WO2012115099A1 - 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液 - Google Patents

固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液 Download PDF

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WO2012115099A1
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伸二 浜元
康正 大橋
康徳 沼田
大倫 石塚
高橋 宏明
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ユシロ化学工業株式会社
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    • C10N2040/32Wires, ropes or cables lubricants

Definitions

  • the present invention relates to a water-soluble working fluid for fixed abrasive wire saws.
  • Patent Document 1 discloses a fixed abrasive wire saw in which abrasive particles of 30 to 60 ⁇ m are resin bonded and fixed. By moving the fixed abrasive wire saw at a linear velocity of 1000 to 2500 m / min to cut the brittle material, highly efficient cutting can be performed.
  • a processing liquid is simultaneously used for the purpose of lubrication, cooling, chip dispersion, and the like.
  • the processing fluid it is preferable to use a water-soluble one.
  • non-aqueous processing liquids containing almost no water non-aqueous volatile components (solvent components) deteriorate the working environment, processing liquids become flammable liquids, cleaning processes after processing, waste liquid treatment, etc. are water-soluble There is a problem that it becomes more complicated than the case of using a working fluid.
  • the workpiece is silicon
  • the following problems occur. That is, silicon is highly reactive, and may react with water or alkali in the processing fluid during cutting to generate hydrogen gas and may ignite. Therefore, it is preferable that it is a processing fluid in which the reactivity with silicon is suppressed. From such a viewpoint, a working fluid as shown in Patent Document 2 has been proposed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Publication No. 2003-082334
  • a brittle material such as silicon, sapphire, glass, ceramics, or neodymium, glycols and the like are used as in the working fluid described in Patent Document 2.
  • Those having water as a main component are widely used.
  • such conventional working fluid may not be able to perform sufficiently stable cutting.
  • the mixing of chips into the processing fluid causes various problems.
  • chips of the workpiece are mixed in the processing fluid. At this time, in some cases, the viscosity of the processing fluid may be high enough to affect the processing performance.
  • the chips when chips mix into the processing fluid, the chips may clog the piping of the equipment, or may be described as a hard bond in the groove of the main roller where the wire is to be hung (hereinafter referred to as "hard cake"). In some cases, such as wire popping (wires coming out of grooves) may occur.
  • the present invention has an object to provide a water-soluble working fluid for a fixed abrasive wire saw which can suppress the increase in viscosity when chips are mixed and clogging of piping of equipment due to the mixed chips and generation of hard cake. Do.
  • the present inventors diligently studied and found the following matters.
  • the present invention has been made based on the above findings, and has the following configuration. That is,
  • the first aspect of the present invention comprises (C) a carboxylic acid, (D) a compound which is basic to dissolve in water, and (E) water, and the electric conductivity at 25 ° C. is 300 ⁇ S / cm.
  • the viscosity of the simulated working solution formed by adding and stirring 10% by mass of silicon powder having an average particle diameter of 1.5 ⁇ m and a pH of 5 to 10 and not more than 3000 ⁇ S / cm and 25 ° C. is 25 ° C. It is a water-soluble processing fluid for fixed abrasive wire saws which is less than 30 mPa ⁇ s.
  • viscosity means the viscosity measured by a Brookfield viscometer.
  • average particle diameter means what was measured using the laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus "LA910" by Horiba, Ltd. make.
  • the working fluid according to the first aspect of the present invention may further comprise (A) at least one nonionic surfactant selected from the group consisting of alcohol, ethylene oxide and propylene oxide, and polyoxyalkylene glycols. Is preferred.
  • the processing liquid of the 1st aspect of this invention contains (B) glycols further.
  • the second aspect of the present invention is a copolymer of (A) alcohol, ethylene oxide and propylene oxide, and 0.1% by mass or more of at least one nonionic surfactant among polyoxyalkylene glycols. 8 mass% or less, (B) glycols of 0.1 mass% to 80 mass%, (C) carboxylic acid of 0.01 mass% to 5 mass%, and (D) water
  • the compound having a basicity is contained in an amount of 0.01% by mass to 7% by mass and (E) water, and the electric conductivity at 25 ° C. is 300 ⁇ S / cm or more and 3000 ⁇ S / cm or less, and the pH at 25 ° C.
  • Fixed abrasive wire wire saw having a viscosity of less than 30 mPa ⁇ s at 25 ° C., which is formed by adding and stirring 10% by mass of silicon powder having an average particle diameter of 1.5 ⁇ m and having a particle size of 5 or more and 10 or less.
  • a water-soluble working fluid is Fixed abrasive wire wire saw having a viscosity of less than 30 mPa ⁇ s at 25 ° C., which is formed by adding and stirring 10% by mass of silicon powder having an average particle diameter of 1.5 ⁇ m and having a particle size of 5 or more and 10 or less.
  • the working fluid of the first and second aspects of the present invention preferably has a surface tension at 25 ° C. of 20 mN / m or more and 50 mN / m or less.
  • the processing fluid of the 1st and 2nd aspect of this invention contains a water-soluble polymer and / or an antifoamer further.
  • the working fluid of the 1st and 2nd aspect of this invention makes the whole mass 100 mass%, and contains 10 mass% or more and 99.7 mass% or less of (E) water.
  • ADVANTAGE OF THE INVENTION it is possible to provide a water-soluble working fluid for a fixed abrasive wire saw which can suppress the increase in viscosity when chips are mixed and clogging of piping of equipment due to the mixed chips and generation of hard cake. .
  • the water-soluble working fluid for a fixed abrasive wire saw of the present invention has an electrical conductivity at 25 ° C. of 300 ⁇ S / cm or more and 3000 ⁇ S / cm or less.
  • the upper limit of the electrical conductivity is preferably 2000 ⁇ S / cm or less, and more preferably 1000 ⁇ S / cm or less.
  • Electrical conductivity is an index indicating the ease of transmission of electricity, and is defined as the reciprocal of electrical resistance.
  • concentration of the ionic substance contained in the processing fluid the higher the electrical conductivity of the processing fluid, and the easier it is to conduct electricity.
  • concentration of the ionic substance contained in the processing fluid is higher, fine particles (chips) having electric charges are more easily aggregated in the processing fluid. That is, as the electrical conductivity of the working fluid is higher, the apparent particle size of the chips mixed in the working fluid becomes larger, and the chips tend to settle. At this time, it is considered that since the chips settle in a three-dimensional and bulky state, hard cakes are less likely to occur.
  • by aggregating and settling the chips it is possible to accelerate the settling speed of the chips, and it becomes easy to separate the chips from the processing fluid by centrifugation or the like.
  • the chips will settle uniformly in a dispersed state and solidify tightly. In this way, the chips settle and solidify tightly, causing the piping of the equipment to be clogged, and the occurrence of hard cakes in the wire groove of the main roller, resulting in wire skipping (the wire comes out of the groove). It is easy to cause problems such as In addition, if the chips are dispersed too much in the working fluid, the settling speed of the chips becomes slow. Therefore, when removing chips in the working fluid for the purpose of waste liquid treatment and recycling of the working fluid, it becomes difficult to remove chips in the working fluid by centrifugation or the like.
  • the working fluid of the present invention by setting the electrical conductivity at 25 ° C. in the above-mentioned range, chips can be dispersed, aggregated and precipitated appropriately in the working fluid. As a result, it is possible to suppress the increase in viscosity of the processing fluid, to suppress the clogging of the piping of the equipment, the occurrence of hard cake, and the like.
