WO2004059619A2 - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 - Google Patents

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WO2004059619A2
WO2004059619A2 PCT/JP2003/016673 JP0316673W WO2004059619A2 WO 2004059619 A2 WO2004059619 A2 WO 2004059619A2 JP 0316673 W JP0316673 W JP 0316673W WO 2004059619 A2 WO2004059619 A2 WO 2004059619A2
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glass plate
main surface
texture
glass substrate
abrasive grains
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PCT/JP2003/016673
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WO2004059619A3 (ja
WO2004059619A1 (ja
Inventor
Seiji Matsumoto
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Seiji Matsumoto
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Publication of WO2004059619A1 publication Critical patent/WO2004059619A1/ja
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate having a main surface on which a texture is formed, and more particularly to an information recording medium such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, or an optical disk provided in an information recording device such as a hard disk drive. And a method of manufacturing a glass substrate.
  • an information recording medium such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, or an optical disk provided in an information recording device such as a hard disk drive.
  • a magnetic disk is manufactured by laminating a magnetic film and a protective film on a main surface of a disk-shaped glass substrate.
  • the main surface of the glass substrate is polished smoothly.
  • a magnetic head for reading information from and writing information to the magnetic disk is likely to be attracted to the main surface of the magnetic disk that has been polished smoothly. Therefore, in order to reduce the adsorption of the magnetic head, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-101 discloses a mechanical texture processing method for forming a texture including a plurality of fine linear protrusions extending concentrically on the surface of a glass substrate. It is proposed in Japanese Patent Publication No. 016656.
  • a method for imparting magnetic anisotropy in the circumferential direction of a magnetic disk by forming a texture such that line-shaped fine projections intersect at an intersection angle in the range of 0.1 to 45 ° is disclosed in It is proposed in Japanese Patent Application Publication No. 2000-0127. '
  • the glass substrate on which the texture was formed by the conventional method had a problem that the smoothness of the surface was reduced with a high probability even though the glass substrate was polished.
  • the criteria indicating the surface smoothness there was a tendency that the minute waviness measured with a light having a wavelength of 0.2 to 1.4 mm using a three-dimensional surface structure analysis microscope was high. This is because the additional conditions for intersecting the line-shaped microprojections at a predetermined angle are not uniquely determined. In other words, since there are several processing conditions for obtaining a predetermined intersection angle, under a certain processing condition, a predetermined intersection angle and surface smoothness can be obtained, while under another processing condition, a predetermined intersection angle cannot be obtained. However, the surface smoothness may decrease.
  • An object of the present invention is to provide a glass substrate for an information recording medium having a uniform texture and high smoothness, and a method for manufacturing the same.
  • an abrasive containing abrasive grains is supplied to a main surface of a disk-shaped glass plate, and the main surface is slid by a polishing member.
  • a one-stroke trajectory in which abrasive grains intersect at at least three places on the main surface of the glass plate is periodically formed.
  • one of the polishing member and the glass plate is swung in the radial direction of the glass plate with respect to the other while rotating the glass plate.
  • the oscillation frequency F (H z) and the rotation speed R (min- 1 ) of the glass plate are preferably determined so that the rotation speed is out of the range of (FX 60) ⁇ 5. .
  • the one-stroke trajectory has at least five intersections along the way.
  • the frequency of the motion is greater than 0 Hz and less than or equal to 20 Hz. In one embodiment, the rotation speed is 240 to 540 min- 1 .
  • the swing stroke is 0.5-2 mm.
  • the polishing member is d ur specified in IS07627-2.
  • a roller made of an elastic material having a hardness of 40 to 90 is preferable.
  • the main surface of the glass plate is scrubbed with a 100% modulus specified in JISK7113 of 2.9 to 39.2 MPa. A rubbing step is further performed.
  • the frequency of the swing is higher than 0 Hz and 4 Hz or less, and when the outer diameter exceeds 48 mm, the frequency of the swing is It is preferably higher than 4 Hz and not higher than 2 OHz.
  • Another embodiment of the present invention provides a step of preparing a disk-shaped glass plate having a main surface and a central circular hole, and along a closed curve each of which intersects at least three places around the central circular hole. Forming a texture including a plurality of extending grooves on the main surface, the method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium.
  • the step of forming the texture comprises: supplying an abrasive containing abrasive grains to a main surface of the glass plate; pressing a polishing member against a main surface of the glass plate; The method includes simultaneously swinging one of the plate and the polishing member in the radial direction of the glass plate, and simultaneously rotating the glass plate at a constant speed.
  • the swing stroke is 0.5 to 2 mm, and the frequency F (Hz) of the swing and the rotation speed R (min “ 1 ) of the glass plate are expressed by (FX60) It is preferable that the value is determined to be out of the range of ⁇ 5.
  • the frequency of the swing be changed according to the outer diameter of the glass plate.
  • Another embodiment of the present invention discloses a glass substrate for an information recording medium having a textured main surface.
  • Arithmetic average roughness Ra of the main surface of the glass substrate measured using an atomic force microscope is 0.5 nm or less, and tertiary using light with a measurement wavelength of 0.2 to 1.4 mm
  • the height NRa of the fine waviness on the main surface measured by a former main surface structure analysis microscope is 0.2 nm or less.
  • the texture of the glass substrate includes a plurality of protrusions, and in one region having a predetermined reference area on the main surface, the total value of the cross-sectional areas of the plurality of protrusions is 50% with respect to the reference area.
  • the first imaginary plane parallel to the main surface is separated from the imaginary reference plane by a first distance, and the sum of the cross-sectional areas of the plurality of protrusions is 0.01% with respect to the reference area.
  • a second imaginary plane parallel to the main surface is separated by a second distance from the imaginary reference plane, and traverses the plurality of protrusions so that the first distance and the second distance Difference from distance is 0.01 to 1.O nm
  • Another aspect of the present invention is a disk-shaped glass substrate for an information recording medium having a central circular hole and a main surface, wherein each of the main surfaces intersects at least three places around the central circular hole.
  • the present invention relates to a glass substrate for an information recording medium, wherein a texture including a plurality of grooves extending along a closed curve is formed.
  • FIG. 1 is a front view of a glass substrate for an information recording medium according to the present invention.
  • Figure 2A is a schematic side view of the texture machine.
  • Figure 2B is a schematic front view of the texture machine.
  • Figure 3A is a schematic enlarged view of the texture.
  • FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line 3 B—3 B of FIG. 3A.
  • FIG. 3C is a cross-sectional view along the line 3 C— 3 C in FIG. 3A.
  • Figures 4A and 4B show the trajectory of a groove formed on the surface of a glass plate by a single abrasive when the rotation and oscillation of the glass plate are asynchronous.
  • Figures 5A, 5B, 6A and 6B show the trajectories of the abrasive grains drawn on the surface of the glass plate when the rotation and oscillation of the glass plate are synchronized.
  • Figures 7A and 7B are enlarged views of the texture machine roller pressed against the surface of the glass plate.
  • a glass substrate 11 for an information recording medium is a disk having a circular hole 12 at the center and a texture 13 formed on a main surface thereof.
  • the glass substrate 11 is made of a multi-component glass material such as soda lime glass, aluminosilicate glass, porosilicate glass, and crystallized glass manufactured by a float method, a downdraw method, a redraw method, or a press method.
  • Is glass substrate 1 1 a sheet-like glass material? It is manufactured by cutting a disk-shaped glass plate, polishing the glass plate, and subjecting the surface to texture processing.
  • Texture 13 is composed of a plurality of ridges (projections) and a plurality of valleys.
  • the ridge and the valley form a line that extends intermittently in the circumferential direction of the glass substrate 11.
  • a protective film, or the like made of a metal or alloy such as cobalt (C 0), chromium (0) :), or iron (6) on the main surface of the glass substrate 11 having the texture 13.
  • Information recording media such as magnetic disks, magneto-optical disks, and optical disks can be obtained.
  • the texture 13 the contact area between the recording surface of the information recording medium manufactured from the glass substrate 11 and the head is reduced.
  • the glass substrate 11 is manufactured through a disk processing step, an edge chamfering step, a lapping step, a polishing step, a cleaning processing step, and a texture processing step.
  • a disk-shaped glass plate is cut out of a square glass material by using a cemented carbide or diamond force cutter.
  • the end surface chamfering step the outer peripheral surface and the inner peripheral end surface of the glass plate are ground, the outer diameter size and the inner diameter size are set to predetermined lengths, and the corners of the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface are chamfered. .
  • the lapping process the lapping process is performed using a polishing device, thereby correcting the warpage of the glass plate.
  • the polishing step a plurality of polishing steps are performed using a polishing apparatus, and the main surface of the glass plate is made smooth.
  • the cleaning process the glass plate after the polishing process is washed with a cleaning liquid, thereby removing the adhered substances such as abrasives, polishing powder, dust and the like attached to the main surface of the glass plate.
  • a texture is formed on the main surface of the glass plate according to a mechanical texture forming method using a texture machine on the glass plate whose main surface has been smoothed in the polishing process.
  • the glass substrate 11 is manufactured.
  • the texture machine will be described.
  • the glass plate 11a is rotatably supported by a spindle (not shown).
  • the glass plate 11a is disposed between a pair of rollers 31 provided to face each other.
  • Each roller 31 is rotatably supported by a rotating shaft 32 extending in the radial direction of the glass plate 11a. Both rollers 31 can approach and separate from the glass plate 11a.
  • a tape member 33 as a polishing member is movably disposed between the main surface of the glass plate 11a and the corresponding roller 31.
  • the tape member 33 is moved from one end (upper side in FIG. 2A) to the other end (lower side in FIG. 2A) between the main surface of the glass plate 11a and each roller 31.
  • An abrasive is supplied from a supply unit (not shown) between the tape member 33 and the main surface of the glass plate 11a, and abrasive grains contained in the abrasive adhere to the tape member 33.
  • the tape member 33 While rotating the glass plate 11a at a constant rotation speed, the tape member 33 is brought close to the main surface of the glass plate 11a by bringing a pair of rollers 31 closer to the main surface of the glass plate 11a.
  • the abrasive grains contained in the abrasive have a slight difference in the particle size. For this reason, a difference occurs in the depth and width of the valley formed by each abrasive grain, and the shape of the ridge becomes uneven. For example, in a place where the valley is deep and wide, the part between the valleys is sharply cut, so the ridge is low and narrow. On the contrary, in the place where the valley is shallow and narrow, the part between the valleys is cut small, so that the ridge is formed high and thick.
  • the line connecting the tops of the ridges is distorted in a wavy form, for example, when the high and thick ridges are connected to the low and narrow ridges, and this distortion affects the minute undulations on the main surface. It becomes.
  • the trajectory drawn by a single abrasive pressed against the glass plate on the main surface of the glass plate is a circle extending in the circumferential direction of the glass plate as shown in FIG. 5A. In this case, the trajectories do not intersect each other. In other words, even if a relatively high ridge is formed at a certain place, the trajectory of another abrasive grain crosses the ridge so as to cut the ridge, and the height of the ridge is not corrected.
  • the abrasive grains can easily enter the valley.
  • this phenomenon occurs at an extremely high probability because one abrasive grain can easily trace the trace of another abrasive grain.
  • the shape of the ridge such as the height and width of the ridge portion, is deviated between an arbitrary portion and another portion even when the same glass plate is used. Is more likely to occur.
  • the ridgeline when viewed microscopically from the viewpoint of individual ridges, the ridgeline is greatly distorted up, down, left, and right in some places, while it is a continuous ridge, and the ridgelines are flat in other places.
  • the shape of the ridgeline, especially the height of the peak, tends to be uneven.
  • burrs an abnormal protrusion formed due to the presence of large uncut parts on the ridgeline of the ridge when viewed microscopically. It is easy to be.
  • the shape of the ridge is deviated, and the shape of the ridgeline becomes uneven, so that the height difference of the fine undulation becomes large, and the surface quality of the glass substrate becomes poor. Will drop.
  • one cycle refers to the time required until the abrasive pressed against an arbitrary point (start point) on the main surface of the glass plate returns to the same position (end point) as the start point.
  • the term “periodic motion” refers to a motion in which substantially the same locus is repeatedly drawn at substantially the same time intervals.
  • the roller 31 is moved in the radial direction of the glass plate 11a. It is driven at a predetermined frequency and stroke. In this state, the tape member 33 slides on the main surface. Focusing on one abrasive grain 3 4 on the tape member 3 3, as shown by the chain line arrow in FIG. 2B, the abrasive grains 3 4 are periodically formed in the radial direction of the glass plate on the main surface of the glass plate. Shaken. Therefore, a periodic wavy groove is dug in the main surface of the rotating glass plate 11 a by contact with the abrasive grains 34. (Refer to Fig.
  • One cycle of the locus of FIG. 5A is one rotation of the glass plate 11a, but one cycle of the locus of FIG. 4A is three rotations of the glass plate 11a. Therefore, the length of one cycle of the trajectory in Fig. 4A is It is longer than the circular locus in Fig. 5A, and the valleys are formed macroscopically distributed over the entire main surface of the glass plate. For this reason, the phenomenon that only the same portion of the main surface of the glass plate is shaved by the periodically moving abrasive grains hardly occurs. Also, since one locus intersects within one cycle, for example, when a ridge is formed high in a certain place, abrasive grains can actively cut the top of this ridge, and can be viewed microscopically.
