WO2006112245A1 - 投写型表示装置 - Google Patents

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WO2006112245A1
WO2006112245A1 PCT/JP2006/306611 JP2006306611W WO2006112245A1 WO 2006112245 A1 WO2006112245 A1 WO 2006112245A1 JP 2006306611 W JP2006306611 W JP 2006306611W WO 2006112245 A1 WO2006112245 A1 WO 2006112245A1
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projection optical
projection
light
display device
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PCT/JP2006/306611
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kuniko Kojima
Hiroshi Kida
Original Assignee
Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
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Publication date
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    • G02B27/0994Fibers, light pipes

Definitions

  • the present invention relates to a projection display device that projects an image on a screen. More specifically, the present invention relates to a digital micro-mirror device (hereinafter abbreviated as DMD) or a reflective type. The present invention relates to a projection display device using a reflective light valve composed of a liquid crystal display element or the like.
  • DMD digital micro-mirror device
  • the present invention relates to a projection display device using a reflective light valve composed of a liquid crystal display element or the like.
  • Optical systems of projection display devices using reflective light valves are roughly classified into two types: telecentric type and non-telecentric type.
  • telecentric optical systems the projection lens is made telecentric with respect to the reflective light valve by using prisms.
  • non-telecentric optical system a projection lens is not telecentric with respect to a reflective light valve without using a prism.
  • a projection lens is used that uses a condenser lens that guides light from a light source to the DMD and a projection lens that projects light reflected by the DMD.
  • a condenser lens that guides light from a light source to the DMD
  • a projection lens that projects light reflected by the DMD.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-42256 (Page 4-5, FIG. 3)
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-75768 (Page 3-4, Fig. 1)
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to adopt a non-telecentric optical system and to perform a lens shift without decentering the condenser lens of the illumination optical system.
  • the object is to provide a small and low-priced projection display device that realizes the function and increases the brightness and contrast of the projected image.
  • the projection display device includes an illumination optical system including a light source, a reflective light valve having an image forming area on an illuminated surface illuminated by the illumination optical system, and the reflection light.
  • the F number of the projection optical system is smaller than the F number of the illumination optical system.
  • an opening defining member that does not move between the projection optical system and the reflection type light valve by a shift of the projection optical system, and that defines an incident side opening of the projection optical system. Have.
  • the F-number of the projection optical system is made smaller than the F-number of the illumination optical system, and the incident-side opening (fixed) of the projection optical system is provided between the reflective light valve and the projection optical system.
  • the lens shift function can be realized using a non-telecentric optical system that does not decenter the condenser lens. That is, the lens shift function can be realized without increasing the size of the projection display device or increasing the price.
  • the opening defining member that defines the incident-side opening is provided between the reflective light valve and the projection optical system, unnecessary light is screened when the projection optical system is moved. Can be prevented and good contrast can be obtained.
  • the diameter E of the aperture, the effective aperture E of the entrance surface of the projection optical system, and the reflective light valve is the diameter E of the aperture, the effective aperture E of the entrance surface of the projection optical system, and the reflective light valve
  • the projection optical system is simply shifted in a direction substantially perpendicular to the projection optical axis.
  • a good lens shift function can be realized. As a result, it is possible to suppress the increase in size and price of the device.
  • FIG. 1 is a plan view showing a basic configuration of a projection display apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram conceptually showing a relationship between a light intensity uniformizing element and a DMD element of the projection display apparatus in the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a side view of the projection display device shown in FIG.
  • FIG. 4 (A) and (B) are diagrams schematically illustrating a lens shift function in Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 5] (A) to (C) are diagrams schematically showing an image circle of the projection optical system according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram schematically showing an arrangement when the projection optical system is shifted in the vertical direction in the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a diagram schematically showing an arrangement when the projection optical system is shifted in the vertical direction in the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining a light amount loss during lens shift in the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 (A) and (B) are diagrams schematically showing a lens shift function in Embodiment 2 of the present invention.
  • FIGS. 10A to 10C are diagrams schematically showing an image cycle of a projection optical system in Embodiment 2 of the present invention.
  • FIG. 11 is a diagram schematically showing the arrangement when the projection optical system is shifted in the vertical direction in the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a diagram schematically showing the arrangement when the projection optical system is shifted in the vertical direction in the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a light amount loss at the time of lens shift in the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining the distance and performance from the DMD element to the incident surface of the projection optical system in the projection display apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining a condensing point of an illumination optical system in a projection display apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.
  • FIG. 1 is a plan view showing a basic configuration of a projection display apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the arrangement of the components of the projection display apparatus shown in FIG. 1 is an arrangement in which the projection display apparatus is viewed from above in an actual use state, that is, an arrangement in a top view.
  • the projection display apparatus includes a DMD element 2 as a reflective light valve, an illumination optical system 1 that illuminates the DMD element 2, and a DMD illuminated by the illumination optical system 1. And a projection optical system 3 that projects an image of the element 2 onto a screen (not shown).
  • the illumination optical system 1 includes a light source lamp 4, a rotating color filter 5 that passes a light beam of a specific wavelength band out of the light flux emitted from the light source lamp 4, and the light beam that has passed through the rotating color filter 5
  • Light intensity uniformizing element 6 that equalizes the intensity distribution in the cross section of the light beam
  • relay lens group 7 that transmits the light beam emitted from light intensity equalizing element 6 in its traveling direction
  • relay lens group 7 A first mirror 8 and a second mirror 9 for reflecting the light beam toward the DMD element 2 are provided.
  • the light source lamp 4 includes, for example, a light emitter 4a that emits white light, and an ellipsoidal mirror 4b provided around the light emitter 4a.
  • the ellipsoidal mirror 4b reflects the emitted light beam with the first focal force corresponding to the first center of the ellipse and converges it to the second focus corresponding to the second center of the ellipse.
  • the light emitter 4a is disposed in the vicinity of the first focal point of the ellipsoidal mirror 4b, and the light beam emitted from the light emitter 4a is converged in the vicinity of the second focal point of the ellipsoidal mirror 4b.
  • the optical axis la of the illumination optical system 1 is defined by the axis passing through the first and second focal points of the ellipsoidal mirror 4b.
  • the light source lamp 4 is not limited to the configuration shown in FIG. 1, and a parabolic mirror, for example, may be used instead of the ellipsoidal mirror 4b.
  • the light beam emitted from the light emitter 4a can be converged by the condenser lens after being substantially parallelized by the parabolic mirror.
  • the rotating color filter 5 divides a disk-shaped member into, for example, a fan shape into three filter areas of red, green, and blue, respectively.
  • the three filter regions of red, green, and blue pass only light beams corresponding to the red, green, and blue wavelength bands, respectively.
  • the rotating color filter 5 rotates about an axis substantially parallel to the optical axis la of the illumination optical system 1, Each filter region extends in a direction perpendicular to the optical axis la of the illumination optical system 1 and is positioned in the vicinity of the second focal point of the ellipsoidal mirror 4b.
  • the light intensity uniformizing element 6 equalizes the intensity distribution of the light beam that has passed through the rotating color filter 5 in the cross section of the light beam (that is, reduces illuminance unevenness).
  • the light intensity uniformizing element 6 generally, there are a rectangular columnar rod formed of transparent glass or resin, and a pipe in which a surface mirror is combined in a cylindrical shape with the reflecting surface inside.
  • the former reflects light multiple times using the total reflection between the transparent material and the air interface, and the latter reflects light multiple times using the reflecting action of the surface mirror.
  • this light is almost the same as that of a kaleidoscope, and if an appropriate length is secured, the light reflected multiple times by the light intensity uniformizing element 6 is superimposed in the vicinity of the exit surface 6b of the light intensity uniformizing element 6. Irradiated, a substantially uniform intensity distribution is obtained in the vicinity of the exit surface 6b of the light intensity uniformizing element 6.
  • the light beam having the substantially uniform intensity distribution is guided to the DMD element 2 by the relay lens group 7, the first mirror 8, and the second mirror 9 described later, and is irradiated to the DMD element 2.
  • the light intensity equalizing element 6 for example, another optical element such as a lens array in which a plurality of lens elements are arranged in a plane may be used.
  • FIG. 2 is a diagram schematically showing the convergence state of the light beam emitted from the emission surface 6b of the light intensity uniformizing element 6.
  • the relay lens group 7, the first mirror 8, and the second mirror 9 are configured such that the exit surface 6b of the light intensity uniformizing element 6 and the illuminated surface 2b of the DMD element 2 are in an optically conjugate relationship. ing. If the diagonal dimension of the exit surface 6b of the light intensity uniformizing element 6 is h and the diagonal dimension of the illuminated surface 2b of the DMD element 2 is H, the relay lens group 7, the first mirror 8 and the second mirror 9
  • the composite imaging magnification M is designed to be almost equal to HZh.
  • the relay lens group 7 is composed of one or a plurality of lenses.
  • the example shown in FIG. 1 [consists of three lenses 71, 72, 73]! Speak.
  • the DMD element 2 is a planar arrangement of a large number (for example, several hundred thousand) of movable micromirrors corresponding to each pixel, and the tilt angle of each micromirror according to pixel information (tilt). Is configured to change. If the surface on which the micromirrors are arranged is the reference surface, The DMD element 2 reflects the incident light beam toward the projection optical system 3 by inclining each micromirror by an angle ⁇ (for example, 12 degrees) with respect to the reference plane in a certain direction.
  • for example, 12 degrees
  • the DMD element 2 also tilts the micromirror in the opposite direction with respect to the reference plane by an angle ⁇ to direct the incident light beam toward a light absorbing plate (not shown) provided at a position away from the projection optical system 3. reflect.
  • the structure of a general DMD element is described in, for example, H. Hornbeck, “Digital Lignt Processing for high—brightness, high resolution appncati ons”, Prog. SPIE, Vol. 3013, pp. 27-40, 1997 ” ⁇ It should be noted that the area where a large number of micromirrors are arranged in the DMD element 2 corresponds to an image forming area that is illuminated by the illumination optical system 1 to form an image.
  • FIG. 3 is a view of the projection display apparatus according to Embodiment 1 as viewed in the direction of the arrow (that is, from the illumination optical system 1 side) as indicated by the line III-III in FIG.
  • the DMD element 2 is displaced from the optical axis la (in FIG. 3, the direction is above the optical axis la and parallel to the vertical scanning direction of the DMD element 2).
  • a lens group (not shown) is disposed in the lens barrel 3 c, and the incident surface 3 d is disposed so as to face the front surface of the DMD element 2.
  • the optical axis 3a of the lens group of the projection optical system 3 is parallel and deviated by a predetermined amount with respect to the normal 2a passing through the center of the illuminated surface 2b of the DM D element 2.
  • the first mirror 8 has a reflecting surface 8b, and the normal 8a passing through the reflecting surface 8b of the first mirror 8 is inclined with respect to the optical axis la as shown in FIG. With such a configuration, the reflecting surface 8 b of the first mirror 8 reflects the light beam incident from the relay lens system 7 toward the second mirror 9.
  • the first mirror 8 has an action of determining the shape of the illumination light beam that irradiates the DMD element 2 and a good irradiation position, and is constituted by a plane mirror or a concave reflection mirror.
  • the first mirror 8 When the first mirror 8 is configured with a flat mirror, the effect of determining the shape of the illumination light beam that irradiates the DMD element 2 is weak, but it can be configured at the lowest cost and the thickness of the first mirror 8 can be reduced. Since it can be made the thinnest, interference with the DMD element 2 and the second mirror 9 can be easily avoided.
  • the reflecting surface of the first mirror 8 When the reflecting surface of the first mirror 8 is configured as a cylindrical concave surface, the distortion generated by obliquely irradiating the DMD element 2 is corrected satisfactorily, and a good illumination beam shape and irradiation position are realized. It becomes possible.
  • the position where the light beam emitted from the center of the exit surface 6b arrives is denoted by reference numeral 8c.
  • the second mirror 9 is disposed adjacent to the lower side of the projection optical system 3 (the lower side in FIG. 3). Also, the second mirror 9 is moved from the barrel 3c of the projection optical system 3 (in the direction of the projection optical axis 3a) so that it does not interfere with the second mirror 9 when the projection optical system 3 moves due to a lens shift described later. ⁇ , and) It is placed on the DMD element 2 side. The light beam reflected by the reflecting surface 9 b of the second mirror 9 is reflected by the illuminated surface 2 b of the DMD element 2 and enters the incident side opening 10 of the projection optical system 3.
  • the light beam that passes through the center of the light beam from the DMD element 2 to the projection optical system 3 is a light beam that passes through the center of the light beam from the light source lamp 4 to the first mirror 8 (optical axis). la) is almost perpendicular to the top view. Further, the normal 2a of the illuminated surface 2b of the DMD element 2 and the optical axis 3a of the projection optical system 3 are both substantially perpendicular to the optical axis la when viewed from above.
  • the light source lamp 4, the relay lens group 7, the first mirror 8, the second mirror 9, the reflection type light valve 2 and the projection optical system 3 are not blocked by each other. It becomes difficult to place them in The tilt angle of the light source lamp 4 is within an allowable range up to about 15 degrees, and the brightness decreases as the tilt angle increases, and the flicker force phenomenon of the light source lamp 4 is caused to obtain a good image. It becomes difficult. For these reasons, the intersection angle ⁇ (Fig.
  • FIGS. 4 (4) and ( ⁇ ) are diagrams for explaining the lens shift function.
  • the lens shift function allows the projection optical system 3 to move in a direction substantially perpendicular to the projection optical axis 3a (here, the vertical direction (the vertical scanning direction of the DMD element 2 and direction D in FIG. 3)) and
  • FIG. 4 (A) is a side view of the projection optical system 3 and the screen 100 as seen from the side force.
  • FIG. 4B is a plan view of the projection optical system 3 and the screen 100 as viewed from above.
  • the projection range on the screen 100 moves upward (arrow U) or downward (arrow D) as shown in FIG. 4 (A).
  • the script is shown in Fig. 4 (B).
  • the projected area on screen 100 moves to the left (arrow L) or right (arrow R).
  • the vertical position of the projection optical axis 3a matches the lower end of the projection range Y.
  • Projection range Y is
  • the shift amount of the projection optical system 3 at this time is set to 50%.
  • the shift amount of the projection optical system 3 is 50%, an image is projected upward from the projection optical system 3 onto the screen 100. Since the shift amount (movement amount) of the projection optical system 3 itself is smaller than the movement amount of the projection range, the illustration is omitted in FIG. 4 (A).
