WO2007063955A1 - ホイートストンブリッジ回路の抵抗測定システム及び抵抗測定方法 - Google Patents

ホイートストンブリッジ回路の抵抗測定システム及び抵抗測定方法 Download PDF

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WO2007063955A1
WO2007063955A1 PCT/JP2006/323973 JP2006323973W WO2007063955A1 WO 2007063955 A1 WO2007063955 A1 WO 2007063955A1 JP 2006323973 W JP2006323973 W JP 2006323973W WO 2007063955 A1 WO2007063955 A1 WO 2007063955A1
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WO
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terminal
bridge circuit
wheatstone bridge
resistance
current
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Application number
PCT/JP2006/323973
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English (en)
French (fr)
Inventor
Toshiyuki Matsumoto
Masami Yakabe
Original Assignee
Tokyo Electron Limited
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Publication date
Application filed by Tokyo Electron Limited filed Critical Tokyo Electron Limited
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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2829Testing of circuits in sensor or actuator systems

Definitions

  • the present invention relates to a resistance measurement system and a resistance measurement method for measuring the resistance value of each resistor constituting a Wheatstone bridge circuit.
  • MEMS Micro Electro Mechanical System
  • MEMS technology includes acceleration sensors and angular velocity sensors that are microsensors as various sensors for automobiles and medical use.
  • Wheatstone bridge circuits using piezoresistors are used for acceleration sensors and angular velocity sensors.
  • Patent Document 1 discloses a method for measuring the static characteristics of a semiconductor acceleration sensor that can improve the measurement accuracy even on a device with vibration.
  • Patent Document 1 In the method described in Patent Document 1, first, a variation in potential difference between both ends of one piezoresistor constituting a bridge circuit of a semiconductor acceleration sensor is observed. Then, the static characteristics of the semiconductor acceleration sensor are measured on the assumption that the vibration has subsided when the fluctuation of this potential difference becomes less than the set value. Therefore, if the semiconductor acceleration sensor continues to have a certain strain, only the resistance value in a strained state can be measured. Further, the method described in Patent Document 1 cannot individually measure the resistance values of the resistors constituting the bridge circuit of the semiconductor acceleration sensor.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 10-62449
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a system and method capable of measuring the resistance value of each resistor constituting a Wheatstone bridge circuit. To do.
  • a resistance measurement system is a resistance measurement system for a Wheatstone bridge circuit for measuring a resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit
  • a conducting portion for electrically connecting the terminal electrode of the Wheatstone bridge circuit and the probe
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a resistance measurement system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a resistance measurement control unit and a prober unit of the resistance measurement system of FIG.
  • FIG. 3 is a view of the 3-axis acceleration sensor as viewed from the top surface of the device.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a three-axis acceleration sensor.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining deformation of a heavy cone and a beam when subjected to acceleration in each axis direction.
  • FIG. 6 is a configuration diagram of a Wheatstone bridge circuit provided for each axis.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining an output response with respect to an inclination angle of a 3-axis acceleration sensor.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining the relationship between gravitational acceleration (input) and sensor output.
  • FIG. 9 is a configuration diagram showing fritting of a Wheatstone bridge circuit and resistance measurement by a four-terminal method.
  • FIG. 10 is a configuration diagram showing a method for measuring a current and a potential difference by a four-terminal method.
  • FIG. 11 is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit by Measurement Method 1.
  • FIG. 12 is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each of the resistors constituting the Wheatstone bridge circuit by measurement method 2.
  • FIG. 13 is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit by measurement method 3.
  • FIG. 14A is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor by the measurement method 4 in two Wheatstone bridge circuits having a common power supply and ground.
  • FIG. 14B is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor by measurement method 4 in two Wheatstone bridge circuits that share a power source and a ground.
  • FIG. 15A is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor by the measurement method 4 in three Wheatstone bridge circuits having a common power supply and ground.
  • FIG. 15B is a configuration diagram of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor by measurement method 4 in three Wheatstone bridge circuits having a common power supply and ground.
  • FIG. 16 is a diagram showing an example of displaying measured resistance values.
  • FIG. 17 is a flowchart showing an example of the operation of the resistance measurement system according to the present invention.
  • FIG. 18 is a configuration diagram showing an example in which noise removal is combined with the resistance measurement system of the present invention.
  • FIG. 19 is a diagram illustrating the synthesis of anti-noise sound waves that are completely in phase with the noise sound waves emitted from the noise source.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a resistance measurement system according to the present embodiment.
  • a resistance measurement system 1 includes a loader unit 12, a prober unit 15, and a resistance measurement control unit 2.
  • the loader unit 12 carries a test object, for example, a wafer. Prober
  • the unit 15 inspects the electrical characteristics of the wafer 8. Further, the resistance measurement control unit 2 measures the resistance value formed on the wafer 8 via the prober unit 15.
  • the loader unit 12 includes, for example, a mounting unit (not shown) for mounting a cassette storing 25 wafers 8 and a wafer transfer for transferring the wafers 8 one by one from the cassette of the mounting unit. And a mechanism.
  • the wafer transfer mechanism includes a mechanism that moves in three axes via X—Y—Z tables 12A, 12B, and 12C, which are three axes (X, Y, and Z axes) that are orthogonal to each other.
  • a mechanism for rotating the wafer 8 around the Z-axis via the main chuck 14 is provided. Specifically, the wafer transfer mechanism moves the main chuck 14 in the Y-axis direction via the Y table 12A that moves in the Y direction.
  • the wafer transfer mechanism moves the main chuck 14 in the X-axis direction via the X table 12B that moves in the X direction on the Y table 12A.
  • the wafer transfer mechanism moves the main chuck 14 in the Z-axis direction via the Z table 12C that moves up and down in the Z direction, which is arranged with the center of the X table 12B and the axis aligned. Further, the wafer transfer mechanism rotates the main chuck 14 in the forward and reverse directions within a predetermined range via a rotation drive mechanism around the Z axis (not shown).
  • the prober unit 15 includes a probe card 4, an alignment mechanism (not shown), and a probe control unit 13. Then, the prober unit 15 measures the resistance of the wafer 8 by electrically contacting the probe of the probe card 4 and the electrode pad of the wafer 8 using the fritting phenomenon.
  • the probe card 4 electrically connects an electrode pad formed of a conductive metal such as copper, copper alloy, or aluminum on the wafer 8 and the probe.
  • the alignment mechanism aligns the probe of the probe card 4 with the wafer 8. Further, the probe control unit 13 controls the probe card 4.
  • FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the resistance measurement control unit 2 and the prober unit 15 of the resistance measurement system 1 of FIG.
  • the resistance measurement control unit 2 and the prober unit 15 constitute a resistance measurement circuit.
  • the resistance measurement control unit 2 includes a control unit 21, a main storage unit 22, an external storage unit 23, an input unit 24, an input / output unit 25, and a display unit 26.
  • the main storage unit 22, external storage unit 23, input unit 24, input / output unit 25, and display unit 26 are all connected to the control unit 21 via the internal bus 20. It is connected.
  • the control unit 21 includes a CPU (Central Processing Unit) and the like, and executes a process for measuring the resistance value of each resistor formed on the wafer 8 according to a program stored in the external storage unit 23. To do.
  • CPU Central Processing Unit
  • the main storage unit 22 includes a RAM (Random-Access Memory) or the like, loads a program stored in the external storage unit 23, and is used as a work area for the control unit 21.
  • RAM Random-Access Memory
  • the external storage unit 23 is composed of a nonvolatile memory such as a ROM (Read Only Memory), a flash memory, a hard disk, a DVD-RAM (Digital Versatile Disc Random-Access Memory) DVD—RW (Digital Versatile Disc Rewritable), etc. Is done.
  • the external storage unit 23 stores in advance a program or the like for causing the control unit 21 to perform the above processing.
  • the external storage unit 23 supplies the stored program or the like to the control unit 21 in accordance with an instruction from the control unit 21 and stores data supplied from the control unit 21.
  • the input unit 24 includes a pointing device such as a keyboard and a mouse, and an interface device that connects the keyboard and the pointing device to an internal bus. Control signals such as resistance measurement start and measurement method selection are input from the input unit 24 and supplied to the control unit 21.
  • the input / output unit 25 is configured by a serial interface or a LAN (Local Area Network) interface.
  • the input / output unit 25 connects the resistance measurement control unit 2 and the probe control unit 13 that is the control target of the resistance measurement control unit 2.
  • the resistance measurement control unit 2 instructs the probe control unit 13 through the input / output unit 25 to contact the electrode pad of the wafer 8, electrical conduction, resistance measurement, and switching between them. Further, the resistance measurement control unit 2 inputs the measurement result via the input / output unit 25. The resistance value that is the measurement result is displayed.
  • the probe control unit 13 includes a resistance measurement unit 3, a fritting circuit 5, a characteristic evaluation unit 6, and a switching unit 7.
  • the resistance measuring unit 3 supplies the probe card 4 with a power source for measuring the resistance, and measures the current flowing through the resistor and the voltage between the terminals.
  • the resistance measuring unit 3 measures the resistance value of each resistor that makes up the Wheatstone bridge circuit. Two measuring circuits 3A, 3B, 3C, 3D are provided.
  • the fritting circuit 5 applies a voltage to the probe of the probe card 4 brought into contact with the electrode pad of the wafer 8 to cause a fritting phenomenon between the probe and the electrode pad, thereby causing electrical conduction. Circuit.
  • the characteristic evaluation unit 6 measures and evaluates the characteristics of the microstructure formed on the wafer 8. For example, vibration and pressure are applied to the wafer 8 and the response of the microstructure is measured to check whether it is within the designed standard range.
  • the switching unit 7 switches the connection between each probe of the probe card 4 and the resistance measurement unit 3, the fritting circuit 5 or the characteristic evaluation unit 6.
  • FIG. 3 is a diagram showing the device upper surface force of the three-axis acceleration sensor.
  • a plurality of electrode pads PD are arranged around the chip TP formed on the wafer substrate.
  • Metal wiring is provided to transmit an electrical signal to the electrode pad or to transmit an electrical signal to the electrode pad cover.
  • four weights AR forming a clover type are arranged.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a three-axis acceleration sensor.
  • the triaxial acceleration sensor shown in FIG. 4 is a piezoresistive type, and a piezoresistive element as a detection element is provided as a diffused resistor.
  • This piezoresistive acceleration sensor can be manufactured by an inexpensive IC process. Even if the resistance element, which is the detection element, is formed small, the sensitivity does not decrease, which is advantageous for downsizing and cost reduction.
  • the central weight AR is supported by four beam BMs.
  • the beam BM is formed so as to be orthogonal to each other in the X and Y axis directions, and has four piezoresistive elements per axis.
  • Four piezoresistive elements for detecting the Z-axis direction are arranged beside the piezoresistive elements for detecting the X-axis direction.
  • the top surface of the weight AR forms a crowbar shape and is connected to the beam BM at the center.
  • the beam BM When the weight body AR receives acceleration (inertial force), the beam BM is deformed, and the resistance value of the piezoresistive element formed on the surface of the beam BM changes.
  • the principle of operation of a piezoresistive three-axis acceleration sensor is to detect acceleration based on this change in resistance.
  • the sensor output is set to extract the output force of the Wheatstone bridge circuit incorporated independently for each of the three axes.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining the deformation of the weight body and the beam when the acceleration in each axial direction is received.
  • the piezoresistive element has a property (piezoresistive effect) that its resistance value changes due to applied strain. When the strain is tensile strain, the resistance value increases, and when the strain is compressive strain, the resistance value decreases.
  • Fig. 5 shows the X-axis direction piezoresistive elements Rxl to Rx4, the Y-axis direction detecting piezoresistive elements Ryl to Ry4, and the Z-axis direction detecting piezoresistive element when the pyramid body receives acceleration in each axial direction. An example of how Rzl to Rz4 are distorted is shown!
  • FIG. 6 is a configuration diagram of a Wheatstone bridge circuit provided for each axis.
  • Figure 6 (a) is a block diagram of the Wheatstone bridge circuit in the X (Y) axis.
  • the X-axis and ⁇ -axis output voltages are Vxout and Vyout, respectively.
  • Figure 6 (b) is a block diagram of the Wheatstone bridge circuit on the Z axis. Also, the Z-axis output voltage is Vzout.
  • the resistance value of the four piezoresistive elements on each axis changes due to the applied strain, and the output voltage of the Wheatstone bridge circuit formed for each axis changes.
