WO2012056952A1 - フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光反射用ミラー - Google Patents

フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光反射用ミラー Download PDF

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WO2012056952A1
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仁 安達
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コニカミノルタオプト株式会社
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror having excellent light resistance and weather resistance, and having a good reflectance with respect to sunlight, a manufacturing method thereof, and a solar reflection mirror using the film mirror.
  • Plate-shaped glass mirrors are highly durable against UV rays, temperature, and humidity, but they are damaged by external pressure during transportation and after installation, and are heavy in mass. There was a problem that the construction cost was expensive.
  • the resin-made reflective sheet has been put into practical use as a reflective sheet for a backlight unit of a liquid crystal display (see, for example, Patent Document 1), and when applied to a solar reflective mirror, an external pressure that is a drawback of a plate-like glass mirror is used.
  • problems such as a gradual decrease in reflectivity occur when irradiation is continued for many years outdoors, particularly solar energy.
  • Such a resin mirror has high suitability for continuous production with respect to a plate-like glass mirror, and can increase productivity.
  • a light-deposited layer is used for the light-reflecting layer, but when silver is supplied with salt or sulfur from the surrounding environment in the presence of moisture, it easily generates silver chloride and silver sulfide, and the reflectance There was a problem that decreased.
  • a method of providing a corrosion prevention layer with a resin coat on an adjacent layer is known (see, for example, Patent Document 3).
  • a method of adsorbing a compound having a thione group or a mercapto group on the surface of the silver layer as a corrosion inhibitor is also a well-known method for preventing corrosion of silver.
  • the present invention has been made in view of the above problems and situations, and the problem to be solved is that the regular reflection rate of the silver reflection layer is high, the light reflection and weather resistance are excellent, and regular reflection due to corrosion of the silver reflection layer. It is an object of the present invention to provide a film mirror and a method for manufacturing the same that are almost free from a decrease in rate, that are lightweight and flexible, that can be manufactured in a large area and mass-produced at a low cost. Moreover, it is providing the mirror for sunlight reflection using the same.
  • the present inventors have high regular reflectance, weather resistance, and productivity by the following means.
  • the present inventors have found that a film mirror satisfying the light weight and flexibility that are the characteristics of a film mirror can be provided, and have completed the present invention.
  • a film mirror having a silver reflective layer on a support wherein the support is a film-like support, and the silver reflective layer contains a silver complex compound having a ligand that can be vaporized / desorbed.
  • a film mirror which is formed by heating and baking a film, and contains a nitrogen-containing cyclic compound in an adjacent layer of the silver reflective layer.
  • the silver complex compound is a silver complex compound obtained by reacting an ammonium carbamate compound or an ammonium carbonate compound with a silver compound.
  • the glass film has a gas barrier layer positioned on the light incident surface side with respect to the silver reflective layer and has a gas barrier layer on the opposite side of the light incident surface with respect to the silver reflective layer. 4.
  • the film mirror according to any one of items 3.
  • the glass film has a layer that is located on the light incident surface side with respect to the silver reflective layer and prevents adhesion of dirt on the outermost surface of the glass film.
  • a method for producing a film mirror comprising: forming a coating film to be formed, and then heating and baking the coating film at a temperature in the range of 80 to 150 ° C. to form a silver reflective layer.
  • a film reflecting mirror according to any one of Items 1 to 5 is provided on a self-supporting base material, and a solar reflective mirror.
  • the solar reflective mirror according to item 7, wherein the self-supporting base material has one of the following configurations A and B.
  • the regular reflectance of the silver reflective layer is high, excellent in light resistance and weather resistance, almost no decrease in regular reflectance due to corrosion of the silver reflective layer, lightweight and flexible, It is possible to provide a film mirror capable of increasing the area and mass-producing the manufacturing cost, and a manufacturing method thereof. Moreover, the mirror for sunlight reflection using the same can be provided.
  • the film mirror of the present invention is a film mirror having a silver reflective layer on a support, the support being a film-like support, and the silver reflective layer having a ligand that can be vaporized / desorbed. It is formed by heating and baking a coating film containing a silver complex compound, and is characterized by containing a nitrogen-containing cyclic compound in an adjacent layer of the silver reflective layer. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 8.
  • the silver complex compound is a silver complex compound obtained by reacting an ammonium carbamate compound or an ammonium carbonate compound with a silver compound from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention.
  • the said film-form support body is a glass film obtained from the glass roll shape
  • the glass film has a gas barrier layer positioned on the light incident surface side with respect to the silver reflective layer and on the opposite side of the light reflective surface with respect to the silver reflective layer.
  • the said glass film has a layer which is located in the incident plane side of light with respect to the said silver reflection layer, and prevents adhesion of dirt on the outermost surface of the said glass film.
  • the coating film is heated within the range of 80 to 150 ° C. It is preferable that it is a manufacturing method of the aspect which forms a silver reflection layer by heat-firing at the temperature of.
  • the film mirror of this invention can be used suitably for the mirror for sunlight reflection, it is preferable to set it as the mirror for sunlight reflection by which the film mirror of this invention is comprised by the self-supporting base material.
  • the self-supporting base material has one of the following configurations A and B.
  • A It has a pair of metal flat plates and an intermediate layer provided between the metal flat plates, and the intermediate layer is a layer having a hollow structure or a layer made of a resin material.
  • B A resin material layer having a hollow structure.
  • ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the film-like support according to the present invention can be used as the support of the present invention as long as it is in the form of a film, whether it is a conventionally known various resin film or glass film.
  • a resin film cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate, polyethylene film, Polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film Norbornene resin film Polymethyl pentene film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
  • a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable.
  • a polyester film or a cellulose ester film it is preferable to use a polyester film or a cellulose ester film, and it may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.
  • the thickness of the film-like support according to the present invention needs to be in the range of 1.0 to 200 ⁇ m from the viewpoint of being a film-like support that can be wound into a roll.
  • the thickness is preferably 20 to 150 ⁇ m, more preferably 30 to 130 ⁇ m.
  • the film mirror of the present invention is a film mirror having a silver reflecting layer on a support, and a glass film having a thickness in the range of 1.0 to 200 ⁇ m is also preferably used.
  • the glass film is preferably a glass film obtained from a glass roll formed by a downdraw method. That is, a glass obtained from a glass roll formed by a downdraw method, such as disclosed in JP 2010-132347 A, having a glass film with exposed front and back surfaces, wound on a protective sheet in a roll shape. A film is preferred.
  • the glass film formed by the down draw method with the front and back surfaces exposed is wound as it is together with the protective sheet into a roll to form a glass roll. Therefore, it is not necessary to perform a film forming process for forming a protective film such as a polymer layer on both the front and back surfaces of the glass film in the process before packing, and the polymer layer and the like from the surface of the glass film in the process after unpacking. It is not necessary to perform a removal process for removing the protective film.
  • the pre-packing process can be shortened by an amount that does not require the process of forming the protective film, so the percentage of foreign matter adhering to the front and back surfaces of the glass film can be reduced as much as possible, and the protective film is derived after unpacking The situation that the foreign material to remain cannot also arise.
  • the cleanliness of the front and back surfaces of the glass film derived from the downdraw method can be favorably maintained.
  • the advantage is that cleanliness can be ensured in the state of the unpolished surface without performing subsequent surface polishing of the glass film as in the case of molding by the float method. There is also.
  • the exposed front and back surfaces of the glass film are protected by a protective sheet in a glass roll state.
  • the front and back of a glass film are the glass surfaces in which protective films, such as a polymer layer, are not formed, the situation where a glass film and a protective sheet adhere firmly at the stage which wound up. Therefore, the damage of the glass film in the state of the glass roll can be surely reduced, and the separability between the glass film and the protective sheet can be maintained well, so the damage of the glass film during unpacking is reduced as much as possible. can do.
  • the glass film is kept wound for a long time, it is not warped and can be easily fed to the next process. Furthermore, since it can be made into a long glass film by winding it, it can be cut with a free length after that, and it becomes possible to deal with substrates of various sizes, and waste of the glass film is achieved. Can be prevented.
  • the glass film needs to have a thickness in the range of 1.0 to 200 ⁇ m.
  • the thickness of the glass film is preferably 30 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less, more preferably in the range of 50 to 120 ⁇ m. If the thickness is less than 1 ⁇ m, it cannot withstand the tension at the time of winding in a roll shape and breaks. If it is thicker than 200 ⁇ m, it is difficult to wind as a roll.
  • the arithmetic average roughness Ra of both end surfaces in the width direction of the glass film is 0.1 ⁇ m or less.
  • “arithmetic mean roughness Ra” is a value measured in accordance with JIS B0601: 2001.
  • both end surfaces in the width direction of the glass film are configured by cut surfaces cut by laser cutting.
  • laser cutting here also includes laser cleaving in addition to laser fusing.
  • the film mirror of the present invention is a film mirror having a silver reflective layer on a support, and the silver reflective layer heat-fires a coating film containing a silver complex compound from which a ligand can be vaporized and desorbed. It is formed by these.
  • a silver complex compound having a ligand that can be vaporized / desorbed has a ligand for stably dissolving silver in a solution, but by removing the solvent and baking by heating, It means a silver complex compound in which the ligand is thermally decomposed to become CO 2 or a low molecular weight amine compound, which is vaporized / desorbed to leave only metallic silver.
  • the silver complex compound according to the present invention is contained in a silver coating solution composition, and by coating this, a coating film containing the complex according to the present invention is formed on a support. That is, it is preferable to form a silver reflective layer by forming a coating film on a glass film using a silver complex compound and then baking the coating film at a temperature in the range of 80 to 250 ° C. More preferably, it is in the range of 100 to 220, particularly preferably in the range of 120 to 200 ° C. There is no restriction
  • X represents oxygen, sulfur, halogen, cyano, cyanate, carbonate, nitrate, nitrite, sulfate, phosphate, thiocyanate, chlorate, perchlorate, tetrafluoroborate, acetylacetonate
  • a substituent selected from carboxylate and derivatives thereof n is an integer of 1 to 4, and R 1 to R 6 are independently of each other hydrogen, C1 to C30 aliphatic or aliphatic
  • Specific examples of the general formula (1) include, for example, silver oxide, silver thiocyanate, silver sulfide, silver chloride, silver cyanide, silver cyanate, silver carbonate, silver nitrate, silver nitrite, silver sulfate, silver phosphate, perchlorine.
