WO2012114539A1 - 音響センサ及びマイクロフォン - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to an acoustic sensor and a microphone. Specifically, the present invention relates to a capacitive acoustic sensor manufactured using a MEMS (Micro Electro Mechanical System) technology or a micromachining technology. The present invention also relates to a microphone using the acoustic sensor.
  • MEMS Micro Electro Mechanical System
  • Microphones are used in various devices such as mobile phones and IC recorders.
  • An acoustic sensor built in such a microphone is required to be improved in S / N ratio and downsized.
  • a method of increasing the sensitivity of the acoustic sensor there is a method of increasing the sensitivity of the acoustic sensor.
  • a method of widening the area of the diaphragm and a method of increasing the displacement amount of the diaphragm by reducing the spring property of the diaphragm can be employed.
  • miniaturization of the acoustic sensor is hindered.
  • the displacement amount of the diaphragm is increased, so that the durability of the acoustic sensor is lowered.
  • the second method for increasing the S / N ratio of the acoustic sensor is to reduce the noise of the acoustic sensor.
  • noise of the capacitive acoustic sensor thermal noise generated in an air gap formed between the diaphragm (movable electrode plate) and the back plate (fixed electrode plate) becomes a problem.
  • the thermal noise in the air gap is noise generated by a mechanism as shown in FIG.
  • the air gap 13 between the diaphragm 11 and the back plate 12, that is, the air molecule ⁇ in the semi-sealed space collides with the diaphragm 11 due to fluctuation (thermal motion).
  • the diaphragm 11 is subjected to a minute force due to the collision with the air molecule ⁇ , and the minute force applied to the diaphragm 11 varies randomly. Therefore, the diaphragm 11 vibrates due to the collision of the air molecules ⁇ , and electrical noise is generated in the vibration sensor.
  • noise due to such thermal noise is large and the S / N ratio is deteriorated.
  • Such noise caused by thermal noise increases the opening ratio of the acoustic holes 14 opened in the back plate 12 as shown in FIG. 1B, and the air in the air gap 13 passes through the acoustic holes 14. It can be reduced by making it easier to do. It can also be reduced by widening the air gap 13 between the diaphragm 11 and the back plate 12.
  • the opening ratio of the acoustic hole 14 is increased or the air gap 13 is widened, the capacitance of the capacitor constituted by the diaphragm 11 and the back plate 12 is decreased. Therefore, in the method of simply reducing the noise, the sensitivity of the acoustic sensor is reduced at the same time as the noise is reduced, and the S / N ratio of the acoustic sensor cannot be improved.
  • Patent Document 1 discloses a differential detection type microphone for the purpose of improving the S / N ratio.
  • two acoustic sensors 23a and 23b are provided on a single substrate 22, and the upper and lower configurations of the sensors 23a and 23b are reversed. That is, in one acoustic sensor 23a, a fixed plate 25a having an acoustic hole 26a is formed on the diaphragm 24a to constitute a capacitor for acoustic detection. In the other acoustic sensor 23b, a diaphragm 24b is formed on a fixed plate 25b having an acoustic hole 26b to constitute a capacitor for acoustic detection.
  • both the acoustic sensors 23a and 23b output detection signals from the diaphragms 24a and 24b, when both the sensors 23a and 23b detect the same acoustic vibration, the sensors 23a and 23b are detected with a phase shifted by 180 °. A signal is output.
  • the output of the acoustic sensor 23a and the output of the acoustic sensor 23b are input to a signal processing circuit (ASIC) and subtracted in the signal processing circuit.
  • ASIC signal processing circuit
  • Patent Document 2 discloses another conventional microphone.
  • the microphone 31 basically has the same structure as the microphone 21 of Patent Document 1.
  • a plurality of independent acoustic sensors 33a, 33b,... Having the same structure are provided on a common substrate 32. That is, any of the acoustic sensors 33a, 33b,... Is formed with the diaphragm 34 facing the upper surface of the fixed plate 35 having the acoustic holes 36 opened.
  • a signal processing circuit 37 is provided on the upper surface of the substrate 32, and outputs of the respective acoustic sensors 33a, 33b,. To the signal processing circuit 37.
  • the signal processing circuit 37 adds the output of each sensor 33a, 33b,. Is expected to improve.
  • acoustic characteristics other than sensitivity are likely to be shifted between the sensors. For example, frequency characteristics, phase, and the like are affected by the back chamber and vent hole of each sensor, and therefore tend to have different characteristics among the sensors.
  • the present invention has been made in view of the above technical problems, and an object of the present invention is to provide an acoustic sensor capable of improving the S / N ratio of the sensor without hindering downsizing of the sensor. And providing a microphone using the acoustic sensor.
  • An acoustic sensor includes a substrate having a cavity, a thin film diaphragm disposed over the substrate so as to cover the cavity, a movable electrode plate formed on the diaphragm, An acoustic sensor comprising a back plate fixed to the upper surface of the substrate so as to face the diaphragm, and a fixed electrode plate provided on the back plate at a position facing the movable electrode plate, wherein the diaphragm
  • the diaphragm is supported by the substrate or the back plate by the support portion, and the diaphragm has a plurality of points where the displacement amount during vibration becomes a maximum, and the adjacent maximum among the points where the displacement amount becomes a maximum.
  • the support portion is present on a straight line that intersects a line segment connecting the points.
  • the movable electrode plate may be provided on the diaphragm, or the diaphragm itself may be a movable electrode plate.
  • the diaphragm has a plurality of points at which the displacement amount at the time of vibration is maximized, and a line segment connecting adjacent maximum points among the points at which the displacement amount is maximized. Since the support portion exists on the intersecting straight line, the rigidity of the diaphragm on the straight line intersecting with the line segment connecting adjacent local maximum points is increased. Therefore, the vibration of one of the maximum points adjacent to each other does not easily propagate to the other maximum point through a straight line where the displacement amount intersects the line segment connecting the maximum points.
  • capacitors acoustic sensing units in the embodiment
  • capacitors composed of a movable electrode plate and a fixed electrode plate are independent from each other in regions on both sides partitioned by a straight line intersecting a line segment connecting adjacent local maximum points.
  • the capacitors are connected in parallel, noise can be reduced without substantially reducing sensitivity, so the S / N ratio of the acoustic sensor is improved. Can be made. Further, since the diaphragm is only divided into a plurality of regions that can be vibrated independently, downsizing of the acoustic sensor is not hindered.
  • the diaphragm is partially supported by a plurality of the support portions provided on the substrate or the back plate at intervals. According to such an embodiment, the rigidity of the diaphragm can be reduced as compared with the case where the entire circumference of the diaphragm is supported by the support portion, and the sensitivity of the acoustic sensor can be improved.
  • the diaphragm has a plurality of beam portions extending outward, and the beam portions are supported by the support portion. According to such an embodiment, even if the number of support portions of the diaphragm by the support portion increases, the rigidity of the diaphragm is hardly increased, and the sensitivity of the acoustic sensor can be increased.
  • the diaphragm has a rectangular shape.
  • the shape of the diaphragm may be a rectangular shape, a disk shape, or other shapes, but if the shape of the diaphragm is a rectangular shape, the linearity of the output of the acoustic sensor becomes good.
  • the diaphragm is supported by a plurality of the support portions arranged in a lattice shape.
  • the diaphragm is supported by a plurality of the support portions arranged in a lattice shape.
  • the support part For example, in the rectangular diaphragm, four corners are supported by the support part, and the corners and the middle part of the corners are provided only on two opposite sides in one direction of the two directions. What is necessary is just to be supported by the said support part.
  • the region surrounded by the four support points in the diaphragm has a maximum point of displacement, and becomes a region that can vibrate substantially independently.
  • the diaphragm includes a line segment connecting adjacent maximum points among points where the outer peripheral portion is supported by the support portion and the displacement amount is maximum. It is supported by at least three said support parts along the crossing straight line. According to such an embodiment, the rigidity of the diaphragm along the straight line intersecting the line segment connecting the adjacent maximum points can be further increased, and the independence of each region of the diaphragm is further increased.
  • a distance between the support portions located on a straight line intersecting a line segment connecting adjacent maximum points among the points where the displacement amount is a maximum is characterized by being shorter than the distance between the support portions at the corners in the same direction.
  • the entire outer periphery of the diaphragm may be supported by a support provided on the substrate or the back plate. According to such an embodiment, the rigidity of the diaphragm along the straight line intersecting the line segment connecting the adjacent maximum points can be further increased, and the independence of each region of the diaphragm is further increased.
  • Still another embodiment of the acoustic sensor according to the present invention is characterized in that the diaphragm is divided by a slit.
  • the diaphragm can vibrate independently on both sides of the slit, and the area of the diaphragm that vibrates independently can be increased.
  • a slit is formed in the diaphragm on a line connecting any two of the support portions, the independence of the regions of the diaphragm separated by the support portion can be further increased.
  • the slit has a width of 10 ⁇ m or less.
  • the roll-off frequency may be as high as 500 Hz and the low-frequency characteristics may be deteriorated. Therefore, the slit width is 10 ⁇ m or less as in the embodiment. It is desirable that
  • the length of the slit is 1 ⁇ 2 or more of the passing length of the diaphragm in the extending direction of the slit. If the slit length is shorter than 1 ⁇ 2 of the diaphragm width, the discontinuity of displacement between the regions of the diaphragm divided by the slit is impaired, and the effect of reducing noise as a whole becomes worse. It is desirable that it is 1 ⁇ 2 or more of the diaphragm passing length in the extending direction.
  • a gap is formed between the diaphragm and the substrate in at least one place between the adjacent support portions.
  • the space between the support portions can be used as a bench hole.
  • Still another embodiment of the acoustic sensor according to the present invention is characterized in that acoustic vibration reaches the diaphragm through the cavity.
  • the cavity in the semiconductor substrate serves as the front chamber
  • the space outside the acoustic sensor serves as the back chamber. Therefore, the volume of the back chamber can be increased, and the sensitivity of the acoustic sensor can be improved.
  • the microphone according to the present invention includes the acoustic sensor according to the present invention and a circuit for processing a signal output from the acoustic sensor. Since the microphone of the present invention uses the acoustic sensor of the present invention, the S / N ratio of the microphone can be improved.
  • the means for solving the above-described problems in the present invention has a feature in which the above-described constituent elements are appropriately combined, and the present invention enables many variations by combining such constituent elements. .
  • FIG. 1A and FIG. 1B are schematic diagrams for explaining thermal noise of an acoustic sensor.
  • FIG. 2 is a schematic explanatory diagram of the microphone disclosed in Patent Document 1.
  • FIG. 3A and 3B are a cross-sectional view and a plan view of the microphone disclosed in Patent Document 2, respectively.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the acoustic sensor according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 5 is a plan view of the acoustic sensor according to the first embodiment.
