WO2012128198A1 - 光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置 - Google Patents
光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2012128198A1 WO2012128198A1 PCT/JP2012/056821 JP2012056821W WO2012128198A1 WO 2012128198 A1 WO2012128198 A1 WO 2012128198A1 JP 2012056821 W JP2012056821 W JP 2012056821W WO 2012128198 A1 WO2012128198 A1 WO 2012128198A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- light
- assisted magnetic
- magnetic head
- mirror
- optical element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
- G11B5/314—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure where the layers are extra layers normally not provided in the transducing structure, e.g. optical layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6088—Optical waveguide in or on flying head
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B2005/0002—Special dispositions or recording techniques
- G11B2005/0005—Arrangements, methods or circuits
- G11B2005/0021—Thermally assisted recording using an auxiliary energy source for heating the recording layer locally to assist the magnetization reversal
Definitions
- the present invention relates to an optically assisted magnetic recording head and an optically assisted magnetic recording apparatus, and more specifically, enables extremely high density magnetic recording by performing magnetic recording by heating and heating a magnetic recording medium by light irradiation.
- the present invention relates to an optically assisted magnetic recording head and an optically assisted magnetic recording apparatus.
- a method for generating near-field light a method in which light from a light source is guided to a plasmon probe fabricated in a minute shape and the plasmon probe generates a near-field is the mainstream.
- the means using the optical fiber is to irradiate the plasmon probe with the light emitted from the light emitting end of the optical fiber combined with the light from the light source through the prism having a reflection function.
- the means using the lens optical system is to collimate the light from the light source with the lens and to irradiate the plasmon probe by using a transparent condensing medium which is a reflecting means having a convergence function.
- the light reflected by the prism is irradiated to the plasmon probe, so that the plasmon probe is irradiated when the prism is slightly deviated from the ideal position. There is a risk that the intensity of the emitted light will fall.
- the spot diameter of the collected light is as small as several ⁇ m, so even if the angle of the transparent condensing medium is slight, If the position is shifted, the position of the spot is shifted from the position of the plasmon probe, and the intensity of the near-field light is reduced.
- the present invention greatly reduces the accuracy of the process of guiding the light from the light source to the plasmon probe, improves the mass productivity by shortening the manufacturing time and improving the yield, and is resistant to environmental changes and changes over time.
- An object is to provide an assist magnetic head and an optically assisted magnetic recording apparatus.
- An optically assisted magnetic head comprising a light source and an optical waveguide in which light from the light source is coupled and a plasmon probe is disposed at an emission end, In the optical path from the light source to the optical waveguide, an optical element that includes a plurality of mirror surfaces and bends the direction of light emitted from the light source by a predetermined angle by reflection on the plurality of mirror surfaces, An optically assisted magnetic head characterized in that light emitted from the optical element is directly coupled to the optical waveguide.
- the optical element includes a first mirror surface and a second mirror surface, 3.
- the optically assisted magnetic head as described in 1 or 2 above, wherein light from the light source reflects the first mirror surface and the second mirror surface in this order.
- optically assisted magnetic head according to claim 1, wherein the optical element is a prism, and each of the mirror surfaces is an inner surface of the prism.
- optically assisted magnetic head according to claim 1, wherein the optical element is a prism, and each of the mirror surfaces is an outer surface of the prism.
- the optical element comprises a plurality of mirrors; 4.
- the optical element is a prism having a first mirror surface and a second mirror surface on the inner surface, and light from the light source reflects the first mirror surface and the second mirror surface in this order,
- the predetermined angle is ⁇
- an angle formed by a surface on which light enters the prism and a surface on which light is emitted from the prism is (180 ° ⁇ ), and the first mirror surface and 2.
- the optically assisted magnetic head as described in 1 above, wherein the optically assisted magnetic head has a size twice the angle formed by the second mirror surface.
- An optically assisted magnetic recording apparatus comprising the optically assisted magnetic head according to any one of 1 to 8 above.
- An optically assisted magnetic recording apparatus can be provided.
- FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an optically assisted magnetic recording apparatus equipped with an optically assisted magnetic head 3.
- FIG. 3 is an exploded perspective view of the optically assisted magnetic head 3 and the head support portion 4.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the optically assisted magnetic head 3 of FIG. 2 as viewed in the direction of an arrow by cutting along a plane including an II line.
- 3 is a perspective view of an optical element 31.
- FIG. It is a schematic diagram of the planar waveguide 32a.
- FIG. 4A is an example of an optical path diagram of the optical element 31.
- FIG. 5A is an optical path diagram when the light incident angle is changed
- FIG. 5B is an optical path diagram when the optical element is rotated
- FIG. 5F is an optical path diagram of the projection of the prism 311 ′ onto the yz plane when the prism 311 ′ having the roof mirror DM rotates on the yz plane.
- it is an optical path diagram to the planar waveguide 32a when the diffraction grating G1 is formed on one surface of the prism 311.
- FIG. 6 is an optical path diagram showing another example (a) and (b) of the optical element 31.
- FIG. 2A is a cross-sectional view of the function of the lens group 50, in which FIG. 2A is a cross-sectional view of the optically assisted magnetic head 3 of FIG. (B) is an optical path diagram of the LD 33, (c) is an optical path diagram of the lens group 50 viewed from the z direction, and (d) is an optical path diagram of the lens group 50 viewed from the x direction. It is a figure for demonstrating step 1, 2, 3 of the manufacturing method of the prism 312 using anisotropic etching.
- FIG. 6 is a cross-sectional view of an optically assisted magnetic head 8 according to a second embodiment, cut along a plane including the line II in FIG. It is a schematic diagram of the planar waveguide 32b.
- FIGS. 3 and 9A It is a schematic diagram of the incident end of the planar waveguide 32b. It is sectional drawing of the prism 311 which concerns on an Example. It is sectional drawing of the mirror 80 which concerns on a comparative example. The state where the lens 29 or the lens group 50 is omitted from the optically assisted magnetic head 3 shown in FIGS. 3 and 9A is shown.
- FIG. 1 shows a schematic configuration of an optically assisted magnetic recording device (for example, a hard disk device) 1 equipped with an optically assisted magnetic head 3.
- an optically assisted magnetic recording device for example, a hard disk device
- the optically assisted magnetic recording apparatus 1 includes a plurality of rotatable disks (magnetic recording media) 2 for recording, a head support unit 4, a tracking actuator 6, an optically assisted magnetic head 3, and a drive device (not shown). Are provided in the housing 1A.
- the head support portion 4 is provided to be rotatable in the direction of arrow A (tracking direction) with the support shaft 5 as a fulcrum.
- the optically assisted magnetic head 3 is an optical head that uses light for information recording on the disk 2.
- the tracking actuator 6 is attached to the head support 4.
- the optically assisted magnetic head 3 is attached to the tip of the head support 4.
- a drive device (not shown) rotates the disk 2 in the direction of arrow B.
- the optically assisted magnetic recording apparatus 1 is configured such that the optically assisted magnetic head 3 can move relative to the upper surface (or lower surface) of the disk 2 while floating.
- FIG. 2 is an exploded perspective view of the optically assisted magnetic head 3 and the head support 4.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the optically assisted magnetic head 3 of FIG. 2 cut along a plane including the line II and viewed in the direction of the arrow.
- the head support portion 4 includes a suspension arm 41 having one end attached to the support shaft 5 and a flexure (plate spring) 44.
- the suspension arm 41 and the flexure 44 are fixed by welding or the like.
- a rectangular opening 42 is formed at the tip of the suspension arm 41.
- a pivot (protruding portion) 43 that protrudes toward the inside of the opening 42 is provided on one side of the opening 42.
- a rectangular opening 45 is formed at the tip of the flexure 44.
- a tongue piece 46 having a flat surface protrudes from one side of the opening 45 so as to protrude into the inside.
- the tongue piece portion 46 has a joint surface 46a that is projected to be inclined with respect to the opening portion 42 and then bent so as to be substantially horizontal.
- the optically assisted magnetic head 3 includes a slider 32, a rectangular plate-shaped LD 33 disposed on the slider 32, a lens 29, a planar waveguide 32a (optical waveguide), and the optical element 31 according to the present invention.
- the lower surface of the joint surface 46 a of the flexure 44 is bonded to the upper surface of the LD 33 so that the optically assisted magnetic head 3 is fixed to the tip of the suspension arm 41. I can't.
- the planar waveguide 32 a is provided below the optical element 31 and on the side surface of the slider 32.
- a magnetic recording unit and a magnetic reproducing unit (not shown) are provided in the vicinity of the planar waveguide 32a.
- the LD 33 emits light used for information recording on the disk 2.
- the LD 33 is arranged with the laser beam exit 33 a facing the first mirror surface M 1 of the optical element 31.
- the wavelength of light emitted from the LD 33 is preferably from visible light to near infrared.