  • the velocity component is detected for each axis as this output voltage.
  • the above-described circuit is configured, and metal wiring or the like as shown in FIG. 3 is connected to the 3-axis calorie velocity sensor so that the output voltage for each axis is detected from a predetermined electrode pad. Yes.
  • this three-axis acceleration sensor can also detect a direct current component of acceleration, it can also be used as an inclination angle sensor for detecting heavy acceleration, that is, an angular velocity sensor.
  • an acceleration sensor will be described as an example, but the present invention can be applied to any device including a Wheatstone bridge circuit.
  • the present invention provides each resistor constituting a Wheatstone bridge circuit of a sensor such as a pressure sensor or a temperature sensor It can be used to measure the resistance value.
  • the present invention can measure the resistance value of each resistor constituting a Wheatstone bridge circuit such as a thin film device, for example, a strain gauge, an inkjet printer nozzle, an EB window that allows an electron beam to pass through a film having a pressure difference. Can be used.
  • a Wheatstone bridge circuit such as a thin film device, for example, a strain gauge, an inkjet printer nozzle, an EB window that allows an electron beam to pass through a film having a pressure difference. Can be used.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating an output response with respect to the tilt angle of the three-axis acceleration sensor.
  • Figure 7 shows the results of rotating the sensor around the X, ⁇ , and ⁇ axes and measuring the bridge output of each of the X, ⁇ , and ⁇ axes with a digital voltmeter.
  • a low-voltage power supply + 5V is used as the sensor power supply. Note that each measurement point shown in Fig. 7 is plotted with the value obtained by arithmetically subtracting the zero point offset of each axis output.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining the relationship between gravitational acceleration (input) and sensor output.
  • Fig. 8 shows the relationship between gravitational acceleration (input) and sensor output, and evaluates the linearity of the input and output.
  • the gravitational acceleration is obtained by calculating the gravitational acceleration components related to the X, ⁇ , and ⁇ axes, respectively, as shown in Fig. 7.
  • the sensor output is the sensor output at the tilt angle.
  • Fig. 9 is a block diagram showing fritting of the Wheatstone bridge circuit WSB and resistance measurement by the four probe method.
  • the Wheatstone bridge circuit WSB consists of a loop of four resistors 8a, 8b, 8d, and 8c. Electrode pads 9a, 9b, 9d, and 9c are provided at the connection points of the resistors.
  • the electrode pad 9a is a power supply terminal
  • the electrode pad 9d is a ground terminal.
  • the electrode pad 9b and the electrode pad 9c are output terminals.
  • the fritting phenomenon is a phenomenon in which when the potential gradient applied to the oxide film formed on the surface of the metal reaches about 10 5 to 10 6 VZcm, the thickness of the oxide film and the non-uniformity of the metal composition cause the current to flow. The phenomenon that the oxide film is destroyed by flowing.
  • To electrically connect the probe and the electrode node using the fritting phenomenon first, two probes are brought into contact with each electrode pad. In FIG. 9, for example, the probes 41a and 42a are in contact with the electrode pad 9a. A voltage is applied from the fritting circuit 5 between the two probes. When the pressure is gradually increased, the oxide film between the pair of probes 41a and 42a is broken. Oxide film When broken, a current flows between the probes 41a and 42a, and electrical continuity is established between the probes 41a and 42a and the electrode pad 9a.
  • the probes 41b and 42b are electrically connected to the electrode pad 9b
  • the probes 41c and 42c are electrically connected to the electrode node 9c
  • the probes 41d and 42d are electrically connected to the electrode pad 9d.
  • the switching unit 7 switches the probe connection to the resistance measuring unit 3, and measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit.
  • FIG. 10 is a diagram showing a method of measuring current and potential difference by the four probe method.
  • the method of attaching a total of four electrodes, two at each end of the sample (resistor), and measuring the current and voltage at different terminals is called the four-terminal method.
  • the electrode pads 9a and 9b are divided into voltage terminals 9av and 9bv and current terminals 9ai and 9bi. That is, a terminal for connecting the voltage measurement circuit and the current measurement circuit is provided separately.
  • the four-terminal method is used when the resistance between the sample and the electrode, where the resistance of the sample is small, or the resistance of the lead wire cannot be ignored.
  • two probes that are electrically connected to the electrodes of the Wheatstone bridge circuit using fritting technology are used for current measurement and voltage measurement of the four-terminal method, respectively. Measure current and voltage accurately.
  • the resistors are connected in a loop, so that the resistance value of each resistor cannot be measured directly. Therefore, the resistance values of the resistors that make up the Wheatstone bridge circuit are measured by the four methods described below. The following four methods correspond to the measurement circuits 3A, 3B, 3C, and 3D in Fig. 2, respectively.
  • Fig. 11 shows the configuration of the measurement circuit that measures the resistance value of each resistor that constitutes the Wheatstone bridge circuit by Measurement Method 1.
  • the measurement circuit in Fig. 11 corresponds to measurement circuit 3A in Fig. 2.
  • the configuration of the Wheatstone bridge circuit and the configuration of the probe connected to each electrode pad are the same as in Fig. 9.
  • the electrode pads 9a, 9b, 9c, and 9d are described as terminals a, b, c, and d, respectively.
  • the resistance values of the resistors 8a, 8b, 8c, and 8d are ⁇ , j8, ⁇ , and ⁇ , respectively.
  • the measurement circuit 3 ⁇ shown in FIG. 11 is configured to switch the power source 31, the ammeter 32, and the voltmeter 33 with the switching switches 34, 35, 36, and 37. For this reason, each terminal can be connected to any two terminals of the Wheatstone bridge circuit, and the current and voltage between these terminals can be measured by the four-terminal method.
  • the states of changeover switches 34, 35, 36, and 37 in Fig. 11 indicate the case of measuring the current and voltage between terminals a and b.
  • the current lab and the voltage Vab between the terminals ab are measured, and the resistance value Rab between the terminals ab is obtained from the measured values.
  • measure the current and voltage between terminal bd, terminal ca, terminal dc, and terminal ad and calculate the resistance values Rbd, Rca, Rdc, and Rad between each terminal from the measured values. That is, the current and potential difference between the terminals at both ends of each of the resistors 8a, 8b, 8c, and 8d constituting the Wheatstone bridge circuit and the current and potential difference between the pair of terminals ad positioned at the diagonal of the Wheatstone bridge circuit are four times. Measure by the terminal method.
  • Expressions (6) to (11) are obtained from Expressions (1) to (5).
  • equations (12) and (13) are obtained, respectively.
  • Expression (14) is obtained from Expression (13) -Expression (12).
  • Equation (15) is obtained by dividing both sides of Equation (14) by ⁇ + j8 from ⁇ + ⁇ ⁇ 0.
  • Equation (16) is derived.
  • Expression (21) is obtained from Expression (20), and Expression (22) is obtained from Expression (18) and Expression (21).
  • Expression (25) is obtained from Expression (23) -Expression (24).
  • equations (26) and (27) are obtained by dividing both sides of equation (25) by ⁇ + ⁇ .
  • each resistance value can be similarly obtained by using the current and potential difference between the terminals be instead of the current and potential difference between the pair of terminals ad positioned at the diagonal of the Wheatstone bridge circuit.
  • Fig. 12 shows the configuration of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor that makes up the Wheatstone bridge circuit using Measurement Method 2.
  • the measurement circuit in FIG. 12 corresponds to measurement circuit 3B in FIG.
  • terminal b is set to potential Vb, and terminals a, c, and d are short-circuited to potential Va (Vb ⁇ Va). Then, measure the current and voltage between terminals b and a by the four-terminal method, and determine the resistance value Rab from these values. Since terminals a, c, and d are short-circuited, no current flows through resistors 8c and 8d (the potential difference between terminals ac and cd is 0). Since the resistance value Rab between the terminals ab is a parallel circuit of the resistors 8a and 8b, Equation (32) is established.
  • Terminal d is set to potential Vd
  • terminals ab and c are short-circuited to potential Vb (Vd ⁇ Vb).
  • Expression (33) is established.
  • Terminal c is set to potential Vc, and terminals a b and d are short-circuited to potential Va (Vc ⁇ Va). Measure resistance Red between terminal c and terminal d. At this time, Expression (34) is established.
  • Terminal a is set to potential Va
  • terminals b, c, and d are short-circuited to potential Vc (Va ⁇ Vc). Measure the resistance value Rac between terminal a and terminal c. At this time, Expression (35) is established.
  • terminals a and b are short-circuited
  • terminals d and c are short-circuited
  • resistance Rab / dc between terminal ab and terminal dc is determined by the four-terminal method. taking measurement.
  • the terminal ab and the terminal dc are short-circuited and have a resistance value ⁇ , so the resistance between the terminal ab and the terminal dc is a parallel resistance of the resistance 8b and the resistance 8c, and Equation (36) is satisfied. .
  • Expression (38) is obtained from Expression (32) -Expression (33).
  • Expression (39) is obtained from Expression (37) -Expression (38).
  • Equation (41) is obtained from Equation (34), Equation (35), and Equation (37).
  • Expression (42) is obtained from Expression (32), Expression (35), and Expression (36).
  • Equation (43) is obtained from Equation (33), Equation (34), and Equation (36).
  • FIG. 13 shows the configuration of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit by measurement method 3.
  • the measurement circuit in FIG. 13 corresponds to measurement circuit 3C in FIG.
  • the terminals a and b are biased to the same potential Va by independent power sources so that the terminals a and b are not short-circuited.
  • Terminal d is biased to the same potential Vd by independent power sources.
  • the current does not flow because the terminals a and b and the terminal d have the same potential.
  • the current lb between terminals b and d flows through the path of power supply 31b, terminal b, resistor 8b, terminal d, ammeter 32d, power supply 31d, ground 38, and power supply 3 lb.
  • the current Ic between terminals a and c flows through the path of power source 31a, terminal a, resistor 8c, terminal ammeter 32c, power source 31c, ground 38, and power source 3la.
  • the potential difference measurement circuit is omitted.
  • terminals b and d are biased to the same potential Vb by independent power sources.
  • Terminals a and c are biased to the same potential Vc by independent power sources.
  • the current does not flow because the terminals b and d and the terminals a and c have the same potential.
  • FIG. 14A to FIG. 15B show the configuration of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit by the measurement method 4.
  • the measurement circuit of FIGS. 14A to 15B corresponds to the measurement circuit 3D of FIG. First, the case where there are two Wheatstone bridge circuits will be described. The same method can be applied in principle when there are three or more Wheatstone bridge circuits and the power supply and ground are connected in common.
  • terminal a (electrode pads 9 la and 92a) and terminal d (electrode pads 91d and 92d) are a common power source and ground, respectively.
  • Terminals a and d are biased to independent power sources 3 la and 31 (1 potential V & and Vd, respectively.
  • Terminal bl (electrode pad 91b) and terminal b2 (electrode pad 92b) are biased to Vd by power supplies 31b and 31e independent of the power supply for terminal d, respectively.
  • Terminal c l (electrode pad 91c) and terminal c2 (electrode pad 92c) are biased to Va by power supplies 31c and 31f independent of the power supply for terminal a, respectively.
  • the current between the terminals bl and a is measured by the four-terminal method, and the value is measured as Ial, and the current between the terminals d and cl is measured as Idl. Also, measure the current between terminals b2 and a, and measure the current between Ia2 and terminals d and c2, and set the value as Id2. Then, the resistance values a 1, ⁇ 1, ⁇ 2, and ⁇ 2 of the resistors 81a, 81d, 82a, and 82d can be expressed as equations (48) to (51).
  • Fig. 14 ⁇ [shown here], and this child b l is Va [this], cl is Vd [this is biased, b2 is biased to Va, and c2 is biased to Vd.
  • the current between terminals d and bl is measured and the value is measured as Ib1, the current between terminals d and b2 is measured as Ib2.
  • measure the current between terminals c 1 and a, and set the value to Ic 1 measure the current between terminals c2 and a, and set the value to Ic2.
  • the resistance values j81, ⁇ 1, 132, and ⁇ 2 of the resistors 81b, 81c, 82b, and 82c can be expressed as equations (52) to (55).
  • one output terminal is set to the same potential as the terminal a of the Wheatstone bridge circuit, and the other output terminal is the terminal of the Wheatstone bridge circuit.
