WO2010113986A1

WO2010113986A1 - ピリダジノン化合物の有害節足動物防除用途

Info

Publication number: WO2010113986A1
Application number: PCT/JP2010/055772
Authority: WO
Inventors: 坂元法久; 符阪隆文
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2009-03-30
Filing date: 2010-03-24
Publication date: 2010-10-07
Also published as: US20120028988A1; BRPI1013159A2; JP2011037824A

Abstract

　式（Ｉ）で示されるピリダジノン化合物は有害節足動物防除活性を有することから、有害節足動物防除用途に有効である。

Description

ピリダジノン化合物の有害節足動物防除用途

　本発明は、ピリダジノン化合物の有害節足動物防除用途に関する。

　ある種のピリダジノン化合物がＷＯ２００７／１１９４３４及びＷＯ２００９／０３５１５０に記載されている。

　しかし、これらのピリダジノン化合物が有害節足動物防除用途に使用できることは知られていない。
　本発明は、これらのピリダジノン化合物が有害節足動物に対する防除効力を有することに基づくものである。即ち、本発明はこれらのピリダジノン化合物の有害節足動物防除用途を提供するものである。
　本発明は、以下のものである。
［１］　式（Ｉ）

〔式中、Ｒ^１はＣ_１−６アルキル基又は（Ｃ_１−６アルキルオキシ）Ｃ_１−６アルキル基を表し、
Ｒ^２は水素又はＣ_１−６アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ^３はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_３−６アルキニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、ジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_２−６アルケニル）アミノ基、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基又は３~８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ^４はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_６−１０アリール基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルチオ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６の各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基のアリール部分及び３~８員の含窒素複素環基はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。｝
を表し、
Ｚ^１はＣ_１−６アルキル基を表し、
Ｚ^２はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、５もしくは６員のヘテロアリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、
ここで、Ｚ^２で表されるＣ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基及び５もしくは６員のヘテロアリール基はいずれもハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基により置換されていてもよく、
ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２、３又は４である場合、各々のＺ^２は同一又は異なっていてもよい。〕
で示されるピリダジノン化合物（以下、本化合物と記す場合がある。）及び不活性担体を含有する有害節足動物防除剤（以下、本発明防除剤と記す。）。
［２］　式（Ｉ）のｎが１、２又は３である［１］記載の有害節足動物防除剤。
［３］　式（Ｉ）のｎが０であり、Ｚ^１がＣ_２−６アルキル基である［１］記載の有害節足動物防除剤。
［４］　式（Ｉ）のｎが１又は２であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位である［１］又は［２］記載の有害節足動物防除剤。
［５］　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である［１］、［２］又は［４］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［６］　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基である［１］、［２］、［４］又は［５］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［７］　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位である［１］又は［２］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［８］　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、Ｚ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である［１］、［２］又は［７］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［９］　式（Ｉ）のＲ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基である［１］~［８］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１０］　式（Ｉ）のＲ^１がメチル基である［１］~［９］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１１］　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基である［１］~［１０］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１２］　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はメチル基である［１］~［１１］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１３］　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ｂはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ｂはＣ_１−６アルキル基又はＣ_６−１０アリール基を表し、
Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基又はＣ_１−６アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基及び（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である［１］~［１２］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１４］　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ａはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ａはＣ_１−６アルキル基を表す。
但し、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基及びＣ_６−１０アリール基はＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である［１］~［１３］のいずれか一項記載の有害節足動物防除剤。
［１５］　式（Ｉ）

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ^３はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_３−６アルキニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、ジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_２−６アルケニル）アミノ基、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基又は３~８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ^４はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_６−１０アリール基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルチオ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６の各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基のアリール部分及び３~８員の含窒素複素環基はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。｝
を表し、
Ｚ^１はＣ_１−６アルキル基を表し、
Ｚ^２はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、５もしくは６員のヘテロアリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、
ここで、Ｚ^２で表されるＣ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基及び５もしくは６員のヘテロアリール基はいずれもハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基により置換されていてもよく、
ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２、３又は４である場合、各々のＺ^２は同一又は異なっていてもよい。〕
で示されるピリダジノン化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に処理する工程を有する有害節足動物の防除方法。
［１５−２］　式（Ｉ）のｎが１、２又は３である［１５−１］記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−３］　式（Ｉ）のｎが０であり、Ｚ^１がＣ_２−６アルキル基である［１５−１］記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−４］　式（Ｉ）のｎが１又は２であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位である［１５−１］又は［１５−２］記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−５］　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である［１５−１］、［１５−２］又は［１５−４］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−６］　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基である［１５−１］、［１５−２］、［１５−４］又は［１５−５］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−７］　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位である［１５−１］又は［１５−２］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−８］　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、Ｚ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である［１５−１］、［１５−２］又は［１５−７］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−９］　式（Ｉ）のＲ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基である［１５−１］~［１５−８］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−１０］　式（Ｉ）のＲ^１がメチル基である［１５−１］~［１５−９］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−１１］　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基である［１５−１］~［１５−１０］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−１２］　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はメチル基である［１５−１］~［１５−１１］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−１３］　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ｂはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ｂはＣ_１−６アルキル基又はＣ_６−１０アリール基を表し、
Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基又はＣ_１−６アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基及び（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である［１５−１］~［１５−１２］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１５−１４］　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ａはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ａはＣ_１−６アルキル基を表す。
但し、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基及びＣ_６−１０アリール基はＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である［１５−１］~［１５−１３］のいずれか一項記載の有害節足動物の防除方法。
［１６］　有害節足動物防除のための［１］記載のピリダジノン化合物の使用。
　本化合物のＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｚ^１及びＺ^２で表される置換基について記述する。
　Ｃ_１−６アルキル基とは、炭素数１~６のアルキル基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、１−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基及びイソヘキシル基が挙げられる。
Ｃ_３−８シクロアルキル基とは、炭素数３~８のシクロアルキル基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
Ｃ_２−６アルケニル基とは、炭素数２~６のアルケニル基を意味し、例えば、ビニル基、アリル基、１−ブテン−３−イル基及び３−ブテン−１−イル基が挙げられる。
Ｃ_２−６アルキニル基とは、炭素数２~６のアルキニル基を意味し、例えば、プロパルギル基及び２−ブチニル基が挙げられる。
Ｃ_６−１０アリール基とは，炭素数６~１０のアリール基を意味し、例えば、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。
（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基とは、Ｃ_６−１０アリール基で置換されたＣ_１−６アルキル基を意味し、例えば、ベンジル基及びフェネチル基が挙げられる。
Ｃ_１−６アルキルオキシ基とは、炭素数１~６のアルキルオキシ基を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基及びイソプロポキシ基が挙げられる。
Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基とは、炭素数３~８のシクロアルキルオキシ基を意味し、例えば、シクロプロピルオキシ基及びシクロペンチルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_２−６アルケニルオキシ基とは、炭素数２~６のアルケニルオキシ基を意味し、例えば、ビニルオキシ基及びアリルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_３−６アルキニルオキシ基とは、炭素数３~６のアルキニルオキシ基を意味し、例えば、プロパルギルオキシ基及び２−ブチニルオキシ基が挙げられる。
Ｃ_６−１０アリールオキシ基とは、炭素数６~１０のアリールオキシ基を意味し、例えば、フェノキシ基及びナフチルオキシ基が挙げられる。
（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基とは、Ｃ_６−１０アリール基で置換されたＣ_１−６アルキルオキシ基を意味し、例えば、ベンジルオキシ基及びフェネチルオキシ基が挙げられる。
ジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_１−６アルキル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びＮ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基が挙げられる。
ジ（Ｃ_２−６アルケニル）アミノ基とは、２つの同一又は異なったＣ_２−６アルケニル基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、ジアリルアミノ基及びジ（３−ブテニル）アミノ基が挙げられる。
（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基とは、Ｃ_１−６アルキル基及びＣ_６−１０アリール基で置換されたアミノ基を意味し、例えば、メチルフェニルアミノ基及びエチルフェニルアミノ基が挙げられる。
Ｃ_１−６アルキルチオ基とは、炭素数１~６のアルキルチオ基を意味し、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基及びイソプロピルチオ基が挙げられる。
（Ｃ_１−６アルキルオキシ）Ｃ_１−６アルキル基とは、Ｃ_１−６アルキルオキシ基で置換されたＣ_１−６アルキル基を意味し、例えば、メトキシエチル基及びエトキシエチル基が挙げられる。
３~８員の含窒素複素環基とは、１~３個の窒素を含み、更に１~３個の酸素及び／又はイオウを含んでいてもよく、芳香族又は脂環式の３~８員の複素環基を意味し、例えば、１−ピラゾリル基、２−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−チアゾリル基、ピロリジノ基、ピペリジノ基及びモルホリノ基が挙げられる。
５もしくは６員のヘテロアリール基とは、窒素、酸素、イオウから選ばれるヘテロ原子を１~３個含む、芳香族の５もしくは６員の複素環基を意味し、例えば、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基及び１−ピラゾリル基が挙げられる。
　本化合物における、ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
　Ｚ^２で表されるＣ_１−６ハロアルキル基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等で置換されたＣ_１−６アルキル基を意味し、例えば、トリフルオロメチル基及び２，２，２−トリクロロエチル基が挙げられる。
　Ｚ^２で表されるＣ_１−６ハロアルキルオキシ基とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素で置換されたＣ_１−６アルキルオキシ基を意味し、例えば、トリフルオロメトキシ基及び２，２，２−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。
　Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６の各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基のアリール部分及び３~８員の含窒素複素環基は、Ｃ_１−６アルキル基で置換されていてもよい。
　Ｚ^２で表される基のうち、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基及び５もしくは６員のヘテロアリール基はいずれも、上記したハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基により置換されていてもよい。
　式（Ｉ）の化合物としては、以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、ｎが１、２又は３であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが０であり、Ｚ^１がＣ_２−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ｂはＣ_１−６アルキル基又はＣ_６−１０アリール基を表し、
Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基又はＣ_１−６アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基及び（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アル＋キル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ａはＣ_１−６アルキル基を表す。
但し、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基及びＣ_６−１０アリール基はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｚ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｚ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、Ｃ_１−３ハロアルキル基、Ｃ_１−３ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基又は５もしくは６員のヘテロアリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基又は５もしくは６員のヘテロアリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基又は５もしくは６員のヘテロアリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１又は２であり、ｎが２の場合、２つのＺ^２は同一又は異なっていてもよく、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基（更に好ましくはＣ_１−３アルキル基）からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ）において、Ｒ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基であり、Ｒ^２が水素又はメチル基であり、Ｇが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａは前記と同じ意味を表す。｝
であり、
ｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、
Ｚ^１がＣ_１−６アルキル基であり、
Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいＣ_６−１０アリール基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）

