WO2015118083A1 - Plasma-applikator für plasmachirurgische verfahren - Google Patents

Plasma-applikator für plasmachirurgische verfahren Download PDF

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    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
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    • A61B2018/00577—Ablation
    • A61B2018/00583—Coblation, i.e. ablation using a cold plasma

Definitions

  • the invention relates to radiofrequency surgical (RF) surgical procedures and apparatus, in particular RF surgical procedures and apparatus, in which high frequency electrical alternating current (RF) current through a plasma formed between an electrode and a target tissue into an effect zone of the target tissue is directed.
  • RF radiofrequency surgical
  • RF radiofrequency surgical
  • processes include, in particular, plasmas in a noble gas, in particular in argon or helium, which are generally called argon plasma coagulation (APC) or helium plasma coagulation (HPC), and plasmas in air (nitrogen and oxygen) commonly called fulguration or spray coagulation (SC).
  • APC argon plasma coagulation
  • HPC helium plasma coagulation
  • SC fulguration or spray coagulation
  • plasma applicators for transmitting electrical energy from an electrosurgical HF generator via a connecting line and an electrode connected at its distal end and further via a current path of ionized gas into a biological target tissue are disclosed which is arranged between the distal end of the connecting line and the electrode, a resistive element having a predetermined impedance, which is dimensioned such that after the ionization of the gas, a limitation of a treatment current is ensured.
  • the invention has for its object to improve a plasma applicator such that different types of tissue can be treated during surgery and that the penetration depths of the relevant thermal effects, in particular the Devitalisations bins, coagulation and Desikkations bins, on the one hand must be achieved safely and reproducibly and On the other hand, they must not be exceeded and for this purpose can be set in a wide range, in particular from fractions of a millimeter up to a few millimeters.
  • This object is achieved by a device according to claim 1.
  • Advantageous embodiments of the invention are specified in the subclaims.
  • the invention relates to plasma applicators according to DE 10 2008 004 843 AI, which should be at the same time fully in this document.
  • the electrical resistance or the electrical impedance of a resistive element configured adjustable in the plasma applicator, so that the resistance or impedance value can be set directly on the applicator and preferably also during the operation. It is particularly favorable if the resistance element represents an adjustable capacity. This can be, for example, a variable capacitor, a sliding capacitor or an arrangement of a plurality of switchable or replaceable capacitors, that is to say a capacitor battery.
  • the adjustable resistance element By means of the adjustable resistance element, a simple adaptation of the amplitude of the HF current to the case-by-case intended penetration depth of intended thermal effects and / or to different types of tissue is now possible.
  • a smaller amplitude of the RF current will flow through the plasma into the effect zone of the target tissue, which in turn will result in a lower penetration depth of the thermal effects.
  • a greater penetration depth can be achieved by a larger capacity and correspondingly lower impedance.
  • a special problem in solving this problem was the mastery of electrical insulation distances, especially in the field of adjustable resistors or capacitors.
  • these components are spatially separated by a gas-tight separation of the gas guide.
  • the resistance element is separated from an interior of the plasma applicator, which is traversed by the slightly ionized gas.
  • the separation can be effected by a gas-tight housing around the resistance element, or by a protective gas or air which surrounds or flows around the resistance element.
  • the term resistance element is generally intended here for an impedance.
  • the resistance element may have a real, but preferably an imaginary, here a capacitive impedance.
  • the adjustable capacity may be a variable capacitor, in which the capacity can be changed by rotation.
  • this may preferably be a sliding capacitor, in which the capacitance can be changed by a displacement of two capacitor electrodes or elements against each other.
  • an arrangement of a plurality of capacitors, fixed capacitances, that is to say a capacitor battery, which can be connected together and / or disconnected by switches or by plug connections in series and / or parallel connection or similar combinations, can be provided.
  • an electrically conductive bridging of the capacitors is provided as a further embodiment of the invention.
  • the plasma applicator according to the invention not only one type of gas, but also several different types of gas can be supplied. It is particularly advantageous to provide the applicators with a plurality of gas supply lines. As a result, different gases for different gas plasmas can be available at the outlet of the plasma applicator in a short time sequence and without time-consuming switching to the required gas sources.
  • This may be, for example, a first gas, which may be, for example, a noble gas and / or nitrogen.
