WO2007060863A1 - 表面鏡 - Google Patents

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WO2007060863A1
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surface mirror
sinxoy
mirror
glass substrate
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PCT/JP2006/322707
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Inventor
Tadashi Onishi
Original Assignee
Central Glass Company, Limited
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • G02B1/105—
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Definitions

  • the present invention relates to a surface mirror in which a metal film and an oxide film are stacked, and more particularly to a surface mirror used in a rear projection television that projects an image with a back force of a screen.
  • a rear projection television is a device that displays a display screen such as a CRT on a screen using an optical system. By reflecting the display light using a mirror, the optical path is made long with a small depth, and a large screen. It is projected on the screen.
  • a so-called back mirror in which an Ag film is formed on a glass substrate by a silver mirror reaction and a protective film is formed on the Ag film, is provided on the surface of the glass.
  • a surface mirror is used in which a metal film is formed, an oxide film is formed thereon, light is incident from the surface of the oxide film, and is reflected by the metal film.
  • the back mirror has a reflective film protected by a durable protective film, and is durable enough to be used in a bathroom or the like. Since the light is also reflected on the surface, there is a problem that a double image is generated in the display displayed on the screen, and there is a problem that the reflectance is low due to absorption of the display light by the glass substrate.
  • a surface mirror formed by depositing a metal film on the glass surface by physical vapor deposition or the like has a high reflectance. Since the metal film directly reflects display light without passing through the glass, There is no problem.
  • Patent Document 1 discloses a surface mirror in which a metal film containing Ag as a main component and added with Pd, Au, and Ru is formed by a sputtering method.
  • a surface mirror using A1 for the metal film is used.
  • Patent Document 2 as a surface mirror using A1, a thin film is deposited on a substrate in the order of TiO, AIO, Al, and TiO.
  • Reflectors have been proposed.
  • the reflectivity of this surface mirror is 90% or less, and the hardness of the reflective film is difficult.
  • Patent Document 3 discloses a reflecting mirror in which a thin film is deposited on a substrate in the order of SiO, Al, Cr, and AlO.
  • a commonly used surface mirror is formed on a glass substrate in the order of Al, SiO, and TiO.
  • Patent Document 4 discloses that Al, SiO, TiO, SiOxNy is applied to the substrate.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-226765
  • Patent Document 2 JP-A-6-51110
  • Patent Document 3 JP-A-6-130210
  • Patent Document 4 JP-A-7-5310
  • the surface reflecting mirror of the present invention is a surface mirror in which a metal film and a metal oxide film are formed on a glass substrate, and an A1 film, a SiNxOy film, and an NbO film are sequentially stacked on the glass substrate.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a film configuration of a surface mirror in Example 2 of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a film configuration of a surface mirror in Example 1 of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of a rear projection television.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a film configuration of a surface mirror of Comparative Example 1.
  • the present invention makes it possible to provide a surface mirror with few fine pinholes required for a rear projection television.
  • the present invention is a fine pin having a diameter of 0.5 mm or less that can be used for a rear projection television using a light source with improved display brightness and image precision such as a DLP or a reflective liquid crystal panel.
  • a light source with improved display brightness and image precision such as a DLP or a reflective liquid crystal panel.
  • a large-sized surface mirror without holes can be provided.
  • pinholes with a diameter of 0.5 mm or less were not generated in the A1 film and the NbO single-layer film.
  • micro arcing a fine abnormal discharge called micro arcing, which occurs as a result of the accumulation of electric charges, was locally generated. It was also found that there is a correlation between the frequency of micro arcing and the number of pinholes.
  • the pinhole with a diameter of 0.5 mm or less of the surface mirror is a
  • the mechanism by which this SiNxOy film prevents micro-arcing is to reduce the voltage during film formation by preventing the formation of SiO, which is a source of micro-arcing, on the Si target surface.
  • the surface mirror of the present invention has been found as a surface mirror having very few pinholes and having a film structure having an A1 film, SiNxOy, and NbO force on a glass substrate.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of the rear projection television 1 in which the surface mirror of the present invention is used.
  • the rear projection television 1 mainly includes an image projection device 2, a reflection mirror (surface mirror) 3 that reflects the image projected from the image projection device 2, and an image that is reflected by the reflection mirror 3. It consists of 4 screens.
  • the video projection device 2 includes a display device such as a CRT and an optical system for projecting video.
