WO2012161220A1 - ウェハーレンズの製造方法、ウェハーレンズの製造装置及び光学素子 - Google Patents

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substrate
wafer lens
support part
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小島進
猿谷信弘
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コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a wafer lens manufacturing method for forming a plurality of resin optical lenses by transfer onto a light-transmitting substrate, a wafer lens manufacturing apparatus, and an optical element obtained by these methods.
  • a so-called wafer lens in which a plurality of optical element portions are formed on the surface of a base material having translucency is manufactured.
  • a device that is cut into individual pieces and used as a lens for an imaging device or the like is known.
  • a mold having a transfer surface for forming a plurality of optical element parts is used as a mold for defining the distance from the substrate surface on which the optical element part is formed to the optical element part surface.
  • One in which the portions are integrally formed is known (for example, see Patent Documents 1 and 2).
  • the optical system composed of the lens cut and separated from the above wafer lens is extremely small as represented by the camera module for mobile phones.
  • a lens incorporated in such an optical system is effective in simplifying the manufacturing process if it can be assembled without adjustment without using an adjustment mechanism. For this purpose, variations in optical specifications of individual lenses are desired. It is required to be within the allowable range.
  • the substrate has an error in thickness.
  • the thickness of the formed optical element part thickness from the back surface of the base material to the surface of the optical element part
  • the thickness of the formed optical element part has an error in the base material thickness as it is. That is, individual optical elements formed of base materials having different thicknesses have greatly different optical characteristics, and become manifest as variations in focal position even when incorporated in an imaging apparatus.
  • An object of the present invention is to provide a wafer lens manufacturing method and a wafer lens manufacturing apparatus capable of forming a wafer lens having a plurality of optical elements having desired characteristics and solving the above-described problems in the prior art.
  • Another object of the present invention is to provide an optical element with uniform characteristics obtained by the wafer lens manufacturing apparatus as described above.
  • a method for producing a wafer lens according to the present invention includes a resin layer having a plurality of optical surfaces by transfer using a mold on at least one surface of a light-transmitting plate-like substrate.
  • the positioning device provided as a separate body from the mold is used to adjust the distance between the mold and the substrate, it is difficult to form the gap as expected.
  • the thickness of the optical element can be set based on the optical surface regardless of the thickness of the substrate. As a result, a wafer lens in which a plurality of optical elements having the desired characteristics, that is, optical specifications are substantially uniform can be manufactured.
  • the distance between the mold and the substrate by the positioning device is corrected based on the dimensional error of the wafer lens formed last time. Therefore, it is not necessary to remake the mold, and the production cost can be efficiently reduced.
  • the positioning device is provided on both the mold support portion side and the substrate support portion side, the first abutting member provided on the mold support portion side, and the substrate support And a second abutting member provided on the side of the portion, and by changing the amount of projection of at least one of the first abutting member and the second abutting member, the distance between the mold and the substrate Adjust.
  • a wafer lens manufacturing apparatus includes a substrate support portion that supports a light-transmitting plate-like substrate, a substrate support portion, and one surface of the substrate.
  • a mold support Separately from the mold, a mold support for supporting a mold for molding a resin layer having a plurality of optical surfaces thereon by transfer, an elevating device for moving the substrate support and the mold support close to and away from the mold, and the mold
  • the mold is provided on at least one of the substrate support part side and the mold support part side, and is brought into contact with the other side when the substrate support part and the mold support part are brought close to each other by the lifting device.
  • a positioning device having an abutting member for adjusting the distance between the substrate and the substrate.
  • the positioning device is provided as a separate body from the molding die in order to adjust the spacing between the molding die and the substrate, it is difficult to form the spacing as expected. Need not be provided in the mold, and the thickness of the optical element can be set based on the optical surface regardless of the thickness of the substrate. As a result, a wafer lens in which a plurality of optical elements having the desired characteristics, that is, optical specifications are substantially uniform can be manufactured.
  • the positioning device is provided on the mold support portion side, and the abutting member abuts against a predetermined surface serving as a reference for arranging the substrates. Hit.
  • the thickness of the optical element can be easily approximated to an expected value by an operation of adjusting the position of the predetermined surface serving as a reference by the abutting member.
  • the abutting member is abutted against the surface of the back plate that supports the substrate from behind.
  • the thickness from the back surface of the substrate to the optical surface can be brought close to an intended value regardless of variations in the substrate thickness.
  • the positioning device is provided on the substrate support portion side, and the abutting member is abutted against a predetermined surface that avoids the resin layer constituting the mold. Even in such a configuration, the thickness from the back surface of the substrate to the optical surface can be brought close to an intended value regardless of variations in the substrate thickness.
  • the positioning device is arranged at three positions around the substrate and the mold, and the protruding amount of the abutting member can be individually changed.
  • the tilt relationship between the mold and the substrate can be adjusted, and a wafer lens on which an optical element having a more uniform optical specification is formed can be manufactured.
  • the positioning device is provided on both the mold support part side and the substrate support part side, the first abutting member provided on the mold support part side, and the substrate A second abutting member provided on the support portion side, and the first abutting member and the second abutting member are butted against each other.
  • the positioning device changes the distance between the mold and the substrate by changing the amount of protrusion of at least one of the first butting member and the second butting member. .
  • the optical element according to the present invention is obtained by separating the wafer lens manufactured by the above-described wafer lens manufacturing method.
  • the optical element obtained in this manner has the desired characteristics with uniform optical specifications.
  • the optical element according to the present invention is obtained by separating the wafer lens manufactured by the above-described wafer lens manufacturing apparatus.
  • the optical element obtained in this manner has the desired characteristics with uniform optical specifications.
  • FIG. 2A is a plan view illustrating a positioning device and the like
  • FIG. 2B is a side cross-sectional view illustrating the positioning device and the like. It is a side view explaining the structure of one butting device which comprises a positioning device.
  • 4A and 4B are views for explaining the manufacturing method of the first embodiment.
  • 5A to 5C are views for explaining the manufacturing method of the first embodiment.
  • 6A is a plan view illustrating a positioning device incorporated in the manufacturing apparatus of the second embodiment
  • FIG. 6B is a side sectional view of the positioning device of FIG. 6A.
  • FIG. 7A is a plan view illustrating a positioning device incorporated in the manufacturing apparatus of the third embodiment
  • FIG. 7B is a side cross-sectional view of the positioning device of FIG. 7A.
  • 8A and 8B are side sectional views for explaining a main part of the manufacturing apparatus of the fourth embodiment.
  • 9A and 9B are diagrams illustrating a modification of the manufacturing apparatus according to the fourth embodiment.
  • 10A and 10B are side cross-sectional views for explaining a main part of the manufacturing apparatus according to the fifth embodiment.
  • 11A to 11C are diagrams illustrating a manufacturing process in the case where a resin layer having a plurality of optical surfaces is formed on both surfaces of a substrate.
  • 12A to 12C are diagrams illustrating a manufacturing process in the case where a resin layer having a plurality of optical surfaces is formed on both surfaces of a substrate.
  • 13A to 13C are diagrams illustrating a manufacturing process in the case where a resin layer having a plurality of optical surfaces is formed on both surfaces of a substrate and a spacer is formed.
  • 14A to 14C are diagrams for explaining a manufacturing process in the case where a resin layer having a plurality of optical surfaces is formed on both surfaces of a substrate and a spacer is formed.
  • 15A and 15B are diagrams illustrating a manufacturing process in the case where a resin layer having a plurality of optical surfaces is formed on both surfaces of a substrate and a spacer is formed. It is a figure explaining the modification of the manufacturing apparatus of 1st Embodiment.
  • FIG. 1 is a diagram conceptually illustrating a wafer lens manufacturing apparatus.
  • the illustrated manufacturing apparatus 100 includes a first mounting portion 10 on the side on which a mold is attached, a second mounting portion 20 on a side on which a flat plate having translucency is attached, a stage 30, and a lifting device 40.
  • the positioning device 50, the attachment / detachment drive unit 60, the light source unit 70, and the control unit 80 are provided.
  • the first attachment unit 10 is a mold support unit that supports the back surface 91 b of the mold 91 from below, and a base 11 supported by the stage 30 and a back plate fixed on the base 11. Twelve.
  • a plurality of abutting devices 51 constituting the positioning device 50 are fixed to the base 11.
  • the back plate 12 is a flat plate-like suction jig having a suction part (not shown) that is driven by the attachment / detachment drive part 60 to operate, and the molding die 91 is sucked and fixed to the surface 12a. The adsorption of the molding die 91 to 12a can be stopped and the molding die 91 can be detached.
  • the back plate 12 is made of a light-transmitting material, and the curing light CL from the light source unit 70 can be incident on the mold 91 through the opening AP of the base 11.
  • the molding die 91 attached to the first attachment portion 10 includes a transparent substrate 92 and a light-transmitting resin layer 93 formed on the transparent substrate 92, as shown in FIG.
  • a recess DR is formed on the front side surface 93 a of the resin layer 93, that is, the front side surface 91 a of the mold 91.
  • the periphery of the recess DR is substantially flat.
  • the surface of the recess DR is an optical transfer surface 91e described later, and the surface around the recess DR is a flange transfer surface 91f.
  • the mold 91 has a relatively high transmittance with respect to the curing light CL emitted from the light source unit 70.
  • the mold 91 can be formed by transfer from an original mold, for example. Specifically, a liquid resin material is sandwiched between a flat transparent substrate and the original mold and solidified by photocuring or the like, whereby the shape of the original mold is transferred and has an inverted shape. A mold 91 is obtained.
  • the original mold may also be formed by transfer from the original master.
  • the second mounting portion 20 is a substrate support portion that is supported on the back surface 95b side of the transparent substrate 95, which is a light-transmitting flat plate substrate that constitutes a part of a wafer lens WL described later.
  • a back plate 21 is provided.
  • the back plate 21 is a flat plate-like suction jig having a suction part (not shown) that is driven by the attachment / detachment drive part 60 to operate, and the transparent substrate 95 is sucked and fixed to the surface 21a. The adsorption of the transparent substrate 95 to the 21a can be stopped and the transparent substrate 95 can be detached.
