WO2012091363A2 - 소둔공정용 열처리장치 - Google Patents

소둔공정용 열처리장치 Download PDF

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WO2012091363A2
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base plate
annealing process
coil
heat treatment
support piece
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이상원
오진택
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(주)포스코
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    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B11/00Bell-type furnaces

Definitions

  • the present invention relates to a heat treatment apparatus for the annealing process, and more particularly, to a heat treatment apparatus for the annealing process that can reduce the temperature variation in the coil by making the heat transfer uniformly to the upper portion as well as the lower portion of the coil.
  • the coil is subjected to a continuous open frame furnace (COF) process in which the coil is maintained at a high temperature of about 1000 ° C. for a period of time and then cooled.
  • COF continuous open frame furnace
  • the heat treatment apparatus used in the conventional COF process includes a circular plate 10 on which a coil 50 is placed, and an upper support configured of refractory to prevent sagging of the circular plate 10. 20, the lower support 30 radially disposed below the upper support 20, and the circular plate 10, the upper support 20, and the lower support 30 to cover the sand 60 of the bottom 60.
  • the cover 40 is fixed to the cover 40 to block direct contact between the burner combustion atmosphere, which is an external atmosphere gas, and the hydrogen atmosphere gas, which is an internal atmosphere gas.
  • the heat transfer efficiency of the circular plate is reduced to deepen the temperature deviation in the coil, and this deepened temperature deviation in the coil increases the magnetic deviation of the coil, causing a decrease in coil magnetic quality.
  • An object of the present invention for solving this problem is to provide a heat treatment apparatus for the annealing process that can reduce the temperature variation in the coil during heat treatment by increasing the amount of heat flowing into the lower portion of the coil.
  • the annealing process heat treatment apparatus is an annealing process heat treatment apparatus in which heat is transferred from an external heat source in an annealing process, and a base plate on which a coil is placed, and a lower portion of the heat treatment apparatus, is opened to surround the coil. And a support unit for supporting a lower portion of the base plate such that a cover having a lower open portion sealed at an edge of the base plate and a heat transfer space portion through which radiant heat transfer by an external heat source is transmitted beneath the base plate.
  • the edge of the base plate is formed with a sealing groove is filled with a sealing member, the lower open portion is inserted into the sealing member.
  • the base plate is made of a steel material having excellent heat transfer, and transfers the heat source transferred through the heat transfer space to the lower portion of the coil.
  • the support unit includes a center support piece disposed on a lower side of the center of the base plate, and a plurality of development support pieces radially disposed on a lower side of the base plate.
  • the plurality of development support pieces are composed of a first support piece extending long toward the center support piece and a second support piece extending shorter than the first support piece.
  • the heating / cooling speed of the coil can be remarkably improved, and the temperature deviation in the coil, which greatly affects the magnetic quality of the coil in the COF process, can be significantly reduced.
  • FIG. 1 is a side view showing a heat treatment apparatus for the annealing process according to the prior art.
  • FIG. 2 is an enlarged perspective view illustrating an enlarged portion "A" of FIG. 1.
  • Figure 3 is a side view showing a heat treatment apparatus for the annealing process according to the present invention.
  • FIG. 4 is an enlarged perspective view illustrating the enlarged portion “B” of FIG. 3.
  • FIG. 5 is a graph showing the difference in temperature distribution in the coil of the heat treatment apparatus for the annealing process according to the present invention.
  • sealing member 520 heat transfer space