  • an adapter with an adjustable capacitance can be provided, which is located at an HF-technically optimal point between the HF generator and the applicator, preferably the applicator end of the supply line and the applicator firmly inserted or plugged together by plug-in coupling.
  • FIG. 1 shows a device according to the invention
  • FIG. 2 shows an adapter according to the invention for plasma applicators according to the prior art
  • FIG. 3 shows an exemplary embodiment of a plasma applicator according to the invention for open or laparoscopic surgery.
  • FIG. 1 shows a device according to the invention.
  • Applicator 10 has at least one adjustable capacitance 12 which is connected to an electrode 13.
  • a probe line 11 can also be provided which, for example, connects a feed line 22 to the adjustable capacitance 12.
  • a gas suitable for the respective application is led via the electrode 13 to the outlet 16 of the applicator.
  • the gas is ionized by an RF voltage between a target tissue 40 and the electrode 13 and forms a plasma 30 between the electrode 13 and the target tissue 40.
  • HF current thermal effects in a Effect zone 41 are produced on the target tissue 40.
  • a second gas having other physical or even chemical properties for example nitrogen and / or oxygen, ie also sterile air, can be supplied via a further gas feed line 15.
  • the gas guide is separated from the adjustable capacity 12, so that no easily ionizable gas at or in the vicinity of the adjustable capacity 12th and / or other electrical voltage or high voltage leading components can pass.
  • the separation can be done by a gas-tight partition 19 and preferably by an additional seal 18.
  • the electrode 13 is supplied by an RF generator 20 via a feed line 22 and optionally via a probe line 11 with an electrical voltage whose amplitude is large enough to ionize the gas between the electrode 13 and the effect zone 41 of the target tissue 40.
  • the HF generator can be simulated by an equivalent circuit of a generator with an open-circuit voltage U0 and an internal resistance 21, which can also assume complex values.
  • the output voltage applied to the output of the RF generator is Ul, which, however, does not correspond to the voltage required to ionize a gas between the electrode 13 and the effect zone 41 at sufficiently large distances between the distal end of the electrode and the surface of the effect zone 41.
  • IHF4 which is intended to produce at least one thermal effect in the target tissue, and flows back to the generator through a neutral electrode 23, a first parasitic current IHF2 from the supply line 22 and a second parasitic current IHF3 from the plasma applicator 10 flow directly to it HF generator back.
  • the return path of the current takes place in part via the current path of the neutral electrode as well as partly via the earth, to which the HF generator is connected by a grounding capacitor 24.
  • the output current IHF1 flowing from the generator is thus the sum of the currents IHF2, IHF3 and IHF4.
  • FIG. 2 shows an adapter for retrofitting plasma applicators 10 according to the prior art.
  • This adapter is preferably an intermediate plug which can be inserted between the feed line 22 and the plasma applicator 10. It has an input 63 and an output 62 with an adjustable capacitance 61 between input and output.
  • FIG. 3 shows an exemplary embodiment of a plasma applicator for open surgery.
  • This plasma applicator comprises a housing 10 with a nozzle 16, 16a at the distal end 16 of which the plasma is formed and at the proximal end of an RF power cable 22 and at least one gas hose 14, 15 and buttons 17a, 17b, 17c with which different resistance elements can be turned on.

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Abstract

Ein Plasma-Applikator für plasmachirurgische Verfahren umfasst eine Elektrode, welche mit einem HF-Generator verbunden werden kann, sowie eine erste Gaszuleitung zur Zuführung eines Edelgases in die Nähe der Elektrode, wobei der Gasstrom aus dem distalen Ende des Plasma-Applikators über einen Ausgang austritt. Zur Steuerung der Intensität des Plasmas und des Stroms durch das Plasma ist zwischen dem HF Generator und der Elektrode eine einstellbare Kapazität angeordnet.

Description

Plasma-Applikator für plasmachirurgische Verfahren
Technisches Gebiet Die Erfindung betrifft hochfrequenzchirurgische (HF-chirurgische) Verfahren und hierfür erforderliche Einrichtungen, insbesondere HF-chirurgische Verfahren und Einrichtungen, bei welchen hochfrequenter elektrischer Wechselstrom (HF- Strom) durch ein zwischen einer Elektrode und einem Zielgewebe gebildetes Gasplasma in eine Effektzone des Zielgewebes geleitet wird. Zu diesen Verfahren gehören insbesondere Plasmen in einem Edelgas, insbesondere in Argon oder Helium, die allgemein Argon-Plasma-Coagulation (APC) bzw. Helium-Plasma- Coagulation (HPC) genannt werden, und Plasmen in Luft (Stickstoff und Sauerstoff), die allgemein Fulguration oder Spray-Coagulation (SC) genannt werden.
