WO2011155293A1 - ワイヤーカセットおよびそれを用いた基板搬送装置 - Google Patents

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建治 朝倉
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シャープ株式会社
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    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Definitions

  • the present invention relates to a wire cassette for storing a substrate and a substrate transfer apparatus using the wire cassette.
  • the present invention relates to a wire cassette that houses a thin substrate (for example, a glass substrate) used in a method for manufacturing a flat panel display (for example, a liquid crystal panel).
  • a thin substrate for example, a glass substrate
  • a flat panel display for example, a liquid crystal panel
  • a liquid crystal panel which is a component of a liquid crystal display device, has a structure in which a pair of glass substrates are opposed to each other with a predetermined gap secured.
  • glass substrates for liquid crystal panels are becoming larger year by year.
  • Such a next-generation large-sized liquid crystal glass substrate transport system uses a storage cassette for storing liquid crystal glass substrates in multiple stages (for example, Patent Documents 1 to 3).
  • the storage cassette storing the glass substrate is used for transporting and storing the glass substrate from the mounting part of the liquid crystal panel manufacturing apparatus to the mounting part of another manufacturing apparatus in the manufacturing process in the clean room.
  • the storage cassette is also used for transporting and storing a glass substrate between a placement unit of a liquid crystal panel manufacturing apparatus and a storage unit of a cassette storage.
  • the shelf-type storage cassette has a small area for supporting the glass substrate.
  • the substrate may be distorted. Therefore, such a storage cassette cannot be used for a large glass substrate.
  • a wire cassette in which wires are arranged in multiple stages in parallel with the inner wall of the storage cassette may be used.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a wire cassette 1000 examined by the present inventors.
  • the wire cassette 1000 includes a cassette body 120 and a wire 122 stretched inside the cassette body 120.
  • a glass substrate 110 is disposed on the wire 122. Since the wires 122 are stretched in multiple stages, the glass substrate 110 can be accommodated in multiple stages.
  • the glass substrate 110 here is a mother glass for a liquid crystal panel.
  • the glass substrate is unloaded and loaded into the wire cassette.
  • the glass substrate 110 accommodated in the wire cassette 1000 is sent out by a loader 130 inserted through an opening 127 provided on the bottom surface of the cassette body 120 (arrow 145).
  • the loader 130 includes a roller part 132 that contacts the glass substrate 110 and a conveyor part 134 that supports and rotates the roller part 132.
  • the conveyor unit 134 is connected to the rod unit 136, and the rod unit 136 has a length along the vertical direction 90 so as to reach the uppermost glass substrate 110 from the lowermost glass substrate 110.
  • the rod portion 136 has a length corresponding to the height H of the cassette body 120.
  • the glass substrate 110 is sequentially sent out using the loader 130 by moving the cassette body 120 downward 140 (arrow 145). After the glass substrate 110 is sent out from the lowermost glass substrate 110, the glass substrates 110 are sequentially sent out. Finally, when the uppermost glass substrate 110 is sent out, all the glass substrates 110 are placed in the cassette body. It will be carried out of 120. In addition, when carrying in a glass substrate, it carries in sequentially from the uppermost stage conversely.
  • a beam 124 that holds the strength of the cassette body 120 with the wire 122 stretched is formed.
  • an interval S (margin) is secured so that the beam 124 and the conveyor portion 134 do not contact each other, but the interval S is as small as 10 mm or less.
  • the height H of the cassette body 120 or the length of the rod portion 136 is about 3 meters, and it is necessary to ensure a dimensional accuracy of about 10 mm of the interval S with respect to the scale of 3 meters. If the tolerance is 3 mm, the interval S may be a gap of about 7 mm.
  • the distance S should be strictly measured so that the beam 124 and the conveyor unit 134 do not come into contact with each other when using the wire cassette 1000 including a tolerance error. It is. That is, contact between the beam 124 and the conveyor unit 134 based on the initial failure of the wire cassette should be prevented as much as possible.
  • the size of the wire cassette is large, and it is difficult to accurately measure and guarantee a three-dimensional tolerance.
  • the interval S (margin) between the beam 124 and the conveyor unit 134 may change.
  • the cassette main body 120 may be deformed by heat during the cleaning, and the interval S may change accordingly.
  • misalignment of the loader 130 may occur due to displacement of the cassette placement position, deformation due to vibration during operation, deformation of the floor, and the like, and as a result, the interval S may change.
  • the interval S becomes excessive. If the interval S is set excessively, the interval between the conveyor portions 134 (or roller portions 132) adjacent to each other increases, and as a result, there is a possibility that the glass substrate 110 may be bent. If the glass substrate 110 bends, the glass substrate may be cracked or damaged, or it may collide with the roller portion 132 during loading to cause chipping.
  • the main objective is to provide the wire cassette which can suppress the contact of a wire cassette main-body part and a loader part simply in the case of carrying out and carrying in of a board
  • the wire cassette according to the present invention is a wire cassette that accommodates a substrate, and is inserted from a cassette body portion in which a substrate is disposed, a bottom surface opening formed on a bottom surface of the cassette body portion, and the bottom surface opening portion.
  • a loader for taking in and out the substrate.
  • the loader includes a conveyor unit that carries the substrate out to the cassette body, and the conveyor unit is provided with an interference sensor that detects interference with the inside of the cassette body.
  • the conveyor unit is provided with a roller unit, and the substrate is carried out and carried in as the roller unit rotates.
  • the interference sensor is an optical sensor that detects a distance from a beam provided in the cassette body.
  • the interference sensor is a contact detection sensor that detects contact with a beam provided in the cassette body.
  • the interference sensor is provided on a side surface of the conveyor unit.
  • the substrate is mother glass, and at least 50 substrates are accommodated in the cassette body, and the height of the cassette body is at least 3 meters.
  • a substrate transfer device is a device for transferring a substrate, and is inserted from a cassette main body portion in which a substrate is disposed, a bottom opening formed on a bottom surface of the cassette main body portion, and the bottom opening.
