WO2009145339A1 - 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミドとその熱硬化物、およびこれらの製造方法 - Google Patents

線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミドとその熱硬化物、およびこれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2009145339A1
WO2009145339A1 PCT/JP2009/059938 JP2009059938W WO2009145339A1 WO 2009145339 A1 WO2009145339 A1 WO 2009145339A1 JP 2009059938 W JP2009059938 W JP 2009059938W WO 2009145339 A1 WO2009145339 A1 WO 2009145339A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
polyimide
film
linear
linear polyimide
polyimide precursor
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/059938
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
長谷川匡俊
北村直行
Original Assignee
Jfeケミカル株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jfeケミカル株式会社 filed Critical Jfeケミカル株式会社
Priority to US12/994,163 priority Critical patent/US20120088109A1/en
Priority to EP09754847.3A priority patent/EP2295489A4/en
Publication of WO2009145339A1 publication Critical patent/WO2009145339A1/ja

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F299/00Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
    • C08F299/02Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/101Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents
    • C08G73/1014Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents in the form of (mono)anhydrid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J179/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
    • C09J179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09J179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/06Lamination
    • H05K2203/065Binding insulating layers without adhesive, e.g. by local heating or welding, before lamination of the whole PCB
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

Definitions

  • Linear polyimide precursor Linear polyimide precursor, linear polyimide and its thermoset, and this.
  • the present invention has excellent processability, ie, organic solvent solubility and thermoplasticity, and also has a high adhesion to copper foil and non-thermoplastic polyimide film, high glass transition temperature and high toughness.
  • the present invention relates to a polyimide precursor, or a linear polyimide and its thermoset, and a method for producing them.
  • copper which is a raw material for electronic circuit boards for flexible printed circuit (FPC), chip-on-film (COF) and tape automated bonding (TAB), using these as heat-resistant adhesives. It is related to the tension laminate (CCL).
  • FPC flexible printed circuit
  • COF chip-on-film
  • TAB tape automated bonding
  • Polyimide has not only excellent heat resistance, but also chemical resistance, radiation resistance, electrical insulation, excellent mechanical properties, etc., so it is currently used for FPC, COF, TAB substrates and semiconductor devices. Widely used in various electronic devices such as protective films and interlayer insulating films in integrated circuits. In addition to these properties, polyimides have become increasingly important in recent years due to the simplicity of production methods, extremely high membrane purity, and the ability to improve physical properties using various available monomers.
  • polyimide As electronic devices become lighter and shorter, the required characteristics of polyimide also increase year by year. Not only solder heat resistance, but also the dimensional stability of the polyimide film against thermal cycling and moisture absorption, transparency, There is a growing demand for multifunctional polyimide materials that simultaneously satisfy multiple characteristics such as adhesiveness, molding processability, and fine processability such as through-holes.
  • CCL polyimide film and copper foil are affixed using epoxy adhesive, etc. 3 layers type
  • Polyimide varnish is applied to copper foil and then dried, or polyimide precursor (polyamide acid) varnish is applied After drying or imidization, or after forming a seed layer on the polyimide film by vapor deposition or sputtering, etc., a copper adhesive is formed to form a copper layer.
  • Non-adhesive type 3) Heat as an adhesive layer
  • a pseudo two-layer type using a plastic polyimide is known.
  • the two-layer CCL that does not use an adhesive is advantageous, but the polyimide film formation process by the casting method cannot be used on one side and the polyimide film.
  • the pseudo two-layer type by the thermal laminating method is excellent.
  • a polyimide for a double-sided copper-clad laminate As a polyimide for a double-sided copper-clad laminate, a low linear thermal expansion non-thermoplastic polyimide film having excellent dimensional stability is used as a core layer, and a thermoplastic polyimide layer is formed on both sides thereof.
  • a three-layer polyimide film is a non-thermoplastic type that is either coated with a thermoplastic polyimide varnish on both sides of a non-thermoplastic polyimide film that has been subjected to an adhesion-strengthening treatment such as electrical discharge treatment, or dried.
  • a polyimide type precursor layer is formed on both sides of the polyimide precursor layer and then imidized.
  • thermoplastic polyimide used in this case is designed to enhance the thermal meltability, so that the main chain skeleton is usually designed with a molecular structure to enhance molecular mobility by introducing asymmetrical bonds such as bending bonds such as ether bonds and meta bonds. .
  • increasing the thermoplasticity causes a significant decrease in the glass transition temperature, and it is not easy in terms of molecular design to achieve both thermoplasticity and a high glass transition temperature.
  • ULTEM1000 General Electric
  • ULTEM1000 is known as a commercially available polyimide that has both organic solvent solubility and thermoplasticity, but its glass transition temperature is 2 15 ° C and solder heat resistance is insufficient. It is not applicable for use.
  • thermoplastic polyimide layer used in pseudo-bilayer CCL is about 2500 ° C at maximum.
  • solder temperature is high, the adhesive strength is drastically lowered due to the sudden rise in temperature of the thermoplastic polyimide adhesive layer, which also affects the moisture adsorbed on the adhesive layer.
  • tetracarboxylic dianhydride having an asymmetric structure as an effective means for improving thermoplasticity without sacrificing glass transition temperature is disclosed (for example, see Non-Patent Document 1).
  • the polyimides obtained using a-B PDA have the disadvantages that they are not necessarily sufficiently soluble in organic solvents and film toughness. If a linear polyimide is obtained using an asymmetric structure-containing tetracarboxylic dianhydride instead of a-B PDA, it has high organic solvent solubility and high thermoplasticity while maintaining a high glass transition temperature. It is possible to provide an unprecedented material that satisfies all high film toughness.
  • Non-Patent Document 1 Macromolecules, 32 ⁇ , 387 (1999) Summary of the Invention
  • the object of the present invention is to have excellent processability, that is, organic solvent solubility and thermoplasticity, and high adhesion to copper foil and non-thermoplastic polyimide film, and high glass transition.
  • the object is to provide a linear polyimide precursor having both temperature and high toughness, or a linear polyimide and its thermoset, and a method for producing them. Furthermore, by using these as heat-resistant adhesives, etc., CCL of electronic circuit boards for FPC, COF and TAB is provided. Means for solving the problem
  • the following formula (1) still has an asymmetric structure represented by the following formula (3) obtained by imidizing the polyimide precursor represented by (2).
  • the inventors have found that the terminal reactive group-containing polyimide and its thermoset satisfy the above-mentioned required characteristics, and have completed the present invention.
  • the present invention is a repeating unit obtained from melofa dianhydride, diamine (NH 2 —A—NH 2 ) and monofunctional acid anhydride and represented by the following general formula (1) or (2)
  • a linear polyimide precursor characterized by containing; a linear polyimide characterized by containing a repeating unit represented by the following general formula (3); and the linear polyimide
  • a thermoset obtained by a crosslinking reaction.
  • A represents a divalent aromatic diamine residue or an aliphatic diamine residue
  • B represents a monofunctional acid anhydride residue
  • n represents the degree of polymerization.
  • the present invention provides the method for producing a polyimide according to the present invention, characterized in that the polyimide precursor of the present invention is subjected to a dehydration cyclization (imidation) reaction by heating or a dehydrating reagent; Glass transition temperature above 0 ° C and solubility in aprotic organic solvent is 10 mass. / 0 or more and peel strength when produced copper foil and laminate 1. 0 kgf both Z cm or more and, a breaking elongation 1 0% or more of the film toughness, the polyimide Domata of the invention the present The thermoset of the invention is provided.
  • a dehydration cyclization (imidation) reaction by heating or a dehydrating reagent
  • Glass transition temperature above 0 ° C and solubility in aprotic organic solvent is 10 mass. / 0 or more and peel strength when produced copper foil and laminate 1. 0 kgf both Z cm or more and, a breaking elongation 1 0% or more of the film toughness, the polyimi
  • the present invention is obtained by thermally laminating a non-thermoplastic polyimide film and a copper foil with the heat-resistant adhesive comprising the polyimide of the present invention; and the heat-resistant adhesive.
  • a copper clad laminate is provided.
  • the invention's effect According to the present invention, it has excellent processability, that is, organic solvent solubility and thermoplasticity, and also has high adhesion to copper foil and non-thermoplastic polyimide film, high glass transition temperature, and high toughness. It is possible to provide a linear polyimide precursor, or a linear polyimide and its thermoset, and a method for producing them. In addition, these can be used as heat-resistant adhesives to provide CC, etc. for electronic circuit boards for FPC, COF and TAB. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • tetracarboxylic dianhydride monomer used for producing the polyimide according to the present invention will be described.
  • PMDA pyromellitic acid dihydrate
  • MPDA merophanic acid dianhydride
  • a monofunctional thermal crosslinking agent for example, a dicarboxylic acid anhydride represented by the following general formula (8)
  • the heat-crosslinkable dicarboxylic acid anhydride represented by the formula (8) is not particularly limited as a usable reactive dicarboxylic acid anhydride.
  • nadic acid anhydride, maleic acid anhydride, citraconic acid anhydride examples include 4-phenyl ethynyl phthalic anhydride, 4-ethynyl phthalic anhydride, and 4-butyl phthalic anhydride.
  • nadic acid anhydride is preferably used from the viewpoints of thermal crosslinking reactivity, physical properties of the cured product, and cost.
  • the diimide site has a linear structure
  • the polyimide obtained using MPDA a three-dimensional bent structure is present in the main chain.
  • inter-polymer chain stacking is hindered, allowing molecular motion at high temperatures above the glass transition, resulting in high thermoplasticity.
  • a high glass transition temperature is maintained by suppressing the local internal rotation of the MPDA site due to the asymmetric structure.
  • Such a bent structure in the main chain can also be introduced by using meta-phenylenediamine represented by the following formula (9) as a diamine component.
  • the use of this has unfavorable consequences, such as a power that rarely contributes to improving the solvent solubility of the polyimide, often a dramatic decrease in the glass transition temperature.
  • R represents a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • diamine represented by the following formula (1 1) that is, 2, 2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenol) propane (hereinafter referred to as BAPP) ) It is preferable to use it alone or to use it as a copolymerization component.
  • MPDA tends to produce a cyclic oligomer as exemplified by the following formula (12) when it is combined with diamine to prepare a polyimide precursor or polyimide, due to the characteristic acid anhydride group bonding position.
  • Macromolecules 35 ⁇ , 8708 (2002), and when MPDA is used, the target linear high molecular weight polyimide precursor is difficult to obtain.
  • Cyclic oligomers are low in molecular weight and therefore have little entanglement between polymer chains and are expected to have higher thermoplasticity and solvent solubility than the corresponding linear polymers, but on the other hand the membrane properties are significantly reduced. There is a risk that it will not function as an adhesive.
  • the precursor is the timing when the viscosity of the polymerization reaction solution is traced to become the highest, and it is isolated as a high molecular weight linear polyimide precursor by dropping the polymerization solution into a poor solvent.
  • a chemical imidization reagent is added to the polymerization solution at the timing, or the polymerization solution is heated to reflux to cause a cyclic dehydration reaction (imidation reaction), thereby causing a high molecular weight linear polymer. Once imidized, it can no longer be converted to a cyclic oligomer.
  • the selection of the solvent used in preparing the polyimide precursor is also important.
  • the higher the solvent affinity for the polyimide precursor the more effective.
  • solvent molecules enter the polymer chain coil and the polymer chain expands, which makes it difficult for cyclic oligomers to be generated by reaction between the ends.
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • DMAc N-dimethylacetamide
  • the polyimide precursor is prepared as follows. First, the diamine component is dissolved in a polymerization solvent, MPDA powder represented by the formula (7) is added to this solution, then the reactive dicarboxylic acid anhydride powder represented by the formula (8) is added, and a mechanical stirrer is added. And stir at room temperature for 0.5 to 48 hours. At this time, the monomer concentration is 10 to 50% by mass, preferably 20 to 40% by mass. / 0 . By carrying out the polymerization in this monomer concentration range, a polyimide precursor solution having a uniform and higher degree of polymerization can be obtained.
  • the polymerization reaction solution is frequently sampled and the viscosity is measured, or the change in viscosity is traced with a stirrer equipped with a torque meter, so that the polymerization reaction time at which the solution viscosity is maximized can be accurately grasped and It is desirable to perform middization.
  • the synthesis of the polyimide precursor represented by the general formula (1) or the general formula (2) is specifically performed as follows.
  • a diamine component (P mole) is dissolved in a polymerization solvent, and a predetermined amount of MPDA powder (P—0.5 XQ mole) and then a thermal crosslinking reactive dicarboxylic acid anhydride (Q mole) are added to this solution.
