WO2012005423A1

WO2012005423A1 - 이종구조를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법 및 그 열전 나노 와이어

Info

Publication number: WO2012005423A1
Application number: PCT/KR2010/009461
Authority: WO
Inventors: 이우영; 강주훈; 함진희
Original assignee: 연세대학교 산학협력단
Priority date: 2010-07-09
Filing date: 2010-12-29
Publication date: 2012-01-12
Also published as: KR20120005630A; KR101151644B1

Abstract

이종구조를 갖는 열전 나노와이어 제조방법 및 그 열전 나노와이어가 제공된다. 본 발명은, 그 상부에 산화층을 갖는 기판상에 스퍼터링법으로 Bi 박막을 형성하는 공정; 상기 Bi 박막이 형성된 기판을 열처리함으로써 압축응력을 이용하여 Bi 단결정 나노와이어를 성장시킨 후, 상온으로 냉각하는 공정; 상기 형성된 Bi 나노와이어 상에 열전재료인 Te를 스퍼터링함으로써 Bi/Te 코어/쉘구조를 갖는 나노와이어를 제조하는 공정; 및 상기 코어/쉘 구조를 갖는 나노와이어를 어닐링함으로써 그 길이를 따라 교대로 형성된 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역의 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 제조하는 공정;을 포함하는 이종구조(hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법과, 그 열전 나노와이어에 관한 것이다.

Description

【명세서】

【발명의 명칭】

이종구조를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법 및 그 열전 나노와이어

【기술분야】

본 발명은 Bi 열전 나노와이어의 제조방법에 관한 것으로， 보다 상세하게는, 그 길이를 따라 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역이 교대로 형성된 이종구조를 갖는 열전 나노 와이어의 제조에 관한 것이다.

【배경기술】

일반적으로 반금속 (semimetallic)인 Bi (bismuth), Sb(antimony), As(arsenic), Si (silicon), Ge(germanium)은 금속과 비금속의 중간적 성질을 가지며 단독 또는 합금의 형태로 전기소자에 이용되고 있다. 특히， 이러한 반금속들은 반도체 (semiconductor)와의 합금 형태로서 열전물질 (thermoelectric material)로 많은 관심을 받고 있다.

열전물질로는 열전도도가 낮고 전기전도도가 높은 물질로서 최근 열전물질에 대 한 연구가 심도있게 진행되고 있다. 예컨대， Bi와 Te(tellurium)의 합금인 Bi_xTel-x는 큰 질량을 가지고 Bi와 Te 간의 반 데르 발스 결합 (Van der Waals bonding)과 Te 간의 공유결합 (Covalent bonding)으로 작은 스프링 상수를 갖기 때문에 열전도도를 감소시킬 수 있다. 이로 인해 열전물질의 열전특성을 나타내 는 성능지수 (figure of merit, ZT)를 증가시킬 수 있어 현재 열전물질로 이용되 고 있다. 또한， 이러한 Bi_xTel-x 합금을 열전 나노와이어 (nanowire)로 제조함으로써 전자 에너지 준위 밀도 (electrical density of state)를 제어할 수 있게 되며, 이 전 자 에너지 준위 밀도함수의 모양과 피크 위치를 페르미 준위에 매칭시키게 되면 열전 효과에 영향을 주는 제백 계수 (Seebeck coefficient)를 조정할 수 있게 된 다. 또한， 양자구속 효과에 의해 전자운동을 증가시켜 전기전도도를 높은 값으로 유지할 수 있어 벌크상 열전물질의 한계를 극복하고 비교적 큰 ZT 값올 얻을 수 있다. 그런데 높은 열전 효율을 얻기 위해서는 단결정 열전 나노와이어의 제조가 요구 된다. 그러나， 종래의 열전물질들은 물질 고유의 특성상 단결정을 가지기 어려워 열전 나노와이어 성장에 제한이 있을 뿐만 아니라 단결정 열전 나노와이어의 성

대체용지 (규칙 제 26조) 장방법은 현재까지 많이 알려져 있지 않다.

