JP2000208569A - 測定装置及び測定方法 - Google Patents

測定装置及び測定方法

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JP2000208569A
JP2000208569A JP11007745A JP774599A JP2000208569A JP 2000208569 A JP2000208569 A JP 2000208569A JP 11007745 A JP11007745 A JP 11007745A JP 774599 A JP774599 A JP 774599A JP 2000208569 A JP2000208569 A JP 2000208569A
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probe
stage
resistance value
voltage
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Yukio Yamazaki
幸夫 山崎
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Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 デバイス動作のテストの際、テスタピンから
デバイスまでの間の接触抵抗による電圧降下をテスタ内
部での電圧または電流の値の調整に反映させる。 【解決手段】 抵抗値測定用の導電ステージを持つプロ
ーバと、各テスタピンごとのDC測定ユニットと、電圧
または電流値の調整機能を持つテスタとで構成される測
定装置を用いて、テスタからテスタピン、プローブカー
ド、導電ステージを通して流れる電流を計測することに
より、各テスタピンに対応するプローブカード上の接触
抵抗値を計算する。計算した接触抵抗値を記憶し、その
値を用いることでテスタピンからデバイスの間に介在す
るデバイスインタフェースボードおよびプローブカード
によって生じる電圧降下分も加味した電圧または電流調
整を可能とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体デバイス
の動作等をテストする測定装置及び測定方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】測定装置を使って半導体デバイスの動作
等の正しいテストを行うためには、測定装置からデバイ
スへの入力電圧または入力電流を正しく伝え、デバイス
からの出力電圧または出力電流を正しく判定することが
必要である。そのため測定装置は、デバイスから出力さ
れる電圧または電流の測定機能と、デバイスへ入力する
電圧または電流の調整機能とを備えている。その動作に
ついて、デバイスへの入力電圧及びデバイスからの出力
電圧を調整する場合を例にとって以下に説明する。
【0003】図5は、測定装置のうち、デバイスとやり
とりされる信号を処理する部分であるテスタ301の構
造を表したものである。テスタ301は、デバイス(図
示せず)の各コンタクトパッドへの入力信号の送出とデ
バイスの各コンタクトパッドからの出力信号の受容を受
け持つテスタピン3091,3092,・・・・,309n
(nは自然数)と、テスタピンごとの電圧発生及び電圧
測定を受け持つテスタピン別ユニット3021,302
2,・・・・,302nと、各テスタピンにおける電圧の補
正値を計算する補正値計算部313と、各テスタピンご
との電圧の補正値を記憶する補正値記憶部314とを備
えている。また、各々のテスタピン別ユニットは、例え
ばテスタピン別ユニット3021を参照すれば、デバイ
スに与える信号を増幅して出力するドライバ304と、
デバイスからの信号のHigh,Lowを判定するコンパレー
タ305と、ドライバ304の出力電圧およびコンパレ
ータ305の比較電圧を規定するレベル電源308と、
スイッチ303,306,307と、ドライバ304の
出力電圧の測定及びコンパレータ305へのテスト電圧
の発生を受け持ちテスタピン3091での電圧値を正確
に計測できるよう外部計測器により校正されたDC測定
ユニット310と、コンパレータ305の出力電圧を測
定してその信号のHigh,Lowの変化点を判定するコンパ
レータ判定部315とを備えている。
【0004】テスタ301からデバイスへと入力される
電圧はレベル電源308よりドライバ304に与えられ
たレベル電圧VIH,VIL(VIH>VILとする)
で決定され、テスタ301へとデバイスから出力される
電圧はレベル電源308よりコンパレータ305に与え
られた比較電圧VOH,VOL(VOH>VOLとす
る)を元に判定される。つまり、レベル電圧VIH,V
ILはそれぞれドライバ304の正電源端子、負電源端
子に与えられて、それぞれドライバの出力電圧の最大
値、最小値となる。また、比較電圧VOH,VOLはそ
れぞれコンパレータ305の基準電圧端子に接続され
て、それぞれコンパレータのHigh信号のしきい値、Low
信号のしきい値となる。
【0005】しかし、テスタ301のレベル電圧VI
H,VILは、たとえ全テスタピン別ユニット3021
〜302nのレベル電源308の設定を同じくしていた
としても、信号径路での電圧降下などの影響のためテス
タピン3091〜309nに到った段階で各テスタピン
3091〜309nごとに微妙に異なった値となってし
まう。すると、あるテスタピンでの電圧信号VIHはデ
バイス側でHighと認識されるのに、別のテスタピンでの
電圧信号VIHはデバイス側でLowと認識されてしまう
というような問題が生じやすい。同様のことはデバイス
からの出力信号をテスタ301が受け取る場合にも当て
