WO2006064934A1 - 電界電子放出素子とその製造方法及びこの素子を使用した電子放出方法、並びに、電界電子放出素子を使用した発光・表示デバイスとその製造方法 - Google Patents

電界電子放出素子とその製造方法及びこの素子を使用した電子放出方法、並びに、電界電子放出素子を使用した発光・表示デバイスとその製造方法 Download PDF

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Shojiro Komatsu
Toyohiro Chikyo
Katsuyuki Okada
Yusuke Moriyoshi
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    • H01J1/30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
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    • H01J1/3042Field-emissive cathodes microengineered, e.g. Spindt-type
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    • H01J9/025Manufacture of electrodes or electrode systems of cold cathodes of field emission cathodes
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    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/30Cold cathodes
    • H01J2201/304Field emission cathodes
    • H01J2201/30446Field emission cathodes characterised by the emitter material

Definitions

  • the present invention is represented by the general formula BN, and is made of a material containing sp 3 bond, sp 2 bond, or a mixture thereof, and has a surface shape with excellent field electron emission characteristics.
  • Field electron emission in the atmosphere The present invention relates to an operable field electron emission device, a manufacturing method thereof, a field electron emission method using the device, a light emitting / display device using the field electron emission device, and a manufacturing method thereof.
  • the present invention relates to an unprecedented field electron emission characteristic (current density is conventional) with the purpose and application applied to the field of a lamp type light source device using a field emission electron source, a field emission type display, etc.
  • the present invention relates to an electron-emitting member having the above-described unique configuration and a method for manufacturing the same.
  • the present invention also relates to a light emitting / display device having a cold cathode type electron source for electron emission of fluorine nitride represented by the general formula BN and having at least sp 3 bonds.
  • the electron source is a boron nitride electron source having a sharp shape with a sharp tip with excellent field electron emission properties, and thereby has a low electron emission threshold, a high output, and a long lifetime.
  • the present invention relates to a light emitting / display device capable of realizing the above. Background art
  • FED Field electron emission display
  • S ED S ur f a c e—C o n d c c t i o n E l c ct ron—Em dt ter D i s p l a y
  • boron nitride which has been used as a heat-resistant and wear-resistant material, and has recently been attracting attention as a new creation material.
  • boron nitride manufactured under specific conditions exhibits a surface shape with excellent field-electron emission characteristics when formed into a film. It was found that the product was produced and had strong electric field strength.
  • Patent Document 1 Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2 0 4-3 5 3 0 1
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application No. 2 0 0 3 — 2 0 9 4 8 9 Disclosure of Invention
  • the present invention is based on the invention according to the above-mentioned previous patent application, which is further developed, and is a field electron-emitting device that operates stably in the atmosphere, a manufacturing method thereof, and an electric field using the device.
  • Providing a method for emitting electrons, and field electrons It is an object of the present invention to provide a light emitting / display device using a cold cathode electron source having a surface shape with excellent emission characteristics, a low electron emission threshold, a high output, and a long lifetime.
  • sp 3 binding BN or this and sp 2 binding BN which is formed by the prior art, is formed in a self-formation by reaction from the gas phase, and is indicated by BN with a sharp tip.
  • boron nitride has a specific physical surface state provided by the above-described prior art, and thereby exhibits a property of being excellent in electron emission performance.
  • the present invention has been made on the basis of this finding, and the configuration thereof is as described in the following (1) to (2 2).
  • a boron nitride material containing a BN crystal with a sharp tip is formed on the element substrate, and it exhibits stable electron emission in the atmosphere when a voltage is applied.
  • a field electron emission device is formed on the element substrate, and it exhibits stable electron emission in the atmosphere when a voltage is applied.
  • a boron nitride material containing a crystal represented by BN having a sharp shape at the tip is formed on the element substrate in a self-modeling manner at an interval and density suitable for electron emission.
  • the boron nitride material containing a crystal represented by BN having a sharp tip is made of sp 3 -bonded BN or a mixture of sp 3 -bonded BN and sp 2 -bonded BN.
  • a fluorine nitride material containing a crystal represented by BN having a pointed shape is excited by ultraviolet light and formed by a reaction from a gas phase. (1) to (3 The field electron-emitting device according to any one of 1).
  • the boron nitride material including a crystal represented by BN having a sharp tip is formed of sp 3 -bonded BN, or a mixture of sp 3 -bonded BN and sp 2 -bonded BN.
  • a boron nitride material containing a crystal of BN having a pointed shape formed on the element substrate is used as a field electron emission electron source necessary for exciting the phosphor to emit light.
  • a cold cathode light-emitting display device is used.
  • the field electron emission source is a crystal represented by BN having a pointed shape.
  • the boron nitride material containing a crystal represented by BN having a sharp tip is made of sp 3 bonding BN or a mixture of sp 3 bonding BN and sp 2 bonding BN, (12) or (1) The cold cathode light emitting display device according to 3).
  • a boron nitride material containing a crystal of BN having a sharp tip is excited by ultraviolet light and formed by a reaction from a gas phase.
  • (1 2) to (14) The cold cathode light emitting / display device according to any one of the above.
  • the field electron emission electron source is set in a container provided with a window, directly or opposed to and separated from the phosphor, and takes light emitted from the phosphor from the window.
  • the cold cathode light emission display device according to any one of (1 2) to (15), which is configured to emit light.
  • a method of manufacturing a cold cathode light emitting display device characterized by being assembled by assembly.
  • the boron nitride material containing a crystal represented by BN having a sharp tip is made of sp 3 -bonded BN or a mixture of sp 3 -bonded BN and sp 2 -bonded BN.
  • ultraviolet light irradiation is required in the reaction from the gas phase. This has already been clarified in the earlier patent application that becomes the invention of the present inventors. The reason for this can be considered as follows, which is mentioned in the previous patent application.
  • the matter of “stablely emitting electron emission in the atmosphere” is limited to use conditions and usage modes of the field electron emission device of the present invention exclusively in the atmosphere. It is neither a meaning nor a regulation. The meaning and significance of these items are that conventional field emission devices are difficult to operate stably in the atmosphere, and are usually set to operate in a vacuum while holding the device in a vacuum vessel.
  • the element of the present invention means that it has a performance that can be operated without being held in a vacuum vessel, and is limited to use in the atmosphere. Does not mean to do. That is, in addition to the mode of using in the atmosphere, the mode of setting the vacuum container and using it as well as the conventional mode is also included.
  • the crystal indicated by BN with a sharp tip when the crystal indicated by BN with a sharp tip is formed on the element substrate, it has a sufficient function as an electron-emitting device, and the electron-emitting device has been established.
  • the electron-emitting device are also included as electron-emitting devices.
  • the element substrate on which the boron nitride material containing the crystal is formed is integrated with other means to form an element, and the element substrate is also included. Furthermore, these include those in a state where they are integrally attached to the container, and those in which the atmosphere and pressure in the container are adjusted, including those in the vacuum state.
  • the present invention requires a special configuration which is expensive, and the present invention has a pointed shape generated by irradiating the substrate constituting the electronic member with ultraviolet light.
  • the use of the above materials as an electron source in a cold cathode light emitting / display device is excellent in that it is easy to start as described above and can be designed to save energy, and the BN itself is stable. Because it is a simple compound, it does not deteriorate even when used for a long time and contributes significantly to extending the life of the device. Since it can be incorporated into the device as an electron emission emitter as it is, it is directly connected to the simplification of the structure and the manufacturing process in the device design, which is advantageous in terms of cost. Furthermore, Emmitta Since the thin film part including one is only a few to several tens of meters, it is expected to have a number of operational effects such as enabling ultra-thin device. Brief Description of Drawings
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of a reaction apparatus.
