WO2013179445A1 - 酸化物超電導線材とその製造方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to an oxide superconducting wire and a method for producing the same, and more specifically, an oxide superconducting wire in which an oxide superconducting layer having an excellent critical current density Jc and critical current value Ic is formed on a substrate by a coating pyrolysis method. And its manufacturing method.
- One method for producing such an oxide superconducting wire is a method referred to as a coating organic decomposition method (Metal Organic Deposition, abbreviated as MOD method) (for example, JP 2007-165153 A (Patent Document 1)). reference).
- a coating organic decomposition method Metal Organic Deposition, abbreviated as MOD method
- JP 2007-165153 A Patent Document 1
- This method is a raw material produced by dissolving RE (rare earth elements) such as Y (yttrium), Gd (gadolinium), Ho (holmium), and organic metal compounds such as Ba (barium) and Cu (copper) in a solvent. After applying the solution (MOD solution) to the substrate to form a coating film, for example, calcining heat treatment at around 500 ° C.
- RE rare earth elements
- Y yttrium
- Gd gadolinium
- Ho holmium
- organic metal compounds such as Ba (barium) and Cu (copper)
- the oxide A calcined film which is a precursor of a superconductor, is produced, and the produced calcined film is crystallized by subjecting it to a heat treatment at a higher temperature (for example, around 750 to 800 ° C.) to obtain REBa 2 Cu 3 O 7-
- An oxide superconducting wire is manufactured by forming a RE123 superconducting layer represented by X. Compared with vapor phase methods (evaporation, sputtering, pulsed laser deposition, etc.) mainly manufactured in vacuum. The Because it has the characteristics of equal granulation equipment requires only simple and it is easy to respond to a large area or a complicated shape, it is widely used.
- FIGS. 4 to 6 As a method for producing such a thick oxide superconducting layer by using the MOD method, generally, as shown in FIGS. 4 to 6, application of a MOD solution on the substrate 100 (coating film formation). And the subsequent calcining (calcining heat treatment) are repeated a plurality of times, and a plurality of calcined films 200a are stacked on the substrate 100 to produce a thick calcined film (see FIGS. 4 and 5).
- a thick oxide superconducting layer 300 is formed by performing a main heat treatment (see FIG. 6).
- the oxide superconductor crystal grows with c-axis orientation, but the oxide superconducting layer has a pin (pinning center).
- the current path could not be sufficiently secured, resulting in a decrease in Jc and an increase in Ic proportional to the increase in film thickness.
- the present invention does not cause a decrease in Jc even when the film thickness is increased, and an oxide superconducting layer having a sufficiently high Ic is formed on the substrate in proportion to the film thickness increase.
- Another object is to provide an oxide superconducting wire and a method for producing the same.
- the manufacturing method of the oxide superconducting wire of the present invention is as follows: An oxide superconducting wire manufacturing method in which an organic metal compound is used as a raw material on an oriented metal substrate, and an oxide superconducting layer is formed by a coating pyrolysis method, A coating film forming step of forming a coating film of the organometallic compound; Calcination heat treatment step of thermally decomposing and removing organic components contained in the coating film to form a calcined film; A calcining heat treatment step of crystallizing the calcined film to form a calcined film, Repeating the coating film forming step, the calcining heat treatment step, and the main baking heat treatment step to form a stack of the fired films, thereby forming an oxide superconducting layer having a defect layer at the stacking interface. Is a method for producing an oxide superconducting wire.
- the present inventor examined the method of introducing the pin into the oxide superconducting layer, and did not perform the final heat treatment only once after laminating a plurality of calcined films as in the past.
- the thick oxide superconducting layer is formed by laminating the fired film formed one layer at a time by repeating the coating film forming process, the calcination heat treatment process, and the firing heat treatment process, it was formed first. It has been found that a defective layer can be formed at the interface between the main-fired film and the next main-fired film formed thereon, and this defective layer can function as a pin. In this case, since the epitaxial growth of the oxide superconductor crystal is not hindered in each laminated film, it can be sufficiently c-axis oriented in the next laminated film. I understood.
- pins can be reliably introduced into the thick oxide superconducting layer. Therefore, even if the film thickness is increased, Jc does not decrease, and is proportional to the film thickness increase.
- an oxide superconducting wire in which an oxide superconducting layer having a sufficiently high Ic is formed on a substrate can be provided.
- the thickness per one layer and the number of laminated layers of the fired film are appropriately determined in consideration of the thickness as the oxide superconducting layer and desired Jc and Ic.
- the coating film forming process and the calcining heat treatment process are repeated a plurality of times in advance to form a calcined film having a plurality of layers, and then the heat treatment heat treatment process. May be performed.
- the manufacturing method of the oxide superconducting wire is as follows:
- the oxide superconducting wire manufacturing method is characterized in that a thickness per layer of the fired film is 2 ⁇ m or less.
- the crystal grows randomly from the upper surface side simultaneously with the orientation growth from the substrate side, and a large non-oriented crystal is formed. It cannot be axially oriented, and on the contrary, there is a risk of lowering Jc.
