WO2008078043A3 - Procede et installation de fabrication de blocs d'un materiau semiconducteur - Google Patents

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WO2008078043A3
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Gobbo Jean-Pierre Del
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Abstract

L'invention concerne une installation (10) de fabrication de blocs d'un matériau semiconducteur, comprenant au moins une enceinte (12) contenant une atmosphère de gaz neutre, l'enceinte comprenant un système de fusion (27, 32, 40) adapté à faire fondre le matériau semiconducteur dans un creuset (24); un système de purification (50) adapté à éliminer des impuretés du matériau semiconducteur fondu dans le creuset; un système de transfert thermique (32) adapté à refroidir la base du creuset et un système de chauffage (40) de la surface libre (63) du matériau semiconducteur fondu et purifié dans le creuset de façon à favoriser la solidification du matériau semiconducteur; et un système de déplacement (18) du creuset (24) contenant le matériau semiconducteur fondu et purifié jusqu'au système de chauffage et/ou un système de déplacement du système de chauffage jusqu'au creuset contenant le matériau semiconducteur fondu et purifié.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2950046B1 (fr) * 2009-09-15 2011-11-25 Apollon Solar Dispositif a basse pression de fusion et purification de silicium et procede de fusion/purification/solidification
JP5740584B2 (ja) 2009-09-18 2015-06-24 エービービー エービー シリコンを結晶化させる装置及び方法
IT1396762B1 (it) * 2009-10-21 2012-12-14 Saet Spa Dispositivo per l'ottenimento di un materiale semiconduttore multicristallino, in particolare silicio, e metodo per il controllo della temperatura nello stesso
IT1396761B1 (it) * 2009-10-21 2012-12-14 Saet Spa Metodo e dispositivo per l'ottenimento di un materiale semiconduttore multicristallino, in particolare silicio
JP5859577B2 (ja) 2012-02-03 2016-02-10 シリシオ フェロソラール ソシエダーダ リミターダ シリコン精製装置及びシリコン精製方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0158563A1 (fr) * 1984-04-02 1985-10-16 Rhone-Poulenc Chimie Procédé de fabrication non polluant de silicium massif à partir de silicium divisé
FR2853913A1 (fr) * 2003-04-17 2004-10-22 Apollon Solar Creuset pour un dispositif de fabrication d'un bloc de materiau cristallin et procede de fabrication
WO2005105670A1 (fr) * 2004-04-20 2005-11-10 Efd Induction Sa Procede et installation de fabrication de blocs d'un materiau semiconducteur

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0158563A1 (fr) * 1984-04-02 1985-10-16 Rhone-Poulenc Chimie Procédé de fabrication non polluant de silicium massif à partir de silicium divisé
FR2853913A1 (fr) * 2003-04-17 2004-10-22 Apollon Solar Creuset pour un dispositif de fabrication d'un bloc de materiau cristallin et procede de fabrication
WO2005105670A1 (fr) * 2004-04-20 2005-11-10 Efd Induction Sa Procede et installation de fabrication de blocs d'un materiau semiconducteur

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