WO2011065087A1

WO2011065087A1 - オゾンガス供給システム

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Publication number: WO2011065087A1
Application number: PCT/JP2010/065209
Authority: WO
Inventors: 紀幸中村; 沖原　雄二郎; 西津　徹哉; 四元　初男; 田畑　要一郎; 伊藤　信之
Original assignee: 東芝三菱電機産業システム株式会社
Priority date: 2009-11-26
Filing date: 2010-09-06
Publication date: 2011-06-03
Also published as: EP2505549A1; CN102666372A; US20120251395A1; EP2749528B1; EP2505549B1; KR20120083488A; EP2505549A4; CN102666372B; KR101378286B1; US8778274B2; EP2749528A1

Abstract

　本発明は、各オゾン処理装置に対し、オゾンガス流量・濃度を独立に制御してオゾンガスを供給するとともに、信頼性が高いオゾンガス供給が可能なオゾンガス供給システムを得ることを目的とする。そして、本発明は、複数のオゾン発生ユニット（７－１～７－ｎ）からの複数のオゾンガス出力を受け、内部に設けた複数のオゾンガス制御弁（９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａ）の開閉動作によって、複数のオゾンガス出力の１または複数の組合せを、複数のオゾン処理装置（１２－１～１２－ｎ）のうち任意のオゾン処理装置に選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なオゾンガス出力流量管理ユニット（９）を有している。

Description

オゾンガス供給システム

　この発明は、供給する原料ガスの品質を高め、出力するオゾンガスの品質を高め、かつ、ガス流量・濃度を制御して複数のオゾン処理装置に安定したオゾンガスを供給するオゾンガス供給システムに関する。

　複数のオゾン処理装置より構成される多オゾン処理装置に対してオゾンガスを供給する場合、複数のオゾン処理装置に対応して、各々がオゾン発生器に純度が９９．９９％で、露点が－７０℃以下の高純度酸素ガス等の原料ガスを供給し、オゾン電源、流量コントローラ（ＭＦＣ）等を含む複数のオゾン発生機構（手段）を設け、各オゾン発生機構が独立して対応するオゾン処理装置に対してオゾンガス供給するオゾンガス供給システムを構築することが一般的に考えられる。

　すなわち、オゾンガス供給システムは、オゾン発生器に９９．９９％で、露点が－７０℃以下の高純度酸素ガス等の原料ガスを供給し、オゾン電源、オゾンガスもしくは原料ガス流量をコントロールするＭＦＣ等の流量調整手段を介してオゾン発生器に供給する原料ガス配管系統、オゾン発生器内のガス雰囲気圧力をコントロールするオートプレッシャコントローラ（ＡＰＣ）等の圧力調整する手段を有して、オゾン発生器から出力されるオゾンガスに対し濃度を検知するオゾン濃度検知器、オゾン流量計を有した出力ガス配管系統等を、多オゾン処理装置の系統数分、設けていた。

　複数のオゾン処理装置より構成される多オゾン処理装置に対してオゾンガスを供給する場合、複数のオゾン処理装置に対応して、各々がオゾン発生器、オゾン電源、流量コントローラ（ＭＦＣ）等を含む複数のオゾン発生機構を設け、各オゾン発生機構が独立して対応するオゾン処理装置に対してオゾンガス供給するオゾンガス供給システムを構築することが一般的に考えられる。

　すなわち、オゾンガス供給システムは、オゾン発生器、オゾン電源、原料ガス流量をコントロールするＭＦＣ等を介してオゾン発生器に供給する原料ガス配管系統、オゾン発生器から出力されるオゾンガスに対しオゾン濃度検知器、オゾン流量計を有した出力ガス配管系統等を、多オゾン処理装置の系統数分、設けていた。

　このような多オゾン処理装置に対応するオゾン発生システムを構築するのに非常に大きなスペースを要し、さらに、多オゾン処理装置に対し統合的な制御を行って、オゾンガスを供給するシステムを構築する場合、さらに大きなシステム構成になり、コスト面や配置スペース等の問題点があり実用上不利な点が多々あった。

　そのため、従来は、多オゾン処理装置へのオゾン供給方式としては、例えば、特許文献１に開示されているように、１式のオゾン発生器の容量を大きくして、オゾンガスを出力する配管系統を複数配管に分離させ、多オゾン処理装置へそれぞれへの所定流量、濃度のオゾンガスをステップ的に出力させる方式のオゾンガス供給システムが採用されて来ていた。

　図２４は特許文献１で開示された内容から想定される従来のオゾンガス供給システム７０の内部構成を示すブロック図である。

　図２４において、１つのオゾン発生器７１、オゾン電源７２、原料ガス流量をコントロールする流量コントローラ（ＭＦＣ）７３、発生器の圧力を監視する圧力計６２を介してオゾン発生器７１に供給する原料ガス配管系統とオゾン発生器７１の圧力の変動によってバルブの開閉調整をするバルブ開閉器６１、オゾン濃度計７５、オゾン流量計６７を有した出力配管の後の出力ガス配管系統を複数配管に分離している。さらに、オゾンガス供給システム７０は、分離した出力ガス配管系統それぞれに個別オゾンガス流量コントローラ（ＭＦＣ）６８－１～６８－ｎを設け、個別ＭＦＣ６８－１～６８－ｎに対応して設けられた複数のオゾン処理装置１２－１～１２－ｎにオゾンガスを独立に供給するように構成している。各個別ＭＦＣ６８－１～６８－ｎで供給するオゾンガスを超える量のオゾンガスは、流量排出ユニット６９で排出する構成になっている。

特表２００９－５００８５５号公報（図２，図３，図５）

　従来の多オゾン処理装置へのオゾン供給するオゾンガス供給システムは以上のように構成されており、原料ガスをオゾン発生器に供給し、１つのオゾン発生器７１からオゾンガスを出力し、出力する配管系統を分配配管させる構成にしている。このため、オゾンガス流量やオゾン濃度は一定の状態で多オゾン処理装置（オゾン処理装置１２－１～１２－ｎ）へ供給しなければならず、各オゾン処理装置へのオゾン供給条件は１条件のみで共通化され、オゾンガス流量や濃度を複数のオゾン処理装置それぞれを独立して可変制御することが不可能であるという問題点があった。

　また、１つのオゾン発生器から多オゾン処理装置へオゾンガスを供給しているため、オゾン発生器が故障すると、供給対象の全てのオゾン処理装置へのオゾンガスが停止すること等、オゾンガス供給に関する信頼性が低いという問題点があった。

　この発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、各オゾン処理装置に対し、オゾンガス流量・濃度を独立に制御してオゾンガスを供給するとともに、信頼性が高いオゾンガス供給が可能なオゾンガス供給システムを得ることを目的とする。

　この発明に係るオゾンガス供給システムは、ガス流量、濃度を制御してオゾンガスを複数のオゾン処理装置それぞれに供給するオゾンガス供給システムであって、複数のオゾン発生ユニットを備え、前記複数のオゾン発生ユニットは、オゾンガスを発生するオゾン発生器と、前記オゾン発生器に供給する電力を制御するオゾン電源と、前記オゾン発生器に入力される原料ガス流量を制御するマスフローコントローラ（ＭＦＣ）と、前記オゾン発生器内の圧力である内部圧力を自動制御するオートプレッシャコントローラ（ＡＰＣ）と、前記オゾン発生器が出力するオゾンガスのオゾン濃度値を検出するオゾン濃度計と、初期動作として所定の設定電力量で前記オゾン電源を駆動させ、所定時間後に前記オゾン濃度計で検知したオゾン濃度と設定したオゾン濃度との比較に基づき、前記オゾン電源が供給する電力をＰＩＤ制御するオゾン制御部とを備え、前記オゾンガス供給システムは、前記複数のオゾン発生ユニット内の複数の前記オゾン発生器からの複数のオゾンガス出力を受け、内部に設けた複数のオゾンガス制御弁の開閉動作によって、前記複数のオゾンガス出力の１または複数の組合せを、前記複数のオゾン処理装置のうち任意のオゾン処理装置に選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なオゾンガス出力流量管理ユニットと、前記複数のオゾン処理装置からの処理オゾンガスイベント信号に基づき、前記複数のオゾン発生ユニットそれぞれの前記オゾンガスの出力内容を制御し、前記オゾンガス出力流量管理ユニットに対し前記オゾンガス出力流量制御を行う、オゾンガス出力流量管理ユニット制御部とをさらに備える。

　この発明におけるオゾンガス供給システムは、複数のオゾンガス制御弁の開閉動作によって、前記複数のオゾンガス出力の１または２以上の組合せを、前記複数のオゾン処理装置のいずれかに選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なオゾンガス出力流量管理ユニットを有している。

　したがって、複数のオゾンガス出力をそれぞれ複数のオゾン処理装置のうち対応するオゾン処理装置に供給することにより、オゾンガス流量・濃度を複数のオゾン処理装置それぞれ独立に制御することができる。

　加えて、２以上のオゾンガス出力の組合せをひとつのオゾン処理装置に供給することにより、多様なガス流量及び濃度のオゾンガスを供給することができる。

　さらに、複数のオゾン発生ユニットのうち一部に異常が発生しても、正常動作する残りのオゾン発生ユニットによって、複数のオゾン処理装置のいずれにもオゾンガスを供給することができるため、信頼性が高いオゾンガス供給が実現できる。

　この発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。

本発明の実施の形態１であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。図１で示したオゾンガス供給システムにおけるオゾンガス出力流量管理ユニットの内部構成を示す説明図である。実施の形態１のオゾンガス供給システムにおけるメイン操作パネルの表示状態を模式的に示す説明図である。図１で示したオゾン発生ユニット内のオゾン制御部の構成を示すブロック図である。図１で示したオゾン発生ユニット内のデータメモリの記憶内容を模式的に示す説明図である。図１で示したオゾン発生ユニットに対し出力濃度制御を行った出力濃度制御波形を示すグラフである。１台のオゾン発生ユニットにおけるオゾン電源の受電電力とオゾン発生器で発生するオゾン濃度特性を示すグラフである。実施の形態２のオゾン発生ユニット内に設けられるオゾン電源の内部構成の詳細を示す回路図である。実施の形態２のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。図１で示したオゾンガス供給システムにおける、実施の形態３によるオゾンガス出力流量管理ユニットの内部構成を示す説明図である。実施の形態３のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。本発明の実施の形態４であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。本発明の実施の形態５であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。実施の形態５のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。本発明の実施の形態６であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。実施の形態６のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。本発明の実施の形態６であるオゾンガス供給システムの他の態様の構成を示すブロック図である。実施の形態６のオゾン発生ユニットの他の態様の組合せ構造を模式的に示す斜視図である。本発明の実施の形態７であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。本発明の実施の形態８であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。実施の形態８のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。本発明の実施の形態６であるオゾンガス供給システムの他の態様の構成を示すブロック図である。実施の形態６のオゾン発生ユニットの他の態様の組合せ構造を模式的に示す斜視図である。従来のオゾンガス供給システム７０の内部構成を示すブロック図である。実施の形態２のオゾン発生ユニットに対応する従来の構成を模試的に示す説明図である。原料ガスの露点と原料ガスに含まれる水分量との関係を示す説明図である。

　＜実施の形態１＞
　以下、この発明の実施の形態１を図１から図６に基づいて説明する。以下、図１～図６の概要は以下の通りである。図１は本発明の実施の形態１であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。図２は図１で示したオゾンガス供給システムにおけるオゾンガス出力流量管理ユニットの内部構成を示す説明図である。図３は実施の形態１のオゾンガス供給システムにおけるメイン操作パネルの表示状態を模式的に示す説明図である。図４は図１で示したオゾン発生ユニット内のオゾン制御部の構成を示すブロック図である。図５は図１で示したオゾン発生ユニット内のデータメモリの記憶内容（オゾン発生ユニットの濃度、流量制御を行うための初期条件等）を模式的に示す説明図である。図６は図１で示したオゾン発生ユニット７に対し出力濃度制御を行った出力濃度制御波形を示すグラフである。

　（全体構成）
　図１に示すように、オゾンガス供給システム１０は内部にｎ（≧２）個のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを有している。以下、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのうちオゾン発生ユニット７－２を代表して取り上げその内部構成を図１中心に参照して説明する。

　オゾン発生器１の内部は酸素ガスを含んだガスが充満されており、オゾンガス供給システム１０内のオゾン電源２から高周波高電圧ＨＶ，ＬＶがオゾン発生器１内の電極間に印加され、この電極間で誘電体バリア放電（無声放電）をすることにより、放電空間のガスが放電によってオゾンガスを生成している。なお、オゾン電源２は後に詳述するがコンバータ２ａ、インバータ２ｂ及び高電圧回路部２ｃにより構成される。

　本実施の形態はオゾン発生器１として無声放電方式によるオゾン発生器構造のものを代表して説明したが、オゾン発生させる機能としては、沿面放電やグロー放電を利用したオゾン発生器構造や超高周波やマイクロ波放電を利用したオゾン発生器構造もあり、さらに電解媒質を利用したオゾン発生器もあり、これらのオゾン発生器であっても良い。

　オゾンガス供給システム１０の原料ガス供給口１４、オゾン発生ユニット７－２の原料ガス供給口１４－２から得られる所定の原料ガス流量Ｑの原料ガスが、ガス流量コントローラ（ＭＦＣ）３を介してオゾン発生器１に一定流量で原料ガスが供給される。

　オゾン発生器１内の圧力を一定する手段として、発生器内のガス圧力を検出する手段と、この検出した発生器に出力するオゾンガス量を微調整することで、オゾン発生器１内の圧力を一定にする機能をオゾン発生器システムには保有している。この１つの方法として、発生器圧力を自動で所定圧力に調整する自動圧力調整器（ＡＰＣ）４があり、この自動圧力調整器（ＡＰＣ）４がオゾン発生器のオゾンガス出力配管ガスラインに設けられている。

　オゾンガス出力配管ガスラインの具体的な構成としては、オゾン発生器１内で生成したオゾンガスから不純物（ガス）や異物を除去するガスフィルター５１に通した後、オゾン濃度計５、発生器圧力を自動で所定圧力に調整する自動圧力調整器（ＡＰＣ）４を介して連続的に所定のオゾン濃度Ｃを有するオゾン（化酸素）ガスをオゾンガス出力口１５－２からオゾン発生ユニット７－２の外部に出力している。

　オゾンガス出力配管ガスラインには、出力オゾンガス流量を一定出力するためのオゾンガス流量コントローラ（ＭＦＣ）を設ける場合もある。この実施の形態では、このオゾンガス流量コントローラ（ＭＦＣ）は設けていない。

　したがって、出力したオゾンガスの流量Ｑｘは、原料ガス流量Ｑからオゾンに変換したオゾン流量Ｑｃと変換されなかった原料酸素流量Ｑｎの和となる。つまり、オゾン（化酸素）ガスの流量Ｑｘは、原料（酸素）ガス流量Ｑ、オゾン濃度Ｃに基づく式(A)｛Ｑｘ＝Ｆ（Ｑ，Ｃ）・・・(A)｝により決定する。