  • the electrical conductivity of the working fluid of the present invention can be adjusted by the amount added to the working fluid of the substance to be dissolved and ionized in water.
  • the electrical conductivity of the working fluid can be appropriately adjusted by adjusting the amount of the component (C) (carboxylic acid) or the component (D) (compound showing basicity dissolved in water) to be described later to the working fluid. It can be adjusted.
  • the working fluid of this invention may be diluted and used for water, it is preferable that the electrical conductivity of the working fluid after dilution is the range which mentioned above also in that case.
  • the viscosity of the working fluid of the present invention is preferably 1 mPa ⁇ s to 25 mPa ⁇ s at 25 ° C., and the upper limit is more preferably 20 mPa ⁇ s or less.
  • the viscosity of the working fluid becomes too high, the amount of water in the working fluid is generally small, and the ability to take away the heat generated along with working with the fixed abrasive wire (hereinafter referred to as "cooling ability" There is a case.) But weak. Therefore, there is a possibility that problems such as a decrease in machining accuracy and an increase in load on a tool may occur.
  • the viscosity of a liquid (simulated use liquid) in which a predetermined silicon powder is dispersed in the working fluid of the present invention is preferably 1 mPa ⁇ s to less than 30 mPa ⁇ s at 25 ° C., and 1 mPa ⁇ s to 20 mPa ⁇ s. It is more preferable that it is the following, and it is further more preferable that they are 1 mPa * s or more and 15 mPa * s or less.
  • the viscosity of the simulated working solution is as follows: 10% by mass of silicon powder (average particle diameter: 1.5 ⁇ m) is added to the working fluid of the present invention, and after stirring and mixing, stainless steel balls (diameter 2 mm) are added, and 10 hours at 1000 rpm It measures about the simulated working solution obtained by stirring and filtering off the stainless steel ball.
  • the viscosity of the above-mentioned working fluid itself is high, the viscosity of the simulated working fluid containing silicon powder also becomes necessarily high.
  • the viscosities of the working fluid and the simulated working fluid can be measured with a Brookfield viscometer.
  • the viscosity of the processing fluid of the present invention may be, for example, component (A) (nonionic surfactant), component (B) (glycols), component (C) (carboxylic acid), component (D) (water). It can adjust suitably from the compounding quantity of a compound which melt
  • the working fluid of this invention may be diluted and used for water, in that case, it is preferable that the viscosity of the working fluid after dilution is the range mentioned above.
  • the pH of the processing fluid of the present invention is 5 or more and 10 or less at 25 ° C.
  • the pH of the working fluid is less than 5, the corrosiveness of the working fluid to metals is increased, and there is a possibility that the working fluid may corrode a metal member provided in equipment or a wire saw.
  • the corrosion resistance to metal depends on the amount of water contained in the working fluid, etc., but when the pH of the working fluid is 5 or more at 25 ° C., the above corrosion can be easily suppressed.
  • the pH of the processing fluid of the present invention is more preferably 6 or more at 25 ° C., and still more preferably 7 or more.
  • the pH of the processing fluid exceeds 10
  • the reactivity between the processing fluid and the chips (silicon) mixed in the processing fluid is increased, and there is a risk that the processing fluid and the chips react with each other to generate hydrogen.
  • the viscosity of the processing fluid at the time of processing may increase significantly.
  • the pH of the processing fluid according to the present invention is, for example, the inclusion of the component (B) (glycols) described later, the component (C) (carboxylic acid) and the component (D) (compounds that are dissolved in water and exhibit basicity)
  • the amount can be adjusted appropriately. Moreover, it can also adjust by the addition of other additives (for example, pH adjusters).
  • the working fluid of the present invention may be used after diluting it with water, but in this case also, it is preferable that the pH of the working fluid after dilution be in the above-mentioned range.
  • the present inventors found that the conventional working fluid has insufficient wettability to the wire to be used and permeability to the gap of the workpiece, and the processing part (a portion of the workpiece to which the wire contacts). It has been found that there is a shortage of processing fluid to reach to cause deterioration of processing performance. If the surface tension of the working fluid is too high, the wettability and the permeability of the working fluid may be deteriorated, and the working fluid may not spread to the processing part. In an extreme example, cutting is performed in a dry state of the processed portion.
  • the surface tension of the working fluid of the present invention is preferably 50 mN / m or less at 25 ° C., more preferably 45 mN / m or less, and still more preferably 40 mN / m or less.
  • the surface tension of the working fluid of the present invention is preferably 20 mN / m or more at 25 ° C., and more preferably 30 mN / m or more.
  • the surface tension of the working fluid of the present invention can be suitably adjusted, for example, by adjusting the amount of the component (A) described later and the antifoaming agent.
  • the working fluid of this invention may be diluted and used for water, it is preferable that the surface tension of the working fluid after dilution is the range mentioned above also in that case.
  • the working fluid of the present invention can contain, for example, the components described below.
  • the processing liquid of the present invention may contain at least one nonionic surfactant selected from the group consisting of alcohol, copolymer of ethylene oxide and propylene oxide, and polyoxyalkylene glycols as component (A). it can.
  • component (A) By including the component (A) in the processing fluid, the surface tension of the processing fluid can be reduced, and the wettability and permeability of the processing fluid can be improved.
  • polyoxyalkylene glycols include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and copolymers of polyoxyethylene and polyoxypropylene.
  • the mass average molecular weight (in terms of standard polystyrene using gel permeation chromatography) of the polyoxyalkylene glycols used in the present invention is preferably 10000 or less, more preferably 5000 or less, and 3500 or less. Is more preferred.
  • the working fluid of the present invention can be prepared by diluting with water as appropriate according to the working environment of cutting. That is, a concentrated composition comprising components other than water among the components contained in the working fluid of the present invention is prepared, and the concentrated composition is diluted with water at a work site or the like to produce the working fluid of the present invention. You can also. In addition, a high concentration of the working fluid of the present invention is produced (the working fluid of the present invention is produced by reducing the amount of water), and used as it is according to the working environment of cutting processing or further diluted with water and used. It can also be done.
  • the lower limit of the content of the component (A) is preferably 0.1 wt%, based on the total weight of the working fluid of the present invention (100% by mass). % Or more, more preferably 0.2% by mass or more, further preferably 0.5% by mass or more, and the upper limit is preferably 0.8% by mass or less, more preferably 0.7% by mass or less, still more preferably 0 .6 mass% or less.
  • the upper limit of the content of the component (A) is preferably 8 based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100% by mass). It is at most mass%, more preferably at most 7 mass%, even more preferably at most 6 mass%.
  • the processing liquid of this invention can contain glycols as (B) component.
  • the working fluid of the present invention can contain a predetermined amount of the component (B), it is possible to stably dissolve the components other than the component (B) in the working fluid of the present invention and to suppress the drying of the working fluid of the present invention can do.
  • glycols used as the component (B) include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polyethylene Glycols, polypropylene glycol, copolymers of ethylene glycol and propylene glycol, and copolymers of ethylene oxide and propylene oxide, triethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether and tripropylene glycol Glycol monoalkyl ether such as monomethyl ether, ethylene oxide Water-soluble glycols such as mono alkyl ethers of copolymers of propylene oxide.