  • the stage 30 can be finely moved two-dimensionally along the XY plane in a state in which the first attachment portion (die support portion) 10 is supported, and the molding die 91 supported on the first attachment portion 10 can be moved in a first manner.
  • the transparent substrate 95 fixed to the mounting portion 20 can be aligned with respect to the XY direction.
  • the stage 30 may be configured to be capable of turning in the XY plane so that alignment in the rotation direction can be performed.
  • the elevating device 40 has a support shaft member 41 that expands and contracts, and can raise and lower the second attachment portion (substrate support portion) 20 in the Z direction.
  • the transparent substrate 95 fixed to the second mounting portion 20 is advanced and retracted in the Z direction in a state of facing the molding die 91 supported on the first mounting portion 10, so that the first mounting portion 10 and the second mounting portion are attached.
  • the part 20 can be brought close to and separated from the part 20.
  • the stage 30 that supports the first mounting portion 10 and the lifting device 40 that supports the second mounting portion 20 are fixed to a frame 101 that surrounds the whole.
  • the positioning device 50 is provided on the first attachment portion (die support portion) 10 side and has a plurality of abutment devices 51. Each abutment device 51 protrudes from the first attachment portion 10. And a displacement device 53 that drives and displaces the rod portion 52.
  • the rod portion 52 functions as an abutting member for adjusting the interval that abuts against the surface 21 a of the back plate 21 of the second mounting portion 20 that serves as a reference for disposing the transparent substrate 95.
  • the positioning device 50 includes three abutting devices 51, and these abutting devices 51 are substantially arranged around the molding die 91 so as to surround the molding die 91 fixed to the first mounting portion 10 from the periphery. They are evenly spaced. Each butting device 51 is fixed so as to be embedded in the base portion 11 of the first attachment portion 10.
  • each butting device 51 is driven by the displacement device 53 to move up and down in the Z direction.
  • the displacement device 53 adjusts the protruding amount p of the rod portion 52 from the first mounting portion 10 by raising and lowering the rod portion 52 by a desired amount.
  • the displacement device 53 can be provided with a sensor (not shown) that monitors the protruding amount p of the rod portion 52.
  • Each butting device 51 is driven by the expansion / contraction drive unit 59 under the control of the control unit 80 and operates in synchronization with each other, and similarly raises and lowers the three rod portions 52 in the Z direction.
  • interval d space
  • tilt between the mold 91 and the transparent substrate 95 can be corrected to be in an accurate parallel state, and the wafer lens WL on which optical elements with more uniform optical specifications are formed can be manufactured.
  • FIG. 3 is a side view illustrating the structure of one butting device 51 constituting the positioning device 50 shown in FIG. 1 and the like.
  • the displacement device 53 on the base side of the abutting device 51 includes a coarse movement portion 55 and a fine movement portion 56.
  • the coarse movement part 55 raises / lowers the second member 57b largely with respect to the first member 57a.
  • the coarse movement portion 55 includes a guide 55b, a rotation drive portion 55c, a male screw portion 55e, and a female screw portion 55f.
  • the guide 55b has a guide rod 55g and a guide hole 55h.
  • the rotation drive part 55c consists of a motor etc.
  • the male screw part 55e is rotated by operating the rotation driving part 55c, and accordingly, the second member 57b whose rotation is restricted by the guide 55b moves up and down in the Z direction by a desired amount.
  • the fine movement part 56 is formed of a piezo element 56a or the like, and the rod part 52 can be accurately moved up and down by a small amount in the Z direction in finer increments than the coarse movement part 55 by its own expansion and contraction.
  • the tip 52a of the rod portion 52 is processed into a spherical surface or other convex curved surface. Thereby, when supporting the surface 21a of the lower end of the 2nd attachment part 20 which descend
  • the attachment / detachment driving unit 60 operates or stops a suction unit (not shown) provided on the back plate 12 of the first mounting unit 10 under the control of the control unit 80, thereby moving to the first mounting unit 10.
  • This member (the molding die 91 in FIG. 1) can be attached and detached.
  • the attachment / detachment driving unit 60 operates or stops a suction unit (not shown) provided on the back plate 21 of the second mounting unit 20 under the control of the control unit 80, so that a member (see FIG. 1 makes it possible to attach and detach the transparent substrate 95).
  • the light source unit 70 operates under the control of the control unit 80, radiates curing light through the first mounting unit 10, and is fixed to the molding die 91 supported by the first mounting unit 10 and the second mounting unit 20.
  • the photocurable resin agent RA locally filled between the transparent substrate 95 and the transparent substrate 95 is cured.
  • the entire surface of the resin layer 93 of the mold 91 may be filled with the photocurable resin agent RA and cured.
  • a molding die 91 is mounted on the upper part of the first mounting portion 10.
  • the back plate 12 supports the back surface 91b of the mold 91 while adsorbing it.
  • the transparent substrate 95 is fixed to the lower part of the second mounting portion 20.
  • the back plate 21 supports the back surface 95b of the transparent substrate 95 while adsorbing it.
  • the stage 30 adjusts the alignment between the molding die 91 supported on the first mounting portion 10 and the transparent substrate 95 fixed to the second mounting portion 20.
  • a photo-curable resin agent RA is supplied to each recess DR formed on the front side of the mold 91 mounted on the first mounting portion 10.
  • a dispenser for injecting a photocurable resin agent RA is prepared, and the liquid resin agent RA is sufficiently coated so as to sufficiently cover the optical transfer surface 91e formed on the mold 91 and the peripheral flange transfer surface 91f. Supply.
  • the liquid resin agent RA is supplied in a state of being separated independently from each concave portion DR or the optical transfer surface 91e.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second mounting portion 20.
  • the back plate 21 of the second mounting portion 20 comes into contact with the tip 52 a of the rod portion 52 of each abutting device 51 that constitutes the positioning device 50.
  • an upper limit is set for the pressure by which the second mounting portion 20 is lowered by the lifting device 40, and the lowering of the second mounting portion 20 is stopped, and the upper surface (that is, the surface 12a) of the first mounting portion 10 and the second A distance d from the lower surface (that is, the front surface 21a) of the mounting portion 20 is defined. That is, the distance from the back surface 91b of the mold 91 to the back surface 95b of the transparent substrate 95 is defined.
  • the position of the front end 52a is adjusted in advance from the back surface 91b of the transparent substrate 92 of the mold 91 in consideration of the thickness d1 of the front side surface 91a of the resin layer 93.
  • the distance d2 from the back surface 95b of the transparent substrate 95 to the target value can be precisely set.
  • the light source unit 70 shown in FIG. 1 is operated to irradiate the curing light through the first mounting unit 10, so that the concave portion DR and its periphery are locally filled between the mold 91 and the transparent substrate 95.
  • the cured photocurable resin agent RA is cured to form a resin layer portion RL having an optical surface.
  • the resin layer portion RL can be heated to cure the resin layer portion RL more reliably.
  • a number of resin layer portions RL are formed on the transparent substrate 95 by such shape transfer, and the wafer lens WL is manufactured.
  • the whole of the plurality of resin layer portions RL is a resin layer 94 that covers the front side surface 95 a of the transparent substrate 95.
  • Each resin layer portion RL and the portion 95e of the transparent substrate 95 facing the resin layer portion RL form the optical element 15 that functions as a lens or the like.
  • the suction of the mold 91 by the first mounting portion 10 is released, and the lifting device 40 is operated to raise the second mounting portion 20.
  • the transparent substrate 95 adsorbed on the second mounting portion 20, that is, the wafer lens WL is raised, and the mold 91 is also raised accordingly.
  • the mold 91 is in a state of being bonded to the transparent substrate 95 by the cured resin layer portion RL.
  • the suction of the transparent substrate 95 by the second mounting portion 20 is released, the wafer lens WL is taken out of the manufacturing apparatus 100 together with the mold 91, and the wafer lens WL is separated from the mold 91 (see FIG. 5B).
  • the wafer lens WL obtained in this way is cut between the resin layer portions RL and separated into optical elements 15 corresponding to the individual resin layer portions RL (see FIG. 5C).
  • the optical element 15 has a portion 95e of the transparent substrate 95 and a separated resin layer portion RL, and the resin layer portion RL has an optical surface portion Pa and a flange portion Pb.
  • the surface of the optical surface portion Pa is a convex optical surface Pd.
  • the thickness t of the optical element 15 is obtained by adding the maximum thickness t2 of the resin layer portion RL to the thickness t1 of the transparent substrate 95. As described with reference to FIG.
  • the distance d2 from the front side surface 91a of the mold 91 to the back surface 95b of the transparent substrate 95 is adjusted to the target value by a simple operation by positioning using the abutting device 51. Can do.
  • the thickness t of the optical element 15 can be brought close to the target value, the individual optical elements 15 obtained by cutting have the desired characteristics with the same optical specifications. Even if the thickness of the transparent substrate 95 varies locally or there is a variation in thickness among the plurality of transparent substrates 95 and the thickness t1 varies, the distance d2 corresponding to the thickness or the thickness of the optical element 15 t can be kept constant and fluctuations in optical properties can be reduced.
  • the abutting device 51 of the positioning device 50 since the abutting device 51 of the positioning device 50 has an adjustment function, for example, when the wafer lens WL obtained by the first transfer has a dimensional error exceeding the tolerance, The second and subsequent corrections can be made to reduce the dimensional error, and it is not necessary to recreate the mold, so that productivity can be improved and production cost can be reduced.
  • the positioning device 50 is configured by the three abutting devices 51 to enable tilt correction, the difference in thickness due to the position of the wafer lens WL is reduced, and the variation in the thickness t of the optical element 15 is further reduced. Can do.
  • the positioning device 50 provided as a separate body from the molding die 91 is used to adjust the distance between the molding die 91 and the transparent substrate 95. It is not necessary to provide a convex portion for adjusting the interval on the molding die 91, and the thickness of the optical element 15 based on the optical surface Pd can be set regardless of the thickness of the transparent substrate 95. Thereby, a wafer lens WL having a desired characteristic, that is, including a plurality of optical elements 15 having substantially uniform optical specifications can be formed. Further, by dividing the wafer lens WL into individual pieces, it is possible to easily manufacture a large number of optical elements 15 having substantially uniform optical specifications.