- the manufacturing method of the oxide superconducting wire is as follows:
- the oxide superconducting wire manufacturing method is characterized in that a thickness per layer of the fired film is 50 to 1000 nm.
- the thickness per layer of the fired film is thin, it is not efficient because it is necessary to increase the number of stacked layers in order to produce an oxide superconducting layer having a desired thickness. Further, as described above, there is a risk that the superconducting characteristics may be lost due to excessive formation of defects. On the other hand, if the thickness of the fired film per layer is large, the pins cannot be introduced properly, and the function as the pins may not be sufficiently exhibited.
- the preferred thickness is 50 to 1000 nm, and more preferably 100 to 500 nm.
- the manufacturing method of the oxide superconducting wire is as follows:
- the method for producing an oxide superconducting wire is characterized in that the heating rate in the main annealing heat treatment step is 10 ° C./min or more.
- the holding time at a low temperature is prolonged in the main heat treatment step, not a preferable c-axis oriented crystal but an a-axis oriented crystal is likely to be formed. For this reason, it is preferable that it is a temperature increase rate of 10 degree-C / min or more. It is more preferable that it is 30 ° C./min or more.
- the manufacturing method of the oxide superconducting wire is as follows:
- the organometallic compound is an organometallic compound containing no fluorine.
- TFA-MOD method Metal Organic Deposition using TriFluoroAcates
- FF-MOD method fluorine-free MOD method
- the oxide superconducting wire of the present invention is An oxide superconducting wire in which an organic metal compound is used as a raw material on an oriented metal substrate, and an oxide superconducting layer is formed by a coating pyrolysis method, An oxide superconducting wire characterized in that a plurality of fired films are laminated via a defect layer by the coating pyrolysis method.
- the oxide superconducting wire according to the present invention provides an oxide superconducting wire in which an oxide superconducting layer having a sufficiently high Ic is formed on a substrate without causing a decrease in Jc even when the film thickness is increased. can do.
- an oxide superconducting wire in which an oxide superconducting layer having a sufficiently high Ic is formed on a substrate in proportion to the thickening without causing a decrease in Jc even when the film is thickened.
- a manufacturing method thereof can be provided.
- a substrate 10 is prepared.
- the substrate 10 is preferably an oriented metal substrate that is biaxially oriented to the c-axis.
- the substrate 10 is a clad type having an IBAD (Ion Beam Assisted Deposition) base material, a Ni—W alloy base material, SUS or the like as a base metal.
- IBAD Ion Beam Assisted Deposition
- a metal substrate material or the like can be used.
- the intermediate layer to be formed textured metal substrate in general, other CeO 2, YSZ, Y 2 O 3, stabilized zirconia, BaZrO 3 (barium zirconate), LaAlO 3 (lanthanum aluminate), Gd 2 Zr 2 O 7 , SmGdO 3 , RE 2 O 3 (RE; Y, lanthanoid) can be used, and CeO 2 is used for the uppermost layer from the viewpoint of high lattice matching and high Jc ( The thickness is usually 100 nm or less). 2.
- the coating film is calcined to decompose the organometallic compound, and the organic components are removed to form the calcined film 20a. Specifically, for example, it is heated to 500 ° C. in an air atmosphere and held as it is for about 120 minutes.
- the calcined film 20 a is baked and a crystal is grown epitaxially to form a baked film 20 on which a c-axis oriented oxide superconducting layer is formed. . Specifically, for example, it is heated to 800 ° C. in an argon / oxygen mixed gas atmosphere having an oxygen concentration of 100 ppm and held for about 90 minutes.
- the thickness per layer of the baked film 20 is preferably 2 ⁇ m or less, and more preferably 50 to 1000 nm in order to form a defect layer at a distance sufficiently acting as a pin. . 5. Formation of Oxide Superconducting Layer
- the above-described coating film forming step, calcining heat treatment step, and main baking heat treatment step are repeated to laminate a plurality of main baking films 20 (four layers in FIG. 3).
- the oxide superconducting layer 30 is formed.
- a defect layer acting as a pin is formed at the interface between the main film 20 stacked.
- the number of stacked layers is appropriately set based on the specifications of the oxide superconducting wire to be manufactured.
- the Y123 oxide superconducting layer is formed using the FF-MOD method.
- Example 1 Formation of Y123 oxide superconducting layer (1) Preparation of MOD solution Each acetylacetonate complex of Y, Ba and Cu was prepared so that the molar ratio of Y: Ba: Cu was 1: 2: 3. The MOD solution was prepared by dissolving. The total cation concentration of Y 3+ , Ba 2+ and Cu 2+ in the MOD solution was 1 mol / L.
- Example 1 was repeated in the same manner as Example 1 except that the coating film forming step and the calcining heat treatment step were repeated to laminate the calcined film of 8 layers and then performing the calcining heat treatment step once.
