WO2005010980A1 - ベローズ支持構造及び可動ステージ装置 - Google Patents

ベローズ支持構造及び可動ステージ装置 Download PDF

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axial direction
guide
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Tsutomu Hiroki
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Tokyo Electron Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3302Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16JPISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
    • F16J3/00Diaphragms; Bellows; Bellows pistons
    • F16J3/04Bellows
    • F16J3/048Bellows with guiding or supporting means

Definitions

  • the present invention relates to a bellows support structure and a movable stage device that can prevent stress concentration that is likely to occur when the operation stroke of a bellows is long.
  • the present invention particularly relates to this kind of technology that can be suitably used for a semiconductor processing system.
  • semiconductor processing refers to forming a semiconductor layer, insulating layer, conductive layer, etc. in a predetermined pattern on a substrate to be processed such as a wafer or a glass substrate for an LCD (Liquid Crystal Display) or FPD (Flat Panel Display).
  • LCD Liquid Crystal Display
  • FPD Felat Panel Display
  • a substrate to be processed for example, a semiconductor wafer may be moved or transported in a vacuum chamber.
  • a base is used as a means for connecting a movable part and a fixed part that perform linear motion in a vacuum chamber and separating the vacuum side and the atmosphere side (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 79).
  • Non-uniform expansion and contraction of the bellows can lead to reduced durability and breakage of the bellows.
  • Figure 9A shows the conventional bellows support structure (internal support structure). It is a longitudinal cross-sectional view shown roughly. As shown in FIG. 9A, connection flanges 2 and 3 are arranged at both ends of the bellows 1. At the middle of Bellows 1, one or more intermediate rings 5 formed separately are arranged. A shaft 30 for supporting and guiding the intermediate ring 5 is arranged at the shaft center in the bellows 1.
  • FIG. 9B is a longitudinal sectional view schematically showing another conventional bellows support structure (external support structure). As shown in FIG. 9B, connection flanges 2 and 3 are provided at both ends of the bellows 1. In the middle of the bellows 1, one or more intermediate rings 5 formed separately are provided. A shaft 31 for supporting and guiding the intermediate ring 5 is arranged outside the bellows 1.
  • An object of the present invention is to provide a bellows support structure and a movable stage device which can prevent particles from scattering and can secure a sufficient space in the bellows.
  • Another object of the present invention is to provide a bellows support structure and a movable stage capable of disposing a driving member of a movable portion in a bellows while improving durability of the bellows.
  • Equipment Still another object of the present invention is to provide a bellows support structure and a movable stage device which can simplify the structure and reduce the cost.
  • a first aspect of the present invention is a structure for supporting a bellows from the inside
  • a guide track disposed inside the bellows and extending along the axial direction of the bellows;
  • a moving member disposed movably on the guide track along the axial direction;
  • An intermediate support that substantially connects the moving member and the bellows
  • a second aspect of the present invention is a movable stage device for moving an object to be processed in a vacuum or a chamber filled with a predetermined gas or liquid,
  • a linear guide disposed between the first and second side walls in the room
  • a movable frame movable along the longitudinal direction of the guide and the linear guide are passed through the movable frame;
  • a pair of bellows surrounding the linear guide between the movable frame and the first and second side walls, and the movable frame and the pair of bellows cooperate with each other to hermetically seal the other portion of the room.
  • a driving member for moving the movable frame along the linear guide A guide track disposed inside the pair of bellows and extending along the axial direction of the pair of bellows;
  • a moving member arranged movably on the guide track along the axial direction;
  • An intermediate support that substantially connects the moving member and the pair of bellows
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing a bellows support structure according to an embodiment of the present invention. .
  • Figure 2 is a left side view of the structure shown in Figure 1.
  • Figure 3 is a right side view of the structure shown in Figure 1.
  • FIG. 4 is a perspective view of the structure shown in FIG.
  • FIG. 5A is a perspective view of the moving member having the structure shown in FIG. 1 as viewed from above.
  • FIG. 5B is a perspective view of the moving member shown in FIG. 5A as viewed from below.
  • FIG. 6A is a plan view showing a state where the moving members having the structure shown in FIG. 1 come into contact with each other. ⁇
  • FIG. 6B is a plan view showing a state where the moving members shown in FIG. 6A are separated from each other.
  • FIG. 7 is a perspective view schematically showing a movable stage device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing a semiconductor processing system incorporating the movable stage device shown in FIG.
  • Figure 9A shows the conventional bellows support structure (internal support structure).
  • FIG. 9B is a longitudinal sectional view schematically showing another conventional bellows support structure (external support structure).
  • the present inventor studied the problems of the conventional bellows support structure, particularly the problems when these were applied to the drive system of a semiconductor processing system. As a result, the following findings were obtained.
  • a stopper can be installed on the bellows.
  • the stopper In both cases of the internal support structure and the external support structure as shown in Figs. 9A and 9B, it is generally considered that the stopper is located outside the bellows. If it is located outside the bellows, the sliding part will be outside the bellows, similar to each member of the external support structure. For this reason, particles generated from a sliding part such as a stopper may be scattered into the vacuum chamber and contaminate the wafer.
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing a bellows support structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 2, 3, and 4 are a left side view, a right side view, and a perspective view of the structure shown in FIG. 1, respectively.
  • the bellows (bellows) 1 is formed of a cylindrical body that can expand and contract in the longitudinal direction.
  • a flange 2 for fixing the bellows 1 to a fixing portion for example, a side wall of a vacuum chamber is provided.
  • the other end of the bellows 1 is provided with a flange 3 for connecting the bellows 1 to a movable portion, for example, a movable frame (to be described later with reference to FIG. 7).
  • one or more (one or more) intermediate rings 5, which are one or more intermediate supports, are provided separately or separately. In the illustrated example, an intermediate ring 5 that is separately provided is shown.
  • An annular mounting groove 6 is formed on the end face of the fixed flange 2.
  • the mounting groove 6 is provided with an O-ring (airtight material: not shown) for airtight sealing between the side wall of the vacuum chamber.
  • the outer periphery of the movable flange 3 is formed in a front rectangular shape in the same manner as the end surface shape of the movable frame.
  • a flat contact surface 7 for contacting an O-ring attached to the end surface of the movable frame is formed on the end surface of the flange 3.
  • Bellows 1 is formed by alternately welding a plurality of ring-shaped thin plates made of a metal such as stainless steel on the inner and outer circumferences.
  • the intermediate ring 5 is composed of a ring having substantially the same diameter as the bellows 1.
  • the flanges 2, 3 and the intermediate ring 5 are at the end of the bellows 1. Each part is joined by welding.
  • the intermediate ring 5 is provided at an intermediate position of the bellows 1 at one or a plurality of intervals as appropriate according to the length of the bellows 1.
