WO2010110219A1 - 光アイソレータ素子およびこれを用いた光モジュール - Google Patents

光アイソレータ素子およびこれを用いた光モジュール Download PDF

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polarizer
metal particle
optical isolator
particle layer
metal
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明石 朋義
中島 嘉一郎
庄田 学史
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/09Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
    • G02F1/093Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect used as non-reciprocal devices, e.g. optical isolators, circulators

Definitions

  • the present invention relates to an optical isolator for blocking reflected return light to a light emitting element and an optical module using the same.
  • An optical module equipped with a light emitting element is used for an optical communication device or a sensor light source.
  • the optical isolator element has a Faraday rotator, and a first polarizer and a second polarizer sandwiching the Faraday rotator.
  • the optical isolator element transmits light in the first direction (hereinafter referred to as forward light) as it is, while blocking light in the second direction opposite to the first direction (hereinafter referred to as light in the reverse direction).
  • the optical isolator element includes a multilayer type in which a first polarizer, a first Faraday rotator, a second polarizer, a second Faraday rotator, and a third polarizer are sequentially arranged. have.
  • An absorption type polarizer is generally used as a polarizer constituting such an optical isolator element.
  • Absorptive polarizers form a crystal of a halide such as copper, silver, or cadmium in glass, and the crystal is stretched in one direction by heating and reduced in a hydrogen atmosphere to form a needle-like crystal.
  • Metal particles are precipitated in glass (for example, see JP-A-08-50205).
  • the concentration of the metal halide in the glass cannot be increased beyond a certain level. Therefore, in order to obtain the required extinction ratio characteristic, the layer in which the metal particles are distributed It is necessary to increase the thickness.
  • the metal particle layer is distributed from the polarizer surface to a depth of 50 ⁇ m. Then, by increasing the distribution depth, the amount of metal particles is secured, and desired extinction ratio characteristics are obtained. For this reason, this type of polarizer has a problem that it is difficult to reduce the thickness.
  • the optical isolator element cannot be made small.
  • the spot diameter of incident light gradually expands
  • the spot diameter becomes larger than that of the optical isolator element, vignetting that blocks the ambient light in the spot occurs, resulting in light loss.
  • an absorption type polarizer has a type having a polarization function by embedding metal particles on a glass surface by a physical vapor deposition method such as sputtering, and stretching and orienting the particles (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-178939). ).
  • the distribution depth of the metal particles from the glass surface can be reduced, and the thickness of the polarizer can be reduced.
  • As a compensation in order to obtain a desired extinction ratio characteristic, it is necessary to increase the metal particle density on the glass surface and ensure the amount of metal particles.
  • the refractive index on the glass surface is increased, and light may be reflected due to the difference in refractive index.
  • FIG. 9 it is assumed that light 91 in the reverse direction is incident on the optical isolator element 60 from the first polarizer 62 side. The light 91 in the reverse direction is blocked by the second polarizer 63, but the reflected light 92 partially reflected by the interface 63 a having a high metal particle density of the second polarizer 63 is again the metal particles of the first polarizer 62.
  • the light is reflected by the high-density interface 62a and is emitted as the outgoing light 93 from the second polarizer 63 side to the outside. Since a part of the light in the reverse direction is transmitted through the optical isolator element 60 in this way, there arises a problem that the isolation characteristic is deteriorated.
  • an object of the present invention is to provide an optical isolator element that is less likely to be deteriorated in isolation characteristics and can be easily thinned.
  • An optical isolator element includes a Faraday rotator that rotates a polarization plane of light, a first polarizer disposed on one side of the Faraday rotator, and the other side of the Faraday rotator. And a second polarizer disposed on the side.
  • the first polarizer and the second polarizer are light absorption polarizers having a metal particle layer in which metal particles are distributed.
  • the second polarizer has a metal particle layer in which metal particles are distributed at a density greater than the density of the metal particles distributed in the metal particle layer of the first polarizer.
  • An optical isolator element includes a light absorption type first, second, and third polarizer having metal particle layers in which metal particles are distributed, and the first and second polarizers.
  • a first Faraday rotator disposed between and a second Faraday rotator disposed between the second and third polarizers are arranged in a line.
  • the metal particle density distributed in the metal particle layer of one of the first, second, and third polarizers is distributed in the metal particle layer of another polarizer. It is characterized by being larger.
  • An optical isolator element includes a light absorption type first, second, and third polarizer having metal particle layers in which metal particles are distributed, and the first and second polarizers.
  • a first Faraday rotator disposed between and a second Faraday rotator disposed between the second and third polarizers are arranged in a line.
  • the metal particle density distributed in the metal particle layer of the first and third polarizers is greater than the metal particle density distributed in the metal particle layer of the second polarizer.
  • An optical module includes a light emitting element therein, and any one of the above optical isolator elements is inserted in an optical path of an optical signal emitted from the light emitting element. To do.
  • the metal particle density of the metal particle layer distributed in one of the polarizers facing each other via the Faraday rotator is distributed in the other polarizer.
  • FIG. 3 is a schematic view schematically showing an example of a type A absorption polarizer.
  • FIG. 6 is a perspective view schematically showing an example of a type B absorption polarizer.
  • FIG. 1 shows an optical isolator 1 according to an embodiment of the present invention.
  • the optical isolator 1 has a structure in which a first polarizer 12 and a second polarizer 13 are arranged on one and the other of the Faraday rotator 11.
  • Each of the elements 11, 12, and 13 is a plate having a constant thickness and is arranged in parallel.
  • the Faraday rotator 11 and the first polarizer 12 and the second polarizer 13 disposed on both sides of the Faraday rotator 11 are integrally bonded and fixed using, for example, an adhesive.
  • An adhesive having the same refractive index as that of the elements 11, 12, and 13 is suitable.
  • an acrylic or epoxy thermosetting type, UV curable type, or a combination type of both types is used. Things are used. Of course, it may be arranged via another transparent medium that is not an adhesive, such as air.
  • a bismuth (Bi) -substituted garnet or YIG garnet to which terbium (Tb), gadolinium (Gd) or holmium (Ho) is added, or a self-bias type that does not require a magnet is used.
  • Tb terbium
  • Gd gadolinium
  • Ho holmium
  • an antireflection film composed of a multilayer film such as titania (TiO 2 ) and silica (SiO 2 ) or tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ) and SiO 2 is formed. May be.
  • the reflection of light on the surface of the Faraday rotator 11 can be reduced to a reflection amount of 0.2% or less.
  • the thickness of the Faraday rotator 11 is adjusted such that the Faraday rotation angle is 45 °, for example, in accordance with the type of material of the Faraday rotator 11 and the wavelength of light used. Specifically, it has a thickness of 0.2 to 0.5 mm, although it varies depending on the type of material and the wavelength used. And it arrange
  • the first polarizer 12 of the optical isolator element 1 has a density of metal particles distributed in the metal particle layer included in the surface or inner layer of the second polarizer 13 in the density of metal particles distributed in the metal particle layer included in the surface or inner layer. It is a type A polarizer smaller than the density.
  • the second polarizer 13 has the density of the metal particles distributed in the metal particle layer included in the surface or inner layer of the first polarizer 12 in the density of the metal particles distributed in the metal particle layer included in the surface or inner layer. It is a type B polarizer larger than the density.
  • FIG. 1 shows an example in which the first polarizer 11 is arranged on the left side of the Faraday rotator 11 and the second polarizer 13 is arranged on the right side, the same is true if they are arranged in reverse.
  • the optical isolator element 1 includes a Faraday rotator 11 having a type A polarizer disposed on one surface and a type B polarizer disposed on the other surface.
  • the type A and type B polarizers are arranged to face each other with the Faraday rotator 11 in between.
  • FIG. 10A is a perspective view schematically showing a type A polarizer
  • FIG. 10B is a perspective view schematically showing a type B polarizer.