において、Ｒ^２−１が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇ^１が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−３アルキルカルボニル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_６−１０アリールカルボニル基であり、
Ｚ^１−１がＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−１−１}がＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−１−２}が水素又はＣ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^２−１が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ^１が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^１−１がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−１−１}がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−１−２}が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^２−１が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇ^１が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−３アルキルカルボニル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_６−１０アリールカルボニル基であり、
Ｚ^１−１がＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−１−１}がＣ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、Ｃ_１−３ハロアルキル基、Ｃ_１−３ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基または５もしくは６員のヘテロアリール基であり、
Ｚ^{２−１−２}が水素、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基又はハロゲンであるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^２−１が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ^１が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^１−１がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−１−１}がシクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、塩素、臭素、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、３−チエニル基、３−フリル基、シアノ基又はニトロ基であり、
Ｚ^{２−１−２}が水素、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素又は臭素であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^２−１が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇ^１が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−３アルキルカルボニル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_６−１０アリールカルボニル基であり、
Ｚ^１−１がＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−１−１}が水素、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基又はハロゲンであり、
Ｚ^{２−１−２}がＣ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−１）において、Ｒ^２−１が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ^１が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^１−１がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−１−１}が水素、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素又は臭素であり、
Ｚ^{２−１−２}がシクロプロピル基、エチニル基、メトキシ基、塩素、臭素、シアノ基又はニトロ基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）

において、Ｒ^２−２が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇ^２が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−３アルキルカルボニル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_６−１０アリールカルボニル基であり、
Ｚ^{２−２−１}が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−２−２}が水素又はＣ_１−３アルキル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−２）において、Ｒ^２−２が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ^２が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^{２−２−１}が水素、メチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−２−２}が水素、メチル基又はエチル基であるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−３）

において、Ｒ^２−３が水素又はＣ_１−３アルキル基であり、Ｇ^３が水素、ハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−３アルキルカルボニル基、Ｃ_１−４アルコキシカルボニル基、Ｃ_２−４アルケニルオキシカルボニル基又はＣ_６−１０アリールカルボニル基であり、
Ｚ^１−３がＣ_１−３アルキル基であり、
Ｚ^{２−３−１}がハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基であり、
Ｚ^{２−３−２}が水素、Ｃ_１−３アルキル基又はハロゲンであるピリダジノン化合物。
式（Ｉ−３）において、Ｒ^２−３が水素、メチル基又はエチル基であり、Ｇ^３が水素、アセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基又はベンゾイル基であり、
Ｚ^１−３がメチル基又はエチル基であり、
Ｚ^{２−３−１}がフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、３−メチルフェニル基又は４−メチルフェニル基であり、
Ｚ^{２−３−２}が水素、メチル基又は塩素であるピリダジノン化合物。
　本発明防除剤は、本化合物及び不活性担体を含有する。不活性担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明防除剤は、通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明防除剤には本化合物が重量比で通常０．１~９０％含有される。
　固体担体としては、例えば、粘土類（例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土）、タルク類、その他の無機鉱物（例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ）等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、灯油）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、イソブチルニトリル）、エーテル類（例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル）、酸アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素）等が挙げられる。
　界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
　その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類（例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類）、ＰＡＰ（酸性りん酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
　本発明の有害節足動物の防除方法は、本化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用する工程を有するものである。本発明の有害節足動物防除方法には、通常、本化合物を含有する製剤が用いられる。
　本発明の有害節足動物防除方法が農林分野の有害節足動物防除を目的とする場合は、本化合物の施用量は通常１０００ｍ^２あたり０．００１~１０００ｇの割合、好ましくは１０００ｍ^２あたり０．０１~１００ｇの割合である。この場合の本発明の有害節足動物の防除方法としては、例えば本化合物を含有する組成物を有害節足動物に直接施用する方法、本化合物を含有する組成物を有害節足動物が生息する植物に処理する方法、及び本を含有する組成物を有害節足動物が生息する土壌に処理する方法が挙げられる。
　本発明の有害節足動物防除方法が防疫分野の有害節足動物防除を目的とする場合は、本化合物の施用量は空間に適用するときは通常０．００１~１０ｍｇ／ｍ^３の割合であり、平面に適用するときは０．００１~１００ｍｇ／ｍ^２の割合である。この場合の本発明の有害節足動物の防除方法としては、例えば本化合物を含有する組成物を有害節足動物に直接施用する方法、本化合物を含有する組成物を有害節足動物が生息する空間に施用する方法、及び本化合物を含有する組成物を有害節足動物が生息する面に塗布する方法が挙げられる。
　本発明防除剤は、他の有害節足動物剤、殺菌剤、共力剤、誘引剤、忌避剤、薬害軽減剤、肥料、土壤改良剤等と混用又は併用することができる。
　本発明防除剤が効力を有する有害節足動物としては、例えば昆虫及びダニが挙げられる。有害節足動物しては、具体的には例えば以下に示すものがあげられる。
半翅目害虫：ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ　ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ　ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ　ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）等のウンカ類、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ　ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、タイワンツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ　ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）等のヨコバイ類、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ　ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ　ｐｅｒｓｉｃａｅ）、ダイコンアブラムシ（Ｂｒｅｖｉｃｏｒｙｎｅ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、チューリップヒゲナガアブラムシ（Ｍａｃｒｏｓｉｐｈｕｍ　ｅｕｐｈｏｒｂｉａｅ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌａｃｏｒｔｈｕｍ　ｓｏｌａｎｉ）、ムギクビレアブラムシ（Ｒｈｏｐａｌｏｓｉｐｈｕｍ　ｐａｄｉ）、ミカンクロアブラムシ（Ｔｏｘｏｐｔｅｒａ　ｃｉｔｒｉｃｉｄｕｓ）等のアブラムシ類、アオクサカメムシ（Ｎｅｚａｒａ　ａｎｔｅｎｎａｔａ）、ホソヘリカメムシ（Ｒｉｐｔｏｒｔｕｓ　ｃｌａｖｅｔｕｓ）、クモヘリカメムシ（Ｌｅｐｔｏｃｏｒｉｓａ　ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、トゲシラホシカメムシ（Ｅｙｓａｒｃｏｒｉｓ　ｐａｒｖｕｓ）、クサギカメムシ（Ｈａｌｙｏｍｏｒｐｈａ　ｍｉｓｔａ）、ターニッシュッドプラントバグ（Ｌｙｇｕｓ　ｌｉｎｅｏｌａｒｉｓ）等のカメムシ類、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ　ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ　ｔａｂａｃｉ）、シルバーリーフコナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａ　ａｒｇｅｎｔｉｆｏｌｉｉ）等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシ（Ａｏｎｉｄｉｅｌｌａ　ａｕｒａｎｔｉｉ）、サンホーゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ　ｐｅｒｎｉｃｉｏｓａ）、シトラススノースケール（Ｕｎａｓｐｉｓ　ｃｉｔｒｉ）、ルビーロウムシ（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ　ｒｕｂｅｎｓ）、イセリヤカイガラムシ（Ｉｃｅｒｙａ　ｐｕｒｃｈａｓｉ）、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｃｕｓ　ｃｏｍｓｔｏｃｋｉ）、ミカンコナカイガラムシ（Ｐｌａｎｏｃｏｃｃｕｓ　ｃｉｔｒｉ）等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、ペアシラ（Ｐｅａｒ　ｐｓｙｌｌａ）等のキジラミ類等；
　鱗翅目害虫：ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ　ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、サンカメイガ（Ｔｒｙｐｏｒｙｚａ　ｉｎｃｅｒｔｕｌａｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ　ｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、ワタノメイガ（Ｎｏｔａｒｃｈａ　ｄｅｒｏｇａｔａ）、ノシメマダラメイガ（Ｐｌｏｄｉａ　ｉｎｔｅｒｐｕｎｃｔｅｌｌａ）、アワノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ　ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）、ヨーロピアンコーンボーラー（Ｏｓｔｒｉｎｉａ　ｎｕｂｉｌａｒｉｓ）、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ　ｕｎｄａｌｉｓ）、シバツトガ（Ｐｅｄｉａｓｉａ　ｔｅｔｅｒｒｅｌｌｕｓ）等のメイガ類、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｌｉｔｕｒａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｅｘｉｇｕａ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ　ｓｅｐａｒａｔａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ　ｉｐｓｉｌｏｎ）、タマナギンウワバ（Ｐｌｕｓｉａ　ｎｉｇｒｉｓｉｇｎａ）、トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ　ｒａｐａｅ）等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔａ　ｍｏｌｅｓｔａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａ　ｇｌｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ）、アズキサヤムシガ（Ｍａｔｓｕｍｕｒａｅｓｅｓ　ａｚｕｋｉｖｏｒａ）、リンゴコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓｏｒａｎａ　ｆａｓｃｉａｔａ）、チャノコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ　ｓｐ．）、チャハマキ（Ｈｏｍｏｎａ　ｍａｇｎａｎｉｍａ）、ミダレカクモンハマキ（Ａｒｃｈｉｐｓ　ｆｕｓｃｏｃｕｐｒｅａｎｕｓ）、コドリンガ（Ｃｙｄｉａ　ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）等のハマキガ類、チャノホソガ（Ｃａｌｏｐｔｉｌｉａ　ｔｈｅｉｖｏｒａ）、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ　ｒｉｎｇｏｎｅｅｌｌａ）のホソガ類、モモシンクイガ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ　ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ　ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）等のスガ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ　ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）ジャガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ　ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）等のキバガ類、アメリカシロヒトリ（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ　ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ類、イガ（Ｔｉｎｅａ　ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｓ）、コイガ（Ｔｉｎｅｏｌａ　ｂｉｓｓｅｌｌｉｅｌｌａ）等のヒロズコガ類等；
双翅目害虫：アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｐｉｐｉｅｎｓ　ｐａｌｌｅｎｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）、ネッタイイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｑｕｉｎｑｕｅｆａｓｃｉａｔｕｓ）等のイエカ類、ネッタイシマカ（Ａｅｄｅｓ　ａｅｇｙｐｔｉ）、ヒトスジシマカ（Ａｅｄｅｓ　ａｌｂｏｐｉｃｔｕｓ）等のエーデス属、シナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ　ｓｉｎｅｎｓｉｓ）等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ（Ｍｕｓｃａ　ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、オオイエバエ（Ｍｕｓｃｉｎａ　ｓｔａｂｕｌａｎｓ）等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ（Ｄｅｌｉａ　ｐｌａｔｕｒａ）、タマネギバエ（Ｄｅｌｉａ　ａｎｔｉｑｕａ）等のハナバエ類、ウリミバエ（Ｄａｃｕｓ　ｃｕｃｕｒｂｉｔａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ　ｃａｐｉｔａｔａ）等のミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ブユ類、ウシアブ（Ｔａｂａｎｕｓ　ｔｒｉｇｏｎｕｓ）等のアブ類、サシバエ類、イネハモグリバエ（Ａｇｒｏｍｙｚａ　ｏｒｙｚａｅ）、イネヒメハモグリバエ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ　ｇｒｉｓｅｏｌａ）、イネキモグリバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ　ｏｒｙｚａｅ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ　ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、トマトハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ　ｓａｔｉｖａｅ）等のハモグリバエ類等；
甲虫目害虫：ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ　ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）、ウリハムシ（Ａｕｌａｃｏｐｈｏｒａ　ｆｅｍｏｒａｌｉｓ）、キスジノミハムシ（Ｐｈｙｌｌｏｔｒｅｔａ　ｓｔｒｉｏｌａｔａ）、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ　ｏｒｙｚａｅ）、イネゾウムシ（Ｅｃｈｉｎｏｃｎｅｍｕｓ　ｓｑｕａｍｅｕｓ）、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ　ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ　ｇｒａｎｄｉｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｓ　ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、シバオサゾウムシ（Ｓｐｈｅｎｏｐｈｏｒｕｓ　ｖｅｎａｔｕｓ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉｌｌｉａ　ｊａｐｏｎｉｃａ）、ドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ　ｃｕｐｒｅａ）、コーンルートワームの仲間（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ　ｓｐｐ．）、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ　ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）、コメツキムシの仲間（Ａｇｒｉｏｔｅｓ　ｓｐｐ．）、タバコシバンムシ（Ｌａｓｉｏｄｅｒｍａ　ｓｅｒｒｉｃｏｒｎｅ）、ヒメマルカツオブシムシ（Ａｎｔｈｒｅｎｕｓ　ｖｅｒｂａｓｃｉ）、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ　ｃａｓｔａｎｅｕｍ）、ヒラタキクイムシ（Ｌｙｃｔｕｓ　ｂｒｕｎｎｅｕｓ）、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏｐｌｏｐｈｏｒａ　ｍａｌａｓｉａｃａ）、マツノキクイムシ（Ｔｏｍｉｃｕｓ　ｐｉｎｉｐｅｒｄａ）等；
アザミウマ目害虫：ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ　ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ　ｐａｒｍｉ）、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ　ｄｏｒｓａｌｉｓ）、ネギアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ　ｔａｂａｃｉ）、ヒラズハナアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ　ｉｎｔｏｎｓａ）、タバコアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ　ｆｕｓｃａ）等のアザミウマ類等；
膜翅目害虫：カブラハバチ（Ａｔｈａｌｉａ　ｒｏｓａｅ）、ハキリアリ（Ａｃｒｏｍｙｒｍｅｘ　ｓｐｐ．）、ファイヤーアント（Ｓｏｌｅｎｏｐｓｉｓ　ｓｐｐ．）等；
網翅目害虫：ゴキブリ類、チャバネゴキブリ類等；
直翅目害虫：トノサマバッタ（Ｌｏｃｕｓｔａ　ｍｉｇｒａｔｏｒｉａ）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ　ａｆｒｉｃａｎａ）、コバネイナゴ（Ｏｘｙａ　ｙｅｚｏｅｎｓｉｓ）、ハネナガイナゴ（Ｏｘｙａ　ｊａｐｏｎｉｃａ）等；
隠翅目害虫：ヒトノミ等；
シラミ目害虫：ヒトジラミ等；
シロアリ目害虫：シロアリ類等；
ゴキブリ目害虫：チャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｔｅｌｌａ　ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、クロゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ　ｆｕｌｉｇｉｎｏｓａ）、ワモンゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ　ａｍｅｒｉｃａｎａ）、トビイロゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ　ｂｒｕｎｎｅａ）、トウヨウゴキブリ（Ｂｌａｔｔａ　ｏｒｉｅｎｔａｌｉｓ）等；
ダニ目害虫：ナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ　ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ　ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ　ｃｉｔｒｉ）、リンゴハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ　ｕｌｍｉ）、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニ（Ａｃｕｌｏｐｓ　ｐｅｌｅｋａｓｓｉ）、リンゴサビダニ（Ａｃｕｌｕｓ　ｓｃｈｌｅｃｈｔｅｎｄａｌｉ）等のフシダニ類、チャノホコリダニ（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ　ｌａｔｕｓ）等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ　ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）、ヤマトチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ　ｆｌａｖａ）、タイワンカクマダニ（Ｄｅｒｍａｃｅｎｔｏｒ　ｔａｉｗａｎｉｃｕｓ）、ヤマトマダニ（Ｉｘｏｄｅｓ　ｏｖａｔｕｓ）、シュルツマダニ（Ｉｘｏｄｅｓ　ｐｅｒｓｕｌｃａｔｕｓ）、オウシマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ　ｍｉｃｒｏｐｌｕｓ）等のマダニ類、ケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ　ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ（Ｄｅｒｍａｔｏｐｈａｇｏｉｄｅｓ　ｆａｒｉｎａｅ）、ヤケヒョウヒダニ（Ｄｅｒｍａｔｏｐｈａｇｏｉｄｅｓ　ｐｔｒｅｎｙｓｓｎｕｓ）等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ　ｅｒｕｄｉｔｕｓ）、クワガタツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ　ｍａｌａｃｃｅｎｓｉｓ）、ミナミツメダニ（Ｃｈｅｙｌｅｔｕｓ　ｍｏｏｒｅｉ）等のツメダニ類、ワクモ類等。
　本化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。
製造法１
　本化合物のうちＧが水素である、式（Ｉ−ａ）で示される化合物は、式（ＩＩ）で示される化合物から下記のいずれかの方法で製造することができる。