  • Fig. 2 is a scanning electron microscope image showing that the BN crystal with a sharp tip produced in Example 1 is deposited in a suitable density and dispersion state against a thin film as a background, and exhibits a unique surface shape. .
  • FIG. 3 is a diagram showing the field electron emission characteristics of the device obtained in Example 1 at 1 atmosphere in the atmosphere.
  • FIG. 4 is a F ow l e r -No r d h im plot diagram of field electron emission characteristics in vacuum in Example 1.
  • FIG. 5 is a diagram showing the field electron emission characteristics of the device fabricated in Example 2 at 1 atmosphere in the atmosphere.
  • FIG. 6 is a graph showing the field electron emission characteristics of the device fabricated in Example 3 in the atmosphere (humidified atmosphere).
  • FIG. 7 is a diagram showing the field electron emission characteristics of the device fabricated in Example 4 in the atmosphere (ethyl alcohol-added atmosphere).
  • FIG. 8 (a) is a conceptual diagram showing the structure of the light emitting display device (phosphor; ⁇ ⁇ Zn powder) of Example 5.
  • FIG. 8 (b) is a conceptual diagram showing the structure of the light-emitting / display device (phosphor; ZnO / Zn powder) of Example 6.
  • FIG. 8 (c) is a conceptual diagram showing the structure of the light emitting / display device (RGB light emitting element) of Example 7.
  • FIG. 8 (d) is a conceptual diagram showing the structure of the light emitting / display device (RGB light emitting element) of Example 8.
  • FIG. 9 is a graph showing current-voltage characteristics of the device of Example 5.
  • FIG. 10 is a Fow ler-No r dh eim plot of the data of FIG. (Explanation of symbols)
  • Reaction vessel (reactor) 2. Gas inlet 3. Gas outlet
  • a CVD reaction vessel having the structure shown in FIG. 1 can be used.
  • a reaction vessel 1 includes a gas inlet 2 for introducing a reaction gas and its dilution gas, and a gas outlet 3 for exhausting the introduced reaction gas and the like out of the vessel.
  • a boron nitride deposition substrate 4 is set in the gas flow path in the vessel, and an optical window 5 is attached to a part of the reaction vessel wall facing the substrate, through which ultraviolet light is applied to the substrate.
  • the excimer ultraviolet laser device 6 is set so that is irradiated.
  • the reaction gas introduced into the reaction vessel is excited by ultraviolet light irradiated on the surface of the substrate, and a nitrogen source and a boron source in the reaction gas react in a gas phase to form a substrate on the substrate constituting the electronic member.
  • a nitrogen source and a boron source in the reaction gas react in a gas phase to form a substrate on the substrate constituting the electronic member.
  • Represented by BN, sp 3 bond, or a mixture of this and sp 2 bond is formed and grows into a film.
  • the pressure in the reaction vessel can be carried out in a wide range of 0.0 1 to 7 6 OT orr, and the temperature of the substrate installed in the reaction space is from room temperature to 1 300 ° C. However, in order to obtain the desired reaction product with high purity, the pressure is low and it is preferable to carry out the reaction at a high temperature.
  • a plasma torch 7 shows this aspect.
  • the reactive gas inlet and the plasma torch are integrally set toward the substrate so that the reactive gas and plasma are irradiated toward the substrate. ing.
  • the product is taken out from the reaction apparatus together with the substrate, As an electron emitter, it can be used for light emitting and display devices.
  • the invention of this application is carried out using the above reaction vessel, and will be further described based on the drawings and specific examples. However, the examples disclosed below are disclosed as an aid for easily understanding the present invention, and the present invention is not limited thereby.
  • Toko filtration to aim of the present invention is excellent surface shape field electron emission characteristics, which are self-shaped formed, mainly an excellent sp 3 bonding boron nitride to the field electron emission characteristics, or
  • the present invention provides a field electron emission device including a mixture with sp 2 bond and a method for manufacturing the same, and further provides an electron emission method using the device, as long as the object can be achieved. Needless to say, etc. can be changed and set as appropriate.
  • the present invention also provides a cold cathode type light emitting / display display using an electron emission electron source made of a specific material, and the reaction conditions and the like are appropriately changed and set as long as the object can be achieved. Needless to say, you can.
  • the target substance was obtained after a synthesis time of 60 minutes.
  • the crystal system of this sample determined by the X-ray diffraction method is hexagonal, and it is a 5 H polymorphic structure with sp 3 bonds.
  • the thin film has a unique surface shape covered with a conical protrusion structure with a sharp tip (length of several microns to several tens of micrometers) that is likely to cause electric field concentration. It was done.
  • FIG. 4 shows a F o ler -No rd heim plot when the same experiment as above is performed in vacuum. This is l / V on the horizontal axis and L og [I / V "2] on the vertical axis (V is the device voltage, I is the current value), and the measurement point is on a straight line. It is understood that field electron emission due to dynamic tunneling occurs in vacuum Example 2;
  • Example 2 The sample (thin film) obtained in Example 1 was coated with ZnO: Zn phosphor fine particles with a thickness of about 10 m, further separated from the surface by about 40 ⁇ , and ITO glass as the anode.
  • Face-to-face field emission display F ED (F ie 1 d Em ission
  • Example 4 The same experiment as in Example 2 was performed at 1 atm in air. However, here is sealed A sponge wetted with water was placed in the measurement chamber and adjusted so that the humidity of the air in the measurement chamber was close to 90%. The result is shown in FIG. It can be seen that the amount of electron emission and the current value increased by nearly 200 times as compared with Examples 1 and 2 by adjusting the humidity of the working atmosphere. Although the present inventors believe that this is due to a decrease in the electron emission threshold resulting from the formation of a surface electric dipole layer by surface adsorbed water, a detailed academic study awaits further research. However, as an empirical / experimental fact, the improvement of electron emission characteristics by adjusting humidity was established here. In addition, it was confirmed by a tester or the like that the insulation between the anode and the cathode was maintained in the above examples. Example 4;
  • Example 7 The same experiment as in Example 2 was performed at 1 atm in air. However, a sponge wetted with ethyl alcohol or methyl alcohol was placed in a sealed measurement chamber, and the measurement chamber was filled with air containing alcohol. The results are shown in Fig. 7. It can be seen that the amount of electron emission and the current value increased by nearly 300 times compared to Examples 1 and 2 by adding alcohol in the working atmosphere. This is presumed to have led to an increase in electron emission characteristics due to a decrease in the electron emission threshold due to the formation of a surface electric dipole layer by surface adsorbed water.
  • phosphor fine particles ZnO: Z powder
  • Fig. 9 shows the current-voltage characteristics of the fabricated device in vacuum.
  • a 1 ⁇ resistor is connected in series during measurement.
  • the vertical axis is the logarithm of the current value
  • the horizontal axis is the device voltage.
  • I device current
  • V device voltage. It is understood that field electron emission due to the Nell effect occurs in vacuum Example 6;
  • Example 7 A substrate equivalent to that in Example 5 was used, and a sample was prepared on the same reaction conditions and prepared. Next, prepare IT ⁇ glass, apply phosphor fine particles to the ITO glass side, assemble a light-emitting device through the My insulation spacer, use the sample side as the cathode, and use the ITO glass as the anode. As a result of energization under the same current and voltage conditions as in Example 5, the same light emission was observed.