  • FIG. 6 is a plan view showing the shape of the diaphragm in the acoustic sensor of the first embodiment.
  • FIG. 7C are diagrams for explaining the operation of the diaphragm of the first embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram showing an equivalent circuit obtained by simplifying the acoustic sensor.
  • FIG. 9 is an equivalent circuit diagram illustrating a situation in which acoustic vibration or noise is applied to only one acoustic sensing unit.
  • FIG. 10A is a waveform diagram showing a sensitivity signal output from the acoustic sensor when acoustic vibration is applied to only one acoustic sensing unit.
  • FIG. 10B is a waveform diagram illustrating a sensitivity signal output from the acoustic sensor when acoustic vibration is applied only to the other acoustic sensing unit.
  • FIG. 10A is a waveform diagram showing a sensitivity signal output from the acoustic sensor when acoustic vibration is applied only to the other acoustic sensing unit.
  • FIG. 10C is a waveform diagram showing a sensitivity signal output from the acoustic sensor when acoustic signals are simultaneously applied to both acoustic sensing units.
  • FIG. 11A is a waveform diagram showing a noise signal output from the acoustic sensor when noise occurs only in one acoustic sensing unit.
  • FIG. 11B is a waveform diagram showing a noise signal output from the acoustic sensor when noise occurs only in the other acoustic sensing unit.
  • FIG. 11C is a waveform diagram showing a noise signal output from the acoustic sensor when noise is simultaneously generated in both acoustic sensing units.
  • FIG. 12 is a plan view showing the shape of the diaphragm according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a diagram schematically illustrating the operation of the diaphragm according to the second embodiment.
  • FIG. 14 is a plan view showing the shape of a diaphragm in a modification of the second embodiment.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view showing an acoustic sensor according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 16 is a plan view showing the shape of the diaphragm in the third embodiment.
  • FIG. 17 is a plan view showing the shape of the diaphragm according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 18 is a plan view showing the shape of the diaphragm according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 19 is a plan view showing the shape of the diaphragm according to the sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 20 is a plan view showing diaphragms having different shapes in the sixth embodiment.
  • FIG. 21 is a plan view showing a diaphragm having a further different shape in the sixth embodiment.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view of a microphone according to Embodiment 7 of the present invention.
  • FIG. 23 is a plan view of the microphone of the seventh embodiment with the cover removed.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view showing microphones having different structures in the seventh embodiment.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing the acoustic sensor 41 of the first embodiment.
  • FIG. 5 is a plan view of the acoustic sensor 41.
  • FIG. 6 is a plan view of the acoustic sensor 41 with the canopy 44 removed.
  • the acoustic sensor 41 is a capacitive element manufactured using MEMS technology. As shown in FIG. 4, in the acoustic sensor 41, a diaphragm 43 (vibrating electrode plate) is provided on an upper surface of a silicon substrate 42 (semiconductor substrate) via an anchor 46 (support portion), and a minute air gap 50 is formed thereon. A canopy 44 is provided via (a gap).
  • a back chamber 45 (cavity) penetrating from the front surface to the back surface is opened in the silicon substrate 42 made of single crystal silicon.
  • the inner surface of the back chamber 45 may be a vertical surface, or may be inclined in a tapered shape.
  • a plurality of anchors 46 for supporting the lower surface of the outer peripheral edge of the diaphragm 43 are provided on the upper surface of the silicon substrate 42. Further, a base portion 51 is formed on the upper surface of the silicon substrate 42 so as to surround the diaphragm 43. Anchor 46 and base portion 51 is formed by SiO 2.
  • the diaphragm 43 is formed in a substantially rectangular shape.
  • the diaphragm 43 is formed of a conductive polysilicon thin film, and the diaphragm 43 itself is a movable electrode plate. From the four corners of the diaphragm 43 and the center of the edge of the short side, beam portions 47 protrude.
  • the diaphragm 43 is disposed on the silicon substrate 42 so as to cover the upper portion of the back chamber 45, and six beam portions 47 are supported by the anchors 46.
  • the diaphragm 43 is supported in the air, and a narrow vent hole 52 for allowing acoustic vibrations to pass between the adjacent anchors 46 is between the lower surface of the outer peripheral portion of the diaphragm 43 and the upper surface of the silicon substrate 42. Is formed.
  • a lead wiring 53 extends outward from the diaphragm 43.
  • the diaphragm 43 is supported by the anchors 46 so that the vent holes 52 (voids) are formed between the anchors 46.
  • the canopy 44 is provided with a fixed electrode plate 49 made of polysilicon on the lower surface of a back plate 48 (fixed film) made of SiN.
  • the canopy portion 44 is formed in a dome shape and has a hollow portion below it, and covers the diaphragm 43 with the hollow portion.
  • a minute air gap 50 is formed between the lower surface of the canopy 44 (that is, the lower surface of the fixed electrode plate 49) and the upper surface of the diaphragm 43.
  • the fixed electrode plate 49 and the diaphragm 43 are opposed to each other to constitute a capacitor.
  • acoustic holes 54 acoustic holes
  • the acoustic holes 54 are regularly arranged.
  • the acoustic holes 54 are arranged in a triangular shape along three directions forming an angle of 120 ° with each other, but may be arranged in a rectangular shape or a concentric shape.
  • a cylindrical stopper 55 protrusion protrudes from the bottom surface of the canopy 44.
  • the stopper 55 projects integrally from the lower surface of the back plate 48, penetrates the fixed electrode plate 49, and projects to the lower surface of the canopy 44. Since the stopper 55 is made of SiN like the back plate 48, it has an insulating property.
  • the stopper 55 is for preventing the diaphragm 43 from being fixed to the fixed electrode plate 49 due to electrostatic force and not being separated.
  • the protective film 56 extends continuously from the outer periphery of the canopy-shaped back plate 48 over the entire circumference.
  • the protective film 56 covers the base portion 51 and the outer region.
  • the lead-out wiring 53 is fixed to the base portion 51, and the lead-out wiring 57 extended from the fixed electrode plate 49 is also fixed to the upper surface of the base portion 51.
  • an opening is formed in the protective film 56, and a movable electrode pad 58 is formed on the upper surface of the lead wiring 53 through the opening, and the movable electrode pad 58 is electrically connected to the diaphragm 43 through the lead wiring 53.
  • the fixed electrode pad 59 provided on the upper surface of the back plate 48 is electrically connected to the lead wiring 57 through a through hole and the like, and is further electrically connected to the fixed electrode plate 49.
  • the diaphragm 43 In this acoustic sensor 41, not only the diaphragm 43 is supported at the four corners by the anchor 46, but also the center of the short edge is supported by the anchor 46. That is, the diaphragm 43 is supported in a lattice shape by the six anchors 46. For this reason, the rigidity of the diaphragm 43 increases along the line D (the line indicated by the alternate long and short dash line in FIG. 7A) connecting the anchors 46, 46 located at the center of each short side of the diaphragm 43, and the line D There is a place where the displacement of the diaphragm 43 is minimized. Therefore, the diaphragm 43 has one region (a region surrounded by four anchors 46 as shown in FIG.
  • the region surrounded by the four anchors 46 (hereinafter referred to as the diaphragm region 43b) can be vibrated independently, and inside the diaphragm regions 43a and 43b. Displacement maximum points G that are largely displaced appear.
  • one acoustic sensing part 60a is comprised by the capacitor which consists of a region which opposes the said area
  • the other acoustic sensing unit 60b is configured by a capacitor including a diaphragm region 43b and a region of the fixed electrode plate 49 facing the region 43b.
  • both the sensing units 60a and 60b are integrally formed at the same location in the canopy 44, have the same structure, the same shape, and the same dimensions, and have substantially the same characteristics.
  • the diaphragm regions 43a and 43b which are thin films, vibrate in the same phase due to the acoustic vibration.
  • the diaphragm regions 43a and 43b vibrate and the gap distances between the diaphragm regions 43a and 43b and the fixed electrode plate 49 change, the capacitances of the acoustic sensing units 60a and 60b change.
  • the acoustic vibration (change in sound pressure) sensed by the diaphragm regions 43a and 43b is caused by a change in capacitance between the diaphragm regions 43a and 43b and the fixed electrode plate 49. And output as an electrical signal.
  • the diaphragm regions 43a and 43b are both connected to the movable electrode pad 58 and the fixed electrode plate 49 is common, the acoustic sensing unit 60a (capacitor) and the acoustic sensing unit 60b (capacitor) are electrically connected. Are connected in parallel.
  • the diaphragm region 43a and the diaphragm region 43b are electrically connected, and the fixed electrode plate 49 is common.
  • the acoustic sensing units 60a and 60b are provided at the same position on the substrate 42, and both the sensing units 60a and 60b detect acoustic vibrations in the same phase. Therefore, even if the diaphragm regions 43a and 43b are substantially independent, the diaphragm 43 as a whole acts as one acoustic sensor 41, and is substantially unchanged from the case where the anchor 46 is not provided at the center of the short side. .
  • the diaphragm regions 43a and 43b are partitioned by a line D having high rigidity and minimum displacement, and can move substantially independently. Therefore, the diaphragm regions 43a and 43b can be independently displaced on both sides of the line D. Therefore, the thermal noise generated in the acoustic sensing unit 60a and the thermal noise generated in the acoustic sensing unit 60b are detected as signals having different phases. Therefore, when noises of both the sensing units 60a and 60b are added together, the noises cancel each other and become smaller. As a result, the S / N ratio of the acoustic sensor 41 is improved.
  • FIG. 8 shows an equivalent circuit in which the acoustic sensor 41 is simplified.
  • the two acoustic sensing units 60a and 60b separated by providing the anchor 46 at the center of the short side can be represented by two variable capacitors CP1 and CP2 connected in parallel.
  • the two variable capacitors CP1 and CP2 have the same performance.
  • signal generation sources such as acoustic vibration and noise are represented by respective AC power sources SG1 and SG2 connected in series to the variable capacitors CP1 and CP2.
  • the acoustic sensing unit 60a is represented by a circuit in which the variable capacitor CP1 and the AC power source SG1 are connected in series
  • the acoustic sensing unit 60b is a circuit in which the variable capacitor CP2 and the AC power source SG2 are connected in series. It is represented by Furthermore, the acoustic sensor 41 is represented by an equivalent circuit in which both series connection circuits are connected in parallel.
  • the characteristic or circuit constant in the equivalent circuit of FIG. 8 is represented by the following symbols.
  • FIG. 9 a situation is considered in which acoustic vibration and noise are added only to the acoustic sensing unit 60a. Since no signal due to acoustic vibration or noise is generated in the acoustic sensing unit 60b, the AC power source SG2 of the acoustic sensing unit 60b is omitted, and it is considered that the capacitance of the variable capacitor CP1 does not change.
  • the sensitivity output output from the acoustic sensing unit 60a is as described above.
