WO2007069433A1

WO2007069433A1 - 非接触型回転処理装置

Info

Publication number: WO2007069433A1
Application number: PCT/JP2006/323250
Authority: WO
Inventors: Satoshi Fukui; Jun Ogawa; Mitsugi Yamaguchi; Tetsuo Oka; Tomoe Sasahara; Shinsuke Miyazaki
Original assignee: Niigata University; Mtc Co., Ltd.
Priority date: 2005-12-16
Filing date: 2006-11-21
Publication date: 2007-06-21
Also published as: US7959139B2; US20100289200A1

Abstract

【課題】密閉容器内の環境を汚染しない非接触型の被処理物回転処理装置を提供する。【解決手段】密閉容器内でスピンヘッド１を保持台７の上に保持し、スピンヘッド１と第二種超電導体１１の間にピン止め力を発生させ、昇降手段２２で第二種超電導体１１を上昇させてスピンヘッド１を浮上させ、第二種超電導体１１の内側中心に配置された非接触式回転動力伝達体１８によって発生した回転力をスピンヘッド１側に追従発生させてスピンヘッド１を駆動モータ１９に連動して回転させる。

Description

明細書

非接触型回転処理装置

技術分野

[0001] 本発明は、半導体や液晶などの製造において、基板 (ウェハー)などの薄板状物を非接触状態 (浮上状態)で回転させることにより、その表面に薄膜を形成し、または表面に洗浄または乾燥する装置、あるいは高速回転により微細な物質を液体より分離する分離装置などに適用可能な装置に関するものである。

背景技術

[0002] 半導体や液晶などの製造にお!、ては、ウェハーやガラス板等の基板 (被処理物）の表面に薄膜を形成し、あるいは表面を洗浄又は乾燥する作業工程があるが、そこでは回転ヘッド部上に載置された基板を高速で回転させる装置が用いられている。

[0003] 例えば、薄膜形成工程においては、コーティング液が滴下された基板を高速回転させることにより、コーティング液を遠心力で拡げて薄膜を形成するスピンコーターなる装置が用いられている。

[0004] 従来のスピンコーターの構造は、図 9に示ように、水平に置かれた円板状のスピンヘッド 50 (回転ヘッド部）と、その下面中心から下方に延びる回転軸 52と、その回転軸 52によりスピンヘッド 50と接続される駆動モータ 51から主に構成されている。前記スピンヘッド 50の上面にはウェハー 53が載置され、その周囲には、スピンヘッド 50 全体を覆うように飛散防止カップ 56が設けられて、る。この飛散防止カップ 56の上面は開口しており、その上方にはコーティング液 54 (処理液)を滴状供給するための吐出ノズル 55が配置されて!、る。

[0005] まず、前工程力も移送されたウェハー 53は、スピンヘッド 50上に吸引搬送具等により自動的に移送載置され、次いで駆動モータ 51により回転軸 52を介してスピンへッド 50と共にウェハー 53を高速回転 (例えば、 4000rpmなど）させる。そして、回転するウェハー 53の表面にノズル 55からコーティング液 54を滴下すると、コーティング液 54は遠心力によりウェハー 53の表面に拡がり薄膜を形成する。なお、この薄膜の形成に寄与しな力つた余分のコーティング液 54は、飛散防止カップ 55で捕集され下部から回収される。

[0006] このようなスピンコーターによる薄膜形成工程は、薄膜への不純物の混入を避けるためにクリーン環境下にある密閉容器 58内で行われる。従って、スピンコーターは通常は回転軸 52を境として、スピンヘッド 50のある上部が密閉容器 58内に、駆動モータ 51のある下部が容器 58外に、それぞれ設置されることになる。このように従来のスビンコ一ターにおいては回転軸 52が密閉容器 58の床壁 58aを貫通するため、その貫通部分には密閉容器内のクリーン環境を保持するためのシール材 57が設けられている。

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0007] し力し、従来のスピンコーター（即ち、半導体ウェハーなどの被処理物）にお、ては、回転軸 52にシール材 57が接触して封止する機構を採用していることから、この部分が接触摩耗して微粒子状の異物が発生して密閉容器 58内のクリーン環境を汚染することになり、この環境を完全に維持することができず、処理後のウェハーの品質低下を招くと!、う問題があった。

[0008] また、駆動モータ 51等の保守及び修理交換を行うためには、スピンヘッド 50と回転軸 52を取り外さなければならないため、密閉容器 58内での薄膜形成作業を長期間中断することとなり、基板処理の歩留まりを悪ィ匕させてしまうと、う問題もあった。

[0009] 本発明は、前記のような被加工物を処理する環境の汚染問題を解消するために得られたものであり、密封容器内のクリーン環境を汚染することがなぐ保守及び修理交換を容易に行うことができ、基板を確実に支持し、回転処理できる装置およびその回転機構を応用した分離装置などを提供することを第 1の目的とするものである。

[0010] 近時、 1枚の基板力大量に半導体装置を製造して安価な装置を製造する要求があり、そのために大径の基板が製造されるようになった。そして好ましくは基板の表裏両面を同じ装置で処理する要請もあるが、従来の装置は基板を裏返しなどの操作することなぐ表面両面を処理する用途に適した装置は提案されていな力つた。

[0011] 本発明の第 2の目的は、半導体基板などなどの被処理物の、表裏両面を同じ装置で同時に、あるいは引き続いて処理でき、また、被処理物を支持するスピンヘッドの回転と停止を正確に行うことができる装置を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0012] 1)上記の目的を達成するための請求項 1に係る非接触型回転処理装置の発明は、被処理物を載置して回転する円板状の回転ヘッド部を容器内に収容し、前記容器の下方に配置され、前記回転ヘッド部に対向して非接触式で回転動力を磁気的に伝達する手段を配置し、前記回転動力を伝達する伝達手段を同心円状に外囲し、磁気的に前記回転ヘッド部を上方の所定位置に位置決めする磁気固定部を設けた非接触型回転処理装置であって、前記回転ヘッド部は、回転力を受ける磁気的受動手段と、前記磁気的受動手段を同心円状に外囲するリング状の永久磁石とを備え、前記磁気的固定部は、前記リング状の永久磁石に対向するように同心円状に配設された第二種超電導体からなるピン止め体と、このピン止め体を冷却する冷却手段とを備え、更に、前記ピン止め体を昇降する昇降手段を設けてたことを特徴としている。