  • FIGS. 6A and 6B are a plan view and a side sectional view for explaining a positioning device and the like incorporated in the manufacturing apparatus of the second embodiment.
  • the illustrated positioning device 250 includes two abutting devices 251, and the both abutting devices 251 are arranged to face each other in the horizontal direction so as to sandwich the molding die 91 fixed to the first mounting portion 10. ing.
  • Each abutting device 251 includes a block portion 252 protruding from the first attachment portion 10 and a displacement device 53 that drives and displaces the block portion 252.
  • the block portion 252 is provided on the molding die 91 side, and functions as an abutting member for adjusting a distance to be abutted against the surface 21 a of the back plate 21 of the second mounting portion 20 that serves as a reference for disposing the transparent substrate 95.
  • the block portion (abutting member) 252 is a member extending in the XZ direction, for example, and is moved up and down in the Z direction while being driven by the displacement device 53 and maintaining the posture.
  • the pair of abutting devices 251 are driven by the expansion / contraction drive unit 59 (see FIG. 1) and operate in synchronization with each other, and similarly raise and lower the two block units 252 in the Z direction.
  • the distance d between the first mounting portion 10 and the second mounting portion 20 is extended.
  • the thickness t of the optical element 15 can be precisely adjusted.
  • a wafer lens manufacturing apparatus according to the third embodiment will be described below.
  • this embodiment is a modification of the manufacturing apparatus of 1st Embodiment, The part or matter which is not demonstrated especially is the same as that of the case of 1st Embodiment.
  • the illustrated positioning device 350 includes a single abutting device 351.
  • the abutting device 351 is fixed to a plurality of rod portions 352 projecting from the first mounting portion 10, a plurality of displacement devices 53 that drive and displace these rod portions 352, and tips 52 a of the plurality of rod portions 352.
  • an annular contact member 54 is provided.
  • the contact member 54 has an opening OP that is slightly larger than the diameter of the molding die 91 in order to avoid interference with the molding die 91 during elevation.
  • the contact member 54 is provided on the molding die 91 side, and functions as an abutting member for adjusting a distance to be abutted against the surface 21 a of the back plate 21 of the second mounting portion 20 which is a reference for disposing the transparent substrate 95. To do.
  • the abutting device 351 operates by being driven by the expansion / contraction driving unit 59 of FIG. 1, and similarly raises and lowers the abutting member (abutting member) 54 in the Z direction.
  • the distance d between the first mounting portion 10 and the second mounting portion 20 is extended.
  • the thickness t of the optical element 15 can be precisely adjusted.
  • the positioning device 450 incorporated in the manufacturing apparatus of the fourth embodiment is provided on the second attachment portion (substrate support portion) 20 side.
  • the plurality of abutting devices 451 constituting the positioning device 450 have the same structure as the abutting device 51 of the first embodiment shown in FIG. 1 and the like, but on the base portion 22 of the second attachment portion (substrate support portion) 20. It is fixed to embed.
  • the rod portion 52 of each abutting device 451 has a surface 11a of the base portion 11 of the first mounting portion 10 that serves as a reference for the placement of the forming die 91 when the forming die 91 and the transparent substrate 95 are aligned as shown in FIG. 8B. It functions as an abutting member for adjusting the interval that is abutted against the surface.
  • the positioning device 450 is provided on the second mounting portion (substrate support portion) 20 side.
  • the thickness t of the optical element 15 can be adjusted to a desired value regardless of the variation in the thickness of the transparent substrate 95. Even if comprised in this way, the effect similar to 1st Embodiment can be acquired.
  • FIGS. 8A and 8B the tip 52a of the rod portion 52 provided in the abutting device 451 is abutted against the surface 11a of the base 11, but various modifications are possible.
  • 9A and 9B are diagrams illustrating a modification of the manufacturing apparatus according to the fourth embodiment.
  • the example shown in FIG. 9A is an example in which the tip 52 a of the rod portion 52 provided in the abutting device 451 is abutted against the surface of the back plate 12.
  • 9B is an example in which the tip 52a of the rod portion 52 provided in the abutting device 451 is abutted against the surface of the transparent substrate 92 constituting the molding die 91.
  • the thickness t of the optical element 15 can be adjusted to a desired value regardless of the variation in the thickness of the transparent substrate 95.
  • the positioning device 550 incorporated in the manufacturing apparatus of the fifth embodiment is provided in both the first attachment portion (die support portion) 10 and the second attachment portion (substrate support portion) 20. It has been.
  • the first abutting device 51 constituting the positioning device 550 is provided on the first mounting portion (die support portion) 10 side and has the same structure as the abutting device 51 of the first embodiment shown in FIG. .
  • the second abutting device 551 constituting the positioning device 550 is provided on the second attachment portion (substrate support portion) 20 side, and has the same structure as the abutting device 451 of the fourth embodiment shown in FIG. 8A and the like.
  • the tip 52a of the first rod portion (first abutting member) 52 provided in the first abutting device 51, and the second The end portion 52a of the second rod portion (second abutting member) 52 provided in the abutting device 551 comes into contact.
  • molding die 91 and the back surface 95b of the transparent substrate 95 can be adjusted by changing the protrusion amount of at least one of the 1st rod part 52 and the 2nd rod part 52.
  • the tip 52a of the rod portion 52 provided in the first abutting device 51 is flat, and the tip 52a of the rod portion 52 provided in the second abutting device 551 is a curved projection. ing.
  • molding die 91 and the transparent substrate 95 can be improved.
  • substrate support part) 20 can be enlarged rather than the case where it arrange
  • the first mold 91 is fixed to the first mounting portion 10 and the transparent substrate 95 is fixed to the second mounting portion 20.
  • a liquid photocurable resin agent RA is supplied to each of the recesses DR formed on the front side of the first molding die 91 fixed on the first mounting portion 10 and the periphery thereof.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second attachment portion 20.
  • the lowering of the second attachment portion 20 is continued until the surface 21a of the back plate 21 comes into contact with the tip 52a of the rod portion 52 of each abutting device 51 constituting the positioning device 50 with a constant force.
  • interval d of the surface 12a of the 1st attachment part 10 and the surface 21a of the 2nd attachment part 20 is prescribed
  • the position of the tip 52a is adjusted in advance from the back surface 91b of the transparent substrate 92 of the molding die 91 in consideration of the thickness of the front side surface 91a of the resin layer 93.
  • the distance to the back surface 95b of the transparent substrate 95 is set as a target value.
  • the light source unit 70 shown in FIG. 1 is operated to illuminate the transparent substrate 95 and the like through the first mounting unit 10, and the concave portion DR and its surroundings are between the first mold 91 and the transparent substrate 95.
  • the photocurable resin agent RA that is locally filled in is cured to form a resin layer portion RL.
  • a product in which a large number of resin layer portions RL are formed on the transparent substrate 95 by such shape transfer is a semi-finished product SP of the wafer lens WL (see FIG. 11C).
  • the semi-finished product SP the whole of the plurality of resin layer portions RL is a first resin layer 94 that covers the front side surface 95a of the transparent substrate 95.
  • the suction of the first mold 91 by the first mounting portion 10 is released, the second mounting portion 20 is lifted by the lifting device 40, and the transparent substrate by the second mounting portion 20 is used.
  • 95 that is, the suction of the semi-finished product SP is released, the front and back of the semi-finished product SP are reversed, and the second attachment portion 20 is again suctioned.
  • the semi-finished product SP is fixed to the second mounting portion 20 via the first molding die 91.
  • the second molding die 691 is fixed to the first attachment portion 10.
  • a liquid photocurable resin agent RA is supplied to each convex portion PR formed on the front side of the second mold 691 fixed on the first mounting portion 10 and the periphery thereof.
  • tip 52a of the rod part 52 of each butting apparatus 51 provided in the positioning apparatus 50 is corrected upwards in preparation for the next process.
  • the position of the tip 52a is adjusted in consideration of the thickness of the front side surface 91a of the resin layer 93 from the back surface 91b of the transparent substrate 92 of the second mold 691.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second mounting portion 20.
  • the lowering of the second attachment portion 20 is continued until the back plate 21 comes into contact with the tip 52a of the rod portion 52 of each abutting device 51 constituting the positioning device 50 with a constant force.
  • interval d of the surface 12a of the 1st attachment part 10 and the surface 21a of the 2nd attachment part 20 is prescribed
  • the light source part 70 shown in FIG. 1 is operated to illuminate the semi-finished product SP and the like through the first mounting part 10, and the convex part PR and its part between the second molding die 691 and the semi-finished product SP.
  • the photocurable resin agent RA locally filled in the periphery is cured to form a resin layer portion RL.
  • a wafer lens WL is formed by forming a large number of resin layer portions RL on both surfaces 95a and 95b of the transparent substrate 95 by such shape transfer.
  • the whole of the plurality of resin layer portions RL is a second resin layer 694 that covers the back surface 95b of the transparent substrate 95 (see FIG. 12B).
  • the wafer lens WL obtained in this way is cut at a position between the resin layer portions RL and separated into optical elements 15 corresponding to the individual resin layer portions RL.
  • the wafer lens manufacturing apparatus according to the present embodiment can be applied not only when a resin layer having an optical element portion is formed on one side but also when formed on both sides, and has more versatility. Can be.
  • both surfaces of the transparent substrate 95 are formed in the same process.
  • a resin layer can be formed.
  • the first mold 91 is fixed to the first mounting portion 10, and the transparent substrate 95 is fixed to the second mounting portion 20.
  • a liquid photocurable resin agent RA is supplied to each of the recesses DR formed on the front side of the first molding die 91 fixed on the first mounting portion 10 and the periphery thereof.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second attachment portion 20.
  • the lowering of the second attachment portion 20 is continued until the back plate 21 comes into contact with the tip 52a of the rod portion 52 of each abutting device 51 constituting the positioning device 50 with a constant force.
  • the light source unit 70 shown in FIG. 1 is operated to illuminate the transparent substrate 95 and the like through the first mounting unit 10, and the concave portion DR and its surroundings are between the first mold 91 and the transparent substrate 95.
  • the photocurable resin agent RA that is locally filled in is cured to form a resin layer portion RL.
  • a product in which a large number of resin layer portions RL are formed on the transparent substrate 95 by such shape transfer is a semi-finished product SP of the wafer lens WL.
