WO2007026857A1

WO2007026857A1 - 溶融金属の流れ制御装置、コールド・クルーシブル装置、溶融めっき装置及び溶融金属の流れ制御方法

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Publication number: WO2007026857A1
Application number: PCT/JP2006/317296
Authority: WO
Inventors: Shigeo Asai; Kensuke Sasa; Yasumasa Hirono
Original assignee: National University Corporation Nagoya University
Priority date: 2005-08-29
Filing date: 2006-08-25
Publication date: 2007-03-08
Also published as: TW200720478A; JPWO2007026857A1

Abstract

この溶融金属の流れ制御装置は、溶融金属１が流れる流路２と、流路２内を流れる溶融金属１との接触により溶融金属１に直流電流を通電可能な通電手段３と、流路２内を流れる溶融金属１に静磁場を作用させる静磁場発生手段１０ａ、１０ｂとを備えている。通電手段３は、流路２内を流れる溶融金属１と接触可能な領域に、相互に離間し、且つ、相対向して配設された第１電極部５及び第２電極部６よりなる電極部対を備え、この電極部対は、それぞれが相対向するように溶融金属１の流れ方向に分割して配設された複数個の第１分割電極５ａ～５ｅ及び第２分割電極６ａ～６ｅよりなる、複数組の分割電極対により構成されている。静磁場及び電流の重畳印加により溶融金属の流れを制御する際に、大電流を通電する場合であっても、電流の一点集中による不都合を避けつつ、溶融金属の流れを安定に制御することができる。

Description

溶融金属の流れ制御装置、コールド ' クルーシプル装置、溶融めつき装置及び溶融金属の流れ制御方法技術分野

本発明は、溶融金属の流れ制御装置、コールド · クルーシブル装置、溶融めつき装置及び溶融金属の流れ制御方法に関し、より詳しくは、流路内を流れる溶融金属に直流電流と静磁場とを重畳印加することにより発生するローレンツ力を利用して、溶融金属の流れを制御する溶融金属の流れ制御装置及び溶融金属の流れ制御方法、並ぴにこの流れ制御装置を備えたコールド · クルーシブル装置及ぴ溶融めつき装置に関する。本発明に係る溶融金属の流れ制御装置及ぴ溶融金属の流れ制御方法は、例えば、溶融めつきプロセス、コールド ' クルーシブルプロセスや連続铸造プロセスにおいて、溶融金属を保持したり、あるいは溶融金属の流速や流量を制御したりする際に好適に利用することができる。背景技術

溶融金属めつき鋼板の製造方法として、シンクロールを用いる方法が知られている。この方法では、焼鈍炉で表面活性化されて表面酸化膜が除去された鋼板を、斜め上方からめっき浴に浸漬させ、めっき浴中に配設されたシンクロールにより鋼板の向きを変えて、めっき浴から垂直上方に鋼板を引き上げている。しかし、めっき浴中に配設したシンクロ一ルを用いるこの方法では、シンクロールとの接触により鋼板表面に疵が付いたり、シンクロールが腐食されることから毎々のメンテナンスや口ール交換が必要になったりする。そのため、この従来方法では、鋼板の品質や生産性が低下するという問題がある。

そこで、シンクロールの代わりに空中ポットを用いて、溶融金属めつき鋼板を製造する方法が知られている（例えば、特開平 8— 3 3 3 6 6 1号公報の第 4一 5頁、第 1図等参照）。

この特開平 8— 3 3 3 6 6 1号公報に開示された従来の溶融金属めつき鋼板の製造方法では、溶融金属が収容された容器の底部に鋼板が進入可能な開口部を設け、この開口部から鋼板を上方に引き上げることで、容器中の溶融金属を鋼板面に付着させている。そして、例えば、開口部から進入する鋼板を挟んで対峙するように配設された一対の静磁場印加装置により、鋼板面に対して垂直な静磁場を印加するとともに、鋼板面に対して平行な直流電流を通電することにより、容器底部の開口部から溶融金属が漏洩することを防止している。

しかしながら、上記従来の静磁場及び電流の重畳印加により溶融金属を保持する方法では、開口部からの溶融金属の漏洩を完全に無くそうとすると、大きな電流を通電する必要がある。そうすると、電流の一点集中により、溶融金属の流れに不安定現象が生じる。

このように従来の静磁場及び電流の重畳印加により溶融金属を保持する方法においては、大電流を通電すると、電流の一点集中により溶融金属の流れに不安定現象が生じるため、流路内を流れる溶融金属の流れ先頭部を所定位置で安定に保持したり、あるいは流路内を流れる溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることが困難であった。発明の開示

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、静磁場及び電流の重畳印加により溶融金属の流れを制御する際に、大電流を通電する場合であっても、溶融金属を安定に保持したり、溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることを可能にすることを解決すべき技術課題とするものである。

上記課題を解決する本発明の溶融金属の流れ制御装置は、溶融金属が流れる流路と、該流路内を流れる該溶融金属との接触により該溶融金属に直流電流を通電可能な通電手段と、該流路内を流れる該溶融金属に静磁場を作用させる静磁場発生手段とを備え、該流路内を流れる該溶融金属に該直流電流及び該静磁場を重畳印加することにより発生するローレンッカを利用して、該溶融金属の流れを制御する溶融金属の流れ制御装置において、前記通電手段は、前記流路内を流れる前記溶融金属と接触可能な領域に、相互に離間し、且つ、相対向して配設された第 1電極部及び第 2電極部よりなる電極部対を備え、前記電極部対は、それぞれが相対向するように前記溶融金属の流れ方向に分割して配設された複数個の第 1分割電極及び第 2分割電極よりなる、複数組の分割電極対により構成されていることを特徴とするものである。

この場合、各分割電極対には電流の一点集中が起こらないように一定限度以上の電流が流れないようにしてあるのが好ましい。

ここに、前記「溶融金属の流れを制御する」とは、前記流路内を流れる煎記溶融金属の流れを止めて該溶融金属の流れ先頭部を所定位置に保持したり、あるいは前記流路内を流れる前記溶融金属の流速や流量を所定値に制御したりすることを含む趣意である。

この溶融金属の流れ制御装置では、静磁場発生手段により発生する静磁場と、溶融金属と通電手段との接触により流れる直流電流とにより、流路内を流れる溶融金属中にローレンツ力が誘起される。そして、この溶融金属の流れ制御装置では、ローレンツ力を利用して流路内を流れる溶融金属の流れを制御する。