- the specific wavelength band is about 0.6 ⁇ m to 2 ⁇ m, and more specific wavelengths include 650 nm, 830 nm, 1310 nm, 1550 nm, and the like.
- the lens 29 has a function of condensing the light from the LD 33 in at least one direction on the vertical plane of the same optical axis, reduces the divergence angle of the light from the LD 33, makes parallel light, converges light, etc. It has the function of.
- FIG. 4 is a perspective view of the optical element 31.
- an optical element 31 is a reflection optical system including a first mirror surface M1 and a second mirror surface M2 that reflect light.
- the present invention is not limited to the pentaprism as shown in FIG. Details of the optical element 31 will be described later.
- the surface of the slider 32 facing the disk 2 (the lower surface in FIG. 3) is an air bearing surface (ABS: Air Bearing Surface) for improving the floating characteristics, and forms a groove 32g for capturing the floating air.
- ABS Air Bearing Surface
- FIG. 5 is a schematic diagram of the planar waveguide 32a
- FIG. 5 (a) is a schematic diagram of the planar waveguide 32a viewed from the y direction
- FIG. 5 (b) is a planar waveguide viewed from the x direction. It is a schematic diagram of the waveguide 32a.
- the planar waveguide 32a includes a waveguide W having a condensing function by a curved reflecting surface having a partially elliptical shape, and a coupling portion d1 for coupling light to the waveguide W.
- the coupling part d1 is a diffractive functional element that generates diffracted light.
- the diffraction function element is an optical element that generates diffracted light, and for example, a diffraction grating (grating) is preferably used.
- grating diffraction grating
- the waveguide W is composed of a high refractive index layer HL stacked on a substrate and a low refractive index layer LL stacked around the high refractive index layer HL.
- the boundary surface between the high refractive index layer HL and the low refractive index layer LL forms a part of a substantially elliptical surface.
- the guided light is condensed by the reflection action at the interface between the high refractive index layer HL and the low refractive index layer LL.
- the interface between the high refractive index layer HL and the low refractive index layer LL is configured to cause total reflection due to the difference in refractive index. Since the boundary surface forms a part of a substantially elliptical surface, when divergent light enters the planar waveguide 32a, a light source image is formed at the focal position of the substantially elliptical surface. That is, in the planar waveguide 32a, a laser beam can be condensed in one direction by a mirror effect using total reflection, and a minute light spot can be formed.
- the high refractive index layer HL and the low refractive index layer LL may have a structure that gives a difference in refractive index depending on the refractive index of the material, or a structure that gives a difference in equivalent refractive index. . Therefore, even if the refractive index of the material of the high refractive index layer HL and the low refractive index layer LL is the same, changing the thickness of the waveguide layer gives a difference in the equivalent refractive index and reflects the guided light. It is also possible.
- FIG. 6 is an example of an optical path diagram of the optical element 31.
- 6A is an optical path diagram when the light incident angle is changed
- FIG. 6B is an optical path diagram when the optical element 31 is rotated
- FIG. 6C is an optical path diagram.
- FIG. 11 is an optical path diagram when the element 31 is an internally reflecting prism 311.
- FIG. 6D is an optical path diagram in the case where the optical element 31 is an external reflection prism 312.
- the optical element 31 is a reflection optical system that includes two or more mirror surfaces and bends the direction of light emitted from the light source by a predetermined angle.
- the optical element 31 has a function of reflecting incident light twice in order.
- the optical element 31 includes two mirrors, a mirror M11 and a mirror M22.
- the mirror M11 and the mirror M22 are drawn as planes, but may be curved surfaces.
- the mirror M11 and the mirror M22 are arranged so as to form a crossing angle of the mirror having an angle ⁇ 2 on the yz plane in the coordinate system of FIG.
- a light source not shown
- the light L1 is reflected by the mirror M11 and the mirror M22 in this order, and becomes light L3.
- the angle formed by the light L1 and the light L3, that is, the bending angle ⁇ 1 and the angle ⁇ 2 have the relationship of the following relational expression (1).
- the mirror M11 rotates around the rotation axis (not shown) and is arranged at the position of the mirror M11 ′, and the mirror M22 rotates around the rotation axis to mirror the mirror. Even if it is arranged at the position of M22 ′, it can be said that the angle formed by the light L1 and the light L3 in which the light L1 mirror sequentially reflects M11 ′ and the mirror M22 ′ is constant.
- the angle ⁇ 1 is desired to be 80 °
- the angle ⁇ 2 is 50 ° from the relational expression (1).
- ⁇ 1 90 °.
- the optical element 31 having such a function, even if the optical element 31 rotates in the yz plane, the light bending angle does not change, and the positional deviation of the light with respect to the planar waveguide 32a hardly occurs.
- the mirror M11 and the mirror M22 are curved surfaces.
- the mirror M11 and the mirror M22 are not limited to planes.
- optical element 31 having such a function an element obtained by integrating the two mirrors M11 and M22 shown in FIG. 6A with a holding structure (not shown) may be used, or a prism shape may be used.
- the prism-shaped optical element 31 preferably employs one of the two shapes described below.
- the first prism 311 is shown in FIG. 4 and is a type that reflects incident light on the inner surface.
- the prism 311 includes a first mirror surface M1 and a second mirror surface M2 corresponding to the mirror M11 and the mirror M22, respectively.
- the surface on which the light L1 enters the prism 311 is S1, the surface on which the light L3 exits the prism 311 is S2, the angle at which the light L1 enters the surface S1 is ⁇ 3 , and the angle at which the light L3 exits the surface S2 is ⁇ 4.
- ⁇ 3 is 90 °
- ⁇ 4 is also 90 °.
- the wavelength of light from the light source may fluctuate due to environmental temperature changes or drive current changes. Therefore, in the prism 311 as well, it is necessary to consider that the emission direction of the light L3 emitted from the prism 311 does not change when the wavelength variation occurs in the incident light L1.
- the angle K1 sandwiched between the surfaces S1 and S2 may be 180 ° ⁇ 1 .
- ⁇ 3 and ⁇ 4 are not 90 °, the direction of change of ⁇ 3 and ⁇ 4 is reversed even when ⁇ 3 and ⁇ 4 are changed due to the change of the wavelength of the light L1.
- ⁇ 3 and ⁇ 4 may be set. This is also desirable because the position of the light coupled to the planar waveguide 32a is stabilized.
- the prism 311 is a type that internally reflects incident light twice, but may be a prism 311 ′ having a roof mirror DM as shown in FIG.
- the Dach mirror DM may be used for either the first mirror surface M1 or the second mirror surface M2.
- a roof mirror DM is used instead of the second mirror surface M2.
- the Dach mirror DM is a roof-type mirror having two mirrors DM1 and DM2.
- FIG. 6F shows an optical path diagram of projection of the prism 311 ′ onto the yz plane when the prism 311 ′ including the roof mirror DM rotates on the yz plane.
- the light reflection function can be regarded as one time in the roof mirror DM. Therefore, in the prism 311 ′ including the roof mirror DM, it can be considered that the light is reflected once twice by the first mirror surface M 1 and once by the roof mirror DM once in the yz plane.
- the second prism 312 is a type that reflects incident light to the outside.
- the prism 311 in FIG. 6C is a prism having a first mirror surface M1 and a second mirror surface M2 corresponding to the mirror M11 and the mirror M22 on the inner surface, but the prism 312 is shown in FIG. As described above, the prism includes a first mirror surface M1 and a second mirror surface M2 corresponding to the mirror M11 and the mirror M22 on the outer surface.
- the angle ⁇ 2 of the crossing angle of the mirror is less likely to change due to environmental changes and secular changes, and is stable.
- FIG. 7 is an optical path diagram to the planar waveguide 32a when the diffraction grating G1 is formed on one surface of the prism 311 as an example.
- the wavelength of light from a light source such as an LD may change due to an environmental temperature change or a drive current change.
- a diffraction grating is used for the coupling part d1 of the planar waveguide 32a, the incident angle from the diffraction grating to the waveguide W depends on the wavelength, so that the wavelength change of the light source leads to a change in the coupling efficiency to the waveguide W. It becomes a malfunction. Therefore, by forming the diffraction grating G1 on one surface of the prism 311, it is possible to cancel the diffraction angle change in the diffraction grating G1 at the time of wavelength change and the change in the incident angle to the waveguide W in the coupling part d1. Become.
- the diffraction grating G1 is set so that the diffraction angle ⁇ 2 is larger than the incident angle ⁇ 1. Then, for example, when the wavelength increases, ⁇ 2 increases, and the incident angle ⁇ of the light L3 with respect to the coupling portion d1 of the planar waveguide 32a decreases. However, since the wavelength is small, the angle at which the light L3 enters the waveguide W is large. As a result, the light L3 is coupled in the waveguide mode without being in the radiation mode in the waveguide W, and the coupling efficiency is kept constant.
- FIG. 8 is another example of an optical path diagram of the optical element 31.
