WO2005045942A1 - Solar tile and its laying method - Google Patents

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Shoji Ichimura
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Definitions

  • a functional tile configured so that tiles can generate electricity by sunlight, a tile base that is applied with a vitreous coating agent on the surface of inorganic clay for ceramics and fired, and is located above the tile base. And a current generated between the silicon layer having a nip structure or a pin structure, a transparent conductive film provided on the upper and lower surfaces of the silicon layer, and the silicon layer is supplied through the transparent conductive film. And a power supply unit capable of performing the following operations.
  • the vitreous coating agent a phosphorus' silicate glass material

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Abstract

A tile with power generation function to generate electric power from sunlight. An arbitrary combination of cells is laid on site to impart versatility. The tile is composed of a tile base produced by baking inorganic body for ceramic industry coated with a glass coating agent, a silicon layer having a nip structure or a pin structure, a transparent conductive films formed on either side of the silicon layer, an antireflection film formed over the upper side of the tile base, and a feeding section for supplying current generated in the silicon layer through the transparent conductive films. The glass coating agent is a phosphate silicate glass, and the transparent conductive films are mostly made of stannic oxide (SnO2) and/or indic oxide (In2O3). A method for laying such a solar tile is also disclosed in which the feeding section is formed of a lead wire for connection of the transparent conductive film or formed of a conductive joint. The output section of a solar power generating system generating a predetermined power can be installed on a wall or roof.

Description

ソーラータイルおよびその施工方法  Solar tile and its construction method
技術分野 Technical field
 Light
本発明は、 光を電気に変換する発電素子が組み込まれることにより、 太陽光発 田  The present invention provides a solar power generation device that incorporates a power generation element that converts light into electricity.
電ができるようにしたソーラータイル及びその施工方法に関するものである。 The present invention relates to a solar tile capable of generating electricity and a construction method thereof.
背景技術 太陽光を利用して発電する太陽電池は、 発電素子 (セル) に、 単結晶シリコ ンセルや多結晶シリコンセル、 もしくは、 ァモルファスシリコンセルが利用さ れ、 コストや発電効率が改善されている。 また、 一般家庭においては、 太陽電 池を壁もしくは屋根に設置することで、 電気代が節約できることから、 広く普 及したものとなっている。 発電素子を複数取り付けてパネル状に保持させるこ とができるようにしたものとして、 特表 2 0 0 3— 5 0 6 8 8 4には、 ソー ラータイル組立体が開示されている。 このソーラータイル ffi^立体は、 第 1の電 気コネクタを有する取り外し可能な外側パネルと、 第 2の電気コネクタを有す る内側支持構造とを有し、 第 1の電気コネクタと第 2の電気コネクタとの間の 電気接続が外側パネル及び内側支持構造を接合することによって実現されるよ う配置されるものであり、 発電素子は、 外側パネルに設けられている。 しかし. このようなソーラータイル組立体においては、 施工現場で、 施工面の形状に合 BACKGROUND ART In solar cells that generate electricity using sunlight, single-crystal silicon cells, polycrystalline silicon cells, or amorphous silicon cells are used as power generation elements (cells), resulting in improved cost and power generation efficiency. I have. In general households, installing solar cells on the wall or roof saves electricity bills, so they are widely used. A solar tile assembly is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2003-50068 84 as a structure in which a plurality of power generating elements can be attached and held in a panel shape. The solar tile ffi ^ has a removable outer panel having a first electrical connector, and an inner support structure having a second electrical connector, wherein the first electrical connector and the second electrical connector are provided. The electrical connection between the connector and the connector is arranged so as to be realized by joining the outer panel and the inner support structure, and the power generating element is provided on the outer panel. However, in such a solar tile assembly, at the construction site,
差替え用紙 (規則 26) わせて施工することが難しく、 また、 建築物を構成する部材とはなりえないも のとなつている。 即ち、 一般的に、 太陽光を利用して発電可能に構成された太 陽電池パネルにおいては、 概ね、 規格化されて構築物に取り付けられるものと なっていることから建築物の概観を損ねる場合もあり、 取付箇所も限られてい た。 Replacement form (Rule 26) It is difficult to construct the building at the same time, and it cannot be a component of a building. That is, in general, a solar battery panel that can generate electricity using sunlight is generally standardized and can be attached to a building, so that the appearance of the building may be damaged. There were also limited installation locations.
