WO2005092515A1 - 塗工装置、塗工方法およびそれから得られる表示部材 - Google Patents

塗工装置、塗工方法およびそれから得られる表示部材 Download PDF

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WO2005092515A1
WO2005092515A1 PCT/JP2005/004744 JP2005004744W WO2005092515A1 WO 2005092515 A1 WO2005092515 A1 WO 2005092515A1 JP 2005004744 W JP2005004744 W JP 2005004744W WO 2005092515 A1 WO2005092515 A1 WO 2005092515A1
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coating
pulsation
discharge
buffers
coating liquid
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PCT/JP2005/004744
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshinori Kajino
Hirofumi Kobayashi
Tetsuo Suzuki
Yoshihiko Kubo
Osamu Wada
Original Assignee
Toray Industries, Inc.
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Publication date
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    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Definitions

  • the present invention relates to a coating apparatus, and more particularly, to a coating apparatus suitable for intermittent coating, and also relates to a coating method using the coating apparatus.
  • An object of the present invention is to provide a coating apparatus which prevents fluctuations in film thickness and has good ejection response even in intermittent coating.
  • the coating apparatus according to the present invention can be applied to a display device, a color filter for a display device, an LCD array, and an optical filter in addition to uniformly applying a coating such as a magnetic substance or a thin film on a substrate such as a film or glass. It can be suitably used.
  • the coating length is less than 2 m.
  • a sheet-by-sheet coating method in which a material to be coated is supplied one by one to a coater, and the coating material is supplied and applied to a next process such as drying.
  • a roll coating method, a bar coating method, a die coating method, and the like have been widely used as a single-wafer coating method.
  • the roll coating method is a method in which a coating liquid is transferred to a substrate through a roll such as a rubber roll, and is applied to a long coating material or a roll-shaped wound coating material. The force that can be performed The coating liquid is sent to the application roll and the substrate sequentially because the coating liquid is sequentially sent to the application roll. The coating liquid is exposed to air for a long time. Likely to happen. Also, when a high-viscosity coating liquid is used or when a thick film is applied, the variation in film thickness is not suitable because it is large.
  • the bar coating method is a method in which a coating solution is applied to a substrate by using a thin bar, a wire wound on a rod, and a bar. In this method, the wire wound on the rod is in direct contact with the substrate. If the coating liquid is non-Ut-Anne or has a high viscosity, if traces of wires with poor leveling properties remain, it has a disadvantage.
  • the die coating method has been widely used in the past to apply a thick film or to continuously apply a high-viscosity paint.
  • coating methods such as a curtain flow method, an extrusion method, and a bead method are known.
  • paint is discharged from a slit provided in the die with the die coater's base being close to the work, and the space between the base and the work which travels relatively at a constant distance is maintained.
  • a paint pool called a paint bead is formed in this state, and in this state the paint is drawn out as the material to be coated travels to form a coating film.
  • a bead method is used to continuously form a coating film by supplying the same amount of paint from the slits as the paint consumed in forming the coating film, the formed coating film can improve the uniformity of the film thickness. It can be realized with high accuracy.
  • Patent document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-159803
  • Patent Document 2 JP-A-2000-18202
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-61788
  • the present invention has the following configuration. That is,
  • a coating apparatus which includes coating means for applying a coating liquid to a substrate, such as at least a coating liquid supply means, and which is connected through a pipe to apply the coating liquid to the substrate.
  • a member that buffers the discharge pulsation is disposed at an arbitrary location to which the discharge pressure by the coating liquid supply unit reaches, and the member that buffers the discharge pulsation is provided at least for the gas enclosed therein and the gas.
  • a coating apparatus characterized by being a member made of a material to be enclosed.
  • S is the liquid contact area (cm 2 ) of the member that buffers the discharge pulsation at 25 ° C. and 1 atm
  • V is the volume V ( cm 3 )
  • At least a piston type metering pump is used as the coating liquid supply means.
  • a method for producing a color filter which includes a step of applying using the coating method according to (12).
  • a method for manufacturing an LCD array substrate comprising a step of performing coating using the coating method according to (12).
  • the effect of discharge pulsation is reduced and the uniformity of the film thickness is high.
  • a thin film coating can be stably obtained, and is particularly suitable for intermittently coating a substrate. It is.
  • the member that buffers the discharge pulsation disposed in the pressure flow path increases the responsiveness of a change in volume, and thus, the discharge pulsation can be more effectively performed.
  • the uniformity of the film thickness can be further enhanced because the ejection response is high.
  • a means for measuring the internal pressure of the flow path at the time of discharge it is possible to detect the deterioration of the member that buffers the pulsation, and a coating apparatus with higher productivity can be obtained.
  • FIG. 1 is a flow chart showing one embodiment of a die coater type coating apparatus provided with a member for buffering pulsation in the present invention.
  • FIG. 2 is a flow chart showing an embodiment of a die coater type coating apparatus having a member for buffering pulsation, a passage internal pressure increasing means and a member deterioration detecting function in the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart showing one embodiment of coating using a conventional die coater.
  • FIG. 4 is a flowchart showing one embodiment of a die coater type coating in which a conventional air coater type accumulator is combined with a conventional die coater.
  • FIG. 5 shows the results of measuring the film thickness of Examples 1 and 2.
  • FIG. 6 shows the results of measuring the film thickness of Example 5.
  • FIG. 7 shows the results of film thickness measurements of Comparative Examples 1 and 2.
  • FIG. 8 shows the results of measuring the film thickness of Comparative Examples 3 and 4.
  • the coating apparatus of the present invention is suitably used for a coating method in which uniformity of film thickness is required and extremely high accuracy is required such that discharge pulsation of a coating liquid must be considered as a problem. be able to.
  • a coating method include a die coating method, a roll coating method, and a bar coating method.
  • the present invention can be employed when coating is performed continuously, but exhibits excellent characteristics when intermittent coating is performed because of its excellent responsiveness.
  • the distinction between continuous coating and intermittent coating is that the base material used for the former is generally long, and the unsteady coating part until the coating film is in a steady coating state is basically a product
  • the latter is a coating method that involves one or more coating stops on a single substrate
  • the present invention relates to a coating apparatus for obtaining a uniform coating film by reducing the influence of discharge pulsation, and particularly to a technique which can be suitably used in an apparatus for performing intermittent coating.
  • the coating liquid supply means used in the coating apparatus of the present invention is a means for sending the coating liquid to the coating means.
  • various power devices such as piston pumps. These means may be used alone or in combination of two or more.
  • a roll coating method, a bar coating method, and a die coating method are suitable in terms of this point.
  • the roll coating method or the bar coating method may cause foreign matter to enter the coating liquid or cause the coating liquid to deteriorate or absorb moisture due to exposure to air.
  • a die is generally used as a coating means. Used.
  • the shape of the die cap is a slit gap that takes into account the viscosity of the coating liquid and the pressure loss of the discharge slit.
  • the slit width is determined by the size and application width of the coating base material.
  • the T-die and the coat hanger have been devised to achieve uniform discharge in the slit width direction.
  • the coating liquid injection path to the mar-holder may be a single point or may be divided into several points.
  • FIG. 1 is a flow diagram illustrating an example of a single-wafer coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 shows the flow from the coating liquid storage tank card to the die cap. Open the suction-absorbing I-side switching valve 2 provided downstream from the coating liquid tank 1, and start suctioning the coating liquid with the syringe pump (coating liquid supply means) 3 provided downstream of the suction-absorbing I-side switching valve 2. . In this state, the discharge side switching valve 4 is closed.
  • the suction-side switching valve 2 is closed, and the discharge-side switching valve 4 provided downstream of the syringe pump 3 is opened to start the liquid supply of the syringe pump 3.
  • a liquid pool (bead) of the coating liquid is formed between the workpiece 7 on the stage 8 and the die base 6, and then the coating is performed by moving the stage 8 relative to the die base 6.
  • Form a film Force the stage 8 to move to the desired application area, or close the discharge side switching valve 4 before that, and finish the application.
  • a portion 5 is provided between the syringe pump 3 and the die cap 6 for disposing a member for buffering discharge pulsation, and a member 5a for buffering pulsation is provided therein. It is arranged.
  • the discharge sequence is started by the syringe pump 3
  • the pressure inside the flow path rises due to the pressure loss of the liquid sending pipe and die slit, and the discharge pulsation generated by the coating liquid supply means and the become.
  • This pressure pulsation causes a variation in the thickness of the coating film.
  • a member for buffering the discharge pulsation in the coating liquid flow path buffers the effect, the discharge pulsation is made uniform, and the coating is uniform without a change in the film thickness.
  • a membrane can be obtained.
  • the member 5a for buffering the discharge pulsation is provided in the path between the syringe pump 3 and the die cap 6, but the branch pipe is provided in the path to buffer the pulsation. Is enclosed It is acceptable to provide a closed chamber. Force that is somewhat difficult in terms of engineering.
  • a member that buffers the discharge pulsation may be provided in the syringe pump or die die.
  • the member that buffers the discharge pulsation used in the present invention is a member that has the function of absorbing and mitigating the fluctuation of the internal pressure of the flow channel caused by the pulsation of the discharge by a change in the volume of the member, thereby equalizing the internal pressure of the flow channel.
  • the properties required for a material to exhibit the desired forceful action include absorbing vibration and shock, fast response to volume changes due to fluctuations in external pressure, and Both the material that absorbs the discharge pulsation and the material that absorbs the discharge pulsation do not change, the flexibility does not deteriorate even if the density of the member that buffers the discharge pulsation by applying pressure increases, and the vibration does not occur when the volume changes. And no plastic deformation even with repeated compression.
  • a member composed of a gas sealed in the inside and a material for sealing the gas is used.
  • a material other than the above for example, a polymer-based elastomer such as acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, butyl rubber, natural rubber, and fluoro rubber is used.
  • a foamed elastic material such as a rubber or gel elastomer
  • Materials for enclosing such a gas include general-purpose films such as polyethylene, polypropylene, polyester, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride, and polyatallylate rubber and polyether urethane rubber. And polymer-based elastomers such as silicone rubber, butyl rubber, natural rubber, and fluororubber. The responsiveness of the volume change of the enclosed gas seems to be impaired by the rigidity of the material for encapsulating the gas.
  • the surface hardness when gas is sealed at normal pressure becomes 70 or less Shore C hardness, and 50 for the purpose of buffering weak pulsation.
  • the use of the following materials does not hinder such gas volume changes that are preferred! If the material is sealed, the gas sealing pressure should be adjusted to the internal pressure of the flow path! May be set.
  • the Shore C hardness described in the present invention is a value obtained by using an ASKER (registered trademark) C hardness meter manufactured by Kobunshi Keiki Co., Ltd.
  • the apparent specific gravity of the member for buffering the discharge pulsation is preferably 2 or less, more preferably 4 or less, more preferably ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ or less with respect to the true specific gravity of the material enclosing the gas. Less than 1/6.
  • the lower limit is not particularly limited, but if it is too small, the noria of the enclosed gas is impaired, so that it is preferable that the above-mentioned gas noria be maintained.
  • the apparent specific gravity of the member that buffers the discharge pulsation is obtained by dividing the mass of the entire member that buffers the discharge pulsation by the volume of the entire member, and the true specific gravity of the material that seals the gas is In addition, the mass of the material alone that seals the gas excluding the gas inside is divided by the volume of the material alone.
  • preferable properties that the material for encapsulating the gas should have are low permeability to a liquid (a coating liquid component) and a gas, and solvent resistance depending on the coating liquid. I can do it.
  • the coating liquid may enter the inside of the material, or conversely, the enclosed gas may permeate and escape to the outside. Since the pulsation damping effect may be impaired, the gas barrier is as high as possible! It is better to use an encapsulation material! ⁇ . For example, when air is used as the gas to be filled, it is necessary to consider the transmittance of nitrogen and oxygen, which are the main components of air.
