WO2007101827A1 - Verfahren zur herstellung einer entladungslampe und eine nach einem derartigen verfahren hergestellte lampe - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer entladungslampe und eine nach einem derartigen verfahren hergestellte lampe Download PDF

Info

Publication number
WO2007101827A1
WO2007101827A1 PCT/EP2007/052022 EP2007052022W WO2007101827A1 WO 2007101827 A1 WO2007101827 A1 WO 2007101827A1 EP 2007052022 W EP2007052022 W EP 2007052022W WO 2007101827 A1 WO2007101827 A1 WO 2007101827A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
coating
discharge vessel
discharge
lamp
vessel
Prior art date
Application number
PCT/EP2007/052022
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Jürgen Becker
Jens Dahl Jensen
Ursus KRÜGER
Uwe Pyritz
Raymond Ullrich
Original Assignee
Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH filed Critical Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH
Publication of WO2007101827A1 publication Critical patent/WO2007101827A1/de

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02—Details
    • H01J61/30—Vessels; Containers
    • H01J61/35—Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02—Details
    • H01J61/54—Igniting arrangements, e.g. promoting ionisation for starting
    • H01J61/547—Igniting arrangements, e.g. promoting ionisation for starting using an auxiliary electrode outside the vessel
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/82—Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/245—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps
    • H01J9/247—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a discharge lamp having at least one discharge vessel and two electrodes extending into a discharge space of the discharge vessel, which are connected to the power supply led out of the discharge vessel, at least partially an electrically conductive, transparent coating on an outer peripheral surface of the discharge vessel is applied, so that forms a capacitive coupling between the coating and at least one electrode and / or power supply.
  • the invention further relates to a discharge lamp produced by such a method.
  • Such a discharge lamp is, for example, www.osram.de on the Internet domain of the product descriptions described drawing "XENARC ®".
  • These conventional high pressure discharge lamps have a discharge vessel which defines a space filled with an ionizable filling the discharge space, two electrodes extending in the that the discharge space, two electrodes extending in the that the
  • discharge lamps were developed whose filling does not contain any mercury, and it has been found that lamps of this type have an advantage over lamps Mercury-containing filling have poorer ignition properties. In particular, a high ignition voltage and thus a large ignition unit with insufficient ignition safety and problems with the electromagnetic compatibility is required.
  • a high-pressure discharge lamp is known from the applicant's EP 05017122.2, in which an electrically conductive, light-transmitting layer is applied as an at least partial coating on the surface of the discharge vessel.
  • This coating together with the electrodes and, if appropriate, the power supply lines, forms a capacitor, with the glass of the discharge vessel in between and the filling gas in the discharge space forming the dielectric of this capacitor.
  • the invention has for its object to provide a method for producing a discharge lamp and a discharge lamp produced by such a method, in which over conventional solutions improved ignition is possible.
  • This object is achieved by a method for producing a high-pressure discharge lamp, comprising at least one discharge vessel and two electrodes extending into a discharge space of the discharge vessel, which are connected to current leads led out of the discharge vessel, wherein at least in sections an electrically conductive, light-permeable coating is applied to an outer peripheral surface of the discharge tube Discharge vessel is applied, so that forms a capacitive coupling between the coating and at least one electrode and / or power supply, wherein the coating is applied by means of a vacuum coating method on the discharge vessel.
  • a discharge lamp produced by such a method Particularly advantageous embodiments of the invention are described in the dependent claims.
  • the electrical properties of the coating can be readily adjusted by the material used, the layer geometry and the thickness of the layer to achieve the desired improvements in ignition characteristics.
  • the coating is applied to the discharge vessel in PVD sputtering or CVD technology.
  • a particularly suitable method has a reactive
  • the coating is preferably applied to the discharge vessel in mask or masking technique.
  • the coating may consist of different electrically conductive materials.
  • the coating preferably has at least one oxide compound.
  • the coating-doped tin oxide (SnO) in particular indium tin oxide (In2Ü3: SnÜ2) Cadmiumstannatoxid (Cd2Sn ⁇ 4)
  • Indi ⁇ oxide comprises doped zinc oxide (In 2 ⁇ 3) or (ZnO).
  • a coating of gold (Au) or titanium nitride (TiN) is applied to the discharge vessel.
  • Au gold
  • TiN titanium nitride
  • the coating is applied to the discharge vessel in a preferred embodiment with a layer thickness in the range of about 0.1 to 0.5 .mu.m, preferably of 0.2 .mu.m.
  • the coating has a sheet resistance in the range of about 3 to 20 ⁇ / D.
  • the resistance per unit length of the coating is preferably less than or equal to 10 5 ohms / cm.
  • the breakdown voltage of the discharge gap between the electrodes and thus the ignition voltage is substantially reduced by such a coating.
  • the coating is formed at least in the region of the discharge space and extends over a peripheral portion of the discharge vessel. Due to the planar extent of the coating, the capacitive coupling of the coating to an electrode, preferably to both electrodes and the power supply lines, is further improved. In order to optimize the aforementioned capacitive coupling, the coating is additionally applied at least partially to end sections of the discharge vessel.
  • the discharge vessel with an end portion is inserted into a base and has a socket-close and a socket remote sealed end, from each of which a power supply for the electrodes is led out, which from the base end remote from the discharge vessel led out power supply with a down connected to the base guided current return, wherein the coating is applied to a current return of the facing surface region of the discharge vessel.
  • the surface region of the discharge vessel facing the current return is only of minor importance when the discharge lamp is used in a headlight for producing the desired light distribution. Therefore, even a slight absorption of light caused by the coating is negligible for the function of the lamp.
  • the coating is applied to the discharge vessel such that the coating extends into the region of the molybdenum foil and faces one of the two side surfaces of the molybdenum foils.
  • the molybdenum foils and the coating form a type of plate capacitor, wherein the glass of the discharge vessel arranged therebetween forms the dielectric of this capacitor.
  • the light-permeable, electrically conductive coating is advantageously applied to the discharge vessel in the region below the electrodes.
  • the coating reflects a portion of the infrared radiation generated by the discharge back into the discharge space and thereby causes a selective heating of the colder, lying below the elec- trode areas of the discharge vessel in which the metal halide used for the light generation. collect money.
  • the efficiency of the discharge lamp can be increased without heating the thermally highly loaded areas of the discharge vessel.
  • the coating on the colder underside of the discharge vessel is thermally less stressed, so that lower requirements can be made of the thermal resistance of the coating materials.
  • the discharge vessel is preferably surrounded by an outer bulb, the space between outer bulb and discharge vessel being provided with a gas filling, for example an inert gas filling, which prevents undesired chemical reactions of the coating.
  • a gas filling for example an inert gas filling, which prevents undesired chemical reactions of the coating.
  • the gas filling further contains small amounts of oxygen to compensate for diffusion of oxygen from the coating.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a high-pressure discharge lamp with a coating produced according to the invention
  • FIG. 2 shows an individual view of the discharge vessel according to a first exemplary embodiment of the coating
  • FIG. 3 is a side view of the discharge vessel of Figure 2;
  • FIG. 4 shows an individual representation of the discharge vessel according to a second exemplary embodiment of the coating;
  • FIG. 5 shows an individual view of the discharge vessel according to a further exemplary embodiment of the coating
  • Figure 6 is a side view of the discharge vessel of Figure 5 and
  • FIG. 7 shows a greatly simplified illustration of a vacuum coating system.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a high-pressure discharge lamp 1 with an electrically conductive, light-permeable coating 2 applied according to the invention in a vacuum coating method.
  • the high-pressure discharge lamp 1 has a discharge vessel 4 made of quartz glass with a discharge space 6 and two diametrically arranged, sealed end sections 8, 10 in each case one Molybdenum foil 12 is embedded for gas-tight current feedthrough.
  • the molybdenum foils 12 are connected at a first narrow side 14 to an outer current supply 16 made of doped molybdenum.
