nanotubes are mixed, and a one-component type in which base coating and metal nanowires and carbon nanotubes are mixed on a substrate.
  • the base coating is formed on the substrate, and the main component is a one-component layer in which metal nanowires and carbon nanotubes are mixed.
  • a method of manufacturing a nanowire-carbon nanotube hybrid film includes preparing a substrate, forming a wet etchable base coating layer on the substrate, and forming a base coating layer on the base coating layer.
  • a method for producing a nanowire-carbon nanotube hybrid film comprising the steps of preparing a substrate, easy wet etching on the substrate and mixing the metal nanowires and carbon nanotubes Forming a base coating comprising a ceramic binder and nanoparticles to increase adhesion between the one-component layer and the substrate, and the metal nanowires, carbon nanotubes, wet-etchable ceramic binders and nanoparticles on the base coating layer.
  • Forming a one-component coating layer comprising: forming a top coating layer formed on the one-component coating layer and comprising a wet etchable ceramic binder and nanoparticles, the base coating, the one-component coating layer, and Wet etching the topcoat layer to form a pattern.
  • the carbon nanotube layer having a network structure has a wider contact area between the metal nanowires to improve conductivity, improve flexibility, and improve the carbon nanotube layer.
  • Coating of the top coating layer on the tube layer prevents permeability retention and scratches, and improves high temperature, high humidity, thermal shock, corrosion resistance, surface hardness and adhesion. This makes it possible to apply to more fields.
  • the wet coating is possible by adding a wet-etchable ceramic binder and nanoparticles to the top coating layer, the carbon nanotube layer, the nanowire layer, and the base coating. Therefore, finer pattern formation is possible and pattern formation becomes simple.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a metal nanowire-carbon nanotube hybrid film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 1.
  • FIG. 3 is a modification of FIG. 2.
  • FIG. 4 is another modified example of FIG.
  • FIG. 5 is another modified example of FIG.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a nanowire-carbon nanotube hybrid film according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 1.
  • the nanowire-carbon nanotube hybrid film 100 according to an embodiment of the present invention, the substrate 110, the nanowire layer 120 and the carbon nanotube layer 130 and the top coating layer 140.
  • the substrate 110 may be a transparent material and may be made of a material such as transparent polymer such as glass, PET, PC, PI, PEN, COC, and the like.
  • the substrate 110 is preferably made of a highly transparent inorganic substrate or a transparent polymer substrate to have flexibility.
  • the nanowire layer 120 includes metal nanowires 121.
  • the metal nanowires 121 are nanowires made of a metal, a metal alloy, a plated metal, or a metal oxide. Examples of the metal nanowires 121 may include silver nanowires, copper nanowires, platinum nanowires, gold nanowires, gold plated silver nanowires, and palladium nanowires, but are not limited thereto.
  • the metal nanowire refers to a wire structure having a size in nanometers.
  • the diameter of the metal nanowires may have a diameter of less than 10 nm to several hundred nm, and the aspect ratio is greater than 10.
  • the metal nanowires have excellent conductivity and permeability.
  • the nanowire layer 120 may include a ceramic binder.
  • the ceramic binder is TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO2 Cu3 At least one of the sol may be selected.
  • the ceramic binder functions to bind metal nanowires.
  • the ceramic binder preferably has a content of 50 to 10000 parts by weight relative to 100 parts by weight of the metal nanowires.
  • the thickness layer (D1) of the nanowire layer is preferably 5nm to 300nm. This is because when the thickness D1 is less than 5 nm, the nanowire film conductivity is lowered, and when the thickness D1 is greater than 300 nm, permeability is lowered and haze is increased.
  • the carbon nanotube layer 130 is formed on the upper surface of the nanowire layer 120.
  • the carbon nanotube layer 130 mainly includes carbon nanotubes. Carbon nanotubes form a tube by combining one carbon with a hexagonal honeycomb pattern with another carbon atom, and the diameter of the tube is extremely small, at the nanometer level, and thus exhibits unique electrochemical characteristics.
  • the carbon nanotube layer 130 has a network structure with the nanowire layer 120. That is, the carbon nanotubes of the carbon nanotube layer 130 form a network structure with the nanowires of the nanowire layer 120. Accordingly, the conductivity of the nanowires is transferred to the carbon nanotubes, so that the overall conductivity of the entire film is maintained.
  • the carbon nanotubes are not oxidized, and are excellent in high temperature, high humidity and thermal shock, as compared to metal nanowires, thereby enhancing the high temperature, high humidity, low temperature, thermal shock, physical durability, and corrosion resistance of the entire film. .
  • the thickness (D2) of the carbon nanotube layer is preferably 10nm to 500nm.
  • the thickness D2 is less than 10 nm, the nanowire layer is exposed but the physical and chemical durability is lowered.
  • the thickness D2 is greater than 500 nm, the transmittance is lowered and the conductivity of the nanowire is not maintained.
  • the carbon nanotube layer 130 may be formed by coating and curing a carbon nanotube solution on the nanowire layer 120.
  • the carbon nanotube solution may be prepared by mixing a ceramic binder and carbon nanotube in a solvent.
  • carbon nanotubes are dispersed.
  • One example of the carbon nanotube dispersion method is to disperse the carbon nanotubes in an organic solvent such as amide-based DMF (NN-dimethylformamide) or NMP (1,2-dichlorobenzene, N-methylpyrrolidone).
  • the carbon nanotube dispersion method may be a water-soluble dispersant.
  • the water-soluble dispersant includes sodium dodecyl sulphate (SDS), triton x-100 (tx-100), sodium dodecylbenzenesulfonate (NaDDBS), gum arabic, and the like.
  • a ceramic binder is added to a solvent in which carbon nanotubes are dispersed.
  • the ceramic binder serves to bind between the carbon nanotubes.
  • the ceramic binder is TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO2 Cu3 At least one of the sol may be selected.
  • the top coating layer 140 is formed on the carbon nanotube layer 130 and has insulation.
  • the top coating layer 140 may be made of a transparent material.
  • the top coating layer 140 may perform a function of improving the durability on the surrounding environment, such as improving hardness and preventing scratches on the carbon nanotube layer.
  • optical characteristics such as brightness improvement and the prevention of diffuse reflection, can also be improved.
  • the top coating layer 140 may be made of a ceramic binder.
  • the ceramic binder is capable of producing a coating film having a high light transmittance, and has excellent adhesive strength, which is advantageous for reinforcing microcracking, having excellent heat and fire resistance, and coating application.
  • the ceramic binder examples include TiO2sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CuO2 sol, CeO2 sol Co 3 O 4 sol, but is not limited thereto, and at least one of them may be selected.