はまり、たとえデバイスから各テスタピン3091〜3
09nに等しい電圧信号の変化が入力されたとしても、
各テスタピン別ユニット3021〜302nにおいて信
号径路での電圧降下などの影響のため、コンパレータ3
05で受け取る電圧信号の値が微妙に異なってしまい、
テスタピン別ユニット3021〜302nごとに信号の
High,Lowの判断のタイミングが異なってしまうといっ
た問題が生じやすい。
【0006】そこで、校正済みのDC測定ユニット31
0を用いて、上記の問題が生じないように調整すること
が必要となる。特にテスタピンごとにレベル電源308
を持つテスタ301においては、電源を複数持っている
ため、誤差が発生する可能性が高く、電圧レベルの調整
は必須である。
【0007】レベル電圧VIHの調整は以下のようにし
て行う(図5において破線で囲まれた内容はこの調整を
説明するものである)。DC測定ユニット310では、
テスタピン3091で必要とされる電圧の値(例えば5
V)に対応するDC測定ユニット310での電圧の値
(例えば5.1V)が校正によって既に判明している。
そこでまず、DC測定ユニット310において測定され
るべき電圧の値(先の5.1V)を、印加電圧312と
してレベル電源308で発生させ、これにより与えられ
たレベル電圧VIHの値を、スイッチ303,307,
306を導通させDC測定ユニット310にて測定す
る。測定された値が、DC測定ユニット310において
測定されるべき電圧の値どおりであれば問題はないが、
もし異なっておれば、印加電圧312を修正する必要が
ある。そこで、測定された電圧値すなわち読み出し電圧
311を補正値計算部313へと与える。このときま
た、印加電圧312も補正値計算部313へと与えるこ
とで、読み出し電圧311と印加電圧312との差を補
正値計算部313で計算し、その計算結果を補正値とし
て補正値記憶部314へ記憶させる。そして、記憶され
た補正値をレベル電源308に与え、それ以降に出力さ
れるレベル電圧VIHにはそれまでの値にこの補正値を
加えた値を用いる。このようにすれば、DC測定ユニッ
ト310で必要な電圧の値を確実に発生させることがで
きる。レベル電圧VILについても全く同様の方法を行
えばよい。
【0008】一方、比較電圧VOHの調整の場合は、D
C測定ユニット310でLow→Highへと変化するテスト
電圧(例えば0.1V→5.1V)を発生させ、スイッ
チ307,306を導通させてコンパレータ305に与
える。このときレベル電源308において全テスタピン
別ユニットで共通の比較電圧VOH(例えば4.0V)
をコンパレータ305に与えておく。さてこのとき、コ
ンパレータ判定部315はDC測定ユニット310での
テスト電圧の変化とコンパレータ305の出力信号の変
化とを監視しておき、コンパレータ305の出力信号の
変化が実際にはテスト電圧の変化のどの辺りで発生する
かを判定する。つまり、コンパレータ305の変化点電
圧316を計測する。仮に比較電圧VOHに比べ実際の
変化点電圧316が小さな値であった場合(例えば先の
4.0Vに対し3.8Vであった場合)、このテスタピ
ン別ユニットは他のテスタピン別ユニットに比べ、デバ
イスの出力電圧の変化に対する対応のタイミングが早す
ぎることになる。よって、この変化点電圧316を補正
値計算部313へと与え、また、レベル電源308での
比較電圧VOHも補正値計算部313へと与えること
で、変化点電圧316と比較電圧VOHとの差を補正値
計算部313で計算し、その計算結果を補正値として補
正値記憶部314へ記憶させる。そして、記憶された補
正値をレベル電源308に与え、それ以降に出力される
比較電圧VOHにはそれまでの値にこの補正値を加えた
値を用いる。このようにすれば、このテスタピン別ユニ
ットでのデバイスの出力電圧の変化に対する対応のタイ
ミングを、他のテスタピン別ユニットでの対応のタイミ
ングにあわせることが可能となる。比較電圧VOLにつ
いても全く同様の方法を行えばよい。
【0009】以上のようにして従来のテスタは、テスタ
内部でのテスタピン間の出力電圧の誤差やデバイスの信
号変化への対応のタイミングの誤差を調整していた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような電
圧または電流の値の調整はテスタ内部に限り行われてお
り、従来の技術では、テスタピンの先からデバイスまで
の間に生じる電圧降下を考慮した調整ができていなかっ
た。
【0011】実際の半導体ウェハ上のデバイスをテスト
する際には、デバイスのコンタクトパッドに与える信号
をリレーによってON/OFFしたり複数の信号から一
つを選択したりすることが可能なデバイスインタフェー
スボードや、プローブを多数備えたプローブカードを、
テスタピンからデバイスまでの間に介在させることが多
く、それらにおける電圧降下の影響で、テスタから与え
られるレベル電圧が正しくデバイスに伝わらない、また
デバイスからの出力電圧がテスタで正しく読み出せない
という問題が発生する。特に、高い精度が要求されるデ
バイス(例えば、微小化し低電源電圧化したデバイス)
については、この問題が顕著となる。
【0012】テスタピンからデバイスまでの間のデバイ
スインタフェースボード、プローブカードによる電圧降
下は、それらが有する内部抵抗(以下、それらをひとま
とめにして接触抵抗と記す)に起因する。よって、この
接触抵抗の値をプローブごとに計測して求め、その値を
テスタ内部での電圧または電流の値の調整に反映させる
必要がある。
【0013】ただしこの接触抵抗の値は、プローブとデ
バイスのコンタクトパッドとの接触から生じるゴミなど
のために変動することがあるため、最初に計測した値を
そのまま用いるというわけにはいかない。
【0014】そのような接触抵抗値の変動をある程度防