  • Examples include, but are not limited to, acid silver, silver tetrafluoroborate, silver acetylacetonate, silver acetate, silver lactate, silver oxalate and derivatives thereof.
  • R 1 to R 6 are specifically, for example, hydrogen, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, amyl, hexyl, ethylhexyl, heptyl, octyl, isooctyl , Nonyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, docodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, aryl, hydroxy, methoxy, hydroxyethyl, methoxyethyl, 2-hydroxypropyl, methoxypropyl, cyanoethyl, ethoxy, butoxy, hexyloxy, methoxy Ethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, hexamethyleneimine, morpholine
  • Examples of compounds of the general formulas (2) to (4) include, for example, ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, n- Butyl ammonium n-butyl carbamate, isobutyl ammonium isobutyl carbamate, t-butyl ammonium t-butyl carbamate, 2-ethylhexyl ammonium 2-ethylhexyl carbamate, octadecyl ammonium octadecyl carbamate, 2-methoxyethyl ammonium 2-methoxyethyl carbamate 2-cyanoethylammonium 2-cyanoethylcarbamate, dibutylammonium dibutylcarbamate, dioctadecylammonium dioctadecy
  • ammonium carbamate or ammonium carbonate compound are not particularly limited.
  • US Pat. No. 4,542,214 describes that ammonium carbamate compounds can be prepared from carbon dioxide and primary amines, secondary amines, tertiary amines, or at least one of these mixtures. When 0.5 mol of water is further added per 1 mol of the amine, an ammonium carbonate compound is obtained. When 1 mol or more of water is added, an ammonium bicarbonate compound can be obtained.
  • alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, glycerin, etc.
  • Glycols ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, hydrocarbons such as hexane, heptane, Examples include aromatics such as benzene and toluene, and halogen-substituted solvents such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, or mixed solvents thereof. Is carbon dioxide bubbled in the gas phase?
  • the solid phase dry ice it can be reacted in supercritical (supercritical) state.
  • any known method other than the above method may be used as long as the structure of the final substance is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent, reaction temperature, concentration or catalyst for production, and the production yield is not affected.
  • An organic silver complex compound can be produced by reacting the ammonium carbamate or ammonium carbonate compound thus produced with a silver compound.
  • a silver compound for example, at least one silver compound represented by the general formula (1), at least one ammonium carbamate or ammonium carbonate derivative represented by the general formulas (2) to (4), and a mixture thereof.
  • alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, glycerin Glycols such as ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, hydrocarbons such as hexane and heptane Of benzene, toluene Aromatic UNA, and chloroform and methylene chloride, and halogen-substituted solvents or a mixed solvent such as carbon tetrachloride can be used.
  • glycerin Glycols such as ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate
  • ethers such as diethyl ether, tetrahydrofur
  • a silver complex compound can also be produced by reaction.
  • the reaction can be performed directly without using a solvent in a normal pressure or pressurized state of a nitrogen atmosphere, or can be performed using a solvent.
  • any known method may be used as long as the structure of the final material is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent for the production, the reaction temperature, the concentration, the presence or absence of the catalyst, and the production yield is not affected.
  • the silver complex compound used in the present invention has a production method described in JP-T-2008-530001, and is recognized by the structure of the following general formula (5).
  • the silver coating liquid composition used for forming the highly reflective and highly glossy reflecting surface of the present invention contains the above-mentioned silver complex compound, and optionally includes a solvent, a stabilizer, and a leveling agent (Leveling agent). ), A thin film auxiliary, a reducing agent, and an additive for a thermal decomposition reaction accelerator can be contained in the silver coating composition of the present invention.
  • An additive such as an auxiliary agent, a reducing agent, and a thermal decomposition reaction accelerator can be contained in the silver coating composition of the present invention.
  • examples of the stabilizer include amine compounds such as primary amines, secondary amines, and tertiary amines, ammonium carbamates, ammonium carbonates, ammonium bicarbonate compounds, phosphines, and phosphites. And a phosphorus compound such as phosphate, a sulfur compound such as thiol and sulfide, and at least one mixture thereof.
  • amine compounds include, for example, methyl Amine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, isoamylamine, n-hexylamine, 2-ethylhexylamine, n-heptylamine, n-o Tylamine, isooctylamine, nonylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine, octadecylamine, docodecylamine, cyclopropylamine, cyclopentylamine, cyclohexylamine, arylamine, hydroxyamine, ammonium hydroxide, methoxyamine, 2-ethanol Amine, methoxyethylamine, 2-hydroxypropylamine, 2-hydroxy-2-methylpropylamine, methoxypropylamine, cyanoethylamine, ethoxyamine, n-
  • ammonium carbamate, carbonate, and bicarbonate compounds include ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, and n-butyl.
  • R 3 P examples include a phosphorus compound represented by (RO) 3 P or (RO) 3 PO.
  • R represents an alkyl or aryl group having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include tributylphosphine, triphenylphosphine, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, dibenzyl phosphate, triethyl phosphate and the like.
  • sulfur compound examples include butanethiol, n-hexanethiol, diethyl sulfide, tetrahydrothiophene, aryl disulfide, 2-mercaptobenzoazole, tetrahydrothiophene, octylthioglycolate, and the like.
  • the amount of such a stabilizer used is not particularly limited as long as it matches the ink characteristics of the present invention.
  • the content is preferably 0.1% to 90% in terms of molar ratio with respect to the silver compound.
  • examples of the thin film auxiliary agent include organic acids and organic acid derivatives, or at least one mixture thereof. Specifically, for example, acetic acid, butyric acid (valeric acid), valeric acid (pivalic acid), hexanoic acid, octanoic acid, 2-ethyl-hexanoic acid, neodecanoic acid, lauric acid ( Lauric acid), stearic acid, naphthalic acid, and the like.
  • organic acid derivatives include ammonium acetate, ammonium citrate, ammonium laurate, ammonium lactate, and ammonium maleate.
  • Organic acid ammonium salts such as ammonium oxalate and ammonium molybdate, Au, Cu, Zn, Ni, Co, Pd, Pt, Ti, V, Mn, Fe, Cr, Zr, Nb, Mo, W, Ru, Cd, Ta, Re, O
  • organic acid metal salts such as silver, silver octoate, silver neodecanoate, cobalt stearate, nickel naphthalate and cobalt naphthalate.
  • the amount of the thin film auxiliary used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 25% in terms of molar ratio with respect to the silver complex compound.
  • Examples of the reducing agent include Lewis acid or weak Bronsted acid, and specific examples include hydrazine, hydrazine monohydrate, acetohydrazide, sodium borohydride or potassium borohydride, dimethylamine borane, Amine compounds such as butylamine borane, metal salts such as ferrous chloride and iron lactate, hydrogen, hydrogen iodide, carbon monoxide, aldehyde compounds such as formaldehyde, acetaldehyde and glyoxal, methyl formate, butyl formate, triethyl Mention may be made of formic acid compounds such as o-formic acid and mixtures thereof containing at least one reducing organic compound such as glucose, ascorbic acid and hydroquinone.
  • formic acid compounds such as o-formic acid and mixtures thereof containing at least one reducing organic compound such as glucose, ascorbic acid and hydroquinone.
  • thermal decomposition reaction accelerator examples include ethanolamine, methyldiethanolamine, triethanolamine, propanolamine, butanolamine, hexanolamine, hydroxyalkylamines such as dimethylethanolamine, piperidine, and N-methylpiperidine.
  • a solvent is required for adjusting the viscosity of the silver coating liquid composition and for forming a smooth thin film.
  • the solvent that can be used in this case include water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-methoxypropanol, butanol, Ethyl hexyl alcohol, alcohols such as terpineol, ethylene glycol, glycols such as glycerin, ethyl acetate, butyl acetate, methoxypropyl acetate, carbitol acetate, acetates such as ethyl carbitol acetate, methyl cellosolve, butyl cellosolve, diethyl Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, ketones such as 1-methyl-2-pyrrolidone, hexane, Hydrocarbons such as pent
  • a nitrogen-containing cyclic compound in the adjacent layer of the silver reflective layer
  • a nitrogen-containing cyclic compound is contained in a layer adjacent to the silver reflective layer.
  • a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorptive group for silver are preferably used.
  • a desired corrosion prevention effect can be obtained by using a nitrogen-containing cyclic compound in the corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver.
  • a nitrogen-containing cyclic compound in the corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver For example, it is desirable to be selected from at least one of a compound having a pyrrole ring, a compound having a triazole ring, a compound having a pyrazole ring, a compound having an imidazole ring, a compound having an indazole ring, or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3, 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy) -5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy3'5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2-
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Compounds having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl.
  • Imidazole 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5 dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4- Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc. These mixtures are mentioned.
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • An antioxidant can also be used as a corrosion inhibitor for the silver reflective layer used in the film mirror of the present invention.
  • the antioxidant it is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a phosphite-based antioxidant.
  • phenolic antioxidants examples include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t- Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl- ⁇ - (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propi , Triethylene glycol bis [3- (3-
  • thiol-based antioxidant examples include distearyl-3,3'-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- ( ⁇ -lauryl-thiopropionate), and the like.
  • phosphite antioxidant examples include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol.
  • Diphosphite bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.
  • the above antioxidant and the following light stabilizer can be used in combination.
  • hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-Tetrame Lupiperidine, tetrakis (2,2,2,
  • nickel-based UV stabilizers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
  • a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable.
  • bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) is preferable.
  • a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.
  • the film mirror of the present invention preferably has a gas barrier layer.
  • the gas barrier layer according to the present invention is intended to prevent deterioration of humidity, particularly deterioration of various functional elements protected by the resin base material and the resin base material due to high humidity. As long as the above characteristics are maintained, various types of gas barrier layers can be provided. In the present invention, it is preferable to provide a gas barrier layer above the silver reflective layer.
  • the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is 100 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, preferably 50 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, more preferably 20 g / m 2.
  • -It is preferable to adjust the moisture-proof property of the said gas barrier layer so that it may become day / micrometer or less.
  • the oxygen permeability is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the gas barrier layer according to the present invention is not particularly limited in its formation method, but after coating the ceramic precursor of the inorganic oxide film, the coating film is heated and / or irradiated with ultraviolet rays to form the inorganic oxide film. Is preferably used.