- a thickened Y123 oxide superconducting layer having the same total thickness of 1 ⁇ m as that of No. 1 was produced and used as the oxide superconducting wire of Comparative Example 1.
- Example 2 A film thickness of 2.5 ⁇ m is obtained in the same manner as in Example 1 except that a single calcined film is prepared through the coating film forming process and the calcining heat treatment process and then the calcining heat treatment process is performed once. Y123 oxide superconducting layer was prepared and used as the oxide superconducting wire of Comparative Example 2. 2. Evaluation of oxide superconducting wire (1) Evaluation method (a) c-axis orientation For each oxide superconducting wire, surface SEM (Scanning Electron Microscope) observation is performed to determine whether a c-axis oriented structure is obtained up to the surface. confirmed.
- SEM Sc-axis orientation
- the oxide superconducting wire of Example 1 in which the defect layer was formed has Jc, Ic compared to the oxide superconducting wire of Comparative Example 1 in which the film thickness is the same but no defect layer is formed. Is expensive.
- Example 2 where the thickness per layer of the burned film is less than 50 nm and in Example 5 where the thickness exceeds 1000 nm, since the formation of the defect layer is not appropriate, a decrease in Jc is observed, and Ic corresponds to the film thickness. And not enough.
- Comparative Example 2 in which the thickness per layer of the main burned film exceeds 2 ⁇ m the film is not c-axis oriented and Jc is low.
- Example 1 and Examples 3 and 4 since the defect layer is appropriately formed, Jc does not decrease and Ic corresponding to the film thickness is shown.
- Example 6, Comparative Example 3 The following examples are examples in which oxide superconducting wires were produced by changing the rate of temperature rise in the main heat treatment step, and the characteristics were evaluated. 1. Formation of Y123 oxide superconducting layer A Y123 oxide superconducting layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the heating rate in the main annealing process was changed to the heating rate shown in Table 2. The oxide superconducting wire of Comparative Example 3 was used. 2. Evaluation of oxide superconducting wire (1) Evaluation method Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. (2) Evaluation results The evaluation results are shown in Table 2 together with Example 1.
- Example 1 and Example 6 in which the rate of temperature increase in the main annealing process was set to 10 ° C./min or more and a-axis orientation was suppressed were higher in Jc and Ic than in Comparative Example 3. It turns out that it is more preferable.
- the Jc does not decrease, and an oxide superconducting layer having a sufficiently high Ic is formed on the substrate in proportion to the film thickness.
