WO2010073422A1

WO2010073422A1 - 磁性光硬化性樹脂組成物およびそれを用いた磁性立体構造物

Info

Publication number: WO2010073422A1
Application number: PCT/JP2009/003011
Authority: WO
Inventors: 生田幸士; 小林謙吾
Original assignee: 独立行政法人科学技術振興機構
Priority date: 2008-12-26
Filing date: 2009-06-30
Publication date: 2010-07-01
Also published as: JP5535474B2; JP2010150441A

Abstract

　エポキシ系樹脂などの光硬化性樹脂にフェライトなどの磁性微粒子およびヒュームドシリカなどの増粘剤を添加し、撹拌することによって、磁性光硬化性樹脂組成物を得る。この磁性光硬化性樹脂組成物に光をスキャンさせながら照射して、所望２次元形状の光硬化層を形成し、この光硬化層を複数積み重ねて三次元構造体を造形することで磁性立体構造物を得る。この磁性立体構造物を用いて磁気アクチュエータやセンサを得る。これらはマイクロデバイス分野や医療分野などにおいて使用することができる。

Description

磁性光硬化性樹脂組成物およびそれを用いた磁性立体構造物

　本発明は、磁性光硬化性樹脂組成物およびそれを用いて得られる磁性立体構造物に関する。より詳しくは、本発明は、複雑な立体形状を有し且つ磁性を示す立体構造物を光造形法で容易に作成するための磁性光硬化性樹脂組成物、およびこの磁性光硬化性樹脂組成物を用いて得られる所望形状の磁性立体構造物、並びにそれを用いた磁気アクチュエータやセンサに関する。

　磁気駆動マイクロアクチュエータは、文字通り、磁気で駆動させるので、エネルギー供給のための配線を要せず、外部からの遠隔コントロールで閉空間における駆動が可能である。この特長はマイクロ流体デバイス内での流体制御や生体内での駆動などを可能とすることができる。そして、この特長を活かした様々な磁気駆動マイクロアクチュエータやセンサが開発されている。
　磁気アクチュエータやセンサ等に用いられる磁性構造物の作製方法としては、電気メッキ法、スパッタリング法、スクリーン印刷法等が知られている。しかしながら、これらの方法で作成可能な構造は基本的に２次元的な構造に制限される。別の方法として型成形法がある。この型成形法によって単純な３次元構造物の作製は可能であるが、複雑で小型の任意立体形状を持った構造物を作製することは困難である。また、磁性マイクロ部品を組み立てて立体マイクロマシンを作製した例はあるが、この方法は高度な技術を要するため、構造が小型化・複雑化するにつれて作製が困難になる。

　流動性の光硬化性樹脂に微粒子を混合してなる光硬化性樹脂組成物に、光をスキャンさせながら照射して、所望２次元形状の光硬化層を形成し、この光硬化層を複数積み重ねて三次元構造体を造形する方法（光造形法）が知られている（特許文献１および２）。
　この光造形法はラピッドプロトタイピングを基とした微細加工法であり、複雑な立体マイクロ構造物を容易に且つ短時間に作成可能な方法として期待されている。しかし、この方法に使用可能な材料は光で硬化する性質を持つ樹脂材料等に限定されるため、材料選択の幅が狭い。この光硬化性樹脂はその主成分が有機材料であるため、作製された立体構造物は強磁性を示さない。従って、従来の光造形法では、強磁性の構造物を作製することができなかった。

　光造形法に適用可能な機能性光硬化性樹脂組成物が種々提案されている。
　例えば、特許文献３には、ａ）光硬化性樹脂１００重量部に、ガラス繊維や炭素繊維などの補強剤１０～３０重量部を添加し、さらに１００～３００μｍφの鉄球などの磁性粉体を添加してなる組成物が記載されている。この組成物に磁場を掛けて磁性粉体を不規則運動させて補強剤の分布を均一にしながら光造形を行うことが記載されている。また、特許文献３には、ｂ）光硬化性樹脂１００重量部に、アエロジルアルミナオキサイドなどの増粘剤１～３０重量部を添加してなる組成物が記載されている。この組成物に上からガラス繊維などの補強剤を降り掛け、組成物の表面部に補強剤を混入させて光造形する方法が記載されている。この方法ｂ）では光走査する度に補強剤を降り掛けている。この方法ｂ）では、磁性粉体が用いられていない。