　このガス流量コントローラ（ＭＦＣ）３で、オゾン発生器に供給する原料ガス流量を一定値に制御している。

　なお、ＡＰＣ４は、オゾン発生器１のオゾンガスの出力配管経路内を流れるオゾンガスの圧力を制御することによりオゾン発生器１のガス圧力を自動的に一定値に制御している。

　オゾン発生ユニット７－２は、オゾンガスを発生する手段を有したオゾン発生器１、オゾンガスに所定の電力を供給する手段を有したオゾン電源２、供給する原料ガス流量を一定値に制御する手段を有するＭＦＣ３、オゾン発生器１内の圧力値を一定値に制御する手段を有するＡＰＣ４、出力するオゾンガスの不純物ガスをトラップする手段を有するガスフィルター５１、出力するオゾン濃度値を検出する手段を有するオゾン濃度計５等の複数個の機能手段を集約し１単位のパッケージユニットとして構成されている。オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの構成は全て同じであり（７－２以外は図示省略）、オゾン発生ユニット７－２を代表して説明した内部構成を呈している。

　各オゾン発生ユニット７（オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ）の底面に漏水センサ６を設け、各オゾン発生ユニット７の漏水の有無を監視している。すなわち、漏水センサ６から得られる情報がシステム統括管理ユニット８内のＥＭＯ回路（非常停止回路）８１により得られ、システム管理制御部８４の制御下で監視される。

　また、オゾンガス供給システム１０内に設けられるシステム統括管理ユニット８は、装置内を排気ダクト１１から真空引きし負圧状態に監視するための排気センサ２３、オゾン漏洩センサ２４それぞれの検出情報を受けている。そして、システム統括管理ユニット８は、排気センサ２３による排気異常、オゾン漏洩センサ２４による漏洩異常を受けると、システム管理制御部８４より全てのオゾン発生ユニット７－１～７－ｎに停止を指示するオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎを与え、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの運転を停止させる。

　また、システム統括管理ユニット８内のシステム管理制御部８４は、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎから、要求オゾン流量Ｑｓ１２及び要求オゾン濃度Ｃｓ１２を含む処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎをユーザ情報Ｉ／Ｆ８３を介して受ける。

　そして、システム管理制御部８４は、処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎの指示内容に基づき、オゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎをオゾン発生ユニット７－１～７－ｎに出力するとともに、制御信号Ｓ８をオゾンガス出力流量管理ユニット９に出力する。

　その結果、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれから出力するオゾンガスの流量、濃度が制御されるともに、オゾンガス出力流量管理ユニット９におけるオゾンガス制御弁９ａ等の開閉制御が行われ、処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎの指示内容に沿ったガス流量、濃度のオゾンガスをオゾン処理装置１２－１～１２－ｎに供給することができる。以下、システム統括管理ユニット８についてさらに詳述する。

　システム統括管理ユニット８は、装置の非常停止を行うＥＭＯ回路８１、ユニット情報Ｉ／Ｆ８２、ユーザ情報Ｉ／Ｆ８３、システム管理制御部８４及びメイン操作パネル８５を有している。

　ＥＭＯ回路８１は、前述したように、各オゾン発生ユニット７の漏水センサ６から得られるシステムの異常信号を監視する回路である。具体的には、ＥＭＯ回路８１が漏水センサ６より漏水異常の検出情報を受けると、当該情報をシステム管理制御部８４に伝達し、システム管理制御部８４より、漏水異常を検出した漏水センサ６に対応するオゾン発生ユニット７にオゾン発生ユニット制御信号８６（オゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎのいずれか）を与え、当該オゾン発生ユニット７を停止させる。

　ユニット情報Ｉ／Ｆ８２は、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからユニット情報信号１７－１～１７－ｎの授受を行う。

　ユーザ情報Ｉ／Ｆ８３は、前述したように、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎからの指令信号である処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎ（要求オゾン流量Ｑｓ１２、要求オゾン濃度Ｃｓ１２、運転情報Ｙ、装置No.等を指示）を受信する。

　システム管理制御部８４は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁（9a、9b、9c、9ab、9bc、9ca）を開閉制御するための指令である制御信号Ｓ８を出力し、オゾンガス出力流量管理ユニット９内の統括制御を行う。システム管理制御部８４はメイン操作パネル８５との情報の授受も行う。

　図１に示すように、オゾンガス供給システム１０は冷却水入口１３Ａ及び冷却水出口１３Ｂを有し、冷却水入口１３Ａから冷却水入口１３ａ－１～１３ａ－ｎを介してオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に図示しない外部の冷却装置からの冷却水を取り込み、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから冷却後の水を冷却水出口１３ｂ－１～１３ｂ－ｎを介して冷却水出口１３Ｂから外部に出力している。

　オゾンガス供給システム１０は原料ガス供給口１４を有し、原料ガス供給口１４から原料ガス供給口１４－１～１４－ｎを介してオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に外部から原料ガスを取り込んでいる。

　オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのオゾンガス出力口１５－１～１５－ｎは内部のオゾンガス出力流量管理ユニット９に接続され、オゾンガス出力流量管理ユニット９からオゾンガス出力口２５－１～２５－ｎを介してオゾンガス供給システム１０の外部にオゾンガスが出力される。

　ｎ台のオゾン処理装置１２－１～１２－ｎから出力される処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎはユーザ情報Ｉ／Ｆ８３を介してシステム管理制御部８４に取り込まれる。処理オゾンガスイベント信号１６（１６－１～１６－ｎ）は要求オゾン流量Ｑｓ１２、原料ガス設定濃度Ｃｓ１２及び運転情報Ｙ等を指示している。システム管理制御部８４は処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎに基づき、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎを制御するオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎを出力する。

　オゾン発生ユニット７－１～７－ｎはオゾン発生ユニット用操作パネル８５－１～８５－ｎを有している。また、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからユニット情報信号１７－１～１７－ｎがシステム統括管理ユニット８のユニット情報Ｉ／Ｆ８２を介してシステム管理制御部８４に伝達される。ユニット情報信号１７（１７－１～１７－ｎ）は、各オゾン発生ユニット７におけるオゾン発生器１の故障や運転／停止状態を指示する情報信号である。

　処理オゾンガスイベント信号１６に含まれる運転情報Ｙは、各オゾン処理装置１２（１２－１～１２－ｎ）の故障や運転／停止状態情報信号を示すユーザ情報信号に相当し、前述したように、システム統括管理ユニット８内のユーザ情報Ｉ／Ｆ８３に取り込まれる。

　また、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎはそれぞれオゾン制御部１９を有している。オゾン制御部１９は、後に詳述するように、原料ガス流量の設定流量Ｑｓ、検出流量Ｑ，オゾン発生器１の発生器圧力の設定圧力Ｐｓ、検出圧力Ｐ及び各オゾン発生ユニット７から出力するオゾン濃度Ｃを受信し、オゾン電源２を制御してオゾン発生器１から発生するオゾンガスのオゾン濃度、ガス流量等を制御する制御部である。また、オゾン制御部１９は、オゾン濃度計５、ＭＦＣ３、ＡＰＣ４及びオゾン電源２との間で信号授受を行っている。

　（オゾンガス出力流量管理ユニットの制御）
　図２に示すように、オゾンガス出力流量管理ユニット９はオゾン発生ユニット７－１～７－ｎの出力部に対応してオゾンガス入力口２９－１～２９－ｎを有しており、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎの入力部に対応してオゾンガス出力口３９－１～３９－ｎを有している。そして、オゾンガス出力口３９－１～３９－ｎ（オゾンガス出力口２５－１～２５－ｎ）とオゾン処理装置１２－１～１２－ｎとの間にオゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎが介挿される。オゾン処理装置１２－１～１２－ｎはオゾンガス供給時にオゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎを開状態にする。本オゾンガス供給システム１０はオゾンガス出力口３９－１～３９－ｎのｎ個のオゾンガス出力口を設けたシステムにしているが、ユーザ側のオゾン処理装置数がｎ個より少ない場合は出力しないオゾンガス出力口３９部分の配管継手をキャップ継手にし、出力ガスを栓することで対応することもできる。

　オゾンガス出力流量管理ユニット９は内部にオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａを有しており、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃはノーマリオープン（ＮＯ），オゾンガス制御弁９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａはノーマリクローズ（ＮＣ）である。なお、説明の都合上、図２ではｎ＝３の場合で具体化して示している。なお、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａとして、電気もしくはエアー圧力によって開閉できる電動バルブもしくは空圧弁が考えられる。

　オゾンガス制御弁９ａ～９ｃはオゾン発生ユニット７－１～７－ｎのオゾンガス入力口２９－１～２９－ｎとオゾンガス出力口３９－１～３９－ｎとの間に介挿される。オゾンガス制御弁９ａｂはオゾンガス制御弁９ａ，９ｂの出力間に設けられ、オゾンガス制御弁９ｂｃはオゾンガス制御弁９ｂ，９ｃの出力間に設けられ、オゾンガス制御弁９ｃａはオゾンガス制御弁９ｃ，９ａの出力間に設けられる。

　そして、システム統括管理ユニット８のシステム管理制御部８４からの制御信号Ｓ８に基づき、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａそれぞれの開状態、閉状態が制御される。

　図２では、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのうち、オゾンガス開閉弁２２－２を開状態（黒塗り潰し）としたオゾン処理装置１２－２の１台のみ運転しており、オゾン処理装置１２－２に対するオゾンガス流量としては、３０ＳＬＭ（Ｌ／ｍｉｎ）のオゾンガスを供給した場合のオゾンガス出力流量管理ユニット９の状態を示している。すなわち、オゾン処理装置１２－２は処理オゾンガスイベント信号１６－２内の要求オゾン流量Ｑｓ１２により３０ＳＬＭのオゾン流量を指示している。

　システム統括管理ユニット８内のシステム管理制御部８４は、オゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎにより、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎよりそれぞれ１０ＳＬＭのオゾンガスを供給するように制御する。

　さらに、システム管理制御部８４は制御信号Ｓ８により、オゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開閉状態を制御する。具体的には、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂを開状態（黒塗り潰し）、オゾンガス制御弁９ｃａを閉状態（白抜き）にする制御信号Ｓ８をオゾンガス出力流量管理ユニット９に出力する。

　一方、前述したように、オゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎのうち、オゾンガス開閉弁２２－２のみが開状態であり、オゾンガス開閉弁２２－１及び２２－ｎが閉状態である。ここでは、使用しないオゾン処理装置１２をオゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎで閉状態にする方式で説明したが、使用しないオゾン処理装置にはオゾンガスが供給されないように２５－１～２５－ｎの部分で、配管継手により、強制的に栓させてもよい。

　このように、システム管理制御部８４はオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎによりオゾン発生ユニット７－１～７－ｎからそれぞれ１０ＳＬＭの流量のオゾンガスを供給させ、かつ制御信号Ｓ８によりオゾンガス出力流量管理ユニット９を制御することにより、オゾン処理装置１２－２に対してガス流量３０ＳＬＭ（１０ＳＬＭ×３）のオゾンガスを供給することができる。

　（メイン操作パネル）
　図３に示すように、オゾンガス供給システム１０のメイン操作パネル８５の表示面において、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ及びオゾン処理装置１２－１～１２－ｎに対応づけて、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開閉状態を示している。さらに、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎの要求オゾン流量Ｑｓ１２（ＳＬＭ）、要求オゾン濃度Ｃｓ１２（ｇ／ｍ³）が示されている。

　図３に示す例では、オゾン処理装置１２－２のみ要求オゾン流量Ｑｓ１２＝３０ＳＬＭ、要求オゾン濃度Ｃｓ１２＝２８０（ｇ／ｍ³）を要求している。

　したがって、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからそれぞれオゾン流量１０（ＳＬＭ）、オゾン濃度２８０（ｇ／ｍ³）のオゾンガスを出力させ、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂを開状態、オゾンガス制御弁９ｃａを閉状態にすることにより、オゾン処理装置１２－２に対し、オゾン流量３０（ＳＬＭ）、オゾン濃度２８０（ｇ／ｍ³）のオゾンガスを供給することができる。

　（オゾン制御部）
　図４に示すように、各オゾン発生ユニット７内に設けられるオゾン制御部１９は、オゾン電源２を制御することによりオゾン発生器１のオゾン発生内容（ガス流量、オゾンガス濃度）を制御する。

　オゾン電源２は、商用交流電圧ＡＣ１φ～ＡＣ３φを整流するコンバータ２ａ、直流電圧をオゾン発生器１に最適な高周波に変換し、出力電圧を制御して所定電力をオゾン発生器１に供給するインバータ２ｂ、インバータ２ｂから出力された電圧を、オゾン発生器１を生成するための放電を発生させる電圧まで高電圧に昇圧させるための高電圧回路部２ｃ及び電流センサ２ｄから構成されている。コンバータ２ａ、インバータ２ｂ及び高電圧回路部２ｃの順で直列に接続され、コンバータ２ａ，インバータ２ｂ間に電流センサ２ｄが介挿される。

　オゾン制御部１９は、オゾン発生器１で発生するオゾンガス内容（ガス流量Ｑ、オゾン濃度Ｃ）を制御するため、高電圧回路部２ｃの出力である高周波・高電圧ＨＶ，ＬＶをオゾン発生器１に印加させ、原料ガスである酸素ガスから放電現象によって所定のオゾン量のオゾンガスを生成させている。

　オゾン制御部１９は原料ガス流量設定器１Ｓ１、セレクタ１Ｓ２、オゾン濃度設定器１Ｓ３、それぞれの制御信号をON-OFFして制御するアナログスイッチ１Ｓ４－Ａ～１Ｓ４－Ｆ、及びそれぞれの制御信号を反転信号にする反転器１Ｓ５－1，１Ｓ５－2を有している。

　さらに、オゾン制御部１９は、原料ガス設定流量Ｑｓ，設定濃度Ｃｓおよびオゾン発生器１の設定圧力Ｐｓの信号を受けて最適なオゾン量を生成に必要な設定電力Ｗｓを記憶させたデータメモリ１Ｓ６、設定電力Ｗｓからオゾン電源に必要な電流を注入するための電流信号に変換する電流信号変換器１Ｓ７を有している。

　加えて、オゾン制御部１９は、初期電流指令でインバータ２ｂを駆動させ、ＭＦＣ３及びオゾン濃度計５によって実際に流れている原料ガス流量Ｑ及び生成オゾン濃度Ｃを受けてＰＩＤ制御に切り替えるタイマ１Ｓ８、オゾン濃度Ｃとガス設定濃度Ｃｓとを比較結果に基づいてＰＩＤ制御するＰＩＤ制御回路１Ｓ９を有している。

　さらに、オゾン制御部１９は、システム管理制御部８４よりオゾン発生ユニット制御信号８６を受けて、オゾン発生ユニット制御信号８６が指示する要求オゾン流量Ｑｓ８、要求オゾン濃度Ｃｓ８、及び運転情報Ｙ８に基づき、設定流量Ｑｓ,設定オゾン濃度Ｃｓ信号を調整するイベント調整器１Ｓ１０を有している。

　また、オゾン制御部１９は、圧力設定器１Ｓ１１、電流信号変換器１Ｓ７の出力電流に基づき注入電力を制御するためインバータ２ｂのＯＮする初期パルス幅を設定する初期パルス幅設定器１Ｓ１２、及びオゾン濃度計５に検出されたオゾン濃度Ｃ及び設定オゾン濃度Ｃｓ受け、オゾン濃度Ｃと原料ガス設定濃度Ｃｓとの比較結果に基づき、インバータ２ｂの注入電力を制御するための電流信号に変換させる電流変換器１Ｓ１３を有している。