このときのローレンツ力は、 F ：ローレンツ力、 J ：直流電流の電流密度、 B ：静磁場の磁束密度としたとき、べクトル表示で、 F = J X B の式で表される。すなわち、ローレンツ力（F ) の大きさは、直流電流の電流密度（ J ) と静磁場の'磁束密度（B ) とによって決まる。また、ローレンツ力が溶融金属に作用する向きは、フレミングの左手の法則に従って、直角方向に作用する静磁場及ぴ直流電流の双方に直交する方向となる。

したがって、本発明の溶融金属の流れ制御装置においては、通電手段による直流電流及び静磁場発生手段による静磁場それぞれの方向と大きさを所定のものとすることにより、流路内を流れる溶融金属の流れに対して所定の制御を行うことができる。例えば、流路内を流れる溶融金属の上流側（溶融金属が逆流する方向）に前記ローレンツ力が作用するように、直流電流及び静磁場を重畳印加すれば、流路内を流れる溶融金属の流れを止めて溶融金属の流れ先頭部を所定位置に保持したり、あるいは溶融金属の流速や流量を減少させたりすることができる。また、流路内を流れる溶融金属の下流側（溶融金属が流れる方向）に前記ローレンッ力が作用するように、直流電流及ぴ静磁場を重畳印加すれば、流路内を流れる溶融金属の流速や流量を増大させることができる。

ここで、本発明の溶融金属の流れ制御装置では、流路内を流れる該溶融金属との接触により該溶融金属に直流電流を通電可能な通電手段が、流路内を流れる溶融金属と接触可能な領域に、相互に離間し、且つ、相対向して配設された第 1電極部及び第 2電極部よりなる電極部対を備えている。そして、この電極部対は、それぞれが相対向するように溶融金属の流れ方向に分割して配設された複数個の第 1分割電極及び第 2分割電極りなる、複数組の分割電極対を備えている。

すなわち、この溶融金属の流れ制御装置では、流路内を流れる溶融金属と接触可能な電極部対が、溶融金属の流れ方向に分割して配設された複数組の分割電極対を備えている。このため、流路内を流れる溶融金属は上流側に配置された分割電極対から順に接する。したがって、上流側の分割電極対から順次、該溶融金属に通電して、ローレンツ力を発生させることができる。よって、この各分割電極対に通電させることで発生する各ローレンツ力の総和によって、流路内を流れる溶融金属の流れに対して所定の制御を行うこどができる。

例えば、流路内で溶融金属の流れ先頭部を所定位置 aで保持させるのに必要なローレンツ力の総和が F aで、 F aのローレンツ力を発生させるのに必要な直流電流の電流密度が J aであり、その位置 aに到達するまでに溶融金属が接触する分割電極対が 5組であるときを想定する。このときは、 5組の各分割電極対に対してそれぞれ電流密度が J a ェ，

J a 2 ， J a 3 ， J a ₄ , J a ₅ となるように分割して通電させれば、各分割電極対でそれぞれ F a , F a ₂ , F a ₃ , F a ₄ ， F a 5 のローレンツ力を発生させて、ローレンツ力の総和 F a ( F a = F a ₁ + F a ₂ + F a ₃ + F a ₄ + F a ₅ ) を得ることができる。このように、本発明の溶融金属の流れ制御装置では、各分割電極対に通電してローレンツ力をそれぞれ発生させ、各ローレンツ力の総和によつて、流路内を流れる溶融金属の流れに対して所定の制御を行うのに必要なローレンツ力を確保している。このため、大き、なローレンツ力の総和を得るべく、電極対全体に大電流を通電して全体としての電流密度を大きくする場合であっても、各分割電極対に対しては分割された分の電流を通電すれば足りる。また、各分割電極対に流す電流を任意に変えて、全体で必要量の電流を通電すればよい。したがって、一組の電極対に大電流が通電されるという電流の一点集中を避けることができる。よって、電流の一点集中により発生する溶融金属流れの不安定現象を回避することが可能となる。 '

したがって、本発明の溶融金属の流れ制御装置によれば、流路内を流れる溶融金属の流れ先頭部を所定位置で安定に保持したり、あるいは流 '路内を流れる溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることが可能になる。

また、電流の一点集中による不都合を避けつつ、大電流を印加することができるので、溶融金属の流れに対して所定の制御を行うべく、大きなローレンツ力を確保する際に、強磁場を作用させる必要がない。このため、静磁場発生手段のコスト高を避けることができ、装置の低コスト化に寄与する。

本発明の溶融金属の流れ制御装置の好適な態様において、前記流路には、該流路内を流れる前記溶融金属の流れを構造的に制御して該溶融金属と前記電極部対との接触を促進させる接触促進手段が設けられている。

ここで、溶融金属の流れを構造的に制御するとは、例えば、機械的な構成でもって溶融金属の流れを構造的に制御することをいい、例として後で説明する好適な態様を挙げることができる。仮に流路内を流れる溶融金属が電極部対と接触することなく流出してしまうと、該溶融金属に直^電流が流れず、ローレンツ力を発生させることもできない。特に、流路が垂直に又は傾斜して延在している場合は、重力方向又は傾斜方向に流れる溶融金属が電極部対と接触することなく流出してしまうおそれがある。この点、この溶融金属の流れ制御装置では、流路内を流れる溶融金属と電極部対との接触が接触促進手段により保障される。このため、流路内を流れる溶融金属を電極部対に確実に接触させることができ、該電極部対から溶融金属に通電させて所定のローレンツカを該溶融金属に確実に作用させることができる。したがって、流路内を流れる溶融金属が電極部対と接触することなく流出してしまうような不都合を、回避することができる。

かかる観点より、流路が垂直に又は傾斜して延在している場合は、前記接触促進手段を設けることが好ましい。

好適な態様において、前記接触促進手段は、前記第 1電極部を構成する前記第 1分割電極同士の間から前記流路内に延在する少なくとも 1個の第 1堰と、該第 1堰と前記溶融金属の流れ方向に間隔を隔てて配設された、前記第 2電極部を構成する前記第 2分割電極同士の間から前記流路内に延在する少なくとも 1個の第 2堰とにより構成されている。

この溶融金属の流れ制御装置では、第 1堰及び第 2堰に溶融金属が当接することで、溶融金属の流れの方向を変えたり、第 1堰及び第 2堰の上流側に溶融金属の一部を滞留させたりすることができ、これによつて溶融金属と電極部対との接触を促進させることが可能になる。