Stand der Technik
In der DE 10 2008 004 843 AI sind Plasma-Applikatoren zum Übertragen elektrischer Energie von einem elektrochirurgischen HF-Generator über eine Anschlussleitung und eine an deren distalem Ende angeschlossene Elektrode und weiter über einen Strompfad aus ionisiertem Gas in ein biologisches Zielgewebe offen- bart, bei denen zwischen dem distalen Ende der Anschlussleitung und der Elektrode ein Widerstandselement mit vorbestimmter Impedanz angeordnet ist, die derart dimensioniert ist, dass nach der Ionisierung des Gases eine Begrenzung eines Behandlungsstromes sichergestellt ist. Darstellung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Plasma-Applikator derart zu verbessern, dass während einer Operation verschiedene Gewebetypen behandelt werden können und dass die Penetrationstiefen der hierbei relevanten thermischen Effekte, insbesondere des Devitalisationseffekts, Koagulationseffekts und Desikkationseffekts, einerseits sicher und reproduzierbar erreicht werden müssen und andererseits nicht überschritten werden dürfen und hierfür in einem weiten Bereich insbesondere von Bruchteilen eines Millimeters bis zu einigen Millimetern einstellbar sind. Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Die Erfindung bezieht sich auf Plasma-Applikatoren entsprechend der DE 10 2008 004 843 AI, die gleichzeitig in vollem Umfang Bestandteil dieses Dokuments sein soll. Vom Erfinder durchgeführte wissenschaftliche Untersuchungen aller für die Penetrationstiefe der verschiedenen o.g. thermischen Effekte in verschiedenen Gewebearten relevanten Parameter haben ergeben, dass insbesondere die Amplitude des durch ein Plasma in eine Effektzone eines Zielgewebes fließenden HF- Stroms und die Gasart, hier insbesondere ein Edelgas, sowie Stickstoff und / oder Sauerstoff, also auch atmosphärische Luft, eine dominierende Rolle spielen.
Eine größere Anzahl von Messreihen und Untersuchungen hat ergeben, dass die Applikatoren aus dem Stand der Technik bei unterschiedlichen Geweben zu stark unterschiedlichen Penetrationstiefen führen. Eine gewisse Korrektur der Penetrationstiefen ist durch Einstellungen am Hochfrequenzgenerator möglich. Leider ist der einstellt Bereich der üblichen Generatoren nicht ausreichend. Um hier nun das im klinischen Alltag auftretende Spektrum an unterschiedlichen Gewe- ben abzudecken, müssten Generatoren mit wesentlich höheren Ausgangsspannungen verfügbar sein. Diese höheren Ausgangsspannungen führen wiederum zu aufwändigeren Isolationen in den Zuleitungen und in den Instrumenten, was die Kosten erhöhen und deren Handhabung erschweren würde. Um nun bei Anwendung bisher verfügbarer Hochfrequenzgeneratoren einen größeren Bereich von bestimmten bzw. definitiven Penetrationstiefen bestimmter thermischer Effekte und dies außerdem auch bei verschiedenen Gewebearten, vom sterilen Operationstisch aus durch den Chirurgen einstellen zu können, wird erfindungsgemäß der elektrische Widerstand bzw. die elektrische Impedanz eines Widerstandselements im Plasma-Applikator einstellbar ausgeführt, so dass der Widerstands- bzw. Impedanzwert direkt am Applikator und bevorzugt auch während der Operation eingestellt werden kann. Besonders günstig ist es, wenn das Widerstandselement eine einstellbare Kapazität darstellt. Dies kann beispielsweise ein Drehkondensator, ein Schiebekondensator oder eine Anordnung aus mehreren umschaltbaren bzw. umsteckbaren Kondensatoren, also eine Kondensator-Batterie, sein. Durch das einstellbare Widerstandselement ist nun eine einfache Anpassung der Amplitude des HF-Stroms an die von Fall zu Fall beabsichtigte Penetrationstiefe