　（データメモリ１Ｓ６）
　オゾン発生ユニット７のオゾン濃度、オゾン流量制御を行うための初期条件を記憶したデータメモリ１Ｓ６は、図５に示すように、オゾン発生器１の設定圧力Ｐｓをパラメータとして、複数個のメモリバンクＢＫ１～ＢＫ４を有しており（図５では説明の都合上、４個の場合を示している）、オゾン発生器１の設定圧力Ｐｓが決れば、設定圧力Ｐｓに対応するメモリバンクＢＫｘ（１～４のいずれか）が選び出される。

　選択された１つのメモリバンクＢＫには、図５で示すように、横軸（Ｘ軸）をオゾンガス流量の設定流量Ｑｓを番地とし、ΔＱ毎に複数分割されている。縦軸（Ｙ軸）をオゾン濃度の設定濃度Ｃｓを番地とし、ΔＣ毎に複数分割されている。

　データメモリ１Ｓ６は、この横軸（Ｘ軸）、縦軸（Ｙ軸）の番地として機能する設定流量Ｑｓ,設定濃度Ｃｓの信号を受け、Ｘ軸とＹ軸の番地で決るメモリ番地に所定のオゾン量を発生させるに必要な設定電力量Ｗ（Ａ１１～Ａ１７，・・・，Ａ６１～Ａ６７）が書き込まれており、その設定電力量Ｗｓをオゾン量制御１９内の電流信号変換器１Ｓ７に出力する。その結果、電流信号変換器１Ｓ７で電流信号に変換されて、アナログスイッチ１Ｓ４－Ｅを介して初期パルス幅設定器１Ｓ１２に電流信号が付与され、初期パルス幅設定器１Ｓ１２により設定電力量Ｗｓを実現するための所定周波数、所定パルス幅のパルス信号Ｔｗがインバータ２ｂに出力される。

　図６に示すように、オゾン発生ユニット７の出力濃度制御を行った出力濃度制御波形はオゾン発生ユニット７への運転指令信号（運転情報Ｙ８に含まれる）に対応して、設定時間Ｔｏで規定される初期状態時は、データメモリ１Ｓ６からの設定電力量Ｗｓに基づく、インバータ２ｂの注入電力を設定する。

　そして、設定時間Ｔｏ経過後にタイマ１Ｓ８による時間制御によってＰＩＤ制御回路１Ｓ９によるＰＩＤ制御に切り替わる。ＰＩＤ制御回路１Ｓ９は、電流変換器１Ｓ１３の電流信号（オゾンガス濃度Ｃ（オゾン濃度計５より検出）とガス設定濃度Ｃｓとの比較結果に基づき決定される信号）に基づき、パルス信号Ｔｗのパルス幅ΔＴｗを微小変化させることにより、インバータ２ｂの注入電力のＰＩＤ制御が実行される。その結果、オゾン発生器１から発生するオゾン濃度（Ｃ）は、同図（a）で示す制御応答性波形を示す。

　以下、図６で示す濃度制御について詳述する。まず、オゾン発生ユニット制御信号８６に基づかないオゾン発生ユニット７単体の動作について説明する。

　イベント調整器１Ｓ１０は図示しない運転指令の入力をトリガとしてタイマ１Ｓ８を起動する。このとき、イベント調整器１Ｓ１０は、原料ガス流量設定器１Ｓ１の原料ガス設定流量Ｑｓを選択するように原料ガス流量比較器１Ｓ２を制御し、アナログスイッチ１Ｓ４－Ａ，１Ｓ４－Ｄをオン状態，アナログスイッチ１Ｓ４－Ｂ，１Ｓ４－Ｃをオフ状態にする。一方、起動直後のタイマ１Ｓ８はアナログスイッチ１Ｓ４－Ｅをオン、アナログスイッチ１Ｓ４－Ｆをオフ状態にする。

　すると、データメモリ１Ｓ６には、圧力設定器１Ｓ１１より設定圧力Ｐｓ、原料ガス流量設定器１Ｓ１より原料ガス設定流量Ｑｓ、オゾン濃度設定器１Ｓ３より原料ガス設定濃度Ｃｓが得られる結果、前述したように設定電力量Ｗｓを電流信号変換器１Ｓ７に出力する。その結果、初期パルス幅設定器１Ｓ１２により初期パルス幅のパルス信号Ｔｗが発生される。このパルス信号Ｔｗの“Ｈ”，“Ｌ”に応じてインバータ２ｂのオン，オフが制御される。

　このように、タイマ１Ｓ８が動作状態となる設定時間Ｔｏ内において、データメモリ１Ｓ６の設定電力量Ｗｓに基づく初期制御が実行される。

　そして、タイマ１Ｓ８が起動後、設定時間Ｔｏ経過すると初期状態を終え、アナログスイッチ１Ｓ４－Ｅをオフ状態、アナログスイッチ１Ｓ４－Ｆをオン状態に切り換える。

　すると、ＰＩＤ制御回路１Ｓ９は、電流変換器１Ｓ１３からの電流信号に基づき、オゾン濃度計５より得られるオゾン濃度Ｃとガス設定濃度Ｃｓとの比較結果を反映して、パルス信号Ｔｗのパルス幅を微小偏位（ΔＴｗ）させることを主としたＰＩＤ制御をオゾン電源２に対して行う。なお、ＰＩＤ制御回路１Ｓ９は電流センサ２ｄの検出電流Ｉによっても微小偏位ΔＴｗを変動させる。このように、運転指令から設定時間Ｔｏ経過後はＰＩＤ制御（Ｗ）に切り替わる。

　次に、オゾン発生ユニット制御信号８６に基づくオゾン発生ユニット７単体の動作について説明する。

　イベント調整器１Ｓ１０は要求オゾン流量Ｑｓ８、要求オゾン濃度Ｃｓ８及び運転情報Ｙ８を指示するオゾン発生ユニット制御信号８６の入力をトリガとしてタイマ１Ｓ８を起動する。このとき、アナログスイッチ１Ｓ４－Ａ，１Ｓ４－Ｄをオフ，アナログスイッチ１Ｓ４－Ｂ，１Ｓ４－Ｃをオン状態にする。さらに、起動直後のタイマ１Ｓ８はアナログスイッチ１Ｓ４－Ｅをオン、アナログスイッチ１Ｓ４－Ｆをオフ状態にする。

　なお、要求オゾン流量Ｑｓ８及び要求オゾン濃度Ｃｓ８は、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎからの処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎが指示する要求オゾン流量Ｑｓ１２及び要求オゾン濃度Ｃｓ１２に基づき、システム管理制御部８４により決定される。

　すると、データメモリ１Ｓ６には、圧力設定器１Ｓ１１より設定圧力Ｐｓ、オゾン発生ユニット制御信号８６が指示する要求オゾン流量Ｑｓ８及び要求オゾン濃度Ｃｓ８が設定流量Ｑｓ及び設定濃度Ｃｓとして得られる結果、前述したように設定電力量Ｗｓを電流信号変換器１Ｓ７に出力する。その結果、初期パルス幅設定器１Ｓ１２により初期パルス幅のパルス信号Ｔｗが発生する。

　このように、オゾン発生ユニット制御信号８６の入力によっても、タイマ１Ｓ８が動作状態となる設定時間Ｔｏ内において、データメモリ１Ｓ６の設定電力量Ｗｓに基づく初期制御が実行される。

　すると、ＰＩＤ制御回路１Ｓ９は、電流変換器１Ｓ１３からの電流信号に基づき、パルス信号Ｔｗのパルス幅を微小偏位（ΔＴｗ）させることを主としたＰＩＤ制御をオゾン電源２に対して行う。

　このように、オゾン制御部１９はオゾン電源２に対する初期制御、ＰＩＤ制御を行う。図７は、１台のオゾン発生ユニット７の２．５ＫＷのオゾン電源２の受電電力とオゾン発生器１で発生するオゾン濃度特性を示すグラフである。

　図７において、オゾン濃度特性Ｌ１１は、オゾンガス流量Ｑが１.２５Ｌ／ｍｉｎ（=１.２５ＳＬＭ）を供給した場合の発生するオゾン濃度特性を示す。この場合は受電電力を１００Ｗ～１．０ｋＷで可変にすれば、発生するオゾン濃度は約０ｇ／ｍ³～３６０ｇ／ｍ³まで可変設定できる。

　同様に、オゾン濃度特性Ｌ１２は、オゾンガス流量Ｑが２.５ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性を示す。この場合は受電電力を１００Ｗ～２．０ｋＷで可変にすれば、発生するオゾン濃度は約０ｇ／ｍ³～３６０ｇ／ｍ³まで可変設定できる。

　オゾン濃度特性Ｌ１３は、オゾンガス流量Ｑが５．０ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性、オゾン濃度特性Ｌ１４は、オゾンガス流量Ｑが７.５ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性、オゾン濃度特性Ｌ１５は、オゾンガス流量Ｑが１０ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性、オゾン濃度特性Ｌ１６は、オゾンガス流量Ｑが２０ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性、オゾン濃度特性Ｌ１７は、オゾンガス流量Ｑが３０ＳＬＭを供給した場合のオゾン濃度特性を示す。

　オゾンガス流量Ｑが５ＳＬＭのオゾンガスを１台のオゾン発生ユニット７から供給した場合は、受電電力２.５ｋＷで最大発生するオゾン濃度は３５０ｇ／ｍ³（オゾン濃度特性Ｌ１３参照）、オゾンガス流量Ｑが７.５ＳＬＭのオゾンガスを供給した場合は、受電電力２.５ｋＷで最大発生するオゾン濃度は３００ｇ／ｍ³（オゾン濃度特性Ｌ１４参照）となる。

　また、オゾンガス流量Ｑが１０ＳＬＭのオゾンガスを供給した場合は、受電電力２.５ｋＷで最大発生するオゾン濃度は２８０ｇ／ｍ³（オゾン濃度特性Ｌ１５参照）、オゾンガス流量Ｑが２０ＳＬＭのオゾンガスを供給した場合は、受電電力２.５ｋＷで最大発生するオゾン濃度は１８０ｇ／ｍ³（オゾン濃度特性Ｌ１６参照）、オゾンガス流量Ｑが３０ＳＬＭのオゾンガスを供給した場合は、受電電力２.５ｋＷで最大発生するオゾン濃度は１４０ｇ／ｍ³（オゾン濃度特性Ｌ１７参照）しか得られない。

　受電電力が２.５ＫＷのオゾン電源２であるオゾン発生ユニット７において、２８０ｇ／ｍ³のオゾン濃度を維持する場合、１台のオゾン発生器１が供給可能な最大流量は１０ＳＬＭであり、すなわち、１台のオゾン発生器１からオゾン濃度を２８０ｇ／ｍ³を満足させる場合、オゾンガス流量１０ＳＬＭ以上のガス流量を供給することはできない。

　一方、本実施の形態のオゾンガス供給システム１０は、オゾンガス出力流量管理ユニット９により、ｎ台オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから供給されるｎ個のオゾンガス出力の１または複数の組合せを、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのうち任意のオゾン処理装置１２に選択的に出力することができる、出力オゾンガス出力制御方式を採用している。

　このため、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０では、オゾンガス出力流量管理ユニット９に設けた各ユニット間に設けたオゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁９ａｂ、９ｂｃ、９ｃａの開閉制御を、図２及び図３に示すように行えば、ｎ台のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎから発生するオゾンガス全てを１台のオゾン処理装置１２－２に供給することができる。したがって、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからそれぞれガス流量：１０ＳＬＭ、オゾンガス濃度２８０ｇ／ｍ³のオゾンガスを出力させることにより、オゾン処理装置１２－２に対し、ガス流量：３０ＳＬＭのオゾンＡガスを供給でき、その際のオゾン濃度は２８０ｇ／ｍ³まで高くすることができる。結果として、現状オゾン発生器の利用でオゾン処理装置の処理能力である処理速度、性能向上等を大幅に向上できる効果がある。

　また、オゾン発生ユニット７で１０ＳＬＭの原料ガスでは、最大２８０ｇ／ｍ³のオゾン濃度しか出力できないが、オゾンガス出力流量管理ユニット９に設けた各ユニット間に設けたオゾンガス制御弁９ａｂ、９ｂｃ、９ｃａの開閉制御を利用すれば、オゾン濃度を高めることもできる。

　例えば、図２及び図３に示すようにオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開閉制御を行って、３台のオゾン発生ユニット７からそれぞれ供給するガス流量を３．３ＳＬＭにすれば、３．３ＳＬＭのオゾン濃度の最大値まで出力濃度が高められ、仮想点Ｐ３に示すように約３３０ｇ／ｍ³のオゾン濃度で総計１０ＳＬＭのオゾンガスが供給でき、オゾンガス供給を受けるオゾン処理装置１２－２のオゾン処理能力を高められる効果がある。

　また、ｎ台のオゾン発生ユニット７を搭載して、オゾンガス出力流量管理ユニット９で構成した出力オゾンガス出力制御方式を採用した本実施の形態のオゾンガス供給システム１０では、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのいずれかが故障して、それに対応するオゾン処理装置１２が使えなくなることはなくなり、故障していないオゾン発生ユニット７から出力されるオゾンガスをオゾンガス制御弁９ａｂ、９ｂｃ、９ｃａを開閉して供給することができ、よりオゾンガス供給の信頼性が高いオゾンガス供給システムを得ることができる。

　例えば、オゾン処理装置１２－２に対応するオゾン発生ユニット７－２が故障している場合、オゾン発生ユニット７－１より供給されるオゾンガスを、オゾンガス制御弁９ａ，９ａｂ、オゾンガス開閉弁２２－２を開状態にしてオゾン処理装置１２－２に供給することができる。

　さらに、ｎ台のオゾン処理装置１２－１～１２－ｎのいずれかが故障や運転停止しても、処理オゾンガスイベント信号１６の運転情報Ｙを取り込むことで、即座にオゾン発生ユニット制御信号８６により、故障したオゾン処理装置１２にオゾンガスを供給しているオゾン発生ユニット７の動作を停止させることができる。

　（効果等）
　上述した実施の形態１では、１つのオゾンガス供給システム１０に複数のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを備え、各オゾン発生ユニット７は、オゾン発生器１、オゾン発生に供給する電力を制御するオゾン電源２、オゾンガス流量Ｑを制御するＭＦＣ３、オゾン発生器１内の圧力Ｐを自動制御するＡＰＣ４、及び出力するオゾン濃度値Ｃを検出するオゾン濃度計５を搭載している。

　そして、オゾンガス供給システム１０は、各オゾン発生器１から出力オゾンガス配管に対応して開閉弁（オゾンガス制御弁９ａ～９ｃ）を設け、かつ、上記各オゾン発生器１の出力オゾンガス配管間にも開閉弁（９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａ）を設けたオゾンガス出力流量管理ユニット９を設けている。

　実施の形態１のオゾンガス供給システム１０は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開閉動作によって、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから出力される複数のオゾンガスの１または２以上の組合せを、オゾン処理装置１２－１のいずれかに選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なシステム統括管理ユニット８（オゾンガス出力流量管理ユニット）を有している。

　したがって、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃを開状態、オゾンガス制御弁９ａｂ，９ｂｃ、９ｃａを閉状態にし、オゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎを開状態にすることにより、１対１に対応するオゾン発生ユニット７－１～７－ｎからオゾン処理装置１２－１～１２－ｎにオゾンガスを供給することにより、供給されるオゾンのガス流量・オゾンガス濃度をオゾン処理装置１２－１～１２－ｎそれぞれ独立に制御することができる。

　加えて、図２及び図３で示したように、２以上のオゾンガス出力の組合せをひとつのオゾン処理装置（オゾン処理装置１２－２）に供給することにより、多様なガス流量及び濃度のオゾンガスを供給することができる。

