WO2005095119A1 - Sicherheitselement in form eines mehrschichtigen folienkörpers - Google Patents

Sicherheitselement in form eines mehrschichtigen folienkörpers Download PDF

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WO2005095119A1
WO2005095119A1 PCT/EP2005/003405 EP2005003405W WO2005095119A1 WO 2005095119 A1 WO2005095119 A1 WO 2005095119A1 EP 2005003405 W EP2005003405 W EP 2005003405W WO 2005095119 A1 WO2005095119 A1 WO 2005095119A1
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security element
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layer
thin
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Wayne Robert Tompkin
Andreas Schilling
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Ovd Kinegram Ag
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    • G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
    • G03H1/0011—Adaptation of holography to specific applications for security or authentication

Definitions

  • the invention relates to a security element in the form of a multilayer film body comprising a replicating lacquer layer and a thin film layer for producing an angle-dependent color shift effect by means of interference and in which a relief structure is formed in the interface between the replicating lacquer layer and the thin film layer.
  • the invention further relates to a security document with such a security element and to a method for producing such a security element.
  • Optically variable security elements are often used to complicate and, where possible, prevent the copying and misuse of documents or products.
  • optically variable security elements often find use for securing documents, banknotes, credit cards, cash cards and the like.
  • WO 01/03945 A1 describes a security product which has a transparent substrate on one side of which a thin film is applied, which produces a perceptible color shift depending on the viewing angle of the observer.
  • the thin film here consists of an absorption layer, which is applied to the transparent substrate, and of a dielectric layer, which is applied to the absorption layer.
  • the absorption layer contains a material which is composed of one of the following materials or a combination of these materials: chromium, nickel, palladium, titanium, cobalt, iron, tungsten, molybdenum, iron oxide or carbon.
  • the dielectric layer is made of one of the following materials or a combination of the following materials: Silica, alumina, magnesium fluoride, aluminum fluoride, barium fluoride, calcium fluoride or lithium fluoride.
  • a diffraction pattern is applied on the opposite side of the transparent substrate.
  • This diffraction pattern acts as a diffraction grating so that, for example, the illusion of a three-dimensional image can be generated for the viewer by means of this two-dimensional pattern.
  • optically variable security element ensures that the optical effects generated by the thin-film layer and the optical effects generated by the diffractive pattern are superimposed at each point of the optically variable element, resulting in an overall optical effect composed of these two effects So, for example, the superposition of a color shift effect and a hologram.
  • the optically variable security element further has a replication layer into which a relief structure is embossed.
  • This relief structure produces a further optical effect, namely the diffraction effect already described above, by means of which holograms and the like can be represented.
  • the thin-film layer is first applied to the replication layer and then the relief structure is impressed.
  • Two approaches are proposed for decoupling the optical effects produced by the thin film and the relief structure. Firstly, it is proposed to provide an opaque layer between the relief structure, which produces a holographic image by means of diffraction, and the thin film, which produces a color change. applied. By means of this opaque layer, the relief structure is shielded from the thin-film structure.
  • the second possibility is to place two or more layers of a substantially transparent material between the relief structure forming a holographic image and the thin film. These layers may include one or more high refractive layers and an adhesive layer. By means of these layers, the reflection and thus the light intensity in the region of the holographic image-forming relief structure is increased and the holographic image thus emerges from the color shift effect of the thin film.
  • a security element in the form of a multilayer film body, which has a replication lacquer layer and a thin film layer for producing an angle-dependent color shift effect by means of interference and in which
  • a first relief structure is formed, wherein the first relief structure for suppressing the generation of the color shifting effect by the thin film layer is arranged, so that in the first area of the security element, in which the first relief structure is provided, the color shift effect is not present and in a second region of the security element, in which the first relief structure is not provided, the color shift effect generated by the thin film layer is present.
  • the invention is further achieved by a method for producing a security element in the form of a multilayer film body, in which a first relief structure is formed in a replicating lacquer layer of the multilayer film body in a first region of the security element, and a thin-film layer for producing an angle-dependent color shift effect by means of the replication lacquer layer Interference applied is formed as a first relief structure in the first region of the security element, a relief structure which suppresses the generation of a color shift effect by the thin film layer, so that in the first region of the security element, in which the first relief structure is provided, no color shifting effect is present and a second region of the security element, in which the first relief structure is not provided, a color shift effect generated by the thin film layer is present.
  • the invention is further achieved by a method for producing a security element in the form of a multilayer film body, in which a first relief structure is formed in a replicating lacquer layer of the multilayer film body in a first region of the security element, and a thin film layer for generating a viewing angle-dependent color shift effect by means of the replicating lacquer layer Interference is applied, and in which as the first relief structure in the first region of the security element, a relief structure is formed, which are those generated by the thin film layer
  • a first color shift effect is produced by the thin-film layer and a second area of the security element in which the first relief structure is not provided by the thin-film layer , from the first one
  • Thin-film layers are distinguished in principle by an interference-layer structure (fulfillment of the ⁇ / 2 or ⁇ / 4 condition), which produces viewing-angle-dependent color shifts.
  • the thin film layer can be used as a reflective
  • a thin-film layer may in principle consist of a single layer with a very high refractive index ( ⁇ / 2 or ⁇ / 4 layer), three or more dielectric layers with alternating high and low refractive index or two or more alternating metallic and dielectric layers.
  • the thin-film layer thus has, for example, a metallic absorption layer (preferably with 30% to 65% transmission), a transparent spacer layer as a color change-generating layer ( ⁇ / 2 or ⁇ / 4 layer), a metal layer as a reflective layer (reflective element) or an optical separation layer ( transmissive element).
  • the ⁇ / 2 or ⁇ / 4 condition here assumes that ⁇ is the wavelength in the thin film, so that the refractive index of the thin film is also considerable for the fulfillment of this condition.
  • reflection for perpendicularly incident light, if the thickness of the thin film layer is%,%, ... of the wavelength ⁇ of the light in the thin film, constructive interference of the light occurs on a thin film layer, in general
  • ⁇ 0 is the wavelength in the air and ⁇ is the wavelength in the thin film having a refractive index n.
  • the refractive index of a thin film not be constant but also more complex (eg, wavelength-dependent) and intermediate layers to have corresponding intrinsic colors which do not change depending on the viewing angle and which can superimpose the color shift effect generated by the interference.
  • the invention is based on the idea here, by means of the molding of a suitable relief structure into the boundary layer between a replication lacquer layer and the thin film layer to suppress the generation of the color shift effect by the thin film layer in the region of this relief structure and thus to provide a very cost-effective, environmentally friendly and precise way of patterning the color shifting effect.
  • the production of security elements is made cheaper in which the color shift effect produced by the thin-film layer is not intended to be provided over the entire surface but only in a pattern region or in a background region.
  • the invention saves costly and environmentally harmful process steps in the production of such security elements. Thus, for example, eliminates the necessary for the partial formation of the thin film layer printing, etching and strip processes.
  • relief structures which suppress the generation of a color shift effect by the thin film layer are characterized by a high depth to width ratio of the individual structural elements of the relief structure.
  • Such relief structures have a substantially higher effective surface area than conventional relief structures shaped for the production of optical effects in security elements.
  • This will - according to a simplified explanatory model, the effective thickness of the thin film layer and thus the effective thickness of the color change generating spacer layer of the thin film layer significantly reduced, so that the distance layer due to the relief structure no longer meets the ⁇ / 2 or ⁇ / 4 condition.
  • another color shift effect occurs-or, with a correspondingly high reduction in the effective thickness of the spacer layer, no color shift effect, ie, no color shift effect visible to the viewer.
  • the viewer perceives a different or no color angle effect dependent on the viewing angle.
  • the color shift effect produced by the thin film is thus suppressed by the relief structure due to the reduction of the effective thickness of the color change-generating spacer layer by the relief structure.
  • Essential for the occurrence of this effect is a high average depth to width ratio of the individual structural elements of the relief structure, which should be greater than 0.5, and a correspondingly small spacing of the structural elements, which is smaller than 200 microns, preferably less than 10 microns (diffractive Relief structure) should be.
  • the concrete choice of the depth to width ratio here depends on the concrete relief structure and the thin film layer, essentially on the thickness of the color change generating spacer layer (s), and can be determined experimentally or analytically, as shown below on several embodiments.
  • these relief structures can not only be used to ensure that in the area of the relief structure no color-shifting effect is produced by the thin-film layer, but also to produce a different color-shifting effect in the area of the relief structure than the one caused by the structural parameters of the Relief structure (thickness of the spacer layer) is given.
  • the visual impression in the first region differs significantly from the optical impression in the second region in that this relief structure is not provided.
  • a viewing angle-dependent color shift effect from green to blue and, in the second region, a color shift effect depending on the viewing angle, from red to green.
  • This effect can also be exploited here to produce a kind of true color image by suitable structuring by locally varying the aspect ratio (depth to width ratio of the structural elements) so that locally for each pixel of the true color image the color is adjusted by the choice of the aspect ratio. For example, it is possible to vary the depth of the relief structure at a constant grid frequency according to the color to be provided for the respective pixel.
  • the first or the second area forms a pattern area in the form of a logo, a text or an image and the respective other of the two areas forms a background area, so that the pattern area becomes clear due to the different effect of the first and second areas emerges.
  • a second relief structure is preferably shaped into the boundary surface, so that in the second region the optical effect generated by the second relief structure is superimposed on the optical effect generated by the thin-film layer.
  • a fine line pattern for example a guilloche
  • the pattern area has a V-shape, with the background area showing a color-changing effect and the V-shaped area showing no such color-changing effect.
  • a guilloche extends over pattern area and background area.
  • a relief structure is molded with a high depth to width ratio.
  • a relief structure with a low depth to width ratio, preferably with a depth to width ratio smaller than 0.2, is used to form the lines of guilloche extending over both the pattern and the background area.
  • the second relief structure is here preferably an optically diffractive structure, such as a hologram or KINEGRAM ® formed.
  • an optically diffractive structure such as a hologram or KINEGRAM ® formed.
  • a continuous course from an area where a strong color shifting effect is visible to the viewer to an area where no color shifting effect is more visible to the viewer can be generated for the viewer.
  • the strength of the local color shift effect is determined by a local "gray value” in the manner of a gray-scale image.
  • the local "gray value” is determined by the local surface part of the first relief structure. Due to the high resolutions achievable by means of the invention, "color shift images” can thus be generated by means of the invention. The generation of such "color shift images” by means of a partial application of the thin-film layer, in contrast, is very difficult and can be achieved with very high technological expenditure.
  • the "gray level" of a "color shift image” is preferably determined by the ratio of first raster areas in which the first relief structure is shaped, and second raster areas in which the first relief structure is not formed.
  • the dimension of the individual screen areas is in this case preferably less than 300 ⁇ m, preferably about 50 ⁇ m.
  • the thin-film layer is a transmissive thin-film layer or as a reflective thin-film layer and to build up the thin-film layer from a plurality of dielectric layers, a plurality of dielectric and metallic layers or a pearlescent layer. Furthermore, it is possible to arrange a partial reflection layer between the replication lacquer layer and the thin-film layer and thereby to produce regions in which, for example, only a reflective diffraction-optical effect is visible. It is also possible to apply a partial reflective layer to an all-over transparent thin-film layer in order to provide a security element with transmissive and reflective areas. These variants or a combination of these variants makes it possible to realize complex and visually appealing security elements based on the basic concept of the invention.
  • a diffractive structure having a high depth to width ratio of the individual features of the relief structure is preferably employed. It has been shown that good results can be achieved, especially with a depth to width ratio of 0.75 to 5. Also, depth to width ratios with a factor of 10 are possible.
  • a relief structure is used for the relief structure, which is arranged to suppress the generation of a color shift effect by the thin-film layer, in which the depth of the relief structure is varied in both the x and y directions, in which the mean distance of adjacent elevations of the relief structure is smaller than the mean tread depth of the relief structure and in which neighboring elevations of the relief structure Relief structure are less than 200 microns apart and thus lie below the resolution of the human eye.
  • Such structures may also be structures with a stochastic surface profile which satisfy the above conditions. Such structures can be realized particularly well by means of a UV replication process.
  • relief structures which are a periodic function of the coordinates x and y, in which the depth of the relief structure is periodically varied both in the x and y directions and in which the period length in x and y are preferred, are used as such relief structures in y-direction are less than or equal to the structure depth of the relief structure.
  • An advantageous embodiment of such a relief structure consists of a composite of two substantially mutually perpendicular base grids arranged cross grating, wherein the period length of the base grating are smaller than or equal to the structure depth of the first relief structure.
  • the thin-film layer is applied to the replication lacquer layer by means of sputtering or vapor deposition after the relief structures described above have been formed.
  • the thin-film layer is applied in the same way in the first and in the second region and thus with the same nominal surface density.
  • a security element according to the invention is preferably used to secure banknotes, credit cards, debit cards, documents or goods.
  • the security element is preferably formed by a multilayer film body which forms a transfer film, in particular a hot stamping film, or a laminating film.
  • Fig. 1 shows a schematic representation of a security element according to the invention.
  • FIG. 2 shows a schematic representation of a security document with a security element according to the invention.
  • FIG. 4 shows a schematic sectional view of a relief structure with a high depth to width ratio.
  • Fig. 5a show in schematic sectional views relief structures with up to 5d different depth to width ratio.
  • Fig. 6 is a graph showing the dependence of the reflectance of an embodiment of a thin-film layer on the wavelength of the incident light and the effective thickness.
  • Fig. 7 is a graph showing the dependence of the reflectance of the thin film layer in Fig. 6 on the wavelength and the angle of incidence of OR polarized light.