- FIG. 8A shows another example of the arrangement of the mirror M11 and the mirror M22.
- the arrangement of the mirror M11 and the mirror M22 described with reference to FIG. 6A is such that the light L3 emitted from the optical element 31 is reflected in the direction of the light L1 incident on the optical element 31.
- the arrangement of the mirror M11 and the mirror M22 shown in FIG. 8A the light L3 emitted from the optical element 31 is emitted in the direction of the light L1 incident on the optical element 31.
- the angle ⁇ 1 of the bending angle and the angle ⁇ 2 have the relationship of the following relational expression (2).
- FIG. 8B is an example of an optical system of the optical element 31 having a function of reflecting incident light four times in order.
- the mirrors M11, M22, M3, and M4 can be arranged so that the angle formed by the light L3 and the light L1 is 90 degrees.
- a lens group 50 composed of a plurality of lenses may be adopted as will be described next.
- FIG. 9 is an explanatory diagram of the function of the lens group 50.
- FIG. 9A is a cross-sectional view of the optically assisted magnetic head 3 of FIG. 2 cut along a plane including the line II and viewed in the direction of the arrow when the lens group 50 is used.
- FIG. 9B is an optical path diagram of the LD 33.
- FIG. 9C is an optical path diagram when the lens group 50 is viewed from the z direction.
- FIG. 9D is an optical path diagram when the lens group 50 is viewed from the x direction.
- the lens group 50 includes a collimating lens 52 and a beam expander optical system 51.
- the beam expander optical system 51 includes a lens 51a that is a concave cylindrical lens and a lens 51b that is a convex cylindrical lens, and is an optical system that performs beam expansion only in one direction within the optical axis cross section of incident light.
- light from the exit 33a of the LD 33 is collimated by the collimating lens 52, diverged in the xy plane by the lens 51a, and collimated in the xy plane by the lens 51b.
- the light from the exit 33a of the LD 33 is collimated by the collimating lens 52, and the lens 51a and the lens 51b have no power in the xy plane.
- the light is emitted as it is.
- the light diameter in the xy plane and the light diameter in the yz plane can be shaped to a desired size. Accordingly, it is possible to optimize the utilization efficiency of light coupled to the planar waveguide 32a.
- the lens 29 or the lens group 50 between LD33 and the optical element 31 has been shown so far, the lens 29 or the lens group 50 does not necessarily need to be used as shown in FIG.
- FIG. 16 shows a state where the lens 29 or the lens group 50 is omitted from the optically assisted magnetic head 3 shown in FIGS. 3 and 9A. Also in the case of the optically assisted magnetic head 3 that does not use the lens 29, all the light rays that are emitted from the LD 29 and incident on the optical element 31 are fixed to each other, for example, in FIGS. 2 (a) to 2 (d). Even if the mirrors M11 and M22 are rotated in the yz plane, the light bending angle ⁇ 1 is not changed.
- the light emitted from the LD 33 is reflected twice by the optical element 31 as described above, folded back by a predetermined angle in the yz plane, deflected in the z direction, and condensed by the lens group 50, and reaches the coupling portion d1.
- the light enters the planar waveguide 32a.
- the planar waveguide 32a At the exit end of the planar waveguide 32a, light is sufficiently focused in both the x and y directions, and a plasmon probe (not shown) formed on the exit end face of the waveguide is irradiated to generate near-field light from the plasmon probe.
- the disk 2 is heated by the near-field light, the coercive force is lowered, and magnetic information is recorded by a magnetic recording unit (not shown).
- the disk 2 moves from the optically assisted magnetic head 3 and is cooled, the coercive force is restored and magnetic information is retained.
- the material of the optical element 31 is a transparent material such as plastic or glass.
- the optical element 31 is produced by, for example, injection molding, imprint manufacturing, extrusion molding, or glass molding.
- the resin for injection molding include polycarbonate (for example, AD5503, Teijin Chemicals Limited) and ZEONEX 480R (Nippon Zeon Corporation), which are thermoplastic resins.
- the resin for imprint manufacturing include PAK-02 (Toyo Gosei Co., Ltd.), which is a photocurable resin.
- FIG. 10 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the prism 312 using anisotropic etching.
- Anisotropic etching is a method for producing two surfaces that intersect at a predetermined angle by utilizing the fact that the etching rate differs for each crystal orientation plane in a crystal.
- a manufacturing method for manufacturing the optical element 31 having a prism angle of about 70.5 ° using single crystal silicon will be taken as an example.
- the ratio of the etching rates of ⁇ 100> and ⁇ 111> is 400: 1. With this speed ratio, two planes inclined relatively by 70.5 ° can be obtained.
- step 1 first, a single crystal silicon plate 60 having a crystal orientation of ⁇ 100> is prepared. Next, in addition to the etched surface, for example, a silicon nitride mask 61 is applied as an etching mask. In order to fabricate the silicon nitride mask 61, a single crystal silicon plate 60 is placed for a predetermined time under a high temperature in a nitrogen atmosphere, and silicon nitride is grown on the entire surface, and then the predetermined shape is etched by photolithography. To do.
- step 2 the intermediate produced in step 1 is immersed in a potassium hydroxide etching bath (not shown), and the single crystal silicon exposed from the silicon nitride mask 61 is anisotropically etched.
- step 3 the silicon nitride mask 61 is removed from the intermediate obtained in step 2 by etching, and then cut into a predetermined size using a dicing saw or the like. Through the above steps, the optical element 31 having a predetermined shape can be obtained.
- the manufacturing method of the optical element 31 having a prism angle of about 70.5 ° is taken as an example.
- the prism angle can be set variously depending on the orientation of the single crystal silicon. Single crystal silicon that matches the required prism angle may be used.
- the difference from the first embodiment is that direct coupling is performed as coupling of light to the waveguide.
- the coupling part d1 of the planar waveguide 32a in the first embodiment includes a diffraction function element. If a diffractive functional element is used for the coupling part d1, the light from the LD 33 can be easily coupled to the planar waveguide 32a with a rough assembly adjustment accuracy.
- the coupling part d1 since the coupling part d1 is directly coupled to the planar waveguide 32a without using a diffraction function element, adjustment accuracy is required, but since a diffraction function element is not used, it is necessary to manufacture a diffraction function element. Thus, an optically assisted magnetic head can be manufactured at low cost. Further, the coupling efficiency can be improved as compared with the case where the diffraction function element is used.
- FIG. 11 is a cross-sectional view of the optically assisted magnetic head 8 according to the second embodiment cut along a plane including the line II in FIG. 2 and viewed in the direction of the arrow.
- FIG. 12 is a schematic diagram of the planar waveguide 32b.
- FIG. 13 is a schematic view of the incident end of the planar waveguide 32b.
- optically assisted magnetic head 8 includes a planar waveguide 32b instead of the planar waveguide 32a, and the optical element 31 is directly disposed on the slider 32. It is a point.
- the planar waveguide 32b (optical waveguide) includes a high-refractive index layer HL and a low-refractive index layer LL stacked on a substrate, like the planar waveguide 32a.
- the waveguide structure and the function of condensing light are the same as those of the planar waveguide 32a.
- the planar waveguide 32b does not have the coupling portion d1 unlike the planar waveguide 32b, but instead includes an incident end 70 that performs direct coupling.
- the optical element 31 is disposed directly on the slider 32.
- the light from the LD 33 is bent by the optical element 31 at a predetermined angle of 90 °.
- the light coupling to the planar waveguide 32 b is perpendicularly incident on the incident end 70, and therefore a spot having a flatter cross section as compared with the case of the first embodiment.
- Beam shaping is performed to form
- the light emitted from the LD 33 passes through the lens group 50 and the optical element 31 and is condensed on the incident end 70 having a flat shape as shown in FIGS. Then, the light from the LD is beam-shaped by the lens group 50 so that the coupling efficiency to the incident end 70 is increased, and becomes a flat shape like the beam 500.
- the light emitted from the LD 33 is reflected twice by the optical element 31 as described above, folded back by a predetermined angle in the yz plane, deflected in the z direction, and condensed by the lens group 50, and incident on the planar waveguide 32b. Is done.
- the planar waveguide 32b At the exit end of the planar waveguide 32b, light is sufficiently narrowed in both the x and y directions, and a plasmon probe (not shown) formed on the exit end face of the waveguide is irradiated to generate near-field light from the plasmon probe.
- the disk 2 is heated by the near-field light, the coercive force is lowered, and magnetic information is recorded by a magnetic recording unit (not shown).
- the disk 2 is moved from the optically assisted magnetic head 8 and cooled, the coercive force is recovered and magnetic information is held.
- optical element 31 in the optically assisted magnetic heads 3 and 8 of the present invention examples are shown below.
- FIG. 14 is a cross-sectional view of the prism 311 according to the embodiment
- FIG. 15 is a cross-sectional view of a mirror 80 according to the comparative example.
