WO2007105387A1 - 半導体検査システム - Google Patents

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WO2007105387A1
WO2007105387A1 PCT/JP2007/051892 JP2007051892W WO2007105387A1 WO 2007105387 A1 WO2007105387 A1 WO 2007105387A1 JP 2007051892 W JP2007051892 W JP 2007051892W WO 2007105387 A1 WO2007105387 A1 WO 2007105387A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
semiconductor
probe
measurement
semiconductor chip
cleaning
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/051892
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takeyasu Kuwata
Yuji Ide
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. filed Critical Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Publication of WO2007105387A1 publication Critical patent/WO2007105387A1/ja

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor inspection system.
  • each semiconductor chip is formed on a semiconductor wafer by a wafer process, and then the electrical characteristics of a plurality of semiconductor chips formed on these semiconductor wafers are measured. A probe test to be measured is performed.
  • a semiconductor wafer prober 20 Oa as shown in FIG. 1 is used.
  • the contact resistance is increased by repeatedly bringing the probe 50 into contact with the electrode pad, so that a measurement abnormality may occur, resulting in a decrease in yield.
  • a means for cleaning the probe 50 is used to prevent an increase in contact resistance.
  • an arbitrary number of inspections is determined and measurement is performed. If the number of inspections is equal to or larger than the arbitrary number of inspections, the probe 50 is cleaned. To implement.
  • a wafer, a stage, and the like for measuring the contact resistance value of the probe 50 are prepared, and an arbitrary management value serving as a reference is determined before the measurement. After the measurement is completed, the contact resistance of the probe 50 is measured, and cleaning is performed when the measured value exceeds the control value. (For example, see Patent Document 1).
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-59987 (1st page, Fig. 1)
  • the present invention suppresses the investment of a new stage of a semiconductor inspection system and reduces the electrical characteristics of the semiconductor chip by increasing the contact resistance of the measurement probe without significantly reducing the productivity of the semiconductor wafer.
  • the purpose is to provide a semiconductor inspection system that can prevent measurement anomalies.
  • the probe state is determined using measurement results of a plurality of arbitrary electrical characteristics, and the state of the probe is obtained. Accordingly, cleaning is performed.
  • a semiconductor inspection system is a semiconductor inspection system comprising a prober that inspects the semiconductor chip by bringing a measuring probe into contact with a pad of the semiconductor chip formed on the semiconductor wafer.
  • a test stage in which a holding stage for holding the semiconductor wafer and a probe card having the measuring probe is set.
  • the test board and the measurement probe are connected to the test board so as to come into contact with a predetermined pad of the semiconductor wafer, and are connected to the test board through a connection cable and set on the test board.
  • a test signal is sent into the semiconductor chip through contact between the probe for measurement of the probe card and a predetermined pad of the semiconductor chip, and a tester for arbitrarily inspecting the semiconductor chip, and the tester A cleaning mechanism for tallying the measurement probe is provided as a condition for cleaning the measurement value of the inspection performed.
  • a semiconductor inspection system according to claim 2 of the present invention is the semiconductor inspection system according to claim 1, wherein the cleaning mechanism is configured to perform inspection of the semiconductor chip using the measuring probe with the tester. If the inspection result matches the cleaning condition, the measuring probe is cleaned.
  • a semiconductor inspection system is the semiconductor inspection system according to claim 1, wherein the cleaning mechanism inspects the semiconductor chip using the measuring probe V with the tester. In the middle of the process, if the inspection result so far matches the cleaning condition, the measurement probe is cleaned without waiting for the end of the inspection. Is.
  • a semiconductor inspection system is the semiconductor inspection system according to claims 1 to 3, wherein the cleaning mechanism has a plurality of means for performing the cleaning, and is implemented by the tester. The measured value of the inspection performed is compared with a predetermined criterion value to select any one of the plurality of cleaning means and perform taring. .
  • a semiconductor inspection system is the semiconductor inspection system according to any one of claims 1 to 4, wherein the cleaning mechanism uses the measurement probe to perform the tester.
  • the measurement value of the inspection carried out in step 2 is equal to or greater than a predetermined measurement value for a plurality of continuous semiconductor chips, this is used as a condition for tallying the measurement probe. .
  • a semiconductor inspection system according to claim 6 of the present invention is a semiconductor inspection system according to claim 5.
  • the cleaning mechanism is intensively applied to the tester for a good semiconductor. Storing the reference value of the predetermined inspection performed in this way, comparing the measurement value of the inspection performed by the tester using the measuring probe with the reference value of the predetermined inspection, When the value is equal to or greater than the reference value of the predetermined inspection, the measurement probe is cleaned.
  • a semiconductor inspection system is a semiconductor inspection system comprising a prober that inspects the semiconductor chip by bringing a measuring probe into contact with a node of the semiconductor chip formed on the semiconductor wafer.
  • a holding stage for holding the semiconductor wafer, a test board on which a probe card having the measuring probe is set, and the measuring probe are brought into contact with a predetermined pad of the semiconductor wafer.
  • a semiconductor inspection system is a semiconductor comprising a probe for inspecting a semiconductor chip by bringing a measurement probe into contact with a node of the semiconductor chip formed on the semiconductor wafer.
  • the holding stage for holding the semiconductor wafer, the test board for setting the probe card having the measurement probe, and the measurement probe are in contact with the predetermined node of the semiconductor wafer.
  • the predetermined number of semiconductor chips that have been judged to be defective continuously are stored in an arbitrary number equal to or less than the predetermined number. The measurement is performed using the measurement probe which has been returned and cleaned again.
  • cleaning is performed by determining the state of the probe, and the work of checking the probe state after cleaning by performing taring in the prober can also be determined from the measurement result of the electrical characteristics. Therefore, it is possible to perform measurement without reducing productivity.
  • test abnormality can be determined early because a test abnormality is determined from the measurement results of a plurality of electrical characteristics. Investment can be reduced because the increase in contact resistance can be found without adding stages.
  • FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor wafer prober in a semiconductor inspection system according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram showing a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram showing a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 (a) is a diagram showing a configuration of a semiconductor wafer prober of the semiconductor inspection system according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 (b) is a diagram showing a measurement flow chart of the semiconductor inspection system according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram showing a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a diagram showing a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram showing a measurement flowchart of the semiconductor inspection system according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram showing a measurement flowchart of a conventional semiconductor inspection system. Explanation of symbols
  • the semiconductor wafer prober 200a includes a probe card 40 provided with a measurement probe 50, a holding stage 70 for holding the semiconductor wafer 60, and a probe.
  • the cleaning mechanism 100a for cleaning the tip of the lobe 50, the tester 10 for measuring the electrical characteristics of the semiconductor chip, and the joining jig 90 for joining the holding stage 70 and the cleaning mechanism 100a.
  • the probe card 40 is used by being mounted on the test board 30, and the probe card 40 is provided with a plurality of probes 50 so as to be in contact with the electrode pads of the semiconductor chip and to measure the electrical characteristics. ing.
  • the probe card 40 is connected to the tester 10 through the test board 30 and the connection cable 20.
  • the electrical signal from the tester 10 is input to the semiconductor chip through the probe card 40, and the signal from the semiconductor chip is transferred to the tester 10 through the probe card 40.
  • the holding stage 70 can hold the wafer 60 to be measured.
  • a drive unit 80 is provided so that the holding stage 70 can move. The movement of the holding stage 70 is controlled by a control signal output from the tester 10.
  • the cleaning mechanism 100a includes a cleaning plate 101a and a cleaning stage 102 on which the cleaning plate 101a is mounted.
  • the cleaning mechanism 100a is for cleaning the tip of the probe 50. is there.
  • the tester 10 receives and processes electrical signals of the measurement results of the electrical characteristics of the semiconductor chip to be measured, and processes it.
  • FIG. 2 is a flowchart showing the measurement process of the semiconductor inspection system according to the first embodiment.
  • step S10 shown in FIG. 2 is performed.
  • the wafer 60 is held on the holding stage 70 with the surface of the wafer 60 facing upward.
  • the probe card 40 is set on the test board 30 of the semiconductor wafer prober 200a.
  • step S20 shown in FIG. 2 is performed.
  • the holding stage 70 is moved to the location of the semiconductor chip to be measured by the drive unit 80, the electrode pad of the semiconductor chip and the probe 50 are brought into contact, and a power supply voltage is applied from the tester 10 to the semiconductor chip through the probe 50. Then, an input signal for a predetermined inspection is given to the semiconductor chip, and the semiconductor chip is operated. Also, the semiconductor chip electrical Outputs the measurement result of characteristics.
  • the measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip is performed for a plurality of measurement items. Examples of multiple measurement items include measurement of contact resistance between the electrode pad of the semiconductor chip and the probe, measurement of the functional part in the semiconductor chip, measurement of the analog part in the semiconductor chip, DC for each terminal of the semiconductor chip, There are AC characteristics measurement.