好適な態様において、前記第 1堰と前記第 2堰とは前記溶融金属の流れ方向に交互に配設されている。

この溶融金属の流れ制御装置では、第 1分割電極同士の間から流路内に延在する第 1堰と、第 2分割電極同士の間から流路内に延在する第 2 堰とが溶融金属の流れ方向に交互に配設されているので、溶融金属の円滑な流れを確保するのに有利となる。なお、前記第 1堰と前記第 2堰とが前記溶融金属の流れ方向に並列に配設されていてもよく、この場合であっても溶融金属の流れが第 1堰及ぴ第 2堰で遮断されるようなことはない。

好適な態様において、前記接触促進手段は、前記流路の側面又は底面に設けられた複数個の溝により構成されている。

この溶融金属の流れ制御装置では、流路の側面又は底面に設けられた溝内に溶融金属の一部を滞留させることができ、これによつて溶融金属と電極部対との接触を促進させることが可能になる。

また、接触促進手段としての溝が流路の側面又は底面に凹んで設けられていることから、前記接触促進手段によって流路が塞がれるようなことがなく、流路内で物体を確実に通過させることができる。このため、例えば、本発明の溶融金属の流れ制御装置を溶融めつき鋼板の製造に適用する場合、流路内で確実にめっき鋼板を通過させることができる。なお、前記溝をより実効のあるものとする観点より、流路が垂直に延在している場合はその流路の側面に溝を設け、また、流路が傾斜して延在している場合はその流路の底面に溝を設けることが好ましい。

好適な態様において、各前記溝は、相対向する各前記第 1分割電極及ぴ各前記第 2分割電極と対応する位置に設けられている。

この溶融金属の流れ制御装置では、各前記第 1分割電極及び各前記第 2分割電極と対応する位置に溝が設けられているので、溝内に留まる溶融金属を第 1分割電極及び第 2分割電極に確実に接触させることができる。

本発明の溶融金属の流れ制御装置の好適な態様において、複数組の前記分割電極対のうち、他の組の分割電極対よりも前記流路内を流れる前記溶融金属の下流側に配設された少なくとも一の組の分割電極対は、他の組の分割電極対よりも電極面積が小さい小型第 1分割電極及び小型第 2分割電極よりなる、少なくとも一組の小型分割電極対を含んでいる。この溶融金属の流れ制御装置では、流路内を流れる溶融金属の下流側に、他の組の分割電極対よりも電極面積の小さい小型分割電極対が配設されている。このため、小型分割電極対が配設された下流側において、溶融金属の停止位置あるいは流量をその流れ方向に細かく制御することが可能になる。

請求項 8に記載のコールド ' クルーシブル装置は、溶融金属が収容される溶融金属浴と、該溶融金属浴の底部又は側部に前記流路が接続された、請求項 1乃至 7のいずれか一つに記載の溶融金属の流れ制御装置と、を備えていることを特徴とするものである。

このコールド . クルーシブル装置では、溶融金属浴に収容された溶融金属が流れる前記流路において、溶融金属を安定に保持したり、溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることができる。

請求項 9に記載の溶融めつき装置は、溶融金属が収容される溶融めつき浴と、該溶融めつき浴の底部又は側部に前記流路が接続された、請求項 1乃至 7のいずれか一つに記載の溶融金属の流れ制御装置と、を備えていることを特徴とするものである。

この溶融めつき装置では、溶融めつき浴に収容された溶融金属が流れる前記流路において、溶融金属を安定に保持したり、溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることができる。

上記課題を解決する本発明の溶融金属の流れ制御方法は、流路内を流れる溶融金属に直流電流及び静磁場を重畳印加することにより発生するローレンツ力を利用して、該溶融金属の流れを制御する溶融金属の流れ制御方法において、それぞれが相互に離間し、且つ、相対向するように前記溶融金属の流れ方向に分割して配設された複数個の第 1分割電極及び第 2分割電極よりなる、複数組の分割電極対を備えた電極部対を用い、所定の前記ローレンツ力を発生させるのに必要な電流密度の直流電流を、前記流路内を流れる前記溶融金属が接触した各前記分割電極対に分割して通電させることを特徴とするものである。

この溶融金属の流れ制御方法では、流路内を流れる溶融金属が接触した各分割電極対に、所定のローレンツ力を発生させるのに必要な電流密度の直流電流を分割して通電させる。このため、各分割電極対への通電により発生した各ローレンツ力の総和によって、流路内を流れる溶融金属の流れに対して所定の制御を行うことができる。

例えば、流路内で溶融金属の流れ先頭部を所定位置 aで保持させるに必要なローレンツ力の総和が F aで、 F aのローレンツ力を発生させるのに必要な直流電流の電流密度が J aであり、その位置 aに到達するまでに溶融金属が接触する分割電極対が 5組であるときは、 5組の各分割電極対に対してそれぞれ電流密度が J a , J a ₂ , J a 3 , J a 4 ， J a ₅ となるように分割して通電させれば、各分割電極対でそれぞれ， F a ₂ , F a ₃ ， F a ₄ , F a ₅ のローレンツ力を発生させて、ローレンツ力の総和 F a ( F a = F a ！ + F a ₂ + F a ₃ + F a ₄ + F a ₅ ) を得ることができる。

このように、本発明の溶融金属の流れ制御方法では、各分割電極対に通電してローレンツ力をそれぞれ発生させ、各ローレンツ力の総和によつて、流路内を流れる溶融金属の流れに対して所定の制御を行うのに必要なローレンツ力を確保している。このため、大きなローレンツ力の総和を得るべく、電極対全体に大電流を通電して全体としての電流密度を大きくする場合であっても、各分割電極対に対しては分割された分の電流を通電すれば足りる。また、各分割電極対に流す電流を任意に変えて、全体で必要量の電流を通電すればよい。したがって、一組の電極対に大電流が通電されるという電流の一点集中を避けることができる。よって、電流の一点集中により発生する溶融金属流れの不安定現象を回避することが可能となる。

したがって、本発明の溶融金属の流れ制御方法によれば、流路内を流れる溶融金属の流れ先頭部を所定位置で安定に保持したり、あるいは流路内を流れる溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることが可能になる。

また、電流の一点集中による不都合を避けつつ、大電流を印加することができるので、溶融金属の流れに対して所定の制御を行うべく、大きなローレンツ力を確保する際に、強磁場を作用させる必要がない。このため、安価な溶融金属の流れ制御プロセスを実現できる。本発明の溶融金属の流れ制御方法は、好適な態様において、前記流路内を流れる前記溶融金属の流れ先頭部が所定位置で保持されるように、該溶融金属の流れを制御する。

