WO2004071133A1 - マイクロ波加熱装置 - Google Patents

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WO2004071133A1
WO2004071133A1 PCT/JP2004/001205 JP2004001205W WO2004071133A1 WO 2004071133 A1 WO2004071133 A1 WO 2004071133A1 JP 2004001205 W JP2004001205 W JP 2004001205W WO 2004071133 A1 WO2004071133 A1 WO 2004071133A1
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WO
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power supply
heating
heating chamber
waveguide
ceiling wall
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PCT/JP2004/001205
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Koji Yoshino
Susumu Idomoto
Tomotaka Nobue
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/70Feed lines
    • H05B6/707Feed lines using waveguides
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/647Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques
    • H05B6/6482Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with radiant heating, e.g. infrared heating

Definitions

  • the present invention relates to a microwave heating apparatus for heating an object to be heated such as food by microwaves (high-frequency electromagnetic waves).
  • the present invention relates to an improvement for realizing miniaturization of an apparatus while being able to be arranged at an upper part of a heating chamber to suppress unevenness of an electric field intensity distribution which causes heating unevenness.
  • this type of microwave heating device has a heating chamber for accommodating an object to be heated, a magnetron that oscillates a microwave, and a microwave radiation port formed on the wall of the heating chamber to emit the microwave into the heating chamber.
  • a configuration that includes a power supply port and a waveguide that guides microwaves oscillated from the magnetron to the power supply port, power supply is performed to reduce unevenness in electric field intensity distribution in the heating chamber and prevent uneven heating.
  • the location of the mouth and the shape of the power supply port are devised.
  • the location of the power supply port can be selected from any of the inner wall surfaces that define the heating chamber.
  • the power supply port has been provided on the side wall of the heating chamber, and the power supply port has been provided on the bottom wall of the heating chamber.
  • Various types have been proposed, such as those that have been installed and those that have a power supply port on the ceiling wall of the heating room.
  • FIG. 7 shows a conventional microwave heating apparatus in which a power supply port serving as a microwave radiation port is arranged on a ceiling wall of a heating chamber (for example, see Patent Document 1).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-103302
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the microphone mouth-wave heating device 1 disclosed in Patent Document 1 as viewed from the front.
  • the microwave heating device 1 includes an external housing 3 and a heating device that accommodates an object to be heated such as food. Chamber 5, magnetron 7 that oscillates microwaves, power supply port 9 formed on ceiling wall 11 of heating chamber 5 and serves as a radiation port for microwaves into heating chamber 5, and is oscillated from antenna 12 of magnetron 7. And a waveguide 13 for guiding the microwave to the feed port 9.
  • the magnetron 7 is mounted on the right end of the heating chamber 5, with the antenna 12 facing upward, at the base end of the waveguide 13.
  • the illustrated waveguide 13 is a straight tube having a rectangular cross section, and has a length from the periphery of the antenna 12 to the feed port 9.
  • the waveguide wavelength of the microwave propagating in the waveguide 13 is; g
  • the axial length of the waveguide 13 is It is desirable that the distance between the antenna 12 of the magnetron 7 and the center of the feed port 9 be an integral multiple of g Z 2.
  • the power supply port be as close to the center of the heating chamber as possible.
  • the waveguide 13 is a straight tube as shown in FIG. 7, when the distance from the right side wall 15 of the heating chamber 5 to the center of the power supply port 9 is defined as the width of the heating chamber 5, Assuming that the distance between the antenna 12 and the center of the feed port 9 is 3/2 tg with respect to the axial length of the wave tube 13, a gap is generated between the magnetron 7 and the right wall 15. Since this gap is a useless space, various methods have been adopted to prevent this,
  • the distance between the antenna 12 and the center of the feed port 9 is shifted from an integral multiple of gZ2.
  • the power supply port 9 is shifted from the center of the heating chamber 5.
  • the power supply 9 is also shifted from the center of the heating chamber 5.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to determine the distance between the antenna and the center of the feed port with respect to the length of the waveguide in the axial direction, as a function of the guide wavelength of the microwave.
  • a microwave heating device has a microphone port for radiating microwaves oscillated from a magnetron to a heating chamber via a waveguide.
  • a wave heating device wherein a power supply serving as a radiation port of a microphone mouth wave is provided on a ceiling wall of the heating chamber, and the waveguide extends upward along an outer surface of the heating chamber.
  • the tube is formed in an L shape including a tube, and an upper waveguide extending from the upper end of the side waveguide to the power supply port along the outer surface of the ceiling wall.
  • the width can be selected to be an integral multiple of 12 of the in-tube wavelength without wasting space.
  • the microwave heating apparatus is the microwave heating apparatus according to claim 1, further comprising: an antenna of the magnetron on a heating chamber side. And a bulging portion is formed on the side wall to bulge toward the room side to avoid interference with the antenna.
  • the height dimension of the waveguide at the antenna periphery of the magnetron is essentially actual waveguide the height h 2, the pressurized heat chamber of it as the height h 3 of the bulged portion of the side wall plus the actual height dimension h 2 itself waveguides can be reduced to a value smaller than the projection length of the magnetron antenna, whereby, the dimension of the waveguide along the projecting direction of the magnetron antenna can be reduced, and the height of the device can be reduced.
  • the L-shaped waveguide reduces the size of the heating chamber, and the bulging part on the side wall of the heating chamber shortens the height of the waveguide. It is possible to reduce the size of the device with improved space efficiency while preventing the occurrence of uneven heating due to the heating.
  • the power supply port is formed in a rectangular shape elongated in a width direction of the heating chamber. Good.
  • the microwave heating apparatus according to claim 3 has a configuration including a plurality of the power supply ports.
  • the plurality of power supply ports are formed by at least two or more types of power supply ports having different shapes and opening areas.
  • an opening area of the power supply port at a position close to a center of the ceiling wall is defined as a center of the ceiling wall. It is preferable to adopt a configuration in which the area is set larger than the opening area of the power supply port at a position far from the power supply port.
  • the micro- Adjusting the emissivity of the waves is effective in reducing the bias of the electric field intensity distribution in the entire heating chamber.
  • a linear heating element for heating a heater is provided on a ceiling wall of the heating chamber.
  • the power supply port is provided at a position that does not include a line that bisects the ceiling wall back and forth.
  • a linear heating element for heating a heater is provided on a ceiling wall of the heating chamber. And the central axis of the heating element is closer to a line bisecting the ceiling wall back and forth than the center axis in the width direction of the upper waveguide disposed on the ceiling wall. good.