  • step S30 shown in FIG. 2 is performed.
  • the semiconductor chip is judged good or bad, and the measurement of the semiconductor chip is completed.
  • step S40 shown in FIG. 2 is performed.
  • step S30 For the semiconductor chip that has been measured in step S30, use the measurement result of one or more of the electrical characteristic measurement items, and the measurement value of the measurement result of the electrical characteristic is above a certain level.
  • a signal is transmitted from the tester 10, and the measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip is performed on the semiconductor chips that have been measured among the multiple semiconductor chips formed on the wafer 60. By the way, stop temporarily and go to step S50. If the measurement value of the measurement result is less than a certain value (Yes in step S40), if the semiconductor chips formed on the UENO 60 cannot be measured for all semiconductor chips, repeat the step. Repeat step S40 to step S40 to perform measurement (step S80).
  • Step S90 the measurement of the wafer 60 is completed (Step S90).
  • cleaning can be performed when the measured value of any one of the multiple measurement items is above a certain level, and all measurements of multiple measurement items can be performed. It can also be cleaned if the resulting measurement is above a certain level.
  • step S50 the cleaning performed so far for the currently used probe is performed. If the number of cleanings so far is greater than or equal to the upper limit (Yes in step S50), the probe card 40 needs to be replaced. Then, stop the measurement and sound a buzzer that tells the operator to change the card (step S70). Also cleaning When the number of lines is less than the above upper limit value (No in step S50), a control signal for moving the driving unit 80 is sent from the tester 10, and the probe 50 and the cleaning plate 101a are brought into contact with each other to clean the probe 50. (Step S60).
  • step S40 the electrical characteristics are measured again (from step S20 to step S40). If all of the semiconductor chips formed on the wafer 60 cannot be measured, repeat the step. Repeat step S40 to step S40 (step S80). Further, when all the semiconductor chips have been measured, the measurement of the wafer 60 is completed (step S90).
  • the test board for setting the semiconductor card 60, the holding stage 70 for holding the semiconductor unit 60, and the probe card 40 having the measuring probe 50 is set.
  • 30 and the measurement probe 50 are connected to the test board 30 through the connection cable 20 and the drive unit 80 that moves the holding stage 70 so that the measurement probe 50 contacts a predetermined pad of the semiconductor wafer 60.
  • a test signal is sent into the semiconductor chip via contact between the measurement probe 50 of the probe card 40 set on the test board 30 and a predetermined pad of the semiconductor chip, and an arbitrary signal of the semiconductor chip is transmitted.
  • the tester 10 to be inspected and the measurement value of the test carried out by the tester 10 are used as the conditions for taring, and the measurement probe 50 is cleaned.
  • the measurement probe can be cleaned to prevent abnormal measurement due to an increase in the contact resistance of the probe, and the upper limit number of cleanings can be set. Since the probe card is replaced when the value exceeds the limit, inspection with a probe with degraded performance can be avoided. In addition, investment in new stages can be suppressed, and measurement errors in the electrical characteristics of the semiconductor chip due to an increase in contact resistance of the measurement probe can be prevented without significantly reducing wafer productivity.
  • the configuration of the semiconductor wafer prober in the second embodiment is the same as that in the first embodiment. Therefore, the description thereof is omitted.
  • FIG. 3 is a flowchart showing the measurement process of the semiconductor inspection system according to the second embodiment.
  • the second embodiment is a step of determining whether or not the semiconductor chip is good after performing step S40 for determining whether the measured value of the measurement result of the electrical characteristics is a certain value or more, and ending the measurement of the semiconductor chip Performing S30 is different from the first embodiment. Since steps other than steps S40 and S30 are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.
  • step S 20 shown in FIG. 3 the semiconductor chip is operated and measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip is started. Then, step S 40 shown in FIG. 3 is performed.
  • step S40 When the measurement result of one or more of the electrical characteristics measurement items measured in step S20 is used and the measurement value of the electrical characteristics measurement result is greater than a certain value (in step S40 For No), a signal is transmitted from the tester 10, and measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip is temporarily stopped at the semiconductor chip for which measurement has been completed among the plurality of semiconductor chips formed on the wafer 60, and step S50 is performed. Proceed to In step S50, the number of cleanings performed for the currently used probe is compared with the upper limit of the predetermined number of cleanings to confirm the necessity of probe cleaning.
  • step S40 If the measurement value of the measurement result is less than a certain value (Yes in step S40), the semiconductor chip is measured based on the measurement result of the electrical characteristics of the semiconductor chip measured in step S20. The semiconductor chip measurement is terminated (step S30).
  • the electrical characteristics of the semiconductor chip are measured, and the measurement is already performed before the semiconductor chip measurement is finished by determining whether the semiconductor chip is good or not. Using the measurement results of the electrical characteristics of the semiconductor chip, whether or not to clean the probe is determined.
  • the cleaning mechanism 100a inspects the semiconductor chip using the measurement probe 50 with the tester 10 and is in the middle of the inspection. However, if the previous inspection result matches the cleaning condition, the measuring probe 50 is cleaned without waiting for the end of the inspection. Therefore, it is possible to prevent measurement abnormalities due to an increase in probe contact resistance.
  • the necessity of cleaning the probe is confirmed before the quality of the chip is judged. If it is determined that the probe needs to be cleaned based on the measurement result of the electrical characteristics, the probe is cleaned and then again.
  • By measuring the electrical characteristics it is possible to reduce the inspection time of the semiconductor chip by not using the measurement results of the electrical characteristics when using a probe that requires cleaning so that the quality of the chip is judged. Can do.
  • the configuration of the semiconductor wafer prober in the third embodiment has a plurality of cleaning method means in addition to the configuration in the first embodiment.
  • a plurality of cleaning methods for example, a plurality of cleaning plates are provided, and the cleaning plate used for cleaning is changed depending on the state of the probe, or the operation area of the drive unit 80 is changed, Change the contact strength between the probe and the cleaning plate.
  • FIG. 4 (a) shows a configuration of a semiconductor wafer prober 200b having cleaning plates 101a and 101b as an example in the case of having a plurality of cleaning plates.
  • FIG. 4 (b) is a flowchart showing the measurement process of the semiconductor inspection system according to the third embodiment.
  • the number of cleanings of the probe is confirmed in step S50, and when the number of cleanings is less than the predetermined upper limit of the number of cleaning executions, step S50a for determining the cleaning content is This is in addition to the flowchart in 1. Since steps other than step S50a are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.
  • step S50 shown in FIG. 4 the number of cleanings that have been performed so far for the currently used probe is compared with a predetermined upper limit of the number of cleaning executions, and the previous cleaning is performed. When the number of times is less than the above upper limit value (No in step S50), step S50a shown in FIG. 4 is performed.
  • step S50a the measured value of the electrical characteristic measured in step S40 is set in advance.
  • an appropriate cleaning method means is selected from a plurality of cleaning method means. For example, if it is determined that the probe needs to be strongly cleaned, a strong cleaning method can be selected. Specifically, if the measured force of the contact resistance between the electrode pad of the semiconductor chip and the probe exceeds the set reference value, it is determined that the probe needs to be strongly cleaned, and the strong V and cleaning method Select means.
  • the driving unit 80 is driven by the tester 10.
  • a control signal for moving the probe 50 is sent to bring the probe 50 into contact with the cleaning plate 101a, thereby cleaning the probe 50 (step S60).
  • the cleaning mechanism 100b has a plurality of means for cleaning, and the measurement value of the inspection performed by the tester 10 and the predetermined criterion
  • the cleaning can be performed more reliably, and the measurement abnormality due to the increase in probe contact resistance can be prevented. It can be prevented beforehand.
  • the upper limit of cleaning is set and the probe card is replaced when it exceeds this limit, inspection with a probe with degraded performance can be avoided, and it is suitable for the condition of the probe. By selecting the cleaning method, it is possible to extend the life of the probe.
  • the force described in the case of measuring the electrical characteristics of the semiconductor chip for one measurement item is measured for a plurality of measurement items, determined in advance, and given the priority order.
  • the measurement value may be compared with a reference value in the order of measurement items, and a tally method may be selected.
  • the force can be measured normally if cleaning is performed without much cleaning.
  • the measured value of the contact resistance between the probe and the probe is above a certain level, the measured result for other electrical characteristics measurement items will be above a certain level unless cleaning is performed strongly (step Therefore, measurement of the contact resistance between the electrode node of the semiconductor chip and the probe can be a measurement item with a higher priority than measurement of the analog part.
  • FIG. 5 is a flowchart showing the measurement process of the semiconductor inspection system according to the fourth embodiment.
  • the fourth embodiment is different from the first embodiment in step S40 in which it is determined whether or not an arbitrary number of continuous tests are equal to or larger than a certain measured value in one or more arbitrary tests. Since steps other than step S40 are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.