  • a loader for taking in and out the substrate includes a conveyor unit that carries out the substrate, and the conveyor unit is provided with an interference sensor that detects interference with the inside of the cassette body.
  • the interference sensor for detecting interference and proximity to the inside of the cassette body is provided in the conveyor portion, the contact inside the wire cassette body when the substrate is fed out can be easily performed. Can be suppressed.
  • FIG. It is sectional drawing of the wire cassette 1000.
  • FIG. It is sectional drawing (side view) of the wire cassette 100 which concerns on embodiment of this invention.
  • FIG. 4 is a diagram in which an interference sensor 50 is disposed on a side surface 34b of the conveyor unit 34.
  • FIG. 2 is a cross-sectional side view schematically showing the overall configuration of the wire cassette 100 of the present embodiment.
  • FIG. 3 schematically shows the upper surface configuration around the beam 24 of the cassette body 20 in the wire cassette 100.
  • the wire cassette 100 of the present embodiment is a storage cassette that can store the substrate 10 by supporting the substrate 10 with the wires 22. Moreover, the board
  • substrate 10 of this embodiment is a glass substrate for liquid crystal panels, for example, In this example, it is the mother glass before cutting out to the dimension of a liquid crystal panel.
  • the illustrated substrate 10 is a 10th generation mother glass, and the length L of one side is about 3 meters.
  • the wire cassette 100 includes a cassette main body 20 in which the substrate 10 is disposed, and a loader 30 for taking the substrate 10 in and out.
  • a bottom opening 27 is formed on the bottom surface of the cassette body frame 20, and the loader 30 is inserted from the bottom opening 27.
  • a wire 22 that supports the substrate 10 is arranged inside the cassette body 20. Specifically, one substrate 10 is supported by a plurality of wires 22, and the plurality of wires 22 are arranged in multiple stages. By arranging the wires 22 in multiple stages, the substrate 10 can be accommodated in multiple stages inside the cassette body 20.
  • the number of the substrates 10 accommodated corresponds to the number of stages of the wires 22, and the number of stages can be set as appropriate.
  • the number of stages of the wires 22 can be set to 50 stages or more (for example, 60 stages).
  • the wire 22 is stretched between opposing wall surfaces (inner walls) inside the cassette body 20 and supports the substrate 10 with the tension.
  • a beam 24 for maintaining the structure is formed on the cassette body 20. The beam 24 can maintain the strength of the cassette body 20 and can withstand the tension of the wire 22.
  • the cassette body 20 of the present embodiment has a frame structure, and the frame structure is made of metal (for example, aluminum, iron, stainless steel, etc.).
  • a panel may be provided on the outer periphery of the frame.
  • the panel structure portion may be formed of a resin plate, a metal plate (for example, an aluminum plate), or the like.
  • the loader 30 of this embodiment includes a conveyor unit 34 that carries out and carries in the substrate 10.
  • the conveyor unit 34 is provided with a roller unit 32, and the conveyor unit 34 of the present embodiment is a so-called roller conveyor.
  • the conveyor unit 34 is connected to the rod unit 36, and the rod unit 36 has a length along the vertical direction 90 so as to reach the uppermost substrate 10 from the lowermost substrate 10.
  • the rod portion 36 has a length corresponding to the height H (for example, about 3 meters or more) of the cassette body portion 20.
  • An opening 25 for taking out the substrate is provided on one side surface (for example, the front surface) of the cassette body 20.
  • the roller part 32 of the conveyor part 34 rotates (arrow 31), the board
  • the cassette body 20 can be moved downward 40 by an elevating device (not shown) that can move up and down along the vertical direction 90. Then, the loader 30 is inserted from the bottom opening 27 located on the bottom surface of the cassette body 20, and the substrate 10 can be sequentially fed out while rotating the roller 32 of the loader 30 (arrow 45). ). Here, after sending out from the lowermost substrate 10, the substrates 10 are sequentially sent out. Finally, when the uppermost substrate 10 is sent out, all the substrates 10 are transferred to the cassette body 20. It will be carried out of. When loading the glass substrate 10 into the cassette body 20, the cassette body 20 once moves to the lowermost position, and then the glass substrates 10 are loaded sequentially from the uppermost stage of the cassette body 20.
  • FIG. 4 is an enlarged view schematically showing the configuration of the conveyor unit 34 in which the roller unit 32 is in contact with the substrate 10.
  • the interval S is reduced (for example, 10 mm or less) and the conveyor portion 34 of the loader 30 is brought close to the beam 24 is that the substrate (mother glass) 10 is formed by increasing the interval between the adjacent roller portions 32. It is for suppressing the bending of. That is, when the interval S is increased (for example, 10 cm or more), the gap between the conveyor unit 34 and the beam 24 is widened, so that the range for avoiding the interference is widened. This increases the possibility that the substrate (mother glass) 10 will be bent.
  • the interval S may change due to changes in the cassette body 20 over time, changes due to heat during cleaning, misalignment of the loader 30, and the like.
  • the conveyor unit 34 is provided with an interference sensor 50 that detects interference with the inside (for example, the beam 24) of the cassette body 20. Yes.
  • an interference sensor 50 is provided between the roller portions (conveyor rollers) 32 of the conveyor portion 34. Therefore, the interference sensor 50 can prevent the moving conveyor unit 34 from contacting the inside of the cassette body 20 (for example, the beam 24). That is, even if the interval S changes from the set value, the interference sensor 50 can avoid interference between the conveyor unit 34 and the inside of the cassette body 20 (for example, the beam 24).
  • the interference sensor 50 can be provided without interfering with the board
  • the interference sensor 50 of the present embodiment is an optical sensor, for example, a reflective photosensor that senses the proximity of a part of the cassette body 20 (that is, a part of the cassette frame, for example, the beam 24).
