WO2010133682A1 - Carrier for a silicon block - Google Patents

Carrier for a silicon block Download PDF

Info

Publication number
WO2010133682A1
WO2010133682A1 PCT/EP2010/056993 EP2010056993W WO2010133682A1 WO 2010133682 A1 WO2010133682 A1 WO 2010133682A1 EP 2010056993 W EP2010056993 W EP 2010056993W WO 2010133682 A1 WO2010133682 A1 WO 2010133682A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
sectional area
carrier
cross
smaller cross
carrier according
Prior art date
Application number
PCT/EP2010/056993
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Sven Worm
Original Assignee
Gebr. Schmid Gmbh & Co.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gebr. Schmid Gmbh & Co. filed Critical Gebr. Schmid Gmbh & Co.
Publication of WO2010133682A1 publication Critical patent/WO2010133682A1/en

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0076—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for removing dust, e.g. by spraying liquids; for lubricating, cooling or cleaning tool or work

Definitions

  • the invention relates to a carrier for a Sihziumblock, wherein the SIII- ziumblock is firmly connected to the carrier and can be moved together with this for further processing, such as say into individual wafers, cleaning or the like
  • Such carriers are known per se in the prior art and are also referred to as so-called beams. An example of this is described in DE 10 2008 028 213 A1.
  • the silicon block is glued to the carrier and the carrier serves for improved handling of the silicon block, in particular This is then as usual zerept in single thin wafers, which were individually only with difficulty beschadi- free to handle
  • This carrier is made of glass, which has the advantage that it is very dimensionally stable and this even with changing temperatures
  • the invention has the object to provide a support mentioned above, with the problems of the prior art can be avoided and in particular an advantageous possibility is created to attach a Sihziumblock it and keep for further processing or handle
  • the carrier has in its interior at least one continuous long channel, advantageously more, which can be parallel and equidistant to each other, particularly advantageous just in one direction along the elongation of the carrier or perpendicular to the later cut wafers
  • Particularly advantageous are the long channels accessible only at the beginning and at the end and otherwise closed over their length or within the Tragers
  • the Trager has an upper side on or with which it is attached to a holder for the carrier, for example screwed Furthermore, he has a bottom, the The at least one long channel has a cross-section with a larger cross-sectional area and a subsequent smaller cross-sectional area.
  • the smaller cross-sectional area is derived from the larger cross-section At least in a substantial part of its length, the smaller cross-sectional area has a constant width.
  • the shape of the long channel is therefore at least equal to the width of the longitudinal channel formed the two described cross-sectional areas
  • the smaller cross-sectional area on a longitudinal direction which is perpendicular to the bottom. It therefore runs as it were shortest way from the larger cross-sectional area to the bottom, from which is cut into the carrier for cutting even the smaller cross-sectional area,
  • the smaller cross-sectional area over the greater part of its length has a constant width, and particularly advantageous parallel side walls So this may extend over, for example, at least 80% or 90% of its length - A -
  • the lower end may be rounded down with a slight arc and provide a radius that is significantly greater than half the width of the smaller cross-sectional area.
  • the rounded end portion does not become too long and yet may have the advantages of being able to cut evenly.
  • the longitudinal channel in particular with its outer lower end of the smaller cross-sectional area, extends to just before the bottom of the carrier.
  • these may be less than 20 mm or even less than 10 mm, for example about 5 mm or even only 1 mm to 2 mm.
  • the smaller cross-sectional area in the transition to the larger cross-sectional area already have the width that it has over its essential profile.
  • the transition may be formed abruptly or slightly rounded. This depends essentially also on a most favorable manufacturing process for the longitudinal channels in the carrier.
  • the larger cross-sectional area has a geometric basic shape, particularly advantageously a circular or square shape. These geometric basic shapes are relatively easy to produce and also give a good flow profile for cleaning fluid in the longitudinal channel. In rectangular or square shape, the sides of the larger cross-sectional area should be approximately parallel to the bottom or perpendicular thereto.
  • the length of the smaller cross-sectional area, with which this over the larger cross-sectional area protrudes downward is less than the height of the larger cross-sectional area.
  • it may be about 8 mm to 12 mm in height, and the length of the smaller cross-sectional area may then be slightly less. It can be achieved that, although several L josskanäle ⁇ all longitudinal channels are sawn, but at the same time the way of the sawn longitudinal channels is not too large towards the larger cross-sectional area mainly leading to the cleaning liquid.
  • the longitudinal channels should extend in the longitudinal direction of the flat and elongate carrier, advantageously exactly in its longitudinal direction. They are advantageously provided parallel to each other and have the same distance, wherein it can also be provided that their distance from the center is more convenient, since there the introduction of cleaning liquid between the zerimien wafer from the outside is much more difficult and therefore more makestik für be introduced from the inside At the same time not too many long channels should be provided too close together, not to the overall stability of the wearer To affect very much It can be provided up to ten long channels, advantageously four to eight
  • the carrier is in its interior except for the long channels mentioned , which are particularly advantageous all the same design, solid design may be provided on its upper side elongated grooves for attachment of the carrier to the aforementioned holding device
  • Fig. 1 is a sectional view through an inventive
  • an inventive carrier 11 is shown, which is formed as an elongated flat plate, and on the underside 13 a dashed line silicon block 15 is fixed or glued.
  • the carrier 1 1 has a length of for example about 600 mm to 800 mm, a width of about 200 mm and a thickness of about 20 mm to 30 mm. It may be made of ceramic, but this does not play a fundamental role in the essence of the present invention. It could also consist of other suitable materials.
  • longitudinal channels 17a to 17e are provided inside the carrier 1 1 . They each pass through the entire length of the carrier with a constant cross section, the cross section having approximately the shape of a keyhole. They are straight and parallel to each other, and have advantageous, but not mandatory, also about constant distance from each other.
  • the longitudinal channels 17 can be easily produced by producing the carrier 11 by extrusion by appropriate formation of the extrusion die or mold template.
  • grooves may be provided for attachment at the top, for example, undercut grooves as a kind Dovetail guide or the like for sliding therein threaded elements.
  • the leftmost longitudinal channel 17a which is shown in Fig. 2 in enlargement, consists of an upper, larger cross-sectional area 20a and a lower, smaller cross-sectional area 21 a.
  • the upper, larger cross-sectional area 20a has a substantially circular shape per se and a diameter of about 10 mm. Exactly from below with a course perpendicular to the bottom 13 of the smaller cross-sectional area 21 a is set or the two areas merge into each other. It can be seen that a transition is relatively sharp, so to speak, the smaller cross-sectional area 21a is superposed with approximately upright rectangular shape of the circular shape of the larger cross-sectional area 20a.
  • the width of the smaller cross-sectional area 21 a may be, for example, about 5 mm and its height about 8 mm to 12 mm.
  • the distance of a lower edge 22 to the lower surface 13 may be in the range of a few millimeters, for example 3 mm to 10 mm.
  • Fig. 1 is also shown how with a saw wire 24, which is parallel to a saw, not shown in more detail, has been cut through the silicon block 15 into the carrier 11 into it.
  • a saw wire 24 Such Einsägtiefe shown in phantom as a saw wire 24 ".
  • the sawing wire 24 or 24 ' can be seen, the deflection is exaggerated, and can be lower.
  • the shape of the long channel 17c according to FIG. 3 has a basic shape which is fundamentally similar to that of the long channel 17a according to FIG. 2, here both the transitions from the larger cross-sectional area 20c to the smaller lower cross-sectional area 21c and its lower edge 22c are rounded the transition of the lower edge 22 c to the side walls of the smaller cross-sectional area 21 c rounded
  • the larger cross-sectional area 20b of the long channel 17b has a square shape.
  • the downwardly extending, smaller cross-sectional area 21b has an oblong rectangular shape with a straight lower edge 22b.
  • the corners could also be slightly rounded here
  • the long channel 17d in FIG. 1 has a very slightly bent lower edge 22d in comparison to the long channel 17c according to FIG.
  • the long channel 17e on the far right in FIG. 1 is different in that it is considerably narrower in the downwardly pointing smaller cross-sectional area 21e than the others and considerably narrower than the diameter of the round larger cross-sectional area 2Oe. Furthermore, it has an upwardly projecting one upper cross-sectional area 26e, which is approximately as wide as the smaller down-facing and but a whole piece shorter This upper cross-sectional area 26e serves to illustrate that just in principle even more cross-sectional areas can depart from the larger cross-sectional area 2Oe Furthermore, he can be used in addition to introduce, for example, Remistshnetechnik odgl targeted in the long channel 17 e