  • 8a to 8c each show a pictorial representation of a plan view of a security element according to the invention.
  • FIG. 9 shows a schematic representation of a relief structure for use in a security element according to the invention.
  • FIG. 10 shows a schematic representation of a security element according to the invention for a further exemplary embodiment of the invention.
  • FIGS. 11 b show schematic representations of relief structures which are used in the security element according to FIG. 10.
  • a security element 11 in the form of a multilayer film body which has a carrier film 10, a release layer 20, a protective lacquer layer 21, a replication lacquer layer 22, a thin-film layer 23 and an adhesive layer 24.
  • the security element 11 is a stamping foil, in particular a hot stamping foil. However, it is also possible to design the security element 11 as a laminating film or sticker film.
  • the carrier layer 10 consists for example of a PET or POPP film of a layer thickness of 10 .mu.m to 50 .mu.m, preferably with a thickness of 19 .mu.m to 23 .mu.m.
  • the release layer 20 and the protective lacquer layer 21 are then applied to the carrier film by means of a gravure anilox roller.
  • the release and protective lacquer layers 20 and 21 in this case preferably have a thickness of 0.2 to 1.2 microns. These layers could also be dispensed with.
  • the replication lacquer layer 22 preferably consists of a radiation-crosslinkable replicate lacquer.
  • a UV replication method for molding the relief structures 25 and 26 in the replication lacquer layer 22 is used.
  • the replication varnish used here is a UV-curable varnish.
  • the introduction of the relief structures 25 and 26 into the UV-crosslinkable replication lacquer layer takes place here, for example, by UV irradiation during the impression of the relief structure in the still soft or liquid lacquer layer or by partial irradiation and curing of the UV-crosslinkable lacquer layer.
  • a UV-crosslinkable lacquer it is also possible here to use another radiation-crosslinkable lacquer.
  • the replication lacquer layer 22 may consist of a transparent, thermoplastic plastic material.
  • the Replizierlack GmbH 22 is then embossed by means of a stamping tool one or more relief structures, such as the relief structures 25 and 26.
  • the thickness to be selected for the replication lacquer layer 22 is determined by the tread depth selected for the relief structures 25 and 26. It must be ensured that the replication lacquer layer 22 has a sufficient thickness to allow the relief structures 25 and 26 to be shaped. In this case, the replication lacquer layer 22 preferably has a thickness of 0.3 to 1.2 ⁇ m.
  • the replication lacquer layer 22 is applied to the protective lacquer layer 21 over the full area by means of a line-engraved gravure roll with an application weight of 2.2 g / m 2 before drying.
  • a varnish of the following composition is chosen:
  • the Replizierlack Mrs 22 is dried in a drying tunnel at a temperature of 100 to 120 ° C.
  • the relief structures 25 and 26 are impressed into the replicating lacquer layer 22, for example by means of a matrix consisting of nickel at about 130 ° C.
  • the matrix is preferably heated electrically.
  • the die Before the die is lifted from the replication lacquer layer 22 after embossing, the die can be cooled down again become.
  • the replication lacquer of the replication lacquer layer 22 hardens by crosslinking or in any other way.
  • the relief structures 25 and 26 are relief structures which suppress the generation of a color shift effect by the thin film layer 23.
  • Structures exhibiting this effect have a high depth to width ratio of the individual structural elements of the relief structure and thus a much higher effective surface area than conventional relief structures shaped for the production of optical effects in security elements.
  • the effective thickness of the thin film layer and thus the effective thickness of the color change generating spacer layer of the thin film layer is significantly reduced, so that a different color shift effect - or with a correspondingly high reduction of the effective thickness of the spacer layer - no color shifting effect occurs - according to a simplified explanatory model because the distance layer due to the relief structure does not fulfill the ⁇ / 2 or ⁇ / 4 condition anymore the observer perceives a different or no viewing angle-dependent color shift effect in the area of the relief structure.
  • the color shift effect produced by the thin film is thus suppressed by the relief structure due to the reduction of the effective local thickness of the color change-generating spacer layer by the relief structure.
  • Essential for the occurrence of this effect is a high average depth to width ratio of the individual structural elements of the relief structure, which should be greater than 0.5, and a correspondingly small spacing of the structural elements, which is smaller than 200 .mu.m, preferably smaller than 10 .mu.m (diffractive relief structure ) should be.
  • the concrete choice of the depth to width ratio is in this case of the concrete relief structure and the thin film layer, essentially the thickness of the Depending on the color change generating spacer layer (s), and can be determined experimentally or analytically, as shown in the following examples:
  • the relief structures 25 and 26 are not a simple grating in which the depth of the relief structure is periodically varied in only one direction, but the depth the relief structure in two directions, for example, in the direction of two different, the interfaces between the replication lacquer layer 22 and the thin film layer 23 spanning vectors is varied.
  • the resulting effective surface of the relief structures 25 and 26 is significantly increased over conventional relief structures used for the production of optical effects.
  • a cross grating with a period d and a profile depth h can be described, for example, by the following function:
  • the thickness t with respect to the nominal thickness t 0 is influenced by the thickness ratio ⁇ or its reciprocal, the thickness reduction factor 1 / ⁇ , as follows:
  • Table 1 gives the numerical values for the depth to width ratio 0 ⁇ h / d ⁇ 5 both for the thickness ratio ⁇ and for the thickness reduction factor 1 / ⁇ of a cross lattice.
  • FIG. 4 shows a schematic sectional view of a layer 230 with regions 310 and 320 having different relief structures, which are provided with a thin-film layer 230s.
  • the thin film layer has the nominal thickness t 0 in the flat areas 320 formed with a smooth surface and the smaller thickness t in the area 310 formed with a high depth to width ratio.
  • Figures 5a to 5d show in schematic representations the effect of the depth to width ratio on the effective local thickness t.
  • the thickness of the thin-film layer 230d formed on the flanks of the relief structure is only slightly smaller than the nominal thickness t 0 .
  • the thickness of the thin-film layer 230d formed on the flanks of the relief structure is now substantially smaller than the nominal thickness t 0 .
  • the thickness of the thin-film layer 230d formed on the flanks of the relief structure is again reduced compared to the thickness of the relief structure shown in FIG. 5c.
  • FIG. 6 now shows a graph of the dependence of the reflectivity of a thin-film layer on the wavelength ⁇ of the incident light and the effective thickness t calculated with the computer program "Gsolver”.
  • the thin film layer is formed as a thin film layer system having a Si0 2 layer with a thickness of 275 nm, which is arranged between two Ti0 2 - layers, each having a thickness of 70 nm.
  • the Si0 2 layer here forms the distance layer responsible for the color change, which satisfies the ⁇ / 2 or ⁇ / 4 condition for generating the interference effect.
  • the thin-film layer is arranged on a plastic substrate having a refractive index of 1.5 and is adjacent to air.
  • the plastic substrate has relief structures that cause different effective thicknesses t of the thin film layer. As can be seen in Fig. 6, the reflected colors to the color blue, the thinner the thin film layer is formed.
  • the depth to width ratio to the formation of transparency may be smaller when compared to red light when dealing with green or blue light. Furthermore, the result is also dependent on the viewing angle.
  • the depth to width ratio should thus be for a color shift effect at the upper end of the spectrum of visible light h / d> 0.5. Since, as already described above, a large reduction in the effective thickness of the thin film occurs from a depth to width ratio h / d 1, the depth to width ratio will normally be selected to 1 to ensure the color change effect in the relief structure area suppress.
  • a thin film layer may be a thin film layer consisting of a Ti0 2 layer (spacer layer) with a thickness of 275 nm and which is arranged between two plastic layers, for example, have a refractive index of 1, 5.
  • it may be three layers, which are arranged between two plastic layers, to a Cr layer with a thickness of 8 nm, a MgF 2 layer having a thickness of 215 nm and an Al layer with a thickness of 50 nm.
  • the relief structures are
  • Relief structures whose period d, i. whose distance between two elevations is chosen to d ⁇ or even more preferably to d ⁇ / 2, where ⁇ is preferably the wavelength of the color effect occurring when viewed perpendicularly. In this way it can be ensured that in the area of the relief structure no diffraction effects occur which affect the appearance for the human observer.
  • the range of visible light is between 450nm and 670nm.
  • ⁇ 555 nm, for which the human eye is most sensitive, it should therefore be d ⁇ 555 nm. Studies have shown that disturbing diffraction effects can be largely prevented if d ⁇ 450 nm, preferably in the range of 300 nm - 350 nm.
  • FIG. 9 now shows a schematic illustration of a section of a relief structure which can be used for the relief structure 25 and which is set up to suppress the generation of a color shift effect by the thin-film layer 23.
  • the relief structure 25 is a periodic function f (x, y), with two arrows 257 and 258 in FIG. 4 representing the associated coordinate axes.
  • the function f (x, y) varies the depth of the relief structure 25 periodically, for example sinusoidally, in both the x and y directions. This results in the relief profile shown in Fig. 4 with a plurality of surveys, for example, the elevations 254, 255 and 256, each a period length of the function f (x, y) away from each other, for example, in the x direction a period length 253 from each other are removed and in y-direction one Period length 252 apart.
  • the period lengths 252 and 253 are in this case selected so that they are less than or equal to the structural depth of the relief structure 25, namely smaller than a structural depth 251.
  • the relief structure 25 shown in FIG. 9 thus has, for example, period lengths 252 and 253 of 330 nm and a structure depth of more than 500 nm.
  • the period lengths 252 and 253 and the profile depth 251 it is also possible to design both the profile shape, the period lengths 252 and 253 and the profile depth 251 differently from the illustration according to FIG. 9. It is essential here that at least one of the period lengths 252 and 253 is smaller than or equal to the structure depth 251 and that the period lengths 252 and 253 are less than 200 ⁇ m (limit of resolution of the human eye) away from each other. Particularly good results are achieved if at least one of the period lengths 252 and 253 is smaller than the cut-off wavelength of the visible light.
  • a suppression of the color shift effect is generally achieved if the mean distance between adjacent elevations of the relief structure is smaller than the average profile depth of the relief structure and adjacent elevations of the relief structure are less than 200 ⁇ m apart. If the color shift effect generated by the thin-film layer is in the range of green or blue, suppression of the effect-as already shown above for periodic structures-can generally be achieved by an average depth-to-width ratio that is greater than 0.5. In this case, the average spacing between adjacent elevations is preferably chosen smaller than 30 ⁇ m, so that the relief structure is a special diffractive relief structure.
  • combination structures such as a combination structure of micro and macro structure in which a coarse and deep first Structure is superimposed by a fine and high-frequency second structure.
  • Examples of such combination structures are a coarse asymmetric structure with a fine sine grid or a coarse triangular structure with a fine sine grid. It has been found that by means of such a combination structure, the above-described requirements for achieving a good suppression of the color shift effect can be achieved more easily.
  • the thin film layer 23 is distinguished in principle by an interference layer structure which generates viewing angle-dependent color shifts.
  • the thin-film layer 23 can be constructed here as a reflective element or as a transmissive element. Further details on thin-film layer systems that can be used for the thin-film layer 23 can be found, for example, in Chapter 13 of the book "Optical document security" by RL van Renesse, ed., Artech House, London, by JA Dobrowolski Options:
  • the thin-film layer thus has, for example, an absorption layer (preferably with 30% to 65% transmission), a transparent spacer layer as a color change-generating layer ( ⁇ / 2 or ⁇ / 4 layer), a metal layer as a reflective layer (reflective element) or an optical separation layer
  • the adhesive layer 24 acts as an optical separating layer if its refractive index differs significantly from the refractive index of the spacer layer. If the thin-film layer 23 acts as a reflective element, then the layer thickness of the spacer layer should be selected such that the ⁇ / 4 condition is fulfilled. If the thin film layer 23 acts as a transmissive layer, the spacer layer has to satisfy the ⁇ / 2 condition.
  • Such a thin film layer is formed, for example, by a thin film layer system composed of one or more dielectric and metallic layers.
  • the thin-film layer 23 thus consists of one
  • the thin film layer 23 is composed of a TiO 2 layer having a thickness of 70 nm, a SiO 2 layer having a thickness of 275 nm as a color change generating spacer layer and a TiO 2 layer of 70 nm.
  • Such a thin film layer consists of a sequence of three to nine such layers (odd number) or a number of two to ten such layers (even number). The higher the number of layers, the sharper the wavelength can be set for the color change.
  • the thin-film layer 23 may consist of a single layer of a high-index metal oxide, for example a TiO 2 layer of 275 nm thickness.
  • Such thin film layers are also referred to as pearlescent layers.
  • the layer thickness of the thin film layer 23 is also referred to as pearlescent layers.
  • Thin film layer the ⁇ / 4 or ⁇ / 2 condition ' e, whether it is reflective or transmissive element to meet).
  • the layers of the thin-film layer 23 are preferably applied to the replication lacquer layer 22 over the entire area by means of sputtering.
  • the thin-film layer 23 in this case comprises a reflection layer which is preferably made of a thin metallic layer, for example of Al, Ag, Cr, Ni, Cu, Au or a combination of these metals is constructed.
  • the adhesive layer 24 is applied to the thin-film layer 23.
  • the adhesive layer 24 is preferably a layer of a thermally activatable adhesive. Depending on the use of the security element 11, it is also possible to dispense with the adhesive layer 24.
  • the relief structures 25 and 26 are in this case molded in areas 31 and 33 of the security element 11.
  • the areas 31 and 33 are surrounded by areas 32 in which no relief structures in the replication lacquer layer 22nd are molded, so that in these areas the Replizierlack Mrs 22 shows a substantially flat surface.
