WO2011015538A1 - Vorrichtung zur erzeugung eines nichtthermischen atmosphärendruck-plasmas - Google Patents
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Definitions
- the invention relates to a device for generating a cold, RF-excited plasma under atmospheric pressure conditions, comprising a functioning in the region of the exiting plasma as a grounded electrode metal housing, in which an RF generator, an RF resonant coil with a, for the High frequency suitable closed ferrite core, acting as a gas nozzle insulator lo and a high-voltage electrode held in the insulating body are arranged in such a way that they are flowed through or flowed through by the process gas.
- the device comprises an electrically conductive removable cap which has a slot or a hole in the front region.
- the invention can be used advantageously for the plasma treatment of materials for cosmetic i5 and medical purposes.
- the invention makes it possible, by integrating the plasma nozzle and the required control electronics in a miniaturized hand-held device or by using a short high-voltage cable, to ensure compliance with the guidelines of electromagnetic compatibility (EMC) and to minimize the power loss and thus a mobile device.
- EMC electromagnetic compatibility
- Low-temperature plasmas have been used for some time to treat surfaces for the purpose of surface activation, etching, polymerisation and the like.
- low-pressure plasmas were primarily used, in which the reactive species required for the processes can be generated to a defined extent by selecting suitable process parameters. As low pressure plasma process both for cost reasons and procedural reasons
- the invention relates to a device of the type described in the patent of the applicant "DE 10 2006 019 664 A1".
- a handy RF plasma nozzle described in which due to the special design can be dispensed with an RF matching network in the form of a separate matchbox. This makes it possible to realize a handy design of the RF plasma nozzle, which can be performed both manually, as well as by robots.
- High voltage electrode (3) flows over the conductive plasma to the skin surface.
- the object of the invention was to eliminate the disadvantages of the solutions mentioned in the prior art.
- all components required for the operation of the plasma tool including the HF generator, have been miniaturized in such a way that they can be integrated in a miniaturized hand-held device.
- a device was provided which is suitable for mobile use in the fields of medicine, dentistry and cosmetics.
- the required DC voltage supply can be done either by an external device or internally.
- the main cause of increased EMI is the long cable connection between the plasma nozzle and an external RF generator.
- the advantage of the invention is, above all, that this cable connection is eliminated by the integration of plasma nozzle, high voltage coil and RF generator in a handy plasma tool and thus the problem of electromagnetic compatibility is solved, so that the technical conditions for a license for mobile use For example, for medical, dental and cosmetic purposes, is met.
- the miniaturization results in better handling of the plasma tool, which is thus particularly suitable for pinpoint local microplasma treatments.
- the invention achieves a substantial reduction of the power loss.
- the alternative to the integration of plasma nozzle, high voltage coil and RF generator is that, as shown in Fig. 6, the plasma nozzle decoupled from the high voltage source and a suitable, preferably short, high voltage cable and a corresponding process gas hose feeds outside. This arrangement makes it possible to further miniaturize the plasma nozzle and thus be able to make a local plasma treatment in hard to reach places. In this case, additional measures to avoid increased electromagnetic interference are taken.
- This arrangement also offers the possibility to replace the plasma nozzle lo by another, adapted to the object to be treated, external plasma source.
- the generation of the high frequency voltage necessary for ignition of the plasma takes place in the, in the patent applicant I5 "DE 10 2006 019 664 A1" described, plasma jet assemblies via an air coil.
- the envelope is usually made of a metallic housing.
- the electromagnetic field generated in the air coil generates eddy currents in the metallic housing which, on the one hand, lead to undesirable inductive currents.
- a coil is used in the plasma tool according to the invention with a suitable for high frequency, closed ferrite core, which prevents the magnetic field generated by the coil 25 of the emergence.
- the subject of the patent application is an apparatus for generating a cold, RF-excited plasma under atmospheric pressure conditions, comprising a hollow body for supplying a process gas, a series resonant circuit 30 for generating the required high voltage and an RF generator, characterized in that Miniaturization and integration of the requisite chen electronic assemblies (RF generator with power driver, circuit breaker, RF resonant coil and RF filter) and, if appropriate, designed as a change nozzle with different electrode arrangements, plasma nozzle in a handy, metallic housing compliance with the guidelines of the electro-5 magnetic compatibility ( EMC) and a mobile use of the device is made possible.