  • metal particles M1 and M2 are scattered inside the polarizer near the surface. Some of the metal particles M1 and M2 have an elongated shape having a major axis in one axis direction of the polarizer (the vertical direction in FIGS. 10A and 10B).
  • metal particles M1 are scattered in the metal particle layer 71 having a depth D1
  • the type B polarizer shown in FIG. Particles M2 are scattered.
  • the metal particle layers 71 and 72 may be formed inside the polarizer.
  • the density of the metal particles M1 and M2 is highest inside the polarizer.
  • the depths D1 and D2 of the metal particle layers 71 and 72 are defined by the thicknesses of the metal particle layers 71 and 72 in which the presence of the metal particles M1 and M2 is confirmed by cross-sectional observation using a TEM.
  • the thickness D2 of the metal particle layer 72 distributed on the surface or inner layer of the type B polarizer is 1 ⁇ 2 or less of the thickness D1 of the metal particle layer 71 of the type A polarizer. is there.
  • the distribution density of the metal particles M1 distributed on the surface or the inner layer is smaller than that of the type B polarizer, and the distribution thickness D1 of the distributed metal particles M1 is the distribution thickness of the type B polarizer. Thicker than D2.
  • a type A polarizer first forms a halide crystal such as copper (Cu), silver (Ag), or cadmium (Cd) in a glass such as quartz glass.
  • the glass and halide crystals are softened by heating and stretched in one direction together with the glass, and are heated and reduced in a hydrogen atmosphere to deposit metal particles M1 on the glass surface.
  • the halide crystals become acicular crystals that are partially oriented in one direction, and are reduced to form acicular metal particles M1.
  • metal particles M1 formed on the halide crystal surface or inside the halide crystal are distributed to a depth of 20 ⁇ m or more from the polarizer surface.
  • the reflectance can be made less than 0.5%.
  • the distribution depth D1 of the metal particles M1 is deep, it is not suitable for the purpose of producing a thin polarizer.
  • the thickness of the type A polarizer is in the range of 0.1 to 1 mm.
  • the metal particles M2 are embedded in the surface of a base material such as glass by sputtering and the like, and this is heated and stretched in one direction together with the glass, whereby the needle-like metal particles M2 are oriented in one direction. It exhibits a polarizing function. There is a feature that no halide is contained in the glass, and the metal particles M2 are distributed in a range of 10 ⁇ m at most from the glass surface.
  • the metal particles M2 are made of a metal such as copper or silver as in the case of the type A polarizer.
  • the type B polarizer has a high refractive index due to the high density of the metal particles M2 near the surface of the base material with respect to the light in the cutoff polarization direction (having the polarization plane in the cutoff direction), and the anti-air layer
  • the reflection of the polarizer occurs about 4 to 15%.
  • the metal particles M2 transmit the light.
  • the refractive index is a constant value similar to that of the base glass, and the reflectance is a stable reflectance of about 4% with respect to the air layer.
  • the extinction ratio of the polarizer is deteriorated, so that it is not suitable as a polarizer used in the isolator element 1.
  • This type B polarizer is suitable for the purpose of producing a thin polarizer because the metal particles M2 are concentrated on the surface of the base material. Specifically, the thickness of the type B polarizer can be produced in the range of 0.03 ⁇ m to 1 mm.
  • the distribution density of the metal particles M1 and M2 can be confirmed by observing a thin section of the polarizer with a TEM.
  • the observed metal particles M1 and M2 can specify the type of metal using EDS (energy dispersive X-ray analysis).
  • a depth at which the metal particles M1 and M2 are not observed from the surface of the base material is defined as a distribution depth. Since the type B polarizer does not contain metal atoms inside the base material, the distribution depth can also be examined by an elemental analysis instrument such as XPS (X-ray photoelectron spectroscopy).
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the type A polarizer has the feature that the density of the metal particles is low overall, but the depth of distribution is deep, and it is distributed to around 50 ⁇ m.
  • the type B polarizer has a feature that the distribution density in the vicinity of the surface is high but the distribution depth is shallow, and the metal particles are concentrated in the vicinity of the surface having a depth of 10 ⁇ m at most.
  • layers containing metal particles are formed on both surfaces of the polarizer.
  • since the distribution depth of the metal particles is deep, it is more difficult to make the polarizer thinner when the metal particle layer is formed on both sides.
  • the distribution depth of the metal particles is 1 ⁇ 2 or less that of type A. Then, by combining the two types of polarizers into the optical isolator element 1, it is possible to improve the degradation of isolation characteristics. This will be described with reference to FIG.
  • FIG. 4A shows a type A polarizer used for the first polarizer 12 and a type B polarizer used for the second polarizer 13.
  • incident light 41 in the opposite direction is incident, a part of the incident light 41 is reflected by the high refractive index metal particle layer 13 a of the second polarizer 13, and reflected light 42 is generated.
  • the first polarizer 12 does not have a high refractive index layer, the reflected light 43 from the first polarizer 12 hardly occurs.
  • the reflection of the surface 12a of the first polarizer 12 of type A is 0.5% or less, and there is little possibility that the reflected light 43 that affects the isolation characteristic is generated.
  • the reflected light 42 travels back and forth within the Faraday rotator 11, so that most of the reflected light 42 is absorbed by the first polarizer 12.
  • the type A first polarizer 12 does not have a high refractive index layer. Incident light 41 hardly generates reflected light 42 in the metal particle layer 12 a of the first polarizer 12. Therefore, even if the reflected light 42 is reflected by the metal particle layer 12a of the second polarizer 12, the reflected light 43 is very small and there is little possibility of degrading the isolation characteristics.
  • Such an optical isolator element 1 according to an embodiment of the present invention can be used in a stacked manner, and the isolation characteristics can be further improved.
  • An example of such an optical isolator 2 used in a stacked manner will be described with reference to FIGS. 2A, 2B, and 2C.
  • the optical isolator element 2 in FIG. 2A is an example in which type B polarizers are used for the first polarizer 23 and the fourth polarizer 26, and type A polarizers are used for the second polarizer 24 and the third polarizer 25. Indicates.
  • the optical isolator element 2 in FIG. 2B is an example in which type A polarizers are used for the first polarizer 23 and the fourth polarizer 26, and type B polarizers are used for the second polarizer 24 and the third polarizer 25. Indicates.
  • the optical isolator element 2 in FIG. 2C is an example in which a type B polarizer is used for the first polarizer 23, and a type A polarizer is used for the second polarizer 24, the third polarizer 25, and the fourth polarizer 26. Is shown.
  • the conventional optical isolator element 1 is used as shown in FIG. 2C. It is possible to overlap and use optical isolator elements using the type A of the mold on both sides.
  • the second polarizer 24 and the third polarizer 25 need to be overlapped with the same direction so that the polarization directions are the same.
  • 2A, 2B, and 2C show an example in which the optical isolators of FIG. 1 are combined in two stages, but three or more stages may be combined.
  • 2A, FIG. 2B, and FIG. 2C do not show all examples in which the optical isolators of FIG. 1 are combined in multiple layers, but there are no restrictions on the way of stacking, and other ways of stacking are possible.
  • the first polarizer 23 and the third polarizer 25 may be type B polarizers
  • the second polarizer 24 and the fourth polarizer 26 may be type A polarizers.
  • the optical isolator element 3 of the present embodiment uses two Faraday rotators, and the isolation is lower than that of the optical isolator element 2 shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C. As compared with the optical isolator element 1 shown in FIG. 1, sufficiently high isolation characteristics can be obtained, and there is an advantage that the optical isolator element 2 shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C can be made thinner.
  • a first polarizer 33, a first Faraday rotator 31, a second polarizer 34, a second Faraday rotator 32, and a third polarizer 35 are arranged in a line, and these are arranged.
  • the structure is fixed by stacking.
  • Each element 33, 31, 34, 32, 35 is arranged in parallel.
  • the first Faraday rotator 31 and the second Faraday rotator 32 can be the same as the Faraday rotator 11 shown in FIG.