  • a thermal crosslinking reactive dicarboxylic acid anhydride (Q mole) are added to this solution.
  • the polymerization solvent is not particularly limited, but N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-jetylacetamide, N, N-dimethylformamide, hexane Methyl phosphoramide, dimethyl sulfoxide, ⁇ -butyrolactone, 1,3-dimethy ⁇ / — 2 f midazolidinone, 1,2-dimethoxetitan bis (2-methoxetyl) ether, tetrahydrofuran, 1,4
  • Non-protonic solvents such as mono-dioxane, picoline, pyridine, acetone, black mouth form, tolenene, and xylene, and phenol, o-cresol, m-taresol, p-talezonore, o-black mouth phenol, m-chloro Protic solvents such as oral phenol and p-black oral phenol can be used. These solvents may
  • aromatic diamine that can be used in a range that does not significantly impair the required properties of the polyimide, but 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, p-phenylenediamine, m-phenol.
  • 2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane 2 from the viewpoint of preventing the formation of cyclic oligomers during the preparation of the polyimide precursor and ensuring the thermoplasticity and solubility of the polyimide.
  • 2-bis (4- (4-aminophenoxy) pheny ⁇ /) hex ⁇ ⁇ fnoreopropane 2,2-bis (4-aminopheny ⁇ hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl ether
  • Flexible diamines such as 3,3'-diaminodiphenyl ether, 2,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl refone, 3,3'-diaminodiphenylenos ⁇ / phone are preferred Used for.
  • the aliphatic diamine that can be used as long as the required properties of the polyimide are not significantly impaired is not particularly limited, but trans 1,4-diaminocyclohexane, cis 1,4-diaminocyclohexane, 1,4-Diaminocyclohexane (Transnosis Mixture), 1,3-Diaminocyclohexane, Isophorone Diamine, 1,4-Cyclohexanebis (methylamine), 2,5-bis (aminomethyl) Bisiki [2 2.1] Heptane, 2, 6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] Heptane, 3, 8-bis (aminomethyl) tricyclo [5. 2. 1.
  • Tetracarboxylic acid dianhydride components other than mesophaneic acid dianhydride may be partially used as long as the required properties and polymerization reactivity of the polyimide according to the present invention are not significantly impaired.
  • acid dianhydride which can be used for copolymerization pyromellitic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4 '_Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4 '— Biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-biphenol-sulfone tetracarboxylic dianhydride Anhydride, 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanoic acid dianhydride, 2,2'_bis (3,4-dicarboxyphenyl)
  • the polyimide precursor of the present invention is applied to a solution (varnish) or a substrate and dried to be used as a film, or after appropriately diluting the varnish, dropped into a large amount of poor solvent such as water or methanol. ⁇ Filtration ⁇ Drying and isolation as a powder.
  • the intrinsic viscosity of the linear polyimide precursor according to the present invention is preferably as high as possible from the viewpoint of the toughness of the polyimide film, but is preferably at least 0.1 d LZ g or more, and is 0.3 d LZ g or more. More preferably, it is particularly preferably 0.5 d LZ g or more.
  • the intrinsic viscosity value is less than 0.1 dL / g, the film-forming property is remarkably deteriorated, causing serious problems such as cracking of the cast film, and sufficient adhesive strength when used as an adhesive layer for CCL. May not be obtained. Further, from the viewpoint of handling the polyimide precursor varnish, it is desirable that the intrinsic viscosity value is lower than 5.0 d LZ g.
  • the alicyclic structure-containing polyimide of the present invention can be produced by subjecting the polyimide precursor obtained by the above method to a dehydration cyclization reaction (imidation reaction).
  • examples of usable forms of the polyimide include a film, a metal substrate Z polyimide film laminate, a powder, a molded body, and a solution.
  • a method for producing a polyimide film is described.
  • a solution of the polyimide precursor (varnish) is cast on a substrate such as an insoluble polyimide film, glass, copper, aluminum, stainless steel or silicon, and is heated in an oven at 40 to 180 ° C., preferably 50 to 1. Dry at 50 ° C.
  • the obtained polyimide precursor film is heated on a substrate in a vacuum, in an inert gas such as nitrogen, or in air, at a temperature of 200 to 400 ° C., preferably 25 to 300 ° C. By doing so, the polyimide film of the present invention can be produced.
  • the heating temperature is preferably 200 ° C.
  • the imidization is preferably performed in vacuum or in an inert gas, but if the imidization temperature is not too high, it may be performed in air.
  • the imidation reaction is carried out by immersing the polyimide precursor film in a solution containing a dehydration cyclization reagent such as acetic anhydride in the presence of a tertiary amine such as pyridine or triamine instead of thermally. It is also possible to do this.
  • a polyimide varnish can be obtained by previously introducing these dehydrating cyclization reagents into the polyimide precursor varnish and stirring the mixture at 20 to 100 ° for 0.5 to 24 hours. It is isolated as a polyimide powder by dripping and filtering this into a poor solvent such as water methanol. be able to.
  • a polyimide film can be produced by casting and drying the polyimide varnish on the substrate. This may be further heat-treated within the above temperature range.
  • the polyimide precursor varnish obtained by the polymerization reaction is diluted as it is or with the same solvent, and then heated to 150 to 200 ° C., so that the solvent used by the polyimide itself is used.
  • the polyimide solution (varnish) of the present invention can be easily produced.
  • polyimide powder When insoluble in a solvent, polyimide powder can be obtained as a precipitate.
  • toluene or xylene may be added to azeotropically distill off water which is a by-product of the imidation reaction.
  • a base such as r-picoline can be added as a catalyst.
  • the reaction solution can be dropped and filtered in a poor solvent such as methanol or methanol to isolate the polyimide as a powder.
  • the polyimide powder can be redissolved in the polymerization solvent to obtain a polyimide varnish.
  • the polyimide of the present invention can be polymerized in one step without isolating the polyimide precursor by reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine at high temperature in a solvent. At this time, the polymerization solution is kept in the range of 130 to 25 ° C., preferably 15 to 200 ° C. from the viewpoint of promoting the reaction.
  • the polyimide when the polyimide is insoluble in the solvent used, the polyimide is obtained as a precipitate, and when soluble, it is obtained as a polyimide varnish.
  • the polymerization solvent is not particularly limited, but usable solvents include, for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, and the like. Examples of such solvents include phenol solvents such as m-cresol and amide solvents such as NMP. In order to azeotropically distill water, which is a by-product of the imidation reaction, to these solvents, toluene or xylene can be added.
  • a base such as -picoline can be added as an imidization catalyst.
  • the solution can be dropped and filtered into a large amount of water or a poor solvent such as methanol to isolate the polyimide as a powder.
  • the powder can be redissolved in the solvent to obtain a polyimide varnish.
  • the polyimide film according to the present invention can also be formed by applying the polyimide varnish on a substrate and drying at 40 to 300 ° C.
  • a polyimide molded body can be produced by heating and compressing the polyimide powder obtained as described above at 200 to 45 ° C., preferably 25 to 43 ° C.
  • a dehydrating reagent such as N, N-dicyclohexadifluorotrifluoroacetic anhydride into the polyimide precursor solution and stir at 0 to 100 ° C, preferably 0 to 60 ° C.
  • polyisoimide which is an isomer of polyimide
  • the isoimidation reaction can also be performed by immersing the polyimide precursor film in a solution containing the dehydrating reagent.
  • the polyisoimide varnish can be easily converted into a polyimide by heat treatment at 25 ° C. to 3500 ° C. after film formation in the same procedure as described above.
  • the polyimide varnish of the present invention is coated on a copper foil or non-thermoplastic polyimide film. After drying, in a nitrogen atmosphere or in vacuum, 300 to 45 ° C., preferably 3 5 0 By heat-treating in the range of ⁇ 400 ° C., the terminal cross-linking group can be thermally cross-linked to improve the adhesive strength and membrane toughness.
  • an oxidation stabilizer In the polyimide of the present invention and its precursor, an oxidation stabilizer, a filler, an adhesion promoter, a silane coupling agent, a photosensitizer, a photopolymerization initiator, a sensitizer, an end-capping agent, and a cross-linking agent as necessary. Additives such as can be added.
  • a copper clad laminate After casting the polyimide varnish obtained as described above on the surface of the insoluble polyimide film, a copper clad laminate can be produced by placing the copper foil and heating and pressing.
  • FPC can also be fabricated by applying a photoresist to copper foil, pattern exposure, and etching the copper foil with a ferric chloride aqueous solution to form a circuit.
  • the glass transition temperature of polyimide is preferably 2700C or higher. Further, it preferably has a breaking elongation of 10% or more in the tensile test, and more preferably 20% or more. In addition, 10 mass in general-purpose organic solvents such as NMP and DMAc. It is preferable to dissolve at least 0, more preferably at least 20% by mass. Of the present invention Polyimide is more preferable as it has higher thermoplasticity. As an index of thermoplasticity, when a copper foil and a laminate are produced, the peel strength is preferably 1.0 kgf Zcm or more, more preferably 1.2 kgfZ cm or more.
  • the polyimide of the present invention has excellent processability, ie, organic solvent solubility, thermoplasticity, and has a high glass transition temperature and high toughness. Very useful.
  • a polyimide precursor or a polyimide 0.5 mass% solution (solvent: DMAc or NMP) was measured at 30 ° C. using a Ostwald viscometer.
  • the glass transition temperature of the polyimide film was determined from the loss peak at a frequency of 0.1 ⁇ and a heating rate of 5 ° CZ by dynamic viscoelasticity measurement using a Bruker Axne ⁇ ⁇ thermomechanical analyzer (TMA4000). .
  • thermomechanical analyzer (TMA4000), by thermomechanical analysis, a load of 0.58, a film thickness of 1111, and a temperature rise rate of 5 ° C.
  • the linear thermal expansion coefficient of the polyimide film was obtained as the average value at
  • a polyimide film (film thickness: 20 to 30 m) that had been vacuum-dried at 50 ° C for 24 hours was immersed in 25 ° C water for 24 hours, and then excess water was wiped off. The water absorption (%) was determined from the increase in mass.
  • a pseudo two-layer CCL was fabricated as follows.
  • the polyimide varnish of the present invention (solvent: NMP, concentration: 15 to 20 mass /.) was applied to the matte surface of electrolytic copper foil (F 2-WS, Furukawa Electric Co., Ltd .: 12 mm thickness), 120 ° It was dried at C for 2 hours and further dried at 250 ° C for 2 hours in the air.
  • press the non-thermoplastic polyimide film (Akane NP I: 25 ⁇ m thickness, manufactured by Kaneshi Co., Ltd.) on the surface of this thermoplastic polyimide film at 350 ° C for 30 minutes under 6.2 MPa. And thermocompression bonded to obtain a test piece.
  • 1,2,3,4,5,6,7,8-octahydrophenanthrene was synthesized by liquid phase oxidation reaction using permanganate-powered rhum as an oxidant. -1 101 18). ⁇ Synthesis of merophanic dianhydride>
  • BAPP 2, 2-bis (4-aminophenoxy) propane
  • NMP 25 melophanic dianhydride
  • MPDA melophanic dianhydride
  • NA nadic acid anhydride
  • the varnish did not precipitate or gely at all even when left at room temperature for 20 months, and showed very high solution storage stability.
  • the intrinsic viscosity of the polyimide precursor measured by a host viscometer at 30 ° C. and a concentration of 0.5 mass% in NMP was 43 dL, g.
  • a chemical imidating reagent noviridine acetate, volume ratio 7Z3, acetic anhydride amount: 5 times the molar amount of theoretical water removal
  • the obtained polyimide varnish was dropped into a large amount of methanol, and the terminal crosslinkable group-containing polyimide was isolated as a powder and vacuum-dried at 80 ° C. for 12 hours.
  • the terminal crosslinkable group-containing polyimide was isolated as a powder and vacuum-dried at 80 ° C. for 12 hours.
  • this polyimide powder showed high solubility at room temperature in DMAc, N, N-dimethylformamide, r_butyrolatatone, dimethyl sulfoxide, black mouth form, etc. in addition to NMP. It was.
  • this polyimide powder was redissolved in NMP (15-20% by weight) to make a varnish, which was coated on a glass substrate and dried with hot air at 80 ° C for 2 hours to further obtain a polyimide film.
  • a heat treatment is performed on the substrate in vacuum, and a film thickness of about 20 jt m is applied.
  • a polyimide film was obtained.
  • Three types of heat treatment conditions were applied: [1] 250 ° CZ for 2 hours, [2] 350 ° CZ for 2 hours, and [3] 400 ° C / 1 hour.
  • Table 1 shows the film property data.
  • the thermal crosslinking of the end groups hardly occurred, so the Tg of the polyimide film remained at 258 ° C.
  • the heat treatment at 350 ° C for 2 hours resulted in a Tg of 270 ° C will be 400.
  • Tg increased to 282 ° C after 1 hour of CZ heat treatment.
  • Polyimide precursor in the same manner as described in Example 1, except that pyromellitic dianhydride (hereinafter referred to as PMDA) was used as the tetracarboxylic dianhydride component instead of melophanic dianhydride. Then, chemical imidization reagent was added and imidization was attempted. However, physical properties could not be evaluated because the reaction solution gelled. This is due to the poor solubility of the polyimide due to the use of PMDA.
  • PMDA pyromellitic dianhydride
  • Example 2 Chemical imidization and film formation in the same manner as described in Example 1 except that MPDA and BAPP were reacted in equimolar amounts to polymerize a high molecular weight polyimide precursor without using NA, which is a terminal cross-linking agent. The physical properties were evaluated. Table 1 shows the physical property data. This polyimide film showed the same Tg and higher elongation at break as the cured film described in Example 1, but the peel strength remained at 0.84 kgf Zcm. table 1
  • the wire has excellent processability, that is, organic solvent solubility and thermoplasticity, and also has high adhesion to copper foil and non-thermoplastic polyimide film, high glass transition temperature and high toughness. It is possible to provide a linear polyimide precursor, or a linear polyimide and its thermoset, and methods for producing them. Furthermore, these can be used as heat-resistant adhesives to provide CC, etc. for electronic circuit boards for FPC, COF and TAB. Therefore, it can greatly contribute to the industry.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