　さらに、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのうち一部に異常が発生しても、正常動作する残りのオゾン発生ユニット７によって、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのいずれにもオゾンガスを供給することができるため、信頼性が高いオゾンガス供給が実現できる。

　このように、オゾンガス供給システム１０は、システム管理制御部８４からの制御信号Ｓ８によりオゾンガス出力流量管理ユニット９を制御して、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから出力されるオゾンガスの組合せ・選択処理を行い、所望のガス流量、オゾンガス濃度のオゾンガスをオゾン処理装置１２に出力できるようにしている。

　また、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内に設けられたオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａを電気もしくはエアー圧力によって開閉できる電動バルブもしくは空圧弁にして、制御信号Ｓ８の制御下で各オゾン発生ユニット７内のオゾン発生器１から外部に出力するオゾンガスのガス流量、オゾンガス濃度を集中管理することができる。

　また、システム統括管理ユニット８は、漏水センサ６、ＥＭＯ回路８１、ユニット情報Ｉ／Ｆ８２、システム管理制御部８４等を備えることにより、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのいずれかに非常停止、漏水が検知された場合、対応する前記オゾン発生ユニットを停止させることができる。

　さらに、排気センサ２３、オゾン漏洩センサ２４、システム管理制御部８４等を備えることにより、システム全体として排気異常、オゾン漏洩異常を検出したとき、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎを全て停止させることができる。

　このように、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０は、各オゾン発生ユニット７の異常時、オゾンガス供給システム１０全体の異常時等における安全停止機能を備えることにより、安全性の高いシステムを実現することができる。

　＜実施の形態２＞
　実施の形態２ではオゾンガス供給システム１０内におけるオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれに相当する、１単位のオゾン発生ユニット７に着目し、オゾン発生ユニット７の小型化を図ったことを特徴としている。

　図８はオゾン電源２の内部構成の詳細を示す回路図である。図９は実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。

　以下、図８，図９を参照してオゾン発生ユニット７Ｘの小型化について説明する。なお、オゾン発生ユニット７Ｘは実施の形態１のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれとして構成される、１単位のオゾン発生ユニットを意味する。

　図９に示すオゾン発生ユニット７Ｘにおいて、オゾン電源部２、オゾン発生器１それぞれの小型化を実現させ、コンパクト化したオゾン電源部２、オゾン発生器１に加え、原料ガス流量を制御するＭＦＣ３、オゾンガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４を集約しパッケージ化して構造上も１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを実現している。

　さらに、原料ガス配管（原料ガス供給口１４）および出力ガス配管系（オゾンガス出力口１５）をガス配管集積ブロック３０に一体化したガス配管集積ブロック構造することにより、オゾン発生器１、オゾン電源２、ガス配管系をパッケージ化してオゾン発生ユニット７Ｘをより小型にしている。

　このため、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０のように、複数台のオゾン発生ユニット７Ｘをオゾン発生ユニット７－１～７－ｎとして搭載しても、装置全体を大きくすることなく、機能アップ、および信頼性を向上させたオゾンガス供給システムに実現できる。

　（オゾン電源２のコンパクト化）
　図８は、オゾン発生器１およびオゾン電源部２のメイン部品の一体化を実現させてコンパクト化した回路構成を示している。

　オゾン発生器１は、所要のオゾン発生量を得るためには、オゾンを生成するための放電面積として必要面積が必要である。そのため、発生器の占有面積を小さくするため、薄い電極セルを形成し、かつ１つの電極セルの断面積を小さくして、多段積層した電極セルタイプにしてオゾン発生器１を構成したため、非常に占有面積の小さいオゾン発生器１を実現している。

　オゾン電源２は、商用交流電圧を整流するコンバータ２ａ、直流電圧をオゾン発生器に最適な高周波に変換し、出力電圧を制御して所定電力をオゾン発生器に供給するインバータ２ｂ、インバータ２ｂから出力された電圧をオゾン発生器１用に生成するための放電を発生させる電圧まで高電圧に昇圧させるための高電圧回路部２ｃを有しており、オゾン制御部１９によってオゾン電源の注入電力が制御される。

　コンバータ２ａは、整流回路２ａ１、コンデンサバンク２ａ２、平滑リアクトル２ａ３、チョッパー回路部２ａ４及びチョッパー制御回路部２ａ５の直列接続で構成され、インバータ２ｂはインバータ回路２ｂ１とインバータ制御回路２ｂ２とで構成されており、このオゾン電源２のコンバータ２ａとインバータ２ｂの各部品の分類分けし、各部品をモジュール化して回路構成の小型化を実現している。

　すなわち、整流回路２ａ１、コンデンサバンク２ａ２、及び平滑リアクトル２ａ３を一体としてモジュール化した直流・平滑回路部２ａｘとして回路構成の小型化を図り、部品品質を高めた。

　さらに、コンバータ２ａを構成するチョッパー回路部２ａ４とインバータ２ｂを構成するインバータ回路２ｂ１はともにＦＥＴ素子やＩＧＢＴ素子等のパワー半導体で構成され冷却フィンで冷却させる必要があるため、チョッパー回路部２ａ４とインバータ回路２ｂ１とを１つの半導体モジュールとしてモジュール化することにより効果的に小型化されたパワー素子部２ｐを実現する。コンバータ２ａのチョッパー制御回路２ａ５とインバータ２ｂのインバータ制御回路２ｂ２とは、１つの基板化もしくは集積ＩＣ化することで、非常に小型化された電源制御基板２ｑを実現している。

　高電圧回路部２ｃは、インバータ出力電流を限流する直列リアクトルＬ０、高圧に昇圧する高圧トランスＴｒおよび力率改善用の並列リアクトルＬｂで構成されており、各部品が大きく重量の重い部品であるが、直列リアクトルＬ０と並列リアクトルＬｂとを一体で高圧トランスＴｒに機能を組み込めるようにした特殊トランスにした。つまり、直列リアクトルＬ０は高圧トランスの１次漏れインダクタンスを利用して一体構成を形成できるようにトランスを設計した。また並列リアクトルＬｂは、トランスの励磁インダクタンスを大きくとれるトランス設計にし、並列リアクトルＬｂがトランスに機能が盛り込めるようにした。

　さらに、この高圧トランスＴｒを数十ｋＨｚで高周波化することで、軽く、高周波特性の良いフェライトコアーでトランスを形成し、トランスＴｒは設置面積を小さくして、所定容量を確保したトランスにするため、小さなトランスを複数台並列接続で形成するようにして、複数台（図中３台）のトランスを縦型に設置することで、非常に小さい高電圧回路部２ｃを実現させた。但し、インバータの出力電流を制限する直列リアクトルＬ０についてはトランスと一体化せず、独立した小さいリアクトルＬ０で形成しても良い。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　図９は、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４、およびガス配管集積ブロック３０を集約した１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを示している。

　同図において、前面（図中左側）に操作パネル８５－ｉ（ｉ＝１～ｎのいずれか）が設けられており、その背面に集積されたオゾン制御部１９（図示せず）が存在し、このオゾン制御部１９は、集約して設けられたオゾン発生器１及びオゾン電源２（ブロックＢＬ１，ＢＬ２）、並びにＭＦＣ３、オゾン濃度計５、及びＡＰＣ４との電気信号でつながっている。以降、操作パネル８５－ｉが存在する方向をオゾン発生ユニット７Ｘの前面として説明する。

　オゾン発生器１とオゾン電源２は図８で示したように各部品をモジュール化等にすることで、部品点数を減らし、それぞれの部品をコンパクト化と設置面積を小さくし、図９に示すように、１つのオゾン発生ユニット７Ｘにおいてオゾン発生器１を中心にして、オゾン電源２の直流・平滑回路部１Ａｘ、パワー素子部２ｐ、電源制御基板を１つのブロックＢＬ１とし前面に配置し、数台の小型トランスを縦に積層し高電圧回路部２ｃをブロックＢＬ２として形成して分散配置して集積化を図っている。

　オゾン発生器１に対し、原料ガスを供給するＭＦＣ３を含んだガス供給配管系、生成したオゾンガスを外部に出力するガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４を介したオゾンガス出力配管系およびオゾン発生器１の電極を冷却する冷却配管系（冷却水入口１３Ａ，冷却水出口１３Ｂ）が必要となる。これらの配管系は立体配置しなければならないため、既存のガス配管、冷却配管等で各部品を接続すると、配管と部品間の接続継手が多くなり、その継手を接続するためには接続スペースを確保しなければならず、これらの配管系を接続するには非常に大きなスペースが必要となる。

　従来は、オゾン発生ユニット（オゾン発生器）とは別の配管ユニットを例えば背面に設け、発生器ユニットと配管接続を背面で行っていた。そのため、オゾン発生ユニットとガス供給配管系、オゾンガス出力配管系および冷却配管系１３Ａ、１３Ｂをまとめて一体化させることは困難であった。

　実施の形態２においては、それらの配管系を全て１つのガス配管集積ブロック３０に集約し、このガス配管集積ブロック３０内にガス供給配管、オゾンガス出力配管、冷却配管用の配管経路を組み込み、このガス配管集積ブロック３０を立体構造にし、それぞれの面に、オゾン発生器１、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４（以下、これらを総称して「オゾン発生器１等」と略する場合あり）を隣接配置する。そして、オゾン発生器１等とガス配管集積ブロック３０との接続部部分においてＯリングを介したネジ止め等を施すことにより気密を保持し精度の高い配管経路を確保することにより、オゾン発生器１等とガス配管集積ブロック３０との一体化配置を実現させている。またオゾン発生器１等の各部品の取り付け、取り外しが良くなり、メンテナンス性も向上させている。

　このように、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘは、ガス配管集積ブロック３０にオゾン発生器１等を密接して装着している。以下、図９で示すガス配管集積ブロック３０を利用したオゾン発生ユニット７Ｘの配管経路について説明する。ガス配管集積ブロック３０は内部に配管経路Ｒ３０ａ～３０ｆを有しており、冷却水入口１３Ａ、冷却水出口１３Ｂ、原料ガス供給口１４及びオゾンガス出力口１５が側面に取り付けられており、オゾン発生器装着用ボルトＢｔ１～Ｂｔ４を用いてオゾン発生器１を取り付ける構造を呈している。

　また、ＭＦＣ装着用ブロック３３，３３によりＭＦＣ３を挟みこんでガス配管集積ブロック３０に装着し、ＡＰＣ装着用ブロック３４，３４によりＡＰＣ４を挟みこんでガス配管集積ブロック３０に装着し、オゾン濃度計装着用ブロック３５，３５により挟みこんでオゾン濃度計５を装着している。これら装着用ブロック３３～３５内にも配管経路を確保するためのブロック内流路Ｂ３～Ｂ５が形成されている。また、ガスフィルター装着用ブロック３１を用いてガスフィルター５１をガス配管集積ブロック３０に装着している。

　原料ガスＧｍが供給される原料ガス供給口１４からＭＦＣ３を介したオゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１への原料ガス入力配管経路は、原料ガス供給口１４、配管経路Ｒ３０ａ、ブロック内流路Ｂ３、ＭＦＣ３、ブロック内流路Ｂ３、配管経路Ｒ３０ｂ、及びオゾン発生器入力部ＥＴ１の順で形成される経路で構成される。この際、オゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１の周辺に設けられた部分がオゾン発生器装着用ボルトＢｔ１によりガス配管集積ブロック３０に取り付けられる。このように、ガス配管集積ブロック３０を用いて原料ガスＧｍの入力配管経路が形成される。

　オゾン発生器１から出力されるオゾンガスを受けるオゾン発生器出力部ＥＸ１から、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、及びＡＰＣ４を介してオゾンガス出力口１５から出力されるオゾンガス出力配管は、オゾン発生器出力部ＥＸ１、配管経路Ｒ３０ｃ、ガスフィルター装着用ブロック３１内、ガスフィルター５１、ガスフィルター装着用ブロック３１内、配管経路Ｒ３０ｄ、ブロック内流路Ｂ５、オゾン濃度計５、ブロック内流路Ｂ５、配管経路Ｒ３０ｅ、ブロック内流路Ｂ４、ＡＰＣ４、ブロック内流路Ｂ４、配管経路Ｒ３０ｆ、及びオゾンガス出力口１５の順で形成される経路で構成される。この際、オゾン発生器１のオゾン発生器出力部ＥＸ１の周辺に設けられた部分がオゾン発生器装着用ボルトＢｔ２によりガス配管集積ブロック３０に取り付けられる。このように、ガス配管集積ブロック３０を用いてオゾンガスの出力配管経路が形成される。

　図２５はオゾン発生ユニット７Ｘに対応する従来の構成を模試的に示す説明図である。同図に示すように、従来は、オゾン発生ユニット７Ｘに対応する構成は、ガス制御ユニット４００、インバータ制御ユニット５００、オゾン発生ユニット６００によって分離構成されるのが一般的であった。

　ガス制御ユニット４００は内部にＭＦＣ７３、ＡＰＣ７４、オゾン濃度計７５及びガスフィルター９１を有している。インバータ制御ユニット５００は内部にコンバータ２ａ、インバータ２ｂ、オゾン制御部７９、操作パネル８５－ｉ、直列リアクトルＬ０等を有している。オゾン発生ユニット６００はオゾン発生器７１及び高圧トランスＴｒ，並列リアクトルＬｂから構成される。

　また、コンバータ２ａ内は整流回路２ａ１、コンデンサバンク２ａ２、平滑リアクトル２ａ３、チョッパー回路部２ａ４、チョッパー制御回路部２ａ５により構成され、インバータ２ｂはインバータ回路２ｂ１及びインバータ制御回路２ｂ２により構成される。なお、接続関係、動作内容の説明は省略する。

　従来のオゾンガス供給システムや、従来のオゾン発生装置では、図２５に示すように、ガス制御ユニット４００、オゾン電源に相当するインバータ制御ユニット５００、及びオゾン発生ユニット６００と３つに分割した各ブロック間において電気的接続やガス配管による接続することしかできず、図９で示す構造は実現不可能であった。

　図９に示すように、オゾン発生ユニット７Ｘは、これらの３つのユニット（４００，５００，６００）を集約して、図２５で示した構成に比べ、大幅に小型化を実現させている。

　このように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎは、それぞれ実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘとして、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５及びガスフィルター５１を１つに集約して１単位にパッケージ化した構造を呈している。

　その結果、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０のように、内部にオゾン発生ユニット７Ｘを複数台搭載でき、オゾン発生ユニット７Ｘの出力配管同士をガス制御弁９で接続することにより、実施の形態１で述べたように、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎの各オゾン処理装置１２にオゾンガスを分散供給したり、１つのオゾン処理装置１２に多量のオゾンガスや高濃度のオゾンガスを選択的に供給したりすることができる。

　このように、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘは、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５、原料ガス供給口１４、オゾンガス出力口１５、冷却水入口１３Ａ及び冷却水出口１３Ｂを集約して一体化構造で形成することにより、従来の同様な構成に比べ、大幅な小型化を図ることができる。

　加えて、オゾン発生ユニット７Ｘにおけるガス配管集積ブロック３０は、複数の内部配管経路である配管経路Ｒ３０ａ～Ｒ３０ｆを有しているため、配管経路Ｒ３０ａ～Ｒ３０ｆと、オゾン発生器１、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５、原料ガス供給口１４、オゾンガス出力口１５並びに冷却水入出口１３Ａ及び１３Ｂそれぞれとが繋がることにより、上記原料ガスＧｍの入力配管経路及び上記オゾンガスの出力配管経路が形成されるため、これらの配管経路を含めた小型化を効果的に図ることができる。

