WO2006126421A1

WO2006126421A1 - 高周波加熱装置

Info

Publication number: WO2006126421A1
Application number: PCT/JP2006/309708
Authority: WO
Inventors: Takahiko Yamasaki
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date: 2005-05-25
Filing date: 2006-05-16
Publication date: 2006-11-30
Also published as: JP2006329494A

Abstract

　本発明の課題は、被加熱物の加熱用に用いる蒸気を加熱室内の清掃用に用いると共に、この清掃作業を簡単に行うこと可能とすることである。　制御部によって入力された信号に応じて蒸発皿清掃モード、加熱室清掃モードによる清掃を実行する。指定された清掃モードを実行することにより、煩雑な作業を行うことなく、汚れが付着した加熱室（１１）内を、蒸発皿（３５）の温度を高く維持することにより極めて容易に清掃することができ、終了時にはポンプ（５５）により水を供給することで蒸発皿（３５）の温度を下げることができるので安全に清掃作業を行うことができる。

Description

明細書

高周波加熱装置

技術分野

[0001] 本発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給部とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを加熱室に供給して被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関する。

背景技術

[0002] 高周波により被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置には、高周波加熱のみの単機能型やオーブン機能の付加された複合機能型等があるが、これらの高周波加熱装置においては、被加熱物を収容して加熱処理する加熱室に、被加熱物の汁やカス等が加熱処理時に付着することがあり、これをそのまま放置していると、こびり付きや焦げが発生して加熱室内が汚れることになる。このような付着した汚れは、加熱室内を衛生的に維持する上で問題となるばかりか、高周波加熱時に発煙等が発生する要因ともなる。このため、加熱室内をこまめに清掃したり、加熱装置自身に設けられた高温焼き切り機能により、加熱室内の汚れを除去するようにしていた力近年では、更に、加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構を追加して、蒸気による加熱室内の清掃ができる機能が付いた蒸気発生機能付き高周波加熱装置が提案されている（例えば、特許文献 1参照)。

特許文献 1：特開 2004— 69175号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0003] しかしながら、前記従来の蒸気発生機能付き高周波加熱装置での加熱室内の清掃機能は、蒸気を発生させる蒸発皿部に残ったお湯の温度をお手入れする際に手で触れても火傷しな!、ようにする為に、蒸気を発生させるのは最初だけで後は通電をやめ、冷めるまでに時間が力かっていた、また、放置することでせつ力べ加熱室内に結露して!/、た蒸気が乾燥してしま、蒸気による効果が得られな、と、うこともあり、清掃時における使、勝手は良、ものではな力つた。

[0004] また、蒸発皿の清掃時に使用される洗浄液 (タエン酸等）は温度の高い方が洗浄効果が増す力これもまた蒸気を発生させるのは最初だけで後は通電をやめているので

、温度が低くなり洗浄液の効果があまり得られて、な力た。

[0005] 本発明は、前記従来の課題を解決するもので、被加熱物の加熱用に用いる蒸気を加熱室内の清掃用に用いると共に、この清掃作業を簡単に効率良く行うことのできる高周波加熱装置を提供することを目的としてヽる。

課題を解決するための手段

[0006] 前記従来の課題を解決するために、本発明に係る高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給部とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、前記蒸気供給部は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備される蒸発皿と、この蒸発皿を加熱して前記蒸発皿上の水を蒸発させる蒸発皿加熱手段とを備え、前記蒸気供給部により前記加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃する加熱室清掃モード、及び前記蒸発皿に洗浄液を注入し前記蒸発皿加熱手段により加熱することで前記蒸発皿の汚れを清掃する蒸発皿清掃モードを備えた制御部と、前記制御部に対して前記いずれかの清掃モードを実行させるための信号入力手段とを具備したことを特徴とする。

[0007] この高周波加熱装置によれば、加熱室清掃モードを実行させる信号が入力されると、制御部が加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃するため、煩雑な作業を行うことなぐ汚れが付着した加熱室内を極めて容易に清掃でき、清潔な状態にすることができる。