[0013] 2)請求項 2の発明は、前記容器の床壁内面に前記回転ヘッド部を保持する保持台が設けられて、ることを特徴として、る。

[0014] 3)請求項 3の発明は、前記容器の底面と磁気固定部を構成する容器の上面とが接触した状態にお!、て、前記回転動力を伝達する伝達手段と前記容器の上面との間に磁気的駆動手段を回転させるだけの僅かなギャップが形成されていることを特徴としている。

[0015] 4)請求項 4の発明は、容器内に被処理物を載置して回転する、中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記回転ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石を設け、その外周又は内周側下面に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を配置し、前記浮上用永久磁石に対向する位置に第二種超伝導体を環状に配置するとともに、前記回転用の永久磁石又は強磁性鋼板に対向する位置に非接触式で回転動力を磁気的に伝達する手段を配置し、前記回転ヘッド部を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴として、る。

[0016] 5)請求項 5の発明は、容器内に被処理物を載置して回転する、中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記回転ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石と該永久磁石の外周部と、該外周部に対応する上面の両面に、回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を配置し、更に、前記回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を上下より挟むように回転磁界コイルを配置し、前記浮上用の永久磁石に対応して第二種超伝導体を環状に配置するとともに、前記回転ヘッド部の外周の両面に設けた永久磁石あるいは強磁性鋼板と、前記永久磁石あるは強磁性鋼板に対応して設けた回転磁界コイルとによって、前記回転ヘッド部を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴として！/、る。

[0017] 6)請求項 6の発明は、前記容器の外周の一部を環状に膨出させ、この膨出部分に前記中央部に開口を有する回転ヘッド部の外周部分を配置し、前記膨出部分を上下より挟むように回転磁界コイルを配置したことを特徴として、る。

[0018] 7)請求項 7の発明は、容器内に被処理物を載置して回転する中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石を設け、該回転ヘッド部の外周側に回転用永久磁石又は強磁性鋼板を設けて容器底部に前記磁石又は強磁性鋼板に対向する位置に回転磁界コイルを配置し前記永久磁石あるいは強磁性鋼板とによって前記回転ヘッドを回転駆動するように構成したことを特徴としている。

[0019] 8)請求項 8の発明は、前記 1)〜7)の何れかに記載された非接触型回転処理装置の複数台を移動装置上に配置し、前記移動装置を移動させて所定位置で停止させ、その停止位置において複数の処理を逐次実施するようにしたことを特徴としている発明の効果

[0020] 本発明に係る非接触型回転処理装置によれば、回転ヘッド部と第二種超電導体の間に生じる磁気的な「ピン止め力」により回転ヘッド部を浮上させ、その浮上した回転ヘッド部を非接触式回転動力伝達体により回転させることにより、容器 (密閉可能な容器）内に置かれた回転ヘッド部を容器内の雰囲気に影響を与えることなく容器外力も回転操作するので、密閉容器内のクリーンな環境を維持したまま薄膜形成を行うことができ、薄板状物、特に半導体基板などの被処理物の品質を向上させることができる。

[0021] また、密封容器内の回転ヘッド部には、駆動軸などの駆動部分がないため、保守 · 修理の必要はほとんどなぐかつ回転ヘッド部を浮上 ·回転させる容器外の部分を一体的に構成することができるため、半導体基板などの被処理物の回転処理装置を小型化して製造ラインに設置しやすくすることができるとともに、容器内の作業を長期間中断することなく同回転処理装置の保守及び修理交換を容易に行うことができ、半導体基板などの被処理物の各種の処理の歩留まりを改善することができる。

[0022] 更に、ロボットアーム等を介しての基板の被処理物をスムーズな受け渡しを行うことにより、半導体基板などの薄板状被処理物の処理の効率ィ匕を図ることができる。図面の簡単な説明

[0023] [図 1]本発明に係る非接触型回転処理装置の断面図である。

[図 2]本発明に係る非接触型回転処理装置の回転ヘッド部の底面図である。

[図 3]本発明に係る非接触型回転処理装置のヒン止め具の上面図である。

[図 4] (a)〜 (d)は、磁気浮上の原理を示す模式図である。

[図 5]回転の原理を示す模式図である。

[図 6] (a)〜 (d)は、本発明に係る非接触型回転処理装置の動作説明図である。

[図 7]本発明の第 2の実施形態の断面図である。

[図 8]本発明の第 3の実施形態の断面図である。

[図 9]従来のスピンコーターの断面図である。

[図 10]本発明の第 4の実施形態の断面図である。

[図 11]本発明の第 4の実施形態の回転ヘッドの断面図である。

[図 12]本発明の第 4の実施形態の回転ヘッドの下面図である。

[図 13]本発明の第 4の実施形態の回転ヘッドを駆動するモータ機構と浮上装置の要部を示す断面図である。

[図 14]本発明のピン止め装置の平面図である。

[図 15]本発明の第 5の実施の形態を示す要部の断面図である。

[図 16]本発明の第 6の実施の形態を示す要部の断面図である。

[図 17]本発明の第 7の実施の形態を示す断面図である。

[図 18]本発明の第 7の実施の形態の要部を示す断面図である。

[図 19]本発明の連続処理装置の平面図である。 [図 20]本発明の連続処理装置の側断面図である。

符号の説明

[0024] 1 非接触式回転処理装置

2 操作部

3 密閉容器

4 テープノレ

6 回転力受動体

11 第二種超電導体

12 断熱容器

13 回転駆動部

15 伝熱板

16 冷却器

18 回転力伝達体

20 支持架台

22 昇降装置

36 ピン止め部分

37 軸方向のピン止め力

38 径方向のピン止め力

46 ロボットアーム

発明を実施するための最良の形態

[0025]

実施例 1

[0026] 本発明の第 1の実施の形態について、図面（図 1〜図 6)を参照して説明する。

ここでは例として、回転処理する被処理物として半導体基板などの薄板状物を処理する回転処理装置の 1つである通称、「スピンコーター」を例にして説明する。

[0027] 図 1は、本発明に係るスピンコーター Sの第 1の実施形態の断面図に示しており、容器 3 (上下に分離されて密閉可能な容器）内で回転する回転ヘッド部 1と、床壁 3aをはさんで密閉容器 3の下方から回転ヘッド部 1を非接触的に駆動操作する固定部 2 力主に構成されている。