  • the ridge portion is formed substantially uniformly distributed over the entire main surface of the glass plate when viewed macroscopically, with the shape of the ridgeline or the height of the apex being substantially uniform when viewed microscopically.
  • the difference in height of the minute undulations becomes small, and the deterioration of the surface quality is suppressed.
  • the method of intersecting the trajectories of the abrasive grains that periodically move in one cycle in the specification will be referred to as a “cross hatch method”.
  • the processing conditions are preferably set as follows. It is preferable that the oscillation frequency of the glass plate 11a or the roller 31 and the rotation speed (the number of rotations per minute) are not synchronized but are asynchronous.
  • the state in which the oscillation frequency and the rotation speed are synchronized means that, when the oscillation frequency is represented by F (Hz), the rotation speed R (min- 1 ) and the force S (FX60) ⁇ 5 It is in the range.
  • the shape of the one-cycle locus is as shown in Fig. 5B. Then, the shape becomes elliptical. Since the oscillation frequency F and the rotation speed R are completely synchronized, the start point and the end point of the oscillation of one abrasive grain 34 coincide with the start point and the end point of the one-cycle locus, respectively. It is thought to be due to this. In other words, it is thought that such a shape is obtained by performing one swing in one cycle.
  • the shape of the ridge tends to be uneven, the shape of the ridgeline tends to be uneven, the height difference of the minute undulation increases, and the glass base There is a possibility that the surface quality of the plate is degraded.
  • the oscillation frequency F is 4 Hz and the rotation speed is (4 X 60) + 5, that is, 245 min — 1 (245 rpm)
  • the shape of the one-cycle locus is as shown in Fig. 6A. The shape extends in a single stroke while intersecting from the start point to the end point of one cycle, but it intersects at two points.
  • the trajectories are shifted substantially concentrically outward or outward. This is because even if there is a slight deviation from the state where the oscillation frequency F and the rotation speed R are completely synchronized, the oscillation frequency F and the rotation speed R are still almost synchronized, and the effect is It is thought that this is due to the fact that only the position of the -end point of the one cycle and the end point of the one-cycle locus are shifted only slightly. It is considered that the displacement of the trajectory is caused by the displacement between the end point of the swing and the end point of the one-cycle trajectory.
  • the rotation speed R is set to (FX60) +4, (FX60) -13.
  • the shape of the trajectory of one cycle is almost the same as the shape shown in FIGS. 6A and 6B.
  • the shape of the trajectory differs in that the distance between the trajectories increases or decreases at locations other than the two intersections. However, there is no difference in that there are two intersections, and the glass substrate has a reduced surface quality.
  • the shape of the trajectory in one cycle is as shown in Fig. 4A.
  • Shape This is due to the fact that the oscillation frequency F and the rotation speed R are in an asynchronous state, so that the end point of the oscillation of one abrasive grain 34 and the end point of the one-cycle locus do not match. Conceivable. In other words, it is considered that such a shape is obtained by performing a plurality of swings in one cycle.
  • the shape of the ridge is less likely to be deviated, and the shape of the ridgeline is less likely to be non-uniform. Is maintained. Further, the shape has an advantage that burrs are not easily formed on the ridge line of the ridge portion.
  • the trajectory of one cycle The shape is as shown in Fig. 4B.
  • the number of intersections of the trajectory within one cycle increases compared to the shape shown in FIG. 4A.
  • the number of intersections is increased in this manner, it is possible to more effectively correct the shape of the ridge in a microscopic manner, such as by more actively shaving the top of the ridge, and so on.
  • the number of intersections of the trajectory within one cycle is important. This is because the ridge of the texture is cut over a wide area as the number of intersections increases, so the remaining uncut portion is reduced, the shape of the ridge lines is microscopically aligned, and the main surface of the glass plate is macroscopically This is because it is possible to cut the whole with a substantially uniform thickness.
  • the intersection angle between the trajectories is 4 to 9 °
  • the intersection angle between the trajectories in the shape shown in Fig. 4A is about 7 ° '. Therefore, it can be said that the crossing angles of each other are within substantially the same range.
  • the trajectories shown in FIGS. 6A and 6B and the trajectory shown in FIG. 4A have significantly different shapes, and the shapes shown in FIGS. 6A and 6B cause a decrease in surface quality.
  • the shape shown in FIG. 4A maintains the surface quality. For this reason, determining the intersection angle between the trajectories as in the conventional example cannot be an important factor from the viewpoint of maintaining the surface quality. Therefore, from the viewpoint of maintaining the surface quality from the viewpoint of minute undulations, the number of intersections of the trajectory within one cycle is an important factor.
  • the number of intersections of the trajectory in one cycle is determined by the fact that the oscillation frequency F and the rotation speed R are asynchronous. It is possible to increase or decrease the number by further defining these in the state. Then, in order to maintain the surface quality, there are at least three intersections of the trajectory in one cycle.
  • the case where the number of intersections is less than 3 points is a case where the shape is as shown in FIGS. 5A and 5B and FIGS. 6A and 6B. This is the case where the shape of the ridgeline is uneven or the shape of the ridgeline tends to be uneven. Further, in order to improve the surface quality, it is preferable that the intersection of the trajectories in one cycle is at least five.
  • the moving distance of the abrasive grains on the main surface of the glass plate becomes longer or the moving speed with respect to the glass plate becomes faster, the trajectory drawn by the abrasive grains becomes longer and the trajectories can be crossed more reliably. It becomes.
  • the glass plate has a circular shape in plan view, and the moving distance of the abrasive grains is longer at the outer diameter side of the glass plate and shorter at the inner diameter side.
  • the moving speed of the abrasive grains is higher at the outer diameter side of the glass plate, and is lower at the inner diameter side.
  • the outer diameter portion of the glass plate 11a is always in a state where the tape member 33 is in sliding contact with the textured machine during operation, but the inner diameter portion is There is a possibility that there is a time when the tape member 33 is not in sliding contact temporarily. In order to temporarily shorten or eliminate the time when the tape member 33 is not slidably contacted with the inner diameter side portion, it is preferable to determine the driving frequency and the driving stroke more finely.
  • the oscillation frequency is preferably higher than 4 Hz and equal to or lower than 20 Hz. If ⁇ frequency is less than 4 H Z, since the time the glass sheet is returned from the start point of the swing to the end point is long, part of the inner diameter side is temporarily tape member 3 3 also become longer time which is not in sliding contact When viewed macroscopically, the shape of the ridge may be biased, leading to a decrease in surface quality.
  • the oscillation frequency exceeds 20 Hz, the outer diameter of the glass plate The time required for the tape member 3 to slide in contact with the side is unnecessarily long, and the outer diameter side may be excessively shaved by abrasive grains. Bias may occur, leading to a decrease in surface quality.
  • the swing stroke is preferably 0.5 to 2 mm.
  • the swing stroke is less than 0.5 mm, the distance between the trajectories of the abrasive grains becomes unnecessarily short, and a single thick groove formed by a plurality of grooves is formed.
  • a plurality of grooves are gathered in this way, a conventional concentric texture may be formed on the appearance in spite of swinging the glass plate.
  • the swing stroke exceeds 2 mm, the time required for the glass plate to return from the start point to the end point of the swing becomes longer, so that the tape part 33 on the inner diameter side may temporarily become longer for the tape member 33 not to slide. is there. In such cases, deviation occurs in the shape of the ridge portion when viewed macroscopically, there is a fear force s deteriorating the surface quality.
  • the rotation speed is preferably 240 to 540 min- 1 (240 to 540 rpm). If the rotational speed is less than 24 0 min 1, by the moving distance of the abrasive grains in a single swing is short, there may not come in be the intersection of the locus three or more. Further, when the rotational speed exceeds 54 0 min 1, the width or length of the formed ridge portion may become extremely short, there is a fear that it becomes impossible to exhibit the function as a texture.
  • the tape member 33 is, for example, a woven fabric, a nonwoven fabric, a flocking sheet, and a suede sheet. Such a tape member 33 is preferable because it has extremely fine irregularities on its surface, and the abrasive grains of the abrasive are held in the extremely fine irregularities.
  • a synthetic resin such as polyurethane, polyethylene, or polypropylene, or a natural fiber such as cotton can be used.
  • a suede sheet formed from a synthetic resin foam can be used.
  • a diamond slurry obtained by dispersing diamond abrasive grains in a dispersion medium such as water is mainly used.
  • the average particle size of the abrasive grains is good Mashiku is 0. 0 5 ⁇ 0 3 m, more preferably 0. 0 8 ⁇ 0 2 5 (D 5 .);. A m;. Z. 0 if 50 is less than 0. 0 5 m, low polishing capability for glass plates, since one forming speed becomes slow, decrease in yield, to processing cost high Kaga May be present.
  • D 5 When the force S O. 3 zm is exceeded, the variation in the grain size of each abrasive grain becomes remarkable, and it may be difficult to form a uniform texture.
  • the roller 31 is made of an elastic material such as a synthetic rubber, a natural rubber, or an elastomer having a duro hardness of preferably 40 to 90 specified in IS07627-2. The relationship between the hardness of the mouthpiece 31 and the trajectory of the abrasive grains will be described.
  • the roller 31 is elastically deformed by pressing against the glass plate 11a.
  • one abrasive grain 34 comes into contact with the glass plate 11a for a period of moving by the same distance as the contact width L1 along with the movement of the tape member 33, and thereafter, the glass plate 11 Remove from the main surface of a.
  • one abrasive grain 34 cannot necessarily draw the trajectory for one cycle as described above while in contact with the glass plate 11a, and depends on the length of the contact width L1. Draw a trajectory for half a cycle, 1Z4 cycle, etc.
  • one abrasive grain 34 is brought into contact with the main surface of the glass plate 11a as long as possible, and the locus intersects at more places within one cycle. This is because, as the contact of the abrasive grains 34 becomes shorter, the valley formed by the slight difference in the contact position between one abrasive grain and another abrasive grain with respect to the main surface of the glass plate 11a is slightly reduced. Because of the shift, the possibility that the trajectories cross each other is reduced. Therefore, in order for one abrasive grain 34 to contact the main surface of the glass plate 11a as long as possible, the contact width of the roller 31 with the glass plate 11a needs to be large. Since the degree of elastic deformation varies depending on the dur0 hardness of the roller 31, the dur0 hardness of the roller 31 is specified so as to obtain a relatively large contact width L2, as shown in FIG. 7B.
  • the roller 31 When the duro hardness of the row 31 is less than 40, the roller 31 becomes excessively soft, so that the force for pressing the abrasive grains 34 against the main surface of the glass plate 11a becomes excessive or insufficient, and the texture is sufficiently high. Therefore, there is a possibility that it cannot be formed. Further, when the roller 31 having a duro hardness of more than 90 is used, there is a possibility that the contact width cannot be sufficiently widened.
  • the force with which the pair of rollers 31 presses the abrasive grains 34 against the main surface of the glass plate 11a is preferably 13.4 to 44.5N (3.0 to L0. Olbs). Push If the applied force is less than 13.4 N (3.0 lbs), the contact width of the roller 31 does not increase, or the abrasive grains 34 are not sufficiently pressed against the glass plate 11 One may not be able to be formed with a sufficient height. If the pressing force exceeds 44.5 N (10.0 1 bs), the glass plate 1 la sandwiched between the pair of rollers 31 may break, or the glass plate 11 a may rotate. However, there is a possibility that problems such as resistance may occur.
  • a scrub step is preferably performed.
  • the texture is formed by the crosshatch method, most ridges have microscopically uniform ridge shapes, but in rare cases, burrs may be formed.
  • This chemical texture forming method is a method in which a texture is formed by etching the main surface of a glass plate using an etching solution such as an acidic aqueous solution such as hydrofluoric acid or an aqueous solution of an alkaline solution.
  • an etching solution such as an acidic aqueous solution such as hydrofluoric acid or an aqueous solution of an alkaline solution.
  • the chemical texture forming method since the entire main surface of the glass plate is etched, there is an advantage that paris is hardly formed.
  • the chemical lithography method once a paris is formed, a layer with different chemical properties is formed on the paris surface. This layer coats the surface of Paris and protects the burrs. Therefore, the chemical texture forming method has a drawback that it is difficult to remove paris.
  • the mechanical texture forming method is more likely to produce residual burrs when the main surface of the glass plate is ground with abrasive grains, and is generally said to be easier to form burrs than the chemical texture forming method. ing.
  • these burrs are formed by grinding the surroundings with abrasive grains, so to speak, are left uncut. For this reason, cracks are present on the surface of burrs formed by the mechanical texture forming method. Therefore, burrs generated by the mechanical texture forming method can be sufficiently removed from the base by physical means, and are easier to remove than burrs generated by the chemical texture forming method.
  • the main surface of the glass plate is By scrubbing the main surface with scrubbing material while showering the cleaning solution, foreign substances such as abrasive grains and glass powder remaining on the main surface of the glass plate are removed, and abnormal projections called Paris are also removed.