  • FIG 8a shows a pattern area 51 which is designed in the form of a tree and a background area 52 enclosing the pattern area 51.
  • the background area 52 is covered with the relief structure 25, so that in the background area 52 the generation of a color shift effect by the thin film layer 23 is suppressed , No relief structure is formed in the pattern region 51, so that in this region the color shift effect produced by the thin-film layer 23 is visible.
  • Fig. 8b shows a pattern area 53 in the form of a tree in front of one
  • Background area 54 wherein the relief structure 25 is formed in the pattern area 53 and in the background area 54 no relief structure is molded. This gives the viewer the impression of a (translucent) tree whose background changes its color depending on the angle of view.
  • FIG. 8c shows a representation of Clara Schumann 55 in front of a background region 56.
  • the relief structure 25 is arranged in the pattern area forming the representation of Clara Schumann, so that the representation of Clara Schumann arises from the contrast of the background area 56 undergoing a color change and the transparent lines of the pattern area.
  • FIG. 2 shows a preferred application of the embossing foil shown in Fig. 1.
  • FIG. 2 thus shows the transfer layer 2 of a transfer film which has been applied to a document 4 to be secured.
  • the transfer layer 2 forms a security element 12, which is constructed from the protective lacquer layer 21, the replication lacquer layer 22, the thin-film layer 23 and the adhesive layer 24.
  • the relief structures 25 and 26 are molded in the areas 31 and 33.
  • no relief structure is formed in the boundary layer between the replication lacquer layer 22 and the thin-film layer 23, so that here the boundary layer is largely planar.
  • an individualized imprint 41 is applied for personalization, for example by means of a thermal transfer process. Then, the transfer layer 2 is applied to the document 4 such that the security element 12 covers the individualized imprint 41.
  • the thin-film layer 23 is designed as a transmissive element, so that the individualized imprint 41 can be recognized by the thin-film layer 23 and the individualized imprint 41 in the regions 32 is superimposed by the color-shift effect generated by the thin-film layer 23.
  • FIG. 10 shows a further exemplary embodiment of a security element 13 according to the invention.
  • the security element 13 is a transfer film which is formed by a multilayer film body with the carrier layer 10, the release layer 20, the protective lacquer layer 21, the replication lacquer layer 22, the thin-film layer 23 and the adhesive layer 24.
  • the layers 10 to 24 are configured according to the identical layers of FIG. 1.
  • a relief structure is formed in regions 35 and 37, which is configured in accordance with the relief structures 25 and 26 according to FIGS. 1 and 9.
  • areas 28 and 29 of the securing element 13 are molded into the boundary surface relief structures 28 and 29.
  • regions 34 and 39 of the security element 13 no relief structures are formed in the boundary surface, so that the boundary surface in these areas is largely flat.
  • the relief structures 28 and 29 are relief structures which generate an optical effect which is superimposed on the optical effect generated by the thin-film layer 23.
  • the relief structure 28 for example, a diffractive structure, for example, a dot-matrix hologram, a KINEGRAM ® or to a conventional diffraction grating.
  • a diffractive structure for example, a dot-matrix hologram, a KINEGRAM ® or to a conventional diffraction grating.
  • the relief structure 29 is, for example, a macrostructure, for example a structure with an extreme value spacing of more than 30 ⁇ m. Furthermore, the relief structure 29 may also be a microlens structure or a matt structure, for example an anisotropic matt structure having a directional scattering behavior.
  • the relief structures 28 and 29 are preferably chosen such that the distance between elevations of these relief structures is greater than the structural depth of the relief structures. As a result, a weakening of the diffraction-optical effect produced by the thin-film layer 23 by the overlapping relief structures 28 and 29 is largely avoided.
  • FIGS. 11a and 11b show, by way of example, schematic representations of a section of the relief structures 28 (FIG. 11b) and 29 (FIG. 11a).
  • FIGS. 1, 2, 9, 10, 11a and 11b are schematic representations in which the size dimensions and the ratio of the size dimensions do not correspond to the actual conditions .
  • the security element Due to the design of the security element according to FIG. 10, it is achieved that in the region 36 for the viewer an overlay of the thin film layer 23 and from the relief structure 28 generated optical effects is recognizable. In regions 35 and 37 surrounding region 36, the optical effect produced by thin-film layer 23 is suppressed by relief structure 27, so that no optically variable security feature can be recognized by the viewer in this region. As a result, the area 36, in which both optical effects are superimposed, is precisely and sharply delimited from the surrounding areas 35 and 37, in which no optically variable security feature can be recognized. With appropriate design of the security feature generated by the relief structure 28, even small deviations of the overlapping security features are clearly recognizable, so that imitation by other technologies that do not offer this high degree of registration accuracy is immediately recognizable.
  • the observer is further given the viewing angle-dependent color shift effect produced by the thin-film layer 23.
  • an optical effect results for the viewer, which results from the superposition of the viewing angle-dependent color shift effect of the thin-film layer 23 and the optical effect generated by the relief structure 29. This results in a different viewing impression for the viewer in the areas 34, 35, 36, 37, 38 and 39, respectively.
  • a partially formed metal layer between the replication lacquer layer 22 and the thin film layer 23.
  • This partial metal layer is used to create areas in which the optical effect generated by the relief structures 28 and 29 should be decoupled from the optical effect generated by the thin-film layer 23.
  • the partial metal layer thus covers, for example, subregions of the region 36 and / or of the region 38.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement (13) in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, ein Sicherheitsdokument mit einem derartigen Sicherheitselemerit und io ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Sicherheitselements. Der Folienkörper weist eine Replizierlackschicht (22) und eine Dünnfilmschicht (23) zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz auf. In die Grenzfläche zwischen der Replizierlackschicht (22) und der Dünnfilmschicht (23) ist in einem ersten Bereich (35, 37) eine erste Reliefstruktur (27) abgeformt. Diese Reliefstruktur ist zur Unterdrückung der Erzeugung des Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht (23) eingerichtet, so dass in dem ersten Bereich (23, 27), in dem die erste Reliefstruktur (27) vorgesehen ist, der Farbverschiebungseffekl: nicht vorhanden ist und in einem zweiten Bereich (34, 36, 38, 39) des Sicherheitselernents (13), in dem die erste Reliefstruktur (27) nicht vorgesehen ist, der durch die Dünnfilmschicht (23) erzeugter Farbverschiebungseffekt vorhanden ist.

Description

Sicherheitselement in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, der eine Replizierlackschicht und eine Dünnfilmschicht zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufweist und bei dem in die Grenzfläche zwischen der Replizierlackschicht und der Dünnfilmschicht eine Reliefstruktur abgeformt ist. Die Erfindung betrifft weiter ein Sicherheitsdokument mit solch einem Sicherheitselement sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Sicherheitslements.
Optisch variable Sicherheitselemente werden häufig dazu verwendet, um das Kopieren und den Missbrauch von Dokumenten oder Produkten zu erschweren und wenn möglich zu verhindern. So finden optisch variable Sicherheitselemente häufig Verwendung zur Sicherung von Dokumenten, von Banknoten, von Kreditkarten, von Geldkarten und dergleichen. Hierbei ist es bekannt, ein optisch variables Element mit einem Dünnfilm auszustatten, der blickwinkelabhängige Farbverschiebungseffekte mittels Interferenz erzeugt.
Beispielsweise wird in WO 01/03945 A1 ein Sicherheitsprodukt beschrieben, das ein durchsichtiges Substrat aufweist, auf dessen einen Seite ein Dünnfilm aufgetragen ist, der eine wahrnehmbare Farbverschiebung abhängig von dem Blickwinkel des Betrachters erzeugt. Der Dünnfilm besteht hierbei aus einer Absorptionsschicht, die auf dem durchsichtigen Substrat aufgebracht ist, und aus einer Dielektrizitätsschicht, die auf der Absorptionsschicht aufgebracht ist. Die Absorptionsschicht enthält ein Material, das aus einem der folgenden Materialien oder aus einer Kombination dieser Materialien aufgebaut ist: Chrom, Nickel, Palladium, Titan, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Eisenoxid oder Kohlenstoff. Die Dielektrizitätsschicht besteht aus einem der folgenden Materialien oder einer Kombination der folgenden Materialien: Siliziumoxid, Aluminiumoxid, Magnesiumfluorid, Aluminiumfluorid, Bariumfluorid, Calciumfluorid oder Lithiumfluorid.
Zur weiteren Erhöhung der Kopiersicherheit ist auf der gegenüberliegenden Seite des transparenten Substrates ein Diffraktionsmuster aufgebracht. Dieses Diffraktionsmuster wirkt als Beugungsgitter, so dass sich mittels dieses zweidimensionalen Musters beispielsweise die Illusion eines dreidimensionalen Bildes für den Betrachter erzeugen lässt.
Weiter wird vorgeschlagen, das diffraktive Muster auf der Seite des transparenten Substrates aufzuprägen, auf der auch der Dünnfilm aufgebracht wird.
Durch diese beiden Ausführungsformen eines optisch variablen Sicherheitselements wird erreicht, dass sich an jeder Stelle des optisch variablen Elements die durch die Dünnfilmschicht erzeugten optischen Effekte und die durch das diffraktive Muster erzeugten optischen Effekte überlagern und sich damit insgesamt ein aus diesen beiden Effekten zusammengesetzter optischer Effekt ergibt, also beispielsweise die Überlagerung eines Farbverschiebungseffekts und eines Hologramms.
Weiter wird in WO 02/00445 A1 ein aus mehreren übereinander angeordneten
Schichten bestehendes optisch variables Sicherheitselement beschrieben, das einen Dünnfilm aufweist, der den bereits oben beschriebenen optischen Effekt eines blickwinkelabhängigen Farbwechsels erzeugt. Das optisch variable Sicherheitselement weist weiter eine Replizierschicht auf, in die eine Reliefstruktur eingeprägt ist. Diese Relief Struktur erzeugt einen weiteren optischen Effekt, nämlich den bereits oben beschriebenen Beugungseffekt, mittels dem sich Hologramme und dergleichen darstellen lassen. Fertigungstechnisch wird hierbei zuerst die Dünnfilmschicht auf die Replizierschicht aufgebracht und sodann die Relief Struktur aufgeprägt.
Zur Entkopplung der durch den Dünnfilm und die Reliefstruktur erzeugten optischen Effekte werden hierbei zwei Vorgehensweisen vorgeschlagen: Zum einen wird vorgeschlagen, eine opake Schicht zwischen der Reliefstruktur, die mittels Beugung ein holographisches Bild erzeugt, und dem Dünnfilm, der einen Farbwechsel erzeugt, aufzubringen. Mittels dieser opaken Schicht wird die Reliefstruktur von der Dünnfilmstruktur abgeschirmt. Die zweite Möglichkeit besteht darin, zwei oder mehr Schichten eines im wesentlichen transparenten Materials zwischen die ein holographisches Bild durch Beugung erzeugende Reliefstruktur und den Dünnfilm anzuordnen. Diese Schichten können ein oder mehrere hoch brechende Schichten und eine Klebeschicht umfassen. Mittels dieser Schichten wird die Reflexion und somit die Lichtstärke im Bereich der ein holographisches Bild erzeugenden Reliefstruktur erhöht und das holographische Bild tritt damit gegenüber dem Farbverschiebungeffekt des Dünnfilms hervor.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, die Herstellung eines optisch variablen Sicherheitselements, das einen Dünnfilm zur Erzeugung eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufweist, zu verbessern und ein verbessertes optisches Sicherheitselement mit einer derartigen Dünnfilmschicht anzugeben.
Die Aufgabe der Erfindung wird von einem Sicherheitselement in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers gelöst, der eine Replizierlackschicht und eine Dünnfilmschicht zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufweist und bei dem in einer
Grenzfläche zwischen der Replizierlackschicht und der Dünnfilmschicht in einem ersten Bereich des Sicherheitselements eine erste Reliefstruktur abgeformt ist, wobei die erste Reliefstruktur zur Unterdrückung der Erzeugung des Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht eingerichtet ist, so dass in dem ersten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Relief Struktur vorgesehen ist, der Farbverschiebungseffekt nicht vorhanden ist und in einem zweiten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Relief Struktur nicht vorgesehen ist, der durch die Dünnfilmschicht erzeugter Farbverschiebungseffekt vorhanden ist. Die Erfindung wird weiter von einem Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers gelöst, bei dem in eine Replizierlackschicht des mehrschichtigen Folienkörpers in einem ersten Bereich des Sicherheitselements eine erste Reliefstruktur abgeformt wird und auf die Replizierlackschicht weiter eine Dünnfilmschicht zum Erzeugen eines blickwinkelanhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufgebracht wird, wobei als erste Reliefstruktur in dem ersten Bereich des Sicherheitselements eine Reliefstruktur abgeformt wird, die die Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht unterdrückt, so dass in dem ersten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur vorgesehen ist, kein Farbverschiebungseffekt vorhanden ist und in einem zweiten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur nicht vorgesehen ist, ein durch die Dünnfilmschicht erzeugter Farbverschiebungseffekt vorhanden ist. Die Erfindung wird weiter von einem Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers gelöst, bei dem in eine Replizierlackschicht des mehrschichtigen Folienkörpers in einem ersten Bereich des Sicherheitselements eine erste Reliefstruktur abgeformt wird und auf die Replizierlackschicht weiter eine Dünnfilmschicht zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufgebracht wird, und bei dem als erste Relief Struktur in dem ersten Bereich des Sicherheitselements eine Reliefstruktur abgeformt wird, die die den durch die Dünnfilmschicht erzeugten
Farbverschiebungseffekt verändert, so dass in dem ersten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur vorgesehen ist, von der Dünnfilmschicht ein erster Farbverschiebungseffekt erzeugt wird und in einem zweiten Bereich des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur nicht vorgesehen ist, von der Dünnfilmschicht ein zweiter, sich von dem ersten
Farbverschiebungseffekt unterscheidender Farbverschiebungseffekt erzeugt wird.