  • the heat treatment apparatus for the annealing process according to the present invention efficient heating / for the coil 400 in the annealing process through the heat transfer through the radiant heat transfer through the cover 200 and the base play / Implement the cooling to reduce the temperature deviation in the coil 400.
  • the external heat source that is heated by radiant heat transfer and the external cooling source that is convective heat transfer are collectively defined as an external heat source.
  • Heat treatment apparatus for implementing this, the base plate 100 on which the coil 400 is placed, the cover 200 which is sealed at the edge of the base plate 100 to surround the coil 400, and the base plate 100 It is configured to include a support unit 300 for supporting the lower portion of the base plate 100 so that the heat transfer space 520 is formed on the lower side.
  • the base plate 100 has a circular plate shape in which the coil 400 is placed, and a heat transfer space 520 is formed at a lower side thereof so that the base plate 100 is directly exposed from an external heat source.
  • the base plate 100 is made of a material having excellent thermal conductivity, and in this embodiment, a steal material that can effectively transfer an external heat source to the coil 400 side is used. Consists of steel material with this excellent characteristic,
  • the base plate 100 is coupled to the cover 200 surrounding the coil 400.
  • a sealing groove 110 is formed at the edge of the base plate 100 and the sealing member 510 is filled, and the sealing member 510 in the sealing groove 110 has a cover.
  • the lower open portion 210 of the 200 is inserted to seal.
  • the cover 200 has a structure in which the lower part is opened to surround the coil 400, and the lower open part 210 is opened to be sealed to the sealing groove part 110 of the base plate 100.
  • the cover 200 blocks the external atmosphere gas and the internal atmosphere gas in the cover 200.
  • the cover 200 serves as a primary heating / cooling source for heating / cooling inside the cover 200, and indirectly by the cover 200. Through heating / cooling, the upper portion of the coil 400 is secondly heated / cooled.
  • heat transfer efficiency for the upper and lower coils 400 may be maximized, and heating / cooling between the upper and lower coils 400 may be performed. Eliminating the time difference may minimize the temperature variation in the coil 400.
  • the support unit 300 is provided below the base plate 100.
  • the support unit 300 supports the lower portion of the base plate 100 so that the heat transfer space 520 is formed at the lower portion of the base plate 100.
  • the support unit 300 of the base plate 100 is formed by deformation of creep. It is made of refractory material to prevent sag.
  • the support unit 300 is composed of a center support piece 310 and the deployment support piece 320 spaced apart from each other with the heat transfer space 520 therebetween.
  • the center support piece 310 is composed of a circular support piece for supporting the center lower surface of the base plate 100
  • the deployment support piece 320 is the center support piece 310 at the lower side of the base plate 100
  • the first support piece 321 and the second support piece 322 which are disposed radially with respect to the?) are alternately arranged.
  • the second support piece 322 is formed to extend shorter than the first support piece 321, it is possible to implement an efficient arrangement design of the support piece and to secure a sufficient heat transfer space under the base plate 100.
  • the heat treatment apparatus of the present invention has a faster speed to follow the heat cycle during the heat treatment than the prior art, the temperature difference between the highest temperature portion and the lowest temperature portion in the coil 400 in the heating table compared to the prior art It was found to decrease by 100 ° C.
  • the upper heating / cooling of the coil 400 by the cover 200 shows the same efficiency as the prior art, but the lower heating / cooling of the coil 400 by the base plate 100 is remarkably improved compared to the prior art. Appeared.
  • the present invention directly exposes the base plate 100 on which the coil 400 is placed to an external heat source, thereby remarkably improving the heating / cooling speed of the coil 400 to the upper and lower portions of the coil 400. It is possible to reduce the temperature deviation and improve the magnetic quality of the coil 400 in the COF process.