  • Examples of the film having a high gas noria property include a film having a surface subjected to a metal vapor deposition treatment, A film having high solvent resistance, or a composite film in which a heat-fusible material is coated or laminated on the inner wall to be heat sealable can also be preferably used.
  • the use of these composite films is preferable because it is possible to obtain a member that is inexpensive, has good sealing properties, and has high resistance to solvent pulsation, and that absorbs pulsation.
  • the same effect can be obtained by using a gas having a lower permeability than oxygen, for example, nitrogen or argon, as the gas used for the pulsation buffering member.
  • a gas having a lower permeability than oxygen for example, nitrogen or argon
  • the gas barrier property is high, and the gas barrier property is further improved by using a sealing material and a gas having low permeability in combination.
  • a more preferable embodiment of the member for buffering the discharge pulsation of the present invention is to make the contact area with the coating liquid as large as possible so that the pulsation buffering effect can be obtained more effectively with a small volume. It is preferable to have a structure that does not cause wrinkling or constriction due to zigzag or Z or compression, and does not generate secondary vibration due to deformation of the member that buffers pulsation.
  • the liquid contact area refers to the total area that is in contact with the coating liquid in a state where the member that buffers the discharge pulsation is disposed in the coating apparatus.
  • the liquid contact area is preferably at least 60%, more preferably at least 80%, most preferably at least 95% of the surface area of the pulsation buffering member.
  • the pulsation buffering effect can be more effectively obtained with a small volume.
  • values at a coating liquid pressure of 1 atm and a temperature of 25 ° C are used.
  • the flatness index A represented by the following formula (1) of the member that buffers the discharge pulsation is 1.4 or more and 20 or less.
  • S is the liquid contact area (cm 2 ) of the member that buffers pulsation at 25 ° C. and 1 atm
  • V represents the volume V (cm 3 ) of the member that buffers pulsation under the above conditions.
  • the flatness index A represented by the above equation (1) is determined by the following equation.
  • the force is several times the surface area of a true sphere of the same volume, and the greater the flatness index A, the flatter it is.
  • the flatness index A is 1.
  • the member for buffering the discharge pulsation two sheets of the encapsulating material are bonded together to form a flat shape in which the outer peripheral portion is sealed, in which the gas is sealed in a spherical shape. Since the liquid contact area is many times larger than in the case, a sufficient pulsation buffering effect can be obtained even if the volume of the sealed gas is small, and the pulsation is excellent in ejection response.
  • pressure is uniformly applied from all directions to the members arranged in the flow path such that the entire surface is in contact with the coating liquid, but the compression of the substantially flat member to satisfy the above equation (1) is performed. Is limited to a flattened shape.
  • the material that encloses the gas is unlikely to cause wrinkles and constrictions, so that the delay in volume change and the generation of vibration due to wrinkles and constrictions can be suppressed, and such a shape reduces the amount of deformation of the material itself. It is possible to reduce the required characteristics of the mechanical properties of the gas-filled material such as bending resistance, plastic deformation stress, and elastic recovery force. .
  • the flatness index A is preferably 20 or less.
  • the more preferable range of the flatness index A is 2 or more and 10 or less.
  • the volume to be sealed may be appropriately determined depending on the pulsation intensity to be buffered and the required ejection responsiveness without any particular limitation.
  • the member for buffering the discharge pulsation can be preferably used for intermittent coating applications in which discharge stability and discharge response of the pump are most important.
  • the discharge speed is often low, and as a pump suitably used for such a purpose, for example, a piston type fixed amount pump can be mentioned.
  • Vomit The output speed is a numerical value designed for the application, such as the size of the substrate to be applied and the application speed, and is not particularly limited.
  • discharge amount Q per second coating liquid discharged from the unit is a 0. 1- 20 cm 3, even pulsation generated in a small pump very discharge speed, buffering the discharge responsiveness of fine pulsation It is possible to achieve both.
  • the coating apparatus of the present invention is provided with a means 10 for further increasing the internal pressure of the flow path, which is different from the coating liquid supply means as shown in FIG. I like it.
  • the means for further increasing the internal pressure of the flow path is a means for generating a region in which the internal pressure of the flow path increased by the coating liquid supply means when the means is provided is 1.1 times or more the internal pressure of the flow path when the means is not provided. Say. If a member for buffering the discharge pulsation is provided at a place where the internal pressure of the flow path is increased by such means, even if the discharge pulsation is very small, the response of the impact by the member is improved by the increased internal pressure of the flow path.
  • the pulsation can be more effectively buffered, and the discharge can be stabilized by the volume restoration of the member even if the negative pressure pulsation occurs instantaneously.
  • the means 10 for increasing the pressure in the flow path include a method in which a part of the flow path pipe is made thinner, and a method in which an orifice or an opening adjustment valve is provided in the flow path.
  • the upper limit is preferably in the range of IMPa or less.
  • the pressure is more preferably 0.5 MPa or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but if the internal pressure of the flow path does not reach a pressure capable of compressing the pulsation buffering member, the pulsation is buffered because the pressure pulsation is not naturally damped due to volume fluctuation. Even when a gas is used for the member, it is preferable to keep the internal pressure at least equal to the normal pressure.
  • a means for detecting deterioration of a member for buffering pulsatile artery by grasping a rising gradient of the internal pressure of the flow path gradually increasing immediately after the start of discharge by using a pressure sensor and a recorder arranged on the pump discharge side is provided. By doing so, it will be possible to use it to issue warnings to prompt inspections and to stop pump supply.
  • the black matrix existing between each pixel of RGB and between the pixels, and all or a part of the overcoat layer are formed using the coating apparatus of the present invention.
  • the coating liquid itself can be made photosensitive or a photosensitive resist can be further applied thereon to form a pattern using a photolithography method.
  • the obtained pattern is subjected to a process such as thermosetting if necessary, and is subjected to a process of forming a configuration such as an electrode and an alignment film, thereby forming a color filter.
  • a process such as thermosetting if necessary
  • a process of forming a configuration such as an electrode and an alignment film
  • a method was used in which a single-wavelength Na lamp with a wavelength of 589 nm was irradiated onto the dried coating film surface and the reflected light was visually observed.
  • This evaluation method uses a single-wavelength light source, so that the reflected light from the glass surface and the coating film surface force interfere with each other, so that even a very small variation in the coating film thickness can be visually recognized as interference unevenness. It is.
  • the distance from the coating start position in the coating direction (hereafter referred to as the coating distance) is perpendicular to the coating direction in a range where the coating start position force is 30 to 70% of the distance to the coating end position.
  • a force was observed in which there was streak-like interference unevenness in which the longitudinal direction was a direction (parallel to the die die), and judgment was made based on the following criteria.
  • the average value of the film thickness in the range of coating distance 400mm-450mm (steady coating part) was taken as the average film thickness.
  • Film thickness distribution width R is 0.005 / z m or less
  • Thickness distribution width force s Larger than 0.01 / zm, force 0.33 / zm or less
  • film thickness distribution width R is greater than 0.03 m
  • the film thickness distribution width R is preferably as small as possible, but when it is 0.03 m or more, when it is used as a colored layer of a color filter, it will be used as a display unevenness when it is used as a display monitor with a thin film transistor liquid crystal panel for liquid crystal display devices. Can not do it.
  • the gap becomes uneven in the liquid crystal layer of the liquid crystal display device, and the quality as a display monitor is deteriorated.
  • Coating distance 2mm force When observing in the order of the coating distance in order, the distance from the coating start point force at the last point outside the range of ⁇ 0.5% of the average film thickness is defined as the coating stable distance. Evaluation was based on criteria.
  • coating stable distance is larger than 15mm and 20mm or less
  • the coating stable distance is larger than 20 mm, or the coating distance is larger than 50 mm. There are points where the coating thickness is out of the range of ⁇ 0.5% of the average film thickness in the range.
  • Coating was continuously performed on 1000 glass substrates, and the 500th and 1000th coating films were subjected to the interference unevenness evaluation described in the above section A, and judged based on the following criteria.
  • the interference unevenness of the 500th coating film is excellent, good or acceptable, and the 1000th coating film has no interference unevenness.
  • FIG. 1 shows a flow chart of the liquid feeding of the slit die type coating apparatus which is the coating apparatus used in the present embodiment.
  • a piston type syringe pump 3 having an inner diameter of 18 mm was used as a coating liquid supply means, and a die mouthpiece 6 having a discharge slit width of 620 mm and a slit gap of 100 m was used as a coating means.
  • the suction side switching valve 2 is opened, and then the coating liquid is suctioned by the syringe pump 3 for 20.76 cm 3 , and the base material adsorbed and fixed to the stage 8
  • the die cap 6 was brought close to the short side end of 7 (glass substrate) up to 100 m, and the discharge of the syringe pump 3 was started at a coating liquid discharge speed of 2.563 cm 3 Z seconds.
  • the stage 8 is moved 750mm at a speed of 6mZ seconds, and a uniform coating is applied on the entire surface of the 620 x 750mm glass substrate 7. Formed.
  • the internal pressure of the flow passage from the coating liquid supply means to the coating means was set to 0.1 OlMpa (only the piping pressure loss generated in the coating liquid path).
  • the coated substrate is immediately put into a vacuum chamber and vacuum-dried, and then dried and cured at 90 ° C for 10 minutes in a hot-plate type curing furnace to have an average thickness of 3.73 ⁇ m. A coating was obtained.
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • Thin streak-like interference unevenness was confirmed, with the longitudinal direction being the direction perpendicular to the coating direction (the direction parallel to the die die).
  • This streak-like interference unevenness is caused by When moving the stage to form a coating film, the coating liquid bead vibrates due to the subtle change in the discharge speed of the die capping force, resulting in a change in the liquid level on the glass substrate. This is due to uneven thickness.
  • the substrate obtained in this example was acceptable because thin stripe-shaped unevenness was visually recognized.
  • the average film thickness in this example was 3.73 ⁇ m, and the evaluation range for judging that the coating was stable was 3
  • the stable coating distance was 12 mm, which was judged to be good (Fig. 5-a).
  • a one-dollar valve is installed as a means 10 for increasing the internal pressure of the flow path, and the pressure of the flow path between the coating liquid supply means and the needle valve is set to 0 by a pressure gauge 9. After adjusting the valve opening until IMPa was reached, a coating film was formed in the same manner as in Example 1.
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • the balloon volume was completed to 1000 coated was measured by a measuring cylinder, the balloon volume including those Hatsufutomezai was reduced from about 0. 9cm 3 to about 0. 6 cm 3. Since the internal pressure of the flow channel is increased by the needle valve, it can be assumed that the enclosed air permeated the polyethylene, which is the material of the balloon, and gradually flowed out.
  • a material that seals the gas of the discharge pulsation member 5a is a gas barrier film (PTS bag: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .: 5 cm x 20 mm) with a thickness of 112 ⁇ m.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 2 except that 3 Zm 2 'dayMPa) was used.
  • the stable coating distance of 14 mm was judged to be good.
  • the evaluation of the 500th and 1000th sheets was excellent, with no interference unevenness visible at all, and the continuous use performance was judged to be excellent.
  • the volume of the norain after completion of the application of 1,000 sheets was measured with a measuring cylinder, the volume of the member for buffering the discharge pulsation was about 0.9 cm 3 , and almost no change was observed.
  • the arrival time of the flow path internal pressure immediately after the start of continuous application was about 0.9 seconds.
  • the time required to reach the pressure with about 0.85 seconds at the end of coating 500 sheets is about 0.8 seconds, and the time to reach the pressure at the end of 100 sheets is about 0.6 seconds. there were.
  • the volume of the pulsation absorbing member it was confirmed that the volume of the pulsation absorbing member was reduced by 0.3 cm 3 at the end of the application of 1000 sheets. I was able to confirm that I could.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 3, except that the volume of the gas to be sealed was 0.7 cm 3 and the sealing shape was 25 ⁇ 30 mm.