  • the whole of the plurality of resin layer portions RL is a first resin layer 94 that covers the front side surface 95a of the transparent substrate 95.
  • the lifting / lowering device 40 is operated to raise the second mounting portion 20, and the first mold 91 and the transparent substrate 95 are taken out, and the mold 91 is separated into a semi-finished product SP.
  • the back surface 98b side of the lattice-like spacer 98 is sucked and fixed to the back plate 21 of the second mounting portion 20, and the semi-finished product SP is transparent to the back plate 12 of the first mounting portion 10.
  • the back surface 95b side of the substrate 95 is fixed.
  • a liquid photo-curable resin agent is applied to the lower end surface 98a of the spacer 98 fixed to the second mounting portion 20 or the peripheral portion of the resin layer portion RL of the semi-finished product SP fixed to the first mounting portion 10.
  • the spacer 98 has a through hole 98 c in order to avoid interference with the resin layer portion RL constituting the resin layer 94.
  • tip 52a of the rod part 52 of each butting apparatus 51 provided in the positioning apparatus 50 is corrected below for preparation of the next process.
  • the position of the tip 52a is adjusted so that the distance from the back surface 95b of the transparent substrate 95 of the semi-finished product SP to the back surface 98b of the spacer 98 (that is, the surface of the back plate 21) is a desired distance.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second mounting portion 20.
  • the lowering of the second attachment portion 20 is continued until the back plate 21 comes into contact with the tip 52a of the rod portion 52 of each abutting device 51 constituting the positioning device 50 with a constant force.
  • the lower end surface 98a of the spacer 98 and the front side surface of the semi-finished product SP are close to each other, and the second mounting portion 20 stops at a position where the distance from the back surface 95b of the transparent substrate 95 to the back surface 98b of the spacer 98 is a desired distance. To do.
  • the light source unit 70 shown in FIG. 1 is operated to illuminate the transparent substrate 95 and the like through the first mounting unit 10, and the space between the lower end surface 98 a of the spacer 98 and the front side surface of the semi-finished product SP is locally filled.
  • the photocurable resin agent QA thus cured is cured.
  • the semi-finished product SP2 in which the spacer 98 is fixed on the semi-finished product SP is formed.
  • the position of the tip 52a is adjusted to the above-described position, even if the thickness of the spacer 98 varies, the error is absorbed by the change in the thickness of the resin agent RA, and the spacer is removed from the back surface 95b of the transparent substrate 95.
  • the semi-finished product SP2 in which the distance to the back surface 98b of 98 is accurately defined can be obtained.
  • the suction of the semi-finished product SP2 by the first mounting portion 10 is released, and the semi-finished product SP2 is raised together with the second mounting portion 20 by the lifting device 40.
  • the second molding die 691 is fixed to the first attachment portion 10.
  • a liquid photocurable resin agent RA is supplied to each convex portion PR formed on the front side of the second mold 691 fixed on the first mounting portion 10 and the periphery thereof.
  • tip 52a of the rod part 52 of each butting apparatus 51 provided in the positioning apparatus 50 is corrected upwards in preparation for the next process.
  • the position of the tip 52a is adjusted in consideration of the thickness of the front side surface 91a of the resin layer 93 from the back surface 91b of the transparent substrate 92 of the second mold 691.
  • the lifting device 40 is operated to lower the second attachment portion 20.
  • the lowering of the second attachment portion 20 is continued until the back plate 21 comes into contact with the tip 52a of the rod portion 52 of each abutting device 51 constituting the positioning device 50 with a constant force.
  • interval d of the surface 12a of the 1st attachment part 10 and the surface 21a of the 2nd attachment part 20 is prescribed
  • the light source unit 70 shown in FIG. 1 is operated to illuminate the semi-finished product SP2 and the like through the first mounting unit 10, and between the second molding die 691 and the semi-finished product SP2, the projection PR and its The photocurable resin agent RA locally filled in the periphery is cured to form a resin layer portion RL.
  • a wafer lens WL is formed by forming a large number of resin layer portions RL on both surfaces 95a and 95b of the transparent substrate 95 by such shape transfer.
  • the whole of the plurality of resin layer portions RL together constitutes a second resin layer 694 that covers the back surface 95b of the transparent substrate 95.
  • the wafer lens WL thus obtained is cut at the position of the spacer 98 and separated into optical elements 15 corresponding to individual resin layer portions RL as indicated by broken lines.
  • the wafer lens manufacturing apparatus can be applied not only when the resin layer having the optical element part is formed on both surfaces but also when the spacer 98 is formed, and is extremely versatile. It can have.
  • the shape of the resin layer 94 and the resin layer portion RL on which the wafer lens WL and the optical element 15 are formed is merely an example, and is set as appropriate in consideration of the use and lamination of the optical element 15. be able to.
  • the resin layer 94 is not limited to one separated for each optical element 15, and may be formed without a break on the entire wafer lens WL.
  • the resin layer 94 and the like are formed of the photocurable resin agent RA, and the resin agent RA is cured by light irradiation. However, the curing is accelerated by heating in addition to the light irradiation. May be.