ぐことが可能な技術として、デバイスの動作テストを複
数回繰り返した後に接触抵抗値を測定して、その値が許
容限界を超えた場合にプローブを研磨してクリーニング
する、という技術が例えば特開昭64−1249号公報
や特開昭63−170933号公報に示されている。
【0015】しかし、上記の技術はいずれも接触抵抗値
が許容限界を超えたときにプローブを研磨するだけであ
り、接触抵抗値を考慮したテスタ内部での電圧または電
流の値の調整についての技術を開示しているわけではな
い。また、プローブを研磨するまでの接触抵抗の悪化状
況をモニターしているにもかかわらず、その情報を有効
に生かしているわけでもない。
【0016】また他に、接触抵抗値の増加に対しデバイ
スの動作テストを安定して行うための方法として、特開
平8−327690号公報にてプローブ圧を自動調整す
る技術が開示されているが、接触抵抗値の大小とプロー
ブ圧の大小の関係は必ずしも一対一ではなく、例えばプ
ローブ圧が充分でもプローブ先端への微小異物付着によ
り接触抵抗値が増加することがあり、この場合、いくら
プローブ圧を調整しても適正な接触抵抗値は得られな
い。またこの技術によれば、ウェハステージを上下させ
ることによりプローブ圧の調整を実現している。しか
し、このような方法は全プローブのプローブ圧がそろっ
て弱い、もしくはそろって強い場合には有効であるが、
特定のプローブについて接触抵抗値が規格外である場合
にそのプローブに合わせてプローブ圧を調整してしまう
と、他のプローブのプローブ圧が強すぎ、または弱すぎ
となってしまう。
【0017】本発明は以上の問題点に鑑み、デバイスの
動作テストの際、定期的にテスタピンからデバイスまで
の間の接触抵抗を測定して、それによる電圧降下分を計
算し、その計算結果を電圧または電流の値の調整に反映
させる測定装置を提供するものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明のうち請求項1
にかかるものは、所定の接続点に接続された導電性の第
1のステージと、テスト信号を受けるデバイスを備えた
ウェハを載置可能な第2のステージと、前記第1及び第
2のステージの位置を制御するステージ制御機構とを有
するプローバと、前記第1のステージ及び前記デバイス
に接触可能な複数のプローブと、前記プローブに対応し
て設けられ、対応する前記プローブにおける電圧及び電
流のいずれか一方を前記所定の接続点を基準として規定
しつつ他方を測定し、測定結果から接触抵抗値を求める
第1の動作と、対応する前記プローブを開放状態におく
第2の動作とを行う測定ユニットと、前記第1のステー
ジに前記プローブを接触させ、一の前記プローブに対応
する前記測定ユニットが前記第1の動作を行い、他の前
記プローブに対応する前記測定ユニットが第2の動作を
行うことにより、プローブごとに求められた接触抵抗値
を記憶する抵抗値記憶部と、前記接触抵抗値に基づいて
前記テスト信号を校正して出力するテスト信号生成部と
を備える測定装置である。
【0019】この発明のうち請求項2にかかるものは、
請求項1に記載の測定装置であって、前記デバイスが前
記テスト信号を受けて発する出力信号を前記接触抵抗値
に基づいて校正する出力信号受信部を更に備える。
【0020】この発明のうち請求項3にかかるものは、
請求項2に記載の測定装置であって、前記測定ユニット
は、対応する前記プローブを前記所定の接続点に接続す
る第3の動作を行う。
【0021】この発明のうち請求項4にかかるものは、
(a)所定の接続点に接続された導電性のステージに複
数のプローブを接触させる工程と、(b)前記複数のプ
ローブのうちの一つを除き、前記ステージ以外には前記
所定の接続点へとつながる径路を有しないようにする工
程と、(c)前記工程(b)において除かれた前記一つ
のプローブにおける電圧及び電流のいずれか一方を、前
記所定の接続点を基準として規定して他方を測定し、測
定結果から接触抵抗値を求める工程と、(d)前記工程
(a)〜(c)からプローブ毎に求められた前記接触抵
抗値を記憶する工程と、(e)前記工程(d)で記憶さ
れた前記接触抵抗値に基づいて校正されるテスト信号を
用い、ウェハのデバイスに対してテストを行う工程とを
備える測定方法である。
【0022】この発明のうち請求項5にかかるものは、
請求項4に記載の測定方法であって、(f)前記デバイ
スが前記テスト信号を受けて発する出力信号を、前記工
程(d)で記憶された前記接触抵抗値に基づいて校正し
つつ受信する工程を更に備える。
【0023】この発明のうち請求項6にかかるものは、
請求項5に記載の測定方法であって、(g)前記工程
(c)で求めた前記接触抵抗値が、前記デバイスの特性
上不良と判断される上限値よりも大きいか、または、前
記デバイスの特性上不良と判断される下限値よりも小さ
いかを判断する工程を更に備える。
【0024】この発明のうち請求項7にかかるものは、
請求項5に記載の測定方法であって、前記工程(a)に
先んじて、(h)前記複数のプローブを、前記ステージ
に接触させずに前記所定の接続点に接続する工程と、
(i)前記複数のプローブのうちの一つにおける電圧及
び電流のいずれか一方を、前記所定の接続点を基準とし
て規定して他方を測定する工程とを更に備える。
【0025】
【発明の実施の形態】実施の形態1.本実施の形態にお
いては、内部に接触抵抗の情報を記憶する抵抗値記憶部
を設け、接触抵抗値の測定結果を抵抗値記憶部に記憶さ
せて、その記憶させた値を用いて電圧調整を行う測定装
置について説明する。
【0026】図1は本実施の形態にかかる測定装置DT
を示したものである。測定装置DTは、テスタ112
と、信号径路1171,1172,・・・・,117nによ
りテスタ112と接続されたデバイスインタフェースボ