  • a silicone tube with an outer diameter of 6 mm and an inner diameter of 4 mm oxygen permeability 5000 cm 3 Zm 2 'dayMPa or more
  • oxygen permeability 5000 cm 3 Zm 2 'dayMPa or more was plugged at both ends, and about 0.68 cm 3 of air was sealed inside.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 5.
  • Example 5 As a member for buffering the discharge pulsation, a member having the width of 2 mm at both ends of the member for buffering the discharge pulsation used in Example 5 fixed to the wall surface of the enclosure with metal fittings, and a state where one side is not in contact with the liquid is used.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 5.
  • the continuous use performance was excellent.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 1, except that a member for buffering the discharge pulsation was not used as shown in the flow chart shown in FIG. Table 3 shows the evaluation results. Interference unevenness is not possible.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 1 except that an air chamber type accumulator (volume: 50 cm 3 , airtightness: lcm 3 ) was used without using a member for buffering discharge pulsation.
  • a coating film was formed in the same manner as in Example 1 except that a silicone rubber foam having a size of 40 ⁇ 40 mm and a thickness of 6 mm was arranged in the working channel liquid as a member for buffering the discharge pulsation.
  • a color filter with a photospacer pillar and a liquid crystal display panel were produced by using the present invention.
  • the reaction was carried out using pyrrolidone as a solvent to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.
  • a carbon black mill base having the following composition was dispersed at 7000 rpm for 30 minutes using a homogenizer, and the glass beads were filtered to prepare a black paste.
  • a black paste was applied to a 350 mm-size alkali-free glass substrate (OA-2, manufactured by NEC Corporation) using a spinner and semi-cured in an oven at 135 ° C for 20 minutes.
  • a positive resist (Shipley Microposit (registered trademark) RC100 30 cp) was applied using a spinner and dried at 90 ° C. for 10 minutes.
  • the resist film thickness was 1.5 m.
  • the exposure was performed using a photomask PLA-501F, manufactured by Canon Inc., through a photomask having a pattern of a part of the pillars (base portion) outside the black matrix portion, the frame portion, and the screen.
  • TMAH Umuhidorokishido
  • 2 wt 0/0 inclusive 23 ° C aqueous developer the substrate was dipped in a developer, reciprocates once a 10cm width 5 seconds simultaneously.
  • the development of the positive resist and the etching of the polyimide precursor were performed simultaneously.
  • the development time was 60 seconds.
  • the positive resist was peeled off with methylcellosolve acetate, further cured, and cured at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a resin black matrix substrate having a pattern of a black matrix portion, a frame portion, and a base portion.
  • the thickness of the resin black matrix was 0.90 / zm, and the OD value was 3.0.
  • the reflectance (Y value) at the interface between the resin black matrix and the glass substrate was 1.2%. Area of the base of the column by ⁇ black matrix out of the screen was about 50000 m 2.
  • the pillar base is also formed in the area that is cut off when the liquid crystal display device is used outside the screen. They were periodically arranged at equal intervals of about 1 piece per lcm 2 .
  • red, green and blue pigments dianthraquinone pigments represented by Color Index No. 65300 Pigment Red 177, and phthalocyanines represented by Color Index No. 74265 Pigment Green 36, respectively.
  • a green pigment, phthalocyanine blue pigment represented by Color Index No. 74160 Pigment Blue 15-4 was prepared. The pigments were mixed and dispersed in a polyimide precursor solution to obtain three types of colored pastes of red, green and blue.
  • a blue paste was applied on a substrate, dried with hot air at 80 ° C for 10 minutes, and semi-cured at 120 ° C for 20 minutes.
  • a positive resist (Shipley Microposit (registered trademark) SRC 100 30 cp) was applied with a spinner and dried at 80 ° C. for 20 minutes. Exposure was performed using a mask, the substrate was dipped in an alkaline developing solution (Shipley Microposit (registered trademark) 351), and while simultaneously moving the substrate, development of the positive resist and etching of the polyimide precursor were performed simultaneously. . Thereafter, the positive resist was stripped with methyl cellosolve acetate, and further cured at 300 ° C. for 30 minutes.
  • the thickness of the colored pixel portion was 1.7 m.
  • a blue colored layer was further formed on the frame, on the black matrix base outside the screen, together with the formation of blue pixels.
  • the area of the base of the blue colored layer outside the screen was about 25000 ⁇ m, and the area of the base of the blue colored layer on the picture frame was about 500 ⁇ m.
  • the thickness of the red pixel portion was 1.8 m.
  • the pillar base was strong.
  • the thickness of the green pixel portion was 1.5 m.
  • a photosensitive JSR negative type acrylic material (NN810 or NN700) was used for the column material.
  • the coating apparatus of Example 5 was used, and in Comparative Example 5, the coating apparatus of Comparative Example 1 was used. In the same manner as in Example 5 using the above method.
  • the coated substrate is immediately put into a vacuum chamber and dried under vacuum, and then dried and cured at 90 ° C for 10 minutes in a hot plate type curing furnace to obtain an average film having no interference unevenness. A dry coating having a thickness of 3.73 m was obtained.
  • an exposure machine (canon 1 ⁇ ⁇ -? 50 ⁇ ) were irradiated to mask exposure the use Ite 20011] 17.111 2 (i-line) a.