  • the resin layers 94, 694, and the like can be formed of another energy curable resin such as a thermosetting resin instead of the photocurable resin agent RA.
  • the distance between the back surface 91b of the mold 91 and the back surface 95b of the transparent substrate 95 or the like is adjusted by the positioning device 50, but other intervals can be adjusted.
  • the positioning device 50 is provided independently of the molding die 91, the transparent substrate 95, and the like, and enables the interval adjustment without being restricted by the surface shape of the molding die 91 or the transparent substrate 95.
  • the abutting device 51 is provided around the mold 91 and the transparent substrate 95. However, if through holes are provided in the mold 91 and the transparent substrate 95, the inside of the mold 91 and the transparent substrate 95 is provided.
  • the abutting device 51 can also be arranged on the surface. In this case, the reliability and stability of the interval adjustment can be improved.
  • the structure of the butting device 51 shown in FIG. 3 and the like is merely an example, and various mechanisms can be used as long as the rod portion 52 can be raised and lowered stably with high accuracy.
  • the object to which the rod portion 52 of the abutting device 51 is abutted is not limited to the surface of the back plates 12 and 21 and various reference positions and it can.
  • a portion that is not a transfer surface is provided on the outer periphery of the front side surface 95 a of the transparent substrate 95, and the end 52 a of the rod portion 52 is abutted against the non-transfer surface portion. It is possible to obtain a wafer lens on which optical elements having uniform optical specifications are formed by precisely defining the thickness from the surface to the surface of the transparent substrate 95.

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Abstract

 所期の特性を有する複数の光学素子を備えるウェハーレンズを形成可能なウェハーレンズの製造方法及び装置を提供することを目的とする。 成形型91と透明基板95との間隔を調節するために、成形型91と別体として設けられた位置決め装置50を用いるので、成形型91に間隔調整用の凸部を設ける必要がなくなり、透明基板95の厚みに関わらず光学面Pdを基準とする光学素子15の厚みを設定することができるようになる。これにより、所期の特性を有する複数の光学素子15を備えるウェハーレンズWLを形成することができる。

Description

ウェハーレンズの製造方法、ウェハーレンズの製造装置及び光学素子
 この発明は、透光性を有する基板上に転写によって樹脂製の複数の光学レンズを形成するウェハーレンズの製造方法、ウェハーレンズの製造装置及び、これらによって得られる光学素子に関するものである。
 近年、量産性の向上による低コスト化を目的として、透光性を有する基材の面に複数の光学素子部を形成した所謂ウェハーレンズを作製し、この後、個々の光学素子部を基材と共に切断して個片化し撮像装置等のレンズとして用いるものが知られている。
 このようなウェハーレンズの作製に際し、複数の光学素子部を形成するための転写面を有する型として、光学素子部が形成される基材表面から光学素子部面までの間隔を規定するための凸部を一体的に形成したものが知られている(例えば、特許文献1、2参照)。
 以上のウェハーレンズから切断分離されたレンズで構成される光学系は、携帯電話用カメラモジュールに代表されるように極めて小さい。このような光学系に組み込まれるレンズは、調整機構を用いず無調整で組み立てを行えると製造工程の簡略化に有効であるが、そのためには、個々のレンズの光学的諸元のばらつきが所望の許容範囲内であることが要求される。
 しかしながら、オリジナル形状から液状の樹脂材料を用いて転写固化させて形成した樹脂型を複数の光学素子部を形成するための成形型として用いる場合、該樹脂型を形成する樹脂材料の固化に伴って収縮が生じる。このため上記特許文献1、2に記載された方法では、樹脂型においてウェハーレンズの基材に当接させる凸部の突き当て面と光学転写面との相対的な高さの差を樹脂の収縮を見込んで正確に制御するのは難しく、予定通り形成することは極めて困難である。更には、たとえ正確に樹脂型が形成でき、光学素子部が形成される基材表面から光学素子部の表面までの距離を見込み通りに形成できたとしても、基材が厚みの誤差を有する場合、形成された光学素子部の厚さ(基材裏面から光学素子部の表面までの厚さ)は、基材厚みの誤差をそのまま有したものとなる。すなわち、厚みの異なる基材で形成された個々の光学素子は、光学的特性が大きく異なるものとなり、撮像装置に組み込んだ際にも焦点位置のばらつきとなって顕在化することになる。
特表2006-519711号公報 特表2009-530136号公報
 本発明は、上述の従来技術における課題を解決し、所期の特性を有する複数の光学素子を備えたウェハーレンズを形成可能なウェハーレンズの製造方法及びウェハーレンズの製造装置を提供することを目的とする。
 また、本発明は、上記のようなウェハーレンズの製造方法によって得られる、特性の揃った光学素子を提供することを目的とする。
 また、本発明は、上記のようなウェハーレンズの製造装置によって得られる、特性の揃った光学素子を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するため、本発明に係るウェハーレンズの製造方法は、透光性を有する平板状の基板の少なくとも一方の面上に、成形型を用いた転写により複数の光学面を有する樹脂層を形成するウェハーレンズの製造方法であって、基板上に成形型により複数の光学面を成形する際、成形型とは別体で、基板を支持する基板支持部の側及び成形型を支持する型支持部の側の少なくとも一方に設けられ、基板支持部と型支持部とが近接した際に他方の側に突き当たる突き当て部材を有する位置決め装置を用いて、成形型と基板との間隔を調節する。
 上記製造方法によれば、成形型と基板との間隔を調節するために、成形型と別体として設けられた位置決め装置を用いるので、想定どおりに形成することが困難な間隔調整用の凸部を成形型に設ける必要がなくなり、しかも、基板の厚みに関わらず光学面を基準として光学素子の厚みを設定することができるようになる。これにより、所期の特性、すなわち光学的諸元の略均一な複数の光学素子が形成されたウェハーレンズを製造することができる。
 本発明の具体的な側面又は観点によれば、位置決め装置による成形型と基板との間隔が、前回に形成されたウェハーレンズの寸法誤差に基づいて修正される。これにより、型を作り直す必要がなく、生産コストを効率的に低減することができる。
 本発明の別の側面によれば、位置決め装置は、型支持部の側及び基板支持部の側の双方に設けられ、型支持部の側に設けられた第1の突き当て部材と、基板支持部の側に設けられた第2の突き当て部材とを有し、第1の突き当て部材と第2の突き当て部材との少なくとも一方の突出量を変化させることによって成形型と基板との間隔を調節する。
 また、上記目的を達成するため、本発明に係るウェハーレンズの製造装置は、透光性を有する平板状の基板を支持する基板支持部と、基板に対向して配置され、基板の一方の面上に複数の光学面有する樹脂層を転写により成形するための成形型を支持する型支持部と、基板支持部と型支持部とを近接及び離間させる昇降装置と、成形型とは別体で、基板支持部の側及び型支持部の側の少なくとも一方の側に設けられ、昇降装置により基板支持部と型支持部とが近接させられた際に、他方の側に突き当てられて成形型と基板との間隔を調節する突き当て部材を有する位置決め装置とを有する。
 上記製造装置によれば、成形型と基板との間隔を調節するために、成形型と別体として設けられた位置決め装置を有するので、想定どおりに形成することが困難な間隔調整用の凸部を成形型に設ける必要がなくなり、基板の厚みに関わらず光学面を基準として光学素子の厚みを設定することができるようになる。これにより、所期の特性、すなわち光学的諸元の略均一な複数の光学素子が形成されたウェハーレンズを製造することができる。
 本発明の具体的な側面又は観点によれば、上記ウェハーレンズの製造装置において、位置決め装置が、型支持部の側に設けられ、突き当て部材が、基板の配置の基準となる所定面に突き当てられる。この場合、突き当て部材によって基準となる所定面の位置を調整する操作により、光学素子の厚みを簡易に所期の値に近づけることができる。
 本発明の別の側面によれば、突き当て部材が、基板を背後から支持するバックプレートの表面に突き当てられる。この場合、突き当て部材によってバックプレートの表面位置を調整することで、基板厚のばらつきに関わらず基板裏面から光学面までの厚みを所期の値に近づけることができる。
 本発明のさらに別の側面によれば、位置決め装置が、基板支持部の側に設けられ、突き当て部材が、成形型を構成する樹脂層を避けた所定面に突き当てられる。このような構成でも、基板厚のばらつきに関わらず基板裏面から光学面までの厚みを所期の値に近づけることができる。
 本発明のさらに別の側面によれば、位置決め装置が、基板及び成形型の周囲3か所に配置され、突き当て部材の突出量を個別に変化可能となされている。この場合、成形型と基板との傾き関係を調整することもでき、光学的諸元のより略均一な光学素子が形成されたウェハーレンズを製造することができる。
 本発明のさらに別の側面によれば、位置決め装置が、型支持部の側及び基板支持部の側の双方に設けられ、型支持部の側に設けられた第1の突き当て部材と、基板支持部の側に設けられた第2の突き当て部材とを有し、第1の突き当て部材と第2の突き当て部材とを互いに突き合わせる。
 本発明のさらに別の側面によれば、位置決め装置が、第1の突き当て部材と第2の突き当て部材との少なくとも一方の突出量を変化させることによって成形型と基板との間隔を変更する。
 また、本発明に係る光学素子は、上述のウェハーレンズの製造方法によって製造したウェハーレンズを個片化することによって得たものである。このようにして得た光学素子は、光学的諸元が揃った所期の特性を有するものとなっている。
 また、本発明に係る光学素子は、上述のウェハーレンズの製造装置によって製造したウェハーレンズを個片化することによって得たものである。このようにして得た光学素子は、光学的諸元が揃った所期の特性を有するものとなっている。
