WO2012086531A1

WO2012086531A1 - タッチパネル及び該タッチパネルを備えた表示装置

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Publication number: WO2012086531A1
Application number: PCT/JP2011/079140
Authority: WO
Inventors: 安弘小原; 聖中原
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2010-12-24
Filing date: 2011-12-16
Publication date: 2012-06-28

Abstract

タッチ位置を検出可能な電極パッドと該電極パッド同士を接続するブリッジ部とを備えたタッチパネルにおいて、簡単で且つ電極パッドやブリッジ部の導電性の低下を招くことがない構成によって、該電極パッドやブリッジ部を視認しにくい構成を実現する。タッチパネル（２）は、一部が接続部（２１ｂ）によって互いに接続された複数の電極パッド（２１ａ，２２ａ）と、該接続部（２１ｂ）を跨いでＸ方向電極パッド（２２ａ）同士を繋ぐブリッジ部（２３）と、電極パッド（２１ａ，２２ａ）に電気的に接続された引き出し配線（２４）と、電極パッド（２１ａ，２２ａ）、ブリッジ部（２３）及び引き出し配線（２４）の操作面側を覆う保護層（１４）とを備える。保護層（１４）の操作面側には、該操作面側から見て電極パッド（２１ａ，２２ａ）、ブリッジ部（２３）及び引き出し配線（２４）の少なくとも一部を覆う部分に、凹凸部（１４ａ）を形成する。

Description

タッチパネル及び該タッチパネルを備えた表示装置

　本発明は、操作面上でのタッチ位置を検出可能なタッチパネル及び該タッチパネルを備えた表示装置に関する。

　従来より、操作面上でペンや指などがタッチした位置、すなわちタッチ位置を検出可能なタッチパネルが知られている。このようなタッチパネルでは、例えば特開２００９－５３８９４号公報に開示されるように、２つの電極パターンを有し、一方の電極パターンが他方の電極パターンを跨ぐように設けられている。この一方の電極パターンには、他方の電極パターンと交差する部分に、中継電極が設けられている。

　前記特開２００９－５３８９４号公報には、電極パターン及び中継電極を透光性の材料によって構成するとともに、電極パターン及び中継電極の視認側に凹凸を形成して光を散乱させる構成が開示されている。これにより、電極パターン及び中継電極を操作面側から視認しにくくすることができる。

　ところが、前記特開２００９－５３８９４号公報に開示されるように、電極パターン及び中継電極の表面に凹凸を形成すると、電極パターン及び中継電極に部分的に薄い部分などが生じるため、電極パターン及び中継電極の導電性の低下を招く可能性がある。また、このような導電性の低下を招くことなく、表面に凹凸を有する複雑な形状の電極パターン及び中継電極を精度良く形成することは難しい。

　そのため、本発明では、タッチ位置を検出可能なタッチ電極を備えたタッチパネルにおいて、簡単で且つタッチ電極等の導電性の低下を招くことがない構成によって、該タッチ電極等を視認しにくくすることを目的とする。

　本発明の一実施形態にかかるタッチパネルは、パネル基板と、タッチ位置を検出可能なように前記パネル基板上に設けられたタッチ電極と、前記タッチ電極からの電気信号を外部に出力可能なように、前記タッチ電極に電気的に接続された引き出し配線と、前記タッチ電極及び前記引き出し配線の操作面側を覆うカバー層とを備え、前記カバー層の操作面側には、該操作面側から見て前記タッチ電極及び前記引き出し配線の少なくとも一部を覆う部分に、前記操作面側から入射する光を拡散するための凹凸部が形成されている。

　本発明の一実施形態にかかるタッチパネルでは、簡単で且つタッチ電極等の導電性が低下しにくい構成によって、該タッチ電極等を視認しにくくすることができる。

図１は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルを備えたタッチパネル付き液晶表示装置の全体構成を模式的に示す図である。図２は、タッチパネルの概略構成を示す平面図である。図３は、実施形態１に係るタッチパネルにおいて、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に対応する断面図である。図４は、実施形態２に係るタッチパネルにおいて、図２のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面図である。図５は、実施形態３に係るタッチパネルにおいて、図２のＶ－Ｖ線に対応する断面図である。