  • the substrate was dipped in a TMAH aqueous solution (0.15%), and the development pattern jung was simultaneously performed while simultaneously swinging the substrate.
  • the pillars were formed on the black matrix base inside the screen and on the picture frame and outside the screen using this puttering, and then dried and cured at 279 ° C for 20 minutes in a hot plate type curing furnace.
  • area on pillars ⁇ in the screen is about 110 m 2, area under ⁇ layer was about 120 m 2.
  • the area above the resin pillars outside the screen was about 10,000 ⁇ m 2 (size 100 x 100 m), and the area under the resin layer was about 12000 m 2 (size 110 XI 10 m).
  • the column height was 3.1 / zm.
  • the columns in the screen were provided at a ratio of one per 3W3 ⁇ 4 (1W3 ⁇ 4: 100 m x 300 ⁇ m).
  • a polyimide-based alignment film was provided on the color filter of Example 10 and rubbed. Further, a counter substrate with a transparent electrode provided with a thin film transistor element was prepared, a polyimide-based alignment film was similarly provided, and a rubbing treatment was performed. After bonding the color filter provided with the alignment film and the transparent electrode substrate provided with the thin film transistor element using a sealant, unnecessary regions outside the screen were cut off. Next, liquid crystal was injected from the injection rocker provided in the seal portion. The liquid crystal was injected by leaving the empty cell under reduced pressure, immersing the injection port in the liquid crystal tank, and returning to normal pressure.
  • the inlet was sealed, and a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a cell.
  • the obtained liquid crystal panel body was able to secure a uniform cell gap with a photospacer pillar having no unevenness in height, and had good display quality.
  • the present invention provides a coating apparatus for applying a coating liquid to a substrate, in which, when discharge pulsation caused by vibration of a liquid feed pump or the like impairs uniformity of a coating film, the discharge pulsation is reduced to achieve uniform discharge.
  • This is a technology that realizes coating film formation.
  • even a very small change in the film thickness is visually recognized as display unevenness and is considered to affect the quality. It can be suitably used for thin film coating technology.

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

 吐出脈動が抑制され、膜厚均一性に優れた薄膜塗膜が得られるほか、吐出応答性に優れた塗工方法及び塗工装置を提供する。塗液供給手段(例えばシリンジポンプ3)から塗工手段(例えばダイ口金6)の間で、吐出脈動を緩衝する部材(部位5)を設ける。シリンジポンプで発生した吐出脈動は、脈動緩衝部位5の内部に配した脈動を緩衝する部材5aの体積変動によって緩衝され、ダイ口金からは脈動の抑制された定量吐出が得られる。

Description

明 細 書
塗工装置、塗工方法およびそれから得られる表示部材
技術分野
[0001] 本発明は塗工装置に関し、とりわけ間欠的な塗工に適した塗工装置に関し、またそ れを用いた塗工方法に関し、塗液の吐出脈動を極力排してこれに起因する膜厚変 動を防止し、かつ間欠的塗工であっても吐出応答性の良好な塗工装置を提供するも のである。本発明に係る塗工装置は、例えばフィルムやガラス等の基板上に磁性体 や薄膜などの塗膜を均一に塗布する場合のほか表示デバイス、表示デバイス用カラ 一フィルタ、 LCDアレイ、光学フィルタに好適に用い得る。
背景技術
[0002] 近年、記録媒体などの製造工程にお!/、ては、フィルム等の基体上に磁性体や塗料 などの薄膜を均一に塗布したいとの要請があり、塗液の吐出脈動を極力減少させた 送液手段が種々創案されて ヽる。
[0003] この最たる分野である、光学フィルタ用のブラスティック基板や、液晶ディスプレイ用 のガラス基板、カラーフィルタ用のガラス基板などにおいては、塗工長さが 2mにも満 たないような比較的小さな基板に様々な塗料を薄ぐし力も均一に塗布する技術が強 く要請されている。
[0004] 工業的にこのような基板に塗膜を形成する方法として、被塗工材を 1枚ずつコータ に供給し、塗料を供給'塗布し、乾燥などの次工程に搬送する枚葉塗工方式が採用 されており、従来、枚葉塗工方法としてはロールコーティング法、バーコーティング法 、ダイコーティング法等が広く用いられている。
[0005] ロールコーティング法は、ゴムロールなどのロールを介して塗液を基板に転写する 方法であり、長尺の被塗工材、ロール状の巻き取られた被塗工材への塗工を行うこと ができる力 塗液がパン力 アプリケーションロール、基板へ順次送られる関係上、塗 液が空気に曝される時間が長ぐ塗液の吸湿による変質が起こりやすいのみならず、 異物の混入も発生しやすい。また、高粘度の塗液を用いる場合や厚膜の塗工を行う ときは膜厚変動も大きぐ適していない。 [0006] バーコーティング法は、ロッドに細 、ワイヤを卷 、たバーを用いて基板に塗液を塗 布する方法であり、この方法では、ロッドに巻かれたワイヤが基板に直接接するため、 塗液が非-ユート-アンであったり粘度が高い場合は、レべリング性が悪ぐワイヤの 跡が残ると 、つた欠点を持って 、る。
[0007] ダイコーティング法は、従来力 厚膜の塗工や、高粘度の塗料を連続塗布する用 途に広く採用されてきた。ダイコータを用いて被塗工材に塗膜を形成する場合には、 カーテンフロー法、押し出し法、ビード法などの塗工方法が知られる。通常、ダイコー タの口金を被塗工材に近接させた状態で口金に設けられたスリットから塗料を吐出し て、口金と一定の間隔を保って相対的に走行する被塗工材との間に塗料ビードと呼 ばれる塗料溜りを形成し、この状態で被塗工材の走行に伴なつて塗料を引き出して 塗膜を形成する。そして、塗膜形成により消費される塗料と同量の塗料をスリットから 供給することにより塗膜を連続的に形成するビード法を採用すれば、形成された塗膜 は膜厚の均一性を力なり高い精度で実現することができる。
[0008] そこで近年に至っては、膜厚均一性を要求する間欠塗工においてはダイコータを 用いることが提案されてきており、カラーフィルタの製造などへの応用が種々創案さ れている。
[0009] しかしながら、前記従来の方法では、塗液供給手段を精密化することで一定の膜厚 の均一性を確保できるものの、塗液供給手段やその他駆動部の振動などの影響で ダイ口金力もの吐出に脈動が生じ、塗液ビードが微少に振動して周期的なムラゃ不 規則なムラを発生することがあった。近年では特に表示体用途の分野において、極 めて微少な膜厚変動であっても表示ムラとして視覚的に認識され、品位に影響を及 ぼすとされており、塗膜均一性への要求は日増しに高まる傾向にある。
[0010] ダイコータを用いる方法で更に均一な塗膜を得るためには、膜厚均一性の極限を 追求する必要があるため、送液手段の振動や擦動部の不均一な動き、送液配管の 振動などによる、微少な吐出の脈動や振動を完全に除去することが必要となる。
[0011] 一般的に送液手段力 発生する吐出脈動の影響を除く手段としては、通常エアチ ヤンバゃアキュムレータ等の蓄圧器を設置することが提案されている。
[0012] し力しながら、エアチャンバ等の気密室を設けた構成においては、塗液の滞留部分 が多 、ために変質しやす!/、塗液には好ましくなぐまた空気が塗液に接することによ る変質や溶解の問題がある。蓄圧型アキュームレータにおいては、塗布操作開始時 には蓄圧器によって吐出圧が吸収され、塗液の吐出遅れという問題を生じ、また、塗 布操作停止時には蓄圧器に溜まった圧力が開放されるまで吐出が一定時間続いて しまうという応答性の悪さが指摘される。すなわち、間欠塗工を行う場合に力かる蓄圧 器は均一な塗膜形成を非常に困難にしている (例えば、特許文献 1参照)。
[0013] また、脈動を緩衝する部材として、種々の発泡弾性体を流路内に配することが提案 されているが (例えば、特許文献 2,特許文献 3参照)、液中に配した発泡体から空気 が液中に漏れ出だしたり、あるいは発泡体に液体が浸透することでその弹性能が早 期に失われるなどの問題をもっていた。この点については、該発泡弾性体を被覆コ 一ティングする方法なども考案されて ヽるが、被覆材が弾性体と接着状態である場合 、弾性体の体積変動が被覆材との接着面によって阻害されてその弾性能が損なわ れ、大きな圧力の変動には応答できても微少な脈動の緩衝は困難である。また、被 覆材と弾性体が密着状態であるものの接着状態にな 、場合にぉ 、ては、内部弾性 体の体積変化によって被覆材とのずれが生じることで新たな二次的振動が発生した り、被覆材に皺やくびれが発生して、これも極めて微少な脈動を緩衝する用途にお いては無視できない振動原因となっている。すなわち、従来考案されてきた流体の圧 力脈動を緩衝する手段では、特に表示用デバイスなどの用途において要求される微 少な膜厚ムラを改善する迄には到っておらず、また、吐出脈動の緩衝効果と吐出応 答性を両立するものではな 、ため、間欠塗工における極めて均一な塗膜の形成は 未だ解決されていない。
特許文献 1:特開平 10- 159803号公報
特許文献 2:特開 2000-18202号公報
特許文献 3:特開 2002— 61788号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0014] 本発明は、力かる従来技術の課題を解決せんとするものであり、その目的とするとこ ろは、吐出脈動のな!ヽ膜厚均一性に優れた薄膜塗膜が得られる塗工装置を提供す ることにある。さらには、吐出応答性に優れた高精度の間欠塗工装置、及び塗工方 法を提供することにある。
課題を解決するための手段
カゝかる課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。すなわち、
(1)少なくとも塗液供給手段ど塗液を基材に塗工する塗工手段を具備し、これらが配 管を介して接続されて、塗液を基材に塗工する塗工装置であって、該塗液供給手段 による吐出圧力が及ぶ任意の場所に、吐出脈動を緩衝する部材が配されており、前 記吐出脈動を緩衝する部材が、少なくとも内部に封入された気体と該気体を封入す る材料とからなる部材であることを特徴とする塗工装置。
(2)前記吐出脈動を緩衝する部材の見かけ比重が、前記気体を封入する材料の真 比重に対して 2分の 1以下であることを特徴とする前記(1)に記載の塗工装置。
(3)前記吐出脈動を緩衝する部材の接液面積が該吐出脈動を緩衝する部材の表面 積の 60%以上であることを特徴とする前記(1)または(2)に記載の塗工装置。
(4)前記吐出脈動を緩衝する部材の、下式(1)で表される扁平性指数 Aが 1. 4以上 20以下である前記(1)一 (3)の 、ずれかに記載の塗工装置。