Dünnfilmschichten zeichnen sich prinzipiell durch einen Interferenzschicht-Aufbau (Erfüllen der λ/2 oder λ/4 Bedingung) aus, der blickwinkelabhängige Farbverschiebungen erzeugt. Die Dünnfilmschicht kann hierbei als reflektives
Element oder als transmissives Element aufgebaut sein. Eine Dünnfilmschicht kann hierbei prinzipiell aus einer einzigen Schicht mit einem sehr hohen Brechungsindex (λ/2 oder λ/4 Schicht), drei oder mehr Dielektrizitäts-Schichten mit abwechselndem hohen und niedrigen Brechungsindex oder zwei oder mehr sich abwechselnden metallischen und dielektrischen Schichten bestehen. Die Dünnfilmschicht weist so beispielsweise eine metallische Absorptionsschicht (vorzugsweise mit 30 % bis 65 % Transmission), eine transparente Distanzschicht als farbwechselerzeugende Schicht (λ/2 oder λ/4 Schicht), eine Metallschicht als reflektierende Schicht (reflektives Element) oder eine optische Trennschicht (transmissives Element) auf. Genaugenommen geht die λ/2 oder λ/4 Bedingung hierbei davon aus, dass λ die Wellenlänge im Dünnfilm ist, so dass auch der Brechungsindex des Dünnfilms für die Erfüllung dieser Bedingung beachtlich ist. Im Fall der Reflexion (λ/4 Bedingung) ergibt sich für senkrecht einfallendes Licht eine konstruktive Interferenz des Lichts an einer Dünnfilmschicht, wenn die Dicke der Dünnfilmschicht %, %, ... der Wellenlänge λ des Lichts in dem Dünnfilm ist, allgemein wenn
Figure imgf000007_0001
ist. Hierbei ist λ0 die Wellenlänge in der Luft und λ die Wellenlänge in dem Dünnfilm, der einen Brechungsindex n besitzt.
Im Weiteren ist es hierbei auch möglich, dass der Brechungsindex eines Dünnfilms nicht konstant sondern auch komplexer sein kann (z. B. wellenlängenabhängig) und Zwischenschichten entsprechende Eigenfarben haben können, die sich blickwinkelabhängig nicht ändern und die den durch die Interferenz generierten Farbverschiebungseffekt überlagern können.
Für eine nicht senkrecht zur Ebene des Dünnfilms erfolgenden Lichteinfall gilt
2n cos 0
wobei θ der Einfallswinkel des Lichtes ist. Bei entsprechender Wahl der Dicke des Dünnfilms ergibt sich so der bereits oben erwähnte blickwinkelabhängiger Farbverschiebungseffekt.
Der Erfindung liegt hierbei der Gedanke zugrunde, mittels der Abformung einer geeigneten Reliefstruktur in die Grenzschicht zwischen einer Replizierlackschicht und der Dünnfilmschicht die Erzeugung des Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht im Bereich dieser Reliefstruktur zu unterdrücken und damit eine sehr kostengünstige, umweltfreundliche und präzise Möglichkeit der musterförmigen Strukturierung des Farbverschiebungseffekts zu schaffen.
Durch die Erfindung wird zum einen die Herstellung von Sicherheitselementen verbilligt, bei denen der von der Dünnfilmschicht erzeugte Farbverschiebungseffekt nicht vollflächig, sondern lediglich in einem Musterbereich oder in einem Hintergrundbereich vorgesehen sein soll. Durch die Erfindung werden bei der Herstellung derartiger Sicherheitselemente kostenintensive und umweltschädliche Prozess-Schritte eingespart. So entfallen beispielsweise die für die partielle Ausformung der Dünnfilmschicht notwendigen Druck-, Ätz- und Strip-Prozesse.
Weiter hat sich gezeigt, dass mittels der Erfindung sehr hohe Auflösungen erzielbar sind und damit Musterbereiche mit sehr feinen Konturen umgesetzt werden können. Mittels des erfindungsgemässen Verfahrens sind Auflösungen erzielbar, die um den Faktor 1000 besser als durch sonstige Verfahren erzielbare Auflösungen sind (z. B. bei einer Breite der Strukturelemente der ersten Reliefstruktur, die im Bereich der Wellenlänge aber auch unterhalb der Wellenlänge des sichtbaren Lichtes liegt). Damit werden auch in dieser Hinsicht grosse Vorteile gegenüber den bisher verwendeten Verfahren erzielt und es ist mit der Erfindung möglich, Sicherheitselemente mit höherer Kopier- und Fälschungssicherheit herzustellen.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen bezeichnet.
Es hat sich gezeigt dass Reliefstrukturen, die die Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht unterdrücken, sich durch ein hohes Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Relief Struktur auszeichnen.
Derartige Relief Strukturen besitzen eine wesentlich höhere effektive Oberfläche als übliche, für die Erzeugung von optischen Effekten in Sicherheitselementen abgeformte Reliefstrukturen. Hierdurch wird - gemäß eines vereinfachten Erklärungsmodells- die effektive Dicke der Dünnfilmschicht und damit auch die effektive Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht der Dünnfilmschicht erheblich reduziert, so dass die Distanzschicht durch die Reliefstruktur bedingt die λ/2 oder λ/4 Bedingung nicht mehr erfüllt. Es tritt so im Bereich dieser Reliefstruktur ein anderer Farbverschiebungseffekt - oder bei entsprechend hoher Reduzierung der effektiven Dicke der Distanzschicht - kein Farbverschiebungseffekt, d. h. kein für den Betrachter sichtbarer Farbverschiebungseffekt mehr auf. Der Betrachter nimmt in dem Bereich der Reliefstruktur einen anderen bzw. keinen blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekt mehr wahr. Der von dem Dünnfilm erzeugte Farbverschiebungseffekt wird so aufgrund der Reduzierung der effektiven Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht durch die Reliefstruktur von der Relief Struktur unterdrückt.
Wesentlich für das Auftreten dieses Effekts ist ein hohes mittleres Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur, das größer als 0,5 liegen sollte, sowie eine entsprechend kleine Beabstandung der Strukturelemente, die kleiner als 200 μm, bevorzugt kleiner als 10 μm (diffraktive Reliefstruktur) sein sollte. Die konkrete Wahl des Tiefen zu Breiten Verhältnisses ist hierbei von der konkreten Reliefstruktur und der Dünnfilmschicht, im wesentlichen von der Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht(en), abhängig und kann experimentell oder analytisch bestimmt werden, wie weiter unten an mehreren Ausführungsbeispielen gezeigt ist.
Untersuchungen haben gezeigt, dass ab einem Tiefen zu Breiten Verhältnis von 1 eine recht hohe Verringerung der effektiven Schichtdicke auftritt und diffraktive Reliefstrukturen mit einem Tiefen zu Breitenverhältnis im Bereich von 1 bis 10 besonders gut geeignet sind, um sicherzustellen, dass kein Farbverschiebungseffekt mehr im Bereich der ersten Reliefstruktur erzeugt wird.
Diese Reliefstrukturen können - wie bereits oben ausgeführt - nicht nur dazu verwendet werden zu erreichen, dass im Bereich der Relief Struktur kein Farbschiebungseffekt mehr von der Dünnfilmschicht erzeugt wird, sondern auch dazu verwendet werden, dass im Bereich der Reliefstruktur ein anderer Farbschiebungseffekt erzeugt wird, als der, der durch die Strukturparameter der Relief Struktur (Dicke der Distanzschicht) vorgegeben ist. Auch so lässt sich erreichen, dass sich der optische Eindruck in dem ersten Bereich von dem optischen Eindruck im zweiten Bereich, indem diese Relief Struktur nicht vorgesehen ist, deutlich unterscheidet. So zeigt sich beispielsweise im ersten Bereich ein blickwinkelabhängiger Farbverschiebungseffekt von Grün nach Blau und im zweiten Bereich ein blickwinkelabhängiger Farbverschiebungseffekt von Rot nach Grün.
Dieser Effekt kann hierbei auch dazu ausgenutzt werden, um durch geeignete Strukturierung eine Art Echt-Farben-Bild zu erzeugen, indem lokal das Aspektverhältnis (Tiefen zu Breiten Verhältnis der Strukturelemente) variiert wird, so dass lokal für jeden Bildpunkt des Echt-Farben-Bildes die Farbe durch die Wahl des Aspektverhältnisses eingestellt wird. So ist es beispielsweise möglich die Tiefe der Relief Struktur bei konstanter Gitterfrequenz gemäß der für den jeweiligen Bildpunkt vorzusehenden Farbe zu variieren.
Gemäss eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung bildet der erste oder der zweite Bereich einen in Form eines Logos, eines Textes oder eines Bildes ausgebildeten Musterbereich und der jeweilige andere der beiden Bereiche einen Hintergrundbereich, so dass der Musterbereich durch die unterschiedliche Wirkung der ersten und zweiten Bereiche klar hervortritt. Im zweiten Bereich ist hierbei bevorzugt eine zweite Relief Struktur in die Grenzfläche abgeformt, so dass sich im zweiten Bereich der von der zweiten Reliefstruktur generierte optische Effekt mit dem von der Dünnfilmschicht generierten optischen Effekt überlagert.
Es ist weiter möglich, dass sich beispielsweise ein feines Linienmuster, beispielsweise eine Guilloche, über die ersten und zweiten Bereiche erstreckt. Der besondere Vorteil der Verwendung der vorliegenden Erfindung liegt hierbei darin, dass dieses feine Linienmuster besonders filigran sein kann und es sich im Register mit allen diffraktiven Sicherheitsmerkmalen befinden kann. Beispielsweise hat der Musterbereich eine V-förmige Form, wobei der Hintergrundsbereich einen Farbwechseleffekt zeigt und der V-förmige Bereich keinen solchen Farbwechseleffekt zeigt. Weiter erstreckt sich eine Guilloche über Musterbereich und Hintergrundbereich. Im V-förmigen Musterbereich ist eine Reliefstruktur mit einem hohen Tiefen zu Breiten Verhältnis abgeformt. Eine Relief Struktur mit einem niedrigen Tiefen zu Breiten Verhältnis, bevorzugt mit einem Tiefen zu Breiten Verhältnis von kleiner als 0,2, wird dazu verwendet, um die Linien der Guilloche, die sich sowohl über den Muster als auch über den Hintergrundbereich erstrecken, zu bilden.
Die zweite Reliefstruktur wird hier bevorzugt von einer beugungsoptisch wirksamen Struktur, beispielsweise einem Hologramm oder einem KINEGRAM® gebildet. Es ist jedoch auch möglich, als Relief Struktur eine Makrostruktur oder eine Mattstruktur zu verwenden, die entsprechende optisch variable Effekte generieren.
Durch den Einsatz der Erfindung ist es hier möglich, Bereiche, in denen durch die Dünnfilmschicht ein blickwinkelabhängiger Farbverschiebungseffekt generiert wird, und Bereiche, in denen von einer vorzugsweise diffraktiven Struktur ein weiterer optisch variabler Effekt erzeugt wird, im Register übereinander anzuordnen und dadurch ein Sicherheitsmerkmal zu generieren, in dem sich die beiden oben geschilderten optischen Effekte passergenau überlagern. Ein derartiges Sicherheitsmerkmal kann durch das Aufbringen einer partiellen Dünnfilmschicht auf einer mit einer diffraktiven Struktur versehenen Replizierschicht nur sehr schwer nachgeahmt werden, da ein auf die diffraktive Struktur abgestelltes registerhaltiges Aufbringen oder Entfernen einer Dünnfilmschicht sehr hohe technologische Anforderungen stellt.
Gemäß eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispieles der Erfindung kann für den Betrachter ein kontinuierlicher Verlauf von einem Bereich, in dem ein starker Farbverschiebungseffekt für den Betrachter sichtbar ist, zu einem Bereich, in dem kein Farbverschiebungseffekt mehr für den Betrachter sichtbar ist, erzeugt werden. Hierzu wird nach Art eines Grautonbildes die Stärke des lokalen Farbverschiebungseffektes durch einen lokalen "Grauwert" bestimmt. Der lokale "Grauwert" bestimmt sich hierbei durch den lokalen Flächenteilanteil der ersten Relief Struktur. Aufgrund der mittels der Erfindung erzielbaren hohen Auflösungen lassen sich so mittels der Erfindung "Farbshift-Bilder" generieren. Die Generierung derartiger "Farbshift-Bilder" mittels eines partiellen Auftrags der Dünnfilmschicht ist im Gegensatz hierzu nur sehr schwer und mit sehr hohem technologischen Aufwand erreichbar. Die "Graustufe" eines "Farbshift-Bildes" wird hierbei bevorzugt durch das Verhältnis von ersten Rasterbereichen, in denen die erste Relief Struktur abgeformt ist, und zweiten Rasterbereichen, in denen die erste Reliefstruktur nicht abgeformt ist, bestimmt. Die Abmessung der einzelnen Rasterbereiche beträgt hierbei bevorzugt weniger als 300 μm, bevorzugt etwa 50 μm.