  • the scrub material a sponge, a suede material, or the like made of a synthetic resin foam is used.
  • the scrubbing material, per 100% character Yurasu defined in JISK 7 1 1 3 is preferably 2.9 to 3 9. those 2Myuro a of (3 0 ⁇ 4 0 0 kgf / cm 2) is used You. Further, a scrub material having an ASKER C hardness prescribed in SRISO 101 of preferably 40 or more is used. If a scrub material with a 100% modulus of less than 2.9MPa (30 kgf / cm 2 ) or an ASKER C hardness of less than 40 is used, the scrub material loses the strength of the paris and this paris can be sufficiently removed. It may not be possible to remove it. In the case of an excessively hard scrub material having a 100% modulus of more than 39.2 MPa (40 O kgf / cm 2 ), the formed texture may be shaved off.
  • washing liquid examples include water, pure water, and a neutral aqueous solution of alcohol such as isopropyl alcohol.
  • a neutral aqueous solution neutral water such as electrolytic water obtained by electrolyzing an aqueous solution of an inorganic salt such as alkali metal salt such as sodium chloride or a gas-dissolved water in which a gas is dissolved is used.
  • Aqueous solution such as an alkaline aqueous solution, an acidic aqueous solution or the like having an etching ability for the glass material family may be used as the cleaning liquid.
  • an aqueous solution having a low etching ability with respect to the glass material for example, an aqueous solution such as a hydroxide aqueous solution.
  • the above-described scrubbing step is sufficient for removing the burrs in the conventional concentric texture formed by the mechanical texture forming method.
  • mechanical techniques including the cross hatch method can be used. It is possible to sufficiently remove the formed paris in the entire stiffening method.
  • the textured glass substrate manufactured as described above has a fine waviness height (NRa) of 0.2 nm or less on the main surface and a surface roughness (Ra) of 0.5 nm or less. It is.
  • the undulation height (Wa) of the main surface is preferably 0.5 nm or less.
  • NRa is defined as a predetermined value of the main surface using a three-dimensional surface structure analysis microscope (NewView 2000) manufactured by Zygo and setting the measurement wavelength ( ⁇ ) to 0.2 to 1.4 mm. It shows the value measured by scanning the area with white light.
  • Ra indicates a value measured by an atomic force microscope (AFM).
  • W a means a predetermined area of the main surface with white light using a multifunctional disk interferometer (Optif 1 at) manufactured by Pose Metrix with a measurement wavelength ( ⁇ ) of 0.4 to 5.0 mm. It shows the value measured by scanning.
  • NR a exceeds 0.2 nm and Ra exceeds 0.5 nm
  • the main surface of the glass substrate is rough and has low smoothness. This is due to the fact that recent information recording media tend to have a shorter distance between the main surface of the information recording medium and the head in order to achieve higher density recording.
  • the head moves on the information recording medium, the head can follow the swell even if the swell height Wa is slightly large. If the NRa and Ra are large, the head cannot follow the minute undulations, and cannot jump over the abnormal projection, causing the head to get caught or collided with the abnormal projection. Is likely to occur frequently.
  • the texture is to reduce the contact area with the head while smoothing the main surface of the glass substrate. It is formed to reduce.
  • the texture has a function of reducing the contact area with the head, thereby suppressing the suction of the head to the main surface of the information recording medium.
  • the information recording medium manufactured from the glass substrate having the texture has high magnetic anisotropy and coercive force due to the texture. This is thought to be because the atoms of the metal forming the magnetic film are aligned with good orientation on the side of the texture.
  • BR bearing ratio
  • ⁇ ⁇ bearing height
  • AFM is used to measure the surface condition of a glass substrate within a predetermined area on the main surface.
  • AFM it is possible to obtain a roughness curve for each scanning line in accordance with the provisions of JISB0601, and based on the roughness curve, it is possible to show the unevenness of the main surface of the glass substrate as a bird's-eye view. It is possible.
  • the measured area of the predetermined region is set as a reference area. For example, if the measured predetermined area is a square of 5 tm square, the reference area is 25 ⁇ m 2 .
  • the texture 13 is cut along a plane parallel to the main surface of the glass substrate 11.
  • Fig. 3B shows each cut surface 14 obtained by cutting the texture 13 on the surface containing the 3B line in Fig. 3A, and shows a cut obtained by cutting the texture 13 on the surface containing the 3C line.
  • Surface 14 is shown in Figure 3C.
  • the area of the cut surface 14 of the texture 13 is calculated.
  • the area of the cut surface 14 is defined as a measurement area.
  • the ratio of the measurement area to the reference area is indicated as BR. For example, if the ratio of the measured area to the reference area is 50%, BR is 50%, and if the ratio is 0.01%, BI is 0.01%.
  • BH the position where BR is 50% is determined.
  • the position where the BR becomes 50% is defined as the reference plane 15 shown in FIG. 3A.
  • a surface for cutting the texture when BR reaches a predetermined value is required.
  • This tech The surface that cuts the steer is the measurement surface.
  • the surface including the line 3B or the surface including the line 3C in FIG. 3A is the measurement surface.
  • the height from the reference plane 15 to the measurement plane is indicated as BH. For example, assuming that the plane containing the 3B line is the measurement plane, if BR here is 10%, it is written as BH (10), and the height from the reference plane 15 to the measurement plane containing the 3B line is measured.
  • BH (10) is 0.5 nm. Also, when the surface including the 3C line is the measurement surface, if BR here is 0.1%, it is expressed as BH (0 1), and the distance from the reference surface 15 to the measurement surface including the 3C line is measured. If the height 112 is 1.5 nm, BH (0 1) is 1.5 nm.
  • the BH is measured for each predetermined BR, the difference is determined for each measured BH, and the difference is evaluated. It is possible to measure the shape of the texture and the presence or absence of burrs. That is, as shown in FIG. 3A, the area of the cut surface of the texture becomes smaller toward the upper end of each ridge. At this time, if the ridge has a ridge shape with a constant gradient, BR decreases at a constant rate, BH increases in proportion to this, and the difference for each BH becomes almost constant. However, when the ridge portion becomes sharply thin and high in the middle, or when the ridge portion has a thin and steep burr as shown in FIG. 3A, the difference between BHs changes. Therefore, by setting the difference for each BH to a predetermined value in the manufactured glass substrate, it is possible to make the texture uniform and prevent the occurrence of burrs.
  • the difference between 8 ⁇ [(00 1) when the 8 shaku is 0.01% and BH (04) when BR is 0.4% (BH (00 1) -1 BH ( 04)) is preferably from 0.1 to 1.0 nm, more preferably from 0.2 to 0.7 nm. If BH (00 1) -BH (04) is less than 0.01 nm, a ridge will be formed on the ridge. When BH (0 0 1) -BH (04) exceeds 1.0 nm, as shown in Fig. 3A, a thin and steep paris 13a is formed on the ridge.
  • the above range was obtained from the bird's-eye view of the AFM as a result of the present inventors first finding that Paris occurs within the range of BH (00 1) to BH (04). In other words, if you look at the bird's-eye view of AFM, The burr was found in the thin steep part, and it was found that the burr was in the range of BH (001) to BH (04). By setting BH (001) -BH (04) to 0.01 to 1.0 nm, glue formation can be prevented.
  • the difference between BH (04) and BH (1) when BR is 1.0% (BH (04) -BH (1 )) Is preferably from 0.15 to 0.2 nm, more preferably from 0.17 to 0.20 ⁇ m. If BH (04)-BH (1) is less than 0.15 nm, the ridge will have a high peak. BH (04) If BH (1) exceeds 0.2, the peak of ridge 15 will be formed with a low dent.
  • BH (1) The difference between BH (1) and BH (1 5) when BR is 15.0% (BH (1) -BH (1 5)) is the value of BH (04) _BH (1) It is preferably equal to or less than. This is because a texture that is preferable is a shape that increases with a substantially constant gradient in the range from BH (15) to BH (04). If the gradient rises sharply in this area, it will result in a texture with a low ridge height, and if the gradient declines sharply, there will be a gradient peak above this range, that is, the presence of burrs and peaks This indicates the presence of a protruding ridge.
  • the glass substrate 11 uses a cross hatch method when forming a texture on a glass plate by a mechanical texture forming method.
  • this cross-hatch method the abrasive grains on the main surface of the glass plate draw a trajectory that extends in one stroke while intersecting at least three points from the start point to the end point of one cycle. For this reason, it is possible to prevent adverse effects such as the same portion of the glass plate being cut off or the presence of a large uncut portion, and the NRa of the main surface is 0.2 nm or less and 13 is 0.3 mm. Glass substrates of 5 nm or less can be manufactured. Therefore, an uneven texture can be formed without lowering the smoothness of the main surface.
  • the rotation speed R of the glass plate and the oscillation frequency of the roller swing are asynchronous.
  • abrasive grains are formed on the main surface of the glass plate
  • intersections of the trajectories of the abrasive grains are preferably five or more.
  • the number of ridges By setting the number of ridges to 5 or more, the top of the ridge constituting the texture can be positively shaved, and the shape of the ridgeline can be corrected better.
  • the swing frequency is higher than 4 Hz, 20 Hz or less, the rotational speed is 240 to 540 min 1 , and the swing stroke is 0.5 to 2 mm.
  • BH (00 1) -BH (04) is set to ⁇ 0.01 to 1. O nm. Therefore, it is possible to prevent the formation of a paris on the ridgeline of the ridge.
  • the glass substrate 11 of the second embodiment has the same configuration as the glass substrate 11 of the first embodiment except for the size such as the outer diameter.
  • a disk 13 having a circular hole 12 is formed, and a texture 13 is formed on the main surface thereof.
  • the outer diameter of the glass substrate 11 of the second embodiment is smaller than that of the glass substrate 11 of the first embodiment.
  • a substrate having an outer diameter of more than 48 mm, such as 65 mm (2.5 in) or 95 mm (3.5 in) is a large-diameter substrate.
  • Substrate 11 corresponds to this large-diameter substrate.
  • a glass substrate having an outer diameter of 48 mm (1.8 in) or less is a small-diameter substrate, and the glass substrate 11 of the second embodiment corresponds to a small-diameter substrate.
  • the glass substrate is manufactured through a disk processing step, an end chamfering step, a lapping step, a polishing step, a cleaning processing step, and a texture processing step.
  • the steps from the disk processing step to the washing step are the same as those mentioned above.
  • the texture is machined using the aforementioned texture machine. Perform the satch method. That is, as shown in FIG. 2A and FIG. 2B, the glass plate 11a is rotated with respect to the roller 31 in the diametrical direction at a predetermined rocking frequency and a rocking stroke, and is rotated.
  • the texture is formed by bringing the tape member 33 into sliding contact with the main surface.
  • the trajectory drawn by the periodically moving abrasive grains in one cycle on the main surface of the glass plate 11a has a shape extending in one stroke while intersecting each other at at least three places from the start point to the end point of one cycle.
  • the tracks intersect each other at at least 16 points from the start point to the end point of one cycle. This is because if the trajectories intersect at least 16 points, the texture by the cross-hatch method can be reliably obtained while maintaining the main surface quality with a small-diameter substrate.
  • the moving distance of the abrasive grains on the main surface of the glass plate having a circular shape in plan view becomes longer as it is located on the outer diameter side, and it is located on the inner diameter side, as described above. Tend to be shorter.
  • the moving speed of the abrasive grains tends to be higher on the outer diameter side of the glass plate and slower on the inner diameter side. These tendencies are particularly pronounced on small-diameter substrates compared to large-diameter substrates. And one abrasive cannot always draw a locus for one cycle on the main surface of the glass plate.
  • the travel distance of the abrasive grains is short, especially at the inner diameter side of the main surface, and the traveling speed is slow, so the length of the trajectory drawn by the abrasive grains is significantly shortened, and most of the abrasive grains follow each other's trajectory. Before they cross sufficiently, they come off the main surface of the glass plate. If the trajectories of the abrasive grains do not intersect sufficiently, problems such as unevenness in the shape of the ridge will occur with a high probability. Therefore, when performing the cross-hatch method for small-diameter substrates, it is necessary to ensure that the trajectories of the abrasive grains intersect with the shortest possible length.
  • the intersection angle between the trajectories is preferably more than 0 ° and 13 ° or less, and more preferably more than 0 ° and 9 ° or less.
  • the intersection angle is 0 °, the trajectories of the abrasive grains do not intersect or a groove is formed at the same location.
  • the crossing angle exceeds 13 °, it is difficult to obtain the length of the trajectory required for crossing with a small-diameter substrate, Abrasive grains come off the main surface of the glass plate before crossing the trajectories.
  • the trajectories drawn before most of the abrasive grains come off the main surface of the glass plate have a length long enough to allow them to intersect each other.
  • the intersection angle was not a problem, and the number of intersection points of the trajectory was an important factor.
  • the trajectories may not even intersect, so not only the number of intersections of the trajectories but also the intersection angle are important factors.
  • the main surface of the glass plate is not slid in contact with the tape member 33 to prevent the roller 31 from contacting the spindle when swinging.