- EMC electro-5 magnetic compatibility
- the device comprises an electrically conductive cap (12) which has a slot lo or a hole (11) in the front region.
- the slot or hole should be at most 0.7 mm wide, the slot preferably being 8 mm long.
- This cap is electrically connected to the housing (7) and thus also grounded.
- the plasma ends in the area of the slit and, due to the geometry of the slit, can not emerge, according to the principle of a Faraday cage.
- This cap acts as a third electrode and conducts the electrical current to earth. This is a field freedom given in the immediate vicinity of the slot.
- FIG. 1 shows by way of example the basic structure of the device according to the invention of a plasma hand-held device with integrated HF generator and series resonant circuit.
- a metal housing (7) which acts in the region of the exiting plasma (1) as a grounded electrode (2), are a printed circuit board (8) with EMC board layout, an RF resonant coil (5) with a suitable for high frequency , closed ferrite core, acting as a gas nozzle insulating body (4) and a in the insulating body (4) held high-voltage electrode (3) arranged in such a way that they are flowed through or through the process gas (6). This ensures that the flowing process gas (6) causes cooling of the electronics (8) and the coil (5).
- the printed circuit board (8) is preferably equipped with SMD components in the interests of miniaturization and an EMC-compliant layout.
- the block diagram of the electronic circuit is shown in FIG.
- the with the terplatte (8) realized electronic circuit consists essentially of an RF generator with a power driver for generating a suitable RF voltage with a frequency of about 1 MHz and a circuit breaker.
- two RF filters are used to prevent electromagnetic noise emissions to the outside via the leads to the DC power supply located outside the plasma handset.
- the exemplary embodiment of the device according to the invention shown in FIG. 1 is intended primarily for producing a single plasma jet with a relatively small diameter and, in this embodiment, with a gas nozzle (4) constructed from insulating material, especially for operation with noble gases suitable as process gas.
- a gas nozzle (4) constructed from insulating material, especially for operation with noble gases suitable as process gas.
- FIG. 3 while working with isolated grounded electrode plasma nozzle can be equipped with different high-voltage electrodes.
- FIG. 3a it is possible to widen the effective plasma, either an arrangement with several needle-shaped electrodes (FIG. 3b: front view, FIG. 3c: side view) or a knife-shaped electrode (FIG. 3d: front view, Fig. 3e: side view) to use.
- Fig. 4 In the case of operation with molecular gases (e.g., air and N2, respectively) as a process gas, plasma nozzles are used in which the grounded electrode is not isolated from the gas space. Examples of embodiments of this type of plasma nozzle are shown in Fig. 4 (Fig. 4 a: nozzle with a single needle-shaped electrode, Fig. 4 b: front view of a nozzle with several needle-shaped electrodes, Fig. 4 c: side view of a nozzle with several needle-shaped Electrodes, Fig. 4 d: front view of a nozzle with a knife-shaped electrode, Fig. 4 e: side view of a nozzle with a knife-shaped electrode).
- the various nozzles are designed such that they are interchangeable and the high-voltage electrodes are each connected via a plug contact (10) with the RF resonant coil (5).
- FIG. 5 the head of Fig.1 is shown again.
- the particular embodiment with respect to the head of FIG. 1 consists of an electrically conductive cap (12) which has a slot or a hole (11) in the front region.
- the slot or the hole is at most 0.7 mm wide, the slot may preferably be 8 mm long.
- Fig. 6 it is shown that the plasma nozzle is disconnected from the high voltage source and is powered externally via a suitable, preferably short high voltage cable and a corresponding process gas hose.
- Fig. 7 shows as an example an arrangement with a, especially for the plasma treatment of insulated or non-insulated wires suitable plasma source.