  • Example 7 Example 7;
  • RGB element was designed by combining devices using phosphors of three colors of green, blue, and red in the same device as in Example 5. As a result of applying the voltage, RGB light emission was obtained.
  • Example 9 In a device equivalent to Example 6, devices using phosphors of three colors of green, blue, and red were combined to make an RGB element, and RGB light emission was obtained.
  • Example 9 In a device equivalent to Example 6, devices using phosphors of three colors of green, blue, and red were combined to make an RGB element, and RGB light emission was obtained.
  • the present invention has a unique configuration in which a surface shape with excellent field electron emission characteristics, that is, a pointed tip shape is formed in a self-modeling manner.
  • the present invention provides a field electron emission device, a method for manufacturing the same, and an electron emission method using the device, which are made of a material containing sp 3 bonding BN or a mixture of sp 3 bonding BN and the sp 2 bonding BN. Therefore, it is possible to provide a field electron emission device having a low field electron emission threshold, a high current density, and a long electron emission life, and its significance is extremely large. It also provides light-emitting / display devices using the above-mentioned materials as field electron emission electron sources and manufacturing methods thereof, and contributes to thinner and lighter devices in device design. Be expected.
  • the present invention finds a unique phenomenon in which a self-organized growth phenomenon of a thin film under light irradiation naturally develops a characteristic shape, and utilizes the parenthesis phenomenon, and the grown thin film itself Even if the material remains asgrown, it has a surface morphology that has a significant acceleration effect on the field electron emission characteristics. Moreover, due to the physical characteristics of the thin film material itself, it maintains the large current density and is due to the discharge of the material. Considering that there is almost no damage and that the lifetime of the function when applied for the above purpose is semi-permanent, it has been required to have a process that makes it a shape and pattern suitable for field electron emission. In comparison, the significance is not simply a process difference, but an inherently significant difference.
  • the current density of field electron emission is steadily 10 times or more of the conventional AZ due to the synergistic effect of the surface shape self-formation effect and the excellent physical properties of the material itself.
  • Providing a thin film with excellent durability and a manufacturing method and its application that are both cm 2 order, can be said to be an epoch-making significance that goes beyond the current technological level, I am convinced that it brought the effect.
  • a field electron emission threshold is low
  • (b) By providing a field electron emission element having a high current density and (C) a long electron emission lifetime, and incorporating this as an electron source in a cold cathode type light emitting / display device, it goes without saying that It is easy to start up, contributes to lighter, thinner devices, simplified assembly process, and lower costs, and is expected to be used greatly in device design in the future. Its start-up operation works well even in the atmosphere and is extremely good because it is possible, and its performance far exceeds the conventional level. Among them, the excellent characteristics (particularly current density more than 100 times conventional and extremely excellent structural strength and durability peculiar to BN) especially in (b) and (c) are high. Bring epoch-making technical breakthroughs to various lamp-type light source devices, field emission displays, etc. that require stable operation without requiring material deterioration even under conditions of intense use for long periods of time. Predicted and its significance is extremely large.
  • ultra-bright and high-efficiency lighting systems can be constructed by emitting electron beams at a current density more than 100 times that of the conventional technology, and a sufficient current value can be obtained with a small electron emission area.
  • Realization of high-definition displays, etc. application to mobile phones, wireless computers, etc.
  • the present invention is thought to lead to innovations in various electrical devices and devices that have spread in every corner of modern daily life, including lighting and displays. Therefore, its applicability is extremely wide. As a whole, it relates to all areas of human life, and its technical and economic effects are global and enormous.

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Description

明細書 電界電子放出素子とその製造方法及びこの素子を使用した電子放出方法、 並び に、 電界電子放出素子を使用した発光 ·表示デバィスとその製造方法, 技術分野
本発明は、 一般式 BNで示され、 s p 3結合、 s p 2結合、 あるいはその混合 物を含む材料からなり、 電界電子放出特性に優れた表面形状を有している、 大気 中で電界電子放出動作が可能な電界電子放出素子とその製造方法及びこの素子を 使用した電界電子放出方法、 並びに、 電界電子放出素子を使用した発光 ·表示デ バイスとその製造方法に関する。
さらに詳しくは、 本発明は、 電界放出電子源を用いたランプ型光源デバイス、 フィールドエミッシヨン型ディスプレイ等の分野に応用される目的 ·用途をも つ、 破格の電界電子放出特性 (電流密度が従来比 1 000倍以上) を有する前記 特有な構成をしてなる電子放出部材とその製造方法に関する。
また、 本発明は、 一般式 BNで示され、 少なくとも s p 3結合を有した窒化ホ ゥ素を電子放出用冷陰極型電子源とする発光 ·表示デバイスに関する。 前記電子 源は、 詳しくは、 電界電子放出性に優れた先端の尖った形状を呈した表面形状の 窒化ホウ素による電子源であって、 これによつて電子放出閾値の低い、 高出力、 長寿命を可能とする発光 ·表示デバイスに関する。 背景技術
近年、 携帯電話、 車載ディスプレイ、 電子機器の表示部などには液晶、 VFD (Va c u um F l u o r e s c e n t D i s p l a y)等が使用され、又、 有機 ELも有力な選択肢として研究開発が進んでいるが、それぞれに難点がある。 即ち、 (1) 液晶の場合、 自発光でないためバックライトを必要とする分デバイ スが複雑化し、 究極的な薄型設計が得られにくい、 (2) VFDの場合、 本質的 に表示分解能が低く、 単純な表示しか得られない、 (3) 有機 ELでは寿命の問 題が解決されておらず、 製品として市場に出るまでに至っていない。 又、 (4) 照明 ·表示デバイスとしての LEDには、 LED自体を多量に束ねた構造が必要 になり、 簡便でない、 等の問題がある。
最近、 この方式に代わるディスプレイとして、 電界電子放出方式によるディス プレイが盛んに研究され、 開発されている。 具体的には、 FED (F i e l d Em i s s i o n D i s p l a y)、 あるいは S ED (S u r f a c e— C o n d u c t i o n E l e c t r o n— Em i t t e r D i s p l a y) 等力 S 挙げられる。 これらのデバイス及びデバイス関連システムは、 今後ますます重要 性が増すことが予想され、 さらに優れたデバイスとシステムの向上を目指して、 日夜研究がなされている。 電界電子放出材料自体に関する研究についてもその例 外ではなく、 盛んに研究がされている。
ここに、 このような電界電子放出材料としては、 電界電子放出閾値が低く、 耐 電圧強度の高い、 また電流密度の大なる材料が求められているが、 その一つとし て、 近年注目されている、 カーボンナノチューブが挙げられる。 しかし、 この材 料に基づいて電子放出材料を設計するにおいては、 さらに電子放出性を高め、 電 流密度を向上させる工夫が必要である。 そのため、 ナノチューブをパターン化し て薄膜成長させたり、 プリント転写技術を利用して、 電子放出性に適った形状に 形成したりするなどの加工を施したりするなどの試みがなされている。
しかしながら、 カーボンナノチューブは、 その製造方法自体が、 完全に確立さ れているとは言えず、 その加工技術に至っては、 研究はまだ緒についたばかりで 極めて困難な状況にある。また、このような手間のかかる困難な加工を施しても、 その結果得られる性能は、 電流密度がせいぜい mA/ cm 2オーダーにとどまつ ているにすぎないものであった。
そこには使用電界強度には限界があり、これを超えたところでは、材料の劣化、 剥落が生じ、高電圧、長時間にわたる使用には耐えられないものであった。最近、 カーボンナノチューブを用いたディスプレイが試作段階にこぎつけてとの報告も あるが、 基本的に上記困難な状況にあることには変わりがない。
電界電子放出技術の重要性は、 この技術の影響力が、 単に特定技術分野だけの 狭い領域にとどまらず、いまや、一般社会、 日常生活に深く浸透していることは、 縷々説明するまでもなく明らかであり、 その開発動向は、 今後、 ますます盛んに なることが予想される。 そのため、 高い耐電界強度を有し、 長時間使用して電子 を大きな電流密度で安定して放出することができ、 しかも材料の劣化、 損傷のな い安定した高い電界電子放出を可能とする材料が強く求められている。
本発明者らにおいても、 上記要請に応えるべく、 耐熱、 耐摩耗性材料として使 用され、 また、 最近では新規創生材料として注目を浴びている窒化ホウ素につい て着目し、 この材料に基づいて電子放出材料を設計すべく鋭意研究した結果、 特 定の条件下で製作した窒化ホウ素の中には、 これを膜状に生成した場合、 電界電 子放出特性に優れた表面形状を呈してなるものが生成し、 強い耐電界強度を有す ることを見いだした。
すなわち、 窒化ホウ素を気相からの反応によって基盤 (その幾何学形状は問わ ず、 平板のみならず、 針金状、 球状などを含み、 基盤と呼ぶ) 上に生成堆積する 場合、 基盤近傍にエネルギの高い紫外光を照射すると基盤上に結合性窒化ホウ素 が膜状に形成され、 且つ膜表面上には、 先端が尖った状態を呈した形状の s p 3 結合性窒化ホウ素が適宜間隔を置いて光方向に自己組織的に生成、成長すること、 そしてその得られてなる膜は、 これに電界をかけると容易に電子を放出し、 しか もこれまでのこの種材料から考えると、 破格といってもいい大電流密度を保ちな がら、 材料の劣化、 損傷、 脱落のない極めて安定した状態、 性能を維持し得る、 極めて優れた電子放出材料であることを確認、 知見し、 その成果を先に特許出願 した (特許文献 1、 2参照)。.