A=S/ (4. 84 XV2/3) (1)
ここで、 Sは、 25°C、 1気圧における前記吐出脈動を緩衝する部材の塗液との接液面 積 (cm2)、Vは前記条件における該吐出脈動を緩衝する部材の体積 V(cm3)を表す
(5)前記気体を封入する材料の 40°C、 90%RHの条件における酸素透過率が 250 Ocm3Zm2'dayMPa以下であることを特徴とする前記(1)一(4)のいずれかに記載 の塗工装置。
(6)塗液を基材に塗工する方法としてダイコーティング法を用いることを特徴とする前 記(1)一 (5)の 、ずれかに記載の塗工装置。
(7)塗液供給手段による流路内圧をさらに高める手段を具備し、該手段によって流 路内圧が高められた区間に前記吐出脈動を緩衝する部材が配されていることを特徴 とする前記(1)一 (6)の 、ずれかに記載の塗工装置。
(8)塗液供給手段として少なくともピストン型定量ポンプが用いられて ヽる前記(1)一 (7)の 、ずれかに記載の塗工装置。
(9)塗工手段から吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Qが 0. 1— 20cm3であること を特徴とする前記 (8)に記載の塗工装置。
(10)前記吐出脈動を緩衝する部材の 25°C、 1気圧における体積 V (cm3)と塗工手 段から吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Q (cm3)力 下記式(2)を満たすことを 特徴とする前記(8)または(9)に記載の塗工装置。
[0016] 0. 05≤V/Q≤2 (2)
(11)吐出開始時の流路内圧の上昇挙動を測定する手段を具備することを特徴とす る前記(8)— (10)の 、ずれかに記載の塗工装置。
(12)前記(1)一(11)のいずれかに記載の塗工装置を用いて基材に塗液を塗工す る塗工方法。
( 13)前記( 12)に記載の塗工方法を用 V、て塗工を行う工程を含むカラーフィルタの 製造方法。
( 14)前記( 12)に記載の塗工方法を用 Vヽて塗工を行う工程を含む LCDアレイ基板 の製造方法。
(15)前記(13)または(14)に記載の方法で得られた、カラーフィルタまたは LCDァ レイ基板を用いたことを特徴とする表示デバイス、である。
発明の効果
[0017] 本発明によれば、吐出脈動の影響を低減した、膜厚均一性の高! ヽ薄膜塗膜を安定 して得ることができ、とりわけ間欠的に基材に塗工する場合に好適である。
[0018] また、塗液流路内の内圧を上昇せしめる場合に、該圧力流路中に配した吐出脈動 を緩衝する部材は、その体積変化の応答性が高まるので、より効果的に吐出脈動を 緩衝するほか、吐出応答性が高ぐ膜厚均一性を更に高めることができる。さらには、 吐出時の流路内圧を測定する手段を具備する場合は、脈動を緩衝する部材の劣化 を検知することも可能となり、より生産性の高い塗布装置とできる。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1]本発明における脈動を緩衝する部材を備えたダイコータ式塗工装置の一実施 例を示すフロー図である。 [図 2]本発明における脈動を緩衝する部材と流路内圧上昇手段及び部材劣化検知 機能を備えたダイコータ式塗工装置の一実施例を示すフロー図である。
[図 3]従来のダイコータを使用した塗工の一実施例を示すフロー図である。
[図 4]従来のダイコーターに公知のエアチャンパ式アキュームレータを組み合わせた ダイコータ式塗工の一実施例を示すフロー図である。
[図 5]実施例 1、 2の膜厚測定結果である。
[図 6]実施例 5の膜厚測定結果である。
[図 7]比較例 1、 2の膜厚測定結果である。
[図 8]比較例 3、 4の膜厚測定結果である。
符号の説明
[0020] 1:塗液タンク
2:吸引側切替弁
3:シリンジポンプ
4:吐出側切替弁
5:脈動緩衝部位
5a:吐出脈動を緩衝する部材
6:ダイ口金
7:基材
8:ステージ
9:圧力計
10:流路内圧上昇手段
11:制御部シーケンサ
12:ポンプ駆動回路
13:エアチャンバ式アキュームレータ
C1:モーター駆動信号
S1:圧力計設定圧到達信号
発明を実施するための最良の形態
[0021] 以下、本発明を実施するための形態を具体例を挙げつつ説明するが、本発明はこ こで挙げた具体例にのみ限定されるものではない。
[0022] 本発明の塗工装置は、膜厚の均一性が求められ、塗液の吐出脈動を問題としてと らえなくてはならないような非常に高い精度を求められる塗布方法に好適に用いるこ とができる。そのような塗布方法としては、ダイコーティング法、ロールコーティング法 、バーコーティング法等が挙げられる。
[0023] 本発明は連続的に塗布を行う場合にも採用できるが、応答性に優れているため間 欠的に塗布を行う場合に極めて優れた特性を発揮する。連続的塗工と間欠的塗工 の区別は、前者に用いる基材は一般的には長尺であり、塗膜が定常塗工状態になる までの非定常塗工部位は原則的には製品化せず定常的に塗工された部分を利用 する塗工方法であるのに対し、後者は 1つの基材に 1回乃至複数回の塗工の停止が 含まれた塗工方法や枚葉型の基材に代表される、塗工初期から塗工終端までの全 ての部位を 1つの製品単位として利用する塗工方法、あるいは、 1つの基材に対する 塗工時間が数分以下若しくは 1つの基材に対する塗布長さが数 m以下である基材に 施す塗工方法として区別される。
[0024] 本発明は吐出脈動の影響を低減し均一な塗膜を得る塗工装置であって、特に間欠 的に塗工を行う装置において好適に用いることのできる技術に関する。本発明の塗 ェ装置に用いる塗液供給手段は塗液を塗工手段に送出する手段であり、例えばギ ャポンプ、ダイヤフラムポンプ、チューブポンプ、 CTポンプ(Coaxial Tubephragm Pump,コガネィ社製)、スネークポンプ、ピストン型ポンプ等の様々な動力機器が挙 げられる。これらの手段は、単独でもちいても良いが複数種を組み合わせて用いても 差し支えない。本発明においては定量性'応答性に優れ均一な膜厚が得られるビス トン型定量ポンプを用いることが好まし 、。
[0025] 本発明の塗工装置によって塗工する方法としては、矩形の基材に均一な膜を形成 すると 、う点で、ロールコーティング法やバーコーティング法やダイコーティング法が 適して!/、るが、ロールコーティング法やバーコーティング法では塗液への異物の混入 や空気曝露による塗液の変質、吸湿のおそれがあり、また、高粘度の塗液や厚膜塗 ェ時の膜厚均一性に優れるという点があるので、ダイコーティング法を用いることが好 ましい。このダイコーティング法においては、塗工手段としては一般的にダイ口金が 用いられる。ダイ口金の形状としては、塗液の粘度と吐出スリットの圧損を考慮したス リット間隙とし、スリット幅は塗布基材の大きさや塗布幅によって決定され、ダイ口金内 部のマ-ホールド形状については、 Tダイやコートハンガーなど、スリット幅方向に均 一な吐出が得られる工夫がなされている。また、マ-ホールド部への塗液注入経路 は 1力所でも良いが数力所に分けてあっても構わない。
[0026] 次に具体例として、ピストン型定量ポンプの 1つであるシリンジポンプを用いたダイコ ータの塗工装置を例に挙げてさらに詳細に説明する。もちろん本発明は、係る態様 に限定されるものではない。
[0027] 図 1は本発明の一実施形態である枚葉塗工装置の一例を示す送液フロー図であり
、塗液貯蔵タンクカゝらダイ口金までの流れを示したものである。塗液タンク 1から下流 に設けられた吸弓 I側切替弁 2を開き、吸弓 I側切替弁 2の下流に設けられたシリンジポ ンプ (塗液供給手段) 3で塗液の吸引を開始する。この状態では吐出側切替弁 4は閉 じられている。
[0028] 塗液が所定量吸引された後に吸引側切替弁 2を閉じ、シリンジポンプ 3の下流に設 けられた吐出側切替弁 4を開きシリンジポンプ 3の送液を開始する。この動作によりス テージ 8上の被塗工材 7とダイ口金 6間に塗液の液だまり(ビード)が形成され、その 後ステージ 8をダイ口金 6に対して相対的に移動させることにより塗膜を形成する。ス テージ 8の移動が所望の塗布面積に達する力、もしくはその前に吐出側切替弁 4を 閉じ、塗工を終了する。
[0029] 本発明では、図 1の態様においては、シリンジポンプ 3からダイ口金 6の間に吐出脈 動を緩衝する部材を配する部位 5を設けて、その中に脈動を緩衝する部材 5aを配し ている。シリンジポンプ 3で吐出シーケンスが開始されると送液配管やダイ口金スリツ トの圧力損失で少なからず流路内圧が上昇し、塗液供給手段等で発生した吐出脈 動は流路内圧の脈動となる。この圧力脈動は、塗膜の厚み変動の要因となるが、塗 液流路内に吐出脈動を緩衝する部材がその影響を緩衝するので、吐出脈動が均一 化され、膜厚変動のない均一塗膜を得ることができる。
[0030] 上記の例では、シリンジポンプ 3とダイ口金 6の間の経路の中に吐出脈動を緩衝す る部材 5aを設けたが、該経路に枝管を設けて前記の脈動を緩衝する部材が封入さ れた室を設けても良ぐエンジニアリング的にはやや困難性がある力 シリンジポンプ 内あるいはダイ口金内に吐出脈動を緩衝する部材を配しても差し支えな ヽ。
[0031] 本発明に用いる吐出脈動を緩衝する部材とは、吐出の脈動によって生じる流路内 圧の変動を、部材の体積変化によって吸収緩和し、流路内圧を均一化する作用を有 する部材であるものが望ましぐ力かる作用を発現させるために必要な性質としては、 振動や衝撃を吸収すること、外圧の変動による体積変化の応答速度が早いこと、塗 液などの接触で塗液および吐出脈動を緩衝する部材の双方が材質変化を起こさな いこと、加圧して吐出脈動を緩衝する部材の密度が高くなつても柔軟性が損なわれ ないこと、体積変動時に振動を発生しないこと、繰り返し圧縮でも塑性変形しないこと 等が挙げられる。
[0032] このような性質を持つ部材として、本発明では内部に封入された気体と該気体を封 入する材料カゝらなる部材を用いる。内部に封入された気体と該気体を封入する材料 力 なる部材をもちいることによって、前記以外の方法、例えば、アクリルゴム、ウレタ ンゴム、シリコーンゴム、ブチルゴム、天然ゴム、フッ素ゴム等のポリマー系エラストマ 一やゲルエラストマ一等の発泡弾性体を用いた場合と比較して、微弱な圧力変動で あっても応答性の良 、体積変化が得られ、間欠塗工における繰り返し圧縮でも塑性 変形せず、長期にわたる連続使用が可能になる。
[0033] また、気体を直接塗液流路中に配する方法と比較して、塗液が気体に接することに よって変質する問題や、送液振動により微細気泡化して該気体が流出し塗布欠点と なる問題、気体が塗液に溶解して一定の気体体積の保持ができず脈動緩衝効果に 経時変化が生じるといった問題が生じない。特に、気体を変形応力の小さい低透過 性の材質にて封入し袋状となす事で、外圧に対する体積変化の応答性に優れ、流 体内で安定した形状を維持しうる部材を得ることができる。
[0034] このような気体を封入するための材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ ステル、ポリビュルアルコール、ポリ塩化ビュル、ポリ塩化ビ-リデン等の汎用フィルム やポリアタリレートゴム、ポリエーテルウレタンゴム、シリコーンゴム、ブチルゴム、天然 ゴム、その他フッ素ゴム等のポリマー系エラストマ一等が挙げられる。気体を封入する ための材料の剛性によって封入された気体の体積変化の応答性が損なわれるようで あれば、十分な脈動緩衝効果を発揮しないおそれがあり、好ましくは気体を常圧で 封入したときの表面硬さがショァ C硬度 70以下になり、更に微弱な脈動を緩衝する目 的においては 50以下となる材料を用いることが好ましぐその様な気体の体積変化を 阻害しな!、材質で封入するのであれば、気体の封止圧は流路内圧にあわせて!/、か ように設定しても良い。なお、本発明において説明するショァ C硬度とは、高分子計 器株式会社製 ASKER (登録商標) C硬度計で求められた値である。また、該吐出脈 動を緩衝する部材の見かけ比重は、該気体を封入する材料の真比重に対して 2分の 1以下であることが好ましぐ好ましくは 4分の 1以下、更に好ましくは 6分の 1以下であ る。下限としては特に制限はないが、余りに小さいと封入された気体のノリア性が損 なわれるので前述のガスノリア性を維持できる程度とすることが好ましい。ここで、該 吐出脈動を緩衝する部材の見かけ比重とは、該吐出脈動を緩衝する全体の部材の 質量を前記部材全体の体積で除算したものであり、気体を封入する材料の真比重と は、内部の気体を除!ヽた気体を封入する材料単体の質量を前記材料単体の体積で 除算したものである。
[0035] さらに、前記気体を封入する材料が具備すべき好ま ヽ性質としては、液体 (塗液 成分)及び気体に対して低透過性を有することと、塗液によっては耐溶剤性などが挙 げられる。気体を封入した脈動脈動を緩衝する部材に圧力をかけると、封入材の材 質によっては塗液が該材料の内部へ浸入したり、逆に封入された気体が透過して外 部へ抜けてしま 、脈動緩衝効果が損なわれる可能性があるため、可能な限りガスバ リア性の高!、封入材を用いた方がよ!ヽ。例えば封入する気体に空気を用いた場合は 、空気の主成分である窒素と酸素の透過率を考慮する必要があり、また生産性の高 い塗工装置を目的とするならば、少なくとも数時間以上の連続使用を考慮する必要 があるため、前記気体を封入する材料は、 40°C、 90%RHの条件における酸素透過 率が 2500cm3/m2'dayMPa以下の材料を用いることが好ましぐさらには後述す る力 流路内圧が高まることによって気体を封入した材料に高圧が力かる場合や、さ らに長期の使用を考慮するならば、酸素透過率が 30cm3Zm2 · day · MPa以下の材 質を用いることがより好ま 、。