beabsichtigter thermischer Effekte und / oder an unterschiedliche Gewebearten möglich. So wird durch kleine Kapazität entspre- chend einer großen Impedanz eine kleinere Amplitude des HF-Stroms durch das Plasma in die Effektzone des Zielgewebes fließen, wodurch wiederum eine geringere Penetrationstiefe der thermischen Effekte erreicht wird. Umgekehrt kann durch eine größere Kapazität und entsprechend kleineren Impedanz eine größere Penetrationstiefe erreicht werden. Ein spezielles Problem bei der Lösung dieser Aufgabe war die Beherrschung der elektrischen Isolationsstrecken insbesondere im Bereich der einstellbaren Widerstände bzw. Kondensatoren. Bei Anwendung von Edelgasen und der bei diesen plasmachirurgischen Verfahren erforderlichen hohen Amplituden der HF- Spannung bis hin zu 6 kV sind ausreichend lange Isolationsstrecken an und zwischen den spannungsführenden Bauelementen im Plasma-Applikator erforderlich. Außerdem darf insbesondere kein leicht ionisierbares Edelgas an Stellen aus dem Plasma-Applikator ausströmen, wo elektrische Lichtbogen (also auch Plas- ma) den Chirurgen und / oder Patienten erreichen und verletzen können. Dieses Problem ist insbesondere bei Plasma-Applikatoren zu berücksichtigen, bei welchen, wie bei dem dieser Erfindung, Drehachsen, Tastenschalter, Schiebeschalter oder dergleichen Einstell-Elemente vorhanden sind. Deswegen werden Tastenschalter, Schiebeschalter, oder dergleichen spannungführende Bauteile so im Argonplasma-Applikator untergebracht, dass sie nicht mit leicht bzw. bei geringen elektrischen Feldstärken ionisierbarem Edelgas, sondern mit Luft umgeben sind. In einer Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Plasma-Applikators sind diese Bauteile räumlich durch eine gasdichte Trennung von der Gasführung getrennt. Besonders bevorzugt ist das Widerstandselement von einem Innenraum des Plasma-Applikators getrennt, der von dem leicht ionisierten Gas durchströmt ist. Die Trennung kann durch ein gasdichtes Gehäuse um das Widerstandselement, oder durch ein Schutzgas oder Luft, welches das Widerstandselement umgibt oder umspült, erfolgen.
Dadurch kann außerdem verhindert werden, dass es zur Ausbildung eines elekt- risch leitfähigen Plasmas im Bereich der einstellbaren Kapazität kommt und die Kapazität hierdurch elektrisch überbrückt oder gar kurzgeschlossen wird. Außerdem kann dadurch die Dimensionierung der elektrischen Isolationsstrecken bzw. des Dielektrikums der einstellbaren Kapazität kleiner sein, was wiederum zu einer kleineren Bauform und einem handlicheren Applikator führt. Daher wird bei- spielsweise der Edelgasstrom an der einstellbaren Kapazität vorbei geführt. Dies kann beispielsweise durch eine Gasleitung bzw. einen Schlauch oder ein Rohr parallel zur einstellbaren Kapazität im Applikator oder auch außerhalb des Applikators erfolgen. Der Begriff des Widerstandselements ist hier allgemein für eine Impedanz vorgesehen. Das Widerstandselement kann eine reelle, aber bevorzugt eine imaginäre, hier eine kapazitive Impedanz haben.
Die einstellbare Kapazität kann ein Drehkondensator sein, bei dem die Kapazität durch Drehung verändert werden kann. Bevorzugt kann dies aber ein Schiebekondensator sein, bei dem die Kapazität durch eine Verschiebung zweier Kondensator-Elektroden bzw. Elemente gegeneinander verändert werden kann. Alternativ kann auch eine Anordnung aus mehreren Kondensatoren, festen Kapazitäten, also einer Kondensator-Batterie, die durch Schalter oder durch Steckver- bindungen in Reihen- und / oder Parallelschaltung oder dergleichen Kombinationen zusammen- und/oder auseinander schaltbar sind, vorgesehen sein.