  • the adjustment for reducing the bias of the ambient temperature distribution due to the radiant heat of the heating element can be performed in accordance with the adjustment of the bias of the electric field intensity distribution due to the microwave, and the uneven heating due to the microwave and the radiant heat can be performed. Can be reduced.
  • the heating element is inclined with respect to a line that bisects the ceiling wall back and forth. It is good to have the arrangement.
  • the heating element is located between the front and rear of the heating chamber as compared to the case where the heating element is arranged in parallel with the line that bisects the ceiling wall of the heating chamber in the front and back. It spreads in the direction, and it is possible to further suppress the uneven heating when heating the heater.
  • a microphone port is provided on a wall surface of the heating chamber. It is preferable to employ a structure provided with a stirring means for stirring the waves.
  • the stirring means is effective in stirring the microwave, preventing the bias of the microwave in the heating chamber, and further suppressing the occurrence of uneven heating.
  • FIG. 1 is an internal cross-sectional view of a microwave heating device according to a first embodiment of the present invention as viewed from the front,
  • FIG. 2 is a view taken along line A—A in FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
  • FIG. 4 is an internal cross-sectional view seen from the front according to a modification of the first embodiment of the microphone mouth wave heating device according to the present invention
  • FIG. 5 is a schematic internal configuration of a microwave heating apparatus according to a second embodiment of the present invention as viewed from above,
  • FIG. 6 is an explanatory view of another embodiment of the power supply port arranged at the tip of the upper waveguide according to the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional microwave heating apparatus as viewed from the front.
  • 21 is a microphone mouth-wave heating device
  • 23 is an object to be heated
  • 25 is a heating room
  • 25a is a ceiling wall
  • 25b is a right wall
  • 27 is a magnetron
  • 27 a is an antenna
  • 29 is a power supply port
  • 29 a is a power supply port
  • 29 b is a power supply port
  • 31 is a waveguide
  • 33 is a heating element
  • 35 is a grill
  • 37 is an opening / closing door
  • 4 1 is a concave portion
  • 43 is a bulging portion
  • 47 is a side waveguide
  • 49 is an upper waveguide
  • 51 is a microwave heating device.
  • FIG. 1 is an internal cross-sectional view as viewed from the front
  • FIG. 2 is an arrow AA of FIG.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line BB of FIG.
  • the microphone mouth-wave heating device 21 includes a heating chamber 25 for accommodating a heated object 23 such as food, a magnetron 27 for oscillating microwaves, and a heating chamber 25.
  • a power supply port 29 formed on the wall of the heating chamber 25 and serving as a radiation port for microwaves into the heating chamber 25; a waveguide 31 guiding microwaves oscillated from the magnetron 27 to the power supply port 29; and a heater It includes a linear heating element 33 for heating, and a grill 35 placed on the bottom of the heating chamber 25 for assisting heating.
  • the above-described components including the heating chamber 25 are housed in the outer housing 22.
  • the above-mentioned heating element 33 is installed above the heating chamber 25, which is the front, and the above-mentioned power supply port 29 is installed at a position behind the line that bisects the ceiling wall 25a back and forth. Have been.
  • a recess 41 for accommodating the heating element 33 is formed at a position corresponding to the heating element 33 on the ceiling wall 25a, so that the heating element 33 is prevented from protruding into the heating chamber.
  • the power supply port 29 is composed of two power supply ports 29 a and 29 b shifted in the front-rear direction. Each of these two power supply ports 29 a and 29 b has a rectangular shape elongated in the width direction of the heating chamber 25 (that is, the axial direction of the waveguide 31 described later). In addition, these two power supply ports 29 a and 29 b correspond to a region not including the tube axis of the waveguide 31 (corresponding to an axis which is the center of the width a of the waveguide 31 described later).
  • the opening area of the power supply port 29a near the center of the ceiling wall 25a is changed to the power supply port 29b at a position far from the center of the ceiling wall 25a. Is set larger than the opening area.
  • the reason why the opening area is made different for each of the power supply ports 29 a and 29 b in this manner is to adjust the radiation efficiency and the radiation angle of the microwave from each of the openings so that the inside of the heating chamber 25 can be adjusted. This is for minimizing the bias of the electric field intensity distribution as much as possible over the entire region.
  • the magnetron 27 is disposed on the right outside surface side of the heating chamber 25 with the antenna 27 a for oscillating microwaves facing the heating chamber 25.
  • a bulging portion 43 is formed on the right side wall 25 of the heating chamber 25 facing the antenna 27a so as to bulge toward the indoor side and avoid interference with the antenna 27a.
  • the waveguide 31 includes a side waveguide 47 extending upward from the periphery of the antenna 27 a along the right outer surface of the heating chamber 25, and a ceiling wall from the upper end of the side waveguide 47. 2 5a outer surface And an upper waveguide 49 extending to the power supply port 29 along the line.
  • the side waveguide 47 cooperates with the right side wall 25b of the heating chamber 25 to define a rectangular tubular waveguide for guiding the microphone mouth wave.
  • the waveguide 31 has a power supply port 29a at the front of the device and a power supply port 29b at the rear of the device with the axis Y L being the center of the width dimension a interposed therebetween.
  • the mounting position for the heating chamber 25 is set.
  • Such an attachment position has an influence on the electric field intensity distribution in the heating chamber 25 and the temperature distribution of the heating atmosphere in relation to the wavelength of the microwave radiated into the heating chamber 25.
  • the distance between the center axis Y 2 of the heating element 33 is p, and the center of the waveguide 31 is p.
  • the microwave radiated from the power supply port 29 into the heating chamber 25 is The radiation density and the like within 25 can be adjusted by various means such as the opening area and opening position of the power supply port 29 provided by the present invention, or reflection by the grill 35, and the bias of the electric field intensity distribution can be adjusted. Although adjustment is easy, the best way to reduce the deviation of the ambient temperature distribution due to the radiant heat from the heating element 33 is to install the heating element 33 itself as close to the center of the heating chamber 25 as possible. Because there is.
  • the distance between the antenna 27 a of the magnetron 27 and the center of the feed port 29 is defined by the microwave with respect to the axial length of the waveguide 31.
  • Microwave tube wavelength ⁇ g 1 Z 2 which can be efficiently radiated from power supply port 29 Even when it is set to an integral multiple, for example, 3 / 2 ⁇ g, the axial length of the waveguide 31 is equal to the sum L of the lengths of the upper waveguide 49 and the side waveguide 47. It can be easily obtained by adjusting the position of the magnetron 27 and the length of the side waveguide 47, taking it as ⁇ 1 + L ⁇ 2 .