  • Projection range X is the projection range
  • the shift amount of the projection optical system 3 at this time is + 10%.
  • the projection optical system 3 is in the third position (left end position) in the horizontal direction, it is within the range indicated by the symbol X on the screen 100.
  • Projection range X is 10% of the projection width to the left of projection range X
  • the shift amount of the projection optical system 3 at this time is set to 10%.
  • the horizontal dimension (major axis direction, that is, the long side direction) of the rectangular DMD element 2 is 14.01 mm
  • the vertical dimension (short axis direction, that is, the short side direction) is Vd. 51mm
  • the vertical shift amount is 50%
  • the horizontal shift amount is ⁇ 10%.
  • the size of the image circle 11 in this case is shown in Fig. 5 (A) to (C).
  • FIG. 5A shows the image circle 11 when the horizontal and vertical shift amounts of the projection optical system 3 are both 0%.
  • the image circle 11 of the projection optical system 3 is a circle having a diameter of 17.51 mm.
  • FIG. 5B shows the image circle 11 when the vertical shift amount of the projection optical system 3 is 50% and the horizontal shift amount is 0%.
  • the image circle 11 is a circle having a diameter of 25.26 mm.
  • FIG. 5C shows the image circle 11 when the vertical shift amount of the projection optical system 3 is 0% and the horizontal shift amount is 10%.
  • the image circle 11 is a circle having a diameter of 18.65 mm.
  • Fig. 5 (C) shows the diameter of the projection optical system 3 shown in Fig. 5 (C) even when the projection optical system 3 is shifted to the opposite side (right side). Included within 65mm image circle 11.
  • FIG. 5 (B) and 5 (C) show the projection optical system by appropriately determining the force image circle 11 shown when the projection optical system 3 is shifted only in the vertical direction and only in the horizontal direction.
  • Video can be displayed by shifting 3 in the vertical and horizontal directions.
  • the diameter of the image circle 11 is set to 25.26 mm.
  • a diaphragm member (opening definition member) that defines the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 12 is arranged on the DMD element 2 side slightly from the entrance surface 3d of the projection optical system 3, a diaphragm member (opening definition member) that defines the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 12 is arranged.
  • the entrance-side opening 10 of the aperture member 12 has a circular shape with a diameter E, and the periphery thereof is provided with a black coating or the like so as to block unnecessary light. Since the vertical shift amount of the projection optical system 3 is 50%, the projection optical axis 3a of the projection optical system 3 is perpendicular to the normal 2a passing through the center of the illuminated surface 2b of the DMD element 2. That is, the DMD element 2 is displaced by 50% (ie, 5. 255 mm) in the short axis direction. The center of the incident side opening 10 defined by the diaphragm member 12 is located at a position displaced by 50% (that is, 5.255
  • the light beam from the illumination optical system 1 (the light beam reflected by the second mirror 9 of the illumination optical system 1) is reflected by the illuminated surface 2b of the DM D element 2, and is incident on the incident side opening of the projection optical system 3. Passes through 10 and enters projection optical system 3. At this time, the distance from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 to the incident side opening 10 of the projection optical system 3 is L, the diameter of the incident side opening 10 is E, and the light flux of the illumination optical system 1 is expanded.
  • the F number F of the illumination optical system 1 is calculated by the following equation (1).
  • the brightness of illumination optical system 1 is the F number F of the illumination optical system.
  • the projection optical system 3 needs to be large enough to efficiently capture the light beam that has passed through the incident side opening 10 of the projection optical system 3.
  • the entrance surface 3d of the projection optical system 3 and the entrance-side opening 10 are arranged close to each other! Therefore, as shown in FIG. 6, when the projection optical axis 3a of the projection optical system 3 and the center of the entrance-side opening 10 are aligned, the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is
  • the diameter E of the incident side opening 10 is substantially equal to or slightly larger than the diameter E.
  • the F number F of the projection optical system 3 is substantially equal to the F number F of the illumination optical system 1.
  • FIG. 7 shows a state where the shift amount of the projection optical system 3 in the vertical direction (D direction) is 0%.
  • the projection optical system 3 is shifted (in this case, moved downward), other than the projection optical system 3
  • the components do not move.
  • the incident side opening 10 of the projection optical system 3 having the center at the position is reached.
  • the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is at least twice the shift amount S than the diameter E of the entrance-side aperture 10
  • the F number F of Faculty 1 is set to 2.4, and the projection optical system 3 enters from the illuminated surface 2b of the DMD element 2.
  • the diameter E of the incidence side opening 10 is obtained from the above equation (1).
  • the shift amount of the projection optical system 3 is 50%, if the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is approximately equal to 20.2 mm, the light beam from the illumination optical system 1 can be efficiently transmitted.
  • the incident side opening 10 and the incident surface 3d of the projection optical system 3 are arranged in close proximity to each other, so that the force of the illumination surface 2b of the DMD element 2 and the distance to the incident surface 3d are approximately L. Therefore, the F number F of the projection optical system 3 is set to the F number of the illumination optical system 1.
  • the light flux that has passed through the opening 10 can be taken in efficiently.
  • the diameter E of the mouth 10 is 20.2 mm.
  • the effective diameter E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is
  • the F number F is very small, about 1.63.
  • the F number F force of the projection optical system 3 the brightness increases while the illumination light increases.
  • the design of the projection optical system 3 is easy, but the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is
  • the F-number F of the illumination optical system 1 is set to 2.4, and the projection is started from the DMD element 2.
  • Results No. l to No. 7 are the F number F of the projection optical system 3, 1.63, 1.77, 1.89, 2.04
  • the brightness was evaluated by setting the brightness when the F number F of the projection optical system 3 is 1.63 (hereinafter referred to as the reference value) to 100%.
  • F number F is 1 ⁇ 77, 1. 89, 2. 04, 2
  • the brightness when the shift amount is 0% is the reference value (the brightness when F Nanno F force ⁇ 1.63 is 100%). 99%, 97%, 95%, 88%, 83)
  • the decrease in brightness in Table 1 is the effective aperture E force of the incident surface of the projection optical system 3,
  • Figure 8 shows the light flux when the shift amount is 0% in the experimental result No. 4 (F number F is 2.04).
  • the light beam from the illumination optical system 1 is reflected by the illuminated surface 2b of the DMD element 2 and reaches the incident side opening 10 having the diameter E (20.2 mm) of the projection optical system 3.
  • the incident surface 3d of the projection optical system 3 has a center (projection optical axis 3a) at a position displaced by 5.255 mm downward from the center of the entrance-side opening 10, and its effective aperture E is 24 mm.
  • the brightness can be improved.
  • the manufacturing cost can be reduced as the F number F is increased. Therefore, the specifics of F number F
  • the appropriate value is determined based on the specific configuration and specifications of the projection optical system 3 and taking into account the balance between brightness and manufacturing cost. In addition to brightness, it also has optical properties such as MTF, distortion, and lateral chromatic aberration! Also consider it.
  • the vertical shift amount is 50.
  • the power that maximizes the brightness at% The brightness changes depending on the arrangement of the incident side opening 10 of the projection optical system 3 and the emission position of the light beam from the illuminated surface 2b of the DMD element 2.
  • the arrangement of the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 and the emission position of the light beam from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 can be determined based on the specifications of the projection display device.
  • the F number F of the projection optical system 3 is illuminated.
  • the lens shift function can be achieved without increasing the size of the projection display device and increasing the price. Can be realized. Furthermore, since it is not necessary to use a telecentric optical system using a prism, an inexpensive projection display device can be provided. In addition, by providing the diaphragm member 12 between the DM D element 2 and the projection optical system 3, it is possible to prevent reaching the unnecessary light force S screen and improve the contrast.
  • the diaphragm member 12 that defines the incident side opening 10 is provided in the vicinity of the incident surface of the projection optical system 3, and the effective aperture EP of the projection optical system 3 is set to the incident side opening. From 10 By forming the projection optical system 3 large, the light from the DMD element 2 can be efficiently taken into the projection optical system 3 even when the projection optical system 3 is shifted.
  • the light beam passing from the second mirror 9 to the DMD element 2 through the center of the directional light beam is inclined with respect to the normal 2a of the image forming area of the DMD element 2, and the DMD element 2
  • the second mirror 9, the DMD element 2, and the projection optical system 3 are connected to each other by the configuration in which the light beam passing through the center of the light beam from They can be placed in a compact so that they do not interfere with each other.
  • the second mirror 9 of the illumination optical system 1 is arranged on the reflective light valve 2 side of the projection optical system 3 in the direction of the projection optical axis 3a, so that the lens Interference between the projection optical system 3 and the illumination optical system 1 during shifting can be prevented. Therefore, a projection display device that does not need to move the second mirror 9 in accordance with the movement of the projection optical system 3 can be configured at low cost and compactly.
  • the light passing through the center of the light flux from the light intensity uniformizing element 6 to the first mirror 8 and the reflection light valve 2 to the incident side opening 10 of the projection optical system 3 By making the light beam passing through the center of the light beam approximately orthogonal, the layout is facilitated, and the occurrence of a problem with the light source lamp 4 can be suppressed and a good image can be obtained.
  • the reflection type light valve 2 is configured by a movable micromirror capable of changing the tilt angle of the reflection angle of each pixel.
  • the intensity distribution can be made uniform, and the illuminance unevenness can be suppressed.
  • the light intensity uniformizing element 6 is formed of a tubular member that reflects light on the inner surface, so that the element itself is hardly heated by the illumination light flux, and the light intensity is uniformized.
  • the cooling and holding structure of the element 6 is simplified.
  • the light intensity equalizing element 6 is made of a square columnar transparent material, so that the light intensity equalizing element 6 can be easily designed.
  • the light intensity uniformizing element 6 is configured by a lens array in which a plurality of lens elements are arranged in a plane. It is possible to make the intensity distribution uniform and to suppress uneven illumination.
  • FIGS. 9A and 9B are diagrams for explaining the lens shift function of the projection display apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.
  • the projection display apparatus according to Embodiment 2 of the present invention has the same basic configuration as that of the projection display apparatus according to Embodiment 1 described with reference to FIGS.
  • the difference between the projection display apparatus according to the second embodiment and the projection display apparatus according to the first embodiment will be described.
  • FIG. 9 (A) is a side view of the projection optical system 3 and the screen 100 of the projection display device according to Embodiment 2 as seen from the side force.
  • FIG. 9B is a plan view of the projection optical system 3 and the screen 100 of the projection display device according to the second embodiment as viewed from above.
  • the projection optical system 3 moves in the vertical direction
  • the projection range on the screen 100 moves upward (arrow U) or downward (arrow D) as shown in FIG. 9 (A).
  • the projection range on the screen 100 moves to the left (arrow L) or right (arrow R) as shown in FIG. 9B.
  • the vertical position of the projection optical axis 3a matches the lower end of the projection range Y.
  • Projection range Y is
  • the position is displaced by 60% (50% in the first embodiment) of the projection width (short axis direction) upward with respect to the projection range Y. Therefore, the shift amount of the projection optical system 3 at this time is 60%.
  • the shift amount of the projection optical system 3 is 60%, an image is projected upward from the projection optical system 3 onto the screen 100. Since the shift amount (movement amount) of the projection optical system 3 itself is smaller than the movement amount of the projection range, the illustration is omitted in FIG. 9 (A).
  • Projection range X is the projection range
  • the shift amount of the projection optical system 3 at this time is + 10%.
  • the projection optical system 3 is in the third position (left end position) in the horizontal direction, it is within the range indicated by the symbol X on the screen 100.
  • Projection range X is 10% of the projection width to the left of projection range X
  • the shift amount of the projection optical system 3 at this time is set to 10%.
  • the image circle 11 of the projection optical system 3 In order to realize the lens shift function shown in FIGS. 9A and 9B, it is necessary to design the image circle 11 of the projection optical system 3 to have a size corresponding to the shift amount.
  • the horizontal dimension (long axis direction, that is, the long side direction) of the rectangular DMD element 2 is 14.01 d mm
  • the vertical dimension (short axis direction, that is, the short side direction) is V. 10.51mm, vertical d
  • the direction shift amount is 60% and the horizontal shift amount is ⁇ 10%.
  • the size of the image circle 11 in this case is shown in Figs.
  • FIG. 10 (A) shows the image circle 11 when the horizontal and vertical shift amounts of the projection optical system 3 are both 0%.
  • the image circle 11 of the projection optical system 3 is
  • FIG. 10B shows the image circle 11 when the vertical shift amount of the projection optical system 3 is 60% and the horizontal shift amount force SO%.
  • the image circle 11 is a circle having a diameter of 27.04 mm.
  • the vertical shift amount of the projection optical system 3 is 0%, and the horizontal shift amount is
  • Image circle 11 is shown for 10%.
  • the image circle 11 is a circle having a diameter of 18.65 mm.
  • Fig. 10 (C) shows the projected light.
  • An example in which the academic system 3 is shifted to one side (left side) in the horizontal direction is shown, but even if it is shifted to the other side (right side), it is within the range of the image circle 11 with a diameter of 18.65 mm shown in Fig. 10 (C). Is included.
  • FIGS. 10B and 10C show the projection optical system 3 by appropriately determining the force image circle 11 shown when the projection optical system 3 is shifted only in the vertical direction and only in the horizontal direction.
  • Video can be displayed by shifting system 3 vertically and horizontally.
  • the diameter of the image circle 11 is set to 27.04 mm.
  • illumination optical system 1 and projection optical system 3 in Embodiment 2 will be described.
  • an aperture member (opening definition member) that defines the incident side opening 10 of the projection optical system 3 ) 12 is arranged on the DMD element 2 side slightly from the incident surface 3d of the projection optical system 3.
  • the entrance-side opening 10 of the aperture member 12 has a circular shape with a diameter E, and the periphery thereof is provided with a black coating or the like so as to block unnecessary light.
  • the projection optical axis 3a of the projection optical system 3 is perpendicular to the normal 2a passing through the center of the illuminated surface 2b of the DMD element 2, that is, It is at a position displaced by 60% (ie, 6.3 mm) in the minor axis direction of DMD element 2.
  • the center of the entrance-side opening 10 defined by the diaphragm member 12 is located at a position displaced by 60% (that is, 6.3 mm) in the vertical direction from the normal 2a of the DMD element 2.
  • the light beam from the illumination optical system 1 (the light beam reflected by the second mirror 9 of the illumination optical system 1) is reflected by the illuminated surface 2b of the DM D element 2, and is incident on the incident side opening of the projection optical system 3. Passes through 10 and enters projection optical system 3. At this time, the distance from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 to the incident side opening 10 of the projection optical system 3 is L, the diameter of the incident side opening 10 is E, and the light flux of the illumination optical system 1 is expanded.