일반적으로， 열전 나노와이어는 단일 물질이 아닌 합금으로 성장시켜야 하기 때 문에 각 물질이 용해되어 있는 용매를 이용하여 성장시키는 방법이 주를 이루고 있다. 이 러 한 방법으로는 템플릿 -보조 방법 (Templated-assisted method) , 용액- 상 방법 (So hit ion— phase method) , 압력주입 방법 (Pressure inject ion method) 등 을 들 수 있다 .

그러나， 템플릿 -보조 방법은 템플릿의 마련이 쉽지 않으며 , 그 외 다른 방법들은 초기물질 (start ing mater i al )이 필요하다는 등 복잡한 공정이 필수적으로 수반되 는 단점이 있다. 아울러， 단일 나노와이어 소자 공정을 위해 적절한 템플릿의 제 거와 나노와이어 표면에 잔존하는 화학물질의 제거를 필수적으로 요하며 , 낮은 장평비 (aspect rat io)로 인해 소자 공정시 다양한 패턴 형성에 어 려움이 있다. 특히， 이러한 기존 방법으로 성장된 열전 나노와이어는 다결정성 (polycrystal l ine)을 가지게 되어 열전 효율이 낮고 단결정 열전 나노와이어의 고유의 특성을 관찰하는데 한계가 있다. 지난 1990년대 나노기술의 발전과 함께 다시 열전 웅용분야에 대한 연구가 활발 해졌다. 벌크상태의 재료에서 가장 열전 응용에 적합한 물질로 알려져 있던 Bi₂Te3을 나노사이즈로 제작하면 기존에 한계에 부딪혔던 열전 성능 지수 (ZT)값 이 증가할 수 있다는 이론적 배경 이 발표 되었기 때문이다. 하지만 단일 박막이 나 나노선을 이용한 열전 성능 지수 값은 상용화에 이용되기에는 턱없이 부족하 였으며 2D 초격자 박막과 같은 헤테로구조를 이용한 열전 응용에서 오히 려 높은 열전 성능 지수가 측정되었으며， venkatasubramanian 그룹에서 2D 초격자 박막을 제조하여 2.4의 높은 열전 성능 지수값을 얻어내었다 .

하지만 지금까지 나노선을 헤테로 구조， 즉 코어-쉘 구조로 제작하여 단일 나노 선을 이용한 열전 성능지수를 측정한 그룹은 없으며 기존의 나노선 합성방법을 이용한 코어-쉘 구조 합성 기술이 어려워 열전 대가에 해당하는 그룹들 역시 컴 퓨터 시뮬레이션올 이용하여 메커니즘을 분석하였을 뿐이다 .

【발명의 상세한 설명】

【기술적 과제】

따라서 본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로 서， 본 발명자의 단일 나노와이어에 열전재료를 스퍼터 링 하는 Bi/열전재료 열전

대 체용지 (규칙 제 26조) 나노와이어의 제조기술 [특허출원번호: 10-2009-98284]을 이용하여, 코어 /쉘 구조 를 갖는 열전 나노와이어를 제조한후， 후속하는 어닐링공정을 통하여 그 길이를 따라 교대로 형성된 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역의 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어를 제조할수 있는 방법을 제공함을그 목적으로 한다. 또한 본 발명은 상기 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 제공함을 그 목적으로 한다.

【기술적 해결방법】

상기 목적을 달성하기 위한본 발명은，

그상부에 산화층을 갖는 기판상에 스퍼터링법으로 Bi 박막을 형성하는 공정 ; 상기 Bi 박막이 형성된 기판을 열처리함으로써 압축웅력을 이용하여 Bi 단결정 나노와이어를성장시킨 후, 상온으로 냉각하는 공정 ;