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines kalten, HF-angeregten Plasmas unter Atmosphärendruckbedingungen, umfassend ein im Bereich des austretenden Plasmas als geerdete Elektrode fungierendes Metallgehäuse, in dem ein HF-Generator, eine HF-Resonanzspule mit einem, für die Hochfrequenz geeigneten geschlossenen Ferritkern, ein als Gasdüse fungierender Isolierkörper sowie eine in dem Isolierkörper gehalterte Hochspannungs-Elektrode in der Weise angeordnet sind, dass sie vom Prozessgas um- bzw. durchströmt werden. In einer bevorzugten Ausführungsform umfasst die Vorrichtung eine elektrisch leitende abnehmbare Kappe, die im vorderen Bereich einen Schlitz oder ein Loch aufweist. Die Erfindung kann vorteilhaft für die Plasmabehandlung von Materialien für kosmetische und medizinische Zwecke eingesetzt werden. Die Erfindung ermöglicht es, durch die Integration von Plasmadüse und erforderlicher Ansteuerelektronik in einem miniaturisierten Handgerät oder durch eine Verwendung eines kurzen Hochspannungskabels, eine Einhaltung der Richtlinien der elektromagnetischen Verträglichkeit (EMV) zu gewährleisten und die Verlustleistung zu minimieren und damit einen mobilen Einsatz zu realisieren.
Description
Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas
Beschreibung
5 [0001] Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines kalten, HF- angeregten Plasmas unter Atmosphärendruckbedingungen, umfassend ein im Bereich des austretenden Plasmas als geerdete Elektrode fungierendes Metallgehäuse, in dem ein HF-Generator, eine HF-Resonanzspule mit einem, für die Hochfrequenz geeigneten geschlossenen Ferritkern, ein als Gasdüse fungierender Isolierkörper lo sowie eine in dem Isolierkörper gehalterte Hochspannungs-Elektrode in der Weise angeordnet sind, dass sie vom Prozessgas um- bzw. durchströmt werden. In einer bevorzugten Ausführungsform umfasst die Vorrichtung eine elektrisch leitende abnehmbare Kappe, die im vorderen Bereich einen Schlitz oder ein Loch aufweist. Die Erfindung kann vorteilhaft für die Plasmabehandlung von Materialien für kosmetische i5 und medizinische Zwecke eingesetzt werden. Die Erfindung ermöglicht es, durch die Integration von Plasmadüse und erforderlicher Ansteuerelektronik in einem miniaturisierten Handgerät oder durch eine Verwendung eines kurzen Hochspannungskabels, eine Einhaltung der Richtlinien der elektromagnetischen Verträglichkeit (EMV) zu gewährleisten und die Verlustleistung zu minimieren und damit einen mobilen Ein-
2o satz zu realisieren.
Stand der Technik
[0002] Niedertemperatur-Plasmen werden bereits seit geraumer Zeit zur Behandlung von Oberflächen zum Zweck der Oberflächenaktivierung, des Ätzens, der Polymeri-
25 sation, zur Schichtabscheidung, zur Reinigung sowie zur Keimreduzierung eingesetzt. Zunächst wurden dafür vorrangig Niederdruckplasmen genutzt, in denen die für die Prozesse erforderlichen reaktiven Spezies durch die Wahl geeigneter Prozessparameter in definiertem Maße erzeugt werden können. Da Niederdruckplasma- Verfahren sowohl aus Kostengründen als auch aus verfahrenstechnischen Gründen
30 für zahlreiche industrielle Prozesse ungeeignet sind, wurden alternative Plasmaverfahren entwickelt, die bei Atmosphärendruck arbeiten, somit wesentlich kostengüns-
tiger sind und sich in entsprechende Fertigungsstrecken einfacher integrieren lassen. Eine Möglichkeit, die für die Anwendbarkeit von Atmosphärendruck- Plasmenverfahren erforderliche Homogenität der Plasmen zu erreichen, besteht darin, durch eine gerichtete Strömung des Arbeitsgases (Prozessgases) einen Plas- 5 mastrahl außerhalb des Entladungsraumes zu erzeugen.