本発明は、 上述の従来技術における問題点を克服することを課題としており、 タイルに発電機能を備えることができるようにすることを、 本旨としている。 しかも、 太陽電池パネルのように、 取付け設置するタイプと異なり、 現場で 自在なセルの組み合わせで施工し得る点において、 汎用性を有している。 発明の開示  An object of the present invention is to overcome the above-described problems in the related art, and has an object to provide a tile with a power generation function. Moreover, unlike solar panels, they are versatile in that they can be constructed using any combination of cells in the field, unlike types that are mounted and installed. Disclosure of the invention
本発明においては、  In the present invention,
太陽光によってタイルが発電できるように構成した機能性タイルであって、 窯 業用無機質坏土の表面にガラス質コーティング剤を塗布して焼成されるタイル 基盤と、 当該タイル基盤の上側に位置し、 かつ n i p構造または p i n構造を 持つシリコン層と、 前記シリコン層の上下面に設けた透明導電膜と、 前記シリ コン層との間にて発生した電流を、 前記透明導電膜を介して供給することがで きる給電部と、 を備えていることに基づくソーラータイルを基本構成とし、 前記基本構成に立脚したうえで、 A functional tile configured so that tiles can generate electricity by sunlight, a tile base that is applied with a vitreous coating agent on the surface of inorganic clay for ceramics and fired, and is located above the tile base. And a current generated between the silicon layer having a nip structure or a pin structure, a transparent conductive film provided on the upper and lower surfaces of the silicon layer, and the silicon layer is supplied through the transparent conductive film. And a power supply unit capable of performing the following operations.
前記ガラス質コーティング剤が、 燐 ·珪酸塩ガラスまたは硼 ·珪酸塩ガラスで あることを特徴とする実施形態、 The vitreous coating agent is phosphorus silicate glass or borosilicate glass. An embodiment, wherein
前記透明導電膜が、 酸化第二錫 (S n〇2) 及び/又は酸化第二インジウム (I n 20 3) であることを特徴とする実施形態、 Embodiment the transparent conductive film, characterized in that it is a stannic oxide (S N_〇 2) and / or (II) oxide, indium (I n 2 0 3),
前記透明導電膜の上面には、'太陽光の反射を防止するように、 酸化チタン (T i O 2) 及び酸化シリコン (S i 02) を含む反射防止保護膜が形成されている ことを特徴とする実施形態、 ' The upper surface of the transparent conductive film, so as to prevent reflection of 'sunlight, the anti-reflection protective film containing titanium oxide (T i O 2) and silicon oxide (S i 0 2) is formed Featured embodiments, ''
前記基本構成及び各実施形態にかかるソーラタイルにつき、 前記給電部が、 そ れぞれの前記透明導電膜を繋ぐリード線もしくは導電性目地を構成することに より、 所定出力の太陽光発電システムの出力部を壁面または屋根に施工するこ とを特徴とする施工方法に関する実施形態、 With respect to the solar tile according to the basic configuration and each embodiment, the power supply unit forms a lead wire or a conductive joint that connects each of the transparent conductive films, so that the output of the photovoltaic power generation system of a predetermined output is obtained. Embodiment relating to a construction method characterized by constructing a part on a wall or a roof,
を採用している。 Is adopted.
前記各構成について更に説明するに、 タイル基盤の上側表面に、 光ェネル ギーに基づいて、 電流を発生させるシリコン層 (n i p構造または p i n構造 を持つ発電素子) と、 シリコン層の上下面に設けた透明導電膜と、 を備えるこ とにより、 発電機能を備えたタイルを得ることができる。  In order to further explain each of the above configurations, a silicon layer (a power generation element having a nip structure or a pin structure) for generating a current based on photoenergy is provided on the upper surface of the tile base, and on the upper and lower surfaces of the silicon layer. With the provision of the transparent conductive film and, a tile having a power generation function can be obtained.
ガラス質コーティング剤を、 燐'珪酸塩ガラス素材とし、 また、 透明導電膜 を酸化第二錫 (S n〇2) 及び Z又は酸化第二インジウム (I n 20 3) の複合体 とすることにより、 透明導電膜を介して、 効率的に電流を発生することが可能 となる。 The vitreous coating agent, a phosphorus' silicate glass material, also be a complex of a transparent conductive film stannic oxide (S N_〇 2) and Z or (II) oxide, indium (I n 2 0 3) Accordingly, it is possible to efficiently generate a current through the transparent conductive film.