〔式中、Ｒ^７はＣ_１−６アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｚ^１、Ｚ^２及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
製造法１−１：式（ＩＩ）で示される化合物とアルカリ金属水酸化物とを反応させる方法
　該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、水；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応に用いられるアルカリ金属水酸化物の量は、式（ＩＩ）で示される化合物に１モル対して、通常１~１２０モルの割合、好ましくは１~４０モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常室温から使用する溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは溶媒の沸点である。該反応は封管中又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常５分~数週間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物を中和してから、水と混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ）で示される化合物を単離することができる。
製造法１−２：式（ＩＩ）で示される化合物と臭化水素酸とを反応させる方法
　該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えば、水；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸等の有機酸；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応に用いられるアルカリ金属水酸化物の量は、式（ＩＩ）で示される化合物に１モル対して、通常１~１２０モルの割合、好ましくは１~４０モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常室温から使用する溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは溶媒の沸点である。該反応は封管中又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常５分~数週間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物を中和してから、水と混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ）で示される化合物を単離することができる。
製造法１−３：式（ＩＩ）で示される化合物と塩化アルミニウム、ヨードトリメチルシラン又は三臭化ほう素とを反応させる方法
　該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応に用いられるアルカリ金属水酸化物の量は、式（ＩＩ）で示される化合物に１モル対して、通常１~１２０モルの割合、好ましくは１~４０モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常室温から使用する溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは溶媒の沸点である。該反応は封管中又は耐圧密閉容器中で行うこともできる。該反応の反応時間は、通常５分~数週間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物を中和してから、水と混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ）で示される化合物を単離することができる。
製造法２
　本化合物のうちＧが水素以外の基である、式（Ｉ−ｂ）で示される化合物は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物と式（ＩＩＩ）で示される化合物から製造することができる。

〔式中、Ｇ^４はＧの定義のうち水素以外の基を表し、Ｘはハロゲン又は式ＯＧ^４で表される基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｚ^１、Ｚ^２及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
　該反応は溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる式（ＩＩＩ）で示される化合物の量は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上の割合、好ましくは１~３モルの割合である。
　該反応は通常、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（Ｉ−ａ）で示される化合物１モルに対して、通常０．５~１０モルの割合、好ましくは１~５モルの割合である。
　該反応の反応温度は通常、−３０~１８０℃、好ましくは−１０~５０℃である。該反応の反応時間は通常、１０分~３０時間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ｂ）で示される化合物を単離することができる。
製造法３
　式（Ｉ−ａ）で示される化合物は、式（ＶＩ）で示される化合物と塩基とを反応させることによって製造することができる。

〔式中、Ｒ^９はＣ_１−６アルキル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｚ^１、Ｚ^２及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
　該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応に用いられる塩基としては、例えば、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；及びトリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（ＶＩ）で示される化合物１モルに対して、通常１~１０モルの割合、好ましくは２~５モルの割合である。
　該反応の反応温度は通常−６０~１８０℃、好ましくは−１０~１００℃である。該反応の反応時間は通常１０分~３０時間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物に酸を添加して中和し、水と混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ）で示される化合物を単離することができる。
製造法４
　式（Ｉ−ａ−ｘ）で示される化合物は以下の製造法により製造することができる。

　〔式中、Ｘ^４はハロゲンを表し、Ｒ^８はＣ_１−６アルキル基を表し、Ｚ^３は前記のＺ^２の定義のうちＣ_２−６アルキニル基、ハロゲン、ハロゲンで置換されたＣ_６−１０アリール基、及びハロゲンで置換された５もしくは６員のヘテロアリール基以外の基を表し、Ｇ^５はＣ_１−６アルキルカルボニル基又はＣ_１−６アルキルオキシカルボニル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＺ^１は前記と同じ意味を表し、ｎは１、２、３又は４を表し、ｋは１、２、３又は４を表す。〕
　該製造法は、式（Ｉ−ｂ−ｘ）で示される化合物と式（Ｖ−ｄ）で示される有機金属試薬とを反応させる第１工程、ついでアルカリ金属塩と反応させる第２工程を有する。
　第１工程の反応は溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応では、式（Ｖ−ｄ）で示される化合物は、式（Ｉ−ｂ−ｘ）で示される化合物に１モル対して、通常ｋモル以上の割合、好ましくはｋ~１０モルの割合である。
　該反応は、通常テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（Ｉ−ｂ−ｘ）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１~０．５モルの割合、好ましくは０．０１~０．２モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−８０~１８０℃、好ましくは−３０~１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物を濃縮し、クロマトグラフィー精製する等の操作を行うことにより、該反応の生成物を単離することができる。
　第２工程の反応は溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール等のアルコール類；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応に用いられるアルカリ金属塩としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩が挙げられる。該反応に用いられるアルカリ金属塩の量は、式（Ｉ−ｂ−ｘ）で示される化合物１モルに対して、通常（１＋ｋ）モル以上の割合、好ましくは２~１０モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−３０~１８０℃、好ましくは−１０~５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、酸を加えて中和してから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ−ｘ）で示される化合物を単離することができる。
製造法５
　式（Ｉ−ａ−ｙ）で示される化合物は、以下の製造法により製造することができる。

〔式中、Ｘ^５はハロゲンを表し、Ｚ^２−ａは前記のＺ^２の定義のうちハロゲン、ハロゲンで置換されたＣ_６−１０アリール基、及びハロゲンで置換された５もしくは６員のヘテロアリール基以外の基を表し、Ｚ^２−ｂはＣ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基又は５もしくは６員のヘテロアリール基（各々ハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基により置換されていてもよい）を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｚ^１は前記と同じ意味を表し、ｎは１、２、３又は４を表す。〕
　式（Ｉ−ａ−ｙ）で示される化合物は、式（Ｉ−ａ−ｈ）で示される化合物と式（Ｖ−ｅ）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
　該反応に用いられる式（Ｖ−ｅ）で示される化合物の量は、式（Ｉ−ａ−ｈ）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上の割合、好ましくは１~３モルの割合である。
　該反応は、溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；水；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応は、塩基の存在下で行われる。該反応に使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（Ｉ−ａ−ｈ）で示される化合物１モルに対して、通常０．５~１０モルの割合、好ましくは１~５モルの割合である。
　該反応は、通常、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応における触媒の量は、式（Ｉ−ａ−ｈ）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１~０．５モルの割合、好ましくは０．０１~０．２モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常２０~１８０℃、好ましくは６０~１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、酸を加えて中和してから、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（Ｉ−ａ−ｙ）で示される化合物を単離することができる。
　次に、本化合物の具体例を以下に示す。