- An oxide superconducting wire can be provided.
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Abstract
配向金属基板（１０）上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層（３０）を形成する酸化物超電導線材の製造方法であって、有機金属化合物の塗膜を形成する塗膜形成工程と、塗膜に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を形成する仮焼熱処理工程と、仮焼膜を結晶化させて、本焼膜（２０）を形成する本焼熱処理工程とを備え、塗膜形成工程、仮焼熱処理工程および本焼熱処理工程を繰り返して、本焼膜（２０）を複数層積層させることにより、積層界面に欠陥層が設けられた酸化物超電導層（３０）を形成する酸化物超電導線材の製造方法。塗布熱分解法により本焼膜（２０）が欠陥層を介して複数層積層されている酸化物超電導線材。
Description
本発明は、酸化物超電導線材とその製造方法に関し、詳しくは、塗布熱分解法により、臨界電流密度Ｊｃや臨界電流値Ｉｃが優れた酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材とその製造方法に関する。
液体窒素の温度で超電導性を有する高温超電導体の発見以来、ケーブル、限流器、マグネットなどの電力機器への応用を目指した高温超電導線材の開発が活発に行われている。中でも、基板上に酸化物超電導層を形成させた酸化物超電導薄膜線材が注目されている。
このような酸化物超電導線材の製造方法の１つに、塗布熱分解法（Ｍｅｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、略称：ＭＯＤ法）と言われる方法がある（たとえば、特開２００７－１６５１５３号公報（特許文献１）参照）。
この方法は、Ｙ（イットリウム）、Ｇｄ（ガドリニウム）、Ｈｏ（ホルミウム）などのＲＥ（希土類元素）およびＢａ（バリウム）、Ｃｕ（銅）の各有機金属化合物を溶媒に溶解して製造された原料溶液（ＭＯＤ溶液）を基板に塗布して塗布膜を形成した後、例えば、５００℃付近で仮焼熱処理して、有機金属化合物を熱分解させ、熱分解した有機成分を除去することにより酸化物超電導体の前駆体である仮焼膜を作製し、作製した仮焼膜をさらに高温（例えば７５０～８００℃付近）で本焼熱処理することにより結晶化を行って、ＲＥＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－Ｘで表されるＲＥ１２３超電導層を形成させて酸化物超電導線材を製造するものであり、主に真空中で製造される気相法（蒸着法、スパッタ法、パルスレーザ蒸着法等）に比較して製造設備が簡単で済み、また大面積や複雑な形状への対応が容易である等の特徴を有しているため、広く用いられている。
このようなＭＯＤ法において、より高い臨界電流値Ｉｃを有する酸化物超電導線材が求められており、その手段として、酸化物超電導層を厚膜化して、Ｉｃを向上させる技術の開発が求められている。
ＭＯＤ法を用いて、このような厚膜の酸化物超電導層を作製する方法として、一般的には、図４～図６に示すように、基板１００上においてＭＯＤ溶液の塗布（塗膜形成）とそれに続く仮焼（仮焼熱処理）を複数回繰り返し行って、基板１００上に複数の仮焼膜２００ａを積層して厚膜の仮焼膜を作製した後（図４および図５参照）、本焼熱処理を施すことにより、厚膜の酸化物超電導層３００を形成させることが行われている（図６参照）。
しかし、上記した厚膜の仮焼膜に対して本焼熱処理を施す方法の場合、酸化物超電導体の結晶はｃ軸配向して成長しているものの、酸化物超電導層にピン（ピンニングセンター）が充分に形成されないために、電流パスを充分に確保することができず、結果的に、Ｊｃの低下を招き、厚膜化に比例したＩｃの伸びを得ることができなかった。
そこで、従来は、例えば、Ｙ２Ｏ３やＹ２１１粒子などの常電導相を析出させたり、酸化物超電導層の成膜手法を工夫することにより結晶欠陥（積層欠陥）を形成させたりして、酸化物超電導層にピンを導入し、臨界電流密度Ｊｃの低下を抑制することが行われていた。
しかし、このような手段を用いても、電流パスを充分に確保することができなかったり、欠陥の導入が容易ではないなどのため、未だ、充分にはＪｃの低下を抑制できているとは言えず、厚膜化に比例した充分なＩｃの伸びを得ることができていなかった。
そこで、本発明は、上記の問題に鑑み、厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、厚膜化に比例して、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材とその製造方法を提供することを課題とする。
本発明者は、鋭意検討の結果、以下に示す手段により上記課題が解決できることを見出し本発明を完成させるに至った。以下、本発明について説明する。
本発明の酸化物超電導線材の製造方法は、
配向金属基板上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層を形成する酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記有機金属化合物の塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を形成する仮焼熱処理工程と、
前記仮焼膜を結晶化させて、本焼膜を形成する本焼熱処理工程とを備え、
前記塗膜形成工程、前記仮焼熱処理工程および前記本焼熱処理工程を繰り返して、前記本焼膜を複数層積層させることにより、積層界面に欠陥層が設けられた酸化物超電導層を形成することを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
配向金属基板上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層を形成する酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記有機金属化合物の塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を形成する仮焼熱処理工程と、