  • an optical sensor for example, a reflective photosensor
  • other sensors It is also possible to use non-contact sensors
  • the non-contact sensor used as the interference sensor 50 senses the proximity of a part of the cassette body 20 (for example, the beam 24), before the actual interference between a part of the cassette body 20 and the conveyor 34, Proximity can be detected and the movement of the cassette can be stopped before contact. By preventing the contact, it is possible to prevent the generation of wear powder and foreign matter generated at the contact portion, thereby preventing defects due to the foreign matter, and as a result, the yield of liquid crystal panel manufacturing can be improved.
  • FIG. 5 shows a state where the interval S between the conveyor unit 34 and the beam 24 is normal.
  • this distance (S) the light of the reflective photosensor 50 is not reflected by the beam 24, and the photosensor 50 does not generate a proximity signal.
  • the photo sensor 50 does not generate a proximity signal, it is determined that the beam 24 is in the normal range, and the cassette body 20 including the beam 24 is moved downward 40.
  • FIG. 6 shows a situation where there is a possibility that the conveyor unit 34 and the beam 24 come into contact with each other. If the cassette body 20 is deformed for a predetermined reason (for example, aging, heat history change, etc.) and the distance between the conveyor 34 and the beam 24 becomes too small, the possibility of contact increases as shown in FIG. .
  • the interference sensor 50 since it is detected by the interference sensor 50 that the distance between the conveyor unit 34 and the beam 24 is too short, the movement of the cassette body 20 including the beam 24 downward 40 is stopped. As a result, contact between the conveyor portion 34 and the beam 24 can be avoided.
  • the interference sensor 50 is connected to a control device that controls the up-and-down movement of the cassette body 20, and the control device uses the signal from the interference sensor 50 to detect the cassette body 20. It is possible to control the up and down movement.
  • the interference sensor 50 of the present embodiment shown in FIG. 7 is an optical sensor facing the side surface direction of the conveyor unit 34, and is, for example, a laser displacement meter capable of measuring a horizontal distance (S).
  • laser light 54 is emitted from the interference sensor 50 in the horizontal direction.
  • the beam 24a shows the beam 24 when the beam 24 is present at the horizontal position of the interference sensor 50.
  • the interference sensor 50 is an optical sensor (for example, a laser displacement meter).
  • other sensors such as an eddy current type gap sensor may be used.
  • the interference sensor 50 When a displacement meter is used as the interference sensor 50, since the distance (S) between a part of the cassette body 20 (for example, the beam 24) and the conveyor can be measured, the cassette body 20 and the conveyor 34 are actually used. Changes over time can be detected before interfering with. Then, by storing and comparing the ID number of the cassette 100 and the interval (S) between the conveyor unit 34, a change in the interval (S) with time can be determined. Thereby, it is possible to prevent the cassette 100 from being left deformed or abnormal before the actual occurrence of interference, and as a result, the occurrence of an accident can be prevented.
  • the case shown in FIGS. 5 and 7 is a case where the interval S between the conveyor unit 34 and the beam 24 is normal, and therefore, an appropriate distance (S ) Is secured. Therefore, the conveyor portion 34 and the beam 24 do not come into contact (interference).
  • This distance (S) can be measured by the interference sensor 50.
  • the case illustrated in FIG. 6 is a case where the conveyor unit 34 and the beam 24 may come into contact with each other.
  • the interference sensor 50 detects that the distance between the conveyor unit 34 and the beam 24 is too short, and the contact between the conveyor unit 34 and the beam 24 can be avoided.
  • the cassette body 20 is moved downward 40 to bring the roller part 32 of the conveyor part 34 into contact with the substrate 10, but conversely, the roller part 32 is moved upward, You may make it contact the board
  • a non-contact type sensor for example, an optical sensor
  • the present invention is not limited to this, and a contact type sensor can also be used.
  • the interference sensor 50 is a contact type sensor, for example, a sensor having a contact portion having flexibility or elasticity is used as the interference sensor 50, and the side surface 34b of the conveyor unit 34 as shown in FIG. As shown, it is disposed on the upper surface 34a of the conveyor section 34.
  • the contact part of the sensor 50 is used to prevent a collision between the conveyor unit 34 and the cassette body 20 after detecting contact. It is desirable that the height be as high as possible without touching the lower surface of the glass substrate 10 during conveyance on the conveyor unit 34. Further, since the contact portion of the contact sensor 50 has flexibility or elasticity, the deformation of the beam 24 in the cassette body 20 can be prevented, and the generation of wear powder and foreign matter in the contact portion can be suppressed. . As a result, it is possible to prevent the occurrence of defects due to foreign matters on the liquid crystal panel, and as a result, it is possible to improve the yield of liquid crystal panel manufacturing.
  • the contact sensor 50 when the contact sensor 50 is provided, it is possible to prevent erroneous determination due to disturbance such as noise, and to output a highly reliable determination result without being affected by the gloss, color, and material characteristics of the non-detection surface. There is an advantage that you can.
  • the interference sensor 50 is a contact sensor, for example, a mechanical contact detection sensor can be used as the interference sensor 50. Further, an interference sensor 50 having an electrode made of a coil spring, a leaf spring, or conductive rubber is disposed, and the cassette body 20 is set to the ground potential (GND), and the interference sensor 50 electrode and one of the cassette body 20 are arranged. It is also possible to adopt a method of detecting energization when a part (for example, beam 24) contacts.
  • a part for example, beam 24
  • the interference sensor 50 can be disposed toward the side surface 34b of the conveyor unit 34 as shown in FIG.
  • the distance between the conveyor unit 34 and the beam 24 is measured exclusively when the beam 24 moves downward 40.
  • the distance between the conveyor portion 34 and the beam 24 can be measured in the same manner when the beam 24 moves upward.
  • the conveyor unit 34 may have another structure as long as the substrate 10 can be carried out in addition to the structure (roller conveyor) in which the roller unit 32 is provided.