상기 형성된 Bi 나노와이어상에 열전재료인 Te를 스퍼터링함으로써 Bi/Te 코어 / 쉘 구조를 갖는 나노와이어를 제조하는 공정; 및

상기 코어 /쉘 구조를 갖는 나노와이어를 어날링함으로써 그 길이를 따라 교대로 형성된 Bi영역과 Bi₁₄Te₆ 영역의 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 제조하는 공 정;을 포함하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법에 관한 것이다. 그리고 상기 열전 나노와이어를 이루는 열전재료층인 쉘의 두께는 코어인 Bi 나 노와이어 직경의 절반 이하임이 바람직하다. 또한상기 단결정 Bi 나노와이어는 50-1000nm의 직경을가짐이 바람직하다. 아을러， 상기 산화충은 Si0₂, BeO, Mg₂Al₄Si₅0₁₈중 선택된 1종임이 바람직하다. 상기 어닐링은도를 300-330 ^°C로 함이 바람직하다. 또한본 발명은，

그 길이를 따라 볼록형상의 Bi 영역과 선형의 Bi₁₄Te6 영역이 교대로 형성된 이종 구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어에 관한 것이다.

대체용지 (규칙 제 26조) 상기 Bi영역과 Bi₁₄Te₆ 영역은 단결정조직임이 바람직하다. 상기 Bi와 Bi₁₄Te₆나노와이어의 두께는 각각 100-200 nm 임이 바람직하다. 상기 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역은 규칙하게 형성될 수도 있으며， 불규칙하게 형성될 수도 있다.

【유리한 효과】

상술한 바와 같이 본 발명은， 먼저 단결정 코어 /쉘 나노와이어를 합성한 후, 이 를 간단히 어닐링처리함으로써 다증 블록의 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 합성할수 있다.

또한 별도의 템플릿이나 촉매제 없이 나노와이어의 합성이 가능하다는 장점이 있 으며, Te 열전재료를 이용하여 비스무스 나노와이어를 기반으로 다증 블록의 이 종구조를 갖는 단결정 나노와이어의 합성이 가능하다는 잇점이 있다.

아울러， 본 발명의 방법으로 제조된 이종구조의 열전 나노와이어는 Bi와 Bi₁₄Te6 와의 복수개의 계면을 통하여 열전도도가 감소할 수 있으므로, 이에 따라 열전 성능지수의 향상올 도모할수 있다.

【도면의 간단한설명】

도 1은 본 발명의 열전 나노와이어를 제조하기 위한 공정 개략도이다.

도 2는 본 발명의 열처리에 이용되는 장치의 개략도이다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 의한 방법으로 제조된 단일 코어 /쉘 열전 나노와이 어의 모식도이다.

도 4(a_d)는도 1(f)공정에 대한상세를 보여주는 개략모식도이다.

도 5(a-d)는 도 4(a-d)의 공정에 대웅하는 열전 나노와이어에 대한 TEM조직사진 이다. _,

도 6은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 다중 이종 구조를 갖는 열전 나노와이어 의 사진으로서， 도 6(a)는 저배율 TEM사진을， 도 6(b)는 고배율 TEM 사진을， 도 6(c-d)는 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역에 대한 고 해상도사진을 나타낸다.

도 7은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 열전 나노와이어에 사진으로서 , 도 7(a) 는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 나노와이어의 HAADF 이미지를， 도 7(b)는 Bi₁₄Te₆ 영역의 라인스캐닝 프로파일을， 도 7(c)는 열전 나노 와이어에 대한 Bi

대체용지 (규칙 제 26조) 원소맵핑 이미지를， 그리고 도 7(d)는 Te 원소맵핑 이미지를 나타낸다.

【발명의 실시를 위한 최선의 형 태】

이하， 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 열전 나노와이어 제조과정를 보이는 공정도이다.

도 1(a)에 나타난 바와 같이， 본 발명에서는 그 상부에 산화물층 (30)이 형성된 기판 (10)을 마련한다. 본 발명에서 상기 산화층 (30)으로는 Si0₂, BeO, MgzAUSisOis 중 선택된 1종을 이용할 수 있다. 그리고 상기 산화층 (30)의 두께는 3000-5000 A로 할 수 있다 .