この態様によれば、流路内を流れる溶融金属の流れ先頭部を所定位置で安定に保持することができるので、例えば、前記空中ポットを用いる、溶融金属めつき鋼板の製造に好適に利用することが可能になる。

本発明の溶融金属の流れ制御方法は、好適な態様において、前記流路内を流れる前記溶融金属の流量が所定量となるように、該溶融金属の流れを制御する。 '

この態様によれば、流路内を流れる溶融金属の流量を安定に制御することができる。このため、例えば、チタンやジルコニウム等の活性金属又は高融点金属の溶湯を非接触保持する、コールド ' クルーシブルプロセスに適用すれば、溶融金属の排出に際して注湯速度を安定に制御することが可能になる。また、鉄鋼製造において、取鍋からタンディッシュへ溶鋼を注湯するノズルゃタンディッシュから連続錄造機へ溶鋼を注湯するノズルの流量制御に適用できる。

本発明の溶融金属の流れ制御方法の好適な態様において、複数組の前記分割電極対のうち、他の組の分割電極対よりも前記流路内を流れる前記溶融金属の下流側に配設された少なくとも一の組の分割電極対には、他の組の分割電極対よりも小さな電流値の電流を流す。

このように、他の組の分割電極対よりも下流側に配設された少なくとも一の組の分割電極対に、他の組の分割電極対よりも小さな電流値の電流を流すことにより、溶融金属の流れに対してより精細な制御が可能になる。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の実施形態 1に係る溶融金属の流れ制御装置を模式的に示す斜視図である。

図 2は、本発明の実施形態 2に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、接触促進手段及び分割電極対等を模式的に示す斜視図である。

図 3は、本発明の実施形態 3に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、流路形成用部材を模式的に示す斜視図である。

図 4は、本発明の実施形態 3に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、流路形成用部材を模式的に示す分解斜視図である。

図 5は、本発明の実施形態 3に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、流路形成用部材を構成する本体の上面図である。

図 6は、本発明の実施形態 3に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、流路形成用部材を中央で切断した部分縦断面図である。

図 7は、本発明の実施形態 4に係る溶融金属の流れ制御装置の要部たる、接触促進手段及び分割電極対等を模式的に示す斜視図である。

図 8は、実施例に係る溶融金属の流れ制御装置を示し、（ a ) は、この装置の全体構成を模式的に示す説明図であり、（b ) はこの装置の要部たる 5組の分割電極対等を模式的に示す斜視図である。

図 9は、実施例に係る溶融金属の流れ制御装置で行った実験結果を示す写真である。

図 1 0は、比較例に係る溶融金属の流れ制御装置を示し、（ a ) は、この装置の全体構成を模式的に示す説明図であり、（b ) はこの装置の要部たる一組の電極対等を模式的に示す斜視図である。

図 1 1は、比較例に係る溶融金属の流れ制御装置で行った実験結果を示す写真である。

図 1 2は、比較例に係る溶融金属の流れ制御装置で行った実験結果を示す写真である。

図 1 3は、本発明の実施形態 1〜 3に係る溶融金属の流れ制御装置をコールド · クルーシプルプロセスに適用した例を示す模式断面図である。図 1 4は、本発明の実施形態 1〜 3に係る溶融金属の流れ制御装置を溶融めつきプロセスに適用した例を示す模式断面図である。発明を実施するための最良の形態以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。

(実施形態 1 ) - 図 1に模式的に示す、本実施形態に係る溶融金属の流れ制御装置は、溶融金属 1が流れる流路 2と、流路 2内を流れる溶融金属.1 との接触により溶融金属 1に直流電流を通電可能な通電手段 3と、流路 1内を流れる溶融金属 1に静磁場を作用させる静磁場発生手段 4とを備えている。通電手段 3は、流路 2内を流れる溶融金属 1 と接触可能な領域に、相互に離間し、且つ、相対向して配設された第 1電極部 5及び第 2電極部 6よりなる電極部対を備えている。この電極部対は、 5組の分割電極対を備えている。すなわち、第 1電極部 5は、溶融金属の流れ方向に分割して配設された 5個の第 1分割電極 5 a〜 5 e と、両端に位置する第 1 分割電極 5 a及び 5 eの端面並びに各第 1分極電極 5 a〜 5 e間にそれぞれ配設された 6個の絶縁板 7とから構成されている。同様に、第 2電極部 6は、溶融金属の流れ方向に分割して配設された 5個の第 2分割電極 6 a〜 6 e と、両端に位置する第 2分割電極 6 a及ぴ 6 eの端面並びに各第 2分極電極 6 a〜 6 e間にそれぞれ配設された 6個の絶縁板 7とから構成されている。そして、各第 1分割電極 5 a〜 5 e と、各第 2分割電極 6 a〜 6 e とは、それぞれが相対向するように、すなわち第 1分割電極 5 a及ぴ第 2分割電極 6 a同士、第 1分割電極 5 b及び第 2分割電極 6 b同士、第 1分割電極 5 c及び第 2分割電極 6 c同士、第 1分割電極 5 d及び第 2分割電極 6 d同士、第 1分割電極 5 e及ぴ第 2分割電極 6 e同士がそれぞれ相対向するように配設されている。

なお、本実施形態では、流路 2は重力方向に垂直に延在しており、第

1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 eは、流路 2内を重力方向（図 1の下方）に流れる溶融金属 1の上流側から、第 1分割電極 5 a及び第 2分割電極 6 a、第 1分割電極 5 b及び第 2分割電極 6 b、 ···、第 1分割電極 5 e及び第 2分割電極 6 eの順に配設されている。

そして、これら 5組の分割電極対は、並列に配置されて、直流電源 8 に接続されており、各分割電極対にはそれぞれ抵抗 9が直列に接続されている。これにより、直流電源 8から一定の電圧で各抵抗 9を介して 5 組の分割電極対にそれぞれ直流電流が印加されるようになっており、流路 2内を流れる溶融金属 1に対して、流路 2の長辺方向（図 1の左右方向であって、長方形状をなす流路 2の断面形状における長辺方向）で図 1の矢印 X方向に直流電流が通電可能となっている。なお、抵抗 9の代わりに定電流装置を用いてもよい。

流路 2の一端（図 1の上方側の一端）は、図示しない溶融金属浴の底部に接続されており、この溶融金属浴内に収容された溶融金属 1が流路 2内を重力方向に流れるようになつている。この流路 2は、断面形状が長方形状をなし、この長方形状の短辺に相当する、相互に離間し、且つ、相対向する一組の側壁が前記第 1電極部 5及び前記第 2電極部 6により構成されている。なお、図 1では、前記長方形状の長辺に相当する、流路 2の他の一組の側壁は、図を作成する際の便宜上、省略している。