  • step S30 Based on the measurement result of the electrical characteristics measured in step S20 shown in FIG. 5, whether the semiconductor chip is good or bad is determined, and the measurement of the semiconductor chip is terminated (step S30).
  • step S40 shown in FIG. 5 is performed.
  • step S30 For the semiconductor chip for which measurement was completed in step S30, if the measured value force of the measurement result of one or more of the electrical characteristics measurement items is a predetermined number of continuous measurements and is greater than or equal to a certain measured value ( For step No. in step S40, a signal is transmitted from the tester 10, and measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip is temporarily stopped at the semiconductor chip for which measurement has been completed among the plurality of semiconductor chips formed on the wafer 60. Then go to step S50. In step S50, the number of cleanings performed for the currently used probe is compared with a predetermined upper limit of the number of cleaning executions to confirm the necessity of probe taring. [0057] For example, when measuring the electrical characteristics of a semiconductor chip for one measurement item!
  • step S40 If the arbitrary number of steps S40 is set to "5", the electrical characteristics are measured. In the first semiconductor chip, even if the measured value of the electrical characteristic measurement result is more than a certain measured value, the process proceeds to step S50 to confirm the necessity of probe cleaning. When the measurement value of the measurement result is continuous with five semiconductor chips and is equal to or greater than a certain measurement value, the process proceeds to step S50.
  • the cleaning mechanism 100a uses the plurality of continuous semiconductor chips that have the measurement values of the inspection performed by the tester 10 using the measurement probe 50. If the measured value is equal to or greater than the predetermined measurement value, this is used as a condition for taring the measurement probe 50, so that cleaning can be performed more reliably and measurement abnormalities due to an increase in probe contact resistance can be achieved.
  • the upper limit number of cleanings is set and the probe card is replaced when the upper limit is exceeded, so that inspections with degraded probes can be avoided. .
  • the inspection time of the semiconductor chip can be shortened.
  • FIG. 6 is a flowchart showing a measurement process of the semiconductor inspection system according to the fifth embodiment.
  • an arbitrary electrical characteristic is measured for a semiconductor chip that has been determined to be a good product, and the probe is cleaned based on the measurement result of the electrical characteristic.
  • the step SlOc for determining the reference value for such a judgment is added to the flowchart of the first embodiment. Since steps other than step S 10c are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted.
  • step S10 shown in FIG. 6 the wafer 60 is held on the holding stage 70, the probe card 40 is set on the test board 30 of the semiconductor wafer prober 200a, and the wafer is measured.
  • step SlOc shown in FIG. 6 is performed.
  • Measurement of arbitrary electrical characteristics is performed on a semiconductor chip that is considered to be a good product, and it is determined whether or not to clean the probe based on the measurement result of the electrical characteristics.
  • the reference value is determined, and the reference value is stored in the semiconductor wafer prober 200a.
  • step S 30 based on the measurement result of the electrical characteristics measured in step S 20, the semiconductor chip is judged as good or bad, and the measurement of the semiconductor chip is finished (step S 30).
  • the cleaning mechanism 100a preliminarily stores the reference value of the predetermined inspection performed on the non-defective semiconductor chip in the tester 10.
  • the measurement value of the inspection performed by the tester 10 using the measurement probe 50 is compared with the reference value of the predetermined inspection, and the measurement value of the inspection is equal to or higher than the reference value of the predetermined inspection Since the measurement probe 50 is cleaned, cleaning can be performed more reliably, measurement anomalies due to an increase in probe contact resistance can be prevented, and the upper limit number of cleanings can be increased. Since the probe card is replaced when it exceeds this limit, inspection with a probe with degraded performance can be avoided.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the measurement process of the semiconductor inspection system according to the sixth embodiment.
  • the step SlOa for setting an arbitrary value as a yield reference is added to the flowchart of the first embodiment, and the yield at the end of the chip inspection is an arbitrary yield.
  • Step S40 for determining whether the value is less than the reference value is different from the first embodiment. Steps other than steps S10a and S40 are those in the first embodiment. Since this is the same, the description thereof is omitted.
  • step S10 shown in FIG. 7 the wafer 60 is held on the holding stage 70, the probe card 40 is set on the test board 30 of the semiconductor wafer prober 200a, wafer measurement is started, and then Step SlOa shown in Fig. 7 is performed.
  • An arbitrary value serving as a yield reference is set in the semiconductor wafer prober 200a.
  • the setting of an arbitrary value as a reference for yield is performed by, for example, inspecting a semiconductor chip at the time of evaluation, estimating a certain yield, and setting the numerical value in the semiconductor wafer prober 200a.
  • step S30 based on the measurement result of the electrical characteristics measured in step S20, the semiconductor chip is judged to be good or bad, and the measurement of the semiconductor chip is terminated (step S30).
  • step S40 shown in FIG. 7 is performed.
  • the yield is determined. If the yield is less than the reference value of any yield set in step S10a (No in step S40), a signal is transmitted from tester 10 and the semiconductor chip The measurement of the electrical characteristics is temporarily stopped at the semiconductor chip for which measurement has been completed among the plurality of semiconductor chips formed on the wafer 60, and the process proceeds to step S50.
  • step S40 if the yield is not less than an arbitrary yield reference value (Yes in step S40), a plurality of semiconductor chips formed on the wafer 60 can be measured for all the semiconductor chips! If not, repeat the measurement from step S20 to step S40 again (step S80). When all the semiconductor chips have been measured, the measurement of the wafer 60 is completed (step S90).
  • step S50 shown in FIG. 7 is performed.
  • step S50 the number of cleanings performed so far for the currently used probe is determined in advance. Compare the upper limit of the number of cleanings performed and confirm the necessity of cleaning the probe.
  • the semiconductor wafer In the semiconductor inspection system according to the sixth embodiment as described above, the semiconductor wafer
  • Probe card 40 with holding stage 70 holding 60 and measuring probe 50 The test board 30 for setting the test stage 30, the driving probe 80 for moving the holding stage 70 so that the measurement probe 50 contacts a predetermined node of the semiconductor wafer 60, and the test board 30 A test signal is sent into the semiconductor chip through contact between the measurement probe 50 of the probe card 40 connected through the connection cable 20 and set on the test board 30 and a predetermined pad of the semiconductor chip. Since the tester 10 that performs arbitrary inspection of the semiconductor chip and the yield obtained from the inspection results performed by the tester 10 are used as cleaning conditions, and the tallying mechanism 100a that cleans the measurement probe 50 is provided. Measurement errors due to increased probe contact resistance can be prevented and probe cleaning can be prevented.
  • the number of times of cleaning the probe can be suppressed to a suitable number of times, it is possible to extend the life of the probe.
  • the yield is used as a criterion for determining the necessity for cleaning the probe, the necessity for cleaning can be detected with high accuracy.
  • the semiconductor inspection system according to the seventh embodiment of the present invention relates to an inspection that is performed again when it is determined that the semiconductor chip has already been defective.
  • FIG. 8 is a flowchart showing a measurement process of the semiconductor inspection system according to the seventh embodiment.
  • step S1 Ob for setting an arbitrary value as a reference for the number of consecutive defects and step S60a for returning the semiconductor chips determined to be consecutively defective to an arbitrary number are added to the first embodiment.
  • step S40 for determining whether the measurement result of the electrical characteristics is an arbitrary number or less is different from the first embodiment. Since steps other than steps S10b, S40, and S60a are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.
  • step S 10 shown in FIG. 8 the wafer 60 is held on the holding stage 70, and the The probe card 40 is set on the test board 30 of the semiconductor wafer prober 200a, the wafer measurement is started, and then step S10b shown in FIG. 8 is performed.
  • An arbitrary value serving as a reference for the number of consecutive defects is set in the semiconductor wafer prober 200a.
  • an arbitrary value serving as a reference for the number of consecutive defects for example, a semiconductor chip is inspected at the time of evaluation, a certain number of continuous defects is predicted, and the numerical value is set in the semiconductor wafer prober 200a. Etc.
  • step S40 shown in FIG. 8 is performed.
  • Measurement result force of electrical characteristics If the number is greater than the number set in step S10b (No in step S40), the electrical characteristics of the semiconductor chip are measured and the semiconductor chips on the wafer 60 are measured. Temporarily stop at the end of the measurement, and proceed to step S50.
  • step S10b If the measurement result of the electrical characteristics is less than the arbitrary number set in step S10b (Yes in step S40), the process proceeds to step S20.
  • step S50 shown in FIG. 8 is performed.
  • step S50 has been executed for the currently used probe.
  • the tester 10 causes the drive unit 80 A control signal for moving the probe 50 is sent to bring the probe 50 into contact with the cleaning plate 101a to clean the probe 50 (step S60).
  • step S60a shown in FIG. 8 is performed.
  • step S60 After the cleaning in step S60, the semiconductor chips determined to be defective continuously are returned by an arbitrary number set in step S10b.
  • step S 30 based on the measurement result of the electrical characteristics measured in step S 20, the quality of the semiconductor chip is judged, and the measurement of the semiconductor chip is finished (step S 30).