１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチルフェニル基であって、Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−プロピルフェニル基であって、Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４−ジメチルフェニル基であって、Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジメチルフェニル基であって、Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチルフェニル基であって、Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４，６−トリメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、インブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４−ジエチル−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−クロロ−２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−ブロモ−２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−シアノ−２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−メトキシフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−ニトロフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
１９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−フェニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−エチニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−シアノ−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−シアノ−６−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４−ジクロロ−６−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−クロロ−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−クロロ−６−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４−ジクロロ−６−エチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−ブロモ−６−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−クロロ−２−エチル−６−メトキシフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
２９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−６−メトキシ−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−（４−クロロフェニル）−２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−（４−メチルフェニル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−６−エチニル−４−フェニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−６−メトキシ−４−フェニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−クロロ−６−エチル−４−フェニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−トリフルオロメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−トリフルオロメトキシフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチル−６−エチニル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−クロロ−６−エチル−４−メトキシフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
３９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−シクロプロピル−６−エチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−シクロプロピル−２，６−ジエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（４−フルオロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−ブロモ−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−メトキシ−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−エチニル−４，６−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−ブロモ−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３−ブロモ−２，６−ジエチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３−（４−クロロフェニル）−２，６ジエチル−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
４９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３−クロロ−２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３−ブロモ−２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（２−クロロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（３−クロロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（２−フルオロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（３−フルオロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−メチル−５−フェニルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−メチル−５−（３−メチルフェニル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２−メチル−５−（４−メチルフェニル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（３，４−ジフルオロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
５９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが５−（４−クロロフェニル）−２−エチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，５−ジメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６１）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが４−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６２）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３−クロロ−２，４，６−トリメチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６３）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−（３−ピリジル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６４）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−（４−ピリジル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６５）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−（３−チエニル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６６）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−４−（３−フリル）フェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６７）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが３，５−ジクロロ−２，４，６−トリエチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６８）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４，６−トリエチル−３−ヨードフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
６９）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，４，６−トリエチル−３−フルオロフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
７０）式（Ｉ^１）~（Ｉ^３０）において、Ａｒが２，６−ジエチル−３−フルオロ−４−メチルフェニル基であって、
Ｇが水素、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、２，２−ジメチルブチリル基、３，３−ジメチルブチリル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノチオカルボニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基であるピリダジノン化合物。
参考製造法１
　式（ＩＩ）で示される化合物は、例えば、以下の方法により製造することができる。

〔式中、Ｘ^１は脱離基（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン等）を表し、Ｘ^２はハロゲンを表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｚ^１、Ｚ^２及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ａ）で示される化合物との反応
　該反応は、溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；水；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応は、塩基の存在下で行われる。該反応に使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。該反応に用いられる塩基の量は、式（ＩＶ）で示される化合物１モルに対して、通常０．５~１０モルの割合、好ましくは１~５モルの割合である。
　該反応は、通常、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（ＩＶ）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１~０．５モルの割合、好ましくは０．０１~０．２モルの割合である。該反応は、さらに４級アンモニウム塩の存在下で行うこともできる。該反応に使用できる４級アンモニウム塩としては、例えば、臭化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。
　該反応の反応温度は、通常２０~１８０℃、好ましくは６０~１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒で抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（ＩＩ）で示される化合物を単離することができる。
式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ｂ）で示される化合物との反応
　該反応は、溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応は、通常ジクロロビス（１，３−ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル等のニッケル触媒；又はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（ＩＶ）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１~０．５モルの割合、好ましくは０．０１~０．２モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−８０~１８０℃、好ましくは−３０~１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認するできる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（ＩＩ）で示される化合物を単離することができる。
式（ＩＶ）で示される化合物と式（Ｖ−ｃ）で示される化合物との反応
　該反応は、溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応は、通常テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム触媒の存在下で行われる。該反応に用いられる触媒の量は、式（ＩＶ）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１~０．５モルの割合、好ましくは０．０１~０．２モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−８０~１８０℃、好ましくは−３０~１５０℃である。該反応の反応時間は通常３０分~１００時間である。
　該反応の進行は反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（ＩＩ）で示される化合物を単離することができる。
参考製造法２
　式（ＶＩ）で示される化合物は例えば、式（ＶＩＩ）で示される化合物と式（ＶＩＩＩ）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ^３はハロゲンを表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^９、Ｚ^１、Ｚ^２及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
　該反応は通常溶媒中で行われる。該反応に使用される溶媒としては、例えば、アセトニトリル等のニトリル類；アセトン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；スルホラン等のスルホン類；及びこれらの混合物が挙げられる。
　該反応は通常、塩基の存在下で行われる。該反応に用いられる塩基としては例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の有機塩基；及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
　該反応では、式（ＶＩＩＩ）で示される化合物は、式（ＶＩＩ）で示される化合物１モルに対して、通常１モル以上の割合、好ましくは１~３モルの割合で用いられる。該反応では、塩基は、式（ＶＩＩ）で示される化合物１モルに対して、通常０．５~１０モルの割合、好ましくは１~５モルの割合で用いられる。
　該反応の反応温度は通常−３０~１８０℃、好ましくは−１０~５０℃である。該反応の反応時間は通常１０分~３０時間である。
　該反応の進行は、反応混合物の一部を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等で分析することにより確認できる。
　該反応の終了後は、例えば反応混合物と水とを混合し、有機溶媒にて抽出し、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（ＶＩ）で示される化合物を単離することができる。
参考製造法３
　式（ＶＩＩ）で示される化合物は、式（ＩＸ）

〔式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^３及びｎは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物をハロゲン化剤（例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、塩化オキサリル等）と反応させることにより製造することができる。

　以下に製造例、製剤例及び試験例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
製造例１
　４−（２−エチルフェニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−１）〕３．１９３ｇに、水５０ｍＬ、水酸化カリウム（含量８５％）４．６５７ｇ及び１，４−ジオキサン５ｍＬを加えた。この混合物を３６時間加熱還流した。反応混合物を冷却した後、反応混合物に濃塩酸、水１０ｍＬ及び酢酸エチル１００ｍＬを加えた。この混合物中の不溶物を濾過により除いた後、分液した。有機層を、水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮した。得られた固体を酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（１：２）で洗浄し、４−（２−エチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−１）〕２．０５０ｇを無色結晶として得た。
　製造例１に準じて製造した化合物を、化合物（Ｉ−ａ−１）と伴に表１に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例２
４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−１４）〕
　窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）１３ｍＬに室温で２−〔２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ〕プロパン酸エチル〔化合物（ＶＩ−２）〕１．９ｇのトルエン５５ｍＬ溶液を約１時間かけて滴下した。この混合物を室温で３０分間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水３０ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ×２）で洗浄した。水層に３５％塩酸１．６ｇを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、固体０．７６ｇを得た。該固体を冷ヘキサンで洗浄し、乾燥して、４−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−１４）〕０．５９ｇを白色粉末として得た。
　製造例２に準じて製造した化合物を、化合物（Ｉ−ａ−１４）と伴に表２に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例３
４−（４−クロロ−２，６−ジエチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−３２）〕
　窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド０．５５ｇのテトラヒドロフラン２０ｍＬ溶液に３６~３８℃で２−［２−（４−クロロ−２，６−ジエチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル〔化合物（ＶＩ−２２）〕０．７９ｇのトルエン１５ｍＬ溶液を約２０分間かけて滴下した。この混合物を３６~３８℃で１０分間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水２０ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ×２）で洗浄した。水層に３５％塩酸０．６ｇを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、固体０．１ｇを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液（１：１０）で洗浄し、乾燥して、４−（４−クロロ−２，６−ジエチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−３２）〕０．０７ｇを白色粉末として得た。
　製造例３に準じて製造した一般式（Ｉ）の化合物を、化合物（Ｉ−ａ−３２）と伴に表３に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例４
　化合物（Ｉ−ａ−１）　０．３２６ｇ、テトラヒドロフラン１２ｍＬ及びトリエチルアミン０．４０ｍＬの混合物に氷冷下で、塩化ベンゾイル０．２５ｍＬを加えた。この混合物を氷冷下で１０分間、及び室温で３時間攪拌した。反応混合物に水３０ｍＬを加え、酢酸エチル３０ｍＬで２回抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２→２：１）に付し、５−ベンゾイルオキシ−４−（２−エチルフェニル）−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物Ｉ−ｂ−１〕０．４６３ｇを無色オイルとして得た。
　製造例４に準じて製造した化合物を、化合物（Ｉ−ｂ−１）と伴に表４に示す。
式（Ｉ−ｂ）で示される化合物：

　表４の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（Ｉ−ｂ−１）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．４５−２．６２（２Ｈ，ｍ），３．８８（３Ｈ，ｓ），７．０９−７．１２（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２８−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．３７−７．４２（２Ｈ，ｍ），７．５５−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．８１−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｓ）。
化合物（Ｉ−ｂ−３）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．２７（２Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝１．４，７．６Ｈｚ），２．３８−２．５６（２Ｈ，ｍ），３．８４（３Ｈ，ｓ），７．００−７．０３（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｓ）。
化合物（Ｉ−ｂ−６）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．１０−１．２２（５Ｈ，ｍ），１．５−１．７（５Ｈ，ｍ），２．２８（１Ｈ，ｂｒ．），２．３８−２．５５（２Ｈ，ｍ），３．８４（３Ｈ，ｓ），６．９９−７．０２（１Ｈ，ｍ），７．１７−７．２２（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｓ）。
化合物（Ｉ−ｂ−８）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．４０−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．６４（３Ｈ，ｓ），２．８５（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），７．０５−７．０８（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．２４（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３６（２Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｓ）。
化合物（Ｉ−ｂ−９）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．４３−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），７．１６−７．１９（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ）。
製造例５
　化合物（Ｉ−ａ−１７）　０．３１ｇのテトラヒドロフラン５ｍＬ溶液に、水素化ナトリウム（６０％　ｉｎ　ｏｉｌ）９６ｍｇ、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル０．３９ｍＬを加えた。この混合物を４．５時間加熱還流した。反応混合物に１Ｎの塩酸３ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（１０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）に付し、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−４−（２，４，６−トリエチルフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ｂ−４０）〕０．４１ｇを固体として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２７（９Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．３２~２．３９（４Ｈ，ｍ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８１（３Ｈ，ｓ），６．９６（２Ｈ，ｓ）。
製造例６
　化合物（Ｉ−ａ−３１）　０．０４ｇのテトラヒドロフラン１０ｍＬ溶液に、トリエチルアミン０．０３ｇ、無水酢酸０．０２ｇ及び４−ジメチルアミノピリジン０．００２ｇを加えた。この混合物を室温で９．５時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水１０ｍＬを加え、酢酸エチル（１０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（１０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）に付し、固体０．０５ｇを得た。該固体を冷却したヘキサンで洗浄し、乾燥して、５−アセトキシ−４−（２，６−ジエチル−４−フェニルフェニル）−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ｂ−４１）〕０．０２５ｇを白色粉末として得た。
　製造例６に準じて製造した式（Ｉ）の化合物を、化合物（Ｉ−ｂ−４１）と伴に表５に示す。
式（Ｉ−ｂ）で示される化合物：

