WO2009090907A1 - プローブカードおよびその製造方法 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a probe card and a method for manufacturing the same, and more particularly to a ball-type electrode of a BGA (ball grid array) type IC (integrated circuit) or a land-type electrode of an LGA (land grid array) type IC.
  • the present invention relates to a probe card that can be suitably used when a plurality of probe pins are brought into contact with a plurality of electrodes arranged in a grid on an integrated circuit to conduct a continuity test, and a method of manufacturing the same.
  • the length of the probe pin in the extending direction can be set longer than the case where the probe pin is arranged without being inclined.
  • the amount of displacement and the elastic stress can be freely set to desired values.
  • the probe card according to a fourth aspect of the present invention is the probe card according to the first aspect, wherein the plurality of probe pins are extended in any one of the two-dimensional directions in the grid arrangement of the plurality of electrodes. It is characterized in that it is arranged on the wiring board with a third arrangement pattern in which a plurality of probe pins are arranged in mirror symmetry or in parallel in the other directions while being arranged in parallel with the existing directions facing each other.
  • the probe card manufacturing method includes, as a first aspect thereof, a plurality of probe pins that respectively contact a plurality of electrodes arranged in a grid on an integrated circuit.
  • the plurality of probe pins is a method of manufacturing a probe card that is a horizontal cantilever whose one end is a free end that is a contact end with an electrode and the other end is a fixed end that is fixed to a wiring board.
  • the probe pins can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval of each probe pin constant, so that contact between the probe pins is avoided.
  • the length in the extending direction can be set long.
  • the width and thickness of the probe pin 3 are 30 ⁇ m, and the length in the extending direction 3LD is about 700 ⁇ m. In the first embodiment, since the distance between the pitches of the electrodes 11 is set to about 150 ⁇ m, the distance between the pitches of these probe pins 3 is also set to about 150 ⁇ m.
  • the probe pin 3 is preferably made of a metal material having excellent elasticity and conductivity, such as a Ni—P alloy, a Cu alloy, and a W (tungsten) alloy.
  • the length of the extending direction 3LD of the probe pin 3 of the first embodiment is about 700 ⁇ m, and the distance between the pitches is set to about 150 ⁇ m. Therefore, the probe of the first embodiment When a load of about 0.05 N (about 5 gf) is applied to the free end 3 f of the pin 3, the amount of displacement becomes about 380 ⁇ m, and a stress of 7.5 GPa is generated.
  • the maximum displacement of the probe pin 103 having a length of 150 ⁇ m or less, which is the maximum setting value, under the same load is about 5 ⁇ m, and the generated stress is 1.75 GPa. From this specific example, it can be seen that the displacement amount and elastic stress of the probe pin 3 of the first embodiment can be easily set.
  • the probe pins 3 of the first embodiment are arranged on the wiring board 2 with a first arrangement pattern as shown in FIG.
  • the first arrangement pattern is a pattern in which a plurality of probe pins 3 are arranged in parallel with each other in both two-dimensional directions in the grid arrangement of the electrodes 11, that is, in the X direction and the Y direction.
  • the probe pins 3 can be arranged while being inclined while keeping the arrangement intervals of the probe pins 3 constant, so that the probe pins 3 can be avoided from contacting each other.
  • the length in the extending direction 3LD can be set long.
  • a plurality of probe pins 3 are arranged on the wiring board 2 with a second arrangement pattern.
  • the probe pins 3 can be arranged while being inclined while keeping the arrangement interval between the probe pins 3 constant, so that the length of the probe pins 3 in the extending direction 3LD is increased while avoiding mutual contact of the probe pins 3. Can be set.
  • the operation of the method for manufacturing the probe card 1B of the second embodiment is the same as the operation of the manufacturing method in the first embodiment described above.
  • the same effect is obtained by making the shape of the vertical cross section of the columnar resist mold 20 a kamaboko shape.
  • the third arrangement pattern includes a plurality of probe pins in one direction (Y direction) of the two-dimensional direction (X direction and Y direction) in the grid arrangement of the plurality of electrodes 11.