第1実施形態の製造装置を説明する概念図である。 図2Aは、位置決め装置等を説明する平面図であり、図2Bは、位置決め装置等を説明する側方断面図である。 位置決め装置を構成する1つの突き当て装置の構造を説明する側面図である。 図4A及び4Bは、第1実施形態の製造方法を説明する図である。 図5A~5Cは、第1実施形態の製造方法を説明する図である。 図6Aは、第2実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置を説明する平面図であり、図6Bは、図6Aの位置決め装置の側方断面図である。 図7Aは、第3実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置を説明する平面図であり、図7Bは、図7Aの位置決め装置の側方断面図である。 図8A及び8Bは、第4実施形態の製造装置の要部を説明する側方断面図である。 図9A及び9Bは、第4実施形態の製造装置の変形例を説明する図である。 図10A及び10Bは、第5実施形態の製造装置の要部を説明する側方断面図である。 図11A~11Cは、複数の光学面を有する樹脂層を基板の両面に形成する場合の製造工程を説明する図である。 図12A~12Cは、複数の光学面を有する樹脂層を基板の両面に形成する場合の製造工程を説明する図である。 図13A~13Cは、複数の光学面を有する樹脂層を基板の両面に形成すると共にスペーサーを形成する場合の製造工程を説明する図である。 図14A~14Cは、複数の光学面を有する樹脂層を基板の両面に形成すると共にスペーサーを形成する場合の製造工程を説明する図である。 図15A及び15Bは、複数の光学面を有する樹脂層を基板の両面に形成すると共にスペーサーを形成する場合の製造工程を説明する図である。 第1実施形態の製造装置の変形例を説明する図である。
 〔第1実施形態〕
 図面を参照して、本発明の第1実施形態に係るウェハーレンズの製造方法及びウェハーレンズの製造装置について説明する。
 図1は、ウェハーレンズの製造装置を概念的に説明する図である。図示の製造装置100は、成形型が取り付けられる側の第1取り付け部10と、透光性を有する平板状の基板が取り付けられる側の第2取り付け部20と、ステージ30と、昇降装置40と、位置決め装置50と、着脱駆動部60と、光源部70と、制御部80とを備える。
 製造装置100のうち、第1取り付け部10は、成形型91の裏面91bを下側から支持する型支持部であり、ステージ30に支持された基部11と、基部11上に固定されたバックプレート12とを有する。基部11には、位置決め装置50を構成する複数の突き当て装置51が固定されている。バックプレート12は、着脱駆動部60に駆動されて動作する吸着部(不図示)を内蔵する平板状の吸着治具であり、その表面12aに成形型91を吸着して固定したり、この表面12aに対する成形型91の吸着を停止して成形型91を離脱したりすることができる。このバックプレート12は、光透過性を有する材料で形成されており、光源部70からの硬化光CLを、基部11の開口APを介して成形型91に入射させることができる。
 なお、第1取り付け部10に取り付けられる成形型91は、図2に示すように、透明基板92と、透明基板92上に形成された光透過性の樹脂層93とを備える。樹脂層93の表側面93aすなわち成形型91の表側面91aには、凹部DRが形成されている。凹部DRの周囲は、略平坦である。ここで、凹部DRの表面は、後述する光学転写面91eとなっており、凹部DRの周囲の表面は、フランジ転写面91fとなっている。成形型91は、図1に示すように、光源部70から射出される硬化光CLに対して比較的高い透過率を有する。成形型91は、例えばオリジナルの成形型から転写によって形成することができる。具体的には、平板状の透明基板とオリジナルの成形型との間に液状の樹脂材料を挟んで光硬化等によって固化させることによって、オリジナルの成形型の形状が転写され、反転した形状を有する成形型91が得られる。ここで、オリジナルの成形型も、さらにオリジナルのマスターから転写によって形成したものであってもよい。
 第2取り付け部20は、後述するウェハーレンズWLの一部を構成することになる透光性を有する平板状の基板である透明基板95の裏面95b側で支持する基板支持部であり、下部にバックプレート21を有する。バックプレート21は、着脱駆動部60に駆動されて動作する吸着部(不図示)を内蔵する平板状の吸着治具であり、その表面21aに透明基板95を吸着して固定したり、その表面21aに対する透明基板95の吸着を停止して透明基板95を離脱したりすることができる。
 ステージ30は、第1取り付け部(型支持部)10を支持した状態で、XY面に沿って2次元的に微動させることができ、第1取り付け部10上に支持された成形型91を第2取り付け部20に固定された透明基板95に対してXY方向に関してアライメントして配置することができる。ステージ30をXY面内で旋回可能に構成し、回転方向のアライメントも行えるようにしてもよい。
 昇降装置40は、伸縮する支持軸部材41を有し、第2取り付け部(基板支持部)20をZ方向に昇降させることができる。これにより、第2取り付け部20に固定された透明基板95を第1取り付け部10上に支持された成形型91に対向させた状態でZ方向に進退させ、第1取り付け部10と第2取り付け部20とを近接及び離間させることができる。
 第1取り付け部10を支持するステージ30と、第2取り付け部20を支持する昇降装置40とは、全体を囲むフレーム101に固定されている。
 位置決め装置50は、第1取り付け部(型支持部)10側に設けられて複数の突き当て装置51を有しており、各突き当て装置51は、第1取り付け部10から突起するロッド部52と、ロッド部52を駆動して変位させる変位装置53とを備える。ロッド部52は、透明基板95の配置の基準となる第2取り付け部20のバックプレート21の表面21aに突き当てられる間隔調整用の突き当て部材として機能する。
 図2A及び2Bは、位置決め装置50等を説明する平面図及び側方断面図である。位置決め装置50は、3つの突き当て装置51を有しており、これらの突き当て装置51は、第1取り付け部10に固定された成形型91を周囲から囲むように成形型91の周囲に略均等な間隔で配置されている。各突き当て装置51は、第1取り付け部10の基部11に埋め込まれるようにして固定されている。
 図1に戻って、各突き当て装置51のロッド部(突き当て部材)52は、変位装置53に駆動されてZ方向に昇降移動する。変位装置53は、ロッド部52を所望量だけ昇降させることにより、ロッド部52の第1取り付け部10からの突出量pを調整する。変位装置53には、これに付随してロッド部52の突出量pを監視するセンサー(不図示)を設けることができる。各突き当て装置51は、制御部80の制御下で伸縮駆動部59により駆動されて互いに同期して動作し、3つのロッド部52をZ方向に同様に昇降させる。これにより、第1取り付け部10と第2取り付け部20とを互いに近接させた場合に、第1取り付け部10と第2取り付け部20との間隔d(最も近接した時の間隔d0)を精密に調整することができる。また、3つのロッド部52をZ方向に個別に異なる量だけ変位させて、第1取り付け部10に対する第2取り付け部20の傾きを微調整(チルト補正)することもできる。このようにすることで、成形型91と透明基板95との傾きを是正して正確な平行状態とでき、光学的諸元のより均一な光学素子の形成されたウェハーレンズWLの製造ができる。
 図3は、図1等に示す位置決め装置50を構成する1つの突き当て装置51の構造を例示する側面図である。突き当て装置51の根元側の変位装置53は、粗動部55と、微動部56とを備える。粗動部55は、第1部材57aに対して第2部材57bを大きく昇降させるものである。粗動部55は、ガイド55bと、回転駆動部55cと、雄ネジ部55e及び雌ネジ部55fを有する。ガイド55bは、ガイドロッド55g及びガイド孔55hを有する。回転駆動部55cは、モーター等からなる。粗動部55において、回転駆動部55cを動作させることで雄ネジ部55eが回転し、これに伴ってガイド55bによって回転が規制された第2部材57bが所望量だけZ方向に昇降する。一方、微動部56は、ピエゾ素子56a等で形成され、それ自体の伸縮によってロッド部52をZ方向に粗動部55よりも細かい刻みで微小量だけ正確に昇降させることができる。
 なお、ロッド部52の先端52aは、球面その他の凸の曲面に加工されている。これにより、ロッド部52の先端52aで降下する第2取り付け部20の下端の表面21aを支持する際に、点状の接触によって安定して支持することができる。
 図1に戻って、着脱駆動部60は、制御部80の制御下で第1取り付け部10のバックプレート12に設けた不図示の吸着部を動作あるいは停止させることで、第1取り付け部10への部材(図1では成形型91)の着脱を可能にする。また、着脱駆動部60は、制御部80の制御下で第2取り付け部20のバックプレート21に設けた不図示の吸着部を動作あるいは停止させることで、第2取り付け部20への部材(図1では透明基板95)の着脱を可能にする。
 光源部70は、制御部80の制御下で動作し、第1取り付け部10越しに硬化光を照射し、第1取り付け部10に支持された成形型91と、第2取り付け部20に固定された透明基板95との間に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させる。なお、成形型91の樹脂層93の略全面に光硬化型の樹脂剤RAを満たし、硬化させるものであってもよい。
 以下、図1の製造装置100を用いたウェハーレンズの製造方法について具体的に説明する。
 まず、図4Aに示すように、第1取り付け部10の上部に成形型91をマウントする。この際、バックプレート12によって、成形型91の裏面91bを吸着しつつ支持する。
 また、図4Aに示すように、第2取り付け部20の下部に透明基板95を固定する。この際、バックプレート21によって、透明基板95の裏面95bを吸着しつつ支持する。この状態で、ステージ30(図1参照)により、第1取り付け部10上に支持された成形型91と第2取り付け部20に固定された透明基板95とのアライメント調整を行う。
 次いで、図4Aに示すように、第1取り付け部10上にマウントされた成形型91の表側に形成された各凹部DRに光硬化型の樹脂剤RAを供給する。具体的には、光硬化型の樹脂剤RAを射出するディスペンサーを準備し、成形型91に形成された光学転写面91e及びその周辺のフランジ転写面91fを十分被覆するように液状の樹脂剤RAを供給する。この場合、個々の凹部DR又は光学転写面91eに独立して分離した状態で液状の樹脂剤RAが供給される。
 その後、図4Bに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。これにより、第2取り付け部20のバックプレート21が位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに当接する。この際、昇降装置40による第2取り付け部20を降下させる圧力に上限を設けてあり、第2取り付け部20の降下が停止し、第1取り付け部10の上面(すなわち表面12a)と、第2取り付け部20の下面(すなわち表面21a)との間隔dが規定される。つまり、成形型91の裏面91bから透明基板95の裏面95bまでの距離が規定される。このとき、予め、先端52aの位置を、成形型91の透明基板92の裏面91bから樹脂層93の表側面91aの厚みd1を勘案して調整しておくことで、成形型91の表側面91aから透明基板95の裏面95bまでの距離d2を精密に目標値に設定することができる。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに硬化光を照射し、成形型91と透明基板95との間であって凹部DR及びその周辺に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させて光学面を有する樹脂層部分RLとする。この際、樹脂層部分RLを加熱して樹脂層部分RLをより確実に硬化させることもできる。このような形状転写によって透明基板95上に多数の樹脂層部分RLを形成し、ウェハーレンズWLが製造される。複数の樹脂層部分RLを併せた全体は、透明基板95の表側面95aを覆う樹脂層94となっている。また、個々の樹脂層部分RLと、これに対向する透明基板95の部分95eとは、レンズ等として機能する光学素子15となっている。
 次に、図5Aに示すように、第1取り付け部10による成形型91の吸着を解除し、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を上昇させる。これにより、第2取り付け部20に吸着された透明基板95すなわちウェハーレンズWLが上昇し、これに伴って成形型91も上昇する。ここで、成形型91は、硬化した樹脂層部分RLによって透明基板95に接着された状態となっている。
 その後、第2取り付け部20による透明基板95の吸着を解除し、ウェハーレンズWLを成形型91とともに製造装置100外に取り出すとともに、成形型91からウェハーレンズWLを分離する(図5B参照)。
 このようにして得たウェハーレンズWLは、樹脂層部分RLの間で切断され、個々の樹脂層部分RLに対応する光学素子15に個片化される(図5C参照)。光学素子15は、透明基板95の部分95eと、分離された樹脂層部分RLとを有し、樹脂層部分RLは、光学面部Paとフランジ部Pbとを有する。光学面部Paの表面は、この場合、凸の光学面Pdとなっている。また、光学素子15の厚みtは、透明基板95の厚みt1に樹脂層部分RLの最大厚みt2を加算したものとなっている。図4Bを参照して説明したように、突き当て装置51を利用した位置決めにより、成形型91の表側面91aから透明基板95の裏面95bまでの距離d2を簡単な操作で目標値に調整することができる。結果的に、光学素子15の厚みtを目標値に近づけることができるので、切断によって得た個々の光学素子15は、光学的諸元が揃った所期の特性を有するものとなっている。なお、透明基板95の厚みが局所的に変動したり複数の透明基板95間で厚みのバラツキがあって厚みt1が変動したりしても、肉厚に相当する距離d2や光学素子15の厚みtは、一定に保たれ、光学的特性の変動を低減することができる。これは、透明基板95と光学面部Paを形成する樹脂とは屈折率差が小さいため、光学面厚及び基板厚が異なっていても、基材裏面から光学素子部の表面までの厚さ、すなわち、(光学面厚+基板厚)が等しければ、ほぼ同じ光学特性が得られることによる。