特許文献 1 :特開 2 0 0 4— 3 5 3 0 1号公報
特許文献 2 :特願 2 0 0 3— 2 0 9 4 8 9 発明の開示
発明が解決しようとする課題
本発明は、 上記先の特許出願に係る発明を先行技術とし、 これをさらに発展さ せたものであって、 大気中でも安定に作動する電界電子放出素子とその製造方法 及び前記素子を使用した電界電子の放出方法を提供すること、 並びに、 電界電子 放出性に優れた表面形状を有し、 電子放出閾値の低い、 高出力、 長寿命の冷陰極 型電子源による発光 ·表示デバイスを提供することを課題とする。 すなわち、 先 行技術によって作製された、 気相からの反応によって自己造形的に形成され、 先 端の尖った B Nで示される、 s p 3結合性 B N、 又は、 これと s p 2結合性 B N との混合物からなる電子放出性に優れた材料を使用して、 大気中でも安定に作動 する電界電子放出素子、 並びに、 電子放出閾値の低い、 高出力、 長寿命の冷陰極 型電子源による発光 ·表示デバイスを提供しようというものである。 課題を解決するための手段
そのため、 本発明者らにおいては鋭意研究した結果、 上記した先行技術によつ て提供される特有な物理的表面状態を有し、 これにより電子放出性能に優れてな る性質を発現する窒化ホウ素を利用し、 大気中でも安定に電子放出しうる電子放 出素子を開発することに成功した。 また、 この窒化ホウ素を、 F E D用、 あるい は照明、 その他発光表示一般用電界電子放出材料として使用することを試みた。 これによつて、 電子放出閾値の低い、 高出力、 長寿命の発光 ·表示デバイスが実 現可能ではないかとの期待のもとにデバイスの開発を進めた。 その結果、 従来水 準を超えるデバイスを作製することが十分に可能である、 との知見を得た。 本発 明は、 この知見に基づいてなされたものであり、 その構成は、以下の (1 ) 〜 (2 2 ) に記載するとおりである。
( 1 ) 先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料が素 子基板に形成されてなり、 電圧を印加することによって大気中で安定に電子放出 性を発現することを特徴とする、 電界電子放出素子。
( 2 ) 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、電子放出に適した間隔、密度で前記素子基板に自己造形的に形成されている、
( 1 ) 項に記載の電界電子放出素子。
( 3 ) 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 B N、 又は、 s p 3結合性 B Nと s p 2結合性 B Nとの混合物 からなる、 (1 ) 又は (2 ) 項に記載の電界電子放出素子。 ( 4 ) 前記先端の尖つた形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホゥ素材料 が、 紫外光によ όて励起され、 気相からの反応によって形成されてなる、 (1) 〜 (3) の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
(5) 前記電界電子放出素子が発光表示装置に使用されるものである、 (1) 〜 (4) の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
(6) 前記電界電子放出素子が照明装置に使用されるものである、 (1) 〜 (4) の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
(7) アルゴン、 ヘリウム等の希ガス、 水素の単独又はこれらの混合ガスからな る希釈ガスを用いて、 0. 001〜76 OTo r rの圧力のもとで、 前記希釈ガ スに対して、 0. 0001〜 100体積%のホウ素源及び窒素源原料ガスを導入 した雰囲気中にて、 プラズマを発生し、 あるいは発生せずして、 室温〜 1300 °Cに保持した電子放出素子基板に紫外光を照射することにより、 前記原料ガスを 反応させ、 先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 を、 前記素子基板に自己造形的に形成することを特徴とする、 電圧を印加するこ とによって大気中で安定に電子放出する電界電子放出素子の製造方法。
(8) 前記先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 BN、 又は、 s p 3結合性 BNと s p 2結合性 BNとの混合物 からなる、 (7) 項に記載の電界電子放出素子の製造方法。
(9) 前記 (1) 〜 (6) の何れか 1項の電界電子放出素子に電圧を印加して電 子を放出させる、 電子放出方法。
(10) 前記電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出させる際、 該電界電 子放出素子を極性溶媒ガスを含んだ作動雰囲気と接触させることによって、 該電 界電子放出素子の電子放出性を向上させる、 (9) 項に記載の電子放出方法。
(1 1) 前記極性溶媒ガスが、 水及び/又はアルコールである、 (10) 項に記 載の電子放出方法。
(12) 素子基板に形成されてなる先端の尖った形状を有する BNで示される結 晶を含む窒化ホウ素材料を、 蛍光体を励起して発光させるのに必要な電界電子放 出電子源とすることを特徴とする、 冷陰極型発光 ·表示デバイス。
(13) 前記電界電子放出源が、 先端の尖った形状を有する BNで示される結晶 を含む窒化ホウ素材料を、 電子放出に適した間隔、 密度で自己造形的に前記素子 基板に形成されてなるものである、 (1 2) 項に記載の冷陰極型発光 '表示デバ イス。
(14) 前記先端の尖った BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料が、 s p 3 結合性 BN、 又は、 s p 3結合性 BNと s p 2結合性 BNとの混合物からなる、 前記 (12) 又は (1 3) に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
(1 5) 前記先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材 料が、 紫外光によって励起され、 気相からの反応によって形成されてなる、 (1 2) 〜 (14) の何れか 1項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
(1 6)前記電界電子放出電子源が、窓を備えた容器内に、前記蛍光体に直接に、 あるいは対向、 離間して設定されてなり、 前記蛍光体から発光する光を窓から取 り出すようにした、 (1 2) 〜 (1 5) の何れか 1項に記載の冷陰極型発光 ·表 示デパイス。
(1 7) 前記容器が真空に設定した真空容器である、 (1 6) 項に記載の冷陰極 型発光 ·表示デバイス。
(1 8) 前記蛍光体が、 粉末状又は膜状である、 (1 6) 又は 1 7項に記載の冷 陰極型発光 ·表示デバイス。
(1 9) 前記蛍光体が、 窓に塗布されてなる、 (1 6) 〜 (1 8) の何れか 1項 に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
(20) 前記蛍光体が、 RGB発光する三色蛍光体である、 (1 6) 〜 (1 9) の何れか 1項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