- the unit of length in FIGS. 14 and 15 is ⁇ m.
- the optically assisted magnetic heads 3 and 8 are very small, and the prism 311 and the mirror 80 are also on the order of ⁇ m.
- Table 1 shows the calculation results of the values of the tilt angle and the shift amount of the reflected light when the prism 311 and the mirror 80 cause a mounting angle shift of 1 degree in the yz plane in both the example and the comparative example.
- the rotation axis O1 of the prism 311 in FIG. 14 is the intersection of the optical axis of the light and the surface S1 on which the light is incident.
- the rotation axis O2 of the mirror 80 in FIG. 15 is the intersection of the optical axis of the light and the reflection surface of the mirror 80.
- a shift amount of 0.87 ⁇ m is generated at the incident end of the planar waveguide with respect to the mounting angle deviation per degree.
- the shift amount is only 0.57 ⁇ m at the incident end of the planar waveguide with respect to the mounting angle deviation per degree.
- the thickness of the waveguide layer of the planar waveguide 32b depends on the refractive index difference of the cladding of the waveguide layer, but is several times the wavelength used. For example, when light having a wavelength of 830 nm is used, the thickness of the waveguide layer is several ⁇ m.
- the allowable value of the positional deviation of the optical axis of the light with respect to the optical axis of the waveguide layer needs to be suppressed within about 1 ⁇ m. Therefore, by adopting the prism 311 of this embodiment, it is possible to achieve the allowable value of this positional deviation.
- the area of the coupling part d1 provided with the diffraction grating is as wide as several tens of ⁇ m to 100 ⁇ m, as disclosed in paragraph [0046] of JP 2010-182394 A. Therefore, although the influence of the shift of the light beam in the coupling part d1 is not large, this embodiment is preferable in that the shift that deteriorates the light coupling efficiency can be reduced compared to the mirror 80.
- the influence of the tilt is larger than the influence of the shift for the coupling part d1 including the diffraction grating.
- the mirror 80 of the comparative example having a large tilt angle when the mounting angle is shifted by 0.25 degrees, the incident angle is shifted by 0.5 degrees from the optimum incident angle, and the coupling efficiency is reduced by 50%.
- the light flux can be guided to the waveguide at a predetermined incident angle without depending on the mounting angle deviation of the prism 311. Therefore, there is no change in the coupling efficiency, and the assembly adjustment at the time of manufacture is not required It becomes very easy to implement.
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
光源からの光をプラズモンプローブに導く工程の精度を大幅に緩和し、製造時間の短縮と歩留まりの改善を図ることで量産性を向上させると共に、環境変化や経時変化にも強い光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置を提供する。この光アシスト磁気ヘッドは、光源と、前記光源からの光が結合され出射端にプラズモンプローブが配置された光導波路とを備え、前記光源から前記光導波路への光路中に、複数のミラー面を備え前記光源から出射した光の方向を前記複数のミラー面での反射によって所定角度折り曲げる光学素子を有し、前記光学素子から出射した光を直接前記光導波路に結合させる。
Description
本発明は、光アシスト磁気記録ヘッド及び光アシスト磁気記録装置に関し、より詳細には、光照射により磁気記録媒体を加熱昇温して磁気記録を行うことにより極めて高密度な磁気的記録を可能とした光アシスト磁気記録ヘッド及び光アシスト磁気記録装置に関する。
ハードディスク装置の磁気記録密度を上げる方式として、光アシスト磁気記録方式が活発に研究されている。メディアを加熱するための光スポットを如何に微小に形成するかが記録密度を向上させる上で重要なポイントとなる。この点に関しては、近接場光を用いて数十nmのスポットサイズを実現する方向に固まってきた。
近接場光を発生させる手法としては、微小な形状に作製したプラズモンプローブに光源からの光を導き、このプラズモンプローブが近接場を発生させる方式が主流となっている。
プラズモンプローブは非常に微小であるため、光源からの光を如何なる手段を用いてプラズモンプローブに効率よく導くかが課題となっている。光源からの光をプラズモンプローブに導く手段としては、光ファイバを用いる手段(例えば特許文献1参照)や、レンズ光学系を用いる手段(例えば特許文献2参照)が提案されている。
光ファイバを用いる手段は、光源からの光が結合された光ファイバの光出射端から出射する光を、反射機能を備えるプリズムを介してプラズモンプローブに照射する、というものである。
また、レンズ光学系を用いる手段は、光源からの光をレンズで平行化し、収束機能を有する反射手段である透明集光用媒体を用いてプラズモンプローブに集光照射する、というものである。
特許文献1に開示されている光源からの光をプラズモンプローブに導く手段においては、プリズムにおいて反射された光がプラズモンプローブに照射されるので、該プリズムが理想位置から少しでもずれるとプラズモンプローブに照射される光の強度が落ちてしまう虞がある。
従って、該プリズムの組付時には非常に厳しい位置調整精度が要求され、製造時間の長時間化や歩留まり悪化が懸念される。
そのため、光源からの光をプラズモンプローブに導くかかる手段を用いた光アシスト磁気ヘッドの量産化の現実性は高くない。
また、特許文献2に開示されている光源からの光をプラズモンプローブに導く手段においては、集光された光のスポット径が数μmと非常に小さいので、透明集光用媒体の角度がわずかでもずれるとスポットの位置はプラズモンプローブの位置からずれてしまい、近接場光の強度が小さくなってしまう。
従って、透明集光用媒体の組付時には非常に厳しい角度調整精度が要求され、特許文献1の場合と同様に、製造時間の長時間化や歩留まり悪化が懸念される。
そのため、光源からの光をプラズモンプローブに導くかかる手段を用いた光アシスト磁気ヘッドの量産化の現実性は高くない。
本発明は、光源からの光をプラズモンプローブに導く工程の精度を大幅に緩和し、製造時間の短縮と歩留まりの改善を図ることで量産性を向上させると共に、環境変化や経時変化にも強い光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置を提供することを目的とする。
前述の目的は、下記に記載する発明により達成される。
1.光源と、前記光源からの光が結合され出射端にプラズモンプローブが配置された光導波路とを備える光アシスト磁気ヘッドであって、
前記光源から前記光導波路への光路中に、複数のミラー面を備え前記光源から出射した光の方向を前記複数のミラー面での反射によって所定角度折り曲げる光学素子を有し、
前記光学素子から出射した光を直接前記光導波路に結合させることを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。
前記光源から前記光導波路への光路中に、複数のミラー面を備え前記光源から出射した光の方向を前記複数のミラー面での反射によって所定角度折り曲げる光学素子を有し、
前記光学素子から出射した光を直接前記光導波路に結合させることを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。