Soll die von einem HF-Generator maximal lieferbare Amplitude des HF-Stroms beispielsweise für extreme Penetrationstiefen genutzt werden, ist als weitere Ausgestaltung der Erfindung eine elektrisch leitfähige Überbrückung der Konden- satoren vorgesehen.
In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass dem erfindungsgemäßen Plasma-Applikator nicht nur eine Gasart, sondern auch mehrere verschiedene Gasarten zugeleitet werden können. Besonders günstig ist es, den Applikatoren mit mehreren Gaszuleitungen zu versehen. Dadurch können in kur- zer zeitlicher Abfolge und ohne zeitraubende Umschaltungen an den erforderlichen Gasquellen unterschiedliche Gase für verschiedene Gasplasmen am Ausgang des Plasma-Applikators zur Verfügung stehen. Dies kann beispielsweise ein erstes Gas, welches beispielsweise ein Edelgas sein kann und/oder Stickstoff sein. Zur Nachrüstung von Plasma-Applikatoren nach dem Stand der Technik kann ein Adapter mit einer einstellbaren Kapazität vorgesehen sein, der an einer HF- technisch optimalen Stelle zwischen dem HF-Generator und dem Applikator, be- vorzugt dem Applikatorseitigen Ende der Zuleitung und dem Applikator fest eingefügt oder per Steckkupplung zusammensteckbar ist.
Beschreibung der Zeichnungen
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen exemplarisch beschrieben. Figur 1 zeigt eine Erfindungsgemäße Vorrichtung
Figur 2 zeigt einen erfindungsgemäßen Adapter für Plasma-Applikatoren nach dem Stand der Technik
Figur 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Plasma- Applikators für die offene oder laparoskopische Chirurgie. In Figur 1 ist eine erfindungsgemäße Vorrichtung dargestellt. Ein Plasma-
Applikator 10 hat wenigstens eine einstellbare Kapazität 12, welche mit einer Elektrode 13 verbunden ist. Zur Stromführung innerhalb des Plasma-Applikators kann noch eine Sondenleitung 11 vorgesehen sein, die beispielsweise eine Zuleitung 22 mit der einstellbaren Kapazität 12 verbindet. Durch wenigstens eine ers- te Gaszuleitung 14 wird ein für den jeweiligen Anwendungszweck geeignetes Gas über die Elektrode 13 zum Ausgang 16 des Applikators geführt. Das Gas wird durch eine HF-Spannung zwischen einem Zielgewebe 40 und der Elektrode 13 ionisiert und bildet ein Plasma 30 zwischen der Elektrode 13 und dem Zielgewebe 40. Durch das Plasma bzw. den durch das Plasma 30 fließenden HF-Strom können thermische Effekte in einer Effektzone 41 am Zielgewebe 40 erzeugt werden.
Über eine weitere Gaszuleitung 15 kann beispielsweise ein zweites Gas mit anderen physikalischen oder auch chemischen Eigenschaften, beispielsweise Stickstoff und / oder Sauerstoff, also auch sterile Luft, zugeführt werden. Besonders bevorzugt ist die Gasführung von der einstellbaren Kapazität 12 getrennt, so dass kein leicht ionisierbares Gas an bzw. in die Nähe der einstellbaren Kapazität 12 und / oder andere elektrische Spannung bzw. Hochspannung führende Bauelemente gelangen kann. Die Trennung kann durch eine gasdichte Trennwand 19 sowie bevorzugt durch eine zusätzliche Dichtung 18 erfolgen. Die Elektrode 13 wird durch einen HF-Generator 20 über eine Zuleitung 22 und optional über eine Sondenleitung 11 mit einer elektrischen Spannung versorgt, deren Amplitude groß genug ist, um das Gas zwischen der Elektrode 13 und der Effektzone 41 des Zielgewebes 40 zu ionisieren.