[0028] 前記回転ヘッド部 1は、図示しない基板を載置する複数本の保持ピン 48が植立されている非磁性材カなる円板状のテーブル 4と、その底面側にに設置されたリング状の永久磁石 5及び非接触式回転力受動手段として機能する磁気的回転力受動体 6から構成される。スピンヘッド部 1の下方には、回転停止時のスピンヘッド部 1を保持するための保持台 7が、床壁 3a上に複数植立されている。そしてテーブル 4の外周部 4a及びその外周部 4aと接する保持台 7の端部 7aには傾斜が設けられており、保持台 7上に回転ヘッド部 1が載置された場合には、その回転ヘッド部 1の中心軸が常に一定の位置に保たれるようになって!/、る。

[0029] また、回転ヘッド部 1及び保持台 7の周囲には、回転ヘッド部 1を覆うように上面が開口した筒状の飛散防止カップ 8が配置されており、また、回転ヘッド 1の上方にはコ一ティング液 9を滴下する吐出ノズル 10が設けられている。

[0030] 回転ヘッド部 1の底面図を図 2に示しており、中央部には磁気的回転受動体 6を構成する複数の永久磁石がリング状に配置されており、この一連の磁石の極性を「N」及び「S」で表している。そして磁気浮上用のリング状の永久磁石 5と回転力受動体 6 は、テーブル 4の底面上に同心円状に配設されている。

[0031] テーブル 4の裏面の外周側に設置されたリング状の永久磁石 5は、表面に現れる極性が「N」又は「S」のいずれか片方になるように磁ィ匕されている。また、内周側に設置された回転力受動体 6は、表面に現れる極性が周方向に交互に変わるように配置された複数の永久磁石から構成されている。なお、図 2においては、例として 4つの永久磁石力もなる構成を示しているが、実際の装置においてはそれより多数が配置されている。

[0032] (固定部 2)

固定部 2は、前記回転ヘッド 1を容器 3内の所定の位置で磁気的に高さ方向の位置決めを行なう手段と、回転ヘッド 1に回転'停止力を賦与するための非接触式の駆動手段などで構成されている。それらの機器は、図 3に示すように主に第二種超伝導体 11、断熱容器 12及び回転駆動部 13などで構成されて、る。

[0033] (ピン止め効果'ピン止め体）周知のように、超伝導体には第二種超伝導体が使用されるが、この成分はイットリウム 123を主成分とする超伝導体であり、これは磁場を嫌う性質があり、この性質はマイスナー効果と呼ばれてヽる。超伝導体を液体窒素で冷却してヽくと磁石を反発して浮上させる効果が発生する。そしてこの超伝導体を強めに磁石に押しつけていくと、今度は磁石が安定して浮上する作用が発生するが、これが「ピン止め効果」である。

[0034] 本発明は、この超伝導体による永久磁石から発生する磁力線を、超伝導体が捕捉し、永久磁石と超伝導体との間の距離を保持しょうとする「ピン止め効果」を利用するもので、この超伝導体を設置した固定部と、その上方に配置した被加工物を支持する回転ヘッド部に設けた永久磁石との間を、非接触的に所定の位置に保持する、つまり、所定の空間に保持する作用を利用するものである。

[0035] 前記ピン止め効果を回転ヘッド部に作用させると、この回転ヘッド部はなんら物理的な手段を使用することなく空中に浮上していることから、この回転ヘッド部に小さな回転力を与えることによってこれを駆動することが可能となる。

[0036] このように回転ヘッド部を密閉容器内で非接触的に回転させることができると、無塵の雰囲気で各種の処理をすることが可能となるのであり、半導体装置の繊細な加工のような微細な加工や隔絶された雰囲気において外部で病原菌などを飛散させることなく分離する操作を行うことも可能となるのである。

[0037] ピン止め体を構成する第二種超電導体 11 (図 3)は、その冷却手段であるリング状の中空の断熱容器 ₁₂ (図 1)内に冷却材 14として、例えば液体窒素や液体ヘリウムに浸漬した状態で収納されて、る。この実施例にぉ、ては断熱容器 12は二重構造となっており、二枚の隔壁の間をほぼ真空状態にすることにより、マホービン的な断熱効果を奏している。

[0038] また、第二種超電導体 11の底面と断熱容器 12との間には、熱伝導に優れた材料、例えば銅力なる伝熱板 15が敷設されており、冷却材 14は伝熱板 15を介して下部に設けられた冷却器 16 (冷凍機より冷熱の供給を受けるようになつている。 )により冷却されるようになっている。

[0039] また回転駆動部 13は、円板状の金属板 17とその上面に設置された非接触式回転動力伝達体である回転力伝達体 18 (永久磁石)からなり、下方に設置された駆動モータ 19と接続されている。なお、この駆動モータ 19には、回転と停止を頻繁に繰り返すスピンコーターの機能の上から、ブレーキ付きモーターを用いることが望まし、。

[0040] (ピン止め効果を発生する機構）

図 1に示すように断熱容器 12及び駆動モータ 19は、支持架台 20の上面部 21に固定されており、この上面部 21は昇降装置 22、例えばエアシリンダやサーボモーターにより上昇又は下降できるようになって!/、る。

[0041] 図 3は、超伝導体で構成される固定部 2の上面図を示している力永久磁石の極性の表示については、図 2の場合と同様である。第二種超電導体 11は、薄い円柱形状のバルタ体であり、回転ヘッド部 1に設置されたリング状の永久磁石 5と対向するように断熱容器 12内に同心円状に複数個が設置される。それら複数個の第二種超電導体 11がなす同心円の内外径の大きさは、対向するリング状の永久磁石 5の内外径よりも大きくすることが、回転ヘッド部 1を安定的に浮上させる点力も好ましい。

[0042] この第二種超電導体 11の材料は、イットリウム系（Y- Ba- Cu- 0 )、ガドリニウム系（G a-Ba-Cu-O)、ネオジム系（Nd- Ba- Cu- 0)またはユーロピウム系（Eu- Ba- Cu- 0)の酸ィ匕物からなるものであることが望まし!/、。

[0043] なお、第二種超電導体 11の形状及び配置は、回転ヘッド部 1の下面に設けられたリング状の永久磁石 5に対向してピン止め効果を発生するものであれば、図 3に示す構成に限定されるものではない。

[0044] 回転駆動部 13は、断熱容器 12の内側に位置するように設置され、回転力伝達体 1 8は回転ヘッド部 1の回転力受動体 6と対向するように金属板 17上に配置される。