  • glycols exemplified above it is preferable to use propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol or polypropylene glycol, and it is particularly preferable to use dipropylene glycol or diethylene glycol. These can be used singly or in combination of two or more. Moreover, you may use as a copolymer which consists of said 2 or more types of components.
  • the mass average molecular weight (in terms of standard polystyrene using gel permeation chromatography) of the above-mentioned glycols is preferably 100 or more and 700 or less, and more preferably 100 or more and 200 or less.
  • the lower limit of the content of the component (B) is preferably 0.1 mass based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100 mass%). % Or more, more preferably 0.5% by mass or more, still more preferably 2% by mass or more, and the upper limit is preferably 8% by mass or less, more preferably 7% by mass or less.
  • the upper limit of the content of the component (B) is preferably 80 based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100 mass%). It is at most mass%, more preferably at most 70 mass%.
  • the processing liquid of this invention can contain carboxylic acid as (C) component.
  • carboxylic acid used as the component (C) include citric acid, succinic acid, lactic acid, malic acid, adipic acid, oxalic acid, dodecanedioic acid, acetic acid and the like.
  • citric acid and succinic acid it is preferable to use citric acid and succinic acid, and it is more preferable to use citric acid. These can be used singly or in combination of two or more.
  • the lower limit of the content of the component (C) is preferably 0.01 mass based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100 mass%). % Or more, more preferably 0.1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or less, and further preferably 0.2% by mass or less.
  • the upper limit of the content of the component (C) is preferably 5 based on the total weight of the working fluid according to the present invention (100 mass%).
  • the content is at most mass%, more preferably at most 3 mass%, further preferably at most 2 mass%.
  • the processing liquid of the present invention is a compound which is dissolved in water to exhibit basicity (hereinafter referred to as “basic compound” There is a).
  • basic compound a compound which is dissolved in water to exhibit basicity
  • the pH and electrical conductivity of the working fluid of the present invention can be adjusted in combination with the component (C) at the time of cutting
  • the pH fluctuation of the working fluid of the present invention can be buffered, the corrosion of the working fluid of the present invention against metals can be mitigated, and other components can be stably dissolved in the working fluid of the present invention And so on.
  • the basic compound used as the component (D) include compounds containing an alkali metal element such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, triethanolamine, Mention may be made of amines such as triisopropanolamine, ethylenediamine, N- (2-aminoethyl) -2-aminoethanol, N- ( ⁇ -aminoethyl) ethanolamine and the like. These can be used singly or in combination of two or more.
  • an alkali metal element such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, triethanolamine
  • amines such as triisopropanolamine, ethylenediamine, N- (2-aminoethyl) -2-aminoethanol, N- ( ⁇ -aminoethyl) ethanolamine and the like. These can be used singly or in combination of two or more.
  • the lower limit of the content of the component (D) is preferably 0.01 mass based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100 mass%). % Or more, more preferably 0.1% by mass or more, and the upper limit thereof is preferably 0.7% by mass or less, more preferably 0.6% by mass or less, still more preferably 0.5% by mass or less.
  • the upper limit of the content of the component (D) is preferably 7 based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100% by mass). The content is at most mass%, more preferably at most 6 mass%, further preferably at most 5 mass%.
  • the processing liquid of this invention can also be made to contain the salt formed from (C) component and (D) component.
  • the salt include alkali metal salts of carboxylic acids and amine salts of carboxylic acids.
  • the processing liquid of this invention contains water as (E) component.
  • the type of water is not particularly limited, such as distilled water and tap water. However, when using water with high electrical conductivity, for example, water with high hardness, it is preferable to adjust the amount of ions to be used. For example, tap water has different ion concentrations (hardness) depending on the region and country.
  • the cutting process using the fixed abrasive wire has a large amount of heat generation associated with the cutting process as compared with the conventional loose abrasive system. Therefore, the load on the wire and the workpiece is increased. Further, it is known that the processing accuracy is adversely affected by the expansion of the workpiece with the heat generation. In addition, it has been found that the diamond abrasive fixed to the wire is easily abraded and adversely affects the tool life. For this reason, the cooling performance is required for the processing fluid during processing. In order to improve the cooling performance, it is necessary to increase the amount of water in the processing fluid. However, when silicon is used as a workpiece, water in the processing fluid may react with chips to generate hydrogen gas.
  • the conventional aqueous processing fluid it is not easy to increase the amount of water, so that the fundamental solution for the problem of cooling has not been achieved. If the chips mixed in the working fluid react with the water in the working fluid and hydrogen gas is generated, bubbles will be caught when the working fluid is supplied by a pump, so the flow rate of the working fluid will be unstable. Since the liquid specific gravity is lowered due to the above problems and the bite of the bubbles, the wire saw machine which controls the working liquid by the liquid specific gravity may detect an abnormality and may bring about a problem that the processing is stopped. There is also a risk that the generated hydrogen gas may explode due to static electricity or the like.
  • the reaction between the working fluid and the chips can be suppressed by blending the above-described components and setting the pH to the above-described predetermined value. Cooling can be improved. That is, according to the working fluid of the present invention, it is possible to achieve both suppression of hydrogen generation and improvement of cooling performance.
  • the working fluid of the present invention when the amount of water in the working fluid is increased, there is a possibility that the equipment to which the working fluid contacts and the metal member of the wire may be easily corroded.
  • corrosion can be suppressed by containing a predetermined amount of the component (B) or the component (C), or setting the pH to a value within the above-described predetermined range. Therefore, the amount of water can be increased to improve the cooling performance. That is, according to the working fluid of the present invention, it is possible to achieve both suppression of corrosion and improvement of cooling performance.
  • the lower limit of the water content is preferably 10% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, and still more preferably 50% by mass or more, based on the mass of the entire working fluid of the present invention (100% by mass).
  • the upper limit is preferably 99.7% by mass or less.
  • the processing fluid of the present invention can contain a water-soluble polymer.
  • the processing fluid of the present invention can control the dispersibility of chips in the processing fluid by setting the electrical conductivity to a predetermined value as described above. By incorporating the water-soluble polymer in the working fluid of the present invention, the dispersibility of chips mixed in the working fluid can be further easily controlled.
  • water-soluble polymer which can be used in the present invention
  • those used in conventional working fluids can be used without particular limitation.
  • polyvinyl pyrrolidone or a copolymer containing a structural unit derived from vinyl pyrrolidone can be used.
  • the content of the water-soluble polymer can be appropriately selected as long as the effect by the other components can be exerted and the effects of other components are not disturbed or the processing fluid is not adversely affected. it can.
  • the processing fluid of the present invention can contain an antifoaming agent. By including an antifoaming agent in the processing fluid of the present invention, bubbles generated in the processing fluid can be reduced.
  • an antifoamer it can use, without specifically limiting a well-known thing. However, those which can be dispersed stably in the working fluid are preferred.
  • the lower limit of the content of the antifoaming agent is preferably 0.01% by weight, based on the total weight of the working fluid of the present invention (100% by weight). Or more, more preferably 0.02% by mass or more, still more preferably 0.03% by mass or more, and the upper limit is preferably 0.06% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, still more preferably 0. It is 04 mass% or less.
  • the upper limit of the content of the antifoaming agent is preferably 0. 0, based on the mass of the whole working fluid of the present invention (100% by mass).
  • the processing fluid of the present invention may contain components other than the components described above.