  • the surface mirror 3 of the present invention is formed by depositing an A1 film 13, a SiNxOy film 14 and an NbO film 15 in this order on a glass substrate 11 by a physical vapor deposition method.
  • glass substrate 1 U, SiNxOy film 12, A1 film 13, SiNxOy film 14, NbO film 15 are deposited in this order by physical vapor deposition, Form reflective film 10 '
  • the glass substrate 11 can be made of a plate glass manufactured by a float process.
  • the glass surface on which the A1 film 13 or the SiNxOy film 12 is formed is subjected to ion etching treatment before film formation. It can be used suitably.
  • physical vapor deposition methods such as sputtering, vacuum vapor deposition, and electron beam vapor deposition can be used. Especially, because film formation is easy and film adhesion is good.
  • the SiNxOy film 12 formed on the surface of the glass substrate 11 shown in FIG. 2 has a further higher crystallinity of the A1 film than that in which the A1 film 13 formed thereon is directly deposited on the glass substrate.
  • the film is formed to improve the adhesion between the glass substrate 11 and the A1 film 13, and l-50nm It is preferable to set it as the film thickness. Further, there is no particular problem when the thickness of the SiNxOy film 12 is as thick as about lOOnm, but the crystallinity of A1 hardly changes at 50 nm or more.
  • the A1 film 13 has a visible light reflectance of 90% or more when the film thickness is 60 nm or more, and the film thickness is 60 nm because the reflectance does not increase even if the thickness is increased beyond 60 nm. This is sufficient. However, there is no particular problem even if the film thickness is larger than that.
  • the A1 film can be obtained by sputtering in an inert atmosphere such as Ar gas using an aluminum target.
  • a film containing one or more metals selected from 0 to 5% by weight of Mn, Mg, Si, and Nd can be used for the A1 film.
  • Mn, Mg, Si, and Nd it can be obtained by using a target containing Mn, Mg, Si, and Nd in an aluminum target and forming a film in an inert atmosphere such as Ar gas.
  • Mn, Mg, Si, and Nd contained in the A1 film to improve the durability performance destroy the crystal structure of the Al film and lower the reflectivity, so the content should be suppressed as much as possible. Is preferred.
  • the SiNxOy film 14 on the A1 film improves the adhesion between the A1 film 13 and the uppermost NbO film 15.
  • the N1O film is directly deposited on the A1 film.
  • the thickness of the SiNxOy film 14 is preferably 80 ⁇ 40 nm.
  • the SiNxOy film 14 is obtained by sputtering in a mixed gas atmosphere of Ar gas, oxygen gas, and nitrogen gas using a Si target.
  • Si targets containing B and A1 are used.
  • the ratio of Ar gas, oxygen gas, and nitrogen gas is optimally Ar gas: 35-80%, oxygen gas: 15-45%, nitrogen gas: 5-25%.
  • the SiNxOy film 14 to be formed should satisfy 0.5 ⁇ x ⁇ l.5 and 0.5 ⁇ y ⁇ l.9.
  • the NbO film 15 uses a niobium target, and is 50 to oxygen gas with respect to Ar gas: L00 wt%
  • the thickness of the NbO film 15 is set to 30.
  • the thickness of the NbO film 15 is 6
  • the reflecting mirror of the present invention is not limited to this film forming method.
  • a surface mirror 3g having the film configuration shown in FIG. 2 was prepared using a float glass plate having a thickness of 3 mm and a size of 600 mm ⁇ 600 mm, which had been washed and dried. All films were formed by sputtering.
  • an A1 film 13 having a thickness of 80 nm was formed in an Ar300 (sccm) atmosphere using a dual power sword with an A1 target attached using the same power supply. .
  • the SiNxOy film 14 having a thickness of 80 nm is formed on the Si target using the same power source and force sword.
  • the film was formed in an atmosphere of Arl20 (sccm), oxygen 70 (sccm), nitrogen 35 (sccm) pressure 0.46 (Pa).
  • a 60 nm NbO film was formed on the SiNxOy film 14 using a Nb target.
  • Film formation was performed in an atmosphere of Ar300 (sccm), oxygen 120 (sccm), and pressure 0.28 (pa) using an Nb target using the same power source and force sword.
  • This reflecting mirror was manufactured under exactly the same conditions as in Example 1 except that no SiNxOy was formed between the glass substrate 11 and the A1 film 13.
  • the thickness of the two films was the same as that of SiNxOy.