  • the proportion occupied by the portion with respect to the entire main surface of the glass plate 11a is very small for a large-diameter substrate, but is large for a small-diameter substrate. For this reason, it is necessary to reduce as much as possible the area of the portion where the tape member 33 does not slide.
  • the cross hatching method for a small-diameter substrate sets processing conditions such as a swing frequency, a swing stroke, and a rotation speed.
  • the oscillation frequency and the rotation speed of the glass plate 11a with respect to the roller 31 be asynchronous. This is because, when the oscillation frequency F and the rotation speed R are synchronized, the locus drawn by the abrasive grains 34 on the main surface of the glass plate 11a becomes circular or elliptical as described above. In this case, there is a possibility that the shape of the texture is biased macroscopically and microscopically, and the difference in the level of the minute undulations becomes large, thereby deteriorating the surface quality.
  • the cross-hatch method for a small-diameter substrate it is preferable to lower the oscillation frequency in comparison with the cross-hatch method for a large-diameter substrate in order to increase the time required for the glass plate to return from the start point to the end point of the oscillation.
  • the trajectories of the abrasive grains 34 are long and easily intersect with each other, so this is not particularly a problem.Rather, since the area is large, the texture can be uniformly formed over the entire main surface. This became a problem, and the driving frequency was increased to shorten the time required for the glass plate to return from the start point to the end point of the swing.
  • the small-diameter substrate has a small area, so that it is easy to form a texture uniformly on the entire main surface, but the trajectories of the abrasive grains 34 are short, and it is difficult for the trajectories to cross each other. For this reason, By lowering the operating frequency and increasing the time for the glass plate to return from the starting point to the end point of the swing, the time required for the tape member 33 to slide on the main surface of the glass plate at the same position is reduced. The length of the trajectory drawn by one abrasive grain is lengthened.
  • the oscillation frequency is preferably higher than OHz, 4 Hz or less, and more preferably 0.5 to 2 Hz.
  • the swing frequency exceeds 4 Hz, the time for sliding the tape member 33 on the main surface of the glass plate, particularly on the inner diameter side, becomes insufficient. In this case, the trajectories of the abrasive grains do not have a sufficient length to intersect, and the texture is unevenly formed, the minute waviness increases, and the surface quality may be degraded.
  • the swing frequency is set to 0 Hz, the glass plate 11a does not swing with respect to the roller 31, so that the trajectory of the abrasive cannot be crossed.
  • the swing stroke is preferably smaller than that of a large-diameter substrate. This is because the outer diameter of the small-diameter substrate is smaller than the outer diameter of the large-diameter substrate.
  • the driving stroke is preferably 0.5 to 1 mm. If the swing stroke is less than 0.5 mm, the distance between the trajectories of the abrasive grains becomes unnecessarily close, forming a single thick groove consisting of multiple grooves. There is a possibility that a texture of a shape is formed. If the swing stroke exceeds 1 mm, the time required for the glass plate to return from the start point to the end point of the swing becomes longer, so that the tape part 33 on the inner diameter side may temporarily become longer for the tape member 3 not to slide. There is a possibility that the surface quality may be degraded.
  • the rotation speed be higher than that of a large-diameter substrate. This is to lengthen the trajectory drawn per unit time by the abrasive grains.
  • the rotation speed is preferably 300 to 540 min- 1 (300 to 540 rpm). If the rotational speed is less than 3 0 Om in one 1, more to the movement distance of the abrasive grains in a single swing is short, the trajectory is short, it may become impossible to cross the trajectory together. Also, if the rotation speed exceeds 54 Omin- 1 , the width or length of the formed ridge may be extremely short, and it may exhibit its function as a texture. It may not be possible.
  • a diamond slurry obtained by dispersing diamond abrasive grains in a solvent such as water is mainly used.
  • the grain size of the abrasive grains is preferably smaller than that of a large-diameter substrate. This is because by reducing the particle size of the abrasive grains, the force of the pair of rollers 31 pressing the abrasive grains against the main surface of the glass plate is increased, so that the grooves are clearly formed.
  • the grain size of the abrasive grains is preferably from 0.085 to 0.155 ⁇ m in average grain size (D 50 ). D 5.
  • the width of the formed ridge may become extremely long, and the function as a texture may not be exhibited. 0 5 .
  • F If it exceeds 0.15 / m, the abrasive grains may not be sufficiently pressed against the main surface of the glass plate, and it may not be possible to form a texture having a good shape.
  • the duro hardness of the roller 31, defined in IS07627-2, is preferably 40 to 90. If the duro density is less than 40, there will be problems such as insufficient force to press the abrasive grains on the main surface of the glass plate, and misalignment of the abrasive grains with respect to the glass plate. May not be able to be formed. If the duro hardness exceeds 90, the contact width of the roller 31 with the glass plate becomes short, and the trajectory drawn by the abrasive grains is further shortened, so that the trajectories may not be able to cross each other. Further, there is a possibility that the force of the roller 31 acts locally to break the glass plate.
  • the force by which the pair of rollers 31 presses the abrasive grains against the main surface of the glass plate is weaker than that of the large-diameter substrate. This is to suppress cracking of the glass sheet due to the pressing force. However, if the pressing force is excessively weakened, the valleys may not be clearly and reliably formed on the main surface of the glass plate. For this reason, the force with which the pair of rollers 31 presses the abrasive grains on the main surface of the glass plate is preferably 13.3 to 26.7 N (3.0 to 6.0 lbs).
  • the pressing force is less than 13.3 N (3 O lbs)
  • the contact width of the roller 31 does not increase, or the abrasive particles 34 are not pressed sufficiently against the glass plate and the ridge is raised sufficiently. Therefore, there is a possibility that it cannot be formed.
  • the pressing force exceeds 26.7N (6. O lbs)
  • the glass plate sandwiched between the pair of rollers 31 will break or rotate the glass plate In such a case, there is a possibility that problems such as resistance may occur.
  • the glass substrate which is a small-diameter substrate formed by texture processing, has a fine waviness height (NRa) of 0.2 nm or less on its main surface and a surface roughness (Ra). 0.5 nm or less.
  • the undulation height (Wa) of the main surface is preferably 0.5 nm or less.
  • BH (001) -BH (04) is preferably from 0.01 to 1. O nm, more preferably from 0.2 to 0.7 nm.
  • BH (04) -BH (1) is preferably 0.15 to 0.2 nm, more preferably 0.17 to 0.2 O nm.
  • BH (1) — BH (1 5)) is preferably equal to or less than the value of BH (04) -BH (1). According to the second embodiment, the following advantages can be obtained.
  • the trajectories of the abrasive grains drawn on the main surface of the glass plate cross each other by forming the texture on the glass plate by the cross hatch method. For this reason, it is possible to prevent adverse effects such as the same portion of the glass plate being scraped or the presence of a large uncut portion, and the NR a of the main surface is 0.2 nm or less and Ra is 0.5 nm or less. It is possible to manufacture glass substrates of nm or less. Therefore, an uneven texture can be formed without lowering the smoothness of the main surface.
  • the glass substrate of the second embodiment is a small-diameter substrate having an outer diameter of 48 mm or less.
  • the small diameter substrate has a problem that the length of the trajectory of the abrasive grains is shorter than that of the large diameter substrate, and it is difficult for the trajectories to cross each other. For this reason, it is considered that it is preferable that the intersection of the trajectories be 16 or more in a small-diameter substrate. In other words, by increasing the number of intersections as compared with the large-diameter substrate, the trajectories can be surely crossed.
  • the intersection angle between the trajectories is more than 0 ° and 13 ° or less. This is because by setting the intersection angle to be small, the trajectories approach each other, and even if the trajectories are short, they surely intersect. Therefore, make sure that the trajectories cross each other. It is possible to form a uniform texture without deteriorating the smoothness of the main surface.
  • ranges are set so that the swing frequency is low, the swing stroke is short, and the rotation speed is high, for a small-diameter substrate having a smaller outer diameter than a large-diameter substrate. ing. Therefore, even in the cross-hatch method for a small-diameter substrate, the trajectories can surely intersect with each other, and an uneven texture can be formed without lowering the smoothness of the main surface.
  • a texture was formed on the main surface of a glass plate made of aluminosilicate glass obtained by the float method according to a mechanical texture forming method using a texture machine as shown in FIG.
  • the composition of the glass plate S I_ ⁇ 2 6 3 mo 1%, A 1 2 O 3 is 1 6 mo 1%, N a 2 O is 1 1 mo 1%, L i 2 O is 4 mo 1%, MgO was 2 mo 1% and CaO 4 mo 1%.
  • the glass plate had a thickness of 0.65 mm, an outer diameter of 65 mm, and an inner diameter of 2 Omm.
  • Example 1 In the mechanical texture forming method, an abrasive containing diamond abrasive grains having an average particle diameter of 0.2 m was used. Then, the glass substrates of Example 1 and Comparative Example 1 were obtained under the processing conditions shown in Table 1. At this time, the trajectory of the abrasive grains in Example 1 had a shape as shown in FIG. 4B, and the number of intersections between the trajectories was 99. On the other hand, in Comparative Example 1, the trajectory of the abrasive grains had a shape as shown in FIG. 5A, and the number of intersections between the trajectories was 0.
  • Example 1 and Comparative Example 1 the swing stroke, the material of the tape member, the hardness of the rollers, the load applied between the pair of rollers, and the like were all the same.
  • NR a before texture formation and NR a after texture formation, and BR and BA were measured. The results are shown in Table 1 and the graph of FIG. table 1
  • Comparative Example 1 had a high BH as a whole, and in particular, BH varied between 0.4 and 0.1% of BR. This indicates that the height of the ridge varies within the measurement area.
  • the line of the graph was substantially linear so that BH was proportional to BR. This indicates that the texture (ridge height) is even and no burrs are formed.
  • Example 1 in which the trajectories of the abrasive grains intersected was able to maintain NR a better even after texture formation, as compared with Comparative Example 1 in which the trajectories were not intersected.
  • Example 1 in which the trajectories of the abrasive grains intersected was able to maintain NR a better even after texture formation, as compared with Comparative Example 1 in which the trajectories were not intersected.
  • the textures to be formed had no ridges with uniform ridge heights.
  • Example 2 the glass substrates of Examples 2 to 5 and Comparative Examples 2 to 9 were manufactured under the processing conditions shown in Table 2.
  • the trajectory of the abrasive grains had a shape as shown in FIG. 4B, and the number of intersections between the trajectories was 99.
  • the trajectory of the abrasive grains had a shape as shown in FIG. 5A, and the number of intersections was 0.
  • the trajectory of the abrasive grains was shaped as shown in FIG. 6B, and the number of intersections was two. Table 2
  • the glass substrates of Comparative Examples 2 to 5 each have a large difference in BH.
  • the line drawn by the graph was greatly deviated from the straight line, indicating that there was a large variation in the shape of the texture. This is because, as described above, the one that draws a trajectory with the number of intersections is 0 because the surface state of the glass substrate deteriorates if the abrasive grains move so as to cut the same location many times. Seem.
  • Comparative Example 2 showed good results, it was also shown that if the abrasive grains were moved so as to correct the defects, the surface condition would be good.
  • the glass substrates of Comparative Examples 6 to 9 each have a large BH. Since there is a gap and the lines drawn in the graph are greatly disturbed, it is shown that the shape of the texture also varies greatly. This is due to the fact that, as described above, the trajectory with the number of intersections of 2 is due to the fact that the abrasive grains move so as to grind the same spot many times at the intersections, which worsens the surface condition of the glass substrate. Seem . In particular, it was shown that in Comparative Example 9, the surface condition was significantly deteriorated.
  • the glass plate may be subjected to a chemical strengthening treatment in a step before the texturing step.
  • This chemical strengthening treatment means that monovalent metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the composition of the glass substrate are compared with monovalent metal ions such as sodium ions and force ions that have a larger ion radius. It refers to ion exchange.
  • compressive stress is applied to the main surface of the glass substrate to chemically strengthen it.
  • This chemical strengthening treatment is performed by immersing the glass substrate in a chemical strengthening treatment liquid in which the chemical strengthening salt is heated and melted for a predetermined time.
  • the temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably about 50 to 150 ° C. lower than the strain point of the material used for the glass substrate, and more preferably, the temperature of the chemical strengthening treatment liquid is 300 ° C. About 450 ° C. If the temperature is less than about 150 ° C lower than the strain point of the glass substrate material, the glass substrate cannot be sufficiently chemically strengthened. On the other hand, if the temperature exceeds about 50 ° C lower than the strain point of the material of the glass substrate, distortion may occur in the glass substrate when the glass substrate is subjected to the chemical treatment.
  • the roller 31 is swung, but the present invention is not limited to this, and the glass plate 11a may be swung. That is, in this case, the glass plate 11a swings in the diameter direction with respect to the roller 31 while rotating.