  • a viscosity modifier, a pH adjuster, an antioxidant etc. can be mentioned, for example.
  • Known viscosity modifiers, pH modifiers and antioxidants can be used without particular limitation. However, those soluble in water are preferred.
  • simulated use liquid viscosity indicates the result of the measurement performed in the following procedure. First, 10% by mass of silicon powder (average particle diameter 1.5 ⁇ m) was added to each working fluid, and after stirring and mixing, stainless steel balls (diameter 2 mm) were added and stirred at 1000 rpm for 10 hours to prepare a simulated working solution . Next, stainless steel balls were separated from the simulated liquid using a wire mesh (50 mesh), and the viscosity of the simulated liquid at 25 ° C. was measured using a Brookfield viscometer. "Hydrogen generation amount” shows the result of heating 10 ml of the above simulated working solution to 50 ° C.
  • the water-soluble working fluid for a fixed abrasive wire saw of the present invention can be used when cutting a silicon wafer using a fixed abrasive wire saw.

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Abstract

 (C)カルボン酸と、(D)水に溶解して塩基性を示す化合物と、(E)水と、を含み、25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下であり、25℃におけるpHが5以上10以下であり、平均粒子径1.5μmのシリコン粉を10質量%添加し撹拌して形成した擬似使用液の粘度が、25℃で30mPa・s未満である、固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液とすることで、切りくずが混入したときの粘度の上昇、及び、混入した切りくずによる設備の配管詰まりや固い固着の発生を抑制できる固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液を提供する。

Description

固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液
 本発明は、固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液に関する。
 近年、半導体デバイスの製造コスト低減を図るため、シリコンウエハの大口径化が急速に進みつつあり、シリコンウエハの切断加工技術の向上が重要となっている。当該切断加工技術としては、例えば、切断ロスが少なく加工能率の良いワイヤ工具(ワイヤソー)による切断方式がある。ワイヤソーによる切断方式には、遊離砥粒方式と固定砥粒方式とがあるが、遊離砥粒方式にあっては、(1)加工液として、油剤に砥粒を分散させたスラリーを使用するため切断ワークや周辺環境の汚染が著しい、(2)切断時に発生する切りくずを多量に含んだスラリーの廃棄が必要、(3)遊離砥粒と切りくずとの分離が困難である、(4)ワイヤ走行速度に制限があり加工能率向上に限界がある、などの問題が指摘されている。このような問題を解決すべく、ピアノ線等のワイヤ表面に、電着やレジンボンド等により砥粒を固定した固定砥粒型のワイヤソーの検討がなされている。例えば、特許文献1には、30~60μmの砥粒をレジンボンド固定した固定砥粒ワイヤソーが開示されている。当該固定砥粒ワイヤソーを1000~2500m/minの線速で走行させて、脆性材料を切断することにより、高能率な切断加工を可能としている。
 一方、固定砥粒ワイヤソーを用いて脆性材料を切断加工する際には、潤滑、冷却、切りくずの分散等を目的として、同時に加工液を用いる。当該加工液としては、水溶性のものを用いることが好ましい。水をほとんど含有しない非水性の加工液では、非水性の揮発成分(溶剤成分)が作業環境を悪化させる、加工液が引火性液体となる、加工後の洗浄工程や廃液処理等が水溶性の加工液を用いる場合より複雑になる等の問題を有する。
 また、被加工物がシリコンである場合には下記の問題がある。すなわち、シリコンは反応性が高く、切断加工中に加工液中の水分やアルカリと反応して水素ガスを発生させ、引火する虞がある。従って、シリコンとの反応性が抑制された加工液であることが好ましい。このような観点から、特許文献2に示すような加工液が提案されている。
特開2001-054850号公報 特開2003-082334号公報
 シリコンやサファイア、ガラス、セラミックス、ネオジウムなどの脆性材料を固定砥粒化したワイヤーを用いて切断加工する際に用いる加工液としては、特許文献2に記載された加工液のように、グリコール類と水とを主成分とするものが幅広く使用されている。しかしながら、このような従来の加工液では、十分に安定した切断加工を行えない場合があった。特に、切りくずが加工液に混入することによって、様々な問題を生じることがわかった。加工液を用いてシリコン等の被加工物の切断加工を行うと、該被加工物の切りくずが加工液に混入する。このとき、場合によっては加工性能へ影響を及ぼす程に加工液の粘度が高くなることがあった。また、切りくずが加工液に混入することによって、該切りくずが設備の配管に詰まるといった不具合や、メインローラーのワイヤーを掛ける溝に固い固着(以下、「ハードケーキ」と記載することがある。)を生じ、ワイヤーの目飛び(ワイヤーが溝から外れる)が発生する等の不具合を来たすこともあった。
 そこで本発明は、切りくずが混入したときの粘度の上昇、及び、混入した切りくずによる設備の配管詰まりやハードケーキの発生を抑制できる固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液を提供することを課題とする。
 以上の問題を解決すべく、本発明者らは鋭意検討し、以下の事項を見出した。
(1)被加工物の切りくずが加工液に混入したとき、その切りくずが微粉(1μm前後)であることや、活性な新生面を持つ切りくず同士が作用して周囲の加工液を含みながら凝集し、切りくずが増粘剤のように機能することによって、加工液の粘度が著しく上昇する。
(2)被加工物の切りくずが加工液に混入すると、該切りくずの比重が加工液を構成する組成物の比重より大きいために、比重の大きい切りくずが沈降する。このとき、切りくずが分散した状態で均一に沈降すると、沈降した切りくずが固く密に固化し、設備の配管が詰まったり、ハードケーキが発生したりする。
(3)加工液の電気伝導度を適切に調整することによって、加工液に混入する切りくずの分散挙動を制御し、上記(1)及び(2)の問題を解決することができる。
 本発明は上記知見に基づいてなされたものであり、以下の構成をとる。すなわち、
 本発明の第1の態様は、(C)カルボン酸と、(D)水に溶解して塩基性を示す化合物と、(E)水と、を含み、25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下であり、25℃におけるpHが5以上10以下であり、平均粒子径1.5μmのシリコン粉を10質量%添加し撹拌して形成した擬似使用液の粘度が、25℃で30mPa・s未満である、固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液である。
 本発明において、「粘度」とは、ブルックフィールド型粘度計によって測定された粘度を意味する。また、「平均粒子径」とは、株式会社堀場製作所製のレーザー回折/散乱式粒度分布測定装置「LA910」を用いて計測したものを意味する。
 本発明の第1の態様の加工液は、さらに、(A)アルコールとエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとからなる共重合体、及びポリオキシアルキレングリコール類から選ばれる少なくとも一種類以上のノニオン系界面活性剤を含むことが好ましい。
 また、本発明の第1の態様の加工液は、さらに、(B)グリコール類を含むことが好ましい。
 本発明の第2の態様は、(A)アルコールとエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体、及びポリオキシアルキレングリコール類のうち少なくとも1種類以上のノニオン系界面活性剤を0.1質量%以上8質量%以下と、(B)グリコール類を0.1質量%以上80質量%以下と、(C)カルボン酸を0.01質量%以上5質量%以下と、(D)水に溶解して塩基性を示す化合物を0.01質量%以上7質量%以下と、(E)水と、を含み、25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下であり、25℃におけるpHが5以上10以下であり、平均粒子径1.5μmのシリコン粉を10質量%添加し撹拌して形成した擬似使用液の粘度が、25℃で30mPa・s未満である、固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液である。