発明の効果

[0008] 本発明の高周波加熱装置によれば、信号入力手段を介して制御部に入力される信号に基づいて、指定された清掃モードを実行することにより、煩雑な作業を行うことなぐ汚れが付着した加熱室内を蒸発皿の温度を高く維持することにより極めて容易に清掃することができ、終了時にはポンプにより水を供給することで水受皿の温度を下げることができるので安全に清掃作業を行うことができる。

図面の簡単な説明

[0009] [図 1]本発明に係る高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図

[図 2]図 1の高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図 [図 3]蒸気発生部の蒸発 J1加熱ヒータと反射板を示す斜視図

[図 4]蒸気発生部の断面図

[図 5]高周波加熱装置の側面に水タンクを収容する様子を表す説明図

[図 6]高周波加熱装置の側面図

[図 7]高周波加熱装置の入力操作部及び表示部が設けられた開閉扉の正面図 [図 8]高周波加熱装置の制御ブロック図

[図 9]高周波加熱装置の動作説明図

[図 10]高周波加熱装置の清掃モードを説明するフローチャート

[図 11]高周波加熱装置の蒸発皿清掃モードを説明するフローチャート

[図 12]高周波加熱装置の加熱室清掃モードを説明するフローチャート

符号の説明

[0010] 11 加熱室

13 マグネトロン (高周波発生部）

15 蒸気発生部

35 蒸発皿

37 蒸発皿加熱ヒータ (蒸発皿加熱手段）

43 水タンク

57 配管 (給水管路）

55 ポンプ

83 制御部

100 高周波加熱装置

M 被加熱物

発明を実施するための最良の形態

[0011] 第 1の発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給部とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、前記蒸気供給部は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備される蒸発皿と、この蒸発皿を加熱して前記蒸発皿上の水を蒸発させる蒸発皿加熱手段とを備え、前記蒸気供給部により前記加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃する加熱室清掃モード、及び前記蒸発皿に洗浄液を注入し前記蒸発皿加熱手段により加熱することで前記蒸発 J1の汚れを清掃する蒸発 J1清掃モードを備えた制御部と、前記制御部に対して前記いずれかの清掃モードを実行させるための信号入力手段とを具備したことを特徴とする。

[0012] この高周波加熱装置によれば、加熱室清掃モードを実行させる信号が入力されると、制御部が加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃するため、煩雑な作業を行うことなぐ汚れが付着した加熱室内を極めて容易に清掃でき、清潔な状態にすることができる。

[0013] 第 2の発明は、前記加熱室清掃モードが、前記蒸気供給部の蒸発皿に供給された水を蒸発皿加熱手段により加熱し、前記加熱室内に蒸気を充満させて前記加熱室を画成する面に結露させることで清掃を行い、加熱室清掃モードが終了する前に前期貯水タンクから強制的に水を前記蒸発 J1に供給し前記蒸発 J1内の水を冷却することを特徴とする。

[0014] この高周波加熱装置によれば、加熱室清掃モードを実行させる信号が入力されると、加熱室の内面は常に蒸気によって結露させて、加熱室の内面に付着した汚れを浮き上がらせることができ、加熱室清掃モード終了時には、蒸発皿の水の温度も手で触れても大丈夫な温度に冷やされて極めて容易に加熱室の内面を清掃して清潔な状態にすることができる。

[0015] 第 3の発明は、前記蒸発皿清掃モードが、前記蒸気供給部の蒸発皿に供給された水と洗浄液とを蒸発皿加熱手段により所定温度に加熱した後、沸騰しな！ヽ温度でカロ熱を維持し、蒸発皿清掃モードが終了する前に前期貯水タンクから強制的に水を前記蒸発皿に供給し前記蒸発皿内の水を冷却することを特徴とする。 [0016] この高周波加熱装置によれば、蒸発皿清掃モードを実行させる信号が入力されると、蒸発皿に水と洗浄液が所定温度を維持して加熱することにより、蒸発皿に付着したカルシウムやマグネシウム等を確実かつ容易に除去することができる。また、蒸発皿清掃モード終了時には、蒸発皿の水の温度も手で触れても大丈夫な温度に冷やされているので極めて容易に水受皿の内面を清掃して清潔な状態にすることができる。