  • Example 2 the surface mirrors of Example 2 and Comparative Example 1
  • the evaluation method was to confirm the number of pinholes having a diameter of 0.3 mm to 0.5 mm on 10 glass substrates of 1000 mm X 600 mm size. The number of occurrences was confirmed immediately after the start of film formation and after 6 hours, 12 hours, and 24 hours after the start of film formation force.
  • Table 1 shows the number of confirmed pinholes.
  • the number of pinholes in Table 1 is the number of pinholes identified in 10 samples.
  • Examples 1 and 2 of surface mirrors using SiNxOy are The generation of holes is a very small force.
  • Comparative Example 1 using SiO is a pin immediately after film formation.
  • Example 1 For Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, the reflectance of the visible light wavelength at an incident angle of 8 degrees was measured with a spectrophotometer (U-400 type, manufactured by Hitachi, Ltd.). Table 2 shows the reflectance measurement results.
  • Adhesiveness Adhesive tape (Scotch Mending Tape 3M # 800) was applied to the film, and then peeled off. The film was peeled off per 45mm ⁇ , and the number of pinholes generated
  • Hardness A weight of 450 gZcm 2 was placed on the film surface with 6 layers of nell interposed, and this was slid 500 times at a stroke distance of 100 mm to change the transmittance of the sliding part. taking measurement.
  • Humidity resistance Leave in an atmosphere of 50 ° C and 95% RH for 24 hours. Then, clean and check for any abnormal appearance quality before and after the test.
  • High temperature resistance Leave in an atmosphere of 70 ° C for 24 hours. Then, clean and check that there is no abnormality in appearance quality before and after the test.
  • High and low temperature resistance After standing in an atmosphere of 40 ° C and 30% RH for 24 hours, after standing for 1 hour in nature , 2 cycles after 1 cycle of standing at -10 ° C for 24 hours and then standing for 1 hour. Then, clean and confirm that there is no abnormality in appearance quality before and after the test.