  • Sa V ⁇ ⁇ Ca / Ca It becomes.
  • the capacitor CP2 of the acoustic sensing unit 60b is connected in parallel to the acoustic sensing unit 60a, the capacitor CP2 functions as a parasitic capacitance with respect to the acoustic sensing unit 60a and attenuates the sensitivity of the acoustic sensing unit 60a.
  • the sensitivity output Stot output from the acoustic sensor 41 is the sensitivity output Sb of the acoustic sensing unit 60b in the same manner as in FIG. Is halved to the following formula.
  • sensitivity outputs Sa and Sb and noise outputs Na and Nb are simultaneously generated in the acoustic sensing units 60a and 60b as shown in FIG.
  • the sensitivity output is such that the diaphragm regions 43a and 43b that detect acoustic vibrations are arranged in close proximity within the same canopy 44, so that both diaphragm regions 43a and 43b have the same phase and amplitude at the same time. Is vibrating.
  • the variable capacitor CP1 of the acoustic sensing unit 60a and the variable capacitor CP2 of the acoustic sensing unit 60b are connected in parallel.
  • the sensitivity output Stot of the acoustic sensor 41 is the sum of the sensitivity outputs Sa / 2 and Sb / 2 of the acoustic sensing units 60a and 60b obtained above.
  • Stot Sa / 2 + Sb / 2
  • the sensitivity output Stot of the acoustic sensor 41 indicates that there is no difference from the case where the anchor 46 is not provided at the center of the short side of the diaphragm 43.
  • the noise output Ntot output from the acoustic sensor 41 includes the noise output Na / 2 output from the acoustic sensing unit 60a and the noise output Nb / output from the acoustic sensing unit 60b. It is calculated
  • distribution with 2. That is, the following equation is obtained. Stot ⁇ ⁇ (Na / 2) 2 + (Nb / 2) 2 ⁇
  • Na Nb
  • the sensitivity output Stot of the acoustic sensor 41 is added, and the noise output Ntot is obtained by calculation when the variance is added.
  • the S / N ratio of the acoustic sensor 41 is ⁇ (2) Sa / Na, and the S / N ratio is ⁇ (2) compared to the case where the acoustic sensor 41 is not separated into the acoustic sensing units 60a and 60b. ) Times (or 3 dB improvement).
  • the S / N ratio was increased by about +3 dB by separating the acoustic sensing units 60a and 60b.
  • the S / N ratio of the acoustic sensor 41 can be improved by separating the acoustic sensing units 60a and 60b by increasing the anchor 46 and supporting the diaphragm 43 at an extra portion. .
  • FIG. 12 is a plan view showing the structure of the diaphragm 43 according to the second embodiment used for an acoustic sensor. Since the structure of the canopy 44 and other parts are the same as those of the first embodiment, the description thereof is omitted.
  • the diaphragm 43 has a substantially rectangular shape.
  • the diaphragm 43 is supported on the silicon substrate 42 at the center of the edges of the four corners and the long sides by a total of six anchors 46. That is, the short side of the diaphragm 43 is supported at both ends by two anchors 46, and the long side is supported at both ends and the center by three anchors 46.
  • the rigidity of the diaphragm 43 is increased on the line D connecting the anchors 46 located at the center of the long edge, and therefore the displacement on the line D is minimized.
  • the centers of the diaphragm regions 43a and 43b on both sides of the line D become the displacement maximum point G having a large displacement. Therefore, the diaphragm regions 43a and 43b located on both sides of the line D become independent vibration films.
  • these diaphragm regions 43a and 43b and the fixed electrode plate 49 constitute two acoustic sensing units that are independent of each other. As a result, if two acoustic sensing units are connected in parallel, the S / N ratio can be increased in the acoustic sensor of the second embodiment as in the first embodiment.
  • one capacitor structure configured as an integral part is divided into a plurality of parts (acoustic sensing units 60a and 60b) having independent vibration modes. That is, the diaphragm is divided into a plurality of regions, and an independent displacement maximum point G is generated inside each separated region.
  • Embodiments 1 and 2 in a direction orthogonal to a line connecting the displacement maximum points G of the separated diaphragm regions 43a and 43b.
  • An anchor 46 is provided on the predetermined line D to support the diaphragm 43.
  • the rigidity of the diaphragm 43 is increased at the position of the line D connecting the central anchors 46, and the displacement is minimized. Since the line D passes between one displacement maximum point G and the other displacement maximum point G, the displacement from one displacement maximum point G to the other displacement maximum point G as shown by the arrow in FIG. Is difficult to propagate, and the independence of the acoustic sensing unit can be increased.
  • a plurality of acoustic sensing units simultaneously receive sound pressure, they move in the same phase, and can operate independently of self-generated noise.
  • the plurality of acoustic sensing units do not necessarily have the same structure and the same dimensions, but have different structures or different dimensions. May have different characteristics.
  • FIG. 14 is a modification of the second embodiment.
  • a substantially rectangular diaphragm 43 is supported by anchors 46 arranged in a lattice pattern. That is, the short side of the diaphragm 43 is supported by two anchors 46 at both ends, and the long side of the diaphragm 43 is supported by a plurality (four or more) of anchors 46 at both ends and between them. Also in this case, the displacement of the diaphragm 43 becomes small on the line D connecting the anchors 46 facing each other. Therefore, the diaphragm 43 is separated by a plurality of lines D into three rectangular regions 43a, 43b, and 43c having a central portion that is a displacement maximum point G and four corners supported by the anchors 46. .
  • the diaphragm regions 43a, 43b, 43c and the fixed electrode plate 49 constitute a plurality of independent acoustic sensing units.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view of an acoustic sensor 62 according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 16 is a plan view of the diaphragm 43 used in the acoustic sensor 62 of the third embodiment.
  • the diaphragm 43 is not supported by the anchor 46 as in the first embodiment, and is simply placed on the upper surface of the silicon substrate 42.
  • an anchor 63 (supporting part) for contacting the upper surface of the diaphragm 43 protrudes downward from a position facing the diaphragm 43 on the lower surface of the back plate 48. Therefore, when a voltage is applied between the diaphragm 43 and the fixed electrode plate 49, the diaphragm 43 is pulled up toward the fixed electrode plate 49 by electrostatic attraction.
  • the diaphragm 43 pulled up is fixed in contact with the lower end surface of the anchor 63, and an air gap 50 is formed between the diaphragm 43 and the fixed electrode plate 49.
  • an air gap 50 is formed between the diaphragm 43 and the fixed electrode plate 49.
  • the diaphragm 43 has a disk shape as shown in FIG.
  • the anchors 63 protruding from the back plate 48 are arranged at equal intervals along the outer peripheral edge of the diaphragm 43. Further, a plurality of anchors 63 are arranged at regular intervals between a pair of anchors 63 facing each other across the center of the diaphragm 43.
  • the displacement of the diaphragm 43 is minimized along the line D along the plurality of anchors 63 arranged linearly along the diameter of the diaphragm 43, and the displacement maximum points G are respectively provided on both sides of the line D. Occurs.
  • the direction of the anchors 63 aligned in a line on the diameter (the direction of the line D) is orthogonal to the direction connecting the displacement maximum points G. Accordingly, independent diaphragm regions 43a and 43b are formed on both sides of the line D. Therefore, a plurality of independent acoustic sensing units are configured by these diaphragm regions 43 a and 43 b and the fixed electrode plate 49. As a result, even in such an acoustic sensor 62, the S / N ratio can be improved.
  • five anchors 63 are arranged in a direction perpendicular to the direction connecting the displacement maximum points G with respect to the disk-shaped diaphragm 43. That is all you need.
  • three or more anchors may be arranged in a direction orthogonal to the direction connecting the displacement maximum points G.
  • FIG. 17 is a plan view showing the structure of the diaphragm 43 used in the acoustic sensor according to Embodiment 4 of the present invention.
  • the diaphragm 43 has a shape in which the central portion in the longitudinal direction is constricted inward, and the entire outer periphery is fixed to the silicon substrate 42 by a continuous anchor 46. Since the rigidity of the diaphragm 43 is increased at the narrowed portion, the diaphragms 43a and 43b can be independently vibrated on both sides of the line D along the narrowed direction.
  • Each of the diaphragm regions 43a and 43b has a disc shape with a part missing, and a displacement maximum point G is generated in each of them, and the direction connecting the displacement maximum points G is orthogonal to the line D. Accordingly, even in such a form, the diaphragm regions 43a and 43b and the fixed electrode plate 49 constitute a plurality of independent acoustic sensing units. As a result, even in such an acoustic sensor 62, the S / N ratio can be improved.
  • Embodiments 3 and 4 can also be applied to a rectangular diaphragm.
  • the anchor 46 located at the center of the long side may be brought closer to the inner side of the diaphragm 43.
  • the distance between the anchors 46 located at the center of the long side becomes shorter than that shown in FIG. 12, so that the rigidity of the diaphragm 43 in the direction along the line D becomes higher.
  • FIG. 18 is a plan view showing the structure of the diaphragm 43 used in the acoustic sensor according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the diaphragm 43 has a rhombus shape and is supported by anchors 46 at four corners. In the case of such a diaphragm 43, the displacement of the diaphragm 43 is minimized at the line D located on the diagonal line on the short side of the diamond-shaped diaphragm 43. Further, since the diaphragm 43 has the displacement maximum points G at which the displacement is maximized on both sides of the line D, both sides of the line D are a diaphragm region 43a and a diaphragm region 43b that can vibrate independently. .
  • FIG. 19 is a plan view showing the structure of the diaphragm 43 used in the acoustic sensor according to the sixth embodiment of the present invention.
  • a slit 64 is provided in the diaphragm 43 along the position of the line D.
  • the length of the slit 64 crosses the width of the diaphragm 43 by 50% or more. That is, it is desirable that the length of the slit 64 has a length of 1 ⁇ 2 or more with respect to the width of the diaphragm 43 on the line extending the slit 64.
  • the slit 64 is provided to isolate the displacement on the diaphragm region 43a side and the displacement on the diaphragm region 43b side so as to be discontinuous. However, if the length of the slit 64 is shorter than 1 ⁇ 2 of the width of the diaphragm 43, This is because the discontinuity of displacement on the diaphragm region 43a side and the diaphragm region 43b side is impaired.
  • the width of the slit 64 is 10 ⁇ m or less. If the width of the slit 64 is too wide, the amount of air leaking from the air gap 50 to the back chamber 45 through the slit 64 increases, the roll-off frequency becomes high, and the low frequency characteristics of the acoustic sensor deteriorate. In particular, when the width of the slit 64 exceeds 10 ⁇ m, the roll-off frequency is remarkably increased, the low frequency characteristics are deteriorated, and the sensitivity of the acoustic sensor 41 is greatly impaired.
  • the position of the slit 64 is not necessarily limited to the position of the line D.