[0036] 前記ガスノリア性の高いフィルムとして、表面に金属蒸着処理を施したフィルムや 耐溶剤性の高 、フィルムを用いたり、内壁には熱融着性の材料をコーティング又は 積層し、ヒートシール可能とした複合フィルムも好ましく用いることができる。これら複 合フィルムを用いることは、安価でシール性が良ぐ耐溶剤性の高い吐出脈動を緩衝 する部材を得ることができ好まし 、。
[0037] なお、脈動を緩衝する部材に用いる気体に、酸素よりも透過性が低 ヽ気体、例えば 窒素やアルゴンなどを用いても同様の効果を得ることができる。また、ガスバリア性の 高 、封止材と低透過性のガスを併用することによって更に高 、ガスバリア性を発揮す ることちでさる。
[0038] 本発明の吐出脈動を緩衝する部材のより好ましい形態としては、可能な限り塗液と の接液面積を広く取り、少な ヽ体積でより効果的に脈動の緩衝効果が得られるように したり、および Zまたは、圧縮による皺やくびれを生じない形状とし、脈動を緩衝する 部材の変形で二次的振動が発生しない構造とするのがよい。ここで、接液面積とは、 吐出脈動を緩衝する部材が塗工装置中に配された状態において、塗液と接触して いる面積の合計をいう。
[0039] 接液面積は該脈動を緩衝する部材の表面積の 60%以上、好ましく 80%以上、最 も好ましくは 95%以上とすることが好ま U、。接液面積を該脈動を緩衝する部材の表 面積の 60%以上とすることによって、少ない体積でより効果的に脈動の緩衝効果を 得ることができる。接液面積、表面積は、塗液の圧力 1気圧、温度 25°Cにおける値を 用いる。
[0040] また、前記吐出脈動を緩衝する部材の下記式(1)で表される扁平性指数 Aが 1. 4 以上 20以下であることが好まし 、。
A=S/ (4. 84 XV2/3) . . . (1)
ここで、 Sは、 25°C、 1気圧における脈動を緩衝する部材の塗液との接液面積 (cm2) 、 Vは前記条件における脈動を緩衝する部材の体積 V (cm3)を表す。
[0041] 体積が一定の場合、形状が真球の時に表面積が最小となる。体積 V(cm3)の真球 の表面積は 4. 84 XV2/3となるため、上記式(1)で表される扁平性指数 Aは前記吐 出脈動を緩衝する部材の接液面積が同体積の真球の表面積の何倍である力を表し ており、扁平性指数 Aが大きいほど扁平であることを示している。扁平性指数 Aを 1. 4以上とすることによって特に少ない体積でより効果的に脈動の緩衝効果を得ること ができ、圧縮による皺やくびれを発生せず、脈動を緩衝する部材の変形による二次 的振動を抑制することができる。また、 20以下とすることによって、特に吐出応答性に 優れた塗工装置とすることができる。扁平性指数 Aのさらに好ましい範囲は 3以上 10 以下である。
[0042] 例えば、前記吐出脈動を緩衝する部材を形成するにあたり、 2枚のシート状の封入 用材料を貼り合わせ、外周部をシールした扁平な形状とすることは、気体を球状に封 入した場合と比較して何倍もの接液面積が得られるので、封入された気体の体積が 少なくても十分な脈動緩衝効果が得られ、吐出応答性に優れた脈動を緩衝する部材 となる。また、全表面が塗液に接するよう流路内にに配した部材には、全方向から均 一に圧力が加わるが、上記式(1)満たすよう実質的に扁平な形状とした部材の圧縮 による変形は、より扁平な形状への変形にとどまる。従ってたとえ高い圧縮応力が加 わっても気体を封入する材料に皺やくびれが生じ難ぐ皺やくびれによる体積変化の 遅れや振動発生が抑制でき、また、かかる形状は、材料そのものの変形量を抑えるこ とが可能であり、耐屈曲性、塑性変形応力、弾性回復力等の気体を封入する材料の 力学特性に対する要求特性も軽くなる利点があり、材料の選択の幅が広がるので好 ましい。
[0043] し力しながら扁平性指数 Aを無制限に大きく取ることは流路内への配置を難しくす るほか、封止用材料の体積ば力りが増大し見かけ比重の減少にもつながり、脈動緩 衝に有効に働く気体部分の実質的な接液面積を大きく取ることに貢献しなくなる。従 つて、扁平性指数 Aは 20以下であることが好ましい。また、扁平性指数 Aのより好まし い範囲は 2以上 10以下である。
[0044] 本発明の吐出脈動脈動を緩衝する部材において、その封止される体積としては特 に制限はなぐ緩衝したい脈動強度と要求される吐出応答性に応じて適宜定めれば よい。前記吐出脈動を緩衝する部材はポンプの吐出安定性 ·吐出応答性が最重要 視される間欠塗工の用途に好ましく用いることができる。
[0045] 間欠塗工の用途においては、その吐出速度は低速であることが多ぐこの様な目的 に好適に用いられるポンプとしては、例えばピストン型定量ポンプが挙げられる。吐 出速度については塗布対象となる基材の大きさや塗布速度等、その用途において 設計される数値であって、特に限定するものではないが、本発明の脈動脈動を緩衝 する部材は、特に塗工手段から吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Qが 0. 1— 20 cm3である、極めて吐出速度の小さなポンプにおいて発生する脈動であっても、微少 な脈動の緩衝と吐出応答性を両立することが可能である。
[0046] 前記ピストン型定量ポンプの様に、機構的に吐出安定性に優れたポンプを使用す る場合は、吐出応答性を悪化させることなくさらに脈動緩衝効果を高めることが重要 である。このような間欠塗工の場合には、前記吐出脈動を緩衝する部材の 25°C、 1気 圧における体積 V (cm3)と塗工手段から吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Q (cm 3)力 下記式(2)を満たすことが好ましい。さらに好ましくは、下記式(3)を満たすこと が好ましい。
[0047] 0. 05≤V/Q≤2 (2)
0. 05≤V/Q≤0. 5 (3)
上記式(2)、好ましくは上記式(3)を満たすことによって、特に脈動緩衝効果と吐出 応答性に優れた塗工装置とすることができる。
[0048] 本発明の塗工装置の好ましい態様として、本発明の塗工装置は図 2に図示するご ときの塗液供給手段とは別の流路内圧をさらに高める手段 10を具備することが好ま しい。流路内圧をさらに高める手段とは、該手段を設けたときの塗液供給手段により 高まる流路内圧が該手段を設けないときの流路内圧の 1. 1倍以上となる領域を生じ る手段をいう。係る手段で流路内圧が高められた場所に吐出脈動を緩衝する部材が 配されると、微少な吐出脈動であっても高められた流路内圧によって該部材による緩 衝の応答性が向上し、より効果的に脈動を緩衝させることができるほか、瞬間的に発 生する負圧の脈動であっても該部材の体積復元によって吐出を安定させることが可 能である。流路内圧を上昇せしめる手段 10としては、流路配管の一部を細くすること や、流路途中にオリフィスや開度調整バルブを設置する等の方法を挙げることができ る。
[0049] 本発明において、塗工装置中の標準的な流路内圧としては特に制限は無いがェン ジニアリング上の経済性をふまえると上限としては IMPa以下の範囲が好ましぐシリ ンジポンプのような吐出脈動の少な 、定量間欠吐出を目的としたポンプを用いる場 合は、さらに低い内圧でも十分な効果が期待できるため、ピストンのシール性ゃ流路 切替弁の作動圧を考慮すれば 0. 5MPa以下とすることがより好ましい。下限としては 特に制限はないが、流路内圧が脈動を緩衝する部材を圧縮させうる圧力に達してい なければ、当然のことながら体積変動による圧力脈動の緩衝効果は生まれないため 、脈動を緩衝する部材に気体を用いる場合であっても、少なくとも常圧以上の内圧に しておくことが好ましい。
[0050] さらには、ポンプ吐出側に配した圧力センサと記録計等により、吐出開始直後から 徐々に高まる流路内圧の上昇勾配を把握し脈動脈動を緩衝する部材の劣化を検知 する手段を具備することによって、警報を発して点検を促したり、ポンプの供給を停止 する等への利用も可能となる。
[0051] 以上説明した実施形態はほんの一実施形態であり、本発明の要旨を損なわない範 囲で種々の変更が可能であり、本発明は上述した具体的な実施形態に限定されるも のではなぐ均一な間欠的塗工が要求される各種表示デバイス、表示デバイス用カラ 一フィルタ、光学フィルタ等のあらゆる分野への応用が可能である。
[0052] 例えば、カラーフィルターの製造工程に用いるときは、 RGBの各画素や画素間に 存在するブラックマトリクス、また、オーバーコート層の全て若しくは一部を本発明の 塗工装置を用いて行 、、画素やブラックマトリクスの場合は塗液自身に感光性をもた せあるいは更にその上に感光性レジストを塗布し、フォトリソグラフィ一法を用いてパ ターン形成することができる。得られたパターンは必要により熱硬化などの処理を行 い、また、電極や配向膜などの構成を形成する工程を経て、カラーフィルタ一となる。 LCDアレイにっ 、ても同様であり、本発明の塗工装置な!/、しは塗工方法を用いる他 は従来公知の方法を用いることで LCDアレイを製造することができる。
実施例
[0053] 以下、本発明について実施例を挙げて、より具体的に説明するが、本発明はこれら 実施例に限定されるものではな 、。
(評価方法)
A.酸素透過率 JIS K 7129 (1999)に従って、モダンコントロール社製、 OX— TRAN2Z20を用 いて、温度 40°C、湿度 90%RHの条件下で測定した。
B.干渉ムラ
塗膜の均一性の評価として、波長 589nmの単一波長の Naランプを乾燥塗膜表面 に照射しその反射光を目視にて観察する手法を用いた。この評価方法は単一波長 の光源を使用することでガラス表面と塗膜表面力ゝらの反射光が干渉し、極めて微少 な塗膜の膜厚変動であっても干渉ムラとして視認できる評価方法である。
塗工方向にみた塗工開始位置からの距離 (以下、塗工距離とする)が、塗工開始位 置力も塗工終了位置までの距離の 30— 70%である範囲について、塗布方向に垂直 な方向(ダイ口金に平行な方向)を長手方向とするスジ状の干渉ムラが存在する力観 察し、以下の基準で判断した。
優:干渉ムラが全く存在しな 、
良:ごく薄 、干渉ムラが存在する
可:薄い干渉ムラが存在する
不可:濃 ヽ干渉ムラが存在する
干渉ムラが不可の場合、カラーフィルターの着色層に用いる場合は、薄膜トランジ スタ基板を用いた液晶表示パネルと張り合わせ表示モニタとした際に画面の濃淡ム ラとなり使用することができない。また、カラーフィルタの保護膜ゃスぺーサー柱材の 塗布、 LCDパネルとする際の配向膜の塗布に用いる場合、 LCD液晶層のギャップム ラゃ配向ムラとなって、表示モニタとしての品位を悪化させるため使用することが出来 ない。
C.平均膜厚、塗工安定距離、膜厚分布幅
大塚電子製の接触膜厚計 (装置名: MCPD-2000)を用いて、塗布幅の中央線上の 膜厚を、塗工距離 2mm— 450mmの範囲について、 2mm間隔で膜厚を測定した。 a.平均膜厚
塗工距離 400mm— 450mmの範囲(定常塗工部)の膜厚の平均値を平均膜厚と した。
b.膜厚分布幅 塗工距離 400mm— 450mmの範囲(定常塗工部)における膜厚の最大値と最小 値の差を膜厚分布幅 Rとし、下記基準で評価した。
優:膜厚分布幅 Rが 0. 005 /z m以下
良:膜厚分布幅尺力 s0. 005 /z mJり大さく、力つ 0. 01 /z m以下
可: II厚分布幅尺力 s0. 01 /z mより大さく、力つ 0. 03 /z m以下
不良:膜厚分布幅 Rが 0. 03 mより大きい
膜厚分布幅 Rは小さいほど好ましいが、 0. 03 m以上の場合、カラーフィルターの 着色層に用いる場合は、液晶表示装置用薄膜トランジスタ液晶パネルと張り合わせ 表示モニタとした際に画面の濃淡ムラとなり使用することができない。
また、カラーフィルタの保護膜ゃスぺーサー柱材の塗布に用いる場合は、液晶表示 装置の液晶層のギャップムラとなり表示モニタとしての品位を悪ィ匕させるため使用す ることが出来ない。
c塗工安定距離
塗工距離 2mm力 塗工距離の大きな方向に順に観察した際、最後に上記平均膜 厚の ±0. 5%の範囲外となる点の塗布開始点力もの距離を塗工安定距離とし、下記 基準で評価した。
優:塗工安定距離が 10mm以下
良:塗工安定距離が 10mmより大きぐかつ 15mm以下
可:塗工安定距離が 15mmより大きぐかつ 20mm以下
不可:塗工安定距離が 20mmより大き 、か、もしくは塗工距離が 50mmより大き ヽ範 囲で上記平均膜厚の ±0. 5%の範囲外となる点が存在する
塗工安定距離は小さいほど好ましいが、 20mm以上になると、特に間欠塗工の用 途においては一つの基材内で不良となる領域が増えるため使用上問題となる場合が ある。
D.連続使用性能
連続して 1000枚のガラス基板に塗工を行い、 500枚目、 1000枚目の塗膜につい て、上記 A項の干渉ムラ評価を行い、以下の基準で判断した。
優: 1000枚目の塗膜の干渉ムラが優である 良: 1000枚目の塗膜の干渉ムラが良、または可である
可: 500枚目の塗膜の干渉ムラは優、良または可であり、かつ 1000枚目の塗膜の干 渉ムラが不可である
不可: 500枚目および 1000枚目の塗膜の干渉ムラが共に不可である
(実施例 1)