  • two rails 8 as guide members (guide tracks) are horizontally arranged along the longitudinal direction (axial direction).
  • the two Renoles 8 are respectively arranged on the upper side and the lower side inside the bellows 1 so as to be close to the inner surface of the bellows 1.
  • Rail 8 is preferably of low profile and flat to reduce the footprint.
  • the rail 8 supports a moving block 10 which is a main body of the moving member so as to be movable along the longitudinal direction.
  • An intermediate ring 5 is attached to each of the moving blocks 10. Therefore, the moving block 10 is connected to the inner surface of the bellows 1 via the intermediate ring 5.
  • the rail 8 faces the bottom 8a, the sides 8b, 8b rising from both sides of the bottom 8a, and the upper edges of the sides 8b, 8b inward. And has a flange portion 8c and 8c bent. Therefore, the rail 8 has a guide groove portion 8d having a substantially C-shaped cross section surrounded by these portions.
  • the guide groove 8 d of the upper rail 8 faces upward, and the guide groove 8 d of the lower rail 8 faces downward.
  • the two rails 8 are disposed, for example, at the upper and lower portions of a cross member (beam member) 11 1 that passes through the inside of the bellows 1.
  • the cross member 11 in the illustrated example is movable.
  • FIG. 5A is a perspective view of the moving member having the structure shown in FIG. 1 as viewed from above.
  • FIG. 5B is a perspective view of the moving member shown in FIG. 5A as viewed from below.
  • FIG. 6A is a plan view showing a state where the moving members having the structure shown in FIG. 1 are in contact with each other.
  • FIG. 6B is a plan view showing a state when the moving members shown in FIG. 6A are separated from each other.
  • the movable blocks 10 which are the main bodies of the movable members, are movably arranged in series in the inner groove 8d of the rail 8 in a number corresponding to the number of the intermediate rings 5.
  • the movable block 10 is disposed so as to be free to slide or run so as not to fall inside the guide groove 8d.
  • two rollers (wheels) 12 are rotatably supported by the moving blocks 10 via support shafts 12 a so as to roll on the rails 8. The roller 12 can be omitted if the moving block 10 can be smoothly driven in the guide groove 8d.
  • protruding portions 10 a and 10 b protruding in the traveling direction are arranged so as to be point-symmetrical.
  • the two rollers 12 move.
  • At the front side and the rear side of the block 10 in the traveling direction it is supported via a support shaft 12a in a cantilever state at a substantially central portion of the side surface of the protrusions 10a and 10b.
  • the center line of the moving block 10 extending in the axial direction of the bellows 1 is defined by the front roller 12 and the rear protruding portion 0b and the rear roller 12 and the front protruding portion 10a. Are placed so as to face each other (that is, right and left sides).
  • the closest distance between the adjacent movable blocks 10 is defined by the protrusions 10 a and 10.
  • the adjacent moving blocks 10 have the protruding portions 10 a, 10 a or 10 b, 10 b on the same side. (Right or left). Therefore, the closest distance between the adjacent moving blocks 10 is defined by the fact that the protrusions 10a, 10a or 10b, 10b abut each other.
  • a hook bar 13 having a substantially U-shape in plan view is provided in the guide groove 8 d of the rail 8 to prevent the bellows 1 from being excessively elongated.
  • the hook 13 locks the moving blocks 10 adjacent to each other in the longitudinal direction of the bellows 1 within a predetermined interval. That is, the farthest distance between the adjacent moving blocks 10 is defined by the hook bar 13.
  • the hook bars 13 are arranged alternately on the left and right sides of the center line of the movable block 10 extending in the axial direction of the bellows 1. That is, as shown in FIG. 5B, with respect to three consecutive first, second, and third moving blocks 10, the first and second moving blocks 10 are connected to the right hook bar. 13 When moored at 3, second and third mobile blocks The dock 10 is moored at the hook bar 13 on the left.
  • the hook bar 13 is formed by bending both ends of a long bar material 13a into hook portions 13b and 13b at substantially right angles in the same direction.
  • the hook portion 13 b of the hook bar 13 Under the opposite protruding portion 10 a 10 a (or 10 b, 10 b) of the adjacent moving block 10, the hook portion 13 b of the hook bar 13 is A locking portion 10c for locking the lock is provided (see FIG. 5B).
  • grooves 10d are provided to allow the hook 13b to move.
  • the hook bar 13 is provided with a guide groove 8d inside the guide groove 8d. Both sides are slidably supported so as not to fall along the longitudinal direction while being covered with the flange portion 8c.
  • each hook bar 13 should be approximately equal to the length of both moving blocks 10 when adjacent moving blocks 10 abut each other. Is preferred.
  • the adjacent movable blocks 10 can be in contact with each other without the adjacent hook bars 13 interfering with each other. That is, it is possible to secure a sufficient amount of contraction of the bellows 1 and to secure a sufficient amount of expansion of the bellows 1 when the adjacent moving blocks 10 separate (separate) from each other. It can be.
  • a fixing piece 10 e for fixing each intermediate ring 5 is protruded from a substantially central portion on each movable block 10.
  • An intermediate ring 5 is attached to the fixing piece 10 e by screwing or welding.
  • one or more intermediate rings 5 are provided integrally or separately at an intermediate portion of the bellows 1.
  • a rail 8 is provided near the inner surface of the bellows 1 along the longitudinal direction. Along its length on rail 8
  • the movable block 10 is movably supported.
  • Intermediate ring 5 is supported by moving block 10.
  • a sufficient space can be secured in the bellows 1, and a driving member for a movable portion can be arranged in the bellows 1.
  • the rail 8 has a guide groove 8d having a substantially C-shaped cross section. Rails 8 are arranged at the top and bottom along the horizontal direction so that the inner groove 8 d faces upward and downward. Therefore, the bellows 1 can be supported in a horizontal and stable state via the intermediate ring 5.
  • the bellows 1 When the movable blocks 10 adjacent to each other in the longitudinal direction of the bellows 1 abut against each other, the bellows 1 is prevented from being excessively contracted. Therefore, the bellows 1 can be prevented from being excessively shrunk with a simple structure, and the structure can be simplified, the durability can be improved, and the cost can be reduced.
  • the rail 8 is provided with a hook bar 13 having a substantially U-shape in a plane that connects the moving blocks 10 adjacent to each other in the longitudinal direction of the bellows 1 at a predetermined interval. They are arranged alternately. For this reason, it is possible to prevent the bellows 1 from being excessively stretched with a simple structure, thereby simplifying the structure, improving the durability and reducing the cost.
  • FIG. 7 is a perspective view schematically showing a movable stage device according to the embodiment of the present invention.