  • the organic group of the ceramic forming the top coating layer 140 is sol-gel reaction with the carbon nanotubes to form a network to maintain stability. Accordingly, the top coating layer 140 has an adhesive stability and excellent hardness with the surface of the carbon nanotube layer 130. It is preferable that the thickness D3 of the top coating layer is 10 nm to 300 nm.
  • FIG. 3 is a modification of FIG. 2.
  • at least one of the ceramic binder 122 or the nanoparticles 123 capable of wet etching may be added to the nanowire layer 120 in addition to the metal nanowires 121.
  • the ceramic binder 122 and the nanoparticles 123 serve to bind between the metal nanowires 121, and are capable of producing a coating film having high light transmittance, and are excellent in reinforcing microcracking due to excellent adhesion. Excellent fire resistance and coating application.
  • the wet etchable ceramic binder 122 and the nanoparticles 123 are bound to the binder together with the metal nanowires 121 to be attached to the metal nanowires. Accordingly, when the ceramic binder 122 and the nanoparticles 123 are etched during wet etching, the metal nanowires 121 are also etched together.
  • At least one of the ceramic binder 132 or the nanoparticles 133 capable of wet etching may be added to the carbon nanotube layer 130 in addition to the carbon nanotubes 131.
  • the ceramic binder 132 or the nanoparticles 133 may also function to improve conductivity of the carbon nanotubes.
  • the ceramic binder 132 or the nanoparticles 133 may function to wet-etch the film. This is because the carbon nanotubes 131 are not normally wet etched, but the wet etching is possible by adding the ceramic binder 132 or the nanoparticles 133.
  • the wet etchable ceramic binder 132 or the nanoparticles 133 are bound to the binder together with the carbon nanotubes 131 and adhered to the carbon nanotubes.
  • the top coating layer 140 may also be formed of a wet etchable ceramic binder 141.
  • the top coating layer 140 may add nanoparticles 143 that can be wet-etched to the binder 141.
  • the ceramic binders 122, 132, and 141 may include TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol , CeO 2 sol, CuO sol, Co 3 O 4 sol, but is not limited thereto. At least one of these may be selected.
  • the nanoparticles 123, 133, and 143 may be ceramic nanoparticles or metal oxide nanoparticles.
  • the nanoparticles are TiO 2 , SiO 2 , SiON, SiN x , SiN x , ZnO, SnO, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , WO 3 , V 2 O 5 , NiO, Mn 3 O 4 , MgO, La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Co 3 O 4 , CuO, CeO 2 , ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb 2 O 3 and ITO, ATO
  • the metal oxide nanoparticles may be, but are not limited thereto. At least one of these may be selected.
  • the base coating improves adhesion between the nanowire layer and the substrate and allows for easy etching.
  • the nanowire layer has a function of improving transmittance and lowering sheet resistance.
  • the carbon nanotube layer has excellent environmental and corrosion resistance, has flexibility, and forms a network structure with the nanowire layer.
  • the top coating layer improves hardness, scratch resistance, and permeability. That is, nanowires made of silver (Ag) or the like have excellent transmittance and conductivity. On the other hand, high temperature characteristics due to oxidation are poor, and flexibility, thermal shock and physical durability are weak. Therefore, by adding a carbon nanotube layer, it is possible to complement flexibility, thermal shock, physical durability and high temperature and high humidity, and to have excellent conductivity and permeability.
  • the ceramic binder 141 and the nanoparticles 143 contained in the top coating layer from the top surface of the top coating layer 140 first start wet etching.
  • the top of the carbon nanotube layer 130 in contact with the top coating layer 140 is wet etched.
  • the ceramic binder 132 and the nanoparticles 133 contained in the carbon nanotube layer 130 are wet etched to allow the etching means to sufficiently contact the nanowire layer 120. It is wet etched together with the ceramic binder 122 or the nanoparticles 123.
  • the pattern formation of the nanowire-carbon nanotube hybrid film is completed.
  • the size of the nanoparticles (123, 133, 143) is preferably 1nm to 1 ⁇ m.
  • the size of the nanoparticles is less than 1 nm, even if the nanoparticles are wet etched, the effect on the nanowire layer is minimal, and there is a problem that the top coating layer, the carbon nanotube layer, and the nanowire layer are not etched together. This is because when the size exceeds 1 ⁇ m, there is a problem that the coating surface is not uniformly dispersed in the coating liquid or sinks, or the coating surface is unevenly formed after coating.
  • the base coating layer 160 may be interposed between the nanowire layer 120 and the substrate 110 to facilitate wet etching and increase adhesion between the metal nanowires and the substrate.
  • the nanowire layer 120 may or may not contain a ceramic binder and nanoparticles.
  • the base coating layer 160 functions to increase the bonding force between the substrate 110 and the nanowire layer 120. This may reduce the coating power of the nanowire layer 120 according to the material of the substrate 110 and the metal nanowire material, in accordance with the material of the substrate 110 and nanowire layer 120, excellent coating power
  • the base coating layer 160 made of a binder selected to be selected may be selected.
  • the base coating layer 160 may include a wet etchable binder 161 and / or nanoparticles 163.
  • the base coating layer 160 is wet etched together with the top coating layer 140, so that the nanowire layer 120 and the carbon nanotube layer 130 therebetween are easily wet etched.
  • a wet etchable ceramic binder 122 and nanoparticles 123 are added to the nanowire layer 120, and the carbon nanotube layer 130 is also a wet etchable ceramic binder 132 and nanoparticles 133. ) Can be wet etched since it is added.
  • the top coating layer 140 may be formed by mixing the ceramic binder 141 and the nanoparticles 143 in a solvent to form a top coating solution, and then coating it on the carbon nanotube layer.
  • the base coating layer 160 may be formed by mixing the ceramic binder 161 and the nanoparticles 163 in a solvent to form a base coating solution, and then coating the substrate on the substrate.
  • the solvent for forming the top coating solution and the base coating solution may be selected from alcohols, amines, distilled water and general organic solvents. It is preferable that the boiling point is 150 ° C. or lower so that the solvent is easily removed later.
  • the nanoparticles 123, 133, 143, and 163 may be ceramic nanoparticles or metal oxide nanoparticles.
  • the ceramic nanoparticles or metal oxide nanoparticles are TiO 2 , SiO 2 , SiON, SiN x , SiN x , ZnO, SnO, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , WO 3 , V 2 O 5 , NiO, Mn 3 O 4 , MgO, La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Co 3 O 4 , CuO, CeO 2 , ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb 2 O 3 and metal oxide nanoparticles such as ITO and ATO, but are not limited thereto. At least one of these may be selected.
  • the nanoparticles preferably have a content of 1 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of each of the base coating solution, nanowire layer, carbon nanotube layer, top coating solution, which is 1 part by weight If it is less than the wet etching is not properly, if more than 500 parts by weight is to change the physical properties of the coating layer, after coating the nanoparticles scatter light, there is a problem that the haze becomes high, the permeability is lowered.