ード120と、プローブ1011,1012,・・・・,1
01nを備えデバイスインタフェースボード120と接
続されたプローブカード109と、プローバ104とを
備えている。またこの図1は、接触抵抗値の測定に先立
って行い得るプローブ間リークチェック(後述)を示す
図でもある。
【0027】テスタ112は、「従来の技術」に示した
テスタ301と同様に、テスタピン3091,309
2,・・・・,309n(nは自然数)と、テスタピン別ユ
ニット1211,1212,・・・・,121nと、補正値
計算部313と、補正値記憶部314とを備えている。
テスタピン別ユニット1211〜121nはそれぞれテ
スタ301のテスタピン別ユニット3021〜302n
に対応している。また、テスタピン3091〜309n
はそれぞれプローブ1011〜101nに対応してい
る。
【0028】テスタピン別ユニット1211〜121n
は、例えばテスタピン別ユニット1211を参照すれ
ば、ドライバ304と、コンパレータ305と、レベル
電源308と、スイッチ303,306,307と、コ
ンパレータ判定部315とを備えている点で、テスタピ
ン別ユニット3021と共通している。しかしテスタピ
ン別ユニット1211では、テスタピン別ユニット30
21におけるDC測定ユニット310がDC測定ユニッ
ト116と置換されている。DC測定ユニット116
は、一端が接地された定電圧源118と、定電圧源11
8の他端に接続された電流計119と、電流計119に
接続された一端を有するスイッチ123と、一端がスイ
ッチ123の他端に接続され、他端が接地されたスイッ
チ122とを備えている。また、スイッチ123とスイ
ッチ122との接続点にスイッチ306の一端が接続さ
れている。
【0029】テスタ112はさらに抵抗値記憶部103
をも備えており、この抵抗値記憶部103は各テスタピ
ンからデバイスまでの接触抵抗値を記憶しておくための
ものである。
【0030】プローバ104は、テスタピン3091〜
309nからデバイス(図示せず)までの抵抗値を測定
する際に用いられる、ステージ全体が導電性部材で構成
された導電ステージ102と、デバイス動作検査の際に
デバイスが形成されたウェハ110を載置するためのウ
ェハステージ105とを備えている。さらにプローバ1
04は、ウェハステージ105の移動機構であるステー
ジ制御部106及びステージXY駆動部107及びステ
ージZ駆動部108を備えており、ステージ制御部10
6からの信号によりステージXY駆動部107を用いた
前後左右のステージ移動および、ステージZ駆動部10
8を用いた上下のステージ移動が可能となっている。ま
た、プローブカード109のプローブ1011〜101
nにウェハ110に形成されたデバイスのコンタクトパ
ッドを接触させ接触位置を確定させた際のステージ位置
を記憶するステージ位置記憶部111も備えており、ウ
ェハステージ105が別の位置に移動した場合も、移動
前の位置に戻ることができるようになっている。またプ
ローバ104は、テスタ112からの命令によってウェ
ハステージ105が制御されるように、テスタ112と
配線114によって接続され、ステージ制御部106に
対し命令を伝えるテスタインタフェース115も備えて
いる。また導電ステージ102には、テスタ112側の
グランドGNDにつながる電気的経路113も備わって
いる。
【0031】なお、導電ステージ102とウェハステー
ジ105とは支柱125を介して接続されており、ウェ
ハステージ105の移動機構を用いてウェハステージ1
05と相対的な位置関係を変化させることなく連動し
て、前後左右および上下に導電ステージ102を移動さ
せることができる。また、ステージ位置記憶部111に
導電ステージ102のステージ位置を記憶させることも
できる。例えば、ウェハステージ105上に載置したウ
ェハ110をプローブカード109に接触させたときの
ウェハステージ105のステージ表面の高さをステージ
位置記憶部111に記憶させておき、ステージZ駆動部
108を駆動させて一旦ウェハステージ105を下げ、
ステージXY駆動部107を駆動させてプローブカード
109の直下に導電ステージ102を配置した後、記憶
したウェハステージ105のステージ表面の高さの情報
を用いて、ウェハステージ105のステージ表面の高さ
にウェハ110の厚さを加えた高さになるよう導電ステ
ージ102のステージ表面の高さを調整すれば、ウェハ
ステージ105とプローブカード109が接触した状態
と同じ高さで、導電ステージ102とプローブカード1
09を接触させることができる。こうしておけば、プロ
ーブカード109の位置を固定しておくことができる。
なお、ウェハ110の厚さはプローバ104内に高さセ
ンサ(図示せず)を備えれば測定可能である。また、高
さセンサがなくともプローバ104内に、ウェハステー
ジ105上に例えば移動可能なCCDカメラ(図示せ
ず)が備えられておれば、ウェハステージ105上にウ
ェハ110が載置された場合の表面の高さと、ウェハ1
10が載置されない場合の表面の高さを測定しておき、
それらの結果からウェハ厚を算出可能であり、また導電
ステージ102の高さも容易に求められる。
【0032】次に接触抵抗値の測定方法について説明す
るが、その前にデバイスの動作テストの方法について触
れておく。
【0033】ウェハ上のデバイスの動作テスト開始にあ
たり、まずデバイスへのテスト手順を記憶したデバイス
プログラムをテスタ112内部のメモリ127にロード
する。このときデバイスプログラムをCPU124で解
析して、そのデバイスではどのテスタピンが使用される
のかというコンタクトピン情報を読み出し、メモリ12
7に記憶しておく。なお、このときレベル電圧VIH,
VIL及び比較電圧VOH,VOLは調整済みであるも