  • the current and potential difference between the terminal a and the output terminal set to the same potential as the terminal d and the current and potential difference between the output terminal set to the same potential as the terminal a and the terminal d are measured by the four-terminal method.
  • resistors 81a, 8 lb, 81c, 81d, 82a, 82b, 82c, 82d al, j8 1, ⁇ 1, ⁇ 1, ⁇ 2, 132, ⁇ 2, ⁇ 2 can be obtained.
  • 15A and 15B show the configuration of a measurement circuit that measures the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit by measurement method 4 when there are three Wheatstone bridge circuits.
  • the respective resistances are obtained as follows.
  • Terminals a and d are biased to independent power supplies 3 la, 31 (1 and Vd, respectively.
  • Terminals bl, b2, and b3 are respectively powered by power supplies 31b, 31e, and 31g that are independent of the power supply for terminal d.
  • Bias to Vd Terminals cl, c2, and c3 are biased to Va by power supplies 31c, 31f, and 31h independent of the power supply for terminal a, respectively, where Vd> Va.
  • the current between terminals bl and a is measured, the value is Ial, the current between terminals d and cl is measured, and the value is Idl. Also, measure the current between terminals b2 and a, and measure the current between Ia2 and terminals d and c2, and let that value be W2. Furthermore, the current between terminals b3 and a is measured, the value is Ia3, the current between terminals d and c3 is measured, and the value is Id3.
  • the resistance values ⁇ 1, ⁇ 1, ⁇ 2, ⁇ 2, ⁇ 3, and ⁇ 3 of the resistors 81a, 81d, 82a, 82d, 83a, and 83d are expressed as in equations (56) to (61). be able to.
  • terminals a and d are biased to Va and Vd by independent power sources 31a and 31d, respectively.
  • Terminals b1, b2, and b3 are biased to Va by power supplies 31b, 31e, and 31g independent of the power supply for terminal a.
  • Terminals c l, c2, and c 3 are biased to Vd by power supplies 31c, 31f, and 31h independent of the power supply for terminal d, respectively.
  • the current between terminals cl and a is measured, the value is measured as Icl, and the current between terminals d and bl is measured as Ibl.
  • the current between terminals c2 and a is measured, and the value is Ic2.
  • the current between terminals d and b2 is measured, and the value is Ib2.
  • measure the current between terminals c3 and a determine the value as Ic3, and determine the current between terminals d and b3 as Ib3.
  • resistors 81b, 81c, 82b, 82c, 81b, 81c j8 1, ⁇ 1, j8 2, ⁇ 2, j8 3, ⁇ 3 ⁇ are expressed as in equations (62) to (67). be able to.
  • one output terminal is set to the same potential as the terminal a of the Wheatstone bridge circuit, and the other output terminal is the terminal of the Wheatstone bridge circuit.
  • the current and potential difference between the output terminal and terminal a, which are set to the same potential as terminal d, and the current and potential difference between the output terminal and terminal d, which are set to the same potential as terminal a, are measured by the four-terminal method. .
  • the resistances 8 la, 81b, 81c, 81d, 82a, 82b, 82c, 82d, 83a, 83b, Resistance values a1, ⁇ 1, ⁇ 1, ⁇ 1, ⁇ 2, j82, ⁇ 2, ⁇ 2, a3, j83, ⁇ 3, and ⁇ 3 of 83c and 83d can be obtained.
  • the resistance value of each resistor that constitutes the Wheatstone bridge circuit can be measured in the case of the above-described Stone Bridge circuit force.
  • the resistance value between the terminals is accurately measured by a four-terminal method using two probes for each electrode pad electrically conducted by fritting. And the resistance value of each resistance which comprises a Wheatstone bridge circuit can be calculated
  • the control unit 21 of the resistance measurement control unit 2 shown in FIG. 2 displays the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit measured by the four measurement methods described above on the display unit 26.
  • FIG. 16 shows an example of displaying the measured resistance value on the display unit 26.
  • FIG. 16 (a) is an example of displaying a list of resistance values of the resistors constituting the Wheatstone bridge circuit.
  • the lines of each Wheatstone bridge circuit are switched, and the resistance values of the four resistors of the Wheatstone bridge circuit are displayed on one line.
  • it may be divided for each microstructure. For example, in the case of a 3-axis accelerometer, there are three Wheatstone bridge circuits in one microstructure, so each line is divided into three lines.
  • FIG. 16 (b) shows an example in which the resistance values of the resistors constituting the Wheatstone bridge circuit are output to the display device as a two-dimensional display for each microstructure.
  • each 12-axis acceleration sensor displays 12 resistance values (hereinafter referred to as a resistance value group) surrounded by a 4 row x 3 column thick line.
  • the resistance values of the four resistors of the Wheatstone bridge circuit in the X-axis direction in the first row the resistance values of the four resistors of the Wheatstone bridge circuit in the Y-axis direction in the first row, and the Z-axis direction in the third row
  • the resistance values of the four resistors of the Wheatstone bridge circuit are displayed.
  • the resistance values Q ;, ⁇ , ⁇ , and ⁇ of the four resistors of each Wheatstone bridge circuit are displayed in the first, second, third, and fourth lines, respectively. If a total of m x n three-axis accelerometers (m in the vertical direction and n in the horizontal direction) exist on the wafer, match the m x n resistance value groups with the coordinates on the wafer. Display dimensions.
  • FIG. 17 is a flowchart showing an example of the operation of the resistance measurement system 1.
  • the operation of the resistance measurement control unit 2 is performed by the control unit 21 in cooperation with the main storage unit 22, the external storage unit 23, the input unit 24, the input / output unit 25, and the display unit 26.
  • the control unit 21 waits for the wafer 8 to be placed on the main chuck 14 and the start of measurement to be input (step Sl).
  • the control unit 21 contacts the prober control unit 13 with the probe via the input / output unit 25, and contacts the electrode pad of 8. Command (step S2).
  • the control unit 21 instructs the prober control unit 13 to electrically connect the probe and the electrode pad by the fritting circuit 5 (step S3).
  • a force for electrically connecting the electrode pad to the probe using the fritting phenomenon may be used as a method for electrically connecting the electrode pad to a method other than the fritting technique.
  • a method can be used in which ultrasonic waves are conducted to the probe to partially break the oxide film on the surface of the electrode pad to electrically connect the electrode pad and the probe.
  • the control unit 21 inputs selection of a measurement method (step S4).
  • the measurement method may be stored in advance in the external storage unit 23 or may be input from the input unit 24 each time measurement is performed.
  • the control unit 21 selects a measurement circuit according to the input measurement method (step S5).
  • the control unit 21 selects the measurement circuit A (measurement circuit 3A in Fig. 2) and connects it to the probe card 4 to switch 7 To Then, the control unit 21 instructs the resistance measurement unit 3 to measure the resistance value of each resistance of the Wheatstone bridge circuit formed on the wafer 8 by the measurement circuit A (step S6). Then, the control unit 21 inputs the resistance (or current and voltage) measured from the resistance measurement unit 3 via the input / output unit 25, and obtains the resistance value by the measurement method 1 described above (step S7).
  • the control unit 21 selects the measurement circuit B (measurement circuit 3B in FIG. 2) and connects to the probe card 4 Command 7 Then, the control unit 21 instructs the resistance measurement unit 3 to measure the resistance value of each resistance of the Wheatstone bridge circuit formed on the wafer 8 by the measurement circuit B (step S8). Then, the control unit 21 inputs the resistance (or current and voltage) measured from the resistance measurement unit 3 via the input / output unit 25, and obtains the resistance value by the measurement method 2 described above (step S9).
  • step S5; C the control unit 21 controls the measurement circuit C (Fig. 2).
  • the measurement circuit 3C) is selected and the switching unit 7 is instructed to connect to the probe card 4.
  • the control unit 21 instructs the resistance measurement unit 3 to measure the resistance value of each resistance of the Wheatstone bridge circuit formed on the wafer 8 by the measurement circuit C (step S10).
  • the control unit 21 inputs the resistance (or current and voltage) measured from the resistance measurement unit 3 via the input / output unit 25, and obtains the resistance value by the measurement method 3 described above (step S11).
  • the control unit 21 selects the measurement circuit D (measurement circuit 3D in FIG. 2) and connects it to the probe card 4 Command 7 Then, the control unit 21 instructs the resistance measurement unit 3 to measure the resistance value of each resistance of the Wheatstone bridge circuit formed on the wafer 8 by the measurement circuit D (step S12). Then, the control unit 21 inputs the resistance (or current and voltage) measured from the resistance measurement unit 3 via the input / output unit 25, and obtains the resistance value by the measurement method 4 described above (step S13).
  • the control unit 21 stores the obtained resistance value of each resistance in the external storage unit 23. Then, the control unit 21 displays the stored resistance value on the display unit 26 as shown in FIG. 16, for example (step S14).
  • the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit is measured based on the value accurately measured by the fritting technique and the four-terminal method. be able to. Since the measurement result is displayed on the display unit, it can be used for calibration of a sensor which is a microstructure formed on the wafer 8.
  • FIG. 18 is a configuration diagram showing an example in which noise removal is combined with the resistance measurement system.
  • the resistance measurement system 50 in FIG. 18 includes a microphone 51, a noise removal control unit 52, a speaker control unit 53, and a speaker 54. Further, a signal adjustment unit 55 and a microphone 56 may be further provided.
  • the input / output interface 28 is an interface for starting and stopping measurement control and outputting measurement results to the outside. In this example, resistance is measured by the four probe method using the probes 41a, 41b, 42a, and 42b.
  • FIG. 19 is a diagram schematically showing how noise is canceled out by the sound wave fantinoise that cancels out noise fnoise.
  • the noise removal control unit 52 calculates the frequency, phase, and amplitude of the sound wave output from the spin force 54 so that the noise detected by the microphone 51 is canceled when it reaches the wafer 8. Then, the noise removal control unit 52 outputs the frequency, phase, and amplitude, which are the calculation results, to the speaker control unit 53.
  • the force control unit 53 drives the speaker 54 so that the sound wave having the frequency, phase, and amplitude input from the noise removal control unit 52 is output from the speaker 54.
  • the noise may be detected by the microphone 56 in the vicinity of the wafer 8, and feedback control may be performed by the signal adjustment unit 55 so that the noise becomes zero.
  • the noise removal control unit 52 can be used when measuring the characteristics of the microstructure TP formed on the wafer 8 that simply removes noise.
  • the noise removal control unit 52 causes the sound force control unit 53 to output sound waves at a frequency for evaluation, and vibrates the weight body AR of the microstructure TP.
  • the characteristic evaluation unit 6 evaluates the change in output.
  • the probe card 4 is connected to the characteristic evaluation unit 6 by the switching unit 7. When the change in resistance value due to noise is evaluated, it may be evaluated by comparing the resistance value results with the probe card 4 connected to the resistance measurement unit 3.
  • the resistance measurement control unit 2 of the resistance measurement system 1 can be realized by using a normal computer system, not a dedicated system.
  • a computer program for executing the above operation is stored and distributed on a computer-readable recording medium (flexible disk, CD-ROM, DVD-ROM, etc.), and the computer program is distributed to the computer.
  • the resistance measurement control unit 2 that executes the above processing is configured. You may make it.
  • the resistance measurement control unit 2 in the present embodiment may be configured by storing the computer program in a storage device included in a server device on a communication network such as the Internet and downloading the normal computer system. Good.
  • the resistance value of each resistor constituting the Wheatstone bridge circuit can be measured without adding electrode pads without cutting the circuit wiring. Therefore, it is effective in calibrating a sensor in which a Wheatstone bridge circuit force is also formed.
  • resistance can be measured with high accuracy with low needle pressure and low contact resistance. Furthermore, resistance can be measured with higher accuracy by using the four probe method.