線状ポリイミドは、メロファン酸二無水物、ジアミン(NH2-A-NH2)および一官能性酸無水物から得られ、下記一般式(3)で示される反復単位を含有する。 (式中、Aは二価の芳香族ジアミン残基または脂肪族ジアミン残基を表し、Bは一官能性酸無水物残基を表し、nは重合度を表す。) このポリイミドは、優れた有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、かつ銅箔や非熱可塑性ポリイミドフィルムとの高い接着力、高ガラス転移温度および高靭性を併せ持つ。

Description

明 細 書 発明の名称:線状ポリイミ ド前駆体、 線状ポリイミ ドとその熱硬化物、 およびこれ.
らの製造方法 技術分野
本発明は、 優れた加工性、 すなわち、 有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、 か つ銅箔や非熱可塑性ポリイミ ドフィルムとの高い接着力、 高ガラス転移温度および 高靭性を併せ持つ線状ポリイミ ド前駆体、 あるいは線状ポリイミ ドとその熱硬化物、 およびこれらの製造方法に関する。 さらには、 これらを耐熱性接着剤などとして利 用した、 フレキシブルプリント配線回路 (FPC) 、 チップオンフィルム (CO F) およびテープオートメ一テッドボンディング (TAB) 用電子回路基板の原反 材料である銅張積層板 (CCL) に関する。 背景技術
ポリイミ ドは優れた耐熱性のみならず、 耐薬品性、 耐放射線性、 電気絶縁性、 優 れた機械的性質などの特性を併せ持つことから、 現在 FPC、 COF、 TAB用基 材、 半導体素子の保護膜、 集積回路の層間絶縁膜など、 様々な電子デバイスに広く 利用されている。 ポリイミ ドはこれらの特性以外にも、 製造方法の簡便さ、 極めて 高い膜純度、 入手可能な種々のモノマーを用いた物性改良のしゃすさといつたこと から、 近年益々その重要性が高まっている。
電子機器の軽薄短小化が進むにつれてポリイミドへの要求特性も年々厳しさを增 し、 ハンダ耐熱性だけに留まらず、 熱サイクルや吸湿に対するポリイミ ドフィルム の寸法安定性、 透明性、 金属基板との接着性、 成型加工性、 スルーホールなどの微 細加工性など、 複数の特性を同時に満足する多機能性ポリイミ ド材料が求められる ようになってきている。
近年、 CCL用ベースフィルムや耐熱性接着剤としてのポリイミ ドの需要が飛躍 的に増加している。 CCLの構成は主に 3つの様式に分類される。 すなわち、 1) ポリイミ ドフィルムと銅箔とをエポキシ系接着剤などを用いて貼り付ける 3層タイ プ、 2 ) 銅箔にポリイミ ドワニスの塗付後乾燥または、 ポリイミ ド前駆体 (ポリア ミ ド酸) ワニスを塗布後、 乾燥 ·イミ ド化するか、 あるいはポリイミ ドフィルム上 に蒸着 ·スパッタなどによりシード層を形成後、 銅メツキして銅層を形成する無接 着剤 2層タイプ、 3 ) 接着層として熱可塑性ポリイミ ドを用いる擬似 2層タイプが 知られている。 ポリイミ ドフィルムに高度な寸法安定性が要求される用途では接着 剤を使用しない 2層 C C Lが有利であるが、 キャスト法によるポリイミ ド膜形成ェ 程は片面しカ^!用できず、 ポリイミドフィルムの両面に銅箔を貼り付ける場合 (両 面銅張積層板) 、 熱ラミネート法による擬似 2層タイプが優れている。
両面銅張積層板用ポリイミ ドとしては、 寸法安定性に優れた低線熱膨張性の非熱 可塑性ポリイミ フィルムをコア層としてその両面に熱可塑性ポリイミド層を形成 したものが用いられる。 このような 3層構造のポリイミ ドフィルムは、 放電処理な どで接着強化処理を施した非熱可塑性ポリイミ ドフィルムの両面に熱可塑性ポリィ ミドワニスを塗付 ·乾燥するか、 または非熱可塑タイプのポリイミド前駆体層の両 面に熱可塑性タイプのポリイミ ド前駆体層を形成した後、 イミド化して作製される。 この際用いられる熱可塑性ポリイミ ドは熱溶融性を高めるため、 通常、 主鎖骨格 がエーテル結合などの屈曲基ゃメタ結合などの非対称結合を導入して、 分子運動性 を高める分子設計がなされる。 しかしながら、 熱可塑性を高めようとするとガラス 転移温度の大幅な低下を招き、 熱可塑性と高ガラス転移温度を両立することは分子 設計上容易ではない。
例えば、 有機溶媒溶解性および熱可塑性を併せ持つ市販のポリイミ ドとして、 ULTEM1000 (General Electric社) が知られているが、 ガラス転移温度が 2 1 5 °C とハンダ耐熱性が不十分であり、 F P C用途に適用不可である。
現在、 擬似 2層 C C Lに使用されている熱可塑性ポリイミド層のガラス転移温度 は最大でも 2 5 0 °C程度である。 しかしながら、 近年、 ハンダの脱鉛化に伴い、 ポ リイミ ド接着剤のガラス転移温度のさらなる改善が強く求められている。 ハンダ温 度が高い場合、 熱可塑性ポリイミ ド接着層の急激な温度上昇により、 接着層に吸着 された水分も影響して接着力が急激に低下する深刻な問題が指摘されている。 ガラス転移温度を犠牲にすることなく、 熱可塑性を改善するために有効な手段と して非対称構造を有するテトラカルボン酸ニ無水物を使用する技術が開示されてい る (例えば、 非特許文献 1参照) 。 この技術によれば、 従来用いられていた下記式 (4) で表される対称構造の 3, 3', 4, 4' _ビフヱニルテトラカルボン酸二無 水物 (s—BPDA) の代わりに、 下記式 (5) で表される非対称構造の 2, 3, 3', 4'—ビフヱニルテトラカルボン酸二無水物 (a— BPDA) を使用し、 適当 な屈曲性ジァミンと組合せることで高いガラス転移温度を保持しながら熱可塑性を 同時に達成することが可能である。
Figure imgf000004_0001
し力 しながら、 a— B PDAを用いて得られたポリイミ ドは有機溶媒に対する溶 解性や、 膜靭性が必ずしも十分でないという欠点がある。 もし、 a— B PDAに代 わる非対称構造含有テトラカルボン酸二無水物を用いて線状のポリイミ ドが得られ れば、 高いガラス転移温度を保持しながら、 高い有機溶媒溶解性、 高い熱可塑性、 高い膜靭性を全て満足する従来にない材料を提供しうる。
しかしながら、 仮にそのような新規な非対称構造を有する線状のポリイミ ドが得 られたとしても、 上記優れた加工性と高い 性を保持しながら、 高ガラス転移温 度と、 銅箔や非熱可塑性ポリイミ ドフィルムに対する十分な接着強度 (目標値とし て、 1. 0 k g f Zcm以上のピール強度) とを両立させることは極めて困難な課 題である。 そのような材料は産業上極めて有益な擬似 2層 C C L用耐熱接着剤を提 供しうるため、 これまでその開発が待ち望まれていたが、 未だ開発されていないの が現状である。
非特許文献 1 : Macromolecules, 32卷, 387 (1999) 発明の概要
発明が解決しようとする課題 . 本発明の課題は、 優れた加工性、 すなわち有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、 かつ銅箔や非熱可塑性ポリイミ ドフィルムとの高い接着力、 高ガラス転移温度およ ぴ高靭性を併せ持つ線状ポリイミ ド前駆体、 あるいは線状ポリイミドとその熱硬化 物、 およびこれらの製造方法を提供することである。 さらには、 これらを耐熱性接 着剤などとして利用し、 F P C、 C O Fおよび T A B用電子回路基板の C C Lを提 供することである。 課題を解決するための手段
以上の問題を鑑み、 鋭意研究を積み重ねた結果、 下記式 (1 ) まだは (2 ) で表 されるポリイミ ド前駆体をイミド化した下記式 (3 ) で表される非対称構造を有す る末端反応性基含有ポリイミ ドおよびその熱硬化物が上記の要求特性を満たすこと を見出し、 本発明を完成するに至った。
すなわち、 本発明は、 メロファ 酸二無水物、 ジァミン (N H2— A— N H2) お よび一官能性酸無水物から得られ、 下記一般式 (1 ) または (2 ) で表される反復 単位を含有することを特徴とする線状ポリイミ ド前駆体;下記一般式 (3 ) で示さ れる反復単位を含有することを特徴とする線状ポリイミ ド;およぴ該線状ポリイミ ドを、 熱架橋反応させることによって得られたことを特徴とする熱硬化物を提供す る。
Figure imgf000006_0001
(式中、 Aは二価の芳香族ジァミン残基または脂肪族ジァミン残基を表し、 Bは一 官能性酸無水物残基を表し、. nは重合度を表す。 )
また、 本発明は、 前記本発明のポリイミ ド前駆体を、 加熱あるいは脱水試薬によ つて脱水環化 (イミ ド化) 反応させることを特徴とする前記本発明のポリイミ ドの 製造方法; 2 7 0 °C以上のガラス転移温度と、 非プロトン性有機溶媒への溶解度が 1 0質量。 /0以上と、 銅箔と積層体を作製した際のピール強度が 1 . 0 k g f Z c m 以上と、 破断伸び 1 0 %以上の膜靭性とを併せ持つ、 前記本発明のポリイミ ドまた は前記本発明の熱硬化物を提供する。