  • a method of using an etching paste may be performed by pattern-coating an etching paste on an etching target region of the top coating layer 140.
  • the side on which the etching paste is applied is etched by the wet etching equipment.
  • the etching paste is patterned on the top coating layer 140 having a viscosity of about thousands to tens of thousands of Cps.
  • the screen printing method can be used as a method of pattern-forming the said etching paste.
  • the screen printing method may be performed by disposing a screen mask on the top coating layer 140 and printing an etching paste on the top coating layer 140 through the hollow portion of the screen mask with a squeeze.
  • the top coating layer 140 may be subjected to a heat treatment step of heating to an appropriate temperature to react with the etching paste.
  • the etching rate can be increased by introducing heat into the etching paste through the above process.
  • the etching paste and the top coating layer 140, the carbon nanotube layer 130, the nanowire layer 120, and the base coating layer 160 to which the etching paste is applied are removed.
  • the washing step when the etching paste is washed off in ultra-pure water (Di-water), the etching paste and the etching paste are coated with the top coating layer 140, the carbon nanotube layer 130, and the nanowire layer 120. ) And the base coating layer 160 are etched away to complete the patterned nanowire-carbon nanotube hybrid film.
  • the carbon nanotube layer 130 is bound to the top coating layer 140 on the upper side, and to the base coating layer 160 on the lower side through the nanowire layer 120, and ceramics on each coating layer.
  • the top coating layer 140 and the base coating layer 160 are etched along the etching paste, so that the carbon nanotube layer 130 and nanowire layer 120 bound thereto are easily etched. do.
  • FIG. 5 is another modified example of FIG. 5 is a metal nanowire 222 and a carbon nanotube 221 is mixed without the coating and separating the nanowire layer and the carbon nanotube layer between the base coating layer 160 and the top coating layer 140 as shown in FIG.
  • a one-component coating layer 220 formed by coating a one-component solution is formed.
  • the one-component coating layer 220 can be achieved using a small amount of the metal nanowires 222 and the carbon nanotubes 221, respectively, so that the relative amount can be improved, and the network structure between the metal nanowires and the carbon nanotubes can be achieved.
  • the carbon nanotubes connect the contact area between the metal nanowires and the metal nanowires to improve conductivity and flexibility.
  • the base coating layer 160 and the top coating layer 140 is as described in Figure 4, so a detailed description thereof will be omitted.
  • the one-component coating layer 220 may include at least one of a wet etchable ceramic binder 224 and nanoparticles 223.
  • the ceramic binder is TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO2 Cu3 sol, but is not limited thereto. At least one of these may be selected.
  • Nanoparticles are TiO 2 , SiO 2 , SiON, SiN x , SiN x , ZnO, SnO, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , WO 3 , V 2 O 5 , NiO, Mn 3 O 4 , MgO, La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , Cr 2 O 3 , Co 3 O 4 , CuO, CeO 2 , ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb 2 O 3 and at least one selected from ITO, ATO Can be.
  • the one-component layer in which the metal nanowires and the carbon nanotubes are mixed is bound to the top coating layer 140 on the upper side and to the base coating layer 160 on the lower side, and at the same time, a ceramic binder and By adding nanoparticles, the etching paste easily passes by the etching paste from the top coating layer 140 to the lower base coating layer 160.
  • the wet etching method is not limited to the wet etching method using the above-described etching paste. That is, the wet etching that can be applied to the present invention can apply a photoresist method. That is, a photoresist, which is a photosensitive resin, is coated, and a photoresist is selectively transmitted by transmitting light having a wavelength in a specific region using a mask serving as a patterned disc, and then a photoresist is selectively developed. The region to be etched selectively exposed by the developing process can be removed by a chemical method such as an etching solution or a reactive gas.
  • the present invention is not limited to the etching paste coating method or the photoresist method, and may be a top coating layer 140, a carbon nanotube layer 130, a nanowire layer 120, and a base coating layer 160 using a chemical solution. If it can melt
  • the carbon nanotube layer 130 and the nanowire layer 120 are patterned by wet etching. Accordingly, there is an advantage in that the conventional wet etching equipment for forming a pattern of an electrode such as ITO can be applied as it is. In addition, there is an advantage that can be quickly etched, and have a fine pattern width.
  • the present invention can be applied to fields requiring conductive films such as charging, display, optical, and lighting.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

본 발명은, 투과성 및 전도성이 우수함과 동시에, 내구성 및 유연성이 향상되는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조방법을 제공한다. 따라서 본 발명의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름은, 기재, 기재 상에 형성된 것으로, 금속 나노와이어를 주성분으로 하는 나노와이어층, 나노와이어층 상에 형성된 것으로, 탄소나노튜브를 주성분으로 하며, 상기 나노와이어층과 망상구조를 가지는 탄소나노튜브층, 및 상기 탄소나노튜브층 상에 형성되며, 절연성을 가지는 탑코팅층을 포함한다.

Description

나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법
본 발명은 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 대전분야, 디스플레이분야, 광학분야, 조명분야 등 여러 분야에 적용할 수 있는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 투명 전도성 필름은 높은 전도성 (예를 들면,1×10^3Ω/sq 이하의 면저항)과 가시영역에서 높은 투과율(80%이상)을 가진다. 이에 따라서 상기 투명 전도성 필름은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 액정 디스플레이(Liquid crystal Display, LCD)소자, 발광다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 전계 발광다이오드(Organic Light Emitting Diode, OLED), 터치패널 또는 태양전지 등에서 각종 수광소자와 발광소자의 전극으로 이용되는 것 이외에 자동차 창유리나 건축물의 창유리 등에 쓰이는 대전 방지막, 전자파 차폐막 등의 투명전자파 차폐제 및 열선 반사막, 냉동 쇼케이스 등의 투명 발열체로 사용되고 있다.
최근에는 은나노와이어(Ag nanowire)를 도전층으로 하는 투명도전필름이 제조되고 있다. 상기 은 나노와이어는 높은 전도성을 가지면서, 우수한 투과도를 가지고 있다는 장점이 있다.
반면, 상기 은 나노와이어는 산화로 인하여 내부식성 및 고온에서 특성이 열화되고, 딱딱한 성질로 인하여 플렉시블 디스플레이에 적합하지 않다는 문제점이 있다. 또한, 저온성 및 열충격성 등 내구성이 약하다는 문제점이 있다.
한편, 상기 투명도전필름에서 은나노와이어로 이루어진 도전층의 패턴을 형성시키기 위해서는, 종래에 통상적으로 사용되는 습식 에칭 장비를 사용하지 못한다는 문제점이 있다.