　本発明の一実施形態にかかるタッチパネルは、パネル基板と、タッチ位置を検出可能なように前記パネル基板上に設けられたタッチ電極と、前記タッチ電極からの電気信号を外部に出力可能なように、前記タッチ電極に電気的に接続された引き出し配線と、前記タッチ電極及び前記引き出し配線の操作面側を覆うカバー層とを備え、前記カバー層の操作面側には、該操作面側から見て前記タッチ電極及び前記引き出し配線の少なくとも一部を覆う部分に、前記操作面側から入射する光を拡散するための凹凸部が形成されている（第１の構成）。

　上記の構成によって、タッチ電極及び引き出し配線の操作面側を覆うカバー層の少なくとも一部に凹凸部が形成されるため、操作面側から入射される光を該カバー層の凹凸部によって拡散させることができる。これにより、タッチ電極及び引き出し配線の少なくとも一部を視認しにくくすることができる。

　しかも、上述の構成では、タッチ電極及び引き出し配線の表面に直接、凹凸部を形成するのではなく、該タッチ電極及び引き出し配線を覆うカバー層に凹凸部を形成する。これにより、タッチ電極及び引き出し配線の導電性を低下させる可能性がなくなるとともに、該タッチ電極及び引き出し配線を容易に形成することができる。

　前記第１の構成において、前記タッチ電極は、複数の電極パッドと、前記複数の電極パッドのうち一部同士を接続する接続部と、前記接続部を跨いで、前記複数の電極パッドのうち他の電極パッド同士を繋ぐブリッジ部とを備えていて、前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記複数の電極パッド、前記ブリッジ部及び前記引き出し配線の少なくとも一部を覆う部分に設けられているのが好ましい（第２の構成）。

　これにより、電極パッド同士をブリッジ部によって接続するタッチ電極の構成においても、カバー層に設けた凹凸部によって、電極パッド、ブリッジ部及び引き出し配線の導電性を低下させることなく、それらの少なくとも一部を視認しにくくすることができる。

　前記第２の構成において、前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記ブリッジ部を覆う部分に形成されているのが好ましい（第３の構成）。

　ブリッジ部は、電極パッドを跨いで配置されるため、他の部分と層構造が異なる。そのため、ブリッジ部が設けられている部分は、他の部分とは光の反射率が異なり、視認されやすい。これに対し、上述のように、ブリッジ部を覆うカバー層に凹凸部を設けることにより、光を拡散して該ブリッジ部を視認しにくくすることができる。

　前記第２の構成において、前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記複数の電極パッドを覆う部分に形成されているのが好ましい（第４の構成）。これにより、電極パッドを視認しにくくすることができる。

　前記第１または第２の構成において、前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記引き出し配線を覆う部分に形成されているのが好ましい（第５の構成）。

　引き出し配線は、一般的に、アルミニウム合金などの金属材料によって構成されるため、電極パッド等に比べて視認されやすい。これに対して、上述の構成により、該引き出し配線を視認しにくくすることができる。

　前記第１から第５の構成のうちいずれか一つの構成において、前記カバー層は、前記タッチ電極及び前記引き出し配線の少なくとも一部の操作面側に位置する保護層であるのが好ましい（第６の構成）。

　このように、保護層に凹凸部を設けることで、タッチ電極及び引き出し配線の導電性の低下及び製造工程の複雑化を招くことなく、該タッチ電極及び引き出し配線の少なくとも一部を視認しにくくすることができる。

　前記第１から第５の構成のうちいずれか一つの構成において、前記カバー層は、前記タッチ電極及び前記引き出し配線の操作面側を覆う保護層と、該保護層の操作面側に配置される透光性カバーと、該透光性カバーを前記保護層上に固定するための粘着剤層とを備えていて、前記凹凸部は、前記保護層、前記透光性カバー及び前記粘着剤層の少なくとも一つに形成されているのが好ましい（第７の構成）。

　これにより、透光性カバーを固定するための粘着剤層が、タッチ電極及び引き出し配線を覆う保護層上に設けられる。よって、粘着剤層がタッチ電極及び引き出し配線と直接、接触するのを防止できる。したがって、粘着剤層に酸性の成分が含まれている場合でも、上述の構成により、タッチ電極及び引き出し配線が粘着剤層によって酸化するのを防止できる。

　本発明の一実施形態に係るタッチパネル付き表示装置は、画像を表示可能な表示パネルと、該表示パネルの視認側に配置される、第１から第７の構成のいずれか一つに記載のタッチパネルとを備えている（第８の構成）。