のとする。
【0034】デバイスプログラムのロードが完了した
後、プローバ104にウェハ110を載置してウェハ上
のデバイスの動作テストを順に行う。動作テストは、プ
ローブカード109のプローブ1011〜101nにウ
ェハ110上の各デバイスのコンタクトパッドが接触す
るようにウェハステージ105をステージ制御部106
により移動させ、テスタ112から信号経路1171〜
117n(これらはそれぞれテスタピン3091〜30
9nに対応している)及びデバイスインタフェースボー
ド120及びプローブカード109を介して信号を送り
その反応をテスタ112が監視することで行う。1つの
デバイスでのテストが全て終了すれば再びウェハステー
ジ105をステージ制御部106により移動させ別のデ
バイスでテストを行う。この動作を繰り返し、1枚のウ
ェハ上のすべてのデバイスでのテストが完了すれば、テ
スト済みウェハを移動させ、新たなウェハをウェハステ
ージ105に載置して同様のテストを繰り返す。
【0035】このようなテストを繰り返すうち、プロー
ブ1011〜101nにコンタクトパッドの削れ等の微
小なゴミが付着するなどして、テスタピン309からデ
バイスまでの接触抵抗値が変動しやすくなる。そのため
に、テストの途中に定期的に接触抵抗値を測定する期間
を設けておく。接触抵抗値の測定タイミングがくれば、
ステージ制御部106によって、次にテストすべきデバ
イスのコンタクトパッドの位置の情報をステージ位置記
憶部111に記憶させ、ウェハステージ105を移動さ
せた後、プローブカード109の直下に導電ステージ1
02を移動させる。なおプローバ104のステージ制御
部106には、例えば100チップごと、あるいは1ウ
ェハごとというように、どのタイミングで接触抵抗値の
測定を行うかを任意に設定できるようにしておけばよ
い。
【0036】次に接触抵抗値の測定方法について説明す
る。まずプローバ104は、導電ステージ102をプロ
ーブカード109のプローブ1011〜101nに接触
させない状態(図1)にしておき、テスタ112に対し
て接触抵抗値測定用プログラムを実行するよう、テスタ
インタフェース115を通して通知する。プローバ10
4からの通知を受けたテスタ112は、デバイスプログ
ラムロード時に読み出したコンタクトピン情報に基づい
て、接触抵抗値測定用プログラムをメモリ127にロー
ドし実行する。この接触抵抗値測定用プログラムは、デ
バイスのコンタクトパッドの削れ等による微小ゴミの付
着の有無を検査するプローブ間リークチェックと、接触
抵抗値を測定する抵抗値チェックとから構成されてい
る。
【0037】接触抵抗値測定用プログラムの概要は以下
の通りである。まず、プローブ間リークチェックが実行
され、その結果プローブ間リークが発生していなけれ
ば、テスタ112からテスタインタフェース115を通
しプローバ104に対して、導電ステージ102とプロ
ーブカード109とのコンタクトを要求する信号が送ら
れ、それに基づきプローバ104では、ステージ制御部
106の制御によりプローブカード109と導電ステー
ジ102とを接触させる(図2)。
【0038】その後、テスタ112では接触抵抗値測定
用プログラム内の抵抗値チェックが実行され、測定結果
をテスタ112の抵抗値記憶部103に転送する。全テ
スタピンについての抵抗値チェックが終了し、いずれの
抵抗値も許容範囲内であれば、テスタインタフェース1
15を通しプローバ104に対してpassを通知し、
デバイスプログラムを再ロードする。つまり、テスタ1
12からのpass通知に基づきプローバ104では、
ステージ制御部106の制御によりプローブカード10
9の下の導電ステージ102を移動させ、ウェハステー
ジ105をプローブカード109の下に移動させて、ス
テージ位置記憶部111に記憶されている位置のデバイ
スにコンタクトさせ、テスタ112でのデバイスプログ
ラムのロードが完了次第、後続デバイスのテストを続行
する。
【0039】もし、プローブ間リークチェックでリーク
が発生したり、抵抗値チェックで抵抗値が許容範囲を越
えていた場合は、テスタ112からテスタインタフェー
ス115を通してfailが通知されるため、プローバ
104ではデバイスのテストを中断し、プローブの洗浄
や研磨を促すためアラームを発報する。
【0040】このような接触抵抗値測定用プログラムの
動作について、図3及び図4のフローチャートを用いて
説明する。このフローチャートでは、ステップ200〜
ステップ214がプローブ間リークチェックに、ステッ
プ212〜ステップ226が抵抗値チェックに相当す
る。
【0041】まず初めに、導電ステージ102をプロー
バ109のプローブ1011〜101nと接触させない
ようにする(ステップ200)。次に、デバイスプログ
ラムロード時にテスタ112のメモリ127に記憶した
コンタクトピン情報を入手する(ステップ201)。次
にそのコンタクトピン情報に基づき、接触抵抗値測定用
プログラムの終了後に最初に行われるデバイスプログラ
ムにおいて使用されるテスタピンのテスタピン別ユニッ
ト中のスイッチ123を開き、スイッチ122を閉じて
該当する全テスタピンをグランドに接続する(ステップ
202)。そして、該当するテスタピンに適当な順番で
番号を付し、該当するテスタピンのうち何番目のピンを
チェック中であるかを示すピン数カウントnの値を1に
する(ステップ203)。
【0042】全てのテスタピンをチェックするまで(ス
テップ204)、1番目のテスタピンに対応するテスタ
ピン別ユニットから順番にスイッチ123を閉じてスイ
ッチ122を開け、テスタピンを1つずつDC測定ユニ
ット116の定電圧源118及び電流計119に接続し
(ステップ205)電流値を測定する(ステップ20
6)。プローブカード109は導電ステージ102やウ