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Abstract

코일 내 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리장치가 소개된다. 소둔공정용 열처리장치는 코일(400)이 놓여지는 베이스 플레이트(100)와, 코일(400)을 감싸도록 하부가 개방되고 개방되는 하측개방부(210)가 베이스 플레이트(100)의 가장자리에 실링되는 커버(200)와, 베이스 플레이트(100)의 하부에 외부열원에 의한 복사 열전달이 전달되는 열전달공간부(520)가 형성되도록 베이스 플레이트(100)의 하부를 지지하는 서포트유닛(300)을 포함하여 구성된다.

Description

소둔공정용 열처리장치
본 발명은 소둔공정용 열처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 코일의 상부뿐만 아니라 하부에도 열전달이 균일하게 이루어지도록 하여 코일내 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리장치에 관한 것이다.
전기강판 제조공정 중 전기강판이 방향성을 갖게 하기 위해 코일을 일정기간 동안 1000℃정도의 고온에서 유지한 후 냉각시키는 COF(Continuous Open frame Furnace)공정을 거친다.
도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 종래 COF 공정에서 사용되는 열처리 장치는, 코일(50)이 놓여지는 원형판(10)과, 내화물로 구성되어 원형판(10)의 처짐현상을 막는 상부서포트(20)와, 상부서포트(20)의 하부에 방사형으로 배치되는 하부서포트(30)와, 이들 원형판(10), 상부서포트(20) 및 하부서포트(30)를 덮어 바닥(60)의 모래(61)에 고정되어 외부 분위기 가스인 버너연소분위기와 내부 분위기 가스인 수소분위기 가스 간의 직접적인 접촉을 차단하는 커버(40)로 구성된다.
그런데 이러한 종래 기술의 경우, 커버가 외부가열원에 의한 복사 열전달로 가열되거나 외부냉각원에 의한 대류 열전달되어 냉각되면, 해당 열은 커버 내부의 코일에 전달하게 되는데, 이때, 코일의 상부는 커버의 열에 의해 가열/냉각되지만, 코일의 하부는 커버의 열에 의해서 가열/냉각된 원형판을 통해 가열/냉각되기 때문에, 코일의 상부와 하부에 전달되는 열온도가 차이가 발생되어 온도편차가 발생되었다.
특히, 상부서포트의 재질이 내화물로 구성됨에 따라 원형판의 열전달 효율을 감소시켜 코일내 온도편차를 심화시키고 이렇게 심화된 코일내 온도편차는 코일의 자성편차를 증가시켜 코일 자성품질의 저하를 야기하였다.
이에 코일의 상부 뿐만 아니라 하부에도 외부 열이 효율적으로 전달되어 코일내 온도편차를 줄일 수 있는 기술이 요구되고 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 코일의 하부로 유입되는 열량을 증가시켜 열처리시 코일 내 온도 편차를 감소시킬 수 있는 소둔공정용 열처리장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리장치는, 소둔공정에서 외부열원으로부터 열전달이 이루어지는 소둔공정용 열처리장치로서, 코일이 놓여지는 베이스 플레이트와, 상기 코일을 감싸도록 하부가 개방되고 개방되는 하측개방부가 상기 베이스 플레이트의 가장자리에 실링되는 커버와, 상기 베이스 플레이트의 하부에 외부열원에 의한 복사 열전달이 전달되는 열전달공간부가 형성되도록 상기 베이스 플레이트의 하부를 지지하는 서포트유닛을 포함한다.
바람직하게, 상기 베이스 플레이트의 가장지리에는 실링부재가 충진되는 실링홈부가 형성되어, 상기 하측개방부가 상기 실링부재에 삽입되다.
바람직하게, 상기 베이스 플레이트는 열 전달이 우수한 특징을 갖는 스틸재질로 구성되어, 상기 열전달공간부를 통해 전달된 열원을 상기 코일의 하부에 전달한다.
바람직하게, 상기 서포트유닛은 상기 베이스 플레이트의 중심 하측면에 배치되는 중심서포트편과, 상기 베이스 플레이트의 하측면에 방사상으로 배치되는 복수의 전개서포트편을 포함한다.
바람직하게, 상기 복수의 전개서포트편은 상기 중심서포트편을 향해 길게 연장 형성되는 제1서포트편과, 상기 제1서포트편보다 짧게 연장 형성되는 제2서포트편로 구성된다.
본 발명에 의하면, 코일이 놓여지는 베이스 플레이트를 외부 열원에 직접 노출시킴으로써, 코일의 가열/냉각 속도를 현저히 개선하고, COF 공정에서 코일의 자성품질에 지대한 영향을 끼치는 코일 내 온도편차를 현저히 줄일 수 있다는 이점이 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 소둔공정용 열처리장치를 도시한 측면도.
도 2는 도 1의 "A"부를 확대하여 도시한 확대 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리장치를 도시한 측면도.
도 4는 도 3의 "B"부를 확대하여 도시한 확대 사시도.
도 5는 본 발명에 따른 소둔공정용 열처리장치의 코일 내 온도 분포 차이를 도시한 그래프.
100 :베이스 플레이트 200 :커버
300 :서포트유닛 400 :코일
510 :실링부재 520 :열전달공간부
우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.
첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 소둔공정용 열처리장치는, 커버(200)를 통한 복사 열전달과 베이스 플레이를 통한 열전도를 통해 소둔공정에서 코일(400)에 대한 효율적인 가열/냉각을 구현하여 코일(400) 내 온도편차를 줄이도록 한다. 본 실시예에서는 복사 열전달로 가열되는 외부가열원과 대류 열전달되는 외부냉각원을 통칭하여 외부열원으로 정의한다.
이를 구현하기 위한 열처리장치는, 코일(400)이 놓여지는 베이스 플레이트(100)와, 코일(400)을 감싸도록 베이스 플레이트(100)의 가장자리에 실링되는 커버(200)와, 베이스 플레이트(100)의 하측에 열전달공간부(520)가 형성되도록 베이스 플레이트(100)의 하부를 지지하는 서포트유닛(300)을 포함하여 구성된다.
베이스 플레이트(100)는 코일(400)이 놓여지는 원형의 플레이트 형상으로, 해당 하측에 열전달공간부(520)가 형성되어 외부열원으로부터 직접 노출되도록 구성된다. 이를 위해 베이스 플레이트(100)는 열전도율이 우수한 재질로 구성되는데, 본 실시예에서는 외부 열원을 코일(400)측에 효과적으로 전달할 수 있는 스틸(steal)재료가 사용되었다.베이스 플레이트(100)는 열 전달이 우수한 특징을 갖는 스틸(steel)재질로 구성되어,
이 베이스 플레이트(100)에는 코일(400)을 감싸는 커버(200)가 결합된다. 이때, 이들 간에 효과적인 실링효과를 구현하기 위해, 베이스 플레이트(100)의 가장자리에는 실링부재(510)가 충진되는 실링홈부(110)가 형성되고, 실링홈부(110)내 실링부재(510)에는 커버(200)의 하측개방부(210)가 실링되도록 삽입된다.
커버(200)는 코일(400)을 감싸도록 하부가 개방되는 구조로, 개방되는 하측개방부(210)가 베이스 플레이트(100)의 실링홈부(110)에 실링되도록 결합된다. 이 커버(200)는 외부 분위기 가스와 커버(200) 내의 내부 분위기 가스를 차단하는데, 커버(200) 내부의 가열/냉각을 위한 1차 가열/냉각원으로 작용하면서, 커버(200)에 의한 간접 가열/냉각을 통해 코일(400)의 상부가 2차 가열/냉각된다.
특히, 종래 기술의 경우 코일이 놓여지는 원형판이 상부서포트 및 하부서포트에 지지되고 이들 구성이 커버에 의해 감싸지는 구조이므로, 커버를 통해 코일의 상부에 주로 열전달이 이루어지는 반면, 본 발명의 경우 커버(200)가 베이스 플레이트(100) 만을 감싸고 베이스 플레이트(100)의 하측에 열전달공간부(520)가 형성되는 구조이므로, 커버(200)를 통해 코일(400)의 상부는 물론, 베이스 플레이트(100)를 통해 코일(400)의 하부에서 열전달이 이루어질 수 있다.
이와 같이, 베이스 플레이트(100)의 상부와 하부를 외부 분위기 가스의 열원에 노출시킴으로써, 코일(400) 상부 및 하부에 대한 열전달 효율이 극대화될 수 있으며, 코일(400) 상부와 하부 간의 가열/냉각 시간 차이를 없애 코일(400) 내 온도 편차를 최소화 할 수 있다.
베이스 플레이트(100)의 하부에는 서포트유닛(300)이 마련된다. 서포트유닛(300)은 베이스 플레이트(100)의 하부에 열전달공간부(520)가 형성되도록 베이스 플레이트(100)의 하부를 지지하는데, 바람직하게 크리프(creep)의 변형에 의한 베이스 플레이트(100)의 처짐을 방지하기 위해 내화물 재질로 구성된다.
이러한 서포트유닛(300)은 열전달공간부(520)를 사이에 두고 이격 배치되는 중심서포트편(310))과 전개서포트편(320)으로 구성된다. 중심서포트편(310))은 베이스 플레이트(100)의 중심 하측면을 지지하는 원형의 서포트편으로 구성되고, 전개서포트편(320)은 베이스 플레이트(100)의 하측면에서 중심서포트편(310))을 중심으로 방사상으로 배치되는 제1서포트편(321)과 제2서포트편(322)이 교호로 배치되어 구성된다. 여기서, 제2서포트편(322)은 제1서포트편(321)보다 짧게 연장 형성되므로, 서포트편의 효율적인 배치 설계를 구현하고 베이스 플레이트(100)의 하측에 충분한 열전달공간을 확보할 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 열처리장치는 종래 기술에 비해 열처리시 히트 싸이클을 따라가는 속도가 더 빠르고, 코일(400) 내 최고 온도부와 최저 온도부 간의 온도차가 종래 기술에 비해 가열대에서 100℃ 감소하는 것으로 확인되었다. 아울러, 커버(200)에 의한 코일(400)의 상부 가열/냉각은 종래 기술과 같은 효율을 보여주지만, 베이스 플레이트(100)에 의한 코일(400)의 하부 가열/냉각은 종래 기술에 비하여 현저히 개선되었음이 나타났다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 코일(400)이 놓여지는 베이스 플레이트(100)를 외부 열원에 직접 노출시킴으로써, 코일(400)의 상,하부에 대한 가열/냉각 속도를 현저히 개선하여 코일(400) 내 온도 편차를 감소시키고, COF 공정에서 코일(400)의 자성품질을 향상시킬 수 있다.
상기에서 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.