  • the F number F of the illumination optical system 1 is calculated by the equation (1) described in the first embodiment.
  • F 1 / (2 X Sin (Tan "(E / 2 XL))) ...
  • the brightness of the illumination optical system 1 is determined by the F number F of the illumination optical system 1.
  • the projection optical system 3 needs to be large enough to efficiently capture the light beam that has passed through the incident side opening 10 of the projection optical system 3.
  • the entrance surface 3d of the projection optical system 3 and the entrance-side opening 10 are arranged close to each other! Therefore, as shown in FIG. 11, when the projection optical axis 3a of the projection optical system 3 and the center of the incident-side opening 10 are aligned, the effective diameter E of the incident surface 3d of the projection optical system 3 Is approximately equal to the diameter E of the entrance-side opening 10 or slightly larger than the diameter E.
  • optical system can be configured brightly.
  • FIG. 12 shows a state in which the vertical shift amount (D direction) of the projection optical system 3 is 0%.
  • the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is at least twice the shift amount S than the diameter E of the entrance-side aperture 10.
  • the F number F of Study 1 is set to 2.4, and the projection optical system 3 enters from the illuminated surface 2b of the DMD element 2.
  • the incident side opening 10 and the incident surface 3d of the projection optical system 3 are Since the surface to be illuminated 2b of the DMD element 2 and the distance to the entrance surface 3d are substantially equal to L, the F number F of the projection optical system 3 is set to be the same as that of the illumination optical system 1. F pick-up
  • the luminous flux that has passed through the side opening 10 can be taken in efficiently.
  • the diameter E of the entrance-side aperture 10 is 18.9 mm, but the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is further increased by 2 times 6.3 mm (ie, 12.6 mm) 31.5
  • F number F can be calculated by the following equation (4).
  • the F-number F is very small, about 1.5.
  • the design of the projection optical system 3 is easy, but the effective aperture E of the entrance surface 3d of the projection optical system 3 is
  • the F number F of the illumination optical system 1 is set to 2.4, and the DMD element 2
  • the distance L to the entrance-side aperture 10 of the projection optical system 3 is 44.5 mm, and the F-number of the projection optical system 3 The change in brightness when the bar F was changed was examined. The results are shown in Table 2.
  • the evaluation of brightness is based on the assumption that the brightness when the F number F of the projection optical system 3 is 1.5 (hereinafter referred to as the reference value) is 100%.
  • the brightness is gradually decreasing. That is, F number F is 1.8, 1.9, 2.0, 2.2,
  • the brightness when the shift amount is 0% is the reference value (the brightness when F picker-F force ⁇ 1.5 is 100%). 99%, 97%, 95%, 88%, 83%, 8
  • the decrease in brightness in Table 2 is the effective aperture E force of the incident surface of the projection optical system 3,
  • Figure 13 shows the light flux when the shift amount is 0% in the experimental result No. 4 (F number F is 2.0).
  • the light beam from the illumination optical system 1 is reflected by the illuminated surface 2b of the DMD element 2 and enters the incident side opening 10 having the diameter E (18.9 mm) of the projection optical system 3.
  • the incident surface 3d of the projection optical system 3 has a center (projection optical axis 3a) at a position where the central force of the incident-side opening 10 is also displaced downward by 6.3 mm, and its effective aperture E is 23 mm.
  • No. 1 of the experimental result can capture all the light fluxes from the illumination optical system 1 with no loss of brightness even when the shift amount is 0%.
  • the F-number F of the projection optical system 3 is 1.5, which is a very small value.
  • the brightness can be improved as the F number F of the projection optical system 3 is decreased.
  • the specific value of is determined based on the specific configuration and specifications of the projection optical system 3 and considering the balance between brightness and manufacturing cost. In addition to brightness, optical characteristics such as MTF, distortion, and lateral chromatic aberration are also considered.
  • the vertical shift amount is 60 mm.
  • the brightness varies depending on the arrangement of the incident side opening 10 of the projection optical system 3 and the emission position of the light beam from the illuminated surface 2b of the DMD element 2.
  • the arrangement of the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 and the emission position of the light flux from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 can be determined based on the specifications of the projection display device! .
  • the shift amount S in the vertical direction of the projection optical system 3 is small.
  • the light flux from the second mirror 9 of the illumination optical system 1 and the DMD element 2 interfere with each other, resulting in a loss of light use efficiency.
  • the image circle 11 of the projection optical system 3 shown in FIGS. 10 (A) to 10 (C) becomes larger, which makes it difficult to design the projection optical system 3.
  • the vertical shift amount S of the projection optical system 3 is set to 0.4 of the vertical dimension V of the DMD element 2.
  • the vertical shift amount S of the projection optical system 3 is set to the vertical dimension of the DMD element 2.
  • the F number of the projection optical system 3 is configured so that the above-described relational expressions (1) and (2) are satisfied, and the projection optical system Since the entrance-side opening 10 of the system 3 is fixed (that is, it does not move with the movement of the projection optical system 3), the lens shift function is realized, the light use efficiency is improved, and the contrast is improved. It is possible to display a good image.
  • the lens shift function can be achieved without increasing the size of the projection display device and increasing the price. Can be realized. Furthermore, since it is not necessary to use a telecentric optical system using a prism, an inexpensive projection display device can be provided. In addition, by providing the diaphragm member 12 between the DM D element 2 and the projection optical system 3, it is possible to prevent reaching the unnecessary light force S screen and improve the contrast.
  • the diaphragm member 12 that defines the incident side opening 10 is provided in the vicinity of the incident surface of the projection optical system 3, and the effective aperture E of the projection optical system 3 is set to the incident side opening. From 10
  • the projection optical system 3 If the projection optical system 3 is shifted, the light from the DMD element 2 can be efficiently taken into the projection optical system 3.
  • the shift amount of the projection optical system 3 is configured so that the above-described relational expression (5) is satisfied, so that the light use efficiency is improved and the contrast is good. Display video It becomes possible to show.
  • the light beam passing through the center of the directional light beam from the second mirror 9 to the DMD element 2 is inclined with respect to the normal 2a of the image forming area of the DMD element 2, and the DMD element 2
  • the second mirror 9, the DMD element 2, and the projection optical system 3 are connected to each other by the configuration in which the light beam passing through the center of the light beam from They can be placed in a compact so that they do not interfere with each other.
  • the second mirror 9 of the illumination optical system 1 is arranged closer to the reflective light valve 2 than the projection optical system 3 in the direction of the projection optical axis 3a. Interference between the projection optical system 3 and the illumination optical system 1 during shifting can be prevented. Therefore, a projection display device that does not need to move the second mirror 9 in accordance with the movement of the projection optical system 3 can be configured at low cost and compactly.
  • the light passing through the center of the light flux from the light intensity uniformizing element 6 to the first mirror 8, and from the reflective light valve 2 to the incident side opening 10 of the projection optical system 3 By making the light beam passing through the center of the light beam approximately orthogonal, the layout is facilitated, and the occurrence of a problem with the light source lamp 4 can be suppressed and a good image can be obtained.
  • the reflection type light valve 2 is composed of a movable micromirror capable of changing the angle of reflection of each pixel, so that the intensity distribution in the cross section of the illumination light beam is uniform. And uneven illuminance can be suppressed.
  • the light intensity uniformizing element 6 is formed of a tubular member that reflects light on the inner surface, so that the element itself is hardly heated by the illumination light flux, and the light intensity is uniformized.
  • the cooling and holding structure of the element 6 is simplified.
  • the light intensity uniformizing element 6 can be easily designed by forming the light intensity uniformizing element 6 from a rectangular columnar transparent material.
  • the light intensity uniformizing element 6 is configured by a lens array in which a plurality of lens elements are arranged in a plane, so that the intensity distribution in the cross section of the illumination light beam is made uniform and the illuminance is uniform. It becomes possible to suppress unevenness.
  • the projection optical system 3 When designing the projection optical system 3, it is designed if the F number F of the projection optical system 3 is small. Becomes difficult and the manufacturing cost increases. On the other hand, when the distance L from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 to the incident side opening 10 of the projection optical system 3 is increased, the design of the projection optical system 3 is similarly difficult and the manufacturing cost is also increased.
  • the second mirror 9 As shown in FIGS. 1 and 3, the second mirror 9 is disposed adjacent to the lower side of the projection optical system 3, and the second mirror 9 is moved when the projection optical system 3 is moved for lens shift. The second mirror 9 must be placed on the DMD element 2 side (in the direction of the projection optical axis 3a) from the lens barrel 3c of the projection optical system 3 so that it does not interfere with 9. Longer is desirable.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining the distance and performance to the entrance surface of the DMD element force projection optical system in the projection display apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.
  • the same shift amount S in FIG. 3mm
  • F the same F
  • the effective aperture E of the entrance surface of the projection optical system 3 is compared to the effective aperture E.
  • the change in performance was evaluated when the distance L from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 to the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 was varied.
  • the evaluation of brightness is based on the assumption that the brightness (reference value) when the F number F of the projection optical system 3 shown in Table 2 is 1.5 is 100%.
  • the distance L from the illuminated surface 2b of the DMD element 2 to the entrance-side opening 10 of the projection optical system 3 L force 5.5 mm force to 41.5 mm, the distance L Is 45.5 mm, the effective aperture E of the entrance surface of the projection optical system 3 is 23.5 mm, and the distance L is 41.5 mm.
  • the effective aperture E of the entrance surface of the projection optical system 3 is 21.4 mm, and the effective aperture becomes smaller as the distance L decreases.
  • the brightness of the optical system is 100%, and when the shift amount is 0%, the brightness as the performance of the optical system is good at 98%.
  • the distance L is 44.5 mm
  • the brightness as the optical system performance is 100% when the shift amount is 100%, and the brightness as the optical system performance is when the shift amount is 0%. 95%.
  • the distance L decreases, the amount of brightness loss increases.
  • the P d ratio satisfies the following conditional expression.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the light collection point of the illumination optical system in the projection display apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.
  • the diaphragm 13 of the illumination optical system 1 is arranged at the position on the first mirror 8 side after emission from the relay lens group 7. Yes.
  • the diaphragm 13 of the illumination optical system 1 is not provided with a member that defines the aperture.
  • the light beam emitted from the light intensity uniformizing element 6 is once condensed at the stop 13.
  • the incident-side pupil position of the projection optical system 3 is positioned on the DMD element 2 side of the projection optical system 3 (that is, the projection optical system 3 Although it is desirable to use the entrance-side aperture 10), placing the entrance-side pupil position outside the lens of the projection optical system 3 is a major limitation in the design of the projection optical system 3, and makes the design difficult. become.
  • the condensing point 14 of the illumination optical system 1 that is, the entrance-side pupil position of the projection optical system 3
  • the screen is positioned closer to the screen than the incident surface of the system 3, that is, in the projection optical system 3.
  • the condensing point 14 of the illumination optical system 1 is arranged on the screen side of the incident surface of the projection optical system 3, so that the projection optical system 3 It is possible to reduce design constraints and provide design flexibility.
  • the expression “up” or “down” is used to indicate the direction of the projection display device in the actual use state, but the projection display device of the present invention is described above. It can also be installed in a different posture.
  • the rotating color filter 5 is replaced with the light source lamp 4 and the light intensity uniformizing element.
  • the illumination beam is arranged between the elements 6 is shown, as long as the illumination light beam converges small just after the light intensity uniformizing element 6, it can be arranged in another location.
  • another light valve such as a force reflection type liquid crystal display element showing a case where a DMD element is used as the reflection type light valve 2 may be used.