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Description

明細書
情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 技術分野
本発明は、 テクスチャ一の形成された主表面を有するガラス基板の製造方法に 関し、 特に、 ハードディスク ドライブ等の情報記録装置に設けられる、 磁気ディ スク、 光磁気ディスク、 光ディスク等の情報記録媒体用のガラス基板の製造方法 に関する。 背景技術
一般に磁気ディスクは、 円盤状をなすガラス基板の主表面に磁性膜及び保護膜 を積層することによって製造される。 高密度で大容量のデータを磁気ディスクに 記録するため、 ガラス基板の主表面は平滑に研磨される。 しかし、 平滑に研磨さ れた磁気ディスクの主表面には、 情報を磁気ディスクから読み取る及ぴ磁気ディ スクに書き込むための磁気ヘッドが吸着しやすくなる。 そこで、 磁気ヘッドの吸 着の低減を目的として、 ガラス基板の表面に同心円状に延びる複数のライン状の 微細な突起を含むテクスチャーを形成する機械式テクスチャー加工法が特開 2 0 0 1— 1 0 1 6 5 6号公報に提案されている。 ライン状の微細な突起同士が 0 . 1〜4 5 ° の範囲の交差角で交差するようにテクスチャーを形成することにより 、 磁気ディスクの円周方向に磁気異方性を付与する方法が特開 2 0 0 1— 2 0 9 9 2 7号公報に提案されている。 '
ところが、 従来の方法でテクスチャーを形成したガラス基板には、 研磨加工を 施したにも係わらず、 高い確率で表面の平滑性が低下してしまうという問題があ つた。 表面の平滑性を示す基準のうち、 三次元表面構造解析顕微鏡を用い 0 . 2 〜1 . 4 mmの波長の光で測定される微小うねりが高くなる傾向があった。 この原因として、 ライン状の微小突起同士を所定の角度で交差させるための加 ェ条件は一義的に定められるものではないことが挙げられる。 すなわち、 所定の 交差角を得るための加工条件が幾つも存在するため、 ある加工条件では、 所定の 交差角と表面の平滑性が得られる一方、 他の加工条件では、 所定の交差角は得ら れるが、 表面の平滑性は低下することがある。 これは、 交差角が同じであっても 、 テクスチャーの一部では深い溝が形成され、 他の一部では浅い溝が形成されて テクスチャーが不均一になり、 ガラス基板の平滑性が低下するからであると考え られる。 ' 発明の開示
本発明の目的は、 均一なテクスチャーと高い平滑性とを有する情報記録媒体用 ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、 本発明の一態様は、 円盤状をなすガラス板の主 表面に砥粒を含む研磨剤を供給しつつ、 前記主表面を研磨部材で摺接することに より、 前記主表面にテクスチャーを形成する工程を含む情報記録媒体用ガラス基 板の製造方法において、 砥粒が前記ガラス板の主表面上の少なく とも 3箇所で交 差する一筆書きの軌跡を周期的に描くように、 前記ガラス板を回転させながら、 前記研磨部材及ぴ前記ガラス板のいずれか一方を他方に対して前記ガラス板の径 方向へ揺動させることを特徴とする。
前記揺動の周波数 F (H z) と前記ガラス板の回転速度 R (m i n-1) は、 前記回転速度 が （F X 60) ± 5の範囲外になるように決められていることが 好ましい。
一実施形態では、 前記一筆書きの軌跡はその途中に少なくとも 5箇所の交点を 有する。
一実施形態では、 摇動の周波数は 0 H zより高く、 2 0H z以下である。 一実施形態では、 前記回転速度は 240〜540m i n— 1である。
一実施形態では、 揺動のストロークは 0. 5〜 2mmである。
研磨部材は I S076 2 7— 2に規定される d u r 。硬度が 40〜9 0である 弾性材料製のローラであることが好ましい。
一実施形態では、 前記テクスチャーを形成する工程後、 J I S K 7 1 1 3に 規定される 1 0 0 %モジュラスが 2. 9〜3 9. 2MP aであるスクラブ材で前 記ガラス板の主表面を擦る工程が更に行なわれる。
前記ガラス板の外径が 48 mm以下の場合、 前記揺動の周波数は 0 H zより高 く、 4H z以下であり、 前記外径が 4 8 mmを超える場合、 前記揺動の周波数は 4H zより高く、 2 OH z以下であることが好ましい。
本発明の他の態様は、 主表面と中心円孔とを有する円盤状のガラス板を用意す る工程と、 各々が前記中心円孔の周りの少なくとも 3箇所で交差する閉じた曲線 に沿って延びる複数の溝を含むテクスチャーを、 前記主表面に形成する工程とを 備える情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を開示する。
一実施形態では、 前記テクスチャーを形成する工程が、 前記ガラス板の主表面 に砥粒を含む研磨剤を供給することと、 研磨部材を前記ガラ^板の主表面に押し 付けることと、 前記ガラス板と前記研磨部材のいずれか一つを当該ガラス板の径 方向に周期的に揺動させることと、 前記ガラス板を一定の速度で回転させる工程 とを同時に行なうことを含む。
揺動のストロークは 0. 5〜 2 mmであり、 前記揺動の周波数 F (H z) と前 記ガラス板の回転速度 R (m i n"1) は、 前記回転速度尺が （F X 6 0) ± 5 の範囲外になるように決められていることが好ましい。
前記揺動の周波数は前記ガラス板の外径寸法に応じて変更されることが好まし い。
本発明の他の態様は、 テクスチャの形成された主表面を有する情報記録媒体用 ガラス基板を開示する。 原子間力顕微鏡を用いて測定される、 ガラス基板の主表 面の算術平均粗さ R aが 0. 5 nm以下であり、 0. 2〜 1. 4 mmの測定波長 の光を用いた三次元主表面構造解析顕微鏡により測定される、 前記主表面の微小 うねりの高さ NR aが 0. 2 nm以下である。
ガラス基板のテクスチャは複数の突起を含むものであり、 前記主表面において 所定の基準面積を有する一領域内において、 前記複数の突起の断面積の合計値が 前記基準面積に対して 50 %となるように前記複数の突起を横切る、 仮想の基準 面を設定した場合、 前記複数の突起の断面積の合計値が前記基準面積に対して 0 . 4 %となるように前記複数の突起を横切る、 前記主表面と平行な第 1の仮想面 は、 前記仮想の基準面から第 1の距離だけ離間しており、 複数の突起の断面積の 合計値が前記基準面積に対して 0. 0 1 %となるように前記複数の突起を横切る 、 前記主表面と平行な第 2の仮想面が、 前記仮想の基準面から第 2の距離だけ離 間しており、 前記第 1の距離と第 2の距離との差が 0. 0 1〜1. O nmである 本発明の他の態様は、 中心円孔と主表面とを有する円盤状の情報記録媒体用ガ ラス基板において、 前記主表面に、 各々が前記中心円孔の周りの少なくとも 3箇 所で交差する閉じた曲線に沿って延びる複数の溝を含むテクスチャーが形成され ていることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板に関する。 図面の簡単な説明
図 1は本発明の情報記録媒体用ガラス基板の正面図。
図 2 Aはテクスチャーマシンの概略側面図。
図 2 Bはテクスチャーマシンの概略正面図。
図 3 Aはテクスチャーの概略的拡大図。
図 3 Bは図 3 Aの 3 B— 3 B線に沿った断面図。
図 3 Cは図 3 Aの 3 C— 3 C線に沿った断面図。
図 4 A及ぴ図 4 Bはガラス板の回転と揺動が非同期しているときに、 一つの砥 粒によってガラス板の表面に形成される溝描く軌跡。
図 5 A、 図 5 B、 図 6 A及ぴ図 6 Bはガラス板の回転と揺動が同期していると きに、 砥粒がガラス板の表面に描く軌跡。
図 7 A及ぴ図 7 Bはガラス板の表面に押圧されたテクスチャーマシンのローラ の拡大図。
図 8〜図 1 1は本発明の実施例と比較例のガラス基板について、 ベアリングレ シォ （B R ) とべアリングハイ ト （B H ) の関連を示すグラフ。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の第 1実施形態について説明する。
図 1に示すように、 情報記録媒体用ガラス基板 1 1は、 中心に円孔 1 2を有し 、 その主表面にテクスチャー 1 3の形成された円盤である。 ガラス基板 1 1は、 フロート法、 ダウンドロー法、 リ ドロー法又はプレス法で製造されたソーダライ ムガラス、 アルミノシリケートガラス、 ポロシリケートガラス、 結晶化ガラス等 の多成分系のガラス材料製である。 ガラス基板 1 1は、 シート状のガラス材料か ら円盤状のガラス板を切り出し、 そのガラス板を研磨し、 その表面にテクスチャ 一加工を施すことにより製造される。
テクスチャー 1 3は、 複数の尾根部 （凸部） と、 複数の谷部とから構成される 。 尾根部及ぴ谷部はガラス基板 1 1の周方向へ断続的に延びるラインをなしてい る。 テクスチャー 1 3を有するガラス基板 1 1の主表面に、 例えばコバルト （C 0 ) 、 クロム （0 ]：) 、 鉄 （ 6 ) 等の金属又は合金よりなる磁性膜、 保護膜等 を形成することによって磁気ディスク、 光磁気ディスク、 光ディスク等の情報記 録媒体が得られる。 テクスチャー 1 3を形成することによって、 ガラス基板 1 1 から製造された情報記録媒体の記録面とヘッドとの接触面積が低減される。
次に、 ガラス基板 1 1の製造方法について説明する。
ガラス基板 1 1は、 円盤加工工程、 端面面取り工程、 ラップ工程、 研磨工程、 洗浄処理工程及びテクスチャー加工工程を経て製造される。
円盤加工工程においては、 超硬合金又はダイヤモンド製の力ッターを用いるこ とにより、 四角形のガラス材料から円盤状のガラス板が切り抜かれる。 端面面取 り工程においては、 ガラス板の外周端面及ぴ内周端面が研削され、 外径寸法及ぴ 内径寸法が所定長さとされるとともに、 外周端面及び内周端面の角部が面取りさ れる。 ラップ工程においては、 研磨装置を用いてラップ処理が施されることによ り、 ガラス板の反りが修正される。 研磨工程においては、 研磨装置を用いて複数 段階の研磨処理が施され、 ガラス板の主表面が平滑面とされる。 洗浄処理工程に おいては、 研磨処理後のガラス板を洗浄液で洗浄することにより、 ガラス板の主 表面に付着した研磨斉 lj、 研磨粉、 塵埃等の付着物が除去される。
テクスチャー加工工程においては、 研磨工程でその主表面を平滑とされたガラ ス板に対し、 テクスチャーマシンを用いて、 機械式テクスチャー形成法に従い、 ガラス板の主表面にテクスチャーが形成される。 このようにして、 ガラス基板 1 1が製造される。
テクスチャーマシンについて説明する。
図 2 A， 図 2 Bに示すように、 テクスチャーマシン内において、 ガラス板 1 1 aは図示しないスピンドルにより回転可能に支持されている。 ガラス板 1 1 aは 、 互いに対向するように設けられた一対のローラ 3 1間に配置される。 各ローラ 3 1は、 ガラス板 1 1 aの半径方向に延びる回転軸 3 2によって回転可能に支持 される。 両ローラ 3 1はガラス板 1 1 aに対して接近及び離間可能である。
ガラス板 1 1 aの主表面と、 対応するローラ 3 1との間には、 研磨部材として のテープ部材 3 3が移動可能に配置される。 テープ部材 3 3は、 ガラス板 1 1 a の主表面と各ローラ 3 1 との間において、 その一端側 （図 2 Aの上側） から他端 側 （図 2 Aの下側） へと移動される。 テープ部材 3 3とガラス板 1 1 aの主表面 との間には、 図示しない供給部から研磨剤が供給され、 この研磨剤に含まれる砥 粒がテープ部材 3 3に付着する。 ガラス板 1 1 aを一定の回転速度で回転させな がら、 ガラス板 1 1 aの主表面に一対のローラ 3 1を接近させることにより、 テ 一プ部材 3 3はガラス板 1 1 aの主表面を摺接する。 このテープ部材 3 3の摺接 により、 砥粒がガラス板 1 1 aの主表面に押し付けられ、 同主表面を削ることに より、 複数のライン状の微細な溝すなわちテクスチャーの谷部が形成される。 ま た、 これら谷部の間にテクスチャーの尾根部が画定される。
研磨剤に含まれる砥粒は、 その粒径に若干の差異を有している。 このため、 一 つ一つの砥粒が形成する谷部の深さ及び幅に差異が生じ、 尾根部の形状が不均一 となってしまう。 例えば、 谷部が深く、 幅広に形成された箇所では、 谷部の間の 部分が大きく削られることから、 尾根部は低く、 細くなる。 これとは逆に、 谷部 が浅く、 幅狭に形成された箇所では、 谷部の間の部分が小さく削られることから 、 尾根部は高く、 太く形成される。 そして、 低く細い尾根部に高く太い尾根部が 連なったり等して該尾根部の頂上を繋ぐ線 （稜線） が波状をなすように歪み、 こ の歪みが主表面の微小うねりに影響を与えることとなる。
