WO2009011246A1 - Procédé pour traiter un substrat en matériau cassant et appareil de formation de fissure utilisé dans le procédé - Google Patents

Procédé pour traiter un substrat en matériau cassant et appareil de formation de fissure utilisé dans le procédé Download PDF

Info

Publication number
WO2009011246A1
WO2009011246A1 PCT/JP2008/062305 JP2008062305W WO2009011246A1 WO 2009011246 A1 WO2009011246 A1 WO 2009011246A1 JP 2008062305 W JP2008062305 W JP 2008062305W WO 2009011246 A1 WO2009011246 A1 WO 2009011246A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
cut
brittle material
crack
cutting
Prior art date
Application number
PCT/JP2008/062305
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Shimizu
Hideki Morita
Kenji Fukuhara
Koji Yamamoto
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd.
Priority to CN200880024033.2A priority Critical patent/CN101687342B/zh
Priority to JP2009523603A priority patent/JP5108886B2/ja
Priority to KR1020097025243A priority patent/KR101094699B1/ko
Publication of WO2009011246A1 publication Critical patent/WO2009011246A1/fr

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/02Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • C03B33/023Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor the sheet or ribbon being in a horizontal position
    • C03B33/033Apparatus for opening score lines in glass sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/09Severing cooled glass by thermal shock
    • C03B33/091Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/04Arrangements of vacuum systems or suction cups
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S29/00Metal working
    • Y10S29/001Method or apparatus involving adhesive

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

L'invention porte sur un procédé pour traiter un substrat en matériau cassant, dans lequel une coupe est effectuée avec d'excellentes qualités de surface d'extrémité sur une surface coupée et une excellente linéarité. Dans le procédé pour couper le substrat en matériau cassant devant être coupé, le substrat est coupé grâce au fait que l'on permet à une fissure de se développer dans le substrat. Le substrat est coupé à l'aide des étapes suivantes. Lors d'une étape (a), un substrat de support est solidement fixé sur le substrat. Le substrat de support permet à de la chaleur, qui atteint la surface inférieure du substrat à partir de la surface supérieure lorsque le substrat est irradié par un faisceau laser, d'être transmise à partir de la surface inférieure du substrat par conduction thermique, et fonctionne de façon à générer une distorsion afin de former une protubérance au voisinage d'une ligne de coupe planifiée après refroidissement. Ensuite, dans une étape (b), le substrat est irradié par un faisceau laser par déplacement relatif du faisceau laser, et une fissure est amenée à se développer pendant la coupe du substrat par une rupture verticale, la fissure se développant dans la direction de l'épaisseur du fait de son refroidissement, et, dans une étape (c), une adhérence solide entre le substrat de support et le substrat devant être traité est relâchée.
PCT/JP2008/062305 2007-07-13 2008-07-08 Procédé pour traiter un substrat en matériau cassant et appareil de formation de fissure utilisé dans le procédé WO2009011246A1 (fr)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200880024033.2A CN101687342B (zh) 2007-07-13 2008-07-08 脆性材料基板的加工方法及用于该方法的裂痕形成装置
JP2009523603A JP5108886B2 (ja) 2007-07-13 2008-07-08 脆性材料基板の加工方法およびこれに用いるクラック形成装置
KR1020097025243A KR101094699B1 (ko) 2007-07-13 2008-07-08 취성 재료 기판의 가공 방법 및 이것에 사용하는 크랙 형성 장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007-184613 2007-07-13
JP2007184613 2007-07-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009011246A1 true WO2009011246A1 (fr) 2009-01-22

Family

ID=40259584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/062305 WO2009011246A1 (fr) 2007-07-13 2008-07-08 Procédé pour traiter un substrat en matériau cassant et appareil de formation de fissure utilisé dans le procédé