  • Salt water resistance performance Leave in a 5% salt water atmosphere at 35 ° C for 240 hours. After cleaning, confirm that there is no abnormality in appearance quality before and after the test (salt spray test ISO 9227)
  • Table 3 shows the durability evaluation results.

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Abstract

　ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜とが成膜されてなる表面鏡において、ガラス基板の上にＡｌ膜、ＳｉＮｘＯｙ膜、Ｎｂ2Ｏ5膜を順次積層してなることを特徴とする表面鏡が提供される。

Description

明 細 書
表面鏡
技術分野
[0001] 本発明は、金属膜と酸ィ匕物膜とが積膜されてなる表面鏡に関し、特にスクリーンの 背面力も画像を投影するリアプロジェクシヨンテレビに用いる表面鏡に関する。
発明の背景
[0002] 近年、大画面表示装置としてリアプロジェクシヨンテレビ、フラットパネルディスプレイ およびプロジェクシヨンテレビなどがある力 中でもリアプロジェクシヨンテレビは、安価 であるという理由から、かなりの普及がみられる。
[0003] リアプロジェクシヨンテレビは、 CRT等の表示画面を、光学系を用いてスクリーンに 映すものであり、鏡を用いて表示光を反射させることにより、小さい奥行きで光路を長 くして、大きなスクリーンに映すようにしている。
[0004] リアプロジェクシヨンテレビに用いられる鏡として、ガラス基板に銀鏡反応で Ag膜を 成膜し、 Ag膜上に保護膜を形成してなる、いわゆる裏面鏡といわれるものと、ガラス の表面に金属膜を形成してその上に酸ィ匕物膜を形成して、酸化物膜の面から光を 入射して、金属膜で反射させる表面鏡とが用いられている。
[0005] 裏面鏡は、反射膜が耐久性のある保護膜を用いて保護されており、浴室などに用 いることができるほど耐久性は良いが、光は、 Ag膜で反射する他にガラス面でも反射 をするため、スクリーンに映し出される表示には 2重像が生じるという問題や、ガラス 基板による表示光の吸収のため、反射率が低いといった問題点がある。
[0006] 物理蒸着法などでガラス面に金属膜を成膜されてなる表面鏡は反射率が大きぐ 金属膜が表示光を、ガラスを通過させずに、直接反射させるため、 2重像の問題もな い。
[0007] 例えば、特許文献 1には、 Agを主成分として Pd、 Auおよび Ruを添カ卩した金属膜を スパッタリング法で作成される表面鏡が開示されている。
[0008] しかし、このような鏡は、一般家庭用で使用されるリアプロジェクシヨンテレビに使用 するには、貴金属を用いるため高価であり、また、高温 ·高湿雰囲気に対する耐久性 に問題がある。
[0009] そこで、最近は金属膜に A1を用いた表面鏡が用いられている。例えば、 A1を用い た表面鏡として特許文献 2では、基板に TiO、 AIO、 Al、 TiOの順に薄膜を積膜し
2 2 2
た反射鏡が提案されている。この表面鏡の反射率は 90%以下であり、また、反射膜 の硬度に難点がある。
[0010] また特許文献 3には、基板に SiO、 Al、 Cr、 Al Oの順に薄膜を積膜した反射鏡が
2 2 3
提案されている力 この表面鏡の反射率も低ぐリアプロジェクシヨンテレビに用いるこ とはできない。
[0011] そこで、一般的に用いられている表面鏡は、ガラス基板に Al、 SiO、 TiOの順に成
2 2 膜した増反射タイプの反射鏡が使用されているが、この膜構成は、耐磨耗性能が劣 り、表面が汚れた場合に布等で拭く事ができない。
[0012] この欠陥を解決するものとして、特許文献 4は、基板に Al、 SiO、 TiO、 SiOxNy
2 2
の順に薄膜を積膜した表面鏡が提案されている。この膜構成の表面鏡は、耐磨耗性 の改善が見られるが、 A1膜の構造は改善されていないので、十分な硬度や耐久性が 得られていない。
[0013] 最近、プロジェクシヨンテレビは、そのサイズが 60インチ以上と、大型化が進み、ま た、 Degital Light Processing (テキサッインストルメント社、登録商標）や反射型 液晶パネルなどの表示輝度や画像の精密さが向上した光源が用いられるようになり、 従来確認できな力つた表面鏡の膜欠陥に起因する微細なピンホール力 Sスクリーン上 に汚れとして見え画面品質を損なう問題が出てきた。
[0014] すなわち、従来、表面鏡の膜欠陥は、直径 0. 5mm以下であれば問題無しとされて いたが、直径 0. 3mm程度の微細なピンホールも問題となることが判明しており、この ようなピンホールの無 、大サイズの表面鏡が求められて 、る。
特許文献 1：特開 2001— 226765号公報
特許文献 2：特開平 6 - 51110号公報
特許文献 3：特開平 6 - 130210号公報