  • this movable stage device 15 transports an object to be processed, for example, a semiconductor wafer, in a vacuum chamber 16, for example. It is arranged for.
  • the movable stage device 15 includes a cross member (beam member) 11 laid between both side walls 17 in the vacuum chamber 16.
  • a movable frame 18 surrounds the cross member 11 and is movable along the longitudinal direction of the cross member.
  • a driving member 20 is provided to move the movable frame 18 back and forth along the cross member 11.
  • a pair of bellows 1 are arranged so as to cover the cross members 11 located on both sides of the movable frame 18. One end of the pair of bellows 1 is fixed to the side wall 17 via the flange 2, and the other end is connected to the end face of the movable frame 18 via the flange 3.
  • the support structure of the bellows 1 is the same as that shown in FIGS. 1 to 6B. That is, as shown in FIGS. 1 to 4, the bellows (bellows) 1 is formed of a cylindrical body that is stretchable in the longitudinal direction. At one end of the bellows 1, a flange 2 for fixing the bellows to a fixing portion, for example, a side wall of a vacuum chamber is provided. A flange 3 for connecting the bellows 1 to the movable frame 18 is provided at the other end of the bellows. 5 is provided separately or separately.
  • two rails 8 as guide members (guide tracks) are horizontally arranged along the longitudinal direction (axial direction).
  • the two Renoles 8 are respectively arranged on the upper side and the lower side inside the bellows 1 so as to be close to the inner surface of the bellows 1.
  • the rail 8 supports a movable block 10 which is a main body of the movable member so as to be movable along the longitudinal direction.
  • An intermediate ring 5 is attached to each of the moving blocks 10. Therefore, the travel block 10 is connected to the inner surface of the bellows 1 via the intermediate ring 5. Is done.
  • a linear guide 21 is provided on one side surface of the cross member 11 along the longitudinal direction.
  • the movable frame 18 is slidably supported by the linear guide 21 via the slider 22.
  • a ball screw 23 is rotatably mounted on one side surface of the cross member 11 along the longitudinal direction thereof.
  • the movable frame 18 is fixed to the female screw member 25 screwed to the ball screw 23.
  • a motor 26 for rotational drive is connected to one end of the pole screw 23. Thereby, the movable frame 18 can be moved in the horizontal direction via the female screw member 25 by the rotation of the ball screw 23.
  • the inside of the bellows 1 is communicated with the atmosphere through a through hole 27 formed in a side wall 17. That is, the support structure (support mechanism) for the drive member 20 and the bellows 1 is located inside the bellows 1 on the atmosphere side. Therefore, particles generated from the driving member 20 and the sliding portion of the support structure do not scatter and float in the vacuum chamber 16 and contaminate the wafer.
  • the movable frame 18 may be provided with a swivelable and extendable transfer arm mechanism (see Fig. 8) for holding the wafers one by one and transferring them in the horizontal direction via an elevating mechanism. it can. '
  • FIG. 8 is a partially cutaway perspective view showing a semiconductor processing system incorporating the movable stage device shown in FIG.
  • the semiconductor processing system 30 is formed of a horizontal casing that is long in one direction, and the common transfer chamber 32 (in FIG. 7, the vacuum chamber 16) can be set to a vacuum atmosphere. Shown as Have To one side surface of the common transfer chamber 32, three vacuum processing chambers 34 for performing semiconductor processing on a semiconductor wafer in a vacuum atmosphere are connected. The other side of the common transfer chamber 32 is connected to two load lock chambers (not shown) functioning as pressure buffer chambers for transferring a wafer.
  • Ports 36 for loading and unloading a semiconductor wafer W as a substrate to be processed are formed on the side surface of the transfer chamber 32 in correspondence with the vacuum processing chamber 34 and the load-lock chamber.
  • Each port 36 is provided with a gate valve G for hermetically separating the transfer chamber 32 from the vacuum processing chamber 34 and the load lock chamber.
  • a movable stage device 15 shown in FIG. 7 is provided in the common transfer chamber 32.
  • the movable stage device 15 has a movable frame 18 and a pair of bellows 1 disposed on both sides of the movable frame 18.
  • the movable frame 18 and the pair of bellows 1 cooperate to form an auxiliary space 42 that is hermetically isolated from the atmosphere in the common transfer chamber 32.
  • This auxiliary space 42 communicates with the atmospheric pressure atmosphere through openings 38 formed on both end walls of the common transfer chamber 32.
  • a drive structure and a support structure shown in FIG. 7 are disposed in the movable frame 18 and the bellows 1, that is, in the auxiliary space 42. With these internal structures, the movable frame 18 can move horizontally between both end walls of the common transfer chamber 32. Further, on the movable frame 18, a swingable and extendable transfer arm mechanism 45 for handling the wafer W is provided via a lifting mechanism. The transfer arm mechanism 45 transfers the wafer W into and out of the vacuum processing chamber 34 and the load lock chamber through the port 36. According to the movable stage device 15 shown in FIGS. 7 and 8, the bellows 1 on both sides of the movable frame 18 have an auxiliary space 4 hermetically isolated from the atmosphere in the vacuum chambers 16 and 32. 2 is formed.
  • a drive structure and a support structure for the movable frame 18 and the bellows 1 are provided in the catching space 42. Under such a configuration, the wafer is moved or transferred via the movable frame 18 (in FIG. 8, via the transfer arm mechanism 45). Therefore, scattering of particles in the vacuum chambers 16 and 32 and particle contamination on the wafer can be prevented.
  • the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to these, and various design changes and the like are possible without departing from the gist of the present invention. It is.
  • the bellows is horizontal
  • the bellows support structure according to the present invention is applicable even when the bellows is vertical.
  • the intermediate ring is separate from the bellows, but the intermediate ring may be formed integrally with the bellows.
  • the intermediate ring (intermediate support portion) and the moving member may be formed integrally or integrally.
  • a rail is exemplified as the guide member (guide track).
  • the guide track is a roller conveyor (roller bearing) in which rollers are connected in the longitudinal direction. You may. In this case, the moving member moves on the roller conveyor.
  • the rails (guide members) are not limited to the upper part and the lower part, but may be arranged on the left and right.
  • the chamber where the movable stage device is installed is limited to vacuum Instead, for example, a chamber filled with a predetermined gas (air, gas, or the like) or a liquid (water, chemical solution, or the like) may be used.
  • the pressure in the room may be normal pressure, positive pressure, or negative pressure.
  • the bellows is not limited to metal, but may be a material having corrosion resistance, for example, Teflon (registered trademark).