また、 本発明は、 前記本発明のポリイミドを含むことを特徴とする耐熱性接着 剤;および該耐熱性接着剤により非熱可塑性ポリイミ ドフィルムと銅箔とを熱積層 して得られたことを特徴とする銅張積層板を提供する。 発明の効果 本発明によれば、 優れた加工性、 すなわち有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、 かつ銅箔や非熱可塑性ポリイミ ドフィルムとの高い接着力、 高ガラス転移温度およ ぴ高靭性を併せ持つ線状ポリイミ ド前駆体、 あるいは線状ポリイミドとその熱硬化 物、 およびこれらの製造方法を提供することができる。 さらには、 これらを耐熱性 接着剤などとして利用し、 FPC、 CO Fおよび TAB用電子回路基板の CCしな どを提供することもできる。 発明を実施するための形態
次ぎに発明を実施するための最良の形態を挙げて本発明を詳細に説明する。
<分子設計 >
まず、 本発明に係るポリイミ ドを製造するために用いられるテトラカルボン酸二 無水物モノマーについて説明する。 本発明によれば、 汎用テトラカルボン酸二無水 物成分として従来から用いられている下記式 (6) で表されるピロメリット酸ニ無 水物 (以下 PMDAと称する) の代わりに、 その異性体である下記式 (7) で表さ れるメロファン酸二無水物 (以下 MPDAと称する) および一官能性の熱架橋剤、 例えば、 下記一般式 (8) で表されるジカルボン酸無水物を用いることで、 上記要 求特性を全て満たすポリイミ ドを得ることができる。
Figure imgf000007_0001
Figure imgf000007_0002
Figure imgf000008_0001
(式 (8 ) 中、 Xはジカルボン酸無水物の反応性基である。 )
式 (8 ) で表される熱架橋性ジカルボン酸無水物として、 使用可能な反応性ジカ ルボン酸無水物として特に限定されないが、 例えば、 ナジック酸無水物、 マレイン 酸無水物、 シトラコン酸無水物、 4—フヱニルェチニルフタル酸無水物、 4ーェチ ニルフタル酸無水物、 4—ビュルフタル酸無水物などが例として挙げられる。 この 内、 熱架橋反応性、 硬化物の物性およびコストの観点からナジック酸無水物が好適 に用いられる。
PMD Aを用いて得られた従来型のポリイミ ドでは、 ジイミド部位が直線状構造 になるのに対して、 M P D Aを用いて得られたポリイミ ドでは、 立体的な折曲がり 構造が主鎖中に導入され、 これによりポリマー鎖間スタツキングが妨げられてガラ ス転移以上の高温における分子運動が許され、 高い熱可塑性が発現される。 その一 方で、 非対称構造であることに起因して M P D A部位の局所的な内部回転が抑制さ れることにより、 高いガラス転移温度が保持されるものと考えられる。
このような主鎖中の折曲り構造は、 ジァミン成分として下記式 (9 ) で表される メタフエ-レンジアミンを用いることによつても導入することは可能であるが、 メ タフェニレンジァミンの使用はポリイミ ドの溶媒溶解性の改善に殆ど寄与しないば かり力 \ しばしばガラス転移温度の劇的な低下など、 好ましくない結果を招く。
H
Figure imgf000008_0002
M P D Aと組み合わせるジァミン成分としては、 エーテル結合を含有するものが、 高い溶媒溶解性、 高い熱可塑性および高い,性を同時に達成するために有効であ る。 しかしながら、 汎用のエーテル基含有ジァミンである 4, 4 '—ォキシジァニ リン (以下 4, 4 '一 O D Aと称する) を用いると、 得られたポリイミ ドの溶解性 が不十分になる恐れがある。 そのため、 代表的な高靭性樹脂であるポリカーボネー トの主鎖骨格の構造単位を含む下記式 (10) で表されるジァミンを用いることで、 溶媒溶解性を犠牲にすることなく、 高靭性を達成することが可能である。
Figure imgf000009_0001
式 (10) 中、 Rはメチル基またはトリフルォロメチル基を表す。 銅箔との接着 性および製造コストの観点から、 下記式 (1 1) で表されるジァミン、 すなわち 2, 2—ビス (4— (4—アミノフエノキシ) フエ-ル) プロパン (以下 BAPPと称 する) 単独で使用するか、 または、 これを共重合成分として用いることが好ましい。
Figure imgf000009_0002
<ポリイミド前駆体調製時の環状ォリゴマー生成の制御 >
次に本発明に係るポリイミ ド前駆体およびポリイミ ドの製造方法について説明す る。 MP D Aはその特徴的な酸無水物基の結合位置により、 ジァミンと組み合わせ てポリイミド前駆体あるいはポリイミドを調製する際に、 下記式 (12) に例示さ れるような環状のオリゴマーを生成する傾向があることが、 マクロモレキュールス : 35卷, 8708 (2002) に開示されており、 MPDAを用いると、 目的とす る線状の高分子量ポリイミ ド前駆体が得られにくいという問題がある。 環状オリゴ マーは分子量が低いために、 ポリマー鎖同士の絡み合いに乏しく、 熱可塑性や溶媒 溶解性は対応する線状ポリマーよりも高くなることが予想されるが、 一方で膜辆性 が著しく低下し、 接着剤として機能しなくなる恐れがある。
Figure imgf000010_0001
4, 4 '—メチレンジァニリン、 4, 4 '—ォキシジァニリンおよび 1, 4一ビス ( 4—アミノフエノキシ) ベンゼンのような対称性の高い構造の屈曲性ジァミンを 単独で用いると、 式 (1 2 ) で表されるような環状オリゴマ"が形成されやすい傾 向があるため、 高分子量のポリイミ ド前駆体およびポリイミ ドを得るには、 3, 4 '—ォキシジァニリンのような非対称性ジァミンの使用が効果的である。 . 上記のような対称性の高い構造の屈曲性ジァミンを用いた場合であっても、 重合 反応初期においてー且は、 線状の高分子量ポリイミ ド前駆体が生成して重合反応溶 液の急激な粘度增加が起こる。 しかしながら、 その後アミ ド交換反応を経てより安 定な環状オリゴマーへと変換されていき、 溶液粘度が急激に低下する。 本発明のポ リイミド前駆体は、 重合反応溶液の粘度を追跡して最も粘度が高くなつたタイミン グで、 重合溶液を貧溶媒中に滴下することで、 高分子量の線状ポリイミド前駆体と して単離することができる。 また、 そのタイミングで重合溶液中に化学イミド化試 薬を投入するか、 若しくは重合溶液を加熱還流して環ィ匕脱水反応 (イミド化反応) させることで、 高分子量の線状ポリイミ ドを製造することができる。 一旦イミ ド化 すれば、 もはや環状オリゴマーへ変換される恐れはない。
ポリイミ ド前駆体を調製する際、 モノマー濃度が低い場合、 ポリマー鎖の延長よ りも分子内末端同士の結合が優先的になり、 環状オリゴマーが生成しやすいため、 高分子量のポリイミ ド前駆体を得るためにはモノマー濃度はできるだけ高く設定す ることが有効である。
ポリイミ ド前駆体を調製する際に使用する溶媒の選択も重要である。 高分子量の ポリイミ ド前駆体を得るためには、 ポリイミ ド前駆体に対する溶媒の親和力ができ るだけ高いほど有効である。 親和性の高い溶媒では溶媒分子がポリマー鎖コイル内 に進入してポリマー鎖が拡がるため、 末端同士の反応により環状オリゴマーが生成 しにくい条件となる。 M P D Aを用いるポリイミ ド前駆体重合反応系では、 汎用の アミド系溶媒で比較すると、 N—メチルー 2—ピロリ ドン (NM P) の方が、 N, N—ジメチルァセトアミ ド (DMA c ) よりも重合溶液の粘度低下の速度が遅く、 高分子量の線状ポリイミ ド前駆体を製造しやすい溶媒である。
<ポリイミ ド前駆体の製造方法 >
次に本発明に係るポリイミ ド前駆体の製造方法について具体的に説明する。 ポリ イミド前駆体の調製は以下のように行う。 まず、 ジァミン成分を重合溶媒に溶解し、 この溶液に式 (7 ) で表される M P D A粉末を加え、 次いで式 (8 ) で表される反 応性ジカルボン酸無水物粉末を添加し、 メカニカルスターラーを用いて室温で 0 . 5〜4 8時間攪拌する。 この際、 モノマー濃度は 1 0〜5 0質量%、 好ましくは 2 0〜4 0質量。 /0である。 このモノマー濃度範囲で重合を行うことにより均一でより 高い重合度のポリイミ ド前駆体溶液を得ることができる。
モノマー濃度が高いほど高重合度のポリイミ ド前駆体が得られる傾向があるため、 ポリイミ ドの靭性を確保するためにはできるだけ高いモノマー濃度で重合を開始す ることが好ましい。 また、 重合反応溶液を頻繁にサンプリングして粘度測定するか、 トルクメーター付攪拌装置で粘度変化を追跡することで、 溶液粘度が最大になる重 合反応時間を正確に把握し、 そのタイミングでィミ ド化を行うことが望ましい。 前記一般式 (1 ) または前記一般式 (2 ) で表されるポリイミド前駆体の合成は 具体的には以下のように行う。 まず、 ジァミン成分 (Pモル) を重合溶媒に溶解し、 この溶液に所定量の M P D A粉末 (P— 0 . 5 X Qモル) 、 次いで熱架橋反応性ジ カルボン酸無水物 (Qモル) を添加し、. メカニカルスターラーを用い、 室温で 0 . 5〜 4 8時間攪拌する。 熱架橋反応性ジカルボン酸無水物の含有率 (%) (= 0 . 5Q/PX 100) は 0. 1〜50%の範囲であり、 より好ましくは 0. 2〜1 0%の範囲である。