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Description

明 細 書
投写型表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、スクリーン上に画像を投写する投写型表示装置に関し、より詳細には、 ディジタノレ'マイクロミラー 'デノ イス (Digital Micro— mirror Device :以下 DMD と略する。)や反射型液晶表示素子等により構成された反射型ライトバルブを用いた 投写型表示装置に関する。
背景技術
[0002] 反射型ライトバルブを用いた投写型表示装置の光学系は、テレセントリック型とノン テレセントリック型の 2種類に大別される。テレセントリック型の光学系においては、プ リズムを用いることにより、投写レンズを反射型ライトバルブに対してテレセントリックな 構成としている。ノンテレセントリック型の光学系においては、プリズムを用いずに、投 写レンズを反射型ライトバルブに対してテレセントリックではな 、構成として 、る。
[0003] 近年、投写型表示装置においては、装置本体を移動させずに投写範囲を任意に 移動できるよう、投写レンズを上下等にシフトさせる機能 (レンズシフト機能)を備えた ものが開発されている。このようなレンズシフト機能を実現するため、全反射プリズム を用いたテレセントリック型の光学系を採用することが提案されている(例えば、特許 文献 1参照)。
[0004] 一方、投写型表示装置に用いられるノンテレセントリック型の光学系として、光源か らの光を DMDに導く集光レンズと、 DMDで反射された光を投影する投影レンズとを 用い、投影レンズの移動(シフト)に合わせて集光レンズを偏心させることで、 DMD への入射角度を変化させるようにした光学系が提案されている(例えば、特許文献 2 参照)。
[0005] 特許文献 1 :特開 2001—42256号公報 (第 4— 5頁、図 3)
特許文献 2:特開 2003 - 75768号公報 (第 3— 4頁、図 1)
発明の開示
発明が解決しょうとする課題 [0006] し力しながら、特許文献 1に記載されて 、るように、レンズシフト機能を実現するため にプリズムを用いたテレセントリック型の光学系を採用した場合、プリズムの界面での 反射によって光利用効率が低下し、また、プリズムの界面での反射光が迷光となるこ とから、投写画像の輝度及びコントラストが低下するという問題がある。また、プリズム を設けることで投写型表示装置の価格が上昇するという問題もある。
[0007] 一方、特許文献 2に記載されているように、レンズシフト機能を実現するためにノン テレセントリック型の光学系を採用した場合、投写レンズの移動に合わせて照明光学 系の集光レンズを偏心させるため、可動部分が多くなり、その結果、投写型表示装置 の大型化と価格の上昇を招くという問題点がある。
[0008] 本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ノンテレ セントリック型の光学系を採用し、照明光学系の集光レンズを偏心させることなくレン ズシフト機能を実現し、投写画像の輝度及びコントラストが高ぐ小型で低価格な投 写型表示装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0009] 本発明に係る投写型表示装置は、光源を含む照明光学系と、前記照明光学系に よって照明される被照明面に画像形成領域を有する反射型ライトバルブと、前記反 射型ライトバルブの前記画像形成領域に形成された画像を拡大投写する投写光学 系であって、投写光軸に対して略直交する方向にシフト可能な投写光学系とを備え ている。前記投写光学系の Fナンバーは、前記照明光学系の Fナンバーよりも小さい 。また、前記投写光学系と前記反射型ライトバルブとの間に、前記投写光学系のシフ トによって移動しない部材であって、前記投写光学系の入射側開口部を規定する開 口部規定部材を有している。
発明の効果
[0010] 本発明によれば、投写光学系の Fナンバーを照明光学系の Fナンバーよりも小さく し、反射型ライトバルブと投写光学系との間に投写光学系の入射側開口部(固定)を 設けた構成により、集光レンズを偏心させることなぐノンテレセントリック光学系を用 いてレンズシフト機能を実現することができる。すなわち、投写型表示装置の大型化 や価格の上昇を招くことなくレンズシフト機能を実現することができる。 [0011] また、本発明においては、反射型ライトバルブと投写光学系との間に、入射側開口 部を規定する開口部規定部材を設けたため、投写光学系を移動した際に不要光が スクリーンに到達することを防止し、良好なコントラストを得ることができる。
[0012] さらに、本発明においては、プリズムを用いたテレセントリック型の光学系を用いる 必要がないため、光利用効率が高ぐコントラストが良好で、安価な投写型表示装置 を提供することができる。
[0013] 加えてまた、投写光軸に略直交する方向のシフト量 S、開口部規定部材の入射側
P
開口部の直径 E、投写光学系の入射面の有効口径 E、及び反射型ライトバルブの
P
垂直走査方向の寸法 Vが、
d
E<E
p
0. 7 XV >S 〉0· 4 XV
d P d
を満たすように構成することにより、照明光学系を構成する光学部品を偏心させること なぐノンテレセントリック光学系を用いて、投写光学系を投写光軸に対して略直交す る方向にシフトさせるだけで、良好なレンズシフト機能を実現することができる。その 結果、装置の大型化や価格の上昇を抑制することができる。
図面の簡単な説明
[0014] [図 1]本発明の実施の形態 1に係る投写型表示装置の基本構成を示す平面図である
[図 2]本発明の実施の形態 1における投写型表示装置の光強度均一化素子及び D MD素子の関係を概念的に示す図である。
[図 3]図 1の投写型表示装置の III ΠΙ線で示される面を矢印方向に見た側面図であ る。
[図 4] (A)及び (B)は、本発明の実施の形態 1におけるレンズシフト機能を模式的に 示す図である。
[図 5] (A)〜 (C)は、本発明の実施の形態 1における投写光学系のイメージサークル を模式的に示す図である。
[図 6]本発明の実施の形態 1において投写光学系が鉛直方向にシフトしたときの配置 を模式的に示す図である。 [図 7]本発明の実施の形態 1において投写光学系が鉛直方向にシフトしたときの配置 を模式的に示す図である。
[図 8]本発明の実施の形態 1におけるレンズシフト時の光量損失を説明するための図 である。
[図 9] (A)及び (B)は、本発明の実施の形態 2におけるレンズシフト機能を模式的に 示す図である。
[図 10] (A)〜 (C)は、本発明の実施の形態 2における投写光学系のイメージサーク ルを模式的に示す図である。
[図 11]本発明の実施の形態 2において投写光学系が鉛直方向にシフトしたときの配 置を模式的に示す図である。
[図 12]本発明の実施の形態 2において投写光学系が鉛直方向にシフトしたときの配 置を模式的に示す図である。
[図 13]本発明の実施の形態 2におけるレンズシフト時の光量損失を説明するための 図である。
[図 14]本発明の実施の形態 3に係る投写型表示装置における DMD素子から投写光 学系の入射面までの距離と性能について説明するための図である。
[図 15]本発明の実施の形態 4に係る投写型表示装置における照明光学系の集光点 を説明するための図である。
符号の説明
1 照明光学系、 la 照明光学系の光軸、 2 DMD素子 (反射型ライトバルブ) 、 2b DMD素子の被照明面、 3 投写光学系、 3a 投写光学系の投写光軸、 3d 投写光学系の入射面、 4 ランプ、 5 カラーフィルタ、 6 光強度均一化素 子、 7 リレーレンズ群、 8 第 1ミラー、 9 第 2ミラー、 10 入射側開口部、 12 絞り部材(開口部規定部材)、 100 スクリーン、 D 水平方向(DMD素子の水
H
平走査方向)、 D 鉛直方向(DMD素子の垂直走査方向)、 E 絞り部材の入射
V
側開口部の直径、 E 投写光学系の入射面の有効口径、 F 照明光学系の Fナ
P I
ンバー、 F 投写光学系の Fナンバー、 L 絞り部材と DMD素子との距離、 S
p P 投写光学系のシフト量、 V DMD素子の短軸方向の寸法。 発明を実施するための最良の形態
[0016] 実施の形態 1.
図 1は、本発明の実施の形態 1に係る投写型表示装置の基本構成を示す平面図で ある。この図 1に示す投写型表示装置の各構成部品の配置は、投写型表示装置を 実際の使用状態において上方力 見た配置、すなわち上面視における配置である。
[0017] 実施の形態 1に係る投写型表示装置は、反射型ライトバルブとしての DMD素子 2と 、この DMD素子 2を照明する照明光学系 1と、この照明光学系 1により照明された D MD素子 2の画像を図示しないスクリーンに投写する投写光学系 3とを備えている。
[0018] 照明光学系 1は、光源ランプ 4と、この光源ランプ 4力も射出された光束のうち特定 の波長帯域の光束を通過させる回転カラーフィルタ 5と、回転カラーフィルタ 5を通過 した光束の当該光束断面内における強度分布を均一化する光強度均一化素子 6と、 光強度均一化素子 6から射出された光束をその進行方向に伝達するリレーレンズ群 7と、リレーレンズ群 7によって伝達された光束を DMD素子 2に向けて反射するため の第 1ミラー 8及び第 2ミラー 9とを有して 、る。
[0019] 光源ランプ 4は、例えば、白色光を射出する発光体 4aと、この発光体 4aの周囲に 設けられた楕円面鏡 4bとから構成されている。楕円面鏡 4bは、楕円の第 1中心に対 応する第 1焦点力 射出された光束を反射して、楕円の第 2中心に対応する第 2焦点 に収束させる。発光体 4aは、楕円面鏡 4bの第 1焦点近傍に配置されており、この発 光体 4aから射出された光束は、楕円面鏡 4bの第 2焦点近傍に収束される。楕円面 鏡 4bの第 1焦点と第 2焦点とを通る軸線により、照明光学系 1の光軸 laが規定される
[0020] なお、光源ランプ 4は図 1に示した構成に限られず、例えば楕円面鏡 4bに代えて放 物面鏡を用いても良い。この場合には、発光体 4aから射出された光束を放物面鏡に より略平行ィ匕したのち、コンデンサレンズにより収束させることができる。
[0021] 回転カラーフィルタ 5は、円盤状の部材を、例えば、扇状に 3分割して、それぞれ赤 、緑及び青の 3つのフィルタ領域としている。赤、緑及び青の 3つのフィルタ領域は、 それぞれ赤色、緑色及び青色の各波長帯域に対応する光束のみを通過させる。回 転カラーフィルタ 5は、照明光学系 1の光軸 laと略平行な軸線を中心として回転し、 それぞれのフィルタ領域が照明光学系 1の光軸 laに直交する方向に広がり、且つ、 楕円面鏡 4bの第 2焦点近傍に位置するように構成されている。この回転カラーフィル タ 5を画像信号に同期して回転させることにより、赤色光、緑色光及び青色光が順に (フィールドシーケンシャルに) DMD素子 2に照射される。
[0022] 光強度均一化素子 6は、回転カラーフィルタ 5を通過した光束の、当該光束断面内 における強度分布を均一化する (すなわち、照度ムラを低減する)。光強度均一化素 子 6の構成例としては、一般的には、透明のガラス又は樹脂で形成された四角柱状 のロッドや、表面鏡をその反射面を内側にして筒状に組み合わせたパイプが知られ ている。前者は透明材料と空気界面との全反射作用を利用して光を複数回反射させ るものであり、後者は表面鏡の反射作用を利用して光を複数回反射させるものである 。この光の振る舞いは、万華鏡のそれと略同じであり、適当な長さを確保すれば、光 強度均一化素子 6で複数回反射した光が光強度均一化素子 6の出射面 6bの近傍に 重畳照射され、光強度均一化素子 6の出射面 6b近傍において略均一な強度分布が 得られる。この略均一な強度分布を有する光束を、後述するリレーレンズ群 7、第 1ミ ラー 8及び第 2ミラー 9によって DMD素子 2へと導き、 DMD素子 2に照射させる。な お、光強度均一化素子 6として、例えば、複数のレンズ素子を平面的に配列したレン ズアレイのような他の光学素子を用いても良 、。
[0023] 図 2は、光強度均一化素子 6の出射面 6bから射出された光束の収束状態を模式的 に示す図である。リレーレンズ群 7、第 1ミラー 8及び第 2ミラー 9は、光強度均一化素 子 6の出射面 6bと DMD素子 2の被照明面 2bとが光学的に共役な関係になるように 構成されている。光強度均一化素子 6の出射面 6bの対角寸法を hとし、 DMD素子 2 の被照明面 2bの対角寸法を Hとすると、リレーレンズ群 7、第 1ミラー 8及び第 2ミラー 9の合成結像倍率 Mが HZhとほぼ等しくなるように設計されている。
[0024] リレーレンズ群 7は、 1枚又は複数枚のレンズにより構成されており、図 1に示した例 【こお ヽて ίま 3枚のレンズ 71, 72, 73【こより構成されて!ヽる。
[0025] DMD素子 2は、各画素に対応する可動式のマイクロミラーを多数 (例えば、数十万 個)平面的に配列したものであり、画素情報に応じて各マイクロミラーの傾角(チルト) を変化させるように構成されている。マイクロミラーの配列された面を基準面とすると、 DMD素子 2は、各マイクロミラーを基準面に対して一定の方向に角度 α (例えば、 1 2度)だけ傾けることにより、入射光束を投写光学系 3に向けて反射する。 DMD素子 2は、またマイクロミラーを基準面に対して反対方向に角度 αだけ傾けることにより、 入射光束を投写光学系 3から離れた位置に設けられた光吸収板 (図示せず)に向け て反射する。一般的な DMD素子の構成は、例えば、文献し H. Hornbeck, "Digi tal Lignt Processing for high— brightness, high resolution appncati ons", Prog. SPIE, Vol. 3013, pp. 27—40, 1997"【こ開示されて!ヽる。なお、 D MD素子 2において多数のマイクロミラーが配列された領域は、照明光学系 1により 照明されて画像を形成する画像形成領域に相当する。
[0026] 図 3は、実施の形態 1に係る投写型表示装置の、図 1において III III線で示される 面を矢印方向に (すなわち、照明光学系 1側から)見た図である。図 3に示されるよう に、 DMD素子 2は、光軸 laからずれた位置(図 3においては、光軸 laよりも上方であ り、 DMD素子 2の垂直走査方向に平行な方向である。 )に配置されている。投写光 学系 3は、鏡筒 3c内に図示しないレンズ群を配置しており、その入射面 3dが DMD 素子 2の略正面に対向配置されている。投写光学系 3のレンズ群の光軸 3aは、 DM D素子 2の被照明面 2bの中心を通る法線 2aに対して、平行でかつ所定量ずれてい る。