  • 3 extending directions 3LD are opposed (that is, the direction from the fixed end 3r of the probe pin 3 toward the free end 3f is opposed) and arranged in parallel.
  • a plurality of probe pins 3 are all inclined at the same inclination angle, and a part (about half) of the probe pins 3 are made to face each other probe pin 3 and then the probe pins 3 made to face each other are arranged.
  • the third arrangement pattern is such that the probe pins 3 are parallel (see FIG. 12) or mirror-symmetrical (see FIG. 13) in the other direction (X direction) in the two-dimensional direction (X direction and Y direction). This is a pattern to be arranged.
  • the probe pin 3 is formed in a horizontal cantilever shape, It is arranged to be inclined with respect to both directions in the Y direction. Therefore, the length of the probe pin 3 in the extending direction 3LD can be set long, and the displacement amount and the elastic stress of the probe pin 3 can be easily set to desired values.

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Abstract

【課題】複数の電極がグリッド配置された集積回路を導通検査する際に水平型カンチレバー形状のプローブピンを使用することができるプローブカードおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】本発明のプローブカード1においては、集積回路10にグリッド配置された複数の電極11にそれぞれ接触する複数のプローブピン3を配線板2に備えている。複数のプローブピン3は、水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されており、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の両方向に対してプローブピン3を傾斜させて配置されている。

Description

プローブカードおよびその製造方法
 本発明は、プローブカードおよびその製造方法に係り、特に、BGA(ボール・グリッド・アレイ)型IC(集積回路)のボール型電極またはLGA(ランド・グリッド・アレイ)型ICのランド型電極などの集積回路にグリッド配置された複数の電極に複数のプローブピンをそれぞれ接触させて導通検査する際に好適に利用できるプローブカードおよびその製造方法に関する。
 従来のプローブカード101においては、その一例として、図16および図17に示すように、水平型カンチレバー形状のプローブピン103が配線板102に配置されている。水平型カンチレバー形状のプローブピン103は、その延在方向103LDへの長さを長くすることによってその変位量および弾性応力を大きく設定することができるので、複数の電極111がペリフェラル配置された集積回路110の導通検査に適していた。
特表2000-512437号公報
 しかしながら、図18および図19に示すように、複数の電極111がグリッド配置されている場合は電極111のピッチ間距離が50μm~150μmと極めて小さく設定されてしまう。したがって、グリッド配置された電極111にプローブピン103を接触させようとしてもプローブピン103の延在方向103LDへの長さを電極111のピッチ間距離以上に長く設定することができず、プローブピン103の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することができなかった。このことから、複数の電極111がグリッド配置された集積回路110を導通検査する際、プローブカード101に水平型カンチレバー形状のプローブピン103を使用することができないという問題があった。
 そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、複数の電極がグリッド配置された集積回路を導通検査する際に水平型カンチレバー形状のプローブピンを使用することができるプローブカードおよびその製造方法を提供することを本発明の目的としている。
 前述した目的を達成するため、本発明のプローブカードは、その第1の態様として、集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンと、複数のプローブピンを配置する配線板とを備えており、複数のプローブピンは、その一端が電極との接触端となる自由端であってその他端が配線板に固定される固定端である水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されているとともに、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向に対してプローブピンを傾斜させて配置されていることを特徴としている。