(21) アルゴン、 ヘリウム等の希ガス、 水素の単独又はこれらの混合ガスから なる希釈ガスを用いて、 0. 00 1〜76 OTo r rの圧力のもとで、 前記希釈 ガスに対して、 0. 0001〜 1 00体積%のホゥ素源及ぴ窒素源原料ガスを導 入した雰囲気中にて、 プラズマを発生し、 あるいは発生せずして、 室温〜 1 30 0°Cに保持した電子放出素子基板に紫外光を照射することにより、 前記原料ガス を反応させ、 先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材 料を、 前記素子基板に自己造形的に形成し、 反応終了後、 反応容器から生成物を 基板ごと取出し、 冷陰極型発光 ·表示デバイスにおける電界電子放出電子源とし て組み立てることを特徴とする、 冷陰極型発光 ·表示デバイスの製造方法。
( 2 2 ) 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材 料が、 s p 3結合性 B N、 又は、 s p 3結合性 B Nと s p 2結合性 B Nとの混合 物からなる、 (2 1 ) 項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイスの製造方法。 ここに、 本発明において、 電界電子放出特性に優れた表面形状が自己造形的に 形成されるためには、 気相からの反応の際、 紫外光の照射が必要である。 このこ とは、 本発明者らの発明になる先の特許出願においてすでに明らかにしていると ころである。そして、その理由としては、前示先の特許出願でも言及しているが、 次のように考えることができる。 すなわち、 自己組織化による表面形態形成はィ リャ .プロゴジン (ノーベル賞受賞者) 等による指摘によれば、 「チューリング 構造」 として把握され、 前駆体物質の表面拡散と表面化学反応とが競合するある 種の条件において出現する。 ここでは、 紫外光照射がその両者の光化学的促進に 関わり、 初期核の規則的な分布に影響していると考えられる。 紫外光照射により 表面での成長反応が促進されるが、 これは光強度に反応速度が比例することを意 味する。 初期核が半球形であると仮定すると、 頂点付近では光強度が大きく、 成 長が促進されるのに対して、 周縁部分では光強度が弱まり成長が遅れる。 これが 先端の尖つた表面形成物の形成要因の一つであると考えられる。 何れにしても紫 外光照射が極めて重要な働きをなしており、 これが重要なボイントであることは 否定できない。
さらにまた、 本発明において、 「大気中で安定に電子放出性を発現する」 なる 事項は、 本発明の電界電子放出素子の使用条件、 使用態様を専ら大気中で使用す ることに限定することを意味するものでもなく、 規定するものでもない。 その記 載事項の意味、 意義は、 従来の電界電子放出素子は、 大気中では安定に作動する ことが困難であること、 通常は素子を真空容器に保持し、 真空下で作動するよう に設定されているのに対し、 本発明の素子は、 真空容器に保持しなくても作動し える性能を有していることを意味しているものであって、 ことさら大気中で使用 することに限定することを意味するものではない。 すなわち、 大気中で使用する 態様以外に、従来と同様に、真空容器に設定して使用する態様も含むものである。 したがって、先端の尖った B Nで示される結晶が素子基板に形成されだ段階で、 電子放出素子としての機能を十分に有するものであり、 電子放出素子が成立して おり、 本発明は、 この段階のものも電子放出素子として含むものである。 勿論、 前記結晶を含む窒化ホウ素材料が形成された素子基板をさらに他の手段と一体に して素子化したもの、 モジュール化したものも含むものである。 さらには、 これ らを、 容器内に一体に取り付けた状態のもの、 その容器内の雰囲気、 圧力を、 真 空状態にすることも含め、 調整した状態のものも、 含むものである。 発明の効果
従来、 電子を物質中から引き出すためには、 電子放出閾値の高い電子放出材料 に依存しており、 冷陰極型においては真空中において大きな電圧を印加するか、 あるいは、 熱電子型においては真空中において 2 0 0 0 °C以上の高温加熱を行う ことが不可決であり、さらにまた、空間に引き出された電子を利用する機器では、 装置 .デバイスの真空封入を要する等、 何れも電子放出させるには、 コストのか かる特別の構成を必要としていたところ、本発明は、電子部材を構成する基板に、 紫外光を照射することによって生成した、 先端の尖った形状を有し、 一般式 B N で示され、 主として s p 3結合よりなる、 又はこれと s p 2結合との混合物によ る電界電子放出特性に優れた薄膜であって、 未加工 (a s g r o w n ) のまま でも、 電子放出閾値の低い、 電圧を印加するだけで大気中でも安定して容易に電 界電子を放出することができるという、 特有且つ特別な性質を発現する電界電子 放出素子 (電界電子放出材料) を提供することができる。
また、前記材料を、冷陰極型発光 ·表示デパイスにおける電子源とすることは、 上記のように起動しやすく、 その分省エネ設計が可能である点で優れていること に加え、 B N自体が安定な化合物であるため、 長時間の激しい使用によっても材 料劣化のない、 デバイスの長寿命化に大きく寄与するものであり、 あるいは、 薄 膜状に自己造形的に形成されたままのものを、 そのまま電子放出ェミッタ一とし てデバイスに組み込むことができるため、デバイス設計において、構造の簡素化、 作製プロセスの簡素化に直結し、 コスト的に有利である。 さらにまた、 ェミッタ 一を含む薄膜部が数^ m〜数 10 mで済むため、 極薄型デパイス化が可能とな る、 等の数々の作用効果が期待される。 図面の簡単な説明
図 1は、 反応装置の概要を示す概略図である。
図 2は、実施例 1で作製した、先端の尖った B N結晶が薄膜を背景に適宜密度、 分散状態で析出し、 特有な表面形状を呈している様子を示した走査型電子顕微鏡 像である。
図 3は、 実施例 1で得られた素子の大気中、 1気圧における電界電子放出特性 を示す図である。
図 4は、 実施例 1における真空中での電界電子放出特性の F ow l e r -No r d h e i mプロット図である。
図 5は、 実施例 2で作製された素子の大気中、 1気圧における電界電子放出特 性を示す図である。
図 6は、 実施例 3で作製された素子の大気 (加湿雰囲気) 中における電界電子 放出特性を示す図である。
図 7は、 実施例 4で作製された素子の大気 (エチルアルコール添加雰囲気) 中 における電界電子放出特性を示す図である。
図 8 (a) は、 実施例 5の発光 .表示デバイス (蛍光体; ΖηΟ · Z n粉体) 構造を示す概念図である。
図 8 ( b ) は、 実施例 6の発光 ·表示デバィス (蛍光体; Z n O · Z n粉体) 構造を示す概念図である。
図 8 (c) は、 実施例 7の発光 ·表示デバイス (RGB発光素子) 構造を示す 概念図である。
図 8 (d) は、 実施例 8の発光 ·表示デバイス (RGB発光素子) 構造を示す 概念図である。
図 9は、 実施例 5のデバイスの電流電圧特性を示す図である。
図 10は、図 9のデータの F ow l e r—No r dh e i mプロット図である。 (符号の説明)
1 . 反応容器 (反応炉) 2 . ガス導入口 3 . ガス流出口
4 . 窒化ホウ素析出基板 5 . 光学窓 6 . エキシマ紫外レーザー装置
7 . プラズマトーチ 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を、 図面及び実施例に基づいて詳細に説明する。
本発明の電界電子放出特性に優れた s p 3結合、 又はこれと s p 2結合との混 合物を得るためには、図 1に示す構造の C V D反応容器を使用することができる。 図 1において、 反応容器 1は、 反応ガス及ぴその希釈ガスを導入するためのガ ス導入口 2と、 導入された反応ガス等を容器外へ排気するためのガス流出口 3と を備え、 真空ポンプに接続され、 大気圧以下に減圧維持されている。 容器内のガ スの流路には窒化ホウ素析出基板 4が設定され、 その基板に面した反応容器の壁 体の一部には光学窓 5が取り付けられ、 この窓を介して基板に紫外光が照射され るよう、 エキシマ紫外光レーザー装置 6が設定されている。