그리고 본 발명에서는 상기 산화층 (30)의 상부에 Bi박막 (50)을 형성한다. 이 러한 박막 (50)은 통상의 알려진 일반적인 스퍼터 링법으로 유효하게 제조될 수 있다. 본 발명에서 보다 바람직하게는， 이 러한 Bi 박막 (50)이 단결정박막인 것이다 . 통 상 Bi박막이 단결정인 경우， X-선 회절패턴에서 (003) , (006)ᅳ (009)의 배향성을 가진다.

또한 상기 Bi 박막 (50)의 두께는 50nm~½m임 이 바람직하다. 이어， 본 발명에서는 도 1(b)와 같이， 상기 Bi 박막 (50)이 형성된 기판 (10)에 압 축웅력을 유도하기 위해 기판을 열처리한다. 구체적으로， 상기 박막 형성된 기판 (10)을 반응로내 적치한 후， 가열 열처 리함으로써 압축응력을 유발함으로써 단 결정 Bi나노와이어를 성장시킨다.

도 2는 본 발명의 방법에 이용되는 반응 열처리 장치를 나타내는 모식도이다. 도 2와 같이 , 본 발명의 장치는 크게 반응로 (110)와 그 반응로 내부에 위치하도록 구성된 알루미나 보트 (130) 탑재된 석 영튜브 (150)를 포함하여 구성된다. 그리고 상기 보트 (130)의 내부에 Bi 나노와이어의 성장을 위하여 Bi 박막 형성된 기판 (10)이 위치해 있다 . 또한 반응로 (110)의 내부에는 히터가 위치하여 알루미나 보 트 (130)을 가열할 수 있도록 구성되어 있다 .

따라서 본 발명에서는 상기 반웅로 (110) 내부의 알루미나 보트 (130)상에 Bi 박막 형성된 기판 (10)을 탑재하고， 알루미나 보트 (130)를 가열하면 상기 기판 (10) 또 한 가열처 리된다 .

이때， 본 발명에서는 상기 Bi 박막 형성된 기판 (10)을 가열함으로써 도 1(b)와 같이， 상기 기판상의 Bi 박막 (50)에 압축응력을 유도시킨다. 즉， 이 러한 열처리 시， 높은 열팽창계수 (13.4 X 10^"6/^°C )로 인해 부피팽창이 큰 Bi 박막에는 상대

대체용지 (규칙 제 26조) 적으로 부피팽창이 적은 Si산화층 (0.5 X 10一 ⁶/^°C )에 의해 압축웅력이 부가되는 것 이다.

상술한 열처리로 유도된 압축웅력은 나노와이어의 성장에 있어 구동력을 제공한 다.

한편， 본 발명에서 상기 Bi 박막 (50)의 열처 리온도를 200~270^°C로 함이 바람직하 다. 그리고 열처리시간올 1~15시간으로 할 수 있으며 , 열처리시간이 증가할수록 Bi박막은 더욱 팽창하여 많은 압축웅력을 유도할 수 있다. 이어， 본 발명에서는 도 1(c)와 같이 , 상기 열처리된 Bi 박막 (50) 형성된 기판 (10)올 상온으로 냉각시킨다. 이 러한 냉각과정을 통하여 Bi 박막에 부여된 압축 웅력은 해소되고， 이에 따라 Bi 단결정 나노와이어 의 성장은 종료된다. 구체적으 로， 냉각과정에서 열로 팽창되었던 산화층 (30)과 Bi박막층 (50)에는 초기상태로 돌아가려는 복원력이 발생한다. 이때， 산화층과 Bi 박막층은 서로 다른 열팽창계 수를 갖기 때문에， 냉각과정에서 Bi 박막 (50)은 상대적으로 열팽창계수가 산화층 (30)보다 커므로 더 빨리 수축되면서 인장응력 이 걸리게 되며 ᅳ 이 러한 인장웅력 이 Bi 나노 와이어의 성장을 멈추게 하는 것이다.

