WO2007017175B1 - Vakuumbeschichtung mit kondensatentfernung - Google Patents
Vakuumbeschichtung mit kondensatentfernungInfo
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Abstract
Verfahren und Anlage zur Vakuumbeschichtung von Substraten mittels PVD-, PCVD- oder anderer Verfahren, bei dem überschüssiges gasförmiges Beschichtungsmaterial in der Beschichtungskammer aufgefangen und aus dieser entfernt wird, ohne das Vakuum zu unterbrechen. Eine Anlage zur Vakuumbeschichtung von Substraten 1 beinhaltet Beschichtungskammern 3, die mit Reinigungskammern 4 verbunden sind, wobei die Reinigungskammern 4 mit Kondensatauffangvorrichtungen 5 ausgerüstet sind und die Kondensatauffangvorrichtungen 5 zwischen den Reinigungskammern 4 und den Beschichtungskammern 3 verfahrbar sind.
Claims
1. Verfahren zur Vglcuumbeschichtung von Substraten in einer BescMchtimgskarnmer, bei dem überschüssiges gasförmiges Beschichtungsmaterial aufgefangen und kondensiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Kondensat des überschüssigen gasförmigen Beschichtungsmateiύals simultan zur VakuumbescMchtung aus der Beschichtungskam- mer entfernt wird, wobei das Vakuum der Beschiclitungskammer aufrecht erhalten bleibt,
2. Verfahren nach Anspruch ls dadurch gekennzeichnet., dass überschüssiges gasförmiges Beschichtungsmaterϊal auf Kondensatauffangvomchtungen kondensiert wird, dass die Kondensataufiaαgvorrichtungen in eine mit der BescMchtimgskammer verbundene Remigungskammer transferiert werden und dass diis Reinigungskainmer nach dem Transfer der Kondensatauffangvorrichtungen vakuumdicht gegen die Beschichtungskammer abgeschlossen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Reiη.igungskammer belüftet und die Kondensatauffangvomchtiragen aus der Reinigungskammer entnommen und gereinigt werden,
4. Verfahren nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, dass die Kondensatauffangvorrichtungen in der Reinigungskanraier mittels mechanischer Abstreifer, durch Aufheizen, durch Abkühlen, durch Ätzen mittels Plasma und/od.er durch Laserablalion gereinigt werdenf
5. Verfahren nach einem der Anspräche 1-4, dadurch gekennzeichnet, da&s jede Konden- satauffangvomehtung über eine erste Rcinigungskammer in die Beschichtungskammer eingebracht und über eine zweite Reinigungskarnrner entnommen wird.
6. Anlage zur Vakuumbcschichtung von Substraten (1 ) mit einer oder mehreren Beschich- tungskarnmern. (3), wobei im Inneren mindestens einer der Beschichtungskammern (3) eine Oder mehrefö RemigKiigskammem (4) angeordnet sind, jede Reinigung^karrpner (4) ein Vakuumventil (13) zurBeschichtungskammer (3) und eine schwenkbare Vakuumtür (16) zur Umgebung aufweist, jede Reinigungskammer (4) mit mindestens einer Koncjen.- satauffangvorrichtung (5) ausgestattet ist, die Kondensatauffangvorrichtung (5) zwi- schen der Reinigungskammer (4) und der Beschichturigskammer (3) verfahrbar igt und die Kondensatauffangvorrichtung (5) auf der Vakuum ttir (16) mechanisch gelagert und bei geöffneter Vakuumtür (16) aus der Reinigungskaηimer (4) entnehmbar ist.
7. Anlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtungskammern (3) in-line angeordnet sind, dass Schleusenkammern (6) 2,ur Ein- und Ausbringung der Substrate (1) in die Beschichtungskammern. (3) vorhanden sind, dass jede Schleusen- kammer (6) mit einer oder mehreren Beschichtungskammern (3) verbunden ist und dass jede Schleusenkammer (6) ein erstes Schleusonventi], (7) zur Umgebung und weitere SchlcusenvGϊitile (8) zu den Beschichtungskammern (3) aufweist.
8. Anlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass jede Beschichtungskammer (3) mit einer Einschleuskarnmer (9) und einer Ausschleusfcammer (10) ausgestattet ist, dass jede Ein- und Ausschleuskammer (9, 10) ein erstes Sc'bleusenventil zur Umgebung und ein zweites Schleusenvααtil (12) zur Beschichtungskammer (3) aufweist und dass die Beschiohtungskammem (3) Mittel zum Transport der Substrate (1) aufweisen.
9. Anlage nach einem der Ansprüche 6-8, dadurch gekennzeichnet, dass je zwei Reinigungskammern (4) im Inneren einer Beschichtungskarrimer (3) derart nebeneinander und kollinear gefluch.tet angeordnet sind, dass die Kondensatauffangvorrichtungen (5) von der ersten Reinigungskammer (4) durch die Beschicfjtungskammer (3) in die zweite Rcinigungskammer (4) verfahrbar sind.
