WO2004079429A1 - 光減衰量制御のための方法および装置 - Google Patents

光減衰量制御のための方法および装置 Download PDF

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core
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Katsuhiko Kurumada
Masatoshi Kanaya
Toshiaki Tamamura
Yasuji Ohmori
Akira Himeno
Yoshihiko Suzuki
Tohru Ishizuya
Keiichi Akagawa
Junji Suzuki
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Nikon Corp
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/264—Optical coupling means with optical elements between opposed fibre ends which perform a function other than beam splitting
    • G02B6/266—Optical coupling means with optical elements between opposed fibre ends which perform a function other than beam splitting the optical element being an attenuator

Definitions

  • the present invention relates to a method and apparatus for controlling light attenuation, and more particularly, to a method of controlling light attenuation by inserting a shirt into a slit of an optical waveguide.
  • the present invention relates to a technique for reducing polarization dependence in an attenuation device.
  • FIG. 6A is a diagram showing a cross-sectional structure of an optical waveguide of a conventional typical variable optical attenuator that realizes an optical attenuation function, an optical blocking function, and the like by connecting to various optical communication fibers.
  • 1 indicates a cladding layer of an optical waveguide
  • 2 indicates a core of the optical waveguide
  • 3 indicates a substrate located below the optical waveguide region.
  • Reference numeral 5 denotes a shirt used for light attenuation control
  • reference numeral 6 denotes a groove or a hole-like slit through which the shirt enters and exits.
  • the material of the cladding layers 1 and core 2 of the optical waveguide is quartz, and the material of the substrate 3 is usually Si single crystal.
  • FIG. 6B is a schematic view including the shirt evening 5 and the slit 6 as viewed from the VIB virtual plane of FIG. 6 A to the left, and arrows indicate general examples of the movement direction of the shirt evening 6.
  • FIG. 6C is a schematic view of the left side of the virtual plane of FIG. 6A.
  • the slit 6 can be formed by an etching process generally used in a semiconductor process, and is described in Reference 2 or Reference 3.
  • the propagation loss of the light beam incident on the waveguide has polarization dependence, which depends on the plane of polarization.
  • polarization dependence is a problem to be solved particularly in an optical wavelength division multiplexing system in which the technology of the optical fiber system is advanced, and a reduction in the polarization dependence is required.
  • FIG. 7 shows experimental results showing the polarization dependence of the attenuation when a conventional variable attenuator is used.
  • the vertical axis represents the amount of light attenuation
  • the horizontal axis represents the mirror position (arbitrary unit)
  • the solid line and broken line curves represent the attenuation corresponding to the mirror position (equivalent to shutter 5 above).
  • the attenuation obtained differs between TE and TM.
  • a difference of about 5 dB occurs between TE and TM at the position of the mirror at point a indicated by the arrow.
  • the mirror position K of FI G. 7 is the position where the shirt 5 indicated by FI Gs. 6 A-6B is located slightly above the light beam propagating through the slit 6 from the core 2. In a relationship.
  • FI G. 8 is a diagram showing a typical example of the energy intensity distribution of the light beam centered on the core of the optical waveguide.
  • the horizontal axis is the distance from the core center (/ im), and the vertical axis is the normalized energy intensity. Represents.
  • the relative refractive index difference ⁇ 0.3%
  • the width and height of the core are each 3 x m.
  • the energy distribution of the light beam is almost normal, and the tail of the light beam extends to the outside of the core.
  • the shape of the distribution is symmetrical up and down and left and right as shown in FIG. 8 as a first-order approximation.
  • the quartz system forming the optical waveguides 1 and 2 has a relative refractive index of 1 • 45, and an Si substrate 3 having a relative refractive index of 3.4 is located below the core.
  • an Si substrate 3 having a relative refractive index of 3.4 is located below the core.
  • above the core 2 there is a space having a relative refractive index of 1 or a refractive index matching liquid (not shown) having a refractive index of 1.45 equivalent to that of the stone filled in the slit 6.
  • the refractive index distribution perceived by the light beam i.e., in the region where the light beam spreads
  • the shape is not vertically symmetrical about the core 2 but is drawn toward the Si substrate 3 below the core.
  • the intensity distribution of the light beam has a shape in which the foot spreads to the lower side of the core, and is more affected by the substrate 3.
  • the electromagnetic wave of light propagates with the tail of the tail penetrating into the substrate.
  • the depth of penetration into the substrate side differs depending on the state of polarization, and the quartz that forms the optical waveguide with the Si substrate originally has an optical waveguide. If the polarization plane of the light beam is different due to the difference in propagation loss, the effect of the substrate will be different and the propagation loss will be different. In other words, the polarization effect is caused by the substrate effect.
  • researchers of the present application have found that such a problem becomes a factor that cannot be ignored when further improving the polarization dependence of the optical attenuator.
  • the light beam has a spread around the core in all directions, so that the higher the area of the light beam, the more the polarization of the propagation loss due to the substrate effect described above. Dependencies are reduced.
  • FIG. 6B shows the exercise position of the shirt in the conventional device described so far.
  • the shutter 5 descends from above the optical waveguide toward the substrate 3, and the lower end of the shirt 5 blocks the light beam. The attenuating operation of the light quantity of the propagating light beam is performed.
  • the problem of the high refractive index substrate effect described above can be reduced by making the cladding below the core thicker.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing the state of the device including the Si single crystal substrate 3 and the quartz optical waveguide 14 deposited thereon.
  • the coefficient of thermal expansion of the Si single crystal was Is smaller than the coefficient of thermal expansion. Therefore, the degree of volume reduction due to the temperature drop after the deposition is larger on the Si substrate 3 side than on the quartz side 14.
  • FIG. 9 when the quartz side 14 is turned upward, warpage occurs in the upwardly convex direction.
  • the thickness of the Si substrate 3 is usually at least 300 m in a 4-inch system, whereas the thickness of the quartz layer 14 is at most 4 m as described above.
  • the thin quartz layer 14 is under a strong compressive stress from the thick Si substrate side 3 because it is about 5 m or less.
  • the length of the line segment on the quartz surface and the line segment on the substrate interface in the cross-sectional shape shown in Fig. 9 that is deformed into an upwardly convex shape and receives compressive stress at the Si substrate interface As is clear from the comparison, the amount of stress strain inside the quartz layer 14 is the largest at the interface with the Si substrate 3. The lower above the quartz layer 14, the lower.