反射防止保護膜は、 透明導電膜を保護し、 且つ、 太陽光の反射を防止するの で、 シリコン層における効率的な電流の発生を可能とする。 The anti-reflective protective film protects the transparent conductive film and prevents reflection of sunlight. Thus, an efficient current can be generated in the silicon layer.
発電機能を備えたタイルは、 建築物を構成する構成部材となり、 建築物の一 部分となることから、 建築物の概観を損ねることがなレ、発電装置と評価するこ とができる。  Tile with a power generation function is a constituent member of a building and is a part of the building, so it can be evaluated as a power generation device without damaging the appearance of the building.
発電機能を備えたタイルは、 好適なサイズとすることにより、 タイルを貼る 施工現場において、 自在に組み合わせることによって施工することができる る。  Tiles with a power generation function can be constructed by freely combining them at the construction site where the tiles are to be attached by making them suitable sizes.
太陽光の露光面に施工されたタイルは、 それぞれのタイル間を導電材料 (導 電性の目地もしくはリード線) によって繋ぐことにより、 必要な電力を供給す ることができる。 図面の簡単な説明  Tiles installed on the exposed surface of the sun can supply the necessary power by connecting the tiles with conductive materials (conductive joints or lead wires). Brief Description of Drawings
図 1は、 ソーラタイルの断面を説明する側面図である。 FIG. 1 is a side view illustrating a cross section of a solar tile.
図 2は、 建築物における壁面に施工されたソーラタイルを示す側面図である。 発明を実施するための最良の形態 Figure 2 is a side view showing a solar tile installed on the wall of a building. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
タイル生地の上に、 燐 ·珪酸塩ガラス素材からなるガラス質コーティング剤 を塗布してタイル基盤とし、 その上面において太陽光に基づいて電流を発生さ せるシリコン層を酸ィ匕第二錫 (S n 02) 及び Z又は酸化第二インジウム (I n 20 3) による透明導電膜によって両側を挟んだ状態にて形成し、 最上面に反射 防止保護膜を形成することにより高効率にて電力を得ることができるソーラタ ィルを実現することができる。 実施例 1 A glassy coating material made of a phosphor-silicate glass material is applied on the tile fabric to form a tile base, and a silicon layer that generates an electric current based on sunlight is formed on the upper surface of the tile base. It is formed with a transparent conductive film of n 0 2 ) and Z or indium oxide (I n 2 0 3 ) sandwiching both sides, and reflected on the top surface By forming the protective film, a solar tile that can obtain electric power with high efficiency can be realized. Example 1
図 1は、 本発明のソーラタイル 1 0の断面を説明する説明図である。 この ソーラタイル 1 0は、 タイル基盤が、 タイル片 1と、 その表面に形成されるガ ラス質コーティング層 2とで構成され、 その上に、 下面側透明導電膜 3 a、 シ リコン層 (n型シリコン層 4、 i型シリコン層 5、 p型シリコン層 6 ) 、 上面 側透明導電膜 3 bが積層され、 さらに、 反射防止保護膜 8がコーティングさ れ、 全体の厚さとして 4〜1 3 mm程度にて形成される。  FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a cross section of a solar tile 10 of the present invention. In this solar tile 10, the tile base is composed of a tile piece 1 and a glass coating layer 2 formed on the surface thereof, on which a lower transparent conductive film 3 a and a silicon layer (n-type) are formed. Silicon layer 4, i-type silicon layer 5, p-type silicon layer 6), top transparent conductive film 3b are laminated, and anti-reflective protective film 8 is coated, and the overall thickness is 4 to 13 mm. Formed in the degree.
前記厚さは、 タイル基盤の厚さであり、 その上に形成される透明導電膜 (3 a、 3 b ) 、 シリコン層 (4, 5、 6 ) 、 反射防止保護膜 8の各厚さは極めて 薄い層として形成される。  The thickness is the thickness of the tile base, and the thicknesses of the transparent conductive film (3a, 3b), the silicon layer (4, 5, 6), and the antireflection protective film 8 formed thereon are as follows. It is formed as a very thin layer.