  • the gas barrier layer according to the present invention can be formed by applying a general heating method after applying a ceramic precursor that forms an inorganic oxide film by heating, but is preferably formed by local heating.
  • the ceramic precursor is preferably a sol-like organometallic compound or polysilazane.
  • the organometallic compound according to the present invention includes silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), and indium. It is preferable to contain at least one element of (In), tin (Sn), lanthanum (La), yttrium (Y), and niobium (Nb).
  • the organometallic compound is at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), zinc (Zn), and barium (Ba). It is preferable to contain. Furthermore, it is preferable to contain at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), and lithium (Li).
  • the organometallic compound is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include metal alkoxides.
  • the metal alkoxide is represented by the following general formula (I).
  • M represents a metal having an oxidation number n.
  • R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group.
  • m represents an integer of 0 to (n ⁇ 1).
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • an alkyl group having 4 or less carbon atoms is preferable.
  • a methyl group CH 3 (hereinafter represented by Me), an ethyl group C 2 H 5 (hereinafter represented by Et), a propyl group C 3 H 7 (hereinafter represented by Pr), isopropyl group i-C 3 H 7 (hereinafter represented by i-Pr), butyl group C 4 H 9 (hereinafter represented by Bu), isobutyl group i- A lower alkyl group such as C 4 H 9 (hereinafter referred to as i-Bu) is more preferred.
  • Examples of the metal alkoxide represented by the general formula (I) include lithium ethoxide LiOEt, niobium ethoxide Nb (OEt) 5 , magnesium isopropoxide Mg (OPr-i) 2 , aluminum isopropoxide Al (OPr -I) 3 , zinc propoxide Zn (OPr) 2 , tetraethoxysilane Si (OEt) 4 , titanium isopropoxide Ti (OPr-i) 4 , barium ethoxide Ba (OEt) 2 , barium isopropoxide Ba ( OPr-i) 2 , triethoxyborane B (OEt) 3 , zirconium propoxide Zn (OPr) 4 , lanthanum propoxide La (OPr) 3 , yttrium propoxide Y (OPr) 3 , lead isopropoxide Pb (OPr- i) 2 etc. are mentioned suitably. All of these metal alkoxide
  • the inorganic oxide according to the present invention is characterized in that it is formed by local heating from a sol using the organometallic compound as a raw material. Therefore, silicon (Si), aluminum (Al), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), indium (In) contained in the organometallic compound, It is an oxide of an element such as tin (Sn) or niobium (Nb).
  • silicon oxide aluminum oxide, zirconium oxide and the like. Of these, silicon oxide is preferable.
  • a method for forming an inorganic oxide from an organometallic compound it is preferable to use a so-called sol-gel method and a method of applying polysilazane.
  • the “sol-gel method” is to obtain a hydroxide sol by hydrolyzing an organometallic compound, etc., dehydrate it into a gel, and further heat-treat the gel. It refers to a method for preparing a metal oxide glass having a certain shape (film, particle, fiber, etc.).
  • a multi-component metal oxide glass can be obtained by a method of mixing a plurality of different sol solutions, a method of adding other metal ions, or the like.
  • an inorganic oxide by a sol-gel method having the following steps.
  • the organometallic compound in a reaction solution containing at least water and an organic solvent, is hydrolyzed and dehydrated and condensed while adjusting the pH to 4.5 to 5.0 using a halogen ion as a catalyst in the presence of boron ion.
  • Generation of fine pores due to high-temperature heat treatment is produced by a sol-gel method having a step of obtaining a reaction product by heating, and a step of heating the reaction product at a temperature of 200 ° C. or less to vitrify it. And is particularly preferable from the viewpoint that no deterioration of the film occurs.
  • the organometallic compound used as a raw material is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include the metal alkoxides. .
  • the organometallic compound may be used for the reaction as it is, but it is preferably diluted with a solvent for easy control of the reaction.
  • the solvent for dilution is not particularly limited as long as it can dissolve the organometallic compound and can be uniformly mixed with water.
  • Preferred examples of such a solvent for dilution include aliphatic lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and mixtures thereof.
  • a mixed solvent of butanol, cellosolve, and butyl cellosolve or a mixed solvent of xylol, cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, and cyclohexane may be used.
  • the metal when the metal is Ca, Mg, Al or the like, it reacts with water in the reaction solution to form a hydroxide, or when carbonate ion CO 3 2- is present, a carbonate is formed. Therefore, it is preferable to add an alcohol solution of triethanolamine as a masking agent to the reaction solution.
  • the concentration of the organometallic compound when mixed and dissolved in a solvent is preferably 70% by mass or less, and more preferably diluted to a range of 5 to 70% by mass.
  • the reaction solution used in the sol-gel method contains at least water and an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited as long as it can form a uniform solution with water, acid, and alkali, and usually the same aliphatic lower alcohols used for diluting the organometallic compound are preferably used.
  • the aliphatic lower alcohols propanol, isopropanol, butanol, and isobutanol having a larger number of carbon atoms are preferable to methanol and ethanol. This is because the growth of the metal oxide glass film to be generated is stable.
  • the water ratio is preferably in the range of 0.2 to 50 mol / L as the concentration of water.
  • an organometallic compound is hydrolyzed in the reaction solution in the presence of boron ions using a halogen ion as a catalyst.
  • Preferred examples of the compound that gives the boron ion B 3+ include trialkoxyborane B (OR) 3 . Among these, triethoxyborane B (OEt) 3 is more preferable.
  • the B 3+ ion concentration in the reaction solution is preferably in the range of 1.0 to 10.0 mol / L.
  • halogen ion a fluorine ion and / or a chlorine ion are mentioned suitably. That is, fluorine ions alone, chlorine ions alone or a mixture thereof may be used.
  • the compound to be used may be any compound that generates fluorine ions and / or chlorine ions in the reaction solution.
  • the fluorine ion source ammonium hydrogen fluoride NH 4 HF ⁇ HF, sodium fluoride NaF, or the like is preferable.
  • Preferred examples of the chlorine ion source include ammonium chloride NH 4 Cl.
  • the concentration of the halogen ion in the reaction solution varies depending on the film thickness of an inorganic composition having an inorganic matrix to be produced and other conditions, but generally the reaction containing a catalyst.
  • a range of 0.001 to 2 mol / kg, particularly 0.002 to 0.3 mol / kg is preferable with respect to the total mass of the liquid. If the halogen ion concentration is lower than 0.001 mol / kg, hydrolysis of the organometallic compound does not proceed sufficiently, and film formation becomes difficult. If the halogen ion concentration exceeds 2 mol / kg, the resulting inorganic matrix (metal oxide glass) tends to be non-uniform, which is not preferable.
  • boron used during the reaction, if to be contained as a B 2 O 3 component in the design the composition of the resulting inorganic matrix, by leaving product was added calculated amount of organic boron compound in accordance with the content of
  • boron can be removed by evaporation as boron methyl ester by heating after film formation in the presence of methanol as a solvent or by immersing in methanol.
  • a main agent solution in which a predetermined amount of the organometallic compound is usually mixed and dissolved in a mixed solvent containing a predetermined amount of water and an organic solvent,
  • a predetermined amount of the reaction solution containing a predetermined amount of the above-mentioned halogen ions is mixed at a predetermined ratio and sufficiently stirred to obtain a uniform reaction solution, and then the pH of the reaction solution is adjusted to a desired value with acid or alkali
  • the reaction product is obtained by aging for several hours.
  • a predetermined amount of the boron compound is mixed and dissolved in advance in the main agent solution or reaction solution. Further, when alkoxyborane is used, it is advantageous to dissolve it in the main agent solution together with other organometallic compounds.
  • the pH of the reaction solution is selected depending on the purpose, and for the purpose of forming a film (film) made of an inorganic composition having an inorganic matrix (metal oxide glass), for example, the pH is adjusted using an acid such as hydrochloric acid. It is preferable to ripen the mixture by adjusting it to the range of 4.5 to 5. In this case, for example, it is convenient to use a mixture of methyl red and bromocresol green as an indicator.
  • the main component solution of the same concentration and the reaction solution (containing B 3+ and halogen ions) of the same component are added successively in the same ratio while adjusting to a predetermined pH.
  • the reaction product can also be produced simply and continuously.
  • the concentration of the reaction solution is in the range of ⁇ 50% by mass
  • the concentration of water (containing acid or alkali) is in the range of ⁇ 30% by mass
  • the concentration of halogen ions is in the range of ⁇ 30% by mass. Can be changed.
  • reaction product reaction solution after aging
  • reaction solution after aging reaction solution after aging
  • the temperature is raised gradually while paying particular attention to a temperature range of 50 to 70 ° C., followed by a preliminary drying (solvent volatilization) step and further raising the temperature.
  • This drying is important for forming a non-porous film in the case of film formation.
  • the temperature for heating and drying after the preliminary drying step is preferably 70 to 150 ° C, more preferably 80 to 130 ° C.
  • the gas barrier layer according to the present invention preferably contains an inorganic oxide formed by local heating of the coating film after the ceramic precursor that forms the inorganic oxide film is applied by heating.
  • the resin substrate is coated with a solution containing a catalyst in the polysilazane represented by the following formula (I) and an organic solvent as necessary, and the solvent is evaporated. Leaving a polysilazane layer having a layer thickness of 0.05-3.0 ⁇ m on the resin substrate and the presence of oxygen, active oxygen, and in some cases, nitrogen in an atmosphere containing water vapor Below, it is preferable to employ
  • R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and independently of each other hydrogen, or an optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group, preferably Is selected from the group consisting of hydrogen, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, iso-butyl, tert-butyl, phenyl, vinyl or 3- (triethoxysilyl) propyl, 3- (trimethoxysilylpropyl)
  • n is an integer and n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • catalysts preferably basic catalysts, in particular N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triethylamine, 3-morpholinopropylamine or N-heterocyclic compounds are used.
  • the catalyst concentration is usually in the range of 0.1 to 10 mol%, preferably 0.5 to 7 mol%, based on polysilazane.
  • a solution containing perhydropolysilazane in which all of R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms is used.
  • the coating according to the present invention contains at least one polysilazane of the following formula (II).