  • the stress strain inside the quartz layer 14 is alleviated as the distance from the substrate 3 is reduced, the polarization dependence problem of the propagation light loss caused by the stress distortion described above is reduced as the distance from the substrate 3 is reduced. Will be.
  • This problem is not limited to the Si substrate, but also occurs when a material having a coefficient of thermal expansion larger than that of quartz is used as the substrate.
  • the relative position between the shirt and the light beam in the conventional device shown in Fig. 6B indicates that the lower side of the light beam, whose polarization dependence is relatively strong, is used as the transmission region. Has occurred.
  • an object of the present invention is to solve the above-described problems of the prior art and to reduce the polarization dependence in an optical attenuator having a shirt inserted into a slit of an optical waveguide. It is to provide a control method and an optical attenuation control device.
  • the optical attenuation control method of the present invention comprises the steps of: providing a slit (6) in the middle of an optical waveguide (14) formed on a substrate (3); The light beam entering the slit from the input side waveguide core (2) on the inner wall of the slit is inserted into the slit, and is reciprocated by the shirt (5).
  • a light attenuation amount control method for adjusting and controlling the amount of light guided to the output side waveguide core (2) facing the input side waveguide core (2) by at least partially blocking the light.
  • the shirt (5) is moved so that the output light beam area that is transmitted without being shielded from the core expands in the direction toward the substrate from the side far from the substrate (3) in the core area. .
  • the output light beam area that is transmitted without being shielded by the shirt is defined as a core area. Expand from the side farther from the substrate toward the substrate.
  • a notch (51) is provided on one of the shoulders on the far side of the substrate (3) of the shirt (5), and the shirt is moved in parallel with the substrate.
  • the output light beam area that is transmitted without being shielded in the evening expands from the far side of the core area in the direction toward the substrate.
  • the optical attenuation control apparatus of the present invention is provided with a slit (6) that traverses an optical waveguide (14) formed on a substrate (3), in the middle of the waveguide.
  • the light beam entering the slit from the input side waveguide core (2) facing the inner wall of the slit .. At least partially blocked by the reciprocating shirt (5) inserted into the slit
  • it is an optical attenuation controller that adjusts and controls the amount of light guided to the output-side waveguide core (2) facing the input-side waveguide core (2) without being shielded by the shirt (5).
  • the output light beam region transmitted through the upper shirt (5) without being shielded is directed from a side of the core region far from the substrate (3) toward the substrate.
  • the shirt moving means moves the shutter (5) in the direction of the substrate (3) so as to expand toward the substrate.
  • a notch (51) is provided on one of the shoulders on the far side of the substrate (3) of the shirt (5), and the output light transmitted without being shielded by the shirt.
  • the above-mentioned shirting means moves the shirt (5) having the notch (51) into the substrate.
  • the upper front shirt moving means includes a leg on a mounting substrate (11) opposed to the surface of the optical waveguide (14) opposite to the substrate (3) with a predetermined space therebetween.
  • a movable beam (18) having a cantilever structure having a fixed portion (17) is provided, and a shirt (5) is attached to the tip of the movable beam (18).
  • the shirt is designed such that, as the shirt moves, the output light beam area that is transmitted without being shielded by the shirt extends in the direction from the far side of the core area to the substrate toward the substrate. Since the evening mechanism is configured, the polarization dependence of the optical attenuator that adjusts the light amount by moving the shirt entering the slit of the optical waveguide can be reduced.
  • FIG. 1A is a schematic sectional view schematically depicting the configuration of the variable optical attenuator to which the present invention is applied.
  • FIG. 1B is a schematic plan view schematically depicting the configuration of the variable optical attenuator to which the present invention is applied.
  • FIG.2 shows the principle of operation of the present invention, and is a cross-sectional view of the movement surface of the shirt 5 of FIGs.1A-1B.
  • FI G.3 is a characteristic diagram showing the relationship between the relative position of the shirt and the light beam and the transmitted light output.
  • regions I and II show the characteristics of the conventional device, and III and IV show the characteristics.
  • the region indicates the characteristics of the device of the present invention.
  • FIG. 4A is a vertical motion shirt and light beam according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing a relative positional relationship of FIG. 3, showing a state where a light beam is completely cut off by a shirt at a position corresponding to a position a in FIG.
  • FIG. 4B is a schematic diagram showing the relative positional relationship between the up-down motion shirt and the light beam according to the embodiment of the present invention. It is a figure showing the state at the time of fully opening a beam.
  • FIG. 5A is a schematic diagram showing a relative positional relationship between the horizontal exercise shirt and the light beam in another embodiment of the present invention, and is a diagram corresponding to FIG. 4A.
  • FIG. 5B is a schematic diagram showing the relative positional relationship between the horizontal motion shut-down and the light beam in another embodiment of the present invention, and is a diagram corresponding to FIG. 4B.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of an optical waveguide of a conventional variable optical attenuator that realizes an optical attenuation function, an optical blocking function, and the like by connecting to various types of optical communication fibers.
  • FIG. 6B is a side view of the slit seen from the VIB plane shown in FIG. 6A to the left.
  • FIG. 6C is a side view of the slit as viewed from the VIC surface shown in FIG.
  • FIG. 7 is a characteristic diagram showing experimental results showing the polarization dependence of the attenuation when a conventional variable attenuator is used.
  • FIG. 8 is a characteristic diagram showing an example of the energy intensity distribution of the light beam centered on the core of the optical waveguide.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure including a Si single crystal substrate and a quartz optical waveguide deposited thereon.
  • FIG. 1A is a longitudinal sectional view of FIG. 1A
  • FIG. IB is a plan view thereof.
  • 10 is an actuator
  • 11 is a mounting board on which the actuator is mounted
  • 12 is an optical waveguide.
  • the optical waveguide 14 formed on the optical waveguide substrate 3 is placed above the mounting substrate 11 through the spacer 15 so as to face the mounting substrate 11 so as to face the mounting substrate 11.
  • a magnet 16 for generating a magnetic field in the X direction is provided on the back side of the mounting substrate 11 for the purpose described later.
  • the optical waveguide 14 is provided with an optical waveguide core 2 for guiding input light and an optical waveguide core 2 for guiding attenuated emitted light, facing each other with a groove (slit) 6 therebetween.