　このように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎは、それぞれ実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘとして小型化を図ることにより、実施の形態１で示したオゾンガス供給システム１０を実用レベルで実現可能にすることができる。

　＜実施の形態３＞
　実施の形態３では実施の形態２と同様、１単位のオゾン発生ユニット７に着目し、オゾンガス出力流量管理ユニット９をも組み合わせたオゾン発生ユニット７の小型化を図ったことを特徴としている。

　（オゾンガス出力流量管理ユニットの制御）
　図１０は図１で示したオゾンガス供給システム１０に相当する、実施の形態３のオゾンガス供給システム２０によるオゾンガス出力流量管理ユニットの内部構成を示す説明図である。

　図１０に示すように、実施の形態１のオゾンガス出力流量管理ユニット９に相当する実施の形態３のオゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙは、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれと対応する部分が一体的に形成される。以下、図１０では、説明の都合上、ｎ＝３の場合を例に挙げて説明する。

　オゾン発生ユニット７－１～７－ｎに対応してオゾンガス制御弁９ａ～９ｃが一体的に設けられ、オゾンガス制御弁９ａ～９ｃに密接して装着ブロック９３ａ～９３ｃが設けられる。装着ブロック９３ａ、９３ｂ、及び９３ｃの一方経路側（図中上方）にはオゾンガス制御弁９ａｂ、オゾンガス制御弁９ｂｃ及びオゾンガス制御弁９ｃａを設けている。

　そして、装着ブロック９３ａの一方経路側のオゾンガス制御弁９ａｂが配管継手９８ｕ、ユニット間オゾンガス配管９５ａｂ、配管継手９８ｄを介して装着ブロック９３ａｂの他方経路（図中下方）と繋がる。同様にして、装着ブロック９３ａｂの一方経路側のオゾンガス制御弁９ａｂが配管継手９８ｕ、ユニット間オゾンガス配管９５ｂｃ、及び配管継手９８ｄを介して装着ブロック９３ａｃの他方経路と繋がり、装着ブロック９３ａｃの一方経路側のオゾンガス制御弁９ｃａが配管継手９８ｕ、ユニット間オゾンガス配管９５ｃａ及び配管継手９８ｄを介して装着ブロック９３ａの他方経路と繋がる。

　さらに、装着ブロック９３ａ～９３ｃの出力部（図中右方）からオゾンガス出力口２５－１～２５－ｎを介して実施の形態３のオゾンガス供給システム２０の外部に出力される。

　したがって、オゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙはオゾンガス出力流量管理ユニット９と回路構成として同様なオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａを有している。

　そして、オゾンガス出力口２５－１～２５－ｎとオゾン処理装置１２－１～１２－ｎとの間にオゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎが介挿される。

　オゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙを構成するオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａにおいて、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃはノーマリオープンタイプ（ＮＯ），オゾンガス制御弁９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａはノーマリクローズタイプ（ＮＣ）である。

　そして、システム統括管理ユニット８のシステム管理制御部８４からの制御信号Ｓ８ａがオゾンガス制御弁９ａ及びオゾンガス制御弁９ａｂに与えられ、制御信号Ｓ８ｂがオゾンガス制御弁９ｂ及びオゾンガス制御弁９ｂｃに与えられ、制御信号Ｓ８ｃがオゾンガス制御弁９ｃ、及びオゾンガス制御弁９ｃａに与えられる。

　このように、システム統括管理ユニット８のシステム管理制御部８４からの制御信号Ｓ８（Ｓ８ａ～Ｓ８ｃ）に基づき、オゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙのオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開状態、閉状態が制御される。

　図１０では、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのうち、オゾン処理装置１２－２の１台のみ運転しており（オゾンガス開閉弁２２－２が開状態）、オゾン処理装置１２－２に対するオゾンガス流量としては、３０ＳＬＭのオゾンガスを供給した場合のオゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙの状態を示している。

　すなわち、システム管理制御部８４からのオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎによりオゾン発生ユニット７－１～７－ｎからそれぞれ１０ＳＬＭのオゾンガスを出力させ、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂを開状態（黒塗り潰し）にして、オゾンガス制御弁９ｃａを閉状態（白抜き）にしている。

　一方、前述したように、オゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎのうち、オゾンガス開閉弁２２－２のみを開状態にし、オゾンガス開閉弁２２－１及び２２－ｎを閉状態としている。オゾン処理装置１２－２のみ使用して他のオゾン処理装置１２は使用しない場合オゾンガス開閉弁２２を閉にするようにしたが、全くオゾン処理装置がない場合は使用していないオゾンガス出口である２５－１、２５－ｎの配管部分を強制的に配管キャップ継手で栓をしてもよい。さらにオゾンガス供給システム１０内の各オゾン発生ユニット間接続配管９５ａｂ、９５ｂｃ、９５ｃａのいずれかを配管しない場合は配管継手である９８u、９８ｄのいずれかを配管キャップ継手にして栓することで、出力オゾンガスを遮断することは言うまでもない。

　このように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ及びオゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙを制御して、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからそれぞれ１０ＳＬＭの流量のオゾンガスを出力させることにより、オゾンガス出力流量管理ユニット９を介してオゾン処理装置１２－２に対してガス流量３０ＳＬＭのオゾンガスを供給することができる。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　図１１は実施の形態２の１単位のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。図１１に示すように、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｙは、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、オゾン濃度計５、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４、およびガス配管集積ブロック３０に加え、オゾンガス出力流量管理ユニット９の構成部分をも集約している。

　図１１に示すように、オゾンガス出力流量管理ユニット９の構成部分をガス配管集積ブロック３０に装着すべく、ブロック本体９３０ａ及び９３０ｂ（図１０の装着ブロック９３ａ～９３ｃのいずれかに相当）を中心にして、オゾンガス制御弁収納部９３１，９３２、オゾンガス出力部９３３、オゾンガス分岐部９３４，９３５を設けている。

　オゾンガス制御弁収納部９３１は内部にオゾンガス制御弁９０ｘ（オゾンガス制御弁９ａ～９ｃのいずれかに相当）を収納しており、オゾンガス制御弁収納部９３２は内部にオゾンガス制御弁９０ｘｙ（オゾンガス制御弁９ａｂ，９ｂｃ及び９ｃａのいずれかに相当）を収納している。オゾンガス出力部９３３は、図９で示した実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘのオゾンガス出力口１５に相当し、図１０のオゾンガス出力口２５に繋がる。オゾンガス分岐部９３４が図１０で示した配管継手９８ｕに繋がる一方経路側の分岐部（ユニット間オゾンガス空圧弁配管接続口）として機能し、オゾンガス分岐部９３５は図１０で示した配管継手９８ｄに繋がる他方形路側の分岐部（ユニット間オゾンガス空圧弁配管接続口）として機能する。

　実施の形態３においては、実施の形態２と同様、ガス供給配管系、オゾンガス出力配管系および冷却配管系１３Ａ、１３Ｂを全て１つのガス配管集積ブロック３０に集約し、オゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙの構成部分を組み合わせて、ガス配管集積ブロック３０内にガス供給配管、オゾンガス出力配管、冷却配管それぞれの配管経路を組み込んでいる。

　原料ガスＧｍが供給される原料ガス供給口１４からＭＦＣ３を介したオゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１への原料ガス入力配管は、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘとほぼ同様に、原料ガス供給口１４、配管経路Ｒ３０ａ、ブロック内流路Ｂ３、ＭＦＣ３、ブロック内流路Ｂ３、配管経路Ｒ３０ｂ、及びオゾン発生器入力部ＥＴ１の順で形成される経路で構成される。

　オゾン発生器１のオゾン発生器出力部ＥＸ１から、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、及びＡＰＣ４を介してブロック本体９３０ｂまでのオゾンガス出力配管は、オゾン発生器出力部ＥＸ１、配管経路Ｒ３０ｃ、ガスフィルター装着用ブロック３１内、ガスフィルター５１、ガスフィルター装着用ブロック３１内、配管経路Ｒ３０ｄ、ブロック内流路Ｂ５、オゾン濃度計５、ブロック内流路Ｂ５、配管経路Ｒ３０ｅ、ブロック内流路Ｂ４、ＡＰＣ４、ブロック内流路Ｂ４、配管経路Ｒ３０ｆ、ブロック本体９３０ａ（内側部分）、オゾンガス制御弁９０ｘ、配管経路Ｒ３０ｇ、ブロック本体９３０ｂ（外側部分）の順で形成される経路で構成される。なお、ブロック本体９３０ａ及び９３０ｂを一体的に構成し、ガス配管集積ブロック３０内を貫通して形成しても良い。

　ブロック本体９３０ｂ内において、オゾンガス制御弁９０ｘｙを介してオゾンガス分岐部９３４に繋がる一方分岐経路と、オゾンガス分岐部９３５に繋がる他方分岐経路と、上記一方及び他方分岐経路と上記オゾンガス出力配管とが合流した後、オゾンガス出力部９３３から出力される合流経路が形成される。

　なお、他の構成及び配管経路等は、図９で示したオゾン発生ユニット７Ｘと同様であるため、説明を省略する。

　実施の形態３のオゾンガス供給システム２０において、各々がオゾンガス制御弁９０ｘ，９０ｘｙを収納する複数のオゾンガス制御弁収納部９３１，９３２はそれぞれ対応するオゾン発生ユニット７Ｙにおけるガス配管集積ブロック３０に密着して装着され、上記オゾンガスの出力配管経路上に介挿されている。

　このため、オゾンガス供給システム２０内において、オゾンガス出力流量管理ユニット９Ｙ及びオゾン発生ユニット７－１～７－ｎの組合せ構造の小型化を図ることができる効果を奏する。

　このように、実施の形態３のオゾン発生ユニット７Ｙは、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘの特徴に加え、オゾンガス出力流量管理ユニット９の構成部分の大半とガス配管集積ブロック３０との一体化を図ることにより、実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘとオゾンガス出力流量管理ユニット９とを別途構成する場合に比べ、より一層の小型化を図ることができる。

　＜実施の形態４（基本構成：第１の態様）＞
　図１２は本発明の実施の形態４（基本構成：第１の態様）であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。

　（全体構成）
　図１２に示すように、オゾンガス供給システム１０１は内部にｎ（≧２）個のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを有しており、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ間で共通の水分除去フィルター５９を１個有している。水分除去フィルター５９は、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスに含まれる微量の水分をトラップ（除去）できる機能を有している。このように、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１は、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスを水分除去フィルター５９を通過させた後、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの原料ガス供給口１４－１～１４－ｎに供給している。

　以下、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのうちオゾン発生ユニット７－２を代表して取り上げその内部構成を図１２中心に参照して説明する。

　オゾンガス供給システム１０１の原料ガス供給口１４から水分除去フィルター５９を介して、原料ガスが、原料ガス供給口１４－２及びＭＦＣ３を経由してオゾン発生ユニット７－２内のオゾン発生器１に供給される。オゾン発生器１の内部は酸素ガスを含んだ高純度ガス（原料ガス）が充満されており、オゾンガス供給システム１０１内のオゾン電源２から高周波高電圧ＨＶ，ＬＶがオゾン発生器１内の電極間に印加され、この電極間で誘電体バリア放電（無声放電）をすることにより、放電空間のガスが放電によって酸素ガスが解離され、酸素原子になり、この酸素原子と酸素ガス（酸素分子）との化学結合で、以下の式(1)，式(2)に示すようにオゾンガスを生成される。なお、オゾン電源２は後に詳述するがコンバータ２ａ、インバータ２ｂ及び高電圧回路部２ｃにより構成される。また、式(2)のＭは、三体衝突の第三体を意味する。

　原料ガスの酸素ガス（Ｏ₂）と無声放電で、上記のような式(1)，式(2)で示す化学反応でオゾンガス（Ｏ₃）が生成されるが、原料ガスには、酸素ガス以外に窒素ガス（Ｎ₂）などの不純物が１～２ＰＰＭ程度（１０¹⁴個/ｃｍ³）含まれる。また、原料ガスに含まれる水分量は、通常ガスの露点が－７０℃程度に管理されているため、図２６に示すように、１ＰＰＭ（１０¹⁴個/ｃｍ³）～１０ＰＰＭ（１０¹⁵個/ｃｍ³）程度含まれる。なお、図２６原料ガスの露点と原料ガスに含まれる水分量との関係を示す説明図である。これらの窒素ガスや水分も無声放電によって、分子ガスが解離して、窒素酸化物や水素酸化物や窒素と水素化合物であるヒドラジン（Ｎ₂Ｈ₄）化合物等のガスもオゾンガス発生器内で生成され、オゾンガスとともに出力される。

　これらの化合物ガスで、特に以下の式(3)～式(7)に示すような過程を経て活性ガスが生成されると、非常に活性なガスであるため、オゾンガスを取り出すための配管経路やＡＰＣ４やＭＦＣ３やガス開閉バルブ（弁）等のオゾンガスとの接触部分で、金属表面で腐食化学反応をして、部品の発熱や金属腐食が生じ、上記の部品等の故障の原因になっていた。さらに出力するオゾンガス自身も金属腐食の結果生じる金属コンタミネション（金属コンタミ）が多量に含まれるガスになり、オゾンガスの品質も悪くなっていた。

　上記のように、式(3)及び式(4)の化学反応を経て、水分解反応から硝酸クラスターガス（ＨＮＯ₃）が生成され、式(5)～式(7)の化学反応を経て、ＯＨラジカルガスが生成される。

　原料ガス中に含まれる水分によって、上記の化学式(3)～(7)で示すような、硝酸クラスターガス、ＯＨラジカル、ＯＨラジカルイオン等は非常に活性であり、比較的寿命の長いガスがオゾン発生器１内で生成され、生成したオゾンガスとともに出力される。このため、配管経路やＡＰＣやＭＦＣやガス開閉バルブ等のオゾンガスとの接触部分で、金属表面で腐食化学反応をして、部品の発熱や金属腐食を生じ、上記の部品等の故障の原因になっていたことが、実験等で明らかになった。そのため、これらの活性ガスの生成量を減らすには、オゾンガスに供給される原料ガス中に含まれる水分量を減らすことが重要であることが明らかになった。

　この原料ガス中に含まれる窒素ガス等の不純物や水分量は、正常時は、ガスの成分量で決まるが、実際の稼動している装置では、装置の運転開始時やメンテナンス等の過渡時においては、ガス供給部等の配管面にも、窒素ガスや水分が付着しており、これらの付着したものが、原料ガスとともに放出されれば、１～２ＰＰＭを超える不純物量や水分量がオゾン発生器１に入り込み、上記の悪影響を及ぼすガスが、オゾンガスに混じって出力されることになる。

　上記の点を考慮して、オゾン発生器１に供給される原料ガスに含まれる水分を取り除くためには、オゾンガス供給システム１０１内の原料ガス供給口１４の近傍に供給される原料ガス中の水分を吸着等による除去する水分除去フィルター５９を設けることが、非常に効果的であることが分かった。なお、水分除去フィルター５９は吸着用にシリカゲルを用いたり、ヒーター加熱を利用したりする構成によって実現される。

　水分除去フィルター５９の性能としては、特に、原料ガスに含まれる水分量を３００ＰＰＢ未満にすることのできる水分除去フィルター５９が好適な結果となった。

　オゾンを安定出力するには、オゾン発生器１に供給する原料ガスのガス種の限定、特に、原料ガスに含まれる水分量の抑制が重要であるとともに、流量値やオゾン発生器内のガス圧力や電極を冷却する水温、水量等の環境条件を一定に調整する機能が重要である。