 本発明の第1の態様のプローブカードによれば、プローブピンを傾斜させずに配置した場合と比較してプローブピンの延在方向への長さを長く設定することができるので、プローブピンの変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することができる。
 本発明の第2の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第2の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 本発明の第3の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第3の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 本発明の第4の態様のプローブカードは、第1の態様のプローブカードにおいて、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第4の態様のプローブカードによれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 また、前述した目的を達成するため、本発明のプローブカードの製造方法は、その第1の態様として、集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンを配線板に配置してなるとともに、複数のプローブピンは、その一端が電極との接触端となる自由端となりその他端が配線板に固定される固定端となる水平型カンチレバーであるプローブカードの製造方法であって、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の一方向に対して平行に横たえる柱状レジスト型を一方向の配列にあわせて配線板に形成する工程Aと、柱状レジスト型の延在方向に対して傾斜させた方向に延在するプローブピンを柱状レジスト型の表面に薄膜形成する工程Bと、工程Bの終了後に柱状レジスト型を除去する工程Cとを経て形成されていることを特徴としている。ここで、薄膜形成とは、めっき形成、スパッタ形成その他の薄膜技術を用いる形成を言う。
 本発明の第1の態様のプローブカードの製造方法によれば、所定の位置および方向に横たえて柱状レジスト型を配置することにより、従来の薄膜生成技術を使用して本発明のプローブピンを形成することができる。また、プローブピンをスパッタ形成すれば、プローブピンおよびプローブカードの小型化に寄与する。
 本発明の第2の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第2の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 本発明の第3の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第3の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 本発明の第4の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、複数のプローブピンは、複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、配線板に配置されていることを特徴としている。
 本発明の第4の態様のプローブカードの製造方法によれば、各々のプローブピンの配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピンの相互の接触を避けつつ、それらの延在方向への長さを長く設定することができる。
 本発明の第5の態様のプローブカードの製造方法は、第1の態様のプローブカードの製造方法において、柱状レジスト型における延在方向と直交する縦断面は、かまぼこ形状であることを特徴としている。ここで、かまぼこ形状とは、半円形、半楕円形、その他の閉じた曲線を半分に切断した形状を言う。
 本発明の第5の態様のプローブカードの製造方法によれば、縦断面を矩形にするよりも柱状レジスト型を容易に形成することができる。また、プローブピンの形状が直交部分を湾曲形状にした横L字形状になるので、プローブピンが応力集中により破壊するのを抑制することができる。
 本発明のプローブカードおよびその製造方法によれば、プローブピンの変位量および弾性応力を大きく設定することができるので、複数の電極がグリッド配置された集積回路の導通検査に水平型カンチレバー形状のプローブピンを使用することができるという効果を奏する。
第1の実施形態のプローブカードを集積回路側から見た平面図 図1の2-2矢視断面図 図1の3-3矢視断面図 第1の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した状態を集積回路側から見て示す平面図 図4の5-5矢視断面図 図4の配線板にプローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図 プローブピンをめっき形成する場合のレジスト膜およびレジストパターンの形成状態を集積回路側から見て示す平面図 図7の8-8矢視断面図 図8に示したレジストパターンの内部にプローブピンをめっき形成した状態を示す縦断面図 第2の実施形態のプローブカードを集積回路側から見て示す平面図 第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図 第3の実施形態のプローブカードであってX方向のプローブピンを平行に配置したパターンを集積回路側から見て示す平面図 第3の実施形態のプローブカードであってX方向のプローブピンを鏡面対称にしてから配置したパターンを集積回路側から見て示す平面図 図12に示した第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図 図13に示した第2の実施形態の配線板に柱状レジスト型を形成した後プローブピンを薄膜形成した状態を集積回路側から見て示す平面図 従来のプローブカードのプローブピンにペリフェラル配置された集積回路の複数の電極を接触させた状態を集積回路側から見て示す平面図 図16の17-17矢視断面図 従来のプローブカードのプローブピンにグリッド配置された集積回路の複数の電極を接触させた状態を集積回路側から見て示す平面図 図18の19-19矢視断面図