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Abstract

 ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定できるシステムを提供する。  本システムは、ホイートストンブリッジ回路の4つの端子電極それぞれに2本ずつ接触させられるためのプローブをプローブカード(4)に備える。また、本システムは、ホイートストンブリッジ回路の端子電極と、プローブをフリッティング現象を利用して電気的に導通させるフリッティング用回路(5)を備える。さらに、本システムは、4つの端子電極のそれぞれと電気的に導通する2本のプローブを用いて、四端子法によってホイートストンブリッジ回路の端子電極間の電流及び電位差を測定する抵抗測定部(3)を備える。また、本システムは、抵抗測定部(3)によって測定された端子電極間の電流及び電位差を用いて、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を演算する抵抗測定制御部(2)を備える。

Description

明 細 書
ホイートストンブリッジ回路の抵抗測定システム及び抵抗測定方法 技術分野
[0001] 本発明は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する抵抗 測定システム及び抵抗測定方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、半導体微細加工技術等を用いて、機械 ·電子,光 ·化学等の多様な機能を集 積化したデバイスである MEMS (Micro Electro Mechanical System)が注目されてい る。 MEMS技術としては、例えば自動車 ·医療用の各種センサとして、マイクロセン サである加速度センサや角速度センサ等がある。加速度センサや角速度センサ等に は、ピエゾ抵抗を用いたホイートストンブリッジ回路が利用されて 、る。
[0003] 加速度センサ等を用いて精度よく加速度等を検出するには、予めセンサの特性を 測定して、較正することが必要である。そのためには、センサのホイートストンブリッジ 回路を構成して 、る各抵抗の抵抗値を知っておくことが望まし 、。
[0004] 通常は、 MEMSデバイス(センサ等)に形成されて!、るピエゾ抵抗値の測定は、 M EMSデバイスを直接測定せず、 TEG (Test Element Group :特性評価用素子)等を 用いて、間接的にその抵抗値を測定している。そして、その測定値と実際の MEMS デバイスのパターンサイズ力 MEMSデバイスに形成されている抵抗値を算出して いる。そのため、通常の測定は、センサに形成された各抵抗の抵抗値を直接計測し て!、るものではなぐセンサを製造する工程のプロセスモニタとしての色合 、が強 、。
[0005] MEMSデバイス上のピエゾ抵抗はカンチレバー上に形成されている。このため、こ のピエゾ抵抗を直接測定しょうとするとプローブによる針圧によってカンチレバーが 歪み、歪みがない状態での抵抗値を測定できない。また、針圧を低減してその影響 をなくそうとすると、プローブと電極パッド間の接触抵抗が大きくなり、測定対象の抵 抗値を精度よく測定できない。また、抵抗がブリッジ回路になっている場合、抵抗を個 別に測定できるようにするには回路配線を切断する必要があり、センサの電極パッド が増えてしまう。 [0006] 振動を伴う装置上においても測定精度を向上することのできる半導体加速度セン サの静特性測定方法として、特許文献 1に記載された方法がある。特許文献 1に記 載された方法においては、まず、半導体加速度センサのブリッジ回路を構成する一 つのピエゾ抵抗の両端の電位差の変動を観測する。そして、この電位差の変動が設 定値以下になったときに振動が収まったものとして、半導体加速度センサの静特性を 測定する。従って、半導体加速度センサに継続して一定の歪みがある場合は、歪み のある状態での抵抗値しか測定できない。また、特許文献 1に記載された方法は、半 導体加速度センサのブリッジ回路を構成している各抵抗の抵抗値を個別に測定でき るものではない。
特許文献 1:特開平 10— 62449号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであって、ホイートスト ンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定できるシステム及び方法を提供す ることを目的とする。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明に係る抵抗測定システムは、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の 抵抗値を測定するホイートストンブリッジ回路の抵抗測定システムであって、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極それぞれに 2本ずつ接触させられ るためのプローブと、
前記ホイートストンブリッジ回路の端子電極と前記プローブを電気的に導通させる 導通部と、
前記 4つの端子電極のそれぞれと電気的に導通する 2本のプローブを用いて、四 端子法によって前記ホイートストンブリッジ回路の端子電極間の電流及び電位差を測 定する測定部と、
を有する。
図面の簡単な説明 [図 1]本発明の実施の形態に係る抵抗測定システムの概略構成図である。
[図 2]図 1の抵抗測定システムの抵抗測定制御部とプローバ部の構成を示すブロック 図である。
[図 3]3軸加速度センサのデバイス上面から見た図である。
[図 4] 3軸加速度センサの概略図である。
[図 5]各軸方向の加速度を受けた場合の重錐体とビームの変形を説明する概念図で ある。
[図 6]各軸に対して設けられるホイートストンブリッジ回路の構成図である。
[図 7]3軸加速度センサの傾斜角に対する出力応答を説明する図である。
[図 8]重力加速度 (入力)とセンサ出力との関係を説明する図である。
[図 9]ホイートストンブリッジ回路のフリツティング及び四端子法による抵抗測定を表す 構成図である。
[図 10]四端子法によって電流と電位差を測定する方法を表す構成図である。
[図 11]ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 1によって測 定する測定回路の構成図である。
[図 12]ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 2によって測 定する測定回路の構成図である。
[図 13]ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 3によって測 定する測定回路の構成図である。
[図 14A]電源と接地が共通する 2個のホイートストンブリッジ回路において各抵抗の抵 抗値を測定方法 4によって測定する測定回路の構成図である。
[図 14B]電源と接地が共通する 2個のホイートストンブリッジ回路において各抵抗の抵 抗値を測定方法 4によって測定する測定回路の構成図である。
[図 15A]電源と接地が共通する 3個のホイートストンブリッジ回路において各抵抗の抵 抗値を測定方法 4によって測定する測定回路の構成図である。
[図 15B]電源と接地が共通する 3個のホイートストンブリッジ回路において各抵抗の抵 抗値を測定方法 4によって測定する測定回路の構成図である。
[図 16]測定した抵抗値を表示する例を示す図である。 [図 17]本発明に係る抵抗測定システムの動作の一例を示すフローチャートである。
[図 18]本発明の抵抗測定システムにノイズ除去を組み合わせた例を示す構成図であ る。
[図 19]騒音源カゝら発せられるノイズ音波と全く逆位相のアンチノイズ音波の合成を説 明する図である。
符号の説明
1 抵抗測定システム
2 抵抗測定制御部
3 抵抗測定部
4 プローブカード
5 フリツティング用回路
6 特性評価部
7 切替部
8 ウエノヽ
8a、 8b、 8c、 8d 抵抗
9a、 9b、 9c、 9d、
9ai、 9av、 9bi、 9bv 電極ノッド
13 プローブ制御部
15 プローバ部
20 内部バス
21 制御部
22 主記憶部
23 外部記憶部
24 入力部
25 入出力部
26 表示部
31、 31a, 31b、 31c、 31d、
31e、 31f、 31g、 31h 電源 32a, 32b、 32c、 32d
32e、 32f 電流計
33 電圧計
41a、 41b、 41c、 41d プローブ
42aゝ 42b、 42c、 42d プローブ
50 抵抗測定システム
51 マイク
52 ノイズ除去制御部
53 スピーカ制御部
54 スピーカ
55 信号調整部
56 マイク
81aゝ 81b、 81c、 81d 抵抗
82aゝ 82b、 82c、 82d 抵抗
83aゝ 83b、 83c、 83d 抵抗
91aゝ 91b、 91c、 91d 電極パッド
92a, 92b、 92c、 92d 電極パッド
93aゝ 93b、 93c、 93d 電極パッド
AR 重錘体 (可動部)
TP チップ (微小構造体)
WSB ホイートストンブリッジ回路
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下、この発明の一実施形態に係る抵抗測定システムについて図面を参照しなが ら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明 は繰り返さない。
[0012] 図 1は、本実施形態に係る抵抗測定システムの概略構成図である。図 1において、 抵抗測定システム 1は、ローダ部 12と、プローバ部 15と、抵抗測定制御部 2とを備え る。ここで、ローダ部 12は、テスト対象物、例えばウェハを搬送する。また、プローバ 部 15は、ウェハ 8の電気的特性検査を行う。また、抵抗測定制御部 2は、プローバ部 15を介してウェハ 8に形成された抵抗値を測定する。
[0013] ローダ部 12は、例えば 25枚のウェハ 8が収納されたカセットを載置する載置部(図 示せず)と、この載置部のカセットからウェハ 8を一枚ずつ搬送するウェハ搬送機構と を備えている。
[0014] ウェハ搬送機構には、直交する三軸 (X軸、 Y軸、 Z軸)の移動機構である X— Y— Zテーブル 12A、 12B、 12Cを介して三軸方向に移動する機構と、メインチャック 14 を介して Z軸の回りにウェハ 8を回転させる機構が設けられている。具体的には、ゥェ ハ搬送機構は、 Y方向に移動する Yテーブル 12Aを介してメインチャック 14を Y軸方 向に移動させる。また、ウェハ搬送機構は、 Yテーブル 12A上を X方向に移動する X テーブル 12Bを介してメインチャック 14を X軸方向に移動させる。さらに、ウェハ搬送 機構は、 Xテーブル 12Bの中心と軸芯を一致させて配置された Z方向に昇降する Zテ 一ブル 12Cを介してメインチャック 14を Z軸方向へ移動させる。また、ウェハ搬送機 構は、図示しない Z軸回りの回転駆動機構を介して、メインチャック 14を、所定の範 囲で正逆方向に回転させる。
[0015] プローバ部 15は、プローブカード 4と、ァライメント機構(図示せず)と、プローブ制 御部 13とを備える。そして、プローバ部 15は、フリツティング現象を利用して、プロ一 ブカード 4のプローブとウェハ 8の電極パッドを電気的に接触させてウェハ 8の抵抗測 定を行う。なお、プローブカード 4は、ウェハ 8上に例えば銅、銅合金、アルミニウムな どの導電性金属によって形成された電極パッドとプローブとを電気的に導通させる。 また、ァライメント機構は、プローブカード 4のプローブとウェハ 8との位置合わせを行 う。また、プローブ制御部 13はプローブカード 4を制御する。
[0016] 図 2は、図 1の抵抗測定システム 1の抵抗測定制御部 2とプローバ部 15の構成を示 すブロック図である。抵抗測定制御部 2とプローバ部 15とによって、抵抗測定回路が 構成される。
[0017] 抵抗測定制御部 2は、図 2に示すように、制御部 21、主記憶部 22、外部記憶部 23 、入力部 24、入出力部 25及び表示部 26を備える。主記憶部 22、外部記憶部 23、 入力部 24、入出力部 25及び表示部 26はいずれも内部バス 20を介して制御部 21に 接続されている。
[0018] 制御部 21は CPU (Central Processing Unit)等から構成され、外部記憶部 23に記 憶されているプログラムに従って、ウェハ 8に形成された各抵抗の抵抗値を測定する ための処理を実行する。
[0019] 主記憶部 22は RAM (Random-Access Memory)等から構成され、外部記憶部 23 に記憶されているプログラムをロードし、制御部 21の作業領域として用いられる。
[0020] 外部記憶部 23は、 ROM (Read Only Memory)、フラッシュメモリ、ハードディスク、 DVD -RAM (Digital Versatile Disc Random-Access Memory) DVD— RW (Digit al Versatile Disc Rewritable)等の不揮発性メモリから構成される。そして、外部記憶 部 23は、前記の処理を制御部 21に行わせるためのプログラム等を予め記憶する。外 部記憶部 23は、制御部 21の指示に従って、記憶するプログラム等を制御部 21に供 給し、制御部 21から供給されたデータを記憶する。