静磁場発生手段 4は、流路 2の短辺方向（長方形状をなす流路 2の断面形状における短辺方向）に相対向するように、流路 2を挟んで対峙して配設された一対の電磁石 1 0 a、 1 0 bよりなる。この静磁場発生手段 4による静磁場は、一方の電磁石 1 0 aから他方の電磁石 1 0 bに向かって、流路 2の短辺方向で図 1の矢印 Y方向に作用するようになっている。

したがって、流路 2内を流れる溶融金属 1に対して、通電手段 3からの直流電流と静磁場発生手段 4からの静磁場とが重畳印加されることで、フレミングの左手の法則により、直角方向に作用する直流電流及ぴ静磁場の双方に直交する方向で、重力方向と反対の鉛直方向（図 1の矢印 Z 方向）、すなわち流路 2を流れる溶融金属 1の上流側たる逆流方向に、所定のローレンツ力が作用するようになつている。

そして、この実施形態に係る溶融金属の流れ制御装置では、流路 2内を流れる溶融金属 1 との接触により溶融金属 1に直流電流を通電可能な通電手段 3が、流路 2内を流れる溶融金属 1 と接触可能な領域に、相互に離間し、，且つ、相対向して配設された第 1電極部 5及び第 2電極部 6 よりなる電極部対を備えており、この電極部対は、それぞれが相対向するように獰融金属 1の流れ方向に分割して配設されたそれぞれ 5個の第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜6 eよりなる、 5組の分割電極対を備えている。

すなわち、この溶融金属の流れ制御装置では、流路 2内を流れる溶融金属 1 と接触可能な電極部対が、溶融金属 1の流れ方向に分割して配設された 5組の分割電極対を備えている。このため、流路 2内を流れる溶融金属 1は最上流位置に配置された分割電極対（第 1分割電極 5 a及び第 2分割電極 6 a ) から順に接する。したがって、最上流の分割電極対 (第 1分割電極 S a及び第 2分割電極 6 a ) から順次、溶融金属 1に通電して、ローレンツ力を発生させることができる。よって、この各分割電極対に通電させることで発生する各ローレンツ力の総和によって、流路 2内を流れる溶融金属 1の流れを抑制して所定の制御を行うことができる。

例えば、流路 2内で溶融金属 1の流れ先頭部を、最下流位置に配設された分割電極対（第 1分割電極 5 e及び第 2分割電極 6 e ) の位置 eで保持させたい場合であって、この位置 eで溶融金属 1の流れ先頭部を保持させるのに必要なローレンツ力の総和が F eで、 F eのローレンツ力を発生させるのに必要な直流電流の電流密度が J eであるときを想定する。このときは、例えば、 5組の各分割電極対に対してそれぞれ電流密度が J e Z 5となるように分割して通電させれば、各分割電極対でそれぞれ F e / 5のローレンツ力を発生させて、ローレンツ力の総和 F eを得ることができる。

このように、本実施形態に係る溶融金属の流れ制御装置及びその方法では、各分割電極対に通電してローレンツ力をそれぞれ発生させ、各口一レンツ力の総和によって、流路 2内を流れる溶融金属 1の流れに対して所定の制御を行うのに必要なローレンツ力を確保している。このため、大きなローレンツ力の総和を得るべく、電極対全体に大電流を通電して全体としての電流密度を大きくする場合であっても、各分割電極対に対しては分割された分の電流を通電すれば足りる。また、各分割電極対に流す電流を任意に変えて、全体で必要量の電流を通電すればよい。したがって、一組の電極対に大電流が通電されるという電流の一点集中を避けることができる。よって、電流の一点集中により発生する溶融金属流れの不安定現象を回避することが可能となる。

したがって、本実施形態によれば、流路 1内を流れる溶融金属 2の流れ先頭部を所定位置で安定に保持したり、あるいは流路 1内を流れる溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることが可能になる。

また、電流の一点集中による不都合を避けつつ、大電流を印加することができるので、溶融金属 1の流れに対して所定の制御を行うべく、大きなローレンツ力を確保する際に、強磁場を作用させる必要がない。このため、安価な溶融金属の流れ制御プロセスを実現できる。

(実施形態 2 )

図 2に模式的に示す本実施形態は、前記実施形態 1に係る溶融金属の流れ制御装置における前記流路 2に、接触促進手段を設けたものである。すなわち、この流路 2には、流路 2内を流れる溶融金属 1の流れを構造的に制御して、溶融金属 1 と前記第 1電極部 5及び前記第 2電極部 6との接触を促進させる接触促進手段 1 0が設けられている。

この接触促進手段 1 0は、前記第 1電極部 5を構成する前記第 1分割電極 5 a〜 5 e同士の間の各絶縁板 7から前記流路 2内に延在する 3個の第 1堰 1 1 a〜 1 1 c と、前記第 2電極部 6を構成する前記第 2分割電極 6 a〜 6 e同士の間の各'絶縁板 7から前記流路 2内に延在する 2個の第 2堰 1 2 a〜 1 2 b とにより構成されている。これら第 1堰 1 1 a

〜 1 1 c と第 2堰 1 2 a〜 1 2 bとは、溶融金属 1の流れ方向に間隔を隔てて交互に配設されている。また、これらの第 1堰 1 1 a〜 l 1 c及び第 2堰 1 2 a〜 1 2 bは、いずれも絶縁板 7から流路 2の途中まで延在している。こうして、流路 2内には、上流側から順に、第 1堰 1 1 a、第 2堰 1 2 a、第 1堰 l l b、第 2堰 1 2 b、第 1堰 1 1 cが配設されている。このため、流路 2内では、これら第 1堰 1 1 a〜 l 1 c及び第 2堰 1 2 a〜 1 2 bに案内されつつ、溶融金属 1が上流側から下流側に円滑に流れるようになつている。

したがって、この溶融金属の流れ制御装置では、流路 2内を流れる溶融金属 1が第 1堰 1 1 a〜 1 1 c及ぴ第 2堰 1 2 a〜 1 2 bに当接することで、溶融金属 1の流れ方向を変えたり、各第 1堰 1 1 a〜 1 1 c及び第 2堰 1 2 a〜 1 2 bの上流側に溶融金属 1の一部を滞留させたりすることができ、これによつて溶融金属 1 と各第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 eとの接触を保障することが可能になる。このため、流路 2内を流れる溶融金属 1を各第 1分割電極 5 a〜 5 e及び第 2分割電極 6 a〜 6 eに確実に接触させることができ、各第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 eから溶融金属 1に通電させて所定のローレンツ力を溶融金属 1に確実に作用させることができる。したがって、重力方向に流れる溶融金属 1が各第 1分割電極 5 a〜 5 e及び第 2分割電極 6 a〜 6 e と接触することなく流出してしまうような不都合を、回避することができる。