  • the power supply port 29 can be set at the center of the heating chamber 25 to prevent uneven heating due to uneven electric field distribution. and while, by eliminating the formation of space wasted between the side wall 2 5 b of the heating chamber 2 5 magnetron 2 7, it is possible to reduce the size of the apparatus.
  • the height dimension of the waveguide 31 around the antenna 27 a of the magnetron 27 is substantially equal to the actual waveguide 3. 1 of the height h 2, the side wall 2 5 b height h 3 of the bulging portion 4 3 of the heating chamber 2 5 becomes obtained by adding the actual waveguide 3 1 height h 2 itself Can be shortened to a value smaller than the protrusion length of the antenna 27 a of the magnetron 27, whereby the dimension of the waveguide 31 along the protrusion direction of the antenna 27 a of the magnetron 27 can be reduced.
  • Shrinking can reduce the height of the device.
  • the heating chamber 25 is downsized by the L-shaped waveguide 31, and the height of the waveguide 31 is reduced by the provision of the bulging portion 43 on the side wall 25 b of the heating chamber 25.
  • the shortening is synergistic, and it is possible to reduce the size of the apparatus with improved space efficiency while preventing the occurrence of uneven heating due to the uneven installation of the power supply port 29.
  • the microwave heating apparatus 21 of the present embodiment is provided with the heating element 33 and can be used as a microwave oven (oven toaster), so that it can be used for a wider range of preparation applications.
  • a heating element 33 for heating the heater and a power supply port 29 for heating the microwave are provided on the ceiling wall 25 a of the heating chamber 25. Since it is closer to the line bisecting the front and back of the ceiling wall 25a than the power supply port 29, the bias of the ambient temperature distribution in the heating chamber 25 is small, and problems such as uneven heating are unlikely to occur.
  • the power supply port 29 is located at the center with respect to the width direction of the heating chamber 25, and is arranged rearwardly from the center of the heating chamber 25 only in the front-rear direction of the heating chamber 25. Become. Therefore, for such eccentricity in the front-rear direction, the large-diameter power supply port 29a and the small-diameter
  • the microwave radiation into the heating chamber 25 is made as uniform as possible by combining it with the power supply port 29 b of the heating chamber 25.
  • Even if the electric field intensity distribution is suppressed uneven heating can be suppressed, and even if equipment such as a turntable that increases the size of the apparatus is omitted, uniform heating of the object 23 can be achieved.
  • the device can be downsized without sacrificing cost.
  • FIG. 4 shows a modification of the microwave heating device according to the first embodiment of the present invention.
  • an L-shaped waveguide 31 having a side waveguide 47 and an upper waveguide 49 has a configuration in which the side waveguide 47 is connected to the heating chamber 25.
  • the magnetron 27 is formed so as to extend downward, and the magnetron 27 is arranged at a lower position of the heating chamber 25.
  • the other configuration is the same as that of the first embodiment.
  • the width of the device can be reduced, and the size can be further reduced.
  • FIG. 5 is a schematic internal configuration of a microphone mouth wave heating device according to a second embodiment of the present invention as viewed from above.
  • the microwave heating device 51 is configured such that a heating element 33 for heating a heater is arranged so as to be inclined with respect to a line that bisects a ceiling wall 25 a into front and rear.
  • the other configurations are the same as those of the first embodiment.
  • the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • the heat generating element 33 is compared with the case of the first embodiment in which the ceiling wall 25 a of the heating chamber 25 is arranged in parallel to a line that bisects the ceiling wall 25 a back and forth.
  • the heating area of the heating chamber 25 extends in the front-back direction of the heating chamber 25, and it is possible to further suppress uneven heating during oven heating.
  • the width dimension a and the height dimension b of the waveguide having a rectangular cross section shown in FIG. 6A are the wavelengths of the microwave in free space. At this time, it is desirable to set so that the following equations (1) and (2) are satisfied.
  • the number of power supply ports in which two main and sub power supply ports are arranged in front and behind is not limited to the above embodiment.
  • the power supply port can be single, or three or more power supply ports can be set.
  • the equipment position, shape, opening area, etc. can be appropriately changed in design according to the degree of approach to the above-mentioned line that bisects the ceiling wall 25a of the heating chamber 25 back and forth. .
  • FIGS. 6 (b) to 6 (f) show a modification of the position and number of the power supply ports 29 at the tip of the upper waveguide 49.
  • various designs are possible.
  • FIG. 6 (b) shows an example in which a single feed port 29 which is elongated in the axial direction is provided so as to be centered on the central axis in the width direction of the upper waveguide 49.
  • FIG. 6 (c) shows an example in which a single feed port 29 elongated in the axial direction is provided slightly shifted forward from the center axis in the width direction of the upper waveguide 49.
  • FIG. 6 (d) shows an example in which a single feed port 29 elongated in the axial direction is provided so as to be largely shifted forward so as not to be caught on the center axis in the width direction of the upper waveguide 49.
  • Fig. 6 (e) shows an example in which two feed ports 29, 29 that are elongated in the axial direction are provided on the front and rear sides of the center axis in the width direction of the upper waveguide 49, respectively.
  • a feed port 29 is provided that is elongated in the axial direction ahead of the axis so that it does not get caught on the center axis in the width direction of the upper waveguide 49. in an example equipped with elongated feed opening 3 0 in the direction perpendicular to the axis Y 1.
  • a structure in which many power supply ports are provided in a matrix in the axial direction is also conceivable.
  • the installed multiple power supply ports are formed of at least two types of power supply ports with different shapes and opening areas.
  • the power supply port may be a circle, an ellipse, a triangle, other polygons, or the like, or may be formed by only a curve or a curve and a straight line.
  • the installation position of the power supply ports 29 depends on the installation of the heating element 33 for heating the heater. It is effective in adjusting the emissivity of the microwave from each power supply port 29 in the case where the heating chamber 25 deviates from the center of 5a to reduce the bias of the electric field intensity distribution of the entire heating chamber 25.
  • Such a stirring means is effective in preventing the bias of the microwave by stirring the microwave and suppressing the occurrence of uneven heating.
  • the microwave heating apparatus of the present invention by setting the axial length of the waveguide as the sum of the lengths of the upper waveguide and the side waveguide, the width of the heating chamber is reduced. Regardless of the dimensions, the power supply port can be set arbitrarily to prevent the occurrence of uneven heating due to the uneven electric field intensity distribution. In addition, it is possible to reduce the size of the apparatus by eliminating the useless space between the magnetron and the side wall of the heating chamber.