[0027] 第 1ミラー 8は、反射面 8bを有しており、図 1に示すように第 1ミラー 8の反射面 8bを 通る法線 8aは、光軸 laに対して傾斜している。このような構成により、第 1ミラー 8の 反射面 8bは、リレーレンズ系 7から入射した光束を第 2ミラー 9に向けて反射する。第 1ミラー 8は、 DMD素子 2を照射する照明光束の形状及び良好な照射位置を決定す る作用を有し、平面ミラー又は凹状の反射ミラーで構成される。第 1ミラー 8を平面ミラ 一で構成した場合には、 DMD素子 2を照射する照明光束の形状を良好に決定する 効果は弱くなるが、最も安価に構成できるとともに、第 1ミラー 8の厚みを最も薄く構成 できるため、 DMD素子 2や第 2ミラー 9との干渉を回避し易くなる。第 1ミラー 8の反射 面を円筒凹面で構成した場合には、 DMD素子 2に斜めに照射することにより発生す る歪曲収差を良好に補正し、良好な照明光束の形状及び照射位置を実現することが 可能となる。図 1に示した第 1ミラー 8の反射面 8bにおいて、光強度均一化素子 6の 出射面 6bの中心カゝら射出された光線が到達する位置を符号 8cで示す。
[0028] 図 3に示すように、第 2ミラー 9は、投写光学系 3の下側(図 3における下側)に隣接 して配置されている。また、後述するレンズシフトのために投写光学系 3が移動した際 に第 2ミラー 9と干渉しないよう、第 2ミラー 9は投写光学系 3の鏡筒 3cより(投写光軸 3 aの方向にぉ 、て) DMD素子 2側に配置されて 、る。第 2ミラー 9の反射面 9bにより 反射された光束は、 DMD素子 2の被照明面 2bにて反射され、投写光学系 3の入射 側開口部 10に入射する。
[0029] なお、図 1に示すように、 DMD素子 2から投写光学系 3までの光束の中心を通る光 線は、光源ランプ 4力も第 1ミラー 8までの光束の中心を通る光線 (光軸 la)に対し、 上面視で略直交するようになっている。また、 DMD素子 2の被照明面 2bの法線 2a 及び投写光学系 3の光軸 3aは、いずれも上面視においては、光軸 laに対して略直 交している。
[0030] 上記略直交を大きく外れると、光源ランプ 4、リレーレンズ群 7、第 1ミラー 8、第 2ミラ 一 9、反射型ライトバルブ 2及び投写光学系 3を、互いの光路を遮らないように配置す ることが難しくなる。また、光源ランプ 4の傾き角度は、約 15度までが許容範囲内であ り、傾き角度が大きくなるほど明るさが低下し、また光源ランプ 4のフリツ力現象を引き 起こして良好な画像を得にくくなる。これらの理由より、照明光学系 1の光軸 laと DM D素子 2の被照明面 2bの法線 2a及び投写光学系 3の投写光軸 3aとの交わり角 γ ( 図 1)は、 90± 5度の範囲内であることが望ましい。
[0031] 図 4 (Α)及び (Β)は、レンズシフト機能を説明するための図である。レンズシフト機 能は、投写光学系 3を、その投写光軸 3aに対して略直交する方向(ここでは、鉛直方 向(DMD素子 2の垂直走査方向であり、図 3における方向 D )及び
V Z又は水平方向
(DMD素子 2の水平走査方向であり、図 1における方向 D ) )に移動、すなわち、シ
H
フトすることで、投影範囲を任意に移動させる機能である。図 4 (A)は、投写光学系 3 とスクリーン 100とを側方力も見た側面図である。図 4 (B)は、投写光学系 3とスクリー ン 100とを上方から見た平面図である。投写光学系 3が鉛直方向に移動すると、図 4 (A)に示すようにスクリーン 100上の投影範囲が上方 (矢印 U)又は下方 (矢印 D)に 移動する。また、投影光学系 3が水平方向に移動すると、図 4 (B)に示すようにスクリ ーン 100上の投影範囲が左側 (矢印 L)又は右側 (矢印 R)に移動する。
[0032] 図 4 (A)において、投写光学系 3が鉛直方向における第 1の位置(下方位置)にあ るときには、スクリーン 100上の符号 Yで示す範囲に映像が投影される。このとき、投 写光学系 3の投写光軸 3aの鉛直方向位置と、投影範囲 Yの鉛直方向中心とがー致 する。このときの投写光学系 3のシフト量を 0%とする。
[0033] 一方、投写光学系 3が鉛直方向における第 2の位置 (上方位置)にあるときには、ス クリーン 100上の符号 Yで示す範囲に映像が投影される。このとき、投写光学系 3の
2
投写光軸 3aの鉛直方向位置と、投影範囲 Yの下端部とがー致する。投影範囲 Yは
2 2
、投影範囲 Yに対して上方に投影幅 (短軸方向)の 50%だけ変位した位置にある。 そのため、このときの投写光学系 3のシフト量を 50%とする。投写光学系 3のシフト量 が 50%の状態においては、スクリーン 100に対して投写光学系 3から上向きに映像 が投影されることになる。なお、投影光学系 3自身のシフト量 (移動量)は投影範囲の 移動量に比べて小さ 、ため、図 4 (A)では図示を省略して 、る。
[0034] 図 4 (B)において、投写光学系 3が水平方向における第 1の位置(中央位置)にある ときには、スクリーン 100上の符号 Xで示す範囲に映像が投影される。このとき、投写 光学系 3の投写光軸 3aの水平方向位置と、投影範囲 Xの水平方向中心とがー致す る。このときの投写光学系 3のシフト量を 0%とする。
[0035] 一方、投写光学系 3が水平方向における第 2の位置 (右端位置)にあるときには、ス クリーン 100上の符号 Xで示す範囲に映像が投影される。投影範囲 Xは、投影範囲
2 2
Xに対して右側に投影幅 (長軸方向)の 10%だけ変位した位置にあるため、このとき の投写光学系 3のシフト量を + 10%とする。同様に、投写光学系 3が水平方向にお ける第 3の位置 (左端位置)にあるときには、スクリーン 100上の符号 Xで示す範囲に
3
映像が投影される。投影範囲 Xは、投影範囲 Xに対して左側に投影幅の 10%だけ
3 1
変位した位置にあるため、このときの投写光学系 3のシフト量を一 10%とする。
[0036] なお、投写光学系 3の鉛直方向及び水平方向のシフト量は、投写光学系 3の構成 によって異なるものであり、図 4 (A)及び (B)に示した範囲に限定されるものではない
[0037] 図 4 (A)及び (B)に示したレンズシフト機能を実現するためには、投写光学系 3のィ メージサークル 11をシフト量に応じた大きさに設計する必要がある。ここでは、長方 形の DMD素子 2の水平方向(長軸方向、すなわち、長辺方向)の寸法 Hdを 14. 01 mm、鉛直方向(短軸方向、すなわち短辺方向)の寸法 Vdを 10. 51mm,鉛直方向 のシフト量を 50%、水平方向のシフト量を ± 10%とし、この場合のイメージサークル 1 1の大きさを図 5 (A)〜(C)に示す。
[0038] 図 5 (A)は、投写光学系 3の水平方向及び鉛直方向のシフト量がいずれも 0%の場 合のイメージサークル 11を示す。この場合、投写光学系 3のイメージサークル 11は、 直径 17. 51mmの円となる。
[0039] 図 5 (B)は、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 50%で、水平方向のシフト量が 0%の場合のイメージサークル 11を示す。この場合、 DMD素子 2の中心から鉛直方 向に当該シフト量 (50%)だけ変位した位置がイメージサークル 11の中心となるため 、イメージサークル 11は直径 25. 26mmの円となる。
[0040] 図 5 (C)は、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 0%で、水平方向のシフト量が 1 0%の場合のイメージサークル 11を示す。この場合、 DMD素子 2の中心から水平方 向に当該シフト量(10%)だけ変位した位置がイメージサークル 11の中心となるため 、イメージサークル 11は直径 18. 65mmの円となる。なお、図 5 (C)は、投写光学系 3が水平方向片側 (左側)にシフトした例を示している力 反対側 (右側)にシフトした 場合も、図 5 (C)に示した直径 18. 65mmのイメージサークル 11の範囲内に含まれ ている。
[0041] 図 5 (B)及び (C)には、投写光学系 3を鉛直方向のみ、及び水平方向のみにシフト した場合について示した力 イメージサークル 11を適切に決定することにより、投写 光学系 3を鉛直方向及び水平方向にシフトして映像を表示することができる。ここで は、図 5 (B)に示したように、イメージサークル 11の直径を 25. 26mmに設定してい る。
[0042] 実施の形態 1における照明光学系 1及び投写光学系 3の構成について説明する。
上述したように、投写光学系 3のイメージサークル 11の直径が 25. 26mmに設定さ れているため、シフトが鉛直方向のみであれば、投写光学系 3はシフト量 50%までシ フトすることできる(図 5 (B) )。図 6に、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 50%の 場合の光路を示す。
[0043] 図 6に示すように、投写光学系 3の入射面 3dよりも僅かに DMD素子 2側には、投写 光学系 3の入射側開口部 10を規定する絞り部材(開口部規定部材) 12が配置されて いる。絞り部材 12の入射側開口部 10は直径 Eの円形状であり、その周囲は不要光を 遮断するように黒色のコーティング等が施されている。投写光学系 3の鉛直方向のシ フト量が 50%であるため、投写光学系 3の投写光軸 3aは、 DMD素子 2の被照明面 2 bの中心を通る法線 2aに対し、鉛直方向すなわち DMD素子 2の短軸方向に 50% ( すなわち、 5. 255mm)変位した位置にある。絞り部材 12により規定される入射側開 口部 10の中心は、 DMD素子 2の法線 2aから鉛直方向に 50% (すなわち 5. 255m m)変位した位置にある。
[0044] 照明光学系 1からの光束 (照明光学系 1の第 2ミラー 9で反射された光束)は、 DM D素子 2の被照明面 2bで反射され、投写光学系 3の入射側開口部 10を通過して投 写光学系 3に入射する。このとき、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入 射側開口部 10までの距離を Lとし、入射側開口部 10の直径を Eとし、照明光学系 1 の光束の広がりを入射側開口部 10の直径 Eに合わせて設計すると、照明光学系 1の Fナンバー Fは、以下の式(1)により算出される。
I
F = 1/ (2 X Sin (Tan-1 (E/2L) ) ) · '· (1)
I
照明光学系 1の明るさは、照明光学系の Fナンバー F
Iにより決定される。
[0045] 一方、投写光学系 3は、投写光学系 3の入射側開口部 10を通過した光束を効率よ く取り込める大きさが必要になる。投写光学系 3の入射面 3dと入射側開口部 10とは 近接して配置されて!ヽるため、図 6に示すように投写光学系 3の投写光軸 3aと入射側 開口部 10の中心とがー致している場合には、投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 Eは、入射側開口部 10の直径 Eと略等しぐ又は、直径 Eより少し大きくすればよい。
P
このことは、投写光学系 3の Fナンバー Fを、照明光学系 1の Fナンバー Fと略等しく
P I
、又は、照明光学系 1の Fナンバー Fより僅かに小さくできること、すなわち、照明光
I
学系 1を明るく構成できることを意味して 、る。
[0046] 図 7は、投写光学系 3の鉛直方向(D方向)のシフト量が 0%の状態を示す。図 7に
V
示すように、投写光学系 3がシフト (ここでは、下方に移動)しても、投写光学系 3以外 の構成要素(照明光学系 1、DMD素子 2及び入射開口部 10を規定する絞り部材 12 )は移動しない。照明光学系 1からの光束は、 DMD素子 2の被照明面 2bで反射した 後、 DMD素子 2の中心を通る法線 2aに対して鉛直方向に 5.255mm( = 10.51m m X 50%)シフトした位置に中心を有する投写光学系 3の入射側開口部 10に達する 。入射側開口部 10を通過した光束を全て取り込むには、投写光学系 3の入射面 3d の有効口径 Eは、入射側開口部 10の直径 Eより少なくともシフト量 Sの 2倍に相当
P P
する分だけ(図 7においては 5.255mmの 2倍)大きく設定する必要がある。
[0047] ここで、照明光学系 1の Fナンバー Fを 2.4とした場合について説明する。照明光
I
学系 1の Fナンバー Fを 2.4とし、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入
I
射側開口部 10までの距離 Lを 47.5mmとしたとき、入射側開口部 10の直径 Eは、上 述した式(1)から
E=(2X47.5) XTan(Sin_1(l/(2X2.4))) =20.2
で計算でき、約 20.2mmとなる。照明光学系 1の Fナンバー Fが 2.4の場合、図 6に
I
示すように投写光学系 3のシフト量が 50%の場合、投写光学系 3の入射面 3dの有効 口径 Eも 20.2mmに略等しい大きさがあれば、照明光学系 1からの光束を効率よく
P
取り込むことができる。このとき、入射側開口部 10と投写光学系 3の入射面 3dとが接 近して配置されて 、ること力 、 DMD素子 2の被照明面 2b力も入射面 3dまでの距離 も Lに略等しくなるため、投写光学系 3の Fナンバー Fを、照明光学系 1の Fナンバー
P
Fと同じ 2.4、又は、 2.4よりも僅かに小さい値 (例えば 2.35)とすることで、入射側
I
開口部 10を通過した光束を効率良く取り込むことができる。
[0048] 同様に、図 7に示すように、投写光学系 3のシフト量 S力O%の場合は、入射側開
P
口部 10の直径 Eは 20.2mmである力 投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 Eは
P
更に 5· 255mmの 2倍(すなわち、 10· 51mm)だけ大きぐ 30.71mm( = 20.2m m+10.51mm)となる。このときの投写光学系 3の Fナンバー Fは、
P
F =l/(2XSin(Tan_1(E /2XL))) ·'·(2)
Ρ Ρ
で計算できる。ここで、
E =E + 2XS ---(3)
P P
である。 式 (2)及び式 (3)より、 Fナンバー Fを次式 (4)で計算できる。
P
F =l/(2XSin(Tan_1((E + 2XS )/2XL))) ·'·(4)
Ρ Ρ
すなわち、式 (4)により Fナンバー Fを計算すると、
p
F =l/(2XSin(Tan_1((20.2+10.51)/2X47.5)))
P
F = 1/ (2 X Sin (Tan-1 (30.71/95)))
P
=1.63
となり、この場合の Fナンバー Fは、約 1.63という非常に小さな値となることがわかる
P
[0049] 一般に、投写光学系 3の Fナンバー F力 、さいほど、明るさが増す一方で、照明光
P
学系 1の設計が難しくなり、またレンズ口径が大きくなつてレンズ枚数も増加すること 力もコストの増加を招くことが多い。一方、投写光学系 3の Fナンバー Fを大きくする
P
と、投写光学系 3の設計は容易になるが、投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 Eが
P
小さくなるため、投写光学系 3のシフト量が 0%の場合(図 7)に、入射側開口部 10を 通過した光束を効率よく取り込むことができなくなる。
[0050] ここで、上述したように照明光学系 1の Fナンバー Fを 2.4とし、 DMD素子 2から投
I
写光学系 3の入射側開口部 10までの距離 Lを 47.5mmとし、投写光学系 3の Fナン バー Fを変化させた場合の明るさの変化を調べた。その結果を表 1に示す。実験結