[0003] Anwendungen von derartigen Strahlplasmen werden in zahlreichen Patentschriften beschrieben. In der Offenlegungsschrift DE 37 33 492 A1 wird beispielsweise eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Strahlplasmas beschrieben, bei der ein Gasstrom durch eine Koronaentladungsstrecke zwischen einer stabförmigen Innen- lo und einer rohrförmigen Außenelektrode durchgeleitet wird. Das in der Patentschrift DE 195 32 412 C2 beschriebene Verfahren zur Plasmabehandlung von Oberflächen basiert auf der Erzeugung eines Plasmastrahls durch einen starken Gasstrom, der durch eine Bogenentladungsstrecke geführt wird. Zur Erzeugung der Atmosphärendruck-Entladungen können dabei verschiedene Arten der Einspeisung der elektri- i5 sehen Energie genutzt werden. So werden in den Patenschriften US 6,194,036 B1 und US 6,262,523 B1 sowie in der Patentanmeldung US 2002/122896 A1 beispielsweise Anordnungen beschrieben, die auf der HF-Anregung von Atmosphärendruck- Plasmen basieren. Im Bereich der Medizin werden spezielle, HF-angeregte Plasmen bereits seit vielen Jahren zur Koagulation (Argon-Plasma-Koagulation:
2o US 4,781 ,175 A, US 4,060,088 A, DE 195 13 338 A1) bzw. zur HF-Chirurgie eingesetzt. Es gibt aber auf diesem Gebiet inzwischen auch zahlreiche neuere Entwicklungen, die das Ziel verfolgen, Plasmen dieser Art zum Beispiel auch für die Be- schichtung von Implantaten zur Erhöhung ihrer Biokompatibilität sowie zur Steuerung der Zelladhäsion auf Oberflächen (OhI A., Schröder K.: Plasma assisted surface mo-
25 dification of biointerfaces. In: Hippler R., Kersten H., Schmidt M., Schoenbach K. H.
(ed.). Low Temperature Plasmas, Vol. 2. 803-820. Wiley-VCH, Weinheim 2008), zur antimikrobiellen Dekontamination von Oberflächen (R. Brandenburg et aLContrib. Plasma Phys. 2007, 47, (1-2), 72-79) sowie zur Behandlung biologischer Zellen und Gewebe (I. E. Kieft et al.: IEEE Transactions on Plasma Science 2005, 33, (2), 771-
30 775) zu nutzen.
[0004] Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung der in der Patentschrift des Anmelders "DE 10 2006 019 664 A1" beschriebenen Art. Dort wird eine handliche
HF-Plasmadüse beschrieben, bei der aufgrund der speziellen Bauweise auf ein HF- Anpassungsnetzwerk in Form einer separaten Matchbox verzichtet werden kann. Dadurch ist es möglich, eine handliche Bauform der HF-Plasmadüse zu realisieren, die sowohl manuell, als auch durch Roboter geführt werden kann.
5 [0005] Die Verbindung von Plasmadüse und HF-Generator durch ein längeres Kabel führt dazu, dass die Werte der beim Betrieb einer Vorrichtung entsprechend des Standes der Technik auftretenden elektromagnetischen Störstrahlung in der Regel das durch die europäischen Richtlinien zur elektromagnetischen Verträglichkeit (EMV) festgelegte Limit überschreiten. Vorrichtungen dieser Art können nicht ohne lo einen größeren technischen Aufwand zur Sicherung der Einhaltung dieser Richtlinien eingesetzt werden. Das bedeutet, dass ihr Einsatz auf Anwendungen in Industrieanlagen beschränkt ist, die durch spezielle Maßnahmen hinsichtlich der elektromagnetischen Störstrahlung nach außen abgeschirmt sind. Für den mobilen Einsatz in öffentlichen Bereichen, beispielsweise für medizinische, zahnmedizinische oder kos- i5 metische Zwecke, ist eine Nutzung dieser Vorrichtung nur möglich, wenn sie den EMV-Anforderungen entspricht. Aufgabe der Erfindung ist es, ein Plasmawerkzeug auf der Grundlage eines kalten, HF-angeregten Plasmastrahls zu realisieren, das diesen EMV-Anforderungen genügt und somit für den mobilen Einsatz in Bereichen der Medizin, Zahnmedizin und Kosmetik geeignet ist. Eine weitere Aufgabe besteht
2o darin, in sensibleren Bereichen des Körpers besonders schonend zu arbeiten, bei einer Plasmabehandlung werden insbesondere reaktive Spezies (Radikale) und Strahlung (VUV/UV) erzeugt, die wichtig für den Behandlungseffekt sind. Zum anderen wird das Plasma durch Verlustprozesse aufgeheizt und die Temperatur in der Spitze beträgt etwa 50°C, was unter Plasmabedingungen als„kalt" zu betrachten ist.