従来のガラス基板の製造方法では、 回転されるガラス板に研磨部材を押し付け るだけであり、 ガラス板も研磨部材も摇動されない。 従って、 テクスチャーの尾 根部と谷部が同心円状に形成される。 ガラス板に押し付けられる一つの砥粒がガ ラス板の主表面上に描く軌跡は、 図 5 Aに示すように、 ガラス板の周方向へ延び る円形である。 この場合、 複数の軌跡が互いに交差することはない。 つまり、 あ る場所で比較的高い尾根部が形成されたとしても、 他の砥粒の軌跡がこの尾根部 を削るように横切り、 該尾根部の高さを修正することはない。 また、 一旦、 谷部 が深く、 幅広に形成されると、 その谷部に砥粒が入り込みやすくなることから、 周期運動する砥粒によって主表面の同じ箇所ばかりが削られるという現象が発生 しゃすくなる。 特に、 円形の軌跡の場合、 一つの砥粒が他の砥粒の通った跡をな ぞりやすくなることから、 この現象が極めて高い確率で発生する。 その結果、 ガ ラス板の主表面全体を観点とする巨視的に見て、 同一のガラス板でありながら、 ある任意の箇所と他の箇所とで尾根部の高さ、 幅等の形状に偏りが生じやすくな る。 また、 個々の尾根部を観点とする微視的に見て、 連なる一つの尾根部であり ながら、 ある箇所では稜線が上下左右に大きく歪み、 他の箇所では稜線が平坦で ある等のように、 稜線の形状、 なかでも頂上の高さが不均一となりやすい。 特に 、 ガラス板 1 1 aの主表面で同じ箇所ばかりが深く削られた場合、 微視的に見て 尾根部の稜線上に大きな削り残しが存在することにより、 バリと呼ばれる異常突 起が形成されやすくなる。 そして、 巨視的及ぴ微視的に見て尾根部の形状に偏り が生じたり、 稜線の形状が不均一となったりすることで微小うねりの高低差が大 きくなり、 ガラス基板の表面品質が低下してしまう。
なお、 この明細書中で一周期とは、 ガラス板の主表面の任意の 1点 （始点） に 押し付けられた砥粒が、 その始点と同一位置 （終点） まで戻るまでの時間をいう 。 この明細書中で周期運動とは、 略同一の軌跡を略同一時間間隔毎に繰り返し描 く運動をいう。
そこで、 第 1実施形態では、 図 2 Bに示すように、 ガラス板 1 1 aが回転され るだけでなく、 ガラス板 1 1 aとローラ 3 1の一方が、 ガラス板 1 1 aの径方向 へ所定の周波数及ぴストロークで摇動される。 この状態で主表面にテープ部材 3 3が摺接される。 テープ部材 3 3上の一つの砥粒 3 4に着目すると、 図 2 B中の 鎖線の矢印で示すように、 砥粒 3 4はガラス板の主表面で、 ガラス板の径方向に 周期的に揺らされる。 従って、 砥粒 3 4との接触により、 回転するガラス板 1 1 aの主表面には周期的な波状の溝が掘られる。 （図 4 A'参照） 尚、 ガラス板 1 1 aに着目すれば、 一つの砥粒 3 4がガラス板 1 1 aの主表面上で周期運動するよ うに見える。 図 4 Aの例では、 周期運動する砥粒は、 ガラス板 1 1 aの主表面上 に、 3箇所で交差する一筆書きの閉じた曲線に沿って延びる溝を形成する。
図 5 Aの軌跡の一周期はガラス板 1 1 aの 1回転であるが、 図 4 Aの軌跡の一 周期はガラス板 1 1 aの 3回転である。 従って、 図 4 Aの軌跡の一周期の長さは 図 5 Aの円形軌跡のものに比べて長く、 巨視的に見て谷部がガラス板の主表面全 体に分散して形成される。 このため、 周期運動する砥粒により、 ガラス板の主表 面の同じ箇所ばかりが削られるという現象はほとんど発生しない。 また、 一つの 軌跡が一周期内で交差することから、 例えばある場所で尾根部が高く形成された とき、 砥粒がこの尾根部の頂上を積極的に削ることができ、 微視的に見て稜線の 形状を修正することが可能である。 特に、 パリを積極的に削り取ることが可能で あり、 このバリを除去するという観点からも、 一周期の軌跡の途中に交点を有す るように、 上記のような形状とすることは有効な方法である。
従って、 尾根部は、 微視的に見て稜線の形状又は頂上の高さがほぼ揃えられた 状態で、 巨視的に見てガラス板の主表面全体に略均一に分散して形成される。 こ の場合、 ガラス板の主表面において、 微小うねりの高低差は小さくなり、 表面品 質の低下が抑制される。 以下、 明細書中で周期運動する砥粒の軌跡を一周期内で 交差させる方法を、 「クロスハッチ法」 と記載する。
クロスハッチ法において、 ガラス板の主表面に砥粒が一周期で描く軌跡を上記 のような形状とするため、 その加工条件は以下のようにすることが好ましい。 ガラス板 1 1 aまたはローラ 3 1の揺動周波数と、 回転速度 （一分間あたりの 回転数） とは、 同期した状態ではなく、 非同期の状態とすることが好ましい。 こ こで、 揺動周波数と回転速度とが同期した状態とは、 揺動周波数を F (H z ) で 表したとき、 回転速度 R ( m i n - 1 ) 力 S ( F X 6 0 ) ± 5の範囲内にある状態 である。
例えば、 揺動周波数 Fが 4 H z、 回転速度 Rが 4 X 6 0すなわち 2 4 0 m i n — 1 ( 2 4 0 r p m) である場合、 一周期の軌跡の形状は、 図 5 Bに示すように 、 楕円形状となる。 これは、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとが完全に同期すること により、 一つの砥粒 3 4の揺動の始点及ぴ終点と、 一周期の軌跡の始点及ぴ終点 とがそれぞれ一致することによるものと考えられる。 つまり、 一周期内で 1回の 揺動が行われることにより、 このような形状となると考えられる。 この場合、 円 形状の軌跡と同様に、 巨視的及び微視的に見て尾根部の形状に偏りが生じたり、 稜線の形状が不均一となりやすく、 微小うねりの高低差が大きくなり、 ガラス基 板の表面品質が低下してしまうおそれがある。 揺動周波数 Fが 4H z、 回転速度 が （4 X 6 0) + 5すなわち 24 5 m i n — 1 ( 24 5 r p m) である場合、 一周期の軌跡の形状は、 図 6 Aに示すように 、 一周期の始点から終点まで交差しながら一筆書きで延びる形状ではあるが、 2 箇所で交差する形状となる。 このとき、 2箇所の交点以外の箇所では、 軌跡が內 方又は外方へ略同心状に位置ずれする。 これは、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとが 完全に同期する状態から若干のずれがあっても、 未だ揺動周波数 Fと回転速度 R とがほぼ同期する状態にあり、 その影響は摇動の-終点と一周期の軌跡の終点とを 極僅かに位置ずれさせることのみに止まることによるものと考えられる。 そして 、 軌跡の位置ずれは、 揺動の終点と一周期の軌跡の終点との位置ずれによって生. じるものと考えられる。
一つの軌跡がその途中の 2箇所で交差する場合、 2箇所の交点及びその近傍で は、 砥粒がぼぼ同じ箇所を何度も繰り返し通過することから、 ガラス板の主表面 が深く削られる。 これに対し、 それ以外の箇所では、 主表面が浅く削られる。 こ のため、 微視的及び巨視的に見て、 尾根部の形状に偏りが生じたり、 稜線の形状 が不均一となり、 ガラス基板が表面品質の低下したものとなる。 また、 回転速度 R力 S (4 X 6 0) 一 5すなわち 2 3 5 m i n—1 ( 2 3 5 r p m) である場合、 一周期の軌跡の形状は、 図 6 Bに示すような形状となる。 これは、 図 6 Aに示し た形状とほぼ同一であり、 前に述べた理由と同じく、 ガラス基板が表面品質の低 下したものとなる。
ところで、 図示はしないが、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとが完全に同期した状 態から、 例えば回転速度 Rを (F X 6 0) +4、 (F X 6 0) 一 3とする等のよ うに、 一 5〜0、 0〜十 5の範囲内でずらした場合、 一周期の軌跡の形状は、 図 6 A, 図 6 Bに示した形状とほぼ同じ形状となる。 なお、 軌跡の形状は、 2箇所 の交点以外の箇所で軌跡の間の距離が拡がるか、 あるいは狭まるかという点では 異なる。 しかし、 交点部分が 2箇所であるという点で違いはないため、 ガラス基 板が表面品質の低下したものとなる。
これらに対し、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとを非同期の状態としたとき、 例え ば揺動周波数 Fを 3 H zとし、 回転速度 Rを （3 X 6 0) + 6 0の 240m i n 一1 ( 24 0 r p m) とすれば、 一周期の軌跡の形状は、 図 4 Aに示したような 形状となる。 これは、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとを非同期の状態とすることに より、 一つの砥粒 3 4の揺動の終点と、 一周期の軌跡の終点とがー致しなくなる ことによるものと考えられる。 つまり、 一周期内で複数回の揺動が行われること により、 このような形状となると考えられる。 この場合、 巨視的及ぴ微視的に見 て、 尾根部の形状に偏りが生じにく く、 稜線の形状が不均一となりにくいため、 微小うねりの高低差が小さくなり、 ガラス基板は表面品質が維持されたものとな る。 さらに、 当該形状は、 尾根部の稜線上にバリが形成されにくいという利点も 有する。
また、 例えば摇動周波数 Fが 4 . 5 H z、 回転速度 が （4 . 5 X 6 0 ) 一 3 0すなわち 2 4 0 m i n _ 1 ( 2 4 0 r p m ) である場合、 一周期の軌跡の形状 は、 図 4 Bに示したような形状となる。 この場合には、 図 4 Aに示した形状と比 ベ、 一周期内における軌跡の交点が増加する。 このように交点を増加させる場合 、 尾根部の頂上をさらに積極的に削ることができる等のように、 微視的に見て稜 線の形状をより効果的に修正することが可能であり、 加えてバリの形成を抑制す ることが可能である。
本発明においては、 上記のように、 一周期内での軌跡の交点の個数が重要であ る。 これは、 交点の増加に伴い、 テクスチャーの尾根部分が広範囲にわたって削 られることにより、 削り残しの部分が低減し、 微視的には稜線の形状を揃え、 巨 視的にはガラス板の主表面全体をほぼ均一な厚さで削ることが可能となるためで ある。 一方、 図 6 A , 図 6 Bに示した形状について、 その軌跡同士の交差角は 4 〜9 ° であり、 図 4 Aに示した形状における軌跡同士の交差角が 7 °' 程度である ことから、 互いの交差角は、 略同一の範囲内にあるといえる。 しかし、 図 6 A , 図 6 Bに示した軌跡と、 図 4 Aに示した軌跡とでは、 その形状が大きく異なり、 図 6 A , 図 6 Bに示した形状では、 表面品質の低下を招くおそれがあるのに対し 、 図 4 Aに示した形状では、 表面品質は維持される。 このため、 従来例のように 軌跡同士の交差角を定めることは、 表面品質の維持という観点では重要な要因と なりえない。 従って、 微小うねりから見た表面品質の維持という観点では、 一周 期内での軌跡の交点の個数が重要な要因となる。
一周期内での軌跡の交点の個数は、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとを非同期の状 態とした上で、 これらをさらに細かく定めることにより、 増減させることが可能 である。 そして、 表面品質を維持するため、 一周期内での軌跡の交点は、 少なく とも 3箇所である。 交点が 3箇所未満の場合とは、 すなわち図 5 A， 図 5 B及ぴ 図 6 A , 図 6 Bに示したような形状の場合であり、 巨視的及び微視的に見て、 尾 根部の形状に偏りが生じたり、 稜線の形状が不均一となりやすい形状となる場合 をいう。 また、 表面品質を高めるためには、 一周期内での軌跡の交点を少なくと も 5箇所とすることが好ましい。 これは、 交点の増加に伴い、 テクスチャーの尾 根部分が広範囲にわたって削られることにより、 微視的には稜線の形状を揃え、 巨視的にはガラス板の主表面全体をほぼ均一な厚さで削ることが可能となるため である。
砥粒のガラス板の主表面上での移動距離を長く、 又はガラス板に対する移動速 度を速くするに従い、 砥粒が描く軌跡は長く延び、 その軌跡同士をより確実に交 差させることが可能となる。 しかし、 ガラス板は、 平面視で円形状をなしており 、 砥粒の移動距離は、 ガラス板の外径側に位置するものほど長くなり、 内径側に 位置するものほど短くなる。 また、 砥粒の移動速度は、 ガラス板の外径側に位置 するものほど速く、 内径側に位置するものほど遅くなる。