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

The invention relates to a carrier (11) for a silicon block (15), which is rigidly connected to the carrier (11) and is moved together with the carrier for processing by means of sawing, cleaning, or the like, wherein said carrier comprises several continuous longitudinal channels (17a-e) in the interior thereof, a top side for fastening to a holding device for the carrier (11), and a bottom side (13) for bonding adhesively to the silicon block (15). The longitudinal channels (17) have a cross-section having a larger cross-section area (20a) and a smaller cross-section area (21a) connected thereto, wherein the smaller cross-section area (21a) extends from the larger cross-section area (20a) in the direction of the bottom side (13) and has a constant width over most of the length thereof.

Description

Beschreibung Trager für einen Sihziumblock Description Trager for a Sihziumblock
Anwendungsgebiet und Stand der TechnikField of application and state of the art
Die Erfindung betrifft einen Trager für einen Sihziumblock, wobei der SIII- ziumblock mit dem Trager fest verbunden ist und zusammen mit diesem bewegt werden kann zur weiteren Bearbeitung, beispielsweise Sagen in einzelne Wafer, Reinigen odglThe invention relates to a carrier for a Sihziumblock, wherein the SIII- ziumblock is firmly connected to the carrier and can be moved together with this for further processing, such as say into individual wafers, cleaning or the like
Derartige Trager sind an sich im Stand der Technik bekannt und werden auch als sogenannte Beams bezeichnet Ein Beispiel dafür ist in der DE 10 2008 028 213 A1 beschrieben Dort wird der Sihziumblock an den Trager angeklebt und der Trager dient zur verbesserten Handhabung des Siliziumblocks, insbesondere wenn dieser nachher wie üblich in einzelne dünne Wafer zersagt wird, die einzeln nur mit Muhe beschadi- gungsfrei handzuhaben waren Dieser Trager besteht aus Glas, welches den Vorteil aufweist, dass es sehr formstabil ist und dies auch bei sich ändernden TemperaturenSuch carriers are known per se in the prior art and are also referred to as so-called beams. An example of this is described in DE 10 2008 028 213 A1. There, the silicon block is glued to the carrier and the carrier serves for improved handling of the silicon block, in particular This is then as usual zersagt in single thin wafers, which were individually only with difficulty beschadi- free to handle This carrier is made of glass, which has the advantage that it is very dimensionally stable and this even with changing temperatures
Aufgabe und LösungTask and solution
Der Erfindung hegt die Aufgabe zugrunde, einen eingangs genannten Trager zu schaffen, mit dem Probleme des Standes der Technik vermieden werden können und insbesondere eine vorteilhafte Möglichkeit geschaffen wird, einen Sihziumblock daran zu befestigen und zur weiteren Bearbeitung zu halten bzw handzuhabenThe invention has the object to provide a support mentioned above, with the problems of the prior art can be avoided and in particular an advantageous possibility is created to attach a Sihziumblock it and keep for further processing or handle
Gelost wird diese Aufgabe durch einen Trager mit den Merkmalen des Anspruchs 1 Vorteilhafte sowie bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der weiteren Ansprüche und werden im folgen- deπ naher erläutert Der Wortlaut der Ansprüche wird durch ausdruckliche Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemachtThis problem is solved by a carrier having the features of claim 1. Advantageous and preferred embodiments of the invention are the subject of the further claims and will be described below. The text of the claims is made explicit reference to the content of the description
Es ist vorgesehen, dass der Trager in seinem Inneren mindestens einen durchgangigen Langskanal aufweist, vorteilhaft mehrere, die parallel und aquidistant zueinander verlaufen können, besonders vorteilhaft eben in einer Richtung entlang der Langserstreckung des Tragers bzw senkrecht zu den spater geschnittenen Wafern Besonders vorteilhaft sind die Langskanale nur am Anfang und am Ende zugänglich und ansonsten über ihre Lange geschlossen bzw innerhalb des Tragers Der Trager weist eine Oberseite auf, an bzw mit der er an einer Haltevorrichtung für den Trager befestigt wird, beispielsweise verschraubt wird Des weiteren weist er eine Unterseite auf, die zur Verbindung mit dem Silizi- umblock vorgesehen ist, insbesondere durch an sich übliches Verkleben Der mindestens eine Langskanal weist einen Querschnitt auf mit einem größeren Querschnittsbereich und einem sich an diesen anschließenden kleineren Querschnittsbereich Der kleinere Querschnittsbereich geht von dem größeren Querschnittsbereich aus in Richtung zur Unterseite ab, also an einem entsprechenden Bereich von dem größeren Querschnittsbereich sowie in die entsprechende Richtung Zumindest in einem wesentlichen Teil seiner Lange weist der kleinere Querschnittsbereich eine gleichbleibende Breite auf Die Form des Langska- nals wird also in diesem Fall von mindestens den beiden beschriebenen Querschnittsbereichen gebildetIt is provided that the carrier has in its interior at least one continuous long channel, advantageously more, which can be parallel and equidistant to each other, particularly advantageous just in one direction along the elongation of the carrier or perpendicular to the later cut wafers Particularly advantageous are the long channels accessible only at the beginning and at the end and otherwise closed over their length or within the Tragers The Trager has an upper side on or with which it is attached to a holder for the carrier, for example screwed Furthermore, he has a bottom, the The at least one long channel has a cross-section with a larger cross-sectional area and a subsequent smaller cross-sectional area. The smaller cross-sectional area is derived from the larger cross-section At least in a substantial part of its length, the smaller cross-sectional area has a constant width. In this case, the shape of the long channel is therefore at least equal to the width of the longitudinal channel formed the two described cross-sectional areas