 また、本実施形態の製造方法では、位置決め装置50の突き当て装置51に調整機能を持たせているので、例えば初回の転写によって得られたウェハーレンズWLに許容を越える寸法誤差があった場合、2回目以降で寸法誤差を抑えるような修正をかけることができ、型を作り直す必要がないため、生産性が向上し生産コストを低減することができる。特に、位置決め装置50を3つの突き当て装置51で構成してチルト補正を可能にした場合、ウェハーレンズWLの位置による厚みの差を少なくし、光学素子15の厚みtのバラツキをさらに低減することができる。
 以上説明した第1実施形態の製造方法及び製造装置によれば、成形型91と透明基板95との間隔を調節するために、成形型91と別体として設けられた位置決め装置50を用いるので、間隔調整用の凸部を成形型91に設ける必要がなくなり、透明基板95の厚みに関わらず光学面Pdを基準とする光学素子15の厚みを設定することができるようになる。これにより、所期の特性を有する、すなわち光学的諸元の略均一な複数の光学素子15を備えるウェハーレンズWLを形成することができる。さらに、該ウェハーレンズWLを個片化することにより、光学的諸元の略均一な光学素子15を容易に大量に製造することができる。
 〔第2実施形態〕
 以下、第2実施形態に係るウェハーレンズの製造装置について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の製造装置の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 図6A及び6Bは、第2実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置等を説明する平面図及び側方断面図である。図示の位置決め装置250は、2つの突き当て装置251を有しており、両突き当て装置251は、第1取り付け部10に固定された成形型91を挟むように水平方向に対向して配置されている。
 各突き当て装置251は、第1取り付け部10から突起するブロック部252と、ブロック部252を駆動して変位させる変位装置53とを備える。ブロック部252は、成形型91側に設けられており、透明基板95の配置の基準となる第2取り付け部20のバックプレート21の表面21aに突き当てられる間隔調整用の突き当て部材として機能する。ブロック部(突き当て部材)252は、例えばXZ方向に延びる部材であり、変位装置53に駆動されて姿勢を保ったままでZ方向に昇降移動する。
 一対の突き当て装置251は、伸縮駆動部59(図1参照)に駆動されて互いに同期して動作し、2つのブロック部252をZ方向に同様に昇降させる。これにより、図4Bの場合と同様に、第1取り付け部10と第2取り付け部20とを互いに近接させた場合に、第1取り付け部10と第2取り付け部20との間隔d、延いては透明基板95の厚みのバラツキに関わらず光学素子15の厚みtを精密に調整することができる。このように構成することで、突き当て部材の当接部が線状となり、耐摩耗性等の耐久性を向上させることができる。
 〔第3実施形態〕
 以下、第3実施形態に係るウェハーレンズの製造装置について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の製造装置の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 図7A及び7Bは、第3実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置等を説明する平面図及び側方断面図である。図示の位置決め装置350は、単一の突き当て装置351で構成されている。この突き当て装置351は、第1取り付け部10から突起する複数のロッド部352と、これらロッド部352を駆動して変位させる複数の変位装置53と、複数のロッド部352の先端52aに固定された環状の当接部材54とを備える。当接部材54は、昇降に際して成形型91と干渉することを避けるため、成形型91の直径よりもひとまわり大きな開口OPを有する。当接部材54は、成形型91側に設けられており、透明基板95の配置の基準となる第2取り付け部20のバックプレート21の表面21aに突き当てられる間隔調整用の突き当て部材として機能する。
 突き当て装置351は、図1の伸縮駆動部59に駆動されて動作し、当接部材(突き当て部材)54をZ方向に同様に昇降させる。これにより、図4Bの場合と同様に、第1取り付け部10と第2取り付け部20とを互いに近接させた場合に、第1取り付け部10と第2取り付け部20との間隔d、延いては透明基板95の厚みのバラツキに関わらず光学素子15の厚みtを精密に調整することができる。このように構成することで、突き当て部材の当接部が面状となり、耐摩耗性等の耐久性を向上させることができる。
 〔第4実施形態〕
 以下、第4実施形態に係るウェハーレンズの製造装置について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の製造装置の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 図8A及び8Bに示すように、第4実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置450は、第2取り付け部(基板支持部)20側に設けられている。位置決め装置450を構成する複数の突き当て装置451は、図1等に示す第1実施形態の突き当て装置51と同様の構造を有するが、第2取り付け部(基板支持部)20の基部22に埋め込むように固定されている。各突き当て装置451のロッド部52は、図8Bに示すような成形型91と透明基板95との位置合わせに際して、成形型91の配置の基準となる第1取り付け部10の基部11の表面11aに突き当てられる間隔調整用の突き当て部材として機能する。
 第4実施形態の場合、成形型91の裏面91bと透明基板95の裏面95bとの間隔を調節するために、位置決め装置450を第2取り付け部(基板支持部)20側に設けており、これによっても、透明基板95の厚みのバラツキに関わらず光学素子15の厚みtを所望の値に調整することができる。このように構成しても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
 なお、図8A及び8Bに示した例では、突き当て装置451に設けたロッド部52の先端52aを基部11の表面11aに突き当てているが、種々の変形が可能である。
 図9A及び9Bは、第4実施形態の製造装置の変形例を説明する図である。
 図9Aに示す例は、突き当て装置451に設けたロッド部52の先端52aをバックプレート12の表面に突き当てた例である。また、図9Bに示す例は、突き当て装置451に設けたロッド部52の先端52aを成形型91を構成する透明基板92の表面に突き当てた例である。このように構成しても透明基板95の厚みのバラツキに関わらず光学素子15の厚みtを所望の値に調整することができる。
 〔第5実施形態〕
 以下、第5実施形態に係るウェハーレンズの製造装置について説明する。なお、本実施形態は、第1実施形態の製造装置の変形例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 図10A及び10Bに示すように、第5実施形態の製造装置に組み込まれる位置決め装置550は、第1取り付け部(型支持部)10と第2取り付け部(基板支持部)20との双方に設けられている。位置決め装置550を構成する第1の突き当て装置51は、第1取り付け部(型支持部)10側に設けられ、図1等に示す第1実施形態の突き当て装置51と同様の構造を有する。また、位置決め装置550を構成する第2の突き当て装置551は、第2取り付け部(基板支持部)20側に設けられ、図8A等に示す第4実施形態の突き当て装置451と同様の構造を有する。
 図10Bに示すような成形型91と透明基板95との位置合わせに際して、第1の突き当て装置51に設けた第1のロッド部(第1の突き当て部材)52の先端52aと、第2の突き当て装置551に設けた第2のロッド部(第2の突き当て部材)52の端部52aとが当接する。これにより、第1のロッド部52と第2のロッド部52の少なくとも一方の突出量を変化させることによって成形型91の裏面91bと透明基板95の裏面95bとの間隔を調節することができる。この際、第1の突き当て装置51に設けたロッド部52の先端52aは、平坦になっており、第2の突き当て装置551に設けたロッド部52の先端52aは、曲面の突起となっている。これにより、成形型91と透明基板95との位置合わせの信頼性を高めることができる。このように構成することで、第1取り付け部(型支持部)10と第2取り付け部(基板支持部)20との間隔の調整可能範囲を、一方に配置した場合よりも大きくすることができる。
 以下、上述の第1~第5実施形態に係るウェハーレンズの製造装置100を用いて透明基板95の両面に樹脂層を形成する工程について説明する。なお、以下に示す実施形態は、第1実施形態の製造装置100を用いた場合の例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 以下、図11~図12を参照して、透明基板95の両面に樹脂層を形成する場合のウェハーレンズWLの製造工程について説明する。
 まず、図11Aに示すように、第1取り付け部10に第1の成形型91を固定し、第2取り付け部20に透明基板95を固定する。この状態で、第1取り付け部10上に固定された第1の成形型91の表側に形成された各凹部DR及びその周辺に液状の光硬化型の樹脂剤RAをそれぞれ供給する。
 その後、図11Bに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。第2取り付け部20の降下は、バックプレート21の表面21aが位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに一定の力で当接するまで継続される。これにより、第1取り付け部10の表面12aと、第2取り付け部20の表面21aとの間隔dが規定される。このとき、予め、先端52aの位置を、成形型91の透明基板92の裏面91bから樹脂層93の表側面91aの厚みを勘案して調整しておくことで、成形型91の表側面91aから透明基板95の裏面95bまでの距離が目標値に設定される。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに透明基板95等を照明し、第1の成形型91と透明基板95との間であって凹部DR及びその周辺に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させて樹脂層部分RLとする。このような形状転写によって透明基板95上に多数の樹脂層部分RLを形成したものは、ウェハーレンズWLの半製品SPとなっている(図11C参照)。半製品SPにおいて、複数の樹脂層部分RLを併せた全体は、透明基板95の表側面95aを覆う第1の樹脂層94となっている。
 次に、図11Cに示すように、第1取り付け部10による第1の成形型91の吸着を解除し、昇降装置40により第2取り付け部20を上昇させとともに、第2取り付け部20による透明基板95すなわち半製品SPの吸着を解除し、半製品SPの表裏を反転させて第2取り付け部20に再度吸着させる。これにより、第1の成形型91を介して半製品SPが第2取り付け部20に固定される。さらに、第1取り付け部10に第2の成形型691を固定する。この状態で、第1取り付け部10上に固定された第2の成形型691の表側に形成された各凸部PR及びその周辺に液状の光硬化型の樹脂剤RAをそれぞれ供給する。なお、次の工程の準備のため、位置決め装置50に設けた各突き当て装置51のロッド部52の先端52aの高さ位置が上方に修正される。このとき、先端52aの位置は、第2の成形型691の透明基板92の裏面91bから樹脂層93の表側面91aの厚みを勘案して調整される。
 その後、図12Aに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。第2取り付け部20の降下は、バックプレート21が位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに一定の力で当接するまで継続される。これにより、第1取り付け部10の表面12aと、第2取り付け部20の表面21aとの間隔dが規定される。つまり、第2の成形型691の裏面91bと第1の成形型91の裏面91bとの間隔が規定される。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに半製品SP等を照明し、第2の成形型691と半製品SPとの間であって凸部PR及びその周辺に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させて樹脂層部分RLとする。このような形状転写によって透明基板95の両表面95a,95b上に多数の樹脂層部分RLを形成したものは、ウェハーレンズWLとなっている。ウェハーレンズWLの第2の成形型691側において、複数の樹脂層部分RLを併せた全体は、透明基板95の裏面95bを覆う第2の樹脂層694となっている(図12B参照)。
 その後、第2取り付け部20による第1の成形型91の吸着を解除して上昇させ(図12B参照)、第1取り付け部10による第2の成形型691の吸着を解除して、ウェハーレンズWLを成形型91,691とともに製造装置100外に取り出すとともに成形型91,691からウェハーレンズWLを分離する(図12C参照)。