Der HF-Generator kann durch eine Ersatzschaltung eines Generators mit einer Leerlaufspannung U0 und einem Innenwiderstand 21, welcher auch komplexe Werte annehmen kann, nachgebildet werden. Die am Ausgang des HF Generators anliegende Ausgangsspannung ist Ul, die jedoch nicht der Spannung entspricht, welche zum Ionisieren eines Gases zwischen der Elektrode 13 und der Effektzone 41 bei ausreichend großen Abständen zwischen dem distalen Ende der Elektrode und der Oberfläche der Effektzone 41 erforderlich ist. Neben dem eigentlichen Wirkstrom IHF4, der im Zielgewebe mindestens einen thermischen Effekterzeugen soll, und der durch eine Neutralelektrode 23 an den Generator zurückfließt, fließen ein erster parasitärer Strom IHF2 von der Zuleitung 22 sowie ein zweiter parasitärer Strom IHF3 von dem Plasma- Applikator 10 direkt zum HF- Generator zurück. Der Rückweg des Stromes erfolgt teilweise über den Strom- pfad der Neutralelektrode sowie auch teilweise über die Erde, mit der der HF Generator durch eine Erdungskapazität 24 verbunden ist. Der aus dem Generator fließende Ausgangsstrom IHF1 ist also die Summe der Ströme IHF2, IHF3 und IHF4. Je kleiner die Amplitude des durch das Plasma fließenden HF-Stromes sein soll, desto höher muss der elektrische bzw. kapazitive Widerstand des Kondensa- tors 12 sein.
Sollen bei Anwendung bereits vorhandene konventionelle Plasma-Applikatoren 10 nach dem vorbekannten Stand der Technik die gleichen Möglichkeiten wie bei dem oben anhand von Figur 1 beschriebenen Plasma-Applikator 10 nutzbar sein, dann kann ein Kondensator mit einer bestimmten oder, falls erforderlich, mit einstellbarer Kapazität und hierfür erforderlichen Einstellbauelementen beispielsweise als Adapter in die Zuleitung 22 eingefügt werden.
In der Figur 2 ist ein Adapter zur Nachrüstung von Plasma-Applikatoren 10 nach dem Stand der Technik dargestellt. Dieser Adapter ist bevorzugt ein Zwischenstecker, der zwischen die Zuleitung 22 und den Plasma-Applikator 10 gesteckt werden kann. Er hat einen Eingang 63 sowie einen Ausgang 62 mit einer einstellbaren Kapazität 61 zwischen Eingang und Ausgang.
Figur 3 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Plasma-Applikators für die offene Chi- rurgie. Dieser Plasma-Applikator umfasst ein Gehäuse 10 mit einer Düse 16, 16a an deren distalem Ende 16 das Plasma entsteht und an dessen proximalem Ende ein HF-Stromkabel 22 und wenigstens ein Gasschlauch 14, 15 sowie Tasten 17a, 17b, 17c mit denen unterschiedliche Widerstandselemente eingeschaltet werden können.
Bezugszeichenliste
10 Plasma-Applikator
11 Sondenleitung
12 einstellbare Kapazität
13 Elektrode
14 erste Gaszuleitung
15 zweite Gaszuleitung
16 Ausgang
17 Tasten
18 Dichtung
19 gasdichte Trennwand
20 HF-Generator
21 Innenwiderstand
22 Zuleitung
23 Neutralelektrode
24 Erdungskapazität
30 Lichtbogen/Plasma
40 biologisches Gewebe (Zielgewebe)
41 Effektzone
50 Streukapazität der Zuleitung
51 Streukapazität des Applikators
60 Adapter
61 einstellbare Kapazität
62 Ausgang
63 Eingang

Claims

Patentansprüche
1. Plasma-Applikator (10) umfassend eine Elektrode (13), welche mit einem HF-Generator (20) verbunden werden kann, sowie eine erste Gaszuleitung (14) zur Zuführung eines leicht ionisierbares Gases in die Nähe der Elektrode (13), wobei der Gasstrom aus dem distalen Ende des Plasma-Applikators über einen Ausgang (16) austritt, und wobei zwischen dem HF-Generator (20) und der Elektrode (13) ein Widerstandselement (20) vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass
das Widerstandselement (20) ein einstellbares Widerstandselement ist.
2. Plasma-Applikator (10) nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Widerstandselement (20) eine einstellbare Kapazität hat.
3. Plasma-Applikator (10) nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Widerstandselement (20) ein Drehkondensator oder Schiebekondensator ist.
4. Plasma-Applikator (10) nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Widerstandselement mehrere umschaltbare oder umsteckbare Kondensatoren umfasst.
5. Plasma-Applikator (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
eine zweite Gaszuleitung (15) vorgesehen ist.
6. Plasma-Applikator (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass
das Widerstandselement (20) durch eine gasdichte Trennung von der Gasführung getrennt ist.
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