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5108886B2 (fr)
KR (1) KR101094699B1 (fr)
CN (1) CN101687342B (fr)
TW (1) TWI409122B (fr)
WO (1) WO2009011246A1 (fr)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101927402A (zh) * 2009-06-17 2010-12-29 三星钻石工业股份有限公司 脆性材料基板的割断方法
JP2012526721A (ja) * 2009-05-13 2012-11-01 コーニング インコーポレイテッド 脆弱材料の切断方法
KR101200789B1 (ko) * 2009-06-30 2012-11-13 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 취성 재료 기판의 할단 방법
WO2013082830A1 (fr) * 2011-12-05 2013-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 Dispositif de coupe et procédé pour substrat en verre
JP2013136073A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 被加工物の分断方法および光学素子パターン付き基板の分断方法
WO2013151074A1 (fr) * 2012-04-05 2013-10-10 日本電気硝子株式会社 Procédé de fracturation d'un film de verre et corps stratifié en film de verre
WO2013151075A1 (fr) * 2012-04-05 2013-10-10 日本電気硝子株式会社 Procédé de fracturation d'un film de verre et corps stratifié en film de verre
KR101369211B1 (ko) * 2010-08-27 2014-03-04 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 레이저 할단 장치
JP2014065629A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板の分断方法及びスクライブ装置
JP2014065630A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板の分断方法及びスクライブ装置
WO2014171396A1 (fr) * 2013-04-15 2014-10-23 旭硝子株式会社 Procédé de découpe de feuille de verre
JP2015071515A (ja) * 2013-10-04 2015-04-16 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの割断方法及びフィルム状ガラスの製造方法
EP2873481A1 (fr) * 2013-11-13 2015-05-20 Asahi Glass Co., Ltd. Procédé et appareil permettant de former une rainure dans un substratutilisant un spot chauffant provenant d'un laser ou d'un arc
JP2017095295A (ja) * 2015-11-20 2017-06-01 旭硝子株式会社 ガラス積層体の切断方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011177782A (ja) * 2010-03-04 2011-09-15 Mitsubishi Materials Corp レーザ加工方法
KR101409520B1 (ko) * 2010-04-12 2014-06-20 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 레이저 절단방법 및 레이저 절단장치
JP6303861B2 (ja) * 2014-06-25 2018-04-04 三星ダイヤモンド工業株式会社 単結晶基板の分断方法
KR101641939B1 (ko) * 2014-07-14 2016-07-22 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 기판 브레이크 장치 및 방법
CN105436712B (zh) * 2015-12-07 2017-12-12 武汉铱科赛科技有限公司 一种脆性半导体材料的脆性裂片方法及系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002047025A (ja) * 2000-07-31 2002-02-12 Seiko Epson Corp 基板の切断方法、およびこれを用いた電気光学装置の製造方法とこれに用いるレーザ切断装置および電気光学装置と電子機器
JP2004025187A (ja) * 2002-05-10 2004-01-29 Japan Science & Technology Corp レーザ割断加工における冷凍チャッキング方法および装置
JP2005153035A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Kyocera Corp ワイヤーソー装置
JP2005263578A (ja) * 2004-03-19 2005-09-29 Shibaura Mechatronics Corp 脆性材料の割断加工システム及びその方法
WO2007049668A1 (fr) * 2005-10-28 2007-05-03 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Procede de formation d’une ligne de decoupe sur un substrat en materiau fragile et dispositif de formation de ligne de decoupe

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005212364A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Shibaura Mechatronics Corp 脆性材料の割断加工システム及びその方法
CN101043992B (zh) * 2004-10-01 2011-03-23 三星钻石工业股份有限公司 脆性材料的划线方法以及划线装置
JP2006150642A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Rorze Corp セル及びセルの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002047025A (ja) * 2000-07-31 2002-02-12 Seiko Epson Corp 基板の切断方法、およびこれを用いた電気光学装置の製造方法とこれに用いるレーザ切断装置および電気光学装置と電子機器
JP2004025187A (ja) * 2002-05-10 2004-01-29 Japan Science & Technology Corp レーザ割断加工における冷凍チャッキング方法および装置
JP2005153035A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Kyocera Corp ワイヤーソー装置
JP2005263578A (ja) * 2004-03-19 2005-09-29 Shibaura Mechatronics Corp 脆性材料の割断加工システム及びその方法
WO2007049668A1 (fr) * 2005-10-28 2007-05-03 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Procede de formation d’une ligne de decoupe sur un substrat en materiau fragile et dispositif de formation de ligne de decoupe