　以下、タッチパネルの好ましい実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、各図中の構成部材の寸法は、実際の構成部材の寸法及び各構成部材の寸法比率等を忠実に表したものではない。

　［実施形態１］
　図１に、実施形態１に係るタッチパネル２を備えたタッチパネル付き液晶表示装置１（タッチパネル付き表示装置）の概略構成を示す。この図１に示すように、タッチパネル付き液晶表示装置１は、タッチ位置を検出可能なタッチパネル２を、画像を表示可能な液晶パネル３（表示パネル）に重ね合わせることによって構成される。なお、図１において、符号４は、バックライトである。また、タッチパネル２の液晶パネル３とは反対側（操作面側、視認側）の表面を覆うカバーガラス等については図示を省略する。

　液晶パネル３は、図１に示すように、多数の画素がマトリクス状に配列されたアクティブマトリクス基板５と、該アクティブマトリクス基板５に対向して配置される対向基板６とを備えている。また、液晶パネル３は、アクティブマトリクス基板５と対向基板６との間に液晶層７を備えている。この液晶層７は、液晶の制御によって画像を表示可能な液晶であればどのような種類の液晶であってもよいし、液晶の動作モードもどのようなモードであってもよい。なお、液晶パネル３には、特に図示しないが、アクティブマトリクス基板５及び対向基板６を挟み込むように、一対の偏光板が取り付けられている。

　アクティブマトリクス基板５は、ガラス基板等の透明基板上に、複数のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；薄膜トランジスタ、図示省略）、画素電極及び複数の配線（ソース配線、ゲート配線等）などが設けられたものである。なお、ＴＦＴは、従来と同じ構成であるため、詳しい説明を省略する。

　画素電極は、透明電極であり、例えばＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の透明導電性材料によって形成されている。画素電極は、画素毎に互いに離間して配置されている。画素電極によって、画像表示の一単位となる画素が規定される。

　特に図示しないが、ＴＦＴのソース電極、ゲート電極及びドレイン電極は、ソース配線、ゲート配線、画素電極にそれぞれ接続されている。ゲート配線及びソース配線を介してＴＦＴに信号を入力し、該ＴＦＴを駆動する点は、従来の液晶表示装置と同じであるため、詳しい説明を省略する。

　対向基板６は、ガラス基板等の透明基板上に、ＩＴＯ等の透明導電性材料からなる対向電極などが設けられたものである。なお、液晶パネル３がカラー画像を表示可能な液晶パネルの場合には、対向基板６に、ＲＧＢのカラーフィルタが設けられる。

　以下で、タッチパネル２の構成を、図２及び図３を用いて説明する。なお、図２では、引き出し配線２４及びブリッジ部２３を見やすくするために、断面ではないが、該引き出し配線２４及びブリッジ部２３にハッチングを施している。

　タッチパネル２は、操作面をタッチした位置を検出可能なように、該操作面に配置されるタッチ電極１２を備えている（図２参照）。本実施形態のタッチパネル２は、タッチ電極１２と操作面をタッチする指との間に静電容量が形成されることを利用して、タッチ位置によるタッチ電極１２と指との間の静電容量の違いから該タッチ位置を求めるように構成されている。すなわち、本実施形態のタッチパネル２は、いわゆる静電容量型のタッチパネルである。

　詳しくは、タッチパネル２は、図３に示すように、透明なガラス基板である基板１１と、該基板１１の一面側（操作面側、操作側）に形成されるタッチ電極１２と、該タッチ電極１２と基板１１との間に形成される絶縁層１３と、該タッチ電極１２を保護するための保護層１４（カバー層）とを備えている。

　タッチ電極１２は、図２に示すように、平面視で略四角形状に形成された複数の電極パッド２１ａ，２２ａと略三角形状に形成された複数の電極パッド２１ｃ，２２ｂとを有し、これらの電極パッド２１ａ，２２ａ，２１ｃ，２２ｂが操作面全体にほぼ均等の間隔で配置されることによって構成される。

　また、タッチ電極１２は、図２におけるＸ方向に延びるＸ方向電極２２と、Ｙ方向に延びるＹ方向電極２１とを有する。これらのＸ方向電極２２及びＹ方向電極２１は、ＩＴＯなどの透光性を有する導電性材料によって構成される。なお、図２に示すように、Ｘ方向とＹ方向とは基板１１の平面において互いに交差する方向である。