　表５の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（Ｉ−ｂ−５８）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：０．９７−１．０７（６Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．３３（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．５７（１Ｈ，ｍ），７．２３−７．３９（４Ｈ，ｍ），７．４３−７．４９（３Ｈ，ｍ）。
化合物（Ｉ−ｂ−６０）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），２．４０−２．６１（２Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），７．２５−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．５８（６Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｓ）。
製造例７
　化合物（Ｉ−ｂ−４２）０．４９ｇ及びトリブチル（トリメチルシリルエチニル）スズ０．５６ｇのトルエン１０ｍＬ溶液に窒素を７０分間吹き込んだ。この溶液にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．０８ｇを加え、窒素雰囲気下、１００~１１０℃で５時間攪拌した。反応混合物を冷却した。この反応混合物を濾過し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）に付し、４−（２，６−ジエチル−４−トリメチルシリルエチニルフェニル）−５−メトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン０．４３ｇを黄色樹脂状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：０．２６（９Ｈ，ｓ），１．１２（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．２６~２．４３（４Ｈ，ｍ），３．６８（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），７．２７（２Ｈ，ｓ）。
　４−（２，６−ジエチル−４−トリメチルシリルエチニルフェニル）−５−メトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン０．４ｇをエタノール１５ｍＬに溶解し、氷冷下で、９５．０％水酸化ナトリウム０．１３ｇの水２ｍＬ溶液を加えた。この混合物を室温で２２．５時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水２０ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ）で洗浄した。水層に３Ｎ塩酸１．５ｍＬを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ及び１０ｍＬ）で抽出した。有機層を、飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、固体０．１５ｇを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液（１：１０）で洗浄し、乾燥して、４−（２，６−ジエチル−４−エチニルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４３）〕０．１３ｇを白色粉末として得た。融点２１６~２１７℃。
製造例８
　化合物（Ｉ−ｂ−４６）から製造例７の前半工程と同様にして、４−（４，６−ジメチル−２−トリメチルシリルエチニルフェニル）−５−メトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンを淡黄褐色固体として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：０．０７（９Ｈ，ｓ），２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２９（６Ｈ，ｓ），３．６９（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｓ），７．１９（１Ｈ，ｓ）。
　４−（４，６−ジメチル−２−トリメチルシリルエチニルフェニル）−５−メトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンから製造例７の後半工程と同様にして、４−（２−エチニル−４，６−ジメチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４４）〕を白色粉末として得た。融点１７９~１８１℃。
製造例９
　２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル２．８ｇのトルエン５５ｍＬ溶液に、炭酸カリウム１．８ｇを加えた。該混合物に氷冷下で５−ブロモ−２−メチルフェニルアセチルクロリド３．４ｇのトルエン２０ｍＬ溶液を約２０分かけて滴下した。この混合物を室温で３時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水３０ｍＬを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ、１０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮した。残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）に付し、２−［２−（５−ブロモ−２−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル３．０ｇを黄褐色樹脂状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド３．８ｇのテトラヒドロフラン８０ｍＬ溶液に５０~５５℃で２−［２−（５−ブロモ−２−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル３．０ｇのトルエン６０ｍＬ溶液を約６０分かけて滴下した。この混合物を５０~５５℃で１５分間攪拌した。反応混合物を減圧下で濃縮した。残渣に氷水５０ｍＬを加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（３０ｍＬ×２）で洗浄した。水層に３５％塩酸３．７ｇを加え、酢酸エチル（３０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（３０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）に付し、固体１．６ｇを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液（１：６）で洗浄し、乾燥して、４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４５）〕１．５ｇを淡褐色粉末として得た。融点２１７~２１８℃。
製造例１０
４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−メチルフェニル］−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４６）〕
　化合物（Ｉ−ａ−４５）１．０ｇ、４−フルオロフェニルボロン酸０．６４ｇ、炭酸ナトリウム０．３１ｇ、ジメトキシエタン３０ｍＬ及び水８ｍＬの混合物に室温で窒素を６０分間吹き込んだ。この混合物にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．３ｇを加えた。この混合物を９０~１００℃で１０時間攪拌した。反応混合物を冷却してから濾過した。ろ液を濃縮した。得られた残渣に氷水２０ｍＬ及び３５％塩酸１．０ｇを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）に付し、固体０．３３ｇを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液（１：６）で洗浄し、乾燥して４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−メチルフェニル］−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４６）〕０．２５ｇを白色粉末として得た。融点２１６~２１７℃。
製造例１０に準じて製造した式（Ｉ）の化合物を、化合物（Ｉ−ａ−４６）と伴に表６に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例１１
　４−［５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニル］−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン０．３５ｇの酢酸溶液（２ｍＬ）に４７％臭化水素酸（０．６ｍＬ）を加えた。この混合物を１００℃で１６時間攪拌した。反応混合物を冷却した後、反応混合物に水（５０ｍＬ）を加えた。析出した結晶を濾過により集めた。この結晶を水洗、乾燥して、４−［５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニル］−５−ヒドロキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−５９）〕０．２８ｇを白色粉末結晶として得た。融点２５０℃以上。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．２２（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），５．７３（１Ｈ，ｂｒ，ｓ），７．３２−７．５７（７Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ）。
製造例１１に準じて製造した式（Ｉ）の化合物を、化合物（Ｉ−ａ−５９）と伴に表７に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例１２
　化合物（Ｉ−ｂ−２５）　０．６０ｇ及び酢酸ナトリウム０．１７ｇの酢酸１０ｍＬ溶液に、室温で臭素０．１０ｍＬの酢酸１ｍＬ溶液を加えた。この混合物を室温で３．５時間、５０℃で２時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水２０ｍＬを加え、炭酸水素ナトリウムを加えた後、酢酸エチル（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥してから、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）に付し、固体０．３５ｇを得た。該固体を冷ヘキサンで洗浄し、風乾して、４−（３−ブロモ−２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−メトキシカルボニルオキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ｂ−５０）〕０．３０ｇを白色粉末として得た。融点１１３~１１５℃。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２１~２．３５（２Ｈ，ｍ），２．４５~２．６２（２Ｈ，ｍ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．４３（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ）。
製造例１３
　化合物（Ｉ−ｂ−５０）　０．２０ｇのメタノール１０ｍＬ溶液に、室温で９５．０％水酸化ナトリウム０．０６ｇの水１ｍＬ溶液を加えた。この混合物を室温で８．５時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水５ｍＬを加え、３Ｎ塩酸１ｍＬを加えた。析出した固体を濾過により集めた。この固体を、水洗し、乾燥して固体０．２ｇを得た。該固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、固体０．１８ｇを得た。該固体を酢酸エチル−ヘキサン混合液（１：１０）で洗浄し、乾燥して、４−（３−ブロモ−２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４７）〕０．１４ｇを白色粉末として得た。融点２３５~２３６℃。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．００（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．０６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．１６~２．３８（２Ｈ，ｍ），２．４７~２．６７（２Ｈ，ｍ），２．３３（３Ｈ，ｓ），２．４５（３Ｈ，ｓ），３．７６（３Ｈ，ｓ），５．２７（１Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｓ）。
製造例１４
　化合物（Ｉ−ａ−４７）と４−クロロフェニルボロン酸とから製造例１０と同様にして、４−［３−（４−クロロフェニル）−２，６−ジエチル−４−メチルフェニル］−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４８）〕を固体として得た。融点２４８~２５０℃。
製造例１５
　化合物（Ｉ−ａ−１７）　０．５０ｇのクロロホルム１０ｍＬ溶液に、Ｎ−クロロスクシンイミド０．２７ｇ、アゾビスイソブチロニトリル数ｍｇを加えた。この混合物を１２．５時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した後、反応混合物を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、４−（３−クロロ−２，４，６−トリエチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−４９）〕０．４６ｇを固体として得た。融点２２５~２２６℃。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．０７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２２~２．４０（２Ｈ，ｍ），２．３４（３Ｈ，ｓ），２．４６~２．６２（２Ｈ，ｍ），２．７７~２．８３（２Ｈ，ｍ），３．７７（３Ｈ，ｓ），５．１４（１Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｓ）。
製造例１６
　化合物（Ｉ−ａ−１７）からＮ−クロロスクシンイミドに替えてＮ−ブロモスクシンイミドを用いて、製造例１５と同様にして、４−（３−ブロモ−２，４，６−トリエチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−５０）〕を固体として得た。融点２２５~２２６℃。
製造例１７
　製造例３に準じて製造した化合物（Ｉ−ａ−３４）と４−ピリジルボロン酸とから製造例１０と同様にして、４−［２，６−ジエチル−４−（４−ピリジル）フェニル］−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−６６）〕を得た。
　製造例１７に準じて製造した式（Ｉ）の化合物を、化合物（Ｉ−ａ−６６）と伴に表８に示す。
式（Ｉ−ａ）で示される化合物：

製造例１８
　化合物（Ｉ−ａ−１７）０．３０ｇのトルエン５ｍＬ溶液に、塩化スルフリル０．１６ｍＬを加えた。この混合物を１．５時間加熱還流した。反応混合物をに濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、４−（３，５−ジクロロ−２，４，６−トリエチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−７１）〕７０ｍｇを固体として得た。融点２６６~２６７℃。
製造例１９
　化合物（Ｉ−ａ−１７）０．３０ｇのアセトニトリル５ｍＬ溶液に、Ｎ−ヨードスクシンイミド５６０ｍｇ、及びトリフルオロ酢酸１滴を加えた。この混合物を室温で２時間攪拌し、さらに８時間加熱還流した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、クロロホルム（１０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２，４，６−トリエチル−３−ヨードフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−７２）〕０．２６ｇを固体として得た。融点２１７~２１９℃。
製造例２０
　化合物（Ｉ−ａ−１７）０．３８ｇのアセトニトリル５ｍＬ溶液に、１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ［２．２．２］オクタンビス（テトラフルオロボレート）（Ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ^ＴＭ）１．３４ｇを加えた。この混合物を５５℃で５時間攪拌した。反応混合物に水（１０ｍＬ）を加え、クロロホルム（１０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：２０）に付し、５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−４−（２，４，６−トリエチル−３−フルオロフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−７３）〕０．１０ｇを固体として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．０６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．２２~２．４５（４Ｈ，ｍ），２．３３（３Ｈ，ｓ），２．６９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．７６（３Ｈ，ｓ），５．３５（１Ｈ，ｓ）７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）。
製造例２１
　化合物（Ｉ−ａ−１４）　０．５０ｇのアセトニトリル１０ｍＬ溶液に、１−クロロメチル−４−フルオロ−１，４−ジアゾニアビシクロ［２．２．２］オクタンビス（テトラフルオロボレート）（Ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ^ＴＭ）５６０ｍｇを加えた。この混合物を５５℃で５時間攪拌した。。この混合物にＳｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ^ＴＭ９３０ｍｇを加え、さらに５５℃で１８時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に水（１０ｍＬ）を加え、クロロホルム（２０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、白色固体０．３１ｇの４−（２，６−ジエチル−３−フルオロ−４−メチルフェニル）−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（Ｉ−ａ−７４）〕を得た。
融点　１９３−１９５℃。
　式（ＩＩ）で示される化合物の代表的な製造例を参考例１に示す。
参考例１
　４−クロロ−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン２．５１６ｇ、２−エチルフェニルボロン酸２．５７５ｇ及び炭酸ナトリウム３．３３３ｇの混合物に、１，４−ジオキサン３０ｍＬ、水２０ｍＬ、臭化テトラブチルアンモニウム２．４１７ｇ及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．６５７ｇを加えた。この混合物を窒素雰囲気下で１７時間加熱還流した。反応混合物を冷却した。反応混合物に水５０ｍＬを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた固体を酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（１：２）で洗浄し、４−（２−エチルフェニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−１）〕３．２３８ｇを黄色結晶として得た。
　参考例１に準じて製造した式（ＩＩ）で示される化合物を、化合物（ＩＩ−１）と伴に表９に示す。
式（ＩＩ）で示される化合物：