[0021] 入力部 24はキーボード及びマウスなどのポインティングデバイス等と、キーボード及 びポインティングデバイス等を内部バスに接続するインターフェース装置力 構成さ れている。抵抗測定開始や測定方法の選択などの制御信号は、入力部 24から入力 され、制御部 21に供給される。
[0022] 入出力部 25は、シリアルインタフェース又は LAN (Local Area Network)インタフエ ースカゝら構成されている。そして、入出力部 25は、抵抗測定制御部 2と抵抗測定制 御部 2の制御対象であるプローブ制御部 13とを接続する。抵抗測定制御部 2は、入 出力部 25を介して、プローブ制御部 13にウェハ 8の電極パッドとの接触、電気的導 通、抵抗測定、及びそれらの切替などを指令する。また、抵抗測定制御部 2は、入出 力部 25を介して、測定した結果を入力する。 ら構成され、測定した結果である抵抗値などを表示する。
[0024] プローブ制御部 13は、抵抗測定部 3と、フリツティング用回路 5と、特性評価部 6及 び切替部 7を備える。抵抗測定部 3は、プローブカード 4に抵抗を測定するための電 源を供給し、抵抗を流れる電流と端子間の電圧を測定する。抵抗測定部 3はホイート ストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する 4つの方法に対応して、 4 つの測定回路 3A、 3B、 3C、 3Dを備える。
[0025] フリツティング用回路 5は、ウェハ 8の電極パッドに接触させたプローブカード 4のプ ローブに電圧を印加し、プローブと電極パッドの間にフリツティング現象を起こして電 気的に導通させる回路である。
[0026] 特性評価部 6は、ウェハ 8に形成された微小構造体の特性を計測して評価する。例 えば、ウェハ 8に振動や圧力を加えて、微小構造体の応答を測定し、設計した基準 の範囲に収まっているかどうかを検査する。
[0027] 切替部 7は、プローブカード 4の各プローブと抵抗測定部 3、フリツティング用回路 5 又は特性評価部 6との接続を切り替える。また、抵抗測定部 3の 4つの測定回路 3A、
3B、 3C、 3Dとプローブカード 4との接続を切り替える。
[0028] 本実施形態に係る抵抗測定システムの抵抗測定について説明する前に、まずテス ト対象物である微小構造体の 3軸加速度センサについて説明する。
[0029] 図 3は、 3軸加速度センサのデバイス上面力も見た図である。図 3に示されるように、 ウェハ基盤に形成されるチップ TPには、複数の電極パッド PDがその周辺に配置さ れている。そして、電気信号を電極パッドに対して伝達、あるいは電気信号を電極パ ッドカも伝達するために、金属配線が設けられている。そして、中央部には、クローバ 型を形成する 4つの重錘体 ARが配置されて 、る。
[0030] 図 4は、 3軸加速度センサの概略図である。図 4に示す 3軸加速度センサはピエゾ 抵抗型であり、検出素子であるピエゾ抵抗素子が拡散抵抗として設けられている。こ のピエゾ抵抗型の加速度センサは、安価な ICプロセスにより製造できる。検出素子で ある抵抗素子を小さく形成しても感度低下がないため、小型化 ·低コスト化に有利で ある。
[0031] 次に 3軸加速度センサの具体的な構成を説明する。中央の重錘体 ARは、 4本のビ ーム BMで支持された構造となっている。ビーム BMは X、 Yの 2軸方向で互いに直交 するように形成されており、 1軸当たりに 4つのピエゾ抵抗素子を備えている。 Z軸方 向検出用の 4つのピエゾ抵抗素子は、 X軸方向検出用ピエゾ抵抗素子の横に配置さ れている。重錘体 ARの上面形状はクローバ型を形成し、中央部でビーム BMと連結 されている。このクローバ型構造を採用することにより、重錘体 ARを大きくすると同時 にビーム長を長くすることができる。このため、小型であっても高感度な加速度センサ を実現することが可能である。
[0032] 重錘体 ARが加速度 (慣性力)を受けると、ビーム BMが変形し、その表面に形成さ れたピエゾ抵抗素子の抵抗値が変化する。この抵抗値の変化により加速度を検出す るのが、ピエゾ抵抗型の 3軸加速度センサの動作原理である。そしてこのセンサ出力 は、 3軸それぞれに独立に組み込まれたホイートストンブリッジ回路の出力力 取り出 す構成に設定されている。
[0033] 図 5は、各軸方向の加速度を受けた場合の重錘体とビームの変形を説明する概念 図である。図 5に示されるように、ピエゾ抵抗素子は、加えられた歪みによってその抵 抗値が変化する性質 (ピエゾ抵抗効果)を有している。そして、この歪みが、引っ張り 歪みの場合は抵抗値が増加し、圧縮歪みの場合は抵抗値が減少する。図 5には、重 錐体が各軸方向に加速度を受けたときの X軸方向用ピエゾ抵抗素子 Rxl〜Rx4、 Y 軸方向検出用ピエゾ抵抗素子 Ryl〜Ry4及び Z軸方向検出用ピエゾ抵抗素子 Rzl 〜Rz4が歪む様子の一例が示されて!/、る。
[0034] 図 6は、各軸に対して設けられるホイートストンブリッジ回路の構成図である。図 6 (a )は、 X(Y)軸におけるホイートストンブリッジ回路の構成図である。ここで、 X軸及び Υ 軸の出力電圧をそれぞれ Vxout及び Vyoutとしている。図 6 (b)は、 Z軸におけるホイ 一トストンブリッジ回路の構成図である。また、 Z軸の出力電圧を Vzoutとしている。
[0035] 上述したように、加えられた歪みによって各軸の 4つのピエゾ抵抗素子の抵抗値は 変化し、各軸毎に形成されたホイートストンブリッジ回路の出力電圧が変化する。カロ 速度成分は、この出力電圧として各軸毎に検出される。なお、上記の回路が構成さ れ、また、所定の電極パッドから各軸に対する出力電圧が検出されるように、 3軸カロ 速度センサには図 3で示されるような金属配線等が連結されている。
[0036] また、この 3軸加速度センサは、加速度の直流成分も検出することができるため、重 力加速度を検出する傾斜角センサ、すなわち角速度センサとしても用いることが可能 である。本実施形態では、加速度センサを例に説明するが、本発明はホイートストン ブリッジ回路を備えるあらゆるデバイスに応用することができる。例えば、本発明は、 圧力センサ、温度センサ等のセンサのホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗 の抵抗値の測定に用いることができる。また、本発明は、薄膜式のデバイス、例えば、 歪みゲージ、インクジェットプリンタのノズル、圧力差のある膜を通して電子ビームを 通過させる EB窓などのホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値の測定 に用いることができる。
[0037] 図 7は、 3軸加速度センサの傾斜角に対する出力応答を説明する図である。図 7は 、センサを X、 Υ、 Ζ軸周りに回転させ、 X、 Υ、 Ζ軸それぞれのブリッジ出力をデジタル ボルトメータで測定した結果を示したものである。センサの電源としては低電圧電源 + 5Vを使用している。なお、図 7に示される各測定点は、各軸出力のゼロ点オフセッ トを算術的に減じた値がプロットされて 、る。
[0038] 図 8は、重力加速度 (入力)とセンサ出力との関係を説明する図である。すなわち、 図 8は、重力加速度 (入力)とセンサ出力との関係を求めて、その入出力の線形性を 評価したものである。図 8に示されるように、重力加速度とセンサ出力との関係はほぼ 線形である。なお、重力加速度は、図 7に示された傾斜角力も X、 Υ、 Ζ軸にそれぞれ 関わっている重力加速度成分を計算して求める。また、センサ出力はその傾斜角の ときのセンサ出力である。
[0039] 次に、本実施形態におけるプローブ方法について説明する。図 9は、ホイートストン ブリッジ回路 WSBのフリツティング及び四端子法による抵抗測定を表す構成図であ る。ホイートストンブリッジ回路 WSBは、 4つの抵抗 8a、 8b、 8d、 8cのループから構 成されている。抵抗と抵抗の各接続点に電極パッド 9a、 9b、 9d、 9cが設けられてい る。例えば、電極パッド 9aが電源端子であり、電極パッド 9dが接地端子である。そし て、電極パッド 9bと電極パッド 9cが出力端子である。
[0040] フリツティング現象とは、金属の表面に形成された酸化膜に印加される電位傾度が 105〜106VZcm程度になると酸ィ匕膜の厚さや金属の組成の不均一性により電流が 流れて酸化膜が破壊される現象を ヽぅ。フリツティング現象を利用してプローブと電極 ノッドを電気的に導通するには、まず、各電極パッドにそれぞれ 2本のプローブを接 触させる。図 9では、例えば電極パッド 9aにプローブ 41aと 42aが接触している。そし て、その 2本のプローブの間にフリツティング用回路 5から電圧を印加する。そして、 徐々に昇圧すると、一対のプローブ 41aと 42aの間の酸ィ匕膜が破られる。酸化膜が 破られると、プローブ 41a、 42aの間に電流が流れ、プローブ 41a、 42aと電極パッド 9 a間で電気的に導通する。
[0041] 同様にフリツティング現象を利用して、電極パッド 9bにプローブ 41b、 42bを、電極 ノッド 9cにプローブ 41c、 42cを、電極パッド 9dにプローブ 41d、 42dを電気的に導 通させる。
[0042] 次いで、切替部 7でプローブの接続を抵抗測定部 3に切り替えて、ホイートストンブ リッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する。
[0043] 抵抗値を測定するには、回路に流れる電流と端子間の電位差を測定し、電位差を 電流で除して抵抗値を求める。電流と電位差を測定するには、四端子法を用いる。 図 10は、四端子法によって電流と電位差を測定する方法を表す図である。
[0044] 図 10に示すように、試料 (抵抗)の両端に 2つずつ合計 4つの電極を付け、電流と 電圧を別の端子で測る方法を四端子法という。図 10に示す例では、電極パッド 9a、 9 bを電圧用端子 9av、 9bvと電流用端子 9ai、 9biに分けている。すなわち、電圧計測 回路と電流計測回路を接続する端子を別々に設けている。この方法では、電圧計の 入力インピーダンスが充分に高いと、電圧計測回路には電流はほとんど流れない。こ のため、試料と電極との間の抵抗、リード線の抵抗を含まずに試料の両端の電位差 を精確に測定できる。四端子法は、試料の抵抗が小さぐ試料と電極との間の抵抗や リード線の抵抗などが無視できな 、場合に用いられる方法である。
[0045] 本実施形態では、ホイートストンブリッジ回路の電極にフリツティング技術を用いて 電気的に導通させた 2本のプローブを、四端子法の電流測定と電圧測定にそれぞれ 用いることによって、電極間の電流と電圧を精確に測定する。しかし、ホイートストンブ リッジ回路は抵抗がループ状に接続されて ヽるので、一つ一つの抵抗の抵抗値を直 接測定することができない。そこで、以下に説明する 4つの方法で、ホイートストンプリ ッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する。なお、以下の 4つの方法はそれぞ れ、図 2の測定回路 3A、 3B、 3C、 3Dに対応している。
[0046] (測定方法 1)
図 11は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 1によつ て測定する測定回路の構成を表す。図 11の測定回路は、図 2の測定回路 3Aに対応 する。ホイートストンブリッジ回路の構成と、それぞれの電極パッドに接続するプロ一 ブの構成は図 9と同様である。以下の測定方法の説明では、電極パッド 9a、 9b、 9c、 9dをそれぞれ端子 a、 b、 c、 dと記載する。また、抵抗 8a、 8b、 8c、 8dの抵抗値をそ れぞれ、 α、 j8、 γ、 δとする。
[0047] 図 11に示す測定回路 3Αは、電源 31及び電流計 32と、電圧計 33を切替スィッチ 3 4、 35、 36、 37によって切り替えるように構成されている。このため、それぞれホイート ストンブリッジ回路の任意の 2つの端子に接続して、その端子間の電流と電圧を四端 子法で測定できる。図 11の切替スィッチ 34、 35、 36、 37の状態は、端子 aと端子 bの 間の電流と電圧を測定する場合を示す。
[0048] まず、端子 ab間の電流 labと電圧 Vabを測定し、その値から端子 ab間の抵抗値 Ra bを求める。同様に、端子 bd間、端子 ca間、端子 dc間及び端子 ad間の電流と電圧を 測定し、その値からそれぞれの端子間の抵抗値 Rbd、 Rca、 Rdc及び Radを求める。 すなわち、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗 8a、 8b、 8c、 8dの両端の端 子間の電流及び電位差と、ホイートストンブリッジ回路の対角に位置する一対の端子 ad間の電流及び電位差とを四端子法で測定する。
[0049] ホイートストンブリッジ回路の任意の 2つの端子間は、 2経路の直列抵抗の並列回 路である力も、前記 5つの測定値 Rab、 Rbdゝ Rcaゝ Rdcゝ Radと抵抗値 α、 β γ、 δの関係は、式(1)〜(5)のように表される。
Figure imgf000014_0001
1/Rbd = 1/β + l/(a + y + δ)
Figure imgf000014_0002
1/Rdc = 1/δ + 1/(α + β + γ)
1/Rad = 1/(α + β) + 1/(γ + δ)
式(1)〜(5)より、式(6)〜(11)が求められる。
a = Rab(j8 + γ + 6)/(j8 + γ + δ -Rab)