  • a groove slit
  • the actuary 10 has a plate-like beam 18 extending in the X direction from the end 17 fixed to the mounting substrate 11 and a mirror 5 at the end thereof.
  • the whole constitutes a movable body with a cantilever structure.
  • a current path is formed by the wiring pattern 19 indicated by FIG. 1 B in the plan view, and when a current flows through this current path, a current component flowing in the current path along the Y direction in FIG.
  • the Mouth Lenz force proportional to the product of the magnetic field component in the X direction and the magnet 16 acts in the Z direction in the figure.
  • the mirror 15 at the tip of the beam 18 transmits the propagating light by the spring force of the cantilever 18 as shown in FIG. 1A.
  • the stationary state is maintained at a position where it is not blocked
  • Lorentz force is generated in the Z direction, and the spring force of the cantilever 18 is supplied.
  • the mirror 5 can be moved in the Z direction against the pressure, and the mirror 5 can be stopped at another desired position where the Lorentz force and the panel force of the cantilever 18 are balanced.
  • the rest position of the mirror 5 can be set to a desired position by changing the current value supplied to the current path.In the above example, the larger the current value, the lower the rest position of the mirror 5 moves. As a result, the amount of blocking of the propagating light increases. That is, The configuration is such that the attenuation value of the light propagating through the optical waveguide 14 is set according to the current value supplied to the cutout 10.
  • an important point of the present invention is that, when the propagation light propagating in the groove 6 is viewed in cross section, the shielding region is positioned on the optical waveguide substrate 3 side. This will be described in detail below.
  • FIG. 2 shows the principle of operation of the present invention, and is a cross-sectional view showing the positional relationship of the shirt (the above-mentioned mirror) 5 on the movement plane.
  • 4 indicated by a broken line indicates the spread region of the optical beam.
  • the complete interruption of the light beam by the shirt 5 occurs when the upper surface of the shirt 5 is at the position a in the drawing, which corresponds to the upper end of the spread area 4 of the light beam. Transmission of the light beam starts when the shirt 5 moves from the position a to the position a 'below. Since the transmitted light is the upper component of the light beam (ie, not on the substrate 3 side), the polarization dependence is improved over the previously discussed conventional devices that transmit the lower component of the light beam.
  • Fig. 3 shows a characteristic diagram of the output light intensity with the vertical axis.
  • the movement area of this shirt 5 is divided into four areas, I, II, III, and IV, depending on the relative position between the shirt and the core on the horizontal axis.
  • Region I is the movement of FI G. 3 where the lower end of the shirt 5 descends from above (opposite the substrate 3) and blocks the light beam from above in the conventional FI G. 6B.
  • the transmitted light component increases below the light beam (substrate 3 side), and as the lower component increases, the polarization dependence increases. Indicates that the polarization changes within the range between the broken line e and the solid line f in the figure.
  • the conventional apparatus, the shutter operates in the I and 11 regions.
  • the shirt beam 5 is moved further downward (toward the substrate 3 side), so that the light beam It is characterized in that the component is controlled as transmitted light, and the relative position of the shirt 5 is shown as a characteristic in the III and IV regions of FIG.
  • FIGG.48 corresponds to the shirt evening movement from the left end of the III.3 area of IG.3.
  • FI G. 4A does not transmit light because the light beam spread area 4 surrounding the core 2 is completely covered with the shirt 5 (mirror) 5 attached to the tip of the cantilever 18 of the evening 10.
  • This state is the position a at the left end of the third area of FIG.
  • a Lorentz force is generated, and piled on the spring force of the cantilever 18 so that the mirror 5 can move downward, as indicated by the arrow in FIG. That is, it moves toward the substrate 3.
  • the shirt light 5 descends from the light beam spread area 4 and the output light quantity gradually increases.
  • the a 'position in region III is when shirt shirt 5 almost half blocks light beam spread area 4 (shirt half open). Since the component of the light beam from the upper end of the shutter 5 is controlled as transmitted light in the region I, the problem of polarization dependence shown by the broken line e in the region II is improved.
  • FIG. 4B corresponds to the operation completion point (position b) in the IV area of FIG.
  • the operation completion point that is, in the operation region near the fully open state of the shirt, the lower component of the light beam is also mixed, but the energy intensity of the upper component is sufficiently strong, so that the component having lower polarization dependence is relative. It is so small that it can be ignored.
  • the arrow in FIG. 4B indicates the return direction of shirt 5. The shirt 5 is moved to a position where a desired output light amount is obtained and stopped by the control device or the shirt driving device (not shown).
  • the shirt shirt 5 In the state of FI G. 4 B, the shirt shirt 5 must be located below the light beam spread area 4. In this case, the depth of the slit for the movement of the shirt 5 (see reference numeral 6 in FIG. 6A) is determined by the depth to the lower end of the light beam spread area 4 and the height of the shirt 5 ( However, in Fig. 3, the characteristics of the III + IV area are the same as those of the I + 11 area. Usually symmetric, but more precisely, as shown in the prior art FI G. 6C, the center of the light beam is displaced below the center of core 2, so that FI G. 3 Cannot be bilaterally symmetric.
  • the shirting operation of the present invention is not limited to the direction perpendicular to the waveguide surface.
  • the shielding area can be positioned on the substrate 3 side by a shutter operation parallel to the waveguide surface. It is possible.
  • the cutout 51 at the top of the shirt 5 is for initially using the upper component of the light beam for transmission output.
  • FIG. 5A-5B shows an embodiment in which the direction of movement of the shirt 5 is parallel to the waveguide surface, and the arrow in FIG. 5A indicates the direction of travel of the shirt 5.
  • the arrow on FI G. 5 B indicates the return direction of shirt 5.
  • the shirt evening positions of FIG. 4A and FIG. 4B correspond to the shirt positions of FIG. 5A and FIG. 5B.
  • the III + of FI G since the upper component of the light beam is used for the transmission output, similarly to the embodiment of FI Gs. 4A-4B, the III + of FI G. The characteristics of the IV region can be realized.
  • the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments.
  • Various modifications such as replacement, change, addition, increase / decrease of the number, and change of the shape are all included in the embodiments of the present invention.
  • the configuration in which the Lorentz force is the driving force of the actuator in the variable optical attenuator is exemplified, but the driving means of the present invention is not limited to the Lorentz force.
  • electrostatic drive may be used.