[0045] この回転力伝達体 18は、回転力受動体 6と同じく周方向に極性が交互に変わるように配置された永久磁石で構成されるが、回転力受動体 6と同一仕様とすることが後述する磁気的吸引力を高め、製造コストを合理ィ匕する上力も好ましい。

[0046] このように、第二種超電導体 11、断熱容器 12及び回転駆動部 13は、簡易的な構造を有するとともに一体的に構成されている。

[0047] (スピンコーターの作動原理）

以上のように構成されたスピンコーターの動作について説明する前に、回転ヘッド部が浮上及び回転する原理について図 4を参照して説明する力この図 4は、回転ヘッド部のリング状の永久磁石と固定部の第二種超伝導体との関係を表した模式図である。

[0048] まず図 4 (a)のように、水平方向に対称な形状を有する永久磁石 30 (回転ヘッド部 1 のリング状の永久磁石 5に相当）を、同じく水平方向に対称な第二種超伝導体 31 (固定部 2の第二種超伝導体 11に相当）から上方に所定の距離 dだけ離して拘束手段 3 2により保持する。なお、永久磁石 30は N極が第二種超電導体 31に対向するよう〖こ磁ィ匕されている。この状態においては、永久磁石 30から発生する磁束 33は、第二種超電導体 31の内部を単に通過するだけである。

[0049] 次に、図 4 (b)のように、第二種超伝導体 31を液体窒素 34に浸すなどして臨界温度以下まで冷却する。超電導状態になった第二種超電導体内 31では、永久磁石 30 力もの磁束 33が量子化されて、内部に存在する常電導部分にあた力もピンで止めたかのように捕捉'保持されるというピン止め効果 36が生じる。このとき、永久磁石 30と第二種超電導体 31からなる系のポテンシャルエネルギーは安定状態となる。

[0050] このような状態から図 4 (c)のように永久磁石 30の拘束手段 32を解除すると、永久磁石 30は第二種超電導体 31に向力つて重力により落下するため両者間の距離は d よりも小さくなる力このことはピン止めされた位置 36から磁束 33がずれて系のポテンシャルエネルギーが不安定になることを意味する。そのため、ポテンシャルェネルギーを安定させる方向、つまり図 4 (b)の状態に戻るように永久磁石 30には重力と反対の軸方向にピン止め力 37が生じるため、第二種超電導体 31から距離 dの位置にぉ、て永久磁石 30が浮上することとなる。

[0051] このピン止め効果は、図 4 (d)のように永久磁石 30が水平方向に移動した場合にお Vヽても同様であり、系のポテンシャルエネルギーが安定する径方向にピン止め力 38 が生じる。

[0052] なお、上記の所定の距離 dは、永久磁石 30と第二種超電導体 36の形状及び永久磁石 30の磁力の強さなどから一義的に定まるものである。

[0053] 次に、第二種超電導体の上に浮上した永久磁石を回転する方法について、図 5を参照して詳細に説明するが、この図は、回転ヘッド部の下面に設けてある永久磁石と、固定部の第二種超電導体及び永久磁石の位置関係を示した模式図であり、図 1と同じ部分には同一の符号を付している。

[0054] 回転ヘッド部 1は、上記で説明した原理により、リング状の永久磁石 5からの磁束 40 が第二種超電導体 11内にピン止めされて固定部 2の上方に浮上する。このとき、互いに対向する回転力受動体 6と回転力伝達体 18は、周方向に極性が交互に変わるように配置された永久磁石カゝら構成されているため、回転力伝達体 18が設置されている金属板 17を適当に回転させて異なる極同士を対向させるようにすることにより、両者の間に磁気的な吸引力 41を発生させることができる。その状態で駆動モータ 19 により回転駆動部 13を回転させると、ピン止め効果で浮上している回転ヘッド部 1を磁気的吸引力 41を介して連動して回転させることができる。

[0055] ここで、回転力受動体 6及び回転力伝達体 18は、周方向に極性が交互に変わるように配置された永久磁石力構成されているため、単一の極性同士とした場合に比ベて、永久磁石の磁気的吸引力を回転に関して効果的に利用することができる。

[0056] このとき、第二種超電導体 11に捕捉されて!ヽるリング状の永久磁石 5からの磁束 40 も周方向へ動くことになるが、これらのリング状の永久磁石 5と第二種超電導体 11は水平方向に対称な形状であるため、系のポテンシャルエネルギーが変化することはなぐ回転ヘッド部 1の回転に影響を与えることはない。

[0057] なお、なんらかの原因により、回転ヘッド部 1が軸方向又は径方向へずれた場合には、前記図 4を参照して説明したようにピン止め力が発生してもとの位置に戻るため、安定的に回転状態を維持することができる。

[0058] (ズビンコ一ターの動作説明）

以上の作動原理を参考にして、本発明に係るスピンコーター Sの動作を、図 6を参照して以下に詳細に説明する。図 6はスピンコーター Sの動作の流れを示す説明図であり、前記図 1と同じ部分には同一の符号を付している。

[0059] 最初に待機状態として、回転ヘッド部 1を密閉容器 3の底壁 3a上に固定されている保持台 7上に保持する。そして下部機構である固定部 2を回転ヘッド部 1から所定の距離だけ離れた下方に配置する。ここで「所定の距離」とは、前記図 4に示した「距離 djに相当するものである。そして、断熱容器 12内の第二種超電導体 11を冷凍機 16 により臨界温度以下まで冷却して前記第二種超電導体 11を超伝導状態とする。 [0060] 次に、飛散防止カップ 8を上方に移動して、水平方向力ロボットアーム 46のフォーク部 47上に載置された基板 45 (被処理物）を回転ヘッド 1の上方へ移動させる（図 6 ( a)参照。）。

[0061] 回転ヘッド部 1の上方の所定の位置にくるまで基板 45 (被処理物）を移動した後、口ボットアーム 46を下降させて、回転ピンヘッド部 1上に立設された突起部である保持ピン 48に基板 45を受け渡す（図 6 (b) )。この保持ピン 48は、先端部に円錐状のシリコンゴムが取り付けられており、回転ヘッド 1上の基板をシリコンゴムの斜面で外周から挟む込むようにして保持するものである。