ェハ110には接触していない状態のため、通常ならば
電流の流れる経路はなくリークは発生しないはずである
が、もし、DC測定ユニット116の定電圧源118に
接続中のテスタピンとその他のテスタピンが、例えばプ
ローブカード109のプローブへのゴミの付着により電
気的に導通状態となってしまっていた場合、定電圧源1
18に接続中のテスタピン以外はグランドに接続されて
いるため、電流の流れる経路が生じ、リークが発生す
る。例えばプローブ1011とプローブ1012にわた
ってゴミ126が付着しているものとすると、リーク電
流は定電圧源118→テスタピン3091→信号経路1
171→デバイスインタフェースボード120→プロー
ブカード109→プローブ1011→付着したゴミ12
6→プローブ1012→プローブカード109→デバイ
スインタフェースボード120→信号経路1172→テ
スタピン3092→テスタピン別ユニット1212のス
イッチ122→グランド、という経路で流れる。このよ
うな径路で電流が流れると、テスタピン別ユニット12
11の電流計119で測定されるので、他のピンとのリ
ークがないかがチェックされる(ステップ207)。リ
ークがあればそのテスタピンをエラーピンとして記録し
ておく(ステップ208)。
【0043】なお、次のテスタピンを順にチェックして
いくため、リークチェックの終了したテスタピンは、ス
イッチ123を開きスイッチ122を閉じてグランドに
接続し(ステップ209)、ピン数カウントnをインク
リメントしておく(ステップ210)。
【0044】こうして全テスタピンをチェックした結果
エラーピンがあるか否かを判断し(ステップ211)、
ステップ208で記録したエラーピンの情報を表示し
(ステップ212)、failを通知して(ステップ2
13)、接触抵抗値測定用プログラムの動作は終了する
(ステップ214)。このようにすれば、プローブでの
リークの発生が検出できる。
【0045】エラーピンがなければ、プローバ104に
対し信号を送り、導電ステージ102にプローブカード
109を接触させるようステージ制御部106を操作す
る(ステップ215:図4)。
【0046】そこで、全テスタピンをスイッチ122,
123のいずれをも開いた状態(OPEN)にし(ステ
ップ216)、何番目のテスタピンをチェック中である
かを示すピン数カウントnを1にする(ステップ21
7)。
【0047】全てのテスタピンをチェックするまで(ス
テップ218)、1番目のテスタピンから順番にスイッ
チ123を閉じてスイッチ122を開け、1つずつDC
測定ユニット116の定電圧源118及び電流計119
に接続し(ステップ219)、DC測定ユニット116
内の電流計119で電流値を測定する。その電流値と、
定電圧源118で発生させた電圧の値とを用いて、接触
抵抗値を計算する。
【0048】各テスタピンごとの接触抵抗値はこうする
ことで得られる。そこで得られた抵抗値は、デバイスイ
ンタフェースボード120で発生する抵抗値Rb、プロ
ーブカード109で発生する抵抗値Raを含んでいるの
で、測定した接触抵抗値をテスタ112内に設けた抵抗
値記憶部103に転送して記憶させる(ステップ22
0)。例えばドライバ304からデバイスに信号を与え
る際に、この値を抵抗値記憶部103から補正値計算部
313に渡してドライバ304から流れる電流値にその
接触抵抗値を乗じてテスタピンからデバイスまでの電圧
降下分を計算し、その電圧降下分を従来の方法で得られ
た補正値に加えておく。こうすれば、接触抵抗による電
圧降下分を考慮した値をオフセット値として、補正値記
憶部314に記憶させることで、テスタピンからデバイ
スの間に介在するデバイスインタフェースボード120
およびプローブカード109によって生じる電圧降下も
加味したレベル電圧及び比較電圧の調整が可能となる。
【0049】続いて、接触抵抗値が許容範囲内であるか
どうかをチェックする(ステップ221)。許容範囲外
であればそのテスタピンをエラーピンとして記録してお
く(ステップ222)。
【0050】なお、次のテスタピンを順にチェックして
いくため、抵抗値チェックの終了したテスタピンはOP
EN状態とし(ステップ223)、ピン数カウントnを
インクリメントしておく(ステップ224)。
【0051】全テスタピンのチェックの結果、接触抵抗
値が許容範囲をオーバーするテスタピンがあるか否かを
判断し(ステップ225)、もしあればその情報を表示
し(ステップ212)failを通知して(ステップ2
13)、接触抵抗値測定用プログラムの動作は終了する
(ステップ214)。
【0052】接触抵抗値が許容範囲をオーバーするテス
タピンがなければ、プローバ104に対しpassを通
知して(ステップ226)接触抵抗値測定用プログラム
の動作は終了させ(ステップ214)、後続するデバイ
スの動作テストを続行する。
【0053】なお、接触抵抗値の許容範囲については、
全てのデバイス品種について共通の値としておくことも
可能であるが、デバイスプログラム内に接触抵抗値の許
容範囲の情報を持つ部分を作成し、プログラムロード時
に、コンタクトピン情報と一緒に接触抵抗値の許容範囲
の情報も読み出すことで、各デバイスプログラム対応の
接触抵抗値の許容範囲に応じたデバイスの動作テストを
行うことができる。
【0054】また、テスタ112内でのレベル電圧及び
比較電圧の調整を上記のように、接触抵抗値の計算後す
ぐに行えば、プローブを研磨する以前の接触抵抗の悪化
状況を直ちにレベル電圧及び比較電圧の調整に反映させ
ることができ、接触抵抗の変化の情報を有効に生かすこ
とができる。
【0055】なお、接触抵抗のうち悪化する以前にデバ
イスインタフェースボード120及びプローブカード1
09自身が既に有していた抵抗Ra,Rbでの電圧降下