  • the second polarizer 34 is arranged at 45 ° with respect to the transmission polarization plane of the first polarizer 33 with respect to the forward light
  • the third polarizer 35 is the transmission polarization plane of the second polarizer 34. It arrange
  • FIG. 3A shows an example in which a type B polarizer is used for the first polarizer 33 and the third polarizer 35, and a type A polarizer is used for the second polarizer 34.
  • the optical isolator element 2 in FIG. 3B shows an example in which a type A polarizer is used for the first polarizer 33 and the third polarizer 35 and a type B polarizer is used for the second polarizer 34.
  • the optical isolator element 3 either of the examples of FIGS. 3A and 3B can be used.
  • the type B polarizer is arranged in the second polarizer 34 in the example of FIG. 3B.
  • the type B polarizer is limited to the second polarizer 34. It may be used for any one of the first, second, and third polarizers 33, 34, and 35. As described above, any one of the first, second, and third polarizers 33, 34, and 35 may be a type B polarizer having a high metal particle density distributed in the metal particle layer.
  • FIG. 3A the configuration shown in FIG. 3A is desirable because there is a possibility that the optical isolator element 3 can be made thinner.
  • the isolation characteristics of these optical isolator elements 3 will be described with reference to FIG.
  • FIG. 5A shows a case where the optical isolator element 3 of FIG. 3A is used.
  • reflected light 42 reflected by the metal particle layer 35 a of the type B third polarizer 35 is generated.
  • the reflected light 42 is hardly reflected by the metal particle layer 34a because the polarizer 34 is a type A polarizer. Therefore, the reflected light 43 reflected by the metal particle layer 34a of the second polarizer 34 is small.
  • the reflected light 42 reciprocates in the second Faraday rotator 32, the polarization direction is rotated by 90 ° when it returns to the second polarizer 34, and passes through the second polarizer 34.
  • the light reaching the first polarizer 33 is small. Therefore, the reflected light 43 emitted from the optical isolator element 3 does not deteriorate the isolation characteristics.
  • FIG. 5B shows the case where the optical isolator element 3 of FIG. 3B is used.
  • the incident light 41 in the reverse direction is hardly reflected by the metal particle layer 35a because the third polarizer 35 is a type A polarizer, and the reflected light 42 is small.
  • the reflected light 44 generated on the surface of the second polarizer 34 is hardly reflected by the first polarizer 33 because the first polarizer 33 is a type A polarizer, and the reflected light 45 is small. Become. Therefore, the reflected light 44 and the reflected light 45 are small and do not deteriorate the isolation characteristics.
  • the type B polarizer is used for the second polarizer 34, but the same effect can be obtained even when the type B polarizer is used for the first polarizer 33 or the third polarizer 35. it can.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example in which an optical fiber holding component with an optical isolator element that constitutes a part of an optical module is configured using the optical isolator elements 1, 2, and 3.
  • this optical fiber holding component with optical isolator elements 1, 2, and 3 a ferrule 51 that holds an optical fiber 53 is held by a holding member 52.
  • the tip surface of the ferrule 51 is subjected to oblique mirror polishing with respect to the optical axis.
  • One of the optical isolator elements 1, 2, 3 is fixed to the front end surface of the ferrule 51 with an adhesive or the like.
  • optical isolators 1 and 2 are placed in the optical path of an optical signal emitted from the light emitting element. , 3 are inserted to form an optical module.
  • Reference numeral 54 denotes a magnet disposed outside the optical isolators 1, 2, 3.
  • the arrangement of the optical isolator element 1 is used for the optical module. It is better to select according to the application.
  • the optical isolator 1 is preferably arranged so that the type A polarizer 12 is provided on the tip surface of the ferrule 51 and the type B polarizer 13 is provided on the opposite side.
  • the condensed beam 55 from the light emitting element is set so as to be focused near the tip of the optical fiber 53.
  • the optical module is a pump laser module or the like used for an optical fiber amplifier, and the light source output is a large output light of several tens mW to several hundred mW class, the light beam transmitted through the type B second polarizer 13 having a high metal particle density
  • the optical isolator element 1 it is preferable to arrange the optical isolator element 1 so that the diameter becomes larger than the light beam diameter of the type A first polarizer 12 having a small metal particle density.
  • the light emitting element side so that the second polarizer 13 of type B and the tip surface side of the ferrule 51 become the first polarizer 12 of type A.
  • the thickness of the metal particle layer is thinner than type A, and the second polarizer 13 of type B, which has low light resistance, is arranged on the beam diameter side where the energy density of the beam is small. It is advantageous.
  • the reflected return light returned from the ferrule 51 side is incident on the first polarizer 12 with a beam diameter 55 that is about the mode field diameter of the optical fiber 53.
  • the beam diameter increases and increases, so that the energy density of the beam in the second polarizer 13 is smaller than the density in the first polarizer 12.
  • the type B polarizer has a high density of surface metal particles, and the light is absorbed by the surface metal particle layer and tends to be locally heated as compared with type A, and has low light resistance. For this reason, it is better to use a type B polarizer for the second polarizer 13 on the side where the beam diameter is increased.
  • a type B polarizer is preferably arranged.
  • the optical fiber holding component has been described.
  • the type B is also set to have a lower beam energy density. The light resistance can be improved by arranging the polarizers.
  • the optical isolator 1 is arranged on the tip surface of the ferrule 51 as shown in FIG. It is preferable that the second polarizer 13 for B is the first polarizer 12 for type A on the opposite side.
  • the light component in the blocking polarization direction is once absorbed by the metal particle layer of the polarizer and converted into heat, but part of it is re-radiated as heat radiation light 57. Is done. Since the radiation direction at this time extends over a wide range centering on the normal direction of the polarizer, if a part of the radiation direction is coupled to the optical fiber 53 again, it becomes noise to the optical signal.
  • the second polarizer 13 is a type B polarizer
  • the reflected return light 56 returned from the ferrule 51 side a part of the light component in the blocking polarization direction is reflected by the metal particle layer 13a having a high refractive index.
  • the reflected light 58 is obtained. Since the reflection angle ⁇ at this time is equal to the incident angle ⁇ to the second polarizer 13, it has a large angle with respect to the optical fiber 53. Therefore, it is difficult for the reflected light 58 to be coupled to the optical fiber 53.
  • the light component in the blocking polarization direction that has not been reflected is partially radiated as thermal radiation 57 after being absorbed by the metal particle layer, but is reflected as reflected light 58 by the second polarizer 13. Since the light absorbed by the metal particles is reduced, the emitted light 57 generated by the absorption is also reduced. Therefore, the intensity of the light recombined with the optical fiber 53 is reduced, and the noise component for the optical signal is also reduced.
  • interval of the optical fiber 53 and the metal particle layer 13a spreads by arrange
  • the optical fiber holding part with an optical isolator element shown in FIG. 6 When the optical fiber holding part with an optical isolator element shown in FIG. 6 is configured, if the optical isolator elements 1, 2, and 3 are fixed to the end face of the optical fiber 53 that becomes the focal point of the condensed beam in this way, a semiconductor laser or the like Since the light emitted from the light emitting element (not shown) is condensed through a lens (not shown) and the optical isolator elements 1, 2, and 3 are installed in a place where the spot diameter of the light is reduced, the optical isolator There is an advantage that the size of the elements 1, 2 and 3 can be reduced. If the thin optical isolator elements 1, 2, and 3 according to the embodiment of the present invention are used, it is possible to provide an optical fiber holding component that is smaller and has excellent isolation characteristics.
  • optical isolator element 3 shown in FIG. 3A was produced by the following procedure.
  • a Faraday rotator having a thickness of 0.45 mm made of bismuth-substituted garnet ((BiR) 3 Fe 5 O 12 ) was used as the first Faraday rotator 31 and the second Faraday rotator 32.
  • a type A polarizer was used as the second polarizer 34
  • a type B polarizer was used as the first polarizer 33 and the third polarizer 35.
