WO2011042193A3 - Dosieranlage, dichtstromförderanlage und verfahren zum zuführen von staubförmigem schüttgut - Google Patents

Dosieranlage, dichtstromförderanlage und verfahren zum zuführen von staubförmigem schüttgut Download PDF

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Abstract

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Dosieranlage zur stetigen, kontinuierlichen, dosierten Zufuhr eines staubförmigen Schüttguts aus leichten, polydispersen Teilchen aus einer Versorgungseinrichtung (B,SG) in eine Mehrzahl von Förderrohre (FR1,FR2,FR3) zu einem stromabwärts angeordneten Verbraucher. Die Dosieranlage umfasst zumindest zwei Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) mit jeweils einer Austragseinrichtung (AE2/1,AE2/2,AE2/3), wobei die Austragseinrichtung (AE2/1,AE2/2,AE2/3) für jedes der Förderrohre (FR1,FR2,FR3) eine diesem zugeordnete und in dieses mündende Staubflussregelungsvorrichtung (FI1/1,FI2/1,FI3/2) umfasst, und wobei eine Massenstrom-Messsonde (FIC1,FIC2,FIC3) an jedem der Förderrohre (FR1,FR2,FR3) angeordnet ist, die mit der Staubflussregelungsvorrichtung (FI1/1 bis FI3/2) gekoppelt ist, die in das entsprechende Förderrohr (FR1,FR2,FR3) mündet. Ferner weist die Dosieranlage eine Druckregelungseinrichtung auf, die mit an den Austragseinrichtungen (AE2/1,AE2/2,AE2/3) angeordneten Druckmesseinrichtungen (PI1/1,PI1/2,Pl1/3) gekoppelt ist, und die einen Dosierbehälterdruck (PIS2/1,PIS2/2,PIS2/3) zumindest in Abhängigkeit eines Dosierbehälterfüllstands (LIS1,LIS2,LIS3) steuert. Dabei ist eine Pumpvorrichtung (V) mit jedem der Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) koppelbar, die einen Druck (PIS2/1,PIS2/2,PIS2/3) in dem Dosierbehälter (DB1,DB2,DB3) bereitstellt, der geringer ist als ein Druck in der Versorgungseinrichtung (B,SG). Ferner offenbart die Erfindung eine Dichtstromförderanlage, die die Dosieranlage umfasst und ein Verfahren zur stetigen, kontinuierlichen, dosierten Zufuhr eines staubförmigen Schüttguts aus leichten, polydispersen Teilchen.
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