　表９の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（ＩＩ−２）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．４０−２．５３（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），４．１９−４．３０（２Ｈ，ｍ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２１−７．２６（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｓ）。
化合物（ＩＩ−４）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．３８−２．５２（２Ｈ，ｍ），３．３８（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．７７−３．８４（２Ｈ，ｍ），４．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２１−７．２６（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．３４（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｓ）。
化合物（ＩＩ−７）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．３０−２．４５（２Ｈ，ｍ），３．８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ）。
化合物（ＩＩ−１３）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．１９（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），７．３１−７．５３（７Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｓ）。
化合物（ＩＩ−１４）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）２．４２−２．５７（２Ｈ，ｍ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），７．２７−７．４２（４Ｈ，ｍ），７．４８−７．５５（３Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｓ）。
　式（Ｖ−ａ）で示される化合物の代表的な製造例を参考例２に示す。
参考例２
　窒素雰囲気下、ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／Ｌヘキサン溶液）１５．５ｍＬに−７０℃でテトラヒドロフラン４５ｍＬに溶解した２−プロピルブロモベンゼン４．４１２ｇを８５分間かけて滴下した。この混合物を−７０℃で３０分間攪拌した。次いで、この混合物にホウ酸トリメチル３．７５ｍＬを−７０℃で１５分間かけて滴下した。この混合物を−７０℃で１時間、室温で１８時間攪拌した。反応混合物に２Ｎ塩酸３３ｍＬを１０分間かけて加えた。この混合物を室温で４時間攪拌した。この混合物に水２０ｍＬを加え、酢酸エチル７０ｍＬで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２→２：１）に付し、２−プロピルフェニルボロン酸１．６４１ｇを無色結晶として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．６９−１．７９（２Ｈ，ｍ），３．１５−３．２０（２Ｈ，ｍ），４．０−６．０（２Ｈ，ｂｒ．），７．２８−７．３３（２Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，７．６Ｈｚ），８．２０−８．２３（１Ｈ，ｍ）。
　参考例２に準じて、以下の式（Ｖ−ａ）で示される化合物を製造した。
２−エチル−６−メチルフェニルボロン酸：
融点９０~９１℃、
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．０−５．５（２Ｈ，ｂｒ．），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）。
２，６−ジエチル−４−メチルフェニルボロン酸：
融点１１１~１１３℃、
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．２３（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．３１（３Ｈ，ｓ），２．６３（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），４．０−５．０（２Ｈ，ｂｒ．），６．８８（２Ｈ，ｓ）。
５−（４−クロロフェニル）−２−メチルフェニルボロン酸：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．８９（３Ｈ，ｓ），７．３４−７．４６（４Ｈ，ｍ），７．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６４−７．７０（１Ｈ，ｍ）。
　式（ＶＩ）で示される化合物の代表的な製造例を参考例３に示す。
参考例３
　２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル２．０ｇのアセトニトリル３５ｍＬ溶液に、炭酸カリウム１．５ｇを加えた。この混合物に氷冷下で２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチルクロリド２．６ｇのアセトニトリル１０ｍＬ溶液を約２０分間かけて滴下した。この混合物を室温で３．５時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に氷水２０ｍＬを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）に付し、２−〔２−（２，６−ジエチル−４−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ〕プロパン酸エチル〔化合物（ＶＩ−２）〕１．９ｇを白色結晶として得た。
　参考例３に準じて製造した式（ＶＩ）で示される化合物を、化合物（ＶＩ−２）と伴に表１０に示す。
式（ＶＩ）で示される化合物：

　表１０の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（ＶＩ−３）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．６７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０３（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．０６−７．３０（４Ｈ，ｍ）。
化合物（ＶＩ−４）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３６（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．１２（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）。
化合物（ＶＩ−６）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．８６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
化合物（ＶＩ−７）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１３~１．２５（９Ｈ，ｍ），１．３１~１．４１（３Ｈ，ｍ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．５０~２．８１（６Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ．ｓ），４．０５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７~４．３９（２Ｈ，ｍ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−８）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０６~１．２２（６Ｈ，ｍ），１．３１~１．４０（３Ｈ，ｍ），２．３０，２．３１（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），２．５０~２．７０（４Ｈ，ｍ），３．２２，３．３８（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７~４．３７（２Ｈ，ｍ），６．９０~６．９８（１Ｈ，ｍ），６．９８~７．０２（１Ｈ，ｍ），７．０２~７．１４（１Ｈ，ｍ）。
化合物（ＶＩ−９）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１２~１．２５（６Ｈ，ｍ），１．３１~１．４１（３Ｈ，ｍ），２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．５０~２．８１（４Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ．ｓ），４．０２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２６~４．３７（２Ｈ，ｍ），６．８７（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
化合物（ＶＩ−１０）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１６~１．２４（３Ｈ，ｍ），１．３２~１．４０（３Ｈ，ｍ），２．２２（６Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．５５~２．８０（２Ｈ，ｍ），３．２３，３．４３（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ．ｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２７~４．３８（２Ｈ，ｍ），６．８５（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１１）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２９（３Ｈ，ｓ），２．５５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．８５（１Ｈ，ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２２（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８８（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１２）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．１７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３１~１．４０（３Ｈ，ｍ），１．５７~１．７４（２Ｈ，ｍ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．５０~２．７６（６Ｈ，ｍ），３．２２，３．４２（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），４．０３，４．０５（２Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ．ｓ），４．２６~４．３６（２Ｈ，ｍ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１３）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１３~１．２８（１２Ｈ，ｍ），１．３０~１．４０（３Ｈ，ｍ），２．５０~２．８０（８Ｈ，ｍ），３．２３，３．４４（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），４．０６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２８~４．３９（２Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１４）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０１（３Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．１３~１．２６（９Ｈ，ｍ），１．３０~１．４０（３Ｈ，ｍ），１．５６~１．７３（２Ｈ，ｍ），２．５０~２．７６（８Ｈ，ｍ），３．２２，３．４２（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），４．０３，４．０６（２Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ．ｓ），４．２６~４．３７（２Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１５）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１５~１．２５（６Ｈ，ｍ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５５~２．７０（４Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）。
化合物（ＶＩ−１６）（Ｅ／Ｚ異性体混合物）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．０５~１．２５（９Ｈ，ｍ），１．３２~１．４０（３Ｈ，ｍ），２．５０~２．６９（６Ｈ，ｍ），３．２２，３．３８（３Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ），４．００（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２６~４．３６（２Ｈ，ｍ），６．９３~７．００（１Ｈ，ｍ），７．００~７．０４（１Ｈ，ｍ），７．０６~７．１８（１Ｈ，ｍ）。
化合物（ＶＩ−１７）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５８（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０３（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−１８）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１９（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．３２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．６０（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）。
化合物（ＶＩ−１９）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．２１（６Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），２．２９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．３９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．８５（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−２０）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．３２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５７（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．９０（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−３４）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１７~１．２２（９Ｈ，ｍ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５４~２．６３（６Ｈ，ｍ），３．９５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．９９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９１（２Ｈ，ｓ）。
　式（ＶＩ）で示される化合物の代表的な製造例をさらに参考例４に示す。
参考例４
　２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル１．１ｇのアセトニトリル２０ｍＬ溶液に、炭酸カリウム０．６８ｇを加えた。この混合物に氷冷下で４−クロロ−２，６−ジエチルフェニルアセチルクロリド１．２６ｇのアセトニトリル８ｍＬ溶液を約１０分間かけて滴下した。この混合物を室温で３時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。得られた残渣に氷水２０ｍＬを加え、酢酸エチル（２０ｍＬ、１０ｍＬ×２）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を塩基性アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）に付し、淡黄色固体１．２ｇを得た。該固体を冷ヘキサンで洗浄し、乾燥して、２−［２−（４−クロロ−２，６−ジエチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル〔化合物（ＶＩ−２２）〕０．７９ｇを白色粉末として得た。
　参考例４に準じて製造した式（ＶＩ）で示される化合物を、化合物ＶＩ−２２と伴に表１１に示す。
式（ＶＩ）で示される化合物：