[0017] 第 4の発明は、前記洗浄液として、クェン酸溶液を用いることを特徴とする。

[0018] この高周波加熱装置によれば、クェン酸を溶解したクェン酸溶液を洗浄液として用 V、、このクェン酸溶液を蒸発皿に入れた状態で所定温度を維持して加熱すること〖こより、蒸発皿表面の付着物を食品衛生上安全に除去することができる。

[0019] 以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。

[0020] (実施の形態 1)

図 1は本発明に係る高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図 2はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図 3は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図 4は蒸気発生部の断面図である。

[0021] まず最初に、本発明に係る高周波加熱装置 100の基本構成について説明する。

[0022] この蒸気発生機能付きの高周波加熱装置 100は、被加熱物を収容する加熱室 11 に、高周波 (マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン 1 3と、加熱室 11内で蒸気を発生する蒸気供給部 15と、加熱室 11内の空気を撹拌 · 循環させる循環ファン 17と、加熱室 11内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンペクシヨンヒータ 19と、加熱室 11の壁面に設けた検出用孔を通じてカロ熱室 11内の温度を検出する赤外線センサ 20と、蒸発皿 15へ水を供給するための水タンク 43とを備えている。

[0023] 加熱室 11は、前面開放の箱形の高周波加熱装置本体 10内部に形成されており、高周波加熱装置本体 10の前面に、加熱室 11の被加熱物取出口を開閉する透光窓 21a付きの開閉扉 21が設けられている。開閉扉 21は、下端が高周波加熱装置本体 10の下縁にヒンジ結合されることで開閉可能となっている。加熱室 11と高周波加熱装置本体 10との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。加熱室 11の背後の空間は、循環ファン 17及びその駆動モータ 23 (図 9参照）を収容した循環ファン室 25となっており、加熱室 11の後面の壁が、加熱室 11と循環ファン室 25とを画成する仕切板 27となっている。仕切板 27には、加熱室 11側から循環ファン室 25側への吸気を行う吸気用通風孔 29と、循環ファン室 25側から加熱室 11側への送風を行う送風用通風孔 31とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔 29, 31は、多数のパンチ孔として形成されている。

[0024] 循環ファン 17は、矩形の仕切板 27の中央部を回転中心として配置されており、循環ファン室 25内には、この循環ファン 17を取り囲むようにして矩形環状のコンペクシヨンヒータ 19が設けられている。そして、仕切板 27に形成された吸気用通風孔 29は循環ファン 17の前面に配置され、送風用通風孔 31は矩形環状のコンペクシヨンヒータ 19に沿って配置されている。循環ファン 17を回すと、風は循環ファン 17の前面側力も駆動モータ 23のある後面側に流れるように設定されて!、るので、加熱室 11内の空気が、吸気用通風孔 29を通して循環ファン 17の中心部に吸い込まれ、循環ファン室 25内のコンペクシヨンヒータ 19を通過して、送風用通風孔 31から加熱室 11内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室 11内の空気力撹拌されつつ循環フアン室 25を経由して循環されるようになって、る。

[0025] マグネトロン 13は、例えば加熱室 11の下側の空間に配置されており、マグネトロン 13より発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根 33が設けられている。そして、スタラー羽根 33を回転駆動することにより、スタラー羽根 33に照射されたマグネトロン 13からの高周波を加熱室 11内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン 13ゃスタラー羽根 33は、加熱室 11の底部に限らず、加熱室 11の上面や側面側に設けることもできる。また、高周波加熱方式としては、ターンテーブル式であつてもよい。