Landscapes

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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Diaphragms And Bellows (AREA)

Abstract

ベローズ(1)を内側から支持する構造は、ベローズの内部に配設され且つベローズの軸方向に沿って延在する案内トラック(8)を有する。前記軸方向に沿って案内トラック上を移動可能に移動部材(10)が配設される。移動部材とベローズとは、中間支持部(5)によって接続される。

Description

明 細 書
ベローズ支持構造及び可動ステージ装置
技術分 Sf
本発明は、 ベローズの動作ス ト ロークが長い場合に発生し やすい応力集中を防止する こ とができ るべローズ支持構造及 び可動ステージ装置に関する。 本発明は、 特に、 半導体処理 システムに好適に利用可能なこの種の技術に関する。 こ こで 半導体処理と は、 ウェハや L C D (Liquid crystal display)や F P D (Flat Panel Display) 用のガラス基板な どの被処理基 板上に半導体層、 絶縁層、 導電層などを所定のパターンで形 成する こ と によ り 、 該被処理基板上に半導体デバイ スや、 半 導体デバイ スに接続される配線、 電極などを含む構造物を製 造するために実施される種々の処理を意味する。
背景技術
半導体デバイ ス の製造においては、 被処理基板 (被処理 体) 、 例えば半導体ウェハを真空室内で移動或いは搬送する 場合がある。 この場合、 真空室内で直線運動をする可動部と 固定部と を接続し、 真空側と大気側を仕切る手段と してべ口 ーズが使用される (例えば、 特開平 1 1 一 1 6 9 7 9 号公報 参照) 。 ベローズの不均一な伸縮は、 ベローズの耐久性の低 下や破損を招く 。 この問題を解消するため、 長尺べローズを 複数の支持体で支持して、 均一に伸縮させる よ う に したベロ 一ズの等間隔ガイ ド機構が提案される (例えば特開 2 0 0 0
— 1 3 6 9 0 7号公報参照) 。
図 9 Aは、 従来のベローズ支持構造 (内部支持構造) を概 略的に示す縦断面図である。 図 9 Aに示すよ う に、 ベローズ 1 の両端部に接続用のフ ラ ンジ 2 、 3 が配設される。 ベ ロ ー ズ 1 の中間箇所には、 別体と して形成された 1 以上の中間リ ング 5 が配設される。 ベロ ーズ 1 内の軸心部に中間リ ング 5 を支持案内するためのシャ フ ト 3 0が配置される。
図 9 B は、 従来の別のベローズ支持構造 (外部支持構造) を概略的に示す縦断面図である。 図 9 B に示すよ う に、 ベロ ーズ 1 の両端部に接続用のフ ラ ンジ 2 、 3 が配設される。 ベ ローズ 1 の中間箇所には、 別体と して形成された 1 以上の中 間 リ ング 5 が配設される。 ベローズ 1 の外側に中間リ ング 5 を支持案内するためのシャフ ト 3 1 が配置される。
図 9 A、 B に示す構造によれば、 動作ス ト ロークが長い場 合、 ベローズに発生しやすい撓み等による応力集中 (座屈や 変形) が防止される。 しかしなが ら、 本発明者によれば、 こ れ等の構造では、 パーテ ィ ク ルの発生や、 ベローズ内の十分 なスペース の確保に関連して問題が見出されている。
発明の開示
本発明の 目的は、 パーティ クルの飛散を防止する こ と がで きる と共に、 ベローズ内に十分なスペースを確保する こ とが でき るベローズ支持構造及び可動ス テージ装置を提供する こ と にある。
本発明の他の 目的は、 ベロ ーズの耐久性の向上が図れる と 共に、 ベローズ内に可動部の駆動部材等を配置する こ と がで き るべ口ーズ支持構造及ぴ可動ス テージ装置を提供する こ と にある。 本発明の更に他の 目的は、 構造の簡素化及ぴコ ス トの低減 が図れるベローズ支持構造及び可動ス テージ装置を提供する こ と にある。
本発明の第 1 の視点は、 ベローズを内側から支持する構造 であって、
前記べローズの内部に配設され且つ前記べローズの軸方向 に沿って延在する案内 ト ラ ック と、
前記軸方向に沿って前記案内 ト ラ ック上を移動可能に配設 された移動部材と、
前記移動部材と前記べローズと を実質的に接続する 中間支 持部と、
を具備する。
本発明の第 2 の視点は、 真空または所定の気体若しく は液 体を充填した室内で被処理体の移動を行う ための可動ス テー ジ装置であって、
前記室内の第 1 及び第 2側壁間に配設された リ ニアガイ ド と、
前記リ ユア ガイ ドの長手方向に沿って移動可能な可動枠と 前記リ ニアガイ ドは前記可動枠内に揷通される こ と と、
前記可動枠と前記第 1及び第 2側壁との間で前記リ ニアガ ィ ドを包囲する一対のベローズと、 前記可動枠と前記一対の ベローズは、 協働 して前記室内の他の部分から気密に隔離さ れた補助空間を形成するこ と と、
前記リ ニアガイ ドに沿って前記可動枠を移動させる駆動部 材と、 前記一対のベローズの内部に配設され且つ前記一対のベロ 一ズの軸方向に沿って延在する案内 ト ラ ック と、
前記軸方向に沿って前記案内 ト ラ ック上を移動可能に配設 された移動部材と、 .
前記移動部材と前記一対のベローズと を実質的に接続する 中間支持部と、
を具備する。
図面の簡単な説明
図 1 は、 本発明の実施形態に係るベローズ支持構造を概略 的に示す縦断面図。 .