その他の構成及び作用効果は、前記実施形態 1 と基本的に同様である。したがって、実施形態 1の説明を援用し、重複的記載を避けることとする。

(実施形態 3 )

図 3〜図 6に模式的に示す本実施形態に係る溶融金属の流れ制御装置は、流路形成用部材 1 3を備えている。この流路形成用部材 1 3は、底壁部 1 4 a及び底壁部 1 4 a'から建ち上がる両側壁部 1 4 b、 1 4 cよりなる、断面コの字状の本体 1 4と、本体 1 4の上部開口を覆うように本体 1 4に固定された蓋 1 5 とから構成されている。そして、この本体

1 4と蓋 1 5 とにより、本体 1 4の一端から他端に延びる、断面形状が長方形状の流路 2が形成されている。なお、本体 1 4及ぴ蓋 1 5は絶縁材料により構成されている。

この流路形成用部材 1 3は、図示しない溶融金属浴の側壁から傾斜して配設されており、流路 2が傾斜して延在している。このため、この溶融金属浴内に収容された溶融金属 1が流路 2内を傾斜して（図 3の右上から左下に向かって）流れるようになつている。

また、傾斜して延在する前記流路 2の底面、すなわち前記本体 1 4の底壁部 1 4 aには、 5個の溝 1 6 a〜 1 6 eが、流路 2内を流れる溶融金属 1の流れ方向に間隔を隔てて凹設されている。各溝 1 6 a〜 1 6 e は、前記流路 2内を流れる溶融金属 1の流れ方向に対して直交方向に、一方の側壁部 1 4 bから他方の側壁部 1 4 cまで連続して延在している。また、各溝 1 6 a〜 1 6 eは、流路 2の高さの値よりも深さの値が大きくなるように設けられている（本実施形態では、溝 1 6 a〜 1 6 eの深さが流路 2の高さの 3倍程度となっている）。そして、両側壁部 1 4 b 及び 1 4 cには、各溝 1 6 a〜 1 6 e と対応する位置に、前記第 1分割電極 5 a〜 5 e及び前記第 2分割電極 6 a〜 6 eが配設されている。各第 1分割電極 5 a〜 5 e及び第 2分割電極 6 a〜 6 eは、側壁部 1 4 b 及ぴ 1 4 cの項面から各溝 1 6 a〜 1 6 eの底面まで延びている。したがって、各溝 1 6 a〜 1 6 eは、各溝 1 6 a〜 1 6 eが延在する方向に対向して配設された各第 1分割電極 5 a〜 5 e及び第 2分割電極 6 a〜 6 eにより区画されている。

また、図 6に示されるように、各溝 1 6 a〜 1 6 e同士を隔てる隔壁には管が配設されており、隣り合う溝 1 6 a〜 1 6 e同士が連通孔 1 7 a〜 1 7 dにより連通されている。これら連通孔 1 7 a〜 1 7 dは、流路 2内を流れる溶融金属 1 の上流側から下流側に向かって、順に高さ (形成位置の高さ）が低くなるように設けられている。すなわち、最上流に位置する連通孔 1 7 aが溝 1 6 aの底面から最も遠い高い位置に設けられており、下流側に向かって順に低い位置とされ、最下流に位置する連通孔 1 7 dが溝 1 6 eの底面から最も近い低い位置に設けられている。

こうして、各連通孔 1 7 a〜 1 7 dを介して、上流側の溝 1 6 aから下流側の溝 1 6 eに向かって溶融金属 1が流れることで、各溝 1 6 a〜 1 6 e内に溶融金属が確実に入り込むようになつている。

したがって、本実施形態に係る溶融金属の流れ制御装置では、傾斜して延在する流路 2の底面に凹設された各溝 1 6 a〜 l 6 e内に、流路 2 内を流れる溶融金属 1の一部を確実に滞留させることができる。しかも、これら各溝 1 6 a〜 1 6 eは各前記第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ各前記第 2分割電極 6 a〜 6 b と対応する位置に設けられているので、各溝 1 6 a〜 1 6 eに滞留させた溶融金属 1を第 1分割電極 5 a〜 5 e及び第 2分割電極 6 a〜 6 eに確実に接触させることができる。

また、各溝 1 6 a〜 l 6 eの深さの値が流路 2の高さの値よりも大きくなるように設定されているので、各溝 1 6 a〜 1 6 eに溜まった溶融金属 1 と第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 e との接触面積を大きく確保することができる。

さらに、連通孔 1 7 a〜 1 7 dの高さが上流側から下流側に向かって順に低くなるように設定されているので、例えば溶融金属 1の流れ始めにおいて、溝 1 6 a〜 1 6 e内に溜まる溶融金属 1の量は、上流に位置する溝ほど多くなり、その結果、上流側ほど溶融金属 1 と分割電極対との接触面積を大きくして確実に接触させることができる。

また、接触促進手段としての各溝 1 6 a〜 1 6 e ,が流路 2の底面に凹設されていることから、流路 2内で物体を確実に通過させることができる。このため、例えば、この溶融金属の流れ制御装置を溶融めつき鋼板の製造に適用する場合、流路 2内で確実にめっき鋼板を通過させることができる。

その他の構成及び作用効果'は、前記実施形態 1 と基本的に同様である。したがって、実施形態 1の説明を援用し、重複的記載を避けることとする。

(実施形態 4 )

図 7に模式的に示す本実施形態は、前記実施形態 2に係る溶融金属の流れ制御装置において、第 1分割電極 5 e及び第 2分割電極 6 eを、さらに 3分割したものである。すなわち、第 1分割電極 5 eは、 3個の小型第 1分割電極 5 1 e〜 5 3 eよりなる。同様に、第 2分割電極 6 eは、 3個の小型第 2分割電極 6 1 e〜 6 3 eよりなる。こうして、 5組の前記分割電極対（第 1分割電極 5 a〜 5 e及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 e ) の内、他の 4組の分割電極対（第 1分割電極 5 a〜 5 d及び第 2分割電極 6 a〜 6 d) よりも下流側の最下流位置に配設された、 1組の分割電極対（第 1分割電極 5 e 及ぴ 6 e ) 力 S、他の 4組の分割電極対（第 1分割電極 5 a〜 5 d及ぴ第 2分割電極 6 a〜 6 d) よりも電極面積が小さい 3個の小型第 1分割電極 5 1 e〜 5 3 e及び小型第 2分割電極 6 1 e〜 6 3 eよりなる、 3組の小型分割電極対を含んでいる。