特許文献 4:特開平 7— 5310号公報
発明の概要 [0015] 本発明によって、直径 0. 3mm程度の微細なピンホールの無い、大サイズの表面 鏡を提供できる。
[0016] 本発明の表面反射鏡は、ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜とが成膜されてなる 表面鏡において、ガラス基板の上に A1膜、 SiNxOy膜、 Nb O膜を順次積層してな
2 5
ることを特徴とする表面鏡である。
図面の簡単な説明
[0017] [図 1]本発明の実施例 2の、表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
[図 2]本発明の実施例 1の、表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
[図 3]リアプロジェクシヨンテレビの構成を示す概略図である。
[図 4]比較例 1の表面鏡の膜構成を示す概略断面図である。
詳細な説明
[0018] 本発明は、リアプロジェクシヨンテレビが必要とする微細なピンホールが少ない表面 鏡を提供することを可能にする。
[0019] 特に、本発明は、 DLPや反射型液晶パネルなどの表示輝度や画像の精密さが向 上した光源が用いられるリアプロジェクシヨンテレビに使用可能な、直径 0. 5mm以下 の微細なピンホールの無い大サイズの表面鏡を提供できる。
[0020] 微細なピンホールが無 、表面鏡を得るために、ガラス基板、 A1膜、 SiO膜、 Nb O
2 2 5 の順に構成される表面鏡において、ピンホールの発生を調査したところ、直径 0. 5m m以下のピンホールは、 A1膜及び Nb O膜単層膜ではピンホールが発生していない
2 5
こと、 SiOの成膜時に発生していることが判明した。
2
[0021] さらに、 Siターゲットを用いて SiOを成膜する際に、 Si表面に SiOの絶縁膜が生成
2 2
し電荷が蓄積された結果発生する、マイクロアーキングと呼ばれる微細な異常放電が 局所的に発生しているのが観察された。また、マイクロアーキングの発生頻度とピン ホールの発生個数とに相関関係のあることがわ力つた。
[0022] 従って、表面鏡の直径 0. 5mm以下のピンホールは、この SiO膜の成膜時のマイ
2
クロアーキングが原因である事が特定された。
[0023] そこで SiOを成膜時にこのマイクロアーキングを無くす方法を検討した。
2
その結果、 SiOの代わりに同じ屈折率、吸収を有する SiNxOy膜を用いることにより 、マイクロアーキングを減少させることに成功した。またこの SiNxOyを用いた表面鏡 は、 SiOを用いた表面鏡と同じ光学特性と耐久性を有することも確認された。
2
[0024] この SiNxOy膜が、マイクロアーキングを防止するメカニズムは、 Siターゲット表面 にマイクロアーキングの発生源となる SiOの生成を防止する事で成膜時の電圧を低
2
下させマイクロアーキングを発生しに《する効果がある。
[0025] 本発明の表面鏡は、これらのピンホールが非常に少ない表面鏡として、ガラス基板 の上に A1膜、 SiNxOy, Nb O力もなる膜構成の表面鏡を見出したものである。
2 5
[0026] 図 3は、本発明の表面鏡が用いられる、リアプロジェクシヨンテレビ 1の構成を示す 概略図である。リアプロジェクシヨンテレビ 1は、主に、ケーシング 5の中に、映像投射 装置 2と、映像投射装置 2から投射される映像を反射する反射鏡 (表面鏡) 3、反射鏡 3で反射される映像を映すスクリーン 4等で構成される。映像投射装置 2は、 CRT等 の表示装置と映像を投射するための光学系で構成されている。
[0027] 本発明の表面鏡 3は、図 1に示すような、ガラス基板 11に、 A1膜 13、 SiNxOy膜 14 、 Nb O膜 15が、この順に物理蒸着法で積膜されて、反射膜 10を形成する表面鏡 3
2 5
z 、また ίま、図 2【こ示すよう【こ、ガラス基板 1 Uこ、 SiNxOy膜 12、 A1膜 13、 SiNxOy 膜 14、 Nb O膜 15、がこの順に物理蒸着法で積膜されて、反射膜 10' を形成する
2 5
表面鏡 3"である。
[0028] ガラス基板 11にはフロート法で製作される板ガラスを用いることができ、 A1膜 13ある いは SiNxOy膜 12を成膜するガラス表面を、成膜する前にイオンエッチング処理し たものを好適に用いることができる。
[0029] また、高平坦度ガラスと呼ばれる表面のうねりの少な 、ガラスや、研磨した平坦度が 優れたガラスを用いることが好ま 、。
[0030] 物理蒸着法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法等の方法 を用いることができる。なかでも、成膜が容易なこと、膜の密着性が良好なこと等から
、スパッタリング法が推奨される。