図 2 は、 図 1 に示す構造の左側側面図。
図 3 は、 図 1 に示す構造の右側側面図。
図 4 は、 図 1 に示す構造の斜視図。
図 5 Aは、 図 1 に示す構造の移動部材を上方から見た斜視 図。
図 5 Bは、 図 5 Aに示す移動部材を下方から見た斜視図。 図 6 Aは、 図 1 に示す構造の移動部材同士が当接した時の 状態を示す平面図。 ·
図 6 B は、 図 6 Aに示す移動部材同士が離間 した時の状態 を示す平面図。
図 7 は、 本発明の実施形態に係る可動ス テージ装置を概略 的に示す斜視図。
図 8 は、 図 7 に示す可動ス テージ装置を組み込んだ半導体 処理シス テムを示す部分切欠斜視図。
図 9 Aは、 従来のベローズ支持構造 (内部支持構造) を概 略的に示す縦断面図。
図 9 B は、 従来の別のベローズ支持構造 (外部支持構造) を概略的に示す縦断面図。
発明を実施するための最良の形態
本発明者は、 本発明の開発の過程において、 従来のベロー ズ支持構造の抱える問題点、 特に半導体処理システムの駆動 系にこれらを適用 した場合の問題点について研究した。 その 結果、 以下に述べるよ う な知見を得た。
ベローズの伸び過ぎや縮み過ぎは、 ベローズの耐久性を低 下させる原因と なる。 この問題を解消するため、 ベローズに ス ト ッパを配設する こ とができ る。 図 9 A、 B に示すよ う な 内部支持構造と外部支持構造の何れの場合においても、 ス ト ッパはべローズの外側に配置する こ と が一般的に考えられる , ス ト ッパをべロ ーズの外側に配置する と、 外部支持構造の各 部材と同様、 摺動部がベローズの外側になる。 このため、 ス ト ッパ等の摺動部から発生するパーティ クルが真空室内に飛 散し、 ウェハを汚染する恐れがある。
この問題を回避するために、 内部支持構造の各部材と 同様 ス ト ツパをべローズの内側に配置する こ と が考え られる。 し 力、し、 この場合、 ス ト ッパが、 ベローズ内の多く のス ペース を占有する こ と になる。 その結果、 ベローズ内に十分なスぺ ースを確保する こ と が難しく な り 、 ベローズ内に可動部の駆 動部材等を配置する こ とが難しく なる。
以下に、 このよ う な知見に基づいて構成された本発明の実 施形態について図面を参照 して説明する。 なお、 以下の説明 において、 略同一の機能及び構成を有する構成要素について は、 同一符号を付し、 重複説明は必要な場合にのみ行う。
図 1 は、 本発明の実施形態に係るベローズ支持構造を概略 的に示す縦断面図である。 図 2 、 3 、 及ぴ 4 は、 夫々 図 1 に 示す構造の左側側面図、 右側側面図、 及び斜視図である。
図 1 乃至 4 に示すよ う に、 ベローズ (蛇腹) 1 は、 長手方 向に伸縮自在の円筒体からなる。 ベローズ 1 の一端には、 こ れを固定部例えば真空室の側壁に固定するためのフ ラ ンジ 2 が配設される。 ベローズ 1 の他端には、 これを可動部例えば 可動枠 (図 7 を参照 して後述する) に接続するためのフ ラ ン ジ 3 が配設ざれる。 ベローズ 1 の中間箇所には、 1 以上 ( 1 または複数) の中間支持部である中間 リ ング 5 がー体または 別体で配設される。 図示例では、 別体で配設された中間 リ ン グ 5 が示される。
固定側のフ ラ ンジ 2 の端面には、 環状取付け溝 6 が形成さ れる。 取付け溝 6 には、 真空室の側壁と の間を気密にシール するための O リ ング (気密材 : 図示せず) が取付け られる。 可動側のフ ラ ンジ 3 の外周は、 可動枠の端面形状と 同 じよ う に正面方形に形成される。 フラ ンジ 3 の端面には、 可動枠の 端面に取付け られた O リ ングを当接させるための平らな当接 面 7が形成される。
ベロ ーズ 1 は、 例えばステン レス等の金属からなる複数枚 の リ ング状薄板同士を内周 と外周で交互に溶接接合して構成 される。 中間リ ング 5 は、 ベローズ 1 と略同径の リ ングから なる。 フ ラ ンジ 2 、 3及び中間 リ ング 5 は、 ベローズ 1 の端 部に夫々溶接で接合される。 中間 リ ング 5 は、 ベローズ 1 の 中間箇所に、 ベローズ 1 の長さ に応じて 1 または適宜間隔で 複数配設される。
ベローズ 1 内には、 その長手方向 (軸方向) に沿って案内 部材 (案内 ト ラ ック) である 2本のレール 8 が水平に配設さ れる。 2本のレーノレ 8 は、 ベローズ 1 の内面に近接する よ う に、 ベローズ 1 の内部の上側及び下側に夫々配設される。 レ ール 8 は、 占有スペースを小さ く するために高さの低い扁平 状である こ とが好ま しい。
レール 8 には、 その長手方向に沿って移動自在に、 移動部 材の本体である移動ブロ ック 1 0 が支持される。 移動プロ ッ ク 1 0 には、 夫々 中間 リ ング 5 取付け られる。 従って、 移動 ブロ ック 1 0 は、 中間 リ ング 5 を介してべローズ 1 の内面に 接続される。
具体的には、 レール 8 は、 底面部 8 a と 、 底面部 8 a の両 側から立ち上がった両側面部 8 b 、 8 b と、 両側面部 8 b 、 8 b の上縁部を内側に相対向 して折り 曲げたフ ラ ンジ部 8 c 8 c と を有する。 従って、 レール 8 は、 これらの部分によ り 包囲された、 横断面略 C字状の案内溝部 8 d を有する。 上側 のレール 8 の案内溝部 8 d は上方を向き、 下側の レール 8 の 案内溝部 8 d は下方を向く 。
2本の レ ^ "ル 8 は、 ベローズ 1 の内側に揷通される例えば 横材 (梁材) 1 1 の上部と下部と に夫々配設される。 図示例 の横材 1 1 は、 可動枠 (可動部) の駆動部材 (図 7 を参照 し て後述する) を取付けるためのスペースを確保するため、 ベ ローズ 1 内の軸心に対して偏心して配設される。
2本の レール 8 に代え、 1 本の レーノレ 8 だけが、 その案内 溝部 8 d が上方を向 く よ う に、 ベローズ 1 内の上部に配置さ れた構成とする こ と もでき る。 し力 し、 2本のレール 8 がべ ローズ 1 内の上部と下部に配置される と、 中間 リ ング 5 を安 定した支持状態でガイ ドする こ とができ る。
図 5 Aは、 図 1 に示す構造の移動部材を上方から見た斜視 図である。 図 5 Bは、 図 5 Aに示す移動部材を下方から見た 斜視図である。 図 6 Aは、 図 1 に示す構造の移動部材同士が 当接した時の状態を示す平面図である。 図 6 Bは、 図 6 Aに 示す移動部材同士が離間 した時の状態を示す平面図である。