  • a slit 64 may be provided so as to be orthogonal to the line D, and diaphragm regions 43a and 43b may be formed on both sides thereof.
  • a plurality of slits 64 may be provided in the diaphragm 43 to form three or more diaphragm regions 43a, 43b, 43c, 43d.
  • FIG. 22 is a cross-sectional view of a MEMS microphone using the acoustic sensor of each of the above embodiments.
  • FIG. 23 is a plan view of the microphone with the cover removed.
  • the microphone 81 is a package in which an acoustic sensor 65 and a signal processing circuit 84 (ASIC) are built in a package including a circuit board 82 and a cover 83.
  • the acoustic sensor 65 and the signal processing circuit 84 are mounted on the upper surface of the circuit board 82.
  • the electrode pads 58 and 59 of the acoustic sensor 65 are connected to the pads 85a and 85b of the signal processing circuit 84 by bonding wires 91, respectively.
  • a plurality of terminals 88 for electrically connecting the microphone 81 to the outside are provided on the lower surface of the circuit board 82, and electrode portions 89a-89c; 90a, 90b electrically connected to the terminals 88 are provided on the upper surface of the circuit board 82.
  • the 84 pads 86a-86c; 87a, 87b mounted on the circuit board 82 are connected to the electrode portions 89a-89c; 90a, 90b by bonding wires 92, respectively.
  • the pads of the signal processing circuit 84 have a function of supplying power to the acoustic sensor 65 and a function of outputting a capacitance change signal of the acoustic sensor 65 to the outside.
  • a cover 83 is attached to the upper surface of the circuit board 82 so as to cover the acoustic sensor 65 and the signal processing circuit 84.
  • a sound introduction hole 93 for introducing acoustic vibration into the package is opened.
  • the package also has an electromagnetic shielding function, and protects the microphone 81 from external electrical disturbances and mechanical shocks.
  • the acoustic vibration that has entered the package through the sound introduction hole 93 is detected by the acoustic sensor 65 and is output after being subjected to predetermined signal processing by the signal processing circuit 84.
  • the acoustic sensor according to the present invention is used as the acoustic sensor 65, the microphone 81 has a high S / N ratio.
  • FIG. 24 shows a microphone 94 having another structure.
  • the sound introduction hole 93 is opened in the circuit board 82 at a position facing the lower surface of the cavity of the silicon substrate 42, not the cover 83.
  • the cavity of the silicon substrate 42 becomes the front chamber 95, and the space inside the package becomes the back chamber 45. Therefore, according to such an embodiment, the volume of the back chamber 45 can be increased, and the sensitivity of the microphone 81 can be further improved.

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Abstract

センサの小型化を妨げることなくセンサのS/N比を向上させることのできる音響センサを提供する。シリコン基板42の上面に、可動電極板となるダイアフラム43が形成される。ダイアフラム43は矩形状をしており、ダイアフラム43の4つの隅部と長辺の中央部はアンカー46によって支持されている。長辺の中央部のアンカー46どうしを結ぶラインD上では、ダイアフラム43の変位は最小となっている。ラインDの両側には、それぞれ変位が最大となる変位極大点Gが存在し、ラインDは、変位極大点Gどうしを結ぶ方向に対して交差する方向に延びている。

Description

音響センサ及びマイクロフォン
 本発明は音響センサ及びマイクロフォンに関する。具体的には、本発明は、MEMS(Micro Electro Mechanical System)技術もしくはマイクロマシニング技術を用いて製作される静電容量型の音響センサに関する。また、当該音響センサを用いたマイクロフォン関する。
 携帯電話、ICレコーダーなど種々の機器においてマイクロフォンが用いられている。このようなマイクロフォンに内蔵されている音響センサにおいては、そのS/N比の向上と小型化が求められている。
 音響センサのS/N比を高くする方法としては、まず第1に、音響センサの感度を高くする方法がある。静電容量型音響センサの感度を高くするためには、ダイアフラムの面積を広くする方法と、ダイアフラムのバネ性を小さくしてダイアフラムの変位量を大きくする方法とが採用可能である。しかし、前者のダイアフラムの面積を広くする方法では、音響センサの小型化が妨げられる。また、後者のようにダイアフラムのバネ性を小さくする方法では、ダイアフラムの変位量が大きくなるために音響センサの耐久性が低下する。
 音響センサのS/N比を高くする第2の方法は、音響センサのノイズを小さくするものである。静電容量型音響センサのノイズとしては、ダイアフラム(可動電極板)とバックプレート(固定電極板)との間に形成されるエアギャップに発生する熱雑音が問題となる。
 エアギャップにおける熱雑音とは、図1(A)に示すような機構により発生するノイズである。図1(A)に示すように、ダイアフラム11とバックプレート12との間のエアギャップ13、すなわち準密閉空間内にある空気分子αは、揺らぎ(熱運動)によってダイアフラム11に衝突している。ダイアフラム11には空気分子αとの衝突による微小力が加わるとともに、ダイアフラム11に加わる微小力がランダムに変動している。そのため、ダイアフラム11は空気分子αの衝突によって振動し、振動センサに電気的なノイズが発生している。特に、感度の高い音響センサ又はマイクロフォンでは、このような熱雑音に起因するノイズが大きく、S/N比が悪くなる。
 このような熱雑音に起因するノイズは、図1(B)に示すようにバックプレート12に開口されている音響孔14の開口比率を大きくし、エアギャップ13内の空気が音響孔14を通過しやすくすることにより軽減できる。また、ダイアフラム11とバックプレート12の間のエアギャップ13を広げることによっても軽減できる。しかし、音響孔14の開口比率を大きくしたり、エアギャップ13を広げたりすると、ダイアフラム11とバックプレート12によって構成されるキャパシタの静電容量が小さくなる。そのため、単にノイズを小さくするという方法では、ノイズが小さくなると同時に音響センサの感度も低下し、音響センサのS/N比を改善することができなかった。
(従来公知の振動センサ)
 特許文献1には、S/N比を向上させることを目的とした差分検知方式のマイクロフォンが開示されている。図2に示すように、このマイクロフォン21では、一枚の基板22に2つの音響センサ23a、23bが設けられていて、両センサ23a、23bは上下の構成が反転している。すなわち、一方の音響センサ23aでは、ダイアフラム24aの上に音響孔26aを有する固定プレート25aが形成されていて音響検知用のキャパシタが構成されている。他方の音響センサ23bでは、音響孔26bを有する固定プレート25bの上にダイアフラム24bが形成されていて音響検知用のキャパシタが構成されている。
 音響センサ23a、23bは、いずれもダイアフラム24a、24bから検知信号が出力されているので、両センサ23a、23bが同じ音響振動を検出すると、両センサ23a、23bからは位相が180°ずれた検知信号が出力される。音響センサ23aの出力と音響センサ23bの出力は信号処理回路(ASIC)に入力され、信号処理回路内で減算処理される。この結果、両センサ23a、23bによる音響の検出信号は足し合わされることになるので、マイクロフォン21の検出感度が向上し、S/N比の向上が期待される。
 このような差分検知方式のマイクロフォンでは、2つの音響センサが検出する音響検出信号の位相、周波数及び感度が全く同じでなければ、その検出感度が低下する。ところが、同一の基板上に別々に形成された音響センサの特性を同一にすることは困難である。さらに、このマイクロフォンのように両センサ23a、23bでキャパシタの極性が逆になっている場合には、寄生容量のために等価な2つの音響センサ23a、23bを作製することは難しい。そのため実際には、特許文献2のようなマイクロフォンでは、S/N比を向上させることは困難であった。
 また、このようなマイクロフォンでは、ミスマッチングに由来するノイズが発生しやすく、S/N比の向上に限界がある。
 さらに、信号処理回路に余分な演算機能を付与しなければならないので、信号処理回路の高コスト化を招く。基板上に複数個の音響センサを設けなければならないので、マイクロフォンの小型化が困難になるという不具合も問題となっている。
(従来公知の別な振動センサ)
 特許文献2には、従来の別なマイクロフォンが開示されている。このマイクロフォン31は、基本的には、特許文献1のマイクロフォン21と同様な構造を有している。図3(A)に示すように、特許文献2のマイクロフォン31では、共通の基板32の上に同じ構造を有する独立した複数個の音響センサ33a、33b、…が設けられている。すなわち、いずれの音響センサ33a、33b、…も、音響孔36を開口された固定プレート35の上面に対向させてダイアフラム34が形成されている。さらに、図3(B)に示すように、基板32の上面には信号処理回路37が設けられており、各音響センサ33a、33b、…の出力は基板32上に配線された電極引出線38を通じて信号処理回路37に接続されている。このマイクロフォン31の場合には、各音響センサ33a、33b、…が同じ構造を有しているので、各センサ33a、33b、…の出力を信号処理回路37において加算処理することによってS/N比を向上させることが期待される。
 しかし、特許文献2に記載されたマイクロフォンでも、つぎのような問題がある。マイクロフォンの作製プロセスにおいてダイアフラムに発生する反りがばらつくため、各音響センサどうしの感度ばらつきが大きくなりやすい。その一方、このばらつきを小さくしようとすればマイクロフォンの生産性が低下する。また、基板上において各音響センサと信号処理回路とを結ぶ電極引出線の長さが長くなると、マイクロフォンの寄生容量や寄生抵抗が大きくなり、感度などの特性が悪くなる問題がある。