  • the system air levitation type conveyor which air blows out from the conveyor part 34, and the board
  • mother glass is used as the substrate 10, and the size of the mother glass is 1 meter or more on one side.
  • the size is 2880 mm. ⁇ 3130 mm.
  • the substrate 10 is not limited to the mother glass before being cut out to the dimensions of the liquid crystal panel, and may be a glass substrate having a size (for example, 40 inches to 60 inches) of the liquid crystal panel after being cut out.
  • the substrate 10 may be an array substrate on which a thin film transistor (TFT) is manufactured (or a product in the middle of manufacturing), or a CF substrate on which a color filter (CF) is formed (or a device in the middle of manufacturing thereof). It may be.
  • TFT thin film transistor
  • CF color filter
  • the substrate 10 is an array substrate or a CF substrate (including those in the middle of production), a thin film (such as various patterns) is formed on the surface 10 a of the substrate 10.
  • the substrate 10 may be another thin plate such as a wafer in addition to a glass substrate.
  • it is not limited to the liquid crystal panel substrate 40, but a thin substrate for manufacturing a PDP, an organic EL panel, and other flat panel displays (not limited to glass, but in the form of a sheet that can be stored in a wire cassette ).
  • the wire cassette 100 showed about the form using the wire as shown in FIG. 2, the form is not specifically limited.
  • the wire of the wire cassette 100 it is possible to adopt a form using a thin rod material of a metal material such as stainless steel or carbon fiber.
  • the number of roller conveyors, the number of beams inside the wire cassette, and the like are not limited to the illustrated configuration, and the number can be changed as appropriate.
  • only one interference sensor 50 is provided at the central portion in the longitudinal direction, but it may be arranged at a location other than the central portion, or a plurality of interference sensors 50 may be arranged.
  • the interference sensor 50 may be a combination of a sensor facing upward and a sensor facing horizontal. Further, the sensor 50 can be disposed obliquely upward.

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Abstract

 基板の搬出の際にワイヤーカセット本体部の内部の接触を簡便に抑制する。基板10を収納するワイヤーカセット100は、内部に基板10が配置されるカセット本体部20と、カセット本体部20の底面に形成された底面開口部27と、底面開口部27から挿入され、基板10を出し入れするローダ30とを備える。ローダ30は、基板10を搬出するコンベア部34を備え、コンベア部34には、カセット本体部20の内部との干渉を検出する干渉センサ50が設けられている。

Description

ワイヤーカセットおよびそれを用いた基板搬送装置
 本発明は、基板を収納するワイヤーカセットおよびそれを用いた基板搬送装置に関する。特に、フラットパネルディスプレイ(例えば、液晶パネル)の製造方法に用いる薄型の基板(例えば、ガラス基板)を収納するワイヤーカセットに関する。
 なお、本出願は2010年6月9日に出願された日本国特許出願2010-131683号に基づく優先権を主張しており、その出願の全内容は本明細書中に参照として組み入れられている。
 液晶表示装置の構成部品である液晶パネルは、一対のガラス基板を所定のギャップを確保した状態で対向させた構造を有している。液晶パネルの大型化・量産化に伴って、液晶パネル用のガラス基板は年々大型化している。このような次世代の大型液晶ガラス基板を搬送する基板搬送システムでは、液晶ガラス基板を多段収納する収納カセットが用いられる(例えば、特許文献1~3など)。
 ガラス基板を収納した収納カセットは、クリーンルーム内の製造工程において液晶パネル製造装置の載置部から別の製造装置の載置部へガラス基板を搬送したり保管したりするのに用いられる。また、収納カセットは、液晶パネル製造装置の載置部とカセット保管庫の保管部との間でガラス基板を搬送・保管したりすることにも用いられる。
特開平9-115997号公報 特開2005-142480号公報 特開2005-145628号公報