  • the discharge space 6 of the discharge vessel 4 protrude two diametrically arranged electrodes 18, 20 of doped tungsten, each connected to a second narrow side 22 of the molybdenum foils 12 and between which forms a gas discharge during lamp operation.
  • a mercury-free, ionizable filling is included, which consists of high-purity xenon gas and a plurality of metal halide iden.
  • the discharge vessel 4 is surrounded by an outer bulb 24, which consists of quartz glass, which is provided with dopants absorbing ultraviolet radiation.
  • the high-pressure discharge lamp 1 also has a lamp cap 26, which carries the discharge vessel 4 and the outer bulb 24.
  • the lamp base 26 has a sectionally cylindrical base housing 28 made of electrically insulating plastic, which has a fastening section 30 for accommodating the lamp 1 in the base housing 28 on the lamp side.
  • the attachment portion 30 has an at least partially annular flange 32 for attachment of the high-pressure discharge lamp 1 in a lamp holder, not shown.
  • the outer current supply 16 of the socket-distal end portion 10 of the discharge vessel 4 is connected via an insulating sleeve 34 current return 36 to an electrical connection ring 38 of the base 26, while the sockelnahe power supply 16 is connected to an inner contact pin, not shown, of the high-pressure discharge lamp 1 ,
  • the inventively by means of a vacuum coating process applied to the discharge vessel 4 electrically conductive, transparent coating 2, together with the electrodes 18, 20 and with the led out of the discharge vessel 4 power supply 16th a capacitor, wherein the intermediate quartz glass of the discharge vessel 4 and the filling gas in the discharge space 6 form the dielectric of this capacitor.
  • a dielectrically impeded discharge is produced in the discharge space 6 between the electrodes 18, 20 and the coating 2.
  • This dielectrically impeded discharge generates a sufficient number of free charge carriers in the discharge space 6 in order to enable the electrical breakdown between the two electrodes 18, 20 of the discharge lamp 1 or to considerably reduce the required ignition voltage, so that the coating is suitable.
  • the coating 2 according to the invention of the discharge lamp 1 in the vacuum coating method a coating having a defined layer thickness with high adhesive strength is achieved on the discharge vessel 4.
  • the electrical resistance of the coating 2 can be adjusted in a simple manner by the layer geometry and thickness of the layer.
  • the space 40 delimited by the outer bulb 24 and the discharge vessel 4 is provided with a gas filling, for example an inert gas filling, which prevents undesired chemical reactions of the coating 2.
  • the gas filling is further added a small amount of oxygen to a Diffusion of oxygen from the coating 2 compensate.
  • the coating 2 extends in the illustrated embodiment in the longitudinal direction of the discharge lamp 1 over the entire length of the discharge space 6 and over approximately half the length of the sealed ends 8, 10 of the discharge vessel 4.
  • the coating 2 is on an outer peripheral surface 42 of the discharge vessel 4 and extends over about 5 to 10 percent of the circumference of the discharge vessel 4. Due to the planar expansion of the coating 2, a high capacitive coupling of the coating 2 to the electrodes 18, 20 and the power supply lines 16 is achieved.
  • the coating 2 is applied to the discharge vessel 4 such that the coating 2 extends into the region of the molybdenum foils 12 and faces in each case one of the two side surfaces 44 of the molybdenum foils 12.
  • the molybdenum foils 12 and the coating 2 form a type of plate capacitor, with the quartz glass of the discharge vessel 4 arranged therebetween forming the dielectric of this capacitor.
  • the coating 2 is applied to a surface region of the discharge vessel 4 facing the current return 36, since the surface region of the discharge vessel 4 facing the current return 36 is of little significance when the discharge lamp 1 is used, for example in a headlight, for generating the desired light distribution , so that a slight, caused by the coating 2 light absorption in this area for the operation of the lamp 1 is negligible.
  • the coating 2 is preferably applied to the discharge vessel 4 in the region below the electrodes 18, 20.
  • the coating 2 reflects a portion of the infrared radiation generated by the discharge back into the discharge space 6 and thereby causes selective heating of the colder, lying below the electrodes 18, 20 areas of the discharge vessel 4, in which collect the metal halides used for light generation. As a result, the efficiency of the discharge lamp 1 can be increased without heating the thermally highly loaded regions of the discharge vessel 4. Furthermore, the coating 2 is thermally less stressed on the colder underside of the discharge vessel 4, so that lower requirements can be placed on the thermal load-bearing capacity of the coating materials.
  • FIGS. 2 and 3 show two views of a discharge vessel 4 according to an exemplary embodiment of the coating 2.
  • this exemplary embodiment differs from the above-described exemplary embodiment essentially in that the coating 2 is set back arc-shaped in the region of the discharge vessel 4.
  • FIG. 3 which shows a plan view of the coating 2 of the discharge vessel 4 from FIG. 2, it can be seen that the coating 2 is applied approximately rectangularly to the discharge vessel 4 in the region of the end sections 8, 10.
  • FIG. 4 which shows an individual illustration of a discharge vessel 4 according to a further exemplary embodiment of the coating 2, it can be applied to the discharge vessel 4 in such a way that it extends in the longitudinal direction of the lamp 1 only over the length of the discharge space 6 and about half the length of the socket-near end 8 of the discharge vessel 4.
  • the socket-distal end 10 of the discharge vessel 4 is not coated in this variant.
  • FIGS. 5 and 6 which show two views of a discharge vessel 4 according to a further alternative variant of the coating 2
  • the coating 2 extends in the longitudinal direction of the lamp 1 over the entire length of the discharge space 6 and over approximately 40 percent of the length of the end portions 8, 10 of the discharge vessel 4.
  • the coating 2 is applied to about 30 percent of the outer peripheral surface 42 of the discharge vessel 4.
  • FIG. 6 which shows a plan view of the coating 2 of the discharge vessel 4 from FIG. 5, the coating 2 is applied approximately rectangularly to the discharge vessel 4 in the region of the end sections 8, 10, the free end regions of the coating being convexly curved are.
  • the coating 2 is applied to the discharge vessel 4 by a vacuum coating method.
  • the coating 2 is applied to the discharge vessel 4 in a reactive PVD sputtering process. This will be explained in more detail below with reference to FIG.
  • the discharge vessel 4 is provided with a target 48, from which the coating material is to be removed, and a shade 48. mask 50 with opening 52 in a vacuum chamber (recipient) 54 arranged.
  • the target 48 may consist of different electrically conductive materials.
  • the target 48 is indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • the recipient 54 is evacuated in a first step to a defined pressure difference and filled with a process gas, such as argon. Subsequently, the target 48 is subjected to a voltage, whereby a plasma is formed in the process gas. This causes the separation of metal ions from the target 48, which propagate in the indicated direction of the arrow in the process gas and through the arranged between the target 48 and the discharge vessel 4 shadow mask 50 pass through the discharge vessel 4 and there form the schematically indicated coating 2 , This is characterized by its electrical conductivity and translucency and corresponds in its contour approximately to the opening 52 of the shadow mask 50. If the coating 2 has reached the required layer thickness, the sputtering process is interrupted.
  • a process gas such as argon
  • the coating 2 is applied in the illustrated exemplary embodiments with a layer thickness of about 0.2 microns on the discharge vessel, so that it has a surface resistance in the range of about 3 to 20 ⁇ / D.
  • the resistance per unit length of the coating 2 measured between two points spaced apart on the layer is preferably in the range of about 10 3 to 10 5 ohm / cm.
  • the breakthrough chip tion of the discharge gap between the electrodes 18, 20 and thereby the ignition voltage is substantially reduced by such a coating 2, as already explained above.
  • the inventive method for producing a discharge lamp 1 is not limited to the sputtering method described, but the coating 2 can be carried out by means of different known from the prior art vacuum coating method. Furthermore, the geometry of the coating 2 is not limited to the aforementioned embodiments. In particular, the coating 2 can be applied in an annular manner to the discharge vessel 4, or extend over the entire surface of the discharge vessel 4.
  • a method for producing a high-pressure discharge lamp 1, comprising at least one discharge vessel 4 and two electrodes 18, 20 extending into a discharge space 6 of the discharge vessel 4, which are connected to current feeds 16 led out of the discharge vessel 4, wherein at least in sections one is electrically connected conductive, translucent coating 2 is applied to an outer peripheral surface 42 of the discharge vessel 4, so that between the coating 2 and at least one electrode 18, 20 and / or power supply 16 a capacitive coupling is formed.
  • the coating 2 is applied to the discharge vessel 4 by means of a vacuum coating method.
  • a discharge lamp 1 produced by such a method.