　Ｙ方向電極２１は、平面視で略四角形状のＹ方向電極パッド２１ａ（電極パッド）と、該Ｙ方向電極パッド２１ａ同士を接続する接続部２１ｂとが一体形成されたものである。すなわち、Ｙ方向電極２１は、図２のＹ方向に長い形状を有している。

　具体的には、Ｙ方向電極２１は、対角線がＹ方向と一致するように複数のＹ方向電極パッド２１ａを配置した状態で該Ｙ方向電極パッド２１ａの角部分を接続部２１ｂによって接続したような形状を有する。これらのＹ方向電極パッド２１ａは、Ｙ方向に均等の間隔で配置されている。また、Ｙ方向電極２１は、Ｘ方向に並んで複数、設けられている。

　なお、Ｙ方向電極２１の長手方向両端部には、平面視で略三角形状のＹ方向電極パッド２１ｃが設けられている。すなわち、Ｙ方向電極２１の長手方向両端部に位置するＹ方向電極パッド２１ｃは、他のＹ方向電極パッド２１ａに対して約半分の大きさである。

　Ｘ方向電極２２は、図２に示すように、上述のＹ方向電極パッド２１ａと同様に略四角形状で且つ該Ｙ方向電極パッド２１ａと同等の大きさを有するＸ方向電極パッド２２ａ（電極パッド）と、該Ｘ方向電極パッド２２ａ同士を接続するブリッジ部２３とを備えている。具体的には、Ｘ方向電極２２は、対角線がＸ方向と一致するように配置される複数のＸ方向電極パッド２２ａの角部分を、ブリッジ部２３によって接続することによって構成される。

　Ｘ方向電極パッド２２ａは、Ｘ方向に一定間隔で配置されている。また、Ｘ方向電極パッド２２ａは、Ｙ方向電極２１の接続部２１ｂを、角部分同士で挟み込むように配置されている。これにより、図２に示すように、Ｙ方向電極パッド２１ａとＸ方向電極パッド２２ａとが、互いに等しい間隔で操作面全体に配置される。後述するように、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂは、Ｙ方向電極２１と同じ層として形成されている。

　なお、上述のＹ方向電極２１の長手方向両端部に位置するＹ方向電極パッド２１ｃと同様、Ｘ方向電極２２の長手方向両端部には、略三角形状のＸ方向電極パッド２２ｂが設けられている。また、Ｘ方向電極パッド２２ｂは、他のＸ方向電極パッド２２ａに対して約半分の大きさである。

　これらのＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂは、Ｙ方向電極２１と同様、ＩＴＯなどの透光性を有する導電性材料によって構成されている。

　ブリッジ部２３は、Ｙ方向電極２１を挟んで隣り合うＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂの角部分同士を接続するように設けられている。すなわち、図２に示すように、ブリッジ部２３は、Ｙ方向電極２１の接続部２１ｂを跨ぐように配置されている。後述するように、ブリッジ部２３は、上述のＹ方向電極２１やＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂとは異なる層として形成されている（図３参照）。

　ブリッジ部２３は、上述のＹ方向電極２１やＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂと同様、ＩＴＯなどの透光性を有する導電性材料によって構成される。

　図２に示すように、Ｙ方向電極２１及びＸ方向電極２２のうち、長手方向の一端側に位置する略三角形状の電極パッド２１ｃ，２２ｂには、引き出し配線２４が接続されている。引き出し配線２４は、例えばアルミニウム合金などのメタル配線材料によって構成されている。また、引き出し配線２４は、Ｙ方向電極２１及びＸ方向電極２２に接続される端部とは反対側の端部が基板１１の外周部分に集まるように形成されている。基板１１の外周部分に集められた引き出し配線２４の端部には、外部の回路等に信号を出力するための端子２５が形成されている。

　次に、タッチパネル２の断面構造について、図３を用いて説明する。なお、この図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線における断面図である。

　図３に示すように、基板１１上には、ＩＴＯなどの透明導電性材料からなるＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１が設けられている。すなわち、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１が、最下層に形成されている。また、基板１１、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１上には、絶縁層１３が形成されている。絶縁層１３上に、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ同士を接続するためのブリッジ部２３が形成されている。そして、絶縁層１３及びブリッジ部２３を覆うように、保護層１４が設けられている。この保護層１４上には、粘着剤層１５を介して透光性カバー１６が取り付けられている。すなわち、タッチパネル２の操作面側の表面には、透光性カバー１６が配置されている。