 本発明の第1及び第2の態様の加工液は、25℃における表面張力が20mN/m以上50mN/m以下であることが好ましい。
 また、本発明の第1及び第2の態様の加工液は、さらに、水溶性高分子及び/または消泡剤を含むことが好ましい。
 また、本発明の第1及び第2の態様の加工液は、全体の質量を100質量%として、(E)水を10質量%以上99.7質量%以下含むことが好ましい。
 本発明によれば、切りくずが混入したときの粘度の上昇、及び、混入した切りくずによる設備の配管詰まりやハードケーキの発生を抑制できる固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液を提供することができる。
 <本発明の加工液の性状>
 (電気伝導度)
 本発明の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液は、25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下である。電気伝導度の上限は、2000μS/cm以下であることが好ましく、1000μS/cm以下であることがより好ましい。
 電気伝導度とは、電気の伝わりやすさを示す指標であり、電気抵抗の逆数として定義されている。加工液に含まれるイオン性の物質の濃度が高い程、加工液の電気伝導度は高くなり、電気を通しやすくなる。また、加工液に含まれるイオン性の物質の濃度が高い程、電荷を持っている微粒子(切りくず)が加工液中で凝集しやすくなる。すなわち、加工液の電気伝導度が高い程、該加工液に混入した切りくずの見かけの粒子径が大きくなり、切りくずが沈降しやすくなる。またこのとき、切りくずは立体的で嵩高い状態で沈降するため、ハードケーキが生じ難い傾向にあると考えられる。さらに、切りくずを凝集させて沈降させることにより、切りくずの沈降速度を速めることが可能であり、遠心分離等によって加工液から切りくずを分離し易くなる。
 しかしながら、電気伝導度が高すぎる場合、切りくずが加工液中で分散し難くなることによって、加工液の粘度が上昇し易くなる。
 一方、電気伝導度が低い場合(純水などがその代表例)は、電荷を持っている微粒子(切りくず)が各々の電荷による反発で分散し、切りくずが混入しても加工液の粘度は上昇し難い。
 しかしながら、加工液の電気伝導度が低過ぎて加工液中で切りくずが分散され過ぎると、切りくずは分散した状態で均一に沈降し、固く密に固化する。このように切りくずが沈降して固く密に固化することによって、設備の配管が詰まったり、メインローラーのワイヤー溝にハードケーキが生じることによって、ワイヤーの目飛び(ワイヤーが溝から外れる)が発生したりするなどの不具合を生じやすくなる。また、加工液中で切りくずが分散され過ぎると、切りくずの沈降する速度が遅くなる。そのため、廃液処理や加工液のリサイクルを目的として加工液中の切りくずを除去する際、遠心分離などで加工液中の切りくずを除去することが困難になる。
 本発明の加工液によれば、25℃における電気伝導度を上述した範囲にすることによって、切りくずを加工液中で適度に分散、凝集、沈降させることができる。その結果、加工液の粘度の上昇を抑制することや、設備の配管詰まりやハードケーキの発生を抑制すること等が可能となる。
 本発明の加工液の電気伝導度は、水に溶解してイオン化する物質の加工液への添加量によって調整することができる。例えば、後述する(C)成分(カルボン酸)や(D)成分(水に溶解して塩基性を示す化合物)の加工液への添加量を調整することによって、加工液の電気伝導度を適宜調整することができる。なお、本発明の加工液は、水に希釈して使用してもよいが、その場合も、希釈後の加工液の電気伝導度が上述した範囲であることが好ましい。
 (粘度)
  本発明の加工液の粘度は、25℃で1mPa・s以上25mPa・s以下であることが好ましく、上限は20mPa・s以下であることがより好ましい。加工液の粘度が高くなり過ぎると、一般的には加工液中の水分量が少なく、固定砥粒ワイヤーを用いた加工に伴って発生する熱を奪う能力(以下、「冷却性」と記載する場合がある。)が弱い。そのため、加工精度の低下や工具への負荷が増す等の問題を生じる虞がある。また、本発明の加工液に所定のシリコン粉を分散させた液体(擬似使用液)の粘度は、25℃で1mPa・s以上30mPa・s未満であることが好ましく、1mPa・s以上20mPa・s以下であることがさらに好ましく、1mPa・s以上15mPa・s以下であることがさらに好ましい。該擬似使用液の粘度は、本発明の加工液にシリコン粉(平均粒子径:1.5μm)を10質量%添加し、撹拌混合後、ステンレス鋼球(直径2mm)を入れ、1000rpmで10時間撹拌し、該ステンレス鋼球を濾別して得られた擬似使用液について測定したものである。上記した加工液自体の粘度が高いと、シリコン粉を含有する擬似使用液の粘度も必然的に高くなる。なお、加工液および擬似使用液の粘度は、ブルックフィールド型粘度計にて測定することができる。
 本発明の加工液の粘度は、例えば、後述する(A)成分(ノニオン系界面活性剤)、(B)成分(グリコール類)、(C)成分(カルボン酸)、(D)成分(水に溶解して塩基性を示す化合物)、(E)成分(水)の配合量より適宜調整することができる。また、その他添加剤(例えば、粘度調整剤。)の配合によって調整することもできる。なお、本発明の加工液は、水に希釈して使用してもよいが、その場合も、希釈後の加工液の粘度が上述した範囲であることが好ましい。
 (pH)
  本発明の加工液のpHは、25℃で5以上10以下である。加工液のpHが5未満である場合は、加工液の金属に対する腐食性が高まり、加工液が触れた設備やワイヤソーに備えられる金属部材を腐食させる虞がある。金属に対する腐食性は、加工液に含まれる水の量等にもよるが、加工液のpHを25℃で5以上とすることによって、上記腐食を抑制し易くなる。かかる観点から、本発明の加工液のpHは、25℃で6以上であることがより好ましく、7以上であることがさらに好ましい。逆に加工液のpHが10を超える場合は、加工液と加工液に混入した切りくず(シリコン)との反応性が高まり、加工液と切りくずとが反応して水素が発生する虞や、加工時の加工液の粘度が著しく上昇する虞がある。加工液のpHを25℃で10以下とすることによって、加工時における水素の発生や、加工時の加工液の粘度上昇を抑制し易くなる。
 本発明の加工液のpHは、例えば、後述する(B)成分(グリコール類)や、(C)成分(カルボン酸)及び(D)成分(水に溶解して塩基性を示す化合物)の含有量より適宜調整することができる。また、その他添加剤(例えば、pH調整剤。)の配合によって調整することもできる。なお、本発明の加工液は、水に希釈して使用してもよいが、その場合も、希釈後の加工液のpHが上述した範囲であることが好ましい。
 (表面張力)
  本発明者らは、従来の加工液は、使用するワイヤーへの濡れ性や被加工物の隙間への浸透性が不十分であり、加工部(被加工物のうち、ワイヤーが接触する部分)に到達すべき加工液が不足し、加工性能の低下を招いている場合があることを見出した。加工液の表面張力が高すぎる場合、加工液の濡れ性や浸透性が悪くなり、加工部に加工液が行き渡らなくなる虞がある。極端な例では、加工部が乾燥した状態で切断加工することとなる。そのため、加工部における発熱が著しくなり、工具へ過度の負荷がかかってワイヤーが断線したり、加工精度が低下して被加工物の面粗さが悪くなったりする虞があった。かかる観点から、本発明の加工液の表面張力は、25℃で50mN/m以下であることが好ましく、45mN/m以下であることがより好ましく、40mN/m以下であることがさらに好ましい。加工液の表面張力を上記範囲とすることによって、被加工物(シリコン等)やワイヤー(ニッケルや樹脂等)に対する濡れ性や、加工部への浸透性を向上させることができる。
 一方、表面張力が低い場合、加工液の起泡が強くなる。そのため、切断加工時に加工液中に泡が噛み込まれ、冷却性が弱まるという問題があった。また、加工液から泡が発生することによって、加工液を溜めるために設置されているタンクから該泡がオーバーフローする等の問題もあった。かかる観点から、本発明の加工液の表面張力は、25℃で20mN/m以上であることが好ましく、30mN/m以上であることがより好ましい。
 本発明の加工液の表面張力は、例えば、後述する(A)成分や消泡剤の配合量を調整することによって、適宜調整することができる。なお、本発明の加工液は、水に希釈して使用してもよいが、その場合も、希釈後の加工液の表面張力が上述した範囲であることが好ましい。
 <本発明の加工液が含む成分>
 本発明の加工液には、例えば、以下に説明する成分を含ませることができる。
 ((A)成分)
  本発明の加工液は、(A)成分として、アルコールとエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体、及びポリオキシアルキレングリコール類から選ばれる少なくとも一種類以上のノニオン系界面活性剤を含ませることができる。加工液に(A)成分を含有させることによって、該加工液の表面張力を低下させ、加工液の濡れ性や浸透性を向上させることができる。
 上記アルコールとして用いることができるものに特に制限はないが、例えば、炭素数8以上12以下のアルコールを用いることができる。