  • the height dimension of the waveguide at the antenna periphery of the magnetron is essentially actual waveguide the height h 2, the heating chamber of it as the height h 3 of the bulged portion of the side wall plus the actual height h 2 itself waveguides can be reduced to a value smaller than the projection length of the magnetron antenna
  • the dimension of the waveguide along the projecting direction of the magnetron antenna can be reduced, and the height of the device can be reduced.
  • the L-shaped waveguide reduces the size of the heating chamber, and the bulging part on the side wall of the heating chamber shortens the height of the waveguide. It is possible to reduce the size of the device with improved space efficiency while preventing the occurrence of uneven heating due to the heating.

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Abstract

本発明の課題は、給電口の装備位置の偏りに起因する加熱ムラの発生を防止しつつ、装置の小型化を実現することのできるマイクロ波加熱装置を提供することである。 マイクロ波加熱装置(21)において、マイクロ波の放射口となる給電口(29)を加熱室(25)の天井壁(25a)に設定すると共に、マグネトロン(27)はマイクロ波を発振するアンテナ(27a)を加熱室(25)側に向けて、前記加熱室(25)の外側面側に配置し、前記マグネトロン(27)から発振されたマイクロ波を給電口(29)に導く導波管(31)は、前記アンテナ(27a)の周囲から前記加熱室(25)の外側面に沿って上方に延びる側部導波管(47)と、この側部導波管(47)の上端から天井壁(25a)外面に沿って前記給電口(29)まで延びる上部導波管(49)とを備えたL字状に形成する。

Description

明 細 書 マイクロ波加熱装置 <技術分野 >
本発明は、 食品などの被加熱物をマイクロ波 (高周波電磁波) によって加熱す るマイクロ波加熱装置に関し、 特に、 マイクロ波の管内波長以上の軸方向長さを 有した導波管を省スペースで加熱室の上部に配置可能にして、 加熱ムラの発生を 招く電界強度分布の偏りを抑えつつ、 装置の小型化を実現するための改良に関す る。 ぐ背景技術 >
この種のマイクロ波加熱装置は、 一般に、 被加熱物を収容する加熱室と、 マイ クロ波を発振するマグネトロンと、 加熱室の壁面に形成されて加熱室内へのマイ クロ波の放射口となる給電口と、 マグネトロンから発振されたマイクロ波を給電 口に導く導波管とを備えた構成で、 加熱室内における電界強度分布の偏りを小さ くして、 加熱ムラの発生を防止するために、 給電口の配備位置や、 給電口の形態 に工夫が凝らされている。
給電口の配備位置としては、 加熱室を画成している内壁面の何れもが選択可能 で、 これまで、 給電口を加熱室の側壁に設けたもの、 給電口を加熱室の底壁に設 けたもの、 給電口を加熱室の天井壁に設けたもの等、 種々のものが提案されてい る。
また、 一般に、 単に給電口を装備しただけでは、 加熱室内での電界強度分布の 偏りを解消することが難しく、 電界強度分布の偏りに起因する加熱ムラの発生を 解消するために、 マイクロ波を攪拌する回転手段 (ステラ) や、 加熱室内で被加 熱物を旋回させるターンテーブルの装備が不可欠になり、 これらの装備のために 装置が大型化する傾向にある。 最近のマイクロ波加熱装置の市場では、 小型化が重要な課題とされている。 そ こで、 給電口を加熱室の天井壁に配置して、 ステラやターンテーブルの装備の省 略によって小型化を図ることの研究が、 盛んに行われている。
図 7は、 マイクロ波の放射口となる給電口を加熱室の天井壁に配置した従来の マイクロ波加熱装置を示している (例えば、 特許文献 1参照) 。
(特許文献 1 ) 特開昭 5 7— 1 0 3 2 9 2号公報
図 7は、 上記の特許文献 1に開示されたマイク口波加熱装置 1を正面から見た 断面図で、 マイクロ波加熱装置 1は、 外部筐体 3、 食品等の被加熱物を収容する 加熱室 5、 マイクロ波を発振するマグネトロン 7、 加熱室 5の天井壁 1 1に形成 されて加熱室 5内へのマイクロ波の放射口となる給電口 9、 マグネトロン 7のァ ンテナ 1 2から発振されたマイクロ波を給電口 9に導く導波管 1 3を備えた構成 である。
マグネトロン 7の配置は、 加熱室 5の右外側で、 アンテナ 1 2を上に向けた姿 勢で、 導波管 1 3の基端に取り付けられている。
図示の導波管 1 3は、 矩形断面の直管状で、 アンテナ 1 2の周囲から給電口 9 までの長さを有している。
ところで、 導波管 1 3内を伝播するマイクロ波の管内波長を; gとすると、 マ イク口波を給電口 9から効率良く放射させるためには、 導波管 1 3の軸方向長さ は、 マグネトロン 7のアンテナ 1 2と給電口 9の中心との距離を; g Z 2の整数 倍とすることが望ましい。 また、 加熱ムラの発生を招く電界強度分布の偏りを抑 えるには、 給電口をできる限り加熱室の中心に近づけることが望ましい。
しかし、 導波管 1 3が図 7に示したような直管状のものでは、 加熱室 5の幅寸 法 加熱室 5の右側壁 1 5から給電口 9の中心までの距離 とした時に、 導 波管 1 3の軸方向の長さに関してアンテナ 1 2と給電口 9の中心との距離を 3 / 2 t gとすると、 マグネトロン 7と右側壁 1 5との間に隙間が生じてしまう。 この隙間は無駄なスペースとなるので、 これを防ぐために色々な方法が採られ ているが、