  • a SiO 2 + B 2 O 3 glass base material was used, and a silver halide crystal formed in the glass was stretched and oriented while being heated, and reduced in a hydrogen atmosphere. The thing of 200 micrometers was used.
  • the metal particles (silver particles) deposited near the surface had a distribution depth of 50 ⁇ m.
  • a SiO 2 + B 2 O 3 glass base material was used, and the one having a thickness of 80 ⁇ m produced by heating and stretching silver particles formed in the glass by sputtering was used.
  • the distribution depth of the silver particles near the surface was 5 ⁇ m.
  • Comparative Example 1 a conventional optical isolator element was produced.
  • the first Faraday rotator and the second Faraday rotator are the same as the Faraday rotators 31 and 32 described above, and the second polarizer 34 described above is used as the first polarizer, the second polarizer, and the third polarizer.
  • the same type A polarizer was used. This was cut into a size of 0.5 mm ⁇ 0.6 mm by a dicer to produce a conventional optical isolator element.
  • Comparative Example 2 a first type polarizer, a second polarizer, and a third polarizer were manufactured using the same type B polarizer as the first polarizer 33 described above.
  • the thickness and isolation characteristics of the optical isolator element 2 and the optical isolator elements of Comparative Examples 1 and 2 were measured. Isolation characteristics are measured by inserting each optical isolator element in a direction opposite to the light transmission direction in a collimator optical system having a wavelength of 1550 nm and a beam diameter of 0.3 mm, and measuring the output light intensity with a power meter. Asked. Each evaluation was performed one by one. The results are shown in Table 1.
  • the comparative example 1 has a thickness of 1.508 mm and an isolation characteristic of 61.8 dB
  • the comparative example 2 has a thickness of 1.145 mm and an isolation characteristic of 19 dB.
  • the thickness is 1.266 mm
  • the isolation characteristic is 62.3 dB
  • the isolation characteristic is not inferior to that of the comparative example 1 and is confirmed to be significantly improved with respect to the comparative example 2. did it. It was also recognized that miniaturization could be achieved.
  • the optical isolator element 3 according to each embodiment of the present invention, the light absorption type first polarizer 33, the second polarizer 34, the third polarizer 35 arranged in a row, A first Faraday rotator 31 disposed between the first polarizer 33 and the second polarizer 34, and a second Faraday rotator 32 disposed between the second polarizer 34 and the third polarizer 35.
  • the isolation characteristic is improved. It was found that an isolator element 3 that does not deteriorate is obtained. This also makes it possible to reduce the size of the isolator element 3.

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Abstract

光アイソレータ素子1は、光の偏光面を回転させるファラデー回転子11と、このファラデー回転子11の一方面側に配置され、金属粒子が分布する層を有する光吸収型の第1偏光子12と、ファラデー回転子11の他方面側に配置され、第1偏光子12の金属粒子層に分布する金属粒子の密度より大きい密度で金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の第2偏光子13とを備えている。第2偏光子13と第1偏光子12との間で反射光が生じることを原因とするアイソレーション劣化を抑制できる。

Description

光アイソレータ素子およびこれを用いた光モジュール
 本発明は、発光素子への反射戻り光を遮断する光アイソレータおよびこれを用いた光モジュールに関する。発光素子を搭載した光モジュールは光通信機器またはセンサー用光源等に使用される。
 光アイソレータ素子は、ファラデー回転子と、このファラデー回転子を挟む第1偏光子および第2偏光子とを有している。光アイソレータ素子は、第1方向の光(以下、順方向の光という)をそのまま透過させる一方、第1方向と逆の第2方向の光(以下、逆方向の光という)を遮断する。また、光アイソレータ素子には、第1偏光子、第1ファラデー回転子、第2偏光子、第2ファラデー回転子、第3偏光子が順次配置されて構成される多層タイプもあり、同様の働きを持つ。
 このような光アイソレータ素子を構成する偏光子には、一般に吸収型偏光子が用いられている。吸収型偏光子とは、ガラス中に銅、銀、またはカドミウム等のハロゲン化物の結晶を形成させ、その結晶を加熱により一方向に延伸するとともに、水素雰囲気中で還元することによって、針状の金属粒子をガラス中に析出させたものである(例えば、特開平08-50205号公報参照)。
 しかしながら、このような偏光子を用いた光アイソレータ素子では、ガラス中のハロゲン化金属の濃度を一定以上大きくすることができないので、必要な消光比特性を得るためには、金属粒子が分布する層の厚みを厚くする必要がある。通常、偏光子表面から50μmの深さまで金属粒子層が分布している。そして、分布深さを深くすることによって金属粒子の量を確保し、所望の消光比特性を得ている。このため、このタイプの偏光子は厚みを薄くし難いという問題がある。