　すなわち、原料ガスに含まれる水分量の抑制に水分除去フィルター５９を用い、上記流量値の調整にＭＦＣ３が用いられ、オゾン発生器１内のガス圧力の調整にＡＰＣ３が用いられ、電極を冷却する水温、水量等の環境条件を一定にするために冷却水入口１３ａ－１～１３ａ－ｎからの冷却水による冷却機能が用いられている。このような機能を有する制御手段（ＭＦＣ３、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５及びガスフィルター５１）を下記に記する。

　オゾンガス供給システム１０１の原料ガス供給口１４、水分除去フィルター５９、オゾン発生ユニット７－２の原料ガス供給口１４－２から得られる所定の原料ガス流量Ｑの原料ガスが、ガス流量コントローラ（ＭＦＣ）３を介してオゾン発生器１に一定流量で原料ガスが供給される。

　オゾンガス出力配管ガスラインの具体的な構成としては、オゾン発生器１内で生成したオゾンガスから不純物や異物を除去するガスフィルター５１に通した後、オゾン濃度計５、発生器圧力を自動で所定圧力に調整する自動圧力調整器（ＡＰＣ）４を介して連続的に所定のオゾン濃度Ｃを有するオゾン（化酸素）ガスをオゾンガス出力口１５－２からオゾン発生ユニット７－２の外部に出力している。

　これらＭＦＣ３、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５及びガスフィルター５１によりオゾン発生器１に関連した制御手段を構成する。制御手段としてはＭＦＣ３、ＡＰＣ４、オゾン濃度計５及びガスフィルター５１のうち、少なくとも２つの手段を有することが安定したオゾンガスを供給する点で望ましい。

　また、オゾンガス供給システム１０１内に設けられるシステム統括管理ユニット８は、装置内を排気ダクト１１から真空引きし負圧状態に監視するための排気センサ２３、オゾン漏洩センサ２４それぞれの検出情報を受けている。そして、システム統括管理ユニット８は、排気センサ２３による排気異常、オゾン漏洩センサ２４による漏洩異常を受けると、システム管理制御部８４より全てのオゾン発生ユニット７－１～７－ｎに停止を指示するオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎを与え、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの運転を停止させる。

　ユニット情報Ｉ／Ｆ８２は、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎからユニット情報信号１７－１～１７－ｎの授受を行う機能を有している。

　ユーザ情報Ｉ／Ｆ８３は、前述したように、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎからの指令信号である処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎ（要求オゾン流量Ｑｓ１２、要求オゾン濃度Ｃｓ１２、運転情報Ｙ、装置No.等を指示）を受信する機能を有している。

　システム管理制御部８４は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁（9a、9b、9c、9ab、9bc、9ca）を開閉制御するための指令である制御信号Ｓ８を出力し、オゾンガス出力流量管理ユニット９内の統括制御を行う。システム管理制御部８４はメイン操作パネル８５との情報の授受も行う機能を有している。

　図１２に示すように、オゾンガス供給システム１０１は冷却水入口１３Ａ及び冷却水出口１３Ｂを有し、冷却水入口１３Ａから冷却水入口１３ａ－１～１３ａ－ｎを介してオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に図示しない外部の冷却装置からの冷却水を取り込み、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから冷却後の水を冷却水出口１３ｂ－１～１３ｂ－ｎを介して冷却水出口１３Ｂから外部に出力している。

　ここでは、詳細を記載しないが、外部の冷却装置からの冷却水の水量および水温は、一定値のものを供給されるように制御されている。

　オゾンガス供給システム１０１は原料ガス供給口１４を有し、原料ガス供給口１４から水分除去フィルター５９を通し、さらに、原料ガス供給口１４－１～１４－ｎを介してオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に外部から原料ガスを取り込んでいる。

　オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのオゾンガス出力口１５－１～１５－ｎは内部のオゾンガス出力流量管理ユニット９に接続され、オゾンガス出力流量管理ユニット９からオゾンガス出力口２５－１～２５－ｎを介してオゾンガス供給システム１０１の外部にオゾンガスが出力される。

　ｎ台のオゾン処理装置１２－１～１２－ｎから出力される処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎはユーザ情報Ｉ／Ｆ８３を介してシステム管理制御部８４に取り込まれる。処理オゾンガスイベント信号１６（１６－１～１６－ｎ）は要求オゾン流量Ｑｓ１２、原料ガス設定濃度Ｃｓ１２及び運転情報Ｙ等を指示している。システム管理制御部８４は処理オゾンガスイベント信号１６－１～１６－ｎに基づき、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎを制御するオゾン発生ユニット制御信号８６－１～８６－ｎを出力する機能を有している。

　（オゾンガス出力流量管理ユニットの制御）
　オゾンガス供給システム１０１のオゾンガス出力流量管理ユニット９の構成及び動作は、図２で示した実施の形態１のオゾンガス供給システム１０におけるオゾンガス出力流量管理ユニット９と同様であるため、説明を省略する。

　（メイン操作パネル）
　オゾンガス供給システム１０１のメイン操作パネル８５は、図３で示した実施の形態１のオゾンガス供給システム１０におけるメイン操作パネル８５と同様であるため、説明を省略する。

　（オゾン制御部（データメモリ１Ｓ６））
　オゾンガス供給システム１０１におけるオゾン制御部１９の構成及び動作は内部のデータメモリ１Ｓ６を含め、図４～図７で示した実施の形態１のオゾンガス供給システム１０におけるオゾン制御部１９及びデータメモリ１Ｓ６の場合と同様であるため、説明を適宜省略する。

　（効果等）
　上述した実施の形態４では、原料ガス供給口１４に水分除去フィルター５９を装着し、１つのオゾンガス供給システム１０１に複数のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを備え、各オゾン発生ユニット７は、オゾンガスを発生させる手段を有するオゾン発生器１、オゾン発生に供給する電力を供給と制御する手段を有するオゾン電源２、原料ガスもしくはオゾンガス流量Ｑを一定値に制御する手段を有するＭＦＣ３、オゾン発生器１内の圧力Ｐを一定に制御する手段を有する自動制御するＡＰＣ４、及び出力するオゾンガスの濃度値Ｃを検出する手段を有するオゾン濃度計５を搭載している。

　そして、オゾンガス供給システム１０１は、各オゾン発生器１から出力オゾンガス配管に対応して開閉弁（オゾンガス制御弁９ａ～９ｃ）を設け、かつ、上記各オゾン発生器１の出力オゾンガス配管間にも開閉弁（９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａ）を設けたオゾンガス出力流量管理ユニット９を設けている。

　実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内のオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａの開閉動作によって、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから出力される複数のオゾンガスの１または２以上の組合せを、オゾン処理装置１２－１のいずれかに選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なシステム統括管理ユニット８（オゾンガス出力流量管理ユニット）を有している。

　したがって、オゾンガス供給システム１０１内に設けた水分除去フィルター５９によって、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスを原料ガス中に含まれる水分量が１～１０ＰＰＭ程度のものが、１０～１００ＰＰＢ程度まで下げられため、オゾン生成とともに、水分と不純物と無声放電によって生成される硝酸クラスター（ＨＮＯ₃）やＯＨラジカルガスやＯＨラジカルイオンガスやＨＯ₃ ⁺イオン等の活性ガスを減少させることができる。このため、オゾン発生器１のオゾンガス出力部に設けたＡＰＣ４、ＭＦＣ３、オゾン濃度計５（オゾンモニタ）やガス開閉バルブ（弁）やオゾン処理装置１２－１～１２－ｎが硝酸イオンクラスター（ＨＮＯ₃）やＯＨラジカルガスやＨＯ₃ ⁺イオン等の活性ガスによる消耗や故障を抑制できる。

　また、出力するオゾンガスとして、硝酸クラスター（ＨＮＯ₃）やＯＨラジカルガスや金属コンタミネションが少ない品質の高いオゾンガスを提供することができる。

　このように、実施の形態４におけるオゾンガス供給システム１０１では、原料ガス供給口１４に供給する原料ガスに含まれる微量の水分をトラップできる機能を有した水分除去フィルター５９を設けることで、オゾン発生器１に供給する原料ガスは、水分除去フィルター５９によって、原料ガスに含まれる水分量を３００ＰＰＢ以下にして品質の高いオゾンガスを供給することができる効果を奏する。

　上述したように、実施の形態５のオゾンガス供給システム１０１では、水分除去フィルター５９を装着するようにしている。その結果、より露点の高いオゾンガスを提供するだけでなく、装着した水分除去フィルター５９で、水分量を取り除くことができるため、オゾンガスを発生させる前のパージガスを流す時間を大幅に短縮させることができ、装置の立ち上げ時間を大幅に短縮できる効果を奏する。

　加えて、オゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃを開状態、オゾンガス制御弁９ａｂ，９ｂｃ、９ｃａを閉状態にし、オゾンガス開閉弁２２－１～２２－ｎを開状態にすることにより、１対１に対応するオゾン発生ユニット７－１～７－ｎからオゾン処理装置１２－１～１２－ｎにオゾンガスを供給することにより、供給されるオゾンのガス流量・オゾンガス濃度をオゾン処理装置１２－１～１２－ｎそれぞれ独立に制御することができる。

　そして、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１は、実施の形態１と同様、図２及び図３で示したように、２以上のオゾンガス出力の組合せをひとつのオゾン処理装置（オゾン処理装置１２－２）に供給することにより、多様なガス流量及び濃度のオゾンガスを供給することができる。

　さらに、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎのうち一部に異常が発生しても、正常動作する残りのオゾン発生ユニット７によって、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのいずれにもオゾンガスを供給することができるため、信頼性が高いオゾンガス供給が実現できるとともに出力オゾンガスに含まれる活性ガスの少ない品質の高いオゾンガスを提供できる。

　このように、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１は、実施の形態１のオゾンガス供給システム１０と同様、システム管理制御部８４からの制御信号Ｓ８によりオゾンガス出力流量管理ユニット９を制御して、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎから出力されるオゾンガスの組合せ・選択処理を行い、所望のガス流量、オゾンガス濃度のオゾンガスをオゾン処理装置１２に出力できるようにしている。

　また、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１は、オゾンガス出力流量管理ユニット９内に設けられたオゾンガス制御弁９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａを電気もしくはエアー圧力によって開閉できる電動バルブもしくは空圧弁にして、制御信号Ｓ８の制御下で各オゾン発生ユニット７内のオゾン発生器１から外部に出力するオゾンガスのガス流量、オゾンガス濃度を集中管理することができる。

　このように、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１（第１の態様）は、各オゾン発生ユニット７の異常時、オゾンガス供給システム１０１全体の異常時等における安全停止機能を備えることにより、安全性の高いシステムを実現することができる。

　＜実施の形態４の第２の態様＞
　実施の形態４の第２の態様は、図８及び図９で示した実施の形態２と同様に、オゾン電源部２、オゾン発生器１それぞれの小型化を実現させ、コンパクト化した電力を供給し、電力量を制御する手段を有したオゾン電源部２、オゾンガスを発生する手段を有したオゾン発生器１に加え、原料ガス流量を制御する手段を有したＭＦＣ３、オゾンガスの不純物を取り除く手段を有したガスフィルター５１、出力するオゾンガス濃度を検知する手段を有したオゾン濃度計５、オゾン発生器内のガス圧力を一定値に制御する手段を有したＡＰＣ４を集約しパッケージ化して構造上も１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを実現することができる。

　（オゾン電源２のコンパクト化）
　実施の形態４においても、実施の形態１の図８で示した回路構成を採用することにより、オゾン発生器１およびオゾン電源部２のメイン部品の一体化を実現させてコンパクト化した回路構成を実現できる。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　実施の形態４においも、図９で示した実施の形態１と同様、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４、およびガス配管集積ブロック３０を集約した１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを実現することができる。

　従来のオゾンガス供給システムや、従来のオゾン発生装置では、実施の形態１で説明した図２５に示すように、ガス制御ユニット４００、オゾン電源に相当するインバータ制御ユニット５００、及びオゾン発生ユニット６００と３つに分割した各ブロック間において電気的接続やガス配管による接続することしかできず、図９で示す構造は実現不可能であった。

　また、原料ガスは、設置されたユーティリティーにある原料ガスを直接オゾンガス供給システムに供給するようにしていたため、オゾン発生器に供給する原料ガス中に含まれる水分量を抑制する手段を有せず、オゾンガス出力部に設けたガス制御機器の故障率が高かった。

　実施の形態４の第２の態様においても、実施の形態１と同様、図９に示すように、オゾン発生ユニット７Ｘは、これらの３つのユニット（４００，５００，６００）を集約して、図２５で示した構成に比べ、大幅に小型化を実現させ、かつ、図１２で示すオゾンガス供給システム１０１の原料ガス供給口１４に水分除去フィルター５９を装着したので、オゾンガス出力部に設けたガス制御機器の故障率が低減でき、品質の高いオゾンガスを提供できる。

　このように、実施の形態４のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎは、実施の形態１と同様、オゾン発生ユニット７Ｘとして、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ＡＰＣ４及びオゾン濃度計５を１つに集約して１単位にパッケージ化した構造を呈している。

　その結果、実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１のように、内部にオゾン発生ユニット７Ｘを複数台搭載でき、オゾン発生ユニット７Ｘの出力配管同士をガス制御弁９で接続することにより、実施の形態４で述べたように、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎの各オゾン処理装置１２にオゾンガスを分散供給したり、１つのオゾン処理装置１２に多量のオゾンガスや高濃度のオゾンガスを選択的に供給したりすることができる。

　＜実施の形態４の第３の態様＞
　実施の形態４の第３の態様として、図１０及び図１１で示した実施の形態３と同様、１単位のオゾン発生ユニット７に着目し、オゾンガス出力流量管理ユニット９をも組み合わせたオゾン発生ユニット７の小型化を図ることもできる。

　（オゾンガス出力流量管理ユニットの制御）
　実施の形態３で示した図１０のオゾンガス供給システム２０を、図１２で示したオゾンガス供給システム１０１に相当する構成として、実施の形態４の第３の態様として実現することができる。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　実施の形態３で示した図１１のオゾン発生ユニット７Ｙのように、オゾンガス供給システム１０１のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれを構成して、実施の形態４の第３の態様として実現することができる。

　＜実施の形態５＞
　図１３は本発明の実施の形態５であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。

　実施の形態５のオゾンガス供給システム１０２では実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１と同様、オゾンガス供給システム１０２構成内に原料ガス供給口１４より供給される原料ガスに含まれる水分をトラップする目的の水分除去フィルター５９－１～５９－ｎを設けている。ただし、水分除去フィルター５９－１～５９－ｎは、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎに１対１に対応して設けられており、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス供給部入口近傍に設けられる。水分除去フィルター５９－１～５９－ｎはそれぞれオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に供給する原料ガスの水分量を抑制することで、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれ内で生成するオゾンガスの品質を高めることを特徴としている。このように、実施の形態５のオゾンガス供給システム１０２は、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスを水分除去フィルター５９－１～５９－ｎを通過させた後、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの原料ガス供給口１４－１～１４－ｎに供給している。

　特に、実施の形態５のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれは、１単位のオゾン発生ユニット７の原料ガス入り口部に、ガス中に含まれる水分をトラップする水分除去フィルター５９（水分除去フィルター５９－１～５９－ｎのいずれか）を装着するようにして、実施の形態２と同様の組み合わせたオゾン発生ユニット７の小型化を図ったことを特徴としている。