　特許文献４には、光硬化性樹脂に磁性粉３重量％以上１０重量％未満を混入させた光硬化性樹脂組成物が記載されている。特許文献４の段落番号［００１５］は磁性粉の量が１０重量％以上となると光硬化物の強度が低下する旨を教示している。特許文献４では、組成物の塗布面に磁場を印加し、塗布面に磁性粉による微細な凹凸を発生させた後にその塗布面を露光硬化させて光造形を行っている。この凹凸面の形成によって塗布樹脂のはじきによる塗布むらや塗布欠損の発生を抑制できると述べている。

　特許文献５には、光硬化性樹脂に磁性粉体を混入させた組成物が記載されている。特許文献５では、この組成物を塗布し、ローラー等でその表面を平滑化し、次いで露光硬化させている。そして、この平滑化の際に磁場を掛けている。この磁場印加によって、平滑化の際に使用する治具に組成物が付着することを防げると特許文献５は述べている。

　しかしながら、上記特許文献のいずれにも、光硬化性樹脂と磁性微粒子と増粘剤との組合せで含有してなる光硬化性樹脂組成物は開示されていない。また、上記特許文献等に記載されている光硬化性樹脂組成物は、流動性の高い光硬化性樹脂に磁性微粒子を添加しただけのものである。これらの組成物は磁性微粒子が凝集したり、沈殿したりするので、得られる構造物の品質が低下することがあった。そのため、磁性を有する立体構造物を光造形法で得ることは困難であった。

特開平４－９９２０３号公報特開平８－１５０６６２号公報特開平６－１７０９５４号公報特開２０００－３３６５２号公報特開平８－１１８４８０号号公報

　本発明の課題は、複雑な立体形状を有し且つ磁性を示す立体構造物を光造形法で容易に作成するための磁性光硬化性樹脂組成物を提供することである。
　また、本発明の別の課題は、この磁性光硬化性樹脂組成物を用いて所望形状の磁性立体構造物を提供し、それを用いた磁気アクチュエータやセンサを提供することである。

　本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、従来から知られている流動性の光硬化性樹脂に、磁性微粒子と増粘剤とを添加し、混ぜ合わせることによって得られる樹脂組成物を用いると、磁性と光硬化性とが両立され、複雑な立体形状を有し且つ磁性を示す立体構造物を光造形法で容易に作製できることを見出した。
　また、この樹脂組成物を用いて光造形を行うと、螺旋やシロッコファンなどの複雑な形状の立体構造物を短時間に作製でき、しかも、その構造物は強磁性を示すことを見出した。
　本発明は、これらの知見に基づきさらに検討することによって完成するに至ったものである。

　すなわち、本発明は、以下の態様を含むものである。
〔１〕　光硬化性樹脂、磁性微粒子、および増粘剤を含有してなる磁性光硬化性樹脂組成物。
〔２〕　光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたとき、磁性微粒子が５～８０重量部、増粘剤が１～２０重量部である、前記〔１〕に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
〔３〕　光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたとき、磁性微粒子が１０～５０重量部、増粘剤が５重量部である、前記〔１〕に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
〔４〕　光硬化性樹脂がエポキシ系樹脂である、前記〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
〔５〕　磁性微粒子がフェライト微粒子である、前記〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
〔６〕　増粘剤がヒュームドシリカおよび／または炭酸カルシウムである、前記〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。

〔７〕　前記〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物を光造形法によって硬化させて成る磁性立体構造物。
〔８〕　光造形法における光源が紫外線レーザーである、前記〔７〕に記載の磁性立体構造物。
〔９〕　前記〔７〕または〔８〕に記載の磁性立体構造物からなる磁気アクチュエータ。
〔１０〕　前記〔７〕または〔８〕に記載の磁性立体構造物からなるセンサ。

