WO2008149907A1 - Solvant de nettoyage et procédé de nettoyage - Google Patents

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Michiomi Nagase
Masaaki Tsuzaki
Hiroaki Mitsuoka
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Asahi Glass Company, Limited
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Abstract

L'invention porte sur un solvant de nettoyage qui a une performance de nettoyage élevée à l'encontre d'un flux, une matière contenant un flux ou similaire et n'a pas de point éclair. L'invention porte également sur un procédé de nettoyage qui permet de nettoyer un flux, une matière contenant un flux ou similaire sans le souci concernant l'inflammation d'un solvant de nettoyage. Le solvant de nettoyage comprend 87 à 94 % en masse de (2,2,2-trifluoroéthoxy)-1,1,2,2-tétrafluoroéthane et 6 à 13 % en masse d'acétone. Le procédé de nettoyage comprend : une étape de contact avec un solvant, consistant à mettre en contact un premier solvant de nettoyage avec un article d'intérêt ; et, à la suite de l'étape de contact avec un solvant, une étape de contact avec de la vapeur d'eau, consistant à faire évaporer un second solvant de nettoyage pour générer une vapeur d'eau, puis à exposer l'article à la vapeur d'eau. Chacun des premier et second solvants de nettoyage consiste en le solvant de nettoyage mentionné ci-dessus.
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