Abstract

Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe und eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe. Offenbart ist ein Verfahren zur Herstellung einer Hochdruckentladungslampe (1), mit zumindest einem Entladungsgefäß (4) und zwei sich in einen Entladungsraum des Entladungsgefäßes erstreckenden Elektroden (18, 20), die mit aus dem Entladungsgefäß herausgeführten Stromzuführungen (12,16) verbunden sind, wobei zumindest abschnittsweise eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Beschiσhtung (2) auf eine Außenumfangs fläche des Entladungsgefäßes (4) aufgebracht wird, so dass sich zwischen der Beschichtung und zumindest einer Elektrode (18, 20) und/oder Stromzuführung (12) eine kapazitive Kopplung ausbildet. Erfindungsgemäß wird die Beschichtung mittels eines Vakuumbeschichtungsverf ahrens auf das Entladungsgefäß aufgebracht. Weiterhin offenbart ist eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe.

Description

Beschreibung
Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe und eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Lampe
Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe mit zumindest einem Entladungsgefäß und zwei sich in einen Entladungsraum des Entladungsgefäßes erstreckenden Elektroden, die mit aus dem Entladungs- gefäß herausgeführten Stromzuführungen verbunden sind, wobei zumindest abschnittsweise eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Beschichtung auf eine Außenumfangsflache des Entladungsgefäßes aufgebracht wird, so dass sich zwischen der Beschichtung und zumindest einer Elektrode und/oder Stromzuführung eine kapazitive Kopplung ausbildet. Die Erfindung betrifft weiterhin eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe.
Stand der Technik
Eine derartige Entladungslampe wird beispielsweise auf der Internetdomain www.osram.de unter der Produktbe- Zeichnung „XENARC®" beschrieben. Diese herkömmlichen Hochdruckentladungslampen haben ein Entladungsgefäß, das einen mit einer ionisierbaren Füllung gefüllten Entladungsraum begrenzt, in den sich zwei Elektroden erstrecken, die zur Energieversorgung mit aus dem Entladungsge- faß herausgeführten Stromzuführungen verbunden sind und im Betrieb der Lampe eine Gasentladung erzeugen. Aus Gründen des Umweltschutzes wurden Entladungslampen entwickelt, deren Füllung kein Quecksilber enthält. Es hat sich gezeigt, dass derartige Lampen gegenüber Lampen mit quecksilberhaltiger Füllung schlechtere Zündeigenschaften aufweisen. Insbesondere wird eine hohe Zündspannung und dadurch eine große Zündeinheit bei ungenügender Zündsicherheit und Problemen mit der elektromagnetischen Ver- träglichkeit benötigt.
Zur Verbesserung der Zündeigenschaften ist aus der nachveröffentlichten EP 05017122.2 der Anmelderin eine Hochdruckentladungslampe bekannt, bei der eine elektrisch leitfähige, lichtdurchlässige Schicht als zumindest par- tielle Beschichtung auf die Oberfläche des Entladungsgefäßes aufgebracht ist. Diese Beschichtung bildet zusammen mit den Elektroden und gegebenenfalls mit den Stromzuführungen einen Kondensator, wobei das dazwischen liegende Glas des Entladungsgefäßes und das Füllgas im Entladungs- räum das Dielektrikum dieses Kondensators bilden. Dadurch wird, insbesondere mit Hilfe der hochfrequenten Anteile des Zündimpulses, im Entladungsraum eine dielektrisch behinderte Entladung zwischen den Elektroden und der Beschichtung erzeugt. Diese dielektrisch behinderte Entla- düng generiert im Entladungsraum eine ausreichende Anzahl von freien Ladungsträgern, um den elektrischen Durchbruch zwischen den beiden Elektroden der Entladungslampe zu ermöglichen bzw. die dafür erforderliche Zündspannung erheblich zu reduzieren, so dass eine derartige Beschich- tung insbesondere für quecksilberfreie Halogen- Metalldampf-Hochdruckentladungslampen, wie sie beispielsweise in Fahrzeugscheinwerfern eingesetzt werden, geeignet ist, die aufgrund des fehlenden Quecksilbers eine erhöhte Zündspannung aufweisen. Ein Hinweis auf ein geeig- netes Verfahren zur Herstellung einer derartigen Entladungslampe ist der Anmeldung nicht zu entnehmen. Darstellung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe und eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe zu schaffen, bei denen gegenüber herkömmlichen Lösungen eine verbesserte Zündung ermöglicht ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung einer Hochdruckentladungslampe, mit zumindest einem Entladungsgefäß und zwei sich in einen Entladungsraum des Entladungsgefäßes erstreckenden Elektroden, die mit aus dem Entladungsgefäß herausgeführten Stromzuführungen verbunden sind, wobei zumindest abschnittsweise eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Beschichtung auf eine Außenumfangsflache des Entladungsgefäßes aufgebracht wird, so dass sich zwischen der Beschichtung und zumindest einer Elektrode und/oder Stromzuführung eine kapazitive Kopplung ausbildet, wobei die Beschichtung mittels eines Vakuumbeschichtungsverfahrens auf das Entladungsgefäß aufgebracht wird. Diese Aufgabe wird weiterhin gelöst durch eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe. Besonders vorteilhafte Ausführungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben .
Aufgrund der erfindungsgemäßen Beschichtung der Entladungslampe im Vakuumbeschichtungsverfahren wird auf dem Entladungsgefäß eine Beschichtung mit einer definierten Schichtdicke und hoher Haftfestigkeit erreicht. Dabei ist vorteilhaft, dass der Vakuumbeschichtungsprozess kontinuierlich abläuft, d.h. keine Zwischenbelüftung der Vakuumkammer erfolgt und dadurch keine Verunreinigungen der Be- -A-
schichtung auftreten, so dass die Qualität der Beschich- tung und dadurch die Zündeigenschaften der Entladungslampe wesentlich verbessert sind. Die elektrischen Eigenschaften der Beschichtung können auf einfache Weise durch das verwendete Material, die Schichtgeometrie und Dicke der Schicht eingestellt werden, um die gewünschten Verbesserungen der Zündeigenschaften zu erreichen.
Bei einem besonders bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird die Beschichtung in PVD-Sputtertechnik oder CVD-Technik auf das Entladungsgefäß aufgebracht. Als besonders geeignetes Verfahren hat sich ein reaktiver
PVD-Sputterprozess erwiesen.