 また、偏光子の厚みが厚いと、光アイソレータ素子を小さくできないという問題がある。入射する光のスポット径が次第に拡大するような光ビームの場合、スポット径が光アイソレータ素子より大きくなると、スポット中の周辺光が遮られてしまうケラレが生じて光損失を生じる。このため、光アイソレータ素子のサイズをスポット径より十分大きくしておく必要がある。したがって、光アイソレータ素子を小型化し難いという問題があった。
 また吸収型偏光子には、スパッタリング等の物理蒸着法でガラス表面に金属粒子を埋め込み、これを延伸して配向させることで、偏光機能を有するタイプもある(例えば、特開平09-178939号公報)。
 このタイプの偏光子を用いて光アイソレータ素子を作製した場合、ガラス表面からの金属粒子の分布深さを浅くすることができ、偏光子の厚みを薄くすることができる。その代償として、所望の消光比特性を得るために、ガラス表面の金属粒子密度を高くし、金属粒子の量を確保する必要がある。
 しかしながら、ガラス表面での金属粒子の密度を高くした場合、ガラス表面での屈折率が高くなり、その屈折率差によって光の反射を生じる場合がある。この場合、例えば、図9に示すように、第1偏光子62側から光アイソレータ素子60に逆方向の光91が入射したとする。逆方向の光91は第2偏光子63で遮られるのであるが、第2偏光子63の金属粒子密度の高い界面63aで一部反射した反射光92が、再び第1偏光子62の金属粒子密度の高い界面62aで反射し、第2偏光子63側から外側へ出射光93として出射されてしまう場合がある。逆方向の光の一部がこのように光アイソレータ素子60を透過してしまうので、アイソレーション特性が劣化するという問題が生じる。
 以上のような問題に鑑み、本発明は、アイソレーション特性の劣化が少なく、薄くすることが容易な光アイソレータ素子の提供を目的とする。
 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子は、光の偏光面を回転させるファラデー回転子と、このファラデー回転子の一方面側に配置される第1偏光子と、前記ファラデー回転子の他方面側に配置される第2偏光子とを備える。前記第1偏光子および前記第2偏光子は、金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の偏光子である。そして、前記第2偏光子は、前記第1偏光子の金属粒子層に分布ずる金属粒子の密度より大きい密度で金属粒子が分布する金属粒子層を有している。
 また、本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子は、金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の第1,第2,第3偏光子と、前記第1および第2偏光子の間に配置された第1ファラデー回転子と、前記第2および第3偏光子の間に配置された第2ファラデー回転子とが一列に並べて配置されている。そして、前記第1,第2,第3偏光子のうち、いずれか一枚の偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度が他の偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度より大きいことを特徴とする。
 また、本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子は、金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の第1,第2,第3偏光子と、前記第1および第2偏光子の間に配置された第1ファラデー回転子と、前記第2および第3偏光子の間に配置された第2ファラデー回転子とが一列に並べて配置されている。そして、前記第1および第3偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度が、前記第2偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度より大きいことを特徴とする。
 また、本発明の一実施形態に係る光モジュールは、内部に発光素子を備え、前記発光素子から出射された光信号の光路中に上記いずれかの光アイソレータ素子が挿入されていることを特徴とする。
 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子によれば、ファラデー回転子を介して互いに対向する偏光子のいずれか一方に分布する金属粒子層の金属粒子密度が他方の偏光子に分布する金属粒子層の金属粒子密度より小さいことにより、一方の偏光子で生じる反射光を少なくして光アイソレータ素子のアイソレーションの劣化を減じることができる。
本発明の光アイソレータ素子の実施の形態の一例を示す側面図である。 図1の光アイソレータ素子を用いた他の実施形態の例を示す側面図である。 図1の光アイソレータ素子を用いた他の実施形態の例を示す側面図である。 図1の光アイソレータ素子を用いた他の実施形態の例を示す側面図である。 本発明の光アイソレータ素子の実施の形態の他の例を示す側面図である。 本発明の光アイソレータ素子の実施の形態の他の例を示す側面図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を透過する光の態様を示す模式図である。 発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を透過する光の態様を示す模式図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を透過する光の態様を示す模式図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を透過する光の態様を示す模式図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を用いた光ファイバ保持部品の例を示す断面図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を用いた光ファイバ保持部品の例を示す要部拡大断面図である。 本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子を用いた光ファイバ保持部品の他の例を示す要部拡大断面図である。 従来の光アイソレータ素子を透過する逆方向光の様態を示す模式図である。 タイプAの吸収型偏光子の例を模式的に示すな視図である。 タイプBの吸収型偏光子の例を模式的に示す斜視図である。
 以下、本発明の実施の形態の各例について図面に基づき詳細に説明する。
 図1に、本発明の一実施形態に係る光アイソレータ1を示す。光アイソレータ1は、ファラデー回転子11の一方および他方に第1偏光子12と第2偏光子13が配置された構造とされている。それぞれの素子11,12,13はそれぞれ一定厚みの板状であり平行に配置されている。ファラデー回転子11と、その両側に配置された第1偏光子12および第2偏光子13とは、例えば、接着剤を用いて一体に接着固定されている。なお、接着剤は、素子11,12,13と同じ屈折率を持つものが適しており、接着剤の種類としては、アクリル系やエポキシ系の熱硬化型、UV硬化型、両者の併用タイプのものが使用される。勿論、接着剤ではない他の透明媒体、例えば空気等を介して配置されていても良い。
 ファラデー回転子11は、テルビウム(Tb)、ガドリニウム(Gd)またはホルミウム(Ho)を添加したビスマス(Bi)置換ガーネットまたはYIGガーネット、さらには磁石が不要な自己バイアス型のものが用いられる。ファラデー回転子11の表面に、例えば、チタニア(TiO)およびシリカ(SiO)、または、5酸化2タンタル(Ta)およびSiO等の多層膜で構成される反射防止膜を形成してもよい。このような反射防止膜を用いれば、ファラデー回転子11の表面における光の反射を反射量0.2%以下にすることができる。ファラデー回転子11の厚みは、ファラデー回転子11の材質の種類と使用する光の波長にあわせて、ファラデー回転角が例えば45°になるような厚みに調整されている。具体的に、材質の種類と使用する波長によって異なるがおおむね、0.2~0.5mmの厚みを有する。そして、順方向光に対して、第1偏光子12と第2偏光子13の透過偏波面が互いに45°になるように配置される。
 吸収型偏光子には、タイプAとタイプBがある。光アイソレータ素子1の第1偏光子12は、表面または内層に含まれる金属粒子層に分布する金属粒子の密度が第2偏光子13の表面または内層に含まれる金属粒子層に分布する金属粒子の密度より小さいタイプAの偏光子である。これに対して、第2偏光子13は、表面または内層に含まれる金属粒子層に分布する金属粒子の密度が第1偏光子12の表面または内層に含まれる金属粒子層に分布する金属粒子の密度より大きいタイプBの偏光子である。
 なお、図1ではファラデー回転子11の左側に第1偏光子11を配置し、右側に第2偏光子13を配置した例を示しているが、その逆に配置されても全く同じである。光アイソレータ素子1は、ファラデー回転子11のいずれか一方の面にタイプAの偏光子、他方の面にタイプBの偏光子が配置されたものである。または、ファラデー回転子11を挟んでタイプAおよびタイプBの偏光子を対向させて配置されたものである。