前記仮焼膜を結晶化させて、本焼膜を形成する本焼熱処理工程とを備え、
前記塗膜形成工程、前記仮焼熱処理工程および前記本焼熱処理工程を繰り返して、前記本焼膜を複数層積層させることにより、積層界面に欠陥層が設けられた酸化物超電導層を形成することを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
本発明者は、酸化物超電導層へのピンの導入方法について検討を行う中で、従来のように、複数の仮焼膜を積層した後、最後に１回だけ本焼熱処理を行うのではなく、塗膜形成工程、仮焼熱処理工程、本焼熱処理工程を繰り返すことにより、１層ずつ形成した本焼膜を積層させて厚膜の酸化物超電導層を形成させた場合、先に形成された本焼膜とその上に形成される次の本焼膜との界面に、欠陥層を形成することができ、この欠陥層をピンとして機能させることができることを見出した。そして、この場合、酸化物超電導体結晶のエピタキシャル成長が、積層された各本焼膜において妨げられることがないため、積層された次の本焼膜においても、充分にｃ軸配向させることができることが分かった。
このように、本発明においては、厚膜化された酸化物超電導層内にピンを確実に導入することができるため、厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、厚膜化に比例して、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材を提供することができる。
なお、本焼膜の１層当たりの厚みおよび積層数は、酸化物超電導層としての厚みや、所望するＪｃ、Ｉｃを考慮して、適宜決定される。
即ち、１層あたりの本焼膜の厚みを薄くして積層数を多くした場合には、形成される欠陥が多くなりすぎて、超電導特性が失われる恐れがある。一方、１層あたりの本焼膜の厚みを厚くして積層数を少なくした場合には、形成される欠陥が少なく、間隔も広いため、ピンとしての機能を充分に発揮させることができない恐れがある。
また、本焼膜の１層当たり厚みを所望の厚みにするために、予め塗膜形成工程および仮焼熱処理工程を複数回繰り返して、複数層の仮焼膜を形成した後、本焼熱処理工程を行ってもよい。
上記酸化物超電導線材の製造方法は、
好ましくは、前記本焼膜の１層当たりの厚みが、２μｍ以下であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
好ましくは、前記本焼膜の１層当たりの厚みが、２μｍ以下であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
本焼膜の１層当たりの厚みが２μｍを超える場合には、基板側からの配向成長と同時に、上面側からもランダムに結晶成長して無配向の大きな結晶が形成されるため、充分にｃ軸配向させることができず、却って、Ｊｃの低下を招く恐れがある。
上記酸化物超電導線材の製造方法は、
好ましくは、前記本焼膜の１層当たりの厚みが、５０～１０００ｎｍであることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
好ましくは、前記本焼膜の１層当たりの厚みが、５０～１０００ｎｍであることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
本焼膜の１層当たりの厚みが薄いと、所望する厚みの酸化物超電導層を作製するためには、積層数を多くする必要があり、効率的でない。また、前記したように、形成される欠陥が多くなりすぎて、超電導特性が失われる恐れがある。一方、本焼膜の１層当たりの厚みが厚いと、ピンを適切に導入することができず、ピンとしての機能を充分に発揮させることができない恐れがある。好ましい厚みは、５０～１０００ｎｍであり、１００～５００ｎｍであるとより好ましい。
上記酸化物超電導線材の製造方法は、
好ましくは、前記本焼熱処理工程の昇温速度が、１０℃／分以上であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
好ましくは、前記本焼熱処理工程の昇温速度が、１０℃／分以上であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
本焼熱処理工程において、低温における保持時間が長くなると、好ましいｃ軸配向した結晶ではなく、ａ軸配向した結晶が生成し易い。このため、１０℃／分以上の昇温速度であることが好ましい。３０℃／分以上であると、より好ましい。
上記酸化物超電導線材の製造方法は、
好ましくは、前記有機金属化合物が、フッ素を含まない有機金属化合物であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
好ましくは、前記有機金属化合物が、フッ素を含まない有機金属化合物であることを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法である。
ＭＯＤ法としては、原料溶液にフッ素を含む有機金属化合物を用いるＴＦＡ－ＭＯＤ法（Ｍｅｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｕｓｉｎｇ ＴｒｉＦｌｕｏｒｏＡｃｅｔａｔｅｓ）とフッ素を含まない有機金属化合物を用いるフッ素フリーＭＯＤ法（ＦＦ－ＭＯＤ法）とがある。
ＴＦＡ－ＭＯＤ法を用いると、面内配向性に優れた酸化物超電導層を得ることができる。しかし、この方法では、溶液の酸性度が高いため、本焼膜の上に塗布した溶液が本焼膜の表面を溶かしてしまい、その後の本焼熱処理工程にて充分にｃ軸配向した膜を得ることができない。
これに対して、ＦＦ－ＭＯＤ法は、溶液の酸性度が中性に近いため、下地となる本焼膜を溶かすことがなく、その結果、本焼時に下地の配向性を引き継いだエピタキシャル成長が進み、充分にｃ軸配向した膜を得ることができる。
本発明の酸化物超電導線材は、
配向金属基板上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層が形成された酸化物超電導線材であって、
前記塗布熱分解法により本焼膜が欠陥層を介して複数層積層されていることを特徴とする酸化物超電導線材である。
配向金属基板上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層が形成された酸化物超電導線材であって、