2.前記光源からの光を前記光導波路に結合させる角度は直角であることを特徴とする前記1に記載の光アシスト磁気ヘッド。
3.前記光学素子は第1ミラー面と第2ミラー面とを備え、
前記光源からの光は前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とをこの順番に反射することを特徴とする前記1または2に記載の光アシスト磁気ヘッド。
前記光源からの光は前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とをこの順番に反射することを特徴とする前記1または2に記載の光アシスト磁気ヘッド。
4.前記光学素子はプリズムであり、各々の前記ミラー面は前記プリズムの内面であることを特徴とする前記1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
5.前記光学素子はプリズムであり、各々の前記ミラー面は前記プリズムの外面であることを特徴とする前記1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
6.前記光学素子は複数のミラーを備え、
前記ミラー面は、前記複数のミラーの各々のミラー面であることを特徴とする前記1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
前記ミラー面は、前記複数のミラーの各々のミラー面であることを特徴とする前記1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
7.前記光学素子は第1ミラー面と第2ミラー面とを内面に備えるプリズムであり、前記光源からの光は前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とをこの順番に反射し、
前記所定角度をθとしたときに、前記プリズムに光が入射する面と、前記プリズムから光が出射する面とが成す角度は、(180°-θ)であって、前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とが成す角度の2倍の大きさであることを特徴とする前記1に記載の光アシスト磁気ヘッド。
前記所定角度をθとしたときに、前記プリズムに光が入射する面と、前記プリズムから光が出射する面とが成す角度は、(180°-θ)であって、前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とが成す角度の2倍の大きさであることを特徴とする前記1に記載の光アシスト磁気ヘッド。
8.前記所定角度は90度であることを特徴とする前記1から7の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
9.前記1から8の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッドを有することを特徴とする光アシスト磁気記録装置。
光源からの光をプラズモンプローブに導く工程の精度を大幅に緩和し、製造時間の短縮と歩留まりの改善を図ることで量産性を向上させると共に、環境変化や経時変化にも強い光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置を提供できる。
(第1の実施形態)
以下、図面を参照して第1の実施形態について説明する。
以下、図面を参照して第1の実施形態について説明する。
図1に、光アシスト磁気ヘッド3を搭載した光アシスト磁気記録装置(例えばハードディスク装置)1の概略構成を示す。
光アシスト磁気記録装置1は、記録用の複数枚の回転可能なディスク(磁気記録媒体)2と、ヘッド支持部4と、トラッキング用アクチュエータ6と、光アシスト磁気ヘッド3と、図示しない駆動装置と、を筐体1A内に備えている。ヘッド支持部4は、支軸5を支点として矢印Aの方向(トラッキング方向)に回動可能に設けられている。
光アシスト磁気ヘッド3は、ディスク2に対する情報記録に光を利用する光ヘッドである。
トラッキング用アクチュエータ6は、ヘッド支持部4に取り付けられている。光アシスト磁気ヘッド3は、ヘッド支持部4の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク2を矢印Bの方向に回転させる。この光アシスト磁気記録装置1は、光アシスト磁気ヘッド3がディスク2の上面(または下面)に対して浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
図2は、光アシスト磁気ヘッド3及びヘッド支持部4の分解斜視図である。
図3は、図2の光アシスト磁気ヘッド3をI-I線を含む面で切断して矢印方向に見た断面図である。
図2において、ヘッド支持部4は、支軸5に一端を取り付けたサスペンションアーム41と、フレクシャ(板ばね)44とを備えている。サスペンションアーム41とフレクシャ44とは、溶接などによって固定されている。
サスペンションアーム41の先端部には、矩形状の開口部42が形成されている。この開口部42の一辺には、開口部42の内側に向かって突出するピボット(突出部)43が設けられている。一方、フレクシャ44の先端部には矩形状の開口部45が形成されている。この開口部45の一辺から、その内部に張り出すようにして、平坦な面を有する舌片部46が突出している。この舌片部46は、開口部42に対して傾いて突出した後、略水平になるよう折り曲げられた接合面46aを有する。
光アシスト磁気ヘッド3は、スライダ32と、スライダ32に配置されている矩形板状のLD33とレンズ29とプレーナ導波路32a(光導波路)と本発明にかかる光学素子31とを備える。
光アシスト磁気ヘッド3は、フレクシャ44の接合面46aの下面がLD33の上面に接着されて、サスペンションアーム41の先端部に光アシスト磁気ヘッド3が固定されるようになっているが、これに限られない。
プレーナ導波路32aは、光学素子31の下方であってスライダ32の側面に備えられている。プレーナ導波路32aの近傍には、図示しない磁気記録部と磁気再生部とが設けられている。
LD33はディスク2に対する情報記録に用いる光を出射する。LD33はレーザ光の出射口33aを光学素子31の第1ミラー面M1に対向させられて配置されている。
LD33から出射される光の波長は可視光から近赤外の波長が好ましい。具体的な波長帯としては、0.6μmから2μm程度であり、より具体的な波長としては、650nm、830nm、1310nm、1550nmなどが挙げられる。
なお、レンズ29は、LD33からの光を同光軸垂直面において少なくとも1方向において集光する機能を有し、LD33からの光の発散角を小さくする、平行光とする、収れん光とするなどの機能を有す。
図4は、光学素子31の斜視図である。図4において、光学素子31は、光を反射する第1ミラー面M1と第2ミラー面M2とを備える反射光学系である。第1ミラー面M1と第2ミラー面M2とを備えていれば、図4に示すようなペンタプリズムに限らない。光学素子31の詳細については後述する。
スライダ32のディスク2と対向する面(図3で下面)は、浮上特性向上のための空気ベアリング面(ABS:Air Bearing Surface)であり、浮上エア捕獲用の溝32gを形成している。
図5は、プレーナ導波路32aの概要図であり、図5(a)は、y方向から見たプレーナ導波路32aの概要図であり、図5(b)は、x方向から見たプレーナ導波路32aの概要図である。
プレーナ導波路32aは、略楕円面の一部形状から成る曲面反射面による集光機能を有する導波路Wと、導波路Wへ光を結合させる結合部d1とを備える。
結合部d1は回折光を発生させる回折機能素子である。回折機能素子は回折光を発生させる光学素子であり、例えば回折格子(グレーティング)が好適に用いられる。結合部d1に光が入射すると、入射した光は回折光となり、導波路Wの導波モードとなるよう進行方向を偏向させられる。結合部d1上において、プレーナ導波路32aのx方向の幅以下の大きさにした状態で光を結合させてやればよいので、LD33からの光をプレーナ導波路32aへ大まかな組付調整精度で容易に結合させることができる。
導波路Wは、基板上に積層された高屈折率層HLと、その周りに積層された低屈折率層LLとから構成される。高屈折率層HLと低屈折率層LLとの境界面は、略楕円面の一部形状を成している。導波光は、高屈折率層HLと低屈折率層LLとの境界面での反射作用により集光される。
高屈折率層HLと低屈折率層LLとの境界面では、その屈折率差によって全反射を生じさせる構成としている。境界面は略楕円面の一部形状を成しているので、プレーナ導波路32aに発散光が入射すると、略楕円面の焦点位置で光源像が形成されることになる。つまり、プレーナ導波路32aでは全反射を利用したミラー効果によりレーザ光を1方向に集光して、微小な光スポットを形成することができる。なお、高屈折率層HLと低屈折率層LLには、材料の屈折率によって屈折率差を付与する構造を用いてもよいし、等価屈折率に差を付与された構造を用いてもよい。そのため、高屈折率層HLと低屈折率層LLの材料の屈折率が同じであっても、導波層の厚みを変化させることで、等価屈折率に差を付与し、導波光を反射させることも可能である。
次いで、光学素子31について詳細に説明する。図6は、光学素子31の光路図の例である。図6(a)は、光入射角を変化させた際の光路図であり、図6(b)は、光学素子31を回転させた際の光路図であり、図6(c)は、光学素子31が内面反射のプリズム311の場合の光路図である。図6(d)は、光学素子31が外面反射のプリズム312の場合の光路図である。
光学素子31は2面以上のミラー面を備え光源から出射した光の方向を所定角度折り曲げる反射光学系である。
光学素子31は、入射する光を順に2回反射する機能を有している。かかる機能を実現するために、図6(a)に示されているように、光学素子31はミラーM11とミラーM22との二つのミラーを備えている。
同図では、ミラーM11とミラーM22とを平面として描いたが曲面であってもよい。
ミラーM11とミラーM22とは、同図の座標系におけるyz面にて、角度θ2なるミラーの交叉角を成すように配置されている。光学素子31に図示しない光源から出射した光L1が入射すると、光L1は順にミラーM11、ミラーM22で反射し、光L3となる。
光L1と光L3とが成す角度、すなわち折り曲げ角の角度θ1と、角度θ2とは次の関係式(1)の関係を有する。
θ1=180°-2θ2 (1)
関係式1から、角度θ1は、光L1が光学素子31に入射する角度に依存せず、専らミラーM11とミラーM22とが成す角度θ2に依存することが分かる。
関係式1から、角度θ1は、光L1が光学素子31に入射する角度に依存せず、専らミラーM11とミラーM22とが成す角度θ2に依存することが分かる。
この関係から、光L1に対して光学素子31をどのような角度で設置しても、光学素子31を出射する光L3と光L1とは同じ角度を有すると言える。