 図10AはタイプAの偏光子を模式的に表した斜視図、図10BはタイプBの偏光子を模式的に表した斜視図である。タイプAおよびタイプBの偏光子は、表面に近い偏光子内部に金属粒子M1,M2が散在している。いくつかの金属粒子M1,M2は偏光子の1軸方向(図10A,図10Bにおいては上下方向)に長径を有する細長い形状を有している。図10Aに示すタイプAの偏光子には、深さD1の金属粒子層71に金属粒子M1が散在し、図10Bに示すタイプBの偏光子には、深さD2の金属粒子層72に金属粒子M2が散在している。
 なお、図10A,図10Bは金属粒子層71,72が偏光子の表面付近に形成されている例を示すが、金属粒子層71,72が偏光子の内部に形成されていてもよい。この場合は、金属粒子M1,M2の密度が偏光子の内部において最も高くなる。ここで、金属粒子層71,72の深さD1,D2は、TEMを用いた断面観察によって金属粒子M1,M2の存在が確認される金属粒子層71,72の厚さで定義される。
 図10A,図10Bに示すように、タイプBの偏光子の表面または内層に分布する金属粒子層72の厚みD2は、タイプAの偏光子の金属粒子層71の厚みD1の1/2以下である。そして、タイプAの偏光子では、表面または内層に分布する金属粒子M1の分布密度がタイプBの偏光子より小さく、分布する金属粒子M1の分布厚さD1がタイプBの偏光子の分布厚さD2より厚い。
 タイプAの偏光子は、先ず石英ガラス等のガラス中に銅(Cu),銀(Ag),またはカドミウム(Cd)等のハロゲン化物結晶を形成させる。このガラスおよびハロゲン化物結晶を加熱により軟化させてガラスとともに一方向に延伸しつつ、水素雰囲気中で加熱還元してガラス表面に金属粒子M1を析出させたものである。ハロゲン化物結晶は、延伸される過程において一部が一方向に配向された針状結晶となり、還元されて針状の金属粒子M1が形成される。
 このタイプAの偏光子は、ハロゲン化物結晶表面または、ハロゲン化物結晶内部に形成された金属粒子M1が、偏光子表面から20μm以上の深さまで分布している。しかし、金属粒子M1の分布密度が低いため、表面層の屈折率は母材(石英ガラスであればn=1.46)と同程度となっている。金属粒子M1の分布密度が低いため、偏光子内の屈折率はほぼ一定の値となり、対空気に対して偏光子の反射は4%程度のほぼ安定した反射率となる。表面にTiO/SiOまたはTa/SiO等の多層膜で構成されたARコートを施すことにより、反射率を0.5%未満にすることが可能である。しかしながら、金属粒子M1の分布深さD1が深いため、厚みが薄い偏光子を作製する等の目的には不適である。具体的に、タイプAの偏光子の厚みは、0.1~1mmの範囲である。
 タイプBの偏光子は、スパッタリング等でガラス等の母材表面に金属粒子M2を埋め込み、これを加熱してガラスとともに一方向に延伸することによって、針状の金属粒子M2を一方向に配向させ、偏光機能を発揮するものである。ガラス中にハロゲン化物を含まないという特徴があり、金属粒子M2はガラス表面から高々10μmの範囲に分布している。金属粒子M2には、タイプAの偏光子と同じく銅または銀等の金属が使用される。
 タイプBの偏光子は、遮断偏光方向(遮断される方向の偏波面を有する)の光に対して母材表面近くでの金属粒子M2の密度が高いため、屈折率が高くなり、対空気層に対して偏光子の反射は4~15%程度の反射が発生する。遮断偏光方向の光に対しては、ARコートを表面に施しても、0.5~11%程度の反射が発生する。透過偏光方向(透過される偏波面を有する)の光に対しては、金属粒子M2は光を透過させる。屈折率は母材のガラスと同程度の一定の値となり、反射率は、対空気層に対して4%程度の安定した反射率となる。この場合は、ARコートを表面に施すことにより0.5%未満程度の反射率にすることが可能となる。母材表面での金属粒子M2の分布密度を低くした場合は、偏光子の消光比が劣化するためアイソレータ素子1に使用する偏光子としては不適となる。本タイプBの偏光子は、母材表面に金属粒子M2が集中しているため、厚みが薄い偏光子を作製する等の目的には好適である。具体的に、タイプBの偏光子の厚みは、0.03μm~1mmの範囲で作製することができる。
 金属粒子M1,M2の分布密度は、偏光子を薄くカットした断面をTEMにて観測することによって確認することが可能である。観測された金属粒子M1,M2は、EDS(エネルギー分散型X線分析)を用いて、金属の種類を特定することができる。なお、母材表面から金属粒子M1,M2が観測されなくなる深さを分布深さとする。タイプBの偏光子は、母材内部に金属原子を含まないので、XPS(X線光電子分光分析)等の元素分析機器にて分布深さを調べることも可能である。タイプAの偏光子では、金属粒子M1,M2として析出していないハロゲン化金属を母材中に含むため、XPSによる分析で分布深さを特定することは困難である。
 タイプAの偏光子は、金属粒子の密度が全体に低いが分布深さは深く、50μm付近まで分布しているという特徴を持っている。それに対してタイプBの偏光子では、表面付近の分布密度は高いが分布深さは浅く、金属粒子が高々深さ10μmの表面付近に集中しているという特徴を持っている。吸収型偏光子は、消光比特性を向上させるため、偏光子の両側表面に金属粒子を含む層が形成されている。タイプAの偏光子の場合は、金属粒子の分布深さが深いため、両面に金属粒子層を形成した場合は、偏光子を薄くするのはさらに困難である。
 このようにタイプBの偏光子は、金属粒子の分布深さがタイプAの1/2以下の深さとなっている。そして、両タイプの偏光子を組み合わせて光アイソレータ素子1とすることで、アイソレーション特性の劣化を改善することが可能である。これを図4を用いて説明する。
 図4Aは、第1偏光子12にタイプAの偏光子、第2偏光子13にタイプBの偏光子を用いたものである。逆方向の入射光41が入射した場合、第2偏光子13の高屈折率な金属粒子層13aで入射光41の一部が反射し、反射光42が発生する。しかし、第1偏光子12には高屈折率な層が無いため、第1偏光子12による反射光43はほとんど生じない。実際、タイプAの第1偏光子12の表面12aの反射は、0.5%以下であり、アイソレーション特性に影響を与える程の反射光43を生じる虞は少ない。なお、反射光42はファラデー回転子11内を往復することになるので、第1偏光子12で大半吸収されてしまう。
 また、図4Bのように、第2偏光子13側から逆方向の入射光41が入射した場合には、タイプAの第1偏光子12には高屈折率な層がないため、逆方向の入射光41は、第1偏光子12の金属粒子層12aでほとんど反射光42を生じない。したがって、反射光42が第2偏光子12の金属粒子層12aで反射したとしても、反射光43は非常に小さなもので、アイソレーション特性を劣化させる虞は少ない。
 このような本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子1は、複数枚重ねて用いることができ、アイソレーション特性をさらに向上させることができる。このような複数枚重ねて用いた光アイソレータ2の例を図2A,図2B,図2Cを用いて説明する。
 図2Aの光アイソレータ素子2は、第1偏光子23および第4偏光子26にタイプBの偏光子を用い、第2偏光子24および第3偏光子25にタイプAの偏光子を用いた例を示す。図2Bの光アイソレータ素子2は、第1偏光子23および第4偏光子26にタイプAの偏光子を用い、第2偏光子24および第3偏光子25にタイプBの偏光子を用いた例を示す。図2Cの光アイソレータ素子2は、第1偏光子23にタイプBの偏光子を用い、第2偏光子24、第3偏光子25、第4偏光子26はタイプAの偏光子を用いた例を示している。
 タイプBの偏光子をできるだけ多く使用した方が光アイソレータ素子2の厚みを薄くする等の目的のためには望ましいが、図2Cのように本発明の一実施形態に係る光アイソレータ素子1に従来型のタイプAを両側に用いた光アイソレータ素子を重ねて用いることは可能である。なお、第2偏光子24および第3偏光子25は偏光方向が同じになるように方向を合わせて重ねる必要がある。
 図2A,図2B,図2Cでは、図1の光アイソレータを2段に重ねて組み合わせた例を示したが、3段以上組み合わせて構成することもできる。また、図2A,図2B,図2Cでは図1の光アイソレータを多層に組み合わせる場合の全ての例を示していないが、重ね方に制限はなく、この他の重ね方も可能である。例えば、第1偏光子23および第3偏光子25をタイプBの偏光子とし、第2偏光子24および第4偏光子26がタイプAの偏光子としてもよい。
 次に本発明の別の実施形態に係る光アイソレータ素子3を図3A,図3Bを用いて説明する。
 本実施形態の光アイソレータ素子3は、ファラデー回転子が2枚使用されたもので、図2A,図2B,図2Cに示す光アイソレータ素子2に比較して、アイソレーションは、低くなるが、図1に示す光アイソレータ素子1に比較して十分高いアイソレーション特性を得ることができ、図2A,図2B,図2Cに示す光アイソレータ素子2に対して薄型化できるというメリットがある。