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are independently of each other hydrogen, or optionally substituted alkyl, aryl, vinyl, or (trialkoxysilyl) Represents an alkyl group, where n and p are integers, and n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 and R 5 represent methyl, R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , A compound in which R 4 represents methyl and R 5 represents vinyl, R 1 , R 3 , R 4 and R 6 represent hydrogen and R 2 and R 5 represent methyl.
  • a solution containing at least one polysilazane represented by the following formula (III) is also preferable.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are independently of each other hydrogen, an optionally substituted alkyl group, or an aryl group.
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 , R 5 and R 8 represent methyl, R 9 represents (triethoxysilyl) propyl and R 7 Is a compound in which represents alkyl or hydrogen.
  • the proportion of polysilazane in the solvent is generally 1 to 80% by mass, preferably 5 to 50% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass.
  • an aprotic solvent which does not contain water and a reactive group (for example, hydroxyl group or amine group) and is inert to polysilazane, preferably an aprotic solvent is suitable.
  • aprotic solvent which includes, for example, aliphatic or aromatic hydrocarbons, halogen hydrocarbons, esters such as ethyl acetate or butyl acetate, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran or dibutyl ether, and mono- and polyalkylene glycol dialkyl ethers (Diglymes) or a mixture of these solvents.
  • An additional component of the polysilazane solution can be a further binder such as those conventionally used in the manufacture of paints.
  • cellulose ethers and cellulose esters such as ethyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate or cellulose acetobutyrate, natural resins such as rubber or rosin resins, or synthetic resins such as polymerized resins or condensed resins such as aminoplasts, in particular Urea resins and melamine formaldehyde resins, alkyd resins, acrylic resins, polyesters or modified polyesters, epoxides, polyisocyanates or blocked polyisocyanates, or polysiloxanes.
  • Further components of the polysilazane formulation include, for example, additives that affect the viscosity of the formulation, substrate wetting, film formability, lubrication or exhaust properties, or inorganic nanoparticles such as SiO 2 , TiO 2 , ZnO , ZrO 2 or Al 2 O 3 .
  • the thickness of the coating film to be formed is preferably in the range of 100 nm to 2 ⁇ m.
  • the film mirror of the present invention preferably has a layer for preventing adhesion of dirt on the outermost layer on the light incident surface side.
  • the layer for preventing the adhesion of dirt of the present invention may be hydrophilic or water repellent.
  • the photocatalytically active layer has a self-cleaning action, so it can be self-cleaned by rain or watering, so that the film is maintained in a beautiful state without maintenance. be able to.
  • a method of making the surface water-repellent by applying a fluorine-based resin or the like to the surface, repelling water droplets due to rain, etc., and preventing adhesion of sand and organic components that cause dirt can be preferably applied.
  • the total thickness of the film mirror according to the present invention is preferably 75 to 250 ⁇ m, more preferably 90 to 230 ⁇ m, and still more preferably 100 to 220 ⁇ m, from the viewpoints of prevention of deflection of the mirror, regular reflectance, handling properties, and the like.
  • the film mirror of the present invention can be preferably used for the purpose of collecting sunlight. Although it can also be used as a solar reflective mirror by itself as a film mirror, more preferably, through a pressure-sensitive adhesive layer coated on the side of the resin base opposite to the side having the silver reflective layer across the resin base
  • the film mirror is affixed on another base material, particularly on a metal base material, and used as a reflection device for solar thermal power generation.
  • the reflecting device When used as a solar power generation reflecting device, the reflecting device is shaped like a bowl (semi-cylindrical), and a cylindrical member having fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member.
  • the form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form.
  • flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector.
  • the film mirror of the present invention is particularly preferably used because a high regular reflectance is required for the reflection device used.
  • the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • polyester resin urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber and the like are used.
  • the laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out the roll method continuously from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 ⁇ m from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed and the like.
  • the other substrate to be bonded to the film mirror of the present invention may be any material that can impart the protective property of the silver reflective layer, for example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, Polyarylate film or sheet, polyethylene naphthalate film or sheet, polyethylene terephthalate film or sheet, plastic film or sheet such as fluorine film, or resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, etc.
  • a resin film or sheet coated with a resin kneaded with a resin or subjected to surface processing such as metal deposition is used.
  • the thickness of the laminated film or sheet is not particularly limited but is preferably in the range of 12 to 250 ⁇ m.
  • these other base materials may be bonded after providing a concave portion or a convex portion before being bonded to the film mirror of the present invention, or may be formed to have a concave portion or a convex portion after being bonded.
  • the bonding and the molding so as to have a concave portion or a convex portion may be performed at the same time.
  • the film mirror of the present invention When the film mirror of the present invention is used for a sunlight reflecting mirror, various types of base materials can be used as the base material for supporting the film mirror, but a self-supporting base material is preferably used. That is, it is preferable to be a solar reflective mirror in which the film mirror of the present invention is provided on a self-supporting base material.
  • the self-supporting base material used in the solar reflective mirror according to the present invention preferably has one of the following configurations A and B.
  • A It has a pair of metal flat plates and an intermediate layer provided between the metal flat plates, and the intermediate layer is a layer having a hollow structure or a layer made of a resin material.
  • a resin material layer having a hollow structure A resin material layer having a hollow structure.
  • the term “self-supporting substrate” refers to “self-supporting” means supporting the opposite edge portions when cut to a size used as a substrate for a reflector. This means that the substrate has rigidity enough to support the substrate. Since the base material of the reflecting plate has self-supporting properties, it is easy to handle when installing the reflecting plate, and the holding member for holding the reflecting plate can have a simple configuration. It is possible to reduce the weight of the device, and it is possible to suppress power consumption during solar tracking.
  • the self-supporting base material is composed of a pair of metal flat plates and an intermediate layer provided between the metal flat plates, and the intermediate layer is formed of a layer having a hollow structure or a resin material.
  • the base material is configured only by a metal flat plate.
  • the weight of the substrate can be greatly reduced, and the rigidity can be increased by the relatively lightweight intermediate layer, so that it can be a lightweight and self-supporting support. Become. Even in the case where a layer made of a resin material is used as the intermediate layer, it is possible to further reduce the weight by using a resin material layer having a hollow structure.
  • the intermediate layer when the intermediate layer has a hollow structure, the intermediate layer functions as a heat insulating material, so that the temperature change of the metal flat plate on the back side is prevented from being transmitted to the film mirror, preventing condensation and deterioration due to heat. Can be suppressed.
  • metal flat plate forming the surface layer of the configuration A
  • steel plate copper plate, aluminum plate, aluminum plated steel plate, aluminum alloy plated steel plate, copper plated steel plate, tin plated steel plate, chrome plated steel plate, stainless steel plate, etc.
  • a high metal material can be preferably used.
  • the intermediate layer of the configuration A has a hollow structure
  • a material such as a metal, an inorganic material (glass or the like), or a resin
  • a cellular structure made of a foamed resin, a three-dimensional structure having a wall surface made of a metal, an inorganic material, or a resin material (such as a honeycomb structure), a resin material to which hollow fine particles are added, or the like
  • the cellular structure of the foamed resin refers to a material in which a gas is finely dispersed in a resin material and formed into a foamed or porous shape, and a known foamed resin material can be used as the material.
  • the honeycomb structure represents a general three-dimensional structure composed of a plurality of small spaces surrounded by side walls.
  • the resin material constituting the wall surface is a homopolymer or copolymer of olefins such as ethylene, propylene, butene, isoprene pentene, and methylpentene.
  • Acrylic derivatives such as polyolefin (for example, polypropylene, high-density polyethylene), polyamide, polystyrene, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, ethylene-ethyl acrylate copolymer, vinyl acetate copolymers such as polycarbonate, ethylene-vinyl acetate copolymer Terpolymers such as ionomers and ethylene-propylene-dienes, and thermoplastic resins such as ABS resins, polyolefin oxides and polyacetals are preferably used. In addition, these may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.
  • polyolefin for example, polypropylene, high-density polyethylene
  • polyamide for example, polypropylene, high-density polyethylene
  • polystyrene polyvinyl chloride
  • polyacrylonitrile ethylene-ethyl acrylate copolymer
  • vinyl acetate copolymers such as polycarbon
  • thermoplastic resins olefin-based resins or resins mainly composed of olefin-based resins
  • polypropylene-based resins or resins based mainly on polypropylene-based resins are preferable because of excellent balance between mechanical strength and moldability.
  • the resin material may contain an additive.
  • the additive include silica, mica, talc, calcium carbonate, glass fiber, carbon fiber, and other inorganic fillers, plasticizers, stabilizers, colorants, charging agents.
  • An inhibitor, a flame retardant, a foaming agent, etc. are mentioned.
  • the intermediate layer can be a layer made of a resin plate.
  • the resin material constituting the intermediate layer is preferably the same as the material constituting the support for the film mirror described above. Can do.
  • the intermediate layer does not have to be provided in all regions of the base material, and may be provided in a part of the region as long as the flatness of the metal flat plate and the self-supporting property as the base material can be ensured.
  • the intermediate layer has the above-described three-dimensional structure, it is preferable to provide the three-dimensional structure in a region of about 90 to 95% with respect to the area of the metal flat plate. It is preferable to provide it.
  • the self-supporting base material can be a layer made of a resin material having a hollow structure.
  • the base material is made of a resin-only layer, the thickness required to obtain rigidity sufficient to provide self-supporting properties increases, and as a result, the weight of the base material increases, but the resin base material has a hollow structure.
  • a resin sheet having a smooth surface is provided as a surface layer, and the resin material having a hollow structure is used as an intermediate layer from the viewpoint of increasing the regular reflectance of the film mirror. preferable.
  • the same material as that constituting the above-mentioned film mirror support can be preferably used, and as the resin material constituting the hollow structure, it is used for the above-mentioned foamed material and three-dimensional structure.
  • the same resin material as that obtained can be preferably used.
  • a holding member that holds the above-described reflector in a state where the sun can be tracked.
  • maintains several places with a rod-shaped holding member is preferable so that a reflecting plate can hold
  • the holding member has a configuration for holding the reflector in a state in which the sun can be tracked.
  • the holding member may be driven manually, or a separate drive device may be provided to automatically track the sun.
  • the solar power generation reflector of the present invention since the reflector is reduced in weight, it is possible to suppress power consumption during solar tracking, so a configuration for automatically tracking by providing a drive device Is preferred.