　（原料ガスのガス純度管理）
　図１４は実施の形態５の１単位のオゾン発生ユニット７Ｘ２の組合せ構造を模式的に示す斜視図である。

　図１３、図１４に示すように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス入り口１４－１～１４－ｎに、交換が容易な位置に水分除去フィルター５９（５９－１～５９－ｎ）を装着して、一体的に形成される。以下、図１３では、説明の都合上、ｎ＝３の場合を例に挙げて説明する。

　また、この水分は空気中にも含まれるガスであるため、原料ガス配管経路の一部の配管を大気に開放すると、すぐに、配管面に水分が吸着される。そのため、この水が吸着された原料ガス配管に原料ガスを流すと、高純度原料ガスに含まれる水分量だけでなく、配管に付着した水分も、ガスを流すことにより、離脱して、供給する原料ガスの露点が、図２６に示すように、高くなり、原料ガス中に含まれる水分量が例えば、１０ＰＰＭ以上に高くなる場合がある。

　原料ガスに、窒素系ガス、炭素系ガス、硫化ガス等の不純物ガスや水分が含まれるとオゾンガスの生成だけでなく、放電によってＮラジカルやＯＨラジカルガスも生成されるため、これらのラジカルガスと水分が結合することで、硝酸ガスやＯＨラジカルとしてクラスター状の分子状のガスもオゾンガスに含んで出力される。

　そのため、これらの硝酸やＯＨラジカルのクラスター分子ガス等は非常に活性の強いガスであるため、オゾンガスを出力するガス配管やバルブ等の金属表面と化学反応をして、配管面が腐食して、出力するオゾンガスに腐食した金属不純物（金属コンタミ）を発生させる原因になる。

　出力するオゾンガスに含まれる金属不純物（金属コンタミ）量が高まると、オゾンガスを利用して半導体の酸化膜処理をしている酸化膜の性能劣化の原因になる。

　上記のことから、原料ガスに水分が多く含まれると、出力するオゾンガスの品質が悪くなることが、試験で確かめられた。そのため、原料ガスの供給部に水分除去を目的とした水分除去フィルター５９－１～５９－ｎを装着するようにした。特に、実施の形態５ではオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス入り口１４－１～１４－ｎに、交換が容易な位置に水分除去フィルター５９－１～５９－ｎを設け、水分を除去してオゾン発生器１に原料ガスを供給するようにした。

　さらに、水分除去フィルター５９－１～５９－ｎのうち一部に異常が発生しても、正常動作する残りの水分除去フィルター５９を装着したオゾン発生ユニット７によって、オゾン処理装置１２－１～１２－ｎのいずれにもオゾンガスを供給することができるため、信頼性が高いオゾンガス供給が実現できるとともに出力オゾンガスに含まれる活性ガスの少ない品質の高いオゾンガスを提供できる。

　ここでは、水分除去フィルター５９－１～５９－ｎをオゾン発生ユニット７－１～７－ｎに対応して１つ設ける構成にしたが、不純物ガス種によって、ガスフィルターを複数個直列多段に設けたり、不純物ガス用のガスフィルターと水分トラップ用のガスフィルター直列多段構成にしたりしても良い。

　なお、他の構成及び配管経路等は、図９で示した実施の形態２のオゾン発生ユニット７Ｘとほぼ同様であるため、説明を適宜省略し、オゾン発生ユニット７Ｘと異なる点を中心に簡単に説明する。

　図１４に示すように、原料ガス配管（原料ガス供給口１４＋水分除去フィルター５９）および出力ガス配管系（オゾンガス出力口１５）をガス配管集積ブロック３０に一体化したガス配管集積ブロック構造することにより、オゾン発生器１、オゾン電源２、ガス配管系をパッケージ化してオゾン発生ユニット７Ｘ２をより小型にしている。なお、原料ガス供給口１４及び水分除去フィルター５９は互いに連結して構成される。

　原料ガスＧｍが供給される原料ガス供給口１４からＭＦＣ３を介したオゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１への原料ガス入力配管経路は、原料ガス供給口１４、水分除去フィルター５９、配管経路Ｒ３０ａ、ブロック内流路Ｂ３、ＭＦＣ３、ブロック内流路Ｂ３、配管経路Ｒ３０ｂ、及びオゾン発生器入力部ＥＴ１の順で形成される経路で構成される。この際、オゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１の周辺に設けられた部分がオゾン発生器装着用ボルトＢｔ１によりガス配管集積ブロック３０に取り付けられる。このように、ガス配管集積ブロック３０を用いて原料ガスＧｍの入力配管経路が形成される。

　実施の形態５のように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの背面の原料ガス供給口１４に連結して、交換が容易な部分に水分除去フィルター５９（水分除去フィルター５９－１～５９－ｎ）を装着するようにしている。その結果、より露点の高いオゾンガスを提供するだけでなく、装着した水分除去フィルター５９で、水分量を取り除くことができるため、オゾンガスを発生させる前のパージガスを流す時間を大幅に短縮させることができ、装置の立ち上げ時間を大幅に短縮できる効果を奏する。

　　＜実施の形態６＞
　図１５は本発明の実施の形態６であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。

　実施の形態６では、実施の形態２の「オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれに相当する、１単位のオゾン発生ユニット７に着目し、オゾン発生ユニット７の小型化を図ったもの」である。特に、実施の形態５のオゾン発生器１の原料ガスの入力部に設けたＭＦＣ３を除去し、その変わりに、オゾン発生器１で発生させたオゾンガスの出力部に流量コントロール手段であるＭＦＣ５３を配置し、オゾン発生ユニット７の小型化を図ったものである。

　（オゾンガス流量コントロール）
　図１５で示す実施の形態６のオゾンガス供給システム１０３は図１２で示した実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１に相当する。図１６は実施の形態６の１単位のオゾン発生ユニットの組合せ構造を模式的に示す斜視図である。

　図１５、図１６に示すように、実施の形態６は、機能的には、実施の形態１，実施の形態４及び実施の形態５で示したガス流量を制御する手段であるＭＦＣ３を原料ガス供給部に設けていたものを、発生したオゾンガス配管系にＭＦＣ５３として移動した実施の形態である。すなわち、実施の形態６のオゾンガス供給システム１０３と図１２で示した実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１とを比較した場合、ＭＦＣ３を除き、新たにＭＦＣ５３をオゾン濃度計５とＡＰＣ４との間に介挿し、さらに、水分除去フィルター５９を設けない点が異なる。なお、装置の動作等については、実施の形態１，実施の形態４および実施の形態５とほぼ同様であるため、説明は省略する。

　このように、実施の形態６のオゾン発生ユニット７Ｘ３は、ガス配管集積ブロック３０にオゾン発生器１等を密接して装着している。以下、図１６で示すガス配管集積ブロック３０を利用したオゾン発生ユニット７Ｘ３の配管経路について説明する。ガス配管集積ブロック３０は内部に配管経路Ｒ３０ｃ～３０ｆを有しており、冷却水入口１３Ａ、冷却水出口１３Ｂ、原料ガス供給口１４及びオゾンガス出力口１５が側面に取り付けられており、オゾン発生器装着用ボルトＢｔ１～Ｂｔ４を用いてオゾン発生器１を取り付ける構造を呈している。

　また、ＡＰＣ装着用ブロック３４，３４によりＡＰＣ４を挟みこんでガス配管集積ブロック３０に装着し、ＡＰＣ装着用ブロック３４，ＭＦＣ装着用ブロック１５３によりＭＦＣ５３を挟みこんでガス配管集積ブロック３０に装着し、オゾン濃度計装着用ブロック３５，３５により挟みこんでオゾン濃度計５を装着している。これら装着用ブロック３３～３４，１５３，及び３５内にも配管経路を確保するためのブロック内流路Ｂ３，Ｂ４，Ｂ１５３及びＢ５が形成されている。また、ガスフィルター装着用ブロック３１を用いてガスフィルター５１をガス配管集積ブロック３０に装着している。

　原料ガスＧｍが供給される原料ガス供給口１４が直接にオゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１に設けられ、入力配管経路は、原料ガス供給口１４及びオゾン発生器入力部ＥＴ１の順で形成される経路で構成される。この際、オゾン発生器１のオゾン発生器入力部ＥＴ１の周辺に設けられた部分がオゾン発生器装着用ボルトＢｔ１によりガス配管集積ブロック３０に取り付けられる。このように、ガス配管集積ブロック３０を用いて原料ガスＧｍの入力配管経路が形成される。

　オゾン発生器１から出力されるオゾンガスを受けるオゾン発生器出力部ＥＸ１から、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＭＦＣ５３及びＡＰＣ４を介してオゾンガス出力口１５から出力されるオゾンガス出力配管は、オゾン発生器出力部ＥＸ１、配管経路Ｒ３０ｃ、ガスフィルター装着用ブロック３１内、ガスフィルター５１、ガスフィルター装着用ブロック３１内、配管経路Ｒ３０ｄ、ブロック内流路Ｂ５、オゾン濃度計５、ブロック内流路Ｂ５、配管経路Ｒ３０ｅ、ブロック内流路Ｂ５３，ＭＦＣ５３，ブロック内流路Ｂ４、ＡＰＣ４、ブロック内流路Ｂ４、配管経路Ｒ３０ｆ、及びオゾンガス出力口１５の順で形成される経路で構成される。この際、オゾン発生器１のオゾン発生器出力部ＥＸ１の周辺に設けられた部分がオゾン発生器装着用ボルトＢｔ２によりガス配管集積ブロック３０に取り付けられる。このように、ガス配管集積ブロック３０を用いてオゾンガスの出力配管経路が形成される。

　実施の形態６では、発生したオゾンガス自身の出力オゾン量をＭＦＣ５３によって制御するため、正確な出力するオゾンガス流量を制御が出来、出力するオゾン量を正確に制御している効果を奏する。

　また、原料ガス（入力）配管系には、配管周辺部品は付けずに直接原料ガス供給口１４を配管するだけで済み、オゾンガス出力配管部にガスフィルター５１、ＭＦＣ５３、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４にガス配管部品を一括装着する構成にしている。このため、出力ガス配管系のみ、配管の集積配管構成ができる結果、配管がよりコンパクト化ができ、一体化した集積配管構成の部品数を減らせ、部品の交換がより容易になる。

　（他の態様）
　実施の形態６であるオゾンガス供給システムの他の態様として、図１７に示すように実施の形態４と同様に原料ガス供給口１４から供給される原料ガスに含まれる微量の水分をトラップできる機能を有する水分除去フィルター５９を追加しても良い。

　また、図１３で示した実施の形態５と同様に、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの原料ガス供給口１４－１～１４－ｎの近傍に水分除去フィルター５９－１～５９－ｎを設けた構成（図示せず）を採用しても良い。

　この場合、図１８に示すように、オゾン発生器入力部ＥＴ１に原料ガス供給口１４及び水分除去フィルター５９（水分除去フィルター５９－１～５９－ｎのいずれか）が直列に設けられる。すなわち、図１８に示すように、原料ガス配管（原料ガス供給口１４＋水分除去フィルター５９）および出力ガス配管系（オゾンガス出力口１５）をガス配管集積ブロック３０に一体化したガス配管集積ブロック構造のオゾン発生ユニット７Ｘ４を得ることができる。

　＜実施の形態７（基本構成：第１の態様）＞
　図１９は本発明の実施の形態７（第１の態様）であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。

　（全体構成）
　図１９に示すように、オゾンガス供給システム１０４は内部にｎ（≧２）個のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを有しており、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ間で共通のガスフィルター５２（原料ガス用ガスフィルター）を１個有している。ガスフィルター５２は、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスに含まれる微量の不純物や不純物ガスを除去し、ガスフィルター５２によって原料ガスの純度を安定するように制御されている。なお、水分除去フィルター５９がガスフィルター５２に置き換わった点を除き、図１２で示した実施の形態４のオゾンガス供給システム１０１と同様であるため、構成及び動作の説明を適宜、省略する。

　オゾンガス供給システム１０４は原料ガス供給口１４を有し、原料ガス供給口１４からガスフィルター５２を通し、さらに、原料ガス供給口１４－１～１４－ｎを介してオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に外部から原料ガスを取り込んでいる。すなわち、外部の原料ガスの入口である原料ガス供給口１４に、原料ガス中の微量の不純物や不純物ガスを除去するためのガスフィルター５２が設けられ、原料ガスの純度を安定するように制御されている。

　（効果等）
　したがって、実施の形態７のオゾンガス供給システム１０４内に設けたガスフィルター５２によって、原料ガス供給口１４から供給される原料ガスを原料ガス中に含まれる不純物や不純物ガスを低減することができるため、オゾン生成とともに、水分と不純物と無声放電によって生成される硝酸クラスター（ＨＮＯ₃）やＯＨラジカルガスやＯＨラジカルイオンガスやＨＯ₃ ⁺イオン等の活性ガスを減少させることができる。このため、オゾン発生器１のオゾンガス出力部に設けたＡＰＣ４、ＭＦＣ３、オゾン濃度計５やガス開閉バルブやオゾン処理装置１２－１～１２－ｎが硝酸イオンクラスター（ＨＮＯ₃>）やＯＨラジカルガスやＨＯ₃ ⁺イオン等の活性ガスによる消耗や故障を抑制できる。

　このように、実施の形態７におけるオゾンガス供給システム１０４では、原料ガス供給口１４に供給する原料ガスに含まれる不純物及び不純物ガスをトラップできる機能を有したガスフィルター５２を設けることで、オゾン発生器１に供給する原料ガスは、ガスフィルター５２によって、原料ガスに含まれる不純物ガス等を低減化して品質の高いオゾンガスを供給することができる効果を奏する。

　＜実施の形態７の第２の態様＞
　実施の形態７の第２の態様は、図８及び図９で示した実施の形態２と同様に、オゾン電源部２、オゾン発生器１それぞれの小型化を実現させ、コンパクト化した電力を供給し、電力量を制御する手段を有したオゾン電源部２、オゾンガスを発生する手段を有したオゾン発生器１に加え、原料ガス流量を制御する手段を有したＭＦＣ３、オゾンガスの不純物を取り除く手段を有したガスフィルター５１、出力するオゾンガス濃度を検知する手段を有したオゾン濃度計５、オゾン発生器内のガス圧力を一定値に制御する手段を有したＡＰＣ４を集約しパッケージ化して構造上も１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを実現することができる。

　（オゾン電源２のコンパクト化）
　実施の形態７においても、実施の形態１の図８で示した回路構成を採用することにより、オゾン発生器１およびオゾン電源部２のメイン部品の一体化を実現させてコンパクト化した回路構成を実現できる。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　実施の形態７においても、図９で示した実施の形態１と同様、オゾン発生器１、オゾン電源２、ＭＦＣ３、ガスフィルター５１、オゾン濃度計５、ＡＰＣ４、およびガス配管集積ブロック３０を集約した１単位のオゾン発生ユニット７Ｘを実現することができる。

　＜実施の形態７の第３の態様＞
　実施の形態７の第３の態様として、図１０及び図１１で示した実施の形態３と同様、１単位のオゾン発生ユニット７に着目し、オゾンガス出力流量管理ユニット９をも組み合わせたオゾン発生ユニット７の小型化を図ることもできる。