重合溶媒としては特に限定されないが、 N—メチル一 2—ピロリ ドン、 N, N— ジメチルァセトアミ ド、 N, N—ジェチルァセトアミ ド、 N, N—ジメチルホルム アミ ド、 へキサメチルホスホルアミ ド、 ジメチルスルホォキシド、 γ—ブチロラク トン、 1, 3—ジメチ^/— 2 f ミダゾリジノン、 1, 2—ジメ トキシェタン一ビ ス (2—メ トキシェチル) エーテル、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン、 ピコリン、 ピリジン、 アセトン、 クロ口ホルム、 トノレェン、 キシレンなどの非プロ トン性溶媒および、 フエノール、 o—クレゾール、 m—タレゾール、 p—タレゾー ノレ、 o—·クロ口フエノーノレ、 m—クロ口フエノーノレ、 p—クロ口フエノーノレなどの プロトン性溶媒が使用可能である。 また、 これらの溶媒は単独でも、 2種類以上混 合して用いてもよい。 重合反応溶液の粘度の低下が緩やかであるという理由から、 N—メチルー 2—ピロリ ドン (NMP) が好適に用いられる。
ポリイミ ドの要求特性を著しく損なわなレ、範囲で使用可能な芳香族ジァミンとし ては特に限定されないが、 2, 2'—ビス (トリフルォロメチル) ベンジジン、 p —フエ二レンジァミン、 m—フエ-レンジァミン、 2, 4—ジァミノ トルエン、 2, 5—ジァミノ トルエン、 2, 4—ジアミノキシレン、 2, 4—ジァミノデュレン、 4, 4'—ジアミノジフエニルメタン、 4, 4,ーメチレンビス (2—メチルァニリ ン) 、 4, 4'ーメチレンビス (2—ェチ^/ァニリン) 、 4, 4'—メチレンビス (2, 6—ジメチルァ-リン) 、 4, 4'—メチレンビス (2, 6—ジェチルァ- リン) 、 4, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル、 3, 4, 一ジアミノジフエ-ルェ 一テル、 3, 3 ' —ジアミノジフエニルエーテル、 2, 4'—ジァミノジフエ二ルェ 一テル、 4, 4'—ジアミノジフエニルスルフォン、 3, 3 '—ジアミノジフエニル スノレフォン、 4, 4'—ジァミノべンゾフエノン、 3, 3'—ジァミノべンゾフエノ ン、 4, 4'—ジァミノべンズァニリ ド、 ベンジジン、 3, 3'—ジヒ ドロキシベン ジジン、 3, 3'—ジメ トキシベンジジン、 o—トリジン、 m_トリジン、 1, 4 一ビス (4—アミノフエノキシ) ベンゼン、 1, 3—ビス (4—ァミノフエノキ シ) ベンゼン、 1, 3—ビス (3—アミノフエノキシ) ベンゼン、 4, 4'_ビス (4_アミノフエノキシ) ビフエ二ノレ、 ビス (4— (3—アミノフエノキシ) フエ ニル) スルフォン、 ビス (4— (4—アミノフエノキシ) フエニル) スルフォン、 2, 2—ビス (4— (4ーァミソフエノキシ) フエニル) プロパン、 2, 2—ビス
(4一 (4—アミノフエノキシ) フエニル) へキサフルォロプロパン、 2, 2—ビ ス (4—ァミノフエ二ノレ) へキサフノレオ口プロパン、 p—ターフェ二レンジァミン などが例として挙げられる。 またこれらを 2種類以上併用することもできる。
ポリイミド前駆体調製の際に環状オリゴマーの生成を妨害し、 ポリイミ ドの熱可 塑性および溶解性を確保するという観点から、 2, 2—ビス (4— (4—アミノフ エノキシ) フエニル) プロパン、 2, 2—ビス (4— (4—アミノフエノキシ) フ エニ^/) へキ~ ^フノレオ口プロパン、 2, 2—ビス (4—ァミノフェニ^^ へキサフ ルォロプロパン、 3, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 3 '—ジアミノジフ ェニルエーテル、 2, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 4, 4'—ジアミノジフ ェニ レフオン、 3, 3 '—ジアミノジフエニノレス^/フォンなどの屈曲性ジアミ ンが好適に用いられる。
また、 ポリイミ ドの要求特性を著しく損なわない範囲で使用可能な脂肪族ジアミ ンとしては特に限定されないが、 トランス一 1, 4—ジアミノシクロへキサン、 シ ス一 1, 4—ジアミノシクロへキサン、 1, 4—ジァミノシクロへキサン (トラン スノシス混合物) 、 1, 3—ジアミノシクロへキサン、 イソホロンジァミン、 1, 4ーシクロへキサンビス (メチルァミン) 、 2, 5—ビス (アミノメチル) ビシク 口 〔2. 2. 1〕 ヘプタン、 2, 6—ビス (アミノメチル) ビシクロ 〔2. 2. 1〕 ヘプタン、 3, 8—ビス (アミノメチル) トリシクロ 〔5. 2. 1. 0〕 デカ ン、 1, 3—ジアミノアダマンタン、 4, 4,ーメチレンビス (シクロへキシルァ ミン) 、 4, 4'—メチレンビス (2—メチルシクロへキシルァミン) 、 4, 4'一 メチレンビス (2—ェチノレシクロへキシノレアミン) 、 4, 4'—メチレンビス (2, 6—ジメチルシクロへキシルァミン) 、 4, 4'ーメチレンビス (2, 6_ジェチ ノレシクロへキシ^/アミン) 、 2, 2—ビス (4—アミノシクロへキシノレ) プロパン, 2, 2_ビス (4一アミノシクロへキシル) へキサフルォロプロパン、 1, 3—プ 口パンジァミン、 1, 4—テトラメチレンジァミン、 1, 5—ペンタメチレンジァ ミン、 1, 6—へキサメチレンジァミン、 1, 7—ヘプタメチレンジァミン、 1, 8—ォクタメチレンジァミン、 1, 9—ノナメチレンジァミンなどが挙げられる。 また、 これらを 2種類以上併用することもできる。
本発明に係るポリィミ ドの要求特性および重合反応性を著しく損なわない範囲で、 メ口ファン酸二無水物以外のテトラカルボン酸二無水物成分を部分的に使用しても 差し支えない。 共重合に使用可能な酸二無水物としては特に限定されないが、 ピロ メリット酸二無水物、 3, 3', 4, 4'ービフエニルテトラカルボン酸二無水物、 3, 3', 4, 4' _ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 3, 3', 4, 4' —ビフエニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、 3, 3', 4, 4'ービフエ-ノレ スルホンテトラカルボン酸二無水物、 2, 2'—ビス (3, 4—ジカルボキシフエ ニル) へキサフルォロプロパン酸二無水物、 2, 2'_ビス (3, 4—ジカルボキ シフエニル) プロパン酸二無水物、 1, 4, 5, 8—ナフタレンテトラカルボン酸 二無水物、 2, 3, 6, 7—ナフタレンテトラカルボン酸二無水物などの芳香族テ トラカルボン酸二無水物の他、 ビシクロ [2. 2. 2] ォクト一 7—ェンー 2, 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 5— (ジォキソテトラヒドロフリル一 3—メ チルー 3—シクロへキセン一 1, 2—ジカルボン酸無水物、 4一 (2, 5—ジォキ ソテトラヒドロフラン一 3—ィル) 一テトラリン一 1, 2—ジカルボン酸無水物、 テトラヒドロフラン一 2, 3, 4, 5—テトラカルボン酸二無水物、 ビシクロー 3, 3', 4, 4'ーテトラカルボン酸二無水物、 3 c—カルボキシメチルシクロペンタ ンー l r, 2 c, 4 c—トリカルボン酸 1, 4 : 2, 3—二無水物、 1, 2, 4, 5—シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、 1, 2, 3, 4—シクロブタンテ トラカルボン酸二無水物、 1, 2, 3, 4—シクロペンタンテトラカルボン酸二無 水物などの脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 共重合成分としてこれ らを単独あるいは 2種類以上用いてもよい。
本発明のポリイミド前駆体は、 溶液 (ワニス) や基板上に塗付 ·乾燥してフィル ムとしての使用形態の他、 ワニスを適度に希釈後、 大量の水やメタノールなどの貧 溶媒中に滴下 ·濾過 ·乾燥し、 粉末として単離することもできる。 本発明に係る線状ポリイミ ド前駆体の固有粘度はポリイミ ド膜の靭性の観点から 高いほどよいが、 少なくとも 0. 1 d LZ g以上であることが好ましく、 0. 3 d LZ g以上であることがより好ましく、 0. 5 d LZ g以上であることが特に好ま しい。 固有粘度値が 0 . I d L/ gを下回ると、 製膜性が著しく悪くなり、 キャス ト膜がひび割れるなどの深刻な問題が生じたり、 C C L用接着層として使用した際 に十分な接着力が得られない恐れがある。 また、 ポリイミ ド前駆体ワニスのハンド リングの観点から、 固有粘度値が 5 . 0 d LZ gより低いことが望ましい。
くポリイミドの製造方法〉
本発明の脂環構造含有ポリイミ ドは、 上記の方法で得られたポリイミド前駆体を 脱水閉環反応 (イミド化反応) して製造することができる。 この際ポリイミ ドの使 用可能な形態は、 フィルム、 金属基板 Zポリイミ ドフィルム積層体、 粉末、 成型体 および溶液が挙げられる。