も考慮すべきであることから、最初のデバイスの動作テ
ストを行う前に上記の接触抵抗値の測定を予め行ってお
くのが望ましい。
【0056】本実施の形態にかかる測定装置及び測定方
法を用いれば、デバイス動作のテスト中、定期的にテス
タピンからデバイスまでの間の接触抵抗に流れる電流を
測定し、その測定結果から接触抵抗値を計算し、計算結
果をテスタ内の抵抗値記憶部に収め、補正値計算部によ
り接触抵抗による電圧降下分を計算してレベル電圧及び
比較電圧の値の調整に反映させるので、高い精度が要求
されるデバイスであっても、また、接触抵抗値が時間変
化しても、デバイスへの入力電圧であるレベル電圧VI
H,VIL、及びデバイスからの出力電圧の変化に対応
するコンパレータ305の出力の変化タイミングを規定
する比較電圧VOH,VOLをテスタピン単位で正確に
調整することができる。
【0057】その他.実施の形態1ではレベル電源での
レベル電圧及び比較電圧を補正する場合について示した
が、本発明はレベル電源に限らず、例えばDC測定ユニ
ットの定電圧源に対しても補正が可能となるものであ
る。DC測定ユニットもテスタピンごとに設けられてい
るため、より正確なテストを行うためには各DC測定ユ
ニットごとの電圧の値を調整し、全てのDC測定ユニッ
トから同じ電圧が印加される必要がある。
【0058】また、図1ではDC測定ユニットに定電圧
源と電流計とを用いたが、定電流源と電圧計とを用いて
も実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
【0059】
【発明の効果】この発明のうち請求項1にかかる測定装
置を用いれば、第1のステージにプローブを接触させ、
接触抵抗値を求めたいプローブに対応する測定ユニット
が第1の動作を行い、それ以外のプローブに対応する測
定ユニットが第2の動作を行うことにより、当該接触抵
抗値を求めることができる。また、第2のステージに載
置されたウェハにプローブを接触させてデバイスのテス
トを行う際に用いられるテスト信号は、第1のステージ
に対してプローブを接触させた際の接触抵抗値に基づい
て校正されているので、正確なテストを実行することが
できる。
【0060】この発明のうち請求項2にかかる測定装置
を用いれば、デバイスから発せられる出力信号について
も接触抵抗値に基づいて校正されるので、正確なテスト
を実行することができる。
【0061】この発明のうち請求項3にかかる測定装置
を用いれば、全てのプローブを第1及び第2のステージ
のいずれにも接触させず、一のプローブについての測定
ユニットが第1の動作を行い、他のプローブについての
測定ユニットが第3の動作を行うことにより、一のプロ
ーブと他のプローブとの間にリークが存在するか否かを
測定することができる。
【0062】この発明のうち請求項4にかかる測定方法
を用いれば、接触抵抗値が変化しても、デバイスのテス
トを行う際のテスト信号及び出力信号は変化後の接触抵
抗値に基づいて校正されているので、正確なテストを実
行することができる。
【0063】この発明のうち請求項5にかかる測定方法
を用いれば、デバイスの発する出力信号も変化後の接触
抵抗値に基づいて校正して受信するので、正確なテスト
を実行することができる。
【0064】この発明のうち請求項6にかかる測定方法
を用いれば、テストを行うデバイスの接触抵抗値の許容
範囲に応じた接触抵抗値の測定を行うことができる。
【0065】この発明のうち請求項7にかかる測定方法
を用いれば、一のプローブと他のプローブとの間にリー
クが存在するか否かを測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1の測定装置を示す図
である。
【図2】 この発明の実施の形態1の測定装置を示す図
である。
【図3】 この発明の実施の形態1の接触抵抗値の測定
方法を示すフローチャートである。
【図4】 この発明の実施の形態1の接触抵抗値の測定
方法を示すフローチャートである。
【図5】 従来の測定装置を示す図である。
【符号の説明】
1011〜101n プローブ、102 導電ステー
ジ、103 抵抗値記憶部、104 プローバ、105
ウェハステージ、106 ステージ制御部、107
ステージXY駆動部、108 ステージZ駆動部、11
1 ステージ位置記憶部、115 テスタインタフェー
ス、116 DC測定ユニット、304ドライバ、30
5 コンパレータ。
フロントページの続き Fターム(参考) 2G011 AA02 AA16 AC06 AC09 AC14 AC31 AE03 AF06 2G032 AB01 AD01 AE08 AE10 AE12 AE14 AF02 AG01 AG07 AK15 AK16 AK19 AL04 AL14 4M106 AA01 AA02 BA01 BA14 CA10 DD18 DJ02 DJ04 DJ05 DJ19 DJ21 9A001 BB05 KK31 LL05

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の接続点に接続された導電性の第1
    のステージと、テスト信号を受けるデバイスを備えたウ
    ェハを載置可能な第2のステージと、前記第1及び第2
    のステージの位置を制御するステージ制御機構とを有す
    るプローバと、 前記第1のステージ及び前記デバイスに接触可能な複数
    のプローブと、 前記プローブに対応して設けられ、対応する前記プロー
    ブにおける電圧及び電流のいずれか一方を前記所定の接
    続点を基準として規定しつつ他方を測定し、測定結果か
    ら接触抵抗値を求める第1の動作と、対応する前記プロ
    ーブを開放状態におく第2の動作とを行う測定ユニット
    と、 前記第1のステージに前記プローブを接触させ、一の前