　（オゾンガス出力流量管理ユニットの制御）
　実施の形態３で示した図１０のオゾンガス供給システム２０を、図１９で示したオゾンガス供給システム１０４に相当する構成として、実施の形態７の第３の態様として実現することができる。

　（オゾン発生ユニットの組合せ構造）
　実施の形態３で示した図１１のオゾン発生ユニット７Ｙのように、オゾンガス供給システム１０４のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれを構成して、実施の形態７の第３の態様として実現することができる。

　＜実施の形態８＞
　図２０は本発明の実施の形態８であるオゾンガス供給システムの構成を示すブロック図である。

　実施の形態８のオゾンガス供給システム１０５では実施の形態７のオゾンガス供給システム１０４と同様、オゾンガス供給システム１０５構成内に原料ガス供給口１４より供給される原料ガスに含まれる不純物や不純物ガスをトラップする目的の（原料ガス用）ガスフィルター５２－１～５２－ｎを設けている。ただし、ガスフィルター５２－１～５２－ｎは、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎに１対１に対応して設けられており、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス供給部入口近傍に設けられる。ガスフィルター５２－１～５２－ｎはそれぞれオゾン発生ユニット７－１～７－ｎ内に供給する原料ガスの純度を増やすことで、オゾンガス供給システム１０５内で生成するオゾンガスの純度を高めることを特徴としている。

　特に、実施の形態８のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれは、実施の形態２と同様、１単位のオゾン発生ユニット７の原料ガス入り口部に、ガス中に含まれる不純物や不純物ガスをトラップするガスフィルター５２を装着するようにして、組み合わせたオゾン発生ユニット７の小型化を図ったことを特徴としている。

　（原料ガスのガス純度管理）
　図２１は実施の形態８の１単位のオゾン発生ユニット７Ｘ５の組合せ構造を模式的に示す斜視図である。

　図２０、図２１に示すように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス入り口１４－１～１４－ｎに連結して、交換が容易な位置にガスフィルター５２（５２－１～５２－ｎ）を装着して、一体的に形成される。以下、図２０では、説明の都合上、ｎ＝３の場合を例に挙げて説明する。

　図２６は原料ガスの露点と原料ガスに含まれる水分量との関係を示す説明図である。オゾンガス供給システム１０４に供給される原料ガスは、一般に９９．９９％以上の高純度原料ガスを使用しているが、この高純度原料ガスには、原料ガス以外のガスとして、窒素系ガス、炭素系ガス、硫化ガス等の不純物ガスが０．１～数ＰＰＭ程度含まれており、また、ガス中に含まれる水分量も１～数ＰＰＭ含んでいる（図２６参照）。

　オゾンガス供給システム１０５に供給される原料ガスは、一般に９９．９９％以上の高純度原料ガスを使用しているが、この高純度原料ガスには、原料ガス以外のガスとして、窒素系ガス、炭素系ガス、硫化ガス等の不純物ガスが０．１～数ＰＰＭ程度含まれており、また、ガス中に含まれる水分量も１～数ＰＰＭ含んでいる。また、これらの不純物ガスや水分は空気中にも含まれるガスであるため、原料ガス配管経路の一部の配管を大気に開放すると、すぐに、配管面に水分や窒素ガス等の不純物ガスが吸着される。そのため、この不純物ガスが吸着された原料ガス配管に原料ガスを流すと、高純度原料ガスに含まれる不純物ガスや水分量だけでなく、配管に付着した不純物ガスも、ガスを流すことにより、離脱して、供給する原料ガスの純度が悪くなる場合がある。

　原料ガスに、窒素系ガス、炭素系ガス、硫化ガス等の不純物ガスや水分が含まれるとオゾンガスの生成だけでなく、放電によってＮラジカルやＯＨラジカルガスも生成されるため、これらのラジカルガスと水分が結合することで、硝酸や過酸化水素水としてクラスター状の分子状のガスもオゾンガスに含んで出力される。

　そのため、これらの硝酸や過酸化水素水のクラスター分子ガス等は非常に活性の強いガスであるため、オゾンガスを出力するガス配管やバルブ等の金属表面と化学反応をして、配管面が腐食して、出力するオゾンガスに腐食した金属不純物（金属コンタミ）を発生させる原因になる。

　上記のことから、原料ガスに不純物ガスや水分が含まれると、出力するオゾンガスの品質が悪くなることが、試験で確かめられた。そのため、原料ガスの供給部に不純物ガスのトラップを目的としたガスフィルターを装着するようにした。特に、実施の形態８ではオゾン発生ユニット７－１～７－ｎそれぞれの原料ガス入り口１４－１～１４－ｎに、交換が容易な位置にガスフィルター５２－１～５２－ｎを設け、不純物ガスを除去した。

　ここでは、ガスフィルター５２－１～５２－ｎを１つ設ける構成にしたが、不純物ガス種によって、ガスフィルターを複数個直列多段に設けたり、不純物ガス用のガスフィルターと水分トラップ用のガスフィルターとを直列多段構成にしたりしても良い。

　なお、他の構成及び配管経路等は、水分除去フィルター５９がガスフィルター５２に置き換わった点を園素着、図１４で示したオゾン発生ユニット７Ｘ２と同様であるため、説明を省略する。

　図２１に示すように、原料ガス配管（原料ガス供給口１４＋ガスフィルター５２）および出力ガス配管系（オゾンガス出力口１５）をガス配管集積ブロック３０に一体化したガス配管集積ブロック構造することにより、オゾン発生器１、オゾン電源２、ガス配管系をパッケージ化してオゾン発生ユニット７Ｘ５をより小型にしている。なお、原料ガス供給口１４及びガスフィルター５２は互いに連結して構成される。

　実施の形態８のように、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの背面の原料ガス供給口１４に交換が容易な部分にガスフィルター５２（ガスフィルター５２－１～５２－ｎ）を装着するようにしたため、より高純度の高いオゾンガスを提供するだけでなく、装着したガスフィルター５２によって、不純物ガスを取り除くことができるため、オゾンガスを発生させる前のパージガスを流す時間を大幅に短縮させることができる効果を奏する。

　＜実施の形態６の他の態様（実施の形態７，実施の形態８関連）＞
　実施の形態６であるオゾンガス供給システムの他の態様として、図２２に示すように実施の形態７と同様に原料ガス供給口１４から供給される原料ガスに含まれる不純物をトラップできる機能を有するガスフィルター５２を追加しても良い。

　また、図２０で示した実施の形態８と同様に、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎの原料ガス供給口１４－１～１４－ｎの近傍にガスフィルター５２－１～５２－ｎを設けた構成（図示せず）で実現しても良い。

　この場合、図２３に示すように、オゾン発生器入力部ＥＴ１に原料ガス供給口１４及びガスフィルター５２（ガスフィルター５２－１～５２－ｎのいずれか）が直列に設けられる。すなわち、図２３に示すように、原料ガス配管（原料ガス供給口１４＋ガスフィルター５２）および出力ガス配管系（オゾンガス出力口１５）をガス配管集積ブロック３０に一体化したガス配管集積ブロック構造のオゾン発生ユニット７Ｘ６を得ることができる。

　＜その他＞
　以上、実施の形態１～実施の形態８では、オゾン処理装置として、主に、オゾン発生量が数十ｇ／ｈ～500ｇ／ｈ程度のオゾンを必要とする半導体製造装置で用いられるオゾンガスの多処理装置における所定のオゾン流量、オゾン濃度のオゾンガスを供給するシステムについて述べてきた。

　上述したオゾン処理装置１２に代えて、必要とするオゾンガス量が、もっと大きな、パルプのオゾン漂白装置やプールの水のオゾン処理装置、上下水のオゾン処理装置、化学プラントのオゾン処理装置であっても良い。例えば、１ｋｇ／ｈ～数ｋｇ／ｈのオゾンガスを必要とする処理装置であれば、上述したオゾンガス供給システム１０（２０，１０１～１０５）内に複数台のオゾン発生ユニット７－１～７－ｎを搭載して、オゾン発生ユニット７－１～７－ｎ間で出力オゾンガスをまとめて１つのオゾン処理装置に供給することが、比較的安価、かつ容易に行え、メンテナンス性が非常に良いオゾンガス供給システムの利用分野が高められる効果を奏する。

　この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

　＜産業上の利用可能性＞
　この発明は、オゾンガスを供給するための複数の手段を有した機能を付加させたオゾン発生ユニット及びオゾンガスを複数のオゾン処理装置にオゾンガス供給システムに関するこの発明であり、オゾンガスを出力するための複数の手段を有した機能を付加させたオゾン発生器ユニットの小型化を図ったオゾン発生ユニット及び上記オゾン発生ユニットを得ることを目的としている。

　しかし、オゾンガス以外のガス発生ユニット及び発生ガスを複数のガス処理装置にガス供給システムにおいても、原料ガス中に含まれる水分を除去する水分除去フィルター５９や原料ガス中に含まれる不純物ガスを除去するガスフィルター５２を装着することで、発生器で生成したガスを出力する際のガス品質を高めることは可能である。

　さらに、ガスを出力するための複数の手段を有した機能を付加させたガス発生器ユニットを一体化し、小型化して、ガス発生ユニットを複数台搭載してガス発生システムを構築することは好適であることは明らかなことである。

Claims

　ガス流量、濃度を制御してオゾンガスを複数のオゾン処理装置それぞれに供給するオゾンガス供給システム（１０）であって、
　複数のオゾン発生ユニット（７－１～７－ｎ）を備え、
　前記複数のオゾン発生ユニットは、
　オゾンガスを発生するオゾン発生器（１）と、
　前記オゾン発生器に供給する電力を制御するオゾン電源（２）と、
　前記オゾン発生器に入力される原料ガス流量（Ｑ）を制御するマスフローコントローラ（ＭＦＣ）（３）と、
　前記オゾン発生器内の圧力である内部圧力を自動制御するオートプレッシャコントローラ（ＡＰＣ）（４）と、
　前記オゾン発生器が出力するオゾンガスのオゾン濃度値を検出するオゾン濃度計（５）と、
　初期動作として所定の設定電力量（Ｗｓ）で前記オゾン電源を駆動させ、所定時間後に前記オゾン濃度計で検知したオゾン濃度（Ｃ）と設定したオゾン濃度（Ｃｓ）との比較に基づき、前記オゾン電源が供給する電力をＰＩＤ制御するオゾン制御部（１９）とを備え、
　前記オゾンガス供給システムは、
　前記複数のオゾン発生ユニット内の複数の前記オゾン発生器からの複数のオゾンガス出力を受け、内部に設けた複数のオゾンガス制御弁（９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａ）の開閉動作によって、前記複数のオゾンガス出力の１または複数の組合せを、前記複数のオゾン処理装置のうち任意のオゾン処理装置に選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なオゾンガス出力流量管理ユニット（９）と、
　前記複数のオゾン処理装置からの処理オゾンガスイベント信号（１６）に基づき、前記複数のオゾン発生ユニットそれぞれの前記オゾンガスの出力内容を制御し、前記オゾンガス出力流量管理ユニットに対し前記オゾンガス出力流量制御を行う、オゾンガス出力流量管理ユニット制御部（８）とをさらに備える、
オゾンガス供給システム。
　請求項１記載のオゾンガス供給システムであって、
　所定の原料ガス供給口（１４）から供給される前記原料ガスに含まれる水分を除去して、前記複数のオゾン発生ユニットそれぞれに供給する少なくとも一つの水分除去フィルター（５９（５９－１～５９－ｎ））をさらに備える、
オゾンガス供給システム。
　請求項２記載のオゾンガス供給システムであって、
　前記少なくとも一つの水分除去フィルター通過前の前記原料ガスは１０００ＰＰＢ以上の水分を有する原料ガスを含み、
　前記少なくとも一つの水分除去フィルターは前記原料ガス内の水分を３００ＰＰＢ以下に低減する水分除去能力を有する、
オゾンガス供給システム。
　請求項１記載のオゾンガス供給システムであって、
　所定の原料ガス供給口（１４）から供給される前記原料ガスに含まれる不純物ガスを除去して、前記複数のオゾン発生ユニットそれぞれに供給する少なくとも一つの原料ガス用ガスフィルター（５２（５２－１～５２－ｎ））をさらに備える、
オゾンガス供給システム。
　請求項１記載のオゾンガス供給システムであって、
　前記複数のオゾンガス制御弁は、電気もしくはエアー圧力によって開閉できる電動バルブもしくは空圧弁を含み、
　前記オゾンガス出力流量管理ユニット制御部は、前記複数のオゾン処理装置それぞれに供給するオゾン流量、オゾン濃度を所望の値になるように、前記制御信号を出力する、
オゾンガス供給システム。
　請求項１ないし請求項５のうち、いずれか１項に記載のオゾンガス供給システムであって、
　前記複数のオゾン発生ユニットは、それぞれ
　前記オゾン発生器、前記オゾン電源、前記ＭＦＣ、前記ＡＰＣ、前記オゾン濃度計を１つに集約して１単位にパッケージ化した構造を呈する、
オゾンガス供給システム。
　請求項１ないし請求項５のうち、いずれか１項に記載のオゾンガス供給システムであって、
　前記オゾンガス出力流量管理ユニット制御部は、
　前記複数のオゾン発生ユニットのいずれかに非常停止、漏水が検知された場合、対応する前記オゾン発生ユニットを停止させ、
　システム全体として排気異常、オゾン漏洩異常を検出したとき、複数のオゾン発生ユニットを全て停止させる安全停止機能（６，２３，２４，８１，８２，８４）を備える、
オゾンガス供給システム。
　ガス流量、濃度を制御してオゾンガスを複数のオゾン処理装置それぞれに供給するオゾンガス供給システム（１０）であって、
　複数のオゾン発生ユニット（７－１～７－ｎ）を備え、
　前記複数のオゾン発生ユニットは、
　オゾンガスを発生するオゾン発生器（１）と、
　前記オゾン発生器に供給する電力を制御するオゾン電源（２）と、
　前記オゾン発生器から出力される原料ガス流量（Ｑ）を制御するマスフローコントローラ（ＭＦＣ）（３）と、
　前記オゾン発生器内の圧力である内部圧力を自動制御するオートプレッシャコントローラ（ＡＰＣ）（４）と、
　前記オゾン発生器が出力するオゾンガスのオゾン濃度値を検出するオゾン濃度計（５）と、
　初期動作として所定の設定電力量（Ｗｓ）で前記オゾン電源を駆動させ、所定時間後に前記オゾン濃度計で検知したオゾン濃度（Ｃ）と設定したオゾン濃度（Ｃｓ）との比較に基づき、前記オゾン電源が供給する電力をＰＩＤ制御するオゾン制御部（１９）とを備え、
　前記オゾンガス供給システムは、
　前記複数のオゾン発生ユニット内の複数の前記オゾン発生器からの複数のオゾンガス出力を受け、内部に設けた複数のオゾンガス制御弁（９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｂｃ，９ａｂ，９ｃａ）の開閉動作によって、前記複数のオゾンガス出力の１または複数の組合せを、前記複数のオゾン処理装置のうち任意のオゾン処理装置に選択的に出力するオゾンガス出力流量制御が実行可能なオゾンガス出力流量管理ユニット（９）と、
　前記複数のオゾン処理装置からの処理オゾンガスイベント信号（１６）に基づき、前記複数のオゾン発生ユニットそれぞれの前記オゾンガスの出力内容を制御し、前記オゾンガス出力流量管理ユニットに対し前記オゾンガス出力流量制御を行う、オゾンガス出力流量管理ユニット制御部（８）とをさらに備える、
オゾンガス供給システム。