  • the probe card 40 having the holding stage 70 for holding the semiconductor wafer 60 and the measurement probe 50.
  • a test signal is sent into the semiconductor chip through contact between the measurement probe 50 of the probe card 40 connected through the connection cable 20 and set on the test board 30 and a predetermined pad of the semiconductor chip.
  • a tester 10 that performs an arbitrary inspection of a semiconductor chip, and in the inspection results performed by the tester 10 using the measurement probe 50, a predetermined number of consecutively determined defects are determined.
  • a cleaning mechanism 100a for cleaning the measurement probe is provided, and the predetermined number of the semiconductor chips that have been determined to be defective continuously are an arbitrary number of the predetermined number or less. Measurement is performed using the measurement probe 50 that has been returned and cleaned again, so that measurement abnormalities due to an increase in probe contact resistance can be prevented and the upper limit of tallying can be set. In addition, since the probe card is exchanged when exceeding this, it is possible to avoid the inspection with the probe having deteriorated performance.
  • a semiconductor inspection system comprising a semiconductor wafer prober that is effective in the present invention has the effects of preventing inspection abnormalities due to an increase in resistance outside the probe and improving the productivity, thereby reducing the cost of the semiconductor inspection system. Useful for this.

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Description

明 細 書
半導体検査システム
技術分野
[0001] 本発明は、半導体検査システムに関するものである。
背景技術
[0002] 半導体装置の製造工程では、ウェハプロセスで半導体ウェハ上に 1個 1個の半導体 チップが形成され、その後にこれらの半導体ウェハ上に形成された複数の半導体チ ップの電気的特性を測定するプローブテストが行われる。
[0003] そのプローブテストを実施するにあたり、図 1に示すような半導体ウェハプローバ 20 Oaを使用する。複数の半導体チップに対してプローブテストを行うと、プローブ 50を 電極パッドに繰り返し接触させることにより、コンタクト抵抗が増大し、測定異常が発生 し歩留まり低下を生じる恐れがある。そのプローブ 50の接触におけるコンタクト抵抗 の上昇を防ぐ手段としては、プローブ 50のクリーニングを実施するという手段で、コン タクト抵抗の上昇を防ぐようにしている。上記クリーニングを実施する 1つの条件として は、図 9に示しているように、任意の検査個数を決定しておき、測定を行い、測定数 が任意の検査個数以上の場合は、プローブ 50のクリーニングを実施する。
[0004] また、別の方法としては、プローブ 50のコンタクト抵抗値を測定するためのウェハ、 ステージ等を用意し、また測定前に基準となる任意の管理値を決定してから測定を 行い、測定終了後に、プローブ 50のコンタクト抵抗を測定し、管理値以上の場合に ついてクリーニングを行うという方法もある。(例えば、特許文献 1参照)。
特許文献 1 :特開 2003— 59987号公報 (第 1頁、第 1図)
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 上述した半導体ウェハプローバ 200aを用いて、半導体チップの電気的特性の測定 を実施する場合、プローブ 50を電極パッドに繰り返し接触させると、コンタクト抵抗が 次第に増大し、最終的には測定異常が発生し、歩留まりの低下につながるという問 題点がある。 [0006] ここで、コンタクト抵抗の増大を防止するためには、プローブ 50のクリーニングを実 施することで、コンタクト抵抗の増大は抑えられる。しかし、頻繁にプローブ 50のタリ 一ユングを実施すると、プローブ 50の先端部が度重なるクリーニングで磨耗し、その 性能を維持できなくなる。また、クリーニング後のコンタクト抵抗の確認を行う作業が 発生し、生産性が著しく低下する。
[0007] また、コンタクト抵抗を測定し、その結果によりクリーニングする手法についての課題 としては、現在ある半導体検査システムに、コンタクト抵抗を測定するために新規のス テージ等を追加するため、投資が必要となる。また、コンタクト抵抗のみしか測定でき ないため、コンタクト抵抗の微小な上昇時には、検査異常を見逃す恐れがある。
[0008] そこで、この発明は、半導体検査システムの新規ステージ等の投資を抑え、また半 導体ウェハの生産性をそれほど低下させることなぐ測定用プローブのコンタクト抵抗 の上昇による半導体チップの電気的特性の測定異常を防止することのできる半導体 検査システムを提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0009] 上記課題を解決するために、測定用プローブのコンタクト抵抗の上昇による、コンタ タト抵抗の測定異常を防止するものとして、測定用プローブをクリーニングするものが ある。
[0010] ここで、上記に記載しているように、過度にクリーニングを行えば、測定用プローブ の先端部の磨耗より、性能を維持できなくなり、また逆にクリーニング回数を減らすこ とにより歩留まり低下の恐れがあるため、プローブの状態により、クリーニングが必要と なってくる。
[0011] そこで、本発明は、測定用プローブを適切にクリーニングする手段としては、複数の 任意の電気的特性の測定結果を用いてプローブの状態の判断を行 、、そのプロ一 ブの状態に応じてクリーニングを実施するようにしたものである。
[0012] すなわち、本発明の請求項 1にかかる半導体検査システムは、測定用プローブを半 導体ウェハ上に形成された半導体チップのパッドに接触させ、前記半導体チップを 検査するプローバよりなる半導体検査システムにおいて、上記半導体ウェハを保持 する保持用ステージと、上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテ ストボードと、上記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のパッドに接触する ように、上記保持用ステージを移動する駆動手段と、上記テストボードに接続ケープ ルを通じて接続され、該テストボードにセットされたプローブカードの上記測定用プロ ーブと、上記半導体チップの所定のパッドとの接触を介してテスト信号を上記半導体 チップ内に送り、該半導体チップの任意の検査を行うテスターと、上記テスターで実 施された検査の測定値をクリーニングする条件とし、上記測定用プローブをタリー二 ングするクリーニング機構を備えた、ことを特徴とするものである。
[0013] 本発明の請求項 2にかかる半導体検査システムは、請求項 1記載の半導体検査シ ステムにおいて、前記クリーニング機構は、前記テスターで前記測定用プローブを用 いた前記半導体チップの検査終了後に、検査結果が前記クリーニングする条件に一 致した場合は、前記測定用プローブのクリーニングを行う、ことを特徴とするものであ る。
[0014] 本発明の請求項 3にかかる半導体検査システムは、請求項 1記載の半導体検査シ ステムにおいて、前記クリーニング機構は、前記テスターで前記測定用プローブを用 V、た前記半導体チップの検査を実施して 、る途中にぉ 、ても、それまでの検査結果 が前記クリーニングする条件に一致した場合は、該検査の終了を待たずに前記測定 用プローブのクリーニングを行う、ことを特徴とするものである。
[0015] 本発明の請求項 4に力かる半導体検査システムは、請求項 1ないし請求項 3記載の 半導体検査システムにおいて、前記クリーニング機構は、前記クリーニングを行う手 段を複数持ち、前記テスターで実施された検査の測定値と、予め定めた判断基準値 とを比較することにより、前記複数のクリーニング手段のうちのいずれかを選択し、タリ 一二ングを行う、ことを特徴とするものである。
[0016] 本発明の請求項 5にかかる半導体検査システムは、請求項 1ないし請求項 4のいず れかに記載の半導体検査システムにおいて、前記クリーニング機構は、前記測定用 プローブを用いて前記テスターで実施した検査の測定値が、複数の連続する半導体 チップで所定の測定値以上であった場合に、これを前記測定用プローブをタリー二 ングする条件とする、ことを特徴とするものである。
[0017] 本発明の請求項 6にかかる半導体検査システムは、請求項 5記載の半導体検査シ ステムにおいて、前記クリーニング機構は、あら力じめ前記テスターに良品の半導体