 また、独立した複数個の音響センサを設けているので、各センサどうしの間に感度以外の音響特性のずれが発生しやすくなる。たとえば、周波数特性、位相などは各センサのバックチャンバやベントホールによって影響を受けるので、各センサ間で異なった特性になりやすい。
 特許文献2のマイクロフォンでは、このように各音響センサにおける感度その他の音響特性にばらつきが生じやすいので、実際には、S/N比の改善効果を得ることが難しかった。
 また、基板上に複数個の独立した音響センサを並べて配置しなければならないので、マイクロフォンを小型化することができないという不具合があった。
特開2008-5439号公報 米国特許出願公開第2007/0047746号明細書
 本発明は、上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、センサの小型化を妨げることなくセンサのS/N比を向上させることのできる音響センサと、当該音響センサを用いたマイクロフォンを提供することにある。
 本発明に係る音響センサは、空洞部を有する基板と、前記空洞部を覆うようにして前記基板の上方に配設された薄膜状のダイアフラムと、前記ダイアフラムに形成された可動電極板と、前記ダイアフラムに対向させるようにして前記基板の上面に固定されたバックプレートと、前記可動電極板と対向する位置において前記バックプレートに設けた固定電極板とを備えた音響センサであって、前記ダイアフラムは、支持部によって前記基板又は前記バックプレートに支持されており、前記ダイアフラムは、振動時の変位量が極大となる点を複数箇所に有し、前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上に、前記支持部が存在していることを特徴としている。なお、可動電極板は、ダイアフラムに設けてあってもよく、ダイアフラム自体が可動電極板となっていてもよい。
 本発明の音響センサにあっては、ダイアフラムが振動時の変位量が極大となる点を複数箇所に有していて、変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上に前記支持部が存在しているので、隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上におけるダイアフラムの剛性が高くなる。よって、隣接する極大点どうしのうち一方の極大点の振動が変位量が当該極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線を通過して他方の極大点へ伝播しにくくなる。その結果、隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線によって仕切られた両側の領域において可動電極板と固定電極板で構成されるキャパシタ(実施形態では、音響センシング部)が互いに独立するようになる。
 このような音響センサによれば、前記各キャパシタを並列に接続してあれば、実質的に感度を低下させることなくノイズを低減することが可能になるので、音響センサのS/N比を向上させることができる。また、ダイアフラムを独立して振動可能な複数の領域に分割しているだけであるので、音響センサの小型化が妨げられることがない。
 本発明に係る音響センサのある実施態様においては、前記ダイアフラムが、間隔をあけて前記基板又は前記バックプレートに設けられた複数個の前記支持部によって部分的に支持されている。かかる実施態様によれば、支持部によってダイアフラムの全周を支持している場合と比べてダイアフラムの剛性を低くすることができ、音響センサの感度を向上させることができる。
 本発明に係る音響センサの別な実施態様においては、前記ダイアフラムが、外向きに延出された複数個の梁部を有し、前記梁部が前記支持部によって支持されている。かかる実施態様によれば、支持部によるダイアフラムの支持箇所の数が増えてもダイアフラムの剛性が高くなりにくく、音響センサの感度を高くすることができる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、前記ダイアフラムが、矩形状をしている。ダイアフラムの形状は、矩形状、円板状その他の形状であってもよいが、ダイアフラムの形状を矩形状とすれば、音響センサの出力の線形性が良好となる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、前記ダイアフラムが、格子状に配置された複数個の前記支持部によって支持されている。たとえば、前記矩形状をしたダイアフラムが、4箇所の隅部を前記支持部によって支持され、さらに2つの方向の辺のうち一方の方向の対向する2辺においてのみ隅部と隅部の中間部分を前記支持部によって支持されていればよい。かかる実施態様によれば、ダイアフラムにおいて4個の支持点で囲まれた領域がそれぞれ変位の極大点を有し、それぞれ実質的に独立して振動可能な領域となる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、ダイアフラムが、外周部を前記支持部によって支持され、さらに、前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線に沿って少なくとも3個の前記支持部によって支持されている。かかる実施態様によれば、隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線に沿ったダイアフラムの剛性をより高めることができ、ダイアフラムの各領域の独立性がより高くなる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上に位置する前記支持部間の距離が、同じ方向における隅部の支持部どうしの距離よりも短いことを特徴としている。この場合には、前記ダイアフラムの外周部全周が、前記基板又は前記バックプレートに設けられた支持部によって支持されていてもよい。かかる実施態様によれば、隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線に沿ったダイアフラムの剛性をより高めることができ、ダイアフラムの各領域の独立性がより高くなる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様は、前記ダイアフラムが、スリットによって分割されていることを特徴としている。かかる実施態様によれば、スリットを挟んでその両側でダイアフラムが独立して振動できるようになり、ダイアフラムの独立して振動する領域を増やすことができる。特に、前記支持部のうちいずれか2つの支持部を結ぶ線上において、前記ダイアフラムにスリットを形成すれば、支持部によって分離されたダイアフラムの各領域どうしの独立性をより高めることができる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、前記スリットの幅が10μm以下となっている。一般的なサイズのMEMS音響センサでは、スリットの幅が10μmを超えるとロールオフ周波数が500Hzにもなって低周波特性が悪化することがあるので、スリットの幅は当該実施態様のように10μm以下であることが望ましい。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様においては、前記スリットの長さが、当該スリットの延長方向における前記ダイアフラムの差し渡し長さの1/2以上となっている。スリットの長さがダイアフラムの幅の1/2よりも短いと、スリットによって分割されたダイアフラムの各領域間における変位の不連続性が損なわれ、全体としてノイズを低減する効果が悪くなるので、スリットの延長方向におけるダイアフラムの差し渡し長さの1/2以上であることが望ましい。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様は、隣接する前記支持部の間の少なくとも一箇所において、前記ダイアフラムと前記基板との間に空隙が形成されている。かかる実施態様によれば、支持部間の空隙をベンチホールとして利用することができる。
 本発明に係る音響センサのさらに別な実施態様は、音響振動が前記空洞部を通って前記ダイアフラムに到達することを特徴としている。かかる実施態様によれば、半導体基板内の空洞部がフロントチャンバとなり、音響センサの外部の空間がバックチャンバとなるので、バックチャンバの容積を大きくでき、音響センサの感度を向上させることができる。
 本発明に係るマイクロフォンは、本発明に係る音響センサと、前記音響センサから出力された信号を処理するための回路とを備えたものである。本発明のマイクロフォンは、本発明の音響センサを用いているので、マイクロフォンのS/N比を改善することができる。
 なお、本発明における前記課題を解決するための手段は、以上説明した構成要素を適宜組み合せた特徴を有するものであり、本発明はかかる構成要素の組合せによる多くのバリエーションを可能とするものである。
図1(A)及び図1(B)は、音響センサの熱雑音を説明するための概略図である。 図2は、特許文献1に開示されたマイクロフォンの概略説明図である。 図3(A)及び図3(B)は、特許文献2に開示されたマイクロフォンの断面図及び平面図である。 図4は、本発明の実施形態1に係る音響センサの断面図である。 図5は、実施形態1の音響センサの平面図である。 図6は、実施例1の音響センサにおけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図7(A)、図7(B)及び図7(C)は、実施形態1のダイアフラムの働きを説明するための図である。 図8は、音響センサを単純化した等価回路を表した図である。 図9は、一方の音響センシング部のみに音響振動やノイズが加わった状況を表した等価回路図である。 図10(A)は一方の音響センシング部のみに音響振動が加わったときに音響センサから出力される感度信号を示す波形図である。図10(B)は他方の音響センシング部のみに音響振動が加わったときに音響センサから出力される感度信号を示す波形図である。図10(C)は両方の音響センシング部に同時に音響信号が加わったときに音響センサから出力される感度信号を示す波形図である。 図11(A)は一方の音響センシング部のみにノイズが発生したときに音響センサから出力されるノイズ信号を示す波形図である。図11(B)は他方の音響センシング部のみにノイズが発生したときに音響センサから出力されるノイズ信号を示す波形図である。図11(C)は両方の音響センシング部に同時にノイズが発生したときに音響センサから出力されるノイズ信号を示す波形図である。 図12は、本発明の実施形態2におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図13は、実施形態2のダイアフラムの作用を模式的に説明する図である。 図14は、実施形態2の変形例におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図15は、本発明の実施形態3に係る音響センサを示す断面図である。 図16は、実施形態3におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図17は、本発明の実施形態4におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図18は、本発明の実施形態5におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図19は、本発明の実施形態6におけるダイアフラムの形状を示す平面図である。 図20は、実施形態6における異なる形状のダイアフラムを示す平面図である。 図21は、実施形態6におけるさらに異なる形状のダイアフラムを示す平面図である。 図22は、本発明の実施形態7に係るマイクロフォンの断面図である。 図23は、実施形態7のマイクロフォンの、カバーを外した状態の平面図である。 図24は、実施形態7における異なる構造のマイクロフォンを示す断面図である。
 以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々設計変更することができる。
(第1の実施形態)
 図4-図6を参照して本発明の実施形態1による音響センサの構造を説明する。図4は実施形態1の音響センサ41を示す断面である。図5は、音響センサ41の平面図である。また、図6は、音響センサ41から天蓋部44を取り除いた状態の平面図である。
 この音響センサ41はMEMS技術を利用して作製された静電容量型素子である。図4に示すように、音響センサ41は、シリコン基板42(半導体基板)の上面にアンカー46(支持部)を介してダイアフラム43(振動電極板)が設けられ、その上に微小なエアギャップ50(空隙)を介して天蓋部44が設けられている。
 単結晶シリコンからなるシリコン基板42には、表面から裏面に貫通したバックチャンバ45(空洞部)が開口されている。バックチャンバ45は内周面が垂直面となっていてもよく、テーパー状に傾斜していてもよい。
 ダイアフラム43の外周縁下面を支持するための複数個のアンカー46は、シリコン基板42の上面に設けられている。さらに、シリコン基板42の上面には、ダイアフラム43を囲むようにして土台部51が形成されている。アンカー46及び土台部51は、SiOによって形成されている。