β = Rbd + γ + δ)Ζ(α + γ + δ—Rbd)
y = Rca(a + j8 + δ)/(α + |8 + δ -Rca)
δ = Rdc (α + β + γ)/( + β + γ -Rdc) γ + δ = Rad(a + j8)/(a + j8 -Rad) (10)
a + β = Rad(y + δ)/(γ + δ -Rad) (11)
[0051] 式 (6)、(7)に式(10)を代入して γ、 δを消去するとそれぞれ、式(12)、(13)が求 められる。
α2β + α j82+Rada2-Rab(a + j8)2 = 0 (12)
α2β + α β2+Καάβ2-^ά(α + β)2 = 0 (13)
[0052] 式(13)—式(12)より式(14)が求められる。
Rad( j82- α 2) + (Rab-Rbd) (α + β)2 = 0 (14)
[0053] 抵抗値 αと j8は 0ではないから、 α + β≠0より式(14)の両辺を α + j8で割って、 式(15)を求める。
Rad( j8 - a) + (Rab-Rbd) (α + β) = 0 (15)
よって、式(16)が導き出される。
a = β - (Rbd-Rad-Rab)/(Rab-Rbd-Rad) (16)
[0054] ここで、式(17)のようにおくと、式(16)は式(18)のように表される。
(Rbd - Rad - Rab) / (Rab - Rbd - Rad) = ε (17)
ο
a = ε · β (18)
ο
[0055] 再度、式(7)に式(10)、式(18)を代入して整理すると、式(19)のようになる。
β = Rbd- ( ε · β + Rad( ε +1) β/(( ε +1) β -Rad))
0 0 0
/( ε · β + Rad( ε +1) β/(( ε +1) β -Rad) -Rbd) (19)
0 0 0
[0056] β≠0であるから、式(19)の両辺を j8で割って、式(20)を求める。
1 = Rbd- ( ε + Rad( ε +1)/(( ε +1) β -Rad))
0 0 0
/( ε · β + Rad( ε +1) β/(( ε +1) β -Rad) -Rbd) (20)
0 0 0
[0057] 式(20)より式(21)が求められ、式(18)と式(21)より式(22)が求められる。
β = (Rbd( s +l)2-Rad)/( s ( ε +1)) (21)
0 0 0
= (Rbd( ε +l)2-Rad)/( ε +1) (22)
o o
[0058] 次に、式 (8)、式(9)に式(11)を代入して a;、 j8を消去すると、それぞれ式(23)、 ( 24)が求められる。
γΖδ + γ 62+Rady2-Rca(y + δ)2 = 0 (23) γ2δ + γ 62+Rad62-Rdc(y + δ)2 = 0 (24)
[0059] 式(23)—式(24)より式(25)が求められる。
Rad(y2- 62) + (Rdc-Rca) (γ + δ)2 = 0 (25)
[0060] γ + δ≠0より式(25)の両辺を γ + δで割って、式(26)、(27)が求められる。
Rad( γ - δ ) + (Rdc-Rca) ( γ + δ ) = 0 (26)
y = δ ( (Rdc - Rad - Rca) / (Rca - Rdc - Rad) ) (27)
[0061] ここで、式(28)のようにおくと、式(27)は式(29)のように表される。
(Rdc - Rad - Rca) / (Rca - Rdc - Rad) = ε (28)
1
γ = ε ' δ (29)
1
[0062] α、 j8と同様に δ、 γを求めると、式(30)、(31)が求められる。
δ = (Rdc ( ε +l)2-Rad)/( ε ( ε +1)) (30)
1 1 1
γ = (Rdc ( ε +l)2-Rad)/( ε +1) (31)
1 1
[0063] 以上、説明したとおり、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗 8a、 8b、 8c、 8 dの両端の端子間の電流及び電位差と、ホイートストンブリッジ回路の対角に位置す る一対の端子 ad間の電流及び電位差とから、抵抗 8a、 8b、 8c、 8dの抵抗値 ο;、 β、 γ、 δを求めることができる。なお、ホイートストンブリッジ回路の対角に位置する一対 の端子 ad間の電流及び電位差に代えて、端子 be間の電流及び電位差を用いても同 様に各抵抗値を求めることができる。
[0064] (測定方法 2)
図 12は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 2によつ て測定する測定回路の構成を表す。図 12の測定回路は、図 2の測定回路 3Bに対応 する。
[0065] 図 12 (a)に示すように、端子 bを電位 Vbにし、端子 a、 c、 dを短絡して電位 Vaにす る (Vb≠Va)。そして、端子 bと端子 a間の電流と電圧を四端子法で測定し、その値か ら抵抗値 Rabを求める。端子 a、 c、 dは短絡されているから、抵抗 8c、 8dには電流が 流れな 、 (端子 ac間と端子 cd間の電位差は 0である)。端子 ab間の抵抗値 Rabは、 抵抗 8aと抵抗 8bの並列回路であるから、式(32)が成立する。
1/Rab = l/α + 1/ β (32) 厳密には、端子 ac間と端子 cd間に電極パッドとプローブの接触抵抗があるが、フリ ッティングによって電気的に導通しているので、無視できる。
[0066] 同様に、短絡する端子の組み合わせを変えた残りの 3通りについて四端子法で測 定する。端子 dを電位 Vdにし、端子 a b、 cを短絡して電位 Vbにする (Vd≠Vb)。端 子 bと端子 d間の抵抗値 Rbdを測定する。このとき式 (33)が成立する。
1/Rbd = 1/ β + 1/ δ (33)
端子 cを電位 Vcにし、端子 a b、 dを短絡して電位 Vaにする (Vc≠Va)。端子 cと端 子 d間の抵抗値 Redを測定する。このとき式(34)が成立する。
1/Rcd = 1/ y + 1/ δ (34)
端子 aを電位 Vaにし、端子 b、 c、 dを短絡して電位 Vcにする (Va≠Vc)。端子 aと端 子 c間の抵抗値 Racを測定する。このとき式(35)が成立する。
1/Rac = l/ α + 1/ y (35)
[0067] 次に、図 12 (b)に示すように端子 a、 bを短絡し、端子 d、 cを短絡して、端子 abと端 子 dcの間の抵抗 Rab/dcを四端子法で測定する。この場合は、端子 ab間と端子 dc間 は短絡されて抵抗値力^であるから、端子 abと端子 dcの間は抵抗 8bと抵抗 8cの並 列抵抗になり、式 (36)が成立する。
1 /Rab/dc = 1/ y + 1/ β (36)
[0068] 同様に、端子 b、 dを短絡し、端子 a、 cを短絡して、端子 bd、端子 ac間の抵抗 Rbd/ acを測定する。このとき式(37)が成立する。
1/Rbd/ac = 1/ α + 1/ δ (37)
[0069] 式(32)—式(33)より式(38)が求められる。
1/Rab 1/Rbd = 1/ α 1/ δ (38)
式(37)—式(38)より式(39)が求められる。
1/Rab 1/Rbd + 1/Rbd/ac = 2/ α (39)
よって式 (40)が求められる。
α = 2RabRbdRbd/ac/ (RbdRbd/ac -RabRbd/ac+RabRbd) (40) [0070] 同様に、式(34)、式(35)、式(37)より、式 (41)が求められる。
δ = 2RcdRacRbd/ac/ (RacRbd/ac-RcdRbd/ac +RcdRac) (41) 式(32)、式(35)、式(36)より、式(42)が求められる。
β = 2RacRacRab/dc/ (RabRab/dc - RcdRab/dc + RcdRbd) (42) 式(33)、式(34)、式(36)より、式 (43)が求められる。
γ = 2RcdRbdRab/dc/ (RbdRab/dc -RcdRab/dc + RcdRbd) (43)
[0071] 以上をまとめると、まず、ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子のうち 3つを短絡す る。そして、短絡していない端子と短絡された端子の間の電流及び電位差を、短絡 する端子の組み合わせを変えた 4通りについて四端子法で測定する。次に、ホイート ストンブリッジ回路の隣り合う 2つの端子を短絡し、残りの 2つの端子を短絡する。そし て、短絡された 2組の端子間の電流及び電位差を、短絡する隣り合う端子の組み合 わせを変えて 2通りについて四端子法で測定する。そして、これらの計 6通りの測定 結果から、抵抗 8a、 8b、 8c、 8dの抵抗値ひ、 β、 γ、 δを求めることができる。
[0072] (測定方法 3)
図 13は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定方法 3によつ て測定する測定回路の構成を表す。図 13の測定回路は、図 2の測定回路 3Cに対応 する。
[0073] 図 13 (a)に示すように、端子 a、 bを、端子 a、 b間が短絡されないように、それぞれ独 立した電源により同じ電位 Vaにバイアスする。端子 dをそれぞれ独立した電源によ り同じ電位 Vdにバイアスする。ここで、 Va >Vdとする。
[0074] この場合、端子 aヽ b間、端子 d間はそれぞれ同じ電位なので電流は流れな 、。
そこで、端子 b、 d間の電流を四端子法で測定し、その値を Ib、端子 a、 c間の電流を 四端子法で測定しその値を Icとすると、それぞれ電位差は Va—Vdであるから、式 (4 4)、 (45)が成立する。
γ = (Va-Vd) /Ic (44)
β = (Va-Vd) /lb (45)
[0075] 端子 b、 d間の電流 lbは、電源 31b、端子 b、抵抗 8b、端子 d、電流計 32d、電源 31 d、接地 38、電源 3 lbの経路で流れる。また、端子 a、 c間の電流 Icは、電源 31a、端 子 a、抵抗 8c、端子 電流計 32c、電源 31c、接地 38、電源 3 laの経路で流れる。 なお、図 13 (a)では、電位差の測定回路を省略している。 [0076] 次に、図 13 (b)に示すように、端子 b、 dをそれぞれ独立した電源により同じ電位 Vb にバイアスする。端子 a、 cをそれぞれ独立した電源により同じ電位 Vcにバイアスする 。ここで、 Vb >Vcとする。
[0077] この場合、端子 b、 d間、端子 a、 c間はそれぞれ同じ電位なので電流は流れな 、。
そこで、端子 b、 a間の電流を四端子法で測定し、その値を Ia、端子 d、 c間の電流を 四端子法で測定しその値を Idとすると、それぞれ電位差は Vb—Vcであるから、式 (4 6)、 (47)が成立する。
a = (Vb -Vc) /la (46)
δ = (Vb -Vc) /Id (47)
[0078] 端子 b、 a間の電流 laは、電源 31b、端子 b、抵抗 8a、端子 a、電流計 32a、電源 3 la 、接地 38、電源 31bの経路で流れる。また、端子 d、 c間の電流 Idは、電源 31d、端子 d、抵抗 8d、端子 電流計 32c、電源 31c、接地 38、電源 3 Idの経路で流れる。な お、図 13 (b)では、電位差の測定回路を省略している。
[0079] 以上をまとめると、まず、ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子のうち隣り合う 2つ の端子をそれぞれ独立した電源で同じ第 1の電位に設定し、残りの 2つの端子をそれ ぞれ独立した電源で同じ第 2の電位に設定する。そして、第 1の電位の一方の端子と それに隣り合う第 2の電位の端子との間の電流及び電位差と、第 1の電位の他方の 端子とそれに隣り合う第 2の電位の端子との間の電流及び電位差とを四端子法で測 定する。これを、同じ電位にする隣り合う端子の組み合わせを変えて 2通りについて 測定した結果から、抵抗 8a、 8b、 8c、 8dの抵抗値 a、 β、 γ、 δを求めることができ る。
[0080] (測定方法 4)
次に、ホイートストンブリッジ回路が複数あり、その電源及びグランドが共通の場合 の各ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する方法について 示す。
[0081] 図 14A乃至図 15Bは、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測 定方法 4によって測定する測定回路の構成を表す。図 14A乃至図 15Bの測定回路 は、図 2の測定回路 3Dに対応する。 [0082] まず、ホイートストンブリッジ回路が 2個の場合について説明する。ホイートストンプリ ッジ回路が 3個以上、電源と接地が共通に接続されている場合も原理的に同じ方法 を適用することができる。
[0083] 図 14Aに示すように、 2つのホイートストンブリッジ回路は端子 a (電極パッド 9 la、 9 2a)、端子 d (電極パッド 91d、 92d)がそれぞれ共通の電源と接地である。端子 aと端 子 dをそれぞれ独立した電源 3 la、 31(1にょり電位¥&、 Vdにバイアスする。
[0084] 端子 bl (電極パッド 91b)、端子 b2 (電極パッド 92b)をそれぞれ端子 d用電源と独 立した電源 31b、 31eにより Vdにバイアスする。端子 c l (電極パッド 91c)、端子 c2 ( 電極パッド 92c)をそれぞれ端子 a用電源と独立した電源 31c、 31fにより Vaにバイァ スする。但し、 Vd >Vaである。