タイル基盤は、 タイル生地の表面にガラス質コーティング剤をが塗布したう えで、 1 1 5 0 ± 5 0度。 Cにて焼成することにより形成され、 タイル生地は、 窯業用無機質坏土を高圧プレスすることにより形成される。  The tile base is 1150 ± 50 degrees, as if a vitreous coating agent was applied to the surface of the tile fabric. It is formed by firing in C, and the tile fabric is formed by high-pressure pressing of the ceramic inorganic clay.
窯業用無機質坏土は、 天然に産する石 ·粘土からなり、 これをボールミルに よって微粉砕し、 泥しょう状にしたものを、 スプレードライヤー 噴霧乾燥し たものであり、 タイル生地は、 この窯業用無機質坏土を金型に入れて約 1 5 0 〜3 0 0 k g / c m2の圧力にてプレスすることによって製作される。 通常、 タ ィルを製造する際には、 タイル生地の表面に、 釉薬 (長石、 石灰、 粘土、 顔料 の泥しょうからなる) が噴霧され、 これを焼成して製造されている。 し力 し、 本発明においては、 上述したような釉薬を噴霧するのではなく、 タイル生地の 表面に燐 ·珪酸塩ガラスまたは硼 ·珪酸塩ガラスを噴霧して焼成しタイル基盤 としている。 The inorganic kneaded clay for the ceramic industry is composed of naturally produced stone and clay, which is finely pulverized by a ball mill and made into a slurry, and then spray-dried and spray-dried. It is manufactured by putting the inorganic clay into a mold and pressing it under a pressure of about 150 to 300 kg / cm 2 . Usually, When manufacturing tiles, glaze (composed of feldspar, lime, clay, and pigment slurry) is sprayed on the surface of the tile fabric and fired. However, in the present invention, instead of spraying the glaze as described above, phosphor-silicate glass or borosilicate glass is sprayed on the surface of the tile fabric and fired to form a tile base.
上述したようにして製造されたタイル基盤の上面には、 酸化第二錫 (SnO On the upper surface of the tile base manufactured as described above, stannic oxide (SnO
2) 及び/又は酸化第二インジウム (I n203) からなる透明導電膜 3 aが、 スパッタ法ゃスプレー法等により膜厚 1〜 4 μ m程度の透明な薄膜として形成 される。 さらに、 プラズマ CVD装置や高周波 (RF) スパッタリング装置を 利用し、 II, i, pの各型のシリコン層 (非晶質半導体層) が形成される。 こ のプラズマ CVD装置は、 基盤上にシリコンの薄層が形成できるものであり、 高周波電力をアノード電極とカソード電極間にかけて、 プラズマを発生させる ことができる。 その他に、 スプレー法により、 ナノアモルファスシリコン粒子 をスプレーして、 n, i, pの各型のシリコン層を形成することもできる。 ま た、 例えば、 ガスラインにより、 シラン (S i H4) とフォスフィン (PH 2) and / or (II) oxide, indium (I n 2 0 3) the transparent conductive film 3 a made of is formed as a transparent thin film having a thickness of 1 to about 4 mu m by sputtering Ya spray method. In addition, II, i, and p types of silicon layers (amorphous semiconductor layers) are formed using plasma CVD equipment and radio frequency (RF) sputtering equipment. This plasma CVD device can form a thin layer of silicon on a substrate, and can generate plasma by applying high-frequency power between an anode electrode and a cathode electrode. Alternatively, nano-amorphous silicon particles can be sprayed to form n, i, and p silicon layers. Also, for example, by a gas line, silane (S i H 4) and phosphine (PH
3) を供給することにより、 ガスがプラズマで分解されて n型のシリコンの薄 層を形成し、 同様に、 i型シリコン層は、 ガスラインによりシラン (S i HBy supplying 3 ), the gas is decomposed by the plasma to form a thin layer of n-type silicon, and similarly, the i-type silicon layer is
4) が供給されて形成され、 p型シリコン層は、 シラン (S i H4) 、 メタン (CH4) 、 ジボラン (B2H6) 、 水素 (H2) が供給されて形成されること 等適宜実施できる。 さらに、 シリコン層の上面には、 酸化第二錫 (Sn〇2) 及び Z又は酸化第二インジウム (I n 203) からなる透明導電膜 3 b力 膜 厚 1〜4μπι程度の透明な薄膜として形成され、 反射防止保護膜 8は、 前記透 明導電膜 3 bの上面に形成される。 リード線 7は、 透明導電膜 (3 a、 3 b) に、 電子ビーム装置等で電極が設けられることにより繋がれる。 4) is formed is fed, p-type silicon layer, silane (S i H 4), methane (CH 4), diborane (B 2 H 6), hydrogen (H 2) that is formed is supplied Etc. can be appropriately implemented. In addition, stannic oxide (Sn〇 2 ) And Z or formed as a transparent thin film of the transparent conductive film 3 b force thickness of about 1~4μπι of an oxide second indium (I n 2 0 3), the anti-reflection protective film 8, the magnetic Akirashirubedenmaku 3 b Formed on the upper surface of the substrate. The lead wire 7 is connected to the transparent conductive film (3a, 3b) by providing an electrode with an electron beam device or the like.