Figure imgf000006_0001
、て行った所定の検査の基準値を格納しておき、前記測定用プローブを 用いて前記テスターで実施した検査の測定値を、前記所定の検査の基準値と比較し 、前記検査の測定値が前記所定の検査の基準値以上である場合に、前記測定用プ ローブのクリーニングを行う、ことを特徴とするものである。
[0018] 本発明の請求項 7にかかる半導体検査システムは、測定用プローブを半導体ゥェ ハ上に形成された半導体チップのノ¾ドに接触させ、前記半導体チップを検査する プローバよりなる半導体検査システムにお ヽて、上記半導体ウェハを保持する保持 用ステージと、上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテストボード と、上記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のパッドに接触するように、上 記保持用ステージを移動する駆動手段と、上記テストボードに接続ケーブルを通じて 接続され、該テストボードにセットされたプローブカードの上記測定用プローブと、上 記半導体チップの所定のノッドとの接触を介してテスト信号を上記半導体チップ内に 送り、該半導体チップの任意の検査を行うテスターと、上記テスターで実施された検 查結果から求められる歩留まりをクリーニング条件とし、上記測定用プローブをタリー ニングするクリーニング機構を備えた、ことを特徴とするものである。
[0019] 本発明の請求項 8にかかる半導体検査システムは、測定用プローブを半導体ゥェ ハ上に形成された半導体チップのノ^ドに接触させ、半導体チップを検査するプロ ーバよりなる半導体検査システムにおいて、上記半導体ウェハを保持する保持用ス テージと、上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテストボードと、上 記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のノ ッドに接触するように、上記保持 用ステージを移動する駆動手段と、上記テストボードに接続ケーブルを通じて接続さ れ、該テストボードにセットされたプローブカードの上記測定用プローブと、上記半導 体チップの所定のノッドとの接触を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、 該半導体チップの任意の検査を行うテスターと、前記測定用プローブを用いて前記 テスターで実施した検査結果にぉ 、て、あら力じめ決めた所定数連続して不良判定 がでた場合に、前記測定用プローブのクリーニングを行うクリーニング機構を備え、前 記所定数連続して不良判定がでた前記半導体チップを前記所定数以下の任意数分 戻し、再度前記クリーニングを行った測定用プローブを用いて測定を行う、ことを特徴 とするちのである。
発明の効果
[0020] 上記の方法を用いることにより、下記のような効果が期待できる。
測定用プローブをクリーニングするため、プローブのコンタクト抵抗の上昇による、 測定異常を未然に防ぐことができる。
[0021] また、プローブのクリーニングの必要性を確認できるため、プローブのクリーニング 回数を適切な回数に抑制でき、プローブの寿命を伸ばすことが可能となる。
[0022] また、プローブの状態を判断してクリーニングを実施しており、プローバ内でのタリ 一ユングを行うことによりクリーニング後にプローブ状態を確認する作業についても、 電気的特性の測定結果で判断できるため、生産性を低下することなぐ測定を行うこ とがでさる。
[0023] さらには、コンタクト抵抗の微小な上昇時でも、複数の電気的特性の測定結果で検 查異常を判断するため、検査異常を早期に発見でき、現状での半導体検査システム に、新規のステージ等を追加することもなぐコンタクト抵抗の上昇を発見できるため、 投資も肖減することができる。
図面の簡単な説明
[0024] [図 1]図 1は、本発明の実施の形態 1による半導体検査システムの半導体ウェハプロ ーバの構成を表す図である。
[図 2]図 2は、本発明の実施の形態 1による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 3]図 3は、本発明の実施の形態 2による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 4(a)]図 4 (a)は、本発明の実施の形態 3による半導体検査システムの半導体ゥェ ハプローバの構成を表す図である。
[図 4(b)]図 4 (b)は、本発明の実施の形態 3による半導体検査システムの測定フロー チャートを表す図である。
[図 5]図 5は、本発明の実施の形態 4による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 6]図 6は、本発明の実施の形態 5による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 7]図 7は、本発明の実施の形態 6による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 8]図 8は、本発明の実施の形態 7による半導体検査システムの測定フローチャート を表す図である。
[図 9]図 9は、従来の半導体検査システムの測定フローチャートを表す図である。 符号の説明
[0025] 10 テスター
20 接続ケーブル
30 テストボード
40 プローブカード
50 プローブ
60 ウェハ
70 保持ステージ
80 駆動部
90 接合治具
100a, 100b クリーニング機構
101a, 101b クリーニング板
102 クリーニングステージ
200a, 200b 半導体ウェハプローバ
発明を実施するための最良の形態
[0026] (実施の形態 1)
以下、本発明の実施の形態 1による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
図 1に示すように、半導体ウェハプローバ 200aは、測定用プローブ 50が設けられ たプローブカード 40と、半導体ウェハ 60を保持するための保持用ステージ 70と、プ ローブ 50の先端をクリーニングするクリーニング機構 100aと、半導体チップの電気的 特性を測定するテスター 10と、保持用ステージ 70とクリーニング機構 100aを接合す る接合治具 90から構成されて 、る。
[0027] プローブカード 40は、テストボード 30に装着されて使用され、該プローブカード 40 には、半導体チップの電極パッドと接触し電気的特性の測定を行えるように、複数の プローブ 50が設けられている。このプローブカード 40は、テストボード 30、および接 続ケーブル 20を通じて、テスター 10に接続される。
[0028] テスター 10からの電気信号を、プローブカード 40を通じて半導体チップに入力し、 また半導体チップからの信号を、プローブカード 40を通じてテスター 10に転送する。 保持ステージ 70は、測定しょうとするウェハ 60を保持することができる。また、この保 持ステージ 70は移動できるように、駆動部 80が設けられている。保持ステージ 70の 移動については、テスター 10から出るコントロール信号により制御される。
[0029] クリーニング機構 100aは、クリーニング板 101aと、このクリーニング板 101aが装着 されるクリーニングステージ 102とからなっており、このクリーニング機構 100aは、プロ ーブ 50の先端を、クリーニングするためのものである。テスター 10は、測定する半導 体チップの電気的特性の測定結果の電気信号の授受、および処理を行うものである
[0030] 次に本実施の形態 1による半導体検査システムの動作について説明する。
図 2は、本実施の形態 1による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。
[0031] まず、図 2に示すステップ S10を行う。
ウェハ 60の表面を上向きにして、ウエノ、 60を保持ステージ 70の上に保持する。プ ローブカード 40を、半導体ウェハプローバ 200aのテストボード 30にセットする。
[0032] 次に、図 2に示すステップ S20を行う。
上記保持ステージ 70を、駆動部 80により測定を行う半導体チップの場所まで移動 し、半導体チップの電極パッドと、プローブ 50とを接触させ、テスター 10からプローブ 50を通じて半導体チップに電源電圧を加えた状態で、所定の検査のための入力信 号を半導体チップに与え、半導体チップを動作させる。また、半導体チップの電気的 特性の測定結果を出力する。ここで、半導体チップの電気的特性の測定は、複数の 測定項目について行うものとする。なお、複数の測定項目の例として、半導体チップ の電極パッドとプローブとの接触抵抗の測定、半導体チップ内の機能部分の測定、 半導体チップ内のアナログ部分の測定、半導体チップの端子ごとの DC、 AC特性の 測定などがある。
[0033] 次に、図 2に示すステップ S30を行う。
ステップ S20で測定した半導体チップの電気的特性の測定結果に基づ 、て、半導 体チップの良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する。
[0034] 次に、図 2に示すステップ S40を行う。
ステップ S30で測定を終了した半導体チップについて、電気的特性の測定項目の うち 1つ以上の任意の電気的特性の測定結果を用いて、その電気的特性の測定結 果の測定値がある一定以上の場合 (ステップ S40で No)については、テスター 10か ら信号を発信し、半導体チップの電気的特性の測定を、ウェハ 60上に形成される複 数の半導体チップのうち測定終了した半導体チップのところで一時中止し、ステップ S50に進む。また、測定結果の測定値がある一定未満の場合 (ステップ S40で Yes) については、ウエノ、 60上に形成される複数の半導体チップを全半導体チップについ て測定できていない場合には、再度ステップ S20からステップ S40を繰り返し、測定 を行う(ステップ S80)。また、全半導体チップを測定終了した場合には、ウェハ 60の 測定完了となる (ステップ S90)。ここで、半導体ウェハプローバ 200aの設定により、 複数の測定項目のうち、いずれか 1項目の測定結果の測定値が一定以上の場合に クリーニングすることもでき、また、複数の測定項目の全ての測定結果の測定値が一 定以上の場合にクリーニングすることもできる。