前記塗布熱分解法により本焼膜が欠陥層を介して複数層積層されていることを特徴とする酸化物超電導線材である。
前記したように、欠陥層はピンとして作用する。このため、本発明に係る酸化物超電導線材は、厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材を提供することができる。
本発明によれば、厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、厚膜化に比例して、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材とその製造方法を提供することができる。
以下、本発明を実施の形態に基づき図面を用いて説明する。
（酸化物超電導層の形成）
始めに、酸化物超電導層の形成方法の概要を説明する。図１～図３は、本実施の形態における酸化物超電導層の形成方法の概要を説明する図である。
１．配向金属基板の準備工程
図１を参照して、最初に、基板１０を準備する。基板１０としては、ｃ軸に２軸配向した配向金属基板が好ましく、具体的には、ＩＢＡＤ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ａｓｓｉｓｔｅｄ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）基材、Ｎｉ－Ｗ合金基材、ＳＵＳ等をベース金属としたクラッドタイプの金属基板材等を用いることができる。配向金属基板上に形成する中間層としては、一般的には、ＣｅＯ２、ＹＳＺ、Ｙ２Ｏ３の他、安定化ジルコニア、ＢａＺｒＯ３（バリウムジルコネート）、ＬａＡｌＯ３（アルミン酸ランタン）、Ｇｄ２Ｚｒ２Ｏ７、ＳｍＧｄＯ３、ＲＥ２Ｏ３（ＲＥ；Ｙ、ランタノイド）等を用いることができ、格子整合性やＪｃが高く出るなどの観点から、ＣｅＯ２が最上層に使用される（厚さとしては、通常、１００ｎｍ以下）。
２．塗膜形成工程
次に、配向金属基板上に、ＲＥ、Ｂａ、Ｃｕのアセチルアセトナート等の有機金属化合物を所定のモル比で溶解させたＭＯＤ溶液を、所定量塗布した後、乾燥して所定厚みの塗膜を形成する。
３．仮焼熱処理工程
次に、塗膜を仮焼して、有機金属化合物を分解させ、有機成分を除去して仮焼膜２０ａを形成する。具体的には、例えば、大気雰囲気下で５００℃まで加熱し、そのまま１２０分間程度保持する。
（酸化物超電導層の形成）
始めに、酸化物超電導層の形成方法の概要を説明する。図１～図３は、本実施の形態における酸化物超電導層の形成方法の概要を説明する図である。
１．配向金属基板の準備工程
図１を参照して、最初に、基板１０を準備する。基板１０としては、ｃ軸に２軸配向した配向金属基板が好ましく、具体的には、ＩＢＡＤ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ａｓｓｉｓｔｅｄ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）基材、Ｎｉ－Ｗ合金基材、ＳＵＳ等をベース金属としたクラッドタイプの金属基板材等を用いることができる。配向金属基板上に形成する中間層としては、一般的には、ＣｅＯ２、ＹＳＺ、Ｙ２Ｏ３の他、安定化ジルコニア、ＢａＺｒＯ３（バリウムジルコネート）、ＬａＡｌＯ３（アルミン酸ランタン）、Ｇｄ２Ｚｒ２Ｏ７、ＳｍＧｄＯ３、ＲＥ２Ｏ３（ＲＥ；Ｙ、ランタノイド）等を用いることができ、格子整合性やＪｃが高く出るなどの観点から、ＣｅＯ２が最上層に使用される（厚さとしては、通常、１００ｎｍ以下）。
２．塗膜形成工程
次に、配向金属基板上に、ＲＥ、Ｂａ、Ｃｕのアセチルアセトナート等の有機金属化合物を所定のモル比で溶解させたＭＯＤ溶液を、所定量塗布した後、乾燥して所定厚みの塗膜を形成する。
３．仮焼熱処理工程
次に、塗膜を仮焼して、有機金属化合物を分解させ、有機成分を除去して仮焼膜２０ａを形成する。具体的には、例えば、大気雰囲気下で５００℃まで加熱し、そのまま１２０分間程度保持する。
なお、塗膜形成工程と仮焼熱処理工程を繰り返し行って仮焼膜２０ａを積層した積層タイプの仮焼膜とすることもできる。
４．本焼熱処理工程
図２を参照して、次に、仮焼膜２０ａを本焼し、エピタキシャルに結晶を成長させて、ｃ軸配向した酸化物超電導層が形成された本焼膜２０を形成する。具体的には、例えば、酸素濃度が１００ｐｐｍのアルゴン／酸素混合ガス雰囲気下、８００℃まで加熱し、そのまま９０分間程度保持する。
４．本焼熱処理工程
図２を参照して、次に、仮焼膜２０ａを本焼し、エピタキシャルに結晶を成長させて、ｃ軸配向した酸化物超電導層が形成された本焼膜２０を形成する。具体的には、例えば、酸素濃度が１００ｐｐｍのアルゴン／酸素混合ガス雰囲気下、８００℃まで加熱し、そのまま９０分間程度保持する。
本焼膜２０の１層当たりの厚みは、前記の通り、２μｍ以下であることが好ましく、ピンとして充分に作用する距離で欠陥層を形成させるためには、５０～１０００ｎｍであることがより好ましい。
５．酸化物超電導層の形成
図３を参照して、上記の塗膜形成工程、仮焼熱処理工程、本焼熱処理工程を繰り返し行って、複数の本焼膜２０を積層（図３では４層）することにより、酸化物超電導層３０を形成する。本焼熱処理の際、積層させた本焼膜２０同士の界面に、ピンとして作用する欠陥層が形成される。積層数は作製しようとする酸化物超電導線材の仕様等に基づき適宜設定される。
５．酸化物超電導層の形成
図３を参照して、上記の塗膜形成工程、仮焼熱処理工程、本焼熱処理工程を繰り返し行って、複数の本焼膜２０を積層（図３では４層）することにより、酸化物超電導層３０を形成する。本焼熱処理の際、積層させた本焼膜２０同士の界面に、ピンとして作用する欠陥層が形成される。積層数は作製しようとする酸化物超電導線材の仕様等に基づき適宜設定される。
次に、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。なお、以下の実施例においては、ＦＦ－ＭＯＤ法を用いて、Ｙ１２３酸化物超電導層を形成させている。
（実施例１）
１．Ｙ１２３酸化物超電導層の形成
（１）ＭＯＤ溶液の作製
Ｙ、Ｂａ、Ｃｕの各アセチルアセトナート錯体を、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕのモル比が１：２：３となるように調製して溶媒に溶解させてＭＯＤ溶液を作製した。なお、ＭＯＤ溶液のＹ３＋、Ｂａ２＋、Ｃｕ２＋を合わせた総カチオン濃度は１ｍｏｌ／Ｌとした。