　本発明の磁性光硬化性樹脂組成物によれば、従来のものに比べ、複雑な任意立体形状を有する磁性立体構造物を容易に得ることができる。
　本発明の磁性立体構造物は、磁気アクチュエータやセンサを構成する構造物として用いられる。本発明の磁性立体構造物は、新たな磁気アクチュエータやセンサの開発に寄与し、それらはマクロデバイス分野や医療分野などの様々な分野での技術革新に貢献できる。
　本発明の磁性光硬化性樹脂組成物によれば、光造形法における立体構造物の作製時間が短縮され、ＣＡＥと連携させた数値解析によって最適形状の設計が可能で、磁気デバイス等の研究開発期間の短縮に大きく寄与するので、本発明は産業上の利用価値は非常に高いものである。

従来の光硬化性樹脂組成物における磁性微粒子の分散状態を観察した光学顕微鏡観察写真像を示す図。本発明の磁性光硬化性樹脂組成物における磁性微粒子の分散状態を観察した光学顕微鏡観察写真像を示す図。光造形装置の一例を示す要部概念図と磁性光硬化性樹脂組成物の硬化特性を示す図。本発明の磁性立体構造物の磁気特性を示す図。本発明の磁性立体構造物の例を示す図である。

　本発明の磁性光硬化性樹脂組成物は、光硬化性樹脂と、磁性微粒子と、増粘剤とを含有してなるものである。
　光硬化性樹脂は、Ｘ線、紫外線、可視光線などの光によって硬化し得る樹脂であれば特に制限されない。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂などが挙げられる。これらのうちエポキシ系樹脂が好ましい。光硬化性樹脂は光造形法に用いるために流動性を有することが好ましい。

　磁性微粒子は、磁性体からなる微粒子であれば特に制限されない。例えば、鉄、ステンレス鋼、ニッケル、希土類などの金属粉や合金粉；フェライト（酸化鉄）などの金属化合物粉；軟磁性体の粉末などが挙げられる。これらのうちフェライトが好ましい。磁性微粒子の含有量は特に制限されないが、光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたときに、磁性微粒子が好ましくは５～８０重量部、より好ましくは１０～５０重量部である。磁性微粒子が少なすぎると立体構造物の磁性が低下傾向になる。磁性微粒子が多すぎると加工性に影響が出る傾向がある。

　増粘剤は、磁性光硬化性樹脂組成物の粘性を高めることができるものであれば特に制限されない。例えば、ヒュームドシリカ、炭酸カルシウム、アエロジルアルミナオキサイドなどが挙げられる。これらのうちヒュームドシリカおよび／または炭酸カルシウムが好ましく、ヒュームドシリカが特に好ましい。増粘剤の含有量は特に制限されないが、光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたときに、増粘剤が好ましくは１～２０重量部、より好ましくは１～１０重量部、特に好ましくは５重量部である。

　本発明の磁性立体構造物は、本発明の磁性光硬化性樹脂組成物を光造形法によって硬化させてなるものである。光造形法は、光硬化性樹脂組成物に光を照射して、所望２次元形状の光硬化層を形成し、この光硬化層を複数積み重ねて三次元構造体を造形することができる方法であれば、特に制限されない。硬化方法として、１光子吸収を用いた硬化方法や多光子吸収を用いた硬化方法などを用いることができる。また露光方法として、レーザー走査方式、面露光方式などを用いることができる。さらに造形方法として、自由液面方式、規制液面方式、内部硬化方式などを用いることができる。

　光源は磁性光硬化性樹脂組成物を構成する光硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択できる。使用可能な光源として、例えば、固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザー、紫外線ランプなどが挙げられる。微細な加工が可能という観点からレーザーが好ましく、紫外線レーザーが特に好ましい。照射光の波長は使用する光硬化性樹脂に合わせて適宜選択することができる。露光機器としては、レーザー走査方式の場合は、ガルバノスキャナ、自動ステージ等を使用でき、面露光方式の場合は、液晶ディスプレイ、空間光変調器、デジタルミラーアレイ等を使用できる。
　上記のような光造形法で得られる本発明の磁性立体構造物は、磁気アクチュエータやセンサを構成する構造物として利用することができる。

　以下に実施例を示して本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。本発明の趣旨の範囲において変形、変更、修正または追加した態様のものも本発明の技術的範囲に属する。