Claims (8)

  1. 소둔공정에서 외부열원으로부터 열전달이 이루어지는 소둔공정용 열처리장치로서,
    코일(400)이 놓여지는 베이스 플레이트(100);
    상기 코일(400)을 감싸도록 하부가 개방되는 하측개방부(210)가 상기 베이스 플레이트(100)의 가장자리에 실링되는 커버(200); 및
    상기 베이스 플레이트(100)의 하부에 외부열원에 의한 복사 열전달이 전달되는 열전달공간부(520)가 형성되도록 상기 베이스 플레이트(100)의 하부를 지지하는 서포트유닛(300)을 포함하는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 베이스 플레이트(100)의 가장자리에는 실링부재(510)가 충진되는 실링홈부(110)가 형성되어, 상기 하측개방부(210)가 상기 실링부재(510)에 삽입되는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 베이스 플레이트(100)는 열 전달이 우수한 특징을 갖는 스틸재질로 구성되어, 상기 열전달공간부(520)를 통해 전달된 열원을 상기 코일(400)의 하부에 전달하는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 서포트유닛(300)은 상기 베이스 플레이트(100)의 중심 하측면에 배치되는 중심서포트편(310))과, 상기 베이스 플레이트(100)의 하측면에 방사상으로 배치되는 복수의 전개서포트편(320)을 포함하는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 복수의 전개서포트편(320)은 상기 중심서포트편(310))을 향해 길게 연장 형성되는 제1서포트편(321)과, 상기 제1서포트편(321)보다 짧게 연장 형성되는 제2서포트편(322)로 구성되는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1서포트편(321) 사이에는 상기 제2서포트편(322)이 위치되어 제1서포트편(321)과 제2서포트편(322)이 교대로 반복되도록 배치된 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 베이스 플레이트(100)는 코일(400)이 놓여질 수 있도록 원형의 플레이트 형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 서포트유닛(300)은 크리프의 변형에 의한 베이스 플레이트(100)의 처짐을 방지하기 위해 내화물 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 소둔공정용 열처리장치.
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