　絶縁層１３は、例えば酸化シリコン膜などからなる。絶縁層１３には、基板１１上に形成されたＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂとブリッジ部２３とを電気的に接続するためのコンタクトホール１３ａが形成されている。これにより、Ｘ方向電極２２及びＹ方向電極２１とブリッジ部２３とを異なる層として形成することができる。したがって、Ｙ方向電極２１の接続部２１ｂとＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ同士を接続するブリッジ部２３との立体交差が可能になる。

　保護層１４は、例えばアクリル樹脂の有機膜などからなる。この保護層１４は、図２及び図３に示すように、タッチパネル２の操作面側に設けられている。また、保護層１４は、図２に示すように、基板１１上に形成されたＸ方向電極２２、Ｙ方向電極２１及び引き出し配線２４を覆うように設けられている。なお、保護層１４は、タッチ電極１２及び引き出し配線２４を、それぞれ他の部材から電気的に絶縁しつつ周囲環境から保護するためのものである。また、タッチパネル２の表面の硬度を高める必要がある場合には、保護層１４上に酸化シリコン膜などの無機膜を形成してもよい。

　保護層１４の操作面側の表面のうち、操作面側から見てブリッジ部２３に対応する部分には、一般的な平坦化膜よりも表面粗さ（例えば最大高さＲｙ）が大きい凹凸が形成されている。すなわち、保護層１４は、操作面側の表面のうちブリッジ部２３に対応する部分に、他の部分よりも表面粗さの大きい凹凸部１４ａを有している。このような凹凸部１４ａを保護層１４の操作面側に設けることで、操作面側から入射する光を該凹凸部１４ａで拡散させることができる。したがって、操作面側から入射してブリッジ部２３で反射する光を低減することができる。よって、ブリッジ部２３を、操作面側から視認しにくくすることができる。

　しかも、保護層１４に凹凸部１４ａを形成することで、ブリッジ部２３に凹凸部を形成したときのように導電性の低下が生じるのを防止することができる。ブリッジ部２３に凹凸部を形成する場合、導電性の低下を招かないように凹凸部を形成する必要があるため、寸法精度の高い製造方法が要求される。これに対し、上述のように保護層１４に凹凸部１４ａを形成することで、該凹凸部１４ａがブリッジ部２３の導電性に影響を及ぼさないため、寸法精度の高い製造方法が不要になり、タッチパネル２を容易に形成することができる。

　なお、凹凸部１４ａは、例えば最大高さＲｙで、１．０μｍ～１．６μｍが好ましい。この範囲であれば、外光を散乱させてブリッジ部２３を視認しにくくすることができる。

　粘着剤層１５は、アクリル系樹脂などからなる。この粘着剤層１５は、透光性カバー１６を保護層１４上に接着固定するための粘着剤によって構成されている。

　透光性カバー１６は、アクリル系樹脂などからなる。この透光性カバー１６は、タッチパネル２の操作面側の表面を覆うように設けられている。

　なお、粘着剤層１５及び透光性カバー１６を構成する材料は、上述のようなアクリル系樹脂に限らず、他の材料であってもよい。

　このように、タッチパネル２の操作面側に、粘着剤層１５を介して透光性カバー１６を設ける場合、本実施形態のようにブリッジ部２３上に保護層１４を形成することで、該ブリッジ部２３が粘着剤層１５に直接接触するのを防止できる。これにより、例えば粘着剤層１５を構成する粘着剤内に酸性の成分が含まれている場合でもブリッジ部２３が酸化して腐食するのを防止することができる。

　次に、上述のような構成を有するタッチパネル２の製造方法を、図２及び図３を参照しつつ説明する。

　まず、ガラス基板からなる基板１１上に、ＣＶＤ法やスパッタ法等によって、ＩＴＯなどの透明導電性材料からなる透明金属膜を形成する。そして、フォトリソグラフィ法によって、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１を形成する予定の領域（以下、形成予定領域という）を覆うレジストパターンを形成し、これをマスクとして、前記透明金属膜をエッチングする。これにより、図２に示すようなＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１が得られる。その後、形成したレジストパターンは除去する。

　次に、基板１１、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１を覆うように絶縁層１３を形成する（図３参照）。この絶縁層１３は、例えば酸化シリコン膜などからなる。この絶縁層１３は、ＣＶＤ法やスパッタ法などによって形成される。