  • the practice using the cantilever is illustrated, but various forms of the practice can be applied.
  • Shirts are not limited to mirrors, but may be shield plates that absorb light.

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Abstract

光導波路のスリットに挿入するシャッタの移動により光量を調整する光減衰装置の偏波依存性を低減する技術を開示する。シャッタの遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、コア領域の基板に遠い側から基板に向けた方向に向かって拡大するように、シャッタを移動（往動）する。また、シャッタの逆方向の移動（復動）により、出力光ビーム領域が、コア領域の基板に近い側から遠い方向に向って縮小する。これにより光減衰装置における偏波依存性を低減することができる。シャッタの基板に遠い側の片側の肩部に切り欠き部を設けて、シャッタを基板に対して平行移動しても同様な効果が得られる。

Description

光減衰量制御のための方法および装置 技術分野 本発明は、 光減衰量制御のため明の方法および装置に関し、 特に光導波路のス リットにシャツ夕を挿入して光の減衰量を制御する光減衰装置における偏波依 存性を低減する技術に関する。
書
背景技術
F I G. 6 Aは各種の光通信用ファイバに接続して光減衰機能や光遮断機能 等を実現する従来の典型的な可変光減衰器の光導波路の断面構造を示す図であ る。 この図において、 1は光導波路のクラッド層、 2は光導波路のコア、 3は 光導波路領域の下方に位置する基板を示す。 また、 5は光減衰量制御に用いる シャツ夕、 6はそのシャツタが出入りする溝または穴状のスリットを示す。 光 導波路のクラッド層 1およびコァ 2の材料は石英であり、 基板 3の材料は通常 S i単結晶である。
F I G. 6 Bは F I G. 6 Aの VIB仮想面から左を見たシャツ夕 5とスリット 6を含む概観図であり、 矢印はシャツ夕 6の運動方向の一般例を示している。
F I G. 6 Cは F I G. 6 Aの VIC仮想面から左を見た概観図である。
F I Gs. 6 A- 6 Cから分かるように、 シャツ夕 5をスリット 6内において 光導波路の長手方向と略直角の矢印方向に移動させることで、 クラッド層 1と コア 2の一部、 またはコア 2とクラッド層 1の全部を遮断し、 これにより光導 波路を通過する光の量 （強度） を調整することができる。 シャツ夕 5の運動は 、 シャツ夕 5を適当な公知のァクチユエ一夕 （図示しない） につなぐ一般的な 方法で可能であり、 この一般的な方法は例えば文献 1に記載されている。
(文南犬 1 ： M. Katayaraa et al, Micromachined 2x2 Optical Switch Array by Stress-Induced Bending" ， Technical Digest Fourth International Topi cal Meeting on Contemporary Photonic Technologies (CTP 2001), p.27-28, M c-4, Jan. 2001)
スリット 6の形成は、 半導体プロセスとして一般に用いられているエツチン グ処理によって可能であり、 文献 2、 または文献 3に記載されている。
(文献 2 ： 下川 他 「低損失自己保持型マトリクススィッチの研究」 NTT R&D， Vol.44, No.8, 1995, p.684-688)
(文献 3 ： 堀野 他 「平面導波路を用いたマクロメカニカル光スィッチ」 電 子情報通信学会 C一 1， Vol. J82-C- 1, o.6, p.335-341, 1996/6)
上述した F I Gs. 6 A-6 Cに示すような従来の可変減衰装置では、 導波路 に入射する光ビームの伝播損失が偏光面に依存する、 偏波依存性がある。 この ような偏波依存性は光フアイバシステムの技術が高度化された光波長多重方式 などでは特に解決すべき課題となっており、 偏波依存性の低減が求められてい る。
F I G. 7は従来の可変減衰器を用いる場合の減衰量の偏波依存性を示して いる実験結果を示す図である。 F I G. 7において、 縦軸は光の減衰量、 横軸 はミラー位置 （単位は任意） を表わし、 実線と破線で示す曲線はミラ一 （上記 のシャッタ 5に相等） 位置に対応する減衰量を導波路基板に平行な偏光成分 ( TE ;実線） と垂直な成分 (TM；破線) を其々プロットしたものである。
F I G. 7に示す実験結果によると、 光の減衰量が 0〜一 5 dB程度の範囲 では TE、 TMに対して減衰量は等しいが、 一 5 dB以下の範囲で減衰量が大 きくなるにつれて得られる減衰量は TEと TMとで異なる値となり、 例えば矢 印で示す a点のミラ一位置では TEと TMの減衰量に 5 dB近い差が生じてい る。 F I G. 7のミラ一位置 Kは、 F I Gs. 6 A- 6 Bで示すシャツ夕 5がコ ァ 2からスリット 6内を伝播する光ビームのやや上方に位置している場合の位 置関係にある。 F I G . 7の a点のミラ一位置は、 スリット 6内を伝播する光 ビームの大部分がミラ一であるシャツ夕 5に遮られる位置関係にあり、 このよ うな位置関係の場合に、 偏波依存性が特に大きくなつている。 この偏波依存性 が大きくなる原因としては、 以下の 2点が考えられる。
( 1 ) 基板の高屈折率による問題
F I G. 8は光導波路のコアを中心にした光ビームのエネルギー強度分布の 典型例を示した図であり、 横軸はコアの中心からの距離 （/i m)、 縦軸は正規化 エネルギー強度を表わしている。 条件としては、 比屈折率差 Δ = 0 . 3 %、 コ ァの幅と高さが各 3 x mである。 この事例でも示されるように、 光ビームのェ ネルギ一分布は略正規分布であり、 光ビームの裾野はコアの外側まで広がって いる。 かかる分布の形状はコアの幅と高さのサイズが等しい場合、 一次近似と しては F I G. 8のように上下左右に対称となる。