Um die Geometrie der Beschichtung zu beeinflussen, wird die Beschichtung vorzugsweise in Masken- oder Blen- dentechnik auf das Entladungsgefäß aufgebracht.
Die Beschichtung kann aus unterschiedlichen elektrisch leitenden Materialien bestehen. Vorzugsweise weist die Beschichtung zumindest eine Oxidverbindung auf. Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn die Be- Schichtung dotiertes Zinnoxid (SnO) , insbesondere Indiumzinnoxid ( In2Ü3 : SnÜ2) , Cadmiumstannatoxid (Cd2Snθ4) , Indi¬ umoxid (In2θ3) oder dotiertes Zinkoxid (ZnO) aufweist.
Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel der Erfindung wird eine Beschichtung aus Gold (Au) oder Titannit- rid (TiN) auf das Entladungsgefäß aufgebracht. Gold hat den Vorteil, dass die Beschichtung eine hohe Korrosionsbeständigkeit aufweist und keiner Nachbehandlung zum Korrosionsschutz unterworfen werden muss. Die Beschichtung wird bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel mit einer Schichtdicke im Bereich von etwa 0,1 bis 0,5 μm, vorzugsweise von 0,2 μm, auf das Entladungsgefäß aufgebracht.
Vorzugsweise hat die Beschichtung einen Flächenwiderstand im Bereich von etwa 3 bis 20 Ω/D.
Der Widerstand pro Längeneinheit der Beschichtung, gemessen zwischen zwei, in einem Abstand auf der Schicht angeordneten Punkten, ist vorzugsweise kleiner oder gleich 105 Ohm/cm. Die Durchbruchsspannung der Entladungsstrecke zwischen den Elektroden und dadurch die Zündspannung ist durch eine derartige Beschichtung wesentlich reduziert.
Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird die Beschichtung zumindest im Bereich des Entladungsraumes ausgebildet und erstreckt sich über einen Umfangsab- schnitt des Entladungsgefäßes. Aufgrund der flächenhaften Ausdehnung der Beschichtung wird die kapazitive Kopplung der Beschichtung zu einer Elektrode, vorzugsweise zu bei- den Elektroden und den Stromzuführungen, weiter verbessert. Um die vorgenannte kapazitive Kopplung zu optimieren, wird die Beschichtung zusätzlich zumindest teilweise auf Endabschnitte des Entladungsgefäßes aufgebracht.
Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Er- findung wird das Entladungsgefäß mit einem Endabschnitt in einen Sockel eingesetzt und weist ein sockelnahes und ein sockelfernes abgedichtetes Ende auf, aus denen jeweils eine Stromzuführung für die Elektroden herausgeführt ist, wobei die aus dem sockelfernen Ende des Entla- dungsgefäßes herausgeführte Stromzuführung mit einer hin zu dem Sockel geführten Stromrückführung verbunden ist, wobei die Beschichtung auf einem der Stromrückführung zugewandten Oberflächenbereich des Entladungsgefäßes aufgebracht wird. Der der Stromrückführung zugewandte Oberflä- chenbereich des Entladungsgefäßes ist beim Einsatz der Entladungslampe in einem Scheinwerfer für die Erzeugung der gewünschten Lichtverteilung nur von geringer Bedeutung. Daher ist auch eine geringfügige, durch die Beschichtung verursachte Lichtabsorption für die Funktion der Lampe vernachlässigbar.
Um die vorgenannte kapazitive Kopplung zu optimieren, wird die Beschichtung bei Entladungslampen, deren Stromzuführung zumindest eine Molybdänfolie aufweist, derart auf das Entladungsgefäß aufgebracht, dass sich die Be- Schichtung bis in den Bereich der Molybdänfolie erstreckt und einer der beiden Seitenflächen der Molybdänfolien zugewandt ist. Dadurch bilden die Molybdänfolien und die Beschichtung eine Art von Plattenkondensator, wobei das dazwischen angeordnete Glas des Entladungsgefäßes das Dielektrikum dieses Kondensators bildet.
Bei Entladungslampen, die für den Betrieb in horizontaler Ausrichtung, d.h. mit in einer horizontalen Ebene angeordneten Elektroden vorgesehen sind, wird die lichtdurchlässige, elektrisch leitfähige Beschichtung vorteil- hafter Weise im Bereich unterhalb der Elektroden auf das Entladungsgefäß aufgebracht. Die Beschichtung reflektiert einen Teil der von der Entladung erzeugten Infrarotstrahlung in den Entladungsraum zurück und bewirkt dadurch eine selektive Erwärmung der kälteren, unterhalb der Elekt- roden liegenden Bereiche des Entladungsgefäßes, in denen sich die für die Lichterzeugung verwendeten Metallhaloge- nide sammeln. Dadurch kann die Effizienz der Entladungslampe gesteigert werden, ohne die thermisch hoch belasteten Bereiche des Entladungsgefäßes zu erwärmen. Des Weiteren ist die Beschichtung auf der kälteren Unterseite des Entladungsgefäßes thermisch weniger belastet, so dass geringere Anforderungen an die thermische Belastbarkeit der Beschichtungsmaterialien gestellt werden können.
Das Entladungsgefäß wird aus Sicherheitsgründen vorzugsweise von einem Außenkolben umgeben, wobei der Zwi- schenraum von Außenkolben und Entladungsgefäß mit einer Gasfüllung, beispielsweise einer Inertgasfüllung, versehen wird, die ungewünschte chemische Reaktionen der Beschichtung verhindert. Vorzugsweise enthält die Gasfüllung weiterhin geringe Mengen von Sauerstoff, um eine Diffusion von Sauerstoff aus der Beschichtung auszugleichen .
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Nachstehend wird die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Darstellung einer Hoch- druckentladungslampe mit einer erfindungsgemäß hergestellten Beschichtung;
Figur 2 eine Einzeldarstellung des Entladungsgefäßes gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Beschichtung;
Figur 3 eine Seitenansicht des Entladungsgefäßes aus Figur 2; Figur 4 eine Einzeldarstellung des Entladungsgefäßes gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der Beschichtung;
Figur 5 eine Einzeldarstellung des Entladungsgefäßes gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Beschich- tung;
Figur 6 eine Seitenansicht des Entladungsgefäßes aus Figur 5 und
Figur 7 eine stark vereinfachte Darstellung einer Va- kuumbeschichtungsanlage .
Bevorzugte Ausführung der Erfindung
Die Erfindung wird im Folgenden anhand einer quecksilberfreien Hochdruckentladungslampe erläutert, wie sie beispielsweise in Fahrzeugscheinwerfern Verwendung findet. Das erfindungsgemäße Verfahren ist jedoch keinesfalls auf derartige Lampentypen beschränkt.