25 Bei Anwendungen auf der menschlichen Haut führt jedoch die permanente lokale Behandlung der Haut mit einem Plasma dieser Temperatur zu einer lokalen Verbrennung. Zur Vermeidung derartiger Verbrennungen wird derzeit das Plasma mit einer gewissen Geschwindigkeit über die zu behandelnde Stelle bewegt.
[0006] Eine weitere Reizung (Irritation) der Haut, die sich in einem unangenehmen
30 "Kribbeln" äußert, wird durch den elektrischen Strom hervorgerufen, der von der
Hochspannungselektrode (3) über das leitende Plasma zur Hautoberfläche fließt.
Normalerweise ist dies unbedenklich und mehr oder weniger erträglich. In sensible-
ren Bereichen des Körpers, wie beispielsweise in der Mundhöhle (im Fall einer Behandlung des Zahnfleisches), ist dies schmerzhaft und nicht mehr zu vertreten
Aufgabe der Erfindung [0007] Die Aufgabe der Erfindung bestand darin, die Nachteile der im Stand der Technik genannten Lösungen zu beseitigen.
Lösung der Aufgabe
[0008] Die Aufgabe wurde gemäß den Merkmalen der Patentansprüche gelöst.
[0009] Erfindungsgemäß wurden alle für den Betrieb des Plasmawerkzeuges erforderlichen Baugruppen, einschließlich HF-Generator, derart miniaturisiert, dass sie in einem miniaturisierten Handgerät integriert werden können. Damit wurde ein Gerät bereitgestellt, das für den mobilen Einsatz in den Bereichen Medizin, Zahnmedizin und Kosmetik geeignet ist. Die erforderliche Gleichspannungsversorgung kann dabei entweder von einem externen Gerät oder intern erfolgen.
[0010] Die Hauptursache für eine erhöhte elektromagnetische Störabstrahlung ist die lange Kabelverbindung zwischen der Plasmadüse und einem externen HF- Generator. Der Vorteil der Erfindung besteht vor allem darin, dass durch die Integration von Plasmadüse, Hochspannungsspule und HF-Generator in einem handlichen Plasmawerkzeug diese Kabelverbindung entfällt und damit das Problem der elektromagnetischen Verträglichkeit gelöst wird, so dass die technischen Voraussetzungen für eine Zulassung für den mobilen Einsatz, beispielsweise für medizinische, zahnmedizinische und kosmetische Zwecke, erfüllt ist. Als ein weiterer Vorteil ergibt sich aus der Miniaturisierung eine bessere Handhabbarkeit des Plasmawerkzeuges, das damit vor allem für punktgenaue, lokale Mikroplasmabehandlungen geeignet ist. Darüber hinaus wird durch die Erfindung eine weitgehende Reduzierung der Verlustleistung erreicht. Das hat zur Folge, dass die Erwärmung des Plasmawerkzeuges auf ein Minimum reduziert wird und die im Plasma umgesetzte Leistung, und damit die Länge des Plasmastrahls, allein durch Regelung der dem integrierten HF-Generator extern zugeführten Gleichspannung deutlich variiert werden kann.
[0011] Die Alternative zur Integration von Plasmadüse, Hochspannungsspule und HF-Generator besteht darin, dass man, wie in Fig. 6 dargestellt, die Plasmadüse von der Hochspannungsquelle abkoppelt und über ein geeignetes, vorzugsweise kurzes, Hochspannungskabel sowie über einen entsprechenden Prozessgas-Schlauch ex- 5 tern speist. Diese Anordnung ermöglicht es, die Plasmadüse weiter zu miniaturisieren und damit auch an schwer zugänglichen Stellen eine lokale Plasmabehandlung vornehmen zu können. In diesem Fall werden zusätzliche Maßnahmen zur Vermeidung einer erhöhten elektromagnetischen Störabstrahlung ergriffen.