[0085] このとき、端子 b l、 b2は端子 dの電位 Vdと同じであるから、抵抗 81b、 82bには電 流は流れない。また、端子 cl、 c2は端子 aの電位 Vaと同じであるから、抵抗 81c、 82 c【こ ίま電流 ίま流れな!/ヽ。端子 bl、 b2、 c l、 c2をノ ィァスする電源 31b、 31e、 31c、 3 Ifはそれぞれ独立であるから、ホイートストンブリッジ回路間で電流は流れな 、。
[0086] そこで、端子 bl、 a間の電流を四端子法で測定しその値を Ial、端子 d、 c l間の電 流を測定しその値を Idlとする。また、端子 b2、 a間の電流を測定しその値を Ia2、端 子 d、 c2間の電流を測定しその値を Id2とする。すると、抵抗 81a、 81d、 82a、 82dの 抵抗値 a l、 δ 1、 α 2、 δ 2は、式 (48)〜(51)のように表すことができる。
a l = (Vd-Va) /Ial (48)
δ 1 = (Vd-Va) /Idl (49)
a 2 = (Vd-Va) /Ia2 (50)
6 2 = (Vd-Va) /Id2 (51)
次【こ、図 14β【こ示す Jう【こ、同 【こ 子 b lを Va【こ、 c lを Vd【こノ ィァスし、 b2を Va 、 c2を Vdにバイアスする。端子 d、 bl間の電流を測定しその値を Ib l、端子 d、 b2間 の電流を測定しその値を Ib2とする。また、端子 c l、 a間の電流を測定してその値を Ic 1、端子 c2、 a間の電流を測定しその値を Ic2とする。すると、抵抗 81b、 81c、 82b、 8 2cの抵抗値 j8 1、 γ 1、 13 2、 γ 2は、式(52)〜(55)のように表すことができる。
β ΐ = (Vd-Va) /Ib l (52) γ ΐ = (Vd-Va) /lcl (53)
Figure imgf000021_0001
y 2 = (Vd-Va) /Ic2 (55)
[0088] 以上をまとめると、まず、ホイートストンブリッジ回路の 2つの出力端子のうち、一方の 出力端子をホイートストンブリッジ回路の端子 aと同電位にし、他方の出力端子をホイ 一トストンブリッジ回路の端子 dと同電位にする。そして端子 dと同電位にした出力端 子と端子 aとの間の電流及び電位差、及び端子 aと同電位にした出力端子と端子 dと の間の電流及び電位差を四端子法で測定する。これを端子 a及び端子 dと同電位に する出力端子の組み合わせを変えて 2通りについて測定した結果から、抵抗 81a、 8 lb、 81c、 81d、 82a, 82b、 82c、 82dの抵抗値 a l、 j8 1、 γ 1、 δ 1、 α 2、 13 2、 γ 2、 δ 2を求めることができる。
[0089] ホイートストンブリッジ回路が 3個以上の場合も同様にして各ホイートストンブリッジ 回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定することができる。図 15A及び 15Bは、ホイ 一トストンブリッジが 3個の場合に、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵 抗値を測定方法 4によって測定する測定回路の構成を表す。ホイートストンブリッジ回 路が 2個の場合と同様にそれぞれの抵抗は以下のように求められる。
[0090] 端子 a、 dをそれぞれ独立した電源 3 la、 31(1にょり¥&、 Vdにバイアスする。端子 bl 、 b2、 b3をそれぞれ端子 d用電源と独立した電源 31b、 31e、 31gにより Vdにバイァ スする。端子 cl、 c2、 c3をそれぞれ端子 a用電源と独立した電源 31c、 31f、 31hに より Vaにバイアスする。但し、 Vd>Vaである。
[0091] そこで、端子 bl、 a間の電流を測定しその値を Ial、端子 d、 cl間の電流を測定しそ の値を Idlとする。また、端子 b2、 a間の電流を測定しその値を Ia2、端子 d、 c2間の 電流を測定しその値を W2とする。さらに、端子 b3、 a間の電流を測定しその値を Ia3 、端子 d、 c3間の電流を測定しその値を Id3とする。すると、抵抗 81a、 81d、 82a、 82 d、 83a、 83dの抵抗値 α 1、 δ 1、 α 2、 δ 2、 α 3、 δ 3は、式(56)〜(61)のように表 すことができる。
a l = (Vd-Va) /Ial (56)
δ ΐ = (Vd-Va) /Idl (57) a 2 = (Vd-Va) /Ia2 (58)
6 2 = (Vd-Va) /Id2 (59)
« 3 = (Vd-Va) /Ia3 (60)
S 3 = (Vd-Va) /Id3 (61)
[0092] 次に、図 15Bに示すように、端子 a、 dをそれぞれ独立した電源 31a、 31dにより Va、 Vdにバイアスする。端子 b l、 b2、 b3を端子 a用電源とはそれぞれ独立した電源 31b 、 31e、 31gにより Vaにバイアスする。端子 c l、 c2、 c 3をそれぞれ端子 d用電源と独 立した電源 31c、 31f、 31hにより Vdにバイアスする。但し、 Vd >Vaである。
[0093] ここで、端子 c l、 a間の電流を測定しその値を Ic l、端子 d、 b l間の電流を測定しそ の値を Iblとする。また、端子 c2、 a間の電流を測定しその値を Ic2、端子 d、 b2間の 電流を測定しその値を Ib2とする。さらに、端子 c3、 a間の電流を測定しその値を Ic3 、端子 d、 b3間の電流を柳』定しその値を Ib3とする。すると、抵抗 81b、 81c、 82b、 82 c、 81b、 81cの抵抗値 j8 1、 γ 1、 j8 2、 γ 2、 j8 3、 γ 3ίま、式(62)〜(67)のように表 すことができる。
β ΐ = (Vd- -Va) /Ib l (62)
γ ΐ = (Vd- -Va) /Ic l (63)
Figure imgf000022_0001
y 2 = (Vd- -Va) /Ic2 (65)
Figure imgf000022_0002
y 3 = (Vd- -Va) /Ic3 (67)
[0094] 以上をまとめると、まず、ホイートストンブリッジ回路の 2つの出力端子のうち、一方の 出力端子をホイートストンブリッジ回路の端子 aと同電位にし、他方の出力端子をホイ 一トストンブリッジ回路の端子 dと同電位にする。そして、端子 dと同電位にした出力端 子と端子 aとの間の電流及び電位差、及び端子 aと同電位にした出力端子と端子 dと の間の電流及び電位差を四端子法で測定する。これを、端子 a及び端子 dと同電位 にする出力端子の組み合わせを変えて 2通りについて測定した結果から、抵抗 8 la、 81b、 81c、 81d、 82a, 82b、 82c、 82d、 83a, 83b、 83c、 83dの抵抗値 a 1、 β 1、 γ 1、 δ 1、 α 2、 j8 2、 γ 2、 δ 2、 a 3、 j8 3、 γ 3、 δ 3を求めることができる。ホイート ストンブリッジ回路力 以上の場合も同様にして、ホイートストンブリッジ回路を構成す る各抵抗の抵抗値を測定することができる。
[0095] 本実施形態では、フリツティングによって電気的に導通させた電極パッド毎に 2本の プローブを用いて、端子間の抵抗値を四端子法で精確に測定する。そして、前述の 4つの測定方法によって、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を精 確に求めることができる。
[0096] 図 2に示す抵抗測定制御部 2の制御部 21は、前述の 4つの測定方法で測定したホ ィートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を、表示部 26に表示する。図 16 は、測定した抵抗値を表示部 26に表示する例を示す。
[0097] 図 16 (a)は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を一覧表示す る一例である。ホイートストンブリッジ回路毎に行を替えて、ホイートストンブリッジ回路 の 4つの抵抗の抵抗値を 1行に表示している。さらに微小構造体ごとに区切ってもよ い。例えば、 3軸加速度センサの場合は、 1つの微小構造体に 3つのホイートストンブ リッジ回路があるので、 3行ごとに区切られる。
[0098] 図 16 (b)は、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を、微小構造体 毎に二次元表示として、表示装置に出力する一例を示す。例えば、 3軸加速度セン サの場合は、各 3軸加速度センサ毎に 4行 X 3列の太線で囲まれた 12個毎の抵抗値 (以下、抵抗値群とする)を表示する。この場合、 1列目に X軸方向のホイートストンブ リッジ回路の 4つの抵抗の抵抗値、 2列目に Y軸方向のホイートストンブリッジ回路の 4 つの抵抗の抵抗値、 3列目に Z軸方向のホイートストンブリッジ回路の 4つの抵抗の抵 抗値、を表示する。この際、各ホイートストンブリッジ回路の 4つの抵抗の抵抗値 Q;、 β、 γ、 δはそれぞれ 1行目、 2行目、 3行目、 4行目に表示する。そして、縦方向に m個、横方向に n個の合計 m X n個の 3軸加速度センサがウェハ上に存在する場合 は、 m X n個の抵抗値群をウェハ上の座標に合わせて 2次元表示する。
[0099] 次に、図 1及び図 2に示す抵抗測定システム 1及び抵抗測定制御部 2の動作につ いて、図 17を参照して説明する。図 17は、抵抗測定システム 1の動作の一例を示す フローチャートである。なお、抵抗測定制御部 2の動作は、制御部 21が主記憶部 22 、外部記憶部 23、入力部 24、入出力部 25及び表示部 26と協働して行う。 [0100] まず、制御部 21は、ウェハ 8がメインチャック 14に載置され、測定開始が入力される のを待機する (ステップ Sl)。測定開始が、入力部 24から入力されて制御部 21に指 示されると、制御部 21は、入出力部 25を介して、プローバ制御部 13にプローブをゥ エノ、 8の電極パッドに接触するよう指令する (ステップ S2)。ついで、制御部 21は、プ ローバ制御部 13にフリツティング用回路 5によって、プローブと電極パッドを電気的に 導通させるように指令する (ステップ S3)。
[0101] 本実施の形態では、電極パッドをプローブをフリツティング現象を利用して電気的 に導通させる力 電気的に導通させる方法としては、フリツティング技術以外の方法を 利用してもよい。例えば、プローブに超音波を伝導して、電極パッド表面の酸化膜を 部分的に破って、電極パッドとプローブを電気的に導通させる方法を用いることがで きる。
[0102] 次に、制御部 21は、測定方法の選択を入力する (ステップ S4)。測定方法は、予め 外部記憶部 23に記憶されていてもよいし、測定の都度、入力部 24から入力されても よい。測定方法が入力されると、制御部 21は、入力された測定方法によって測定回 路を選択する (ステップ S5)。
[0103] 測定方法選択が Aの場合 (ステップ S5 ;A)、制御部 21は、前記の測定回路 A (図 2 の測定回路 3A)を選択して、プローブカード 4に接続するよう切替部 7に指令する。 そして、制御部 21は、ウェハ 8に形成されたホイートストンブリッジ回路の各抵抗の抵 抗値を測定回路 Aで測定するよう、抵抗測定部 3に指令する (ステップ S6)。そして、 制御部 21は、抵抗測定部 3から測定した抵抗 (又は電流と電圧)を入出力部 25を介 して入力し、前述の測定方法 1で抵抗値を求める (ステップ S 7)。
[0104] 測定方法選択力 ¾の場合 (ステップ S 5 ; B)、制御部 21は、前記の測定回路 B (図 2 の測定回路 3B)を選択して、プローブカード 4に接続するよう切替部 7に指令する。そ して、制御部 21は、ウェハ 8に形成されたホイートストンブリッジ回路の各抵抗の抵抗 値を測定回路 Bで測定するよう、抵抗測定部 3に指令する (ステップ S8)。そして、制 御部 21は、抵抗測定部 3から測定した抵抗 (又は電流と電圧)を入出力部 25を介し て入力し、前述の測定方法 2で抵抗値を求める (ステップ S9)。
[0105] 測定方法選択力 の場合 (ステップ S5 ;C)、制御部 21は、前記の測定回路 C (図 2 の測定回路 3C)を選択して、プローブカード 4に接続するよう切替部 7に指令する。 そして、制御部 21は、ウェハ 8に形成されたホイートストンブリッジ回路の各抵抗の抵 抗値を測定回路 Cで測定するよう、抵抗測定部 3に指令する (ステップ S10)。そして 、制御部 21は、抵抗測定部 3から測定した抵抗 (又は電流と電圧)を入出力部 25を 介して入力し、前述の測定方法 3で抵抗値を求める (ステップ S 11)。
[0106] 測定方法選択力 ¾の場合 (ステップ S 5 ; D)、制御部 21は、前記の測定回路 D (図 2 の測定回路 3D)を選択して、プローブカード 4に接続するよう切替部 7に指令する。 そして、制御部 21は、ウェハ 8に形成されたホイートストンブリッジ回路の各抵抗の抵 抗値を測定回路 Dで測定するよう、抵抗測定部 3に指令する (ステップ S12)。そして 、制御部 21は、抵抗測定部 3から測定した抵抗 (又は電流と電圧)を入出力部 25を 介して入力し、前述の測定方法 4で抵抗値を求める (ステップ S13)。