P
果 No. l〜No.7は、投写光学系 3の Fナンバー Fを、 1.63、 1.77、 1.89、 2.04
P
、 2.22、 2.4、 2.6の 7通りに変化させたものである。明るさの評価は、投写光学系 3 の Fナンバー Fが 1.63のときの明るさ(以下、基準値とする。)を 100%とし、これに
P
対する相対値として評価した。
[0051] [表 1] 照明光学系 F【=2.4、D M D素子から投写光学系入射側開口部までの距離 L=47.5m m
No. 1 2 3 4 5 6 7 投写光学系の入
射面の有効口径 30.71 28 26 24 22 20.2 1 8.6
Ep、mm )
FP 1 .63 1 .77 1 .89 2.04 2.22 2.4 2.6 シフト量
1 00% 1 00% 1 00% 1 00% 1 00% 98% 93% 50%
明るさ
シフト量
1 00% 99% 97% 95% 88% 83% 80%
0%
[0052] 表 1に示すように、投写光学系 3の Fナンバー Fが大きくなるにつれて、すなわち、
P
投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 E力 、さくなるにつれて、シフト量が 0%のとき
P
の明るさが徐々に低下している。すなわち、 Fナンバー Fが 1· 77、 1. 89、 2. 04、 2
P
. 22、 2. 4、 2. 6と大きくなるにつれて、シフト量が 0%のときの明るさが基準値 (Fナ ンノ一 F力 ^1. 63のときの明るさを 100%とする。)の 99%、 97%、 95%、 88%、 83
P
%、 80%と低下している。一方、シフト量が 50%のときの明るさは、 Fナンバー Fが 1
P
. 77、 1. 89、 2. 04、 2. 22のときには 1000/0である力 Fナンノ ー Fカ 2. 4のときに
P
は 98%に低下し、 Fナンバー Fが 2. 6のときには 93%に低下する。
P
[0053] 表 1における明るさの低下は、投写光学系 3の入射面の有効口径 E力 、さいほど、
P
入射側開口部 10を通過する光束の一部を取り込めなくなることによる。図 8は、実験 結果 No. 4 (Fナンバー Fが 2. 04)において、シフト量を 0%とした場合の光束を示
P
す模式図である。図 8において、照明光学系 1からの光束は、 DMD素子 2の被照明 面 2bで反射され、投写光学系 3の直径 E (20. 2mm)を有する入射側開口部 10に達 する。一方、投写光学系 3の入射面 3dは入射側開口部 10の中心から 5. 255mmだ け下方に変位した位置に中心(投写光軸 3a)を有し、その有効口径 Eは 24mmであ
P
る。このとき、投写光学系 3の入射側開口部 10に達した光束の一部(図 8に符号 Aで 示す三日月形の部分)は投写光学系 3の入射面 3dに入射することができず、光量損 失となる。この部分 Aにおける光量損失は、表 1の実験結果 No. 4より、基準値からの 明るさの低下 5%に相当する。
[0054] 表 1から、実験結果 No. l〜No. 5、すなわち F <Fとなる場合には、シフト量 50 %のときの明るさの低下が全く見られず、シフト量 0%のときの明るさの低下も僅かで ある。従って、投写光学系 3の Fナンバー Fを、 Fく Fを満足するように設定すること
P P I
により、レンズシフト機能を実現しつつ、光利用効率を向上し、コントラストの良好な映 像表示が可能になることが分かる。
[0055] なお、投写光学系 3の Fナンバー Fを小さくするほど明るさを向上できるのに対し、
P
Fナンバー Fを大きくするほど製造コストを低減できる。従って、 Fナンバー Fの具体
P P
的な値は、投写光学系 3の具体的な構成及び仕様に基づき、明るさと製造コストとの バランスを考慮して決定する。また、明るさ以外に、 MTF、歪曲、倍率色収差などの 光学特性につ!ヽても考慮する。
[0056] また、上述したように投写光学系 3の入射側開口部 10の中心を DMD素子 2の中心 に対して 5. 255mmだけ鉛直上方に設置した場合には、鉛直方向のシフト量が 50 %のときの明るさが最大になる力 明るさは、投写光学系 3の入射側開口部 10の配 置や DMD素子 2の被照明面 2bからの光束の出射位置によって変化するものである 。これら投写光学系 3の入射側開口部 10の配置、及び DMD素子 2の被照明面 2bか らの光束の出射位置は、投写型表示装置の仕様に基づ!、て決定すればょ 、。
[0057] 以上説明したように、実施の形態 1によれば、投写光学系 3の Fナンバー Fを照明
P
光学系 1の Fナンバー Fよりも小さくし、かつ投写光学系 3の入射側開口部 10を固定
I
する(すなわち投写光学系 3の移動に伴って移動しない)よう構成したので、レンズシ フト機能を実現しつつ、光利用効率を向上し、コントラストの良好な映像を表示するこ とが可能になる。
[0058] 特に、投写光学系 3の移動に合わせて照明光学系 1の集光レンズを偏心させる必 要がないため、投写型表示装置の大型化や価格の上昇を招くことなくレンズシフト機 能を実現することができる。さらに、プリズムを用いたテレセントリック型の光学系を用 いる必要がないため、安価な投写型表示装置を提供することができる。加えて、 DM D素子 2と投写光学系 3との間に絞り部材 12を設けたことにより、不要光力 Sスクリーン に到達することを防止し、コントラストを向上することができる。
[0059] また、実施の形態 1においては、入射側開口部 10を規定する絞り部材 12を投写光 学系 3の入射面の近傍に設け、投写光学系 3の有効口径 EPを入射側開口部 10より も大きく形成することにより、投写光学系 3をシフトさせた際でも、 DMD素子 2からの 光を効率よく投写光学系 3に取り込むことができる。
[0060] さらに、実施の形態 1においては、第 2ミラー 9から DMD素子 2に向力 光束の中心 を通る光線が DMD素子 2の画像形成領域の法線 2aに対して傾斜し、 DMD素子 2 から投写光学系 3に向かう光束の中心を通る光線が DMD素子 2の画像形成領域の 法線 2aに対して傾斜する構成により、第 2ミラー 9、 DMD素子 2及び投写光学系 3を 互 ヽに干渉し合わな 、ようにコンパタトに配置することができる。
[0061] また、実施の形態 1においては、照明光学系 1の第 2ミラー 9を、投影光軸 3a方向に おいて投影光学系 3よりも反射型ライトバルブ 2側に配置することにより、レンズシフト 時の投写光学系 3と照明光学系 1との干渉を防止することができる。そのため、投写 光学系 3の移動に合わせて第 2ミラー 9を移動させる必要がなぐ投写型表示装置を 安価でコンパクトに構成することができる。
[0062] さらに、実施の形態 1においては、光強度均一化素子 6から第 1ミラー 8までの光束 の中心を通る光線と、反射型ライトバルブ 2から投写光学系 3の入射側開口部 10まで の光束の中心を通る光線とを略直交させることにより、レイアウトが容易になり、光源ラ ンプ 4の不具合の発生を抑えて良好な画像を得ることができる。
[0063] 力!]えて、実施の形態 1においては、反射型ライトバルブ 2を、各画素の反射角の傾 角を変化することのできる可動マイクロミラーで構成することにより、照明光束の断面 内の強度分布を均一化し、照度ムラを抑えることができる。
[0064] また、実施の形態 1においては、光強度均一化素子 6を、内面で光を反射する管状 部材で構成することにより、照明光束により素子自身の加熱が生じ難くなり、光強度 均一化素子 6の冷却及び保持構造が簡単になる。
[0065] さらに、実施の形態 1においては、光強度均一化素子 6を、四角柱状の透明材料で 構成することにより、光強度均一化素子 6の設計が容易になる。
[0066] カロえて、実施の形態 1にお!/、ては、光強度均一化素子 6を、複数のレンズ素子を平 面的に配列したレンズアレイで構成することにより、照明光束の断面内の強度分布を 均一にし、照度ムラを抑えることが可能となる。
[0067] 実施の形態 2. 図 9 (A)及び (B)は、本発明の実施の形態 2に係る投写型表示装置のレンズシフト 機能を説明するための図である。本発明の実施の形態 2に係る投写型表示装置は、 図 1〜図 3を参照して説明した実施の形態 1に係る投写型表示装置と同様の基本構 成を有する。以下では、実施の形態 2に係る投写型表示装置が、実施の形態 1に係 る投写型表示装置と相違する点について説明する。
[0068] 図 9 (A)は、実施の形態 2に係る投写型表示装置の投写光学系 3とスクリーン 100と を側方力 見た側面図である。図 9 (B)は、実施の形態 2に係る投写型表示装置の 投写光学系 3とスクリーン 100とを上方力も見た平面図である。投写光学系 3が鉛直 方向に移動すると、図 9 (A)に示すようにスクリーン 100上の投影範囲が上方 (矢印 U)又は下方 (矢印 D)に移動する。また、投影光学系 3が水平方向に移動すると、図 9 (B)に示すようにスクリーン 100上の投影範囲が左側(矢印 L)又は右側(矢印 R)に 移動する。
[0069] 実施の形態 1と同様、図 9 (A)において、投写光学系 3が鉛直方向における第 1の 位置(下方位置)にあるときには、スクリーン 100上の符号 Yで示す範囲に映像が投 影される。このとき、投写光学系 3の投写光軸 3aの鉛直方向位置と、投影範囲 Yの 鉛直方向中心とがー致する。このときの投写光学系 3のシフト量を 0%とする。
[0070] 一方、投写光学系 3が鉛直方向における第 2の位置(上方位置)にあるときには、ス クリーン 100上の符号 Yで示す範囲に映像が投影される。このとき、投写光学系 3の
2
投写光軸 3aの鉛直方向位置と、投影範囲 Yの下端部とがー致する。投影範囲 Yは
2 2
、投影範囲 Yに対して上方に投影幅 (短軸方向)の 60% (実施の形態 1では 50%) だけ変位した位置にある。そのため、このときの投写光学系 3のシフト量を 60%とする 。投写光学系 3のシフト量が 60%の状態においては、スクリーン 100に対して投写光 学系 3から上向きに映像が投影されることになる。なお、投影光学系 3自身のシフト量 (移動量)は投影範囲の移動量に比べて小さいため、図 9 (A)においては図示を省 略している。
[0071] 実施の形態 1と同様、図 9 (B)において、投写光学系 3が水平方向における第 1の 位置(中央位置)にあるときには、スクリーン 100上の符号 Xで示す範囲に映像が投 影される。このとき、投写光学系 3の投写光軸 3aの水平方向位置と、投影範囲 Xの 水平方向中心とがー致する。このときの投写光学系 3のシフト量を 0%とする。
[0072] また、投写光学系 3が水平方向における第 2の位置 (右端位置)にあるときには、ス クリーン 100上の符号 Xで示す範囲に映像が投影される。投影範囲 Xは、投影範囲
2 2
Xに対して右側に投影幅 (長軸方向)の 10%だけ変位した位置にあるため、このとき の投写光学系 3のシフト量を + 10%とする。同様に、投写光学系 3が水平方向にお ける第 3の位置 (左端位置)にあるときには、スクリーン 100上の符号 Xで示す範囲に
3
映像が投影される。投影範囲 Xは、投影範囲 Xに対して左側に投影幅の 10%だけ
3 1
変位した位置にあるため、このときの投写光学系 3のシフト量を一 10%とする。
[0073] なお、投写光学系 3の鉛直方向及び水平方向のシフト量は、投写光学系 3の構成 によって異なるものであり、図 9 (A)及び (B)に示した範囲に限定されるものではない
[0074] 図 9 (A)及び (B)に示したレンズシフト機能を実現するためには、投写光学系 3のィ メージサークル 11をシフト量に応じた大きさに設計する必要がある。ここでは、長方 形の DMD素子 2の水平方向(長軸方向、すなわち、長辺方向)の寸法 Hを 14. 01 d mm、鉛直方向(短軸方向、すなわち、短辺方向)の寸法 Vを 10. 51mm,鉛直方 d
向のシフト量を 60%、水平方向のシフト量を ± 10%とし、この場合のイメージサーク ル 11の大きさを図 10 (A)〜(C)に示す。
[0075] 図 10 (A)は、投写光学系 3の水平方向及び鉛直方向のシフト量がいずれも 0%の 場合のイメージサークル 11を示す。この場合、投写光学系 3のイメージサークル 11は
、直径 17. 5 lmmの円となる。
[0076] 図 10 (B)は、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 60%で、水平方向のシフト量 力 SO%の場合のイメージサークル 11を示す。この場合、 DMD素子 2の中心から鉛直 方向に当該シフト量 (60%)だけ変位した位置がイメージサークル 11の中心となるた め、イメージサークル 11は直径 27. 04mmの円となる。
[0077] 図 10 (C)は、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 0%で、水平方向のシフト量が
10%の場合のイメージサークル 11を示す。この場合、 DMD素子 2の中心から水平 方向に当該シフト量(10%)だけ変位した位置がイメージサークル 11の中心となるた め、イメージサークル 11は直径 18. 65mmの円となる。なお、図 10 (C)は、投写光 学系 3が水平方向片側 (左側)にシフトした例を示しているが、反対側 (右側)にシフト した場合も、図 10 (C)に示した直径 18. 65mmのイメージサークル 11の範囲内に含 まれている。
[0078] 図 10 (B)及び (C)には、投写光学系 3を鉛直方向のみ、及び水平方向のみにシフ トした場合について示した力 イメージサークル 11を適切に決定することにより、投写 光学系 3を鉛直方向及び水平方向にシフトして映像を表示することができる。ここで は、図 10 (B)に示したように、イメージサークル 11の直径を 27. 04mmに設定してい る。
[0079] 実施の形態 2における照明光学系 1及び投写光学系 3の構成について説明する。
上述したように、投写光学系 3のイメージサークル 11の直径が 27. 04mmに設定さ れているため、シフトが鉛直方向のみであれば、投写光学系 3はシフト量 60%までシ フトすることができる(図 10 (B) )。図 11に、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量が 60 %の場合の光路を示す。
[0080] 図 11に示すように、投写光学系 3の入射面 3dよりも僅かに DMD素子 2側には、投 写光学系 3の入射側開口部 10を規定する絞り部材 (開口部規定部材) 12が配置さ れている。絞り部材 12の入射側開口部 10は直径 Eの円形状であり、その周囲は不 要光を遮断するように黒色のコーティング等が施されている。投写光学系 3の鉛直方 向のシフト量力 ½0%であるため、投写光学系 3の投写光軸 3aは、 DMD素子 2の被 照明面 2bの中心を通る法線 2aに対し、鉛直方向すなわち、 DMD素子 2の短軸方向 に 60% (すなわち、 6. 3mm)変位した位置にある。絞り部材 12により規定される入 射側開口部 10の中心は、 DMD素子 2の法線 2aから鉛直方向に 60% (すなわち、 6 . 3mm)変位した位置にある。