[0062] 前記保持ピン 48は、シリコンウェハなどの円板薄板状の基板 45の周縁を、点接触で保持して高速回転させながら表面処理するのに有効なものである。しかし、点接触でなくても被処理物の周縁などを一時的に保持できるものであれば、例えば、皿のようなものの円錐面の一部を使用した保持部、あるいは被処理物の底面の凹部ゃ凸部に係合して保持できる手段を採用することも可能である。更に、板状物などを把持する装置を使用することも可能である。

[0063] 前記の操作によって基板 45を受け渡した後、ロボットアーム 46を水平方向に引き抜、て、飛散防止カップ 8を元の位置まで下降させる（図 6 (c) )。

[0064] 以上のようにして基板 45が回転ヘッド部 1上に載置された後に、昇降装置 22を用いて支持架台 20の上面部 21を上昇させることにより、回転ヘッド部 1を保持台 7から所定の距離だけ離れた高さまで浮上させてから、駆動モーター 19により回転駆動部 13を介して回転ヘッド部 1とともに基板 23を高速回転させる。そして、回転する基板 2 3の表面に上方の吐出ノズル 10 (図 1)力コーティング液 9を滴下すると、コーティング液 9は遠心力により基板 45の表面に拡がって薄膜を形成する。薄膜を形成しなかつた余分のコーティング液 9は、飛散防止カップ 8に衝突して捕集され、下部から回収される（図 6 (d) )。

[0065] 基板 45表面に薄膜が形成された後は、駆動モーター 19を停止させることにより回転ヘッド 1の回転を停止させる。そして、昇降装置 22を操作して支持架台 20の上面 2 1を降下させることにより、回転ヘッド部 1を保持台 7上に保持する。最後に、基板 45 は上記と逆の手順でロボットアーム 46により回転ヘッド 1上から取り上げられて次の処理工程へ移送される。

[0066] (効果の説明）

このように、密閉可能な容器 3内に収容されている回転ヘッド部 1 (被加工物支持具 )には、直接に駆動する部分がないため、保守又は修理を行う必要はほとんどない。また、駆動部分を有する密閉容器 3の下部の固定部 2は、簡易な構造で一体的に構成されるため小型化できるとともに、保守及び修理交換が容易である。

[0067] また、第二種超電導体 11を超伝導状態にしたら回転装置の休止中もそれを維持することが合理的で操作上無駄がな、。

実施例 2

[0068] 次に図 7を参照して本発明に係るスピンコーターの第 2の実施形態を説明する。この実施形態は、前記図 1〜図 4に示した第 1の実施形態における非接触式回転動力伝達体である回転力伝達体 18の代わりに、周方向に配列された複数の電磁石 23により構成したものである。

[0069] これらの電磁石 23による磁力の向きが周方向に順に異なるように電流を制御することにより、回転力受動体 6と電磁石 23の間に DCブラシレス同期モーターを構成することができる。

[0070] 従って、駆動モータ 19 (図 1)などの機械的な回転機構が不要となるため、図 1に示した固定部 (操作部） 2を更に小型化できるとともに、保守及び修理交換も容易化することができる。

実施例 3

[0071] 図 8は、本発明に係る回転装置の第 3の実施形態を示すもので、この実施形態は、図 7に示した第 2の実施形態における非接触式回転力受動手段である回転力受動体 6を、円盤状の導電性金属板 24により構成したものである。

[0072] この第 3の実施形態においては、前記第 2の実施例の場合と同様に、電磁石 23による磁力の向きが周方向に順に異なるように電流を制御することにより、固定部 2の電磁石 23の磁界により導電性金属板 24に渦電流を誘導して回転ヘッド部 1に回転力を生じさせることができる。従って本実施形態により回転ヘッド部 1の構造を更に簡易なちのとすることができる。 [0073] なお、前記第 1〜第 3の実施例は、前述したように基板上に薄膜を形成するスピンコーターを例としたものであるが、基板表面の洗浄や乾燥に係る他の種類の基板処理回転装置にも適用できることはいうまでもない。

[0074] 例えば、図 1に示す第 1の実施例においては、洗浄装置とする場合にはコーティング液 9の代わりに洗浄水を用いればよぐ乾燥装置とする場合には吐出ノズル 10を取り除、た構成とすればょ、。

[0075] 本発明に係る非接触型回転処理装置は、シリコンゥエーなどの半導体基板の処理工程において、高速回転で薄板状の被処理物の処理に適している力その処理はスピンコートに限らず、洗浄や乾燥工程に使用することができる。

[0076] 例えば、被処理物として理化学や医学方面の研究の分野、更にバイオテクノロジーの分野などにおいて、被処理物に対して高速回転に伴なつて発生する遠心力で処理するような用途に使用する機器に利用することができる。

[0077] 本発明に係る装置は、被処理物を高速で回転させることを前提とするものであるから、特に高速回転におけるバランス性を考慮して被処理物を保持する手段を持つ装置として設計する必要がある。この保持する手段は、保持ピンのように点接触するもの、あるいは円錐面の一部を利用したものなど、被処理物の形状や大きさや重量、発生する遠心力などを考慮して設計する。

[0078] また、被処理物が薄板状物に限らず、例えば、血液を入れた細!、ガラス容器のような他の形態のものでも遠心処理することが可能であり、その特徴を活力して理ィ匕学的、医学的あるいはノィォ学などの分野において効果的に利用することが可能である。実施例 4

[0079] 図 10は、本発明の第 4の実施形態に係る磁気浮上型回転処理装置の最適な実施例である、非接触型回転処理装置 S1の要部を示す正断面図である。

[0080] この非接触型回転処理装置 S1は、中央部に開口（穴）をあけたドーナツ形の板体力もなる回転ヘッド部 60 (実施例 1の回転ヘッド部 1に相当）と密閉容器 61を含む部分からなる「上部構造 U」と、超伝導バルタを設けたピン止め体 62などを含む部分からなる「下部構造 D」の組合せにより構成されている。なお、容器 61は回転板 60上に半導体基盤などの被加工物 wを挿入載置したり、また、取出す操作をするために、この被加工物 wの供給口を設けたり、好ましくは上下に二つ割りに構成して、る。

[0081] この実施例においては、回転ヘッド部 60をドーナツ形に形成したことによって被カロェ物であるウェハー wの「裏面」からもスプレー処理や乾燥空気の噴射などの各種の処理を行うことができるものである。