[0107] 制御部 21は、求めた各抵抗の抵抗値を外部記憶部 23に記憶する。そして、制御 部 21は、記憶した抵抗値を、例えば図 16に示すように、表示部 26に表示する (ステ ップ S14)。
[0108] このように、抵抗測定システム 1によれば、フリツティング技術と四端子法によって精 確に測定された値に基づ ヽて、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗 値を測定することができる。そして、測定した結果を表示部に表示するので、ウェハ 8 に形成された微小構造体であるセンサの較正などに利用することができる。
[0109] 次に、抵抗測定システムの変形例について説明する。図 18は、抵抗測定システム にノイズ除去を組み合わせた例を示す構成図である。図 18の抵抗測定システム 50 は、マイク 51、ノイズ除去制御部 52、スピーカ制御部 53、スピーカ 54を備える。また 、さらに信号調整部 55及びマイク 56を備えてもよい。入出力インタフェース 28は、測 定制御を外部力 起動,停止したり、測定結果を外部に出力するためのインタフ ー スである。なお、本例では、プローブ 41a、 41b、 42a、 42bを用いて四端子法により 抵抗測定する。
[0110] 騒音源 NSから発生する騒音が空気中を伝播し、ウェハ 8に形成された微小構造体 TPの重錘体 AR及びビーム BMが振動すると、ピエゾ抵抗の抵抗値が変動する。従 つて、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を精確に測定することが できない。
[0111] そこで、騒音と逆位相で同じ大きさの音波を加えて、ウェハ 8上で騒音がちょうど打 ち消されるようにする。図 19は、騒音 fnoiseに対して、打ち消す音波 fantinoiseによ つて、騒音が打ち消される様子を模式的に表す図である。ノイズ除去制御部 52は、 マイク 51で検出した騒音がウェハ 8に到達するときにちようど打ち消されるように、スピ 一力 54から出力する音波の周波数、位相、振幅を演算する。そして、ノイズ除去制御 部 52は、演算結果である周波数、位相、振幅をスピーカ制御部 53に出力する。スピ 一力制御部 53は、ノイズ除去制御部 52から入力された周波数、位相、振幅の音波が スピーカ 54から出力されるように、スピーカ 54を駆動する。
[0112] さらに、ウェハ 8近傍のマイク 56で騒音を検出し、騒音が 0になるように、信号調整 部 55でフィードバック制御してもよ 、。
[0113] スピーカ 54から、騒音を打ち消す音波を出力するので、ウェハ 8上では、騒音の影 響を受けない。その結果、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値が 変動しない状態で、精確に測定することができる。
[0114] ノイズ除去制御部 52は、ノイズを除去するだけでなぐウェハ 8に形成された微小構 造体 TPの特性を測定する場合に利用できる。この場合、ノイズ除去制御部 52は、ス ピー力制御部 53に評価するための周波数で音波を出力させて、微小構造体 TPの 重錘体 ARを振動させる。そして、特性評価部 6が出力の変化を評価する。この場合 、プローブカード 4は切替部 7によって特性評価部 6に接続される。なお、ノイズによる 抵抗値の変化を評価する場合は、プローブカード 4を抵抗測定部 3に接続した状態 で抵抗値の結果を比較することにより評価してもよい。
[0115] その他、前記のハードウェア構成やフローチャートは一例であり、任意に変更及び 修正が可能である。
[0116] 抵抗測定システム 1の抵抗測定制御部 2は、専用のシステムによらず、通常のコン ピュータシステムを用いて実現可能である。例えば、前記の動作を実行するためのコ ンピュータプログラムを、コンピュータが読みとり可能な記録媒体 (フレキシブルデイス ク、 CD- ROM、 DVD- ROM等)に格納して配布し、当該コンピュータプログラムをコン ピュータにインストールすることにより、前記の処理を実行する抵抗測定制御部 2を構 成してもよい。また、インターネット等の通信ネットワーク上のサーバ装置が有する記 憶装置に当該コンピュータプログラムを格納しておき、通常のコンピュータシステムが ダウンロード等することで本実施形態における抵抗測定制御部 2を構成してもよい。
[0117] また、前記の各機能を、 OS (オペレーティングシステム)とアプリケーションプロダラ ムの分担、または OSとアプリケーションプログラムとの協働により実現する場合などに は、アプリケーションプログラム部分のみを記録媒体や記憶装置に格納してもよ 、。
[0118] また、搬送波に上述のコンピュータプログラムを重畳し、通信ネットワークを介して配 信することも可能である。
[0119] 本出願は、 2005年 11月 30日に出願された日本国特許出願 2005— 346249号 に基づく。本明細書中に日本国特許出願 2005— 346249号の明細書、特許請求 の範囲、図面全体を参照として取り込むものとする。
[0120] 本実施形態によれば、ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値の測 定が、回路配線を切断することなぐ電極パッドを増設せずにできる。従って、ホイ一 トストンブリッジ回路力も形成されるセンサを較正する際に有効である。また、フリツテ イング技術を用いることにより、低針圧 ·低接触抵抗で高精度に抵抗測定ができる。さ らに、四端子法を用いることにより、より高精度に抵抗測定ができる。

Claims

請求の範囲
[1] ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定するホイートストンプリ ッジ回路の抵抗測定システムであって、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極それぞれに 2本ずつ接触させられ るためのプローブと、
前記端子電極と前記プローブを電気的に導通させる導通部と、
前記 4つの端子電極のそれぞれと電気的に導通する前記 2本ずつのプローブを用 V、て、四端子法によって前記端子電極間の電流及び電位差を測定する測定部と、 を有する抵抗測定システム。
[2] 前記導通部は、フリツティング現象を引き起こすために前記プローブに電圧を印加 するフリツティング用回路備え、前記フリツティング現象を利用して前記端子電極と前 記プローブを電気的に導通させる、ことを特徴とする請求項 1に記載の抵抗測定シス テム。
[3] 前記測定部によって測定された前記端子電極間の電流及び電位差を用いて、前 記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を演算する演算部を備える
、ことを特徴とする請求項 1に記載の抵抗測定システム。
[4] 前記演算部によって演算された前記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗 の抵抗値を表示する表示部を含む、ことを特徴とする請求項 3に記載の抵抗測定シ ステム。
[5] 前記ホイートストンブリッジ回路は、基板上に形成された可動部を有する微小構造 体に形成された各抵抗から構成され、
前記導通部は、フリツティング現象を引き起こすために前記プローブに電圧を印加 するフリツティング用回路を備え、前記微小構造体に形成された各抵抗に接続する 前記端子電極に、前記プローブをフリツティング現象を利用して電気的に導通させる
、ことを特徴とする請求項 1に記載の抵抗測定システム。
[6] 前記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗に加わる振動の逆位相の振動を
、前記ホイートストンブリッジ回路に印加するノイズ消去部を備える、ことを特徴とする 請求項 5に記載の抵抗測定システム。
[7] 前記導通部は、前記プローブに電圧を印加する電圧印加部を備え、前記端子電 極に前記プローブを 2本ずつ接触させ、前記電圧印加部により前記 2本のプローブ の間に電圧を印加することにより、前記 2本のプローブの間に存在する前記端子電 極表面の酸ィ匕膜を破り前記端子電極と前記 2本のプローブを電気的に導通させる、 ことを特徴とする請求項 1に記載の抵抗測定システム。
[8] ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定するホイートストンプリ ッジ回路の抵抗測定システムであって、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極それぞれに 2本ずつ接触させられ るためのプローブと、
前記端子電極と前記プローブを電気的に導通させる導通手段と、
前記 4つの端子電極のそれぞれと電気的に導通する前記 2本ずつのプローブを用 V、て、四端子法によって前記端子電極間の電流及び電位差を測定する測定手段と を有する抵抗測定システム。
[9] 基板上に形成された可動部を有する微小構造体に形成されたホイートストンブリツ ジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を測定する抵抗測定方法であって、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極それぞれに 2本ずつプローブを接 触させる工程と、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極と前記プローブを電気的に導通さ せる導通工程と、
前記 4つの端子電極のそれぞれと電気的に導通する 2本のプローブによって、四端 子法を用いて前記ホイートストンブリッジ回路の端子電極間の電流及び電位差を測 定する測定工程と、
を有する抵抗測定方法。
[10] 前記導通工程は、フリツティング現象を利用して、前記端子電極と前記プローブを 電気的に導通させる、ことを特徴とする請求項 9に記載の抵抗測定方法。
[11] 前記測定工程は、前記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の両端の端子 電極間の電流及び電位差と、前記ホイートストンブリッジ回路の対角に位置する一対 の端子電極間の電流及び電位差とを四端子法で測定し、
前記測定工程で測定した端子電極間の電流及び電位差から、前記ホイートストン ブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を演算する演算工程を有する、
ことを特徴とする請求項 9に記載の抵抗測定方法。
[12] 前記測定工程は、
前記ホイートストンブリッジ回路の 4つの端子電極のうち 3つを短絡し、短絡していな い端子電極と前記短絡された端子電極の間の電流及び電位差を、短絡する端子電 極の組み合わせを変えた 4通りにつ ヽて四端子法で測定し、
前記ホイートストンブリッジ回路の隣り合う 2つの端子電極を短絡し、残りの 2つの端 子電極を短絡して、前記短絡された 2組の端子電極間の電流及び電位差を、短絡す る隣り合う端子電極の組み合わせを変えて 2通りについて四端子法で測定し、 前記測定工程にお!ヽて測定した、前記 3端子電極を短絡する 4通りの端子電極間 の電流及び電位差と、前記隣り合う 2端子電極を短絡した 2通りの 2組の端子電極間 の電流及び電位差とから、前記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗 値を演算する演算工程を有する、
ことを特徴とする請求項 9に記載の抵抗測定方法。
[13] 前記測定工程は、前記ホイートストンブリッジ回路の隣り合う 2つの端子電極をそれ ぞれ独立した電源で同じ第 1の電位に設定し、残りの 2つの端子電極をそれぞれ独 立した電源で同じ第 2の電位に設定したとき、前記第 1の電位の一方の端子電極とそ れに隣り合う前記第 2の電位の端子電極との間の電流及び電位差と、前記第 1の電 位の他方の端子電極とそれに隣り合う前記第 2の電位の端子電極との間の電流及び 電位差とを、同じ電位にする隣り合う端子電極の組み合わせを変えて 2通りについて 四端子法で測定し、
前記測定工程において同じ電位にする隣り合う端子電極の組み合わせを変えて 2 通りにつ 、て測定した電流及び電位差から、前記ホイートストンブリッジ回路を構成 する各抵抗の抵抗値を演算する演算工程を有する、
ことを特徴とする請求項 9に記載の抵抗測定方法。
[14] 前記測定工程は、前記ホイートストンブリッジ回路の 2つの出力端子のうち、一方の 出力端子を前記ホイートストンブリッジ回路の電源端子と同電位にし、他方の出力端 子を前記ホイートストンブリッジ回路の接地端子と同電位にして、前記接地端子と同 電位にした出力端子と前記電源端子との間の電流及び電位差、及び前記電源端子 と同電位にした出力端子と前記接地端子との間の電流及び電位差を、前記電源端 子及び前記接地端子と同電位にする出力端子の組み合わせを変えて 2通りについ て四端子法で測定し、
前記測定工程において前記電源端子及び前記接地端子と同電位にする出力端子 の組み合わせを変えて 2通りにつ 、て測定した電流及び電位差から、前記ホイートス トンブリッジ回路を構成する各抵抗の抵抗値を演算する演算工程を有する、 ことを特徴とする請求項 9に記載の抵抗測定方法。
前記演算工程によって演算された、前記ホイートストンブリッジ回路を構成する各抵 抗の抵抗値を、表示部に出力する表示工程を有する、ことを特徴とする請求項 9に記 載の抵抗測定方法。
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