본 발명은, 금속 나노와이어를 도전층으로 하면서도, 고온고습성, 열충격성, 저온성, 내부식성 및 유연성이 우수함과 동시에, 전도성이나 투과성이 열화되지 않는 나노와이이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은, 습식 에칭이 가능한 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름은, 기재와, 나노와이어층과, 탄소나노튜브층과, 탑코팅층을 포함한다. 나노와이어층은 기재 상에 형성되며, 금속 나노와이어를 주성분으로 한다. 탄소나노튜브층은 상기 나노와이어층 상에 형성된 것으로, 탄소나노튜브를 주성분으로 하며, 상기 나노와이어층과 망상구조를 가진다. 탑코팅층은 상기 탄소나노튜브층 상에 형성되며, 절연성을 가진다.
상기 나노와이어층, 탄소나노튜브층, 탑코팅층은 세라믹 바인더 및 세라믹계 나노 입자 또는 금속 산화물계 나노 입자를 포함 할 수 있다. 상기 세라믹 바인더는, TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있고, 상기 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3 및 ITO, ATO 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 측면에서의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름은, 금속 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합한 1액형으로 기재 상에 베이스코팅, 금속 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합한 1액형층, 탑코팅층을 포함한다. 베이스코팅은 기재 상에 형성되며, 금속 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합한 1액형층을 주성분으로 한다.
한편, 본 발명의 또 다른 측면에서의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름의 제조 방법은, 기재를 준비하는 단계와, 상기 기재 상에, 습식 에칭 가능한 베이스코팅층을 형성하는 단계와, 상기 베이스코팅층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 나노와이어층을 형성하는 단계와, 상기 나노와이어층 상에 형성된 것으로, 탄소나노튜브 및 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하며, 상기 나노와이어층과 망상구조를 가지는 탄소나노튜브층을 형성시키는 단계와, 상기 탄소나노튜브층 상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 탑코팅층을 형성시키는 단계와, 상기 베이스코팅, 나노와이어층, 탄소나노튜브층, 및 탑코팅층을 습식 에칭하여 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
한편, 본 발명의 또 더 다른 측면에서의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름의 제조 방법은, 기재를 준비하는 단계와, 상기 기재 상에, 습식 에칭을 쉽게 하고 금속 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합한 1액형층과 기재간 접착력을 높이기 위해 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 베이스코팅을 형성하는 단계와, 상기 베이스코팅층 상에 금속 나노와이어와, 탄소나노튜브와, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 1액형 코팅층을 형성하는 단계와, 상기 1액형 코팅층상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 탑코팅층을 형성시키는 단계와, 상기 베이스코팅, 상기 1액형 코팅층, 및 탑코팅층을 습식 에칭 하여 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 탄소나노튜브층을 상기 금속 나노와이어층 상에 코팅함으로써, 망상구조를 가지는 탄소나노튜브층이 금속 나노와이어 간의 접촉면적이 넓어져 전도성이 향상되고, 유연성이 향상되고 상기 탄소나노튜브층 상에 탑코팅층을 코팅함으로 인해 투과성 유지 및 스크래치가 방지되며, 고온고습성, 열충격성, 내부식성, 표면경도 및 부착성이 향상된다. 이로 인하여 보다 많은 분야에 적용이 가능하다.
또한, 상기 탑코팅층, 탄소나노튜브층, 나노와이어층 및 베이스코팅에 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 첨가하여 코팅됨으로써 습식 에칭이 가능해진다. 따라서, 보다 미세한 패턴 형성이 가능하고, 패턴 형성이 간편하게 된다.
또한, 기존의 습식 에칭 장비를 적용하여서 탄소나노튜브 패턴을 형성시킬 수 있음으로써, 제조 비용이 저감된다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 금속 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름을 도시한 단면도이다.
도 2는 도 1의 A부를 확대 도시한 단면도이다.
도 3은 도 2의 일 변형 예이다.
도 4는 도 2의 다른 변형 예이다.
도 5는 도 4의 다른 변형 예이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름을 도시한 단면도이고, 도 2는 도 1의 A부를 확대 도시한 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름(100)은, 기재(110)와, 나노와이어층(120)과, 탄소나노튜브층(130)과, 탑코팅층(140)을 포함한다.
기재(110)는 투명재질일 수 있으며 이에 따라 유리, PET, PC, PI, PEN, COC등의 투명 폴리머 등의 소재로 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 기재(110)는 고투명 무기물 기판 또는 투명 폴리머 기판으로 이루어져서 유연성을 가지는 것이 바람직하다.
나노와이어층(120)은 금속 나노와이어(121)를 포함한다. 금속 나노와이어(121)는 금속, 금속합금, 도금 금속 또는 금속 산화물로 제조된 나노와이어이다. 상기 금속 나노와이어(121)의 일 예로서는 은 나노와이어, 구리 나노와이어, 백금 나노와이어, 금 나노와이어, 금 도금된 은 나노와이어, 및 팔라듐 나노와이어일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
금속 나노 와이어는　나노미터 단위의 크기를 가지는 와이어 구조체를 말한다. 상기 금속 나노와이어의 지름은 10nm 미만의 지름을 가지는 것에서부터 수백nm지름을 가질 수 있으며, 종횡비가 10보다 크다. 상기 금속 나노와이어는 우수한 전도성 및 투과성을 가지고 있다.
상기 나노와이어층(120)은 세라믹 바인더를 포함할 수 있다. 상기 세라믹 바인더는 TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. 상기 세라믹 바인더는 금속 나노와이어를 바인딩시키는 기능을 한다. 상기 세라믹 바인더는 금속 나노와이어 100 중량부 대비 50 내지 10000 중량부의 함량을 가지는 것이 바람직하다.
이 경우, 상기 나노와이어층의 두께층(D1)은 5nm 내지 300nm 인 것이 바람직하다. 이는 상기 두께(D1)가 5nm 미만인 경우에는 나노와이어 필름 도전성이 낮아 지게 되고, 300nm를 초과하는 경우에는 투과성이 떨어지고, 헤이즈(Haze)가 높아지기 때문이다.
상기 나노와이어층(120) 상면에는 탄소나노튜브층(130)이 형성된다. 상기 탄소나노튜브층(130)은 탄소나노튜브를 주성분으로 한다. 탄소나노튜브는 하나의 탄소가 다른 탄소원자와 육각형 벌집무늬로 결합되어 튜브형태를 이루고 있고, 튜브의 직경이 나노미터 수준으로 극히 작아서 특유의 전기 화학적 특성을 나타낸다.
이 경우, 상기 탄소나노튜브층(130)은 상기 나노와이어층(120)과 망상구조를 가진다. 즉, 탄소나노튜브층(130)의 탄소나노튜브는 상기 나노와이어층(120)의 나노와이어와 망상구조를 형성한다. 이에 따라서 나노와이어의 도전성이 탄소나노튜브로 전달되어서 전체적으로 전체 필름의 도전성이 우수하게 유지된다.