すなわち、図6(b)に示すように、ミラーM11が回転軸(図示せず)を中心に回転してミラーM11′の位置に配置され、ミラーM22が該回転軸を中心に回転してミラーM22′の位置に配置されたとしても、光L1と、光L1ミラーがM11′とミラーM22′とを順に反射した光L3との成す角度は一定であるといえる。
例えば、角度θ1を80°にしたい場合、関係式(1)から、角度θ2は、50°となる。また、θ2=45°のとき、θ1=90°となる。
このような機能を有する光学素子31によれば、yz面内で光学素子31に回転が生じても光の折り曲げ角に変化が生じず、光のプレーナ導波路32aに対する位置ずれもほとんど生じない。
この結果、光アシスト磁気ヘッド3への光学素子31の組立精度が大幅に緩和され、作業時間が短縮され、歩留まりが向上する。また、組立後の環境変化に伴う光学素子31の角度ズレが生じても、光のプレーナ導波路32a到達位置に対する位置ズレがほとんど発生しないため、環境経時変化に強い信頼性の高い光アシスト磁気ヘッド3を得ることができる。
なお、かかる効果は、ミラーM11、ミラーM22が曲面であっても同様に生じる。例えば、各ミラーが収発散機能を有するものである場合、主光線の周辺の光線は主光線に対して傾くが、主光線およびその周辺の光についても上記と実質的に同等もしくはこれに近い効果が生じるためミラーM11、ミラーM22はそれぞれ平面に限るものではない。
このような機能を有する光学素子31は、図6(a)に示した二枚のミラーM11とミラーM22とを図示しない保持構造で一体化したものを用いてもよいし、プリズム形状としても良い。プリズム形状の光学素子31は、以下に説明する二つの形状のどちらかを採用することが好ましい。
一つ目のプリズム311は、図4に示すものであり、入射光を内面反射させるタイプである。図6(c)の光路図において、プリズム311はかかるミラーM11とミラーM22に各々対応する第1ミラー面M1,第2ミラー面M2を内面に備えている。
光L1がプリズム311に入射する面をS1、光L3がプリズム311を出射する面をS2とし、光L1が面S1に入射する角度をθ3、光L3が面S2を出射する角度をθ4とする。θ3は90°になるように光学素子と光源との位置関係を設定することが望ましく、同じくθ4も90°になるように、プリズム311の形状を設定することが望ましい。
このように、θ3とθ4とを90°に設定することで、プリズム311がyz面内で回
転した時でも、光L3の出射方向の変化を小さく抑えることが可能となる。
転した時でも、光L3の出射方向の変化を小さく抑えることが可能となる。
また、光源からの光の波長は環境温度変化や駆動電流変化などによって変動する場合がある。従って、プリズム311においても、入射する光L1に波長変動が生じた場合に、プリズム311を出射する光L3の出射方向が変化しないよう考慮する必要がある。
この点、光L1の波長が変化しても、θ3、θ4が90°であれば、θ3、θ4は変化
しない。そのため、プリズム311を用いてプレーナ導波路32aに結合する光の位置が変化せず、安定する。これに対し、θ3、θ4が90°でないと、屈折角であるθ3、θ4は変化してしまい、プリズム311を用いてプレーナ導波路32aに結合する光の位置が変化してしまう。
しない。そのため、プリズム311を用いてプレーナ導波路32aに結合する光の位置が変化せず、安定する。これに対し、θ3、θ4が90°でないと、屈折角であるθ3、θ4は変化してしまい、プリズム311を用いてプレーナ導波路32aに結合する光の位置が変化してしまう。
このように、θ3、θ4が90°になるようにするには、面S1と面S2とで挟まれた角K1の角度を180°-θ1とすればよい。
この時、θ5=2×θ2となる。
なお、θ3、θ4が90°でないときに、光L1の波長が変化したことにより、θ3、θ4が変化した場合でも、θ3、θ4の変化の方向が逆になるようにθ3、θ4を設定してもよい。こうすることによっても、プレーナ導波路32aに結合する光の位置が安定するので望ましい。
また、プリズム311は入射光を2回内面反射させるタイプであるが、図6(e)で示したようなダハミラー(ルーフミラー)DMを備えたプリズム311’でもよい。
ダハミラーDMは第1ミラー面M1,第2ミラー面M2の何れに用いても良い。図6(e)では、第2ミラー面M2の代わりにダハミラーDMを用いている。
ダハミラーDMは、2面のミラーDM1,DM2を備える屋根型のミラーである。かかるダハミラーDMを備えたプリズム311’がyz面で回転する場合に、プリズム311’のyz面への射影の光路図を図6(f)に示す。かかる光路図から理解されるように、yz面内では、ダハミラーDMにおいては、光の反射の機能は1回と看做せる。そのため、かかるダハミラーDMを備えるプリズム311’においては、光の反射は、第1ミラー面M1で1回、ダハミラーDMでyz面内において1回、計2回反射したものと看做せる。
二つ目のプリズム312は、入射光を外面反射させるタイプである。
図6(c)のプリズム311は、ミラーM11とミラーM22に各々相当する第1ミラー面M1,第2ミラー面M2を内面に備えたプリズムであったが、プリズム312は、図6(d)のように、ミラーM11とミラーM22に各々相当する第1ミラー面M1,第2ミラー面M2を外面に備えたプリズムである。
かかるプリズムを用いれば、別個にミラーを2枚用意する必要はなく、一つのプリズムを作製するだけでよいので、低コストとなる。また、光をプリズム312の内部に入射させないので、光の吸収損失もない。
また、かかるプリズム311、312を用いれば、ミラーが一体化されているので、ミラーの交叉角の角度θ2も環境変化や経年変化によって変化することも少なく、安定している。
なお、プリズム311、プリズム312に共通する技術として、一つのミラーに回折格子を形成することも好ましい。
図7は、例としてプリズム311の一面に回折格子G1を形成した場合のプレーナ導波路32aへの光路図である。
上記のように、LDなどの光源からの光の波長は、環境温度変化や駆動電流変化などによって変化する場合がある。プレーナ導波路32aの結合部d1に回折格子を用いると、回折格子から導波路Wへの入射角が波長に依存するので、光源の波長変化は、導波路Wへの結合効率の変化に通じ、不具合となってしまう。そこで、プリズム311の一面に回折格子G1を形成することで、波長変化時の回折格子G1における回折角変化と、結合部d1における導波路Wへの入射角の変化とを相殺させることが可能となる。
具体的には、図7に示すように、回折格子G1において、回折角α2が、入射角α1により大きくなるように回折格子G1を設定する。すると、例えば、波長が大きくなった場合、α2は大きくなり、プレーナ導波路32aの結合部d1に対する光L3の入射角φは小さくなる。しかし、波長が小さくなっているので、光L3の導波路W内に入射する角度は大きくなる。その結果、光L3は、導波路W内で放射モードにならずに導波モードのまま結合し、結合効率は一定に保たれることとなる。
次いで、光学素子31の他の例について説明する。図8は、光学素子31の光路図の他の例である。
図8(a)は、ミラーM11とミラーM22との配置の他の例である。
図6(a)で説明したミラーM11とミラーM22の配置は、光学素子31を出射する光L3が、光学素子31に入射する光L1の方角へ反射するものであった。これに対し、図8(a)で示したミラーM11とミラーM22の配置によれば、光学素子31を出射する光L3は、光学素子31に入射する光L1の方角へ出射するものである。かかるミラーの配置によれば、折り曲げ角の角度θ1と、角度θ2とは次の関係式(2)の関係を有する。
θ1=2θ2 (2)
関係式2によっても、角度θ1は、光L1が光学素子31に入射する角度に依存せず、専らミラーM11とミラーM22とが成す角度θ2に依存することが分かる。数値例としては、θ2=45°のとき、θ1=90°となる。
関係式2によっても、角度θ1は、光L1が光学素子31に入射する角度に依存せず、専らミラーM11とミラーM22とが成す角度θ2に依存することが分かる。数値例としては、θ2=45°のとき、θ1=90°となる。
ところで、上記のように、入射する光を順に2回反射する機能を実現することで、光学素子31が回転した際に、光学素子31を出射する光の出射方向が変化しないようにすることができた。これは、光学素子31を出射する光を、さらに二つ目の光学素子31に入射させた時に、二つ目の光学素子31を回転させたとしても、二つ目の光学素子31を出射する光の出射方向が変化しないことを表す。つまり、入射する光を順に偶数回反射する機能を有する光学素子が回転した時にも、かかる光学素子を出射した光の出射方向は変化しないことを表す。図8(b)は、入射する光を順に4回反射する機能を有する光学素子31の光学系の例である。光L3と光L1との成す角度が90度になるように、ミラーM11,M22,M3,M4を配置することができる。
なお、レンズ29については、次に説明するように、複数のレンズからなるレンズ群50を採用してもよい。
図9は、レンズ群50の機能の説明図である。図9(a)は、レンズ群50を用いた場合に図2の光アシスト磁気ヘッド3をI-I線を含む面で切断して矢印方向に見た断面図である。図9(b)は、LD33の光路図である。図9(c)は、レンズ群50をz方向から見た光路図である。図9(d)は、レンズ群50をx方向から見た光路図である。
レンズ群50は、コリメートレンズ52と、ビームエキスパンダ光学系51とからなる。ビームエキスパンダ光学系51は、凹のシリンドリカルレンズであるレンズ51aと凸のシリンドリカルレンズであるレンズ51bとからなり、入射光の光軸断面内形状の一方向のみビームエキスパンドする光学系である。
LD33は、図9(b)に示すように、断面が楕円形状の光を出射するタイプが多く市販されている。これは、LD33の導波層の厚みが方向によって異なるためである。かかる楕円形状の断面の光を球面レンズで集光すると、NAが方向によって異なるので楕円形状に集光される。一方、プレーナ導波路32aは、結合入射端面の形状が長方形である。さらに、LD33からの光は、プレーナ導波路32aの結合部d1へは斜入射するので、結合部d1上での光の断面は斜影された形状となる。従って、プレーナ導波路32aに結合させる光の利用効率を最適化させるには、ビーム整形を行う必要がある。そこで、かかる目的のビーム整形を行うことが可能なレンズ群50の採用が望ましい。
図9(c)に示すように、LD33の出射口33aからの光はコリメートレンズ52によってコリメートされ、レンズ51aによってxy面内で発散され、レンズ51bによってxy面内でコリメートされる。
また、図9(d)に示すように、LD33の出射口33aからの光はコリメートレンズ52によってコリメートされ、レンズ51aとレンズ51bとは、xy面内にはパワーを有しないので、コリメート光はそのまま出射する。このように機能により、LD33からの光については、xy面内の光径とyz面内の光径とを所望の大きさに整形することが可能となる。従って、プレーナ導波路32aに結合させる光の利用効率を最適化させることができる。