しかし、 より詳細にみれば、 光導波路 1， 2を形成する石英系は比屈折率 1 • 4 5であり、 かかるコ 2ァの下方には比屈折率 3 . 4の S i基板 3があり、 一方コア 2の上方は比屈折率 1の空間、 あるいはスリット 6内に満たされる石 英と同等の屈折率 1 . 4 5を持つ屈折率整合液 (図示しない） がある。
このように基板の屈折率が最も高い上下非対称の系においては、 以下の述べ るように偏波依存性の課題がある。 すなわち、 光ビームを感ずる (即ち、 光ビ —ムの広がり域の) 屈折率分布はコアの下方、 すなわち基板に近い領域でコア の上方の領域よりも高くなり、 その結果、 光ビームの強度分布は F I G. 6 C に破線で示すように、 コア 2を中心にして上下対称ではなくコアの下方の S i 基板 3側に引きずられた型となる。 換言すれば、 光ビームの強度分布はコアの 下側により大きく裾野が広がる形状となり、 基板 3の影響をより受けることに なる。
さらに、 別の表現をすれば、 光の電磁波は、 その裾野の末端部分が基板側に 浸透した状態で伝搬する。 さらにかかる状態では、 基板側への浸透の深さが偏 波の状態によって異なり、 かつ S i基板と光導波路を形成する石英には本来光 の伝搬損失の違いがあるために、 光ビームの偏波面が異なる場合には、 基板の 影響に違いが生じて伝搬損失が異なることになる。 いわば、 基板効果によって 偏波依存性の問題が生じていることになる。 かかる問題は、 光減衰装置の偏波 依存性をさらに改善する場合に無視できない要因になることが本願研究者らの 研究により判明した。
ここで、 光ビームの空間的な広がりに立ち入ってみると、 光ビームはコアの 周囲の上下左右にわたって広がりを持っために、 光ビームの上方の領域ほど、 上述した基板効果による伝搬損失の偏波依存性は減少する。
ところが、 これまで説明した従来装置のシャツ夕の運動では、 F I G . 6 B に示すように、 基板効果を被りやすい光ビームの下側を光ビームの透過領域に している。 F I G. 6 Bはこれまで説明した従来装置におけるシャツ夕の運動 位置を示している。 シャツ夕 5が導波路のスリット 6に挿入される際に、 シャ ッ夕 5は光導波路の上方から基板 3に向かって降下して、 そのシャツ夕 5の下 端が光ビームを遮断することによって、 伝搬する光ビームの光量の減衰動作を 行っている。
F I G. 6 Bでは下向きの矢印で示すシャッタ 5の動作方向は、 減衰量の増 加する方向にあり、 この運動の終点は F I G . 6 Bに示すシャツ夕 5による光 ビームの完全遮断状態である。 シャッ夕 5は完全遮断状態よりも更に降下する ことなく、 そのあと上昇する方向に動作して完全遮断状態から所望の減衰状態 を作り出す。
( 2 ) 反りによる問題
上述の高屈折率の基板効果の問題は、 コアの下側のクラッドをより厚くすれ ば低減される。 しかし， 石英導波路の厚さには反りの問題から限度がある。 さ らに、 石英導波路の厚さが例え限度内の厚さであっても、 反りによる原理的問 題に起因する偏波依存性が存在することを以下に述べる。
まず、 光導波路を製作する通常のサイズである 4インチ系の S i基板に通常 の 4 5 程度よりも厚く石英を堆積すると、 基板の S i結晶と光導波路の石 英の熱膨張率の違いによる反りが 1 0 0 を超えるまで顕著となり、 他のプ 口セスに障害を与える問題が起こり始める。 反りによるプロセス上の障害の代 表例には、 反りの増加による光導波路の微細パターンの形成の精度劣化がある 。 また、 その反りは基板の厚さを大きくするほど大きくなり、 基板が大型化す るほど顕在化するので、 今後さらに重要な問題となる。 また、 この問題は S i 基板の場合に限らず、 熱膨張率が石英より大きい材質を基板とする場合にも起 こり得る。
さらに、 上記のプロセス上の問題に加えて、 基板 +石英層の全体系の反りの 大きさにかかわらず、 石英層自体の反りに対応して生じている光導波路の内部 応力にも注意を払い、 この内部応力を少しでも低減する必要があることが分か つてきた。 この内部応力は基板との界面に平行な方向のみに生じているために 、 光導波路の屈折率に異方性が生ずる。 この屈折率の異方性の存在は、 光の偏 波面の違いによつて伝搬損失が変わることになり、 光導波路が偏波依存性を持 つ原因となる。
F I G . 9は S i単結晶基板 3とその上に堆積された石英光導波路 1 4を含 む素子の状態を示す断面図である。 基板ゥエーハ 3上に 1 0 0 0 °C以上で石英 層 1 4を堆積し、 常温まで降温した S i —石英の 2層構成の系では 上述した ように S i単結晶の熱膨張率が石英の熱膨張率よりも小さい。 よって、 堆積後 の温度低下による体積縮小の程度は、 S i基板 3側が石英側 1 4よりも大きく なる。 その結果、 F I G. 9に示すように、 石英側 1 4を上にした場合、 上に 凸の方向で反りが生ずる。 また、 各 2層の厚さについては、 S i基板 3の厚さ は 4インチ系で通常 3 0 0 m以上あり、 これに対して石英層 1 4の厚さは上 述のように最大 4 5 m程度以下となるために、 常温では薄い石英層 1 4は部 厚い S i基板側 3から強い圧縮応力を受けた状態にある。 さらに、 上に凸の形 に変形し、 S i基板界面の圧縮応力を受けている F I G. 9に示される断面の 形状における石英の表面の線分と、 基板界面の線分との長さの比較から明らか なように、 石英層 1 4の内部の応力歪の量は S i基板 3との界面で最も大きく 、 石英層 1 4の上方ほど低い。
換言すれば、 石英層 1 4内部の応力歪は基板 3側から遠いほど緩和されるの で、 上述の応力歪によって引き起こされる伝搬光損失の偏波依存性問題は基板 3側から遠いほど軽減されることになる。 尚、 この問題は S i基板の場合に限 らず、 熱膨張率が石英よりも大きい材質を基板とする場合にも同様に生じる問 題である。
従って、 F I G. 6 Bに示した従来装置におけるシャツ夕と光ビームとの相 対位置関係では、 偏波依存性が相対的に強くなる光ビームの下側を透過領域に 用いているという欠点が生じている。