移動部材の本体である移動プロ ック 1 0 は、 レール 8 の案 内溝部 8 d 内に中間 リ ング 5 と対応する数だけ直列に互いに 移動自在に配設される。 移動ブロ ック 1 0 は、 案内溝部 8 d 内を脱落 しないよ う に スライ ド自在或いは走行自在に配設さ れる。 更に、 各移動ブロ ッ ク 1 0 には、 レール 8 上を転がる よ う に、 2 つのローラ (車輪) 1 2 が、 支軸 1 2 a を介して 回転自在に軸支される。 なお、 移動ブロ ック 1 0 が案内溝部 8 d 内で滑らかに ライ ドできれば、 ローラ 1 2 は省略する こ と も可能である。
移動ブロ ック 1 0 の前側及び後側には、 走行方向へ突出 し た突出部 1 0 a 、 1 0 b が、 点対称と なる よ う に配設される 2つのローラ 1 2 は、 移動ブロ ック 1 0 の走行方向の前側と 後側と において、 突出部 1 0 a 、 1 0 b の側面の略中央部に 片持ち梁状態で支軸 1 2 a を介 して支持される。 換言する と 前側のローラ 1 2及び後側の突出部ュ 0 b と、 後側のローラ 1 2及び前側の突出部 1 0 a と は、 ベローズ 1 の軸方向に延 びる移動ブロ ッ ク 1 0 の中心線を挟んで対向する よ う に (即 ち右側及び左側に) 配置される。
'突出部 1 0 a 、 1 0 b は、 前後の移動ブロ ック 1 0 のロー ラ 1 2 が互いに接触する前に互いに当接する こ と によ り 、 ベ ローズ 1 の縮み過ぎを防止する。 即ち、 突出部 1 0 a 、 1 0 に よ り 、 隣り 合 う移動プロ ッ ク 1 0 の最近接距離が規定さ れる。 図示例の場合、 図 5 A乃至図 6 B に示すよ う に、 隣り 合う移動ブロ ック 1 0 は、 突出部 1 0 a 、 1 0 a または 1 0 b 、 1 0 b 同士が同 じ側 (右側または左側) に配置される。 従って、 隣り合 う移動ブロ ック 1 0 は、 突出部 1 0 a 、 1 0 a または 1 0 b 、 1 0 b 同士が当接する こ と に'よ り 、 最近接 距離が規定される。
更に、 レール 8 の案内溝部 8 d 内には、 図 6 B にも示すよ う に、 ベローズ 1 の伸び過ぎを防止するための平面略コ字状 のフ ックバー 1 3 が配設される。 フ ックノ ー 1 3 は、 ベロー ズ 1 の長手方向に隣り 合う移動ブロ ッ ク 1 0 同士を所定の間 隔内に繋ぎ止める。 即ち、 フ ックバー 1 3 によ り 、 隣り 合う 移動ブロ ック 1 0 の最離反距離が規定される。 図示例の場合 フ ッ クバー 1 3 は、 ベローズ 1 の軸方向に延びる移動ブロ ッ ク 1 0 の中心線を挟んで左右交互に配置される。 即ち、 図 5 B に示すよ う に、 連続する 3つの第 1 、 第 2、 及び第 3移動 ブロ ック 1 0 に関 し、 第 1 及び第 2移動ブロ ック 1 0 が右側 のフ ックバー 1 3 で係留される と、 第 2及び第 3移動ブロ ッ ク 1 0 は左側のフ ックバー 1 3 で係留される。
具体的には、 フ ッ クバー 1 3 は長尺の棒材 1 3 a の両端部 をフ ック部 1 3 b 、 1 3 b と して同方向に略直角に折 り 曲げ てなる。 隣り 合 う移動ブロ ック 1 0 の対向する突出部 1 0 a 1 0 a (または 1 0 b 、 1 0 b ) の下側には、 フ ッ ク バー 1 3 のフ ック部 1 3 b を係止するための係止部 1 0 c が配設さ れる (図 5 B参照) 。 移動プロ ック 1 0 の両側部には、 フ ッ ク部 1 3 b の移動を許容する た め の溝部 1 0 dが配設される , フ ッ クバー 1 3 は、 案内溝部 8 d 内の両側部に、 フ ラ ンジ 部 8 c で覆われた状態で長手方向に沿って脱落しないよ う に スライ ド自在に支持される。 各フ ッ クバー 1 3 の長さ は、 隣 り 合 う移動プロ ック 1 0 同士が当接したと きの両移動ブロ ッ ク 1 0 の長さ と ほぼ等 しい長さ と される こ と が好ま しい。 こ れによ り 、 隣り 合う フ ック バー 1 3 同士が干渉する こ と な く 隣り 合う移動ブロ ック 1 0 同士が当接する こ とができ る。 即 ち、 ベローズ 1 の縮み量を十分に確保する こ とができ、 隣り 合う移動ブロ ック 1 0 同士が離反 (離間) する と きにはベロ ーズ 1 の伸び量を十分に確保する こ とができ る。
各可動ブロ ッ ク 1 0 上の略中央部には、 各中間 リ ング 5 を 固定するための固定片部 1 0 e が突設される。 固定片部 1 0 e には、 中間リ ング 5 がネジまたは溶接で取付けられる。
上述のよ う に、 このべローズ支持構造においては、 ベロー ズ 1 の中間箇所に一体または別体で 1 以上の中間 リ ング 5 が 配設される。 ベローズ 1 内の内面近傍にその長手方向に沿つ てレール 8 が配設される。 レール 8 にその長手方向に沿って 移動自在に移動ブロ ック 1 0 が支持される。 移動ブロ ック 1 0 に中間 リ ング 5 が支持される。 これによ り 、 ノ ーテイ クノレ の飛散を防止する こ と ができ る。 また、 ベローズ 1 内に十分 なスペースを確保する こ と ができ、 ベローズ 1 内に可動部の 駆動部材等を配置する こ とができる。
レール 8 は、 横断面略 C字状の案内溝部 8 d を有する。 案 内溝部 8 d が上方と下方に向 く よ う にレール 8 が水平方向に 沿って上部と下部に配置される。 このため、 中間 リ ング 5 を 介してべローズ 1 を水平状態で且つ安定した状態に支持する こ とができる。
ベローズ 1 の長手方向に隣り 合 う移動プロ ック 1 0 同士が 当接する こ と によ り べローズ 1 の縮み過ぎが防止される。 こ のため、 簡単な構造でベローズ 1 の縮み過ぎを防止する こ と ができ、 構造の簡素化、 耐久性の向上及びコ ス トの低減が図 れる。
レール 8 には、 ベローズ 1 の伸び過ぎを防止するため、 ベ ローズ 1 の長手方向に隣り 合う移動ブロ ッ ク 1 0 同士を所定 の間隔で繋ぎ止める平面略コ字状のフ ックバー 1 3 が左右交 互に配置される。 このため、 簡単な構造でベローズ 1 の伸び 過ぎを防止する こ と ができ、 構造の簡素化、 耐久性の向上及 びコ ス ト の低減が図れる。
図 7 は、 本発明の実施形態に係る可動ス テージ装置を概略 的に示す斜視図である。