　続いて、フォトリソグラフィ法によって、タッチパネル基板部１１ａのコンタクトホール１３ａの形成予定領域以外を覆うレジストパターンを形成し、これをマスクとして、絶縁層１３をエッチングする。これにより、絶縁層１３にコンタクトホール１３ａを形成する（図３参照）。その後、絶縁層１３上のレジストパターンは除去する。

　絶縁層１３上に、ＣＶＤ法やスパッタ法等によって、ＩＴＯなどの透明導電性材料からなる透明金属膜を形成する。そして、フォトリソグラフィ法によって、ブリッジ部２３の形成予定領域を覆うレジストパターンを形成し、これをマスクとして、前記透明金属膜をエッチングする。これにより、図２に示すようなタッチ電極１２が得られる。その後、形成したレジストパターンは除去する。

　次に、絶縁層１３及びブリッジ部２３上に、保護層１４を形成する。この保護層１４は、例えば有機膜などからなる。保護層１４は、表面のうち、ブリッジ部２３に対応する部分に凹凸部１４ａを有するように形成される。具体的には、保護層１４は、例えば感光性有機膜を用いればフォトリソグラフィ法によって、部分的に露光量を調整することにより、膜厚差が生じるように形成される。この露光量の調整は、例えば、光透過率に差が生じるように、エッチング等によって厚みの違うフォトマスクを形成し、該フォトマスクを用いることによって実現できる。このようなフォトマスクを用いて保護層１４を形成することにより、露光量が多い部分と露光量が少ない部分とで形成される膜の厚みの差が生じるため、表面に凹凸部１４ａを有する保護層１４が形成される。

　なお、保護層１４の凹凸部１４ａを形成する方法は、上述のような方法に限らず、印刷法における印刷版の形状を調整することによって実現してもよい。

　その後、保護層１４上に粘着剤層１５を塗布形成して、該粘着剤層１５上に透光性カバー１６を配置する。これにより、透光性カバー１６を保護層１４上に固定することができる。

　（実施形態１の効果）
　以上より、この実施形態によれば、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ同士をＹ方向電極２１の上方を跨いで接続するブリッジ部２３上に、保護層１４を形成した。そして、該保護層１４の操作面側の面のうち、操作面側から見てブリッジ部２３に対応する部分に凹凸部１４ａを形成した。これにより、タッチパネル２の操作面側から入射した光は、保護層１４の凹凸部１４ａで拡散されるため、タッチパネル２の操作面側からブリッジ部２３が視認されるのを防止できる。しかも、保護層１４に凹凸部１４ａを形成するため、ブリッジ部２３の表面に凹凸部を形成する場合のように導電性の低下を招くことなく、凹凸部１４ａを容易に形成することができる。

　また、上述のように、ブリッジ部２３上に保護層１４を設けることにより、該保護層１４上に粘着剤層１５を介して透光性カバー１６を設ける構成の場合に、該粘着剤層１５がブリッジ部２３に直接接触するのを防止できる。これにより、粘着剤層１５を構成する粘着剤内に酸性の成分が入っていた場合でも、ブリッジ部２３が酸化して腐食を生じるのを防止できる。

　［実施形態２］
　図４に、実施形態２に係るタッチパネルの断面構成を示す。この実施形態２では、保護層１４の凹凸部１４ａをＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に対応して設ける点で、上述の実施形態１の構成とは異なる。以下の説明では、実施形態１と同一の構成については同一の符号を付して、異なる点についてのみ説明する。なお、図４は、図２にＩＶ－ＩＶ線で示す部分に対応する本実施形態のタッチパネルの断面図である。

　上記実施形態１及び図４に示すように、ＩＴＯなどの透明導電性材料からなるＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１上に、酸化シリコン膜などの絶縁層１３が形成された構成では、該Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１と絶縁層１３との反射率が異なる。そのため、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１と絶縁層１３との境界部分での外光の反射が顕著になる。そうすると、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１がタッチパネル２の操作面側から視認されやすくなる。

　これに対し、本実施形態では、図４に示すように、保護層１４の操作面側の面のうち、操作面側から見て、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に対応する部分に、凹凸部１４ａを設ける。この凹凸部１４ａは、上述の実施形態１と同様の工程によって形成されるため、詳しい説明を省略する。