 図6に示すように、ダイアフラム43は、略矩形状に形成されている。ダイアフラム43は、導電性を有するポリシリコン薄膜によって形成されていてダイアフラム43自体が可動電極板となっている。ダイアフラム43の四隅と短辺の縁の中央からは、それぞれ梁部47が突出している。ダイアフラム43は、バックチャンバ45の上方を覆うようにしてシリコン基板42の上に配置され、アンカー46によって6箇所の梁部47を支持されている。よって、ダイアフラム43は宙空に支持されるととともに、隣接するアンカー46間においては、音響振動を通過させるための狭いベントホール52が、ダイアフラム43の外周部下面とシリコン基板42の上面との間に形成されている。また、ダイアフラム43からは外側に向けて引出配線53が延びている。
 ダイアフラム43の全周をシリコン基板42に固定した場合には、ダイアフラム43の拘束力が強くなり、ダイアフラム43のバネ性が高くなって音響センサ41の感度が低下する。そのため、この実施形態では、ダイアフラム43をアンカー46によって飛び飛びに支持して、アンカー46間にベントホール52(空隙)を形成している。
 天蓋部44は、SiNからなるバックプレート48(固定膜)の下面にポリシリコンからなる固定電極板49を設けたものである。天蓋部44は、ドーム状に形成されていてその下に空洞部分を有しており、その空洞部分でダイアフラム43を覆っている。天蓋部44の下面(すなわち、固定電極板49の下面)とダイアフラム43の上面との間には微小なエアギャップ50(空隙)が形成されている。固定電極板49とダイアフラム43は互いに対向していてキャパシタを構成している。
 図5に示すように、天蓋部44のほぼ全体には、上面から下面に貫通するようにして、音響振動を通過させるためのアコースティックホール54(音響孔)が多数穿孔されている。図4及び図5に示すように、アコースティックホール54は規則的に配列されている。図示例では、アコースティックホール54は、互いに120°の角度を成す3方向に沿って三角形状に配列されているが、矩形状や同心円状などに配置されていてもよい。
 図4に示すように、天蓋部44の下面には、円柱状をした微小なストッパ55(突起)が突出している。ストッパ55は、バックプレート48の下面から一体に突出しており、固定電極板49を貫通して天蓋部44の下面に突出している。ストッパ55はバックプレート48と同じくSiNからなるので、絶縁性を有する。このストッパ55は、静電気力によってダイアフラム43が固定電極板49に固着して離れなくなるのを防ぐためのものである。
 天蓋状をしたバックプレート48の外周縁からは、全周にわたって保護膜56が連続的に延出している。保護膜56は、土台部51とその外側の領域を覆っている。
 引出配線53は土台部51に固定されており、固定電極板49から延出された引出配線57も土台部51の上面に固定されている。一方、保護膜56には開口があけられており、当該開口を通して引出配線53の上面に可動側電極パッド58が形成され、可動側電極パッド58は引出配線53を通じてダイアフラム43に導通している。また、バックプレート48の上面に設けられた固定側電極パッド59は、スルーホールなどを介して引出配線57に導通し、さらに固定電極板49に導通している。
 この音響センサ41では、ダイアフラム43がその四隅をアンカー46で支持されているだけでなく、短辺の縁の中央もアンカー46で支持されている。すなわち、ダイアフラム43は6個のアンカー46によって格子状に支持されている。そのため、ダイアフラム43の各短辺中央に位置するアンカー46、46どうしを結ぶラインD(図7(A)において一点鎖線で示す線分)に沿ってダイアフラム43の剛性が高くなり、当該ラインD上でダイアフラム43の変位が最小となる箇所がある。よって、ダイアフラム43は、このラインDを挟んで一方の領域(図7(B)に示すように4個のアンカー46で囲まれた領域。以下、ダイアフラム領域43aという。)と、他方の領域(図7(C)に示すように4個のアンカー46で囲まれた領域。以下、ダイアフラム領域43bという。)とが独立して振動することが可能になり、両ダイアフラム領域43a、43bの内側にそれぞれ大きく変位する変位極大点Gが表れる。そして、ダイアフラム領域43aと固定電極板49の当該領域43aに対向する領域からなるキャパシタによって一方の音響センシング部60aが構成される。また、ダイアフラム領域43bと固定電極板49の当該領域43bに対向する領域からなるキャパシタによって他方の音響センシング部60bが構成される。しかも、両センシング部60a、60bは、天蓋部44内の同じ箇所において一体的に形成され、同じ構造、同じ形状、同じ寸法を有していて、実質的に同一の特性を有している。
 この音響センサ41にあっては、音響振動がアコースティックホール54を通過して天蓋部44内のエアギャップ50に入ると、薄膜であるダイアフラム領域43a、43bが音響振動によって同じ位相で振動する。ダイアフラム領域43a、43bが振動して各ダイアフラム領域43a、43bと固定電極板49との間の各ギャップ距離が変化すると、音響センシング部60a、60bの静電容量が変化する。この結果、各音響センシング部60a、60bにおいては、ダイアフラム領域43a、43bが感知している音響振動(音圧の変化)がダイアフラム領域43a、43bと固定電極板49の間の静電容量の変化となり、電気的な信号として出力される。また、ダイアフラム領域43a、43bはいずれも可動側電極パッド58につながっており、固定電極板49は共通しているので、音響センシング部60a(キャパシタ)と音響センシング部60b(キャパシタ)とは、電気的に並列接続されている。
 この音響センサ41では、ダイアフラム領域43aとダイアフラム領域43bが電気的に導通していて、固定電極板49が共通となっている。しかも、基板42上の同じ位置に音響センシング部60a、60bが設けられていて、両センシング部60a、60bは同位相で音響振動を検知する。そのため、ダイアフラム領域43aと43bがほぼ独立しているとしても、ダイアフラム43の全体としてみれば一つの音響センサ41として作用し、短辺中央にアンカー46を設けていない場合と実質的に変化がない。
 これに対し、ダイアフラム領域43a、43bは、剛性が高くて変位が最小となるラインDで仕切られていて、ほぼ独立して動くことができる。よって、ラインDの両側においてダイアフラム領域43a、43bは独立して変位することができる。そのため、音響センシング部60aに発生する熱雑音と音響センシング部60bに発生する熱雑音とは、異なる位相の信号として検知される。よって、両センシング部60a、60bのノイズを加え合わせると、ノイズが打ち消し合って小さくなる。その結果、音響センサ41のS/N比が向上する。
 以上においては、音響センサ41のS/N比が向上する理由を簡単に説明したが、以下においては、等価回路を用いてさらに説明する。図8は、音響センサ41を単純化した等価回路を表している。短辺中央にアンカー46を設けることで分離された2つの音響センシング部60a、60bは、並列に接続された2つの可変キャパシタCP1、CP2で表すことができる。ここで、2つの可変キャパシタCP1、CP2は同じ性能を有している。さらに、音響振動やノイズなどの信号発生源は、可変キャパシタCP1、CP2に直列に接続したそれぞれの交流電源SG1、SG2で表す。この結果、図8に示すように、音響センシング部60aは可変キャパシタCP1と交流電源SG1を直列に接続した回路で表され、音響センシング部60bは可変キャパシタCP2と交流電源SG2を直列に接続した回路で表される。さらに、音響センサ41は、両直列接続回路を並列に接続した等価回路で表される。
 図8の等価回路における特性又は回路定数を、つぎのような記号で表す。
   Ca/2[F] :可変キャパシタCP1の静電容量
   Cb/2[F] :可変キャパシタCP2の静電容量
   ΔCa/2[F] :可変キャパシタCP1の受圧時の静電容量変化
   ΔCb/2[F] :可変キャパシタCP2の受圧時の静電容量変化
   V[V] :音響センサ41への印加電圧
   Sa[V] :音響センシング部60aの感度出力
   Sb[V] :音響センシング部60bの感度出力
   Na[V] :音響センシング部60aのノイズ出力
   Nb[V] :音響センシング部60bのノイズ出力
   Sa/Na :音響センシング部60aのS/N比
   Sb/Nb :音響センシング部60bのS/N比
 ここで、感度出力とは、交流電源で発生した音響振動によって音響センシング部(あるいは、可変キャパシタ)から出る信号出力であって、電圧×固定キャパシタの静電容量変化/固定キャパシタの静電容量で表される。したがって、音響センシング部60aの感度出力は、
   Sa=V×(ΔCa/2)/(Ca/2)=V×ΔCa/Ca
となる。同様に、音響センシング部60bの感度出力は、
   Sb=V×(ΔCb/2)/(Cb/2)=V×ΔCb/Cb
となる。
 いま、図9に示すように、音響センシング部60aのみに音響振動やノイズが加わった状況を考える。音響センシング部60bでは音響振動やノイズによる信号は発生していないので、音響センシング部60bの交流電源SG2は省略し、可変キャパシタCP1の静電容量は変化しないと考える。
 まず、交流電源SG1から音響振動だけが出力されているとすると、音響センシング部60aから出力される感度出力は、上記のように、
   Sa=V×ΔCa/Ca
となる。しかし、この音響センシング部60aには、音響センシング部60bのキャパシタCP2が並列に接続されているので、キャパシタCP2は音響センシング部60aに対しては寄生容量として働き、音響センシング部60aの感度を減衰させる。キャパシタCP1とCP2は同じ静電容量を有しているので、音響センサ41から出力される感度出力(すなわち、信号処理回路へ入力される感度出力)Stotは、次式で表されるように半減する。
   Stot=〔(Ca/2)/{(Ca/2)+(Cb/2)}〕×Sa
      =Sa/2
 つぎに、電源SG1からノイズだけが出力されている場合を考える。この場合も、音響センシング部60aから出ているノイズ出力をNaとすると、音響センシング部60aに並列に接続されたキャパシタCP2の影響により、音響センサ41から出力されるノイズ出力(すなわち、信号処理回路へ入力されるノイズ出力)Ntotは、次式で表されるように半減する。
   Ntot=〔(Ca/2)/{(Ca/2)+(Cb/2)}〕×Na
      =Na/2
 図9とは反対に音響センシング部60bのみに音響振動が加わった状況では、図9の場合と同様に考えて、音響センサ41から出力される感度出力Stotは、音響センシング部60bの感度出力Sbが半減して次式のようになる。
   Stot=〔(Cb/2)/{(Cb/2)+(Ca/2)}〕×Sb
      =Sb/2
 また、音響センシング部60bのみにノイズが発生している状況を考えると、音響センシング部60aのキャパシタCP1の影響により、音響センサ41から出力されるノイズ出力Ntotは、音響センシング部60bのノイズ出力Nbが半減して次式で表される。
   Ntot=〔(Cb/2)/{(Cb/2)+(Ca/2)}〕×Nb
      =Nb/2
 つぎに、図8のように、音響センシング部60aと60bで同時に感度出力Sa、Sbとノイズ出力Na、Nbが発生している場合を考える。感度出力とノイズ出力を分けて考える。感度出力は、音響振動を感知する各ダイアフラム領域43a、43bが同一の天蓋部44内において極く近接した位置に配置されているので、両ダイアフラム領域43a、43bは同じ時刻においては同じ位相と振幅で振動している。しかも、音響センシング部60aの可変キャパシタCP1と音響センシング部60bの可変キャパシタCP2は並列に接続されている。その結果、音響センサ41の感度出力Stotは、上で求めた各音響センシング部60a、60bの感度出力Sa/2、Sb/2の和となる。
   Stot=Sa/2+Sb/2
ここで、Sa=Sbであるから、上式は、
   Stot=Sa
となる。これは、図10(A)-図10(C)に示すように、音響センサ41では、位相と振幅が同じ2つの信号(図10(A)及び図10(B)の感度出力Sa/2、Sb/2)が重ね合わされたものが全体の感度出力Stot=Sa(図10(C))として出力されることを表し、音響センサ41が音響センシング部60aと60bに分離されていても、音響センサ41の感度出力Stotは、ダイアフラム43の短辺中央にアンカー46を設けていない場合と変わりがないことを示している。
 一方、ノイズは熱雑音に由来するので、互いに分離している音響センシング部60aと60bではそれぞれ独立してランダムにノイズが発生している。このため音響センシング部60aのノイズと音響センシング部60bのノイズは、図11(A)及び図11(B)に示すように、位相や振幅の揃っていない独立な信号となっている。よって、音響センサ41から出力されるノイズ出力Ntotは、図11(C)に示すように、音響センシング部60aから出力されるノイズ出力Na/2と音響センシング部60bから出力されるノイズ出力Nb/2との分散を加法する際の演算で求められる。すなわち、次式のようになる。
   Stot=√{(Na/2)+(Nb/2)
ここで、Na=Nbであるから、上式は、
   Stot=Na/√(2)
となる。
 上記のように、音響センサ41の感度出力Stotは加算され、ノイズ出力Ntotは分散を加法する際の演算で求められる。その結果、音響センサ41のS/N比は、√(2)Sa/Naとなり、音響センサ41を音響センシング部60aと60bに分離していない場合と比較すると、S/N比は√(2)倍となる(もしくは、3dB向上する)。試作品によれば、ダイアフラム43の短辺中央にアンカー46を設ける前後で感度出力には変化が見られなかったが、ノイズ出力はダイアフラム43の短辺中央にアンカー46を設けることによって約3dB低下した。よって、S/N比は、音響センシング部60aと60bに分離することによって+3dB程度高くなった。