図 7 に示すよ う に、 こ の可動ス テージ装置 1 5 は、 例えば 真空室 1 6 内で被処理体例えば半導体ウェハの搬送を行 う た めに配設される。 可動ス テージ装置 1 5 は、 真空室 1 6 内の 両側壁 1 7 間に横架された横材 (梁材) 1 1 を含む。 横材 1 1 の周囲を取り 囲み且つ横材の長手方向に沿って移動自在に 可動枠 1 8 が配設される。 可動枠 1 8 を横材 1 1 に沿って往 復移動させるため、 駆動部材 2 0 が配設される。 可動枠 1 8 の両側に位置する横材 1 1 を覆う よ う に一対のベローズ 1 が 配設される。 一対のベローズ 1 は、 一端がフラ ンジ 2 を介 し て側壁 1 7 に固定され、 且つ他端がフ ラ ンジ 3 を介して可動 枠 1 8 の端面に接続される。
ベローズ 1 の支持構造は、 図 1 乃至図 6 B を参照したもの と 同様である。 即ち、 図 1 乃至 4 に示すよ う に、 ベロ ーズ (蛇腹) 1 は、 長手方向に伸縮自在の円筒体からなる。 ベロ ーズ 1 の一端には、 これを固定部例えば真空室の側壁に固定 するためのフ ラ ンジ 2 が配設される。 ベローズ 1 の他端には これを可動枠 1 8 に接続するためのフ ラ ンジ 3 が配設される ベローズ 1 の中間箇所には、 1 以上 ( 1 または複数) の中間 支持部である中間リ ング 5 がー体または別体で配設される。
ベローズ 1 内には、 その長手方向 (軸方向) に沿って案内 部材 (案内 ト ラ ック) である 2本のレール 8 が水平に配設さ れる。 2本の レーノレ 8 は、 ベローズ 1 の内面に近接する よ う に、 ベローズ 1 の内部の上側及び下側に夫々配設される。 レ ール 8 には、 その長手方向に沿って移動自在に、 移動部材の 本体である移動プロ ック 1 0 が支持される。 移動プロ ック 1 0 には、 夫々 中間 リ ング 5 取付け られる。 従って、 移動プロ ック 1 0 は、 中間 リ ング 5 を介 してべローズ 1 の内面に接続 される。
図 7 'に示すよ う に、 横材 1 1 の一側面にはその長手方向に 沿って リ ニアガイ ド 2 1 が配設される。 リ ニアガイ ド 2 1 に ス ライ ダ 2 2 を介して可動枠 1 8 がス ライ ド自在に支持され る。 駆動部材 2 0 と して、 横材 1 1 の一側面にはその長手方 向に沿つてボールネジ 2 3 が回転自在に取付け られる。 ボー ルネジ 2 3 に螺合された雌ねじ部材 2 5 に、 可動枠 1 8 が固 定される。 ポールネジ 2 3 の一端には回転駆動用のモータ 2 6 が連結される。 これによ り 、 ボールネジ 2 3 の回転によ り 雌ねじ部材 2 5 を介 して可動枠 1 8 を水平方向に移動させる こ とができ る。
ベローズ 1 の内部は、 側壁 1 7 に形成された貫通孔 2 7 を 介して大気と連通される。 即ち、 駆動部材 2 0やべローズ 1 の支持構造 (支持機構) は、 ベローズ 1 の内側の大気側にあ る。 このため、 駆動部材 2 0や支持構造の摺動部から発生す るパーティ クルが真空室 1 6 内に飛散、 浮遊して ウェハを汚 染する よ う なこ と はない。 なお、 可動枠 1 8 には、 ウェハを 一枚ずつ保持して水平方向に搬送する旋回及び伸縮可能な搬 送アーム機構 (図 8 参照) を、 昇降機構を介 して配設する こ とができる。 '
図 8 は、 図 7 に示す可動ステージ装置を組み込んだ半導体 処理システムを示す部分切欠斜視図である。
図 8 に示すよ う に、 この半導体処理システム 3 0 は、 水平 な一方向に長い筐体で形成され、 内部が真空雰囲気に設定可 能な共通搬送室 3 2 (図 7 では真空室 1 6 と して示される) を有する。 共通搬送室 3 2 の一側面には、 半導体ウェハに対 して真空雰囲気下で半導体処理を施すための 3つの真空処理 室 3 4が接続される。 共通搬送室 3 2 の他側面には、 ウェハ を搬送する際の圧力バッ フ ァ室と して機能する 2つのロー ド ロ ック室 (図示せず) が接続される。
真空処理室 3 4及びロー ドロ ッ ク室に対応 して、 搬送室 3 2 の側面には、 被処理基板である半導体ウェハ Wを搬出入す るためのポー ト 3 6 が形成される。 各ポー ト 3 6 には、 搬送 室 3 2 と真空処理室 3 4及ぴロ ー ドロ ック室との間を気密に 仕切るためのゲー トバルブ Gが配設される。
共通搬送室 3 2 内には、 図 7 に示す可動ステージ装置 1 5 が配設される。 可動ステージ装置 1 5 は、 可動枠 1 8 と 可動 枠 1 8 の両側に配設された一対のベローズ 1 と を有する。 可 動枠 1 8 と一対のベローズ 1 と は、 協働して共通搬送室 3 2 内の雰囲気から気密に隔離された補助空間 4 2 を內部に形成 する。 こ の補助空間 4 2 は、 共通搬送室 3 2 の両端壁に形成 された開口 3 8 を通して、 大気圧雰囲気に連通する。
可動枠 1 8及びべローズ 1 内、 即ち、 補助空間 4 2 内には 図 7 に示す駆動構造及び支持構造が配設される。 これらの内 部構造によ り 、 可動枠 1 8 は、 共通搬送室 3 2 の両端壁間を 水平移動する こ とができ る。 更に、 可動枠 1 8 上には、 ゥェ ハ Wを取扱う ため、 旋回及び伸縮可能な搬送アーム機構 4 5 が、 昇降機構を介して配設される。 搬送アーム機構 4 5 によ り 、 ポー ト 3 6 を通 して、 真空処理室 3 4及びロー ドロ ック 室に対してウェハ Wが搬出入される。 図 7及び図 8 に示す可動ス テージ装置 1 5 によれば、 可動 枠 1 8 の両側のベローズ 1 内には、 真空室 1 6 、 3 2 内の雰 囲気から気密に隔離された補助空間 4 2 が形成される。 こ の 捕助空間 4 2 内に、 可動枠 1 8及びべローズ 1 の駆動構造及 び支持構造が配設される。 このよ う な構成下で、 可動枠 1 8 を介 して (図 8 では搬送アーム機構 4 5 を介 して) ウェハの 移動或いは搬送が行われる。 従って、 真空室 1 6 、 3 2 内に おけるパーティ クルの飛散やウェハへのパーティ クル汚染を 防止する こ とができる。
以上、 図面を参照 して本発明の実施形態を詳述したが、 本 発明はこれらに限定される も のではな く 、 本発明の要旨を逸 脱しない範囲での種々 の設計変更等が可能である。 例えば、 実施形態ではべローズを水平に した例が示されるが、 本発明 に係るベローズ支持構造はべローズが垂直の場合にも適用可 能である。 また、 実施形態では、 中間 リ ングがべローズと は 別体である例が示されるが、 中間 リ ングはべローズと一体形 成されていても よい。 また、 中間 リ ング (中間支持部) と移 動部材とが、 一体的または一体に形成されていてもよい。