反射防止保護膜 8は、 透明導電膜を保護し、 且つ、 太陽光の反射を防止する ように形成されるものであり、 酸化チタン (T i 02) と酸ィ匕シリコン (S i 02) を 9. 2 Vo 1 %含む。 因みに、 二酸化チタンは不透明粒子であるが、 水酸化チタンのゾル溶液を粒径約 50 n m以下に結晶化させることにより、 こ れを分散させた反射防止保護膜 8では全体として十分透明なものとなる。 この 反射防止保護膜 8は、 噴霧装置により噴霧して形成されるものであり、 その噴 霧液の組成は、 上述した酸化チタンと酸化シリコンを 9. 2 Vo 1 %と、 更に、 スプレー化剤 (2—ェチルー 1 _へキサノール) 40Vo 1 %、 溶剤 (プチル アセテート) 20Vo l %、 レべリング剤 (イソプロパノール) 30. 8 V o 1 %とを含む。 The anti-reflection protective film 8 is formed so as to protect the transparent conductive film and prevent reflection of sunlight, and includes titanium oxide (T i 0 2 ) and silicon oxide (S i 0 2). ) Includes 9.2 Vo 1%. Incidentally, titanium dioxide is an opaque particle, but by crystallizing the sol solution of titanium hydroxide to a particle diameter of about 50 nm or less, the antireflection protective film 8 in which this is dispersed is sufficiently transparent as a whole. Become. The anti-reflection protective film 8 is formed by spraying with a spray device. The composition of the spray liquid is 9.2 Vo 1% of the above-mentioned titanium oxide and silicon oxide, and a spraying agent. (2-ethyl-1 hexanol) 40Vo 1%, Solvent (butyl acetate) 20Vol%, Leveling agent (Isopropanol) 30.8Vo 1%.
図 2は、 建築物にソーラタイル 10を施工した部分であり、 隣り合うソーラ タイル 10がリード線 7 (7 aもしくは 7 b) で連結されていることを示して いる。 図 2に示すように、 モルタルまたはコンクリートで形成された建築物の 壁面には、 タイルを 1枚ずつ貼付けることにより、 壁面が所定出力の太陽光発 電システムの出力部となる。 出力される電圧は、 連結されるソーラタイル 10 の枚数に比例するが、 二次電池に充電することにより、 常時、 必要な電力を得 ることができる。 ソーラタイル 1 0の発電力は、 例えば、 タイルの 1枚のサイ ズが 1 0 c m X 1 0 c mであった場合、 約 1 . 3 W程度である。 Figure 2 shows the part where the solar tile 10 was installed on the building, and shows that adjacent solar tiles 10 are connected by the lead wire 7 (7a or 7b). As shown in Fig. 2, tiles are attached one by one to the wall of a building made of mortar or concrete, and the wall becomes the output section of the solar power generation system with a predetermined output. The output voltage is proportional to the number of solar tiles 10 connected, but the required power is always obtained by charging the secondary battery. Can. The power generated by the solar tile 10 is, for example, about 1.3 W when the size of one tile is 10 cm × 10 cm.