Der Vorteil von solchen Langskanalen im Inneren des Tragers hegt darin, dass beim Durchsagen des Sihziumblocks in einzelne Wafer üblicherweise auch in den Trager selbst ein Stuck hineingeschnitten wird, beispielsweise einige Millimeter Wenn dieser Schnitt so weit gefuhrt wird dass der Langskanal angeschnitten wird kann hier Reinigungsflussig- keit insbesondere Wasser, eingebracht werden in den Langskanal, welches dann an der Verbindungsstelle zwischen den einzelnen Wafern und dem angesägten Träger austritt und so die Reinigungswirkung stark verbessert Dies bedeutet also, dass der größere Querschnittsbereich den Vorteil aufweist, dass eine große Menge von Reinigungsflüssigkeit längs eingeleitet bzw durchgeleitet werden kann Durch die etwas kleinere Ausbildung der kleineren Querschnittsbereiche wird noch genügend Träger übriggelassen zur Halterung des damit immer noch verklebten einzelnen WafersThe advantage of such long channels inside the carrier lies in the fact that when stating the Sihziumblocks into individual wafers usually a piece is also cut into the carrier itself, for example, a few millimeters If this section is so far that the long channel is cut can here Reinigungsflussig- in particular water, are introduced into the long channel, which then at the junction between the individual wafers This means, therefore, that the larger cross-sectional area has the advantage that a large amount of cleaning liquid can be introduced or passed longitudinally. Due to the somewhat smaller design of the smaller cross-sectional areas, sufficient support is left for mounting of the still glued single wafer
Durch die gleich bleibende Breite des kleineren Querschnittsbereichs, der dann quasi als Verbindungskanal zwischen dem größeren Querschnittsbereich und dem gesagten Zwischenraum zwischen den einzelnen Wafern dient, kann erreicht werden, dass unabhängig von der Tiefe, mit der in den Trager hineingesagt wird bzw mit der der kleinere Querschnittsbereich angesägt wird, dessen Durchflussquerschnitt stets gleich ist Dies gilt vor allem auch für einen Träger mit mehreren Längskanälen, bei denen mit üblichen Sageverfahren in der Mitte weniger tief hineingesägt wird als an den Seitenbereichen des Trägers durch die sich zwangsläufig etwas durchbiegenden SagedrahteDue to the constant width of the smaller cross-sectional area, which then serves as a connecting channel between the larger cross-sectional area and the said space between the individual wafers, it can be achieved that regardless of the depth, is spoken into with the carrier or with the smaller This is especially true for a carrier with a plurality of longitudinal channels, in which sawing with conventional sawing in the middle less deeply than at the side regions of the carrier by the inevitably slightly sagging Saga
In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung weist der kleinere Querschnittsbereich eine Längsrichtung auf, die rechtwinklig zur Unterseite ist. Er verläuft also auf sozusagen kürzestem Weg von dem größeren Querschnittsbereich zu der Unterseite hin, von der aus in den Träger hineingeschnitten wird zum Anschneiden auch des kleineren Querschnittsbereichs,In an advantageous embodiment of the invention, the smaller cross-sectional area on a longitudinal direction, which is perpendicular to the bottom. It therefore runs as it were shortest way from the larger cross-sectional area to the bottom, from which is cut into the carrier for cutting even the smaller cross-sectional area,
In nochmaliger weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass der kleinere Querschnittsbereich über den größten Teil seiner Länge eine gleichbleibende Breite aufweist, und zwar besonders vorteilhaft parallele Seitenwandungen Dies kann sich also über beispielsweise mindestens 80% oder 90% seiner Länge erstrecken - A -In a further further embodiment of the invention, it is provided that the smaller cross-sectional area over the greater part of its length has a constant width, and particularly advantageous parallel side walls So this may extend over, for example, at least 80% or 90% of its length - A -
Obwohl es an sich für den Erfindungsgedanken vorteilhaft ist, den kleineren Querschnittsbereich über eine möglichst große Länge mit parallelen Seitenwandungen zu versehen, hat sich im Rahmen der Erfindung herausgestellt, dass es vorteilhaft ist, wenn das zur Unterseite hin weisende Ende des kleineren Querschnittsbereichs leicht abgerundet ist. Besonders vorteilhaft ist eine Abrundung sowohl an einer Art Unterkante als auch am Übergang zu den Seitenwandungen hin vorgesehen. Dadurch kann im wesentlichen verhindert werden, dass durch das Anschneiden bzw. Einsägen Eckbereiche oder Kantenbereiche des Längskanals abbrechen. Des weiteren ändert sich die Länge des zu durchsägenden Trägermaterials nicht so schlagartig, was für das Sägen vorteilhaft ist. Als Ausführungsmöglichkeit kann das untere Ende mit einem leichten Bogen nach unten abgerundet sein und einen Radius vorsehen, der deutlich größer ist als die halbe Breite des kleineren Querschnittsbereichs. So wird der abgerundete Endbereich nicht zu lang und kann dennoch die Vorteile der Möglichkeit des gleichmäßigen Einschneidens aufweisen.Although it is advantageous for the inventive concept to provide the smaller cross-sectional area over as long a length as possible with parallel side walls, it has been found within the scope of the invention that it is advantageous if the end of the smaller cross-sectional area facing towards the underside is slightly rounded , Particularly advantageously, a rounding is provided both on a kind of lower edge and at the transition to the side walls. As a result, it can be substantially prevented that corner regions or edge regions of the longitudinal channel break off as a result of the cutting or sawing. Furthermore, the length of the carrier material to be sagged does not change so abruptly, which is advantageous for sawing. As an option, the lower end may be rounded down with a slight arc and provide a radius that is significantly greater than half the width of the smaller cross-sectional area. Thus, the rounded end portion does not become too long and yet may have the advantages of being able to cut evenly.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass der Längskanal, insbesondere mit seinem äußeren unteren Ende des kleineren Querschnittsbereichs, bis kurz vor die Unterseite des Trägers reicht. Vorteilhaft können dies weniger als 20 mm oder sogar weniger als 10 mm sein, beispielsweise etwa 5 mm oder sogar nur 1 mm bis 2 mm.In a further embodiment of the invention can be provided that the longitudinal channel, in particular with its outer lower end of the smaller cross-sectional area, extends to just before the bottom of the carrier. Advantageously, these may be less than 20 mm or even less than 10 mm, for example about 5 mm or even only 1 mm to 2 mm.