상기 탄소나노튜브는 금속 나노와이어에 비하여, 산화되지가 않고, 고온고습성이나 열충격성이 우수하므로, 전체 필름의 고온고습성, 저온성, 열충격성, 물리적 내구성과 내부식성을 강화시키는 역할을 한다.
이 경우, 상기 탄소나노튜브층의 두께(D2)는 10nm 내지 500nm 인 것이 바람직하다. 이는 상기 두께(D2)가 10nm 미만인 경우에는 나노와이어층이 드러나 물리적, 화학적 내구성이 떨어지고, 500nm를 초과하는 경우에는 투과도가 낮아지고 나노와이어의 도전성을 유지하지 못한다.
이 경우, 상기 탄소나노튜브층(130)은 탄소나노튜브 용액을 상기 나노와이어층(120) 상에 코팅하고 경화시킴으로써 이루어질 수 있다.
이 경우, 상기 탄소나노튜브 용액은, 용매에, 세라믹 바인더 및 탄소나노튜브를 혼합하여서 제조할 수 있다.
상기 탄소나노튜브 용액을 제조하는 방법으로는 먼저 탄소나노튜브를 분산시킨다. 탄소나노튜브 분산 방법 중 하나의 예로는 탄소나노튜브를 amide계열의 DMF(NN-dimethylformamide), NMP (1,2-dichlorobenzene, N-methylpyrrolidone)등의 유기 용매에 넣어 초음파로 분산시킬 수 있다.
탄소나노튜브 분산 방법 중 다른 예로는 수용성 분산제를 적용할 수 있다. 상기 수용성 분산제로는 SDS (Sodium Dodecyl Sulfate), Triton X-100(TX-100), NaDDBS(Sodium DodecylbenzeneSulfonate), Gum Arabic 등이 있다.
그 후에, 탄소나노튜브가 분산된 용매에, 세라믹 바인더를 투입한다. 세라믹 바인더는 상기 탄소나노튜브 사이를 바인딩하는 역할을 한다. 상기 세라믹 바인더는 TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
탑코팅층(140)은 상기 탄소나노튜브층(130) 상에 형성되며, 절연성을 가진다. 상기 탑코팅층(140)은 투명한 소재로 이루어질 수 있다. 상기 탑코팅층(140)은 탄소나노튜브층 상에 경도를 향상시키고, 스크래치를 방지하는 등 주변환경에 대한 내구성을 향상시키는 기능을 행할 수 있다. 또한, 휘도 향상, 난반사 방지 등 광학적 특성을 향상시킬 수도 있다.
상기 탑코팅층(140)은 세라믹 바인더로 이루어질 수 있다. 일반적으로 세라믹 바인더는 광투과도가 높은 코팅막의 제조가 가능하고, 접착력이 우수하여 미세균열보강에 유리하고, 내열, 내화특성이 우수하며, 코팅 적용이 유용하다.
상기 세라믹 바인더의 일 예로서는 TiO2sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
탑코팅층(140)을 이루는 세라믹의 유기기는 탄소나노튜브와 sol-gel 반응을 하여 네트워크를 이루어 안정성을 유지한다. 이에 따라서 상기 탑코팅층(140)이 탄소나노튜브층(130) 표면과 접착안정성 및 우수한 경도를 가진다. 상기 탑코팅층의 두께(D3)는 10nm내지 300nm인 것이 바람직하다.
도 3은 도 2의 변형 예이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 나노와이어층(120)에는 금속 나노와이어(121)외에 습식 에칭이 가능한 세라믹 바인더(122) 또는 나노 입자(123) 중 적어도 하나가 첨가될 수 있다. 상기 세라믹 바인더(122)와 나노 입자(123)는 금속 나노와이어(121) 사이를 바인딩 시키는 기능을 하는데, 광투과도가 높은 코팅막의 제조가 가능하고, 접착력이 우수하여 미세균열보강에 유리하고, 내열, 내화특성이 우수하며, 코팅 적용이 유용하다.
또한 이 경우, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(122) 및 나노 입자(123)는 상기 금속 나노와이어(121)와 함께 바인더에 바인딩 되어서, 상기 금속 나노와이어에 붙게 된다. 이에 따라서 습식 에칭 시에, 상기 세라믹 바인더(122) 및 나노 입자(123)가 에칭 되면 상기 금속 나노와이어(121)도 함께 에칭된다.
상기 탄소나노튜브층(130)에는 탄소나노튜브(131)외에 습식 에칭이 가능한 세라믹 바인더(132) 또는 나노 입자(133) 중 적어도 하나가 첨가될 수 있다. 상기 세라믹 바인더(132) 또는 나노 입자(133)는, 탄소나노튜브의 전도성을 향상시켜주는 기능을 할 수도 있다.
상기 세라믹 바인더(132) 또는 나노 입자(133)는 필름이 습식 에칭되도록 하는 기능을 행할 수도 있다. 이는 통상적으로 탄소나노튜브(131)가 습식 에칭이 되지 않으나, 세라믹 바인더(132) 또는 나노 입자(133)를 첨가함으로써 습식 에칭이 가능하도록 하는 것이다.
이 경우, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(132) 또는 나노 입자(133)는 상기 탄소나노튜브(131)와 함께 바인더에 바인딩 되어서, 상기 탄소나노튜브에 붙게 된다.
이 때에, 상기 탑코팅층(140) 또한 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(141)로 형성될 수 있다. 또한, 탑코팅층(140)은, 상기 바인더(141)에 습식 에칭 가능한 나노 입자(143)를 첨가할 수도 있다.
상기 세라믹 바인더(122, 132, 141)는, TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
상기 나노 입자(123, 133,143)는 세라믹계 나노 입자 또는 금속 산화물계 나노 입자일 수 있다. 이 경우 상기 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3 및 ITO, ATO등의 금속 산화물 나노 입자 일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
상기 베이스코팅은 나노와이어층과 기재 사이의 부착성을 향상시키고 쉽게 에칭이 되도록 한다. 나노와이어층은 투과도를 향상시키고, 면저항을 낮추는 기능을 한다. 탄소나노튜브층은 환경성, 내부식성이 우수하고, 유연성을 가지도록 하며, 나노와이어층과 망상구조를 형성한다. 탑코팅층은 경도, 내스크래치성, 및 투과도를 향상시킨다. 즉, 은(Ag) 등으로 이루어진 나노와이어는 투과도와 전도성이 우수하다. 반면 산화로 인한 고온 특성이 좋지 않으며, 유연성, 열충격성, 물리적 내구성이 취약하다. 따라서, 탄소나노튜층을 추가함으로써 유연성, 열충격성, 물리적 내구성 및 고온고습성을 보완하는 동시에, 우수한 전도성 및 투과성을 가질 수 있다.