　上述のように、保護層１４の操作面側のうちＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に対応する部分に凹凸部１４ａを設けることで、操作面側から入射する光を該凹凸部１４ａで拡散させることができる。これにより、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に到達する光を低減することができる。よって、タッチパネル２の操作面側から入射した光が抑制されるため、保護層１４とＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１との反射率差によって生じる反射光量差も抑制することができる。したがって、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１を、タッチパネル２の操作面側から視認しにくくすることができる。

　（実施形態２の効果）
　以上より、この実施形態によれば、保護層１４の操作面側に、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に対応して凹凸部１４ａを設けた。これにより、操作面側から入射した光を凹凸部１４ａで拡散させてＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に到達する光を低減することができる。よって、保護層１４とＸ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１との反射率の差によって該Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１が視認されやすい場合でも、該Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１を、タッチパネル２の操作面側から視認しにくくすることができる。

　［実施形態３］
　図５に、実施形態３に係るタッチパネルの引き出し配線２４部分の断面構成を示す。この実施形態は、保護層１４の引き出し配線２４に対応する部分に、凹凸部１４ａを設けている点で、実施形態１の構成とは異なる。以下の説明では、実施形態１と同一の構成については同一の符号を付して、異なる点についてのみ説明する。なお、図５は、図２にＶ－Ｖ線で示す部分に対応する本実施形態のタッチパネルの断面図である。

　図５に示すように、例えばアルミニウム合金などの金属材料からなる引き出し配線２４上には、酸化シリコン膜などからなる絶縁層１３が形成されている。このような構成では、金属材料からなる引き出し配線２４の表面で光が反射しやすいだけでなく、引き出し配線２４と絶縁層１３との反射率が異なるため、該引き出し配線２４と絶縁層１３との境界部分で反射が生じる。そうすると、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１がタッチパネル２の操作面側から視認されやすくなる。

　これに対し、本実施形態では、保護層１４の操作面側の面のうち、少なくとも引き出し配線２４に対応する部分に凹凸部１４ａを形成する。例えば、凹凸部１４ａは、引き出し配線２４に対応する部分を含むように、タッチパネル２の外周部分に設けてもよい。凹凸部１４ａは、上述の実施形態１と同様の工程によって形成されるため、詳しい説明を省略する。

　上述のように、保護層１４の操作面側の面のうち、引き出し配線２４に対応する部分に凹凸部１４ａを形成することで、タッチパネル２の操作面側から入射した光を該凹凸部１４ａで拡散させることができる。したがって、タッチパネル２の操作面側から引き出し配線２４に到達する光を低減することができ、該引き出し配線２４での光の反射を抑制することができる。よって、タッチパネル２の操作面側から引き出し配線２４を視認しにくくすることができる。

　（実施形態３の効果）
　以上より、本実施形態では、保護層１４の操作面側に、引き出し配線２４に対応して凹凸部１４ａを設けた。これにより、操作面側から入射した光を凹凸部１４ａで拡散させて引き出し配線２４に到達する光を低減することができる。よって、該引き出し配線２４を、タッチパネル２の操作面側から視認しにくくすることができる。

　また、引き出し配線２４を覆うように保護層１４を設けることで、図５に示すように、保護層１４上に粘着剤層１５を介して透光性カバー１６を設ける場合に、該粘着剤層１５が引き出し配線１４に直接、接触するのを防止できる。したがって、粘着剤層１５を構成する粘着剤内に酸性の成分が入っていた場合でも、引き出し配線２４が粘着剤層１５内の酸性の成分によって酸化して腐食するのを防止できる。

　（実施形態３の変形例）
　特に図示しないが、この変形例は、図５の構成において、絶縁層１３を設けずに、引き出し配線２４上に保護層１４を直接、設けた場合の例である。なお、絶縁層１３が設けられていない以外は、図５の構成と同じなので、以下の説明では図５内の符号を用いて説明する。

　このように、引き出し配線２４上に保護層１４が直接、設けられている構成でも、該保護層１４の操作面側に、引き出し配線２４に対応して凹凸部１４ａを設ける。これにより、該凹凸部１４ａで外光を拡散させることができ、引き出し配線２４での光の反射を抑えることができる。したがって、引き出し配線２４をタッチパネル２の操作面側から視認しにくくすることができる。

　（その他の実施形態）
　以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。

　前記各実施形態では、保護層１４において、ブリッジ部２３に対応する部分、Ｘ方向電極２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１に対応する部分、引き出し配線２４に対応する部分に、それぞれ、凹凸部１４ａを形成している。しかしながら、これらの部分の複数を含むように凹凸部１４ａを設けてもよいし、タッチパネル２の保護層１４の全面に凹凸部１４ａを設けてもよい。