 近年のガラス基板の大型化に伴って、棚片の張り出し形式の収納カセットでは、ガラス基板を支持する棚片の面積が小さいために、大型のガラス基板を収納する場合には、その重量によってガラス基板に歪みが発生する場合がある。したがって、そのような形式の収納カセットでは、大型のガラス基板に使用することができない。
 そこで、最近では、大型のガラス基板を収納・搬送する場合、そのような歪みを抑制する上で、収納カセットの内壁に前後並列してワイヤーを多段的に配置したワイヤーカセットが用いられることがある。
 図1は、本願発明者が検討したワイヤーカセット1000の断面図である。ワイヤーカセット1000は、カセット本体部120と、カセット本体部120の内部に張られたワイヤー122とから構成されている。ワイヤー122の上には、ガラス基板110が配置されている。ワイヤー122は多段に張られており、したがって、ガラス基板110を多段に収納することができる。ここでのガラス基板110は、液晶パネル用のマザーガラスである。
 ガラス基板はワイヤーカセットに対して搬出、搬入されるが、以下にワイヤーカセットからガラス基板を搬出する場合について述べる。ワイヤーカセット1000に収納されたガラス基板110は、カセット本体部120の底面に設けられた開口部127から挿入されたローダ130によって送り出される(矢印145)。ローダ130は、ガラス基板110に接触するローラ部132と、ローラ部132を支持して回転させるコンベア部134とから構成されている。コンベア部134は、ロッド部136に連結されており、ロッド部136は、最下段のガラス基板110から最上段のガラス基板110に届くような鉛直方向90に沿った長さを有している。具体的には、ロッド部136は、カセット本体部120の高さHに対応した長さを有している。
 図1に示した例では、カセット本体部120を下方140に移動させることによって、ローダ130を用いて順々にガラス基板110の送り出しを行う(矢印145)。最下段のガラス基板110から送り出しが行われた後、順次、ガラス基板110の送り出しがなされ、最後に、最上段のガラス基板110の送り出しが実行されると、全てのガラス基板110がカセット本体部120の外に搬出されることになる。なお、ガラス基板を搬入する場合は、逆に最上段より順次搬入される。
 ここで、カセット本体部120の内部には、ワイヤー122が張られたカセット本体部120の強度を保持する梁124が形成されている。本願発明者が検討したワイヤーカセット1000では、この梁124とコンベア部134とが接触しないように間隔S(マージン)が確保されているが、その間隔Sは10mm又はそれ以下と小さいものである。この例では、カセット本体部120の高さHまたはロッド部136の長さは約3メートルであり、その3メートルのスケールに対して、間隔Sの約10mmの寸法精度を確保する必要がある。仮に公差が3mmとすると、間隔Sは7mm程度の隙間になる場合がある。
 各ワイヤーカセット1000を最初に使用する際においてこの間隔Sを厳密に測定して、梁124とコンベア部134とが接触しないように、ワイヤーカセット1000の使用においては公差の誤差を含めて検査すべきである。すなわち、ワイヤーカセットの初期不良に基づく、梁124とコンベア部134との接触は極力防止すべきである。しかしながら、ワイヤーカセットの寸法は大きく、立体的な公差を精度よく測定・保障することは困難である。
 また、ワイヤーカセット1000のカセット本体部120にはワイヤー122が張られているので、その張力によって経時変化が生じ、その結果、梁124とコンベア部134との間隔S(マージン)が変化する可能性がある。また、ワイヤーカセット1000は定期的に洗浄されるが、その洗浄の際の熱によってカセット本体部120に変形が生じ、それによって、間隔Sが変化する可能性もある。さらには、カセットの置き位置のずれや動作時の振動による変形および床の変形等によりローダ130の位置合わせズレが生じ、その結果、間隔Sが変化することがある。
 梁124とコンベア部134が接触すると、摺動部で磨耗粉が発生しガラス基板に異物が乗り液晶パネル用基板に不良を発生させる。また、梁124とコンベア部134が干渉すると、カセット本体部120を下方へ移動させることができないので、ガラス基板110の送り出しを実行することができなくなるので問題となる。さらに、梁124が変形、破損した場合には、積載しているガラス基板110に梁124が接触してガラス基板110を破損する。
 一方で、カセット本体部120の経時変化、洗浄時の熱による変化、ローダ130の位置合わせズレなど全てを保障するように考慮すると、間隔Sは過大になってしまう。間隔Sを過大に設定すると、互いに隣接するコンベア部134(またはローラ部132)の間隔が広がり、その結果、ガラス基板110に撓みが生じるという不具合が生じる可能性が出てくる。ガラス基板110が撓むとガラス基板に亀裂、破損が生じたり、搬入時にローラ部132に衝突して欠けが生じたりする。
 本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、基板の搬出・搬入の際にワイヤーカセット本体部とローダ部の接触を簡便に抑制できるワイヤーカセットを提供することにある。
 本発明に係るワイヤーカセットは、基板を収納するワイヤーカセットであり、内部に基板が配置されるカセット本体部と、前記カセット本体部の底面に形成された底面開口部と、前記底面開口部から挿入され、前記基板を出し入れするローダとを備えている。前記ローダは、前記基板をカセット本体部に搬出するコンベア部を備えており、前記コンベア部には、前記カセット本体部の内部との干渉を検出する干渉センサが設けられている。
 ある好適な実施形態において、前記コンベア部には、ローラ部が設けられており、前記ローラ部が回転することにより、前記基板は搬出および搬入される。
 ある好適な実施形態において、前記干渉センサは、前記カセット本体部に設けられた梁との距離を検出する光学センサである。
 ある好適な実施形態において、前記干渉センサは、前記カセット本体部に設けられた梁との接触を検知する接触検知センサである。
 ある好適な実施形態において、前記干渉センサは、前記コンベア部の側面に設けられている。
 ある好適な実施形態において、前記基板は、マザーガラスであり、前記カセット本体部には、少なくとも50枚の基板が収納され、前記カセット本体部の高さは、少なくとも3メートルを有する。
 本発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する装置であり、内部に基板が配置されるカセット本体部と、前記カセット本体部の底面に形成された底面開口部と、前記底面開口部から挿入され、前記基板を出し入れするローダとを備えている。前記ローダは、前記基板を搬出するコンベア部を備えており、前記コンベア部には、前記カセット本体部の内部との干渉を検出する干渉センサが設けられている。
 本発明のワイヤーカセットによれば、カセット本体部の内部との干渉および近接を検出する干渉センサがコンベア部に設けられているので、基板の送り出し時におけるワイヤーカセット本体部の内部の接触を簡便に抑制することができる。