In nochmaliger weiterer Ausgestaltung der Erfindung kann der kleinere Querschnittsbereich im Übergang zu dem größeren Querschnittsbereich bereits die Breite aufweisen, die er über seinen wesentlichen Verlauf hat. Der Übergang kann dabei abrupt oder leicht abgerundet ausgebildet sein. Dies hängt im wesentlichen auch von einem möglichst günstigen Herstellungsverfahren für die Längskanäle im Träger ab. Vorteilhaft weist der größere Querschnittsbereich eine geometrische Grundform auf, besonders vorteilhaft Kreisform oder Quadratform. Diese geometrischen Grundformen sind relativ leicht herstellbar und ergeben auch ein gutes Durchströmungsprofil für Reinigungsflüssigkeit im Längskanal. Bei rechteckiger bzw. quadratischer Form sollten die Seiten des größeren Querschnittsbereichs in etwa parallel zur Unterseite bzw. senkrecht dazu stehen.In a further further embodiment of the invention, the smaller cross-sectional area in the transition to the larger cross-sectional area already have the width that it has over its essential profile. The transition may be formed abruptly or slightly rounded. This depends essentially also on a most favorable manufacturing process for the longitudinal channels in the carrier. Advantageously, the larger cross-sectional area has a geometric basic shape, particularly advantageously a circular or square shape. These geometric basic shapes are relatively easy to produce and also give a good flow profile for cleaning fluid in the longitudinal channel. In rectangular or square shape, the sides of the larger cross-sectional area should be approximately parallel to the bottom or perpendicular thereto.
In weiterer Ausgestaltung des Längskanals kann vorgesehen sein, dass die Länge des kleineren Querschnittsbereichs, mit dem dieser über den größeren Querschnittsbereich nach unten übersteht, geringer ist als die Höhe des größeren Querschnittsbereichs. So kann dieser beispielsweise etwa 8 mm bis 12 mm Höhe aufweisen und die Länge des kleineren Querschnittsbereichs kann dann entsprechend etwas weniger betragen. Es kann erreicht werden, dass zwar bei mehreren Längskanäleπ sämtliche Längskanäle angesägt werden, gleichzeitig aber der Weg der angesägten Längskanäle hin zum hauptsächlich die Reinigungsflüssigkeit führenden größeren Querschnittsbereich nicht zu groß ist.In a further embodiment of the longitudinal channel can be provided that the length of the smaller cross-sectional area, with which this over the larger cross-sectional area protrudes downward, is less than the height of the larger cross-sectional area. For example, it may be about 8 mm to 12 mm in height, and the length of the smaller cross-sectional area may then be slightly less. It can be achieved that, although several Längskanäleπ all longitudinal channels are sawn, but at the same time the way of the sawn longitudinal channels is not too large towards the larger cross-sectional area mainly leading to the cleaning liquid.
In nochmals weiterer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass von dem größeren Querschnittsbereich zusätzlich zu dem unteren kleineren Querschnittsbereich weitere Querschnittsbereiche abgehen. Dies kann beispielsweise verbesserte herstellungstechnische Gründe haben. Vorteilhaft sind dann derartige weitere abstehende Querschnittsbereiche ebenfalls kleiner oder sogar deutlich kleiner als der größere Querschnittsbereich. Sie können beispielsweise zur Oberseite des Trägers hin abstehen.In yet another embodiment of the invention can be provided that depart from the larger cross-sectional area in addition to the lower cross-sectional area further cross-sectional areas. This can have, for example, improved manufacturing reasons. Such further protruding cross-sectional areas are also advantageously smaller or even significantly smaller than the larger cross-sectional area. For example, they may protrude toward the top of the carrier.
Die Längskanäle sollten in Längsrichtung des flachen und länglichen Trägers verlaufen, vorteilhaft exakt in dessen Längsrichtung. Sie sind vorteilhaft parallel zueinander vorgesehen und weisen gleichen Abstand auf, wobei auch vorgesehen sein kann, dass ihr Abstand zur Mitte hin geπnger ist, da dort das Einbringen von Reinigungsflussigkeit zwischen die zersagten Wafer von außen her noch viel schwieriger möglich ist und deswegen hier mehr Reinigungsflussigkeit von innen eingebracht werden sollte Gleichzeitig sollten nicht allzu viele Langskanale zu dicht nebeneinander vorgesehen sein, um die Gesamtstabilitat des Tragers nicht zu sehr zu beeinträchtigen Es können bis zu zehn Langskanale vorgesehen sein, vorteilhaft vier bis achtThe longitudinal channels should extend in the longitudinal direction of the flat and elongate carrier, advantageously exactly in its longitudinal direction. They are advantageously provided parallel to each other and have the same distance, wherein it can also be provided that their distance from the center is more convenient, since there the introduction of cleaning liquid between the zersagten wafer from the outside is much more difficult and therefore more Reinigungsflussigkeit should be introduced from the inside At the same time not too many long channels should be provided too close together, not to the overall stability of the wearer To affect very much It can be provided up to ten long channels, advantageously four to eight
Es kann vorgesehen sein, dass entweder ein Mittelpunkt der größeren Querschnittsbereiche oder ein Schwerpunkt des gesamten Querschnitts eines Langskanals in etwa auf halber Hohe der Tragerdicke angeordnet ist Auch dadurch kann die Stabilität des Tragers verbessert werden Vorteilhaft ist der Trager in seinem Inneren bis auf die genannten Langskanale, die besonders vorteilhaft alle gleich ausgebildet sind, massiv ausgebildet Möglicherweise können an seiner Oberseite längliche Nuten zur Befestigung des Tragers an der eingangs genannten Haltevorrichtung vorgesehen seinIt can be provided that either a center of the larger cross-sectional areas or a center of gravity of the entire cross section of a long channel is arranged approximately at half the height of the carrier thickness. This also improves the stability of the carrier. Advantageously, the carrier is in its interior except for the long channels mentioned , which are particularly advantageous all the same design, solid design may be provided on its upper side elongated grooves for attachment of the carrier to the aforementioned holding device
Diese und weitere Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich allein oder zu mehreren in Form von Unter- kombmationen bei einer Ausfuhrungsform der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfahi- ge Ausfuhrungen darstellen können, für die hier Schutz beansprucht wird Die Unterteilung der Anmeldung in einzelne Abschnitte sowie Zwi- schen-Uberschπften beschranken die unter diesen gemachten Aussagen nicht in ihrer AllgemeingultigkeitThese and other features are apparent from the claims and from the description and the drawings, wherein the individual features each alone or more in the form of Unter comb combinations in an embodiment of the invention and in other areas be realized and advantageous and for can be considered as protections for which protection is claimed here. The subdivision of the application into individual sections and interim surpluses does not restrict the general validity of the statements made thereunder