Figur 1 zeigt eine schematische Darstellung einer Hochdruckentladungslampe 1 mit einer erfindungsgemäß in einem Vakuumbeschichtungsverfahren aufgebrachten elektrisch leitenden, lichtdurchlässigen Beschichtung 2. Die Hochdruckentladungslampe 1 besitzt ein Entladungsgefäß 4 aus Quarzglas mit einem Entladungsraum 6 und zwei diametral angeordneten, abgedichteten Endabschnitten 8, 10 in denen jeweils eine Molybdänfolie 12 zur gasdichten Stromdurchführung eingebettet ist. Die Molybdänfolien 12 sind an einer ersten Schmalseite 14 mit einer äußeren Stromzu- führung 16 aus dotiertem Molybdän verbunden. In den Entladungsraum 6 des Entladungsgefäßes 4 ragen zwei diametral angeordnete Elektroden 18, 20 aus dotiertem Wolfram, die jeweils mit einer zweiten Schmalseite 22 der Molybdänfolien 12 verbunden sind und zwischen denen sich während des Lampenbetriebs eine Gasentladung ausbildet. In dem Entladungsraum 6 des Entladungsgefäßes 4 ist eine quecksilberfreie, ionisierbare Füllung eingeschlossen, die aus hochreinem Xenongas und mehreren Metallhalogen- iden besteht. Das Entladungsgefäß 4 ist von einem Außenkolben 24 umgeben, der aus Quarzglas besteht, das mit Ultraviolettstrahlung absorbierenden Dotierstoffen verse- hen ist. Die Hochdruckentladungslampe 1 weist ferner einen Lampensockel 26 auf, der das Entladungsgefäß 4 und den Außenkolben 24 trägt. Der Lampensockel 26 hat ein abschnittsweise zylinderförmiges Sockelgehäuse 28 aus e- lektrisch isolierendem Kunststoff, das lampenseitig einen Befestigungsabschnitt 30 zur Aufnahme der Lampe 1 in dem Sockelgehäuse 28 aufweist. Der Befestigungsabschnitt 30 hat einen zumindest abschnittsweise ringförmigen Flansch 32 zur Befestigung der Hochdruckentladungslampe 1 in einer nicht dargestellten Lampenfassung. Die äußere Strom- Zuführung 16 des sockelfernen Endabschnitts 10 des Entladungsgefäßes 4 ist über eine von einer Isolierhülse 34 umgebene Stromrückführung 36 mit einem elektrischen Anschlussring 38 des Sockels 26 verbunden, während die sockelnahe Stromzuführung 16 mit einem nicht dargestellten, inneren Kontaktstift der Hochdruckentladungslampe 1 verbunden ist.
Die erfindungsgemäß mittels eines Vakuumbeschich- tungsverfahrens auf das Entladungsgefäß 4 aufgebrachte elektrisch leitende, lichtdurchlässige Beschichtung 2, bildet zusammen mit den Elektroden 18, 20 und mit den aus dem Entladungsgefäß 4 herausgeführten Stromzuführungen 16 einen Kondensator aus, wobei das dazwischen liegende Quarzglas des Entladungsgefäßes 4 und das Füllgas im Entladungsraum 6 das Dielektrikum dieses Kondensators bilden. Dadurch wird, insbesondere mit Hilfe der hochfre- quenten Anteile des Zündimpulses, im Entladungsraum 6 eine dielektrisch behinderte Entladung zwischen den Elektroden 18, 20 und der Beschichtung 2 erzeugt. Diese dielektrische behinderte Entladung generiert im Entladungsraum 6 eine ausreichende Anzahl von freien Ladungsträ- gern, um den elektrischen Durchbruch zwischen den beiden Elektroden 18, 20 der Entladungslampe 1 zu ermöglichen bzw. die dafür erforderliche Zündspannung erheblich zu reduzieren, so dass die Beschichtung geeignet ist, die aufgrund des fehlenden Quecksilbers erhöhte Zündspannung abzusenken. Aufgrund der erfindungsgemäßen Beschichtung 2 der Entladungslampe 1 im Vakuumbeschichtungsverfahren wird auf dem Entladungsgefäß 4 eine Beschichtung mit einer definierten Schichtdicke mit hoher Haftfestigkeit erreicht. Dabei ist vorteilhaft, dass der Vakuumbeschich- tungsprozess kontinuierlich abläuft, d.h. keine Zwischenbelüftung der Vakuumkammer erfolgt und dadurch keine Verunreinigungen der Beschichtung 2 auftreten, so dass die Qualität der Beschichtung 2 und dadurch die Zündeigenschaften der Entladungslampe 1 wesentlich verbessert sind. Der elektrische Widerstand der Beschichtung 2 kann auf einfache Weise durch die Schichtgeometrie und Dicke der Schicht eingestellt werden. Der von dem Außenkolben 24 und dem Entladungsgefäß 4 begrenzte Zwischenraum 40 ist mit einer Gasfüllung, beispielsweise einer Inertgas- füllung versehen, die ungewünschte chemische Reaktionen der Beschichtung 2 verhindert. Der Gasfüllung ist weiterhin eine geringe Menge von Sauerstoff zugesetzt, um eine Diffusion von Sauerstoff aus der Beschichtung 2 auszugleichen .
Die Beschichtung 2 erstreckt sich bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel in Längsrichtung der Entladungs- lampe 1 über die gesamte Länge des Entladungsraumes 6 und über ungefähr die Hälfte der Länge der abgedichteten Enden 8, 10 des Entladungsgefäßes 4. Die Beschichtung 2 ist auf einer Außenumfangsflache 42 des Entladungsgefäßes 4 aufgebracht und erstreckt sich über etwa 5 bis 10 Prozent des Umfangs des Entladungsgefäßes 4. Aufgrund der flächenhaften Ausdehnung der Beschichtung 2 wird eine hohe kapazitive Kopplung der Beschichtung 2 zu den Elektroden 18, 20 und den Stromzuführungen 16 erreicht. Um die kapazitive Kopplung zu optimieren, ist die Beschichtung 2 derart auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht, dass sich die Beschichtung 2 bis in den Bereich der Molybdänfolien 12 erstreckt und jeweils einer der beiden Seitenflächen 44 der Molybdänfolien 12 zugewandt ist. Dadurch bilden die Molybdänfolien 12 und die Beschichtung 2 eine Art von Plattenkondensator aus, wobei das dazwischen angeordnete Quarzglas des Entladungsgefäßes 4 das Dielektrikum dieses Kondensators bildet. Die Beschichtung 2 ist auf einem der Stromrückführung 36 zugewandten Oberflächenbereich des Entladungsgefäßes 4 aufgebracht, da der der Stromrückfüh- rung 36 zugewandte Oberflächenbereich des Entladungsgefäßes 4 beim Einsatz der Entladungslampe 1, beispielsweise in einem Scheinwerfer, für die Erzeugung der gewünschten Lichtverteilung nur von geringer Bedeutung ist, so dass eine geringfügige, durch die Beschichtung 2 verursachte Lichtabsorption in diesem Bereich für die Funktion der Lampe 1 vernachlässigbar ist. Bei derartigen für den Be- trieb in horizontaler Lage vorgesehenen Entladungslampen 1, wird die Beschichtung 2 vorzugsweise im Bereich unterhalb der Elektroden 18, 20 auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht. Die Beschichtung 2 reflektiert einen Teil der von der Entladung erzeugten Infrarotstrahlung in den Entladungsraum 6 zurück und bewirkt dadurch eine selektive Erwärmung der kälteren, unterhalb der Elektroden 18, 20 liegenden Bereiche des Entladungsgefäßes 4, in denen sich die für die Lichterzeugung verwendeten Metallhalogenide sammeln. Dadurch kann die Effizienz der Entladungslampe 1 gesteigert werden, ohne die thermisch hoch belasteten Bereiche des Entladungsgefäßes 4 zu erwärmen. Des Weiteren ist die Beschichtung 2 auf der kälteren Unterseite des Entladungsgefäßes 4 thermisch weniger belastet, so dass geringere Anforderungen an die thermische Belastbarkeit der Beschichtungsmaterialien gestellt werden können.