[0082] 前記回転ヘッド 60部は、この実施例においては全体としてドーナツ形で偏平なモータの回転子を形成し、この回転ヘッド部 60の開口部より被処理物 wの裏面からも各種の処理ができるようにしている。この回転ヘッド 1は、図 10〜図 12に示すように、例えばアルミニウム合金などの非磁性材料を円環状にバランスを取って形成し、表面側に第 1永久磁石 63を、その対応する裏面側に第 2永久磁石 64と、この第 2永久磁石 64内周側に第 3永久磁石 65をそれぞれ円周上に整列して配置している。

[0083] これらの永久磁石 63、 64、 65は、回転ヘッド部 60の円周に沿って複数個の磁石片が極性を異ならせて円周上に配置したものであり、更に第 3永久磁石 65は、 1個の環状の磁石を配置して形成したものである。なお、本発明に係る装置の基本構成においては回転子として前記永久磁石 63、 64を使用している力これと同等な作用を奏する強磁性鋼板などに変更して使用することもできる。

[0084] そして前記回転ヘッド部 60の周面に、この回転ヘッド部 60の周縁を上下力挟んで断面コ字形の磁性鋼板カゝらなる鉄心 66を使用した回転磁界コイル 67、 68が前記第 1永久磁石 63と第 2永久磁石 64に対して設けられて固定子 69を構成している。そして前記固定子 69と回転ヘッド部 60を回転子によって平板型のモータを形成している。

[0085] 下部構造 Dは、図 10に示すように上部構造 Uの前記回転ヘッド 60を、超伝導体を利用して磁気的に密閉容器 61の所定位置に浮上させるピン止め体 62を含む装置である。

[0086] このピン止め体 62は、図 10及び図 14に示すように、リング状に形成された銅などの熱伝導性に優れた材料からなる熱伝導体を環状に形成した冷却板 71上に、第二種超伝導体の成形体からなるバルタ 72 (金属粉の成形物でこの例にお!、てはコイン形である。）も所定間隔で配置して構成されている。なお、前記バルタ 72を、粉体を成形したものではなぐ他の形式のものに変更して構成することもできる。 [0087] そしてこの冷却板 71は平面的に環状に形成された真空断熱容器 73内に収容され

、断熱ブロック 74を介して熱的に隔離して固定されている。そして真空断熱容器 73 は真空装置と連結されて真空状態に保持されている。

[0088] また、前記環状の冷却板 71には冷却装置 (冷凍機） 75と（図 10)が接続され、この冷却板 71を介して前記バルタ 72を超伝導性を発揮する温度（一 240°C、 30° K)に冷却するように構成されて、る。

[0089] (ピン止め装置の上下移動機構）

図 10に示すように前記真空断熱容器 73は支持台 77 (環状板）に支持され、例えばェアジリンダ装置やサーボモータを使用した上下移動装置 78によって支持され、上昇 ·下降するように構成されて、る。前記上下移動装置 78は「ピン止め効果」を発揮する際に回転ヘッド部 60を密閉可能な容器 61内の所定の位置に磁気的に浮上させて保持する時に使用される。

[0090] 前記回転ヘッド部 60の上面には、支持体 79 (好ましくは断熱性のある部材）が設けられ、これによつて被カ卩ェ物としてウェハー wなどの周囲を複数点で支持するように構成されている。

[0091] また、前記容器 61は、この実施例においては容器下部 61bと容器上部 61aとに分割可能に構成されて一体化されている。そしてこの一体化された容器の横面にドアを設け、このドアより被加工物 wを出入れすることもできる。また、容器下部 61bの中央にはシール部材 80を介して下部ノズル 81が上下に移動可能に支持され、これより処理液をウェハー wなどの下面の中央 (設計によつでは横移動も可能)より供給するように構成されている。

[0092] 更に、容器上部 61a側には上部ノズル 81aが上下移動可能に設けられ (あるいは斜め方向力も進入する場合もある。）、これよれ処理液をウェハー wなどの上面に供給するように構成されている。なお、 82はウェハー wなどを自動的に供給'排出するロボットアームを示して、る。

[0093] (特殊形状の容器の下部構造）

容器下部 61bには図 13に示すように円周方向に膨出部 83が土星の輪のように形成され、その内部に被加工物支持体である回転ヘッド部 60の外周部分を三方から包囲して、る。そしてこの膨出部 83の上下を挟むように断面コ字形の磁性鋼板からなる鉄芯 66にコイル 67と 68を設けた回転磁界コイルである固定子 69を形成して平板型モータを構成している。

[0094] 従って、回転ヘッド部 60 (回転子）の外周部の両面に配置された永久磁石 63、 64 ( あるいは強磁性体力もなる板材など）を両面力も対面させるように密閉容器 61のうちの容器下部 6 lbの外周に形成された膨出部 83が位置している。そしてこの膨出部 8 3の両面に前記鉄芯 66とコイル 67と 68からなる回転磁界コイルからなる固定子 69が配置され、前記回転ヘッド 60を回転子とする偏平モータを構成している。なお、バルク 70の形状や配置は、回転ヘッド部 60の下面に設けた第 3永久磁石 65に対向するものであれば、図 13及び図 14に示す構成に限定する必要はない。

[0095] この第 4の実施例においては、図 13に示すように、密閉容器 61の容器下部 6 lbに形成された膨出部 83の底面に支持体 85を設け、円環状の回転ヘッド部 60の内周部の下面に前記支持体 85と対面して接触する支持体 86がそれぞれ設けられている

[0096] 本発明にかかる磁気浮上回転処理装置と S 1を停止させ、前記回転ヘッド部 60が浮上しない静置状態では、前記支持体 85、 86を接触させて回転ヘッド部 60を容器下部 61bに支持している。そして下記するピン止め効果を発揮する際に、前記支持体 85と 86との接触を絶ち、回転ヘッド部 60を磁気的に浮上させるように構成されている。

[0097] (回転ヘッド部 60の駆動について）

前記より回転ヘッド部 60が容器下部 61b内の膨出部 83の中間の位置に磁気の「ピン止め効果」によって浮上させられたならば、この回転ヘッド部 60の周縁部の永久磁石 63、 64部分（回転子として作用する部分）と前記膨出部 83も挟んで配置されている回転磁界コイル 67、 68 (固定子）によって回転磁界を形成して回転ヘッド部 60を所定の回転速度で回転させる。