상기 구조의 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름이 습식 에칭 되는 기구를 설명하면, 먼저 탑코팅층(140) 상면부터 탑코팅층에 함유된 세라믹 바인더(141) 및 나노 입자(143)가 습식 에칭을 시작하여, 상기 탑코팅층(140)과 접하는 탄소나노튜브층(130) 상부가 습식 에칭된다. 이와 함께 탄소나노튜브층(130)에 함유된 세라믹 바인더(132) 및 나노 입자(133)가 습식 에칭되면서 에칭 수단이 나노와이어층(120)에 충분히 닿을 수 있도록 하고, 이에 따라서 나노와이어층이 상기 세라믹 바인더(122) 또는 나노 입자(123)와 함께 습식 에칭 된다. 이와 더불어, 상기 나노와이어층(120)과 접하는 탄소나노튜브층(130) 하부가 습식 에칭됨으로써, 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름의 패턴 형성이 완성된다.
이 경우, 상기 나노 입자(123,133,143)의 사이즈는 1nm 내지 1㎛인 것이 바람직하다. 상기 나노 입자의 사이즈가 1nm 미만인 경우에는 나노 입자가 습식 에칭 되더라도 나노와이어층에 미치는 영향이 미미해, 탑코팅층, 탄소나노튜브층, 나노와이어층이 함께 에칭이 되지 않는 문제가 있고, 상기 나노 입자의 사이즈가 1㎛초과하는 경우에는 코팅액 내에서 균일하게 분산되어 있지 않고 가라앉거나, 코팅 후 코팅면이 불균일하게 형성되는 문제점이 있기 때문이다.
도 4는 도 2의 또 다른 변형 예이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 습식 에칭을 쉽게 하고 금속 나노와이어와 기재 간 접착력을 높이기 위해 상기 나노와이어층(120)과 기재(110) 사이에 베이스코팅층(160)이 개재될 수 있다. 이 경우, 상기 나노와이어층(120)에는 세라믹 바인더 및 나노 입자가 함유될 수도 있고, 함유되지 않을 수도 있다.
상기 베이스코팅층(160)은 상기 기재(110)와 나노와이어층(120) 사이의 결합력을 증가시키는 기능을 한다. 이는 기재(110)의 소재 및 금속 나노와이어 소재에 따라서 나노와이어층(120)의 코팅력이 저하될 수 있는데, 상기 기재(110) 및 나노와이어층(120)의 소재에 맞추어, 코팅력이 우수하도록 선택된 바인더로 이루어진 베이스코팅층(160)을 선택할 수 있다.
이 경우, 상기 베이스코팅층(160)은 습식 에칭 가능한 바인더(161) 및/또는 나노 입자(163)를 포함할 수 있다. 상기 베이스코팅층(160)은 탑코팅층(140)과 함께 습식 에칭 되면서, 그 사이에 있는 나노와이어층(120) 및 탄소나노튜브층(130)이 습식 에칭이 쉽게 되도록 한다.
이 경우, 상기 나노와이어층(120)에 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(122) 및 나노 입자(123)가 첨가되고, 탄소나노튜브층(130) 또한 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(132) 및 나노 입자(133)가 첨가되어 있으므로 습식 에칭 될 수 있다.
이 경우, 상기 탑코팅층(140)은, 용매에, 세라믹 바인더(141) 및 나노 입자(143)를 혼합하여서, 탑 코팅용액을 형성시킨 후에, 이를 상기 탄소나노튜브층 상에 코팅시킴으로써 이루어질 수 있다. 또한, 상기 베이스코팅층(160)은, 용매에, 세라믹 바인더(161) 및 나노 입자(163)를 혼합하여서, 베이스 코팅용액을 형성시킨 후에, 이를 상기 기재에 코팅시킴으로써 이루어질 수 있다.
이 경우, 탑 코팅용액 및 베이스 코팅용액을 이루기 위한 용매는 알코올류, 아민류, 증류수 및 일반적인 유기 용매를 선정할 수 있다. 상기 용매는 후에 제거가 용이하도록, 끓는점이 150℃ 이하인 것이 바람직하다.
한편, 상기 나노 입자(123,133,143,163)는 세라믹계 나노 입자 또는 금속 산화물계 나노 입자 일 수 있다. 상기 세라믹계 나노 입자 또는 금속 산화물계 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3 및 ITO, ATO 등의 금속 산화물 나노 입자 일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.
또한, 상기 코팅 용액에서, 상기 나노 입자는 상기 베이스 코팅용액, 나노와이어층, 탄소나노튜브층, 탑 코팅용액 각각의 100 중량부 대비 1 내지 500 중량부의 함량을 가지는 것이 바람직한데, 이는 1 중량부 미만인 경우에는 습식 에칭이 제대로 되지 않으며, 500 중량부가 초과하는 경우에는 코팅층의 물성을 변화시키고, 코팅 후 나노 입자들이 빛을 산란시켜 헤이즈가 높아지고, 투과성이 낮아지는 문제가 있기 때문이다.
습식 에칭 방법으로, 에칭페이스트를 사용하는 방법을 예로 들면, 상기 탑코팅층(140)의 에칭 대상 영역 상에 에칭페이스트를 패턴 도포시키는 단계를 거친다. 에칭페이스트가 도포된 면은 습식 에칭 장비에 의하여 에칭된다. 상기 에칭페이스트는 점도가 수천 내지 수만Cps 정도로써 상기 탑코팅층(140)에 패턴 형성된다.
상기 에칭페이스트를 패턴 형성시키는 방법으로서는, 스크린 인쇄법을 사용할 수 있다. 상기 스크린 인쇄법은 상기 탑코팅층(140) 상에 스크린 마스크를 배치시키고, 스퀴즈로 에칭페이스트를 상기 스크린 마스크의 중공부를 통하여 상기 탑코팅층(140)에 인쇄함으로써 이루어질 수 있다.
그 후에, 상기 탑코팅층(140)이 에칭페이스트와 반응할 수 있도록 적절한 온도로 가열하는 열처리 단계를 거칠 수 있다. 상기 공정을 통하여 에칭페이스트에 열을 투입함으로써 에칭 속도를 높일 수 있다.
그 후에, 세정을 통하여, 상기 에칭페이스트와, 상기 에칭페이스트가 도포된 탑코팅층(140), 탄소나노튜브층(130), 나노와이어층(120) 및 베이스코팅층(160)을 제거하는 단계를 거친다. 상기 세정단계에서, 초순수(Di-water)에 상기 에칭페이스트를 씻어내면, 상기 에칭페이스트 및 상기 에칭페이스트가 도포된 탑코팅층(140)과, 탄소나노튜브층(130)과, 나노와이어층(120)과, 베이스코팅층(160)이 에칭되어 제거됨으로써 패턴화된 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름이 완성된다.