10. Anlage sur Valcuumbeschichtung von Substraten (I) mit einer Zientralkammer (20) und clusterfδrmig mit der Zentralkammer (20) verbundenen Beschichtungskammern (3), wobei die Zentraücammcr (20) mit einer Schleusenkammer (6) zur Ein- und Ausbringung der Substrate (1) in die Zentralkammer (20) ausgestattet ist, die Schleusenkammer (6) ein erstes Schleusenventil (7) zur Umgebung und ein zweites Schleusenventil (8) zur Zentralkammer (20) aufweist, zwischen jeder BescMohtangskarnraer (3) und der Zentralkammer (20) ein Schleusenycntü (8) angeordnet ist, die Zentralkammer (20) mit Aktoren zum Ein- und Ausbringen der Substrate (1) in die Bcschichtungskammern (3) ausgerüstet ist, mindestens eine der Beschichtυngskarnmern (3) mit einer oder mehreren Reinigungskammern (4) ausgestattet ist, jede Reinigungskammer (4) ein Vakuumventil (13) zur Bescliichtungskmωner (3) und eine Vakmimtur (16) zur Umgebung aufweist, jede Reinigungskammer (4) mit mindestens einer Kondensatauffangvomchtung (5) ausgestattet ist, die Kondensatauffangvomchtung (S) zwischen der Reinigungskammer (4) und der BescMchtungskammer (3) verfahrbar und bei geöffneter Vakuumtür (16) aus der Reinigungskammer (4) entnehmbar ist,
1 1. Anlage nach einem der Ansprüche 6-10, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungskammern (4) an Vakuumpumpen angeschlossen sind,
12. Anlage nach einem der Ansprüche 6-10, dadurch gekeitnzjeichnet, dass jede Reinigungs- kammer (4) mit einem Vakuumpumpstand (14) ausgestattet ist.
13. Anlage nach einem der Ansprüche 6- 12, dadurch gekennzeichnet, dass jede Reinigungskammer (4) mit Antriebseinheiten (15) zum Verfahren der Kondensatauffangvonichtun-. gen (5) ausgestattet ist.
14. Anlage nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Antriebseinheit (15) auf der Vakuumtür (16) montiert ist und 4ass die Antriebseinheit (15) und die Kondensatauffangvomchtung (5) mit der Vakuumtür (16) schwenkbar sind.
15. Anlage nach Anspruch. 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Kondensauuϊϊangvor- richlung (5) mit einer Linearschiene (17) ausgestattet ist, dass die Antriebseinheit (15) einen Antrieb (18) und eine mechanische Führung (19) für die Linearschiene Q T) umfasst, wobei der Antrieb (18) und die mechanische Führung (19) so gestaltet sind, dass die Kondensatauffangvorrichtung (5) durch Verschiebung in Richtung der Linear- schiene (17) und/oder in einer zur Linearschiene (17) senkrechten Richtung von der Antriebseinheit (15) trennbar ist.
16. Anlage nach einem der Ansprüche 6-15, dadurch gekennzeichnet, dass die Kondensat- auffangvorrichtungeπ (5) mit einer elektrischen Heizung ausgestattet sind.
17. Anlage nach einem der Ansprüche 6-15, dadurch gekennzeichnet, dass die Kondensatauffangvorrichtungen (5) mit Kanälen oder Leitungen zur Durchleitung γon Fluiden ausgestattet sind,
18. Anlage nach einem der Ansprüche 6-15, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschich- tungskammer (3) mit ϊϊeizvomchtungen zur Beheizung der Kondensatauffangvor- richtungen ausgerüstet ist.
19. Anlage nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizvorrichtungcn Strahlungsheizer sind.
20. Anlage nach einem der Ansprüche 6-19, dadurch gekennzeichnet, dass die Kondensatauffangvorrichtungen (5) aus einem oder mehreren, gleichartigen oder voneinander verschiedenartigen, parallel zueinander angeordneten flächenhaften Gebilden bestehen.
21. Anlage nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, c];ass die flächenhaften Gebilde eine geschlossene Oberfläche aufweisen.
22. Anlage nach Anspruch 21. dadurch gekennzeichnet, class die flächenhaften Gebilde eine rauhe Oberfläche besitzen.
23. Anlage nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die flächenhaften Gebilde eine Vielzahl von Öffnungen aufweisen.
24. Anlage nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die iläohenhaften Gebilde als Gitter oder Geflecht ausgestaltet sind.
25. Anlage nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet,, dass die Maschengröße der als Gitter oder Geflecht ausgestalteten flächenhaften Gebilde stufenweise zu- oder abnimmt.
26. Anlage nach einem der Ansprüche 6-25, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungs- kammem (4) mit einem oder mehreren Mitteln zur Reinigung der Kondensataμffangvor- richtungen (5) ausgerüstet sind.
27. Anlage nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungskammern (4) mit mechanischen Abstreifen, ausgestattet sind.
28. Anjage nach Ansprach 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungskammern (4) eine Heiz- oder Kühlvorrichtung aufweisen.
29. Anlage nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungskammern (4) eine Plasma-Ätzvorrichtung aufweisen,
30. Anlage nach Ansprach 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungskarnmem (4) eine Laserablationsγorπchtung beinhalten.
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