[0081] 照明光学系 1からの光束 (照明光学系 1の第 2ミラー 9で反射された光束)は、 DM D素子 2の被照明面 2bで反射され、投写光学系 3の入射側開口部 10を通過して投 写光学系 3に入射する。このとき、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入 射側開口部 10までの距離を Lとし、入射側開口部 10の直径を Eとし、照明光学系 1 の光束の広がりを入射側開口部 10の直径 Eに合わせて設計すると、照明光学系 1の Fナンバー Fは、実施の形態 1でも説明した式(1)により算出される。 F = 1/ (2 X Sin (Tan" (E/2 X L) ) ) …ひ)
I
照明光学系 1の明るさは、照明光学系 1の Fナンバー Fにより決定される。
I
[0082] 一方、投写光学系 3は、投写光学系 3の入射側開口部 10を通過した光束を効率よ く取り込める大きさが必要になる。投写光学系 3の入射面 3dと入射側開口部 10とは 近接して配置されて!ヽるため、図 11に示すように投写光学系 3の投写光軸 3aと入射 側開口部 10の中心とがー致している場合には、投写光学系 3の入射面 3dの有効口 径 Eは、入射側開口部 10の直径 Eと略等しぐ又は、直径 Eより少し大きくすればよ
P
い。このことは、投写光学系 3の Fナンバー Fを、照明光学系 1の Fナンバー Fと略等
P I
しぐ又は、照明光学系 1の Fナンバー Fより僅かに小さくできること、すなわち、照明
I
光学系を明るく構成できることを意味している。
[0083] 図 12は、投写光学系 3の鉛直方向(D方向)のシフト量が 0%の状態を示す。図 12
V
に示すように、投写光学系 3がシフト (ここでは、下方に移動)しても、投写光学系 3以 外の構成要素(照明光学系 1、DMD素子 2及び入射開口部 10を規定する絞り部材 12)は移動しない。照明光学系 1からの光束は、 DMD素子 2の被照明面 2bで反射 した後、 DMD素子 2の中心を通る法線 2aに対して鉛直方向に 6. 3mm ( = 10. 51 mm X 60%)シフトした位置に中心を有する投写光学系 3の入射側開口部 10に達す る。入射側開口部 10を通過した光束を全て取り込むには、投写光学系 3の入射面 3 dの有効口径 Eは、入射側開口部 10の直径 Eより少なくともシフト量 Sの 2倍に相当
P P
する分だけ(図 12においては、 6. 3mmの 2倍)大きく設定する必要がある。
[0084] ここで、照明光学系 1の Fナンバー Fを 2. 4とした場合について説明する。照明光
I
学系 1の Fナンバー Fを 2. 4とし、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入
I
射側開口部 10までの距離 Lを 44. 5mmとしたとき、入射側開口部 10の直径 Eは、上 述した式(1)から
E= (2 X 44. 5) XTan (Sin_ 1 (l/ (2 X 2. 4) ) ) = 18. 9
で計算でき、約 18. 9mmとなる。照明光学系 1の Fナンバー Fが 2. 4の場合、図 11
I
に示すように投写光学系 3のシフト量が 60%の場合、投写光学系 3の入射面 3dの有 効口径 Eも 18. 9mmに略等しい大きさがあれば、照明光学系 1からの光束を効率よ
P
く取り込むことができる。このとき、入射側開口部 10と投写光学系 3の入射面 3dとが 接近して配置されて 、ることから、 DMD素子 2の被照明面 2b力も入射面 3dまでの距 離も Lに略等しくなるため、投写光学系 3の Fナンバー Fを、照明光学系 1の Fナンパ
P
一 Fと同じ 2.4、又は、 2.4よりも僅かに小さい値 (例えば、 2.35)とすることで、入射
I
側開口部 10を通過した光束を効率良く取り込むことができる。
[0085] 同様に、図 12に示すように、 DMD素子 2に対する投写光学系 3のシフト量 S力 0
P
%の場合は、入射側開口部 10の直径 Eは 18.9mmであるが、投写光学系 3の入射 面 3dの有効口径 Eは更に 6.3mmの 2倍(すなわち、 12.6mm)だけ大きぐ 31.5
P
mm( = 18.9mm+12.6mm)となる。このときの投写光学系 3の Fナンバー Fは、
P
実施の形態 1でも説明した式 (2)
F =l/(2XSin(Tan_1(E /2XL))) ---(2)
P P
で計算できる。ここで、
E =E + 2XS ---(3)
P P
である。
式 (2)及び式 (3)より、 Fナンバー Fを次式 (4)で計算できる。
P
F =l/(2XSin(Tan_1((E + 2XS )/2XL))) ·'·(4)
Ρ Ρ
すなわち、式 (4)により Fナンバー Fを計算すると、
p
F =l/(2XSin(Tan_1((18.9 + 12.6)/2X44.5)))
P
F = 1/ (2 X Sin (Tan-1 (31.5/89)))
P
=1.5
となり、この場合の Fナンバー Fは、約 1.5という非常に小さな値となることがわかる。
P
[0086] 一般に、投写光学系 3の Fナンバー F力 、さいほど、明るさが増す一方で、投写光
P
学系 3の設計が難しくなり、またレンズ口径が大きくなつてレンズ枚数も増加すること 力もコストの増加を招くことが多い。一方、投写光学系 3の Fナンバー Fを大きくする
P
と、投写光学系 3の設計は容易になるが、投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 Eが
P
小さくなるため、投写光学系 3のシフト量が 0%の場合(図 12)に、入射側開口部 10 を通過した光束を効率よく取り込むことができなくなる。
[0087] ここで、上述したように照明光学系 1の Fナンバー Fを 2.4とし、 DMD素子 2から投
I
写光学系 3の入射側開口部 10までの距離 Lを 44.5mmとし、投写光学系 3の Fナン バー Fを変化させた場合の明るさの変化を調べた。その結果を表 2に示す。実験結
P
果 No. l〜No. 7は、投写光学系 3の Fナンバー Fを、 1. 5
P 、 1. 8、 1. 9、 2. 0、 2. 2
、 2. 4、 2. 6の 7通りに変化させたものである。明るさの評価は、投写光学系 3の Fナ ンバー Fが 1. 5のときの明るさ(以下、基準値とする。)を 100%とし、これに対する相
P
対値として評価した。
[0088] [表 2] 照明光学系 F,=2.4、 D M D素子から投写光学系入射側開口部までの距離 L=44.5mm
Figure imgf000024_0001
[0089] 表 2に示すように、投写光学系 3の Fナンバー Fが大きくなるにつれて、すなわち、
P
投写光学系 3の入射面 3dの有効口径 E力 、さくなるにつれて、シフト量が 0%のとき
P
の明るさが徐々に低下している。すなわち、 Fナンバー Fが 1. 8、 1. 9、 2. 0、 2. 2、
P
2. 4、 2. 6と大きくなるにつれて、シフト量が 0%のときの明るさが、基準値 (Fナンパ 一 F力 ^1. 5のときの明るさを 100%とする。;)の 99%、 97%、 95%、 88%、 83%、 8
P
0%と低下して!/、る。一方、 Fナンノ ー F力 ^1. 8、 1. 9、 2. 0、 2. 2のときには、シフト
P
量が 60%のときの明るさは 100%である力 Fナンバー Fが 2. 4のときには、シフト
P
量が 60%のときの明るさは 98%に低下し、 Fナンバー Fが 2. 6のときには、シフト量
P
力 60%のときの明るさは 93%に低下する。
[0090] 表 2における明るさの低下は、投写光学系 3の入射面の有効口径 E力 、さいほど、
P
入射側開口部 10を通過する光束の一部を取り込めなくなることによる。図 13は、実 験結果 No. 4 (Fナンバー Fが 2. 0)において、シフト量を 0%とした場合の光束を示
P
す模式図である。図 13において、照明光学系 1からの光束は、 DMD素子 2の被照 明面 2bで反射され、投写光学系 3の直径 E (18. 9mm)を有する入射側開口部 10に 達する。一方、投写光学系 3の入射面 3dは入射側開口部 10の中心力も 6. 3mmだ け下方に変位した位置に中心(投写光軸 3a)を有し、その有効口径 Eは 23mmであ
P
る。このとき、投写光学系 3の入射側開口部 10に達した光束の一部(図 13に符号 A で示す三日月形の部分)は投写光学系 3の入射面 3dに入射することができず、光量 損失となる。この部分 Aにおける光量損失は、表 2の実験結果 No. 4より、基準値から の明るさの低下 5%に相当する。
[0091] 表 2から、実験結果 No. l〜No. 5、すなわち、 F >Fとなる場合には、シフト量 60
I P
%のときの明るさの低下が全く見られず、シフト量 0%のときの明るさの低下も僅かで ある。従って、投写光学系 3の Fナンバー Fを、 F >Fを満足するように設定すること
P I P
により、レンズシフト機能を実現しつつ、光利用効率を向上し、コントラストの良好な映 像表示が可能になることが分かる。
[0092] ただし、実験結果の No. 1は、シフト量 0%の時でも明るさの損失が無ぐ照明光学 系 1からの光束を全て取り込むことができる。この場合の投写光学系 3の Fナンバー F は 1. 5と非常に小さな値となり、投写光学系 3の設計を非常に難しくするとともに、レ
P
ンズ口径が大きくなつたり、レンズ枚数が多くなつたりして、製造コストが高くなつてし まつ。
[0093] すなわち、投写光学系 3の Fナンバー Fを小さくするほど明るさを向上できるのに対
P
して、 Fナンバー Fを大きくするほど製造コストを低減できる。従って、 Fナンバー F
P P
の具体的な値は、投写光学系 3の具体的な構成及び仕様に基づき、明るさと製造コ ストとのバランスを考慮して決定する。また、明るさ以外に、 MTF、歪曲、倍率色収差 などの光学特性にっ 、ても考慮する。
[0094] また、上述したように投写光学系 3の入射側開口部 10の中心を DMD素子 2の中心 に対して 6. 3mmだけ鉛直上方に設置した場合には、鉛直方向のシフト量が 60%の ときの明るさが最大になるが、明るさは、投写光学系 3の入射側開口部 10の配置や D MD素子 2の被照明面 2bからの光束の出射位置によって変化するものである。これら 投写光学系 3の入射側開口部 10の配置、及び DMD素子 2の被照明面 2bからの光 束の出射位置は、投写型表示装置の仕様に基づ!、て決定すればよ!、。
[0095] 投写光学系 3の鉛直方向のシフト量 Sについては、図 3に示すように、シフト量が小 さいと、照明光学系 1の第 2ミラー 9と DMD素子 2からの光束が干渉し、光利用効率 の損失を招くことになる。一方、シフト量を大きくすると、図 10 (A)〜(C)に示した投 写光学系 3のイメージサークル 11が大きくなり、投写光学系 3の設計を困難にする要 因となる。
[0096] すなわち、第 2ミラー 9と DMD素子 2からの光束の干渉をなくすためには、投写光 学系 3の鉛直方向のシフト量 Sを DMD素子 2の鉛直方向の寸法 Vの 0. 4倍より大
P d
きく構成することが望ましい。また、投写光学系 3のイメージサークルの増大を抑える ためには、投写光学系 3の鉛直方向のシフト量 Sを、 DMD素子 2の鉛直方向の寸
P
法 Vの 0. 7倍よりも小さく構成することが望ましい。この条件は、次式(5)で表すこと d
ができる。
0. 7 XV >S >0. 4 XV - -- (5)
d P d
[0097] 以上説明したように、実施の形態 2によれば、投写光学系 3の Fナンバーを上述した 関係式の式 (1)及び式 (2)が成立するように構成し、かつ投写光学系 3の入射側開 口部 10を固定する(すなわち、投写光学系 3の移動に伴って移動しない)よう構成し たので、レンズシフト機能を実現しつつ、光利用効率を向上し、コントラストの良好な 映像を表示することが可能になる。
[0098] 特に、投写光学系 3の移動に合わせて照明光学系 1の集光レンズを偏心させる必 要がないため、投写型表示装置の大型化や価格の上昇を招くことなくレンズシフト機 能を実現することができる。さらに、プリズムを用いたテレセントリック型の光学系を用 いる必要がないため、安価な投写型表示装置を提供することができる。加えて、 DM D素子 2と投写光学系 3との間に絞り部材 12を設けたことにより、不要光力 Sスクリーン に到達することを防止し、コントラストを向上させることができる。
[0099] また、実施の形態 2においては、入射側開口部 10を規定する絞り部材 12を投写光 学系 3の入射面の近傍に設け、投写光学系 3の有効口径 Eを入射側開口部 10より
P
も大きく形成することにより、投写光学系 3をシフトさせた場合であっても、 DMD素子 2からの光を効率よく投写光学系 3に取り込むことができる。
[0100] さらに、実施の形態 2によれば、投写光学系 3のシフト量を上述した関係式の式(5) が成立するように構成したので、光利用効率を向上し、コントラストの良好な映像を表 示することが可能になる。
[0101] さらに、実施の形態 2においては、第 2ミラー 9から DMD素子 2に向力 光束の中心 を通る光線が DMD素子 2の画像形成領域の法線 2aに対して傾斜し、 DMD素子 2 から投写光学系 3に向かう光束の中心を通る光線が DMD素子 2の画像形成領域の 法線 2aに対して傾斜する構成により、第 2ミラー 9、 DMD素子 2及び投写光学系 3を 互 ヽに干渉し合わな 、ようにコンパタトに配置することができる。
[0102] また、実施の形態 2においては、照明光学系 1の第 2ミラー 9を、投影光軸 3a方向に おいて投影光学系 3よりも反射型ライトバルブ 2側に配置することにより、レンズシフト 時の投写光学系 3と照明光学系 1との干渉を防止することができる。そのため、投写 光学系 3の移動に合わせて第 2ミラー 9を移動させる必要がなぐ投写型表示装置を 安価でコンパクトに構成することができる。
[0103] さらに、実施の形態 2においては、光強度均一化素子 6から第 1ミラー 8までの光束 の中心を通る光線と、反射型ライトバルブ 2から投写光学系 3の入射側開口部 10まで の光束の中心を通る光線とを略直交させることにより、レイアウトが容易になり、光源ラ ンプ 4の不具合の発生を抑えて良好な画像を得ることができる。
[0104] 力!]えて、実施の形態 2においては、反射型ライトバルブ 2を、各画素の反射角の傾 角を変化することのできる可動マイクロミラーで構成することにより、照明光束の断面 内の強度分布を均一化し、照度ムラを抑えることができる。
[0105] また、実施の形態 2においては、光強度均一化素子 6を、内面で光を反射する管状 部材で構成することにより、照明光束により素子自身の加熱が生じ難くなり、光強度 均一化素子 6の冷却及び保持構造が簡単になる。
[0106] さらに、実施の形態 2においては、光強度均一化素子 6を、四角柱状の透明材料で 構成することにより、光強度均一化素子 6の設計が容易になる。
[0107] 力!]えて、実施の形態 2においては、光強度均一化素子 6を、複数のレンズ素子を平 面的に配列したレンズアレイで構成することにより、照明光束の断面内の強度分布を 均一にし、照度ムラを抑えることが可能となる。
[0108] 実施の形態 3.