  • Diisocyanate) -based isocyanate is mixed in a resin solid content ratio of 10: 2 Added to the resin so as to be 10% by mass with respect to the resin, and coated by gravure coating to form an upper adjacent layer having a thickness of 3.0 ⁇ m. Formed.
  • a transparent acrylic film (Mitsubishi Rayon acrylene HBS010P thickness 75 ⁇ m) was bonded from above the upper adjacent layer by a dry lamination process. Further, 1 part of a platinum catalyst is added to 100 parts of an addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 at the bottom of the polyester resin to form a 35 mass% toluene solution, and this is applied to one side of a 25 ⁇ m thick polyester film. The film was coated and heated at 130 ° C. for 5 minutes to form a 35 ⁇ m-thick silicone adhesive layer (Si-based) to obtain a film mirror of Comparative Example 1.
  • Comparative Example 2 Preparation of film mirror of Comparative Example 2 The same method as in Comparative Example 1 except that glycol dimercaptoacetate was added to the upper adjacent layer of Comparative Example 1 instead of TINUVIN-234 (abbreviated as “nitrogen-containing cyclic compound A” in Table 1) manufactured by BASF. Thus, a film mirror of Comparative Example 2 was obtained.
  • a solar reflective mirror (B-1) was produced using the film mirror of Comparative Example 2 in the same manner as the solar reflective mirror (A-1).
  • glycol dimercaptoacetate (abbreviated as “mercapto compound” in Table 1) in a resin in which a polyester resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflection layer. .) was added to 10% by mass with respect to the resin, and coating was performed by a gravure coating method to form an upper adjacent layer having a thickness of 3.0 ⁇ m.
  • a transparent acrylic film (Mitsubishi Rayon acrylene HBS010P thickness 75 ⁇ m) was bonded from above the upper adjacent layer by a dry lamination process. Further, 1 part of a platinum catalyst is added to 100 parts of an addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 at the bottom of the polyester resin to form a 35 mass% toluene solution, and this is applied to one side of a 25 ⁇ m thick polyester film. The film was coated and heated at 130 ° C. for 5 minutes to form a 35 ⁇ m-thick silicone adhesive layer (Si-based) to obtain a film mirror of Comparative Example 3.
  • a solar reflective mirror (C-1) was produced using the film mirror of Comparative Example 3 in the same manner as the solar reflective mirror (A-1).
  • the silver reflective layer was formed by heating and drying at 150 ° C. for 2 minutes in a dry oven.
  • Acetic hydrazide (described as “hydrazine compound” in Table 1) in a resin in which a polyester resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer. was added so that it might become 10 mass% with respect to resin, and it coated by the gravure coating method, and formed 3.0 micrometer-thick upper adjacent layer.
  • a transparent acrylic film (Mitsubishi Rayon acrylene HBS010P thickness 75 ⁇ m) was bonded from above the upper adjacent layer by a dry lamination process. Further, 1 part of a platinum catalyst is added to 100 parts of an addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 at the bottom of the polyester resin to form a 35 mass% toluene solution, and this is applied to one side of a 25 ⁇ m thick polyester film. The film was coated and heated at 130 ° C. for 5 minutes to form a 35 ⁇ m-thick silicone adhesive layer (Si-based) to obtain a film mirror of Comparative Example 4.
  • a solar reflective mirror (D-1) was produced using the film mirror of Comparative Example 4 in the same manner as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 1 Preparation of film mirror of Example 1
  • the same procedure as in Comparative Example 4 was followed except that the acetate hydrazide was replaced with TINUVIN-234 (abbreviated as “nitrogen-containing cyclic compound A” in Table 1) manufactured by BASF. 1 film mirror was obtained.
  • TINUVIN-234 abbreviated as “nitrogen-containing cyclic compound A” in Table 1
  • a solar reflective mirror (E-1) was produced using the film mirror of Example 1 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 2 (Preparation of film mirror of Example 2)
  • TINUVIN-234 manufactured by BASF was changed to 2-ethyl-4-methylimidazole (abbreviated as “nitrogen-containing cyclic compound B” in Table 1).
  • the film mirror of Example 2 was obtained by the method.
  • a solar reflective mirror (F-1) was produced using the film mirror of Example 2 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 3 (Preparation of film mirror of Example 3) On the upper adjacent layer of Example 2, an alumina barrier layer was formed by vapor deposition using ⁇ -alumina as a vapor deposition source, to obtain a film mirror of Example 3.
  • a solar reflective mirror (G-1) was produced using the film mirror of Example 3 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 4 (Preparation of film mirror of Example 4) From the top of the alumina barrier layer of Example 3, a transparent acrylic film (Acryprene HBS010P, thickness 75 ⁇ m, manufactured by Mitsubishi Rayon) was bonded by a dry lamination process. An antifouling coating agent (Defenser TR-330 manufactured by DIC) was applied on the acrylic film and dried at 80 ° C. for 1 minute. Further, 1 part of a platinum catalyst is added to 100 parts of an addition reaction type silicone adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 at the lower part of the polyester resin to form a 35% by weight toluene solution. The film was applied and heated at 130 ° C. for 5 minutes to form a 35 ⁇ m-thick silicone adhesive layer (Si-based) to obtain a film mirror of Example 4.
  • a transparent acrylic film (Acryprene HBS010P, thickness 75 ⁇ m, manufactured by Mitsubishi Rayon) was bonded by a dry lamination process.
  • a solar reflective mirror (H-1) was produced using the film mirror of Example 4 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 5 (Method for producing thin glass roll A) A thin glass roll A having a width of 1,200 mm, a thickness of 100 ⁇ m, and a length of 300 m is obtained by hot-melting an alkali-free glass using an apparatus for forming a thin glass for mounting a liquid crystal display device, and then by an overflow down draw method. Was made.
  • a solar reflective mirror (I-1) was produced using the film mirror of Example 5 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 6 (Preparation of film mirror of Example 6) A film mirror of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the silver coating liquid composition A in Example 5 was replaced with the silver complex compound-containing coating liquid B.
  • a solar reflective mirror (J-1) was produced using the film mirror of Example 6 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 7 (Preparation of film mirror of Example 7) A film mirror of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 6 except that the silver coating liquid composition B of Example 6 was replaced with the silver complex compound-containing coating liquid C.
  • a solar reflective mirror (K-1) was produced using the film mirror of Example 7 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • Example 8 (Preparation of film mirror of Example 8) Example 7 except that 2-ethyl-4-methylimidazole in the upper adjacent layer of Example 7 was replaced with 3-methyl-5-hydroxypyrazole (abbreviated as “nitrogen-containing cyclic compound C” in Table 1). A film mirror of Example 8 was obtained by the same method.
  • a solar reflective mirror (L-1) was produced using the film mirror of Example 8 by the same method as the solar reflective mirror (A-1).
  • the adhesive of each film mirror was attached to face each other to produce solar reflective mirrors ((D-2) to (L-2)).
  • a self-supporting substrate having a thickness of 2 mm was used.
  • Double-sided material refers to a material that sandwiches layers having a hollow structure.
  • the thickness of the metal flat plate was 0.12 mm on one side, and the intermediate resin layer was filled with a foamed polyethylene resin having a thickness of 1.76 mm.
  • a spectrophotometer “UV265” manufactured by Shimadzu Corporation was modified with an integrating sphere reflection accessory, and the incident angle of incident light was adjusted to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface.
  • the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
  • ⁇ Weather resistance test for regular reflectance> The regular reflectance of the film mirror after being left for 30 days under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH is measured by the same method as the above-mentioned light reflectance measurement, and the regular reflectance and forced degradation of the film mirror before forced degradation. From the regular reflectance of the subsequent film mirror, the decrease rate of regular reflectance was calculated. The evaluation criteria for the weather resistance test are described below.
  • the rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease in regular reflectance is 20% or more ⁇ Anti-fouling test> A solar reflective mirror was cut into a 10 cm wide x 10 cm long test piece, fixed to an aluminum frame, and exposed to the outdoors at an angle of 45 ° (January to June 2010, location: Hachioji City, Tokyo) ). The degree of contamination after 6 months of outdoor exposure was visually observed and evaluated in three stages ( ⁇ : no dust adhesion, ⁇ : little dust adhesion, ⁇ : much dust adhesion). (Evaluation methods) ⁇ Mass> Table 3 shows the result of measuring the mass of 1.0 m 2 size of the obtained sunlight reflecting mirrors L-1 and L-2.
  • Table 3 shows the ratios when the driving power required for one tracking unit incorporating the solar reflection mirror L-1 is 100 when the solar reflection mirror is incorporated into a solar tracking type solar power generation reflection device. Show.
  • the present invention is configured as described above, it can be used as a film mirror, a manufacturing method thereof, and a solar reflective mirror using the film mirror.