　光硬化性樹脂に磁性微粒子を添加することによって、磁性と光硬化性を両立させた材料が得られることは知られている。例えば、紫外線硬化性膜厚フォトレジスト（ＳＵ－８；エポキシ系樹脂；マイクロケム社製）に磁性微粒子を添加してなる感光性磁性材料が知られている。しかし、紫外線硬化性膜厚フォトレジストは溶剤を多量に含んでいるので光造形法に適用することができない。

　本発明者らは、ポリマーマトリックスとして無溶媒の光硬化性樹脂を使用し、この樹脂に磁性微粒子を添加してみた。しかし、ただ単に磁性微粒子を光硬化性樹脂に添加しただけでは、磁性微粒子が凝集してしまう。そのことを比較例で示した。

（比較例）
　光硬化性樹脂（ＳＣＲ７７０；エポキシ系樹脂；ディーメック社製）９０重量％および平均粒子径１．３μｍの磁性微粒子（フェライト；ＦＡ－７００；戸田工業社製）１０重量％を自転公転式スーパーミキサＡＲＥ２５０（シンキー社製）を用いて１０分間撹拌して樹脂組成物を得た。撹拌停止直後の樹脂組成物をガラス板に滴下し、光学顕微鏡で磁性微粒子の分散状態を観察した。また撹拌停止から１時間経過後の樹脂組成物をガラス板に滴下し、光学顕微鏡で磁性微粒子の分散状態を観察した。その結果を図１に示す。

　図１から判るように、撹拌停止直後（図１（ａ））から既に凝集が始まり、１時間経過後（図１（ｂ））では完全に鎖状に凝集していた。これは磁性微粒子自体が持つ磁力によって、磁性微粒子が相互に引き合うためである。このような不均一凝集は、光造形の寸法精度低下、立体構造物の歩留まり低下、また得られるアクチュエータの性能劣化を引き起こす。また、磁性微粒子は光硬化性樹脂よりも比重が高いため、時間の経過に伴って磁性微粒子が沈殿してしまった。別の従来例としてセラミックや金属微粒子の分散のために界面活性剤を用いたものがあるが、界面活性剤を用いても磁性微粒子においては磁力の引力に打ち勝つだけの分散効果は得られなかった。

　そこで、本発明者らは、この凝集および沈殿を克服するために、光硬化性樹脂に磁性微粒子と増粘剤とを添加した。増粘剤の添加によって磁性光硬化性樹脂組成物の粘度が増加する。これによって、磁性微粒子は大きな粘性抵抗を受ける。この粘性抵抗は磁気による引力の抗力となり磁性微粒子の凝集を抑制する役割を果たす。しかも、本発明の磁性光硬化性樹脂組成物は塑性流体性を示すので、磁性微粒子の分散状態を長期間維持することができる。そのことを実施例１で示した。

（実施例１）
　光硬化性樹脂（ＳＣＲ７７０；エポキシ系樹脂；ディーメック社製）８５重量％、平均粒子径１．３μｍの磁性微粒子（フェライト；ＦＡ－７００；戸田工業社製）１０重量％および増粘剤（「アエロジル」；ヒュームドシリカ）５重量％を自転公転式スーパーミキサＡＲＥ２５０（シンキー社製）を用いて１０分間撹拌して樹脂組成物を得た。撹拌停止直後の樹脂組成物をガラス板に滴下し、光学顕微鏡で磁性微粒子の分散状態を観察した。また撹拌停止から１時間経過後の樹脂組成物をガラス板に滴下し、光学顕微鏡で磁性微粒子の分散状態を観察した。その結果を図２に示す。
　図２から判るように、撹拌停止直後（図２（ａ））において磁性微粒子は均一に分散していた。また撹拌停止直後（図２（ａ））とそれから１時間経過後（図２（ｂ））とで分散状態に大きな変化がなかった。この分散状態は１０日経過後においても維持されていたことが光学顕微鏡観察で確認された。また、磁性微粒子の自重による沈降はほとんど起こらなかったので、長期間保存が可能であった。
　このように、増粘剤を添加することによって、磁性光硬化性樹脂組成物の粘性が高くなり、磁性微粒子が長期間均一に分散した状態を維持できるようになる。その結果として、光造形における寸法精度の向上、歩留まりの向上が期待できる。