본 발명에서 상기 냉각공정올 통하여 얻어진 Bi 나노와이어는 50-1000nm의 직경 을 가지며 , 전체적으로 단일상을 조성할 수 있다. 후속하여 , 본 발명에서는 도 l(d-e)와 같이， 상기 기판상에 성장된 Bi 나노와이 어 상에 열전재료인 Te(70)를 스퍼터한다. 통상 열전재료란 재료의 양단 온도차 에 의해 전압이 발생하는 Seebeck효과와 재료의 양단간에 전류를 통하면 한면은 발열하고 다른 면은 흡열하는 Pel t ier효과의 열전특성을 갖는 물질을 말한다. 한편 본 발명은 이러 한 스퍼터 조건에 제한되는 것은 아니나， 증착과정에서 Bi 나노와이어의 손상을 최소화하기 위해 최소한의 스퍼터 전압 (30W)을 이용함이 소 망스럽다.

도 3은 이 러한 제조공정으로 제조된 본 발명의 열전 나노와이어 제조를 위 한 코 어 /쉘 구조의 열전 나노와이어의 모식도이다 . 도 3과 같이， 본 발명의 열전 나노 와이어는 그 코어는 Bi 나노와이어 (210)이나 쉘은 상술한 열전재료층 (230)으로 이루어진 코어 /쉘 구조를 가짐을 알 수 있다. 이 러 한 코어 /쉘 구조의 열전나노와 이어는 그 내부에 계면을 가질 뿐만 아니라 거친 표면을 가지므로 그 자체로도

대 체용지 (규칙 제 26조) 우수한 열전특성을 나타낼 수 있다.

본 발명에서 상기 열전재료층 (230)인 쉘의 두께는 코어인 Bi 나노와이어 (210) 직 경의 절반 이하의 두께를 가짐이 소망스러우며， 가장 바람직하게는 약 30~50 nm 의 두께를 가지는 것이다.

이러한 열전재료층 (230)의 두께 조정은 상술한 열전재료의 스퍼터공정에서 증착 시간을조절함으로써 유효하게 달성할수 있는데, 대략 20초 정도가 필요하다. 이어， 본 발명에서는 도 1(f)와 같이， 상기와 같이 얻어진 코어 /쉘 구조의 열전 나노와이어를 석영튜브내에서 어닐링처리함으로써 볼록형상의 Bi 영역과 선형의 Bii₄Te₆ 영역이 나노와이어의 길이를 따라 교대로 형성된 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어를 제조할수 있다.

이때, 본 발명에서는 상기 어닐링온도를 300~330^°C 범위로 관리함이 바람직하다. 이는 비스무스의 융점은 271°C, 텔루륨의 융점은 449 ^°C로 비스무스와 텔루륨의 융점의 중간온도의 범위에서 어닐링함이 소망스럽기 때문이다. 한편 도 4는 도 1(f)공정에 대한 상세를 보여주는 개략모식도이다. 그리고 도 5 는 도 4의 공정에 대응하는 열전 나노와이어에 대한 TEM조직사진으로서， 구체적 으로， 도 5(a— d)는 도 4(a-d)에 각각 대응된다.

도 4-5(a)에 나타난 바와 같이， 본 발명의 열전 나노와이어 제조를 위해서는 Bi/Te 코어 /쉘 구조를 갖는 열전 나노와이어를 먼저 마련하며， 이는 상술한 공정 으로 쉽게 얻어질 수 있다. 다음으로， 도 4-5(b)와 같이, 1시간 동안 이를 어닐 링처리하면 Bi와 Te의 상호 확산의 결과로 Bi가 나노선에 부분적으로 핵생성되는 것을 알 수 있다. 그리고 도 4-5(c)에서는 5시간의 어닐링으로 나노와이어에 Bi 편석 영역과 Bi-Te 합금영역이 교대로 형성돠는 다중 이종구조를 나타냄을 알 수 있다. 나아가， 최종적으로 10시간동안 어닐링 처리하면, 편석된 Bi 영역은 조대 화되어 볼록형상을 가지며， 이러한 볼록형상의 Bi 영역과 선형의 Bi₁₄Te₆ 영역이 나노와이어의 길이를 따라 교대로 형성된 이종구조 (hetrostructure)를 가짐을 알 수 있다.

이때， 본 발명에서는 상기 이종구조를 이루는 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역은 각각 단 결정인 것이 바람직하다.