In den Figuren 2 und 3 sind zwei Ansichten eines Entladungsgefäßes 4 gemäß einem Ausführungsbeispiel der Beschichtung 2 gezeigt. Gemäß Figur 2 unterscheidet sich dieses Ausführungsbeispiel von dem vorbeschriebenen Ausführungsbeispiel im Wesentlichen dadurch, dass die Beschichtung 2 im Bereich des Entladungsgefäßes 4 bogenförmig zurückgesetzt ist. Aus Figur 3, die eine Draufsicht auf die Beschichtung 2 des Entladungsgefäßes 4 aus Figur 2 zeigt, ist zu entnehmen, dass die Beschichtung 2 im Bereich der Endabschnitte 8, 10 etwa rechteckig auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht ist.
Wie Figur 4 zu entnehmen ist, die eine Einzeldarstellung eines Entladungsgefäßes 4 gemäß einem weiteren Aus- führungsbeispiel der Beschichtung 2 zeigt, kann diese derart auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht sein, dass sie sich in Längsrichtung der Lampe 1 nur über die Länge des Entladungsraumes 6 und etwa die Hälfte der Länge des sockelnahen Endes 8 des Entladungsgefäßes 4 erstreckt. Das sockelferne Ende 10 des Entladungsgefäßes 4 ist bei dieser Variante nicht beschichtet.
Gemäß den Figuren 5 und 6, die zwei Ansichten eines Entladungsgefäßes 4 gemäß einer weiteren alternativen Variante der Beschichtung 2 zeigen, erstreckt sich die Be- schichtung 2 bei diesem Ausführungsbeispiel in Längsrich- tung der Lampe 1 über die gesamte Länge des Entladungsraumes 6 und über etwa 40 Prozent der Länge der Endabschnitte 8, 10 des Entladungsgefäßes 4. Die Beschichtung 2 ist auf etwa 30 Prozent der Außenumfangsflache 42 des Entladungsgefäßes 4 aufgebracht. Wie Figur 6 zu entnehmen ist, die eine Draufsicht auf die Beschichtung 2 des Entladungsgefäßes 4 aus Figur 5 zeigt, ist die Beschichtung 2 im Bereich der Endabschnitte 8, 10 etwa rechteckig auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht, wobei die freien Endbereiche der Beschichtung konvex gekrümmt ausgebildet sind.
Die Beschichtung 2 wird erfindungsgemäß durch ein Va- kuumbeschichtungsverfahren auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht. Bei den gezeigten Ausführungsbeispielen der Erfindung wird die Beschichtung 2 in einem reaktiven PVD- Sputterprozess auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht. Dies wird im Folgenden anhand Figur 7 näher erläutert.
Gemäß Figur 7, die eine stark vereinfachte Darstellung einer Vakuumbeschichtungsanlage 46 zeigt, wird das Entladungsgefäß 4 mit einem Target 48, von dem Beschich- tungsmaterial abgetragen werden soll, und einer Schatten- maske 50 mit Öffnung 52 in einer Vakuumkammer (Rezipient) 54 angeordnet. Das Target 48 kann je nach gewünschter Be- schichtung 2 aus unterschiedlichen elektrisch leitenden Materialien bestehen. Bei dem gezeigten Ausfuhrungsbei- spiel besteht das Target 48 aus Indiumzinnoxid (ITO) . Bei einem nicht dargestellten Ausfuhrungsbeispiel der Erfindung findet ein Target 48 aus dotiertem Zinnoxid, beispielsweise Cadmiumstannatoxid, Indiumoxid, dotiertem Zinkoxid, Gold oder Titannitrid Verwendung. Der Rezipient 54 wird in einem ersten Arbeitsschritt bis zu einem definierten Druckunterschied evakuiert und mit einem Prozessgas, beispielsweise Argon befullt. Anschließend wird das Target 48 mit einer Spannung beaufschlagt, wodurch sich im Prozessgas ein Plasma ausbildet. Dieses bewirkt die Herauslosung von Metallionen aus dem Target 48, welche sich in der angedeuteten Pfeilrichtung im Prozessgas ausbreiten und durch die zwischen dem Target 48 und dem Ent- ladungsgefaß 4 angeordnete Schattenmaske 50 hindurch auf das Entladungsgefaß 4 treffen und dort die schematisch angedeutete Beschichtung 2 ausbilden. Diese zeichnet sich durch ihre elektrische Leitfähigkeit und Lichtdurchlas- sigkeit aus und entspricht in ihrer Kontur etwa der Öffnung 52 der Schattenmaske 50. Hat die Beschichtung 2 die geforderte Schichtdicke erreicht, wird der Sputterprozess unterbrochen. Die Beschichtung 2 wird bei den dargestellten Ausfuhrungsbeispielen mit einer Schichtdicke von etwa 0,2 μm auf das Entladungsgefaß aufgebracht, so dass diese einen Flachenwiderstand im Bereich von etwa 3 bis 20 Ω/D aufweist. Der Widerstand pro Längeneinheit der Beschich- tung 2, gemessen zwischen zwei, in einem Abstand auf der Schicht angeordneten Punkten, liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 103 bis 105 Ohm/cm. Die Durchbruchsspan- nung der Entladungsstrecke zwischen den Elektroden 18, 20 und dadurch die Zündspannung ist durch eine derartige Be- schichtung 2, wie bereits eingangs erläutert, wesentlich reduziert .
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe 1 ist nicht auf das beschriebene Sputter- verfahren beschränkt, vielmehr kann die Beschichtung 2 mittels unterschiedlicher aus dem Stand der Technik bekannten Vakuumbeschichtungsverfahren erfolgen. Des Weite- ren ist die Geometrie der Beschichtung 2 nicht auf die genannten Ausführungsbeispiele beschränkt. Insbesondere kann die Beschichtung 2 etwa ringförmig auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht werden, oder sich über die gesamte Oberfläche des Entladungsgefäßes 4 erstrecken.
Offenbart ist ein Verfahren zur Herstellung einer Hochdruckentladungslampe 1, mit zumindest einem Entladungsgefäß 4 und zwei sich in einen Entladungsraum 6 des Entladungsgefäßes 4 erstreckenden Elektroden 18, 20, die mit aus dem Entladungsgefäß 4 herausgeführten Stromzufüh- rungen 16 verbunden sind, wobei zumindest abschnittsweise eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Beschichtung 2 auf eine Außenumfangsflache 42 des Entladungsgefäßes 4 aufgebracht wird, so dass sich zwischen der Beschichtung 2 und zumindest einer Elektrode 18, 20 und/oder Stromzu- führung 16 eine kapazitive Kopplung ausbildet. Erfindungsgemäß wird die Beschichtung 2 mittels eines Vakuumbeschichtungsverfahrens auf das Entladungsgefäß 4 aufgebracht. Weiterhin offenbart ist eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Entladungslampe 1.