従って、 クロスハッチ法を行う場合、 ガラス板の内径側の部分を砥粒に十分な 時間接触させないと、 この内径側の部分で砥粒の軌跡同士が十分に交差せず、 表 面品質の低下を招くおそれがある。 特に、 図 2 Bに示したようなテクスチャーマ シンにおいては、 摇動時にガラス板 1 1 aの外径側の部分は常にテープ部材 3 3 が摺接された状態となるが、 内径側の部分は一時的にテープ部材 3 3が摺接され ない時間が存在する可能性がある。 このような内径側の部分が一時的にテープ部 材 3 3が摺接されない時間を短くする、 あるいは無くすためには、 摇動周波数及 び摇動ストロークをより細かく定めることが好ましい。
具体的に、 揺動周波数は、 好ましくは 4 H zより高く、 2 0 H z以下である。 摇動周波数が 4 H Z以下の場合、 ガラス板が揺動の始点から終点まで戻る時間が 長くなるため、 内径側の部分が一時的にテープ部材 3 3が摺接されない時間も長 くなる可能性があり、 巨視的に見て尾根部の形状に偏りが生じ、 表面品質の低下 を招くおそれがある。 また、 揺動周波数が 2 0 H zを超えると、 ガラス板の外径 側の部分にテープ部材 3 3が摺接される時間が不必要に長くなり、 その外径側の 部分が砥粒によって過剰に削られる可能性があり、 巨視的に見て却って尾根部の 形状に偏りが生じ、 表面品質の低下を招くおそれがある。
また、 揺動ス トロークは、 好ましくは 0. 5〜2mmである。 揺動ストローク が 0. 5 mm未満の場合、 砥粒の軌跡同士の距離が不必要に近くなり、 複数の溝 が集まった 1本の太い溝として形成されてしまう。 このように複数の溝が集まる 場合には、 ガラス板を揺動させているにも係わらず、 外観上では従来の同心円状 のテクスチャーが形成されてしまうおそれがある。 揺動ストロークが 2mmを超 えると、 ガラス板が揺動の始点から終点まで戻る時間が長くなるため、 内径側の 部分が一時的にテープ部材 3 3が摺接されない時間も長くなる可能性がある。 こ のような場合、 巨視的に見て尾根部の形状に偏りが生じ、 表面品質の低下を招く おそれ力 sある。
さらに、 回転速度は、 好ましくは 24 0〜 54 0m i n— 1 (24 0〜 54 0 r p m) である。 回転速度が 24 0 m i n 1未満の場合、 一回の揺動における 砥粒の移動距離が短くなることにより、 軌跡の交点を 3箇所以上とすることがで きなくなるおそれがある。 また、 回転速度が 54 0 m i n 1を超えると、 形成 された尾根部の幅又は長さが極端に短くなるおそれがあり、 テクスチャーとして の機能を発揮することができなくなるおそれがある。
テープ部材 3 3は、 例えば織物、 不織布、 植毛シート、 及ぴスゥヱードシート である。 このようなテープ部材 3 3は、 その表面に極微細な凹凸を有するため、 その極微細な凹凸に研磨剤の砥粒が保持されるため好ましい。 また、 テープ部材 3 3の材料として、 ポリウレタン、 ポリエチレン、 ポリプロピレン等の合成樹脂 、 綿等の天然繊維を使用することができる。 合成樹脂製の発泡体から形成された スウェードシートを使用することができる。
研磨剤としては、 ダイヤモンド製の砥粒を水等の分散媒.に分散させて得られる ダイヤモンドスラリーが主に使用される。 また、 砥粒の平均粒径 （D5。） は好 ましくは 0. 0 5〜0. 3 mであり、 より好ましくは 0. 0 8〜0. 2 5 ;z ;m である。 050が0. 0 5 m未満の場合、 ガラス板に対する研磨能力が低く、 一の形成速度が遅くなるため、 歩留まりの低下、 加工コストが高縢す るおそれがある。 一方、 D5。力 S O. 3 z mを超えると、 一つ一つの砥粒の粒径 のばらつきが顕著となり、 均一なテクスチャーを形成することが困難となるおそ れがある。
ローラ 3 1は、 I S 076 2 7— 2に規定される d u r o硬度が好ましくは 4 0〜9 0である、 合成ゴム、 天然ゴム、 エラストマ一等の弾性材料製である。 口 ーラ 3 1の硬度と砥粒の軌跡との関連について説明する。
図 7 A、 図 7 Bに示すように、 ガラス板 1 1 aへの押圧によってローラ 3 1は 弾性変形する。 図 7Aの場合、 1つの砥粒 34は、 テープ部材 3 3の移動に伴つ て接触幅 L 1と同じ距離だけ移動する期間だけガラス板 1 1 aと接触し、 この後 、 ガラス板 1 1 aの主表面から脱する。 すなわち、 1つの砥粒 34は、 ガラス板 1 1 aに接触している間に前に挙げたような一周期分の軌跡を描ききれるとは限 らず、 接触幅 L 1の長さに応じて半周期分、 1Z4周期分等の軌跡を描く。 表面品質の維持を達成するためには、 1つの砥粒 34をできる限り長くガラス 板 1 1 aの主表面に接触させ、 一周期内で軌跡をより多くの箇所で交差させるこ とが好ましい。 これは、 砥粒 34の接触が短くなるに従い、 一の砥粒と、 他の砥 粒とのガラス板 1 1 aの主表面に対する微妙な接触位置のずれにより、 形成され た谷部が僅かにずれることから、 軌跡同士が交差する可能性が低くなることによ る。 従って、 1つの砥粒 34をできる限り長くガラス板 1 1 aの主表面に接触さ せるためには、 ガラス板 1 1 aに対するローラ 3 1の接触幅が大きい必要がある 。 弾性変形の程度はローラ 3 1の d u r o硬度によって異なるので、 図 7 Bに示 すように、 比較的大きい接触幅 L 2が得られるように、 ローラ 3 1の d u r o硬 度が規定されている。
ロー 3 1の d u r o硬度が 40未満である場合、 ローラ 3 1が過剰に軟らか くなることにより、 砥粒 34をガラス板 1 1 aの主表面に押し付ける力が過不足 となり、 テクスチャーを十分な高さで形成するこ _とができなくなるおそれがある 。 また、 d u r o硬度が 90を超えるローラ 3 1を使用した場合、 接触幅を十分 に拡げることができなくなるおそれがある。
また、 一対のローラ 3 1がガラス板 1 1 aの主表面に砥粒 34を押し付ける力 は、 好ましくは 1 3. 4〜44. 5N (3. 0〜； L 0. O l b s ) である。 押し 付ける力が 1 3 . 4 N ( 3 . 0 l b s ) 未満の場合、 ローラ 3 1の接触幅が拡が らないか、 又は砥粒 3 4が十分にガラス板 1 1 aに押し付けられず、 テクスチャ 一を十分な高さで形成することができなくなるおそれがある。 押し付ける力が 4 4 . 5 N ( 1 0 . 0 1 b s ) を超えると、 一対のローラ 3 1の間に挟まれたガラ ス板 1 l aが割れたり、 ガラス板 1 1 aを回転させる際に、 却って抵抗となる等 の不具合を生じるおそれがある。
上記のクロスハッチ法によるテクスチャー加工工程の後には、 スクラブ工程を 施すことが好ましい。 クロスハッチ法によってテクスチャーを形成した場合、 大 半の尾根部は、 微視的に見て稜線の形状が揃ったものとなるが、 まれに、 バリが 形成されることがある。
ここで、 テクスチャーを形成する方法としては、 上記の機械式テクスチャ一形 成法の他に、 ケミカルテクスチャー形成法が存在する。 このケミカルテクスチャ 一形成法は、 フッ化水素酸等の酸性水溶液、 アル力リ性水溶液等のェツチング液 を使用し、 ガラス板の主表面をエッチングしてテクスチャーを形成する方法であ る。 ケミカルテクスチャー形成法においては、 ガラス板の主表面全体をエツチン グすることから、 パリが形成されにくいという利点を有する。 一方、 ケミカ レテ クスチヤ一形成法は、 一旦パリが形成されると、 そのパリの表面に化学的性質の 異なる層が形成されてしまう。 この層は、 パリの表面をコーティングし、 該バリ を保護するものとなる。 従って、 ケミカルテクスチャー形成法は、 パリを除去し にくいという欠点を有する。
これに対し、 機械式テクスチャー形成法は、 ガラス板の主表面を砥粒で削ると きに削り残しが発生しやすく、 ケミカルテクスチャー形成法に比べればバリが形 成されやすい方法と一般には言われている。 しかし、 このバリは、 その周囲が砥 粒で削られることによって形成されたものであり、 いわば削り残しである。 この ことから、 機械式テクスチャー形成法で形成され.たバリの表面にはひびが存在し ている。 従って、 機械式テクスチャー形成法によって生じたバリは、 物理的手段 により、 その基部から折り取ることが十分に可能であり、 ケミカルテクスチャー 形成法によって生じたバリに比べ除去しやすい。
そこで、 本実施形態においては、 スクラブ工程において、 ガラス板の主表面に 洗浄液をシャワーしつつ、 同主表面をスクラブ材で擦ることにより、 ガラス板の 主表面に残留する砥粒、 ガラス粉等の異物を除去するとともに、 パリと呼ばれる 異常突起を取り除く。
スクラブ材には、 合成樹脂製の発泡体よりなるスポンジ、 スウェード材等が使 用される。 このスクラブ材には、 J I S K 7 1 1 3に規定される 1 00 %モジ ュラスが、 好ましくは 2. 9〜 3 9. 2ΜΡ a (3 0〜 4 0 0 k g f /c m2) のものが使用される。 また、 S R I S O 1 0 1に規定されるァスカー C硬度が、 好ましくは 40以上のスクラブ材が使用される。 1 00 %モジュラスが 2. 9M P a (3 0 k g f / c m2) 未満、 又はァスカー C硬度が 4 0未満のスクラブ材 を使用した場合、 パリの強度にスクラブ材が負け、 このパリを十分に取り除くこ とができないおそれがある。 また、 1 00 %モジュラスが 3 9. 2MP a (40 O k g f / c m2) を超える過剰に硬いスクラブ材の場合、 形成されたテクスチ ヤーまで削り取ってしまう可能性がある。
また、 洗浄液としては、 水、 純水、 イソプロピルアルコール等のアルコール等 の中性水溶液が挙げられる。 この他に中性水溶液として、 塩化ナトリウム等のァ ルカリ金属塩等といった無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解 水又はガスが溶解されたガス溶解水等の機能水等の中性水溶液が挙げられる。 さ らに、 ガラス材科に対してエッチング能を有するアルカリ性水溶液、 酸性水溶液 等を洗浄液として使用してもよい。 この場合には、 ガラス材料に対するエツチン グ能が低い、 例えば水酸化力リゥム水溶液等のアル力リ性水溶液を使用すること が好ましい。
なお、 機械式テクスチャー形成法で形成されたパリをスクラブ工程で物理的手 段により除去可能であることは、 本発明者等の多くの実験と、 その結果の解析と によって初めて見出されたものである。 つまり、 パリ自体が AFM等の測定機器 を使用して初めて判別できる程度の微小なものであり、 その表面を微細に走査で きるものではないことから、 そのひびは、 測定機器等を使用しても判別できない 位の極微小なものである。 このため、 単に従来のスクラブ工程によるガラス板の 主表面の洗浄という観点からは、 このパリが有するひぴを利用し、 同パリを折り 取って除去するという事項は、 容易に類推し得るものではない。 また、 本発明の趣旨からは逸脱するが、 上記のスクラブ工程は、 機械式テクス チャ一形成法で形成された従来の同心円状をなすテクスチャーにおいて、 そのバ リを除去する場合にも、 十分な効果を有する。 つまり、 スクラプ材として 1 00 %モジュラスが 2. 9〜3 9. 2 MP aの材料を使用する又はァスカー C硬度が 4 0以上のスクラブ材を使用することにより、 クロスハッチ法を含む機械式テク スチヤー形成法の全般において、 形成されるパリを十分に除去することが可能で ある。
上記のようにして製造されたテクスチャーを有するガラス基板は、 その主表面 の微小うねりの高さ （NR a) が 0. 2 nm以下であり、 表面粗さ （R a) が 0 . 5 nm以下である。 また、 この場合の主表面のうねりの高さ （Wa) は、 好ま しくは 0. 5 nm以下である。 なお、 NR aとは、 Z y g o社製の三次元表面構 造解析顕微鏡 （N e wV i e w 2 00) を用い、 測定波長 （ λ ) を 0. 2〜； 1. 4 mmとして主表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示すものであ る。 R aとは、 原子間力顕微鏡 （AFM) で測定された値を示すものである。 W aとは、 P h a s e Me t r i x社製の多機能ディスク干渉計 （O p t i f 1 a t ) を用い、 測定波長 （λ) を 0. 4〜5. 0 mmとして主表面の所定領域を 白色光で走査して測定された値を示すものである。
NR aが 0. 2 nmを超え、 かつ、 R aが 0. 5 nmを超えていると、 ガラス 基板の主表面は荒れた平滑性の低いものである。 これには、 背景として、 近年の 情報記録媒体は、 さらなる高密度記録化を図るため、 情報記録媒体の主表面とへ ッドとの距離をさらに接近させる傾向があることが挙げられる。 このへッドが情 報記録媒体上を移動する際、 うねりの高さ Waが若干大きく とも、 うねりにへッ ドが追従することが可能である。 し力 し、 NR a及ぴ R aが大きいと、 ヘッドは 微小うねりに追従できず、 また、 異常突起を飛び越えることができずに、 ヘッド が異常突起に引っ掛かったり、 衝突したりする等の不具合が頻繁に発生しやすく なるためである。