投写光学系 3の設計を行なう際、投写光学系 3の Fナンバー Fが小さくなると設計 が困難になるとともに、製造コストも高くなる。一方、 DMD素子 2の被照明面 2bから 投写光学系 3の入射側開口部 10までの距離 Lが長くなると、同様に投写光学系 3の 設計が困難になるとともに、製造コストも高くなる。しかし、図 1及び図 3に示すように、 第 2ミラー 9は、投写光学系 3の下側に隣接して配置するとともに、レンズシフトのため に投写光学系 3が移動した際に第 2ミラー 9と干渉しないよう、第 2ミラー 9は投写光学 系 3の鏡筒 3cより(投写光軸 3aの方向において) DMD素子 2側に配置する必要があ り、この配置を考えると、距離 Lは長い方が望ましい。
[0109] 図 14は、本発明の実施の形態 3に係る投写型表示装置における DMD素子力 投 写光学系の入射面までの距離と性能について説明するための図である。図 14に示 すように、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入射側開口部 10までの距 離 Lが距離 Lに長くなると、同じシフト量 S (図 14においては、 6. 3mm)及び同じ F
2 P
ナンバー Fとした場合、投写光学系 3の入射面の有効口径 E は有効口径 Eに比
P P2 P ベて大きくなる。すなわち、距離 Lが長くなると、投写光学系 3の入射面の有効口径 E と DMD素子 2の鉛直方向の寸法 Vとの比率 E /Vが大きくなる。そこで、照明光
P d P d
学系 1の Fナンバー Fが 2. 4であり、投写光学系 3の Fナンバー Fが 2. 0である時の
I P
、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入射側開口部 10までの距離 Lを変 ィ匕させた時の性能の変化について評価した。明るさの評価は、表 2に示した投写光 学系 3の Fナンバー Fが 1. 5のときの明るさ(基準値)を 100%とし、これに対する相
P
対値として評価した。
[0110] [表 3]
照明光学系 F,=2.4、投写光学系 Fp=2.0、 DM D素子の鉛直方向の寸法 Vd= 1 0.51 mm
No. 1 2 3 4 5
D M D素子から投写光学
系の入射面までの距離 L 45.5 44.5 43.5 42.5 41 .5
( mm ;
投写光学系の入射面の
23.5 23.0 22.5 21 .9 21 .4 有効口径 EP ( mm )
EP/Vd 2.23 2.1 9 2.1 4 2.09 2.04 シフト量 60% 1 00% 1 00% 98% 97% 96% 明るさ
シフト!: 0% 98% 95% 93% 92% 89%
[0111] 表 3に示すように、 DMD素子 2の被照明面 2bから投写光学系 3の入射側開口部 1 0までの距離 L力 5. 5mm力ら 41. 5mmまで変化した場合、距離 Lが 45. 5mmの 時は投写光学系 3の入射面の有効口径 Eは 23. 5mm、距離 Lが 41. 5mmの時は
P
投写光学系 3の入射面の有効口径 Eは 21. 4mmと、距離 Lが小さくなると有効口径
P
Eも小さくなる。距離 Lが 45. 5mmの時は、シフト量が 60%の場合に光学系の性能
P
としての明るさは 100%となり、シフト量が 0%の場合に光学系の性能としての明るさ は 98%と良好である。また、距離 Lが 44. 5mmの時は、シフト量が 100%の場合に 光学系の性能としての明るさは 100%となり、シフト量が 0%の場合に光学系の性能 としての明るさは 95%となっている。しかし、距離 Lが短くなるに従って、明るさの損失 量が大きくなる。
[0112] 表 3から、実験結果の No. 1と No. 2はシフト量 60%の時の明るさの損失が無ぐか つシフト量 0%における損失量も 5%以内であり良好な性能を得ることができる。この 時の、投写光学系 3の入射面の有効口径 Eと DMD素子 2の鉛直方向の寸法 Vとの
P d 比が以下の条件式を満たして 、る。
E /V > 2. 15
P d
従って、この条件式を満たすように、投写光学系 3の入射面の有効口径 Eと、 DMD
P
素子 2の鉛直方向の寸法 Vとを決定することによって、明るさの損失量を小さくするこ d
とがでさる。
[0113] 以上説明したように、実施の形態 3によれば、投写光学系 3の入射側開口部 10まで の距離 Lにより決定される、投写光学系 3の入射面の有効口径 Eと DMD素子 2の寸
P
法の比を、 E /V > 2. 15が成立するように構成したので、レンズシフト機能を実現
P d
しつつ、光利用効率を向上し、コントラストの良好な映像を表示することが可能になる
[0114] 実施の形態 4.
図 15は、本発明の実施の形態 4に係る投写型表示装置における照明光学系の集 光点を説明するための図である。図 15に示されるように、実施の形態 4に係る投写型 表示装置においては、リレーレンズ群 7の出射後の第 1ミラー 8側の位置に、照明光 学系 1の絞り 13が配置されている。この照明光学系 1の絞り 13については、開口を規 定する部材を設けない場合が多い。図 15に示されるように、光強度均一化素子 6か ら出射した光束は、一旦、絞り 13において集光する。照明光学系 1の絞り 13と、投写 光学系 3の入射側瞳位置とを共役な関係に設計することにより、光利用効率が向上 する。
[0115] 本来、投写光学系 3が移動するレンズシフト機能を有する装置においては、投写光 学系 3の入射側瞳位置を投写光学系 3よりも DMD素子 2側 (すなわち、投写光学系 3の入射側開口部 10)にすることが望ましいが、投写光学系 3のレンズ外に入射側瞳 位置を配置することは、投写光学系 3の設計上の大きな制約となり、設計を困難にす ることになる。このため、実施の形態 4に係る投写型表示装置においては、図 15に示 すように、照明光学系 1の集光点 14 (すなわち、投写光学系 3の入射側瞳位置)を投 写光学系 3の入射面よりもスクリーン寄り、すなわち、投写光学系 3内に位置するよう な構成とする。
[0116] 以上説明したように、実施の形態 4によれば、照明光学系 1の集光点 14を、投写光 学系 3の入射面よりもスクリーン側に配置したことにより、投写光学系 3の設計の制約 を減らし、設計の柔軟性を持たせることが可能となる。
[0117] なお、上記説明においては、投写型表示装置の実際の使用状態における方向を 示すために「上」又は「下」 、う表現を用いたが、本発明の投写型表示装置は上記 説明と異なる姿勢で設置することもできる。
[0118] また、上記説明においては、回転カラーフィルタ 5を光源ランプ 4と光強度均一化素 子 6の間に設置する構成を示したが、光強度均一化素子 6の直後のように照明光束 が小さく収束する箇所であれば、他の箇所に配置することも可能である。
さらに、上記説明においては、反射型ライトバルブ 2として DMD素子を用いた場合 を示した力 反射型液晶表示素子のような他のライトバルブを用いても良い。

Claims

請求の範囲
[1] 光源を含む照明光学系と、
前記照明光学系によって照明される被照明面に画像形成領域を有する反射型ライ トバルブと、
前記反射型ライトバルブの前記画像形成領域に形成された画像を拡大投写する投 写光学系であって、投写光軸に対して略直交する方向にシフト可能な投写光学系と を備え、
前記投写光学系の Fナンバーは、前記照明光学系の Fナンバーよりも小さぐ 前記投写光学系と前記反射型ライトバルブとの間に、前記投写光学系のシフトによ つて移動しない部材であって、前記投写光学系の入射側開口部を規定する開口部 規定部材を有する
ことを特徴とする投写型表示装置。
[2] 前記投写光学系の入射面の有効口径が、前記入射側開口部よりも大きいことを特 徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置。
[3] 前記開口部規定部材が、前記投写光学系の入射面の近傍に配置されていることを 特徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置。
[4] 前記照明光学系が、
前記光源から出射された光束の強度分布を均一化する光強度均一化素子と、 前記光強度均一化素子力 出射された光束を前記反射型ライトバルブに導くリレー 光学系と
をさらに備え、
前記リレー光学系から前記反射型ライトバルブに向力う光束の中心を通る光線が、 前記反射型ライトバルブの画像形成領域の法線に対して傾斜していることを特徴と する請求項 1に記載の投写型表示装置。
[5] 前記反射型ライトバルブの前記画像形成領域から前記投写光学系に向かう光束の 中心を通る光線が、前記反射型ライトバルブの前記画像形成領域の法線に対して傾 斜していることを特徴とする請求項 4に記載の投写型表示装置。
[6] 前記リレー光学系が、 前記光強度均一化素子力 出射された光束を伝播するリレーレンズ群と、 前記リレーレンズ群力 出射された光束を反射する第 1ミラーと、
前記第 1ミラーからの反射光束を前記反射型ライトバルブに向けて反射する第 2ミラ 一と
を備え、
前記第 2ミラーが、前記投写光軸の方向において、前記投写光学系よりも前記反射 型ライトバルブ側に配置されていることを特徴とする請求項 5に記載の投写型表示装 置。
[7] 前記投写光学系のシフト方向と平行に見た場合、前記光強度均一化素子から前記 第 1ミラーに向力う光束の中心を通る光線と、前記反射型ライトバルブから前記投写 光学系に向力う光束の中心を通る光線とが、略直交していることを特徴とする請求項 6に記載の投写型表示装置。
[8] 前記反射型ライトバルブが、反射面の傾角を変化させることのできる複数の可動マ イク口ミラーを有することを特徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置。
[9] 前記光強度均一化素子は、管状部材であり、該管状部材の内面で光束を反射する よう構成されて!ヽることを特徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置。
[10] 前記光強度均一化素子は、透明の角柱状部材であり、該角柱状部材の内部で光 束を反射するよう構成されて!ヽることを特徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置
[11] 前記光強度均一化素子は、複数のレンズ素子を平面的に配列したレンズアレイで あることを特徴とする請求項 1に記載の投写型表示装置。
[12] 前記反射型ライトバルブの矩形の前記画像形成領域から前記投写光学系に向かう 光束の中心を通る光線が、前記反射型ライトバルブの前記画像形成領域の法線に 対して傾斜しており、
前記反射型ライトバルブに対する、前記投写光学系の前記投写光軸に略直交する 方向のシフト量を Sとし、
P
前記開口部規定部材の入射側開口部の直径を Eとし、
前記投写光学系の入射面の有効口径を Eとし、 前記反射型ライトバルブの垂直走査方向の寸法を Vとすると、
d
E<E
p
0. 7 XV >S 〉0· 4 XV
d P d
を満たす
ことを特徴とする請求項 3に記載の投写型表示装置。
[13] E /V > 2. 15
P d
をさらに満たすことを特徴とする請求項 12に記載の投写型表示装置。
[14] 前記照明光学系の集光点を、前記投写光学系の入射面よりも出射面側にしたこと を特徴とする請求項 12に記載の投写型表示装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015230346A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 株式会社リコー 投射装置
JP2016017989A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 株式会社リコー 画像表示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006058859A (ja) * 2004-07-23 2006-03-02 Kazuji Yoshida 画像表示装置
JP2009086474A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Canon Inc 光学装置
TWI401524B (zh) * 2010-02-01 2013-07-11 Compal Communications Inc 投影裝置
CN102844706B (zh) * 2010-03-26 2015-09-02 日本电气株式会社 照明光学系统和使用照明光学系统的投影仪
KR20110113525A (ko) * 2010-04-09 2011-10-17 엘지이노텍 주식회사 프로젝션 시스템
JP5984013B2 (ja) * 2011-12-27 2016-09-06 ウシオ電機株式会社 コヒーレント光源装置およびプロジェクタ
JP2014002176A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Ushio Inc 光源装置およびプロジェクタ
US10151445B2 (en) * 2014-03-10 2018-12-11 The Boeing Company Light assembly having light homogenizer
US9485491B2 (en) 2014-12-15 2016-11-01 Test Research, Inc. Optical system
JP7327106B2 (ja) * 2019-11-21 2023-08-16 株式会社リコー 光学系、および画像投射装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09133974A (ja) * 1995-11-10 1997-05-20 Hitachi Ltd 液晶プロジェクタ
JP2003075768A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Minolta Co Ltd プロジェクター用光学系
JP2003185964A (ja) * 2001-10-01 2003-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 投写型表示装置、リアプロジェクタ及びマルチビジョンシステム
JP2003248169A (ja) * 2002-02-22 2003-09-05 Seiko Epson Corp 投写レンズ及びプロジェクタ
JP2004029043A (ja) * 2002-05-20 2004-01-29 Mitsubishi Electric Corp 投写型表示装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2870790B2 (ja) * 1989-03-17 1999-03-17 ミノルタ株式会社 マイクロリーダプリンタの照明系
JP2861547B2 (ja) * 1991-11-15 1999-02-24 松下電器産業株式会社 投写型表示装置
US5231432A (en) * 1991-12-03 1993-07-27 Florida Atlantic University Projector utilizing liquid crystal light-valve and color selection by diffraction
US5743612A (en) * 1995-11-10 1998-04-28 Hitachi, Ltd Liquid crystal projector
JP3266854B2 (ja) 1998-05-20 2002-03-18 旭光学工業株式会社 反射型画像投影装置
US6587159B1 (en) * 1998-05-29 2003-07-01 Texas Instruments Incorporated Projector for digital cinema
JP4016538B2 (ja) 1999-07-27 2007-12-05 コニカミノルタオプト株式会社 投影システム
US6633436B2 (en) * 2000-02-23 2003-10-14 Canon Kabushiki Kaisha Optical system, projection optical system, image projection apparatus having it, and image pickup apparatus
KR100410964B1 (ko) * 2001-07-27 2003-12-18 삼성전기주식회사 프로젝션 디스플레이 장치의 프로젝션 렌즈
CN1300624C (zh) * 2001-10-01 2007-02-14 松下电器产业株式会社 投射式显示装置、背投式投影机和多影像系统
JP2004157348A (ja) * 2002-11-07 2004-06-03 Chinontec Kk 投射レンズ装置及びプロジェクタ装置
US6773120B2 (en) * 2002-11-25 2004-08-10 Barco, Naamloze Vennootschap Optical projection system and method for using an optical projection system
JP2004177654A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Fuji Photo Optical Co Ltd 投写型画像表示装置
US7090360B2 (en) * 2003-07-28 2006-08-15 Seiko Epson Corporation Projector
US7095568B2 (en) * 2003-12-19 2006-08-22 Victor Company Of Japan, Limited Image display apparatus
US7296902B2 (en) * 2005-07-27 2007-11-20 Christie Digital Systems Canada, Inc. Opto-mechanical filter for blending of images from a digital projector

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09133974A (ja) * 1995-11-10 1997-05-20 Hitachi Ltd 液晶プロジェクタ
JP2003075768A (ja) * 2001-09-05 2003-03-12 Minolta Co Ltd プロジェクター用光学系
JP2003185964A (ja) * 2001-10-01 2003-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 投写型表示装置、リアプロジェクタ及びマルチビジョンシステム
JP2003248169A (ja) * 2002-02-22 2003-09-05 Seiko Epson Corp 投写レンズ及びプロジェクタ
JP2004029043A (ja) * 2002-05-20 2004-01-29 Mitsubishi Electric Corp 投写型表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015230346A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 株式会社リコー 投射装置
JP2016017989A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 株式会社リコー 画像表示装置

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