Kurzbeschreibung der Zeichnungen Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen schematisch dargestellt und werden im folgenden näher erläutert. In den Zeichnungen zeigen:Brief description of the drawings Embodiments of the invention are shown schematically in the drawings and will be explained in more detail below. In the drawings show:
Fig. 1 eine Schnittansicht durch einen erfindungsgemäßenFig. 1 is a sectional view through an inventive
Träger mit mehreren Längskanälen mit jeweils unterschiedlichem Querschnitt undBeam with several longitudinal channels, each with a different cross-section and
Fig. 2 und 3 zwei unterschiedliche Querschnitte in starker Vergrößerung mit angedeutetem Sägedrahtverlauf.2 and 3 show two different cross sections in high magnification with indicated saw wire.
Detaillierte Beschreibung der AusführungsbeispieleDetailed description of the embodiments
In Fig. 1 ist ein erfindungsgemäßer Träger 11 dargestellt, der als längliche flache Platte ausgebildet ist, und an dessen Unterseite 13 ein gestrichelt dargestellter Siliziumblock 15 befestigt bzw. festgeklebt ist. Der Träger 1 1 weist eine Länge von beispielsweise etwa 600 mm bis 800 mm auf, eine Breite von etwa 200 mm und eine Dicke von etwa 20 mm bis 30 mm. Er kann aus Keramik bestehen, was jedoch für den Kern der vorliegenden Erfindung keine grundsätzliche Rolle spielt. Er könnte auch aus anderen geeigneten Materialien bestehen.In Fig. 1, an inventive carrier 11 is shown, which is formed as an elongated flat plate, and on the underside 13 a dashed line silicon block 15 is fixed or glued. The carrier 1 1 has a length of for example about 600 mm to 800 mm, a width of about 200 mm and a thickness of about 20 mm to 30 mm. It may be made of ceramic, but this does not play a fundamental role in the essence of the present invention. It could also consist of other suitable materials.
Im Inneren des Trägers 1 1 sind fünf Längskanäle 17a bis 17e vorgesehen. Sie gehen mit jeweils gleich bleibendem Querschnitt durch die gesamte Länge des Trägers hindurch, wobei der Querschnitt angenähert die Form eines Schlüssellochs hat. Dabei sind sie gerade und parallel zueinander, und weisen vorteilhaft, aber nicht zwingend, auch etwa gleichbleibenden Abstand zueinander auf. Die Längskanäle 17 können bei Herstellung des Trägers 11 durch Extrudieren durch entsprechende Ausbildung der Extrudierform bzw. Formschablone leicht hergestellt werden. Ebenso können an der Oberseite noch Nuten zur Befestigung vorgesehen sein, beispielsweise hinterschnittene Nuten als eine Art Schwalbenschwanzführung odgl. für darin verschiebbare Gewindeelemente.Inside the carrier 1 1 five longitudinal channels 17a to 17e are provided. They each pass through the entire length of the carrier with a constant cross section, the cross section having approximately the shape of a keyhole. They are straight and parallel to each other, and have advantageous, but not mandatory, also about constant distance from each other. The longitudinal channels 17 can be easily produced by producing the carrier 11 by extrusion by appropriate formation of the extrusion die or mold template. Likewise, grooves may be provided for attachment at the top, for example, undercut grooves as a kind Dovetail guide or the like for sliding therein threaded elements.
Der ganz linke Längskanal 17a, der in Fig. 2 in Vergrößerung dargestellt ist, besteht aus einem oberen größeren Querschnittsbereich 20a und einem unteren kleineren Querschnittsbereich 21 a. Der obere größere Querschnittsbereich 20a weist an sich im wesentlichen Kreisform auf und einen Durchmesser von etwa 10 mm. Genau von unten mit Verlauf senkrecht zur Unterseite 13 ist der kleinere Querschnittsbereich 21 a angesetzt bzw. die beiden Bereiche gehen ineinander über. Dabei ist zu erkennen, dass ein Übergang relativ scharf erfolgt, also sozusagen der kleinere Querschnittsbereich 21a mit etwa aufrecht stehender Rechteckform der Kreisform des größeren Querschnittsbereichs 20a überlagert ist. Die Breite des kleineren Querschnittsbereichs 21 a kann beispielsweise etwa 5 mm betragen und seine Höhe etwa 8 mm bis 12 mm. Der Abstand einer Unterkante 22 zur Unterseite 13 kann im Bereich einiger Millimeter liegen, beispielsweise 3 mm bis 10 mm betragen.The leftmost longitudinal channel 17a, which is shown in Fig. 2 in enlargement, consists of an upper, larger cross-sectional area 20a and a lower, smaller cross-sectional area 21 a. The upper, larger cross-sectional area 20a has a substantially circular shape per se and a diameter of about 10 mm. Exactly from below with a course perpendicular to the bottom 13 of the smaller cross-sectional area 21 a is set or the two areas merge into each other. It can be seen that a transition is relatively sharp, so to speak, the smaller cross-sectional area 21a is superposed with approximately upright rectangular shape of the circular shape of the larger cross-sectional area 20a. The width of the smaller cross-sectional area 21 a may be, for example, about 5 mm and its height about 8 mm to 12 mm. The distance of a lower edge 22 to the lower surface 13 may be in the range of a few millimeters, for example 3 mm to 10 mm.
In Fig. 1 ist auch dargestellt, wie mit einem Sägedraht 24, der in vielfacher Form parallel an einer nicht näher dargestellten Sägeeinrichtung vorhanden ist, durch den Siliziumblock 15 geschnitten worden ist bis in den Träger 11 hinein. Eine solche Einsägtiefe ist gestrichelt dargestellt als Sägedraht 24" . Zum einen ist hier die übliche, leicht durchgebogene Form des Sägedrahts 24 bzw. 24' zu erkennen, wobei die Durchbiegung übertrieben dargestellt ist und geringer sein kann. Des weiteren ist zu erkennen, dass aufgrund der Länge sämtlicher kleinerer Querschnittsbereiche 21 a bis 21 e der Längskanäle 17a bis 17e diese sämtlich über ihre gesamte Breite angeschnitten sind. Dadurch bleibt also unabhängig von der Einschnitttiefe, selbstverständlich innerhalb eines gewissen Bereichs, die Breite der Öffnung nach unten bzw. die Breite, mit der der Längskanal 17 durch den Sägedraht 24' geöffnet wird, gleich. Eine Unterkante 22a des kleineren Querschnittsbereichs 21a ist gerade abgeschnitten und somit, ähnlich wie der Übergang zwischen den beiden Querschnittsbereichen eckig bzw unstetig Es ist zu erkennen, wie ein Sagedraht 