[0026] 蒸気供給部 15は、図 2に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所 35aを有した蒸発皿 35と、蒸発皿 35の下側に配設され、図 3及び図 4に示すように蒸発皿 35を加熱する蒸発皿加熱ヒータ 37と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿 35に向けて反射する断面略 U字形の反射板 39とから構成されている。蒸発皿 35は、例えばステンレス製の細長板状のもので、加熱室 11の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を仕切板 27に沿わせた向きで配設され、赤外線センサ 20の温度検出走査による検出範囲の実質的外部に設けている。なお、蒸発皿加熱ヒータ 37としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。

[0027] ここで、図 5に高周波加熱装置の側面に水タンクを収容する様子を表す説明図、図 6に高周波加熱装置の側面図を示した。図 5に示すように、高周波加熱装置本体 10 の側壁 10aには水タンク用蓋 41が開閉自在に設けられており、側壁 10aの内部空間 10bには、蒸気発生部 15に水を供給するための水タンク 43が脱着自在に収納されている。図 6を併せて参照すると、水タンク 43は薄型の矩形状で上部が開口した本体 45と、本体 45の開口に脱着自在に取り付けられる蓋 47とを有している。蓋 47には取水管取付け部 49が設けられ、取水管取付け部 49の下方には蓋 47を貫通して本体 45の底面 45a付近まで延びる取水管 51が設けられている。なお、取水管取付け部 49の後方（図 5における水タンク挿入方向先方）には、接続管 53が突設されている。

[0028] また、図 6に示すように、高周波加熱装置本体 10の側壁 10aの内部空間 10bには、一定量の水を間欠的に吐出するポンプ 55が設けられており、このポンプ 55に取水側配管 55aと供給側配管 55bが接続されて、る。取水側配管 55aのポンプ 55側とは反対側の先端は、水タンク 43が高周波加熱装置本体 10内に収納された際に、水タンク 43の接続管 53の端部が脱着自在に接続されるジョイント部 56に繋がっている。一方、供給側配管 55bは、配管 57を介して蒸気発生部 15の蒸発皿 35に接続されている。側壁 10aの内部空間 10bにおける、水タンク 43の取水管取付け部 49の上方位置には、水タンク 43の脱着を検出するための水タンク脱着検出部 59が設けられており、水タンク 43が収納されているか否かを検出する。

[0029] 図 7に高周波加熱装置 100の開閉扉の一部を示すように、高周波加熱装置 100の前面側の開閉扉 21下方には、入力操作部 61及び表示部 63が設けられている。入力操作部 61には、加熱調理の開始を指示するスタートスィッチ 65、清掃を行う清掃スィッチ 81、設定ダイアル 82 (信号入力手段)等が設けられている。また、表示部 63 には、報知手段としての表示パネル 75等が設けられている。また、図示はしないが、音声や警告音を発する機能があってもょヽ。

[0030] 清掃スィッチ 81は、このスィッチを押下することにより、各種モードの清掃運転を行うことができるようになつている。また、表示パネル 75の両側部には、設定ダイアル 82 が設けられており、この設定ダイアル 82を回すことにより、各種の設定を選択することができるようになつている。

[0031] ここで、清掃モードとしては、蒸発皿清掃モード、加熱室清掃モード、脱臭モードがあり、清掃スィッチ 81を押下した後に、設定ダイアル 82を回すことにより、これら各種の清掃モードを任意に選択できるようになつている。そして、この設定ダイアル 82によつてモードを選択した状態で、スタートスィッチ 65を押下することにより、高周波加熱装置 100が、選択した清掃モードを実行するようになっている。