[0012] Diese Anordnung bietet darüber hinaus die Möglichkeit, die Plasmadüse lo durch eine andere, an das zu behandelnde Objekt angepasste, externe Plasmaquelle zu ersetzen.
[0013] Die Erzeugung der für eine Zündung des Plasmas notwendigen Hochfrequenzspannung erfolgt in den, in der Patentschrift des Anmelders i5 "DE 10 2006 019 664 A1" beschriebenen, Plasma-Jet-Anordnungen über eine Luftspule. Zur Abschirmung der Hochfrequenz (Einhaltung der EMV) sowie zur Halterung der Anordnung besteht die Umhüllende in der Regel aus einem metallischen Gehäuse. Das in der Luftspule erzeugte elektromagnetische Feld erzeugt in dem metallischen Gehäuse Wirbelströme, die zum einen zu einer unerwünschten induktiven Er-
2o wärmung des Metalls führen und zum anderen als Verlustleistung vom HF-Generator aufzubringen sind (Effizienzerniedrigung).
[0014] Zur Vermeidung dieses Effektes wird in dem erfindungsgemäßen Plasmawerkzeug eine Spule mit einem für die Hochfrequenz geeigneten, geschlossenen Ferritkern verwendet, der ein Heraustreten des von der Spule erzeugten Magnetfel- 25 des verhindert.
[0015] Gegenstand der Patentanmeldung ist eine Vorrichtung zur Erzeugung eines kalten, HF-angeregten Plasmas unter Atmosphärendruckbedingungen, umfassend einen Hohlkörper für die Zuführung eines Prozessgases, einen Reihenresonanzkreis 30 zur Erzeugung der benötigten Hochspannung und einen HF-Generator, dadurch gekennzeichnet, dass durch die Miniaturisierung und Integration der dafür erfordern-
chen elektronischen Baugruppen (HF-Generator mit Leistungstreiber, Leistungsschalter, HF-Resonanzspule und HF-Filter) und einer, gegebenenfalls auch als Wechseldüse mit verschiedenen Elektrodenanordnungen gestalteten, Plasmadüse in einem handlichen, metallischen Gehäuse die Einhaltung der Richtlinien der elektro- 5 magnetischen Verträglichkeit (EMV) gewährleistet werden kann sowie ein mobiler Einsatz des Gerätes ermöglicht wird.
[0016] Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst die Vorrichtung eine elektrisch leitende Kappe (12) die im vorderen Bereich einen Schlitz lo oder ein Loch (11) aufweist. Der Schlitz oder das Loch sollte höchstens 0,7 mm breit, der Schlitz kann vorzugsweise 8 mm lang sein. Diese Kappe ist elektrisch mit dem Gehäuse (7) verbunden und damit auch geerdet. Das Plasma endet im Bereich des Schlitzes und kann, bedingt durch die Geometrie des Schlitzes, nicht heraustreten, nach dem Prinzip eines Faradayschen Käfigs. Diese Kappe wirkt wie eine dritte E- i5 lektrode und leitet den elektrischen Strom zur Erde ab. Damit ist eine Feldfreiheit in unmittelbarer Umgebung des Schlitzes gegeben.
[0017] Die zur Behandlung notwendigen Spezies und die Strahlung stehen jedoch, wenn auch etwas gemindert, hinter dem Spalt zur Verfügung. Die antimikrobielle 2o Wirkung konnte nachgewiesen werden.
[0018] Gleichzeitig wird durch diese Kappe die thermische Energie aufgenommen und die Temperaturen sind so gering, dass eine permanente Behandlung auf der Haut, auch in sensiblen Bereichen, erfolgen kann.
25
[0019] Der entscheidende Vorteil ist, dass eine solche annehmbare Kappe eine Option für den Anwender darstellt. Benötigt er ein„kräftigeres" Plasma, dann arbeitet er ohne Kappe. Die Kappe wird - je nach Anwendungsgebiet - einfach aufgeschoben oder abgezogen.