본 발명은 상기 탄소나노튜브층(130)이 상 측으로는 탑코팅층(140)과 바인딩되고, 하측으로는 나노와이어층(120)을 통하여 베이스코팅층(160)과 바인딩 되도록 하는 동시에, 각 코팅층에 세라믹 바인더 및 나노 입자를 첨가함으로써, 상기 탑코팅층(140) 및 베이스코팅층(160)이 에칭페이스트를 따라서 에칭되면서, 이에 바인딩 된 탄소나노튜브층(130), 나노와이어층(120)이 용이하게 에칭되도록 한다.
도 5는 도 4의 또 다른 변형 예이다. 도 5는 도 4와 같이 베이스코팅층(160)과 탑코팅층(140) 사이에 나노와이어층과 탄소나노튜브층을 분리하여 코팅하지 않고, 금속 나노와이어(222)와 탄소나노튜브(221)를 혼합한 1액형 용액을 코팅하여 이루어진 1층의 1액형 코팅층(220)을 형성시킨다. 1액형 코팅층(220)을 금속 나노와이어(222) 및 탄소나노튜브(221)를 각각 소량으로 사용하여 이룰 수 있음으로써, 상대적인 양을 향상시킬 수 있고, 금속 나노와이어와 탄소나노튜브 간의 망상구조를 이루어, 금속 나노와이어와 금속 나노와이어 간의 접촉면적을 탄소나노튜브가 연결해줌으로써 전도성 및 유연성이 향상된다. 이 경우, 베이스코팅층(160)과 탑코팅층(140)은 도 4에 기재된 바와 같으므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
상기 1액형 코팅층(220)에는 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더(224) 및 나노 입자(223) 중 적어도 하나가 포함될 수 있다.
상기 세라믹 바인더는 TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 중 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3 및 ITO, ATO 중 선택된 적어도 하나일 수 있다.
본 발명은 금속 나노와이어와 탄소나노튜브를 혼합한 1액형층이 상 측으로는 탑코팅층(140)과 바인딩 되고, 하측으로는 베이스코팅층(160)과 바인딩 되도록 하는 동시에, 각각의 코팅층에 세라믹 바인더 및 나노 입자를 첨가함으로써, 상기 탑코팅층(140)에서 하층 베이스코팅층(160)까지 에칭페이스트가 쉽게 지나감으로써 용이하게 에칭 되도록 한다.
한편, 습식 에칭 방법으로서는 상기한 에칭페이스트를 이용한 습식 에칭 방법에 한정되지 않는 것은 명백하다. 즉, 본 발명에 적용될 수 있는 습식 에칭은 포토레지스트법을 적용할 수 있다. 즉, 감광성 수지인 포토레지스트를 도포하고, 패턴원판 역할을 하는 마스크를 이용하여서 특정 영역대의 파장을 가지는 빛을 투과시켜서 포토레지스트에 선택적으로 광반응을 일으킨 다음, 반응한 부분을 현상한다. 현상공정에 의해 선택적으로 노출된 부분인 에칭 대상 영역을 에칭 용액이나 반응성 가스 등의 화학적인 방법으로 제거 할 수 있다.
본 발명은 에칭 페이스트도포법이나, 포토레지스트법에 한정되지는 않으며, 화학적인 용액을 이용하여 탑코팅층(140), 탄소나노튜브층(130), 나노와이어층(120) 및 베이스코팅층(160)을 녹여낼 수 있다면, 모두 본 발명에 해당한다.
본 발명에 따르면, 탄소나노튜브층(130) 및 나노와이어층(120)을 습식 에칭으로 패턴 형성시킨다. 이에 따라서 종래의 ITO 등의 전극의 패턴을 형성하기 위한 습식 에칭장비를 그대로 적용할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 신속한 에칭이 가능하고, 미세한 패턴 폭을 가질 수 있는 장점이 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당기술분야의 숙련된 당 업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
본 발명은 대전분야, 디스플레이분야, 광학분야, 조명분야 등 전도성 필름이 필요한 분야에 적용할 수 있다.

Claims (16)

  1. 기재;
    기재 상에 형성되며, 금속 나노와이어를 포함하는 나노와이어층;
    상기 나노와이어층 상에 형성된 것으로, 탄소나노튜브를 주성분으로 하며, 상기 나노와이어층과 망상구조를 가지는 탄소나노튜브층; 및
    상기 탄소나노튜브층 상에 형성되며, 절연성을 가지는 탑코팅층;
    을 포함하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 나노와이어층은, 상기 금속 나노와이어 사이를 바인딩하는 세라믹 바인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 세라믹 바인더는, TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 선택된 적어도 하나인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 나노와이어층은, 사이즈가 1nm 내지 1㎛인 나노 입자를 더 포함하고,
    상기 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3, ITO, 및 ATO 중 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브층은, TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3, ITO, 및 ATO 중 선택된 적어도 하나로 이루어지며, 사이즈가 1nm 내지 1㎛인 나노 입자들을 함유하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브층은 세라믹 바인더를 더 포함하고,
    상기 세라믹 바인더는, TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 선택된 적어도 하나인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 기재 및 나노와이어층 사이에는, 베이스코팅층이 개재되고,
    상기 베이스코팅층 및 탑코팅층은 각각 습식 에칭 가능한 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 베이스코팅층은 습식 에칭 가능한 나노 입자를 포함하고,
    상기 나노 입자는, TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3, ITO, 및 ATO 중 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  9. 기재;
    상기 기재 상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 베이스코팅층;
    상기 베이스코팅층 상에 형성되고, 금속 나노와이어 및 탄소나노튜브가 망상구조를 가지도록 형성된 1액형 코팅층; 및
    상기 1액형 코팅층 상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 탑코팅층;
    을 포함하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 베이스코팅층, 1액형 코팅층 및 탑코팅층 중 적어도 하나는 나노 입자를 더 포함하고,
    상기 나노 입자는, TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3, ITO, 및 ATO중 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  11. 제9항 내지 제10항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 베이스코팅층, 1액형 코팅층 및 탑코팅층 중 적어도 하나는 세라믹 바인더를 더 포함하고,
    상기 세라믹 바인더는, TiO2 sol, Al2O3 sol, SiO2 sol, ZnO sol, ZrO2 sol, Y2O3 sol, MgO sol, Mn3O4 sol, Sm2O3 sol, SnO2 sol, NiO sol, La2O3 sol, Cr2O3 sol, CeO2 sol, CuO sol, Co3O4 sol 중 선택된 적어도 하나인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름.