[0031] 図 2に示す、ガラス基板 11の表面に成膜される SiNxOy膜 12は、その上に形成さ れる A1膜 13を直接ガラス基板に積膜するものより、 A1膜の結晶性を更に高めて、ガ ラス基板 11と A1膜 13との密着性を向上させるのために成膜するもので、 l〜50nm の膜厚とすることが好ましい。さらに、 SiNxOy膜 12の厚みは、 lOOnm程度と厚くし た場合も特に問題はないが、 A1の結晶性は、 50nm以上では殆んど変わらないので 、コスト的に 50nm以下とすることが望ましい。
[0032] A1膜 13は、 60nm以上の膜厚にすれば 90%以上の可視光線反射率が得られ、ま た、 60nm以上で厚みを増やしても反射率は大きくならないので、膜厚は 60nmとす れば十分である。但しそれ以上の膜厚としても、特に問題はない。
[0033] A1膜は、アルミニウムターゲットを用い、 Arガスなどの不活性雰囲気下でスパッタリ ングして得ることができる。
[0034] A1膜には、 A1の耐食性向上対策として、 0〜5重量％以下の Mn、 Mg、 Si、 Ndから 選ばれる 1種以上の金属を含んだものを用いることができる。 Mn、 Mg、 Si、 Ndを含 ませるには、アルミニウムターゲットに Mn、 Mg、 Si、 Ndを含有させたターゲットを用 い、 Arガス等の不活性雰囲気中で成膜することによって得られる。
[0035] 但し、 A1膜に含ませる Mn、 Mg、 Si、 Ndが 5重量％を越えると、 A1の結晶性が損な われ反射率が低下するので好ましくな 、。
[0036] また、耐久性能を向上させるために A1膜に含有させる、 Mn、 Mg、 Si、 Ndは、 Al膜 の結晶の構造を崩し、反射率の低下となるので、含有量はできるだけ抑えることが好 ましい。
[0037] A1膜の上の SiNxOy膜 14は、 A1膜 13と最上膜の Nb O膜 15との密着性を向上さ
2 5
せる効果もある。
[0038] SiNxOy膜 14の厚みを 30nm以上にすれば、 A1膜に直接 Nb O膜を積膜したもの
2 5
比べ、十分な硬度と耐高温 ·高湿性を有する表面鏡が得られる。また Nb Oとの屈折
2 5 率の違いによる反射率の増反射効果を得るには、 SiNxOy膜 14の厚みは、 80±40 nmとすることが好ましい。
[0039] SiNxOy膜 14は、 Siターゲットを用い、 Arガス、酸素ガス、窒素ガスの混合ガス雰 囲気下でスパッタリングすることにより得られる。 Siターゲットには、一般的に Bや A1が 含まれたものが使用される。 Arガス、酸素ガス、窒素ガスの比率は、容積比で、 Arガ ス： 35〜80%、酸素ガス： 15〜45%、窒素ガス： 5〜25%とすることが最適である。
[0040] 但し窒素が酸素に対して少なすぎると SiOの膜となってしまい。アーキングが発生 しピンホールが増加する。また多すぎると Si Nとなり、表面鏡の光学特性や耐久性
3 4
に悪い影響を与える。
[0041] また、成膜される SiNxOy膜 14は、 0. 5≤x≤l. 5、 0. 5≤y≤l. 9とすること力 子 ましい。
[0042] Nb O膜 15は、ニオブターゲットを用い、 Arガスに対して 50〜： L00重量％の酸素
2 5
含有雰囲気下でスパッタリングすることにより得られ、金属膜の保護と増反射を目的と して成膜される。
[0043] 表面鏡 13をリアプロジェクシヨンテレビに用いるためには、 Nb O膜 15の厚みを 30
2 5
nm以上とすることにより、十分な耐高温 ·高湿性と耐摩耗性が得られる。また SiNxO yとの屈折率の違いによる反射率の増反射効果を得るには、 Nb O膜 15の厚みは 6
2 5
0±40mnとすること力 S好まし!/ヽ。
実施例
[0044] 以下本発明の一例として、成膜方法にスパッタリング法を採用した実施例を詳述す るが、本発明の反射鏡は、この成膜法に限定されるものではない。
[0045] 実施例 1
洗浄、乾燥した厚み 3mm、サイズ 600mm X 600mmのフロート法板ガラスを用い て図 2に示す膜構成の表面鏡 3グを作製した。成膜は全てスパッタリング法で行った
[0046] 最初に、 ArlOO (sccm)、酸素 70 (sccm)で真空圧 0. lOPaの雰囲気にお!、て、 高周波電源装置（出力 3kW、 2A)を用い、電圧は ΙΟΟΟνを印加して反応性プラズマ を発生させ、反応性プラズマの下を、約 1 (mmZmin)の速度でガラスを通過させ、 ガラス表面の改質を行った。
[0047] 次に、中周波電源を用いて、 Siターゲットを取り付けたデュアル力ソード用いて、ァ ルゴン 120 (sccm)、酸素 60 (sccm)窒素 35 (sccm)で真空度 0. 30 (Pa)の雰囲気 【こお 、て厚み 30mnの SiNxOy膜 12を成膜した。
[0048] 次!、で、 SiNxOy膜の上に、同様の電源を用いて、 A1ターゲットを取り付けたデュ アル力ソード用いて、 Ar300 (sccm)の雰囲気で厚み 80nmの A1膜 13を成膜した。