実施形態では、 案内部材 (案内 ト ラ ック) と してレールが 例示されるが、 案内 ト ラ ック と してはローラ を長手方向に連 ねたローラ コ ンベア (ローラベア リ ング) であっても よい。 この場合、 移動部材がローラ コ ンベア上を移動する よ う にな る。 レール (案内部材) は上部と下部に限定される も のでは なく 、 左右に配置されていても よい。
可動ス テージ装置を設ける室と しては、 真空に限定される ものではな く 、 例えば所定の気体 (空気、 ガス等) または液 体 (水、 薬液等) を充填した室であっても よい。 室内の圧力 は常圧、 正圧、 負圧であっても よい。 腐食性を有するガス雰 囲気中で使用される場合、 ベローズは金属製に限定されず、 耐食性を有する材質例えばテ フ ロ ン (登録商標) 製等であつ ても よい。
産業上の利用可能性
本発明に係るベローズ支持構造及び可動ス テージ装置によ れば、 パーティ ク ルの飛散を防止する こ とができ る と共に、 ベローズ内に十分なスペースを確保する こ とができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . ベローズを内側から支持する構造であって、
前記べローズの内部に配設され且つ前記べローズの軸方向 に沿って延在する案内 ト ラ ック と、
前記軸方向に沿って前記案内 ト ラ ック上を移動可能に配設 された移動部材と、
前記移動部材と前記べローズと を実質的に接続する 中間支 持部と、
を具備する。
2 . 請求の範囲 1 に記載の構造において、
前記案内 ト ラ ック は、 前記べローズの内面に近接する よ う に、 前記べローズの内部の上側及び下側に夫々配設された上 側及び下側 ト ラ ック を具備する。
3 . 請求の範囲 1 に記載の構造において、
前記移動部材は、 前記案内 ト ラ ック上を走行可能に且つ前 記案内 ト ラ ック から脱落しないよ う に装着された移動ブロ ッ クを夫々具備する。
4 . 請求の範囲 3 に記載の構造において、
前記案内 ト ラ ック は、 横断面略 C字状の案内溝部を有し、 前記移動ブロ ック は、 前記案内溝部内にス ライ ド可能に装着 される。
5 . 請求の範囲 3 に記載の構造において、
前記移動部材は、 前記案内 ト ラ ック上を転がる よ う に前記 移動プロ ック に軸支されたローラを具備する。
6 . 請求の範囲 5 に記載の構造において、 前記移動部材は複数の移動部材を具備し、 前記複数の移動 部材は前記軸方向に沿って互いに対して移動可能である こ と と、 前記複数の移動部材は、 前記ローラが互いに接触する前 に互いに当接して、 前記複数の移動部材同士の最近接距離を 規定する よ う に配設された突出部を具備する こ と と、 を含む (
7 . 請求の範囲 6 に記載の構造において、
前記ローラは、 前記突出部の側面に軸支される。
8 . 請求の範囲 6 に記載の構造において、
前記ローラは、 前記移動プロ ッ ク の前方及び後方に配設さ れた第 1 及び第 2 ローラを具備し、 前記第 1 及び第 2 ローラ は、 前記軸方向に延びる前記移動プロ ック の中心線を挟んで 互い違いに配設される こ と と、
前記突出部は、 前記移動ブロ ックの前方及び後方に配設さ れた第 1 及び第 2突出部を具備 し、 前記第 1 及び第 2突出部 は、 前記中心線を挟んで互い違いに配設される こ と と、
隣接する 2つの移.動部材の前記第 1 及び第 2突出部は、 前 記中心線に対して位置が逆転している こ と と、
を含む。
9 . 請求の範囲 3 に記載の構造において、
前記移動部材は複数の移動部材を具備し、 前記複数の移動 部材は前記軸方向に沿って互いに対して移動可能である こ と と、 前記構造は、 前記複数の移動部材同士の最離反距離を規 定する よ う に前記移動プロ ック と係合する係合部材を更に具 備する。
1 0 . 請求の範囲 9 に記載の構造において、 前記案内 ト ラ ック は、 横断面略 C字状の案内溝部を有し、 前記移動ブロ ック及び前記係合部材は、 前記案内溝部内にス ライ ド可能に装着される。
1 1 . 請求の範囲 9 に記載の構造において、
隣接する第 1 、 第 2、 及び第 3移動部材に対して、 前記係 合部材は、 前記第 1 及び第 2移動部材の互いの最離反距離を 規制する第 1 フ ック と、 前記第 2及び第 3移動部材の互いの 最離反距離を規制する第 2 フ ック と を具備 し、 前記第 1 及び 第 2 フ ッ ク は、 前記軸方向に延びる前記移動プロ ッ ク の中心 線を挟んで互い違いに配設される。
1 2 . 真空または所定の気体若しく は液体を充填した室内で 被処理体の移動を行う ための可動ステージ装置であって、 前記室内の第 1 及び第 2側壁間に配設された リ ニアガイ ド と、
前記リ ニアガイ ドの長手方向に沿って移動可能な可動枠と 前記リ ニアガイ ドは前記可動枠内に揷通される こ と と、
前記可動枠と前記第 1 及び第 2側壁と の間で前記リ ニアガ ィ ドを包囲する一対のベローズと、 前記可動枠と前記一対の ベローズは、 協働して前記室内の他の部分から気密に隔離さ れた補助空間を形成する こ と と、
前記リ ニアガイ ドに沿って前記可動枠を移動させる駆動部 材と、
前記一対のベロ ズの内部に配設され且つ前記一対のベロ 一ズの軸方向に沿って延在する案内 トラ ック と、
前記軸方向に沿って前記案内 ト ラ ック上を移動可能に配設 された移動部材と、
前記移動部材と前記一対のベローズと を実質的に接続する 中間支持部と、
を具備する。
1 3 . 請求の範囲 1 2 に記載の装置において、
前記室内は真空雰囲気に設定可能であ り 、 前記補助空間は 大気圧雰囲気に連通する。
1 4 . 請求の範囲 1 2 に記載の装置において、
前記駆動部材は、 前記一対のベローズ内の所定位置に配設 される。
1 5 . 請求の範囲 1 3 に記載の装置において、
前記被処理体を取扱 う ため、 前記可動枠上に配設された伸 縮可能な搬送アーム機構を更に具備する。
1 6 . 請求の範囲 1 5 に記載の装置において、
前記室を規定する搬送室筐体を更に具備 し、 前記搬送室筐 体は、 前記被処理体に半導体処理を施すための処理装置に接 続される。
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