[0032] 図 8は、清掃モードの制御系を示す制御ブロック図である。この制御系では、入力操作部 61からの入力信号が入力される制御部 83を有しており、この制御部 83には、蒸発皿加熱ヒータ 37、循環ファン 17を回転させる駆動モータ 23、蒸発皿へ水を供給するポンプ 55をそれぞれ接続して、制御部 83によって統括制御するようになっている。また、この制御部 83は、蒸発皿 35の温度を検知するサーミスタ等の温度センサ 84を接続しており、この温度センサ 84からの検知信号を入力することで、蒸発皿加熱ヒータ 37等のフィードバック制御が行われる。そして、制御部 83は入力操作部 6 1からの入力信号及び温度センサ 84からの検知信号に基づ、て、蒸発皿加熱ヒータ 37、駆動モータ 23、ポンプ 55を所定のシーケンスに基づいて制御する。

[0033] 以上説明した構成の高周波加熱装置 100による基本加熱動作の一例として、蒸気加熱時の動作を説明する。

[0034] 高周波加熱モード、蒸気加熱モード、オーブン加熱モード等の各種加熱モードのうち、蒸気加熱モードを選択してスタートスィッチ 65を押下すると、図 9に本高周波加熱装置 100の動作説明図を示すように、蒸発皿加熱ヒータ 37が ONにされることで、水タンク 43からポンプ 55によって供給される蒸発皿 35内の水が加熱され、蒸気 Sが発生する。蒸発皿 35から上昇する蒸気 Sは、仕切板 27の略中央部に設けた吸気用通風孔 29から循環ファン 17の中心部に吸引され、循環ファン室 25を経由して、仕切板 27の周部に設けた送風用通風孔 31から、加熱室 11内へ向けて吹き出される。

[0035] 吹き出された蒸気は、加熱室 11内において撹拌されて、再度、仕切板 27の略中央部の吸気用通風孔 29から循環ファン室 25側に吸引される。これにより加熱室 11内と循環ファン室 25に循環経路が形成される。なお、仕切板 27の循環ファン 17の配置位置下方には送風用通風孔 31を設けずに、発生した蒸気を吸気用通風孔 29に導かれるようにしている。従って、図中白抜き矢印で示すように、蒸気が加熱室 11を循環し、被加熱物 Mに効率よく蒸気が吹き付けられる。

[0036] この際、室内気加熱ヒータ 19によって、加熱室 11内の蒸気を加熱できるので、カロ熱室 11内を循環する蒸気の温度を高温に設定することもできる。従って、いわゆる過熱蒸気が得られて、被加熱物 Mの表面に焦げ目を付けた加熱調理も可能となる。

[0037] また、高周波加熱を行う場合は、マグネトロン 13を ONにし、スタラー羽根 33を回転することで、高周波を加熱室 11内に撹拌しながら供給する。本高周波加熱装置 100 では、蒸気と高周波とを組み合わせた高周波加熱処理を行うことができる。

[0038] 以上が通常の蒸気加熱を含む加熱処理の手順である。次に、本発明の特徴部分である加熱室内清掃機能について以下に説明する。

[0039] 入力操作部 61によって清掃モードが選択 ·実行された場合の高周波加熱装置 100 の作用を図 10に示すフローチャート図に沿って説明する。

[0040] 入力操作部 61の清掃スィッチ 81を押下すると (ステップ 1、以下 S1と称する）、入力操作部 61から制御部 83へ入力信号を送信して制御部 83が清掃モードの選択待機状態となる（S2)。そして、この状態で設定ダイアル 82を回すことにより、蒸発皿清掃モード、加熱室清掃モード、或いは脱臭モードを選択する。いずれかの清掃モードを選択してスタートスィッチ 65を押下すると、選択された清掃モードによる運転が開始される（S3、 S4)。