ワイヤーカセット1000の断面図である。 本発明の実施形態に係るワイヤーカセット100の断面図(側面図)である。 本発明の実施形態に係るワイヤーカセット100の断面図(上面図)である。 コンベア部34の構成を示す拡大図(側面図)である。 コンベア部34と梁24との間隔Sが正常な場合の様子を示す図である。 コンベア部34と梁24とが接触する可能性がある場合の様子を示す図である。 干渉センサ50が水平方向の距離(S)を測定可能な構成例を示す図である。 干渉センサ50がコンベア部34の側面34bに配置された図である。
 以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のため、実質的に同一の機能を有する構成要素を同一の参照符号で示す。なお、本発明は以下の実施形態に限定されない。
 まず、図2および図3を参照しながら、本発明の実施形態に係るワイヤーカセット100について説明する。
 図2は、本実施形態のワイヤーカセット100の全体構成を模式的に示す断面側面図である。また、図3は、ワイヤーカセット100におけるカセット本体部20の梁24周辺の上面構成を模式的に示している。
 本実施形態のワイヤーカセット100は、ワイヤー22によって基板10を支持することによって、基板10を収納することができる収納カセットである。また、本実施形態のワイヤーカセット100を用いて、基板10を搬送することができる。ここで、本実施形態の基板10は、例えば、液晶パネル用のガラス基板であり、この例では、液晶パネルの寸法に切り出す前のマザーガラスである。図示した基板10は、第10世代のマザーガラスであり、一辺の長さLは約3メートルである。
 本実施形態のワイヤーカセット100は、内部に基板10が配置されるカセット本体部20と、基板10を出し入れするローダ30とから構成されている。カセット本体部フレーム20の底面には、底面開口部27が形成されており、そして、ローダ30は、底面開口部27から挿入される。
 カセット本体部20の内部には、基板10を支持するワイヤー22が配列されている。具体的には、一枚の基板10を複数本のワイヤー22で支持し、その複数本のワイヤー22が多段に配列されている。ワイヤー22が多段に配列されていることによって、カセット本体部20の内部に基板10を多段に収納することができる。
 この例では、基板10を10段以上収納しているが、基板10の収納の枚数は、ワイヤー22の段数に対応し、その段数は適宜好適なものを設定することができる。ワイヤー22の段数は、例えば50段以上(一例として、60段)にすることができる。また、ワイヤー22は、カセット本体部20の内部の対向する壁面(内壁)の間に張られており、その張力で基板10を支持している。加えて、カセット本体部20にはその構造を維持するための梁24が形成されている。この梁24によって、カセット本体部20の強度を保持することができ、そして、ワイヤー22の張力に耐えることができる。
 本実施形態のカセット本体部20は、フレーム構造を有しており、フレーム構造の部分は、金属(例えば、アルミ、鉄、ステンレスなど)から構成されている。外部からのダストの侵入を防止するため、フレームの外周部にパネルを設けてもよい。このパネル構造の部分は、樹脂板、金属板(例えば、アルミ板)などから構成され得る。
 本実施形態のローダ30は、基板10を搬出及び搬入するコンベア部34を備えている。以下にまず、搬出時の動作について述べる。コンベア部34には、ローラ部32が設けられており、本実施形態のコンベア部34は、所謂、ローラコンベアである。また、コンベア部34は、ロッド部36に連結されており、ロッド部36は、最下段の基板10から最上段の基板10に届くような鉛直方向90に沿った長さを有している。具体的には、ロッド部36は、カセット本体部20の高さH(例えば、約3メートルまたはそれ以上)に対応した長さを有している。カセット本体部20の一つの側面(例えば、正面)には、基板取り出し用の開口部25が設けられている。ここで、コンベア部34のローラ部32が回転することにより(矢印31)、基板10は、開口部25を通って外部に搬出されることになる(矢印45)。
 図2に示した例では、カセット本体部20は、鉛直方向90に沿って昇降可能な昇降装置(不図示)によって下方40に移動させることができる。そして、カセット本体部20の底面に位置する底面開口部27から、ローダ30を挿入して、ローダ30のローラ部32を回転させながら、順々に基板10の送り出しを行うことができる(矢印45)。ここでは、最下段の基板10から送り出しが行われた後、順次、基板10の送り出しがなされ、最後に、最上段の基板10の送り出しが実行されると、全ての基板10がカセット本体部20の外に搬出されることになる。カセット本体部20へのガラス基板10を搬入する時には、カセット本体部20が一旦、最下方まで移動した後、カセット本体部20の最上段から順次、ガラス基板10を搬入していく。
 本実施形態の構成では、カセット本体部20が下方40に移動する際に、ローダ30のコンベア部34と、梁24とが互いに接触しないように、間隔S(マージン)が設けられている。この例において、間隔Sは、例えば10mm又はそれ以下のものである。ここで、図2および図3に示した例では、複数のコンベア部34が設けられている。各コンベア部34のローラ部32の回転によって、基板10を開口部25の方に送り出すことができる。また図3に示すように、複数のローラ部32は、1本のローラシャフト33によって連結されており、そのローラシャフト33は平行して配列されている。なお、コンベア部34、ローラ部32、ローラシャフト33の数は、図示の例に限らず、適宜好適なものを用いることができる。また、図4は、基板10にローラ部32が接触しているコンベア部34の構成を模式的に示す拡大図である。
 なお、間隔Sを小さくして(例えば、10mm又はそれ以下)、ローダ30のコンベア部34を梁24に近接させる理由は、互いに隣接するローラ部32の間隔をつめることによって基板(マザーガラス)10の撓みを抑制するためである。すなわち、間隔Sを大きくすると(例えば、10cmまたはそれ以上)、コンベア部34と梁24との間の隙間が広くなるのでそれだけ干渉を避ける範囲が広がるが、それだと、互いに隣接するローラ部32の間隔が広がり、基板(マザーガラス)10に撓みが生じる可能性が高くなる。
 ここで、コンベア部34と梁24とが接触する可能性が生じるまで、間隔Sを小さくしてしまうと、基板10の送り出しを実行することができなくなる。したがって、間隔Sは適切な距離を設定する必要がある。しかしながら、間隔Sは、カセット本体部120の初期精度不良に加えて、カセット本体部20の経時変化、洗浄時の熱による変化、ローダ30の位置合わせズレなどによって変化する可能性がある。