反応容器に導入された反応ガスは、 基板表面において照射される紫外光によつ て励起され、 反応ガス中の窒素源とホウ素源とが気相反応し、 電子部材を構成す る基板上に、 一般式; B Nで示され、 s p 3結合、 又はこれと s p 2結合との混 合物が生成し、 膜状に成長する。 その場合の反応容器内の圧力は、 0 . 0 0 1〜 7 6 O T o r rの広い範囲において実施可能であり、 また、 反応空間に設置され た基板の温度は、 室温〜 1 3 0 0 °Cの広い範囲で実施可能であることが実験の結 果明らかとなったが、 目的とする反応生成物を高純度で得るためには、 圧力は低 く、 高温度で実施した方が好ましい。 なお、 基板表面ないしその近傍空間領域に 対して紫外光を照射して励起する際、 プラズマを併せて照射する態様も一つの実 施の態様である。 図 1において、 プラズマトーチ 7は、 この態様を示すものであ り、 反応ガス及びプラズマが基板に向けて照射されるよう、 反応ガス導入口と、 プラズマトーチとが基板に向けて一体に設定されている。
また、 前記合成反応を終了後、 反応装置から生成物を基板ごと取り出し、 その まま電子放出エミッターとして、 発光 ·表示デバイスに使用することができる。 この出願の発明は、 以上の反応容器を用いて実施されるが、 以下さらに図面及 ぴ具体的な実施例に基づいて説明する。 ただし、 以下に開示する実施例は、 あく までも本発明を容易に理解するための一助として開示するものであって、 これに よって本発明は限定されるものではない。 すなわち、 本発明のねらいとするとこ ろは電界電子放出特性に優れた表面形状が自己造形的に形成されてなる、 電界電 子放出特性に優れた s p 3結合性窒化ホウ素を主体とし、 あるいは、 これに s p 2 結合との混合物を含む電界電子放出素子とその製造方法を提供し、 さらに、 前記 素子を使用した電子放出方法を提供するものであり、 その目的が達成しうる限り で、 反応条件等は適宜変更、 設定することができることはいうまでもない。
また、 本発明は、 特定の材料からなる電子放出電子源を用いた冷陰極型発光 · 表示ディスプレイを提供するもので、 その目的が達成しうる限りにおいて、 反応 条件等は適宜変更、 設定することができることはいうまでもない。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。ただしこれらの実施例は、 発明を容易に理解しうるために開示するものであって、 発明を限定する趣旨では ない。 実施例 1 ;
アルゴン流量 3 S L Mの希釈ガス流中にジボラン流量 5 s c c m及び、 アンモ ニァ流量 1 0 s c c mを導入し、 同時にポンプにより排気することで圧力 1 0 T o r rに保った雰囲気中にて、 加熱により 9 0 0 °Cに保持した直径 2 5 mmの円 盤状のニッケル基板上に、 エキシマレーザー紫外光を照射した (図 1参照)。 こ の際、 上記ガスは、 図のように、 1 3 . 5 6 MH zの電界により誘導結合的にプ ラズマ化されている (プラズマ化されない場合にも同様なモルフォロジ一が得ら れ、 優れた電界電子放出特性が得られることがわかっているが、 成長速度などに 差が出る)。 6 0分の合成時間により、 目的とする物質を得た。 X線回折法によ り決定したこの試料の結晶系は六方晶であり、 s p 3結合による 5 H型多形構造 で、 格子定数は、 a = 2 . 5 0 A、 c = 1 0 . 4 θ Αであった。
その結果、 走查型電子顕微鏡像 (図 2 ) に示すとおり、 得られた物質からなる 薄膜は電界集中の生じやすい先端の尖った円錐状の突起構造物 (数ミクロンから 数十ミクロンメーターの長さ) に覆われた特異な表面形状が自己造形的に形成さ れていることが確認された。
この薄膜の電界電子放出特性を調べるため、 I TOガラスを陽極、試料(薄膜) 側を陰極として両者の間隔を約 40マイクロメータ離して、 この間に電圧を印可 し、 大気中で電子放出量を測定した。 この際、 伝導性の I TO側が試料側表面と 向かい合う配置になる。 結果を図 3に示す。 図に示されるとおり、 閾値無しで、 初めから電流の放出が見られ、 約 10 V/μιηの電界強度において、 1 / Αの電 流が大気中動作で得られている。 約 60分の測定の間、 電流値の揺動はあるが、 平均的な電流値の減少は見られなかった。 なお、 ここでは、 I TO電極に多量の 電流が流れるのを防ぐために、 測定デバイスと直列に 1ΜΩの抵抗を挿入して行 つた。 この抵抗値の変更により、 電流値の調整が可能である。
また、 参考のために、 図 4に、 上と同様の実験を、 真空中で行った場合の、 F o l e r -No r d h e i m プロットを示す。 これは、 横軸に l/V、 縦 軸に L o g [ I /V " 2] を取ったもの (Vはデパイス電圧、 Iは電流値) で、 測定点が直線に乗っており、 量子力学的トンネル効果による電界電子放出が真空 中では起きていることが理解される。 実施例 2 ;
実施例 1で得られた試料 (薄膜) 面に 1 0 m程度の厚さで Z n O: Z n蛍光 体微粒子を塗布し、 さらにその表面から 40 μηι程離して、 I TOガラスを陽極 として対面させて電界放出ディスプレイ F ED (F i e 1 d Em i s s i o n
D i s p l a y) を作製した。 試料を陰極として電圧をかけ、 大気中、 1気圧 の下で電子放出量を測定した。 ここでも、 I TO電極に多量の電流が流れるのを 防ぐために、 測定デバイスと直列に 1ΜΩの抵抗を挿入した。 その結果を図 5に 示す。 図 4と同程度に大気中でも良好な電子放出が見られる。 実施例 3 ;
実施例 2と同様の実験を大気中、 1気圧で行った。 ただし、 ここでは、 密閉さ れた測定チャンパ一内に水で濡れたスポンジを置き、 測定チャンバ一内の空気の 湿度が 9 0 %近くになるよう調整した。 結果を図 6に示す。 作動雰囲気の湿度調 整により電子放出量、 電流値が実施例 1、 2に比較して、 2 0 0倍近く増加して いることが分かる。 これは表面吸着水による表面電気双極子層の形成に起因する 電子放出閾値の低下によるものと、 本発明者らにおいては考えているが、 学問的 な詳細な検討は今後の研究に待つ。 しかし、 経験的 ·実験的事実としては、 ここ に湿度調整による電子放出特性の向上が確立された。なお、上記実施例に置いて、 陽極 ·陰極間の絶縁が保たれていたことは、テスターなどにより確認されている。 実施例 4 ;
実施例 2と同様の実験を大気中、 1気圧で行った。 ただし、 ここでは、 密閉さ れた測定チャンバー内にェチルアルコール又はメチルアルコールで濡れたスポン ジを置き、 測定チャンバ一内にアルコールを含む空気が満ちるよう調整した。 結 果を図 7に示す。 作動雰囲気のアルコール添加により電子放出量 ·電流値が実施 例 1 · 2に比較して、 3 0 0倍近く増加していることが分かる。 これは表面吸着 水による表面電気双極子層の形成による電子放出閾値の低下により、 電子放出特 性の増大につながつたものと推測している。 即ち、 水と同様にアルコールは分極 性であり、 B N表面への物理吸着特性があり、 吸着層が表面電荷二重層を形成す ることにより、 電子放出が容易になったものと考えられる。 学問的な詳細な検討 は今後の研究に待つ。 しかし、 経験的 ·実験的事実としては、 ここに作動雰囲気 のアルコール添加による電子放出特性の向上が碑立された。 実施例 5 ;