まず、 ポリイミ ドフィルムを製造する方法について述べる。 ポリイミド前駆体の 溶液 (ワニス) を不溶性ポリイミ ドフィルム、 ガラス、 銅、 アルミニウム、 ステン レス、 シリコンなどの基板上に流延し、 オーブン中 4 0〜1 8 0 °C、 好ましくは 5 0〜1 5 0 °Cで乾燥する。 得られたポリイミ ド前駆体フィルムを基板上で真空中、 窒素などの不活性ガス中、 あるいは空気中、 2 0 0〜4 0 0 °C、 好ましくは 2 5 0 〜3 0 0 °Cで加熱することで本発明のポリイミ ドフィルムを製造することができる。 加熱温度はィミ ド化の閉環反応を十分に行なうという観点から 2 0 0 °C以上、 生成 したポリイミドフィルムの熱安定性の観点から 3 0 0 °C以下が好ましい。 また、 ィ ミ ド化は真空中あるいは不活性ガス中で行うことが望ましいが、 イミ ド化温度が高 すぎなければ空気中で行っても、 差し支えない。
また、 イミ ド化反応は、 熱的に行う代わりにポリイミ ド前駆体フィルムをピリジ ンゃトリェチ/レアミンなどの 3級アミン存在下、 無水酢酸などの脱水環化試薬を含 有する溶液に浸漬することによって行うことも可能である。 また、 これらの脱水環 化試薬をあらかじめポリイミ ド前駆体ワニス中に投入し、 2 0〜1 0 0¾で0 . 5 〜2 4時間攪拌することで、 ポリイミ ドワニスを得ることができる。 これを水ゃメ タノールなどの貧溶媒中に滴下 ·濾過することで、 ポリイミ ド粉末として単離する ことができる。 また、 上記ポリイミ ドワニスを上記基板上に流延'乾燥することで、 ポリイミ ドフィルムを作製することもできる。 これをさらに上記のような温度範囲 で熱処理しても差し支えない。
重合反応により得られたポリイミド前駆体のワニスをそのままあるいは同一の溶 媒で適度に希釈した後、 これを 1 5 0〜2 0 0 °Cに加熱することで、 ポリイミ ド自 体が用いた溶媒に溶解する場合、 本発明のポリイミ ドの溶液 (ワニス) を容易に製 造することができる。 溶媒に不溶な場合は、 ポリイミ ド粉末を沈殿物として得るこ とができる。 この際、 イミ ド化反応の副生成物である水を共沸留去するために、 ト ルェンゃキシレンなどを添加しても差し支えない。 また、 触媒として r—ピコリ ンなどの塩基を添加することができる。 イミ ド化後この反応溶液を水ゃメタノール などの貧溶媒中に滴下 ·濾過し、 ポリイミドを粉末として単離することもできる。 また、 ポリイミ ド粉末を上記重合溶媒に再溶解してポリイミドワニスとすることも できる。 - 本発明のポリイミドは、 テトラカルボン酸二無水物とジァミンを溶媒中高温で反 応きせることにより、 ポリイミド前駆体を単離することなく、 一段階で重合するこ とができる。 この際、 重合溶液は反応促進の観点から、 1 3 0〜2 5 0 °C、 好まし くは 1 5 0〜2 0 0 °Cの範囲に保持するとよい。 また、 ポリイミ ドが用いた溶媒に 不溶な場合、 ポリイミ ドは沈殿物として得られ、 可溶な場合はポリイミ ドのワニス として得られる。 重合溶媒は特に限定されないが、 使用可能な溶媒として、 例えば、 N, N—ジメチルホルムアミ ド、 N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N—メチル一 2 —ピロリ ドン、 ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性溶媒が例として挙げられ るが、 より好ましくは m—クレゾールなどのフエノール系溶媒や NM Pなどのアミ ド系溶媒が用いられる。 これらの溶媒にイミ ド化反応の副生成物である水を共沸留 去するために、 トルエンゃキシレンなどを添加することができる。 また、 イミ ド化 触媒として ーピコリンなどの塩基を添加することができる。 反応後、 溶液を大 量の水やメタノールなどの貧溶媒中に滴下 '濾過し、 ポリイミ ドを粉末として単離 することができる。 また、 ポリイミドが溶媒に可溶である場合はその粉末を上記溶 媒に再溶解してポリイミ ドワニスとすることができる。 上記ポリイミ ドワニスを基板上に塗布し、 4 0〜3 0 0 °Cで乾燥することによつ ても本発明に係るポリイミドフィルムを形成することができる。 上記のように得ら れたポリイミ ド粉末を 2 0 0〜4 5 0 °C、 好ましくは 2 5 0〜4 3 0 °Cで加熱圧縮 することでポリイミドの成型体を作製することができる。
ポリイミド前駆体溶液中に N, N—ジシク口へキシルカルポジィミ ドゃトリフル ォロ無水酢酸などの脱水試薬を添加 '撹拌して 0〜1 0 0 °C、 好ましくは 0〜 6 0 °Cで反応させることにより、 ポリイミ ドの異性体であるポリイソイミドが生成す る。 イソイミ ド化反応は上記脱水試薬を含有する溶液中にポリイミ ド前駆体フィル ムを浸漬することによつても可能である。 このポリイソイミ ドワニスを用いて上記 と同様な手順で製膜した後、 2 5 0〜 3 5 0 °Cで熱処理することにより、 ポリイミ ドへ容易に変換することができる。
本発明のポリイミドのワニスを銅箔または非熱可塑性ポリイミ ドフィルム上に塗 布 ·乾燥した後、 窒素雰囲気中または真空中で、 3 0 0〜4 5 0 °C、 好ましぐは 3 5 0〜4 0 0 °Cの範囲で加熱処理することで、 末端架橋基を熱架橋して、 接着力お よぴ膜靭性を向上することができる。
本発明のポリイミ ドおよびその前駆体中に、 必要に応じて酸化安定剤、フィラー、 接着促進剤、 シランカップリング剤、 感光剤、 光重合開始剤、 増感剤、 末端封止剤、 架橋剤などの添加物を加えることができる。
上記のようにして得られたポリイミ ドワニスを不溶性ポリイミ ドフィルム面にキ ヤスト製膜しこ後、 銅箔を載せて加熱プレスすることで銅張積層板を作製すること ができる。 また、 銅箔にフォトレジストを塗布し、 パターン露光後、 塩化第二鉄水 溶液などで銅箔をェツチングして回路を形成することで、 F P Cを作製することも できる。
本発明に係るポリイミ ドを擬似 2層 C C L用接着剤に適用するために要求される 特性として、 ポリイミドのガラス転移温度は、 2 7 0 °C以上であることが好ましい。 また、 引張試験において 1 0 %以上の破断伸びを有することが好ましく、 2 0 %以 上がより好ましい。 また、 NM Pや DMA cなどの汎用有機溶媒に 1 0質量。 /0以上 溶解することが好ましく、 2 0質量%以上溶解することがより好ましい。 本発明の ポリイミ ドは熱可塑性が高いほど好ましい。 熱可塑性の指標として、 銅箔と積層体 を作製した際、 ピール強度が 1. 0 k g f Zcm以上であることが好ましく: 1. 2 k g fZ cm以上であることがより好ましい。
く用途〉 . 本発明のポリイミドは優れた加工性、 すなわち有機溶媒溶解性おょぴ熱可塑性を 有し、 かつ高ガラス転移温度およぴ高靭性を併せ持つ、 擬似 2層 CCL用耐熱接着 剤として極めて有用である。 実施例
以下、 本発明を実施例により具体的に説明するが、 これら実施例に限定されるも のではない。 なお、 以下の例における物性値は、 次の方法により測定した。
く固有粘度〉
ポリイミド前駆体またはポリイミドの 0. 5質量%溶液 (溶媒: DMA cまたは NMP) について、 ォストワルド粘度計を用いて 30°Cで測定した。
<ガラス転移温度: Tg>
ブルカーエイエックスネ ±^熱機械分析装置 (TMA4000) を用いて動的粘弾 性測定により、 周波数 0. 1Ηζ、 昇温速度 5 °CZ分における損失ピークからポリ ィミド膜のガラス転移温度を求めた。
<線熱膨張係数: CTE>
ブルカーエイエックスネ 熱機械分析装置 (TMA4000) を用いて、 熱機械 分析により、 荷重 0. 58 膜厚1 111、 昇温速度 5 °CZ分における試験片の伸び より、 100〜200°Cの範囲での平均値としてポリイミ ド膜の線熱膨張係数を求 めた。
< 5 %質量減少温度: T d 5 >
ブルカーエイエックス社製熱質量分析装置 (TG— DTA2000) を用いて、 窒素中または空気中、 昇温速度 10°CZ分での昇温過程において、 ポリイミド膜の 初期質量が 5%減少した時の温度を測定した。 これらの値が高いほど、 熱安定性が 高いことを表す。 ぐ吸水率 > -
50°Cで 24時間真空乾燥したポリイミド膜 (膜厚 20〜30 m) を 25°Cの 水に 24時間浸漬した後、 余分の水分を拭き取り、 質量増加分から吸水率 (%) を 求めた。
<弾性率、 破断伸び、 破断強度 >
東洋ボールドウィン社製引張試験機 (テンシロン UTM— 2) を用いて、 ポリイ ミ ド膜の試験片 (3mmx 3 Omm) について引張試験 (延伸速度: 8 mm,分) を実施し、 応力一歪曲線の初期の勾配から弾性率を、 膜が破断した時の伸び率から 破断伸び (%) を求めた。 破断伸びが高いほど膜の靭性が高いことを意味する。 く溶解性試験〉
ポリイミ ド粉末 10 m gを各種溶媒 1 m Lに入れ、 室温における溶解性を試験し た。
く剥離試験: ピール強度〉