 上記ポリオキシアルキレングリコール類の具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンの共重合体等を挙げることができる。本発明に用いるポリオキシアルキレングリコール類の質量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いた標準ポリスチレン換算)は、10000以下であることが好ましく、5000以下であることがより好ましく、3500以下であることがさらに好ましい。
 本発明の加工液は、切断加工の作業環境に応じて、適宜水で希釈して作製することができる。すなわち、本発明の加工液に含まれる成分のうち水以外の成分からなる濃縮組成物を作製し、該濃縮組成物を作業現場等において水で希釈して、本発明の加工液を作製することもできる。また、高濃度の本発明の加工液を作製(水を少なめにして本発明の加工液を作製)し、切断加工の作業環境に応じてそのまま使用したり、水でさらに希釈して用いたりすることもできる。本発明の加工液を実際に切断加工に使用する際において、(A)成分の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.2質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上であり、上限が好ましくは0.8質量%以下、より好ましくは0.7質量%以下、さらに好ましくは0.6質量%以下である。ただし、上述したように高濃度の本発明の加工液を作製する場合、(A)成分の含有量の上限は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、好ましくは8質量%以下、より好ましくは7質量%以下、さらに好ましくは6質量%以下である。
 ((B)成分)
  また、本発明の加工液は、(B)成分として、グリコール類を含ませることができる。本発明の加工液に所定量の(B)成分を含有させることによって、(B)成分以外の成分を本発明の加工液に安定的に溶解させることや、本発明の加工液の乾燥を抑制することができる。
 (B)成分として用いるグリコール類の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体、及びエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体等のグリコール、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及びトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、等のグリコールモノアルキルエーテル、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体のモノアルキルエーテル等の水溶性グリコール類が挙げられる。上記例示したグリコール類のうち、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール又はポリプロピレングリコールを用いることが好ましく、特にジプロピレングリコール、又はジエチレングリコールを用いることが好ましい。これらは1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記2種以上の成分からなる共重合体として用いてもよい。上記グリコール類の質量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いた標準ポリスチレン換算)は好ましくは100以上700以下であり、より好ましくは、100以上200以下である。
 本発明の加工液を実際に切断加工に使用する際において、(B)成分の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.5質量%以上、さらに好ましくは2質量%以上であり、上限が好ましくは8質量%以下、より好ましくは7質量%以下である。なお、上述したように高濃度の本発明の加工液を作製する場合、(B)成分の含有量の上限は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、好ましくは80質量%以下、より好ましくは70質量%以下である。(B)成分の含有量を上記範囲とすることによって、(B)成分以外の成分を本発明の加工液に安定的に溶解させることや、本発明の加工液の乾燥を抑制することができる。
 ((C)成分)
  また、本発明の加工液は、(C)成分として、カルボン酸を含ませることができる。本発明の加工液に所定量の(C)成分を含有させることによって、後述する(D)成分との組み合わせで、本発明の加工液のpHや電気伝導度を調整することができる、切断加工時の本発明の加工液のpHの変動を緩衝することができる、本発明の加工液の金属に対する腐食を緩和することができる、他の成分を本発明の加工液に安定的に溶解することができる、などの効果を奏することができる。
 (C)成分として用いるカルボン酸の具体例としては、クエン酸、コハク酸、乳酸、リンゴ酸、アジピン酸、蓚酸、ドデカン二酸、酢酸などを挙げることができる。これらの中で、クエン酸、コハク酸を用いることが好ましく、クエン酸を用いることがより好ましい。これらは、1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
 本発明の加工液を実際に切断加工に使用する際において、(C)成分の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上である。上限が好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下、さらに好ましくは0.2質量%以下である。なお、上述したように高濃度の本発明の加工液を作製する場合、(C)成分の含有量の上限は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下、さらに好ましくは2質量%以下である。(C)成分の含有量を上記範囲とすることによって、上述した(C)成分を含有させることによる効果を奏することができる。(C)成分の含有量が少なすぎれば、当該効果を十分に得られない虞があり、(C)成分の含有量が多すぎれば、(C)成分を中和するための(D)成分の使用量が増え、意図しない電気伝導度の上昇を招く上、金属を腐食しやすくなる。
 (D)水に溶解して塩基性を示す化合物
  また、本発明の加工液は、(D)成分として、水に溶解して塩基性を示す化合物(以下、「塩基性化合物」と記載する場合がある。)を含有している。本発明の加工液に所定量の(D)成分を含有させることによって、上記(C)成分との組み合わせで、本発明の加工液のpHや電気伝導度を調整することができる、切断加工時に本発明の加工液のpHの変動を緩衝させることができる、本発明の加工液の金属に対する腐食を緩和することができる、本発明の加工液に他の成分を安定的に溶解することができる、などの効果を奏することができる。
 (D)成分として用いる塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属元素を含む化合物や、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、N-(2-アミノエチル)-2-アミノエタノール、N-(β-アミノエチル)エタノールアミン等のアミンを挙げることができる。これらは1種を単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることがでる。
 本発明の加工液を実際に切断加工に使用する際において、(D)成分の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上であり、上限が好ましくは0.7質量%以下、より好ましくは0.6質量%以下、さらに好ましくは0.5質量%以下である。なお、上述したように高濃度の本発明の加工液を作製する場合、(D)成分の含有量の上限は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、好ましくは7質量%以下、より好ましくは6質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下である。(D)成分の含有量を上記範囲とすることによって、上述した(D)成分を含有させることによる効果を奏することができる。また、(D)成分の含有量が多過ぎれば、中和するために必要な(C)成分の量が増え、本発明の意図しない電気伝導度の上昇を招く上、切りくずの分散が悪化する。
 また、本発明の加工液には、上記(C)成分及び(D)成分に替えて、(C)成分及び(D)成分から形成された塩を含有させることもできる。当該塩の含有量については、(C)成分及び(D)成分換算で、上記の含有量となるように含有されることが好ましい。当該塩の具体例としては、カルボン酸のアルカリ金属塩やカルボン酸のアミン塩等が挙げられる。
 ((E)成分)
  また、本発明の加工液は、(E)成分として、水を含有している。当該水としては、蒸留水、水道水等、その種類は特に限定されない。ただし、電気伝導度の高い水、例えば高硬度の水を用いる場合は、含有するイオンの量を調整して使用することが好ましい。例えば、水道水は地方、国により含有するイオン濃度(硬度)が異なる。