実施例 1で得られた試料 (薄膜) 面に蛍光表示管用蛍光体微粒子 (Z n O: Z ή粉体) を 1 0 μ m程度の厚さに塗布した。
次に、 以下の図 8 aに示す構造のデバイスを作製した。 まず、 上記蛍光体微粒 子を塗布した薄膜試料 (自己造形性電子放出 B Nェミッタ一) の面上に厚さ 5 0 μ πιのマイ力を電極間ギャップ形成用絶縁スぺーサ一として用い、 その上に、 I Τ〇ガラスを I T O面を試料面に相対する形で載せた。 I T O面を陽極、 試料側 を陰極とした。 陰極上に直接塗布された蛍光体面と陽極の I TO面との間に約 4 0 m程のギャップを設定した。
上記作製されたデバイスの真空中における電流電圧特性を図 9に示す。 デバイ ス保護のため、 測定時に 1ΜΩの抵抗を直列に接続している。 縦軸は電流値の対 数で、 横軸がデバイス電圧である。 この時、 デバイス電圧 1 00〜200 Vの範 囲で発光が見られ、 図中点線で囲んだ領域が対応していることが確認された。 ま た、 図 9のデータを、 F ow l e r—No r d h e i mプロットしたものを図 1 0に示す。 これは、 横軸が 1/V、 縦軸が L o g [I/V " 2] で、 I =デバイ ス電流、 V =デバイス電圧である。 測定点が直線に乗っており、 量子力学的トン ネル効果による電界電子放出が真空中で起きていることが理解される。 実施例 6 ;
実施例 5と同等の基板を用い、 その上に同様の反応条件で試料を作製し、 用意 した。 次に、 I T〇ガラスを用意し、 蛍光体微粒子を I TOガラス側に塗布し、 これを、マイ力絶縁スぺーサーを介して発光デバイスを組み立て、試料側を陰極、 I TOガラスを陽極として、 実施例 5と同じ電流一電圧条件で通電した結果、 同 等の発光がみられた。 実施例 7 ;
実施例 5と同等なデバイスにおいて、 緑色、 青色、 赤色の三色の蛍光体を用い たものを結合して、 RGB素子を設計した。 電圧を印加した結果、 RGB発光が 得られた。 実施例 8 ;
実施例 6と同等なデバイスにおいて、 緑色、 青色、 赤色の三色の蛍光体を用い たものを結合し、 RGB素子を作り、 RGB発光が得られた。 実施例 9 ;
上記実施例において、 I TOガラスの代わりに厚さ 0. 5mmの銅メッシュ板 (電極) を用い、 同様の発光を得た 以上述べたとおり、本発明は、電界電子放出特性に優れた表面形状、すなわち、 先端の尖った形状が自己造形的に形成された特異な構成を有する s p 3結合性 B N、 あるいはこれと s p 2結合性 B Nとの混合物を含む材料からなる、 電界電子 放出素子とその製造方法及びこの素子を使用した電子放出方法を提供するもので あって、 これによつて、 電界電子放出閾値が低く、 電流密度の高い、 電子放出寿 命の長い極めて良好な電界電子放出素子を提供することを可能としたもので、 そ の意義は極めて大きい。 また、 上記の材料を、 電界電子放出電子源とする発光 · 表示デバイスとその製造方法を提供するものであって、 デバイス設計において薄 型化、 軽量化に寄与し、 今後大いに利用されるものと期待される。
さらに述べると、 本発明は、 光照射下の薄膜の自己組織的成長現象において特 有な形状のものが自然に発現すると言う特有な現象を見いだし、 かっこの現象を 利用したもので、 成長薄膜自体が未加工 (a s g r o w n ) のままでも、 電界 電子放出特性の著しい促進効果のある表面形態を持つものであり、 しかも、 薄膜 材料自体の物理的特性により、 大電流密度を保ちながら、 材料の放電による損傷 がほとんど無く、 上記目的に応用される場合の機能の寿命が半永久的であること を考慮すると、 これを電界電子放出に適った形状やパターンにする工程を要して いたこれまでの水準と比較するとその意義は、 単にプロセスの違いだけでは済ま されない、 本質的に大きな違いによる意義が認められる。 すなわち、 本発明によ つて表面形状の自己造形効果と材料自体の卓越した物理的特性の相乗効果によ り、 電界電子放出の電流密度が、 定常的に従来の 1 0 0 0倍以上の AZ c m 2ォ ーダ一であり、 かつ耐久性に優れた薄膜と、 その製造方法及びその用途を提供し たことは、現状の技術水準に対してその壁を一気に越える画期的とも言える意義、 作用効果をもたらしたものと確信する。 産業上の利用可能性
本発明は、 前述した構成によって、 (a ) 電界電子放出閾値の低い、 (b ) 電 流密度の高い、 そして、 (C ) 電子放出寿命の長い電界電子放出素子を提供し、 これを冷陰極型発光 ·表示デバイスにおける電子源として取り入れることによつ て、 前記利点は言うに及ばず、 起動しやすい、 デバイスの軽量化、 薄型化、 組み 立てプロセスの簡素化、 低コスト化に寄与し、 今後は、 この種デバイス設計に大 いに利用されるものと期待される。 その起動動作は、 大気中でも十分に機能し、 可能であることからもきわめて優れ、 性能は従来水準をはるかに超える。 その中 でも特に (b ) 及び (c ) において際だった優秀な特性 (従来の 1 0 0 0倍以上 の電流密度と B Nに特有の極めて優れた構造的強度 ·耐久性) を有するため、 高 輝度発光が求められる、 長時間の激しい使用に条件においても材料劣化のない、 安定した作動が求められる各種ランプ型光源デバイス、 フィールドエミッション 型ディスプレイ等に画期的な技術的ブレークスルーをもたらすことが予測され、 その意義は極めて大きい。
すなわち、 従来の 1 0 0 0倍以上の電流密度で電子線を放出することにより超 高輝度かつ高効率な照明システムの構築、 微少電子放出面積で十分な電流値が得 られることを利用した超高精細ディスプレイ等の実現 (携帯電話、 ゥアラブノレコ ンピューターなどへの応用)、 成長時における紫外光照射面のみが電子放出特性 に優れることを利用した、 特有な電子放出パターンの形成、 あるいは、 超高輝度 ナノ電子源としての利用、 さらにまた、 超小型電子ビーム源、 等等への道を実際 に示したものである。 今後、 これらの電子機器分野をはじめ、 各種応用技術分野 に大いに利用されることが期待される。
その結果、 本発明は、 照明、 ディスプレイをはじめ現代の日常生活の隅々に行 き渡っている各種電気機器 ·デバイスの革新につながることが考えられ、 そのた め、 その利用可能性は極めて広く、 総じて人間生活のあらゆる範囲に関係し、 そ の技術的、 経済的効果はグローバルかつ膨大である。

Claims

請求の範囲
1. 先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料が素子 基板に形成されてなり、 電圧を印加することによつて大気中で安定に電子放出性 を発現することを特徴とする、 電界電子放出素子。
2.前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料が、 s p 3結合性 BN、 又は、 s p 3結合性 BNと s p 2結合性 BNとの混合物から なる、 請求の範囲第 1項に記載の電界電子放出素子。
3.前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料力 電子放出に適した間隔、 密度で前記素子基板に自己造形的に形成されている、 請 求の範囲第 1項に記載の電界電子放出素子。
4.前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料力 s p 3結合性 BN、 又は、 s p 3結合性 BNと s p 2結合性 BNとの混合物から なる、 請求の範囲第 3項に記載の電界電子放出素子。
5.前記先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料力 紫外光によって励起され、 気相からの反応によって形成されてなる、 請求の範囲 第 1項〜第 4項の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