그리고 상기 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역을 이루는 나노와이어의 두께는 각각

대체용지 (규칙 제 26조) 100-200 nm 임이 바람직하다.

또한 상기 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역은 규칙적으로 형성될 수도 있으며, 불규칙하게 형성될 수도 있다. 상술한 바와 같이， 본 발명의 열전 나노와이어는 그 길이를 따라 Bi 영역과 BiuTe6 영역이 불규칙적으로 교대로 형성되는 이종구조 (hetrostructure)를 가진 다. 따라서 상기 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역 계면에서는 열전도도가 감소할 수 있으 므로， 이에 따라 열전 성능지수의 향상을 도모할수 있다. 이하， 실시예를 통하여 본 발명을상세히 설명한다.

(실시예 1)

그 상부에 Si0₂ 산화층이 형성된 Si기판을 준비한후， 상기 산화층의 상부에 스퍼 터링법으로 Bi 박막을 50nra~4um 두께범위로 형성하였다. 이때， 스퍼터링조건은 150W(rf), 그리고 증착시간은 12초로 하였다. 그리고 상기 Bi 박막 형성된 기판 을 도 2와 같은 반웅로내 알루미나 보트에 탑재시켜 열처리함으로써 Bi 단결정 나노와이어를 성장시켰다. 이때， 열처리온도를 250°C, 유지시간을 6시간으로 하 였다. 이후， Bi 나노와이어 성장된 기판을상온으로 냉각시켰다.

그리고 상기 Bi 나노와이어 성장된 기판에 열전재료인 Te을 이용하여 스퍼터링하 여 Te를 증착시켰다. 이때， 나노와이어의 결정성 형성을 위해 최대한 낮은 전압 인 30W(rf)를 이용하였으며, 증착시간은 20초로 하였다. 이어, 상기 공정으로 제조된 Bi/Te코어 /쉘 구조의 나노와이어를 310^°C에서 10시 간 동안 어닐링처리하였다. 이러한 어닐링처리로 제조된 이종 구조를 갖는 본 발 명의 열전 나노와이어에 대한 저배율 TEM사진올 도 6(a)에 나타내었으며， 이에 대한 고배율 TEM사진을 도 6(b)에 나타내었다. 도 6(a-b)에 나타난 바와 같이， 본발명의 열전 나노와이어는 그 길이를 따라 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역이 불규칙적 으로 교대로 형성되는 이종구조 (hetrostructure)를 가지며, 상기 Bi 영역과 Bii₄Te₆ 영역 계면에서는 열전도도가 감소할 수 있으므로， 이에 따라 열전 성능지 수의 향상을 도모할 수 있음을 알 수 있다. 한편 도 6(c-d)는 Bi 영역과 Bi₁₄Te₆ 영역에 대한 고 해상도사진으로써 SAED패턴은 양자 모두 단결정성을 가짐을 보 여주고 있다.

대체용지 (규칙 제 26조) 또한 도 7은 상기 제조된 본 발명의 열전 나노와이어에 사진으로서 , 구체적으로 도 7(a)는 그 길이를 따라 Bi 영 역과 Bi₁₄Te₆ 영 역이 불규칙적으로 교대로 형성되 는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 나노와이어의 HAADF 이미지를 나타낸다. 여 기에서 밝은 색 부분은 Bi 영 역 이고 어두운 색 부분이 Bi₁₄Te₆ 영 역을 나타낸다. 그리고 도 7(b)는 Bi₁₄Te₆ 영 역의 라인스캐닝 프로파일을 나타낸 것으로, Bi와 Te 의 원자비가 14:6임을 알 수 있다. 도 7(c)는 상기 열전 나노 와이어에 대한 Bi 원소맵핑 이미지를 나타내는 것으로 , 블록한 Bi영 역에는 Bi가 100% 채워져 있음 을 알 수 있으며 , BiwTee 영 역에는 69.72%의 Bi원자가 채워져 있음을 알 수 있 다. 한편 도 7(d)는 상기 열전 나노 와이어에 대한 Te 원소맵핑 이미지를 나타내 는 것으로， Bi₁₄Te₆ 영 역에는 30.28%의 Te원자가 채워져 있음을 알 수 있다. 상술한 바와 같이 , 본 발명은 바람직한 실시 예를 통하여 상세히 설명되었지만, 본 발명은 이러한 실시 예의 내용에 제한되는 것은 아니다. 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면， 비록 실시 예에 제시되지 않았지만 첨부된 청구항의 기재범위 내에서 다양한 본원발명에 대한 모조나 개량이 가능하며， 이 들 모두 본원발명의 기술적 범위에 속함은 너무나 자명하다 할 것이다.