 本実施形態のワイヤーカセット100では、図3及び図4に示すように、コンベア部34には、カセット本体部20の内部(例えば、梁24)との干渉を検出する干渉センサ50が設けられている。特に、図3に示すように、コンベア部34のローラ部(コンベアローラ)32の間に干渉センサ50が設けられている。したがって、この干渉センサ50によって、移動するコンベア部34が、カセット本体部20の内部(例えば、梁24)に接触することを防止することができる。すなわち、間隔Sが設定値から変化しても、干渉センサ50によって、コンベア部34とカセット本体部20の内部(例えば、梁24)とが干渉することを回避することができる。また、コンベア部34をローラ形態(ローラ部32)とすることによって、搬送される基板(ガラス基板)10に干渉することなく、干渉センサ50を設けることができる。
 本実施形態の干渉センサ50は、光学センサであり、例えば、カセット本体部20の一部(すなわち、カセットフレームの一部、例えば梁24)の近接を感知する反射式のフォトセンサである。なお、ローダ30のコンベア部34と、カセット本体部20の内部(例えば、梁24)との近接を判定できるのであれば、光学センサ(例えば、反射式フォトセンサ)に限らず、他のセンサ(非接触センサ))を用いることも可能である。干渉センサ50として使用される非接触センサは、カセット本体部20の一部(例えば、梁24)の近接を感知するので、カセット本体部20の一部とコンベア部34が実際に干渉する前に近接を検知し、接触前にカセットの移動を停止することができる。接触を防止することにより、接触部で生じる磨耗粉や異物の発生を防止することができ、異物による不良を防止して、その結果、液晶パネル製造の歩留まりを向上することができる。
 図5は、コンベア部34と梁24との間隔Sが正常な場合の様子を示している。コンベア部34と梁24との間には適切な距離(S)があり、コンベア部34と梁24とが接触(干渉)することはない。この距離(S)により、反射式フォトセンサ50の光は、梁24によって反射することなく、フォトセンサ50は近接信号を発生しない。フォトセンサ50が近接信号を発生しない場合、梁24が正常範囲であると判定し、梁24を含むカセット本体部20を下方40に移動させる。
 一方、図6は、コンベア部34と梁24とが接触する可能性がある場合の様子を示している。カセット本体部20が所定の理由(例えば、経時変化、熱履歴変化など)により変形し、コンベア部34と梁24との距離が小さくなりすぎると、図6に示すように接触の可能性が高まる。ここでは、干渉センサ50により、コンベア部34と梁24との距離が近すぎることが検出されているので、梁24を含むカセット本体部20を下方40に移動することを停止する。その結果、コンベア部34と梁24との接触を回避することができる。具体的には、干渉センサ50から出された光52(特に、梁24の反射光52)によって、コンベア部34と梁24との距離が近すぎることを検出する。なお、本実施形態の構成では、干渉センサ50は、カセット本体部20の昇降移動を制御する制御装置に接続されており、その制御装置は、干渉センサ50からの信号によって、カセット本体部20の昇降移動を制御することが可能である。
 また、図7に示す本実施形態の干渉センサ50は、コンベア部34の側面方向に向いた光学センサであり、例えば、水平方向の距離(S)を測定可能なレーザー変位計である。この例では、干渉センサ50から水平方向にレーザー光54が出射される。ここで、梁24aは、梁24が干渉センサ50の水平方向の位置に存在するときのものを示している。なお、ローダ30のコンベア部34と、カセット本体部20の内部(例えば、梁24)との距離(S)を測定できるのであれば、干渉センサ50は、光学センサ(例えば、レーザー変位計)に限らず、他のセンサ(渦電流方式によるギャップセンサ等)を用いることも可能である。干渉センサ50として変位計を用いる場合は、カセット本体部20の一部(例えば、梁24)とコンベア部の距離(S)を測定することができるので、カセット本体部20とコンベア部34が実際に干渉する前に経時的な変化を検知することができる。そして、カセット100のID番号と、コンベア部34との間隔(S)を記憶、比較することにより、経時的な間隔(S)の変化を判定することができる。これにより、実際の干渉発生前にカセット100の変形、異常を放置することを抑制し、その結果、事故の発生を防止することができる。
 上述したように、図5及び図7に示した場合は、コンベア部34と梁24との間隔Sが正常な場合であるので、コンベア部34と梁24との間には適切な距離(S)が確保されている。それゆえ、コンベア部34と梁24とが接触(干渉)することはない。この距離(S)は、干渉センサ50によって測定することができ、干渉センサ50によって測定された距離(S)が正常範囲である場合に、梁24を含むカセット本体部20を下方40に移動させる。一方、上述したように、図6に示した場合は、コンベア部34と梁24とが接触する可能性がある場合である。ここでは、干渉センサ50により、コンベア部34と梁24との距離が近すぎることが検出し、コンベア部34と梁24との接触を回避することができる。
 なお、本実施形態では、カセット本体部20を下方40に移動させて、コンベア部34のローラ部32を基板10に接触させるようにしたが、逆に、ローラ部32を上方に移動させて、基板10に接触させるようにしてもよい。
 また、上記の実施形態では、干渉センサ50として、非接触型のセンサ(例えば、光学センサ)を用いたが、それに限らず、接触式のセンサを用いることも可能である。干渉センサ50が接触式センサの場合には、例えば、可撓性または弾性を有する接触部を有するセンサを干渉センサ50として、図8に示すようにコンベア部34の側面34b、または、図5に示すようにコンベア部34の上面34aに配置する。そして、その干渉センサ50と、梁24(または、カセット本体部20の部材)とが接触した際には、その接触を検知して、カセット本体部20の下方40への移動を停止する。
 なお、図5に示すように、センサ50をコンベア部34の上面34aに配置する場合、接触検知後にコンベア部34とカセット本体部20との衝突を防止するために、センサ50の接触部は、コンベア部34での搬送時のガラス基板10の下面に接触しない範囲で出来るだけ高いことが望ましい。また、接触式センサ50の接触部が可撓性または弾性を有することにより、カセット本体部20内の梁24の変形を防止するとともに、接触部の磨耗粉、異物の発生を抑制することができる。これにより、液晶パネルに異物が乗ることで不良が発生することを防止することができ、その結果、液晶パネル製造の歩留まりを向上させることができる。また、接触式センサ50を設けた場合、ノイズ等の外乱による誤判定を予防し、非検出面の光沢や色、材料特性に影響されること無く、信頼性の高い判定結果を出力することができるという利点がある。
 干渉センサ50が接触式センサの場合、干渉センサ50としては、例えば、機械式接触検知センサを用いることが可能である。また、コイルバネや板バネや導電性ゴムからなる電極を有する干渉センサ50を配置し、そして、カセット本体部20をグランド電位(GND)にして、干渉センサ50の電極と、カセット本体部20の一部(例えば、梁24)が接触した時の通電を検知する手法を採用することも可能である。