なお、各小型第 1分割電極 5 1 e〜 5'3 e間及び各小型第 2分割電極 6 1 e〜 6 3 e間には、それぞれ絶縁板 7が配設されている。

したがって、この溶融金属の流れ制御装置では、流路 2内を流れる溶融金属 1の下流側に、他の分割電極対を構成する第 1分割電極 5 a〜 5 d及び第 2分割電極 6 a〜 6 dよりも電極面積が小さい、小型第 1分割電極 5 1 e〜 5 3 e及ぴ小型第 2分割電極 6 1 e〜 6 3 eよりなる、 3 組の小型分割電極対が配設されている。このため、 3組の小型分割電極対が配設された下流側において、溶融金属 1の停止位置あるいは流量をその流れ方向に細かく制御することが可能になる。また、これら 3組の小型分割電極対に、他の分割電極対（第 1分割電極 5 a〜 5 d及び第 2 分割電極 6 a〜 6 d) よりも小さな電流値の電流を流すことにより、溶融金属 1の流れに対してより精細な制御が可能になる。

その他の構成及び作用効果は、前記実施形態 1及び前記実施形態 2と基本的に同様である。したがって、実施形態 1、 2の説明を援用し、重複的記載を避けることとする。

(実施例）

磁場印加による溶融金属の保持のモデル実験として、図 8に示す装置で実験を行った。

この装置は、 5組の分割電極対に直流電流を分割して通電するもので、本発明の実施例に係るものである。この装置では、溶融金属としての溶融ガリウム（以下、溶融 G a という） 2 0が収容された溶融金属浴 2 1 の底部に導管 2 2の一端が接続されており、この導管 2 2内に流路 2 3 , が形成されている。導管 2 2は流路 2 3が水平に延在するように配設されており、導管 2 2の中央部上面にカメラ撮影用の透明なァクリル板 2 4が設げられている。なお、流路 2 3は、横幅 8 m m、高さ 4 m mの断面長方形状をなしている。また、溶融金属浴 2 1の浴高さは 2 5 m mである ₀ '

導管 2 2には、流路 2 3内を流れる溶融 G a 2 0と接触可能な領域に、それぞれが相互に離間し、且つ、相対向するように溶融 G a 2 0の流れ方向に分割して配設された 5個の第 1分割電極 2 5 a〜 2 5 e及び 5個の第 2分割電極 2 6 a〜 2 6 eよりなる、 5組の分割電極対が設けられている。各第 1分割電極 2 5 a〜 2 5 e及ぴ各第 2分割電極 2 6 a〜 2 6 eは、幅（溶融 G a 2 0の流れ方向の幅） 1 m mの銅電極よりなり、 2 m m間隔で配設されている。

そして、流路 2 3内を水平方向に流れる溶融 G a 2 0に対して、直流電源 2 7により 5組の分割電極対に直流電流を分割して印加するとともに、超伝導磁石 2 8により直流電流に垂直の方向から静磁場を印加することで、これら直流電流及ぴ静磁場の相互作用で発生するローレンツ力を溶融 G a 2 0の流れ方向と逆流する方向に作用させて、溶融 G a 2 0 の漏洩の抑制を行い、その様子をビデオカメラ 2 9で観察した。なお、各分割電極対には、それぞれ同量の電圧を印加するための抵抗 3 0が直列に接続されている。

この実施例の装置において、磁場の強度を 4 T、 2 Τとして、電極に印加する電圧を変化させて実験を行った。溶融 G a 2 0が電極と接した時間を 0として時間の経過と、溶融 G a 2 0の流れ先頭部の様子をまとめた結果を図 9に示す。なお、図 9において、囪の下から上に向かって溶融 G a 2 0が流れており、白い線で示す部分が溶融. G a 2 0の流れ先頭部である。また、磁場強度、電圧の各条件での安定保持の結果を表 1に示す。なお、表 1における〇印は、 '溶融 G a 2 0を安定して保持できたことを示し、 X印は溶融 G a 2 0を安定保持できなかったことを示す。

〔表 1〕

表 1及び図 9に示されるように、 4 Tの磁場を印加した場合には 2〜 6 Vの間で、また 2 Tの磁場を印加した場合には 3 V〜 6 Vの間で、溶融 G a 2 0を安定に保持することができた。なお、 7 V以上の電圧を印加した場合には、溶融 G a 2 0が小刻みに振動する不安定現象が見られた。この振動は電流のオン ' オフに因るもので、このような不安定性は電極の損耗を招く。

このように、 5組の分割電極対を採用した本実施例では、各電極対で電流が印加されて発生した各組でのローレンツ力の総和が静圧よりも大きくなる位置で、溶融 G a 2 0の流れ先頭部が保持され、広い安定領域が得られた。

(比較例）

比較のため、図 1 0に示す装置を用いて、同様の実験を行った。

この比較例に係る装置は、 5組の分割電極対の代わりに 1組の電極対 (幅 1 0 m mの第 1銅電極 3 1及び第 2銅電極 3 2 ) を採用すること以外は、前記実施例の装置と同様の構成である。

この比較例の装置において、前記実施例と同様、磁場の強度を 4 T、 2 Τとして、電極に印加する電圧を変化させて実験を行った。電極と接した時間を 0として時間の経過と、溶融 G aの流れ先頭部の様子をまとめた結果を図 1 1及ぴ図 1 2に示す。なお、図 1 1が磁束密度 4丁での結果、図 1 2が磁束密度 2 Tでの結果である。また、図 1 1及び図 1 2 において、図の下から上に向かって溶融 G a 2 0が流れており、白い線で示す部分が溶融 G a 2 0の流れ先頭部である。

また、磁場強度、電圧の各条件での安定保持の結果を表 2に示す。なお、表 2における〇印は、溶融 G a 2 0を安定して保持できたことを示し、 X印は溶融 G a 2 0を安定保持できなかったことを示す。

〔表 2〕

図 1 1及び表 2に示されるように、 4 Tの磁場を印加した場合には 3 V〜 6 Vの間で溶融 G a 2 0が安定に保持された。この場合、溶融 G a 2 0は電極先端でのみ保持されていた。一方、図 1 2及び表 2に示されるように、磁場を 2 Tに弱く.した場合は、 5 V以下では溶融 G a 2 0を保持することができなかった。