なお、ここまでLD33と光学素子31との間にレンズ29あるいはレンズ群50を用いた例を示してきたが、図16のように必ずしもレンズ29あるいはレンズ群50を用いなくともよい。
図16は、図3及び図9(a)に示した光アシスト磁気ヘッド3からレンズ29あるいはレンズ群50を省いた状態を示す。レンズ29を用いない光アシスト磁気ヘッド3の場合も、LD29から出射して光学素子31に入射するすべての光線に関して、例えば図2(a)~(d)を例にとれば、互いに固定されたミラーM11、M22にyz面内での回転が生じても光の折り曲げ角θ1に変化が生じないという効果が得られる。
次いで、光アシスト磁気ヘッド3を搭載した光アシスト磁気記録装置の動作について説明する。
LD33から出射した光は光学素子31にて前述のように2回反射され、yz面内で所定角折り返されてz方向に偏向されると共にレンズ群50によって集光され、結合部d1に到達しプレーナ導波路32aに入射される。
プレーナ導波路32aの出射端ではx方向、y方向ともに十分光が絞られた状態となり、導波路出射端面に形成された図示しないプラズモンプローブを照射し、プラズモンプローブから近接場光が発生する。この近接場光によりディスク2が加熱され、保磁力が低下し、不図示の磁気記録部にて磁気情報が記録される。ディスク2が光アシスト磁気ヘッド3から移動し、冷却されると保磁力が回復し、磁気情報が保持される。
次いで、プリズム311、プリズム312の作製方法について説明する。
光学素子31の素材は、プラスチックまたはガラスなどの透明な素材である。光学素子31は、例えば、射出成形、インプリント製法、押出し成形、またはガラスモールド法などによって作製される。射出成形用の樹脂としては、熱可塑性樹脂であるポリカーボネイト(例えばAD5503、帝人化成株式会社)やZEONEX 480R(日本ゼオン株式会社)などが挙げられる。また、インプリント製法用の樹脂としては、光硬化性樹脂であるPAK-02(東洋合成工業株式会社)などが挙げられる。
かかる作製方法によれば、大量生産によって低コストで作製可能となる。また、作製精度が高いことから、ミラーM11,M22の交叉角の角度θ2も正確に実現できるので、精度の高い光アシスト磁気ヘッドを作製することが可能となる。
図10は、異方性エッチングを用いたプリズム312の作製方法の説明図である。異方性エッチングとは、結晶における結晶方位面毎にエッチング速度が異なることを利用して、所定の角度で交わる2面を作製する方法である。
本作製方法においては、単結晶シリコンを用いて約70.5°のプリズム角を備える光学素子31を作製する作製方法を例として取上げる。
<100>と<111>のエッチング速度の比は400:1である。この速度の比により、相対的に70.5°傾斜した2平面を得ることができる。
ステップ1では、最初に、<100>の結晶方位を備える単結晶シリコンの板60を用意する。次いで、エッチング面以外に、エッチングマスクとして、例えば窒化シリコンのマスク61を施す。窒化シリコンのマスク61を作製するには、窒素雰囲気中の高温下に所定時間単結晶シリコンの板60を配置して、一面全面に窒化シリコンを成長させ、その後、フォトリソグラフィーにより、所定形状をエッチングする。
ステップ2では、ステップ1で作製した中間物を図示しない水酸化カリウムのエッチング浴槽に浸漬させ、窒化シリコンのマスク61から露出されている単結晶シリコンを異方性エッチングする。
ステップ3では、ステップ2で得られた中間物から、窒化シリコンのマスク61をエッチングにより除去した後に、ダイシングソーなどを用いて所定の大きさにカットする。以上の工程により、所定の形状の光学素子31を得ることができる。
本説明では、約70.5°のプリズム角を備える光学素子31の作製方法を例として取上げたが、プリズム角は、単結晶シリコンの方位によって様々に設定できるので、用いる光アシスト磁気ヘッド3に必要なプリズム角に合わせた単結晶シリコンを採用すればよい。
また、結晶方位によってエッチング速度の異なるような、単結晶シリコン以外の材料を用いてもよいことは言うまでもない。
(第2の実施形態)
次いで、かかる光学素子31を用いた光アシスト磁気ヘッド8の第2の実施形態について説明する。
(第2の実施形態)
次いで、かかる光学素子31を用いた光アシスト磁気ヘッド8の第2の実施形態について説明する。
第1の実施形態との相違は、導波路への光の結合として直接結合を行う点である。第1の実施形態におけるプレーナ導波路32aの結合部d1は回折機能素子を備えていた。結合部d1に回折機能素子を用いれば、LD33からの光をプレーナ導波路32aへ大まかな組付調整精度で容易に結合させることができた。第2の実施形態においては、結合部d1は回折機能素子を用いず、プレーナ導波路32aに直接結合させるので、調整精度は要するが、回折機能素子を用いないので、回折機能素子を作製する必要がなくなり、低コストで光アシスト磁気ヘッドを作製できる。また、回折機能素子を用いた場合より、結合効率を向上させることができる。
図11は、第2の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド8を図2のI-I線を含む面で切断して矢印方向に見た断面図である。
図12は、プレーナ導波路32bの概要図である。
図13は、プレーナ導波路32bの入射端の概要図である。
光アシスト磁気ヘッド8と光アシスト磁気ヘッド3との相違点は、光アシスト磁気ヘッド8がプレーナ導波路32aの代わりにプレーナ導波路32bを備える点と、光学素子31がスライダ32上に直接配置されている点である。
プレーナ導波路32b(光導波路)は、プレーナ導波路32aと同様に、基板上に積層された高屈折率層HLと低屈折率層LLとを備える。導波構造と光を集光する機能はプレーナ導波路32aと同様である。一方、プレーナ導波路32bはプレーナ導波路32bのような結合部d1を持たず、代わりに直接結合を行う入射端70を備える。
光アシスト磁気ヘッド8においては、プレーナ導波路32bへの光の結合は入射端70へ垂直に入射させるので、光学素子31は、スライダ32上に直接配置されている。そして、LD33からの光は光学素子31によって所定角度90°として折り曲げられる。
このように、光アシスト磁気ヘッド8においては、プレーナ導波路32bへの光の結合は入射端70へ垂直に入射させるので、第1の実施形態の場合と比べて、より扁平な断面を備えるスポットを形成するようにビーム整形を行う。
具体的には、LD33を出射した光はレンズ群50、光学素子31を経て、図12,図13に示すように扁平な形状を備える入射端70上に集光されるので、入射端70上では、LDからの光は入射端70への結合効率が高まるように、レンズ群50によってビーム整形され、ビーム500のような偏平な形状となる。
次いで、光アシスト磁気ヘッド8を搭載した光アシスト磁気記録装置の動作について説明する。
LD33から出射した光は光学素子31にて前述のように2回反射され、yz面内で所定角折り返されてz方向に偏向されると共にレンズ群50によって集光され、プレーナ導波路32bに入射される。
プレーナ導波路32bの出射端ではx方向、y方向ともに十分光が絞られた状態となり、導波路出射端面に形成された図示しないプラズモンプローブを照射し、プラズモンプローブから近接場光が発生する。この近接場光によりディスク2が加熱され、保磁力が低下し、不図示の磁気記録部にて磁気情報が記録される。ディスク2が光アシスト磁気ヘッド8から移動し、冷却されると保磁力が回復し、磁気情報が保持される。
以下に本発明の光アシスト磁気ヘッド3,8における光学素子31の実施例を示す。
図14は、実施例に係るプリズム311の断面図であり、図15は比較例に係るミラー80の断面図である。
光学素子31にペンタプリズムであるプリズム311を採用し、プリズム311が組付時に回転軸を中心に回転した場合に、プレーナ導波路の入射端に対する光のシフト量と光の傾斜量を算出した。比較例として、光源からの光を反射してプレーナ導波路へ入射させる一面のミラー80について同様の計算を行った。
図14,15における長さの単位はμmである。光アシスト磁気ヘッド3,8は非常に小型であり、プリズム311やミラー80についてもμmオーダーの大きさとなる。
実施例、比較例共に各々プリズム311とミラー80とがyz面内にて1度の取り付け角度ずれを起こした時の、反射光のチルト角とシフト量の値の計算結果を表1に示す。
図14のプリズム311の回転軸O1は、光の光軸と光が入射する面S1の交点であるとする。図15のミラー80の回転軸O2は、光の光軸とミラー80の反射面との交点であるとする。
比較例のミラー80では1度あたりの取り付け角度ずれに対してプレーナ導波路の入射端において0.87μmのシフト量が発生する。
これに対し実施例では、1度あたりの取り付け角度ずれに対してプレーナ導波路の入射端において0.57μmのシフト量にとどまる。
かかる光軸のシフトがプレーナ導波路32bの入射端面上に生じた場合を検討する。プレーナ導波路32bの導波層の厚みは、導波層のクラッドの屈折率差にも依存するが、使用波長の数倍となる。例えば、波長が830nmの光を使用すると、導波層の厚みは数μmとなる。導波層へ光を結合させる際に高い結合効率を得るには、導波層の光軸に対する光の光軸の位置ずれの許容値は、1μm程度以内に抑えておく必要がある。よって、本実施例のプリズム311を採用することで、この位置ずれの許容値を達成することが可能となる。
次いで、かかる光軸のチルトやシフトがプレーナ導波路32aの入射端面上に生じた場合を検討する。
回折格子が備えられた結合部d1のエリアは、その一辺が特開2010-182394号の段落〔0046〕に開示されているように、数10μm~100μm程度と広い。そのため、結合部d1における光束のシフトの影響は大きくはないが、それにしても、本実施例はミラー80に較べ、光の結合効率を悪化させるシフトを少なくできるという点で好適である。
ところで、回折格子を備える結合部d1にとっては、シフトの影響よりもチルトの影響が大きい。
例えば、国際公開第2009/139258号には、入射角52.4度の回折格子を結合部とする導波路に結合効率は、最適入射角から0.5度ずれると結合効率は50%低下してしまうという結果が開示されている。
これは、回折格子から導波層への出射角が少しでもずれると、結合されようとする光は導波モードとならずに容易に放射モードとなって導波路からの洩れ光となってしまうからである。
そのため、チルト角の大きい比較例のミラー80では、0.25度の取り付け角度ずれで、入射角は最適入射角から0.5度ずれることとなり、結合効率は50%も低下することになる。
これに対し、本実施例ではプリズム311の取り付け角ずれに依存せずに、導波路に光束を所定の入射角で導くことができるので、結合効率に変化がなく、製造時の組付調整が非常に実施しやすくなる。