6. 前記電界電子放出素子が発光表示装置に使用されるものである、 請求の範囲 第 1項〜第 4項の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
7. 前記電界電子放出素子が発光表示装置に使用されるものである、 請求の範囲 第 5項に記載の電界電子放出素子。
8. 前記電界電子放出素子が照明装置に使用されるものである、 請求の範囲第 1 項〜第 4項の何れか 1項に記載の電界電子放出素子。
9. 前記電界電子放出素子が照明装置に使用されるものである、 請求の範囲第 5 項に記載の電界電子放出素子。
10. アルゴン、 ヘリウム等の希ガス、 水素の単独又はこれらの混合ガスからな る希釈ガスを用いて、 0. 001〜76 OTo r rの圧力のもとで、 前記希釈ガ スに対して、 0. 0001〜 1 00体積%のホウ素源及び窒素源原料ガスを導入 した雰囲気中にて、 プラズマを発生し、 あるいは発生せずして、 室温〜 1 300 °Cに保持した電子放出素子基板に紫外光を照射することにより、 前記原料ガスを 反応させ、 先端の尖つた形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホゥ素材料 を、 前記素子基板に自己造形的に形成することを特徴とする、 電圧を印加するこ とによって大気中で安定に電子放出する電界電子放出素子の製造方法。
1 1. 前記先端の尖った形状を有する BNで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 BN、 又は、 s p 3結合性 BNと s p 2結合性 BNとの混合物 からなる、 請求の範囲第 10項に記載の電界電子放出素子の製造方法。
1 2. 請求の範囲第 1項〜第 4項の何れか 1項に記載の電界電子放出素子に電圧 を印加して電子を放出させる、 電子放出方法。
1 3. 請求の範囲第 5項に記載の電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出 させる、 電子放出方法。
14. 請求の範囲第 6項に記載の電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出 させる、 電子放出方法。
1 5. 請求の範囲第 8項に記載の電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出 させる、 電子放出方法。
16. 前記電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出させる際、 該電界電子 放出素子を極性溶媒ガスを含んだ作動雰囲気と接触させることによって、 該電界 電子放出素子の電子放出性を向上させる、 請求の範囲第 1 2項に記載の電子放出 方法。
1 7. 前記極性溶媒ガスが、 水及び/又はアルコールである、 請求の範囲第 1 6 項に記載の電子放出方法。
18. 前記電界電子放出素子に電圧を印加して電子を放出させる際、 該電界電子 放出素子を極性溶媒ガスを含んだ作動雰囲気と接触させることによって、 該電界 電子放出素子の電子放出性を向上させる、 請求の範囲第 1 3項に記載の電子放出 方法。
1 9. 前記極性溶媒ガスが、 水及び/又はアルコールである、 請求の範囲第 18 項に記載の電子放出方法。
20. 素子基板に形成されてなる先端の尖った形状を有する BNで示される結晶 を含む窒化ホウ素材料を、 蛍光体を励起して発光させるのに必要な電界電子放出 電子源とすることを特徴とする、 冷陰極型発光 ·表示デバィス。
2 1 . 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 B N、 又は、 s p 3結合性 B Nと s p 2結合性 B Nとの混合物 からなる、 請求の範囲第 2 0項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
2 2 . 前記電界電子放出源が、 先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を 含む窒化ホウ素材料を、 電子放出に適した間隔、 密度で自己造形的に前記素子基 板に形成されてなるものである、 請求の範囲第 2 0項に記載の冷陰極型発光 ·表 示デバイス。
2 3 . 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 B N、 又は、 s p 3結合性 B Nと s p 2結合性 B Nとの混合物 からなる、 請求の範囲第 2 2項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
2 4 . 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 紫外光によって励起され、 気相からの反応によって形成されてなる、 請求の 範囲第 2 0項〜第 2 3項の何れか 1項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバィス。
2 5 . 前記電界電子放出電子源が、 窓を備えた容器内に、 前記蛍光体に直接に、 あるいは対向、 離間して設定されてなり、 前記蛍光体から発光する光を窓から取 り出すようにした、 請求の範囲第 2 0項〜第 2 3項の何れか 1項に記載の冷陰極 型発光 ·表示デバイス。
2 6 . 前記容器が真空に設定した真空容器である、 請求の範囲第 2 5項に記載の 冷陰極型発光 ·表示デバイス。
2 7 . 前記蛍光体が、 粉末状又は膜状である、 請求の範囲第 2 5項に記載の冷陰 極型発光 ·表示デバイス。
2 8 . 前記蛍光体が、 窓に塗布されてなる、 請求の範囲第 2 5項に記載の冷陰極 型発光 ·表示デバイス。
2 9 . 前記蛍光体が、 R G B発光する三色蛍光体である、 請求の範囲第 2 5項に 記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
3 0 . 前記電界電子放出電子源が、 窓を備えた容器内に、 前記蛍光体に直接に、 あるいは対向、 離間して設定されてなり、 前記蛍光体から発光する光を窓から取 り出すようにした、 請求の範囲第 2 4項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイス。
3 1 . アルゴン、 ヘリウム等の希ガス、 水素の単独又はこれらの混合ガスからな る希釈ガスを用いて、 0 . 0 0 1〜7 6 0 T o r rの圧力のもとで、 前記希釈ガ スに対して、 0 . 0 0 0 1〜 1 0 0体積%のホウ素源及び窒素源原料ガスを導入 した雰囲気中にて、 プラズマを発生し、 あるいは発生せずして、 室温〜 1 3 0 0 °Cに保持した電子放出素子基板に紫外光を照射することにより、 前記原料ガスを 反応させ、 先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 を、 前記素子基板に自己造形的に形成し、 反応終了後、 反応容器から生成物を基 板ごと取出し、 冷陰極型発光 ·表示デバイスにおける電界電子放出電子源として 組み立てることを特徴とする、 冷陰極型発光 ·表示デバイスの製造方法。
3 2 . 前記先端の尖った形状を有する B Nで示される結晶を含む窒化ホウ素材料 が、 s p 3結合性 B N、 又は、 s p 3結合性 B Nと s p 2結合性 B Nとの混合物 からなる、 請求の範囲 3 1項に記載の冷陰極型発光 ·表示デバイスの製造方法。
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