第 1に、 マグネトロン 7を図の左側へずらすと、 アンテナ 1 2と給電口 9の中 心との距離が g Z 2の整数倍からずれてしまう。 第 2に、 マグネトロン 7と導波管 1 3と給電口 9とを同時に図の左側へずらす と、 給電口 9が加熱室 5の中心からずれてしまう。
第 3に、 加熱室 5の右側壁 1 5を図の右側へずらすと、 やはり給電ロ 9が加熱 室 5の中心からずれてしまう。
第 4に、 第 3の方法と同時に加熱室 5の左側壁を図の左側へずらすことが考え られるが、 このような方法では、 加熱室 5の幅寸法 が大きくなつてしまう。 更に、 導波管 1 3の高さは、 アンテナ 1 2の長さ以上が必要であり、 導波管 1 3の高さ寸法 の増大が、装置の高さ方向の寸法増大を招くという問題もあった 本発明は、 前述した問題点に鑑みてなされたものであり、 その目的は、 導波管 の軸方向の長さに関して、 アンテナと給電口の中心との距離をマイクロ波の管内 波長の 1 / 2の整数倍に設定した場合でも、 マグネト口ンと加熱室の外側面との 間のスペースの無駄を無くし、 加熱室の幅方向の中心に給電口を設定して、 加熱 ムラの発生原因となる電界強度分布の偏りを抑えることができ、 更には、 マグネ トロンのアンテナの突出方向に沿った導波管の高さ寸法を縮めて、 装置の高さ寸 法を短縮することができ、 給電口の装備位置の偏りに起因する加熱ムラの発生を 防止しつつ、 装置の小型化を実現することのできるマイク口波加熱装置を提供す ることにある。 <発明の開示〉
上記目的を達成するために、 本発明に係るマイクロ波加熱装置は、 請求の範囲 1項に記載したように、 マグネトロンから発振されたマイクロ波を導波管を介し て加熱室に放射するマイク口波加熱装置であって、 マイク口波の放射口となる給 電ロを前記加熱室の天井壁に設け、 前記導波管を、 前記加熱室の外側面に沿って 上方に延びる側部導波管と、 この側部導波管の上端から前記天井壁外面に沿って 前記給電口まで延びる上部導波管とを備えた L字状に形成したことを特徴とする このような構成によれば、 マグネト口ンのアンテナと給電口の中心との距離は マグネト口ンの位置と側部導波管の長さを上下方向に変えるだけで容易に変え られるので、 加熱室の幅寸法がいかなる寸法であっても、 無駄なスペースを有す ることなく管内波長の 1 2の整数倍に選ぶことができる。
また、 請求の範囲 2項に記載のマイクロ波加熱装置は、 上記目的を達成するた めに、 請求の範囲 1項に記載のマイクロ波加熱装置において、 更に、 前記マグネ トロンのアンテナを加熱室側に向けて前記加熱室の側壁に対向させて配置すると 共に、 前記側壁に室内側に膨出して前記アンテナとの干渉を避ける膨出部を形成 したことを特徴とするものである。
このように構成されたマイクロ波加熱装置においては、 マグネトロンのアンテ ナ周辺での導波管の高さ寸法は、 実質的には、 実際の導波管の高さ寸法 h 2に、 加 熱室の側壁の膨出部の高さ寸法 h 3を加算したものとなり、実際の導波管の高さ寸 法 h 2自体は、マグネトロンのアンテナの突出長よりも小さい値に短縮することが でき、 これによつて、 マグネトロンのアンテナの突出方向に沿う導波管の寸法を 縮めて、 装置の高さ寸法を短縮することができる。
そして、 L字状の導波管による加熱室の小型化と、 加熱室の側壁への膨出部の 装備による導波管の高さ寸法の短縮が相乗し、 給電口の装備位置の偏りに起因す る加熱ムラの発生を防止しつつ、 スペース効率を高めた装置の小型化を実現する ことができる。
なお、 好ましくは、 請求の範囲 3項に記載のように、 請求の範囲 1項に記載し たマイクロ波加熱装置において、 前記給電口を前記加熱室の幅方向に細長い矩形 状に形成した構成とすると良い。
このようにすると、 譬え加熱室の中心から外れた位置に配置される給電口であ つても、 加熱室での電界強度分布の偏りを低減して、 加熱ムラの発生を抑えるこ とができる。
また、 好ましくは、 請求の範囲 4項に記載のように、 請求の範囲 3項に記載し たマイクロ波加熱装置において、 前記給電口を複数個備えた構成とすると良い。 更に、 その場合に、 請求の範囲 5項に記載のように、 前記複数の給電口を、 形 状及び開口面積の異なる少なくとも 2種類以上の給電口で形成した構成とすると 良い。 また、 請求の範囲 6項に記載のように、 前記複数の給電口が、 天井壁の前後方 向に並ぶ場合に、 天井壁の中心に近い位置の給電口の開口面積を、 天井壁の中心 から遠い位置の給電口の開口面積よりも大きく設定した構成とすると良い。 このように、 給電口の複数個化や、 給電口の形状及び面積の多様化等は、 給電 口の装備位置が加熱室の天井壁の中心から外れてしまう場合に、 各給電口からの マイクロ波の放射率を調整することで、 加熱室全体としての電界強度分布の偏り を軽減する場合に有効である。
また、 請求の範囲 7項に記載のように、 請求の範囲 1項又は 2項に記載のマイ クロ波加熱装置において、 前記加熱室の天井壁に、 ヒータ加熱用の直線状の発熱 体を装備し、 前記天井壁を前後に 2等分する線を含まない位置に前記給電口を装 備したことを特徴とする。
更に好ましくは、 請求の範囲 8項に記載のように、 請求の範囲 1項又は 2項に 記載のマイクロ波加熱装置において、 前記加熱室の天井壁に、 ヒータ加熱用の直 線状の発熱体を装備し、 前記天井壁に配置された前記上部導波管の幅方向の中心 軸線よりも前記発熱体の中心軸の方が前記天井壁を前後に 2等分する線に近い構 成とすると良い。
このようにすると、 発熱体の輻射熱による雰囲気温度分布の偏りを小さくする ための調整を、 マイクロ波による電界強度分布の偏りの調整と対応させて行うこ とができ、 マイクロ波及び輻射熱による加熱ムラの発生を低減できる。
また、 請求の範囲 9項に記載のように、 請求の範囲 8項に記載のマイクロ波加 熱装置において、 前記発熱体を、 前記天井壁を前後に 2等分する線に対して傾斜 させた配置した構成とすると良い。