 固定砥粒化したワイヤーを用いる切断加工は、従来の遊離砥粒方式と比較して切断加工に伴う発熱量が多い。そのため、ワイヤーや被加工物に対する負荷が多くなる。また、発熱に伴って被加工物が膨張することにより、加工精度に悪影響を及ぼすことが分かっている。さらに、ワイヤーに固定化したダイヤモンド砥粒が摩滅しやすくなり、工具寿命にも悪影響を及ぼすことが分かっている。このため、加工中の加工液には冷却性が求められる。冷却性を向上させるためには、加工液中の水分量を増やす必要がある。しかしながら、シリコンを被加工物とする場合、加工液中の水と切りくずとが反応して水素ガスを発生する場合がある。そのため、従来の水性の加工液では、水分量を増やすことが容易でないため、冷却性の問題に関して根本的な解決に至っていなかった。加工液に混入した切りくずと加工液中の水とが反応して水素ガスが発生すると、加工液をポンプで供給する際に泡を噛み込んでしまうため、加工液の供給流量が不安定となる不具合や、泡の噛み込みにより液比重が低下するため、液比重で加工液を制御するワイヤソーマシンでは異常を検知し、加工が停止する不具合などを来たすことがあった。また、発生した水素ガスが静電気などによって爆発する危険性もあった。
 本発明の加工液によれば、上述した各成分を配合するとともにpHを上述した所定の値とすることによって、加工液と切りくずとの反応を抑制することができるため、水分量を増やして冷却性を向上させることができる。すなわち、本発明の加工液によれば、水素発生の抑制と冷却性の向上とを両立することができる。
 また、加工液中の水分量を増やした場合、加工液が触れる設備やワイヤーの金属部材を腐食させやすくなる虞がある。しかしながら、本発明の加工液によれば、(B)成分や(C)成分を所定量含有させたり、pHを上述した所定の範囲内の値にしたりすることによって、腐食を抑制することができるため、水分量を増やして冷却性を向上させることができる。すなわち、本発明の加工液によれば、腐食の抑制と冷却性の向上とを両立することができる。
 水の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは10質量%以上、より好ましくは25質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上である。水の含有量を10質量%以上とすることによって、加工液の冷却性を確保しやすくなり、加工精度の低下防止や工具への負荷軽減を図り易くなる。一方、上限は、好ましくは99.7質量%以下である。水分量が100%(純水)では濡れ性や浸透性の観点から加工液として不適であるが、微量でも本発明で規定する他の成分を含有すれば少なからず効果があると考えられる。また、加工液の冷却性は加工液に含まれる水分が多い程良い。
 (水溶性高分子)
  本発明の加工液には、水溶性高分子を含ませることができる。本発明の加工液は、上述したように電気伝導度を所定の値とすることによって、加工液中の切りくずの分散性を制御することができる。本発明の加工液に水溶性高分子を含有させることによって、加工液に混入した切りくずの分散性をさらに制御し易くなる。
 本発明に用いることができる水溶性高分子としては、従来の加工液に用いていたものを特に限定なく用いることができる。例えば、ポリビニルピロリドン、または、ビニルピロリドン由来の構造単位を含む共重合体等を用いることができる。水溶性高分子の含有量は、水溶性高分子を含有させることによる上記効果を奏することができ、他の成分による効果を妨げたり、加工液に悪影響を及ぼしたりしない範囲で適宜選択することができる。
 (消泡剤)
  本発明の加工液には、消泡剤を含有させることができる。本発明の加工液に消泡剤を含有させることによって、加工液中に生じる泡を減らすことができる。
 消泡剤としては、公知のものを特に限定することなく用いることができる。ただし、加工液中で安定的に分散できるものが好ましい。
 本発明の加工液を実際に切断加工に使用する際において、消泡剤の含有量は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、下限が好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.02質量%以上、さらに好ましくは0.03質量%以上であり、上限が好ましくは0.06質量%以下、より好ましくは0.05質量%以下、さらに好ましくは0.04質量%以下である。なお、上述したように高濃度の本発明の加工液を作製する場合、消泡剤の含有量の上限は、本発明の加工液全体の質量を基準(100質量%)として、好ましくは0.6質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.4質量%以下である。消泡剤の含有量を上記範囲とすることによって、上述した消泡剤を含有させることによる効果を奏することができる。また、消泡剤の含有量が多過ぎれば、加工液が分離するなど、加工液の安定性を低下させる虞がある。
 (その他の成分)
  本発明の加工液には、上述した成分以外の成分が含まれていてもよい。被加工物に対して腐食、変色等の悪影響を及ぼさず、且つ、混合後の系の安定性に影響を及ぼさないような種々の添加剤を、加工性能に影響を及ぼさない範囲で添加することができる。このような添加剤としては、例えば、粘度調整剤、pH調整剤、酸化防止剤等を挙げることができる。粘度調整剤、pH調整剤、及び酸化防止剤としては、公知のものを特に限定することなく用いることができる。ただし、水に可溶なものが好ましい。
 <加工液の作製>
 本発明の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液(実施例1~4)及び本発明以外の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液(比較例1~13)を、表1及び表2に示す組成となるように作製した。表1及び表2に示した各成分の配合量は、質量%で示している。なお、比較例9は、ユシロ化学工業製のシンセティック油剤10質量%及び水90質量%を含む加工液である。また、表1及び表2中の「C10アルコール:EOPO」は、炭素数が10のアルコールと、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体を意味している。
 <評価>
 作製した加工液に対して、表1及び表2に示した項目について評価を行った。「外観」は、加工液の外観を目視で観察した結果を示している。「pH」は、加工液の25℃でのpHを測定した結果を示している。「曇点」は、加工液の曇点を測定した結果を示している。「加工液粘度」は、ブルックフィールド型粘度計を用い測定した、加工液の25℃での粘度を示している。「表面張力」は、株式会社合社製のデジタルテンションメータRTM-101型を使用し、デュヌイ/リング法を用いて、加工液の25℃での静的な表面張力を測定した結果を示している。「電気伝導度」は、株式会社堀場製作所製の導電率計ES-51を使用して、加工液の25℃での電気伝導度を測定した結果を示している。「擬似使用液粘度」は、以下の手順で行った測定の結果を示している。まず、各加工液にシリコン粉(平均粒子径1.5μm)を10質量%添加し、撹拌混合後、ステンレス鋼球(直径2mm)を入れ、1000rpmで10時間撹拌して擬似使用液を作製した。次に、該擬似使用液から、金網(50メッシュ)でステンレス鋼球をろ別した後、ブルックフィールド型粘度計を用いて擬似使用液の25℃での粘度を測定した。「水素発生量」は、上記擬似使用液10mlを50℃に加熱し、30分間に発生する水素量を測定した結果を示している。「ハードケーキ」は、擬似使用液をガラス容器内で1週間静置し、上澄み液を除去した後、ガラス容器の底に残った沈降層の固さを、薬さじで確認した。沈降層が固く、薬さじがガラス容器の底面に達しない場合を「×」とし、達した場合を「○」とした。「沈降性」は、ガラス容器内で1週間静置し、上澄みの色から目視で判断した。上澄みがシリコン粉により懸濁している場合は「×」、澄んでいる場合は「○」とした。「腐食性」は、鋳鉄切りくずをガラス製のシャーレに入れ、切り屑が完全に浸るまで、加工液を注いだ。その後、蓋をして10分静置した後、蓋をしたままシャーレを斜めにして加工液を流出させた。次いで、シャーレを水平台の上に置き、この状態で24時間静置して錆の発生の有無を観察評価した。腐食性の評価の表示において、「○」は錆の発生が鋳鉄切りくずの10%未満であったことを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表1に示したように、実施例1~4は、ハードケーキ、沈降性、及び腐食性の各評価で良好な結果が得られた。また、実施例1~4は、水素発生量が少なく、疑似加工液の粘度が低かった。一方、表1及び表2に示したように、比較例1~13は、ハードケーキ、沈降性、及び腐食性のいずれかの評価で悪い結果となるか、疑似加工液の粘度が高くなるか、又は水素の発生量が多くなっていた。
 以上、現時点において、もっとも、実践的であり、かつ、好ましいと思われる実施形態に関連して本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示された実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液もまた本発明の技術的範囲に包含されるものとして理解されなければならない。
 本発明の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液は、固定砥粒ワイヤソーを用いてシリコンウエハを切断する際に使用することができる。

Claims (7)

  1.  (C)カルボン酸と、(D)水に溶解して塩基性を示す化合物と、(E)水と、を含み、
     25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下であり、
     25℃におけるpHが5以上10以下であり、
     平均粒子径1.5μmのシリコン粉を10質量%添加し撹拌して形成した擬似使用液の粘度が、25℃で30mPa・s未満である、