    記プローブに対応する前記測定ユニットが前記第1の動
    作を行い、他の前記プローブに対応する前記測定ユニッ
    トが第2の動作を行うことにより、プローブごとに求め
    られた接触抵抗値を記憶する抵抗値記憶部と、 前記接触抵抗値に基づいて前記テスト信号を校正して出
    力するテスト信号生成部とを備える測定装置。
  2. 【請求項2】 前記デバイスが前記テスト信号を受けて
    発する出力信号を前記接触抵抗値に基づいて校正する出
    力信号受信部を更に備える請求項1に記載の測定装置。
  3. 【請求項3】 前記測定ユニットは、対応する前記プロ
    ーブを前記所定の接続点に接続する第3の動作を行う、
    請求項2に記載の測定装置。
  4. 【請求項4】 (a)所定の接続点に接続された導電性
    のステージに複数のプローブを接触させる工程と、 (b)前記複数のプローブのうちの一つを除き、前記ス
    テージ以外には前記所定の接続点へとつながる径路を有
    しないようにする工程と、 (c)前記工程(b)において除かれた前記一つのプロ
    ーブにおける電圧及び電流のいずれか一方を、前記所定
    の接続点を基準として規定して他方を測定し、測定結果
    から接触抵抗値を求める工程と、 (d)前記工程(a)〜(c)からプローブ毎に求めら
    れた前記接触抵抗値を記憶する工程と、 (e)前記工程(d)で記憶された前記接触抵抗値に基
    づいて校正されるテスト信号を用い、ウェハのデバイス
    に対してテストを行う工程とを備える測定方法。
  5. 【請求項5】 (f)前記デバイスが前記テスト信号を
    受けて発する出力信号を、前記工程(d)で記憶された
    前記接触抵抗値に基づいて校正しつつ受信する工程を更
    に備える請求項4に記載の測定方法。
  6. 【請求項6】 (g)前記工程(c)で求めた前記接触
    抵抗値が、前記デバイスの特性上不良と判断される上限
    値よりも大きいか、または、前記デバイスの特性上不良
    と判断される下限値よりも小さいかを判断する工程を更
    に備える請求項5に記載の測定方法。
  7. 【請求項7】 前記工程(a)に先んじて、 (h)前記複数のプローブを、前記ステージに接触させ
    ずに前記所定の接続点に接続する工程と、 (i)前記複数のプローブのうちの一つにおける電圧及
    び電流のいずれか一方を、前記所定の接続点を基準とし
    て規定して他方を測定する工程とを更に備える、請求項
    5に記載の測定方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006329836A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Advantest Corp 測定用コンタクト端子、測定装置、プローブカードセット、ウエハプローバ装置、及び試験装置
US7330043B2 (en) 2002-06-25 2008-02-12 Fujitsu Limited Semiconductor device and test method for the same
JP2008102060A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Yokogawa Electric Corp 半導体試験装置のタイミング校正回路及びタイミング校正方法
JP2016031339A (ja) * 2014-07-30 2016-03-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 評価方法およびそれを利用した太陽電池モジュールの製造方法、太陽電池モジュールの製造装置、太陽電池モジュール
JP2019009300A (ja) * 2017-06-26 2019-01-17 三菱電機株式会社 チャックステージ検査装置およびチャックステージ検査方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7330043B2 (en) 2002-06-25 2008-02-12 Fujitsu Limited Semiconductor device and test method for the same
JP2006329836A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Advantest Corp 測定用コンタクト端子、測定装置、プローブカードセット、ウエハプローバ装置、及び試験装置
JP4679244B2 (ja) * 2005-05-26 2011-04-27 株式会社アドバンテスト 測定用コンタクト端子、測定装置、プローブカードセット、およびウエハプローバ装置
JP2008102060A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Yokogawa Electric Corp 半導体試験装置のタイミング校正回路及びタイミング校正方法
JP2016031339A (ja) * 2014-07-30 2016-03-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 評価方法およびそれを利用した太陽電池モジュールの製造方法、太陽電池モジュールの製造装置、太陽電池モジュール
JP2019009300A (ja) * 2017-06-26 2019-01-17 三菱電機株式会社 チャックステージ検査装置およびチャックステージ検査方法

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