30
[0020] Die Erfindung soll nachfolgend anhand der Figuren 1 bis 7 näher erläutert werden, ohne die Erfindung auf diese Beispiele zu beschränken.
Ausführungsbeispiele:
[0021] Mit den nachfolgend in Fig. 1 bis Fig. 7 dargestellten Zeichnungen wird die Erfindung detailliert erläutert. Für die Kennzeichnung der einzelnen Elemente des Aufbaus der Vorrichtungen werden folgende Bezugszeichen verwendet:
Bezugszeichenliste:
[0022] Fig.1 zeigt beispielhaft den prinzipiellen Aufbau der erfindungsgemäßen Vorrichtung eines Plasma-Handgerätes mit integriertem HF-Generator und Reihenreso- nanzkreis. In einem Metallgehäuse (7), das im Bereich des austretenden Plasmas (1) als geerdete Elektrode (2) wirkt, sind eine Leiterplatte (8) mit EMV-gerechtem Platinenlayout, eine HF-Resonanzspule (5) mit einem, für die Hochfrequenz geeigneten, geschlossenen Ferritkern, ein als Gasdüse fungierender Isolierkörper (4) sowie eine in dem Isolierkörper (4) gehalterte Hochspannungs-Elektrode (3) in der Weise ange- ordnet, dass sie vom Prozessgas (6) um- bzw. durchströmt werden. Damit wird erreicht, dass das strömende Prozessgas (6) eine Kühlung der Elektronik (8) und der Spule (5) bewirkt. Die Leiterplatte (8) ist dabei im Interesse einer Miniaturisierung sowie eines EMV-gerechten Layouts vorzugsweise mit SMD-Bauteilen bestückt. Das Blockschaltbild der elektronischen Schaltung ist in Fig. 2 dargestellt. Die mit der Lei-
terplatte (8) realisierte elektronische Schaltung besteht im Wesentlichen aus einem HF-Generator mit einem Leistungstreiber zur Erzeugung einer geeigneten HF- Spannung mit einer Frequenz von circa 1 MHz und einem Leistungsschalter. Zusätzlich werden zwei HF-Filter verwendet, um elektromagnetische Störabstrahlungen nach außen über die Zuleitungen zur außerhalb des Plasma-Handgerätes angeordneten DC-Spannungsversorgung zu vermeiden.
[0023] Das in Fig.1 dargestellte Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist in erster Linie zur Erzeugung eines einzelnen Plasmastrahls mit relativ geringem Durchmesser vorgesehen und ist in dieser Ausführungsform mit einer aus Iso- liermaterial aufgebauten Gasdüse (4) vor allem für den Betrieb mit Edelgasen als Prozessgas geeignet. Wie in Fig. 3 dargestellt, kann dabei die mit isolierter geerdeter Elektrode arbeitende Plasmadüse mit verschiedenen Hochspannungs-Elektroden ausgerüstet werden. Neben dem originalen Aufbau mit einer einzelnen nadeiförmigen Elektrode (Fig. 3a) ist es zur Verbreiterung des wirksamen Plasmas möglich, entweder eine Anordnung mit mehreren nadeiförmigen Elektroden (Fig. 3b: Frontansicht, Fig. 3c: Seitenansicht) oder eine messerförmige Elektrode (Fig. 3d: Frontansicht, Fig. 3e: Seitenansicht) zu verwenden.
[0024] Im Fall des Betriebes mit Molekülgasen (z.B. Luft bzw. N2) als Prozessgas werden Plasmadüsen verwendet, bei denen die geerdete Elektrode nicht gegenüber dem Gasraum isoliert ist. Beispiele für Ausführungsformen dieser Art von Plasmadüsen sind in Fig. 4 dargestellt (Fig. 4 a: Düse mit einer einzelnen nadeiförmigen Elektrode, Fig. 4 b: Frontansicht einer Düse mit mehreren nadeiförmigen Elektroden, Fig. 4 c: Seitenansicht einer Düse mit mehreren nadeiförmigen Elektroden, Fig. 4 d: Frontansicht einer Düse mit einer messerförmigen Elektrode, Fig. 4 e: Seitenansicht einer Düse mit einer messerförmigen Elektrode). Die verschiedenen Düsen sind dabei derart gestaltet, dass sie auswechselbar sind und die Hochspannungs-Elektroden jeweils über einen Steckkontakt (10) mit der HF-Resonanzspule (5) verbunden werden.