[0049] 次いで、厚み 80nmの SiNxOy膜 14を、同様の電源、力ソードを使用し Siターゲッ トを用いて、 Arl20 (sccm)、酸素 70 (sccm)、窒素 35 (sccm)圧力 0. 46 (Pa)の雰 囲気で成膜した。
[0050] さらに、 SiNxOy膜 14の上に、 Nbターゲットを用いて、 Nb O膜を 60nm成膜した
2 5
。成膜は同様の電源、力ソードを使用し Nbターゲットを用いて Ar300 (sccm)、酸素 120 (sccm)、圧力 0. 28 (pa)の雰囲気で成膜した。
[0051] 実施例 2
図 1に示す、ガラス基板 11と A1膜 13との間に SiNxOyを成膜しない、実施例 1とは 異なる反射鏡 を作製した。この反射鏡の作製は、ガラス基板 11と A1膜 13との間 に SiNxOyを成膜しないことを除いて、実施例 1と全く同じ条件で行った。
[0052] 比較例 1
実施例 1の SiNxOyの代わりに SiO膜 16を Siターゲットを用いて成膜した以外は、
2
全て実施例 1と同様の成膜を行い、表面鏡を作製した。 SiO
2膜の厚みは SiNxOyの 厚みと同じにした。
[0053] 〔ピンホールの評価〕
実施例 実施例 2、比較例 1の表面鏡に関して、ピンホールの発生を評価した。評 価方法は、 1000mm X 600mmサイズのガラス基板 10枚において直径 0. 3mm〜0 . 5mmのピンホールの発生個数を確認した。発生個数の確認は、成膜開始直後、成 膜開始力も経過した時間が 6時間後、 12時間後、 24時間後に行った。
[0054] 確認されたピンホールの発生個数を表 1に示す。表 1のピンホールの発生個数はサ ンプル 10枚に確認されたピンホールの個数である。
[表 1]
Figure imgf000008_0001
[0055] 表 1に示すように、 SiNxOyを用いた表面鏡の実施例 1、 2は、 24時間経過後もピン ホールの発生は、非常に少な力つた力 SiOを用いた比較例 1は、成膜直後のピン
2
ホールは少ないが、時間と共にピンホールの個数が増加し、 12時間経過後にはピン ホール無しの表面鏡を作製できないことが判明した。
[0056] 〔反射率の評価〕
実施例 1、実施例 2、比較例 1に対して、分光光度計 (U— 400 型. 日立製作所製 )により入射角度 8度の可視光線波長による反射率を測定した。反射率の測定結果 を表 2に示す。
[表 2]
Figure imgf000009_0001
[0057] 実施例 1、 2の反射鏡は、比較例 1とほとんど差異が無ぐ SiO膜を SiNxOy膜に変
2
更しても、反射率に大きな変化の無いことが確認された。
〔耐久性の評価〕
実施例 実施例 2、比較例 1に対して以下の各評価項目の耐久性を評価した。
[0058] 密着性:接着テープ （スコッチメンデイングテープ 3M # 800)を膜上に貼着後、 これを引き剥がし、 45mm φ当たりの成膜した膜の剥離、膜に発生したピンホール数
(個数)を顕微鏡で観察、測定する。
[0059] 硬度：膜表面に 6枚重ねのネルを介在させて 450gZcm2の重錘を乗せ、これをスト ローク距離 100mmで 500回往復摺動して、該摺動部の透過率の変化を測定する。
[0060] 耐湿性能： 50°C、 95%RHの雰囲気中に 24時間放置する。その後、洗浄しテスト 前後で外観品質の異常が無 ヽ事を確認する。
[0061] 耐高温性能： 70°Cの雰囲気中に 24時間放置する。その後、洗浄しテスト前後で外 観品質の異常が無!、事を確認する。
[0062] 耐高低温性能: 40°C、 30%RHの雰囲気中に 24時間放置後、 1時間自然放置後 、—10°Cの雰囲気中に 24時間放置後、 1時間自然放置するというサイクルを 1サイク ルとして 2サイクル実施する。その後、洗浄しテスト前後で外観品質の異常が無い事 を確認する。
[0063] 耐塩水性能： 35°Cの雰囲気中に 5%塩水雰囲気に 240時間放置する。その後洗 浄しテスト前後で外観品質の異常が無 、事を確認する (塩水噴霧試験 ISO 9227)
[0064] 表 3に、耐久性の評価結果を示す。
[表 3]
Figure imgf000010_0001
[0065] 実施例 1、 2と比較例 1との耐久性はほとんど差異が無く、 SiO膜を SiNxOyに変更
2
しても、耐久性に問題のな ヽことが確認された。

Claims

請求の範囲
[1] ガラス基板に金属膜と金属酸化物膜とが成膜されてなる表面鏡にお!ヽて、ガラス基 板の上に A1膜、 SiNxOy膜、 Nb O膜を順次積層してなることを特徴とする表面鏡。
2 5
[2] ガラス基板と A1膜との間に SiNxOyが成膜されてなることを特徴とする請求項 1に記 載の表面鏡。
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