擬似 2層 CCLを以下のように作製した。 本発明のポリイミ ドのワニス (溶媒: NMP、 濃度: 15〜20質量。 /。) を電解銅箔 (古河電工社製 F 2-WS : 12〃 m厚) のマット面に塗布し、 120 °Cで 2時間乾燥し、 さらに 250 °Cで 2時間真 空乾燥した。 次にこの熱可塑性のポリイミドフィルム面に非熱可塑性ポリイミ ドフ イルム (カネ力社製、 アビカル NP I : 25^m厚) をプレス圧 6. 2 MP aのも と、 350°Cで 30分間プレスして熱圧着させ、 試験片を得た。 これらの試験片に ついて、 上記の引張試験と同様な条件で 180° 剥離試験を実施し、 ピール強度を 測定した。 剥 l^験の結果、 剥離は全ての試料においてポリイミ ド接着層と銅箔と の界面で起こった。
(合成例)
メロファン酸ニ無水物の合成
< 1, 2, 3, 4—ベンゼンテトラカルボン酸の合成 >
1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8—ォクタヒドロフエナントレンを、 酸化剤とし て過マンガン酸力リゥムなどを使用して液相酸化反応により合成した (特願 200 7-1 101 18号明細書参照) 。 <メロファン酸二無水物の合成〉
Macromolecules, 35卷, 8708 (2002) に記載の方法に準じて、 1, 2, 3, 4一ベンゼンテトラカルボン酸と過剰の無水酢酸とを反応させる方法で合成し た。 得られたメロファン酸二無水物の分析値の一例は以下の通りである。 融点: 1 96. 5〜: 198°C、 GC純度: 99. 8%、 元素分析:炭素 54. 8% 水素0. 98 % /酸素 44. 2%
く末端架橋基含有ポリイミド前駆体の調製、 イミド化、 熱硬化、 および得られた硬 化膜の特性評価 >
(実施例 1 )
よく乾燥した攪拌機付密閉反応容器中に 2, 2—ビス (4一 (4—アミノフエノ キシ) フヱニル) プロパン (以下 BAPPと称する) l Ommo lを入れ、 モレキ ユラーシーブス 4 Aで十分に脱水した NMP 25 mLに溶解した後、 この溶液に合 成例に記載のメロファン酸二無水物 (以下 MPDAと称する) 粉末 9., 9mmo 1 およびナジック酸無水物 (以下 NAと称する) 粉末 0. 2mmo 1を加えた (全溶 質濃度:約 20質量%) 。 室温で 3時間撹拌し、 均一で粘稠な末端架橋基含有ポリ イミド前駆体溶液を得た。 このワニスは室温おょぴ一 20¾で一ヶ月間放置しても 沈澱、 ゲルィ匕は全く起こらず、 極めて高い溶液貯蔵安定を示した。 NMP中、 3 0°C、 0. 5質量%の濃度でォストヮルド粘度計にて測定したポリイミド前駆体の 固有粘度はひ. 43 dL,gであった。 このポリイミ ド前駆体ワニスを適当に希釈 後、 化学イミ ド化試薬 (無水酢酸ノビリジン、 体積比 7Z3、 無水酢酸量:理論脱 水量の 5倍モル) を滴下し室温で 12時間攪拌して化学ィミ ド化を行つた。
得られたポリイミ ドワニスを大量のメタノールに滴下し、 末端架橋基含有ポリィ ミ ドを粉末として単離し、 80°Cで 12時間真空乾燥した。 このポリイミ ド粉末を 用いて溶解性試験を行った結果、 NMPの他に DMAc、 N, N—ジメチルホルム アミド、 r_ブチロラタトン、 ジメチルスルホォキシド、 クロ口ホルムなどに室温 で高い溶解性を示した。 次にこのポリイミド粉末を NMPに再溶解 (15-20® 量%) してワニスとし、 これをガラス基板上に塗布し、 80°Cで 2時間温風乾燥し て得たポリイミ ド膜をさらに基板上、 真空中で熱処理を行い、 膜厚約 20 jt mのポ リイミ ド膜を得た。 この際適用した熱処理条件は [1] 250°CZ2時間、 [2] 350 °CZ 2時間、 [ 3 ] 400°C/1時間の 3種類である。表 1に膜物性データ を示す。 250°Cノ 2時間の熱処理では、 末端基の熱架橋が殆ど起こっていないた め、 ポリイミ ド膜の Tgは 258°Cに留まったが、 350°CZ2時間の熱処理によ り T gは 270 °Cになり、 400。CZ 1時間の熱処理では T gは 282 °Cまで増加 した。 350°CZ2時間の熱処理により得られた熱硬ィヒ膜について引張試験を実施 したところ、 .ヤング率は 1. 44 G P a、 破断強度は 0. 077 G P aと低弾性で あり、 近年要求が高まっている低反発性 CCL用の耐熱接着剤として適しているこ とがわかった。 また、 破断伸びは 59. 8%と高い靭性を示した。 5%重量減少温 度は窒素中で 480°C、 空気中で 449°Cであり、 十分高い熱安定性を有している。 また吸水率は 0. 70%と比較的低い値を示した。 さらにこのポリイミドを接着剤 として擬似 2層 CCLを作製し、 剥離試験を実施したところ、 ピール強度 1. 47 k g f Zc mとレ、う極めて高い値が得られた。
(実施例 2)
モノマーの仕込み量を BAP P 1 Ommo 1、 MPDA9. 95mmo 1および NAO. lmmo 1に変更した以外は、 実施例 1に記載した方法と同様に化学ィミ ド化 ·製膜し、 物性評価を行った。 物性データを表 1に示す。
(比較例 1)
テトラカルボン酸二無水物成分としてメロファン酸二無水物の代わりにピロメリ ット酸二無水物 (以下 PMDAと称する) を使用した以外は、 実施例 1に記載した 方法と同様に、 ポリイミ ド前駆体を重合し、 化学ィミド化試薬を投入してィミド化 を試みた。 し力 しながら、 反応溶液がゲル化したため、 物性評価が実施できなかつ た。 これは PMDAを使用したために、 ポリイミ ドの溶解性が乏しいためである。
(比較例 2) 末端架橋剤である N Aを使用せずに、 MPDAと BAPPを等モルで反応させて 高分子量のポリイミド前駆体を重合した以外は、 実施例 1に記載した方法と同様に 化学イミド化 ·製膜し、 物性評価を行った。 表 1に物性データを示す。 このポリィ ミド膜は実施例 1に記載した硬化膜と同等の Tg、 より高い破断伸びを示したが、 ピール強度は 0. 84 k g f Zcmに留まった。 表 1
Figure imgf000022_0001
産業上の利用可能性
本発明によれば、 優れた加工性、 すなわち有機溶媒溶解性および熱可塑性を有し、 かつ銅箔や非熱可塑性ポリイミドフィルムとの高い接着力、 高ガラス転移温度およ び高靭性を併せ持つ線状ポリイミド前駆体、 あるいは線状ポリイミドとその熱硬化 物、 およびこれらの製造方法を提供することができる。 さらには、 これらを耐熱性 接着剤などとして利用し、 FPC、 CO Fおよび TAB用電子回路基板の CCしな ども提供することができる。 よって、 産業に大きく寄与できる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . メロファン酸二無水物、 ジァミン (NH2_ A— NH2) およぴー官能性酸 無水物から得られ、 下記一般式 (1 ) または (2 ) で表される反復単位を含有する ことを特徴とする線状ポリイミ ド前駆体。
Figure imgf000023_0001
(式中、 Aは二価の芳香族ジァミン残基または脂肪族ジァミン残基を表し、 Bは一 官能性酸無水物残基を表し、 nは重合度を表す。 )
2 . 下記一般式 (3 ) で示される反復単位を含有することを特徴とする線状ポ リイミ ド。
Figure imgf000023_0002
(式中、 Aは二価の芳香族ジァミン残基または脂肪族ジァミン残基を表し、 Bは一 官能性酸無水物残基を表し、 nは重合度を表す。 )
3 . 請求項 2に記載のポリイミドを、 熱架橋反応させることによって得られた ことを特徴とする熱硬化物。
4. 請求項 1に記載のポリイミ ド前駆体を、 加熱あるいは脱水試薬によって脱 水環化 (イミド化) 反応させることを特徴とする請求項 2に記載のポリイミ ドの製 造方法。
5. 270 °C以上のガラス転移温度と、 非プロトン性有機溶媒への溶解度が 1 0質量%以上と、 銅箔と積層体を作製した際のピール強度が 1. Okg fZcm以 上と、 破断伸び 10%以上の膜靭性とを併せ持つ、 請求項 2に記載のポリイミ ドま たは請求項 3に記載の熱硬化物。
6. 請求項 2に記載のポリイミ ドおよび請求項 3の熱硬化物からなる群より選 ばれた少なくとも 1つを含むことを特徴とする耐熱性接着剤。
7. 請求項 6に記載の耐熱性接着剤により非熱可塑性ポリイミ ドフィルムと銅 箔とを熱積層して得られたことを特徴とする銅張積層板。
PCT/JP2009/059938 2008-05-28 2009-05-26 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミドとその熱硬化物、およびこれらの製造方法 WO2009145339A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/994,163 US20120088109A1 (en) 2008-05-28 2009-05-26 Linear polyimide precursor, linear polyimide and heat-cured product thereof, and method for producing them
EP09754847.3A EP2295489A4 (en) 2008-05-28 2009-05-26 LINEAR POLYIMIDE PRECURSOR, LINEAR POLYIMIDE, LINEAR POLYIMIDE HOT CURED PRODUCT, AND LINEAR POLYIMIDE MANUFACTURING METHOD