以上、本発明について実施形態および実施例を参照して説明したが、本発明は、本明細書に記載の実施形態、実施例に限定されるものではなく、他の実施形態、実施例を含むことは、本明細書に記載された実施形態、実施例および技術的思想から本分野の当業者にとって明らかである。
1 光アシスト磁気記録装置
1A 筐体
2 ディスク
3 光アシスト磁気ヘッド
4 ヘッド支持部
5 支軸
6 トラッキング用アクチュエータ
8 光アシスト磁気ヘッド
11,22 ミラー
29 レンズ
31 光学素子
32 スライダ
32a,32b プレーナ導波路
32g 溝
33a 出射口
41 サスペンションアーム
42 開口部
43 ピボット(突出部)
44 フレクシャ
45 開口部
46a 接合面
50 レンズ群
51 ビームエキスパンダ光学系
51a,51b レンズ
52 コリメートレンズ
60 板
61 マスク
70 入射端
311,312 プリズム
HL 高屈折率層
LL 低屈折率層
M1 第1ミラー面
M2 第2ミラー面
W 導波路
1A 筐体
2 ディスク
3 光アシスト磁気ヘッド
4 ヘッド支持部
5 支軸
6 トラッキング用アクチュエータ
8 光アシスト磁気ヘッド
11,22 ミラー
29 レンズ
31 光学素子
32 スライダ
32a,32b プレーナ導波路
32g 溝
33a 出射口
41 サスペンションアーム
42 開口部
43 ピボット(突出部)
44 フレクシャ
45 開口部
46a 接合面
50 レンズ群
51 ビームエキスパンダ光学系
51a,51b レンズ
52 コリメートレンズ
60 板
61 マスク
70 入射端
311,312 プリズム
HL 高屈折率層
LL 低屈折率層
M1 第1ミラー面
M2 第2ミラー面
W 導波路
Claims (9)
- 光源と、前記光源からの光が結合され出射端にプラズモンプローブが配置された光導波路とを備える光アシスト磁気ヘッドであって、
前記光源から前記光導波路への光路中に、複数のミラー面を備え前記光源から出射した光の方向を前記複数のミラー面での反射によって所定角度折り曲げる光学素子を有し、
前記光学素子から出射した光を直接前記光導波路に結合させることを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。 - 前記光源からの光を前記光導波路に結合させる角度は直角であることを特徴とする請求項1に記載の光アシスト磁気ヘッド。
- 前記光学素子は第1ミラー面と第2ミラー面とを備え、
前記光源からの光は前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とをこの順番に反射することを特徴とする請求項1または2に記載の光アシスト磁気ヘッド。 - 前記光学素子はプリズムであり、各々の前記ミラー面は前記プリズムの内面であることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
- 前記光学素子はプリズムであり、各々の前記ミラー面は前記プリズムの外面であることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
- 前記光学素子は複数のミラーを備え、
前記ミラー面は、前記複数のミラーの各々のミラー面であることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。 - 前記光学素子は第1ミラー面と第2ミラー面とを内面に備えるプリズムであり、
前記光源からの光は前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とをこの順番に反射し、
前記所定角度をθとしたときに、前記プリズムに光が入射する面と、前記プリズムから光が出射する面とが成す角度は、(180°-θ)であって、前記第1ミラー面と前記第2ミラー面とが成す角度の2倍の大きさであることを特徴とする請求項1に記載の光アシスト磁気ヘッド。 - 前記所定角度は90度であることを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッド。
- 請求項1から8の何れか一項に記載の光アシスト磁気ヘッドを有することを特徴とする光アシスト磁気記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011061909A JP2014112452A (ja) | 2011-03-22 | 2011-03-22 | 光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置 |
| JP2011-061909 | 2011-03-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2012128198A1 true WO2012128198A1 (ja) | 2012-09-27 |
Family
ID=46879346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2012/056821 Ceased WO2012128198A1 (ja) | 2011-03-22 | 2012-03-16 | 光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014112452A (ja) |
| WO (1) | WO2012128198A1 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007310958A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Konica Minolta Opto Inc | 光記録ヘッド及び光記録装置 |
| WO2009057429A1 (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学ヘッド及び光学記録装置 |
-
2011
- 2011-03-22 JP JP2011061909A patent/JP2014112452A/ja not_active Withdrawn
-
2012
- 2012-03-16 WO PCT/JP2012/056821 patent/WO2012128198A1/ja not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007310958A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Konica Minolta Opto Inc | 光記録ヘッド及び光記録装置 |
| WO2009057429A1 (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学ヘッド及び光学記録装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014112452A (ja) | 2014-06-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8730780B2 (en) | Light delivery waveguide | |
| JP4497556B2 (ja) | ヘッドサスペンションアセンブリ、キャリッジアセンブリ、ヘッドスライダアセンブリの製造方法および記憶媒体駆動装置 | |
| JPWO2007105393A1 (ja) | 記録ヘッド及び記録装置 | |
| JPWO2007105392A1 (ja) | 記録ヘッド及び記録装置 | |
| JP2007257753A (ja) | 微小光記録ヘッドとその製造方法 | |
| JPWO2010010806A1 (ja) | 光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| US8345515B2 (en) | Deflection optical element, optical recording head and optical recording apparatus | |
| US8134893B2 (en) | Optical recording head and optical recording apparatus | |
| WO2012128198A1 (ja) | 光アシスト磁気ヘッド及び光アシスト磁気記録装置 | |
| JPWO2012014594A1 (ja) | 製造方法、光アシスト磁気記録ヘッド、及び磁気記録装置 | |
| WO2010104030A1 (ja) | 光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| JPWO2008023578A1 (ja) | 光学素子、光学素子の製造方法及び光ヘッド | |
| JP2009104734A (ja) | 微小スポット生成構造及び光ヘッド | |
| JP4297199B2 (ja) | 光ヘッド、光アシスト式磁気記録ヘッド及び光記録装置 | |
| JP4735412B2 (ja) | 光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| WO2007116723A1 (ja) | 光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| JP2009110562A (ja) | 光学素子及び光ヘッド | |
| WO2010100994A1 (ja) | 光学素子及び光記録ヘッド | |
| JP2013254530A (ja) | 光学素子の製造方法、光ヘッド、及び情報記録装置 | |
| JP2015034830A (ja) | 光学素子用母材、光学素子、光アシスト磁気記録ヘッド、光学素子の製造方法 | |
| JP2010027184A (ja) | 光学装置、光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| JP2009283051A (ja) | 光学素子、光記録ヘッド及び光記録装置 | |
| WO2011036974A1 (ja) | 光学素子及び光記録ヘッド | |
| WO2011074322A1 (ja) | 中間生成体及び光アシスト磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2012064268A (ja) | 光学素子、光学素子の製造方法、光アシスト磁気記録ヘッド、及び磁気記録装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 12760845 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 12760845 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |
