WO2012018032A1

WO2012018032A1 - 遊離ホウ酸の定量方法

Info

Publication number: WO2012018032A1
Application number: PCT/JP2011/067718
Authority: WO
Inventors: 誠也國政; 誠田崎; 公美山田
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2010-08-02
Filing date: 2011-07-27
Publication date: 2012-02-09
Anticipated expiration: 2013-02-02
Also published as: TW201229486A; JP2011209306A

Abstract

下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）を含む、高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物中の遊離ホウ酸の定量方法；（Ａ）高分子組成物を粉砕する工程、（Ｂ）工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた混合物から高分子物質を除去する工程、（Ｄ）工程（Ｃ）で高分子物質が除去された混合物に含まれるホウ酸を定量する工程。

Description

遊離ホウ酸の定量方法

　本発明は、遊離ホウ酸の定量方法に関する。

　偏光フィルムに含まれるホウ酸を定量する方法として、特開２００９−１０４０６２号公報には、偏光フィルムをそのまま高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法により分析する方法が開示されている。

　本発明は、
［１］　下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）を含む、高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物中の遊離ホウ酸の定量方法；
（Ａ）高分子組成物を粉砕する工程、
（Ｂ）工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程、
（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた混合物から高分子物質を除去する工程、
（Ｄ）工程（Ｃ）で高分子物質が除去された混合物に含まれるホウ酸を定量する工程；
［２］　遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物が、２個以上の水酸基を有するアルコール化合物である［１］に記載の方法；
［３］　２個以上の水酸基を有するアルコール化合物が、２個~６個の水酸基を有するアルコール化合物である［２］に記載の方法；
［４］　２個以上の水酸基を有するアルコール化合物が、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールである［２］または［３］に記載の方法；
［５］　工程（Ｄ）が、高周波誘導結合プラズマ（ＩＰＣ）発光分光分析法により、ホウ酸を定量する工程である［１］~［４］のいずれかに記載の方法；
［６］　高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物が、フィルム状の高分子組成物である［１］~［５］のいずれかに記載の方法；
［７］　高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物が、積層体である［１］~［６］のいずれかに記載の方法；
［８］　高分子物質が、ポリビニルアルコールである［１］~［７］のいずれかに記載の方法；
［９］　工程（Ｂ）が、実質的に高分子物質を溶解しない有機溶媒の存在下で、粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程である［１］~［８］のいずれかに記載の方法；
［１０］　工程（Ｂ）で得られた混合物が、実質的に水を含まない混合物である［１］~［９］のいずれかに記載の方法；
［１１］　工程（Ａ）が、高分子組成物を凍結粉砕法により粉砕する工程である［１］~［１０］のいずれかに記載の方法；
［１２］　工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物の累積粒度分布における粒径の小さい側からの累積９０％の粒径が、０．１~５００μｍである［１］~［１１］のいずれかに記載の方法；を提供するものである。

　本発明の高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物中の遊離ホウ酸の定量方法は、下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）を含む。
（Ａ）高分子組成物を粉砕する工程、
（Ｂ）工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程、
（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた混合物から高分子物質を除去する工程、
（Ｄ）工程（Ｃ）で、高分子物質が除去された混合物に含まれるホウ酸を定量する工程。
　高分子組成物は、高分子物質と遊離ホウ酸とを含んでおり、さらに、高分子物質と架橋構造を形成しているホウ酸を含んでいることが好ましい。高分子組成物は、二種類以上の高分子物質を含んでもよい。”高分子物質と架橋構造を形成しているホウ酸を含む”とは、高分子物質が、ホウ酸またはホウ素含有基で架橋された構造を有していることである。以下、高分子物質と架橋構造を形成しているホウ酸を”架橋ホウ酸”と称することがある。本願明細書において、”遊離ホウ酸”とは、高分子組成物中に含まれるホウ酸のうち、架橋ホウ酸以外のものを意味し、高分子物質との結合を有していないホウ酸を含む。また、高分子組成物が、高分子物質をホウ酸で処理することにより得られたものである場合には、”遊離ホウ酸”は、高分子物質と反応していないホウ酸、つまり、”未反応のホウ酸”を含む。高分子組成物が、二種類以上の高分子物質を含む場合、そのうちの少なくとも一つの高分子物質と架橋構造を形成しているホウ酸を含んでいることが好ましい。
　高分子物質としては、ポリビニルアルコール、ポリフェノール、ポリエチレングリコール等の水溶性高分子、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートおよびポリメチルメタクリレートが挙げられ、水溶性高分子が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。
　高分子物質は、ホモポリマーであってもよいし、二種以上のモノマーが共重合することにより得られる、ランダムコポリマーやブロックコポリマーであってもよい。また、かかるポリマー中の官能基が、部分的にエステル化等により、他の官能基に変換されていてもよい。かかるモノマーとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等の炭素数２~３０のα−オレフィン；（メタ）アクリル酸またはその塩；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸またはその塩、（メタ）アクリルアミドプロピルジメチルアミンまたはその塩、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミドまたはその誘導体等の（メタ）アクリルアミド誘導体；Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニルアミド；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル、ポリオキシエチレンビニルエーテル等のビニルエーテル；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のハロゲン化ビニル；ビニルエチルカーボネート等のビニルカーボネート；３，４−ジアセトキシ−１−ブテン、３，４−ジエトキシ−１−ブテン等のジヒドロキシブテン誘導体；酢酸アリル、塩化アリル等のアリル化合物；マレイン酸またはその塩もしくはエステル；イタコン酸またはその塩もしくはエステル；ビニルトリメトキシシラン等のビニルシリル化合物；および、不飽和スルホン酸が挙げられる。
　高分子組成物は、フィルム状であることが好ましい。
　高分子組成物は、２以上のフィルム状の高分子物質を含む積層体であってもよい。積層体を形成するフィルム状の高分子物質としては、上記高分子物質に加え、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。これらのフィルム状の高分子物質は、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、拡散を目的とした処理、アンチグレアを目的とした処理等の各種処理を施したものであってもよい。かかる積層体は、さらにガラス基板や接着層を含んでいてもよい。
　高分子組成物は、市販のものであってもよいし、公知の方法により製造されたものであってもよい。
　工程（Ａ）は、高分子組成物を粉砕する工程である。
　高分子組成物を粉砕する方法としては、ボールミル、ミキサーミル、カッティングミル、乳鉢等を用いる粉砕法が挙げられる。高分子組成物を、凍結粉砕法により粉砕することが好ましい。凍結粉砕は、通常、凍結粉砕装置を用いて実施される。凍結粉砕法における凍結温度は、０℃以下が好ましく、−２７３℃~−１００℃の範囲がより好ましく、液体窒素温度（−１９６℃）付近が特に好ましい。
　後述の工程（Ｄ）で得られるホウ酸の含有量のばらつきを小さくするために、不活性ガス雰囲気下で、高分子組成物を粉砕することが好ましい。不活性ガスとしては、窒素ガスが好適である。凍結粉砕法により高分子組成物を粉砕する場合、窒素ガスを充満させたドライボックス中で、粉砕容器に高分子組成物と粉砕用ボールを入れ、該粉砕容器を密閉した後、ドライボックスから取り出し、大気中で凍結粉砕装置にセットし、粉砕操作を行った後、粉砕容器を窒素ガスが充満したドライボックス中に入れ、開封することが、広い作業スペースを要求しないという観点から好ましい。
　かかる粉砕により得られる高分子組成物の累積粒度分布における粒径の小さい側からの累積９０％の粒径（以下、”９０％Ｄ”と記載することもある。）は、０．１~５００μｍであることが好ましく、１~３００μｍであることがより好ましく、１０~１００μｍであることが特に好ましい。粉砕された高分子組成物の累積粒度分布は、通常市販されている粒径測定装置を用いて測定することができる。
　工程（Ｂ）は、工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程である。
　遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物（以下、配位性化合物と略記する。）としては、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール等の２個以上の水酸基を有するアルコール化合物；メタノール；サリチル酸；およびクエン酸；が挙げられる。なかでも、水酸基を２以上有するアルコール化合物が好ましく、２個~６個の水酸基を有するアルコール化合物がより好ましく、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールが特に好ましい。ここで、”アルコール化合物”とは、アルコール性水酸基を有する化合物を意味する。
　理論的には、高分子組成物に含まれる遊離ホウ酸１モルに対して、２モル以上の配位性化合物を用いればよいが、通常、高分子組成物中の遊離ホウ酸含量は分からないため、高分子組成物１質量部に対して、配位性化合物１質量部~５０質量部を用いることが好ましい。
　実質的に高分子物質を溶解しない有機溶媒の存在下で、粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合することが好ましい。有機溶媒の存在下で混合を実施することにより、後述の工程（Ｃ）において、高分子物質を容易に除去することができる。「実質的に高分子物質を溶解しない有機溶媒」とは、一般的に不溶とされる程度の量の高分子物質しか溶解しない有機溶媒を意味する。配位性化合物が液体である場合には、配位性化合物をかかる有機溶媒として用いることもできる。実質的に高分子物質を溶解しない有機溶媒は、高分子組成物中の高分子物質の種類等により異なり、高分子物質に応じて、適宜選択すればよい。例えば、高分子物質がポリビニルアルコールである場合は、ベンゼン、トルエン等の芳香族溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が好適であり、クロロホルムがより好ましい。
　有機溶媒を用いる場合のその使用量は、高分子物質１質量部に対して、通常１０質量部~５００質量部である。
　高分子組成物と配位性化合物との混合方法は限定されない。混合温度の上限は、通常、用いる配位性化合物と有機溶媒のうちの沸点が低いものの沸点である。混合温度の下限は、通常、高分子組成物と配位性化合物とを混合することにより得られる混合物中で、配位性化合物が液体として存在し得る最低温度である。用いる配位性化合物、有機溶媒およびそれらの使用量によって、混合温度は異なるが、０℃~４０℃の範囲が好ましい。
　高分子組成物と配位性化合物とを混合することにより得られる混合物は、実質的に水を含まないことが好ましい。”実質的に水を含まない”とは、該混合物中の水分量が通常１％以下、好ましくは０．１％以下であることを意味する。該混合物が実質的に水を含まないと、遊離ホウ酸を選択的に定量しやすくなる傾向がある。
　工程（Ｃ）は、工程（Ｂ）で得られた混合物から高分子物質を除去する工程である。
　工程（Ｂ）で得られた混合物は、通常、高分子物質を含む固体と、錯イオン、すなわち、配位性化合物と遊離ホウ酸とを含む液体とからなり、工程（Ｃ）では、上記混合物から、上記固体を除去して、上記液体が得られる。上記固体の除去は、通常、濾過、デカンテーション等の通常の固液分離手段により実施され、濾過が好ましい。濾過に用いるフィルターは、粉砕された高分子組成物の粒子を通さない範囲であればよい。濾過温度は、０℃~４０℃の範囲が好ましい。分離された固体を前記有機溶媒で洗浄してもよく、かかる洗浄により得られた洗浄液は、本工程（Ｃ）で得られた液体と混合してもよい。
　工程（Ｄ）は、工程（Ｃ）で本高分子物質が除去された混合物に含まれるホウ酸を定量する工程である。
　かかる混合物中のホウ酸を定量する方法としては、メチレンブルー吸光光度法、アゾメチンＨ吸光光度法、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光分析法、ＩＣＰ質量分析法（以上、ＪＩＳ　Ｋ　０１０２参照）、中和滴定法、クルクミン−シュウ酸法（以上、日本分析化学会編「新実験科学講座９　分析化学」丸善、第１巻（１９７６）、ｐ．７６~８０参照）、および、蛍光Ｘ線分析法（例えば、特開２００７−３３４３０７号公報参照）が挙げられる。なかでも、ＩＣＰ発光分光分析法が好ましい。
　例えば、ＩＣＰ発光分光分析法では、被検試料中のホウ素含量が得られ、分析されたホウ素は、通常、すべてホウ酸由来であるとみなし、得られたホウ素含量をホウ酸含量に換算することにより、高分子組成物中の遊離ホウ酸の含有量が求められる。
　本発明の方法によれば、高分子組成物中の遊離ホウ酸の含有量を測定することができる。特に、高分子組成物中に、高分子物質と架橋構造を形成しているホウ酸が含まれていても、遊離ホウ酸の含有量を選択的に測定することができる。

　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
＜粒径測定条件１＞
装置：ＳＡＬＤ−２０００Ｊ（株式会社島津製作所製）
使用セル：回分セル
分散溶媒・分散剤：ヘキサン＋１０％スルホコハク酸ジ（２−エチルヘキシル）ナトリウム
分散方法：（スターラー撹拌＋超音波照射）１分
屈折率：１．７０−０．２０ｉ
測定開始時間：回分セル投入直後
＜粒径測定条件２＞
装置：ＭＴ−３３００ＥＸ　ＩＩ（日機装株式会社製）
使用セル：ステンレスセル
分散溶媒・分散剤：なし（乾式）
屈折率：１．５０
測定開始時間：セル投入直後
＜ホウ酸の定量条件１＞
装置：ＩＣＰ発光分析装置　ＩＣＰＳ−８１００（株式会社島津製作所製）
測定波長：Ｂ　２４９．７７３ｎｍ
検量線作成に用いた標準品：関東化学製原子吸光分析用ホウ素標準原液（１０００ｐｐｍ）
測定試料：濾液０．６ｇ相当を量り取り、エタノールを加え、１０ｍＬの測定用試料溶液を調製した。
なお、分析されたホウ素は、全てホウ酸に由来するものと見なし、得られたホウ素含量をホウ酸含量に換算した。
＜ホウ酸の定量条件２＞
装置：ＩＣＰ　発光分析装置　ＳＰＳ５５２０（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）
測定波長：Ｂ　２４９．６７８ｎｍ
検量線作成に用いた標準品：溶媒用混合標準液（５００ｐｐｍ）
分析されたホウ素は、全てホウ酸に由来するものと見なし、得られたホウ素含量をホウ酸含量に換算した。
＜測定試料１＞
　測定試料１として、テレビ、パソコン、携帯電話等の各種液晶表示装置に用いられる偏光子を用いた。前記偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを染色・一軸延伸することにより作製され、ホウ酸を含む水溶液にフィルムを浸漬して延伸を行い、架橋による耐水化処理が行われる。耐水化処理後には、水洗浄が行われる。ポリビニルアルコールの構造式は下記式（Ｉ）で示される。

＜測定試料２＞
　測定試料２として、測定試料１より耐水化処理後の水洗浄を弱くした偏光子を用いた。
＜測定試料３＞
　測定試料２の片面に、予めケン化処理が施されたトリアセチルセルロース製フィルム（ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、コニカミノルタオプト（株）製、厚み：８０μｍ）を、他方の面に、予めコロナ処理が施されたシクロオレフィン系樹脂フィルム（ゼオノアフィルム、（株）オプテス製、厚み：６０μｍ）を、それぞれ、接着剤層を介して積層することにより、偏光板を作製した。作製した偏光板を、測定試料３とした。
＜測定試料４＞
　測定試料１の片面に、予めケン化処理が施されたトリアセチルセルロース製フィルム（ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、コニカミノルタオプト（株）製、厚み：８０μｍ）を、他方の面に、予めケン化処理が施されたトリアセチルセルロース製フィルム（ＫＣ４ＦＲ−１、コニカミノルタオプト（株）製、厚み：４２μｍ）を、それぞれ、接着剤層を介して積層することにより、偏光板を作製した。作製した偏光板を、測定試料４とした。
＜測定試料５＞
　測定試料４の片面に、粘着剤層を設け、偏光板を作製した。作製した偏光板を、測定試料５とした。
実施例１
　測定試料１を、ハサミで約１ｃｍ角に裁断したもの５０ｍｇを、鋼球とともに試料容器に入れた。その後、凍結粉砕装置ＪＦＣ−３００（日本分析工業株式会社製）に、試料容器をセットし、冷媒として液体窒素を用いて、予冷７分、振動５分の条件で凍結粉砕を行った。粉砕された測定試料を室温で約３０分放置した。得られた粉体の重量は５０ｍｇであった。この操作をもう一度行い、１００ｍｇの粉砕された測定試料１を得た。粉砕された測定試料１の粒径を、上記＜測定条件１＞で求めたところ、９０％Ｄは４７．８μｍであった。また、１０％Ｄは３．３６μｍであり、５０％Ｄは１４．０μｍであった。
　１００ｍｇの粉砕された測定試料１を、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム（体積比：１０／９０）混合溶媒３．５ｍＬと混合し、得られた混合物を、室温で２４時間放置した。
　得られた混合物を、孔径０．２μｍのフィルターで濾過した。
　得られた濾液中のホウ素を、上記＜ホウ酸の定量条件１＞で分析したところ、ホウ素含量は０．０３質量％であり、ホウ酸含量は０．２０質量％であった。
　粉砕された測定試料１と２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム混合溶液とを混合することにより得られた混合物を観察したところ、測定試料１中の偏光子は、前記溶媒には実質的に溶解していなかった。したがって、架橋ホウ酸の上記混合溶媒中への溶出はほとんどないと考えられ、測定試料１中の遊離ホウ酸を選択的に定量できたといえる。
実施例２
　実施例１において、測定試料１をハサミで約１ｃｍ角に裁断したものに代えて、測定試料２をハサミで約２~５ｍｍ角に裁断したものを用いた以外は、実施例１と同様に、凍結粉砕を行った。粉砕された測定試料２の粒径を上記＜測定条件２＞で求めたところ、９０％Ｄは２６．０μｍであった。また、１０％Ｄは１．３２μｍであり、５０％Ｄは５．３９μｍであった。
　粉砕された測定試料２を、実施例１と同様に、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム混合溶液と混合し、得られた混合物を濾過し、濾液を得た。得られた濾液を上記＜ホウ酸の定量条件２＞で分析したところ、ホウ素含量は０．０５４質量％であり、ホウ酸含量は０．３７質量％であった。
　実施例１および実施例２の結果から、耐水化処理後の水洗浄がより弱い測定試料２には、遊離ホウ酸がより多く残存していたことが分かる。
実施例３
　実施例１において、測定試料１をハサミで約１ｃｍ角に裁断したものに代えて、測定試料３をハサミで約２~５ｍｍ角に裁断したものを用いた以外は、実施例１と同様に、凍結粉砕を行った。粉砕された測定試料３の粒径を上記＜測定条件２＞で求めたところ、９０％Ｄは２６９μｍであった。また、１０％Ｄは２２．６μｍであり、５０％Ｄは２０６μｍであった。
　粉砕された測定試料３を、実施例１と同様に、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム混合溶媒と混合し、得られた混合物を濾過し、濾液を得た。得られた濾液を上記＜ホウ酸の定量条件２＞で分析したところ、ホウ素含量は０．００９質量％であり、ホウ酸含量は０．０５４質量％であった。
　実施例３においても、測定試料中の偏光子は混合溶媒中に実質的に溶解しておらず、測定試料に含まれていた遊離ホウ酸を選択的に定量できたことが分かる。
実施例４
　実施例１において、測定試料１をハサミで約１ｃｍ角に裁断したものに代えて、測定試料４をハサミで約２~５ｍｍ角に裁断したものを用いた以外は、実施例１と同様に、凍結粉砕を行った。粉砕された測定試料４の粒径を上記＜測定条件１＞で求めたところ、９０％Ｄは５８．５μｍであった。また、１０％Ｄは１．３２μｍであり、５０％Ｄは１３．２μｍであった。
　粉砕された測定試料３を、実施例１と同様に、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム混合溶媒と混合し、得られた混合物を濾過し、濾液を得た。得られた濾液を上記＜ホウ酸の定量条件２＞で分析したところ、ホウ素含量は０．００７質量％であり、ホウ酸含量は０．０４０質量％であった。
　実施例４においても、測定試料中の偏光子は混合溶媒中に実質的に溶解しておらず、測定試料に含まれていた遊離ホウ酸を選択的に定量できたことが分かる。
実施例５
　実施例１において、測定試料１をハサミで約１ｃｍ角に裁断したものに代えて、測定試料５をハサミで約２~５ｍｍ角に裁断したものを用いた以外は、実施例１と同様に、凍結粉砕を行った。粉砕された測定試料５を、実施例１と同様に、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム混合溶媒と混合し、得られた混合物を濾過し、濾液を得た。得られた濾液を上記＜ホウ酸の定量条件１＞で分析したところ、ホウ素含量は０．００６質量％であり、ホウ酸含量は０．０３４質量％であった。
　実施例５においても、測定試料中の偏光子は混合溶媒中に実質的に溶解しておらず、測定試料に含まれていた遊離ホウ酸を選択的に定量できたことが分かる。
参考例１
　測定試料１をハサミで２ｍｍ角に裁断したもの３５ｍｇと、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム（体積比：１０／９０）混合溶媒３．５ｍＬとを混合し、得られた混合物を室温で１６８時間放置した。得られた混合物のうち溶液を上記＜ホウ酸の定量条件１＞で分析した。測定試料中のホウ素含量は０．０１質量％未満（検出下限未満）であった。
　参考例１の結果から、測定試料中の遊離ホウ素の定量には、測定試料の粉砕が必要であることが分かる。
参考例２
　参考例１において、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール／クロロホルム（体積比：１０／９０）混合溶媒に代えて、重水を用いた以外は、参考例１と同様に実施した。測定試料中のホウ素含量は１．５質量％であり、ホウ酸含量は８．７質量％であった。
参考例３
　参考例２において、測定試料１と重水とを混合することにより得られた混合物を室温で１６８時間放置する代わりに、８０℃で１時間放置した以外は、参考例１と同様に実施した。測定試料中のホウ素含量は３．９質量％であり、ホウ酸含量は２２質量％であった。
　参考例２および参考例３において、測定試料１と重水とを混合することにより得られた混合物を目視で確認したところ、測定試料の一部が、重水中に溶解していることが観測された。よって、参考例２および参考例３では、測定試料中の架橋ホウ酸が重水中に溶出しており、測定試料中の架橋ホウ酸と遊離ホウ酸とが区別されずに測定されたと言える。

　本発明によれば、高分子組成物に含まれる遊離ホウ酸を選択的に定量できる。

Claims

　下記工程（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）を含む、高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物中の遊離ホウ酸の定量方法；
（Ａ）高分子組成物を粉砕する工程、
（Ｂ）工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程、
（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた混合物から高分子物質を除去する工程、
（Ｄ）工程（Ｃ）で高分子物質が除去された混合物に含まれるホウ酸を定量する工程。
　遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物が、２個以上の水酸基を有するアルコール化合物である請求項１に記載の方法。
　２個以上の水酸基を有するアルコール化合物が、２個~６個の水酸基を有するアルコール化合物である請求項２に記載の方法。
　２個以上の水酸基を有するアルコール化合物が、２−エチル−１，３−ヘキサンジオールである請求項２に記載の方法。
　工程（Ｄ）が、高周波誘導結合プラズマ（ＩＰＣ）発光分光分析法により、ホウ酸を定量する工程である請求項１~４のいずれかに記載の方法。
　高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物が、フィルム状の高分子組成物である請求項１~５のいずれかに記載の方法。
　高分子物質と遊離ホウ酸とを含む高分子組成物が、積層体である請求項１~５のいずれかに記載の方法。
　高分子物質が、ポリビニルアルコールである請求項１~７のいずれかに記載の方法。
　工程（Ｂ）が、実質的に高分子物質を溶解しない有機溶媒の存在下で、粉砕された高分子組成物と、遊離ホウ酸と錯イオンを形成し得る配位性化合物とを混合する工程である請求項１~８のいずれかに記載の方法。
　工程（Ｂ）で得られた混合物が、実質的に水を含まない混合物である請求項１~９のいずれかに記載の方法。
　工程（Ａ）が、高分子組成物を凍結粉砕法により粉砕する工程である請求項１~１０のいずれかに記載の方法。
　工程（Ａ）で粉砕された高分子組成物の累積粒度分布における粒径の小さい側からの累積９０％の粒径が、０．１~５００μｍである請求項１~１１のいずれかに記載の方法。