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012526721A (ja) * 2009-05-13 2012-11-01 コーニング インコーポレイテッド 脆弱材料の切断方法
CN101927402A (zh) * 2009-06-17 2010-12-29 三星钻石工业股份有限公司 脆性材料基板的割断方法
KR101200789B1 (ko) * 2009-06-30 2012-11-13 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 취성 재료 기판의 할단 방법
KR101369211B1 (ko) * 2010-08-27 2014-03-04 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 레이저 할단 장치
WO2013082830A1 (fr) * 2011-12-05 2013-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 Dispositif de coupe et procédé pour substrat en verre
JP2013136073A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 被加工物の分断方法および光学素子パターン付き基板の分断方法
JP2013230962A (ja) * 2012-04-05 2013-11-14 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスフィルムの割断方法及びガラスフィルム積層体
JP2013216513A (ja) * 2012-04-05 2013-10-24 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスフィルムの切断方法及びガラスフィルム積層体
WO2013151075A1 (fr) * 2012-04-05 2013-10-10 日本電気硝子株式会社 Procédé de fracturation d'un film de verre et corps stratifié en film de verre
WO2013151074A1 (fr) * 2012-04-05 2013-10-10 日本電気硝子株式会社 Procédé de fracturation d'un film de verre et corps stratifié en film de verre
US9212080B2 (en) 2012-04-05 2015-12-15 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass film cleaving method and glass film laminate
EP2835361A4 (fr) * 2012-04-05 2015-12-30 Nippon Electric Glass Co Procédé de fracturation d'un film de verre et corps stratifié en film de verre
JP2014065629A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板の分断方法及びスクライブ装置
JP2014065630A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性材料基板の分断方法及びスクライブ装置
WO2014171396A1 (fr) * 2013-04-15 2014-10-23 旭硝子株式会社 Procédé de découpe de feuille de verre
JP2015071515A (ja) * 2013-10-04 2015-04-16 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの割断方法及びフィルム状ガラスの製造方法
EP2873481A1 (fr) * 2013-11-13 2015-05-20 Asahi Glass Co., Ltd. Procédé et appareil permettant de former une rainure dans un substratutilisant un spot chauffant provenant d'un laser ou d'un arc
JP2017095295A (ja) * 2015-11-20 2017-06-01 旭硝子株式会社 ガラス積層体の切断方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2009011246A1 (ja) 2010-09-16
CN101687342B (zh) 2015-01-21
KR101094699B1 (ko) 2011-12-20
CN101687342A (zh) 2010-03-31
TWI409122B (zh) 2013-09-21
TW200918224A (en) 2009-05-01
KR20100010505A (ko) 2010-02-01
JP5108886B2 (ja) 2012-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009011246A1 (fr) Procédé pour traiter un substrat en matériau cassant et appareil de formation de fissure utilisé dans le procédé
WO2008140818A3 (fr) Procédé et appareil de rayage et de séparation d'un matériau fragile à l'aide d'un faisceau de rayonnement unique
EP1741534A4 (fr) Méthode pour former une fente verticale sur une plaque frittée et appareil de formation de fente verticale
TW200613228A (en) Device, system and method for cutting, cleaving or separating a substrate material
TW201129514A (en) Methods for laser cutting glass substrates
WO2010081171A3 (fr) Sectionnement induit par laser et transfert de colonies cellulaires
TW200720205A (en) Method of forming scribe line on substrate of brittle material and scribe line forming apparatus
JP2012503555A5 (fr)
JP2011194644A (ja) 脆性材料基板の加工方法およびこれに用いるレーザ加工装置
JP2011031483A (ja) 脆性材料基板の加工方法並びに加工装置
WO2009069510A1 (fr) Procédé de découpe d'un objet à travailler
EP1716960A4 (fr) Traitement et dispositif laser
MY147833A (en) Laser processing method
TW200735199A (en) Method and apparatus for severing disks of brittle material, in particular wafers
TW200722218A (en) Laser cutting apparatus
IN2012DN02446A (fr)
JP2012066479A (ja) 樹脂付き脆性材料基板の分割方法
JP2015223818A (ja) 基板分断方法並びに基板分断装置
JP6561566B2 (ja) 貼り合わせ基板の分割方法及び分割装置
JP2019069611A (ja) ブレイク装置
JP2007230818A (ja) ワークの分割方法および貼合せ基板の分割方法
EP1857611B8 (fr) Procédé de réparation de la surface d'un support en forme de plaque
MX2019014289A (es) Metodo y aparato para conformar una hoja de vidrio.
JP6507866B2 (ja) 半田ボール付き半導体チップの製造装置及び作製方法
JP2009244240A (ja) 走査電子顕微鏡による断面観察用サンプルの作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200880024033.2

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08790942

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2009523603

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20097025243

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08790942

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1