[0041] ここで、各清掃モードについて図 11及び図 12に示すフローチャート図に沿って説明する。

[0042] (蒸発 J1清掃モード）

まず、蒸発皿 35内に、クェン酸を水に溶解した洗浄液を注入する（S 11)。この状態で、蒸発皿清掃モードを選択してスタートスィッチ 65を押下すると、蒸発皿加熱ヒータ 37によって蒸発皿 35が加熱され、蒸発皿 35内の洗浄液が約 30秒程度で約 10 0°Cに加熱される（S12)。そして、蒸発皿加熱ヒータ 37は、洗浄液の温度を約 80〜9 5°Cの状態を維持するように断続的に作動される（S13)。この間水タンク 43からボンプ 55により一定間隔 (蒸発皿 35内の洗浄液がなくならないように）で水が送られる（S 14)。約 80〜95°Cの状態を維持する時間が所定時間（例えば約 20分間）経過したら（S15)。その後、 50°Cまで温度を下げる（S16)、終了 1分前になると（S17) (例えば加熱開始力も約 29分)水タンク 43からポンプ 55によって蒸発皿 35内に水を供給させ拭き取りが可能な 40°C程度にまでに温度を下げる（S18)。

[0043] 所定時間（例えば加熱開始から約 30分)経過したら（S19)、清掃処理の終了を報知するため、音声や警報音等とともに表示パネル 75に清掃終了の旨を表示する（S2 0)。以上の清掃終了を確認したら、開閉扉 21を開き、蒸発皿 35を布等により拭き取る（S21)。

[0044] このような蒸発皿清掃モードを行うことにより、蒸発皿 35に付着したカルシウムやマグネシゥム等の付着物がクェン酸により分解され、確実かつ容易に除去できる。

[0045] なお、洗浄液としては食品衛生上安全でカルシウムやマグネシウム等の分解に効果の高いクェン酸を好適に用いている力これに限らず、クェン酸溶液に界面活性剤等を添加して、油成分の汚れに対しても洗浄性を高めるようにしてもよぐまた、他の洗浄液を用いてもよい。

[0046] (加熱室清掃モード）

加熱室清掃モードを選択してスタートスィッチ 65を押下すると、水タンク 43からボンプ 55によって蒸発皿 35内に水が間欠的に供給される（S31)。そして、蒸発皿加熱ヒータ 37は、蒸発皿 35内の水の温度を約 100°Cの状態を維持するように断続的に作動され蒸気が発生する（S32)。さらに、循環ファン 17の駆動モータ 23を断続的に駆動する（S33)。このときの駆動モータ 23の駆動は、例えば 30秒に 2秒程度駆動するような断続運転とする。これにより、前述の図 9に示す循環風が得られ、発生した蒸気が加熱室 11内の上方に滞留して偏ることなく分散され、加熱室 11の内面全体に蒸気が結露した状態となる。この間水タンク 43からポンプ 55により一定間隔 (蒸発皿 35 内の水がなくならな!/、ように）で水が送られる (S34)。

[0047] そして、約 3〜5分の所定時間の経過後（S35)、ポンプ 55及び駆動モータ 23を O FFにし (S36)、蒸発皿加熱ヒータ 37は、水の温度を約 50°Cの状態を維持するように断続的に作動される（S37)。終了 1分前になると (S38) (例えば加熱開始力も約 2 9分)水タンク 43からポンプ 55によって蒸発皿 35内に水を供給させ拭き取りが可能な 40°C程度にまでに温度を下げる（S39)。

[0048] 所定時間（例えば加熱開始から約 30分)経過したら（S40)、清掃処理の終了を報知するため、音声や警報音等とともに表示パネル 75に清掃終了の旨を表示する（S4 D o以上の清掃終了を確認したら、開閉扉 21を開き、蒸発皿 35を布等により拭き取る（S42)。

[0049] このような加熱室清掃モードを行うことにより、加熱室 11の内面にこびり付いた被カロ熱物 Mからの飛散物等の汚れが加熱室 11の内面力浮き上がる。この加熱室内面との密着度が低下した状態で、付着している汚れを拭き取ることで、汚れが一気に除去でさるよう〖こなる。

[0050] このように、上記構造の高周波加熱装置 100によれば、制御部 83が入力操作部 6 1に入力された信号に基づいて、蒸気発生部 15、給水用のポンプ 55、循環ファン 17 等を制御して所望の清掃モードを実行することにより、加熱室 11の内面や蒸発皿 35 の清掃を簡単な操作により行うことができ、煩雑な作業を行うことなぐ汚れが付着した加熱室 11の内面や蒸発皿 35を極めて容易に清掃でき、清潔な状態にできる。