ソーラタイル 1 0を連結する給電部は、 上述したリード線 7に限定されるこ となく、 タイル間の目地を埋める目地剤 (図省略) として構成することもでき る。 この場合、 前記目地剤を、 例えば、 シリコンゴムに銀パゥダーを 1 0 %か ら 2 0 %混入することにより導電性を備えたものとして形成する。 このような 設計により、 導電性目地剤を目地に施工した場合には、 隣り合うソーラタイル 1 0を電気的に繋ぐことになる。 即ち、 ソーラタイル 1 0の施工方法は、 ソー ラタイル 1 0を給電部 (リード線 7もしくは導電性目地) で連結して施工する ものである。 尚、 建造物の壁面にタイルを施工する方法は、 前もってタイルを 貼り付けて一体ィヒしたパネルを製造し、 このパネルを壁面に固定する方法でも よい。 これにより、 施工効率が向上する。 産業上の利用可能性  The power supply unit that connects the solar tiles 10 is not limited to the above-described lead wire 7 and may be configured as a joint filler (not shown) for filling joints between tiles. In this case, the jointing agent is formed as having conductivity by mixing silver pad with silicon rubber from 10% to 20%, for example. With such a design, when a conductive jointing agent is applied to joints, adjacent solar tiles 10 are electrically connected. That is, the construction method of the solar tile 10 is to connect the solar tile 10 with the power supply part (lead wire 7 or conductive joint). In addition, as a method of constructing a tile on the wall surface of a building, a method may be used in which a tile is attached in advance to produce an integrated panel, and this panel is fixed to the wall surface. This improves construction efficiency. Industrial applicability
本発明のソーラタイルが施工される箇所は、 通常のタイルが施工できる場所 であれば同様に施工できるものであり、 建築物における壁面が好適である。 し かし、 壁面に限定されることなく、 屋根や路面など太陽光が得られる箇所であ れば、 どのような場所においても施工可能である。  The place where the solar tile of the present invention is constructed can be constructed in the same manner as long as a normal tile can be constructed, and a wall surface of a building is preferable. However, the construction is not limited to the wall surface, and can be applied to any place where sunlight can be obtained, such as a roof or a road surface.
かくして本発明は、 広範な建築業の分野において利用することが可能であ る。  Thus, the present invention can be used in a wide range of construction fields.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1 . 太陽光によってタイルが発電できるように構成した機能性タイルであつ て、 窯業用無機質坏土の表面にガラス質コーティング剤を塗布して焼成される タイル基盤と、 当該タイル基盤の上側に位置し、 かつ n i p構造または p i n 構造を持つシリコン層と、 前記シリコン層の上下面に設けた透明導電膜と、 前 記シリコン層との間にて発生した電流を、 前記透明導電膜を介して供給するこ とができる給電部と、 を備えていること 1. A functional tile constructed so that the tiles can generate power by sunlight. A tile base that is coated with a glassy coating agent on the surface of the inorganic clay for ceramics and fired, and is located above the tile base. And a current generated between the silicon layer having a nip structure or a pin structure, a transparent conductive film provided on the upper and lower surfaces of the silicon layer, and the silicon layer, is supplied through the transparent conductive film. And a power supply unit that can
に基づくソーラータイル。 Based on solar tiles.
2 . 前記ガラス質コーティング剤は、 燐 ·珪酸塩ガラスまたは硼 '珪酸塩ガラ スであることを特徴とする請求項 1に記載のソーラタイル。  2. The solar tile according to claim 1, wherein the vitreous coating agent is phosphor silicate glass or boron silicate glass.
3 . 前記透明導電膜は、 酸化第二錫 (S n 02) 及び/又は酸化第二インジウム ( I n 2 O s) であることを特徴とする請求項 1または 2に記載のソーラタイ ル。 3. The transparent conductive film, Soratai Le according to claim 1 or 2, characterized in that the stannic oxide (S n 0 2) and / or (II) oxide, indium (I n 2 O s).
4 . 太陽光の反射を防止するように、 前記透明導電膜の上面には、 酸化チタン (T i 02) 及び酸化シリコン (S i 02) を含む反射防止保護膜が形成されて いることを特徴とする請求項 1ないし 3のいずれかに記載のソーラタイル。4. An anti-reflection protective film containing titanium oxide (T i 0 2 ) and silicon oxide (S i 0 2 ) is formed on the upper surface of the transparent conductive film so as to prevent reflection of sunlight. The solar tile according to any one of claims 1 to 3, wherein:
5 . 請求項 1ないし 4に記載のソーラタイルにつき、 前記給電部が、 それぞれ の前記透明導電膜を繋ぐリード線もしくは導電性目地を構成することにより、 所定出力の太陽光発電システムの出力部を壁面または屋根に施工することを特 徴とするソーラタイルの施工方法。 5. The solar tile according to claim 1, wherein the power supply unit forms a lead wire or a conductive joint connecting the respective transparent conductive films, A method for constructing a solar tile, which is characterized in that the output part of a photovoltaic power generation system with a specified output is constructed on a wall or roof.
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