 よって、アンカー46を増やしてダイアフラム43を余分な箇所で支持させることによって音響センシング部60aと60bに分離することにより、音響センサ41のS/N比を向上させられることが定量的に示された。
(第2の実施形態)
 つぎに、本発明の実施形態2による音響センサを説明する。図12は、音響センサに用いられる実施形態2のダイアフラム43の構造を示す平面図である。天蓋部44その他の構造は実施形態1と同様であるので、説明は省略する。
 この実施形態では、ダイアフラム43は略矩形状となっている。ダイアフラム43は、合計6個のアンカー46によって四隅と長辺の縁の中央をシリコン基板42上で支持されている。すなわち、ダイアフラム43の短辺は2箇所のアンカー46によって両端を支持されており、長辺は3箇所のアンカー46によって両端と中央を支持されている。
 このような形態でも、図13に示すように、長辺の縁の中央に位置するアンカー46どうしを結んだラインDの上でダイアフラム43の剛性が高くなり、したがってラインD上で変位が最小となる。また、ラインDの両側のダイアフラム領域43a及び43bの中心が変位の大きな変位極大点Gとなる。よって、ラインDの両側に位置するダイアフラム領域43a、43bがそれぞれ独立した振動膜となる。さらに、これらのダイアフラム領域43a、43bと固定電極板49とによって互いに独立した2個の音響センシング部が構成される。この結果、2個の音響センシング部を並列に接続してあれば、実施形態2の音響センサでも、実施形態1の場合と同様に、S/N比を大きくすることができる。
 本発明の音響センサでは、一体として構成された1つのキャパシタ構造が独立した振動モードを有する複数の部分(音響センシング部60a及び60b)に分かれている。すなわち、ダイアフラムが複数の領域に分かれていて、分離されている各領域の内部に独立した変位極大点Gが生じるように構成されている。
 このために、本発明のある実施形態(たとえば、実施形態1、2)では、図13に示すように、分離された各ダイアフラム領域43a、43bの変位極大点Gを結ぶ線と直交する方向に定めたラインD上にアンカー46を設けてダイアフラム43を支持させている。このような構造であれば、中央のアンカー46どうしを結ぶラインDの位置ではダイアフラム43の剛性が高くなって変位が最小となる。そして、一方の変位極大点Gと他方の変位極大点Gの間をラインDが通っているので、図13に矢印で示すように、一方の変位極大点Gから他方の変位極大点Gへ変位が伝播しにくく、音響センシング部の独立性を高めることができる。このような構造であれば、複数の音響センシング部が同時に音圧を受けた際には互いに同位相の動きをし、また、自己発生雑音に対しては互いに独立して動作することができる。
 ただし、本発明の実施形態においては、必ずしも複数の音響センシング部どうしが同じ構造と同じ寸法を有していなければならないという訳ではなく、異なる構造又は異なる寸法を有していて、音響センシング部どうしが異なる特性を有していても差し支えない。
 図14は、実施形態2の変形例である。図14の変形例では、略矩形状をしたダイアフラム43を格子状に配置したアンカー46で支持している。すなわち、ダイアフラム43の短辺は両端を2箇所のアンカー46で支持されており、ダイアフラム43の長辺は両端とその間を複数個(4個以上)のアンカー46で支持されている。この場合も、対向しているアンカー46どうしを結ぶラインD上でダイアフラム43の変位が小さくなる。よって、ダイアフラム43は、複数本のラインDにより、中央部が変位極大点Gとなり、かつ、四隅をアンカー46で支持された3つの矩形状をしたダイアフラム領域43a、43b、43cに分離されている。そして、これらのダイアフラム領域43a、43b、43cと固定電極板49によって複数個の独立した音響センシング部が構成される。
 このように音響センシング部の数を増やすと(各ダイアフラム領域の形状や面積は異なっていてもよい。)、音響センサのノイズをより低減させることができ、S/N比を向上させる効果が高くなる。
(第3の実施形態)
 図15は本発明の実施形態3による音響センサ62の断面図である。図16は、実施形態3の音響センサ62に用いられているダイアフラム43の平面図である。
 実施形態3の音響センサ62にあっては、ダイアフラム43は実施形態1のようにアンカー46によって支持されておらず、単にシリコン基板42の上面に置かれているだけである。一方、バックプレート48の下面のうち、ダイアフラム43に対向する位置からは、ダイアフラム43の上面に当接させるためのアンカー63(支持部)が下方へ向けて突出している。したがって、ダイアフラム43と固定電極板49との間に電圧が印加されると、ダイアフラム43は静電引力によって固定電極板49へ向けて引き上げられる。上方へ引き上げられたダイアフラム43はアンカー63の下端面に当接して固定され、ダイアフラム43と固定電極板49との間には一定間隔のエアギャップ50が形成される。そして、このダイアフラム43に音響振動が加わると、ダイアフラム43と固定電極板49で構成されるキャパシタの静電容量が変化するので、音響振動が検出される。
 ダイアフラム43は、図16に示すように円板状をしている。バックプレート48から突出したアンカー63は、ダイアフラム43の外周縁に沿って等間隔で配置されている。さらに、ダイアフラム43の中心を挟んで向き合っているある一対のアンカー63間には、複数個のアンカー63が一定間隔ごとに配列されている。
 このような音響センサ62では、ダイアフラム43の直径に沿って直線状に配列された複数個のアンカー63に沿ったラインDでダイアフラム43の変位が最小となり、ラインDの両側にそれぞれ変位極大点Gが生じる。また、直径上に一列に並んだアンカー63の方向(ラインDの方向)は、変位極大点Gどうしを結ぶ方向と直交している。従って、ラインDの両側には、独立したダイアフラム領域43a、43bが形成される。よって、これらのダイアフラム領域43a、43bと固定電極板49によって複数個の独立した音響センシング部が構成される。この結果、このような音響センサ62においても、S/N比を向上させることができる。
 なお、図16に示した図示例では、円板状のダイアフラム43に対して変位極大点Gどうしを結ぶ方向と直交する方向に5個のアンカー63が並んでいるが、このアンカー63は4個以上であればよい。また、回転対称でない形状のダイアフラム、たとえば矩形状のダイアフラムの場合には、変位極大点Gどうしを結ぶ方向と直交する方向には3個以上のアンカーが並んでいればよい。
(第4の実施形態)
 図17は、本発明の実施形態4による音響センサに用いられるダイアフラム43の構造を示す平面図である。このダイアフラム43は、長手方向の中央部が内側へくびれた形状となっており、連続したアンカー46によって外周全体がシリコン基板42に固定されている。くびれて幅が狭くなった箇所ではダイアフラム43の剛性が高くなるので、くびれた方向に沿ったラインDの両側が独立して振動可能なダイアフラム領域43a、43bとなる。ダイアフラム領域43a、43bは、いずれも一部欠けた円板状をしており、それぞれに変位極大点Gが生じていて、変位極大点Gどうしを結ぶ方向はラインDと直交している。よって、このような形態でも、ダイアフラム領域43a、43bと固定電極板49によって複数個の独立した音響センシング部が構成される。この結果、このような音響センサ62においても、S/N比を向上させることができる。
 なお、実施形態3及び4は、矩形状のダイアフラムにも適用することができる。また、たとえば実施形態2において、長辺の中央に位置しているアンカー46をダイアフラム43の内部側へ寄せてもよい。これにより長辺の中央に位置しているアンカー46どうしの距離が、図12に示すものよりも短くなるので、ラインDに沿った方向におけるダイアフラム43の剛性がより高くなる。
(第5の実施形態)
 図18は、本発明の実施形態5による音響センサに用いられるダイアフラム43の構造を示す平面図である。このダイアフラム43は菱形をしていて、4箇所の隅部をアンカー46によって支持されている。このようなダイアフラム43の場合には、菱形をしたダイアフラム43の短い側の対角線上に位置するラインDでダイアフラム43の変位が最小になる。また、このダイアフラム43は、ラインDの両側にそれぞれ変位が最大となる変位極大点Gを有しているので、ラインDの両側が独立に振動可能なダイアフラム領域43a、ダイアフラム領域43bとなっている。
(第6の実施形態)
 図19は、本発明の実施形態6による音響センサに用いられるダイアフラム43の構造を示す平面図である。この実施形態では、実施形態2のダイアフラム43(図12参照)において、そのラインDの位置に沿ってダイアフラム43にスリット64を設けている。このようにラインDに沿ってスリット64を設けると、ダイアフラム領域43aとダイアフラム領域43bの独立性がより高くなり、S/Nの改善効果が高くなる。
 このスリット64の長さは、ダイアフラム43の幅を50%以上横断していることが望ましい。すなわち、スリット64の長さは、スリット64を延長した線上におけるダイアフラム43の幅に対して1/2以上の長さを有していることが望ましい。スリット64は、ダイアフラム領域43a側における変位とダイアフラム領域43b側における変位を隔絶させて不連続にするために設けているが、スリット64の長さがダイアフラム43の幅の1/2よりも短いと、ダイアフラム領域43a側とダイアフラム領域43b側における変位の不連続性が損なわれるからである。
 また、スリット64の幅は、10μm以下であることが望ましい。スリット64の幅が広すぎるとスリット64を通ってエアギャップ50からバックチャンバ45へ漏れる空気量が増大し、ロールオフ周波数が高くなって音響センサの低周波特性が悪化する。特に、スリット64の幅が10μmを超えると著しくロールオフ周波数が高くなって低周波特性が悪化し、音響センサ41の感度が大きく損なわれるからである。
 ただし、スリット64の位置は必ずしもラインDの位置に限らない。たとえば、図20に示すようにラインDと直交するようにスリット64を設けてその両側にダイアフラム領域43a、43bを形成してもよい。また、図21に示すように、ダイアフラム43に複数本のスリット64を設けて3個以上のダイアフラム領域43a、43b、43c、43dを形成してもよい。
(第7の実施形態)
 図22は上記各実施形態の音響センサを用いたMEMSマイクロフォンの断面図である。また、図23は、カバーを外した状態のマイクロフォンの平面図である。
 このマイクロフォン81は、回路基板82とカバー83からなるパッケージ内に音響センサ65と信号処理回路84(ASIC)を内蔵させたものである。音響センサ65と信号処理回路84は、回路基板82の上面に実装されている。音響センサ65の電極パッド58、59は、それぞれボンディングワイヤ91によって信号処理回路84のパッド85a、85bに接続されている。回路基板82の下面にはマイクロフォン81を外部と電気的接続するための端子88が複数個設けられ、回路基板82の上面には端子88と導通した電極部89a-89c;90a、90bが設けられている。回路基板82に実装された84の各パッド86a-86c;87a、87bは、それぞれボンディングワイヤ92によって電極部89a-89c;90a、90bに接続されている。なお、信号処理回路84のパッドは、音響センサ65へ電源を供給する機能や、音響センサ65の容量変化信号を外部へ出力する機能を有するものである。
 回路基板82の上面には、音響センサ65及び信号処理回路84を覆うようにしてカバー83が取り付けられている。カバー83の上面には、パッケージ内に音響振動を導き入れるための音導入孔93が開口されている。また、パッケージは電磁シールドの機能を有しており、外部からの電気的な外乱や機械的な衝撃からマイクロフォン81を保護している。
 したがって、音導入孔93からパッケージ内に入った音響振動は、音響センサ65によって検出され、信号処理回路84によって所定の信号処理を施された後に出力される。ここで、音響センサ65として本発明に係る音響センサを用いているので、S/N比の高いマイクロフォン81となっている。
 なお、図24は別な構造のマイクロフォン94を示す。このマイクロフォン94では、音導入孔93はカバー83でなく、シリコン基板42の空洞部の下面に対向する位置において回路基板82に開口されている。このマイクロフォン94においては、回路基板82の音導入孔93から音響振動が導入されるので、シリコン基板42の空洞部はフロントチャンバ95となり、パッケージ内部の空間がバックチャンバ45となる。よって、このような形態によれば、バックチャンバ45の体積を大きくすることができ、マイクロフォン81の感度をさらに向上させることができる。
 最後に述べれば、ダイアフラムにおける変位極大点の表れ方は、アンカー(支持部)の配置だけで決まるものではなく、ダイアフラムの材質や厚み、およびアンカー(支持部)の大きさなどのパラメータによっても決まるものである。
 41、61、62、65: 音響センサ、   42: シリコン基板
 43: ダイアフラム、     43a、43b: ダイアフラム領域
 45: バックチャンバ、    46、63: アンカー
 48: バックプレート、    49: 固定電極板
 60a、60b: 音響センシング部