[0098] この回転ヘッド部 60の回転中に前記上部ノズル 81a及び下部ノズル 81から同時あるいは別個に薄膜形成液あるいはエッチング液などの表面処理液を噴射して回転へッド部 60上に支持されているウェハー wなど被処理物の表面を処理液によってエツチング等の処理をして所定のパターンの半導体素子を形成することができる。

[0099] 前記回転ヘッド部 60の回転数は、通常のカロ工においては 200〜7000rpmであり、力なりの高速の回転で処理が行なわれる。従って、この回転ヘッド部 60の半径と重量を考慮するとこの回転ヘッド部 60の回転慣性エネルギーはかなり大きぐ短時間に停止させることは困難を伴う。また、この回転ヘッド部 60に特別にブレーキ装置を設けることは、真空密閉容器 2内に塵埃を発生させる原因となるので、この回転ヘッド部 60の空気抵抗を打用した停止を待たざるを得ないことになる。

[0100] しかし、本発明の磁気浮上回転処理装置 Sにおいては、前記回転体 1自体がモータの回転子を構成しているので、前記回転磁界コイル 4Aの電流制御により、この回転板 1を静粛に、かつ、迅速に停止させることか可能となる。

[0101] 以上の如ぐ本発明に係る磁気浮上回転処理装置 Sによれば、ウェハー wなどの被加工物を支持して回転する回転板 1の外周部を、直接に電動モータの一部として利用するので、この回転板 1の回転と停止の操作は極めて正確かつ効率的に行うことができ、半導体装置の製造工程を効率的に実施することができる。

実施例 5

[0102] 図 15は、本発明の第 5の実施形態に係る磁気浮上回転処理装置 S2の要部を示している。周面が円筒状の密閉可能な容器 90の内部に中央部に開口 91aを持つの回転ヘッド部 91が配置され、その下方にピン止め体 92が配置されている。また、前記回転ヘッド部 91の周面の下方に回転用永久磁石 93が環状に設けられ、その内側に浮上用の永久磁石 94が前記磁石 93と同心状に設けられている。そして前記永久磁石 93の下面に回転磁界コイル 95が配置され、このコイル 95と永久磁石 93と回転へッド部 91で薄形のモータを構成している。なお、容器 90の底部に前記回転ヘッド部 91が静置状態でこれを支持するための支持体が設けられているが、これの図示は省略されている。

[0103] ピン止め体 92は熱伝導が良好な金属材料、例えば、銅などを円板状に形成した伝熱板 27の上面に図 5に示すような第二種超伝導体をコイン形に形成したバルタ 97 ( 超伝導体)を所定間隔で配置し、裏面に熱伝導柱 98を介して冷凍機 99と接続し、前記バルタ 97を超伝導を発揮する超低温に冷却するように構成してヽる。 [0104] 前記ピン止め体 92は、全体が真空容器 100内に収容されて断熱効果を与え、更にその内部を超低温状態に保持するようになっている。そして前記伝熱板 92と真空容器 33と密閉容器 90を通過して下部ノズル 102が設けられ、更に回転ヘッド部 91 の上面側にも上部ノズル 103が設けられている。

[0105] 前記構成を持つ磁気浮上回転処理装置 S3にピン止め効果を発揮させるためには、密閉容器 90の底部に回転ヘッド部 91を支持させる構造と、前記ピン止め体 92を上下に移動させる機構が必要であるが、これらの構造については前記実施例 1で採用した装置とあるいはこれを改良した装置を使用することができる。

[0106] この実施形態 5においては、密閉容器 90の底部の周縁部に偏平モータ用永久磁石 93と回転磁界コイル 95を対向配置していることから、図 13に示した密閉可能な容器 61の下部に形成した膨出部 83を形成することがなぐそのために密閉容器 61の構造を単純にすることができる。

実施例 6

[0107] 図 16は、本発明の第 6の実施形態に係る磁気浮上回転処理装置 S3の要部を示しており、この装置は前記図 15に示した第 5の実施形態 S2の構造の一部を変形したものである。この第 6の実施形態においては、図 15に示した偏平モータの駆動部を構成する永久磁石 93と回転磁界コイル 95を密閉可能な容器 90の底部において対向させている力この第 5の実施形態においては、容器 90の底部の周壁の部分で対向させている。

[0108] 前記図 15に示す装置 S2の場合は、回転ヘッド部 91の浮上用磁力に対して永久磁石 93と回転磁界コイル 95との間に発生する磁力が、前記浮上用磁力を回転へッド部 91aの浮上力を弱める方向、つまり縦方向に作用する。しかし、この実施形態 5 の装置 S4の場合は回転ヘッド部 91aの周縁方向に磁力線を発生することから、回転磁界コイル 95aが回転ヘッド部 91aに対して作用する磁力が、真空容器 100a内のピン止め体のバルタ 97aと磁石 94aとの間で発生している浮上用の磁力を弱める方向に作用しな、点が優れて、る。

実施例 7

[0109] 図 17ないし図 20は第 7の実施の形態を示しており、この図に示した非接触型回転処理装置 S4を複数台配置して連続的に処理する一連の装置を示している。

[0110] この例の回転処理装置 S4は、上部構造として密閉可能な容器 110内に、中央部に開口部 11 laを設け回転ヘッド部 111を収容して図示しな、支持具上に載置する

。そしてこの回転ヘッド部 111上に設けた支持具 111bの上に半導体基板やガラス基板などの被処理物 wを支持する。

[Oi l 1] そして下部構造としてピン止め体 112 (ここでは前記回転ヘッド部 111の浮上手段を総称する。）を上下移動装置 113で昇降可能に支持している。また、永久磁石 114 aを支持体上に持つ回転力伝導体 114と、前記回転ヘッド部 111の裏面に設けた永久磁石 111cに対向して設けた永久磁石 114bなどで磁気的駆動体と磁気的受動体

(すなわち磁気カップリング)を構成して、る。

[0112] そして前記回転ヘッド部 111を前記容器 110内で超伝導作用により浮上させ、前記磁気的駆動体を利用して回転させるように構成して、るが、詳細な構成にっ、ては前記の通りである。

[0113] そして磁気的駆動体を構成する永久磁石 114aとピン止め体 112を構成する真空容器 112aの上面との間にギャップ Gを設けて磁気的駆動体 114の動きを容易にしている。また、ピン止め体 112の真空容器 112aの上面と容器の底面とがぴったりと接触して容器 110を安定して保持するように構成して、る。