 以下、本発明のプローブカードをその3つの実施形態により説明する。
 はじめに、第1の実施形態のプローブカード1Aを説明する。
 図1~図3は、第1の実施形態のプローブカード1Aを示している。第1の実施形態のプローブカード1Aは、図1に示すように、配線板2および複数のプローブピン3を備えている。配線板2はプローブカード1Aに用いられる一般的なものであり、その表面2aにプローブピン3と導通するビア、接続電極などの配線2bがプローブピン3ごとに設けられている。
 複数のプローブピン3は、BGA型ICのボール型電極またはLGA型ICのランド型電極などに代表されるような、集積回路10にグリッド配置された複数の電極11にそれぞれ接触するものである。具体的には、複数のプローブピン3は、図2に示すように、その一端が電極11との接触端となる自由端3fであってその他端が配線板2に固定される固定端3rである水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されている。
 このプローブピン3の幅および厚みは30μm、その延在方向3LDの長さは700μm程度である。第1の実施形態においては、電極11のピッチ間距離が150μm程度に設定されているので、これらプローブピン3のピッチ間距離も同様に150μm程度に設定されている。また、プローブピン3の材質はNi-P系合金、Cu系合金、W(タングステン)系合金などの弾性および導電性に優れた金属材料を用いることが好ましい。
 図1に示したプローブピン3の細部を詳細に説明すると、図2および図3に示すように、プローブピン3における横L字形の直交部分は湾曲形成面3pによって形成されている。この湾曲形成面3pはプローブピン3の延在方向3LDと直交せずにY方向に傾いて形成されている。
 一般的には、湾曲形成面3pはプローブピン3の延在方向3LDと直交しており、そのために一般的なプローブピン3は集積回路10の電極11によって押下されるとプローブピン3がねじれずに下方にそのまま湾曲する。しかし、第1の実施形態のプローブピン3は後述するその製造方法に特徴があるために湾曲形成面3pが傾いた形状になっている。そのため、第1の実施形態のプローブピン3が集積回路10の電極11によって押下されると、プローブピン3がその延在方向3LDを回転軸としてわずかにねじれながら下方に湾曲する。ただし、このねじれはわずかなものであるため、プローブピン3が電極11から離間するまでには至らず、そのことにより特段の不都合は発生しない。
 また、複数のプローブピン3は、図1に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の両方向に対してプローブピン3を傾斜させて配置されている。プローブピン3の傾斜角については、図1のように整合されていてもよいし、されていなくてもよい。プローブピン3の傾斜角が一定のパターンをもって整合されていれば、その整合されたプローブピン3の配置が特徴となり得る。
 第1の実施形態の特徴として、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の両方向において、複数のプローブピン3を相互に平行にして配線板2に配置されている。説明の都合上、このような配置を第1の配置パターンと称すると、図1に示した第1の配置パターンにおいては、複数のプローブピン3がX方向から時計回りにそれぞれ60度程度傾斜して相互に平行に配置されている。
 次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法を説明する。第1の実施形態のプローブカード1Aの配線板2に配置されるプローブピン3は、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。
 工程Aにおいては、図4に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)の一方向(Y方向)に、粘性が高いが流動性のあるレジスト液を連続的に塗布して硬化させる。これにより、配線板2の表面2aにおいてその一方向(Y方向)に対して平行に横たえる柱状レジスト型20をそれら電極11の一方向の配列(Y方向の配列)間隔と同様に形成する。この柱状レジスト型20における延在方向20LDと直交する縦断面の形状は、かまぼこ形(かまぼこ形とは、半円形、半楕円形、その他の閉じた曲線を半分に切断した形をいう。)、三角形、矩形などを選択することができる。第1の実施形態の柱状レジスト型20の縦断面は、図5に示すように、かまぼこ形状を採用している。プローブピン3は配線板2の配線2bと接続されるため、柱状レジスト型20の形成時においては、少なくとも配線板2の配線2bが一部露出するようにしておく。
 工程Bにおいては、図6に示すように、柱状レジスト型20の延在方向(Y方向)20LDに対して傾斜させたプローブピン3を柱状レジスト型20の表面20aに薄膜形成する。前述の通り、プローブピン3の材質は、Ni-P系合金、Cu系合金、W(タングステン)系合金などの弾性および導電性に優れた金属材料が好ましい。プローブピン3の薄膜形成方法についてはスパッタやめっきなど種々の方法を選択することができる。