[0025] In Fig. 5 ist nochmals der Kopf aus Fig.1 dargestellt. Die besondere Ausfüh- rungsform gegenüber dem Kopf aus Fig.1 besteht aus einer elektrisch leitenden Kappe (12) die im vorderen Bereich einen Schlitz oder ein Loch (11) aufweist. Der Schlitz
oder das Loch ist höchstens 0,7 mm breit, der Schlitz kann vorzugsweise 8 mm lang sein.
[0026] In Fig. 6 ist dargestellt, dass die Plasmadüse von der Hochspannungsquelle abgekoppelt ist und über ein geeignetes, vorzugsweise kurzes Hochspannungskabel sowie über einen entsprechenden Prozessgas-Schlauch extern gespeist wird.
[0027] Fig. 7 zeigt als Beispiel eine Anordnung mit einer, speziell für die Plasmabehandlung von isolierten oder nicht isolierten Drähten geeigneten, Plasmaquelle.
Claims
1. Vorrichtung für die Erzeugung eines kalten Plasmastrahls, umfassend ein im Bereich des austretenden Plasmas (1) als geerdete Elektrode (2) fungierendes
5 Metallgehäuse (7), in dem ein HF-Generator (8), eine HF-Resonanzspule (5) mit einem, für die Hochfrequenz geeigneten geschlossenen Ferritkern, ein als Gasdüse fungierender Isolierkörper (4) sowie eine in dem Isolierkörper (4) gehalterte Hochspannungs-Elektrode (3) in der Weise angeordnet, dass sie vom Prozessgas (6) um- bzw. durchströmt werden.
10
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass sie eine elektrisch leitende abnehmbare Kappe (12) umfasst, die im vorderen Bereich einen Schlitz oder ein Loch (11) aufweist. i5
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Schlitz oder das Loch höchstens 0,7 mm breit ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Kappe elektrisch mit dem Gehäuse (7) verbunden ist.
20
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der HF-Generator (8) in eine Leiterplatte (8) mit EMV-gerechtem Platinenlayout integriert ist.
25 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Leiterplatte (8) mit SMD-Bauteilen oder anderen Miniaturlösungen wie MEMS (Micro-Electro- Mechanical Systems) bestückt ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Leiter- 30 platte (8) einen Leistungstreiber zur Erzeugung einer geeigneten HF-Spannung mit einer Frequenz von circa 1 MHz und einen Leistungsschalter umfasst.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie HF-Filter besitzt, um elektromagnetische Störabstrahlungen nach außen ü- ber die Zuleitungen zur außerhalb des Plasma-Handgerätes angeordneten DC- Spannungsversorgung (9) zu vermeiden.
5
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass als Prozessgas Edelgase, Luft, Sauerstoff oder Stickstoff oder beliebige Gemische aus Kombinationen der genannten Gase dienen. lo
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Hochspannungs-Elektrode (3) eine einzelne nadeiförmigen Elektrode oder eine messerförmige Elektrode ist oder mehrere nadeiförmigen Elektroden als Hochspannungs-Elektrode (3) dienen. i5
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasdüsen auswechselbar sind und die Hochspannungs-Elektroden (3) jeweils über einen Steckkontakt (10) mit der HF-Resonanzspule (5) verbunden sind.
20 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11 , dadurch gekennzeichnet, dass im Fall des Betriebes mit Molekülgasen (z.B. Luft bzw. Stickstoff) als Prozessgas die geerdete Elektrode (2) nicht gegenüber dem Gasraum isoliert ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass 25 es sich um ein Handgerät mit zusätzlichem Batteriebetrieb handelt.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasdüse von der Hochspannungsquelle abgekoppelt ist und über ein Hochspannungskabel sowie über einen Prozessgas-Schlauch extern gespeist wird.
30
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