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Abstract

　支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。

Description

フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光反射用ミラー
　本発明は、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な反射率を有するフィルムミラーとその製造方法及びフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーに関する。
　近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとして、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
　しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
　これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
　反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、板状のガラス製ミラーが用いられてきた。板状のガラス製ミラーは紫外線や温度、湿度に対する耐久性が高い反面、輸送時や設置後の外圧によって破損したり、質量が重いため、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
　一方、樹脂製反射シートは液晶ディスプレイのバックライトユニットの反射シートとして実用化されており（例えば特許文献１参照）、太陽光反射用ミラーに適用すれば、板状ガラス製ミラーの欠点である外圧による破損や質量の重さといった問題が解消できる。しかしながら、屋外、特に太陽エネルギーの照射に長年照射し続けると、徐々に反射率が低下するなどの問題が生じることが知られていた。
　この問題に対して、紫外線に対する耐性を高めて、太陽光を反射することを目的とした樹脂製ミラーが提案されている（例えば特許文献２参照）。
　このような樹脂製ミラーは、板状のガラスミラーに対して連続生産適性が高く、生産性を高めることができる。光反射層には銀蒸着層を用いるのが一般的だが、銀は水分の存在下で、周辺環境から塩分や硫黄分が供給されると、容易に塩化銀や硫化銀を生成し、反射率が低下するという問題があった。このような銀の腐食防止のために、隣接層に樹脂コートによる腐食防止層を設ける方法が知られている（例えば特許文献３参照）。また、銀の腐食防止にはチオン基やメルカプト基を有する化合物を、腐食防止剤として銀層表面に吸着する方法も一般的に良く知られている方法である。
　しかしながら、これらの方法においても太陽光反射用ミラーのように、激烈な屋外環境下で使用される場合においては、銀反射層の反射率低下を十分防止することは困難であった。
特開２００５－２８０１３１号公報 特表２００９－５２０１７４号公報 特開２００２－１２２７１７号公報
　本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、銀反射層の正反射率が高い上に、耐光性及び耐候性に優れ、銀反射層の腐食による正反射率の低下が殆ど無く、かつ軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできるフィルムミラーとその製造方法を提供することである。また、それを用いた太陽光反射用ミラーを提供することである。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく銀反射層の腐食防止、生産性向上等の観点から、鋭意検討の結果、以下の手段により、高い正反射率、耐候性、及び生産性を有し、なおかつフィルムミラーの特徴である軽量、柔軟性を満足するフィルムミラーを提供することができることを見出し、本発明を完成させることに至った。
　すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
　１．支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。
　２．前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする前記第１項に記載のフィルムミラー。
　３．前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることを特徴とする前記第１項又は第２項に記載のフィルムミラー。
　４．前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することを特徴とする前記第１項から第３項の何れか一項に記載のフィルムミラー。
　５．前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することを特徴とする前記第３項又は第４項に記載のフィルムミラー。
　６．前記第１項から第５項の何れか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０～１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
　７．自己支持性の基材に、前記第１項から第５項の何れか一項に記載のフィルムミラーが具備されてなることを特徴とする太陽光反射用ミラー。
　８．前記自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することを特徴とする前記第７項に記載の太陽光反射用ミラー。
Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
　本発明の上記手段により、銀反射層の正反射率が高い上に、耐光性及び耐候性に優れ、銀反射層の腐食による正反射率の低下が殆ど無く、かつ軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできるフィルムミラーとその製造方法を提供することができる。また、それを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができる。
　本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項８までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
　本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることが好ましい。さらに、前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。この場合、当該ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することが好ましい。また、当該ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することが好ましい。
　本発明のフィルムミラーの製造方法としては、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０～１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成する態様の製造方法であることが好ましい。
　本発明のフィルムミラーは、太陽光反射用ミラーに好適に用いることができるが、自己支持性の基材に、本発明のフィルムミラーが具備されてなる太陽光反射用ミラーとすることが好ましい。この場合、当該自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することが好ましい。
Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
　（フィルム状支持体）
　本発明に係るフィルム状支持体としては、従来公知の種々の樹脂フィルムであっても、ガラスフィルムであっても、フィルム状であれば、本発明の支持体として用いることができる。
　例えば樹脂フィルムであれば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
　特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
　本発明に係るフィルム状支持体の厚さは、ロール状に巻くことのできるフィルム状支持体であるという観点から、１．０～２００μｍの範囲内であることを要する。好ましくは２０～１５０μｍ、更に好ましくは３０～１３０μｍである。
　（ガラスフィルム）
　本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体が、厚さが１．０～２００μｍの範囲内であるガラスフィルムも好ましく用いられる。
　当該ガラスフィルムとしては、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。すなわち、特開２０１０－１３２３４７号公報に開示されているような、ダウンドロー法によって成形された表裏面が露出したガラスフィルムを、保護シートに重ねてロール状に巻き取ったガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。
　このような構成によれば、ダウンドロー法によって形成された表裏面が露出したガラスフィルムがそのままの状態で、保護シートとともにロール状に巻き取られてガラスロールが形成される。そのため、梱包前の工程で、ガラスフィルムの表裏面のいずれにもポリマー層等の保護膜を形成する成膜工程を行う必要がなく、開梱後の工程でも、ガラスフィルムの表面からポリマー層等の保護膜を除去する除去工程を行う必要もない。
　従って、保護膜を形成する工程が不要な分だけ梱包前の工程を短縮化できるので、ガラスフィルムの表裏面に異物が付着する割合を可及的に低減できると共に、開梱後に保護膜に由来する異物が残存するという事態も生じ得ない。その結果、ダウンドロー法に由来したガラスフィルムの表裏面の清浄性を良好に維持することができる。更に、ダウンドロー法により成形した表裏面であれば、フロート法により成形した場合のように事後的にガラスフィルムの表面研磨を行わなくても、未研磨面の状態で清浄性を確保できるという利点もある。
　また、ガラスフィルムの露出した表裏面は、ガラスロールの状態で保護シートにより保護される。しかも、ガラスフィルムの表裏面は、ポリマー層等の保護膜が形成されていないガラス面であるため、巻き取った段階で、ガラスフィルムと保護シートとが固着するという事態も生じ難い。従って、ガラスロールの状態でのガラスフィルムの破損を確実に低減でき、しかも、ガラスフィルムと保護シートとの分離性も良好に維持できるので、開梱時のガラスフィルムの破損も可及的に低減することができる。
　なお、ガラスフィルムは、長時間巻き取った状態が保持されたとしても、反りが発生することはなく容易に次工程へと送り込むことができる。さらに、巻き取ることによって長尺物のガラスフィルムとすることができることから、その後自由な長さで切断することができ、様々な大きさの基板に対応することが可能となり、ガラスフィルムの無駄を防止することができる。
　本発明においては、前記ガラスフィルムの厚さが、１．０～２００μｍの範囲内であるであることを要する。なお、ガラスフィルムの厚さは、好ましくは３０μｍ以上１５０μｍ以下であるが、更に好ましくは５０～１２０μｍの範囲内である。厚さが１μｍ未満では、ロール状に巻き取る際のテンションに耐えることができずに破断してしまい、また、２００μｍよりも厚いとロールとしての巻き取ることが困難となる。
　上記のような厚さにすれば、ガラスフィルムに適切な可撓性が付与される。そのため、ガラスフィルムを巻き取った際にガラスフィルムにかかる不当な応力を軽減することができ、破損を防止することができる。
　上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面の算術平均粗さＲａが、０．１μｍ以下であることが好ましい。ここで、「算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定された値とする。
　このようにすれば、ガラスフィルムの幅方向の両端面に適切な平滑性が付与される。そのため、ガラスフィルムをロール状に巻き取る際に、ガラスフィルムの両端面に微細な傷が生じ難くなり、ガラスフィルム両端面からの破損を防止することができる。従って、ガラスフィルムの端面の微細な傷に起因する欠けにより発生するガラス粉（カレット）を低減できることから、ガラスフィルムの表裏面の清浄性を確保する上でも非常に有利となる。また、ガラスフィルムの端面と保護シートが接触した場合でも、ガラスフィルムの端面が保護シートに噛み込んで引っかかることがなく、ガラスフィルムと保護シートとの分離性を良好なものとすることができる。
　上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面が、レーザー切断により切断された切断面で構成されていることが好ましい。なお、ここでいうレーザー切断には、レーザー溶断以外にも、レーザー割断も含まれる。
　（気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物）
　本発明のフィルムミラーは、支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該銀反射層が、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであることを特徴とする。
　本願において、「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
　このような錯体の例は、公知である特表２００９－５３５６６１号、特表２０１０－５００４７５号各公報等に記載されており、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）～（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる銀錯体化合物であることが好ましい。
　また、本発明に係る銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含有され、これを塗布することにより支持体上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、銀錯体化合物を用いてガラスフィルム上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０～２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。更に好ましくは１００～２２０の範囲内、特に好ましくは１２０～２００℃の範囲内である。加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はどんなものでも適用できる。
　以下、下記一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）～（４）で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物等について説明をする。
　一般式（１）：　ＡｇｎＸ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  
　（一般式（１）～（４）において、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基であり、ｎは、１～４の整数であって、Ｒ１～Ｒ６は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ３０の脂肪族や脂環族アルキル基、アリール基又はアラルキル（ａｒａｌｋｙｌ）基、官能基が置換されたアルキル及びアリール基、ヘテロ環化合物基と高分子化合物及びその誘導体から選択される置換基である。）
　一般式（１）の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
　また、一般式（２）～（４）において、Ｒ１～Ｒ６は、具体的に例えば、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２－ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
　一般式（２）～（４）の化合物例としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム　エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウムイソプロピルカルバメート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカルバメート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカルバメート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカルバメート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカルバメート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウムジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム　モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム　エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　バイカーボネート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　バイカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　バイカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　バイカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム　モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム　バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム　バイカーボネート、及びその誘導体から選択される一種又は二種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
　一方、上記のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限する必要はない。例えば、米国特許第４，５４２，２１４号では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、又は少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧又は加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
　このように製造されたアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、一般式（１）に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、一般式（２）～（４）に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメート又はアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
　本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、一般式（１）の銀化合物と一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧又は加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度又は触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
　本発明で使用される銀錯体化合物は、特表２００８－５３０００１号公報にその製造方法が記載されており、下記一般式（５）の構造で認識される。
　一般式（５）：　Ａｇ［Ａ］ｍ
　（一般式（５）において、Ａは、一般式（２）～（４）の化合物であり、ｍは、０．５～１．５である。）
　本発明の高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ　ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
　補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
　一方、前記安定剤としては例えば、第１アミン、第２アミン又は第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、２－エチルヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２－エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２－ヒドロキシプロピルアミン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ－ブトキシアミン、２－ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２－（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
　アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム　エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカルバメート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカルバメート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカルバメート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカルバメート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカルバメート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム　モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム　エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　バイカーボネート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　バイカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　バイカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　バイカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム　モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム　バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム　バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
　また、リン化合物としては、一般式Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐ又は（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１～２０のアルキル又はアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
　そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ－ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２－メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
　このような安定剤の使用量は、本発明のインク特性に符合する限り、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％～９０％が好ましい。
　また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ　ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ　ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ　ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２－エチル－ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ　ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ　ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含有するシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２－エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１～２５％が好ましい。
　前記還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ　ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル－ｏ－ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含有するこれらの混合物を挙げることができる。
　前記熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ－メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′－ジメチルピペラジン、１－アミノ－４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ－メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２－ブタノンオキシム、２，３－ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
　なお、銀コーティング液組成物の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１－メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１－メチル－２－ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、又はこれらの混合溶媒などを使用することができる。
　（銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物）
　本発明では、銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とする。当該含窒素環状化合物としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
　本発明においては、前記銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤において、含窒素環状化合物を用いることで、所望の腐食防止効果を得ることができる。例えば、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　ピロール環を有する物としては、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－２，５ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ３’５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　〈酸化防止剤〉
　本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
　酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、テトラキス－〔メチレン－３－（３’、５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリス（３’、５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）－Ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９－ビス［１，１－ジ－メチル－２－〔β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－２，４，８，１０－テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
　チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリル－チオプロピオネート）等を挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス－（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）４，４’－ビフェニレン－ジホスホナイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
　なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
　ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、１－メチル－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、１－［２－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－４－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ベンゾイルオキシ－２，２、６，６－テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタン－テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４，５］デカン－２，４－ジオン等が挙げられる。
　その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノレート）〕－２－エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル－ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
　特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
　（ガスバリアー層）
　本発明のフィルムミラーは、ガスバリアー層を有することが好ましい。
　本発明に係るガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。本発明においては、前記銀反射層の上側に、ガスバリアー層を設けることが好ましい。
　ガスバリアー層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、さらに好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該ガスバリアー層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
　本発明に係るガスバリアー層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／又は紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
　〈セラミック前駆体〉
　本発明に係るガスバリアー層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
　〈有機金属化合物〉
　本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
　有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
　前記金属アルコキシドは、下記一般式（Ｉ）で表される。
　一般式（Ｉ）：ＭＲ２ ｍ（ＯＲ１）ｎ－ｍ
　前記一般式（Ｉ）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍは、０～（ｎ－１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ－Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ－Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ－Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ－Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
　前記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ－ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ－ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ－ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ－ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ－ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
　〈無機酸化物〉
　本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。従って、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
　例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
　本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル－ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
　〈ゾル－ゲル法〉
　ここで、「ゾル－ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
　具体的には、下記工程を有するゾル－ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
　すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５～５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び当該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル－ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
　上記ゾル－ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。
　前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３ ２－が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５～７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２～５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ゾル－ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０～１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
　前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含有する前記反応液の合計質量に対して、０．００１～２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２～０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。又ハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
　なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
　前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
　前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５～５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
　なお、前記ゾル－ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含有する。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含有する。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
　次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０～７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０～１５０℃が好ましく、８０～１３０℃がより好ましい。
　〈ポリシラザンを塗布する方法〉
　本発明に係るガスバリアー層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
　セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式（Ｉ）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含有する溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５～３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
　式（Ｉ）：　－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、ビニル又は３－（トリエトキシシリル）プロピル、３－（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３－モルホリノプロピルアミン又はＮ－複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１～１０モル％、好ましくは０．５～７モル％の範囲である。
　好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含有する溶液が使用される。
　さらに、別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式（II）の少なくとも一種のポリシラザンを含有する。
　式（II）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
　また、次式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含有する溶液も同様に好ましい。
　式（III）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－（ＳｉＲ７Ｒ８－ＮＲ９）ｑ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキル又は水素を表す化合物である。
　溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１～８０質量％、好ましくは５～５０質量％、特に好ましくは１０～４０質量％である。
　溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ－及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
　上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののようなさらに別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
　ポリシラザン調合物のさらに別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。
　本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリアー作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
　形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ～２μｍの範囲内にすることが好ましい。
　（汚れの付着を防止する層）
　本発明のフィルムミラーは、光の入射面側の最表層に汚れの付着を防止する層を有しているのが好ましい。本発明の汚れの付着を防止する層は、親水性でも撥水性でも良い。例えば、光触媒を用いて表面を親水性にする場合には、光触媒活性層が自己浄化作用を有しているので、降雨又は散水により、自己浄化できるので、メンテナンスフリーでフィルムを美麗な状態に保つことができる。また、表面にフッ素系樹脂などを塗布することにより、表面を撥水性とし、雨などによる水滴をはじき、汚れの原因となる砂や有機分の付着を防止するといった方法も好ましく適用できる。
　（フィルムミラー全体の厚さ）
　本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５～２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０～２３０μｍ、更に好ましくは１００～２２０μｍである。
　（太陽光反射用ミラー）
　本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
　太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められるため、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
　〈粘着層〉
　粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
　例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
　ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
　粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１～５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
　本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
　貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２～２５０μｍの範囲であることが好ましい。
　また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
　（自己支持性の基材）
　本発明のフィルムミラーを太陽光反射用ミラーに用いる場合、当該フィルムミラーを支持する基材として種々の態様の基材を用いることができるが、自己支持性の基材を用いることが好ましい。すなわち、自己支持性の基材に、本発明のフィルムミラーが具備されてなる太陽光反射用ミラーとすることが好ましい。
　本発明に係る太陽光反射用ミラーに用いられる自己支持性の基材は、以下のＡ及びＢの何れかの構成を有することが好ましい。
　Ａ：一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
　Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
　本発明で「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、反射板の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。反射板の基材が自己支持性を有することで、反射板を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、反射板を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