図 1に本実施例で用いた塗工装置であるスリットダイ方式塗工装置の送液フロー図 を示す。塗液供給手段として内径 18mmのピストン型シリンジポンプ 3を用い、塗工手 段として吐出スリット幅 620mm、スリット間隙 100 mのダイ口金 6を使用した。また、 塗液滞留部を極力排した構造の吐出脈動を緩衝する部材を封入する室 5を流路に 設け、吐出脈動を緩衝する部材 5aとして、大きさ 20 X 20mm、厚み 100 /z m (酸素 透過率: 800cm3Zm2 · day-MPa)のポリエチレンフィルムを 2枚貼り合わせ、外周部 の幅 2mmをヒートシールすることで内部に 0. 8cm3の空気を封入した部材を用いた 。この部材の見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 091倍、接液面積は 表面積の 100%、扁平性指数 A= l. 84、VZQ = 0. 343であった。本塗工装置を 用いて、 620 X 750mmで厚さ 0. 7mmの無アルカリガラス基板に、ジエチレングリコ ールジメチルエーテルを溶媒とする固形分濃度が 16重量%のアクリル系透明ポリマ 一溶液 (フォトスぺーサー用アクリルポリマー)を塗布した。
[0055] ここで、塗布前の事前準備としてまず塗液を塗液タンク力 投入し、(1)吸引側切替 弁 2を開ぐ(2)シリンジポンプ 3で塗液を吸引する、(3)吸引側切替弁 2を閉じる、(4)吐 出側切替弁 4を開ぐ(5)シリンジポンプ 3で塗液を吐出する、(6)吐出側切替弁 4を閉 じる、以上 (1)一 (6)のサイクルを塗工タンク一ダイ口金までの塗液流路内の気液置換 が完全に完了するまで実施した。
[0056] 塗液流路内の残留気泡を完全に排した状態で、吸引側切替弁 2を開いた後にシリ ンジポンプ 3で塗液を 20. 76cm3吸引し、ステージ 8に吸着固定した基材 7 (ガラス基 板)の短辺側端部にダイ口金 6を 100 mまで近接させ、塗液吐出速度 2. 563cm3 Z秒でシリンジポンプ 3の吐出を開始した。スリット口金 6の先端とガラス基板 7の間に 塗液ビードを形成した後、そのまま吐出を継続しつつステージ 8を 6mZ秒の速度で 750mm移動させ 620 X 750mmのガラス基板 7全面に均一塗膜を形成した。また、 塗液供給手段から塗工手段までの流路内圧は 0. OlMpa (塗液経路で発生する配 管圧損のみ)とした。
[0057] 塗布後の基板はただちに真空チャンバ室に投入して真空乾燥した後、ホットプレー ト式の硬化炉にて 90°Cで 10分間乾燥硬化させて平均膜厚 3. 73 μ mの乾燥塗膜を 得た。
評価結果を表 1に示す。
[0058] [表 1]
Figure imgf000020_0001
A.干渉ムラ
塗布方向に垂直な方向(ダイ口金に平行な方向)を長手方向とする、薄いスジ状の 干渉ムラが確認できた。このスジ状の干渉ムラは、スリット口金力も塗液を吐出しつつ ステージを移動させて塗膜形成を行う際に、ダイ口金力ゝらの吐出速度が微妙に変化 することで塗液ビードが振動し、ガラス基板への液盛り量が変化したことに起因する 微少な膜厚ムラによるものである。本実施例で得た基板は薄 ヽスジ状ムラが視認され る為可とした。
B.平均膜厚、塗工安定距離、膜厚分布幅
本実施例における平均膜厚は 3. 73 μ mで塗工が安定したと判断する評価範囲は 3
. 71-3. 75である。塗工安定距離は 12mmであり、良と判断した(図 5— a)。
定常塗工領域における膜厚分布幅は、 R=0. 012 mとなり可と判断した(図 5-b)
C.連続使用性能
1000枚目の干渉ムラ評価が可であったため良と判断した。
(実施例 2)
図 2に図示したフロー図のごとぐ流路内圧を上昇させる手段 10として-一ドルバル ブを設置し、塗液供給手段と該ニードルバルブの間の流路圧力を圧力計 9の指示値 が 0. IMPaとなるまでバルブ開度を調整した後、実施例 1と同様にして塗膜形成を 行った。
評価結果を表 1に示す。
A.干渉ムラ
スジ状の干渉ムラが全く視認されず優と判断した。
B.平均膜厚、塗工安定距離、膜厚分布幅
塗工安定距離は 14mmで良と判断した (図 5-c)。
定常塗工領域においては、膜厚分布幅が R=0. 004 mであり、実施例 1と比較し て大幅に改善し優と判断した(図 5— d)。
C.連続使用性能
500枚目の干渉ムラ評価は可、 1000枚目は不可であったため、連続使用性能は可 と判断した。
また、 1000枚塗布を終了したバルーン体積をメスシリンダーにて測定したところ、当 初封止材を含むバルーン体積が約 0. 9cm3から約 0. 6cm3に減少していた。 ニードルバルブで流路内圧を高めていることもあり、封入した空気がバルーンの材質 であるポリエチレンを透過し、徐々に流出したものと推測できる。
(実施例 3)
図 2に図示したフロー図のごとく、吐出脈動を緩衝する部材 5aの気体を封入する材 料として、大きさ 20 X 20mm、厚み 112 μ mのガスバリアフィルム(三菱ガス化学株 式会社 PTS袋: 5cm3Zm2'dayMPa)を用いた以外は実施例 2と同様にして塗膜 形成を行った。この部材の見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 107倍 、接液面積比は表面積の 100%、扁平性指数 A= l. 82、VZQ = 0. 350であった 評価結果を表 1に示す。
A.干渉ムラ
スジ状ムラが全く視認されず優と判断した。
B.平均膜厚、塗工安定距離、膜厚分布幅
塗工安定距離は 14mmで良と判断した。
定常塗工領域においては、膜厚分布幅が R=0. 004 mであり優と判断した。
C.連続使用性能
500枚目、 1000枚目の評価が共に干渉ムラが全く視認されず優であり、連続使用 性能は優と判断した。
1000枚塗布を終了したノ レーン体積をメスシリンダーにて測定したところ、吐出脈 動を緩衝する部材の体積は約 0. 9cm3でほとんど変化は見られな力つた。
ガスバリア性の高い材料を用いることにより吐出脈動を緩衝する部材の連続使用性 能を飛躍的に向上できることが確認できた。
(実施例 4)
吐出脈動を緩衝する部材の劣化を検知する方法として、図 2に図示するフロー図の ごとぐ制御部シーケンサ 11がシリンジモータ駆動回路 12へ吐出開始信号 C1を送 信すると、シリンジポンプの吐出開始に伴い上昇する流路内圧を圧力計 9で測定し、 流路内圧が設定圧力(0. 095MPa)に到達した時点で、圧力到達信号 S1を制御部 シーケンサ 11へ出力する構成とした。この時の C1出力から S1入力迄の時間を制御 部シーケンサ 11の内部タイマで計測した。
上記流路内圧の上昇挙動を測定する手段を設けた以外は実施例 2と同様にして、 連続塗布開始直後の流路内圧の到達時間は約 0. 9秒であつたが、 200枚終了時点 での圧力到達時間は約 0. 85秒、 500枚塗布終了時点での圧力到達時間は約 0. 8 秒、 100枚塗布終了時点での圧力到達時間は約 0. 6秒と短くなる傾向にあった。脈 動吸収部材の体積を測定した結果も 1000枚塗布終了時点では 0. 3cm3の体積減 少が確認できたことから、脈動を緩衝する部材の劣化を流路内圧力の上昇勾配で検 知できることが確認できた。
(実施例 5)
さらに吐出応答性を向上させる目的で、封入する気体の体積を 0. 7cm3とし、封止 形状を 25 X 30mmとした以外は実施例 3と同様に塗膜形成を行った。この吐出脈動 を緩衝する部材の見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 194倍、接液面 積は表面積の 100%、扁平性指数 A= 3. 46、 V/Q = 0. 339であった。評価結果 を表 2に示す。
A.干渉ムラ
乾燥塗膜の Naランプによる反射観察にぉ 、て、スジ状ムラが全く視認されず優と判 断した。
B.平均膜厚、塗工安定距離、膜厚分布幅
塗工安定距離は 10mmで優と判断した (図 6 - a)。
定常塗工領域においては、膜厚分布幅が R=0. 004 mであり優と判断した(図 6— b)。
C.連続使用性能
500枚目、 1000枚目の評価で共に干渉ムラが全く視認されな力つたため連続使用 性能は優と判断した。
1000枚塗布を終了したノ レーン体積をメスシリンダーにて測定したところ、封止材を 含むバルーン体積約 0. 8cm3にほとんど変化は見られなかった。
塗布状態における流路中に配したバルーンの状態を目視にて確認したところ、圧縮 状態における変形でも扁平に潰れることで、フィルムに折れ目や皺が一切見られず 良好であった。
(実施例 6)
吐出脈動を緩衝する部材として、外径 6mm、内径 4mmのシリコーンチューブ(酸 素透過率 5000cm3Zm2'dayMPa以上)の両端に栓をして、内部に約 0. 68cm3 の空気を封入した部材を使用し、実施例 5と同様に塗膜形成を行った。この部材の 見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 6倍、接液面積は表面積の 100% 、扁平性指数 A= l. 97、 V/Q = 0. 662であった。評価結果を表 1に示す。干渉ム ラは可、塗工安定距離は 17mm (可)であった。また、膜厚分布幅は R=0. 016 m (可)であった。連続使用性能は可であった。
(実施例 7)
吐出脈動を緩衝する部材として、実施例 5で用いた吐出脈動を緩衝する部材の両 端 2mmの幅を金具で封入容器壁面に固定し、片面が接液しな 、状態とした部材を 使用し、実施例 5と同様に塗膜形成を行った。この部材の見かけ比重は気体を封入 する材料の真密度の 0. 113倍、接液面積は表面積の 40%、扁平性指数 A= l. 73 、 V/Q = 0. 339であった。評価結果を表 2に示す。干渉ムラは可、塗工安定距離 は 12mm (良)、膜厚分布幅は R=0. 016 m (可)であった。また、連続使用性能は 優であった。
[表 2]
実施例 6 実施例 7 実施例 8 実施例 9
3ΪΙ体 空気 空気 空気 空気 吐出脈動を (体積) (0. 68cm3) (0. 7cm3) (0. 7cm3) (0. 7cm") 緩衝する部材 気体を封入する シリコーン ガスバリア ガスバリア ガスバリア 材料 チューブ フィルム フィルム フィルム 見かけ比重/材料の真比重 0.600 0.1 13 0.067 0.672 接液面積の表面積に対する割合
100 40 100 100
(%)
扁平性指数 A 1.97 1.73 1.16 16.0 気体を封入する材料の
酸茶 過率 5000以上 5 5 5 (cm 3/m - day- MPa)
流路内圧をさらに高める手段 ニート'ルハ'ルフ' 二-ドルハ'ルフ' 二-ト 、'ルブ 二—ドルハ レブ
(内圧) (0. 1 MPa) (0. 1 MPa) (0. 1 MPa) (0. 1 MPa)
V/Q 0.662 0.339 0.832 0.832 干渉ムラ
(Naランプ観察) 可 可 良 良 可 可 良 良 膜厚分布幅
(0.016〃 m) (0.016 i m) (0.010 // m) (0.008 i m) 可 良 良 可 塗工安定距離
(1 7mm) (12mm) (12mm) (16mm) 連続使用性能 可 良 良 良
(実施例 8)
吐出脈動を緩衝する部材として、大きさ 15 X 15mm、厚み 112 mのガスバリアフ イルム(三菱ガス化学株式会社 PTS袋)を 2枚貼り合わせ、外周部の幅 2mmをヒー トシールすることで内部に 0. 7cm3の空気を封入した部材を使用し、実施例 5と同様 に塗膜形成を行った。この部材の見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 067倍、接液面積は表面積の 100%、扁平性指数 A= l. 16、 VZQ=0. 832であ つた。評価結果を表 2に示す。干渉ムラは良、塗工安定距離は 12mm (良)、膜厚分 布幅は R=0. 010 /z m (良)であった。また、連続使用性能は良であった。
(実施例 9)
吐出脈動を緩衝する部材として、大きさ 80 X 80mm、厚み 112 μ mのガスバリアフ イルム(三菱ガス化学株式会社 PTS袋)を 2枚貼り合わせ、外周部の幅 2mmをヒー トシールすることで内部に 0. 7cm3の空気を封入した部材を使用し、実施例 5と同様 に塗膜形成を行った。この部材の見かけ比重は気体を封入する材料の真密度の 0. 672倍、接液面積は表面積の 100%、扁平性指数 A= 16. 0, V/Q = 0. 832であ つた。評価結果を表 2に示す。干渉ムラは良、塗工安定距離は 16mm (可)、膜厚分 布幅は R=0. 008 m (良)であった。また、連続使用性能は良であった。
(比較例 1)
図 3に図示するフロー図のごとぐ吐出脈動を緩衝する部材を使用しな力つた以外 は実施例 1と同様に塗膜形成を行った。評価結果を表 3に示す。干渉ムラは不可で めつに。
[0063] 吐出応答の遅れを生じる緩衝部材が存在しないため塗工距離の小さな領域での膜 厚の乱れは少なくなつたが(図 7— a)、塗工距離 50mm以降でも平均膜厚の ±0. 5 %の範囲外となる点が存在したため、不可と判断した。膜厚分布幅は R=0. 041 μ m (図 7— b、不可)であった。
[0064] また、 500枚目、 1000枚目の塗膜の干渉ムラが共に不可であったため、連続使用 性能は不可と判断した。
[0065] [表 3]
比較例 1 比較例 2 比較例 3 比較例 4
3 体 空気
なし 吐出脈動を (体積) ( 1 cm3)
なし (シリコ-ン 緩衝する部材 気体を封入する
なし なし 発泡: Γ厶) 材料