[0035] ステップ S40での、電気的特性の測定結果の測定値がある一定以上である場合( ステップ S40で No)、ステップ S50では、現在使用しているプローブについてこれま でに実行してきたクリーニング回数と、予め定められたクリーニング実行回数の上限 値とを比較して、これまでのクリーニング回数が上限値以上である場合 (ステップ S50 で Yes)については、プローブカード 40の交換が必要であるとして、測定をストップし 、カード交換を作業者に教えるブザーを鳴らす (ステップ S 70)。また、クリーニング実 行回数が、上記上限値未満の場合 (ステップ S50で No)については、テスター 10より 駆動部 80を移動させる制御信号を送り、プローブ 50と、クリーニング板 101aを接触 させ、プローブ 50のクリーニングを行う(ステップ S60)。
[0036] クリーニング後については、電気的特性の測定を再度行い (ステップ S20からステツ プ S40)、ウェハ 60上に形成される複数の半導体チップを全半導体チップ測定でき ていない場合には、再度ステップ S 20からステップ S40を、繰り返し測定を行う(ステ ップ S80)。また、全半導体チップを測定終了した場合には、ウェハ 60の測定完了と なる(ステップ S 90)。
[0037] 以上のように、本実施の形態 1による半導体検査システムにおいては、半導体ゥヱ ノ、 60を保持する保持用ステージ 70と、測定用プローブ 50を有するプローブカード 4 0をセットするテストボード 30と、上記測定用プローブ 50が、上記半導体ウェハ 60の 所定のパッドに接触するように、上記保持用ステージ 70を移動する駆動部 80と、上 記テストボード 30に接続ケーブル 20を通じて接続され、該テストボード 30にセットさ れたプローブカード 40の上記測定用プローブ 50と、上記半導体チップの所定のパッ ドとの接触を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意 の検査を行うテスター 10と、上記テスター 10で実施された検査の測定値をタリーニン グする条件とし、上記測定用プローブ 50をクリーニングするクリーニング機構 100aを 備えたものとしたため、測定用プローブをクリーニングすることにより、プローブのコン タクト抵抗の上昇による測定異常を未然に防ぐことができ、また、クリーニングの上限 回数を設定しておき、これを超えているときはプローブカードを交換するようにしたの で、性能劣化したプローブによる検査を回避することができる。また、新規ステージ等 の投資を抑えることができ、ウェハの生産性をそれほど低下させることなぐ測定用プ ローブのコンタクト抵抗の上昇による半導体チップの電気的特性の測定異常を防止 することができる。
[0038] (実施の形態 2)
以下、本発明の実施の形態 2による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
本実施の形態 2における半導体ウェハプローバの構成は、実施の形態 1におけるも のと同じであるので、その説明を省略する。
[0039] 図 3は、本実施の形態 2による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。実施の形態 2は、電気的特性の測定結果の測定値がある一定以上である かを判断するステップ S40を行った後、半導体チップの良否判断を行い、半導体チ ップの測定を終了するステップ S30を行うことが実施の形態 1と異なる。なお、ステツ プ S40、 S30以外のステップは、実施の形態 1におけるものと同じであるので、その説 明を省略する。
[0040] 図 3に示すステップ S 20で、半導体チップを動作させ、半導体チップの電気的特性 の測定を開始した後、次に、図 3に示すステップ S40を行う。
ステップ S20で測定した、電気的特性の測定項目のうち 1つ以上の任意の電気的 特性の測定結果を用いて、その電気的特性の測定結果の測定値がある一定以上の 場合 (ステップ S40で No)については、テスター 10から信号を発信し、半導体チップ の電気的特性の測定を、ウェハ 60上に形成される複数の半導体チップのうち測定終 了した半導体チップのところで一時中止し、ステップ S50に進む。ステップ S50では、 現在使用しているプローブについてこれまでに実行してきたクリーニング回数と、予 め定められたクリーニング実行回数の上限値とを比較し、プローブのクリーニングの 必要性を確認する。
[0041] また、測定結果の測定値がある一定未満の場合 (ステップ S40で Yes)につ ヽては 、ステップ S20で測定した半導体チップの電気的特性の測定結果に基づいて、半導 体チップの良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する (ステップ S30)。
[0042] このように、本実施の形態 2では、半導体チップの電気的特性の測定を行 、、半導 体チップの良、否判断を行って半導体チップの測定を終了する前に、すでに測定し た半導体チップでの電気的特性の測定結果を用いて、プローブのクリーニングを行う か否かを判断する。
[0043] 以上のように、本実施の形態 2による半導体検査システムにおいては、クリーニング 機構 100aは、テスター 10で測定用プローブ 50を用いた半導体チップの検査を実施 して 、る途中にぉ 、ても、それまでの検査結果が前記クリーニングする条件に一致し た場合は、該検査の終了を待たずに測定用プローブ 50のクリーニングを行う、ものと したため、プローブのコンタクト抵抗の上昇による測定異常を未然に防ぐことができる
[0044] また、チップの良否判断を行う前にプローブのクリーニングの必要性を確認し、電気 特性の測定結果によりプローブのクリーニングが必要であると判断した場合はプロ一 ブをクリーニングした上で再度電気的特性の測定を行うことで、クリーニングが必要な プローブを使用したときの電気的特性の測定結果を用いてチップの良否判断を行わ な 、ようにして、半導体チップの検査時間を短縮することができる。
[0045] (実施の形態 3)
以下、本発明の実施の形態 3による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
本実施の形態 3における半導体ウェハプローバの構成は、実施の形態 1におけるも のの構成に加え、複数のクリーニング方法の手段を有するものである。ここで、複数 のクリーニング方法の手段として、例えば、クリーニング板を複数有し、プローブの状 態によってクリーニングの際に使用するクリーニング板を変更したり、また、駆動部 80 の動作領域を変更し、プローブとクリーニング板の接触の強さを変更する。図 4 (a)に 、複数のクリーニング板を有する場合の例として、クリーニング板 101a、 101bを有す る半導体ウェハプローバ 200bの構成を示す。
[0046] 図 4 (b)は、本実施の形態 3による半導体検査システムの測定処理を示すフローチ ヤートである。実施の形態 3は、ステップ S50でプローブのクリーニング回数を確認し て、クリーニング回数が予め定められたクリーニング実行回数の上限値未満である場 合に、クリーニング内容を決定するステップ S50aを、実施の形態 1のフローチャート に加えたものである。なお、ステップ S50a以外のステップは、実施の形態 1における ものと同じであるので、その説明を省略する。
[0047] 図 4に示すステップ S 50で、現在使用しているプローブについてこれまでに実行し てきたクリーニング回数と、予め定められたクリーニング実行回数の上限値とを比較し て、これまでのクリーニング回数が、上記上限値未満の場合 (ステップ S50で No)は、 図 4に示すステップ S50aを行う。
[0048] ステップ S50aでは、ステップ S40にて測定した電気的キ 性の測定値と、予め定め た判断基準値とを比較することにより、複数のクリーニング方法の手段のうち、適切な クリーニング方法の手段を選択する。例えば、プローブを強くクリーニングする必要が あると判断した場合は、強いクリーニング方法の手段を選択することができる。具体的 には、半導体チップの電極パッドとプローブとの接触抵抗の測定値力 設定されてい る基準値以上の場合は、プローブを強くクリーニングする必要があると判断して、強 V、クリーニング方法の手段を選択する。
[0049] 本実施の形態 3では、プローブを強くクリーニングする必要があると判断した場合に 、クリーニング方法の手段として、クリーニング機構 100bのクリーニング板 101aを選 択するとした場合、テスター 10より駆動部 80を移動させる制御信号を送り、プローブ 50と、クリーニング板 101aとを接触させ、プローブ 50のクリーニングを行う(ステップ S 60)。
[0050] 以上のように、本実施の形態 3による半導体検査システムにおいては、クリーニング 機構 100bは、クリーニングを行う手段を複数持ち、テスター 10で実施された検査の 測定値と、予め定めた判断基準値とを比較することにより、前記複数のクリーニング 手段のうちのいずれかを選択し、クリーニングを行う、ものとしたため、クリーニングを より確実に行うことができ、プローブのコンタクト抵抗の上昇による測定異常を未然に 防ぐことができる。また、クリーニングの上限回数を設定しておき、これを超えていると きはプローブカードを交換するようにしたので、性能劣化したプローブによる検査を 回避することができ、さらにプローブの状態に適したクリーニング方法の手段を選択 することにより、プローブの寿命を伸ばすことが可能となる。
[0051] なお、本実施の形態 3では、半導体チップの電気的特性の測定を 1つの測定項目 について行う場合について説明した力 複数の測定項目について測定を行い、予め 決めてお 、た優先順位の高 、測定項目の順に測定値を基準値と比較して、タリー- ング方法の手段を選択するようにしてもよい。ここで、複数の測定項目のうち、例えば 、アナログ部分の測定時の測定値が一定以上の場合はそれ程強くクリーニングしなく ともクリーニングを行えば正常に測定を行うことができる力 半導体チップの電極パッ ドとプローブとの接触抵抗を測定時の測定値が一定以上の場合は強くクリーニングを 行わなければ他の電気的特性の測定項目での測定結果で一定以上になる (ステツ プ S40で No)可能性もありえるので、アナログ部分の測定よりも半導体チップの電極 ノ ッドとプローブとの接触抵抗の測定を、優先順位の高 、測定項目とすることができ る。