以上の説明を要約すると、 光導波路における、 ( 1 ) 屈折率による基板効果、 ( 2 ) 反りによる屈折率の異方性は、 光導波路を伝搬する光ビームの偏波依存 性の問題を引き起こし、 さらに上記 ( 1 ) および ( 2 ) のいずれの場合も、 偏 波依存性は光ビームの上方の成分ほど緩和する方向にある。 これに対し、 従来 装置におけるスリット内の光ビームを遮断するシャツ夕の運動では、 光ビーム の下方の成分を透過光に用いている為に、 光導波路内を伝搬する光ビームの広 がりのうち、 偏波依存を被り易い成分を透過出力光ビームに用いている、 とい う解決すべき課題がある。 発明の開示 本発明の目的は、 従来技術の上述のような課題を解決し、 光導波路のスリツ トに挿入するシャツ夕を有する光減衰装置における偏波依存性を低減すること のできる光減衰量制御方法および光減衰量制御装置を提供することにある。 上記目的を達成するため、 本発明の光減衰量制御方法は、 基板 （3 ) 上に形 成された光導波路 （1 4 ) の途中にこの導波路を横断するスリット （6 ) を設 け、 このスリットの内壁に する入力側導波路コア （2 ) からスリット内に入 射した光ビームを、 スリット内に挿入して往復移動可能なシャツ夕 （5 ) によ つて少なくとも部分的に遮断することにより、 入力側導波路コア （2) に対面 する出力側導波路コア （2) に導く光量を調整制御する光減衰量制御方法であ つて、 シャツ夕 （5) の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 コア領 域の基板 （3) に遠い側からその基板に向けた方向に拡大するようにシャツ夕 (5) を移動することを特徴とする。
上記方法の構成において、 好ましい一態様では、 上記シャツ夕 （5) を基板 (3) の方向に向って移動するにつれて、 そのシャツ夕の遮蔽を受けずに透過 する出力光ビーム領域は、 コア領域の基板に遠い側から基板に向けた方向に向 かって拡大する。
また、 好ましい別の態様では、 上記シャツタ (5) の基板 (3) に遠い側の 片側の肩部に切り欠き部 (51) を設け、 そのシャツタを基板に対して平行移 動するにつれて、 シャツ夕の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 コ ァ領域の基板に遠い側から基板に向けた方向に向かって拡大する。
上記目的を達成するため、 本発明の光減衰量制御装置は、 基板 (3) 上に形 成された光導波路 （14) の途中にこの導波路を横断するスリット （6) を設 け、 このスリットの内壁に面する入力側導波路コア (2) からスリット内に入 射した光ビームを.. 該スリット内に挿入して往復移動可能なシャツ夕 (5) に よつて少なくとも部分的に遮断することにより、 入力側導波路コア (2) に対 面する出力側導波路コア （2) に導く光量を調整制御する光減衰量制御装置で あって、 シャツタ (5) の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 コア 領域の基板 (3) に遠い側からその基板に向けた方向に拡大するようにシャツ 夕 (5) を移動するシャツタ移動手段 (10, 11， 16〜19) を有するこ とを特徴とする。
上記装置の構成において、 好ましい一態様では、 上シャツ夕 （5) の遮蔽を 受けずに透過する出力光ビーム領域が、 コア領域の基板 （3) に遠い側からそ の基板に向けた方向に向かって拡大するように、 上記シャツ夕移動手段はシャ ッタ （5) を基板 （3) の方向に向って移動する。 また、 好ましい別の態様では、 上記シャツ夕 （5) の基板 （3) に遠い側の 片側の肩部に切り欠き部 （51) を設け、 そのシャツ夕の遮蔽を受けずに透過 する出力光ビーム領域が、 コア領域の基板 （3) に遠い側からその基板に向け た方向に向かって拡大するように、 上記シャツ夕移動手段はきり欠き部 （51 ) を有するシャツ夕 （5) を基板 （3) に対して平行移動する。
また、 好ましいさらに別の態様では、 上前シャツ夕移動手段は、 基板 （3) と反対側の光導波路 （14) の表面と所定の空間を挟んで対向する搭載用基板 (11) 上に脚部 （17) が固定された片持ち梁構造の可動梁 （18) を有し 、 この可動梁 (18) の先端にシャツ夕 (5) が取り付けられている。
本発明は、 上述のように、 シャツ夕の移動につれて、 シャツ夕の遮蔽を受け ずに透過する出力光ビーム領域が、 コア領域の基板に遠い側から基板に向けた 方向に拡大するようにシャツ夕機構を構成したので、 光導波路のスリットに揷 入するシャツ夕の移動により光量を調整する光減衰装置における偏波依存性を 低減することができる。 図面の簡単な説明
F I G. 1 Aは本発明を適用した可変光減衰装置の構成を模式的に描いた概 略断面図である。
F I G. 1 Bは本発明を適用した可変光減衰装置の構成を模式的に描いた概 略平面図である。
F I G. 2は本発明の動作原理を示し、 F I Gs. 1 A— 1 Bのシャツタ 5 の運動面における断面図である。
F I G. 3はシャツ夕と光ビームの相対位置と透過光出力との関係を示す特 性図であって、 同図中の I, IIの領域は従来装置の特性を示し， III , IVの領 域は本発明装置の特性を示す。
F I G. 4Aは本発明の一実施形態における上下運動シャツ夕と光ビームと の相対位置関係を示す模式図であって、 F I G. 3の a位置に相応する位置に いるシャツ夕で光ビームを完全に遮断しているときの状態を示す図である。
F I G. 4 Bは本発明の一実施形態における上下運動シャツ夕と光ビームと の相対位置関係を示す模式図であって、 F I G. 3の b位置に相応する位置に いるシャツ夕で光ビームを全開放しているときの状態を示す図である。
F I G. 5 Aは本発明の他の実施形態における水平運動シャツ夕と光ビーム の相対位置関係を示すー模式図であって、 F I G. 4Aに対応する図である。
F I G. 5 Bは本発明の他の実施形態における水平運動シャッ夕と光ビーム の相対位置関係を示す模式図であって、 F I G. 4Bに対応する図である。
F I G. 6 Aは各種の光通信用フヶィバに接続して光減衰機能や光遮断機能 等を実現する従来の可変光減衰器の光導波路の断面構造を示す断面図である。
F I G. 6Bは F I G. 6 Aに示す VIB面から左を見たスリットの側面図であ る。
F I G. 6 Cは F I G. 6 Aに示す VIC面から左を見たスリッ卜の側面図であ る。
F I G. 7は従来の可変減衰器を用いる場合の減衰量の偏波依存性を示して いる実験結果を示す特性図である。