[0114] 図 18は、回転ヘッド部 111の中央部の開口 111aの下側からノズルによって処理液や処理気体などを噴射して半導体基板やガラス基板などの被処理物 wの裏面を処理する装置を示している。容器 110の側壁に設けた連結具 116 (—種のカップリング )を介して外部パイプ 114と内部パイプ 114aが設けられ、このパイプ 117aの先端にノズル 115が設けられて!/、る。

[0115] 図 17に示すように、容器 110の天井中央部には連結具 120を介してノズル 121を先端に持つノズル管 122が容器の上部構造に対して上下に移動可能に、かつ、シール状態で支持されている。また、容器 110には排気管 123、チッソガス供給排出管 124、 120aが設けられ、更に、前記被処理物 wを保持して搬入'搬出する操作を行うロボットアーム 125が設けられている。

[0116] 前記連結具 120は、他の各工程において塗布液やエッチング液、あるいは乾燥空気などを供給するノズル管を、それぞれの段階にぉ、て取付けることができるように構成されている。

[0117] 図 19は、前記図 17に示した回転処理装置 S4、この例においては 4基（S4— 1、 S4

2、 S4— 3、 S4— 4)を回転台上に設け、この回転台を 90° 宛回転させることによつて第 1工程力ゝら第 4工程まで連続的に処理する装置を示して、る。

[0118] 図 20は、基礎台床 127上〖こレール 128を敷き、このレール 128で前記基礎台床 12 7 (回転板)を移動可能に案内するように構成し、この基礎台板 127上に 4基の回転処理装置 S4を所定間隔で配置 '固定し、図示しない駆動装置で前記基礎台板 127 を回転させて所定の停止位置において停止させ、次の処理を行うことができるものである。

[0119] 例えば、回転処理装置 S1— 1が第一工程で、容器 110の上部構造を移動開放してロボットアーム 129で被処理物 wを搬入し、回転ヘッド 111上に載置する。そして前記開放されて、る容器 110の上部構造を下部構造の上に下ろし、次、で分離されているノズル管 122を上部構造の連結具 120を固定する開口より内部に降下させ、その後、連結具 120で連結した後、前記ノズル管 122を所定の位置に移動させる。そして第 1工程 S4— 1が終了すると、前記基礎台床 127を所定角度回転させ、回転処理装置 S4を第 2工程 S4— 2の位置に移動させ、ここで所定の処理を行う。第 2 工程 A4— 2は、例えば洗浄工程、第 3工程 S4— 3は、例えばランプを使用した乾燥工程などである。

[0120] 前記のように、所定の機能を持つ回転処理装置 S4を複数台準備し、前記のように回転板上に載置したり、あるいは所定の格納庫に収容して、各位置において所定の処理を行うことによって一連の回転処理を効率的に行うことが可能である。

産業上の利用可能性

[0121] 半導体基板の浮上型用回転処理装置や高速回転で遠心分離するような化学装置にも利用できる。

Claims

請求の範囲

[1] 被処理物を載置して回転する円板状の回転ヘッド部を容器内に収容し、前記容器の下方に配置され、前記回転ヘッド部に対向して非接触式で回転動力を磁気的に伝達する手段を配置し、前記回転動力を伝達する伝達手段を同心円状に外囲し、磁気的に前記回転ヘッド部を上方の所定位置に位置決めする磁気固定部を設けた非接触型回転処理装置であって、前記回転ヘッド部は、回転力を受ける磁気的受動手段と、前記磁気的受動手段を同心円状に外囲するリング状の永久磁石とを備え、前記磁気的固定部は、前記リング状の永久磁石に対向するように同心円状に配設された第二種超電導体からなるピン止め体と、このピン止め体を冷却する冷却手段とを備え、更に、前記ピン止め体を昇降する昇降手段を設けてたことを特徴とする非接触型回転処理装置。

[2] 前記容器の床壁内面に前記回転ヘッド部を保持する保持台が設けられていることを特徴とする請求項 1に記載の非接触型回転処理装置。

[3] 前記容器の底面と磁気固定部を構成する容器の上面とが接触した状態において、前記回転動力を伝達する伝達手段と前記容器の上面との間に磁気的駆動手段を回転させるだけの僅かなギャップが形成されていることを特徴とする請求項 1記載の非接触型回転処理装置。

[4] 容器内に被処理物を載置して回転する中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記回転ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石を設け、その外周又は内周側下面に回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を配置し、前記浮上用永久磁石に対向する位置に第二種超伝導体を環状に配置するとともに、前記回転用の永久磁石又は強磁性鋼板に対向する位置に非接触式で回転動力を磁気的に伝達する手段を配置し、前記回転ヘッド部を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴とする非接触型回転処理装置。

[5] 容器内に被処理物を載置して回転する中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記回転ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石と該永久磁石の外周部と、該外周部に対応する上面の両面に、回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を配置し、更に、前記回転用の永久磁石あるいは強磁性鋼板を上下より挟むように回転磁界コイルを配置し、前記浮上用の永久磁石に対応して第二種超伝導体を環状に配置するとともに、前記回転ヘッド部の外周の両面に設けた永久磁石あるいは強磁性鋼板と、前記永久磁石あるは強磁性鋼板に対応して設けた回転磁界コイルとによつて、前記回転ヘッド部を非接触状態で回転駆動するように構成したことを特徴とする非接触型回転処理装置。

[6] 前記容器の外周の一部を環状に膨出させ、この膨出部分に前記中央部に開口を有する回転ヘッド部の外周部分を配置し、前記膨出部分を上下より挟むように回転磁界コイルを配置したことを特徴とする請求項 5に記載の非接触型回転処理装置。

[7] 容器内に被処理物を載置して回転する中央部に開口を有する円板状の回転ヘッド部を収容し、前記ヘッド部の下面に浮上用の永久磁石を設け、該回転ヘッド部の外周側に回転用永久磁石又は強磁性鋼板を設けて容器底部に前記磁石又は強磁性鋼板に対向する位置に回転磁界コイルを配置し前記永久磁石あるいは強磁性鋼板とによって前記回転ヘッドを回転駆動するように構成したことを特徴とする非接触型回転処理装置。

[8] 前記請求項 1ないし 6の何れかに記載された非接触型回転処理装置の複数台を移動装置上に配置し、前記移動装置を移動させて所定位置で停止させ、その停止位置にお!ヽて複数の処理を逐次実施するようにしたことを特徴とする連続式非接触型回転処理装置。