 このようにして得たウェハーレンズWLは、樹脂層部分RLの間の位置で切断され、個々の樹脂層部分RLに対応する光学素子15に個片化される。
 このように、本実施の形態に係るウェハーレンズ製造装置は、片面に光学素子部を有する樹脂層を形成する場合のみならず、両面に形成する場合にも適用可能であり、より汎用性を有したものとすることができる。
 以上の説明では、第1実施形態の製造装置100を用いた例で説明したが、第2~第5実施形態で説明した製造装置100を用いても、同様の工程で透明基板95の両面に樹脂層を形成することができる。
 以下、上述の第1~第5実施形態に係るウェハーレンズの製造装置100を用いて複数の光学面を有する樹脂層を透明基板95の両面に形成すると共にスペーサー98を形成する工程について説明する。なお、以下に示す実施形態は、第1実施形態の製造装置100を用いた場合の例であり、特に説明しない部分又は事項は、第1実施形態の場合と同様である。
 以下、図13~図15を参照して、複数の光学面を有する樹脂層を透明基板95の両面に形成すると共にスペーサー98を形成するウェハーレンズWLの製造工程について説明する。
 まず、図13Aに示すように、第1取り付け部10に第1の成形型91を固定し、第2取り付け部20に透明基板95を固定する。この状態で、第1取り付け部10上に固定された第1の成形型91の表側に形成された各凹部DR及びその周辺に液状の光硬化型の樹脂剤RAをそれぞれ供給する。
 その後、図13Bに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。第2取り付け部20の降下は、バックプレート21が位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに一定の力で当接するまで継続される。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに透明基板95等を照明し、第1の成形型91と透明基板95との間であって凹部DR及びその周辺に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させて樹脂層部分RLとする。このような形状転写によって透明基板95上に多数の樹脂層部分RLを形成したものは、ウェハーレンズWLの半製品SPとなっている。半製品SPにおいて、複数の樹脂層部分RLを併せた全体は、透明基板95の表側面95aを覆う第1の樹脂層94となっている。
 次に、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を上昇させて、第1の成形型91と透明基板95を取り出し、成形型91を分離して半製品SP単体とする。その後、図13Cに示すように、第2取り付け部20のバックプレート21に、格子状のスペーサー98の裏面98b側を吸着固定し、第1取り付け部10のバックプレート12に、半製品SPの透明基板95の裏面95b側を固定する。この状態で、第2取り付け部20に固定されたスペーサー98の下端面98a又は第1取り付け部10上に固定された半製品SPの樹脂層部分RLの周囲部分に液状の光硬化型の樹脂剤QAを薄く塗布する。スペーサー98は、樹脂層94を構成する樹脂層部分RLとの干渉を回避するため、貫通孔98cを有する。なお、次の工程の準備のため、位置決め装置50に設けた各突き当て装置51のロッド部52の先端52aの高さ位置が下方に修正される。このとき、先端52aの位置は、半製品SPの透明基板95の裏面95bからスペーサー98の裏面98bまで(すなわちバックプレート21の表面まで)が所望の距離となるよう調整される。
 その後、図14Aに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。第2取り付け部20の降下は、バックプレート21が位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに一定の力で当接するまで継続される。これにより、スペーサー98の下端面98aと半製品SPの表側面とが近接し、透明基板95の裏面95bからスペーサー98の裏面98bまでが所望の距離となった位置で第2取り付け部20が停止する。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに透明基板95等を照明し、スペーサー98の下端面98aと半製品SPの表側面との間に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤QAを硬化させる。これにより、半製品SP上にスペーサー98が固定された半製品SP2が形成される。このとき、先端52aの位置を上述の位置に調整してあるため、スペーサー98の厚みにバラツキがあっても、その誤差は樹脂剤RAの厚み変化で吸収され、透明基板95の裏面95bからスペーサー98の裏面98bまでの距離が正確に規定された半製品SP2とすることができる。
 次に、図14Bに示すように、第1取り付け部10による半製品SP2の吸着を解除し、昇降装置40により第2取り付け部20とともに半製品SP2を上昇させる。さらに、第1取り付け部10に第2の成形型691を固定する。この状態で、第1取り付け部10上に固定された第2の成形型691の表側に形成された各凸部PR及びその周辺に液状の光硬化型の樹脂剤RAをそれぞれ供給する。なお、次の工程の準備のため、位置決め装置50に設けた各突き当て装置51のロッド部52の先端52aの高さ位置が上方に修正される。このとき、先端52aの位置は、第2の成形型691の透明基板92の裏面91bから樹脂層93の表側面91aの厚みを勘案して調整される。
 その後、図14Cに示すように、昇降装置40を動作させて第2取り付け部20を降下させる。第2取り付け部20の降下は、バックプレート21が位置決め装置50を構成する各突き当て装置51のロッド部52の先端52aに一定の力で当接するまで継続される。これにより、第1取り付け部10の表面12aと、第2取り付け部20の表面21aとの間隔dが規定される。つまり、第2の成形型691の裏面91bとスペーサー98の裏面98bとの間隔が規定される。
 次に、図1に示す光源部70を動作させて第1取り付け部10越しに半製品SP2等を照明し、第2の成形型691と半製品SP2との間であって凸部PR及びその周辺に局所的に満たされた光硬化型の樹脂剤RAを硬化させて樹脂層部分RLとする。このような形状転写によって透明基板95の両表面95a,95b上に多数の樹脂層部分RLを形成したものは、ウェハーレンズWLとなっている。ウェハーレンズWLの第2の成形型691側において、複数の樹脂層部分RLを併せた全体は、透明基板95の裏面95bを覆う第2の樹脂層694となっている。
 その後、第1取り付け部10による第2の成形型691の吸着を解除して第2取り付け部20を上昇させ(図15A参照)、第2取り付け部20によるスペーサー98の吸着を解除して、ウェハーレンズWLを成形型691とともに製造装置100外に取り出すとともに、成形型691からウェハーレンズWLを分離する(図15B参照)。
 このようにして得たウェハーレンズWLは、スペーサー98の位置で切断され、破線で示すような個々の樹脂層部分RLに対応する光学素子15に個片化される。
 このように、本実施の形態に係るウェハーレンズ製造装置は、両面に光学素子部を有する樹脂層を形成する場合のみならず、更にスペーサー98を形成する場合にも適用可能であり、極めて汎用性を有したものとすることができる。
 以上の説明では、第1実施形態の製造装置100を用いた例で説明したが、第2~第5実施形態で説明した製造装置100を用いても、同様の工程で透明基板の両面に樹脂層を形成すると共にスペーサー98を形成することができる。
 なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
 例えば、上記実施形態において、ウェハーレンズWLや光学素子15が形成されている樹脂層94や樹脂層部分RLの形状は単なる例示であり、光学素子15の用途や積層等を考慮して適宜設定することができる。また、樹脂層94は、光学素子15ごとに分離されたものに限らず、ウェハーレンズWL全体に切れ目なく形成されるものであってもよい。
 また、上記実施形態においては、樹脂層94等が光硬化型の樹脂剤RAで形成されるものとし、光照射で樹脂剤RAを硬化させたが、光照射に加えて加熱により硬化を促進させてもよい。また、光硬化型の樹脂剤RAに代えて、熱硬化型の樹脂等の他のエネルギー硬化性樹脂によって樹脂層94、694等を形成することもできる。
 上記実施形態においては、位置決め装置50によって、成形型91の裏面91bと透明基板95等の裏面95bとの間隔を調整しているが、これら以外の間隔を調整することもできる。位置決め装置50は、成形型91、透明基板95等から独立して設けられており、成形型91や透明基板95の表面形状の制約を受けない間隔調整を可能にする。
 上記実施形態においては、突き当て装置51を成形型91や透明基板95の周囲に設けているが、成形型91や透明基板95に貫通孔を設けるならば、成形型91や透明基板95の内側に突き当て装置51を配置することもできる。この場合、間隔調整の信頼性や安定性を高めることができる。
 図3等に示す突き当て装置51の構造は単なる例示であり、ロッド部52を高い精度で安定して昇降させることができれば、様々な機構を用いることができる。
 なお、透明基板95の厚さバラツキが問題にならない程度に小さい場合には、突き当て装置51のロッド部52を突き当てる対象は、バックプレート12,21の表面に限らず、様々な基準位置とできる。たとえば、図16に示すように、透明基板95の表側面95aの外周に転写面でない部分を設け、非転写面部分にロッド部52の端部52aを突き当てることによって、成形される光学面の表面から透明基板95の表面までの厚さを正確に規定するだけで光学的諸元が揃った光学素子が形成されたウェハーレンズを得ることが可能になる。

Claims (12)

  1.  透光性を有する平板状の基板の少なくとも一方の面上に、成形型を用いた転写により複数の光学面を有する樹脂層を形成するウェハーレンズの製造方法であって、
     前記基板上に前記成形型により前記複数の光学面を成形する際、
     前記成形型とは別体で、前記基板を支持する基板支持部の側及び前記成形型を支持する型支持部の側の少なくとも一方の側に設けられ、前記基板支持部と前記型支持部とが近接した際に他方の側に突き当たる突き当て部材を有する位置決め装置を用いて、前記成形型と前記基板との間隔を調節するウェハーレンズの製造方法。
  2.  前記位置決め装置による前記成形型と前記基板との間隔が、前回に形成されたウェハーレンズの寸法誤差に基づいて修正される、請求項1に記載のウェハーレンズの製造方法。
  3.  前記位置決め装置は、前記型支持部の側及び前記基板支持部の側の双方に設けられ、前記型支持部の側に設けられた第1の突き当て部材と、前記基板支持部の側に設けられた第2の突き当て部材とを有し、
     前記第1の突き当て部材と前記第2の突き当て部材との少なくとも一方の突出量を変化させることによって前記成形型と前記基板との間隔を調節する、請求項1又は2に記載のウェハーレンズの製造方法。
  4.  透光性を有する平板状の基板を支持する基板支持部と、
     前記基板に対向して配置され、前記基板の一方の面上に複数の光学面を有する樹脂層を転写により成形するための成形型を支持する型支持部と、
     前記基板支持部と前記型支持部とを近接及び離間させる昇降装置と、
     前記成形型とは別体で、前記基板支持部の側及び前記型支持部の側の少なくとも一方の側に設けられ、前記昇降装置により前記基板支持部と前記型支持部とが近接させられた際に、他方の側に突き当てられて前記成形型と前記基板との間隔を調節する突き当て部材を有する位置決め装置と
    を有するウェハーレンズの製造装置。
  5.  前記位置決め装置は、前記型支持部の側に設けられ、前記突き当て部材は、前記基板の配置の基準となる所定面に突き当てられる、請求項4に記載のウェハーレンズの製造装置。
  6.  前記突き当て部材は、前記基板を背後から支持するバックプレートの表面に突き当てられる、請求項5に記載のウェハーレンズの製造装置。
  7.  前記位置決め装置は、前記基板支持部の側に設けられ、前記突き当て部材は、前記成形型を構成する樹脂層を避けた所定面に突き当てられる、請求項4に記載のウェハーレンズの製造装置。
  8.  前記位置決め装置は、前記基板及び前記成形型の周囲3か所に配置され、前記突き当て部材の突出量を個別に変更可能にする、請求項4から7までのいずれか一項に記載のウェハーレンズの製造装置。
  9.  前記位置決め装置は、前記型支持部の側及び前記基板支持部の側の双方に設けられ、前記型支持部の側に設けられた第1の突き当て部材と、前記基板支持部の側に設けられた第2の突き当て部材とを有し、前記第1の突き当て部材と前記第2の突き当て部材とを互いに突き合わせる、請求項4に記載のウェハーレンズの製造装置。
  10.  前記位置決め装置は、前記第1の突き当て部材と前記第2の突き当て部材との少なくとも一方の突出量を変化させることによって前記成形型と前記基板との間隔を変更する、請求項9に記載のウェハーレンズの製造装置。
  11.  請求項1に記載のウェハーレンズの製造方法によって製造したウェハーレンズを個片化することによって得た光学素子。
  12.  請求項4に記載のウェハーレンズの製造装置によって製造したウェハーレンズを個片化することによって得た光学素子。
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