Es ist hierbei möglich, die Dünnfilmschicht als transmissive Dünnfilmschicht oder als reflektive Dünnfilmschicht auszugestalten und die Dünnfilmschicht aus mehreren dielektrischen Schichten, mehreren dielektrischen und metallischen Schichten oder einer Perlglanzschicht aufzubauen. Weiter ist es möglich, eine partielle Relexionsschicht zwischen der Replizierlackschicht und der Dünnfilmschicht anzuordnen und hierdurch Bereiche zu erzeugen, in denen beispielsweise lediglich ein reflektiver beugungsoptischer Effekt sichtbar ist. Auch ist es möglich, auf eine vollflächig transparente Dünnfilmschicht eine partielle reflektive Schicht aufzubringen, um damit ein Sicherheitselement mit transmissiven und reflektiven Bereichen bereitzustellen. Durch diese Varianten oder eine Kombination dieser Varianten ist es möglich, komplexe und optisch ansprechende Sicherheitselemente basierend auf dem Grundgedanken der Erfindung zu verwirklichen.
Als Reliefstruktur, die zur Unterdrückung oder Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht eingerichtet ist, wird vorzugsweise eine diffraktive Struktur mit einem hohen Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Relief Struktur eingesetzt. Hierbei hat sich gezeigt, dass sich vor allem bei einem Tiefen zu Breiten Verhältnis von 0,75 bis 5 gute Ergebnisse erzielen lassen. Auch Tiefen zu Breiten Verhältnisse mit einem Faktor 10 sind möglich.
Gemäss eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung wird für die Relief Struktur, die zur Unterdrückung der Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht eingerichtet ist, eine Reliefstruktur verwendet, bei der die Tiefe der Relief Struktur sowohl in x- als auch in y-Richtung variiert wird, bei der der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen der Relief Struktur kleiner als die mittlere Profiltiefe der Relief Struktur ist und bei der benachbarte Erhebungen der Reliefstruktur weniger als 200 μm voneinander entfernt sind und damit unter dem Auflösungsvermögen des menschlichen Auges liegen. Bei derartigen Strukturen kann es sich auch um Strukturen mit einem stochastischen Oberflächenprofil handeln, die die obigen Bedingungen erfüllen. Derartige Strukturen lassen sich besonders gut mittels eines UV-Replizierverfahrens verwirklichen.
Bevorzugt werden als derartige Relief Strukturen jedoch Reliefstrukturen verwendet, die eine periodische Funktion der Koordinaten x und y sind, bei denen die Tiefe der Relief Struktur sowohl in x- als auch in y-Richtung periodisch variiert wird und bei denen die Periodenlänge in x- und in y-Richtung kleiner oder gleich der Strukturtiefe der Relief Struktur sind. Eine vorteilhafte Ausführungsform einer derartigen Relief Struktur besteht aus einem aus zwei im wesentlichen rechtwinkelig zueinander angeordneten Basisgittern zusammengesetzten Kreuzgitter, bei dem die Periodenlänge der Basisgitter kleiner oder gleich der Strukturtiefe der ersten Reliefstruktur sind.
Besonders gute Ergebnisse lassen sich bei den oben beschriebenen Relief Strukturen erzielen, wenn der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen bzw. mindestens eine der Periodenlängen kürzer als die Grenzwellenlänge des sichtbaren Lichtes ist.
Weiter hat es sich gezeigt, dass sich besonders gute Ergebnisse dann erzielen lassen, wenn die Dünnfilmschicht mittels Sputtern oder Aufdampfen nach Abformung der oben beschriebenen Reliefstrukturen auf die Replizierlackschicht aufgebracht wird. Die Dünnfilmschicht wird hierbei im ersten und im zweiten Bereich in gleicher Weise und damit mit gleicher nomineller Flächendichte aufgebracht.
Ein erfindungsgemässes Sicherheitselement wird vorzugsweise zur Sicherung von Banknoten, Kreditkarten, Geldkarten, Dokumenten oder Waren eingesetzt. Das Sicherheitselement wird hierbei bevorzugt von einem mehrschichtigen Folienkörper gebildet, der eine Transferfolie, insbesondere eine Heissprägefolie, oder eine Laminierfolie bildet.
Im Folgen wird die Erfindung anhand von mehreren Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der beiliegenden Zeichnungen beispielhaft verdeutlicht. Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung eines erfindungsgemässen Sicherheitselements.
Fig. 2 zeigt eine schematische Darstellung eines Sicherheitsdokuments mit einem erfindungsgemässen Sicherheitselement.
Fig. 3 zeigt eine graphische Darstellung der Funktion ε = f(h, d).
Fig. 4 zeigt eine schematische Schnittdarstellung einer Reliefstruktur mit hohem Tiefen zu Breiten Verhältnis.
Fig. 5a zeigen in schematischen Schnittdarstellungen Relief Strukturen mit bis 5d unterschiedlichem Tiefen zu Breiten Verhältnis.
Fig. 6 zeigt eine graphische Darstellung der Abhängigkeit des Reflexionsgrades eines Ausführungsbeispiels einer Dünnfilmschicht von der Wellenlänge des einfallenden Lichtes und der effektiven Dicke.
Fig. 7 zeigt eine graphische Darstellung der Abhängigkeit des Reflexionsgrades der Dünnfilmschicht in Fig. 6 in Abhängigkeit von der Wellenlänge und dem Einfallswinkel OR-polarisierten Lichtes.
Fig. 8a bis Fig. 8c zeigen jeweils eine bildliche Darstellung einer Draufsicht auf ein erfindungsgemässes Sicherheitselement.
Fig. 9 zeigt eine schematische Darstellung einer Relief Struktur zur Verwendung in einem erfindungsgemässen Sicherheitselement.
Fig. 10 zeigt eine schematische Darstellung eines erfindungsgemässen Sicherheitselements für ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig. 11a und
Fig. 11 b zeigen schematische Darstellungen von Reliefstrukturen, die in dem Sicherheitselement nach Fig. 10 verwendet werden.
Fig. 1 zeigt ein Sicherheitselement 11 in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, der eine Trägerfolie 10, eine Ablöseschicht 20, eine Schutzlackschicht 21 , eine Replizierlackschicht 22, eine Dünnfilmschicht 23 und eine Klebeschicht 24 aufweist.
Bei dem Sicherheitselement 11 handelt es sich um eine Prägefolie, insbesondere um eine Heissprägefolie. Es ist jedoch auch möglich, das Sicherheitselement 11 als Laminierfolie oder Stickerfolie auszugestalten.
Die Trägerschicht 10 besteht beispielsweise aus einer PET- oder POPP-Folie einer Schichtdicke von 10 μm bis 50 μm, vorzugsweise mit einer Dicke von 19 μm bis 23 μm. Auf die Trägerfolie werden sodann mittels einer Tiefdruck-Rasterwalze die Ablöseschicht 20 und die Schutzlackschicht 21 aufgebracht. Die Ablöse- und Schutzlackschichten 20 und 21 haben hierbei vorzugsweise eine Dicke von 0,2 bis 1,2 μm. Auf diese Schichten könnte auch verzichtet werden.
Sodann wird die Replizierlackschicht 22 aufgebracht.
Die Replizierlackschicht 22 besteht vorzugsweise aus einem strahlenvernetzbarem Replizierlack. Bevorzugt wird ein UV-Replizierverfahren zur Abformung der Reliefstrukturen 25 und 26 in der Replizierlackschicht 22 eingesetzt. Als Replizierlack wird hierbei ein UV-härtbarer Lack verwendet. Das Einbringen der Reliefstrukturen 25 und 26 in die UV-vernetzbare Replizierlackschicht erfolgt hierbei beispielsweise durch UV-Bestrahlung bei der Abformung der Relief Struktur in die noch weiche oder flüssige Lackschicht oder durch partielle Bestrahlung und Aushärtung der UV- vernetzbaren Lackschicht. Anstelle eines UV-vernetzbaren Lackes kann hierbei auch ein sonstiger strahlenvernetzbarer Lack eingesetzt werden.
Weiter ist es auch möglich, dass die Replizierlackschicht 22 aus einem transparenten, thermoplastischen Kunststoffmaterial besteht. In die Replizierlackschicht 22 wird anschliessend mittels eines Prägewerkzeuges eine oder mehrere Relief Strukturen, beispielsweise die Reliefstrukturen 25 und 26, eingeprägt.
Die Dicke, die für die Replizierlackschicht 22 zu wählen ist, wird von der für die Reliefstrukturen 25 und 26 gewählten Profiltiefe bestimmt. Es muss sichergestellt sein, dass die Replizierlackschicht 22 über eine ausreichende Dicke verfügt, um ein Abformen der Reliefstrukturen 25 und 26 zu ermöglichen. Vorzugsweise besitzt die Replizierlackschicht 22 hierbei eine Dicke von 0,3 bis 1,2 μm.
Beispielsweise wird die Replizierlackschicht 22 mittels einer Linienraster- Tiefdruckwalze vollflächig mit einem Auftragegewicht von 2,2 g/m2 vor Trocknung auf die Schutzlackschicht 21 aufgebracht. Als Replizierlack wird hierbei ein Lack folgender Zusammensetzung gewählt:
Komponente Gewichtsanteil
Hochmolekulares PMMA-Harz 2000 Silikonalcyd ölfrei 300
Nichtionisches Netzmittel 50
Niedrigviskose Nitrocellulose 12000
Toluol 2000
Diaceton-Alkohol 2500
Anschliessend wird die Replizierlackschicht 22 in einem Trockenkanal bei einer Temperatur von 100 bis 120 °C getrocknet.
Sodann werden in die Replizierlackschicht 22 die Reliefstrukturen 25 und 26 beispielsweise mittels einer aus Nickel bestehenden Matrize bei etwa 130 °C eingeprägt. Zum Einprägen der Relief Strukturen 25 und 26 wird die Matrize vorzugsweise elektrisch aufgeheizt. Vor dem Abheben der Matrize von der Replizierlackschicht 22 nach Prägung kann die Matrize hierbei wieder abgekühlt werden. Nach Einprägen der Relief Strukturen 25 und 26 erhärtet der Replizierlack der Replizierlackschicht 22 durch Vernetzung oder in sonstiger Weise.
Weiter ist es auch möglich, die Reliefstrukturen 25 und 26 durch ein Ablationsverfahren in die Replizierlackschicht 22 einzubringen.
Bei den Reliefstrukturen 25 und 26 handelt es sich hierbei um Reliefstrukturen, die die Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht 23 unterdrücken.
Strukturen, die diese Wirkung zeigen, besitzen ein hohes Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur und damit eine um ein Vielfaches höhere effektive Oberfläche als übliche, für die Erzeugung von optischen Effekten in Sicherheitselementen abgeformte Reliefstrukturen.
Hierdurch wird - gemäß eines vereinfachten Erklärungsmodells- die effektive Dicke der Dünnfilmschicht und damit auch die effektive Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht der Dünnfilmschicht erheblich reduziert, so dass ein anderer Farbverschiebungseffekt - oder bei entsprechend hoher Reduzierung der effektiven Dicke der Distanzschicht - kein Farbverschiebungseffekt mehr auftritt, da die Distanzschicht durch die Reliefstruktur bedingt die λ/2 oder λ/4 Bedingung nicht mehr erfüllt.. D.h. der Betrachter nimmt in dem Bereich der Reliefstruktur einen anderen bzw. keinen blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekt mehr wahr. Der von dem Dünnfilm erzeugte Farbverschiebungseffekt wird so aufgrund der Reduzierung der effektiven lokalen Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht durch die Relief Struktur von der Relief Struktur unterdrückt.
Wesentlich für das Auftreten dieses Effekts ist ein hohes mittleres Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur, das größer als 0,5 liegen sollte, sowie eine entsprechend kleine Beabstandung der Strukturelemente, die kleiner als 200μm, bevorzugt kleiner als 10μm (diffraktive Relief Struktur) sein sollte. Die konkrete Wahl des Tiefen zu Breiten Verhältnisses ist hierbei von der konkreten Relief Struktur und der Dünnfilmschicht, im wesentlichen von der Dicke der den Farbwechsel erzeugenden Distanzschicht(en), abhängig und kann experimentell oder analytisch bestimmt werden, wie dies die folgenden Beispiele zeigen:
Um das Erzeugen eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht sicher zu unterdrücken, ist es vorteilhaft, dass es sich bei den Reliefstrukturen 25 und 26 nicht um ein einfaches Gitter handelt, bei der die Tiefe der Reliefstruktur lediglich in einer Richtung periodisch variiert wird, sondern dass die Tiefe der Reliefstruktur in zwei Richtungen, beispielsweise in Richtung zweier unterschiedlicher, die Grenzflächen zwischen der Replizierlackschicht 22 und der Dünnfilmschicht 23 aufspannender Vektoren variiert wird. Auch dadurch wird die sich ergebende effektive Oberfläche der Reliefstrukturen 25 und 26 erheblich gegenüber üblichen, für die Erzeugung von optischen Effekten verwendeten Relief Strukturen, erhöht.
Weiter hat es sich gezeigt, dass sich auch mit linearen Gittern eine erhebliche Erhöhung der effektiven Oberfläche der Relief Struktur und damit gute Ergebnisse erzielen lassen: Die effektive Oberfläche S in einem Bereich R, dessen Strukturtiefe durch die Funktion z = f von (x,y) bestimmt wird, kann durch folgende Gleichung beschrieben werden:
Figure imgf000018_0001
Ein Kreuzgitter mit einer Periode d und einer Profiltiefe h kann beispielsweise durch folgende Funktion beschrieben werden:
Figure imgf000018_0002
Wenn die Perioden x und y identisch sind, ergeben sich hieraus folgende partiellen Differentialquotienten: fx =i-hsmX — ox d M
Figure imgf000018_0003
Die effektive Oberfläche ist damit durch folgende Gleichung bestimmt:
Figure imgf000019_0001
Diese Gleichung lässt sich nicht auf einfachem Wege analytisch lösen. Durch numerische Lösung dieser Gleichung wurde jedoch überraschend festgestellt, dass der Faktor ε, der angibt, in welcher Weise sich die effektive Oberfläche abhängig von dem Tiefen zu Breiten Verhältnis ändert, sich signifikant erhöht, wenn das Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d > als 1 ist.