 例えば、スパッタ法を選択する場合であれば、図6に示すように、配線板2の配線2bを始点として傾斜するプローブピン3の形状のパターンニングを柱状レジスト型20の表面20aに施す。また、めっき法を選択する場合、図7および図8に示すように、配線板2の表面2aおよび柱状レジスト型20の表面20aにCu系合金のシード膜23をスパッタ形成し、そのシード膜23の表面にレジスト膜21を形成してから、配線板2の配線2bを始点として傾斜するプローブピン3の形状に対応させたレジストパターン22をレジスト膜21にパターンニングする。そして、図9に示すように、レジストパターン22から露出したシード膜23の表面にNi-P系合金やCu系合金をめっきしてプローブピン3を薄膜形成する。なお、プローブピン3をめっき形成した場合には工程Cに移行する前にレジスト膜21の化学的除去およびイオンミリングによるシード膜23の物理的除去を行なっておく。
 工程Cにおいては、工程B(プローブピン形成工程)の終了後にレジスト除去剤を用いて柱状レジスト型20を化学的除去する。図3および図6に示すように、プローブピン3は除去した柱状レジスト型20に対して傾斜している。そのため、プローブピン3は横L字形の直交する部分を湾曲させて形成した形状であって、その湾曲形成面3pがプローブピン3の延在方向3LDと直交せずにY方向に傾いて形成される。以上の3つの工程を経てプローブカード1Aのプローブピン3が形成されている。
 次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの作用を説明する。
 第1の実施形態のプローブカード1Aにおいては、図1から図3に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、図18および図19に示すようなプローブピン103を傾斜させずに配置した場合と比較してプローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができるので、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。
 具体例を挙げると、第1の実施形態のプローブピン3の延在方向3LDの長さは700μm程度であり、そのピッチ間距離が150μm程度に設定されているので、第1の実施形態のプローブピン3の自由端3fに0.05N(約5gf)程度の荷重が印加されると、その変位量は380μm程度になり、7.5GPaの応力を発生する。従来例においては、最大設定値である150μm以下の長さのプローブピン103の同荷重における最大変位量が5μm程度であり、その発生する応力が1.75GPaであった。この具体例からも、第1の実施形態のプローブピン3の変位量および弾性応力を自由に設定しやすくなったことがわかる。
 また、第1の実施形態のプローブピン3は、図1に示すように、第1の配置パターンをもって、配線板2に配置されている。第1の配置パターンとは、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向、つまりX方向およびY方向において複数のプローブピン3を相互に平行に配置させるパターンである。この第1の配置パターンを採用することにより、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちつつ、それらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。
 次に、第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法の作用を説明する。
 第1の実施形態のプローブカード1Aの製造方法においては、プローブピン3がY方向の電極11の配列にあわせて(つまり、所定の位置および方向に)横たえた柱状レジスト型20が配線板2に形成されており、その柱状レジスト型20の延在方向20LDに対して傾斜させながらプローブピン3が柱状レジスト型20の表面20aに薄膜形成されている。これにより、従来の薄膜生成技術を使用して第1の実施形態のプローブピン3を形成することができる。また、プローブピン3をスパッタ形成すれば、プローブピン3およびプローブカード1の小型化に寄与することができる。
 また、この柱状レジスト型20の縦断面の形状は、かまぼこ形に形成されている。レジスト液の粘性を利用すればその縦断面を矩形にするよりもかまぼこ形にするほうが容易である。つまり、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることにより、柱状レジスト型20の成形性を向上させることができる。また、横L字形状のプローブピン3について直交部分を直交面によって形成せずに、湾曲湾曲面3pによて形状することができるので、プローブピン3が応力集中により破壊するのを抑制することができる。
 次に、第2の実施形態のプローブカード1Bを説明する。
 第2の実施形態のプローブカード1Bは、第1の実施形態と同様のプローブピン3および配線板2を備えており、図10に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向(X方向およびY方向)に対して傾斜させて複数のプローブピン3が配置されている。第1の実施形態との相違点は、プローブピン3の配置パターンが第1の配置パターンでなく、第2の配置パターンになっていることである。
 第2の配置パターンは、図10に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)のいずれか一方向(Y方向)において、複数のプローブピン3を鏡面対称にしてからそれらをその一方向(Y方向)の電極11に対して交互に配置させるパターンである。また、第2の配置パターンは、2次元方向(X方向およびY方向)の他方向(X方向)において、複数のプローブピン3を相互に平行に配置させるパターンである。