　次に、磁性光硬化性樹脂組成物の硬化特性を測定した。硬化特性の指標には、硬化幅と硬化深度の２つがある。これらは、光造形法における水平方向および垂直方向の分解能を示す。この指標によって光造形法の加工条件を決定することができる。従って、光造形法においては、これらの値を把握することは重要である。そこで、磁性微粒子含有量に対する磁性光硬化性樹脂組成物の硬化幅および硬化深度の影響を測定した。具体的な結果を実施例２に示した。

（実施例２）
　表１に示す組成比で、光硬化性樹脂（ＳＣＲ７７０；エポキシ系樹脂；ディーメック社製）に、増粘剤（「アエロジル」；ヒュームドシリカ）および平均粒子径１．３μｍの磁性微粒子（フェライト；ＦＡ－７００；戸田工業社製）を添加し、自転公転式スーパーミキサＡＲＥ２５０（シンキー社製）を用いて１０分間撹拌して磁性光硬化性樹脂組成物１～６をそれぞれ得た。

　図３（ａ）および（ｂ）に示すような光造形装置を用意した。図３（ａ）は底面図、図３（ｂ）は側面図である。この装置は、波長３２５ｎｍの紫外線レーザー（出力０．６ｍＷ、走査速度５０ｍｍ／ｓ）を焦点距離１００ｍｍの集光レンズで集光し、それを格子状にガルバノスキャナで走査照射して、光硬化性樹脂組成物を硬化させることができるようになっている。光硬化性樹脂組成物をカバーガラス２に滴下し、カバーガラス側からレーザービーム１を該液滴に照射した。光硬化性樹脂組成物の露光硬化後に、硬化物の付いたカバーガラスをエタノールに浸し、超音波洗浄器で振動撹拌して、未硬化部分を取り除いた。エタノールを乾燥によって十分に除去した。これによって図３（ａ）に示すような格子状の硬化物を得た。格子状硬化物の幅（すなわち、硬化幅ＣＷ）を光学顕微鏡観察によって測定し、格子状硬化物の高さ（すなわち、硬化深度ＣＤ）を共焦点レーザー顕微鏡によって測定した。
　前記の磁性光硬化性樹脂組成物１～６を用いた結果を図３（ｃ）に示す。

　図３（ｃ）から判るように、硬化幅は磁性微粒子の含有率が高くなるにつれて僅かに大きくなった。これは、磁性微粒子の大きさの分だけ粗さが増加したためであると考えられる。硬化深度は、磁性微粒子の含有率が高くなるにつれて減少した。磁性微粒子を５０重量％添加した磁性光硬化性樹脂組成物６は、磁性微粒子を添加しなかった光硬化性樹脂組成物１に比べて約１／５の硬化深度であった。これは、磁性微粒子がレーザー光の進路を遮り、深部にまでレーザー光が到達できなくなるからであると考えられる。このことから、磁性微粒子の添加量を多くすることによって、垂直方向の分解能を大幅に向上できることがわかる。

（実施例３）
　実施例２で得られた磁性光硬化性樹脂組成物２～６を用いて、光造形装置で硬化させて１ｍｍ³の立方体を作製した。この立方体について振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて磁化特性を測定した。図４にその結果を示す。
　図４からわかるように、磁性微粒子の含有率が増加するにつれて残留磁束密度が比例して増加することが確認できた。磁性微粒子５０重量％を混ぜた磁性光硬化性樹脂６の立方体では、最大エネルギー積が０．２３ｋＪ／ｍ³であった。磁性微粒子を多くすることで高性能な磁気駆動アクチュエータを作成できることがわかる。ただ、反面、磁性微粒子を多くしすぎると加工面において影響が出ることがある。実際には所望の形状や必要とする性能を考慮して材料を選択することが望ましい。