Durch die Reliefstruktur wird die Dicke t in Bezug auf die nominale Dicke t0 (Dicke in „flachen" Bereichen) durch das Dickenverhältnis ε bzw. seinen Kehrwert, den Dickenreduktionsfaktor 1/ε, wie folgt beeinflusst:
* = -*-
Tabelle 1 gibt sowohl für das Dickenverhältnis ε als auch für den Dickenreduktionsfaktor 1/ ε eines Kreuzgitters die Zahlenwerte für das Tiefen zu Breiten Verhältnis 0 < h/d < 5 an.
Z. B. wird bei h = 2d, d.h. wenn die Profiltiefe die zweifache Gitterperiode ist, die effektive Oberfläche durch den Faktor ε = 3,5 vergrößert. Die effektive Dicke t wird damit um den Dickenreduktionsfaktor 1/ε = 1/3,5 auf ca. 28% der nominalen Dicke t0 verringert. Bei einer Relief Struktur mit einem Tiefen zu Breiten Verhältnis von 2 beträgt die effektive Dicke der Dünnfilmschicht so Vε =0,3 to, d.h. die Dünnfilmschicht hat in diesem Bereich nur ein Drittel der Dicke der Dünnfilmschicht in einem flachen Bereich.
Figure imgf000019_0002
Figure imgf000020_0001
Tabelle 1
Fig. 3 stellt die Zahlenwerte aus Tabelle 1 in einer graphischen Darstellung dar und zeigt die Abhängigkeit des Dickenverhältnisses ε von dem Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d.
Fig. 4 zeigt nun in einer schematischen Schnittdarstellung eine Schicht 230 mit Bereichen 310 und 320 mit unterschiedlichen Relief Strukturen, die mit einer Dünnfilmschicht 230s versehen sind. Die Dünnfilmschicht weist in den flachen Bereichen 320, die mit glatter Oberfläche ausgebildet sind, die nominale Dicke t0auf und in dem Bereich 310, der mit einem hohen Tiefen zu Breiten Verhältnis ausgebildet ist, die geringere Dicke t auf. Die Fig. 5a bis 5d zeigen in schematischen Darstellungen die Auswirkung des Tiefen zu Breiten Verhältnisses auf die effektive lokale Dicke t. Die Reliefstruktur der Schicht 230 weist bei wechselnder Tiefe h eine konstante Breite d = 350 nm auf. Die Dünnfilmschicht 230s ist mit der nominalen Dicke t0 = 40 nm ausgebildet. In Fig. 5a ist die Schicht 230 glatt ausgebildet. Die Dünnfilmschicht 230s weist deshalb die maximale Dicke auf, nämlich die nominale Dicke to = 40 nm. Fig. 5b zeigt nun die Schicht 230 mit einer Reliefstruktur, deren Tiefe h = 100 nm ist. Das Tiefen zu Breiten Verhältnis ist h/d = 0,29. Es handelt sich hierbei um eine Relief Struktur mit niedrigem Tiefen zu Breiten Verhältnis. Die auf den Flanken der Relief Struktur ausgebildete Dicke der Dünnfilmschicht 230d ist nur geringfügig kleiner als die nominale Dicke t0.
Fig. 5c zeigt die Schicht 230 nun mit einer Relief Struktur, deren Tiefe h = 400 nm ist, d.h. viermal größer als die Tiefe der in Fig. 5b dargestellten Reliefstruktur. Das Tiefen zu Breiten Verhältnis ist nun h/d = 1 ,14. Die auf den Flanken der Reliefstruktur ausgebildete Dicke der Dünnfilmschicht 230d ist nun wesentlich kleiner als die nominale Dicke t0.
Fig. 5d zeigt die Schicht 230 mit einer Reliefstruktur, deren Tiefe h = 800 nm ist. Das Tiefen zu Breiten Verhältnis ist deshalb h/d = 2,3. Die auf den Flanken der Relief Struktur ausgebildete Dicke der Dünnfilmschicht 230d ist nochmals gegenüber der Dicke der in Fig. 5c dargestellten Reliefstruktur verringert.
Fig. 6 zeigt nun in einer graphischen Darstellung die rechnerisch mit dem Computerprogramm „Gsolver" ermittelte Abhängigkeit des Reflexionsvermögens einer Dünnfilmschicht von der Wellenlänge λ des einfallenden Lichtes und der effektiven Dicke t.
Die Dünnfilmschicht ist als ein Dünnfilmschichtsystem mit einer Si02-Schicht mit einer Dicke von 275 nm ausgebildet, die zwischen zwei Ti02- Schichten mit jeweils einer Dicke von 70 nm angeordnet ist. Die Si02-Schicht bildet hierbei die für den Farbwechsel verantwortliche Distanzschicht, die die λ/2 oder λ/4 Bedingung zur Erzeugung des Interferenzeffektes erfüllt. Die nominale Dicke to der Dünnfilmschicht beträgt also t0 = (70 + 275 + 70) nm = 415 nm. Die Dünnfilmschicht ist auf einem Kunststoffsubstrat, das eine Brechzahl von 1 ,5 aufweist, angeordnet und grenzt an Luft.
Das Kunststoffsubstrat weist Reliefstrukturen auf, die unterschiedliche effektive Dicken t der Dünnfilmschicht bewirken. Wie in Fig. 6 zu sehen ist, sind die reflektierten Farben um so mehr zur Farbe Blau verschoben, je dünner die Dünnfilmschicht ausgebildet ist.
Wie weiter in Fig. 6 zu sehen ist, erscheint die Dünnfilmschicht größtenteils transparent, wenn die effektive Dicke t < 100 nm ist.
Dies korrespondiert für einen Dünnfilm mit einem Farbverschiebungseffekt am unteren Ende des Spektrums des sichtbaren Lichts (Rot) mit einem Dickenreduktionsfaktor 1/ ε = t/t0 = 100 nm/415 nm = 0,24. Durch Vergleich mit der oben aufgeführten Tabelle 1 und Fig. 3 folgt daraus, dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d > 2,4 sein muss, um den Dickenreduktionsfaktor ε = 4,15 zu erhalten.
Weiter ist zu erkennen, dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis zur Ausbildung von Transparenz im Vergleich zu rotem Licht kleiner sein kann, wenn es sich um grünes oder blaues Licht handelt. Weiter ist das Ergebnis auch Abhängig vom Betrachtungswinkel. Das Tiefen zu Breiten Verhältnis sollte so für einen Farbverschiebungseffekt am oberen Ende des Spektrums des sichtbaren Lichts h/d > 0,5 sein. Da, wie bereits oben dargestellt, eine starke Verringerung der effektiven Dicke des Dünnfilms ab einem Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d 1 eintritt, wird das Tiefen zu Breiten Verhältnis im Regelfall 1 zu wählen sein, um den Farbwechseleffekt im Bereich der Relief Struktur sicher zu unterdrücken.
Fig. 7 zeigt nun in einer graphischen Darstellung die mit dem Computerprogramm „Gsolver" berechnete Abhängigkeit des Reflexionsgrades R von der Wellenlänge und von dem Einfallswinkel OR-polarisierten Lichtes. Es wurde die vorstehend in Fig. 6 beschriebene Dünnfilmschicht zugrunde gelegt. Es ist in Fig. 7 zu erkennen, dass mit wachsendem Einfallswinkel des Lichtes eine Farbverschiebung des Reflexionsgrades in Richtung Blau eintritt. Es ist davon auszugehen, daß auch hier bei einem Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d > 2,4 die Dünnfilmschicht - oder bereits bei einem kleineren Tiefen zu Breiten Verhältnis (siehe oben) - transparent erscheint.
Ein Liniengitter einer Periode d und einer Profiltiefe h kann durch folgende Gleichung beschrieben werden: πx f(x,y) = hsϊ_: ~d
Hieraus ergeben sich folgende partiellen Differentialquotienten:
Figure imgf000023_0001
Die effektive Oberfläche kann so durch folgende Gleichung beschrieben werden:
Figure imgf000023_0002
2d2 π * 2*-X
E (oή repräsentiert hierbei das gesamte elliptische Integral zweiter Ordnung.
Auch hier haben numerische Lösungen dieser Gleichung überraschend gezeigt, dass sich der Faktor ε signifikant erhöht, wenn das Tiefen zu Breiten Verhältnis h/d > 1 ist. Überraschenderweise hat sich hier weiter gezeigt, dass die Erhöhung des Faktors ε bei einem Lineargitter größer als bei dem vorher betrachteten Kreuzgitter mit demselben Tiefen zu Breiten Verhältnis ist.
Beispielsweise ergibt sich bei einem Tiefen zu Breiten Verhältnis h = 2d ein Faktor ε = 4,2, der größer als der Wert für das oben betrachtete Kreuzgitter ist.
Bezüglich der Wahl des Tiefen zu Breiten Verhältnisses zur Unterdrückung des Farbverschiebungseffekts gelten die obigen Überlegungen sinngemäß.
Der beschriebene Effekt der Transparenz der Dünnfilmschicht in Bereichen mit hohem Tiefen zu Breiten Verhältnis ist nicht auf die vorstehend beschriebene Ausbildung der Dünnfilmschicht beschränkt. In einem zweiten Ausführungsbeispiel einer Dünnfilmschicht kann es sich um eine Dünnfilmschicht handeln, die aus einer Ti02-Schicht (Distanzschicht) mit einer Dicke von 275 nm besteht und die zwischen zwei Kunststoffschichten angeordnet ist, die beispielsweise eine Brechzahl von 1 ,5 aufweisen. In einem dritten Ausführungsbeispiel kann es sich um drei Schichten handeln, die zwischen zwei Kunststoffschichten angeordnet sind, und zwar um eine Cr-Schicht mit einer Dicke von 8 nm, eine MgF2-Schicht mit einer Dicke von 215 nm und eine AI-Schicht mit einer Dicke von 50 nm.
Vorzugsweise ist vorgesehen, daß es sich bei den Relief Strukturen um
Reliefstrukturen handelt, deren Periode d, d.h. deren Abstand zwischen zwei Erhebungen zu d < λ oder noch weiter vorzugsweise zu d < λ/2 gewählt ist, wobei λ vorzugsweise die Wellenlänge des bei senkrechter Betrachtung auftretenden Farbeffekts ist. Auf diese Weise kann sichergestellt werden, dass im Bereich der Relief Struktur keinen Diffraktionseffekte auftreten, die das Erscheinungsbild für den menschlichen Betrachter beeinflussen. Der Bereich des sichtbaren Lichts liegt zwischen 450nm und 670nm. Für die Wellenlänge λ = 555 nm, für die das menschliche Auge am empfindlichsten ist, sollte deshalb d < 555 nm sein. Untersuchungen haben gezeigt, dass störende Diffraktionseffekte weitgehend verhindert werden können, wenn d < 450 nm ist, bevorzugt im Bereich von 300 nm - 350 nm liegt.
Fig. 9 zeigt nun eine schematische Darstellung eines Ausschnitts einer für die Reliefstruktur 25 verwendbaren Relief Struktur, die zur Unterdrückung der Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht 23 eingerichtet ist.
Wie in Fig. 9 dargestellt, handelt es sich bei der Reliefstruktur 25 um eine periodische Funktion f (x, y), wobei zwei Pfeile 257 und 258 in Fig. 4 die zugehörigen Koordinaten-Achsen repräsentieren. Die Funktion f (x, y) variiert die Tiefe der Reliefstruktur 25 periodisch, beispielsweise sinusförmig, sowohl in x- als auch in y- Richtung. Dadurch ergibt sich das in Fig. 4 dargestellte Reliefprofil mit einer Vielzahl von Erhebungen, beispielsweise den Erhebungen 254, 255 und 256, die jeweils eine Periodenlänge der Funktion f (x, y) voneinander entfernt sind, beispielsweise in x- Richtung eine Periodenlänge 253 voneinander entfernt sind und in y-Richtung eine Periodenlänge 252 voneinander entfernt sind. Die Periodenlängen 252 und 253 sind hierbei so gewählt, dass sie kleiner oder gleich der Strukturtiefe der Reliefstruktur 25, nämlich kleiner als eine Strukturtiefe 251 , sind.
Die in Fig. 9 gezeigte Relief Struktur 25 hat so beispielsweise Periodenlängen 252 und 253 von 330 nm und eine Strukturtiefe von mehr als 500 nm.
Es ist hierbei auch möglich, sowohl die Profilform, die Periodenlängen 252 und 253 und die Profiltiefe 251 abweichend von der Darstellung nach Fig. 9 zu gestalten. Wesentlich ist hierbei, dass wenigstens eine der Periodenlängen 252 und 253 kleiner oder gleich der Strukturtiefe 251 sind und dass die Periodenlängen 252 und 253 weniger als 200 μm (Auflösungsgrenze des menschlichen Auges) voneinander entfernt sind. Besonders gute Ergebnisse werden erzielt, wenn wenigstens eine der Periodenlängen 252 und 253 kleiner als die Grenzwellenlänge des sichtbaren Lichtes ist.
Weiter ist es auch möglich, die Unterdrückung der Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht mittels Reliefstrukturen zu erzielen, die ein komplexes Oberflächenprofil mit Erhebungen und Vertiefungen unterschiedlicher Höhe aufweisen. Bei derartigen Oberflächenprofilen kann es sich hierbei auch um stochastische Oberflächenprofile handeln. Bei derartigen Oberflächenprofilen wird eine Unterdrückung des Farbverschiebungseffekts in der Regel erreicht, wenn der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen der Relief Struktur kleiner als die mittlere Profiltiefe der Reliefstruktur ist und benachbarte Erhebungen der Relief Struktur weniger als 200 μm voneinander entfernt sind. Liegt der von der der Dünnfilmschicht generierte Farbverschiebungseffekt im Bereich von Grün oder Blau, so ist eine Unterdrückung des Effekts -wie bereits oben für periodische Strukturen gezeigt - in der Regel durch ein mittleres Tiefen zu Breiten Verhältnis erzielbar, das größer als 0,5 ist. Bevorzugt wird hierbei der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen kleiner als 30 μm gewählt, so dass es sich bei der Reliefstruktur um eine spezielle diffraktive Reliefstruktur handelt.
Weiter ist es vorteilhaft, Kombinations-Strukturen wie eine Kombinations-Struktur aus Mikro- und Makro-Struktur zu verwenden, bei denen eine grobe und tiefe erste Struktur von einer feinen und hochfrequenten zweiten Struktur überlagert wird. Beispiele derartiger Kombinations-Strukturen sind eine grobe asymmetrische Struktur mit einem feinen Sinusgitter oder eine grobe Dreieckstruktur mit einem feinen Sinusgitter. Es hat sich gezeigt, dass mittels einer derartigen Kombinations-Struktur die oben beschriebenen Anforderungen zur Erzielung einer guten Unterdrückung des Farbverschiebungseffekts leichter erzielbar sind.
Die Dünnfilmschicht 23 zeichnet sich prinzipiell durch einen Interferenzschicht- Aufbau aus, der blickwinkelabhängige Farbverschiebungen erzeugt. Die Dünnfilmschicht 23 kann hierbei als reflektives Element oder als transmissives Element aufgebaut sein. Nähere Angaben zu für die Dünnfilmschicht 23 verwendbaren Dünnfilmschichtsystemen sind beispielsweise dem Kapitel 13 des Buches „Optical document security", R.L. van Renesse, ed., Artech House, London, von J.A. Dobrowolski zu entnehmen. Für den Aufbau der Dünnfilmschicht 23 bestehen hierbei folgende prinzipielle Möglichkeiten:
Die Dünnfilmschicht weist so beispielsweise eine Absorptionsschicht (vorzugsweise mit 30 % bis 65 % Transmission), eine transparente Distanzschicht als farbwechselerzeugende Schicht (λ/2 oder λ/4 Schicht), eine Metallschicht als reflektierende Schicht (reflektives Element) oder eine optische Trennschicht
(transmissives Element) auf. Hierbei ist es auch möglich, dass die Klebeschicht 24 als optische Trennschicht wirkt, wenn deren Brechungsindex sich deutlich von dem Brechungsindex der Distanzschicht unterscheidet. Wirkt die Dünnfilmschicht 23 als reflektives Element, so ist die Schichtdicke der Distanzschicht so zu wählen, dass die λ/4 Bedingung erfüllt ist. Wirkt die Dünnfilmschicht 23 als transmissive Schicht, hat die Distanzschicht die λ/2 Bedingung zu erfüllen.
Eine derartige Dünnfilmschicht wird beispielsweise von einem Dünnfilmschichtsystem gebildet, das aus ein oder mehreren dielektrischen und metallischen Schichten aufgebaut ist. Beispielsweise besteht die Dünnfilmschicht 23 so aus einer
Chromschicht einer Dicke von 8 nm, einer MgF2-Schicht einer Dicke von 215 nm und einer AI-Schicht einer Dicke von 50 nm. Weiter ist es auch möglich, die Dünnfilmschicht 23 aus einer Abfolge von hoch und niedrig brechenden Schichten aufzubauen. Eine derartige Dünnfilmschicht besteht beispielsweise aus mehreren aufeinanderfolgenden dielektrischen Schichten mit unterschiedlichem Brechungsindex. Beispielsweise besteht die Dünnfilmschicht 23 aus einer Tiθ2-Schicht einer Dicke von 70 nm, einer Si02-Schicht einer Dicke von 275 nm als farbwechselerzeugende Distanzschicht und einer Ti02-Schicht von 70 nm. Eine derartige Dünnfilmschicht besteht aus eine Abfolge von drei bis neun solcher Schichten (ungeradzahlige Anzahl) oder einer Anzahl von zwei bis zehn solcher Schichten (geradzahlige Anzahl). Je höher die Anzahl der Schichten ist, um so schärfer lässt sich die Wellenlänge für den Farbwechsel einstellen.
Weiter ist es auch möglich, dass die Dünnfilmschicht 23 aus einer einzigen Schicht eines Metalloxids mit hohem Brechungsindex besteht, beispielsweise aus einer Ti02- Schicht einer Dicke von 275 nm besteht. Derartige Dünnfilmschichten werden auch als Perlglanzschichten bezeichnet. In diesem Falle hat die Schichtdicke der
Dünnfilmschicht die λ/4 oder λ/2 Bedingung 'e nach dem, ob es sich um reflektives oder transmissives Element handelt) zu erfüllen.
Bevorzugt werden die Schichten der Dünnfilmschicht 23 mittels Sputtern vollflächig auf die Replizierlackschicht 22 aufgebracht. Je nach dem, ob es sich bei der Dünnfilmschicht 23 um ein reflektives Element oder ein transmissives Element handeln kann, umfasst die Dünnfilmschicht 23 hierbei eine Reflexionsschicht, die vorzugsweise aus einer dünnen metallischen Schicht, beispielsweise aus AI, Ag, Cr, Ni, Cu, Au oder einer Kombination dieser Metalle aufgebaut ist.
Anschliessend wird die Klebeschicht 24 auf die Dünnfilmschicht 23 aufgebracht. Bei der Klebeschicht 24 handelt es sich vorzugsweise um eine Schicht aus einem thermisch aktivierbaren Kleber. Je nach Einsatz des Sicherheitselements 11 ist es aber auch möglich, auf die Klebeschicht 24 zu verzichten.
Die Reliefstrukturen 25 und 26 sind hierbei in Bereichen 31 und 33 des Sicherheitselements 11 abgeformt. Die Bereiche 31 und 33 werden von Bereichen 32 umgeben, in denen keine Reliefstrukturen in die Replizierlackschicht 22 abgeformt sind, so dass in diesen Bereichen die Replizierlackschicht 22 eine weitgehend plane Oberfläche zeigt.
Je nach dem, ob die Bereiche 31 und 33 als Musterbereiche oder als Hintergrundbereiche für ein im Vordergrund stehendes Muster ausgeformt sind, ergeben sich so bei Betrachtung die in Fig. 8a bis Fig. 8c beispielhaft dargestellten Effekte:
Fig. 8a zeigt einen Musterbereich 51, der in Form eines Baumes gestaltet ist, und einen den Musterbereich 51 umschliessenden Hintergrundbereich 52. Der Hintergrundbereich 52 ist mit der Reliefstruktur 25 belegt, so dass im Hintergrundbereich 52 die Erzeugung eines Farbverschiebungseffektes durch die Dünnfilmschicht 23 unterdrückt wird. Im Musterbereich 51 ist keine Reliefstruktur abgeformt, so dass in diesem Bereich der von der Dünnfilmschicht 23 erzeugte Farbverschiebungseffekt sichtbar ist. Es ergibt sich so die Darstellung eines Baumes, dessen Farbe sich abhängig von der Blickrichtung, beispielsweise von einer roten Farbgebung in eine grüne Farbgebung ändert, vor einem Hintergrund, der keinerlei Farbverschiebungseffekte zeigt.
Fig. 8b zeigt einen Musterbereich 53 in Form eines Baumes vor einem
Hintergrundbereich 54, wobei die Reliefstruktur 25 in dem Musterbereich 53 abgeformt ist und in dem Hintergrundbereich 54 keine Reliefstruktur abgeformt ist. Damit ergibt sich für den Betrachter der Eindruck eines (durchscheinenden) Baumes, dessen Hintergrund seine Farbe je nach Blickwinkelrichtung ändert.
Fig. 8c zeigt eine Darstellung von Clara Schumann 55 vor einem Hintergrundbereich 56. Auch hier ist die Relief Struktur 25 in dem die Darstellung von Clara Schumann bildenden Musterbereich angeordnet, so dass sich die Darstellung von Clara Schumann aus dem Kontrast des einem Farbwechsel unterliegenden Hintergrundbereichs 56 und der transparenten Linienführung des Musterbereichs ergibt.
Fig. 2 zeigt eine bevorzugte Anwendung der in Fig. 1 dargestellten Prägefolie. Fig. 2 zeigt so die Übertragungslage 2 einer Transferfolie, die auf ein zu sicherndes Dokument 4 aufgebracht ist. Die Übertragungslage 2 bildet hierbei ein Sicherheitselement 12, das aus der Schutzlackschicht 21 , der Replizierlackschicht 22, der Dünnfilmschicht 23 und der Klebeschicht 24 aufgebaut ist. In die Replizierlackschicht 22 sind in den Bereichen 31 und 33 die Reliefstrukturen 25 und 26 abgeformt. In dem sie umgebenden Bereichen 32 ist keine Relief Struktur in die Grenzschicht zwischen der Replizierlackschicht 22 und der Dünnfilmschicht 23 abgeformt, so dass hier die Grenzschicht weitgehend plan ist. In Bezug auf die Ausgestaltung der Schichten 21 , 22, 23 und 24 und der Ausgestaltung der Relief Strukturen 25 und 26 wird auf die Ausführungen nach Fig. 1 und Fig. 9 verwiesen.
Auf das Dokument 4, bei dem es sich beispielsweise um ein Ausweisdokument handelt, wird zur Personalisierung ein individualisierter Aufdruck 41 beispielsweise mittels eines Thermotransferverfahrens aufgebracht. Sodann wird die Übertragungslage 2 auf das Dokument 4 derart aufgebracht, dass das Sicherheitselement 12 den individualisierten Aufdruck 41 überdeckt. Die Dünnfilmschicht 23 ist in diesem Ausführungsbeispiel als transmissives Element ausgebildet, so dass für den Betrachter der individualisierte Aufdruck 41 durch die Dünnfilmschicht 23 erkennbar ist und der individualisierte Aufdruck 41 in den Bereichen 32 von dem von der Dünnfilmschicht 23 generierten blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekt überlagert wird.
Fig. 10 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemässen Sicherheitselements 13.
Das Sicherheitselement 13 ist eine Transferfolie, die von einem mehrschichtigen Folienkörper mit der Trägerschicht 10, der Ablöseschicht 20, der Schutzlackschicht 21 , der Replizierlackschicht 22, der Dünnfilmschicht 23 und der Klebeschicht 24 gebildet ist. Die Schichten 10 bis 24 sind entsprechend den gleichlautenden Schichten nach Fig. 1 ausgestaltet. In die Grenzfläche zwischen der Replizierlackschicht 22 und der Dünnfilmschicht 23 ist in Bereichen 35 und 37 eine Reliefstruktur abgeformt, die entsprechend den Reliefstrukturen 25 und 26 nach Fig. 1 und Fig. 9 ausgestaltet ist. In Bereichen 28 und 29 des Sicherungselements 13 sind in die Grenzflächen Relief Strukturen 28 und 29 abgeformt. In Bereichen 34 und 39 des Sicherheitselements 13 sind in die Grenzfläche keine Reliefstrukturen abgeformt, so dass in diesen Bereichen die Grenzfläche weitgehend plan ist.
Bei den Reliefstrukturen 28 und 29 handelt es sich um Reliefstrukturen, die einen optischen Effekt generieren, der sich mit dem von der Dünnfilmschicht 23 generierten optischen Effekt überlagert.
So handelt es sich bei der Relief Struktur 28 beispielsweise um eine beugungsoptische Struktur, beispielsweise um ein Dot-Matrix-Hologramm, ein KINEGRAM® oder um ein übliches Beugungsgitter.
Bei der Relief Struktur 29 handelt es sich beispielsweise um eine Makrostruktur, beispielsweise um eine Struktur mit einem Extremwert-Abstand von mehr als 30 μm. Weiter kann es sich bei der Reliefstruktur 29 auch um eine Mikrolinsenstruktur oder um eine Mattstruktur, beispielsweise eine anisotrope Mattstruktur mit einem gerichteten Streuverhalten, handeln.
Die Reliefstrukturen 28 und 29 sind hierbei vorzugsweise so gewählt, dass der Abstand zwischen Erhebungen dieser Reliefstrukturen grösser als die Strukturtiefe der Reliefstrukturen ist. Hierdurch wird eine Abschwächung des von der Dünnfilmschicht 23 erzeugten beugungsoptischen Effektes durch die überlagernden Relief Strukturen 28 und 29 weitgehend vermieden.
Fig. 11a und Fig. 11b zeigen beispielhaft schematische Darstellungen eines Ausschnitts der Reliefstrukturen 28 (Fig. 11b) und 29 (Fig. 11a).
Es wird hierbei darauf verwiesen, dass die Figuren Fig. 1 , Fig. 2, Fig. 9, Fig. 10, Fig. 11a und Fig. 11b schematische Darstellungen sind, bei denen die Grössenabmessungen und das Verhältnis der Grössenabmessungen nicht den tatsächlichen Gegebenheiten entsprechen.