24, wenn er den kleineren Querschnittsbereich 21 a unten anschneidet, zuerst an der linken Ecke der Unterkante 22a ansetzt Ist, wie in Fig 2 dargestellt, der hier dargestellte Langskanal 17a in etwa in der Mitte des Tragers 11 angeordnet, so schneidet der Sagedraht 24 die Unterkante 22a etwa gleichmaßig an Dabei kann es an den genannten Ecken zu Ausbrüchen des Keramikmateπals des Tragers 11 kommen, was vermieden werden sollteIn Fig. 1 is also shown how with a saw wire 24, which is parallel to a saw, not shown in more detail, has been cut through the silicon block 15 into the carrier 11 into it. Such Einsägtiefe shown in phantom as a saw wire 24 ". On the one here is the usual, slightly curved shape of the sawing wire 24 or 24 'can be seen, the deflection is exaggerated, and can be lower. Furthermore, it can be seen that, due to The length of all the smaller cross-sectional areas 21a to 21e of the longitudinal channels 17a to 17e are all cut across their entire width, so that the width of the opening downwards or the width remains, irrespective of the depth of the cut, of course within a certain range the longitudinal channel 17 is opened by the saw wire 24 ', the same. A lower edge 22a of the smaller cross-sectional area 21a is straight-cut and thus, like the transition between the two cross-sectional areas, angular. It can be seen how a sawing wire 24, when cutting the smaller cross-sectional area 21a below, first at the left corner of FIG If, as shown in FIG. 2, the long channel 17a shown here is arranged approximately in the center of the carrier 11, then the sawing wire 24 cuts the bottom edge 22a approximately uniformly. At the corners mentioned, this can lead to breakouts of the ceramic material of the carrier 11 come, what should be avoided
Aus diesem Grund weist die Form des Langskanals 17c gemäß Fig 3 zwar eine grundsatzlich sehr ahnliche Grundform auf wie die des Langskanals 17a gemäß Fig 2 Allerdings sind hier sowohl die Übergänge vom größeren Querschnittsbereich 20c zum kleineren unteren Querschnittsbereich 21c als auch dessen Unterkante 22c abgerundet Ebenso ist der Übergang der Unterkante 22c zu den Seitenwandungen des kleineren Querschnittsbereichs 21 c abgerundetFor this reason, although the shape of the long channel 17c according to FIG. 3 has a basic shape which is fundamentally similar to that of the long channel 17a according to FIG. 2, here both the transitions from the larger cross-sectional area 20c to the smaller lower cross-sectional area 21c and its lower edge 22c are rounded the transition of the lower edge 22 c to the side walls of the smaller cross-sectional area 21 c rounded
Es ist zu erkennen, dass auch hier, obwohl durch die Abrundungen die effektive gleichbleibende Breite sich über eine etwas geringere Lange des kleineren Querschnittsbereichs 21c hinzieht, dennoch die Einschnitttiefe des Sagedrahts 24 stark variieren kann, damit der Langskanal 17c nach unten hin mit jeweils gleichbleibender Breite angeschnitten wirdIt can be seen that here, too, although the effective constant width extends through a slightly shorter length of the smaller cross-sectional area 21c due to the rounding, the depth of cut of the sawing wire 24 can vary greatly, so that the long channel 17c downwards, each with a constant width is cut
Der größere Querschnittsbereich 20b des Langskanals 17b weist Quadratform auf Der sich nach unten erstreckende, kleinere Querschnittsbereich 21 b weist länglich rechteckige Form auf mit gerader Unterkante 22b In leichter Abwandlung konnten hier die Ecken auch wieder etwas abgerundet sein Der Langskanal 17d in Fig 1 weist eine ganz schwach gebogene Unterkante 22d im Vergleich zu dem Langskanal 17c gemäß Fig 3 aufThe larger cross-sectional area 20b of the long channel 17b has a square shape. The downwardly extending, smaller cross-sectional area 21b has an oblong rectangular shape with a straight lower edge 22b. In a slight modification, the corners could also be slightly rounded here The long channel 17d in FIG. 1 has a very slightly bent lower edge 22d in comparison to the long channel 17c according to FIG
Der Langskanal 17e ganz rechts in Fig 1 ist insofern unterschiedlich, als dass er im nach unten weisenden kleineren Querschnittsbereich 21 e erheblich schmaler ist als die anderen und erheblich schmaler als der Durchmesser des runden größeren Querschnittsbereichs 2Oe Des weiteren weist er zusätzlich einen nach oben hin abstehenden oberen Querschnittsbereich 26e auf, der in etwa so breit ist wie der kleinere nach unten weisende und dafür aber ein ganzes Stuck kurzer Dieser obere Querschnittsbereich 26e dient zur Veranschaulichung, dass eben grundsätzlich auch noch weitere Querschnittsbereiche von dem größeren Querschnittsbereich 2Oe abgehen können Des weiteren kann er zusätzlich genutzt werden, um beispielsweise Remigungsflussigkeit odgl gezielter in den Langskanal 17e einzubringenThe long channel 17e on the far right in FIG. 1 is different in that it is considerably narrower in the downwardly pointing smaller cross-sectional area 21e than the others and considerably narrower than the diameter of the round larger cross-sectional area 2Oe. Furthermore, it has an upwardly projecting one upper cross-sectional area 26e, which is approximately as wide as the smaller down-facing and but a whole piece shorter This upper cross-sectional area 26e serves to illustrate that just in principle even more cross-sectional areas can depart from the larger cross-sectional area 2Oe Furthermore, he can be used in addition to introduce, for example, Remigungsflussigkeit odgl targeted in the long channel 17 e
Aus Fig 1 ist auch zu ersehen, wie Remigungsflussigkeit welche mit einem gewissen Druck in die Langskanale 17 eingebracht wird, durch das Ansagen von unten nach unten in den Sagespalt eindringen kann und somit genau zwischen die einzelnen Wafer, die aus dem Sihzium- block 15 herausgeschnitten worden sind Durch das Sagen entstandene Verunreinigungen, sogenannter Slurry, kann so sehr gut genau von dem Bereich aus entfernt bzw herausgespult werden, der bei einem Spulen von außen, wie es beispielsweise die DE 10 2007 058 260 A1 zeigt, kaum oder nur schwer erreicht werden kann From Figure 1 it can also be seen how Remigungsflussigkeit which is introduced with a certain pressure in the long channels 17, can penetrate through the announcements from bottom to bottom in the Sagespalt and thus precisely between the individual wafers, which cut out of the Sihzium- block 15 By the so-called impurities, so-called slurry, can be so very well removed or reeled out of the area, which is hardly or only with difficulty achieved in an external coil, as shown for example in DE 10 2007 058 260 A1 can