  12. 기재를 준비하는 단계;
    상기 기재 상에, 습식 에칭 가능한 나노 입자를 포함하는 베이스코팅층을 형성하는 단계;
    상기 베이스코팅층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 나노와이어층을 형성하는 단계;
    상기 나노와이어층 상에 형성된 것으로, 탄소나노튜브 및 습식 에칭 가능한 나노 입자를 포함하며, 상기 나노와이어층과 망상구조를 가지는 탄소나노튜브층을 형성시키는 단계;
    상기 탄소나노튜브층 상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 탑코팅층을 형성시키는 단계; 및
    상기 베이스코팅층, 나노와이어층, 탄소나노튜브층, 및 탑코팅층을 습식 에칭하여 패턴을 형성하는 단계;
    를 포함하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 나노와이어층을 형성하는 단계는, 세라믹 바인더 및 나노 입자 중 적어도 하나를 상기 금속 나노와이어에 혼합하여서 상기 베이스코팅층 상에 코팅하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 제조 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 나노 입자는 TiO2, SiO2, SiON, SiNx계, SiNx계, ZnO, SnO, Al2O3, ZrO2, Y2O3, WO3, V2O5, NiO, Mn3O4, MgO, La2O3, Fe2O3, Cr2O3, Co3O4, CuO, CeO2, ITO, ATO, AZO, FTO, GZO, Sb2O3, ITO, 및 ATO 중 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 제조 방법.
  15. 기재를 준비하는 단계;
    상기 기재 상에, 습식 에칭 가능한 나노 입자를 포함하는 베이스코팅층을 형성하는 단계;
    상기 베이스코팅층 상에 금속 나노와이어와, 탄소나노튜브와, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더를 포함하는 1액형 코팅층을 형성하는 단계;
    상기 1액형 코팅층상에 형성되며, 습식 에칭 가능한 세라믹 바인더 및 나노 입자를 포함하는 탑코팅층을 형성시키는 단계; 및
    상기 베이스코팅층, 상기1액형 코팅층, 및 탑코팅층을 습식 에칭하여 패턴을 형성하는 단계;
    를 포함하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 1액형 코팅층은 나노 입자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 제조 방법.
PCT/KR2013/007794 2012-08-29 2013-08-29 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법 WO2014035172A1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120094626A KR101431705B1 (ko) 2012-08-29 2012-08-29 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법
KR10-2012-0094626 2012-08-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014035172A1 true WO2014035172A1 (ko) 2014-03-06

Family

ID=50183904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2013/007794 WO2014035172A1 (ko) 2012-08-29 2013-08-29 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101431705B1 (ko)
WO (1) WO2014035172A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017082453A1 (ko) * 2015-11-13 2017-05-18 주식회사 창민테크론 도전성 페이스트를 이용한 면상 발열체
CN113793718A (zh) * 2021-08-23 2021-12-14 湖南兴威新材料有限公司 一种薄膜电极及其制备方法和应用

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108630708A (zh) * 2017-03-15 2018-10-09 京东方科技集团股份有限公司 导电基板及其制作方法、显示装置
KR102018336B1 (ko) * 2017-05-31 2019-09-05 주식회사 셀코스 전도성 적층필름 및 이의 제조방법
KR102529756B1 (ko) * 2020-12-18 2023-05-09 주식회사 솔라라이트 태양전지를 이용한 투명히터, 및 이의 제조방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009070660A (ja) * 2007-09-12 2009-04-02 Kuraray Co Ltd 透明導電膜およびその製造方法
KR20100017128A (ko) * 2007-04-20 2010-02-16 캄브리오스 테크놀로지즈 코포레이션 복합 투명 도전체 및 그 제조 방법
KR20100116951A (ko) * 2009-04-23 2010-11-02 (주)탑나노시스 탄소나노튜브 도전막 및 그 제조 방법
KR20120029530A (ko) * 2010-09-17 2012-03-27 (주)탑나노시스 반사방지층이 코팅된 투명도전성 시트 및 이의 제조 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100017128A (ko) * 2007-04-20 2010-02-16 캄브리오스 테크놀로지즈 코포레이션 복합 투명 도전체 및 그 제조 방법
JP2009070660A (ja) * 2007-09-12 2009-04-02 Kuraray Co Ltd 透明導電膜およびその製造方法
KR20100116951A (ko) * 2009-04-23 2010-11-02 (주)탑나노시스 탄소나노튜브 도전막 및 그 제조 방법
KR20120029530A (ko) * 2010-09-17 2012-03-27 (주)탑나노시스 반사방지층이 코팅된 투명도전성 시트 및 이의 제조 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017082453A1 (ko) * 2015-11-13 2017-05-18 주식회사 창민테크론 도전성 페이스트를 이용한 면상 발열체
CN113793718A (zh) * 2021-08-23 2021-12-14 湖南兴威新材料有限公司 一种薄膜电极及其制备方法和应用
CN113793718B (zh) * 2021-08-23 2024-01-09 湖南兴威新材料有限公司 一种薄膜电极及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140028416A (ko) 2014-03-10
KR101431705B1 (ko) 2014-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014035172A1 (ko) 나노와이어-탄소나노튜브 하이브리드 필름 및 이의 제조 방법
WO2012177102A2 (ko) 탄소나노튜브필름 제조 방법
CN107031222B (zh) 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置
WO2010123265A2 (ko) 탄소나노튜브 도전막 및 그 제조 방법
TWI637671B (zh) 轉印膜、轉印膜的製造方法、透明積層體、透明積層體的製造方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置
WO2012134200A2 (ko) 유기전자소자용 기판
WO2012036453A2 (ko) 반사방지층이 코팅된 투명도전성 시트 및 이의 제조 방법
US11106321B2 (en) Touch panel and manufacturing method therefor
WO2009116787A2 (ko) 발열체 및 이의 제조방법
TWI706302B (zh) 觸控面板的製作方法及其觸控面板
WO2009151204A1 (ko) 발열체 및 이의 제조방법
WO2011162461A1 (ko) 투명 전극 및 이의 제조 방법
CN110221718A (zh) 触控面板的直接图案化方法及其触控面板
CN104246607A (zh) 感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置
WO2019066336A1 (ko) 투명 발광소자 디스플레이용 전극 기판 및 이의 제조방법
TWI728402B (zh) 觸控面板
WO2020040516A1 (ko) 투명 발광소자 디스플레이용 전극 기판 및 이를 포함하는 투명 발광소자 디스플레이
WO2016105026A1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자
CN110221731A (zh) 触控面板的直接图案化方法及其触控面板
KR20110027297A (ko) 투명 도전성 필름, 이를 이용한 터치 패널 및 디스플레이 장치
WO2019132243A1 (ko) 투명전극 제조방법
WO2020040518A1 (ko) 투명 발광소자 디스플레이용 매립형 전극 기판 및 이의 제조방법
CN104508608A (zh) 静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置
KR101482780B1 (ko) 전도성 나노와이어필름 제조 방법 및 상기 제조방법으로 제조된 전도성 나노와이어 필름을 포함하는 터치패널
WO2016105018A1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13832000

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13832000

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1