Durch die Ausgestaltung des Sicherheitselements nach Fig. 10 wird erreicht, dass in dem Bereich 36 für den Betrachter eine Überlagerung der von der Dünnfilmschicht 23 und von der Reliefstruktur 28 erzeugten optischen Effekte erkennbar ist. In den den Bereich 36 umgebenden Bereichen 35 und 37 wird der von der Dünnfilmschicht 23 erzeugte optische Effekt durch die Relief Struktur 27 unterdrückt, so dass für den Betrachter in diesem Bereich kein optisch variables Sicherheitsmerkmal erkennbar ist. Dies führt dazu, dass der Bereich 36, in dem sich beide optischen Effekte überlagern, präzise und scharf gegenüber den umgebenden Bereichen 35 und 37 abgegrenzt ist, in denen kein optisch variables Sicherheitsmerkmal erkennbar ist. Bei entsprechender Ausgestaltung des von der Reliefstruktur 28 erzeugten Sicherheitsmerkmals sind bereits kleine Abweichungen der sich überlagernden Sicherheitsmerkmale klar erkennbar, so dass eine Nachahmung mittels anderer Technologien, die nicht dieses hohe Maß an Passergenauigkeit bieten, sofort erkennbar ist.
In den Bereichen 34 und 39 ergibt sich für den Betrachter weiter der von der Dünnfilmschicht 23 erzeugte blickwinkelabhängige Farbverschiebungseffekt. In dem Bereich 39 ergibt sich für den Betrachter ein optischer Effekt, der sich aus der Überlagerung des blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts der Dünnfilmschicht 23 und dem von der Relief Struktur 29 generierten optischen Effekt ergibt. Damit ergibt sich für den Betrachter in den Bereichen 34, 35, 36, 37, 38 und 39 jeweils ein anderer Betrachtungseindruck.
Weiter ist es auch möglich, eine partiell ausgeformte Metallschicht zwischen der Replizierlackschicht 22 und der Dünnfilmschicht 23 anzuordnen. Diese partielle Metallschicht wird dazu verwendet, um Bereiche zu schaffen, in denen der von den Relief Strukturen 28 und 29 erzeugte optische Effekt entkoppelt von dem von der Dünnfilmschicht 23 generierten optischen Effekt erkennbar sein soll. Die partielle Metallschicht deckt so beispielsweise Teilbereiche des Bereiches 36 und/oder des Bereiches 38 ab. Weiter ist es auch möglich, die partielle Metallschicht in (Teilbereichen 34 und 39 vorzusehen und damit partielle reflektive Flächen als weitere Sicherheitsmerkmale des Sicherheitselements 13 vorzusehen.

Claims

Ansprüche
1. Sicherheitselement (11, 12, 13) in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, wobei der Folienkörper eine Replizierlackschicht (22) und eine Dünnfilmschicht (23) zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufweist und in einer von Koordinatenachsen x und y (257, 258) aufgespannten Ebene in eine Grenzfläche zwischen der Replizierlackschicht (22) und der Dünnfilmschicht (23) in einem ersten Bereich (31, 33, 35, 37) des Sicherheitselements (11, 12, 13) eine erste Relief Struktur (25, 26, 27) abgeformt ist, dadurch gekennzeichnet , dass die erste Relief Struktur (25, 26, 27) zur Unterdrückung der Erzeugung des Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht (23) eingerichtet ist, so dass in dem ersten Bereich des Sicherheitselements (31, 33, 35, 37), in dem die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) vorgesehen ist, der Farbverschiebungseffekt nicht vorhanden ist und in einem zweiten Bereich (32, 34, 36, 38, 39) des Sicherheitselements (11,12, 13), in dem die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) nicht vorgesehen ist, der durch die Dünnfilmschicht (23) erzeugte Farbverschiebungseffekt vorhanden ist.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet , dass die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) eine Struktur mit einem hohen Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Relief Struktur ist, insbesondere mit einem mittleren Tiefen zu Breiten Verhältnis von größer als 0,5 ist.
3. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur so groß gewählt ist, dass kein Farbverschiebungseffekt in dem ersten Bereich des Sicherheitselements (31 , 33, 35, 37) vorhanden ist, in dem die erste Relief Struktur (25, 26, 27) vorgesehen ist.
4. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) eine diffraktive Struktur mit einem Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Relief Struktur im Bereich 0,5 bis 10 ist, das Tiefen zu Breiten Verhältnis bevorzug größer als 1 ist.
5. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis der ersten Relief Struktur so groß gewählt ist, dass die effektive Dicke einer farbwechselerzeugenden Distanzschicht der Dünnfilmschicht durch die erste Reliefstruktur im Bereich der ersten Relief Struktur so stark verringert wird, dass die Distanzschicht die λ/2 oder λ/4 Bedingung für den Bereich des sichtbaren Lichts nicht mehr erfüllt.
6. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Relief Struktur so groß gewählt ist, dass ein Farbverschiebungseffekt in dem ersten Bereich des Sicherheitselements (31, 33, 35, 37) vorhanden ist, der sich von dem in dem zweiten Bereich des Sicherheitselements durch die Dünnfilmschicht erzeugten Farbverschiebungseffekt unterscheidet.
7. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet . dass die Tiefe der Reliefstruktur (25, 26, 27) sowohl in x-Richtung als auch in y-Richtung variiert, dass der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen (254, 255, 256) der ersten Reliefstruktur (25, 26, 27) kleiner als die mittlere Profiltiefe (251) der Reliefstruktur ist und dass benachbarte Erhebungen (254, 255, 256) der Reliefstruktur weniger als 200 μm voneinander entfernt sind.
8. Sicherheitselement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , dass die erste Relief Struktur (25, 26, 27) eine periodische Funktion der Koordinaten x und y ist, die die Tiefe der Reliefstruktur sowohl in x-Richtung als auch in y-Richtung periodisch variiert, und dass die Periodenlängen (252, 253) der Funktion kleiner oder gleich der Strukturtiefe (251 ) der ersten Reliefstruktur (25, 26, 27) ist.
9. Sicherheitselement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , dass die Reliefstruktur (25, 26, 27) ein aus zwei im wesentlichen rechtwinkelig zueinander angeordneten Basisgittern zusammengesetztes Kreuzgitter ist, wobei die Periodenlängen der Basisgitter kleiner oder gleich der Strukturtiefe der ersten Relief Struktur (25, 26, 27) sind.
10. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen bzw. mindestens eine der Periodenlängen kürzer als 400 nm ist.
11. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet dass der mittlere Abstand benachbarter Erhebungen (254, 255, 256) der ersten Reliefstruktur (25, 26, 27) kleiner als die Grenzwellenlänge des sichtbaren Lichts, bevorzugt kleiner als die Hälfte der Grenzwellenlänge des sichtbaren Lichts ist.
12. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass der zweite Bereich (32, 34, 36, 38) ein Musterbereich (51 ), insbesondere in Form eines Logos oder eines Textes ist und der erste Bereich (31 , 33, 35, 37) ein Hintergrundbereich (52) ist.
13. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass in dem zweiten Bereich (36, 38) eine zweite Reliefstruktur (28, 29) in der Grenzfläche abgeformt ist, wobei sich der von der zweiten Reliefstruktur (28, 29) generierte optische Effekt mit dem von der Dünnfilmschicht generierten optischen Effekt überlagert.
14. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass die zweite Relief Struktur (28, 29) eine Relief Struktur mit einem geringen Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur ist, insbesondere mit einem mittleren Tiefen zu Breiten Verhältnis von kleiner als 0,2 ist.
15. Sicherheitselement nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , dass der erste und der zweite Bereich unmittelbar aneinander angrenzen.
16. Sicherheitselement nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , dass die Gitterperiode der zweiten Reliefstruktur (28, 29) grösser als die Strukturtiefe der zweiten Relief Struktur ist.
17. Sicherheitselement nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , dass die zweite Relief Struktur (28, 29) eine beugungsoptisch wirkende Struktur, insbesondere eine ein Hologramm generierende Relief Struktur, ist.
18. Sicherheitselement nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , dass die zweite Reliefstruktur eine Makrostruktur ist.
19. Sicherheitselement nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , dass die zweite Reliefstruktur eine Mattstruktur ist.
20. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet dass die Dünnfilmschicht (23) eine transmissive Dünnfilmschicht ist.
21. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet , dass die Dünnfilmschicht eine reflektive Dünnfilmschicht ist.
22. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass die Dünnfilmschicht ein aus mehreren dielektrischen Schichten bestehendes Dünnfilmschichtsystem ist.
23. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 21 , dadurch gekennzeichnet , dass die Dünnfilmschicht ein aus mehreren dielektrischen und metallischen Schichten bestehendes Dünnfilmschichtsystem ist.
24. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 21 , dadurch gekennzeichnet , dass die Dünnfilmschicht aus einer Perlglanzschicht besteht.
25. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 22 bis 24, dadurch gekennzeichnet dass die Dünnfilmschicht eine Reflexionsschicht aufweist.
26. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass eine partielle Reflexionsschicht zwischen der Replizierlackschicht und der Dünnfilmschicht angeordnet ist.
27. Sicherheitselement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass der mehrschichtige Folienkörper (11 ) eine Transferfolie, insbesondere eine Heissprägefolie, ist.
28. Sicherheitsdokument (2), insbesondere Banknote oder Reisepass, mit einem Sicherheitselement (12) nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
29. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements (11, 12, 13) in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, wobei bei dem Verfahrens in eine Replizierlackschicht (22) des mehrschichtigen Folienkörpers in einem ersten Bereich des Sicherheitselements (11 , 12, 13) eine erste Reliefstruktur (25, 26, 27) abgeformt wird und auf die Replizierlackschicht weiter eine Dünnfilmschicht (23) zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet , dass als erste Relief Struktur (25, 26, 27) in dem ersten Bereich (31 , 33, 35, 37) des Sicherheitselements eine Relief Struktur (25, 26, 27) ausgeformt wird, die die Erzeugung eines Farbverschiebungseffekts durch die Dünnfilmschicht (23) unterdrückt, so dass in dem ersten Bereich (31, 33, 35, 37) des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) vorgesehen ist, kein Farbverschiebungseffekt vorhanden ist und in einem zweiten Bereich (32, 34, 36, 38, 39) des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) nicht vorgesehen ist, ein durch die Dünnfilmschicht (23) erzeugter Farbverschiebungseffekt vorhanden ist.
30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet , dass die erste Relief Struktur mittels UV-Replikation in der Replizierlackschicht abgeformt wird.
31. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet , dass die Dünnfilmschicht durch Sputtern oder Aufdampfen auf die Replizierlackschicht aufgebracht wird.
32. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet , dass eine Distanzschicht der Dünnfilmschicht durch Sputtern oder Aufdampfen im ersten und zweiten Bereich in gleicher Flächendichte aufgebracht wird.
33. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements (11, 12, 13) in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers, wobei bei dem Verfahrens in eine Replizierlackschicht (22) des mehrschichtigen Folienkörpers in einem ersten Bereich des Sicherheitselements (11 , 12, 13) eine erste Reliefstruktur (25, 26, 27) abgeformt wird und auf die Replizierlackschicht weiter eine Dünnfilmschicht (23) zum Erzeugen eines blickwinkelabhängigen Farbverschiebungseffekts mittels Interferenz aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet , dass als erste Relief Struktur (25, 26, 27) in dem ersten Bereich (31 , 33, 35, 37) des Sicherheitselements eine Reliefstruktur (25, 26, 27) ausgeformt wird, die die den durch die Dünnfilmschicht (23) erzeugten Farbverschiebungseffekt verändert, so dass in dem ersten Bereich (31, 33, 35, 37) des Sicherheitselements, in dem die erste Relief Struktur (25, 26, 27) vorgesehen ist, von der Dünnfilmschicht ein erster Farbverschiebungseffekt erzeugt wird und in einem zweiten Bereich (32, 34, 36, 38, 39) des Sicherheitselements, in dem die erste Reliefstruktur (25, 26, 27) nicht vorgesehen ist, von der Dünnfilmschicht (23) ein zweiter, sich von dem ersten Farbverschiebungseffekt unterscheidender Farbverschiebungseffekt erzeugt wird.
34. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet , dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis der einzelnen Strukturelemente der Reliefstruktur so groß gewählt ist, dass sich der erste Farbverschiebungseffekt, der in dem ersten Bereich des Sicherheitselements (31, 33, 35, 37) vorhanden ist, von dem zweiten Farbverschiebungseffekt, der in dem zweiten Bereich des Sicherheitselements vorhanden ist, unterscheidet, insbesondere dass das Tiefen zu Breiten Verhältnis größer als 0,5 ist.
35. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet , dass eine zweite, sich von der ersten Reliefstruktur unterscheidende Reliefstruktur in einem dritten Bereich (31 , 33, 35, 37) des Sicherheitselements ausgeformt wird, die die den durch die Dünnfilmschicht (23) erzeugten Farbverschiebungseffekt verändert, so dass in dem dritten Bereich (31 , 33, 35, 37) des Sicherheitselements, in dem die zweite Reliefstruktur (25, 26, 27) vorgesehen ist, von der Dünnfilmschicht ein dritter Farbverschiebungseffekt erzeugt wird, der sich von dem ersten und dem zweiten Farbverschiebungseffekt unterscheidet.
36. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet , dass die Tiefen zu Breiten Verhältnisse der einzelnen Strukturelemente der ersten und der zweiten Relief Struktur unterschiedlich und jeweils so groß gewählt sind, dass sich der erste, zweite und dritte Farbverschiebungseffekt unterscheidet, wobei vorzugsweise sich das Tiefen zu Breiten Verhältnis der ersten und der zweiten Relief Struktur um den Faktor 0,2 unterscheiden und jeweils größer als 0,5 gewählt sind.
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