F I G. 8は光導波路のコアを中心にした光ビームのエネルギー強度分布の 一例を示す特性図である。
F I G. 9は S i単結晶基板とその上に堆積された石英光導波路を含む断面 構造を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態 以下、 図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
(第 1の実施形態）
F I Gs. 1 A— 1 Bは本発明を適用した光減衰装置の構成を模式的に描い た概略図であって、 F I G. 1 Aはその縦断面図であり、 F I G. I Bはその 平面図である。 F I G s . 1 A— I Bにおいて、 1 0はァクチユエ一夕、 1 1 はそのァクチユエ一夕を搭載する搭載用基板、 1 2は光導波体である。 光導波 路基板 3上に形成された光導波路 1 4は搭載用基板 1 1と対面するように紙面 '下側に向いてスぺーサ 1 5を介して搭載用基板 1 1上方に設置されている。 ま た、 搭載用基板 1 1の裏面側には後述する目的で X方向に磁界を発生させる磁 石 1 6が設置されている。
光導波路 1 4には、 F I G. I Bに示すように、 入力光を導く光導波路コア 2と減衰後の出射光を導く光導波路コア 2が溝 （スリット） 6を隔てて対向し て配置され、 その溝 6内にミラ一 5が進入，退避することにより伝搬光を減衰 させることが可能となっている。
ァクチユエ一夕 1 0は、 搭載用基板 1 1に固定された端部 1 7から同図の X 方向に延びる板状の梁 1 8と、 その先端にミラ一 (シャツ夕) 5を有し、 全体 として片持ち梁構造の可動体を構成している。 梁 1 8には、 平面図の F I G. 1 Bで示す配線パターン 1 9による電流路が形成され、 この電流路に電流が流 れると、 同図の Y方向に沿う電流路に流れる電流成分と磁石 1 6による X方向 の磁界成分の積に比例した口一レンツ力が同図の Z方向に作用する。
従って、 例えばァクチユエ一夕 1 0に電流を流さない状態で、 梁 1 8の先端 部のミラ一 5が、 F I G. 1 Aに示すように、 片持ち梁 1 8のバネ力によって 伝搬光を遮らない位置で静止状態を保持すると想定すると、 ァクチユエ一夕 1 0の配線パターン 1 9の電流路に電流を供給することで、 Z方向にローレンツ 力を発生させて片持ち梁 1 8のバネ力に抗してミラ一 5を Z方向に移動させ、 ローレンツ力と片持ち梁 1 8のパネ力が釣り合う別の所望の位置にミラ一 5を 静止させることが出来る。
ミラー 5の静止位置は電流路に供給する電流値を変化させることで所望の位 置に設定可能であり、 上記の例では電流値を大きくすればするほど、 ミラー 5 の静止位置は下方に移動し、 この結果、 伝播光の遮蔽量は増加する。 即ち、 ァ クチユエ一夕 1 0に供給する電流値によって光導波路 1 4の伝播光の減衰値を 設定する構成になっている。
ここで、 本発明の重要な点は、 溝 6内を伝搬する伝播光を断面でみた場合に 、 遮蔽領域を光導波路基板 3側に位置させるようにすることである。 この点を 以下に詳述する。
F I G. 2は本発明の動作原理を示しており、 シャツ夕 （上記のミラー） 5 の運動面における位置関係を示す断面図である。 ここで、 破線で示す 4は光ビ ームの広がり域を示す。 シャツ夕 5による光ビームの完全遮断状態はシャツ夕 5の上面が、 光ビームの広がり域 4の上端部に当る図面中の a位置にある時に 生ずる。 a位置から下方の a ' 位置へのシャツ夕 5の移動によって光ビームの 透過が始まる。 透過光は光ビームの上方成分である (即ち、 基板 3側でない） ことから、 光ビームの下方成分を透過する、 これまで議論した従来装置よりも 偏波依存性が改善される。
この明細書において、 シャツ夕 5の中心位置とコア 2の中心位置との距離を シャツタ ·コア間の相対位置と定義して、 このシャツ夕 .コア間の相対位置を 横軸とし、 透過光量を縦軸とした出力光量の特性図を F I G. 3に示す。 F I G . 3では 横軸のシャツ夕 ·コア間相対位置によってこのシャツ夕 5の移動 領域が I , I I, I I I ， IVの 4領域に区分されている。 第 I領域は、 従来例の F I G. 6 Bにおいて、 シャツ夕 5の下端が上 (基板 3の反対側) から降下して 光ビ一ムを上方から遮断する運動が、 F I G. 3においては第 I領域を左から 右に実線上で移動することに対応する。 第 I Iの領域における実線上での左から 右への移動するにつれて透過光は、 光ビームの下方 （基板 3側） の成分が増え 、 下方の成分が増えるに従って偏波依存性が強まり、 透過光量は偏波によって 図中の破線 eから実線 f に挟まれた範囲で変化することを示している。 従来の 装置のシャツタは第 I領域と第 11領域で動作している。
F I G s . 4 A— 4 Bに示す本発明による装置では、 シャツ夕 5をさらに下 方 （基板 3側） に移動させることにより、 シャツ夕 5の上端からの光ビームの 成分を透過光として制御することに特徴があり、 かかるシャツ夕 5の相対位置 は F I G. 3の第 III 、 IV領域の特性として示される。
F I G. 4八は I G. 3の第 III 領域の左端からのシャツ夕動作に対応す る。 つまり、 F I G. 4Aはコア 2を囲む光ビームの広がり域 4をァクチユエ —夕 10の片持ち梁 18の先端に取り付けたシャツ夕 （ミラー） 5が完全に塞 いでいるので、 光は透過しない。 この状態は、 F I G. 3の第 III 領域の左端 の a位置になる。 この状態から、 ァクチユエ一夕 10の配線パターン 19に一 定電流を供給すると、 ローレンツ力が発生し、 片持ち梁 18のバネ力に杭して ミラ一 5が同図中の矢印で示す下方、 即ち基板 3に向って移動する。 これによ り、 光ビームの広がり域 4からシャツ夕 5が降りて行き、 出力光量が徐々に増 加する。 第 III 領域の a' 位置はシャツ夕 5が光ビームの広がり域 4を半分ほ ど塞いでいる時 （シャツ夕半開） である。 第 ΠΙ 領域ではシャッ夕 5の上端か らの光ビームの成分を透過光として制御しているので、 第 II領域に破線 eで示 した偏波依存性の問題が改善される。