　構成Ａのように、自己支持性の基材を、一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層からなる構成とし、中間層は中空構造を有する層か樹脂材料から構成される層とすることにより、金属平板による高い平面性を有するとともに、中間層が中空構造を有する層か、樹脂材料から構成される層とされていることにより、金属平板のみで基材を構成する場合に比べて、基材を大幅に軽量化することが可能となるとともに、比較的軽量な中間層により剛性を上げることができるため、軽量且つ自己支持性を有する支持体とすることが可能となる。中間層として樹脂材料から構成される層を用いる場合においても、中空構造を有する樹脂材料の層とすることで更に軽量化が可能である。
　また、中間層を中空構造とした場合には、中間層が断熱材としての機能を果たすため、裏面の金属平板の温度変化がフィルムミラーへ伝わることを抑制し、結露の防止や、熱による劣化を抑制することが可能となる。
　構成Ａの表面層を形成する、金属平板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料が好ましく用いることができる。本発明においては、特に、耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
　構成Ａの中間層を中空構造とする場合、金属、無機材料（ガラス等）、樹脂等の素材を用いることができる。中空構造としては、発泡樹脂からなる気泡構造、金属、無機材料又は樹脂材料からなる壁面を有する立体構造（ハニカム構造等）や、中空微粒子を添加した樹脂材料等を用いることができる。発泡樹脂の気泡構造は、樹脂材料中にガスを細かく分散させ、発泡状又は多孔質形状に形成されたものを指し、材料としては、公知の発泡樹脂材料を使用可能であるが、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン等が好ましく用いられる。ハニカム構造とは、空間が側壁で囲まれた複数の小空間で構成される立体構造全般を表すものとする。中空構造を樹脂材料からなる壁面を有する立体構造とする場合、壁面を構成する樹脂材料としては、エチレン、プロピレン、ブテン、イソプレンペンテン、メチルペンテン等のオレフィン類の単独重合体あるいは共重合体であるポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、エチレン－エチルアクリレート共重合体等のアクリル誘導体、ポリカーボネート、エチレン－酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン－プロピレン－ジエン類等のターポリマー、ＡＢＳ樹脂、ポリオレフィンオキサイド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。なお、これらは一種類を単独で用いても、二種類以上を混合して用いてもよい。特に、熱可塑性樹脂のなかでもオレフィン系樹脂又はオレフィン系樹脂を主体にした樹脂、ポリプロピレン系樹脂又はポリプロピレン系樹脂を主体にした樹脂が、機械的強度及び成形性のバランスに優れている点で好ましい。樹脂材料には、添加剤が含まれていてもよく、その添加剤としては、シリカ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、カーボン繊維等の無機フィラー、可塑剤、安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤等が挙げられる。
　また、中間層を樹脂プレートからなる層とすることも可能であり、この場合に中間層を構成する樹脂材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができる。
　中間層は、基材の全ての領域に設けられる必要はなく、金属平板の平面性及び基材としての自己支持性を担保できる範囲であれば、一部の領域に設けられていてもよい。中間層を上述の立体構造とする場合、金属平板の面積に対して、９０～９５％程度の領域に立体構造を設けることが好ましく、発泡樹脂を用いる場合は、３０～４０％程度の領域に設けることが好ましい。
　上記の構成Ｂのように、自己支持性の基材を、中空構造を有する樹脂材料からなる層とすることも可能である。基材を樹脂のみからなる層とした場合、自己支持性を持たせる程度の剛性を得るために必要な厚さが大きくなり、結果として基材の質量が重くなるが、樹脂基材に中空構造を持たせることにより、自己支持性を持たせながら軽量化が可能となる。中空構造を有する樹脂材料からなる層とする場合、表面層として平滑な面を有する樹脂シートを設け、中空構造を有する樹脂材料を中間層として用いることが、フィルムミラーの正反射率を高める観点で好ましい。この樹脂シートの材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができ、中空構造を構成する樹脂材料としては、上述の発泡材料や、立体構造に用いられるものと同様の樹脂材料を好ましく用いることができる。
　（保持部材）
　本発明に係る太陽熱発電用反射装置においては、更に、上述の反射板を太陽を追尾可能な状態で保持する保持部材が設けられる。保持部材の形態としては、特に制限はなく、反射板が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で反射板を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよいが、本願発明の太陽熱発電用反射装置によれば、反射板が軽量化されているため、太陽追尾時の消費電力を抑制することが可能であるため、駆動装置を設けて自動追尾する構成が好ましい。
　以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。
　（銀錯体化合物含有塗布液Ａの調製）
　攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、２－エチルヘキシルアンモニウム２－エチルカルバメート６５．０ｇ（２１５ミリモル）を１５０．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルアミン２．５ｇに、溶媒としてｎ－ブタノール８５．０ｇとアミルアルコール５０．０ｇを添加して攪拌した後、０．４５ミクロンのメンブレンフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量４．８７質量％の銀錯体化合物含有塗布液Ａを製造した。
　（銀錯体化合物含有塗布液Ｂの調製）
　攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、２－エチルヘキシルアンモニウム２－エチルカルバメート３３．８ｇ（１１１．７ミリモル）とイソブチルアンモニウムイソブチルカーボネート３０．４ｇ（１４６ミリモル）を、１６．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルアミン２．５ｇを添加して攪拌した後、０．４５ミクロンのメンブレンフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量２０．５６質量％の銀錯体化合物含有塗布液Ｂを製造した。
　（銀錯体化合物含有塗布液Ｃの調製）
　攪拌器付き５００ｍｌのシュレンク（Ｓｃｈｌｅｎｋ）フラスコに、粘性のある液体の２－エチルヘキシルアンモニウム２－エチルヘキシルカーボネート３４．６ｇ（１４４ミリモル）を１００ｍｌのメタノールに溶解させた後、炭酸銀１０ｇ（３６ミリモル）を添加した。前記反応溶液は、黄色懸濁液（Ｓｌｕｒｒｙ）で反応が進行されるにつれて、だんだん透明な色に変わることが観察されて、６時間が経った後には、完全に黄色の透明な溶液に変わって、錯化合物が生成されたことが分かった。この溶液を０．４５ミクロンのメンブランフィルタ（ｍｅｍｂｒａｎｅ　ｆｉｌｔｅｒ）を使用してフィルタし、銀錯体化合物含有塗布液Ｃを製造した。
　［比較例１］
　（比較例１のフィルムミラーの作製）
　基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、グリコールジメルカプトアセテート（表１において「メルカプト化合物」と略記する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。
　次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ　厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例１のフィルムミラーを得た。
　（太陽光反射用ミラーの作製）
　厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板と上記比較例１の反射フィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム面側とを、粘着層を介して貼り合せて、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）を得た。同様にして、下記比較例２、３及び実施例のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラーをそれぞれ作製した。
　［比較例２］
　（比較例２のフィルムミラーの作製）
　比較例１の上部隣接層に、グリコールジメルカプトアセテートをＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ－２３４（表１において「含窒素環状化合物Ａ」と略記する。）に替えて添加する以外は、比較例１と同様の方法により、比較例２のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、比較例２のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｂ－１）を作製した。
　［比較例３］
　（比較例３のフィルムミラーの作製）
　基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。上記フィルムを初めに３５℃に調整した０．０２％塩化パラジウム－０．０１％塩酸水溶液（ｐＨ３）が入った容積２０Ｌの塩化ビニール製の槽、次に、３５℃に調整した無電解銅めっき浴ＡＴＳアドカッパーＩＷ浴（奥野製薬工業（株）社製）が入った容積２０Ｌの塩化ビニール製の槽を１ｍ／分の速度で通過させ、この際、槽内のロール数を変えて、初めの槽の通過時間が１分となるように調整し、次の槽の通過時間が１０分となるように調整し、各槽通過後には水洗を行った。更に３５℃に調整した無電解銀めっき浴を１０分かけて通過した後、水洗を行った。結果として、膜厚０．３μｍの銅めっきの上に、
膜厚０．３μｍの銀めっき層が得られた。
　更に銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、グリコールジメルカプトアセテート（表１において「メルカプト化合物」と略記する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。
　次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ　厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例３のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、比較例３のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｃ－１）を作製した。
　［比較例４］
　（比較例４のフィルムミラーの作製）
　基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に銀錯体化合物含有塗布液Ａを、加熱乾燥後の銀の膜厚が８０ｎｍとなるように塗布した。ドライオーブンにて１５０℃、２分間加熱乾燥し、銀反射層を形成した。銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、アセティックヒドラジド（表１において「ヒドラジン化合物」と記載する。）を樹脂に対して１０質量％となるよう添加して、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの上部隣接層を形成した。
　次に、上部隣接層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ　厚さ７５μｍ）を貼合した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し比較例４のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、比較例４のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｄ－１）を作製した。
　［実施例１］
　（実施例１のフィルムミラーの作製）
　比較例４の上部隣接層において、アセティックヒドラジドをＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ－２３４（表１において「含窒素環状化合物Ａ」と略記する。）に替える以外は、比較例４と同様の方法により、実施例１のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例１のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｅ－１）を作製した。
　［実施例２］
　（実施例２のフィルムミラーの作製）
　実施例１の上部隣接層において、ＢＡＳＦ製ＴＩＮＵＶＩＮ－２３４を２－エチル－４－メチルイミダゾール（表１において「含窒素環状化合物Ｂ」と略記する。）に替える以外は、実施例１と同様の方法により、実施例２のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例２のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｆ－１）を作製した。
　［実施例３］
　（実施例３のフィルムミラーの作製）
　実施例２の上部隣接層上に、α－アルミナを蒸着源として、蒸着法によりアルミナバリアー層を施し、実施例３のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例３のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｇ－１）を作製した。
　［実施例４］
　（実施例４のフィルムミラーの作製）
　実施例３のアルミナバリアー層の上からドライラミネーションプロセスにより、透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ　厚さ７５μｍ）を貼合した。上記アクリルフィルムの上に、防汚コート剤（ＤＩＣ製ディフェンサ　ＴＲ－３３０）を塗布し、８０℃で１分乾燥した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し、実施例４のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例４のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｈ－１）を作製した。
　［実施例５］
　（薄膜ガラスロールＡの製造方法）
　液晶表示装置搭載用の薄板ガラスを成形するための装置を用い、無アルカリガラスを熱熔融させたのち、オーバーフローダウンドロー法により、幅１，２００ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ３００ｍの薄膜ガラスロールＡを作製した。
　（実施例５のフィルムミラーの作製）
　実施例２の上部隣接層の上に、ドライラミネーションプロセスにより、薄膜ガラスロールＡから得られるガラスフィルムを貼合した。当該ガラスフィルムの上に、防汚コート剤（スケッチ製スーパーグラスバリアー）を塗布し、１２０℃で３分乾燥した。更に上記ポリエステル樹脂の下部に、重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液とし、これを厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ３５μｍのシリコーン系粘着層（Ｓｉ系）を形成し、実施例５のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例５のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｉ－１）を作製した。
　［実施例６］
　（実施例６のフィルムミラーの作製）
　実施例５の銀コーティング液組成物Ａを銀錯体化合物含有塗布液Ｂに替える以外は、実施例５と同様の方法により、実施例６のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例６のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｊ－１）を作製した。
　［実施例７］
　（実施例７のフィルムミラーの作製）
　実施例６の銀コーティング液組成物Ｂを銀錯体化合物含有塗布液Ｃに替える以外は、実施例６と同様の方法により、実施例７のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例７のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｋ－１）を作製した。
　［実施例８］
　（実施例８のフィルムミラーの作製）
　実施例７の上部隣接層の２－エチル－４－メチルイミダゾールを３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール（表１において「含窒素環状化合物Ｃ」と略記する。）に替える以外は、実施例７と同様の方法により、実施例８のフィルムミラーを得た。
　また、太陽光反射用ミラー（Ａ－１）と同様の方法により、実施例８のフィルムミラーを用いて、太陽光反射用ミラー（Ｌ－１）を作製した。
　また、上記太陽光反射用ミラー（Ｄ－１）～（Ｌ－１）を作製する際に、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板に替えて、各フィルムミラーの粘着層と自己支持性の基材を対面して貼り付けて太陽光反射用ミラーを作製した（（Ｄ－２）～（Ｌ－２））。自己支持性の基材の厚さは２ｍｍのものを使用した。両面材質とは、中空構造を有する層をサンドイッチする材料を言う。金属平板の厚さは片面０．１２ｍｍのアルミニウム、中間層の樹脂層は、厚さ１．７６ｍｍの発泡ポリエチレン樹脂を充填したものを使用した。重さ及び駆動電力消費率を測定した結果、従来の太陽光反射用ミラーに対して大幅に軽量化でき、その結果、搬送効率がアップし、作業の短縮化が図れ、コスト低減にも寄与した。
　［評価］
　上記で得た太陽光反射用ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。
　＜正反射率の測定＞
　島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
　＜正反射率の耐候性試験＞
　温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜防汚性試験＞
　太陽光反射用ミラーを幅１０ｃｍ×長さ１０ｃｍの試験片に切り抜き、アルミ製の枠に固定し、４５°に傾けて屋外に暴露した（平成２２年１～６月、場所：東京都八王子市）。屋外暴露６ヵ月後の汚れの程度を目視観察し３段階（○：埃の付着無し、△：埃の付着少々、×：埃の付着多い）で評価した。
（評価方法）
　＜質量＞
　得られた太陽光反射用ミラーＬ－１及びＬ－２の１．０ｍ２サイズの質量を測定した結果を表３に示す。
　＜駆動電力消費率＞
　太陽光反射用ミラーを太陽追尾型の太陽熱発電用反射装置に組み込んだ際、太陽光反射用ミラーＬ－１を組み込んだ１基の追尾にかかる駆動電力を１００とした時の比率を表３に示す。
　得られた各種フィルムミラーの内容を下記表１－１、表１－２に、特性を評価した結果を下記表２及び３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
　表２及び３に示した評価結果から明らかなように、本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性、耐候性及び防汚性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽光反射用ミラーを提供することができることが分かる。
　本発明は、以上のように構成されていることから、フィルムミラーとその製造方法及びフィルムミラーを用いた太陽光反射用ミラーとして利用できる。

Claims (8)

  1. 　支持体上に銀反射層を有するフィルムミラーであって、当該支持体がフィルム状支持体であり、かつ当該銀反射層が、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより形成されたものであり、当該銀反射層の隣接層に含窒素環状化合物を含有することを特徴とするフィルムミラー。
  2. 　前記銀錯体化合物が、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物を銀化合物と反応させることにより得られた銀錯体化合物であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
  3. 　前記フィルム状支持体が、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
  4. 　前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該銀反射層に対し光の入射面と反対側にガスバリアー層を有することを特徴とする請求項１～３の何れか一項に記載のフィルムミラー。
  5. 　前記ガラスフィルムが、前記銀反射層に対し光の入射面側に位置し、当該ガラスフィルムの最表面に汚れの付着を防止する層を有することを特徴とする請求項３又は４に記載のフィルムミラー。
  6. 　請求項１～５の何れか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、支持体上に、気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物を含有する塗布膜を形成した後に、当該塗布膜を８０～１５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
  7. 　自己支持性の基材に、請求項１～５の何れか一項に記載のフィルムミラーが具備されてなることを特徴とする太陽光反射用ミラー。
  8. 　前記自己支持性の基材が、下記のＡ及びＢのいずれかの構成を有することを特徴とする請求項７に記載の太陽光反射用ミラー。
    Ａ：一対の金属平板と、前記金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層又は樹脂材料から構成される層である。
    Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
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