 第2の実施形態のプローブカード1Bの製造方法は以下の通りである。第1の実施形態と同様、第2の実施形態のプローブカード1Bは、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。第1の実施形態との相違点は、工程Bにおいて、柱状レジスト型20の表面20aに施される薄膜形成のパターニングが異なる点にある。
 つまり、図11に示すように、工程Aにおいては、柱状レジスト型20をY方向に延在させて形成する。工程Bにおいては、Y方向に延在する柱状レジスト型20の同一表面20aにおいて、複数のプローブピン3を鏡面対称かつ交互に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。また、並列配置された複数の柱状レジスト型20においては、X方向において複数のプローブピン3を相互に平行に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。その後、工程Cにおいて柱状レジスト型20を化学的除去してプローブカード1Bのプローブピン3が形成される。
 なお、工程Aにおいては、第1の実施形態と同様、柱状レジスト型20の縦断面がかまぼこ形に形成されていることが好ましい(図5を参照)。
 次に、第2の実施形態のプローブカード1Bの作用を説明する。
 第2の実施形態のプローブカード1Bにおいては、第1の実施形態と同様、図10に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、プローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができるので、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。
 また、第2の実施形態のプローブカード1Bにおいては、第1の実施形態とは異なり、図10に示すように、複数のプローブピン3が第2の配置パターンをもって配線板2に配置されている。そのため、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。
 なお、図10だけを参照すると、1のプローブピン3の先端である自由端3fが隣位するプローブピン3の根元である固定端3rに近接しているようにも見受けられるが、これらは高さが異なるため、2次元方向(X方向およびY方向)の直交方向たるZ方向においては離間しており、それらが接触するおそれはない。
 第2の実施形態のプローブカード1Bの製造方法の作用については、前述した第1の実施形態における製造方法の作用と同様である。また、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることによる作用も同様である。
 次に、第3の実施形態のプローブカード1Cを説明する。
 第3の実施形態のプローブカード1Cは、第1または第2の実施形態と同様のプローブピン3および配線板2を備えており、図12または図13に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向の両方向(X方向およびY方向)に対して傾斜させて複数のプローブピン3が配置されている。第1または第2の実施形態との相違点は、プローブピン3の配置パターンが第1または第2の配置パターンでなく、第3の配置パターンになっていることである。
 第3の配置パターンは、図12または図13に示すように、複数の電極11のグリッド配置における2次元方向(X方向およびY方向)のいずれか一方向(Y方向)において、複数のプローブピン3の延在方向3LDを対向させ(つまり、プローブピン3の固定端3rからその自由端3fに向かう方向を対向させ)、かつ、平行に配置させるパターンである。簡単に換言すると、複数のプローブピン3をすべて同一の傾斜角に傾斜させ、そのうちの一部(約半数)のプローブピン3を他のプローブピン3と対向させた後に対向させたプローブピン3をY方向に平行移動したような配置パターンである。また、第3の配置パターンは、2次元方向(X方向およびY方向)の他方向(X方向)において、複数のプローブピン3を平行(図12を参照)または鏡面対称(図13を参照)に配置させるパターンである。
 この第3の実施形態のプローブカード1Cの製造方法は以下の通りである。第1または第2の実施形態と同様、第3の実施形態のプローブカード1Cは、主として、3つの工程A(柱状レジスト型形成工程)、工程B(プローブピン形成工程)および工程C(柱状レジスト型除去工程)を経て製造される。第1または第2の実施形態との相違点は、工程Bにおいて、柱状レジスト型20の表面20aに施されるプローブピン3の薄膜形成におけるパターニングが異なる点にある。
 つまり、図14または図15に示すように、工程Aにおいては、柱状レジスト型20をY方向に延在させて形成する。工程Bにおいては、Y方向に延在する柱状レジスト型20の同一表面20aにおいて、複数のプローブピン3の延在方向3LDを対向させ(つまり、プローブピン3の固定端3rからその自由端3fに向かう方向を対向させ)、かつ、平行に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。また、並列配置された複数の柱状レジスト型20においては、X方向において複数のプローブピン3を相互に平行(図14を参照)または鏡面対称(図15を参照)に配置させる薄膜形成のパターンニングを行なう。その後、工程Cにおいて柱状レジスト型20を化学的除去してプローブカード1Cのプローブピン3が形成される。