F I G. 4Bは F I G. 3の第 IV領域の動作の完了点 （b位置） に対応して いる。 動作の完了点、 すなわちシャツ夕全開の状態に近い動作領域では光ビー ムの下方の成分も混じるが、 上方の成分のエネルギー強度が十分に強いので下 方の偏波依存性を持つ成分は相対的に無視出来るまでに僅かである。 F I G. 4 Bの矢印は、 シャツ夕 5の戻り方向を示している。 制御装置またはシャツタ 駆動装置 （図示しない） により、 シャツ夕 5は所望の出力光量が得られる位置 まで動かされ停止する。
F I G. 4 Bの状態において、 シャツ夕 5は光ビームの広がり域 4の下側に 位置する必要がある。 この場合、 シャツ夕 5が移動するためのスリット （F I G. 6 Aの符号 6を参照） の深さは、 光ビームの広がり域 4の下端までの深さ とシャツ夕 5の高さ分 （上下の拡がり） を合わせた深さ以上となる必要がある ところで、 F I G. 3において、 第 III + IV領域の特性は、 第 I +11領域と 大方のところ対称であるが、 しかしより正確には、 従来例の F I G. 6 Cに示 したように、 光ビームの中心がコア 2の中心よりも下方にずれているので、 F I G. 3の特性は左右対称となり得ない。
(第 2の実施形態）
本発明のシャツ夕動作は導波路面に垂直な方向に限らない。 例えば、 F I G s. 5 A— 5 Bに示す様な上部に切り欠き部 51を有するシャツ夕 5を用いれ ば、 導波路面に平行なシャツタ動作により、 遮蔽領域を基板 3側に位置させる ことが可能である。 シャツ夕 5の上部の切り欠き部 51は、 最初に光ビームの 上方成分を透過出力に用いるためのものである。
F I G s . 5 A- 5 Bはシャツ夕 5の運動方向が導波路面に平行の場合の実 施形態を示しており、 F I G. 5 Aの矢印は、 シャツ夕 5の進行方向を示して おり、 F I G. 5 Bの矢印は、 シャツ夕 5の戻り方向を示している。 F I G. 4 Aおよび F I G. 4 Bのシャツ夕位置は、 F I G. 5 Aおよび F I G. 5 B のシャツタ位置に相当する。 F I Gs. 5 A- 5 Bの実施形態においても、 光 ビームの上方成分を透過出力に用いていることから、 F I Gs. 4A— 4Bの 実施形態と同様に、 F I G. 3の第 III + IV領域の特性を実現できる。
(他の実施形態）
なお、 本発明の好適な実施形態を例示して説明したが、 本発明の実施形態は 上記例示に限定されるものではなく、 各請求項に記載の範囲内であれば、 その 構成部材等の置換、 変更、 追加、 個数の増減、 形状の変更等の各種変形は、 全 て本発明の実施形態に含まれる。 例えば、 上述の実施形態では、 ローレンツ力 を可変光減衰器におけるァクチユエ一夕の駆動力とした構成を例示したが、 本 発明の駆動手段はローレンツ力に限定されない。 例えば、 静電力駆動でも良い 。 また、 上述の実施形態では片持ち梁を利用したァクチユエ一夕を例示したが 、 他の形態の各種ァクチユエ一夕も適用可能である。 シャツ夕もミラーとは限 らず、 光を吸収する遮蔽板でもよい。

Claims

請求の範囲
1 . 基板上に形成された光導波路の途中に該導波路を横断するスリットを設 け、 該スリット内壁に面する入力側導波路コアから該スリット内に入射した光 ビームを、 該スリット内に挿入して往復移動可能なシャツ夕によって少なくと も部分的に遮断することにより、 前記入力側導波路コアに対面する出力側導波 路コアに導く光量を調整制御する光減衰量制御方法において、
前記シャツ夕の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア領域 の前記基板に遠い側から前記基板に向けた方向に向かって拡大するように、 該 シャツ夕を移動することを特徴とする光減衰量制御方法。
2 . 前記シャッ夕を前記基板方向に向って移動するにつれて、 前記シャツ夕 の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア領域の前記基板に遠 い側から前記基板に向けた方向に向かって拡大することを特徴とする請求項 1 に記載の光減衰量制御方法。
3 . 前記シャツ夕の前記基板に遠い側の片側の肩部に切り欠き部を設け、 該 シャツ夕を前記基板に対して平行移動するにつれて、 前記シャッ夕の遮蔽を受 けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア領域の前記基板に遠い側から前 記基板に向けた方向に向かって拡大することを特徴とする請求項 1に記載の光 減衰量制御方法。
4. 基板上に形成された光導波路の途中に該導波路を横断するスリットを設 け、 該スリット内壁に面する入力側導波路コアから該スリット内に入射した光 ビームを、 該スリット内に挿入して往復移動可能なシャツ夕によって少なくと も部分的に遮断することにより、 前記入力側導波路コアに対面する出力側導波 路コアに導く光量を調整制御する光減衰量制御装置において、 前記シャツ夕の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア領域 の前記基板に遠い側から前記基板に向けた方向に向かって拡大するように、 該 シャッタを移動するシャツ夕移動手段を有することを特徴とする光減衰量制御 装置。
5 . 前記シャツ夕の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア 領域の前記基板に遠い側から前記基板に向けた方向に向かって拡大するように 、 前記シャツ夕移動手段は前記シャツ夕を前記基板方向に向って移動すること を特徴とする請求項 4に記載の光減衰量制御装置。
6 . 前記シャツ夕の前記基板に遠い側の片側の肩部に切り欠き部を設け、 前 記シャツ夕の遮蔽を受けずに透過する出力光ビーム領域が、 前記コア領域の前 記基板に遠い側から前記基板に向けた方向に向かって拡大するように、 前記シ ャッ夕移動手段は前記きり欠き部を有するシャツ夕を前記基板に対して平行移 動することを特徴とする請求項 4に記載の光減衰量制御装置。
7 . 前記シャツタ移動手段は、 前記基板と反対側の前記光導波路の表面と所 定の空間を挟んで対向する搭載用基板上に脚部が固定された片持ち梁構造の可 動梁を有し、 該可動梁の先端に前記シャツ夕が取り付けられていることを特徴 とする請求項 5に記載の光減衰量制御装置。
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