また、前記実施例と同様、 7 V以上の電圧を印加した場合には、溶融 G a 2 0が小刻みに振動する不安定現象が見られた。

したがって、 1組の電極対では、電流の集中を招き、溶融金属の安定保持が難しいことが確認された。

(適用例 1 )

前記実施形態 1〜 3に係る溶融金属の流れ制御装置 Mをコールド · クルーシブルプロセスに適用した例を示す図 1 3に示す。

図 1 3に示されるコールド · クルーシブル装置は、溶融金属が収容され、絶縁材料よりなる溶融金属浴 7 1 と、この溶融金属浴 7 1の底部に前記流路が接続された溶融金属の流れ制御装置 Mとを備えている。すなわち、溶融金属浴 7 1の底壁に貫通孔 7 1 aが設けられており、この貫通孔 7 1 aに通じるように垂直に配設された接続管（接続管内が前記流路となる）の部分に溶融金属の流れ制御装置 Mが配設されている。

このコールド ' クルーシブル装置では、溶融金属浴 7 1に収容された溶融金属が流れる前記流路において、溶融金属を安定に保持したり、溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることができる。

(適用例 2 )

前記実施形態 1〜 3に係る溶融金属の流れ制御装置 Mを溶融めつきプ口セスに適用した例を示す図 1 4に示す。

図 1 4に示される溶融めつき装置は、溶融金属が収容され、絶縁材料よりなる溶融めつき浴 8 1 と、この溶融めつき浴 8 1の側部に前記流路が接続された溶融金属の流れ制御装置 Mとを備えている。すなわち、溶融めっき浴 8 1の側壁の下端部に貫通孔 8 1 aが設けられており、この貫通孔 8 1 aに通じるように傾斜して配設された接続管（接続管内が前記流路となる）の部分に溶融金属の流れ制御装置 Mが配設されている。

この溶融めつき装置では、溶融めつき浴 8 1に収容された溶融金属が流れる前記流路において、溶融金属を安定に保持したり、溶融金属の流速や流量を安定に制御したりすることができる。

Claims

請求の範囲

1 . 溶融金属が流れる流路と、該流路内を流れる該溶融金属との接触により該溶融金属に直流電流を通電可能な通電手段と、該流路内を流れる該溶融金属に静磁場を作用させる静磁場発生手段とを備え、該流路内を流れる該溶融金属に該直流電流及び該静磁場を重畳印加することにより発生するローレンツ力を利用して、該溶融金属の流れを制御する溶融金属の流れ制御装置において、

前記通電手段は、前記流路内を流れる前記溶融金属と接触可能な領域に、相互に離間し、且つ、相対向して配設された第 1電極部及び第 2電極部よりなる電極部対を備え、

前記電極部対は、それぞれが相対向するように前記溶融金属の流れ方向に分割して配設された複数個の第 1分割電極及び第 2分割電極よりなる、複数組の分割電極対により構成されていることを特徴とする溶融金属の流れ制御装置。 .

2 . 前記流路には、該流路内を流れる前記溶融金属の流れを構造的に制御して該溶融金属と前記電極部対との接触を促進させる接触促進手段が設けられていることを特徴とする請求項 1記載の溶融金属の流れ制御装置。

3 . 前記接触促進手段は、前記第 1電極部を構成する前記第 1分割電極同士の間から前記流路内に延在する少なくとも 1個の第 1堰と、該第 1 堰と前記溶融金属の流れ方向に間隔を隔てて配設された、前記第 2電極部を構成する前記第 2分割電極同士の間から前記流路内に延在する少なくとも 1個の第 2堰とにより構成されていることを特徴とする請求項 2 記載の溶融金属の流れ制御装置。

4 . 前記第 1堰と前記第 2堰とは前記溶融金属の流れ方向に交互に配設されていることを特徴とする請求項 3記載の溶融金属の流れ制御装置。

5 . 前記接触促進手段は、前記流路の側面又は底面に設けられた複数個の溝により構成されていることを特徴とする請求項 2記載の溶融金属の流れ制御装置。

6 . 各前記溝は、相対向する各前記第 1分割電極及び各前記第 2分割電極と対応する位置に設けられていることを特徴とする請求項 5記載の溶融金属の流れ制御装置。

7 . 複数組の前記分割電極対のうち、他の組の分割電極対よりも前記流路内を流れる前記溶融金属の下流側に配設された少なくとも一の組の分割電極対は、他の組の分割電極対よりも電極面積が小さい小型第 1分割電極及び小型第 2分割電極よりなる、少なくとも一組の小型分割電極対を含んでいることを特徴とする請求項 1、 2、 3、 4、 5又は 6記載の溶融金属の流れ制御装置。

8 . 溶融金属が収容される溶融金属浴と、該溶融金属浴の底部又は側部に前記流路が接続された、請求項 1乃至 7のいずれか一つに記載の溶融金属の流れ制御装置と、を備えていることを特徴とするコールド，クルーシプル装置。

9 . 溶融金属が収容される溶融めつき浴と、該溶融めつき浴の底部又は側部に前記流路が接続された、請求項 1乃至 7のいずれか一つに記載の溶融金属の流れ制御装置と、を備えていることを特徴とする溶融めつき装置。

1 0 . 流路内を流れる溶融金属に直流電流及ぴ静磁場を重畳印加することにより発生するローレンツ力を利用して、該溶融金属の流れを制御する溶融金属の流れ制御方法において、

それぞれが相互に離間し、且つ、相対向するように前記溶融金属の流れ方向に分割して配設された'複数個の第 1分割電極及び第 2分割電極よりなる、複数組の分割電極対を備えた電極部対を用い、

所定の前記ローレンツ力を発生させるのに必要な電流密度の直流電流を、前記流路内を流れる前記溶融金属が接触した各前記分割電極対に分割して通電させることを特徴とする溶融金属の流れ制御方法。

1 1 . 前記流路内を流れる前記溶融金属の流れ先頭部が所定位置で保持されるように、該溶融金属の流れを制御することを特徴とする請求項 1 0記載の溶融金属の流れ制御方法。

1 2 . 前記流路内を流れる前記溶融金属の流量が所定量となるように、該溶融金属の流れを制御することを特徴とする請求項 1 0記載の溶融金属の流れ制御方法。

1 3 . 複数組の前記分割電極対のうち、他の組の分割電極対よりも前記流路内を流れる前記溶融金属の下流側に配設された少なくとも一の組の分割電極対には、他の組の分割電極対よりも小さな電流値の電流を流すことを特徴とする請求項 1 0、 1 1又は 1 2記載の溶融金属の流れ制御方法。