このようにすると、 発熱体を、 加熱室の天井壁を前後に 2等分する線に対して 平行に配置した場合と比較して、 発熱体が、 加熱室の加熱領域が加熱室の前後方 向に広がり、 ヒータ加熱時の加熱ムラをより一層抑えることが可能になる。 更に、 請求の範囲 1 0項に記載のように、 請求の範囲 1項乃至 9項のいずれか に記載のマイクロ波加熱装置において、 スペース的に許されるなら、 前記加熱室 の壁面に、 マイク口波を攪拌する攪拌手段を装備した構成とするとよい。 このように、 攪拌手段の装備は、 マイクロ波を攪拌して、 加熱室内のマイクロ 波の偏りを防止して、 より一層加熱ムラの発生を抑止する上で有効である。
<図面の簡単な説明 >
図 1は、 本発明に係るマイクロ波加熱装置の第 1の実施の形態の正面から見 た内部断面図であり、
図 2は、 図 1の A— A線矢視図であり、
図 3は、 図 2の B— B断面図であり、
図 4は、 本発明に係るマイク口波加熱装置の第 1の実施の形態の変更例による 正面から見た内部断面図であり、
図 5は、 本発明に係るマイクロ波加熱装置の第 2の実施の形態の上面から見た 内部の概略構成であり、
図 6は、 本発明に係る上部導波管の先端に配置される給電口の他の実施の形態 の説明図であり、
図 7は、 従来のマイクロ波加熱装置の正面から見た断面図である。
なお、 図中の符号、 2 1はマイク口波加熱装置、 2 3は被加熱物、 2 5は加熱 室、 2 5 aは天井壁、 2 5 bは右側壁、 2 7はマグネトロン、 2 7 aはアンテナ 、 2 9は給電口、 2 9 aは給電口、 2 9 bは給電口、 3 1は導波管、 3 3は発熱 体、 3 5は焼き網、 3 7は開閉扉、 4 1は凹部、 4 3は膨出部、 4 7は側部導波 管、 4 9は上部導波管、 5 1はマイクロ波加熱装置である。
<発明を実施するための最良の形態 >
以下、 添付図面に基づいて本発明の第 1の実施の形態に係るマイク口波加熱装 置を詳細に説明する。
図 1乃至図 3は本発明に係るマイク口波加熱装置の第 1の実施の形態を示した もので、 図 1は正面から見た内部断面図、 図 2は図 1の A— A線矢視図、 図 3は 図 2の B— B断面図である。
この第 1の実施の形態のマイク口波加熱装置 2 1は、 食品等の被加熱物 2 3を 収容する加熱室 2 5と、 マイクロ波を発振するマグネトロン 2 7と、 加熱室 2 5 の壁面に形成されて加熱室 2 5内へのマイクロ波の放射口となる給電口 2 9と、 マグネトロン 2 7から発振されたマイクロ波を給電口 2 9に導く導波管 3 1と、 ヒータ加熱用の直線状の発熱体 3 3と、 加熱補助用に加熱室 2 5の底部に載置さ れる焼き網 3 5とを備えている。
なお、 加熱室 2 5を含む上記の各構成要素は、 外部筐体 2 2内に収納される。 加熱室 2 5は、 前側が開閉扉 3 7で開閉可能にされた箱形で、 図 2及び図 3に 示すように、その天井壁 2 5 aを前後に 2等分する線 X 1よりも前方となる加熱室 2 5上部に上記の発熱体 3 3が装備され、 また、 天井壁 2 5 aを前後に 2等分す る線 よりも後方となる位置に上記の給電口 2 9が装備されている。
天井壁 2 5 aの発熱体 3 3に対応する位置には、 発熱体 3 3を収容する凹部 4 1が形成されていて、 発熱体 3 3が加熱室内に突出しないように配慮されている 本実施の形態の場合、 給電口 2 9は、 前後方向に位置をずらして 2つの給電口 2 9 a , 2 9 bから構成されている。 これらの 2つの給電口 2 9 a, 2 9 bは、 形状が何れも、 加熱室 2 5の幅方向 (即ち、 後述する導波管 3 1の軸方向) に細 長い矩形状である。 また、 これら 2つの給電口 2 9 a , 2 9 bは、 導波管 3 1の 管軸 (後述する導波管 3 1の幅寸法 aの中心である軸線に相当する) を含まな い領域に設けられている。 そして、 図 2及ぴ図 3に示すように、 天井壁 2 5 aの 中心に近い位置の給電口 2 9 aの開口面積を、 天井壁 2 5 aの中心から遠い位置 の給電口 2 9 bの開口面積よりも大きく設定している。
このように各給電口 2 9 a , 2 9 b毎に開口面積を相異させたのは、 それぞれ の開口からのマイクロ波の放射効率、 放射角等を調整することで、 加熱室 2 5内 の全域に対して、 できるだけ電界強度分布の偏りを小さくするためである。 マグネトロン 2 7は、 図 1及び図 2に示すように、 マイクロ波を発振するアン テナ 2 7 aを加熱室 2 5側に向けて、 加熱室 2 5の右外側面側に配置している。 そして、 アンテナ 2 7 aに対向する加熱室 2 5の右側壁 2 5 に、 室内側に膨 出した形態でアンテナ 2 7 aとの干渉を避ける膨出部 4 3を形成している。 導波管 3 1は、 アンテナ 2 7 aの周囲から加熱室 2 5の右外側面に沿って上方 に延びる側部導波管 4 7と、 この側部導波管 4 7の上端から天井壁 2 5 aの外面 に沿って給電口 2 9まで延びる上部導波管 4 9とを備えた L字状に形成されてい る。
側部導波管 4 7は、 加熱室 2 5の右側壁 2 5 bとの協働で、 マイク口波を導く 矩形管状の導波路を画成している。 また、 上部導波管 4 9は、 加熱室 2 5の天井 壁 2 5 aとの協働で、 マイクロ波を導く矩形管状の導波路を画成している。 側部導波管 4 7の場合、 アンテナ 2 7 aの突出方向となる高さ寸法 h 2は、膨出 部 4 3の高さ寸法 h 3の存在によってアンテナ 2 7 aとの干渉を回避できるため 、 アンテナ 2 7 aの突出長よりも小さく設定されている。 上部導波管 4 9の高さ 寸法 bは、 側部導波管 4 7の高さ寸法 h 2と同一に設定されている (即ち b = h 2 ) 。
また、 導波管 3 1は、 その幅寸法 aの中心である軸線 YLを挟んで、 装置前側に 給電口 2 9 aが位置し、 装置後側に給電口 2 9 bが位置するように、 加熱室 2 5 に対する取り付け位置が設定されている。
このような取り付け位置は、 加熱室 2 5内に放射されるマイクロ波の波長との 関係で、 加熱室 2 5内における電界強度分布や、 加熱雰囲気の温度分布に影響力 を持つ。
図 3に示したように、天井壁 2 5 aを前後に 2等分する線 Χ λに対して、発熱体 3 3の中心軸 Y2までの離間距離を p、 導波管 3 1の中心軸線 までの離間距離 を qとするとき、 p < qの関係に設定し、 pをできる限り零にするのが望ましい 給電口 2 9から加熱室 2 5内に放射されたマイクロ波は、 加熱室 2 5内での放 射密度等を、 本発明が提供する給電口 2 9の開口面積や開口位置、 或いは焼き網 3 5による反射等の様々の手段で調整可能で、 電界強度分布の偏りの調整が容易 であるが、 発熱体 3 3による輻射熱による雰囲気温度分布は、 偏りを小さくする ためには、 発熱体 3 3自体をできる限り加熱室 2 5の中心付近に設置することが 最善策であるからである。