 なお、工程Aにおいては、第1または第2の実施形態と同様、柱状レジスト型20の縦断面がかまぼこ形に形成されていることが好ましい(図5を参照)。
 次に、第3の実施形態のプローブカード1Cの作用を説明する。
 第3の実施形態のプローブカード1Cにおいては、第1または第2の実施形態と同様、図12または図13に示すように、プローブピン3が水平型カンチレバー形状に形成されており、X方向およびY方向の両方向に対して傾斜させて配置されている。そのため、プローブピン3の延在方向3LDへの長さを長く設定することができ、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望の値に自由に設定することが容易になる。
 また、第3の実施形態のプローブカード1Cにおいては、第1または第2の実施形態とは異なり、図12または図13に示すように、複数のプローブピン3が第3の配置パターンをもって配線板2に配置されている。そのため、各々のプローブピン3の配置間隔を一定に保ちながらそれらを傾斜させて配置することができるので、プローブピン3の相互の接触を避けつつ、それらの延在方向3LDへの長さを長く設定することができる。
 なお、第2の実施形態と同様、図12または図13だけを参照すると、1のプローブピン3の先端である自由端3fが隣位するプローブピン3の根元である固定端3rに近接しているようにも見受けられるが、これらは高さが異なるため、2次元方向(X方向およびY方向)の直交方向たるZ方向においては離間しており、それらが接触するおそれはない。
 第3の実施形態のプローブカード1Cの製造方法の作用については、前述した第1または第2の実施形態における製造方法の作用と同様である。また、柱状レジスト型20の縦断面の形状をかまぼこ形にすることによる作用も同様である。
 すなわち、第1から第3の実施形態のプローブカード1A~Cおよびその製造方法によれば、プローブピン3の変位量および弾性応力を所望する値に自由に設定することができるので、複数の電極11がグリッド配置された集積回路10の導通検査に水平型カンチレバー形状のプローブピン3を使用することができるという効果を奏する。
 なお、本発明は、前述した実施形態などに限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。

Claims (9)

  1.  集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンと、
     前記複数のプローブピンを配置する配線板と
    を備えており、
     前記複数のプローブピンは、その一端が前記電極との接触端となる自由端であってその他端が前記配線板に固定される固定端である水平型カンチレバー形状にそれぞれ形成されているとともに、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向に対して前記プローブピンを傾斜させて配置されている 
    ことを特徴とするプローブカード。
  2.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
  3.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
  4.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項1に記載のプローブカード。
  5.  集積回路にグリッド配置された複数の電極にそれぞれ接触する複数のプローブピンを配線板に配置してなるとともに、
     前記複数のプローブピンは、その一端が前記電極との接触端となる自由端となりその他端が前記配線板に固定される固定端となる水平型カンチレバーであるプローブカードの製造方法であって、
     前記複数のプローブピンは、
     前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の一方向に対して平行に横たえる柱状レジスト型を前記一方向の配列にあわせて前記配線板に形成する工程Aと、
     前記柱状レジスト型の延在方向に対して傾斜させた方向に延在する前記プローブピンを前記柱状レジスト型の表面に薄膜形成する工程Bと、
     前記工程Bの終了後に前記柱状レジスト型を除去する工程Cとを経て形成されている
    ことを特徴とするプローブカードの製造方法。
  6.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向の両方向において複数のプローブピンを平行にして配置させる第1の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
  7.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンを鏡面対称にして交互に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを平行にして配置させる第2の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
  8.  前記複数のプローブピンは、前記複数の電極のグリッド配置における2次元方向のいずれか一方向においては複数のプローブピンの延在方向を対向させつつ平行に配置させるとともにその他方向においては複数のプローブピンを鏡面対称または平行にして配置させる第3の配置パターンをもって、前記配線板に配置されている
    ことを特徴とする請求項5項に記載のプローブカードの製造方法。
  9.  前記柱状レジスト型における延在方向と直交する縦断面は、かまぼこ形状である
    ことを特徴とする請求項5に記載のプローブカードの製造方法。
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