[0052] このような構成にすることにより、コンタクト抵抗の微小な上昇時でも、複数の電気的 特性の測定結果で判断するため、検査異常を早期に発見でき、現状での半導体検 查システムに、新規のステージ等を追加することもなぐコンタクト抵抗の上昇を発見 できるため、投資も肖減することができる。
[0053] (実施の形態 4)
以下、本発明の実施の形態 4による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
本実施の形態 4における半導体ウェハプローバの構成は、実施の形態 1におけるも のと同じであるので、その説明を省略する。
[0054] 図 5は、本実施の形態 4による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。実施の形態 4は、一つ以上の任意のテストにて任意数連続で測定値力 あ る一定の測定値以上であるか否かを判断するステップ S40が実施の形態 1と異なる。 なお、ステップ S40以外のステップは、実施の形態 1におけるものと同じであるため、 その説明を省略する。
[0055] 図 5に示すステップ S20で測定した電気的特性の測定結果に基づいて、半導体チ ップの良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する (ステップ S30)。
[0056] 次に、図 5に示すステップ S40を行う。
ステップ S30で測定が終了した半導体チップについて、電気的特性の測定項目の うち 1つ以上の任意の電気的特性の測定結果の測定値力 所定数連続で、ある一定 の測定値以上である場合 (ステップ S40で No)については、テスター 10から信号を 発信し、半導体チップの電気的特性の測定を、ウェハ 60上に形成される複数の半導 体チップのうち測定終了した半導体チップのところで一時中止し、ステップ S50に進 む。ステップ S50では、現在使用しているプローブについてこれまでに実行してきた クリーニング回数と、予め定められたクリーニング実行回数の上限値とを比較し、プロ ーブのタリ一ユングの必要性を確認する。 [0057] 例えば、半導体チップの電気的特性の測定を 1つの測定項目につ!/、て行う場合に おいて、ステップ S40の任意数を「5」とした場合、電気的特性の測定を行った 1つ目 の半導体チップで、電気的特性の測定結果の測定値がある一定の測定値以上であ つても、そこでプローブのクリーニングの必要性を確認するステップ S50に進まずに、 電気的特性の測定結果の測定値が 5つの半導体チップで連続で、ある一定の測定 値以上である場合に、ステップ S50に進むようにする。
[0058] 以上のように、本実施の形態 4による半導体検査システムにおいては、クリーニング 機構 100aは、測定用プローブ 50を用いてテスター 10で実施した検査の測定値が、 複数の連続する半導体チップで所定の測定値以上であった場合に、これを前記測 定用プローブ 50をタリ一ユングする条件とするものとしたため、クリーニングをより確 実に行うことができ、プローブのコンタクト抵抗の上昇による測定異常を未然に防ぐこ とができ、また、クリーニングの上限回数を設定しておき、これを超えているときはプロ ーブカードを交換するようにしたので、性能劣化したプローブによる検査を回避する ことができる。また、プローブのクリーニング回数を適切な回数に抑制できることで半 導体チップの検査時間を短縮することが可能となる。
[0059] (実施の形態 5)
以下、本発明の実施の形態 5による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
本実施の形態 5における半導体ウェハプローバの構成は、実施の形態 1におけるも のと同じであるので、その説明を省略する。
[0060] 図 6は、本実施の形態 5による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。実施の形態 5は、あら力じめ良品であるとわ力つている半導体チップに対し て、任意の電気的特性の測定を行い、その電気的特性の測定結果により、プローブ のクリーニングを行うか否かの判断の基準値を決定するステップ SlOcを、実施の形 態 1のフローチャートに加えたものである。なお、ステップ S 10c以外のステップは、実 施の形態 1におけるものと同じであるため、その説明を省略する。
[0061] まず、図 6に示すステップ S 10で、ウェハ 60を保持ステージ 70の上に保持し、プロ ーブカード 40を半導体ウェハプローバ 200aのテストボード 30にセットし、ウェハ測定 を開始して、次に、図 6に示すステップ SlOcを行う。
[0062] あら力じめ良品であるとわ力つている半導体チップに対して、任意の電気的特性の 測定を行い、その電気的特性の測定結果により、プローブのクリーニングを行うか否 かの判断の基準値を決定し、半導体ウェハプローバ 200aに、前記基準値を記憶さ せる。
[0063] 次に、ステップ S 20で測定した電気的特性の測定結果に基づ 、て、半導体チップ の良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する (ステップ S30)。
[0064] 以上のように、本実施の形態 5による半導体検査システムにおいては、クリーニング 機構 100aは、あら力じめテスター 10に良品の半導体チップについて行った所定の 検査の基準値を格納しておき、測定用プローブ 50を用いて前記テスター 10で実施 した検査の測定値を、前記所定の検査の基準値と比較し、前記検査の測定値が前 記所定の検査の基準値以上である場合に、前記測定用プローブ 50のクリーニングを 行うものとしたので、クリーニングをより確実に行うことができ、プローブのコンタクト抵 抗の上昇による測定異常を未然に防ぐことができ、また、クリーニングの上限回数を 設定しておき、これを超えているときはプローブカードを交換するようにしたため、性 能劣化したプローブによる検査を回避することができる。
[0065] また、あら力じめ良品の半導体チップについて行った任意の電気的特性の測定結 果を用いて、プローブのクリーニングの必要性を判断することにより、良品の半導体 チップと同じ環境で、検査環境による測定結果への影響を少なくして正確な検査を 行うことができる。
[0066] (実施の形態 6)
以下、本発明の実施の形態 6による半導体検査システムについて、図面を参照しな がら説明する。
図 7は、本実施の形態 6による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。実施の形態 6は、歩留まりの基準となる任意の値を設定するステップ SlOa を実施の形態 1のフローチャートにカ卩えたものであり、また、チップ検査終了時の歩留 まりが、任意の歩留まりの基準値未満であるかを判定するステップ S40が実施の形態 1と異なる。なお、ステップ S10a、 S40以外のステップは、実施の形態 1におけるもの と同じであるため、その説明を省略する。
[0067] まず、図 7に示すステップ S10で、ウェハ 60を保持ステージ 70の上に保持し、プロ ーブカード 40を半導体ウェハプローバ 200aのテストボード 30にセットし、ウェハ測定 を開始して、次に、図 7に示すステップ SlOaを行う。
[0068] 半導体ウェハプローバ 200aに歩留まりの基準となる任意の値を設定する。ここで、 歩留まりの基準となる任意の値の設定は、例えば、評価時に半導体チップの検査を 実施し、ある程度の歩留まりの予測を立て、その数値を半導体ウェハプローバ 200a に設定する等によって行う。
[0069] 次に、ステップ S 20で測定した電気的特性の測定結果に基づ 、て、半導体チップ の良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する (ステップ S30)。
[0070] 次に、図 7に示すステップ S40を行う。
ステップ S30で測定が終了した半導体チップについて、歩留まりを判定し、ステップ S 10aで設定した任意の歩留まりの基準値未満の場合 (ステップ S40で No)について は、テスター 10から信号を発信し、半導体チップの電気的特性の測定を、ウェハ 60 上に形成される複数の半導体チップのうち測定終了した半導体チップのところで一 時中止し、ステップ S50に進む。
[0071] また、任意の歩留まり基準値以上の場合 (ステップ S40で Yes)につ 、ては、ウェハ 60上に形成される複数の半導体チップを、全半導体チップにつ!、て測定できて!/、な い場合には、再度ステップ S 20からステップ S40を繰り返し測定を行う(ステップ S80 )。また、全半導体チップを測定終了した場合には、ゥヱハ 60の測定完了となる (ステ ップ S90)。
[0072] 次に、図 7に示すステップ S50を行う。
ステップ S40で判定した歩留まりが任意の歩留まりの基準値以上である場合 (ステ ップ S40で No)、ステップ S50では、現在使用しているプローブについてこれまでに 実行してきたクリーニング回数と、予め定められたクリーニング実行回数の上限値とを 比較し、プローブのクリーニングの必要性を確認する。
[0073] 以上のような本実施の形態 6による半導体検査システムにおいては、半導体ウェハ
60を保持する保持用ステージ 70と、測定用プローブ 50を有するプローブカード 40 をセットするテストボード 30と、上記測定用プローブ 50が、上記半導体ウェハ 60の所 定のノ ッドに接触するように、上記保持用ステージ 70を移動する駆動部 80と、上記 テストボード 30に接続ケーブル 20を通じて接続され、該テストボード 30にセットされ たプローブカード 40の上記測定用プローブ 50と、上記半導体チップの所定のパッド との接触を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意の 検査を行うテスター 10と、上記テスター 10で実施された検査結果から求められる歩 留まりをクリーニング条件とし、上記測定用プローブ 50をクリーニングするタリーニン グ機構 100aを備えたものとしたため、プローブのコンタクト抵抗の上昇による、測定 異常を未然に防ぐことができ、また、プローブのクリーニングの必要性を確認できるた め、プローブのクリーニング回数を適切な回数に抑制でき、プローブの寿命を伸ばす ことが可能となる。また、歩留まりをプローブのクリーニングの必要性の判断基準とし たことにより、クリーニングの必要性を精度よく検出することができる。
[0074] さらには、コンタクト抵抗の微小な上昇時でも、複数の電気的特性の測定結果で判 断するため、検査異常を早期に発見でき、現状での半導体検査システムに、新規の ステージ等を追加することもなぐコンタクト抵抗の上昇を発見できるため、投資も削 減することができる。