    固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  2.  さらに、(A)アルコールとエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体、及びポリオキシアルキレングリコール類から選ばれる少なくとも一種類以上のノニオン系界面活性剤を含む、請求項1に記載の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  3.  さらに、(B)グリコール類を含む、請求項1または2に記載の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  4.  (A)アルコールとエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体、及びポリオキシアルキレングリコール類のうち少なくとも1種類以上のノニオン系界面活性剤を0.1質量%以上8質量%以下と、
     (B)グリコール類を0.1質量%以上80質量%以下と、
     (C)カルボン酸を0.01質量%以上5質量%以下と、
     (D)水に溶解して塩基性を示す化合物を0.01質量%以上7質量%以下と、
     (E)水と、を含み、
     25℃における電気伝導度が300μS/cm以上3000μS/cm以下であり、
     25℃におけるpHが5以上10以下であり、
     平均粒子径1.5μmのシリコン粉を10質量%添加し撹拌して形成した擬似使用液の粘度が、25℃で30mPa・s未満である、
    固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  5.  25℃における表面張力が20mN/m以上50mN/m以下である、請求項1~4のいずれかに記載の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  6.  さらに、水溶性高分子及び/または消泡剤を含む、請求項1~5のいずれかに記載の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
  7.  固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液全体の質量を100質量%として、前記(E)水を10質量%以上99.7質量%以下含む、請求項1~6のいずれかに記載の固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013023945A1 (de) * 2011-08-15 2013-02-21 Borer Chemie Ag Schneidlösung zur kühlung und schmierung eines schneiddrahts mit fixiertem schneidmittel
WO2014003157A1 (ja) * 2012-06-29 2014-01-03 出光興産株式会社 水性加工液

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103945986B (zh) * 2011-11-15 2017-03-08 花王株式会社 使用过的固定磨料钢丝锯用切削液组合物的处理方法
CN104955929B (zh) * 2012-12-06 2018-06-05 陶氏环球技术有限责任公司 水性切削液组合物
JP6204029B2 (ja) * 2013-03-06 2017-09-27 出光興産株式会社 水性加工液
JP6256865B2 (ja) * 2015-08-06 2018-01-10 三菱瓦斯化学株式会社 切削加工補助潤滑材及び切削加工方法
JP6639283B2 (ja) * 2016-03-14 2020-02-05 株式会社ディスコ 不良検出方法
CN106118838A (zh) * 2016-06-22 2016-11-16 上海尤希路化学工业有限公司 可稀释循环回收使用光伏硅晶片线切割液
CN106675751B (zh) * 2016-12-20 2020-04-10 广东山之风环保科技有限公司 玻璃切削液
JP7021998B2 (ja) * 2018-04-02 2022-02-17 ユシロ化学工業株式会社 固定砥粒ワイヤーソー用水溶性加工油剤、固定砥粒ワイヤーソー用加工液、切断加工方法および使用済み加工液処理方法
CN111267256A (zh) * 2020-02-20 2020-06-12 天津中环领先材料技术有限公司 一种改善大直径硅圆片表面纳米形貌的切割工艺

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001054850A (ja) 1999-08-11 2001-02-27 Osaka Diamond Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤーソーによる硬脆材料の切断加工法
JP2003082335A (ja) * 2001-09-06 2003-03-19 Yushiro Chem Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物
JP2003082334A (ja) 2001-09-06 2003-03-19 Yushiro Chem Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物
WO2011007590A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 ユシロ化学工業株式会社 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液
WO2012017947A1 (ja) * 2010-08-03 2012-02-09 ユシロ化学工業株式会社 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW575660B (en) * 2001-09-07 2004-02-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Nonflammable water-based cutting fluid composition and nonflammable water-based cutting fluid
JP4481898B2 (ja) * 2005-07-25 2010-06-16 ユシロ化学工業株式会社 水性砥粒分散媒組成物
SG174950A1 (en) * 2009-03-31 2011-11-28 Idemitsu Kosan Co Working fluid for brittle material and working fluid for hard material

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001054850A (ja) 1999-08-11 2001-02-27 Osaka Diamond Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤーソーによる硬脆材料の切断加工法
JP2003082335A (ja) * 2001-09-06 2003-03-19 Yushiro Chem Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物
JP2003082334A (ja) 2001-09-06 2003-03-19 Yushiro Chem Ind Co Ltd 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物
WO2011007590A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 ユシロ化学工業株式会社 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液
WO2012017947A1 (ja) * 2010-08-03 2012-02-09 ユシロ化学工業株式会社 固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2679661A4 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013023945A1 (de) * 2011-08-15 2013-02-21 Borer Chemie Ag Schneidlösung zur kühlung und schmierung eines schneiddrahts mit fixiertem schneidmittel
WO2014003157A1 (ja) * 2012-06-29 2014-01-03 出光興産株式会社 水性加工液
JP2014009313A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Idemitsu Kosan Co Ltd 水性加工液
US20150133354A1 (en) * 2012-06-29 2015-05-14 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Aqueous processing liquid
KR102060953B1 (ko) 2012-06-29 2019-12-31 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 수성 가공액

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