 64: スリット

Claims (16)

  1.  空洞部を有する基板と、
     前記空洞部を覆うようにして前記基板の上方に配設された薄膜状のダイアフラムと、
     前記ダイアフラムに形成された可動電極板と、
     前記ダイアフラムに対向させるようにして前記基板の上面に固定されたバックプレートと、
     前記可動電極板と対向する位置において前記バックプレートに設けた固定電極板とを備えた音響センサであって、
     前記ダイアフラムは、支持部によって前記基板又は前記バックプレートに支持されており、
     前記ダイアフラムは、振動時の変位量が極大となる点を複数箇所に有し、
     前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上に、前記支持部が存在していることを特徴とする音響センサ。
  2.  前記ダイアフラムは、間隔をあけて前記基板又は前記バックプレートに設けられた複数個の前記支持部によって部分的に支持されていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  3.  前記ダイアフラムは外向きに延出された複数個の梁部を有し、前記梁部が前記支持部によって支持されていることを特徴とする、請求項2に記載の音響センサ。
  4.  前記ダイアフラムは、矩形状をしていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  5.  前記ダイアフラムは、格子状に配置された複数個の前記支持部によって支持されていることを特徴とする、請求項4に記載の音響センサ。
  6.  前記矩形状をしたダイアフラムは、4箇所の隅部を前記支持部によって支持され、さらに2つの方向の辺のうち一方の方向の対向する2辺においてのみ隅部と隅部の中間部分を前記支持部によって支持されていることを特徴とする、請求項5に記載の音響センサ。
  7.  前記ダイアフラムは、外周部を前記支持部によって支持され、さらに、前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線に沿って少なくとも3個の前記支持部によって支持されていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  8.  前記変位量が極大となる点のうち隣接する極大点どうしを結ぶ線分と交差する直線上に位置する前記支持部間の距離が、同じ方向における隅部の支持部どうしの距離よりも短いことを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  9.  前記ダイアフラムの外周部全周が、前記基板又は前記バックプレートに設けられた支持部によって支持されていることを特徴とする、請求項8に記載の音響センサ。
  10.  前記ダイアフラムが、スリットによって分割されていることを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  11.  前記支持部のうちいずれか2つの支持部を結ぶ線上において、前記ダイアフラムにスリットが形成されていることを特徴とする、請求項10に記載の音響センサ。
  12.  前記スリットの幅が10μm以下であることを特徴とする、請求項10に記載の音響センサ。
  13.  前記スリットの長さは、当該スリットの延長方向における前記ダイアフラムの差し渡し長さの1/2以上であることを特徴とする、請求項10に記載の音響センサ。
  14.  隣接する前記支持部の間の少なくとも一箇所において、前記ダイアフラムと前記基板との間に空隙が形成されていることを特徴とする、請求項2に記載の音響センサ。
  15.  音響振動が前記空洞部を通って前記ダイアフラムに到達することを特徴とする、請求項1に記載の音響センサ。
  16.  請求項1に記載した音響センサと、前記音響センサから出力された信号を処理するための回路とを備えたマイクロフォン。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014041943A1 (ja) * 2012-09-14 2014-03-20 オムロン株式会社 静電容量型センサ、音響センサ及びマイクロフォン
KR101496817B1 (ko) 2013-08-09 2015-02-27 삼성전기주식회사 음향 변환기

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9084048B1 (en) * 2010-06-17 2015-07-14 Shindig, Inc. Audio systems and methods employing an array of transducers optimized for particular sound frequencies
US9516428B2 (en) 2013-03-14 2016-12-06 Infineon Technologies Ag MEMS acoustic transducer, MEMS microphone, MEMS microspeaker, array of speakers and method for manufacturing an acoustic transducer
US9681234B2 (en) * 2013-05-09 2017-06-13 Shanghai Ic R&D Center Co., Ltd MEMS microphone structure and method of manufacturing the same
JP6135387B2 (ja) * 2013-08-09 2017-05-31 オムロン株式会社 マイクロフォン、音響センサ及び音響センサの製造方法
KR101364643B1 (ko) * 2013-12-20 2014-02-19 국방과학연구소 기동저지탄용 음향센서
CN103686570B (zh) * 2013-12-31 2017-01-18 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Mems麦克风
CN103716743B (zh) * 2013-12-31 2017-07-18 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Mems麦克风
US20150296305A1 (en) * 2014-04-10 2015-10-15 Knowles Electronics, Llc Optimized back plate used in acoustic devices
US9641949B2 (en) 2014-06-30 2017-05-02 Infineon Technologies Ag MEMS device and method for manufacturing the MEMS device
US20160037263A1 (en) * 2014-08-04 2016-02-04 Knowles Electronics, Llc Electrostatic microphone with reduced acoustic noise
CN204408625U (zh) * 2015-01-21 2015-06-17 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Mems麦克风
KR101713748B1 (ko) * 2015-12-09 2017-03-08 현대자동차주식회사 마이크로폰 및 그 제조 방법
JP6679044B2 (ja) * 2016-05-24 2020-04-15 新日本無線株式会社 Mems素子
JP6830527B2 (ja) * 2017-05-09 2021-02-17 富士フイルム株式会社 圧電マイクロフォンチップおよび圧電マイクロフォン
KR102322257B1 (ko) 2017-05-11 2021-11-04 현대자동차 주식회사 마이크로폰 및 그 제조 방법
US10886455B2 (en) * 2017-07-31 2021-01-05 Vanguard International Semiconductor Singapore Pte. Ltd. Piezoelectric microphone with deflection control and method of making the same
CN208158670U (zh) * 2018-01-31 2018-11-27 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Mems麦克风
KR102082716B1 (ko) * 2018-06-01 2020-02-28 주식회사 신성씨앤티 멤스 음향 센서
KR102077744B1 (ko) * 2018-10-16 2020-02-14 주식회사 코인즈 파이프 누설 검사장치
TWI753298B (zh) * 2019-09-06 2022-01-21 南韓商申星集合科技股份有限公司 微機電系統聲學傳感器
US10993043B2 (en) * 2019-09-09 2021-04-27 Shin Sung C&T Co., Ltd. MEMS acoustic sensor
KR102544661B1 (ko) 2021-01-07 2023-06-20 주식회사 신성사운드모션 멤스 음향 센서
CN113316072B (zh) * 2021-05-27 2022-06-17 宁波华彰企业管理合伙企业(有限合伙) 一种具有滤波作用的压电声学换能器及其制作方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62213400A (ja) * 1986-03-13 1987-09-19 Sony Corp コンデンサ形マイクロホン
JP2010056745A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Omron Corp 静電容量型振動センサ

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003209899A (ja) * 2002-01-11 2003-07-25 Audio Technica Corp コンデンサマイクロホン
US8477983B2 (en) 2005-08-23 2013-07-02 Analog Devices, Inc. Multi-microphone system
GB0605576D0 (en) * 2006-03-20 2006-04-26 Oligon Ltd MEMS device
JP4657974B2 (ja) * 2006-05-09 2011-03-23 パナソニック株式会社 カード型memsマイクロホン
JP4770605B2 (ja) 2006-06-26 2011-09-14 ヤマハ株式会社 平衡出力マイクロホンおよび平衡出力マイクロホンの製造方法
US7550828B2 (en) * 2007-01-03 2009-06-23 Stats Chippac, Inc. Leadframe package for MEMS microphone assembly
WO2009130628A1 (en) * 2008-04-23 2009-10-29 Nxp B.V. Capacitive pressure sensor
KR101065292B1 (ko) * 2008-12-22 2011-09-19 한국전자통신연구원 멤스 마이크로폰 및 그 제조 방법
CN201403199Y (zh) * 2009-03-27 2010-02-10 瑞声声学科技(常州)有限公司 Mems电容麦克风
CN201467442U (zh) 2009-05-15 2010-05-12 瑞声声学科技(常州)有限公司 电容麦克风
JP5578810B2 (ja) * 2009-06-19 2014-08-27 キヤノン株式会社 静電容量型の電気機械変換装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62213400A (ja) * 1986-03-13 1987-09-19 Sony Corp コンデンサ形マイクロホン
JP2010056745A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Omron Corp 静電容量型振動センサ

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2605545A4 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014041943A1 (ja) * 2012-09-14 2014-03-20 オムロン株式会社 静電容量型センサ、音響センサ及びマイクロフォン
JP2014060495A (ja) * 2012-09-14 2014-04-03 Omron Corp 静電容量型センサ、音響センサ及びマイクロフォン
CN104488290A (zh) * 2012-09-14 2015-04-01 欧姆龙株式会社 静电容量型传感器、声音传感器及传声器
KR101496817B1 (ko) 2013-08-09 2015-02-27 삼성전기주식회사 음향 변환기

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