　表１１の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（ＶＩ−２３）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．１８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．３１（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５７（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．６４（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−２５）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．２０（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．３４（３Ｈ，ｓ），２．６１（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．４１（３Ｈ，ｓ），４．１２（２Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−２８）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：０．６２~０．７３（２Ｈ，ｍ），０．８５~０．９５（２Ｈ，ｍ），１．１７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．７９~１．９０（１Ｈ，ｍ），２．３１（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．５５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．０４（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．７８（２Ｈ，ｓ）。
化合物（ＶＩ−２９）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．２３（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．３３（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），２．３９（３Ｈ，ｓ），２．６５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．１２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２８（２Ｈ，ｓ），７．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）。
化合物（ＶＩ−３０）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．３５（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．２８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３０~７．４０（３Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）。
化合物（ＶＩ−３１）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．３７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．２０~２．３９（９Ｈ，ｍ），３．４０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．１６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），７．２５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
化合物（ＶＩ−３２）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．３６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．１５~２．３５（９Ｈ，ｍ），３．３７（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．５５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．６３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
参考例５
　２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル９．０ｇのトルエン８０ｍＬ溶液に、ピリジン４．９６ｇを加えた。この混合物に氷冷下で５−ブロモ−２−メチルフェニルアセチルクロリド１４．８ｇのトルエン４０ｍＬ溶液を約５０分かけて滴下した。この混合物を室温で２時間攪拌した。反応混合物を氷水（２００ｍＬ）に加えて分液し、水層をトルエン（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）に付し、２−［２−（５−ブロモ−２−メチルフェニルアセチル）−２−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル〔化合物（ＶＩ−３３）〕１４．３ｇを淡黄色油状物として得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．３９（２Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２３−７．２６（１Ｈ，ｂｒ，ｓ），７．４１（１Ｈ，ｂｒ，ｓ）。
参考例６
　２−（メチルヒドラゾノ）プロパン酸エチル２４．６８ｇ、ピリジン１５．７０ｇ及びトルエン１２０．０ｇの混合物に氷冷下でエチルマロニルクロリド２８．３２ｇとトルエン８０．０ｇとの混合物を滴下した。この混合物を氷冷下で２時間撹拌した。この混合物に水８０．０ｇを加えて分液した。有機層を水８０．０ｇで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮した。２−［Ｎ−（３−エトキシ−３−オキソプロピオニル）−Ｎ−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチルを褐色オイル状物として４２．７４ｇ得た（ＧＣ面積値８２．４％）。
　カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１４．０１ｇとテトラヒドロフラン２１７．０ｇとの混合物に３５℃で２−［Ｎ−（３−エトキシ−３−オキソプロピオニル）−Ｎ−メチルヒドラゾノ］プロパン酸エチル３１．０ｇとテトラヒドロフラン９３．０ｇとの混合物を滴下した。この混合物を３５℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却した。反応混合物に水９３．０ｇ及びｎ−ヘキサン６２．０ｇを加えて分液した。水層に濃塩酸２０．５９ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル９３．０ｇを加えて分液した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して、１７．１３ｇの２，３−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−オキソ−４−ピリダジンカルボン酸エチルを得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．７０（３Ｈ，ｓ），４．４８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１３．０９（１Ｈ，ｓ）。
　２，３−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−オキソ−４−ピリダジンカルボン酸エチル１５．０ｇと１２％塩酸４５．０ｇとの混合物を７０℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物中に析出した結晶ろ過により集めた。この結晶を水、メタノールで順次洗浄し、乾燥して、２，３−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−オキソ−４−ピリダジンカルボン酸を白色固体として７．６５ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．３８（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），１３．０６（１Ｈ，ｓ），１４．８１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
　２，３−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−オキソ−４−ピリダジンカルボン酸２．００ｇ、炭酸カリウム１．７６ｇ及び水６．００ｇの混合物に氷冷下で臭素１．８６ｇを滴下した。この混合物を室温で２．５時間撹拌した。反応混合物に濃塩酸２．３３ｇを滴下した。この混合物を濾過して、固体を集めた。この固体を水４．０ｇ、ｎ−ヘキサン４．０ｇで洗浄し、乾燥して、４−ブロモ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンを白色固体として２．０７ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．３５（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），６．２２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）。
　４−ブロモ−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン２．０ｇ、炭酸カリウム１．５１ｇ及びアセトニトリル２０．０ｇの混合物にジメチル硫酸１．２７ｇを加えた。この混合物を５０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を濃縮した。残渣に酢酸エチルと水とを加えて、分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して、４−ブロモ−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンを淡褐色固体として２．０１ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．３１（３Ｈ，ｓ），３．７７（３Ｈ，ｓ），４．０３（３Ｈ，ｓ）。
参考例７
　４−ブロモ−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノンと２，５−ジメチルフェニルボロン酸とから参考例１と同様にして、４−（２，５−ジメチルフェニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−１５）〕を得た。
　参考例７に準じて製造した式（ＩＩ）で示される化合物を、化合物（ＩＩ−１５）と伴に表１２に示す。
式（ＩＩ）で示される化合物：

　表１２の中で融点の欄に＊を付した化合物についてそれらの^１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物（ＩＩ−１５）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．１５（３Ｈ，ｓ），２．２８（３Ｈ，ｓ），２．３１（３Ｈ，ｓ），３．３５（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），６．９５−７．３１（３Ｈ，ｍ）。
化合物（ＩＩ−１６）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．２８（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），７．２２−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．３８−７．４８（４Ｈ，ｍ），７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）。
化合物（ＩＩ−１７）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）２．２９（３Ｈ，ｓ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），７．３３−７．４３（４Ｈ，ｍ），７．４８−７．５８（３Ｈ，ｍ）。
化合物（ＩＩ−１９）：
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ　ｐｐｍ：２．０９（６Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．２９（３Ｈ，ｓ），３．３３（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），６．８９（２Ｈ，ｓ）。
参考例８
　５−メトキシ−２−メチル−４−（２，４，６−トリメチルフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−１０）〕０．７ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液に、Ｎ−クロロスクシンイミド０．３７ｇを加えた。この混合物を６０℃で３時間、１００℃で３時間攪拌した。反応混合物を冷却した。反応混合物を氷水５０ｍｌに注加した。生成した固体を濾過により集めた。この固体を、水洗し、乾燥して、白色結晶の４−（３−クロロ−２，４，６−トリメチルフェニル）−５−メトキシ−２−メチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−１８）〕０．７２ｇを得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．５９（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．３６（３Ｈ，ｓ），３．８６（６Ｈ，ｓ），７．０１（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｓ）。
　参考例８と同様にして、４−（３−クロロ−２，４，６−トリメチルフェニル）−５−メトキシ−２，６−ジメチル−３（２Ｈ）−ピリダジノン〔化合物（ＩＩ−２０）〕を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：２．０６（３Ｈ，ｓ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．２８（３Ｈ，ｓ），２．３７（３Ｈ，ｓ），３．３５（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ）。
　以下、製剤例を示す。なお、以下の例において、部は重量部を表す。また、化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３は製造例記載の化合物番号に対応する。
製剤例１
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか５部、メトコナゾール２．５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、及びキシレン７２．５部を混合して各々の製剤を得る。
製剤例２
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１０部、エタボキサム５部、ホワイトカーボンとポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩との混合物（重量割合１：１）３５部及び水５０部の割合で混合し、この混合物を湿式粉砕法で微粉砕することにより各々の製剤を得る。
製剤例３
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１５部、２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル］−２−メトキシ−Ｎ−メチルアセトアミド５部及びソルビタントリオレエート１．５部を、ポリビニルアルコール２部と水２６．５部との混合物に加え、この混合物を湿式粉砕法で微粉砕する。この中にキサンタンガム０．０５部、アルミニウムマグネシウムシリケート０．１部及び水溶液３９・８５部の混合物及びプロピレングリコール１０部を加えて攪拌し各々の製剤を得る。
製剤例４
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか２５部、トルクロホスメチル５部及びソルビタントリオレエート１．５部、ポリビニルアルコール２部と水溶液２６．５部との混合物に加え、この混合物を湿式粉砕法で微粉砕する。この中にキサンタンガム０．０５部、アルミニウムマグネシウムシリケート０．１部及び水２９．８５部の混合物及びプロピレングリコール１０部を加えて攪拌し各々の製剤を得る。
製剤例５
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか４５部、イプコナゾール５部、プロピレングリコール５部、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ（登録商標）ＦＬＫ（商品名、ローディア日華製）５部、アンチフォームＣ（登録商標）エマルション（商品名、ダウコーニング社製）０．２部、プロキセル（登録商標）ＧＸＬ（商品名、アーチケミカル製）０．３部、及びイオン交換水３９．５部を混合する。この混合物１００部と１５０部のガラスビーズ（φ＝１ｍｍ）とを混合して、冷却しながら、２時間攪拌する。ガラスビーズをろ過により除き、各々の製剤を得る。
製剤例６
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか５０部、ＮＮカオリンクレー（竹原化学工業製）３８．５部、Ｍｏｒｗｅｔ　Ｄ４２５（商品名、アクゾノーベル社製）１０部、及びＭｏｒｗｅｔ　ＥＦＷ（商品名、ＤＥＳＯＴＯ社製）１．５部を混合する。この混合物をジェットミルで粉砕し、各々の製剤を得る。
製剤例７
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか５部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部、及びカオリンクレー６２部を混合する。この混合物に水を加えてよく練り合せた後、造粒し、乾燥して各々の製剤を得る。
製剤例８
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部、及び合成含水酸化珪素８５部を粉砕し、混合して各々の製剤を得る。
製剤例９
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか２部、カオリンクレー８８部、及びタルク１０部を粉砕し、混合して各々の製剤を得る。
　製剤例１０
化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、及びキシレン７５部を混合して各々の製剤を得る。
製剤例１１
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１０部及びソルビタントリオレエート１．５部を、ポリビニルアルコール２部と水２８部との混合物に加え、この混合物を湿式粉砕法で微粉砕する。この中にキサンタンガム０．０５部、アルミニウムマグネシウムシリケート０．１部及び水４８．３５部の混合物及びプロピレングリコール１０部を加えて混合し、各々の製剤を得る。
製剤例１２
　化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部、及びカオリンクレー６６部を混合する。この混合物に水を加えてよく練り合せた後、造粒し、乾燥して各々の製剤を得る。
製剤例１３
化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか４０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部、及び合成含水酸化珪素５５部を粉砕し、混合して各々の製剤を得る。
製剤例１４
化合物Ｉ−ａ−１~Ｉ−ａ−７５、Ｉ−ｂ−１~Ｉ−ｂ−６３のいずれか１０部、ホワイトカーボンとポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩との混合物（重量比１：１）３５部および水５５部を混合し、この混合物を湿式粉砕法で微粉砕して、各々の製剤を得る。
　次に、種子処理例を示す。
種子処理例１
　種子処理機（ｓｅｅｄ　ｔｒｅａｔｅｒ）（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、ソルガム種子１００ｋｇに対し、製剤例１に準じて作製した製剤５００ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例２
　種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、ナタネ種子１０ｋｇに対し、製剤例２に準じて作製した製剤５０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例３
　種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、トウモロコシ種子１０ｋｇに対し、製剤例３に準じて作製した製剤４０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例４
　製剤例４に準じて作製した製剤５部、および水４０部を混合する。種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、イネ種子１０ｋｇに対し、該混合物６０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例５
　製剤例４に準じて作製した製剤５部、および水３５部を混合する。種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、ジャガイモ塊茎片１０ｋｇに対し、該混合物７０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例６
　種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、テンサイ種子１００ｋｇに対し、製剤例５に準じて作製した製剤５００ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例７
　種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、ダイズ種子１０ｋｇに対し、製剤例３に準じて作製した製剤５０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例８
　種子処理機（Ｈａｎｓ−Ｕｌｒｉｃｈ　Ｈｅｇｅ　ＧｍｂＨ製）を用いて、コムギ種子１０ｋｇに対し、製剤例２に準じて作製した製剤５０ｍｌを塗沫処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例９
　トウモロコシ種子１０ｋｇに対し、製剤例６に準じて作製した製剤５０ｇを粉衣処理することにより、処理種子を得る。
種子処理例１０
　ワタ種子１０ｋｇに対し、製剤例９に準じて作製した製剤４０ｇを粉衣処理することにより、処理種子を得る。
次に、本発明防除剤が有害節足動物の防除に効力を有することを試験例として示す。
試験例１
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップに植えた３葉期のキャベツ（Ｂｒａｓｓｉｃａｅ　ｏｌｅｒａｃｅａ）に、上記の試験用薬液を２０ｍＬ／カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、茎葉部を切り取って５０ｍＬカップに収めた。ここにコナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ　ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）２令幼虫５頭を放ち、蓋をした。このカップを２５℃で保管し、５日後に生存虫数を数え、次式より死虫率を求めた。
死虫率（％）＝（死亡虫数／供試虫数）×１００
　その結果、化合物Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ｂ−４８、Ｉ−ａ−５８、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ａ−６１、Ｉ−ａ−６４、Ｉ−ｂ−５１、Ｉ−ｂ−５２、Ｉ−ｂ−５３、Ｉ−ｂ−５４、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５７、Ｉ−ｂ−５８、Ｉ−ｂ−５９及びＩ−ｂ−６０の試験用散布液の処理区は死虫率８０％以上を示した。
試験例２
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
ポリエチレンカップの底に厚さ２ｍｍにスライスしたシルクメイト２Ｓ（日本農産工業）を置き、上記試験用薬液１ｍＬを滴下した。薬液が乾いた後、リンゴコカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ　ｏｒａｎａ）初齢幼虫３０頭を放ち、蓋をした。このカップを２５℃で保管し、７日後に生存虫数を数え、下記殺虫指数により評価した。
殺虫指数）４：死亡率１００％、３：８０~９９％、２：６０~７９％、１：３０~５９％、０：０~２９％
　その結果、化合物Ｉ−ａ−２３、Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ｂ−５１、Ｉ−ｂ−５２、Ｉ−ｂ−５３、Ｉ−ｂ−５４、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５７、Ｉ−ｂ−５８Ｉ−ｂ−５９、Ｉ−ｂ−６１及びＩ−ｂ−６２の試験用散布液の処理区は指数３以上を示した。
試験例３
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた第２葉展開期のイネ幼苗に、上記試験用薬液１０ｍｌを散布した。薬液が乾いた後、トビイロウンカの初齢幼虫を３０頭放した。このカップを２５℃の温室内に保管した。６日後イネに寄生したトビイロウンカの数を調査し、下式により防除価を求めた。
防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
　その結果、化合物Ｉ−ａ−９、Ｉ−ａ−１０、Ｉ−ａ−１５、Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ａ−４８、Ｉ−ａ−５１、Ｉ−ａ−５６、Ｉ−ａ−５８、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ａ−６２、Ｉ−ａ−６３、Ｉ−ａ−６４、Ｉ−ｂ−５１、Ｉ−ｂ−５２、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５８及びＩ−ｂ−６１の試験用散布液の処理区は防除価９０％以上を示した。
試験例４
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた第２本葉展開期のキュウリ幼苗にワタアブラムシ約３０頭を接種し、接種１日後に上記試験用薬液１０ｍｌを散布した。
　散布５日後にキュウリの葉上に寄生したワタアブラムシの生存虫数を調査し、下式により防除価を求めた。
　防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
　Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
　Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
　Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
　Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
　その結果、化合物Ｉ−ａ−３、Ｉ−ａ−１０、Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ａ−４８、Ｉ−ａ−５６、Ｉ−ａ−５８、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ａ−６３、Ｉ−ａ−６４、Ｉ−ｂ−５１、Ｉ−ｂ−５２、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５８、Ｉ−ｂ−６１及びＩ−ｂ−６２の試験用散布液の処理区は防除価９０％以上を示した。
試験例５
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた初生葉展開期のツルナシインゲン幼苗に約６０頭のナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ　ｕｒｔｉｃａｅ）雌成虫を接種し、接種１日後に上記試験用薬液３０ｍｌを散布した。
　散布８日後にツルナシインゲンの葉上の生存ダニ数を調査し、次式により防除率を算出した。
防除率（％）＝｛１−（処理区の生存ダニ数）／（無処理区の生存ダニ数）｝×１００
　その結果、化合物Ｉ−ａ−１３、Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ａ−４８、Ｉ−ａ−５８、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ａ−６４、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５７、Ｉ−ｂ−５８及びＩ−ｂ−６１の試験用散布液の処理区は防除率９０％以上を示した。
試験例６
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップの底に直径５．５ｃｍの濾紙を敷き、上記試験用薬液０．７ｍＬを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖３０ｍｇを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｔａｌｌａ　ｇｅｒｍａｎｉｃａ）雄成虫２頭を放ち、蓋をした。６日後に死亡虫数を数えた。
　死亡率は下式により計算し、４：死亡率１００％、２：５０％、０：０％の指数で評価した。
死亡率（％）＝（死亡虫数／供試虫数）×１００
　その結果、化合物Ｉ−ｂ−１の試験用薬液の処理区は、指数４を示した。
試験例７
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　試験用薬液０．７ｍＬをイオン交換水で１００ｍＬに希釈した。該希釈液中にアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ　ｐｉｐｉｅｎｓ　ｐａｌｌｅｎｓ）終令幼虫２０頭を放ち、１日後に死亡虫数を数えた。
　死亡率は下式により計算し、４：死亡率９１~１００％、２：１１~９０％、０：０~１０％の指数で評価した。
死亡率（％）＝（死亡虫数／供試虫数）×１００
その結果、化合物Ｉ−ａ−９、Ｉ−ａ−１４、Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ａ−６３、Ｉ−ａ−７０及びＩ−ｂ−４８の試験用薬液の処理区は、指数４を示した。
試験例８
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた５~６葉期のキャベツ（Ｂｒａｓｓｉｃａｅ　ｏｌｅｒａｃｅａ）に上記の試験用薬液を２０ｍＬ／カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｌｉｔｕｒａ）４令幼虫１０頭を放った。このポリエチレンカップに植えた５~６葉期のキャベツを、別のポリエチレンカップ（容量４００ｍＬ）で蓋をした。２５℃で保管し、６日後に生存虫数を数え、次式より死虫率を求めた。
死虫率（％）＝（死亡虫数／供試虫数）×１００
　その結果、化合物Ｉ−ｂ−４５、Ｉ−ａ−５９、Ｉ−ｂ−５１、Ｉ−ｂ−５２、Ｉ−ｂ−５３、Ｉ−ｂ−５４、Ｉ−ｂ−５５、Ｉ−ｂ−５６、Ｉ−ｂ−５７、Ｉ−ｂ−５８、Ｉ−ｂ−５９及びＩ−ｂ−６１の試験用散布液の処理区は死虫率８０％以上を示した。
試験例９
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた第３本葉展開期のトマトに、タバココナジラミ成虫を放ち、約２４時間産卵させた。該トマト苗を８日間温室内に保持し、産下された卵から幼虫が孵化してきたところへ上記試験用薬液を１０ｍｌ／カップの割合で散布し、２５℃で温室内に保持した。７日後トマト葉上の生存幼虫数の調査を行い、次の式により防除価を求めた。
防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
その結果、化合物Ｉ−ａ−４０、Ｉ−ａ−４５、Ｉ−ａ−４６、Ｉ−ａ−５８及びＩ−ｂ−４８の試験用散布液の処理区は防除価９０％以上を示した。
試験例１０
　製剤例１４により得られた本化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。
　ポリエチレンカップに植えた第２本葉展開期のキュウリに上記の試験用薬液を１０ｍｌ／カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、第１本葉を切り取ってポリエチレンカップに収め、ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ　ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）幼虫２０頭を放ち，蓋をした。７日後に、キュウリ葉上の生存虫数を調査し、次の式により防除価を求めた。
防除価（％）＝｛１−（Ｃｂ×Ｔａｉ）／（Ｃａｉ×Ｔｂ）｝×１００
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Ｃｂ：無処理区の処理前の虫数
Ｃａｉ：無処理区の観察時の虫数
Ｔｂ：処理区の処理前の虫数
Ｔａｉ：処理区の観察時の虫数
　その結果、化合物Ｉ−ａ−４０の試験用散布液の処理区は防除価９０％以上を示した。