（２）塗膜形成工程および仮焼熱処理工程
次に、作製したＭＯＤ溶液を、Ｙ２Ｏ３、ＹＳＺ、ＣｅＯ２を中間層に持つクラッドタイプの配向金属基板に塗布した後、乾燥し、塗膜を形成した。次に、大気雰囲気下で５００℃まで昇温して、１２０分間保持後、冷却し、厚み０．１５μｍの仮焼膜を形成した。
（３）本焼熱処理工程
次に、アルゴン／酸素混合ガス雰囲気下、８００℃まで昇温し、そのまま９０分間保持する。その後、５２０℃まで約３時間で降温しつつ、酸素濃度を１００％に切り替え、この酸素濃度を保ちつつ、さらに５時間かけて室温まで冷却し、厚み０．１２５μｍの本焼膜を形成した。
（４）酸化物超電導層の作製
上記塗膜形成工程、仮焼熱処理工程および本焼熱処理工程を８回繰り返し行って、総厚１μｍの厚膜化したＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例１の酸化物超電導線材とした。
（実施例２～５）
本焼膜１層当たりの厚み、繰り返し回数を、表１の実施例２～５に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、表１の実施例２～５に示す総厚のＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例２～５の酸化物超電導線材とした。
（比較例１）
前記の塗膜形成工程と仮焼熱処理工程とを繰り返して、８層の仮焼膜を積層した後、本焼熱処理工程を１回行ったこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１と同じ総厚１μｍの厚膜化されたＹ１２３酸化物超電導層を作製し、比較例１の酸化物超電導線材とした。
（比較例２）
前記の塗膜形成工程と仮焼熱処理工程を経て１層の仮焼膜を作製した後、本焼熱処理工程を１回行ったこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚２．５μｍのＹ１２３酸化物超電導層を作製し、比較例２の酸化物超電導線材とした。
２．酸化物超電導線材の評価
（１）評価方法
（ａ）ｃ軸配向性
各酸化物超電導線材について、表面ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）観察を行い、表面までｃ軸配向した組織が得られているかどうかを確認した。結果を、表面までｃ軸配向していた場合は「有」で示し、表面までｃ軸配向していなかった場合は「無」で、表１に示す。また、ＸＲＤ（Ｘ－Ｒａｙ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）によるＹ１２３（００５）のピーク強度の測定結果も表１に示す。
（ｂ）Ｊｃ、Ｉｃの測定
各酸化物超電導線材について、超電導特性（Ｊｃ、Ｉｃ）を、７７Ｋ、自己磁場下において測定した。結果を表１に示す。
（ｃ）欠陥層の形成の確認
ＴＥＭ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて、各酸化物超電導線材における酸化物超電導層の断面を観察し、欠陥層が形成されているか否かを調べた。その結果、実施例１～５においては、欠陥層の形成が確認された。これに対して、比較例１、２においては、欠陥層の形成が確認されなかった。
（実施例１）
１．Ｙ１２３酸化物超電導層の形成
（１）ＭＯＤ溶液の作製
Ｙ、Ｂａ、Ｃｕの各アセチルアセトナート錯体を、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕのモル比が１：２：３となるように調製して溶媒に溶解させてＭＯＤ溶液を作製した。なお、ＭＯＤ溶液のＹ３＋、Ｂａ２＋、Ｃｕ２＋を合わせた総カチオン濃度は１ｍｏｌ／Ｌとした。
（２）塗膜形成工程および仮焼熱処理工程
次に、作製したＭＯＤ溶液を、Ｙ２Ｏ３、ＹＳＺ、ＣｅＯ２を中間層に持つクラッドタイプの配向金属基板に塗布した後、乾燥し、塗膜を形成した。次に、大気雰囲気下で５００℃まで昇温して、１２０分間保持後、冷却し、厚み０．１５μｍの仮焼膜を形成した。
（３）本焼熱処理工程
次に、アルゴン／酸素混合ガス雰囲気下、８００℃まで昇温し、そのまま９０分間保持する。その後、５２０℃まで約３時間で降温しつつ、酸素濃度を１００％に切り替え、この酸素濃度を保ちつつ、さらに５時間かけて室温まで冷却し、厚み０．１２５μｍの本焼膜を形成した。
（４）酸化物超電導層の作製
上記塗膜形成工程、仮焼熱処理工程および本焼熱処理工程を８回繰り返し行って、総厚１μｍの厚膜化したＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例１の酸化物超電導線材とした。
（実施例２～５）
本焼膜１層当たりの厚み、繰り返し回数を、表１の実施例２～５に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、表１の実施例２～５に示す総厚のＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例２～５の酸化物超電導線材とした。
（比較例１）
前記の塗膜形成工程と仮焼熱処理工程とを繰り返して、８層の仮焼膜を積層した後、本焼熱処理工程を１回行ったこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１と同じ総厚１μｍの厚膜化されたＹ１２３酸化物超電導層を作製し、比較例１の酸化物超電導線材とした。
（比較例２）
前記の塗膜形成工程と仮焼熱処理工程を経て１層の仮焼膜を作製した後、本焼熱処理工程を１回行ったこと以外は、実施例１と同様にして、膜厚２．５μｍのＹ１２３酸化物超電導層を作製し、比較例２の酸化物超電導線材とした。
２．酸化物超電導線材の評価
（１）評価方法
（ａ）ｃ軸配向性
各酸化物超電導線材について、表面ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）観察を行い、表面までｃ軸配向した組織が得られているかどうかを確認した。結果を、表面までｃ軸配向していた場合は「有」で示し、表面までｃ軸配向していなかった場合は「無」で、表１に示す。また、ＸＲＤ（Ｘ－Ｒａｙ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）によるＹ１２３（００５）のピーク強度の測定結果も表１に示す。
（ｂ）Ｊｃ、Ｉｃの測定