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008139646A JP2009286868A (ja) 2008-05-28 2008-05-28 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミド、その熱硬化物、製造方法、接着剤および銅張積層板
JP2008-139646 2008-05-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009145339A1 true WO2009145339A1 (ja) 2009-12-03

Family

ID=41377206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2009/059938 WO2009145339A1 (ja) 2008-05-28 2009-05-26 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミドとその熱硬化物、およびこれらの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20120088109A1 (ja)
EP (1) EP2295489A4 (ja)
JP (1) JP2009286868A (ja)
KR (1) KR20110013461A (ja)
TW (1) TW201006868A (ja)
WO (1) WO2009145339A1 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101292886B1 (ko) * 2009-09-29 2013-08-02 코오롱인더스트리 주식회사 내용제성이 개선된 무색투명한 폴리이미드 필름
JP5325175B2 (ja) 2010-07-15 2013-10-23 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、及び成形体の製造方法
KR101382769B1 (ko) * 2010-12-10 2014-04-09 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 열가소성 폴리이미드 및 이의 제조방법
US10178816B2 (en) 2011-05-13 2019-01-08 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Copper foil composite, copper foil used for the same, formed product and method of producing the same
JP5822842B2 (ja) 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
JP5822838B2 (ja) 2012-01-13 2015-11-24 Jx日鉱日石金属株式会社 銅箔複合体、並びに成形体及びその製造方法
US20130260123A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Electrical insulation paper, methods of manufacture, and articles manufactured therefrom
CN105377949B (zh) 2013-08-06 2018-04-03 三菱瓦斯化学株式会社 聚酰亚胺树脂粉末的制造方法和热塑性聚酰亚胺树脂粉末
CN103774268B (zh) * 2014-01-20 2016-05-11 江苏巨贤合成材料有限公司 一种聚酰胺酰亚胺沉析纤维的制备方法
JP6413434B2 (ja) * 2014-07-25 2018-10-31 富士ゼロックス株式会社 ポリイミド前駆体組成物、ポリイミド前駆体の製造方法、ポリイミド成形体、及びポリイミド成形体の製造方法
US20180305943A1 (en) * 2017-03-17 2018-10-25 Anthony Michael Pucci Communications Booth
CN107602856B (zh) * 2017-09-05 2020-08-04 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种具有高溶解性的热固性聚酰亚胺预聚物、制备方法及其应用

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4616906B1 (ja) * 1968-02-01 1971-05-10
JP2002526618A (ja) * 1998-10-06 2002-08-20 ヘンケル・テロソン・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 耐衝撃性エポキシ樹脂組成物
JP2005096251A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Kaneka Corp 接着フィルム及びそれから得られる吸湿半田耐性を向上させたフレキシブル金属張積層板
WO2006030700A1 (ja) * 2004-09-15 2006-03-23 Kaneka Corporation 高い接着性を有するポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2007110118A (ja) 2005-10-11 2007-04-26 Robert Bosch Gmbh 点火コイルまたは変圧器のための磁気回路
WO2008013288A1 (fr) * 2006-07-27 2008-01-31 Ube Industries, Ltd. Laminé de film résistant à la chaleur et de feuille de métal, et son procédé de fabrication
WO2008140107A1 (ja) * 2007-05-09 2008-11-20 Jfe Chemical Corporation 非対称構造を有する線状ポリイミド前駆体、ポリイミドおよびそれらの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4616906B1 (ja) * 1968-02-01 1971-05-10
JP2002526618A (ja) * 1998-10-06 2002-08-20 ヘンケル・テロソン・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング 耐衝撃性エポキシ樹脂組成物
JP2005096251A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Kaneka Corp 接着フィルム及びそれから得られる吸湿半田耐性を向上させたフレキシブル金属張積層板
WO2006030700A1 (ja) * 2004-09-15 2006-03-23 Kaneka Corporation 高い接着性を有するポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2007110118A (ja) 2005-10-11 2007-04-26 Robert Bosch Gmbh 点火コイルまたは変圧器のための磁気回路
WO2008013288A1 (fr) * 2006-07-27 2008-01-31 Ube Industries, Ltd. Laminé de film résistant à la chaleur et de feuille de métal, et son procédé de fabrication
WO2008140107A1 (ja) * 2007-05-09 2008-11-20 Jfe Chemical Corporation 非対称構造を有する線状ポリイミド前駆体、ポリイミドおよびそれらの製造方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
FANG, X. ET AL.: "Polyimides Derived from Mellophanic Dianhydride", MACROMOLECULES, vol. 35, no. 23, 2002, pages 8708 - 8717, XP008120968 *
MACROMOLECULES, vol. 32, 1999, pages 387
MACROMOLECULES, vol. 35, 2002, pages 8708
See also references of EP2295489A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110013461A (ko) 2011-02-09
TW201006868A (en) 2010-02-16
EP2295489A1 (en) 2011-03-16
JP2009286868A (ja) 2009-12-10
US20120088109A1 (en) 2012-04-12
EP2295489A4 (en) 2013-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009145339A1 (ja) 線状ポリイミド前駆体、線状ポリイミドとその熱硬化物、およびこれらの製造方法
JP5491735B2 (ja) 新規なエステル基含有テトラカルボン酸二無水物類、それから誘導される新規なポリエステルイミド前駆体及びポリエステルイミド
JP2008001876A (ja) ポリエステルイミドおよびその製造方法
WO2009139086A1 (ja) ポリエステルイミド前駆体及びポリエステルイミド
KR100895848B1 (ko) 폴리이미드, 폴리이미드 필름 및 적층체
JP2009286854A (ja) ポリエステルイミド前駆体およびポリエステルイミド
JP5244303B2 (ja) ポリエステルイミドおよびその製造方法
TW202140622A (zh) 樹脂膜、覆金屬層疊板及電路基板
JP5386159B2 (ja) はんだ耐熱性の高い接着性ポリイミド
JP5009670B2 (ja) ポリエステルイミド前駆体及びポリエステルイミド
JP2008248067A (ja) ポリイミドフィルムおよびフレキシブル回路基板
EP2145910A1 (en) Linear polyimide precursor having asymmetric structure, polyimide, and their production methods
JP4846609B2 (ja) エステル基及びオキサゾール構造を有するポリイミド前駆体、ポリイミド及びその製造方法
JP2021161387A (ja) ポリイミド、架橋ポリイミド、接着剤フィルム、積層体、カバーレイフィルム、樹脂付き銅箔、金属張積層板、回路基板及び多層回路基板
JP2952868B2 (ja) 耐熱性の接着剤
JP5547874B2 (ja) ポリイミド樹脂
JP2011148901A (ja) リン含有ジアミンおよびこれより得られるリン含有ポリイミド
US20060009615A1 (en) Polyamic acids, polyimide films and polymide-metal laminates and methods for making same
CN115260492A (zh) 一种低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法
TW202237705A (zh) 聚醯亞胺、金屬包覆層疊板及電路基板
JP2006117848A (ja) 熱硬化性樹脂組成物およびその利用
JP2009091441A (ja) ポリイミド前駆体及びポリイミド
JP4603929B2 (ja) エステルイミドオリゴマー、その熱硬化物およびこれらの製造方法
JP2021161240A (ja) ポリイミド、ポリイミド組成物、接着剤フィルム、積層体、カバーレイフィルム、樹脂付き銅箔、金属張積層板、回路基板及び多層回路基板
WO2008082152A1 (en) Polyimide film with improved adhesiveness

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 09754847

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2009754847

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20107027679

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12994163

Country of ref document: US