Claims

Patentansprüche claims
1. Träger für einen Siliziumblock, wobei der Siliziumblock mit dem Trager fest verbunden ist und zusammen mit diesem bewegt wird zur Bearbeitung durch Sagen, Reinigen odgl , wobei der Träger in seinem Inneren mindestens einen durchgangigen Langskanal aufweist sowie eine Oberseite zur Befestigung an einer Haltevorrichtung für den Trager und eine Unterseite zum Verkleben mit dem Siliziumblock, wobei der Langskanal einen Querschnitt aufweist mit einem größeren Querschnittsbereich und einem sich daran anschließenden kleineren Querschnittsbereich, wobei der kleinere Querschnittsbereich von dem größeren Querschnittsbereich aus in Richtung zur Unterseite abgeht und zumindest in einem wesentlichen Teil seiner Länge gleichbleibende Breite aufweist1. Support for a silicon block, wherein the silicon block is fixedly connected to the carrier and is moved together with this for editing by saying, cleaning or the like, wherein the carrier has in its interior at least one continuous long channel and a top for attachment to a holding device for the carrier and an underside for bonding to the silicon block, wherein the long channel has a cross section with a larger cross-sectional area and an adjoining smaller cross-sectional area, the smaller cross-sectional area starting from the larger cross-sectional area towards the bottom and at least in a substantial part of it Length has the same width
2. Trager nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der kleinere Querschnittsbereich eine Längsrichtung aufweist, die senkrechtwinklig zur Unterseite ist2. Carrier according to claim 1, characterized in that the smaller cross-sectional area has a longitudinal direction which is perpendicular to the bottom
3. Träger nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der kleinere Querschnittsbereich über den größten Teil seiner Länge gleichbleibende Breite aufweist, insbesondere parallele Seitenwandungen3. A carrier according to claim 1 or 2, characterized in that the smaller cross-sectional area over the greater part of its length has constant width, in particular parallel side walls
4 Träger nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zur Unterseite hin weisende Ende des kleineren Querschnittsbereichs leicht abgerundet ist, vorzugsweise mit einem Radius deutlich großer als die halbe Breite des kleineren Querschnittsbereichs. Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Langskanal, insbesondere mit einem äußeren Ende des kleineren Querschnittsbereichs, bis kurz vor die Unterseite des Tragers reicht vorzugsweise weniger als 10 mm4 carrier according to one of the preceding claims, characterized in that the underside facing the end of the smaller cross-sectional area is slightly rounded, preferably with a radius significantly larger than half the width of the smaller cross-sectional area. Carrier according to one of the preceding claims, characterized in that the long channel, in particular with an outer end of the smaller cross-sectional area, until shortly before the underside of the carrier is preferably less than 10 mm
Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der kleinere Querschnittsbereich im Übergang zu dem größeren Querschnittsbereich die sich über den wesentlichen Teil seiner Lange erstreckende gleichbleibende Breite aufweistCarrier according to one of the preceding claims, characterized in that the smaller cross-sectional area in the transition to the larger cross-sectional area which has over the substantial part of its length extending constant width
Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der größere Querschnittsbereich zumindest angenähert kreisrund ist oder quadratisch, wobei vorzugsweise bei quadratischer Form die Seiten des Quadrats in etwa parallel zur Unterseite sind bzw senkrecht dazuCarrier according to one of the preceding claims, characterized in that the larger cross-sectional area is at least approximately circular or square, preferably with a square shape, the sides of the square are approximately parallel to the bottom or perpendicular thereto
Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lange des kleineren Querschnittsbereichs über den größeren Querschnittsbereich nach unten überstehend geringer ist als die Hohe des größeren QuerschnittsbereichsCarrier according to one of the preceding claims, characterized in that the length of the smaller cross-sectional area over the larger cross-sectional area downwardly projecting lower than the height of the larger cross-sectional area
Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass von dem größeren Querschnittsbereich zusätzlich zu dem unteren kleineren Querschnittsbereich nochmals ein weiterer Querschnittsbereich absteht insbesondere ein kleinerer Querschnittsbereich, vorzugsweise in Richtung zu Oberseite hinCarrier according to one of the preceding claims, characterized in that in addition to the lower, smaller cross-sectional area of the larger cross-sectional area again another cross-sectional area protrudes, in particular a smaller cross-sectional area, preferably in the direction towards the top
Trager nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Langskanale in Längsrichtung des flachen und länglichen Tragers verlaufen und nur an den beiden Enden von außen zugänglich sind, insbesondere in einer Richtung entlang der Längsrichtung des Trägers bzw. senkrecht zu den später geschnittenen Wafern, vorzugsweise parallel zueinander und mit gleichem Abstand, wobei insbesondere ein bis zehn Längskanäle vorgesehen sind, wobei vorzugsweise der Träger bis auf die Innenkanäle massiv ausgebildet ist in seinem Inneren. Carrier according to one of the preceding claims, characterized in that the long channels extend in the longitudinal direction of the flat and elongate carrier and only at the two ends are accessible from the outside, in particular in a direction along the longitudinal direction of the carrier or perpendicular to the later cut wafers, preferably parallel to each other and at the same distance, wherein in particular one to ten longitudinal channels are provided, wherein preferably the carrier formed solid except for the inner channels is in its interior.
PCT/EP2010/056993 2009-05-22 2010-05-20 Carrier for a silicon block WO2010133682A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009023121A DE102009023121A1 (en) 2009-05-22 2009-05-22 Support for a silicon block
DE102009023121.8 2009-05-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010133682A1 true WO2010133682A1 (en) 2010-11-25