Claims

Ansprüche
1. Verfahren zur Herstellung einer Hochdruckentladungslampe (1), mit zumindest einem Entladungsgefäß (4) und zwei sich in einen Entladungsraum (6) des Entladungsgefäßes (4) erstreckenden Elektroden (18, 20), die mit aus dem Entladungsgefäß (4) herausgeführten Stromzuführungen (16) verbunden sind, wobei zumindest abschnittsweise eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Be- schichtung (2) auf eine Außenumfangsflache (42) des Entladungsgefäßes (4) aufgebracht wird, so dass sich zwi- sehen der Beschichtung (2) und zumindest einer Elektrode (18, 20) und/oder Stromzuführung (16) eine kapazitive Kopplung ausbildet, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (2) mittels eines Vakuumbeschichtungsverfah- rens auf das Entladungsgefäß (4) aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Beschichtung (2) in PVD-Sputtertechnik oder CVD-Technik auf das Entladungsgefäß (4) aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Beschichtung (2) in Masken- oder Blendentechnik auf das Entladungsgefäß (4) aufgebracht wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung (2) zumindest eine elektrisch leitende, lichtdurchlässige Oxidverbindung aufweist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Beschichtung (2) dotiertes Zinnoxid (SnO), insbesondere Indiumzinnoxid
( In2θ3 : SnÜ2) , Cadmiumstannatoxid (Cd2SnO4), Indiumoxid (In2O3) oder dotiertes Zinkoxid (ZnO) aufweist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Beschichtung (2) Gold (Au) oder Titannitrid (TiN) aufweist .
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung (2) mit einer Schichtdicke im Bereich von etwa 0,1 bis 0,5 μm, vorzugsweise von 0,2 μm, auf das Entladungsgefäß (4) aufgebracht ist.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung (2) einen Flächenwiderstand im Be- reich von etwa 3 bis 20 Ω/D aufweist.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Widerstand pro Längeneinheit der Beschichtung
(2), gemessen zwischen zwei, in einem Abstand auf der Schicht angeordneten Punkten, kleiner oder gleich 105 Ohm/cm ist.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung (2) zumindest im Bereich des Entladungsraumes (6) ausgebildet wird und sich über einen Umfangsabschnitt des Entladungsgefäßes (4) erstreckt.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung (2) zumindest teilweise auf Endabschnitte (8, 10) des Entladungsgefäßes (4) aufgebracht wird.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprü- che, wobei das Entladungsgefäß (4) mit einem Endabschnitt (8) in einen Sockel (26) eingesetzt wird und ein sockelnahes und ein sockelfernes abgedichtetes Ende (8, 10) aufweist, aus denen jeweils eine Stromzuführung (16) für die Elektroden (18, 20) herausgeführt ist, wobei die aus dem sockelfernen Ende (10) des Entladungsgefäßes (4) herausgeführte Stromzuführung (16) mit einer hin zu dem Sockel (26) geführten Stromrückführung (36) verbunden ist, wobei die Beschichtung (2) auf einem der Stromrückführung (36) zugewandten Oberflächenbereich des Entladungsgefäßes (4) aufgebracht wird.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Stromzuführung (16) zumindest eine Molybdänfolie (12) aufweist und sich die Beschichtung (2) bis in den Bereich der Molybdänfolie (12) erstreckt und einer der beiden Seitenflächen (44) der Molybdänfolien (12) zugewandt ist.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, zur Herstellung einer Entladungslampe (1) mit im We- sentlichen in einer horizontalen Ebene angeordneten E- lektroden (18, 20), wobei die Beschichtung (2) im Bereich unterhalb der Elektroden (18, 20) aufgebracht wird.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein Außenkolben (24) auf das Entladungsgefäß (4) aufgesetzt und der Zwischenraum (40) von Außenkolben (24) und Entladungsgefäß (4) mit einer Gasfüllung, insbesondere einer Inertgasfüllung, versehen wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei in die Gasfüllung Sauerstoff eingebracht wird.
17. Entladungslampe mit einer Beschichtung (2) nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
PCT/EP2007/052022 2006-03-07 2007-03-02 Verfahren zur herstellung einer entladungslampe und eine nach einem derartigen verfahren hergestellte lampe WO2007101827A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200610010803 DE102006010803A1 (de) 2006-03-07 2006-03-07 Verfahren zur Herstellung einer Entladungslampe und eine nach einem derartigen Verfahren hergestellte Lampe
DE102006010803.5 2006-03-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007101827A1 true WO2007101827A1 (de) 2007-09-13