（実施例４）
　本発明者らは本発明の磁性光硬化性樹脂組成物を用いて、３次元ＣＡＤで設計した形状データに基づいて磁性立体構造物を作製することに成功した。
　図５は実施例２で得られた磁性光硬化性樹脂組成物を用いて光造形法で作製した立体構造物の例を示すものである。
　図５（ａ）は、直径５００μｍ、長さ２ｍｍおよびピッチ１ｍｍの螺旋構造である。これは、磁性光硬化性樹脂組成物６を使用し、レーザー出力０．６ｍＷ、走査速度５０ｍｍ／ｓおよび積層間隔７μｍで光造形したものである。作製所要時間は３０分間であった。また、光造形の条件を変えることによって、直径１００μｍ、長さ１ｍｍおよびピッチ２００μｍの螺旋構造を作ることもできた（図５（ｂ））。これの作製所要時間は２０分間であった。

　図５（ｃ）は、外径５００μｍおよび高さ２５０μｍのファンである。これは、磁性光硬化性樹脂組成物４を使用し、レーザー出力０．３ｍＷ、走査速度２０ｍｍ／ｓおよび積層間隔１０μｍで光造形したものである。作製所要時間は１０分間であった。

　図５（ｄ）は、直径１ｍｍ、高さ７００μｍおよび羽根の長さ５０μｍのシロッコファンである。これは、磁性光硬化性樹脂組成物６を使用し、レーザー出力０．６ｍＷ、走査速度５０ｍｍ／ｓおよび積層間隔７μｍで光造形したものである。作製所要時間は２０分間であった。

　図５（ｅ）は、長さ２ｍｍおよび高さ７００μｍのカブト虫状マイクロ彫刻である。これは、磁性光硬化性樹脂組成物４を使用し、レーザー出力０．６ｍＷ、走査速度２０ｍｍ／ｓおよび積層間隔１０μｍで光造形したものである。作製所要時間は２０分間であった。

　このような複雑なマイクロ立体構造物をいずれも３０分間以内で作製できた。このように、高アスペクト比な形状や蓋状構造、３次元曲面、オーバーハング構造など複雑な形状の磁性立体構造物を容易に短時間に作製可能である。このような形状の立体構造物はＬＩＧＡプロセスによっても、またマイクロアセンブリングによっても容易に実現し得ないものであり、本発明の磁性光硬化性樹脂組成物によって初めて実現可能となったものである。これらの立体構造物は任意方向に着磁可能であり、強磁性アクチュエータとして利用することができる。

　以上述べたように、本発明者らは磁性と光硬化性とを両立させた新たなコンポジット材料である”磁性光硬化性樹脂組成物”の開発に成功した。そして、該組成物が光硬化性と磁性の両方を有していることを確認した。上記実施例では磁性微粒子としてフェライトのみを添加しているが、希土類や軟磁性体の微粒子を使用することもできる。したがって、要求される磁化特性に合わせて磁性微粒子を適宜選定することができる。最終的に、この材料を光造形法に適用し、従来技術では作り得なかった複雑な形状の磁性立体構造物が作製可能であることを実証した。この成果により新概念のマイクロデバイスの実現が期待できる。

１：　レーザービーム
２：　カバーグラス
３：　スペーサ
４：　硬化物
５：　未硬化部分
ＣＷ：硬化幅(Curing Width)
ＣＤ：硬化深度(Curing Depth)

Claims

　光硬化性樹脂、磁性微粒子、および増粘剤を含有してなる磁性光硬化性樹脂組成物。
　光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたとき、
　磁性微粒子が５～８０重量部、増粘剤が１～２０重量部である、請求項１に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
　光硬化性樹脂、磁性微粒子および増粘剤の合計を１００重量部としたとき、
　磁性微粒子が１０～５０重量部、増粘剤が５重量部である、請求項１に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
　光硬化性樹脂がエポキシ系樹脂である、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
　磁性微粒子がフェライト微粒子である、請求項１～４のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
　増粘剤がヒュームドシリカおよび／または炭酸カルシウムである、請求項１～５のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物。
　請求項１～６のいずれか１項に記載の磁性光硬化性樹脂組成物を光造形法によって硬化させて成る磁性立体構造物。
　光造形プロセスにおける光源が紫外線レーザーである、請求項７に記載の磁性立体構造物。
　請求項７または８に記載の磁性立体構造物からなる磁気アクチュエータ。
　請求項７または８に記載の磁性立体構造物からなるセンサ。