以上の構成によれば、 図 1に示すように、 導波管 3 1の軸方向の長さに関して 、 マグネトロン 2 7のアンテナ 2 7 aと給電口 2 9の中心との距離を、 マイクロ 波を給電口 2 9から効率良く放射できる、 マイクロ波の管内波長 λ gの 1 Z 2の 整数倍である例えば 3 / 2 λ gに設定した場合でも、 導波管 3 1の軸方向の長さ を上部導波管 4 9と側部導波管 4 7との長さ寸法の和 L λ 1 + L λ 2として捉え て、 マグネトロン 2 7の位置と側部導波管 4 7の長さとを調整することによって 容易に確保することができる。 その結果、 加熱室 2 5の幅寸法がいかなる寸法で あっても、 加熱室 2 5の中心に給電口 2 9を設定することができて、 電界強度分 布の偏りによる加熱ムラの発生を防止しつつ、 マグネトロン 2 7と加熱室2 5の 側壁 2 5 bとの間に無駄となるスペースの形成を無くして、 装置の小型化を図る ことができる。
また、 上記実施の形態のマイク口波加熱装置 2 1においては、 マグネトロン 2 7のアンテナ 2 7 a周辺での導波管 3 1の高さ寸法は、 実質的には、 実際の導波 管 3 1の高さ寸法 h 2に、 加熱室 2 5の側壁 2 5 bの膨出部 4 3の高さ寸法 h 3を 加算したものとなり、実際の導波管 3 1の高さ寸法 h 2自体は、マグネトロン 2 7 のアンテナ 2 7 aの突出長よりも小さい値に短縮することができ、 これによつて 、 マグネトロン 2 7のアンテナ 2 7 aの突出方向に沿う導波管 3 1の寸法を縮め て、 装置の高さ寸法を短縮することができる。
そして、 L字状の導波管 3 1による加熱室 2 5の小型化と、 加熱室 2 5の側壁 2 5 bへの膨出部 4 3の装備による導波管 3 1の高さ寸法の短縮が相乗し、 給電 口 2 9の装備位置の偏りに起因する加熱ムラの発生を防止しつつ、 スペース効率 を高めた装置の小型化を実現することができる。
また、 本実施の形態のマイクロ波加熱装置 2 1は、 発熱体 3 3を装備していて 、 オーブンレンジ (オーブントースタ) としても使用できるため、 より広範な調 理用途に利用できる。
そして、 加熱室 2 5の天井壁 2 5 aに、 ヒータ加熱のための発熱体 3 3と、 マ イク口波加熱のための給電口 2 9との双方を備えるが、 発熱体 3 3は、 給電口 2 9よりも、天井壁 2 5 aの前後に 2等分する線 に近づけているため、加熱室 2 5内での雰囲気温度分布の偏りが小さく、 加熱ムラ等の不都合が生じ難い。
一方、 給電口 2 9は、 加熱室 2 5の幅方向に対しては中心に位置しており、 加 熱室 2 5の前後方向にのみ、 加熱室 2 5の中心から後方にずれた配置となる。 そ こで、 このような前後方向の偏心に対しては、 大口径の給電口 2 9 aと、 小口径 の給電口 2 9 bとを組合せて、 加熱室 2 5内へのマイクロ波放射をなるベく均一 化するようにしていて、 その結果、 マイクロ波加熱の場合も、 加熱室 2 5内での 電界強度分布の偏りを抑えて、 加熱ムラの発生を抑え、 装置の大型化を招くター ンテーブル等の装備を省略しても被加熱物 2 3に対する均一加熱を実現すること ができ、 加熱特性を犠牲にせずに、 装置の小型化を実現することができる。
図 4は、 本発明に係る先の第 1の実施の形態によるマイクロ波加熱装置の変更 例である。
この変更例では、 側部導波管 4 7と上部導波管 4 9とを備えて L字状に形成さ れる導波管 3 1は、 側部導波管 4 7が加熱室 2 5の下方まで延びて形成されて、 マグネトロン 2 7が加熱室 2 5の下部位置に配置された構成である。 なお、 その 他の構成は、 先の第 1の実施の形態と同じである。
このようにマグネトロン 2 7を加熱室 2 5の下方位置に配置することにより、 装置の幅寸法を短縮させて、 より一層小型化を図ることができる。
図 5は、 本発明に係るマイク口波加熱装置の第 2の実施の形態の上面から見た 内部の概略構成である。
この第 2の実施の形態のマイクロ波加熱装置 5 1は、 ヒータ加熱用の発熱体 3 3を、天井壁 2 5 aを前後に 2等分する線 ェに対して傾斜させて配置したもので 、 その他の構成は、 第 1の実施の形態の場合と共通である。 第 1の実施の形態と 共通の構成については、 同一符号を付して、 説明を省略する。
このようにすると、 発熱体 3 3を、 加熱室 2 5の天井壁 2 5 aを前後に 2等分 する線 に対して平行に配置した第 1の実施の形態の場合と比較して、発熱体 3 3が、 加熱室 2 5の加熱領域が加熱室 2 5の前後方向に広がり、 オーブン加熱時 の加熱ムラを更に抑えることが可能になる。
なお、 本発明に係るマイクロ波加熱装置において、 図 6 ( a ) に示す矩形断面 の導波管の幅寸法 a , 高さ寸法 bは、 自由空間内でのマイクロ波の波長が; 。のと き、 次の (1 ) 式及び (2 ) 式を満足するように設定しておくことが望ましい。
(ぇ0 2 ) < & <; 。 …… ( 1 )
b < ( λ 0/ 2 ) …… ( 2 ) なお、 上記の各実施の形態では、 主副 2個の給電口を、 前後に並べて配置した 力 給電口の装備数は、 上記実施の形態に限定するものではない。 給電口は、 単 一にすることもでき、 3個以上の複数個に設定することもできる。
そして、 その装備位置、 形状、 開口面積等も、 前述した加熱室 2 5の天井壁 2 5 aを前後に 2等分する線 との接近の程度等に応じて、適宜に設計変更可能で ある。
要は、 加熱ムラの原因となる電界強度分布の偏りをできる限り無くすように、 調整できればよい。
図 6 ( b ) 〜 (f ) には、 上部導波管 4 9の先端における給電口 2 9の装備位 置、 装備数の変形例を示している。 このように、 各種の設計が可能である。
図 6 ( b ) は、 上部導波管 4 9の幅方向の中心軸線 に中心を合わせて、 軸線 方向に細長い単一の給電口 2 9を装備した例である。