 本実施形態の光アイソレータ素子3は、第1偏光子33、第1ファラデー回転子31、第2偏光子34、第2ファラデー回転子32および第3偏光子35が一列に並べて配置され、これらを積層して固定した構造とされている。各素子33,31,34,32,35は平行に配置されている。第1ファラデー回転子31および第2ファラデー回転子32には、図1に示すファラデー回転子11と同じものを使用することが可能である。そして、順方向光に対して第2偏光子34は第1偏光子33の透過偏波面に対して45°となるように配置され、第3偏光子35は第2偏光子34の透過偏波面に対して45°となるように配置される。
 図3Aの光アイソレータ素子3は、第1偏光子33および第3偏光子35にタイプBの偏光子を用い、第2偏光子34にタイプAの偏光子を用いた例を示す。図3Bの光アイソレータ素子2は、第1偏光子33および第3偏光子35にタイプAの偏光子を用い、第2偏光子34にタイプBの偏光子を用いた例を示している。光アイソレータ素子3としては、図3A,図3Bの例のどちらでも用いることができる。
 なお、図3Bの例において、タイプBの偏光子を第2偏光子34に配置する例を示したが、タイプBを1枚使用する場合、タイプBの偏光子は第2偏光子34に限られることはなく、第1,第2,第3偏光子33,34,35のいずれか一枚に用いることでもよい。このように、第1,第2,第3偏光子33,34,35のいずれか一枚の偏光子が金属粒子層に分布する金属粒子密度が大きいタイプBの偏光子とすればよい。
 ただし、図3Aの構成とすると、より薄型の光アイソレータ素子3とできる可能性があり望ましい。これら光アイソレータ素子3のアイソレーション特性について、図5を用いて説明する。
 図5Aは図3Aの光アイソレータ素子3を用いた場合を示す。逆方向の入射光41に対し、タイプBの第3偏光子35の金属粒子層35aで反射した反射光42が発生する。反射光42は、偏光子34がタイプAの偏光子であるため、金属粒子層34aでほとんど反射されず、したがって第2偏光子34の金属粒子層34aで反射される反射光43は小さなものとなる。また、反射光42は、第2ファラデー回転子32内を往復することになるので、第2偏光子34に戻ってきたときには偏光方向が90°回転しており、第2偏光子34を通過して第1偏光子33に到達する光は小さなものとなる。したがって、光アイソレータ素子3から出射される反射光43はアイソレーション特性を劣化させる程ではなくなる。
 図5Bの光アイソレータ素子3は図3Bの光アイソレータ素子3を用いた場合を示す。逆方向の入射光41は、第3偏光子35がタイプAの偏光子であるため、金属粒子層35aでほとんど反射されず、反射光42は小さなものとなる。また、第2偏光子34の表面で生じた反射光44は、第1偏光子33がタイプAの偏光子であるため、第1偏光子33でほとんど反射されず、反射光45は小さなものとなる。したがって、反射光44および反射光45は小さなものとなり、アイソレーション特性の劣化を生じる程ではない。図3Bでは、第2偏光子34にタイプBの偏光子を用いたが、第1偏光子33または、第3偏光子35にタイプBの偏光子を用いた場合でも同様の効果を得ることができる。
 図6に光アイソレータ素子1,2,3を用い、光モジュールの一部を構成する光アイソレータ素子付き光ファイバ保持部品を構成する場合の例を断面図で示す。この光アイソレータ素子1,2,3付き光ファイバ保持部品は、光ファイバ53を保持したフェルール51が保持部材52によって保持されている。フェルール51の先端面は光軸に対し斜め鏡面研磨が施されている。そして、光アイソレータ素子1,2,3のいずれかがフェルール51の先端面に接着剤等で固定されている。例えば、この図6に示すような光ファイバ保持部品を発光素子(不図示)が実装されたパッケージの光出力部等に用い、発光素子から出射された光信号の光路中に光アイソレータ1,2,3が挿入されることによって、光モジュールが構成される。なお、54は光アイソレータ1,2,3の外側に配置された磁石を示す。
 このように、発光素子から出射された光信号がレンズ等によって集光され、この集光ビームが光ファイバ53の先端に入射されるようにする場合、光アイソレータ素子1の配置を光モジュールの使用用途に合わせ選択するのが良い。すなわち、フェルール51の先端面にタイプAの偏光子12、反対側がタイプBの偏光子13となるように光アイソレータ1を配置するとよい。
 このことを、図7を用いて説明する。発光素子からの集光ビーム55は、光ファイバ53の先端部付近で焦点を結ぶように設定される。光モジュールが光ファイバアンプに用いるポンプレーザモジュール等であり、光源出力が数10mW~数100mWクラスの大出力光である場合、金属粒子密度が大きいタイプBの第2偏光子13を透過する光ビーム径が、金属粒子密度が小さいタイプAの第1偏光子12の光ビーム径に対して大きくなるように光アイソレータ素子1を配置するのが好ましい。すなわち、発光素子側がタイプBの第2偏光子13、フェルール51の先端面側がタイプAの第1偏光子12となるように配置するのが好ましい。このように配置すると、タイプAに比較して金属粒子層の厚みが薄く、耐光性の低いタイプBの第2偏光子13が、ビームのエネルギー密度が小さいビーム径の側に配置されるので、有利である。
 また、フェルール51側から戻ってきた反射戻り光は、光ファイバ53のモードフィールド径程度のビーム径55で第1偏光子12に入射する。第2偏光子13に到達する際には、ビーム径が広がって大きくなっているので、第2偏光子13におけるビームのエネルギー密度は、第1偏光子12における密度に対して小さくなる。タイプBの偏光子は表面の金属粒子の密度が高く、タイプAに比較してビームが表面の金属粒子層で吸収され、局所的に過熱される傾向があって耐光性が低い。このため、ビーム径が大きくなる側の第2偏光子13にタイプBの偏光子を使った方がよい。
 図7では、図1のアイソレータ素子1を用いて説明したが、図2A,図2B,図2C,図3A,図3Bのアイソレータ素子2,3においても同様であり、ビーム径がより大きい側にタイプBの偏光子が配置されるようにするのがよい。また、本説明では、光ファイバ保持部品について説明したが、光レセプタクルに対して使用する場合、また、アイソレータ素子単体で光アイソレータを構成する場合も、同様にビームのエネルギー密度が低い方にタイプBの偏光子を配置するようにすると耐光性を向上させることができる。
 一方で、光モジュールが、光変調器、特に10Gb/s~40Gb/s程度で高速度に直接変調を行う場合、光アイソレータ1の配置は、図8に示すようにフェルール51の先端面にタイプBの第2偏光子13、反対側にタイプAの第1偏光子12となるようにするのがよい。
 このことを図11を用いて説明する。フェルール51側から戻ってきた反射戻り光56のうち、遮断偏光方向の光成分は、偏光子の金属粒子層に一旦吸収されて熱に変換されるが、一部が熱放射光57として再放射される。この時の放射方向は偏光子の法線方向を中心に広範囲に及ぶため、その一部が光ファイバ53に再度結合すると、光信号に対しノイズとなる。
 第2偏光子13がタイプBの偏光子であった場合、フェルール51側から戻ってきた反射戻り光56のうち、遮断偏光方向の光成分の一部が高屈折率な金属粒子層13aで反射されて反射光58になる。この時の反射角θは、第2偏光子13への入射角φに等しいため、光ファイバ53に対して大きな角度を持つ。従って、この反射光58は光ファイバ53へ結合し難い。また、反射されなかった遮断偏光方向の光成分は、金属粒子層で吸収された後に一部が熱放射光57として放射されるが、反射光58として反射された分、第2偏光子13の金属粒子に吸収される光が小さくなるため、吸収により生じる放射光57も少なくなる。従って、光ファイバ53と再結合する光の強度が小さくなり、光信号に対するノイズ成分も減少する。
 なお、第2偏光子13の金属粒子層13aをファラデー回転子11側に配置することにより、光ファイバ53と金属粒子層13aとの間隔が広がるため、金属粒子層13aで生じた放射光57が光ファイバ53により結合し難くなり、光信号に対するノイズもより減少する。
 図6に示す光アイソレータ素子付き光ファイバ保持部品を構成する場合、このように集光ビームの焦点となる光ファイバ53の端面に光アイソレータ素子1,2,3を固定すれば、半導体レーザ等の発光素子(不図示)から放射された光がレンズ(不図示)を介して集光され、光のスポット径が小さくなる場所に、光アイソレータ素子1,2,3が設置されるため、光アイソレータ素子1,2,3のサイズを小さくできるという利点がある。そして、本発明の実施形態に係る薄型の光アイソレータ素子1,2,3を用いれば、さらに小型でアイソレーション特性に優れる光ファイバ保持部品を提供することができる。
 次に、図3Aに示す実施形態の光アイソレータ素子3の実施例を示す。図3Aに示す光アイソレータ素子3を次の手順で作製した。
 第1ファラデー回転子31および第2ファラデー回転子32には、ビスマス置換型ガーネット((BiR)Fe12)から成る厚み0.45mmのファラデー回転子を用いた。これに、第2偏光子34としてタイプA、第1偏光子33および第3偏光子35としてタイプBの偏光子を用いた。
 タイプAの偏光子には、SiO+Bのガラス母材を用い、ガラス中に形成された銀のハロゲン化物結晶を加熱しつつ延伸して配向させ、水素雰囲気中で還元させた厚さ200μmのものを用いた。表面付近に析出された金属粒子(銀粒子)の分布深さが50μmのものを用いた。