各酸化物超電導線材について、超電導特性（Ｊｃ、Ｉｃ）を、７７Ｋ、自己磁場下において測定した。結果を表１に示す。
（ｃ）欠陥層の形成の確認
ＴＥＭ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて、各酸化物超電導線材における酸化物超電導層の断面を観察し、欠陥層が形成されているか否かを調べた。その結果、実施例１～５においては、欠陥層の形成が確認された。これに対して、比較例１、２においては、欠陥層の形成が確認されなかった。
表１に示すように、欠陥層が形成された実施例１の酸化物超電導線材は、膜厚が同じでありながら欠陥層の形成がない比較例１の酸化物超電導線材に比べ、Ｊｃ、Ｉｃが高い。そして、本焼膜１層当たりの厚みが５０ｎｍ未満の実施例２や、１０００ｎｍを超える実施例５においては、欠陥層の形成が適切でないため、Ｊｃの低下が見られ、Ｉｃが膜厚に対応して充分に伸びていない。本焼膜１層当たりの厚みが２μｍを超える比較例２においては、膜がｃ軸配向せず、Ｊｃが低くなっている。一方、実施例１や実施例３、４においては、欠陥層が適切に形成されているため、Ｊｃが低下せず、膜厚に対応したＩｃを示している。
（実施例６、比較例３）
以下の実施例は、本焼熱処理工程の昇温速度を変えて酸化物超電導線材を作製し、特性を評価した例である。
１．Ｙ１２３酸化物超電導層の形成
本焼熱処理工程における昇温速度を、表２に示す昇温速度としたこと以外は、実施例１と同様にしてＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例６、比較例３の酸化物超電導線材とした。
２．酸化物超電導線材の評価
（１）評価方法
実施例１と同じ方法で評価した。
（２）評価結果
評価結果を実施例１と併せて表２に示す。
（実施例６、比較例３）
以下の実施例は、本焼熱処理工程の昇温速度を変えて酸化物超電導線材を作製し、特性を評価した例である。
１．Ｙ１２３酸化物超電導層の形成
本焼熱処理工程における昇温速度を、表２に示す昇温速度としたこと以外は、実施例１と同様にしてＹ１２３酸化物超電導層を作製し、実施例６、比較例３の酸化物超電導線材とした。
２．酸化物超電導線材の評価
（１）評価方法
実施例１と同じ方法で評価した。
（２）評価結果
評価結果を実施例１と併せて表２に示す。
表２より、本焼熱処理工程の昇温速度が１０℃／分以上に設定されて、ａ軸配向が抑制された実施例１、実施例６は、比較例３に比べ、Ｊｃ、Ｉｃが高く、より好ましいことが分かる。
以上のように、本発明によれば、厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、厚膜化に比例して、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基板上に形成された酸化物超電導線材を提供することができる。
以上、本発明を実施の形態に基づき説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明と同一および均等の範囲内において、上記の実施の形態に対して種々の変更を加えることが可能である。
１０ 基板、２０ａ 仮焼膜、２０ 本焼膜、３０ 酸化物超電導層。
Claims (6)
- 配向金属基板（１０）上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層（３０）を形成する酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記有機金属化合物の塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜（２０ａ）を形成する仮焼熱処理工程と、
前記仮焼膜（２０ａ）を結晶化させて、本焼膜（２０）を形成する本焼熱処理工程とを備え、
前記塗膜形成工程、前記仮焼熱処理工程および前記本焼熱処理工程を繰り返して、前記本焼膜（２０）を複数層積層させることにより、積層界面に欠陥層が設けられた酸化物超電導層（３０）を形成することを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法。 - 前記本焼膜（２０）の１層当たりの厚みが、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
- 前記本焼膜（２０）の１層当たりの厚みが、５０～１０００ｎｍであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
- 前記本焼熱処理工程の昇温速度が、１０℃／分以上であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
- 前記有機金属化合物が、フッ素を含まない有機金属化合物であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
- 配向金属基板（１０）上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層（３０）が形成された酸化物超電導線材であって、
前記塗布熱分解法により本焼膜（２０）が欠陥層を介して複数層積層されていることを特徴とする酸化物超電導線材。
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2012
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|---|---|---|---|---|
| JP2009289666A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | International Superconductivity Technology Center | Ｙ系酸化物超電導線材 |
| JP2011253768A (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
| JP2012003962A (ja) * | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
| JP2012064394A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
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