図 6 ( c ) は、 上部導波管 4 9の幅方向の中心軸線 から前方に少しずらして 、 軸線方向に細長い単一の給電口 2 9を装備した例である。
図 6 ( d ) は、 上部導波管 4 9の幅方向の中心軸線 に引っ掛からないように 、 前方に大きくずらして、 軸線方向に細長い単一の給電口 2 9を装備した例であ る。
図 6 ( e ) は、 上部導波管 4 9の幅方向の中心軸線 を挾んで前後のそれぞれ に、 軸線方向に細長い 2つの給電口 2 9, 2 9を装備した例である。
図 6 ( f ) は、 上部導波管 4 9の幅方向の中心軸線 に引っ掛からないように 軸線 よりも前方に軸線方向に細長い給電口 2 9を装備し、 軸線 に一部が引 つ掛かるように軸線 Y 1と直交する方向に細長い給電口 3 0を装備した例である。 図示はしていないが、 多数の給電口を軸方向に行列状に装備する構造も考えら れる。 また、 装備した複数の給電口は、 形状及び開口面積の異なる少なくとも 2 種類以上の給電口で形成することも考えられる。 例えば、 給電口を、 円、 楕円、 三角形、 その他の多角形等にしてもよいし、 曲線のみ、 あるいは曲線と直線とで 形成されるものでも良い。
上記の給電口の複数個化や、 給電口の形状及び面積の多様化等は、 ヒータ加熱 用の発熱体 3 3の装備によって、 給電口 2 9の装備位置が加熱室 2 5の天井壁 2 5 aの中心から外れてしまう場合に、 各給電口 2 9からのマイクロ波の放射率を 調整することで、 加熱室 2 5全体としての電界強度分布の偏りを軽減する場合に 有効である。
なお、 図 6においては、 給電口と導波管の左端部との間に隙間があるが、 隙間 が無い構成にしても良い。
さらに、 上記の実施の形態では、 小型化を最優先したため装備をしなかったが 、 寸法等に余裕がある場合には、 加熱室の内壁面に、 マイクロ波を攪拌する攪拌 手段を装備するようにしても良い。
このような攪拌手段の装備は、 マイクロ波を攪拌することにより、 マイクロ波 の偏りを防止して、 加熱ムラの発生を抑止する上で有効である。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、 本発明の精神と範 囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にと つて明らかである。
本出願は、 2003年 2月 5日出願の日本特許出願 No.2003- 028450に基づくものであり 、 その内容はここに参照として取り込まれる。
<産業上の利用可能性 >
本発明のマイクロ波加熱装置によれば、 導波管の軸方向の長さを上部導波管と 側部導波管との長さ寸法の和として設定することにより、 加熱室の幅寸法がいか なる寸法であっても、 給電口を任意に設定できて、 電界強度分布の偏りによる加 熱ムラの発生を防止することができる。 また、 マグネトロンと加熱室の側壁との 間に無駄となるスペースの形成を無くして、 装置の小型化を図ることができる。 また、 請求の範囲 2項に記載の構成とした場合、 マグネトロンのアンテナ周辺 での導波管の高さ寸法は、 実質的には、 実際の導波管の高さ寸法 h 2に、 加熱室の 側壁の膨出部の高さ寸法 h 3を加算したものとなり、 実際の導波管の高さ寸法 h 2 自体は、 マグネトロンのアンテナの突出長よりも小さい値に短縮することができ
、 これによつて、 マグネトロンのアンテナの突出方向に沿う導波管の寸法を縮め て、 装置の高さ寸法を短縮することができる。 そして、 L字状の導波管による加熱室の小型化と、 加熱室の側壁への膨出部の 装備による導波管の高さ寸法の短縮が相乗し、 給電口の装備位置の偏りに起因す る加熱ムラの発生を防止しつつ、 スペース効率を高めた装置の小型化を実現する ことができる。

Claims

請 求 の 範 圃
1 . マグネトロンから発振されたマイクロ波を導波管を介して加熱室に放 射するマイクロ波加熱装置であって、
マイクロ波の放射口となる給電口を前記加熱室の天井壁に設け、
前記導波管を、 前記加熱室の外側面に沿って上方に延びる側部導波管と、 この 側部導波管の上端から前記天井壁外面に沿って前記給電口まで延びる上部導波管 とを備えた L字状に形成したことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
2 . 前記マグネトロンのアンテナを加熱室側に向けて前記加熱室の側壁に 対向させて配置すると共に、 前記側壁に室内側に膨出して前記アンテナとの干渉 を避ける膨出部を形成したことを特徴とする請求の範囲第 1項記載のマイクロ波 加熱装置。
3 . 前記給電口を前記加熱室の幅方向に細長い矩形状に形成したことを特 徴とする請求の範囲第 1項記載のマイクロ波加熱装置。
4 . 前記給電口を複数個備えたことを特徴とする請求の範囲第 3項記載の マイクロ波加熱装置。
5 . 前記複数の給電口を、 形状及び開口面積の異なる少なくとも 2種類以 上の給電口で形成したことを特徴とする請求の範囲第 4項記載のマイク口波加熱 装置。
6 . 前記複数の給電口が、 前記天井壁の前後方向に並ぶ場合に、 前記天井 壁の中心に近い位置の給電口の開口面積を、 前記天井壁の中心から遠い位置の給 電口の開口面積よりも大きく設定したことを特徴とする請求の範囲第 4項又は第 5項記載のマイク口波加熱装置。
7 . 前記加熱室の天井壁に、 ヒータ加熱用の直線状の発熱体を装備し、 前 記天井壁を前後に 2等分する線を含まない位置に前記給電口を装備したことを特 徴とする請求の範囲第 1項又は第 2項に記載のマイクロ波加熱装置。
8 . 前記加熱室の天井壁に、 ヒータ加熱用の直線状の発熱体を装備し、 前 記天井壁に配置された前記上部導波管の幅方向の中心軸線よりも前記発熱体の中 心軸の方が前記天井壁を前後に 2等分する線に近い構成としたことを特徴とする 請求の範囲第 1項又は第 2項に記載のマイク口波加熱装置。
9 . 前記発熱体を、 前記天井壁を前後に 2等分する線に対して傾斜させた 配置としたことを特徴とする請求の範囲第 8項記載のマイク口波加熱装置。
1 0 . 前記加熱室の壁面に、 マイクロ波を攪拌する攪拌手段を装備したこ とを特徴とする請求の範囲第 1項乃至第 9項のいずれかに記載のマイクロ波加熱 装置。
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