　前記各実施形態では、保護層１４に凹凸部１４ａを設けているが、この限りではなく、粘着剤層１５や透光性カバー１６など、ブリッジ部２３よりも上層の層に凹凸部を設けてもよい。すなわち、視認の対象物よりも上層の層に凹凸部を設けることによって、対象物に光が到達するのを抑制することができ、該対象物を視認しにくくすることができる。なお、この場合には、保護層１４だけでなく、ブリッジ部２３よりも上層に位置する粘着剤層１５及び透光性カバー１６などもカバー層に含まれる。

　前記各実施形態では、Ｘ方向電極２２及びＹ方向電極２１にＩＴＯを用いているが、この限りではなく、他の透明な導電性材料を用いてもよい。

　前記各実施形態では、引き出し配線２４にアルミニウム合金等の金属材料を用いているが、この限りではなく、ＩＴＯなどの透明な導電性材料を用いてもよい。

　前記各実施形態では、絶縁層１３を酸化シリコン膜によって構成しているが、この限りではなく、他の絶縁材料によって構成してもよい。また、保護膜１４をアクリル樹脂の有機膜によって構成しているが、この限りではなく、絶縁性及び耐環境性を有する他の材料を用いてもよい。

　前記各実施形態では、ブリッジ部２３をＩＴＯなどの透光性の導電材料によって構成している。しかしながら、ブリッジ部２３を、例えばアルミニウム合金などの非透光性の金属材料によって構成してもよい。この場合、ブリッジ部２３は、表示に影響のない範囲のパターンサイズであればよい。

　前記各実施形態では、Ｘ方向電極パッド２２ａ，２２ｂ及びＹ方向電極２１を、矩形状や略三角形状に形成している。しかしながら、Ｘ方向電極パッド及びＹ方向電極を、多角形や円形など他の形状に形成してもよい。

　本発明によるタッチパネルは、タッチ位置を検出可能な電極パッドと、該電極パッドの一部同士を繋ぐブリッジ部とを備えたタッチパネルに利用可能である。

Claims

　パネル基板と、
　タッチ位置を検出可能なように前記パネル基板上に設けられたタッチ電極と、
　前記タッチ電極からの電気信号を外部に出力可能なように、前記タッチ電極に電気的に接続された引き出し配線と、
　前記タッチ電極及び前記引き出し配線の操作面側を覆うカバー層とを備え、
　前記カバー層の操作面側には、該操作面側から見て前記タッチ電極及び前記引き出し配線の少なくとも一部を覆う部分に、前記操作面側から入射する光を拡散するための凹凸部が形成されている、タッチパネル。
　前記タッチ電極は、
　　複数の電極パッドと、
　　前記複数の電極パッドのうち一部同士を接続する接続部と、
　　前記接続部を跨いで、前記複数の電極パッドのうち他の電極パッド同士を繋ぐブリッジ部とを備えていて、
　前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記複数の電極パッド、前記ブリッジ部及び前記引き出し配線の少なくとも一部を覆う部分に設けられている、請求項１に記載のタッチパネル。
　前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記ブリッジ部を覆う部分に形成されている、請求項２に記載のタッチパネル。
　前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記複数の電極パッドを覆う部分に形成されている、請求項２に記載のタッチパネル。
　前記凹凸部は、前記カバー層の操作面側のうち、該操作面側から見て前記引き出し配線を覆う部分に形成されている、請求項１または２に記載のタッチパネル。
　前記カバー層は、前記タッチ電極及び前記引き出し配線の少なくとも一部の操作面側に位置する保護層である、請求項１から５のいずれか一つに記載のタッチパネル。
　前記カバー層は、
　　前記タッチ電極及び前記引き出し配線の操作面側を覆う保護層と、
　　前記保護層の操作面側に配置される透光性カバーと、
　　前記透光性カバーを前記保護層上に固定するための粘着剤層とを備えていて、
　前記凹凸部は、前記保護層、前記透光性カバー及び前記粘着剤層の少なくとも一つに形成されている、請求項１から５のいずれか一つに記載のタッチパネル。
　画像を表示可能な表示パネルと、
　前記表示パネルの視認側に配置される、請求項１から７のいずれか一つに記載のタッチパネルとを備えている、タッチパネル付き表示装置。