 タイプBの偏光子には、同じくSiO+Bのガラス母材を用い、スパッタリングによってガラス中に形成された銀粒子を加熱しつつ延伸して作製した厚み80μmのものを用いた。表面付近の銀粒子の分布深さは5μmであった。
 これらの素子を光学調芯した後に、UV熱硬化併用接着剤を用いて接着し、その後、ダイサーを用いて幅0.5mm×奥行0.6mmの長方形のサイズに切り分け、光アイソレータ素子1を作製した。
 次に比較例1として、従来の光アイソレータ素子を作製した。第1ファラデー回転子と第2ファラデー回転子は前述したファラデー回転子31,32と同じものを用い、第1偏光子、第2偏光子および第3偏光子には、前述した第2偏光子34と同じタイプAの偏光子を用いた。これをダイサーによって0.5mm×0.6mmのサイズに切り分け、従来の光アイソレータ素子を作製した。
 さらに比較例2として、第1偏光子、第2偏光子および第3偏光子に、前述した第1偏光子33と同じタイプBの偏光子を用いたものを作製した。
 そして、これらの光アイソレータ素子2および比較例1、比較例2の光アイソレータ素子の厚みとアイソレーション特性を測定した。アイソレーション特性の測定は、波長1550nm、直径0.3mmのビーム径のコリメータ光学系に、各光アイソレータ素子を光透過方向と反対方向に挿入し、パワーメータで、その出力光強度を測定して求めた。なお、それぞれ1個ずつ評価を実施した。その結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示すように、比較例1では、厚み1.508mm、アイソレーション特性61.8dB、比較例2では、厚み1.145mm、アイソレーション特性19dBであるのに対して、本発明の一実施形態による光アイソレータ素子2では、厚み1.266mm、アイソレーション特性が62.3dBとなり、アイソレーション特性において比較例1とは遜色なく、比較例2に対しては格段に向上していることが確認できた。また、小型化も達成出来ていることが認められた。
 以上の結果から、本発明の各実施形態に係る光アイソレータ素3によれば、一列に並べて配置された光吸収型の第1偏光子33,第2偏光子34,第3偏光子35と、第1偏光子33および第2偏光子34の間に配置された第1ファラデー回転子31と、第2偏光子34および第3偏光子35の間に配置された第2ファラデー回転子32とを備えた光アイソレータ素子2の、第1偏光子33および第3偏光子35の組にタイプBの偏光子を用い、第2偏光子34にタイプAの偏光子を用いることにより、アイソレーション特性の劣化を生じないアイソレータ素子3が得られることが解った。また、これによってアイソレータ素子3を小型化することもできる。
 なお、本発明は上述の実施の形態および実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施の形態の一例では偏光子のガラス母材としてSiO+Bを用いたが、Al等の他の酸化物系ガラス材料を使用してもよい。
 また、上記実施の形態の説明において上下左右という用語は、単に図面上の位置関係を説明するために用いたものであり、実際の使用時における位置関係を意味するものではない。
 1,2,3:光アイソレータ素子
 11:ファラデー回転子
 31:第1ファラデー回転子
 32:第2ファラデー回転子
 12,33:第1偏光子
 13,34:第2偏光子
 35:第3偏光子
 51:フェルール
 52:キャピラリ
 53:光ファイバ
 54:磁石

Claims (18)

  1. 光の偏光面を回転させるファラデー回転子と、該ファラデー回転子の一方面側に配置され、金属粒子が分布する金属粒子層を有する第1偏光子と、前記ファラデー回転子の他方面側に配置され、前記第1偏光子の金属粒子層に分布する金属粒子の密度より大きい密度で金属粒子が分布する金属粒子層を有する第2偏光子とを備えたことを特徴とする光アイソレータ素子。
  2. 前記第1偏光子の前記金属粒子層の厚みが前記第2偏光子の前記金属粒子層の厚みより厚いことを特徴とする請求項1記載の光アイソレータ素子。
  3. 前記第1偏光子の前記金属粒子層の厚みが前記第2偏光子の前記金属粒子層の厚みの2倍以上であることを特徴とする請求項1記載の光アイソレータ素子。
  4. 前記第1偏光子は、透明基板上に物理的蒸着法により誘電体層と金属粒子層とを蒸着し、基板を延伸させることによって前記金属粒子層に含まれる金属粒子を細長い形状に成形した偏光子であり、前記第2偏光子は、ハロゲン化金属を含むガラス基材の表面近くにハロゲン化金属を還元させて形成された金属粒子を、基板を延伸させることによって細長い形状に成形した偏光子であることを特徴とする請求項1記載の光アイソレータ素子。
  5. 請求項1記載の光アイソレータ素子を複数枚重ねたことを特徴とする光アイソレータ素子。
  6. 一列に並べて配置され、金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の第1,第2,第3偏光子と、前記第1および第2偏光子の間に配置された第1ファラデー回転子と、前記第2および第3偏光子の間に配置された第2ファラデー回転子とを備えた光アイソレータ素子であって、前記第1,第2,第3偏光子のうち、いずれか一枚の偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度が他の偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度より大きいことを特徴とする光アイソレータ素子。
  7. 前記第1,第2,第3偏光子のうち、いずれか一枚の偏光子の前記金属粒子層の厚みが他の偏光子の前記金属粒子層の厚みより薄いことを特徴とする請求項6記載の光アイソレータ素子。
  8. 前記第1,第2,第3偏光子のうち、いずれか一枚の偏光子の前記金属粒子層の厚みが他の偏光子の前記金属粒子層の厚みの1/2以下であることを特徴とする請求項6記載の光アイソレータ素子。
  9. 前記第1,第2,第3偏光子のうち、いずれか一枚の偏光子は、透明基板上に物理的蒸着方法により誘電体層と金属粒子層とを蒸着し、基板を延伸させることによって前記金属粒子層に含まれる金属粒子を細長い形状に成形した偏光子であり、他の偏光子は、ハロゲン化金属を含むガラス基材の表面近くにハロゲン化金属を還元させて形成された金属粒子を、基板を延伸させることによって細長い形状に成形した偏光子であることを特徴とする請求項6記載の光アイソレータ素子。
  10. 一列に並べて配置され、金属粒子が分布する金属粒子層を有する光吸収型の第1,第2,第3偏光子と、前記第1および第2偏光子の間に配置された第1ファラデー回転子と、前記第2および第3偏光子の間に配置された第2ファラデー回転子とを備えた光アイソレータ素子であって、前記第1および第3偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度が、前記第2偏光子の前記金属粒子層に分布する金属粒子密度より大きいことを特徴とする光アイソレータ素子。
  11. 前記第1および第3偏光子の前記金属粒子層の厚みが前記第2偏光子の前記金属粒子層の厚みより薄いことを特徴とする請求項10記載の光アイソレータ素子。
  12. 前記第1および第3偏光子の前記金属粒子層の厚みが前記第2偏光子の前記金属粒子層の厚みの1/2以下であることを特徴とする請求項10記載の光アイソレータ素子。
  13. 前記第1および第3偏光子は、透明基板上に物理的蒸着方法により誘電体層と金属粒子層とを蒸着し、基板を延伸させることによって前記金属粒子層に含まれる金属粒子を細長い形状に成形した偏光子であり、前記第2偏光子は、ハロゲン化金属を含むガラス基材の表面近くにハロゲン化金属を還元させて形成された金属粒子を、基板を延伸させることによって細長い形状に成形した偏光子であることを特徴とする請求項10記載の光アイソレータ素子。
  14. 内部に発光素子を備え、前記発光素子から出射された光信号の光路中に請求項1記載の光アイソレータ素子が挿入されていることを特徴とする光モジュール。
  15. 前記発光素子から出射された集光ビームの途中に挿入され、前記第1偏光子を透過する光ビーム径が、前記第2偏光子を透過する光ビーム径に対して大きくなるように前記光アイソレータ素子が配置されていることを特徴とする請求項14記載の光モジュール。
  16. 内部に発光素子を備え、前記発光素子から出射された光信号の光路中に請求項6記載の光アイソレータ素子が挿入されていることを特徴とする光モジュール。
  17. 前記発光素子から出射された集光ビームの途中に挿入され、前記金属粒子層の金属粒子密度が大きい偏光子を透過する光ビーム径が、金属粒子密度が小さい偏光子を透過する光ビーム径に対して大きくなるように前記光アイソレータ素子が配置されていることを特徴とする請求項16記載の光モジュール。
  18. 内部に発光素子を備え、前記発光素子から出射された光信号の光路中に請求項10記載の光アイソレータ素子が挿入されていることを特徴とする光モジュール。
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