見かけ比重ノ材料の真比重 ― ― ― 0.5 接液面積の表面積に対する割合 一 ―
(%) ― 100 扁平性指数 A ― ― ― 5.67 気体を封入する材料の
酸素透過率 ― ― ― ―
(cm"3/m -day Pa)
流路内圧をさらに高める手段 o なし なし なし なし
VZQ 0 ¾ 1.951 0.390 1.249 干渉ムラ
(Naランプ観察) 不可 良 可 可
m良 可 可 膜厚分布幅
(0.01 O !y m) (0.017 // m) (0.016 ju m) 不可 不可 良 良 塗工安定距離
( > 50min) (22mm) (14mm) (12mm) 連続使用性能 不可 良 不可 不可
(比較例 2)
図 4に図示するフロー図のごとぐ吐出脈動を緩衝する部材を使用せず、エアチヤ ンバ式アキュームレータ一(容積 50cm3、気密量 5cm3)を用いた以外は実施例 1と同 様に塗膜形成を行った。評価結果を表 3に示す。干渉ムラは良、塗工安定距離は 22 mm (図 7— c、不可)、膜厚分布幅は R=0. 010 /z m (図 7— d、良)であった。また、 5 00枚目、 1000枚目の塗膜の干渉ムラが共に良であったため、連続使用性能は良と 判断した。
気体を封入する材料を用いず、塗液中に直接気体を配するエアチャンバ式アキユー ムレーターを用いたため、干渉ムラの低減にはある程度の効果が得られた力 吐出 応答性を満足することは出来な力つた。 (比較例 3)
吐出脈動を緩衝する部材を使用せず、エアチャンバ式アキュームレータ一 (容積 5 0cm3,気密量 lcm3)を用いた以外は実施例 1と同様に塗膜形成を行った。評価結 果を表 3に示す。干渉ムラは可、塗工安定距離は 14mm (図 8ι、良)、膜厚分布幅 は R=0. Ο17 /ζ πι ( 8— 可)、連続使用性能は不可であった。
(比較例 4)
吐出脈動を緩衝する部材として、大きさ 40 X 40mm、厚み 6mmのシリコーンゴム の発泡体を使用流路液中に配した以外は実施例 1と同様に塗膜形成を行った。評価 結果を表 3に示す。気体を内部に封止する構成の部材を用いな力つたため干渉ムラ は可、塗工安定距離は 12mm (図 8— c、良)、膜厚分布幅は R=0. Ο16 ^ ιη (08-ά 、可)であった。また、連続使用性能は不可であった。
(実施例 10、比較例 5)
本発明を用いてフォトスぺーサー柱付きカラーフィルタ、及び液晶表示パネルを作成 した。
(カラーフィルタの作成)
(榭脂ブラックマトリクスの作成) 3, 3 4, 4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 4, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル、および、ビス(3—ァミノプロピル)テトラメチルジシ ロキサンを Ν—メチルー 2—ピロリドンを溶媒として反応させ、ポリイミド前駆体 (ポリアミツ ク酸)溶液を得た。下記の組成を有するカーボンブラックミルベースをホモジナイザー を用いて、 7000rpmで 30分分散し、ガラスビーズを濾過して、ブラックペーストを調 製した。カーボンブラックミルベースカーボンブラック (MA100、三菱化成 (株)製):4 . 6部、ポリイミド前駆体溶液: 24. 0部、 N—メチルピロリドン: 61. 4部、ガラスビーズ: 90. 0部、 300 X 350mmのサイズの無アルカリガラス(日本電気ガラス(株)製、 OA —2)基板上にスピナ一を用いて、ブラックペーストを塗布し、オーブン中 135°Cで 20 分間セミキユアした。続いて、ポジ型レジスト(Shipley Microposit (登録商標) RC1 00 30cp)をスピナ一で塗布し、 90°Cで 10分間乾燥した。レジスト膜厚は 1. 5 mと した。キャノン (株)製露光機 PLA-501Fを用い、ブラックマトリックス部、額縁部、画 面外に柱の一部(土台部)のパターンをもつフォトマスクを介して、露光を行った。次 に、テトラメチルアンモ-ゥムヒドロキシド (TMAH)を 2重量0 /0含んだ 23°Cの水溶液 を現像液に用い、基板を現像液にディップさせ、同時に 10cm幅を 5秒で 1往復する ように基板を揺動させて、ポジ型レジストの現像とポリイミド前駆体のエッチングを同時 に行った。現像時間は、 60秒であった。その後、メチルセルソルブアセテートでポジ 型レジストを剥離し、さら〖こ、 300°Cで 30分間キュアし、ブラックマトリックス部、額縁部 、土台部のパターンを有する榭脂ブラックマトリクス基板を得た。榭脂ブラックマトリク スの膜厚は、 0. 90 /z mであり、 OD値は 3. 0であった。また、榭脂ブラックマトリクスと ガラス基板との界面における反射率 (Y値)は 1. 2%であった。画面外の榭脂ブラック マトリックスによる柱の土台の面積は約 50000 m2であった。柱の土台は、画面外 の液晶表示装置にした際に切り落とされる領域にも形成されている。約 lcm2あたり 1 個の割合で等間隔で周期的に配置した。
(着色層の作成)次に、赤、緑、青の顔料として各々 Color index No. 65300 Pigm ent Red 177で示されるジアントラキノン系顔料、 Color Index No. 74265 Pigme nt Green 36で示されるフタロシア-ングリーン系顔料、 Color Index No. 74160 Pigment Blue 15— 4で示されるフタロシアニンブルー系顔料を用意した。ポリイミド 前駆体溶液に上記顔料を各々混合分散させて、赤、緑、青の 3種類の着色ペースト を得た。
まず、基板上に青ペーストを塗布し、 80°Cで 10分熱風乾燥し、 120°C20分間セミキ ユアした。この後、ポジ型レジスト(Shipley Microposit (登録商標) SRC 100 30c p )をスピナ一で塗布後、 80°Cで 20分乾燥した。マスクを用いて露光し、アルカリ現 像液 (Shipley Microposit (登録商標) 351)に基板をディップし、同時に基板を摇 動させながら、ポジ型レジストの現像およびポリイミド前駆体のエッチングを同時に行 なった。その後、ポジ型レジストをメチルセルソルブアセテートで剥離し、さらに、 300 °Cで 30分間キュアした。着色画素部の膜厚は 1. 7 mであった。このパターユング により青色画素の形成とともに額縁上、画面外のブラックマトリックスの土台上にさら に青の着色層の土台を形成した。画面外の青の着色層の土台の面積は約 25000 μ m 、額縁上の青の着色層の土台の面積は約 500 μ mであった。
水洗後に、同様にして、赤色画素の形成をおこなった。柱の土台の形成は新たに行 わなかった。
赤色画素部の膜厚は、 1. 8 mであった。
さらに水洗後に、同様にして、緑色画素の形成した。柱の土台は形成しな力つた。緑 色画素部の膜厚は、 1. 5 mであった。
(フォトスぺーサー柱の作成)
柱材料に感光性の JSR製ネガ型アクリル系材料 (NN810または NN700)を使用し 、実施例 10においては、実施例 5の塗工装置を用い、比較例 5においては比較例 1 の塗工装置を用いて実施例 5と同様に上記着色層形成基板上に塗布した。
[0067] 塗布後の基板はただちに真空チャンバ室に投入して真空乾燥した後、ホットプレー ト式の硬化炉にて 90°Cで 10分間乾燥硬化させて、全く干渉ムラの見られない平均膜 厚 3. 73 mの乾燥塗膜を得た。
次に露光機(canon ?1^\—50 ^)を用ぃて20011]17。1112 (i線)を照射しマスク露光 した。 TMAH水溶液 (0. 15%)に基板をディップし、同時に基板を揺動させながら、 現像パターンユングを同時に行なった。このパターユングにより柱を、画面内と額縁 上、画面外のブラックマトリックスの土台上に形成した後、ホットプレート式の硬化炉に て 279°Cで 20分間乾燥硬化した。
[0068] 画面内の榭脂の柱の上面積は約 110 m2であり、榭脂層の下面積は約 120 m2 であった。額縁上にも上面積約 110 m2であり、下面積も約 120 m2ものを形成し た。画面外の榭脂の柱の上面積は約 10000 μ m2で(サイズ 100 X 100 m)あり、 榭脂層の下面積は約 12000 m2 (サイズ 110 X I 10 m)であった。柱高さは 3. 1 /z mであった。なお、画面内の柱は、 3W¾ (1W¾: 100 ^ m X 300 μ m)に 1個の 割合で設けた。
[0069] フォトスぺーサー柱付きカラーフィルタをハロゲンランプ照明で観察すると、柱高さ のバラツキは反射ムラとして視認される力 実施例 10の塗工装置で塗布し得られたフ オトスぺーサ柱付きカラーフィルタは、フォトスぺーサ一の高さムラに起因する反射ム ラが視認されず、極めて良好なものであった。一方、比較例 5の塗工装置で塗布し得 られたフォトスぺーサ柱付きカラーフィルタでは、フォトスぺーサ一の高さムラに起因 する強 、反射ムラが視認され、品位の劣るものであった。 (実施例 11)
(カラー液晶パネル体の作製)実施例 10のカラーフィルタ上にポリイミド系の配向膜を 設け、ラビング処理を施した。また、薄膜トランジスタ素子を備えた透明電極付の対向 基板を作成し、同様にポリイミド系の配向膜を設け、ラビング処理を施した。配向膜を 設けたカラーフィルタと薄膜トランジスタ素子を備えた透明電極基板とをシール剤を 用いて貼り合わせた後に、画面外の不要な領域を切り落とした。次にシール部に設 けられた注入ロカゝら液晶を注入した。液晶の注入は、空セルを減圧下に放置後、注 入口を液晶槽に浸漬し、常圧に戻すことにより行った。液晶を注入後、注入口を封止 し、さらに偏光板を基板の外側に貼り合わせセルを作製した。得られた液晶パネル体 は、高さムラの無いフォトスぺーサー柱によって均一なセルギャップが確保でき、良好 な表示品位のものであった。
産業上の利用可能性
本発明は基材に塗液を塗布する塗工装置において、送液ポンプの振動などに起 因する吐出脈動が塗膜の均一性を損なう場合に、その吐出脈動を低減することで均 一な塗膜形成を実現する技術である。特に表示体用途の分野においては、極めて 微少な膜厚変動であっても表示ムラとして視覚的に認識され、品位に影響を及ぼす とされているため、本発明の塗工装置はこれら表示用デバイスの薄膜塗布技術に好 適に用いることが出来る。

Claims

請求の範囲
[1] 少なくとも塗液供給手段ど塗液を基材に塗工する塗工手段を具備し、これらが送液 配管を介して接続されて、塗液を基材に塗工する塗工装置であって、該塗液供給手 段による吐出圧力が及ぶ任意の場所に、吐出脈動を緩衝する部材が配されており、 前記脈動を緩衝する部材が、少なくとも内部に封入された気体と該気体を封入する 材料とからなる部材であることを特徴とする塗工装置。
[2] 前記吐出脈動を緩衝する部材の見かけ比重が、前記気体を封入する材料の真比 重に対して 2分の 1以下であることを特徴とする請求項 1に記載の塗工装置。
[3] 前記吐出脈動を緩衝する部材の接液面積が該吐出脈動を緩衝する部材の表面積 の 60%以上であることを特徴とする請求項 1または 2に記載の塗工装置。
[4] 前記吐出脈動を緩衝する部材の、下式(1)で表される扁平性指数 Aが 1. 4以上 20 以下であることを特徴とする請求項 1一 3のいずれかに記載の塗工装置。
A=S/ (4. 84 XV2/3) (1)
ここで、 Sは、 25°C、 1気圧における前記脈動を緩衝する部材の塗液との接液面積 (c m2)、 Vは前記条件における前記脈動を緩衝する部材の体積 V (cm3)を表す。
[5] 前記気体を封入する材料の 40°C、 90%RHの条件における酸素透過率が 2500c m3Zm2' day MPa以下であることを特徴とする請求項 1一 4のいずれかに記載の塗 ェ装置。
[6] 塗液を基材に塗工する方法としてダイコーティング法を用いることを特徴とする請求 項 1一 5のいずれかに記載の塗工装置。
[7] 塗液供給手段による流路内圧をさらに高める手段を具備し、該手段によって流路 内圧が高められた区間に前記脈動を緩衝する部材が配されていることを特徴とする 請求項 1一 6のいずれかに記載の塗工装置。
[8] 塗液供給手段として少なくともピストン型定量ポンプが用いられて ヽる請求項 1一 7の いずれかに記載の塗工装置。
[9] 塗工手段から吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Qが 0. 1— 20cm3であることを 特徴とする請求項 8に記載の塗工装置。
[10] 前記吐出脈動を緩衝する部材の 25°C、 1気圧における体積 V (cm3)と塗工手段か ら吐出される塗液の 1秒あたりの吐出量 Q (cm3)が、下記式(2)を満たすことを特徴と する請求項 8または 9に記載の塗工装置。
0. 05≤V/Q≤2 (2)
[11] 吐出開始時の流路内圧の上昇挙動を測定することを特徴とする請求項 8— 10のい ずれかに記載の塗工装置。
[12] 請求項 1一 11のいずれかに記載の塗工装置を用いて基材に塗液を塗工する塗工 方法。
[13] 請求項 12に記載の塗工方法を用いて塗工を行う工程を含むカラーフィルタの製造 方法。
[14] 請求項 12に記載の塗工方法を用いて塗工を行う工程を含む LCDアレイ基板の製 造方法。
[15] 請求項 13または請求項 14に記載の方法で得られた、カラーフィルタまたは LCDァ レイ基板を用いたことを特徴とする表示デバイス。
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