　本化合物は有害節足動物防除用途に使用できる。

Claims

　式（Ｉ）

〔式中、Ｒ^１はＣ_１−６アルキル基又は（Ｃ_１−６アルキルオキシ）Ｃ_１−６アルキル基を表し、
Ｒ^２は水素又はＣ_１−６アルキル基を表し、
Ｇは水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
｛式中、Ｌは酸素又はイオウを表し、
Ｒ^３はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_３−６アルキニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、ジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基、ジ（Ｃ_２−６アルケニル）アミノ基、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基又は３~８員の含窒素複素環基を表し、
Ｒ^４はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_６−１０アリール基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^５及びＲ^６は同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６アルキルチオ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表す。
但し、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６の各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分、（Ｃ_１−６アルキル）（Ｃ_６−１０アリール）アミノ基のアリール部分及び３~８員の含窒素複素環基はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。｝
を表し、
Ｚ^１はＣ_１−６アルキル基を表し、
Ｚ^２はＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_１−６ハロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、５もしくは６員のヘテロアリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_１−６ハロアルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基を表し、
ここで、Ｚ^２で表されるＣ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基及び５もしくは６員のヘテロアリール基はいずれもハロゲン及びＣ_１−６アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基により置換されていてもよく、
ｎは０、１、２、３又は４を表し、ｎが２、３又は４である場合、各々のＺ^２は同一又は異なっていてもよい。〕
で示されるピリダジノン化合物及び不活性担体を含有する有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のｎが１、２又は３である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のｎが０であり、Ｚ^１がＣ_２−６アルキル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のｎが１又は２であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の４位及び／又は６位である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基、Ｃ_３−６シクロアルキル基、Ｃ_２−３アルキニル基、Ｃ_１−３アルキルオキシ基、ハロゲン、シアノ基又はニトロ基、或いはハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＺ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がＣ_１−３アルキル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のｎが１であり、Ｚ^２の結合位置がベンゼン環上の５位であり、Ｚ^１がＣ_１−３アルキル基であり、Ｚ^２がハロゲン及びＣ_１−３アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で置換されていてもよいフェニル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＲ^１がＣ_１−３アルキル基又は（Ｃ_１−３アルキルオキシ）Ｃ_１−３アルキル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＲ^１がメチル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はＣ_１−３アルキル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＲ^２が水素又はメチル基である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ｂはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ｂはＣ_１−６アルキル基又はＣ_６−１０アリール基を表し、
Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基又はＣ_１−６アルキルチオ基を表す。
但し、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｒ^５ｂ及びＲ^６ｂの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_６−１０アリール基、（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキル基のアリール部分、Ｃ_３−８シクロアルキルオキシ基、Ｃ_６−１０アリールオキシ基及び（Ｃ_６−１０アリール）Ｃ_１−６アルキルオキシ基のアリール部分はいずれもＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　式（Ｉ）のＧが水素、式

で表される基、又は式

で表される基
〔式中、Ｒ^３ａはＣ_１−６アルキル基、Ｃ_３−８シクロアルキル基、Ｃ_２−６アルケニルオキシ基、Ｃ_６−１０アリール基、Ｃ_１−６アルキルオキシ基又はジ（Ｃ_１−６アルキル）アミノ基を表し、
Ｒ^４ａはＣ_１−６アルキル基を表す。
但し、Ｒ^３ａ及びＲ^４ａの各々で表されるいずれの基もハロゲンにより置換されていてもよく、Ｃ_３−８シクロアルキル基及びＣ_６−１０アリール基はＣ_１−６アルキル基により置換されていてもよい。〕
である請求項１記載の有害節足動物防除剤。
　請求項１記載のピリダジノン化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に処理する工程を有する有害節足動物の防除方法。
　有害節足動物防除のための請求項１記載のピリダジノン化合物の使用。