Family

ID=42351993

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2010/056993 WO2010133682A1 (en) 2009-05-22 2010-05-20 Carrier for a silicon block

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102009023121A1 (en)
TW (1) TW201105455A (en)
WO (1) WO2010133682A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8524008B2 (en) 2009-07-20 2013-09-03 Gebr. Schmid Gmbh Method and device for cleaning substrates on a carrier
EP2711151A1 (en) 2012-09-24 2014-03-26 Meyer Burger AG Method of making wafers

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009023122A1 (en) 2009-05-22 2010-11-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Support for a silicon block and manufacturing method of such a carrier
DE102009035342A1 (en) 2009-07-23 2011-01-27 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Device for cleaning substrates at carrier, has flexible and/or elastic cleaning device completely filling longitudinal channel in carrier and flexibly resting against walls of longitudinal channel
DE102009035341A1 (en) 2009-07-23 2011-01-27 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Device for cleaning substrates on a support
DE102010050897B4 (en) * 2010-07-09 2014-05-22 Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh Carrier device and method for cutting a block of material attached to the carrier device
DE102010031364A1 (en) 2010-07-15 2012-01-19 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Support for a silicon block, carrier arrangement with such a carrier and method for producing such a carrier arrangement

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0919921A (en) * 1995-07-07 1997-01-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd Wire saw
JPH09207126A (en) * 1996-01-31 1997-08-12 Nippei Toyama Corp Work supporting apparatus for wire saw, method for cleaning in and the wire saw
JP2004106360A (en) * 2002-09-19 2004-04-08 Komatsu Electronic Metals Co Ltd Slit wafer supporting component and wafer cleaning apparatus
JP2007118354A (en) * 2005-10-27 2007-05-17 Kyocera Corp Jig for supporting ingot
DE102007058260A1 (en) 2007-11-27 2009-05-28 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Cut wafer block cleaning method for use during manufacture of solar cell, involves turning lateral edges of wafer block and/or wafer about vertical axis, so that cleaning liquid is supplied between wafers
DE102008028213A1 (en) 2008-06-06 2009-12-10 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Method for attaching a silicon block to a support therefor and corresponding arrangement

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4457114A (en) * 1982-09-30 1984-07-03 Magnetic Peripherals Inc. Workpiece carrier
DE29924242U1 (en) * 1999-06-18 2002-07-04 Schwaebische Werkzeugmaschinen Machine tool with metal components made of metal foam

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0919921A (en) * 1995-07-07 1997-01-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd Wire saw
JPH09207126A (en) * 1996-01-31 1997-08-12 Nippei Toyama Corp Work supporting apparatus for wire saw, method for cleaning in and the wire saw
JP2004106360A (en) * 2002-09-19 2004-04-08 Komatsu Electronic Metals Co Ltd Slit wafer supporting component and wafer cleaning apparatus
JP2007118354A (en) * 2005-10-27 2007-05-17 Kyocera Corp Jig for supporting ingot
DE102007058260A1 (en) 2007-11-27 2009-05-28 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Cut wafer block cleaning method for use during manufacture of solar cell, involves turning lateral edges of wafer block and/or wafer about vertical axis, so that cleaning liquid is supplied between wafers
DE102008028213A1 (en) 2008-06-06 2009-12-10 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Method for attaching a silicon block to a support therefor and corresponding arrangement

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8524008B2 (en) 2009-07-20 2013-09-03 Gebr. Schmid Gmbh Method and device for cleaning substrates on a carrier
EP2711151A1 (en) 2012-09-24 2014-03-26 Meyer Burger AG Method of making wafers
WO2014045108A1 (en) 2012-09-24 2014-03-27 Meyer Burger Ag Method of making wafers

Also Published As

Publication number Publication date
DE102009023121A1 (en) 2010-11-25
TW201105455A (en) 2011-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010133682A1 (en) Carrier for a silicon block
DE2142801C3 (en) Apparatus for drawing a crystalline body from a melt film
EP1788182B1 (en) Two-part depth adjustable window frame, in particular window sill
DE102014119295A1 (en) Tool holder for a cutting insert and method for producing the tool holder
WO2009146923A1 (en) Chip-removing tool
DE102009023122A1 (en) Support for a silicon block and manufacturing method of such a carrier
AT9431U1 (en) CUTTING BOARD
EP2298520A1 (en) Method and device for cleaning wafers
EP0016958B1 (en) Frame section for a window, a door or the like
DE3224065A1 (en) ADJUSTABLE SLIDING CHOCOLATE FOR MULTI-LINE CASTING PLANTS
EP3061338A1 (en) Cutter bar
WO2012007381A1 (en) Carrier for a silicon block, carrier arrangement having such a carrier and process for producing such a carrier arrangement
EP2940227B1 (en) Planar component, shearing force reinforcement element and reinforced concrete/prestressed concrete component with a shearing force reinforcement made of such shearing force reinforcement elements
AT404658B (en) CUTTING BAR
DE19741131C2 (en) Continuous casting mold
EP2236728B1 (en) Shading device with slats
DE2614023A1 (en) Tubular metal frame with easily formed curved corners - has incisions at curvature point forming smooth exterior when bent
EP0374821A2 (en) Extrusion die for making ceramic articles with a honeycomb structure
DE1583699B2 (en) Continuous casting mold for ingots with a rectangular cross-section
DE102006055446A1 (en) Pressure bar for a sawing machine
DE20317081U1 (en) Rod-like gear cutting tool
DE1806717U (en) GRATING AND DEVICE FOR ITS PRODUCTION.
DE202012100736U1 (en) Saw blade with openings in the shaft
AT385453B (en) Saw blade
DE3907301A1 (en) Device for holding a population of semiconductor wafers during thermal or chemical treatment steps and its use

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10721785

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10721785

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1