 さらには、干渉センサ50が非接触式センサの場合でも、図8に示したように、コンベア部34の側面34bに向けて干渉センサ50を配置することが可能である。干渉センサ50がコンベア部34の上方に向けて配置されているときは、専ら、梁24が下方40に移動する際に、コンベア部34と梁24との距離を測定したが、干渉センサ50が側面34bに配置されているときは、梁24が上方に移動する際にも同様に、コンベア部34と梁24との距離を測定することができる。
 なお、コンベア部34はローラ部32が設けられた構造(ローラコンベア)の他、基板10を搬出可能であれば他の構成のものでもよい。例えば、コンベア部34からエアが噴き出して基板10を浮かせて搬出させる方式(エア浮上式コンベア)のものを採用してもよい。
 さらに、上述の実施形態では、基板10としてマザーガラスを用い、マザーガラスの寸法は1辺が1メートル以上あり、具体的には、基板10が第10世代のマザーガラスの場合、その寸法は2880mm×3130mmである。ただし、基板10は、液晶パネルの寸法に切り出す前のマザーガラスに限らず、切り出した後の液晶パネルのサイズ(例えば、40インチから60インチ)のガラス基板であってもよい。さらに、基板10は、薄膜トランジスタ(TFT)が作製されるアレイ基板(またはその作製途中のもの)であってもよいし、カラーフィルタ(CF)が形成されるCF基板(またはその作製途中のもの)であってもよい。基板10がアレイ基板またはCF基板(それぞれ作製途中のものを含む)の場合、基板10の表面10aには薄膜(各種パターンなど)が形成されている。また、基板10は、ガラス基板の他、ウェハのような他の薄板であっても構わない。加えて、液晶パネル用の基板40に限らず、PDP、有機ELパネル、その他フラットパネルディスプレイを製作する上での薄型の基板(ガラスに限らず、シート状のものでワイヤーカセットに保管され得るもの)であってもよい。
 以上、本発明を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。例えば、上述した例において、ワイヤーカセット100は、図2に示したようなワイヤーを用いた形態について示したが、その形態は特に限定されるものではない。例えば、ワイヤーカセット100のワイヤーとして、ステンレス等の金属材料の細い棒材や炭素繊維等を用いた形態のものを採用することも可能である。また、ワイヤーカセット100の外周および天面には、ガラス基板10への異物の付着を防止するカバーを設けることも可能である。さらに、ローラコンベアの個数、ワイヤーカセットの内部の梁数などは図示した構成に限るものではなく、適宜個数を変更することができる。
 なお、図3に示した例では、干渉センサ50は長手方向の中央部に1個のみ設けたが、中央部以外の箇所に配置することもできるし、複数配置することも可能である。また、干渉センサ50は、上方方向に向くセンサと水平方向に向くセンサを組み合わせて用いても良い。さらに、センサ50を斜め上方に向けて配置することも可能である。
 本発明によれば、基板の搬出の際にワイヤーカセット本体部の内部の接触を簡便に抑制できるワイヤーカセットを提供することができる。
 10 基板
 20 カセット本体部
 22 ワイヤー
 24 梁
 25 開口部
 27 底面開口部
 30 ローダ
 32 ローラ部
 33 ローラシャフト
 34 コンベア部
 36 ロッド部
 50 干渉センサ
100ワイヤーカセット
1000ワイヤーカセット

Claims (7)

  1.  基板を収納するワイヤーカセットであって、
     内部に基板が配置されるカセット本体部と、
     前記カセット本体部の底面に形成された底面開口部と、
     前記底面開口部から挿入され、前記基板を出し入れするローダと
     を備え、
     前記ローダは、前記基板を搬出するコンベア部を備えており、
     前記コンベア部には、前記カセット本体部の内部との干渉を検出する干渉センサが設けられている、ワイヤーカセット。
  2.  前記コンベア部には、ローラ部が設けられており、
     前記ローラ部が回転することにより、前記基板は搬出および搬入されることを特徴とする、請求項1に記載のワイヤーカセット。
  3.  前記干渉センサは、前記カセット本体部に設けられた梁との距離を検出する光学センサである、請求項1に記載のワイヤーカセット。
  4.  前記干渉センサは、前記カセット本体部に設けられた梁との接触を検知する接触検知センサである、請求項1に記載のワイヤーカセット。
  5.  前記干渉センサは、前記コンベア部の側面に設けられている、請求項1から4の何れか一つに記載のワイヤーカセット。
  6.  前記基板は、マザーガラスであり、
     前記カセット本体部には、少なくとも50枚の基板が収納され、
     前記カセット本体部の高さは、少なくとも3メートルを有することを特徴とする、請求項1から5の何れか一つに記載のワイヤーカセット。
  7.  基板を搬送する基板搬送装置であって、
     内部に基板が配置されるカセット本体部と、
     前記カセット本体部の底面に形成された底面開口部と、
     前記底面開口部から挿入され、前記基板を出し入れするローダと
     を備え、
     前記ローダは、前記基板を搬出するコンベア部を備えており、
     前記コンベア部には、前記カセット本体部の内部との干渉を検出する干渉センサが設けられている、基板搬送装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015228452A (ja) * 2014-06-02 2015-12-17 ヤマハ発動機株式会社 検出装置、検出方法、基板搬送装置、基板処理装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5142241A (ja) * 1974-10-04 1976-04-09 Hitachi Ltd Erebeetanoanzensochi
JP2005212943A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Maruyasu Kikai Kk ガラス基板の搬送システム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5142241A (ja) * 1974-10-04 1976-04-09 Hitachi Ltd Erebeetanoanzensochi
JP2005212943A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Maruyasu Kikai Kk ガラス基板の搬送システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015228452A (ja) * 2014-06-02 2015-12-17 ヤマハ発動機株式会社 検出装置、検出方法、基板搬送装置、基板処理装置

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