【산업상 이용가능성】

상술한 바와 같이， 본 발명은 이종구조를 갖는 열전 나노와이어 제조기술 및 이 에 따른 나노소자 응용기술을 확보할 수 있으며， 종래 소자의 특성 향상을 도모 할 수 있도록 하고 새로운 소자의 출현을 가능하게 한다.

또한 본 발명의 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 이용한 열전소자는 초고효율 열전효과를 가지므로 새로운 발전시스템 개발함에 하나의 방법을 제시하는 계기 가 될 수 있다.

아을러， 본 발명의 기술을 이용함으로써 우주용 발전기， 발열기， 항공용 열조절 장치， 군사용 적외선 탐지기， 미사일 유도용 회로 냉각기 등 다양한 분야에서 한 차원 높은 발전을 가져올 수 있다.

대 체용지 (규칙 제 26조)

Claims

【청구의 범위】

【청구항 1】

그 상부에 산화층을 갖는 기판상에 스퍼터 링 법으로 Bi 박막을 형성하는 공 정 ;

상기 Bi 박막이 형성된 기판을 열처리함으로써 압축응력을 이용하여 Bi 단 결정 나노와이어를 성장시킨 후， 상은으로 냉각하는 공정 ;

상기 형성된 Bi 나노와이어상에 열전재료인 Te를 스퍼터링함으로써 Bi/Te 코어 /쉘 구조를 갖는 나노와이어를 제조하는 공정 ; 및

상기 코어 /쉘 구조를 갖는 나노와이어를 어닐링함으로써 그 길이를 따라 교 대로 형성된 Bi영 역과 Bi₁₄Te₆ 영 역의 이종구조를 갖는 열전 나노와이어를 제조하는 공정 ;을 포함하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법 .

【청구항 2]

제 1항에 있어서， 상기 열전 나노와이어를 이루는 열전재료층인 쉘의 두께 는 코어 인 Bi 나노와이어 직경의 절반 이하임을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법 .

【청구항 3】

제 2항에 있어서， 상기 열전 나노와이어를 이루는 열전재료층인 쉘의 두께는 30-50 nm인 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어의 제조방법 .

【청구항 4]

제 1항에 있어서 , 상기 단결정 Bi 나노와이어는 50-1000nm의 직경을 가짐을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방 법

【청구항 5】

제 1항에 있어서 , 상기 산화층은 Si0₂ ， BeO, MgzAUSisOis 중 선택된 1종인 것 을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조 방법

【청구항 6]

제 1항에 있어서， 상기 어닐링온도를 300~330^°C로 함을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노 와이어 제조방법

【청구항 7】

대 체용지 (규칙 제 26조) 그 길이를 따라 볼록형상의 Bi 영역과 선형의 Bi₁₄Te₆ 영역이 교대로 형성된 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어.

【청구항 8]

제 7항에 있어서， 상기 Bi영역과 Bi₁₄Te₆ 영역은 단결정 조직임을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어.

【청구항 9】

제 7항에 있어서, 상기 Bi와 Bi_MTe₆ 나노와이어의 두께는 각각 100-200 nm 임을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어.

【청구항 10]

제 7항에 있어서, 상기 볼록형상의 Bi 영역과 선형의 Bi₁₄Te₆ 영역이 규칙적 내지 불규칙적으로 교대로 형성되어 있음을 특징으로 하는 이종구조 (hetrostructure)를 갖는 열전 나노와이어.

대체용지 (규칙 제 26조)