[0075] (実施の形態 7)
以下、本発明の実施の形態 7による半導体検査システムについて、図面を参照しな 力 説明する。なお、本発明の実施の形態 7による半導体検査システムは、既に行つ た半導体チップの良否判断で不良と判断された場合に、再度行う検査に関するもの である。
[0076] 図 8は、本実施の形態 7による半導体検査システムの測定処理を示すフローチヤ一 トである。実施の形態 7は、連続不良数の基準となる任意の値を設定するステップ S1 Obと、連続で不良判定された半導体チップを任意数分に戻すステップ S60aを、実 施の形態 1に加えたものであり、また、電気的特性の測定結果が任意数以下かを判 断するステップ S40が実施の形態 1と異なる。なお、ステップ S10b、 S40、 S60a以外 のステップは実施の形態 1におけるものと同じであるため、その説明を省略する。
[0077] まず、図 8に示すステップ S 10で、ウェハ 60を保持ステージ 70の上に保持し、プロ ーブカード 40を、半導体ウェハプローバ 200aのテストボード 30にセットし、ウェハ測 定を開始して、次に、図 8に示すステップ S 10bを行う。
[0078] 半導体ウェハプローバ 200aに、連続不良数の基準となる任意の値を設定する。こ こで、連続不良数の基準となる任意の値の設定は、例えば、評価時に半導体チップ の検査を実施し、ある程度の連続不良数の予測を立て、その数値を半導体ウェハプ ローバ 200aに設定する等によって行う。
[0079] 次に、図 8に示すステップ S40を行う。
電気的特性の測定結果力 ステップ S 10bで設定した任意数以上である場合 (ステ ップ S40で No)は、半導体チップの電気的特性の測定を、ウェハ 60上の複数の半導 体チップのうち測定終了した半導体チップのところで一時中止し、ステップ S50に進 む。
[0080] また、電気的特性の測定結果がステップ S 10bで設定した任意数未満の場合 (ステ ップ S40で Yes)は、ステップ S 20に進む。
[0081] 次に、図 8に示すステップ S50を行う。
ステップ S40で電気的特性の測定結果の測定値がステップ SlObで設定した任意 数以上である場合 (ステップ S40で No)、ステップ S50では、現在使用しているプロ ーブについてこれまでに実行してきたクリーニング回数と、予め定められたタリーニン グ実行回数の上限値とを比較して、これまでのクリーニング実行回数が上記上限値 未満の場合 (ステップ S50で No)については、テスター 10より、駆動部 80を移動させ る制御信号を送り、プローブ 50と、クリーニング板 101aとを接触させ、プローブ 50の クリーニングを行う(ステップ S60)。
[0082] 次に、図 8に示すステップ S60aを行う。
ステップ S60のクリーニングの後、連続で不良判定された半導体チップを、ステップ S 10bにて設定した任意数分戻す。
[0083] 次に、ステップ S 20で測定した電気的特性の測定結果に基づ 、て、半導体チップ の良、否判断を行い、半導体チップの測定を終了する (ステップ S30)。
[0084] 以上のような本実施の形態 7による半導体検査システムにおいては、半導体ウェハ 60を保持する保持用ステージ 70と、測定用プローブ 50を有するプローブカード 40 をセットするテストボード 30と、上記測定用プローブ 50が、上記半導体ウェハ 60の所 定のノ ッドに接触するように、上記保持用ステージ 70を移動する駆動部 80と、上記 テストボード 30に接続ケーブル 20を通じて接続され、該テストボード 30にセットされ たプローブカード 40の上記測定用プローブ 50と、上記半導体チップの所定のパッド との接触を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意の 検査を行うテスター 10と、前記測定用プローブ 50を用いて前記テスター 10で実施し た検査結果において、あら力じめ決めた所定数連続して不良判定がでた場合に、前 記測定用プローブのクリーニングを行うクリーニング機構 100aを備え、前記所定数連 続して不良判定がでた前記半導体チップを前記所定数以下の任意数分戻し、再度 前記クリーニングを行った測定用プローブ 50を用いて測定を行うものとしたため、プ ローブのコンタクト抵抗の上昇による、測定異常を未然に防ぐことができ、また、タリー ユングの上限回数を設定しておき、これを超えて 、るときはプローブカードを交換す るようにしたので、性能劣化したプローブによる検査を回避することができる。
[0085] また、実際は良品である半導体チップについてプローブの状態が悪いために既に 行った半導体チップの良否判断で不良品であると判断された場合でも、正確に半導 体チップの良否判断を行うことができる。
産業上の利用可能性
[0086] 本発明に力かる半導体ウェハプローバよりなる半導体検査システムは、プローブの コンタ外抵抗上昇による検査異常を防ぎ、生産性を向上するという効果を有し、半導 体検査システムのコスト削減に対して有用である。

Claims

請求の範囲
[1] 測定用プローブを半導体ウェハ上に形成された半導体チップのパッドに接触させ、 前記半導体チップを検査するプローバよりなる半導体検査システムにおいて、 上記半導体ウェハを保持する保持用ステージと、
上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテストボードと、 上記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のパッドに接触するように、上記 保持用ステージを移動する駆動手段と、
上記テストボードに接続ケーブルを通じて接続され、該テストボードにセットされた プローブカードの上記測定用プローブと、上記半導体チップの所定のパッドとの接触 を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意の検査を 行うテスターと、
上記テスターで実施された検査の測定値をクリーニングする条件とし、上記測定用 プローブをクリーニングするクリーニング機構を備えた、
ことを特徴とする半導体検査システム。
[2] 請求項 1記載の半導体検査システムにお!、て、
前記クリーニング機構は、前記テスターで前記測定用プローブを用いた前記半導 体チップの検査終了後に、検査結果が前記クリーニングする条件に一致した場合は 、前記測定用プローブのクリーニングを行う、
ことを特徴とする半導体検査システム。
[3] 請求項 1記載の半導体検査システムにお!、て、
前記クリーニング機構は、前記テスターで前記測定用プローブを用いた前記半導 体チップの検査を実施して 、る途中にぉ 、ても、それまでの検査結果が前記タリー- ングする条件に一致した場合は、該検査の終了を待たずに前記測定用プローブのク リーニングを行う、
ことを特徴とする半導体検査システム。
[4] 請求項 1な!、し請求項 3記載の半導体検査システムにお 、て、
前記クリーニング機構は、前記クリーニングを行う手段を複数持ち、前記テスターで 実施された検査の測定値と、予め定めた判断基準値とを比較することにより、前記複 数のクリーニング手段のうちのいずれかを選択し、クリーニングを行う、 ことを特徴とする半導体検査システム。
[5] 請求項 1な 、し請求項 4の 、ずれかに記載の半導体検査システムにお ヽて、
前記クリーニング機構は、前記測定用プローブを用いて前記テスターで実施した検 查の測定値が、複数の連続する半導体チップで所定の測定値以上であった場合に 、これを前記測定用プローブをクリーニングする条件とする、
ことを特徴とする半導体検査システム。
[6] 請求項 5記載の半導体検査システムにお 、て、
前記クリーニング機構は、あら力じめ前記テスターに良品の半導体チップについて 行った所定の検査の基準値を格納しておき、
前記測定用プローブを用いて前記テスターで実施した検査の測定値を、前記所定 の検査の基準値と比較し、
前記検査の測定値が前記所定の検査の基準値以上である場合に、前記測定用プ ローブのクリーニングを行う、
ことを特徴とする半導体検査システム。
[7] 測定用プローブを半導体ウェハ上に形成された半導体チップのノ^ドに接触させ、 前記半導体チップを検査するプローバよりなる半導体検査システムにおいて、 上記半導体ウェハを保持する保持用ステージと、
上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテストボードと、 上記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のパッドに接触するように、上記 保持用ステージを移動する駆動手段と、
上記テストボードに接続ケーブルを通じて接続され、該テストボードにセットされた プローブカードの上記測定用プローブと、上記半導体チップの所定のパッドとの接触 を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意の検査を 行うテスターと、
上記テスターで実施された検査結果から求められる歩留まりをクリーニング条件とし 、上記測定用プローブをクリーニングするクリーニング機構を備えた、
ことを特徴とする半導体検査システム。 測定用プローブを半導体ウェハ上に形成された半導体チップのノ ッドに接触させ、 半導体チップを検査するプローバよりなる半導体検査システムにおいて、
上記半導体ウェハを保持する保持用ステージと、
上記測定用プローブを有するプローブカードをセットするテストボードと、 上記測定用プローブが、上記半導体ウェハの所定のパッドに接触するように、上記 保持用ステージを移動する駆動手段と、
上記テストボードに接続ケーブルを通じて接続され、該テストボードにセットされた プローブカードの上記測定用プローブと、上記半導体チップの所定のパッドとの接触 を介してテスト信号を上記半導体チップ内に送り、該半導体チップの任意の検査を 行うテスターと、
前記測定用プローブを用いて前記テスターで実施した検査結果にお!、て、あらか じめ決めた所定数連続して不良判定がでた場合に、前記測定用プローブのタリー- ングを行うクリーニング機構を備え、
前記所定数連続して不良判定がでた前記半導体チップを前記所定数以下の任意 数分戻し、再度前記クリーニングを行った測定用プローブを用いて測定を行う、 ことを特徴とする半導体検査システム。
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