[0051] 即ち、蒸発皿清掃モードでは、蒸発皿 35にクェン酸溶液力もなる洗浄液を注入して、所定温度 (約 80〜95°C)に加熱することにより、蒸発皿 35に付着したカルシウムやマグネシウム等の汚れが分解される。これにより、蒸発皿 35を拭き取るだけで、確実かつ容易に付着物を除去することができる。また、加熱室清掃モードでは、加熱室 11の内面を蒸気によって結露させ、その結露を維持させるように蒸発皿加熱ヒータ 3 7を通電させることにより、加熱室 11の内面に付着した汚れを簡単に浮き上がらせることができ、汚れの拭き取りを容易にし、これにより、加熱室 11の内面を清潔な状態にすることができる。

[0052] また、各清掃モードでは、スタートスィッチ 65を押下した後は高周波加熱装置 100 側で自動的に清掃を行うため、操作者は常に高周波加熱装置 100を監視する必要はなぐ清掃終了が報知されるまで、何ら拘束を受けることがない。また、清掃終了後は、通常では取れにくかった汚れ力極めて簡単に除去できる状態になっており、力を力けずに軽く拭き取るだけで十分に汚れを払拭でき、良好な洗浄効果を簡単に得ることがでさる。

[0053] なお、本発明に係る高周波加熱装置は、前述した各実施形態に限定されるものでなぐ発明の主旨を逸脱しない範囲で適宜な変形、改良等が可能である。

[0054] 本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。

本出願は、 2005年 5月 25日出願の日本特許出願、出願番号 2005-152107に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

産業上の利用可能性

[0055] 以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置によれば、信号入力手段を介して制御部に入力される信号に基づいて、指定された清掃モードを実行することにより、煩雑な作業を行うことなぐ汚れが付着した加熱室内を蒸発皿の温度を高く維持することにより極めて容易に清掃することができ、終了時にはポンプにより水を供給することで水受皿の温度を下げることができるので安全に清掃作業を行うことができるので、加熱手段として高周波を利用する以外の調理器の清掃方法に適用できる。

Claims

請求の範囲

[1] 被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給部とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、

前記蒸気供給部は、装置本体に着脱可能に装備される水タンクと、前記加熱室内に装備される蒸発皿と、この蒸発皿を加熱して前記蒸発皿上の水を蒸発させる蒸発皿加熱手段とを備え、前記蒸気供給部により前記加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃する加熱室清掃モード、及び前記蒸発皿に洗浄液を注入し前記蒸発皿加熱手段により加熱することで前記蒸発皿の汚れを清掃する蒸発皿清掃モードを備えた制御部と、前記制御部に対して前記、ずれかの清掃モードを実行させるための信号入力手段とを具備したことを特徴とする高周波加熱装置。

[2] 前記加熱室清掃モードが、前記蒸気供給部の蒸発皿に供給された水を蒸発皿カロ熱手段により加熱し、前記加熱室内に蒸気を充満させて前記加熱室を画成する面に結露させることで清掃を行い、加熱室清掃モードが終了する前に前期貯水タンクから強制的に水を前記蒸発 J1に供給し前記蒸発 J1内の水を冷却することを特徴とする請求項 1記載の高周波加熱装置。

[3] 前記蒸発皿清掃モードが、前記蒸気供給部の蒸発皿に供給された水と洗浄液とを蒸発皿加熱手段により所定温度に加熱した後、沸騰しない温度で加熱を維持し、蒸発皿清掃モードが終了する前に前期貯水タンクから強制的に水を前記蒸発皿に供給し前記蒸発 J1内の水を冷却することを特徴とする請求項 1記載の高周波加熱装置

[4] 前記洗浄液として、クェン酸溶液を用いることを特徴とする請求項 3記載の高周波加熱装置。