Family

ID=38016487

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2007/052022 WO2007101827A1 (de) 2006-03-07 2007-03-02 Verfahren zur herstellung einer entladungslampe und eine nach einem derartigen verfahren hergestellte lampe

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102006010803A1 (de)
WO (1) WO2007101827A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010028222A1 (de) * 2010-04-27 2011-10-27 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Verfahren zum Betreiben einer Gasentladungslampe und Gasentladungslampensystem

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5157979A (ja) * 1974-11-15 1976-05-20 Hitachi Ltd Koatsukinzokujokihodento oyobi sonoseizohoho
GB2175130A (en) * 1985-05-16 1986-11-19 Ushio Electric Inc Dc discharge lamp
US4949003A (en) * 1988-12-21 1990-08-14 Gte Products Corporation Oxygen protected electric lamp
JPH04368768A (ja) * 1991-06-17 1992-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルハライドランプ
US5287258A (en) * 1990-04-04 1994-02-15 Robert Bosch Gmbh Headlamp for motor vehicles
JPH0660851A (ja) * 1992-08-07 1994-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルハライドランプとその製造方法
JPH10134773A (ja) * 1996-11-05 1998-05-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高圧放電ランプ及びその製造方法
WO2001073817A1 (de) * 2000-03-28 2001-10-04 Robert Bosch Gmbh Gasentladungslampe mit zündhilfselektroden, insbesondere für kraftfahrzeugscheinwerfer
WO2002037533A2 (en) * 2000-10-31 2002-05-10 General Electric Company Novel materials and methods for application of conducting members on arc tubes
EP1632985A1 (de) * 2004-09-07 2006-03-08 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Hochdruckentladungslampe

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5157979A (ja) * 1974-11-15 1976-05-20 Hitachi Ltd Koatsukinzokujokihodento oyobi sonoseizohoho
GB2175130A (en) * 1985-05-16 1986-11-19 Ushio Electric Inc Dc discharge lamp
US4949003A (en) * 1988-12-21 1990-08-14 Gte Products Corporation Oxygen protected electric lamp
US5287258A (en) * 1990-04-04 1994-02-15 Robert Bosch Gmbh Headlamp for motor vehicles
JPH04368768A (ja) * 1991-06-17 1992-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルハライドランプ
JPH0660851A (ja) * 1992-08-07 1994-03-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルハライドランプとその製造方法
JPH10134773A (ja) * 1996-11-05 1998-05-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高圧放電ランプ及びその製造方法
WO2001073817A1 (de) * 2000-03-28 2001-10-04 Robert Bosch Gmbh Gasentladungslampe mit zündhilfselektroden, insbesondere für kraftfahrzeugscheinwerfer
WO2002037533A2 (en) * 2000-10-31 2002-05-10 General Electric Company Novel materials and methods for application of conducting members on arc tubes
EP1632985A1 (de) * 2004-09-07 2006-03-08 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Hochdruckentladungslampe

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Week 197627, Derwent World Patents Index; AN 1976-51059X, XP002434594 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006010803A1 (de) 2007-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1632985B1 (de) Hochdruckentladungslampe
EP1984936B1 (de) Hochdruckentladungslampe
EP0479087B1 (de) Hochdruckentladungslampe
DE3607460A1 (de) Elektrodenlose niederdruckentladungslampe
WO2005112074A2 (de) Hochdruckentladungslampe
EP1232514B1 (de) Dielektrische barriere-entladungslampe
EP1506567B1 (de) Dielektrische barriere-entladungslampe mit sockel
EP1088335B1 (de) Entladungslampe mit sockel
DE102013102600A1 (de) Quecksilberdampfentladungslampe und Verfahren zu deren Herstellung
DE2625554C2 (de) Wandstabilisierte Blitzröhre
WO2007101827A1 (de) Verfahren zur herstellung einer entladungslampe und eine nach einem derartigen verfahren hergestellte lampe
DE102007020067B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer Molybdänfolie für den Lampenbau und Molybdänfolie sowie Lampe mit Molybdänfolie
EP2191494B1 (de) Hochdruckentladungslampe mit partieller beschichtung sowie fahrzeugscheinwerfer mit einer derartigen lampe
EP2497103B1 (de) Hochdruckentladungslampe
DE10030807A1 (de) Bogenentladungsröhre für eine Entladungslampeneinheit und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1465236A2 (de) Entladungslampe
DE102004043636A1 (de) Hochdruckentladungslampe
EP0230051B1 (de) Hochdruckentladungslampe und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE19640666A1 (de) Entladungslampe, insbesondere für Fahrzeugbeleuchtungseinrichtungen
DE102006038821A1 (de) Stromdurchführungssystem für eine Lampe
WO2006053361A1 (de) Kaltkathoden-fluoreszenzlampe
EP1460675A2 (de) Lampe mit thermischer Abdeckung
DE2347410A1 (de) Elektrolytkondensator mit glashuelle
DE3321479A1 (de) Hochdruckentladungslampe
DE102004050303A1 (de) Hochdruckentladungslampe

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07726616

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07726616

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1