一方で、 主表面の平滑性が過剰に高すぎると、 ヘッドが情報記録媒体の主表面 に吸着され、 移動が不可能になったりする等の不具合を発生させる。 そこで、 テ クスチヤ一は、 ガラス基板の主表面を平滑としながらも、 ヘッドとの接触面積を 低減するために形成されている。 そして、 テクスチャ一は、 ヘッドとの接触面積 を低減することにより、 情報記録媒体の主表面に対するへッドの吸着を抑制する という機能を有する。 また、 当該テクスチャーを有するガラス基板から製造され た情報記録媒体は、 テクスチャーによつて高い磁気異方性と保磁力とが付与され る。 これは、 磁性膜を形成する金属の原子が、 テクスチャーの側面で配向良く並 ベられることが理由であると考えられる。
ま こ、 ガラス基板の表面品質を測定する方法として、 ベアリングレシオ （BR ) と、 ベアリングハイ ト （ΒΗ) を使用した方法が挙げられる。 この BRと、 Β Ηを使用した方法によれば、 テクスチャーの形状の他、 バリの有無をも測定する ことが可能である。 まず、 BRについて、 以下に説明する。
BRを求めるためには、 まず第 1に、 AFMを使用し、 ガラス基板の主表面の 所定領域内において、 その表面状態が測定される。 なお、 同 AFMでは、 J I S B 06 0 1の規定に従い、 その走査線毎に粗さ曲線を求めることが可能であり、 同粗さ曲線に基づき、 ガラス基板の主表面の凹凸を鳥瞰図として示すことが可能 である。 この測定された所定領域の面積が基準面積とされる。 例えば、 測定され た所定領域が 5 t m四方の正方形であれば、 基準面積は 2 5 ^m2である。
第 2に、 図 3A〜Cに示すように、 ガラス基板 1 1の主表面と平行な面でテク スチヤー 1 3が切断される。 ここでは、 図 3 A中の 3 B線を含む面でテクスチャ 一 1 3を切断したそれぞれの切断面 1 4を図 3 Bに示し、 3 C線を含む面でテク スチヤー 1 3を切断した切断面 1 4を図 3 Cに示す。 その後、 テクスチャー 1 3 の切断面 1 4の面積が算出される。 この切断面 1 4の面積が、 測定面積とされる そして、 前述の基準面積に対する当該測定面積の割合が、 BRとして示される 。 例えば、 基準面積に対する測定面積の割合が 5 0 %ならば、 B Rは 5 0 %であ り、 割合が 0. 0 1 %ならば、 BI 0. 0 1 %である。
次に、 BHについて、 以下に説明する。
BHを求めるためには、 まず第 1に、 BRが 50%となる位置が求められる。 この BRが 50%となる位置が、 図 3 A中に示した基準面 1 5とされる。 第 2に 、 BRが所定値となるときにテクスチャーを切断する面が求められる。 このテク スチヤーを切断する面が測定面とされる。 ここでは、 図 3 A中で、 3 B線を含む 面又は 3 C線を含む面が測定面である。 そして、 前述の基準面 1 5から当該測定 面までの高さが、 BHとして示される。 例えば、 3 B線を含む面を測定面とした とき、 ここでの BRが 1 0%ならば、 BH (1 0) と表記し、 基準面 1 5から 3 B線を含む測定面までの高さ ri 1が 0. 5 nmならば、 BH (1 0) は 0. 5 n mである。 また、 3 C線を含む面を測定面としたとき、 ここでの BRが 0. 1 % ならば、 BH (0 1) と表記し、 基準面 1 5から 3 C線を含む測定面までの高さ 112が 1. 5 nmならば、 BH (0 1) は 1. 5 nmである。
さて、 上記の BRと BHを使用し、 ガラス基板の表面品質を測定する場合、 所 定の B R毎に BHを測定し、 測定された BH毎に差を求め、 その差を評価するこ とで、 テクスチャーの形状、 バリめ有無を測定することが可能となる。 すなわち 、 図 3 Aに示したように、 テクスチャ一は、 各尾根部の上端に向かうに従い、 そ の切断面の面積が小さくなる。. このとき、 尾根部が一定の勾配の尾根状をなすな らば、 B Rが一定の比率で小さくなり、 これに比例して BHは高くなり、 BH毎 の差もほぼ一定となる。 しかし、 尾根部が、 その途中から急激に細く、 高くなつ たり、 あるいは図 3 A中に示すように、 その上端に細く切り立ったバリを有する 場合には、 BH毎の差に変化を生じる。 そこで、 製造されるガラス基板において 、 BH毎の差を所定値に定めることにより、 テクスチャーを均一な形状とし、 バ リの発生を防止することが可能となる。
当該ガラス基板において、 8尺が0. 0 1 %のときの8«[ (00 1 ) と、 BR が 0. 4%のときの BH (04) との差 （BH (00 1) 一 BH (04) ) は、 好ましくは 0. 0 1〜 1. O nmであり、 より好ましくは 0. 2〜0. 7 nmで ある。 この BH (00 1) -BH (04) が 0. 0 1 n m未満の場合、 尾根部の 稜線にへこみが形成されることとなる。 BH (0 0 1) -BH (04) が 1. 0 nmを超えると、 図 3A中に示したように.、 稜線上に細く切り立ったパリ 1 3 a が形成されることとなる。
上記の範囲は、 A FMによる鳥瞰図から、 パリが BH (00 1) 〜： BH (04 ) の範囲内に発生することを本発明者等が初めて見出した結果、 得られたもので ある。 つまり、 AFMによる鳥瞰図を見ると、 稜線上に所々細く切り立った部分 が観測されており、 この細く切り立った部分をバリとした結果、 同バリが BH ( 00 1) 〜： BH (04) の範囲内に存在していたことによる。 そして、 BH (0 0 1) -BH (04) を 0. 0 1〜： 1. 0 nmとすることで、 ノ リの形成を防止 することが可能である。
また、 微視的な観点から個々の尾根部の形状を評価した結果、 BH (04) と 、 BRが 1. 0%のときの BH (1) との差 （BH (04) -BH (1 ) ) は、 好ましくは 0. 1 5〜0. 2 nmであり、 より好ましくは 0. 1 7〜0. 2 0 η mである。 この BH (04) - BH (1 ) が 0. 1 5 n m未満の場合、 尾根部の 頂上が高く突出して形成されることとなる。 BH (04) 一 BH (1 ) が 0. 2 を超えると、 尾根 15の頂上が低くへこんで形成されることとなる。
そして、 BH (1) と、 BRが 1 5. 0%のときの BH (1 5) との差 （BH (1) -BH (1 5) ) は、 BH (04) _BH (1) の値と同じか、 それ以下 であることが好ましい。 これは、 テクスチャ一として好ましいものは、 BH ( 1 5) から BH (04) の範囲で略一定の勾配で高くなる形状をなすものであるこ とを理由とする。 この部分で勾配が急激に上がれば、 それは尾根部の高さが低い テクスチャーとなり、 勾配が急激に下がれば、 この範囲より高い部分に勾配のピ ークがある、 つまりはバリの存在、 頂上が高く突出した尾根部の存在を示すこと となる。
第 1の実施形態によれば以下の利点が得られる。
ガラス基板 1 1はガラス板に機械式テクスチャー形成法でテクスチャーを形成 する際、 クロスハッチ法を用いている。 このクロスハッチ法により、 ガラス板の 主表面で砥粒は、 一周期の始点から終点まで少なくとも 3箇所で交差しながら一 筆書きで延びる軌跡を描くようにされている。 このため、 ガラス板の同一箇所ば かりが削られたり、 大きな削り残しの部分が存在する等の弊害を防止することが でき、 主表面の NR aが 0. 2 nm以下、 1 3が0. 5 nm以下のガラス基板を 製造することができる。 従って、 主表面の平滑性を低下させることなく、 凹凸状 のテクスチャーを形成することができる。
また、 クロスハッチ法においては、 ガラス板の回転速度 Rとローラの揺動の摇 動周波数とが非同期の状態とされる。 これにより、 ガラス板の主表面上で砥粒に 、 一周期の始点から終点まで少なくとも 3箇所で交差しながら一筆書きで延びる 軌跡を確実に描かせることができる。 従って、 主表面の平滑性の低下を効果的に 抑制することができる。
砥粒の軌跡の交点は、 5箇所以上であることが好ましい。 そして、 5箇所以上 とすることにより、 テクスチャーを構成する尾根部の頂上を積極的に削り、 稜線 の形状をより良く修正することができる。
また、 揺動周波数は 4 H zより高く、 20H z以下、 回転速度は 240〜 54 0m i n 1、 揺動ストロークは 0. 5〜 2mmに、 それぞれ範囲が設定されて いる。 これにより、 砥粒の軌跡を少なくとも 3箇所で交差させつつ、 テクスチャ 一の形状が均一に揃えられた状態とすることができる。
また、 製造されるガラス基板においては、 BH (00 1) -BH (04) が◦ . 0 1〜 1. O nmとされている。 このため、 尾根部の稜線上にパリが形成され ることを防止することができる。
以下、 本発明の第 2の実施形態を説明する。 なお、 この第 2の実施形態では第 1の実施形態と異なる点を中心に説明する。
図 1に示すように、 第 2の実施形態のガラス基板 1 1は、 外径等のサイズを除 き、 形状等の構成が第 1の実施形態のガラス基板 1 1と同じものであり、 中心に 円孔 1 2を有する円盤状に形成されるとともに、 その主表面にはテクスチャー 1 3が形成されている。 この第 2の実施形態のガラス基板 1 1は、 第 1の実施形態 のガラス基板 1 1に比べ、 その外径が小さなものとされている。 具体的に、 外径 が、 例えば 6 5 mm (2. 5 i n) 、 9 5mm (3. 5 i n) 等の 4 8 mmを超 えるものが大径基板であり、 第 1の実施形態のガラス基板 1 1はこの大径基板に 該当する。 外径が 48 mm ( 1. 8 i n) 以下のものは小径基板であり、 第 2の 実施形態のガラス基板 1 1は小径基板に該当する。
次に、 第 2の実施形態のガラス基板 1 1の製造 法について説明する。
当該ガラス基板は、 円盤加工工程、 端面面取り工程、 ラップ工程、 研磨工程、 洗浄処理工程及ぴテクスチャー加工工程を経て製造される。 円盤加工工程から洗 浄処理工程までの各工程は、 前に挙げたものとそれぞれ同様の工程である。
テクスチャし加工工程においては、 前述のテクスチャーマシンを使用してクロ スハッチ法を行う。 すなわち、 図 2 A， 図 2 Bに示したように、 ローラ 3 1に対 してガラス板 1 1 aをその直径方向へ所定の揺動周波数及ぴ揺動ストロークで摇 動させつつ、 かつ回転させながら、 主表面にテープ部材 3 3を摺接させることに より、 テクスチャーが形成される。 そして、 周期運動する砥粒が一周期でガラス 板 1 1 aの主表面に描く軌跡は、 一周期の始点から終点まで少なくとも 3箇所で 互いに交差しながら一筆書きで延びる形状となる。 また、 小径基板において、 軌 跡は、 一周期の始点から終点まで少なくとも 1 6箇所で互いに交差することがよ り好ましい。 これは、 軌跡を少なくとも 1 6箇所で交差させれば、 小径基板で主 表面品質を維持しつつ、 クロスハッチ法によるテクスチャーを確実に得ることが できるためである。
クロスハッチ法を行う際、 平面視で円形状をなすガラス板の主表面で砥粒の移 動距離は、 前述したように、 外径側に位置するものほど長くなり、 内径側に位置 するものほど短くなる傾向がある。 また、 砥粒の移動速度は、 ガラス板の外径側 に位置するものほど速く、 内径側に位置するものほど遅くなる傾向がある。 これ らの傾向は、 大径基板に比べ小径基板では特に顕著に現れる。 そして、 1つの砥 粒は、 ガラス板の主表面で一周期分の軌跡を描ききれるとは限らない。
小径基板では、 特に主表面の内径側の部分で砥粒の移動距離が短く、 移動速度 が遅いため、 砥粒が描く軌跡の長さが顕著に短くなり、 大半の砥粒は互いの軌跡 を十分に交差させる前にガラス板の主表面から脱してしまう。 砥粒の軌跡同士が 十分に交差しなければ、 尾根部の形状に偏りが生じる等の不具合が高い確率で発 生してしまう。 そこで、 小径基板のクロスハッチ法を行うときには、 砥粒の軌跡 を出来る限り短い長さで確実に交差させる必要がある。
このため、 小径基板のクロスハッチ法においては、 軌跡同士の交差角を出来る 限り小さくすることが好ましい。 これは、 交差角が小さくなるに従い交差させる ために必要となる軌跡の長さも短くなるためである。 具体的に、 軌跡同士の交差 角は、 0 ° を超えて 1 3 ° 以下とすることが好ましく、 0 ° を超えて 9 ° 以下と することがより好ましい。 交差角が 0 ° の場合、 砥粒の軌跡同士が交差しないか 、 あるいは同一箇所に溝が形成されてしまうこととなる。 交差角が 1 3 ° を超え る場合、 小径基板では交差させるために必要とする軌跡の長さを得にくく、 大半 の砥粒が軌跡を交差させる前にガラス板の主表面から脱してしまう。 なお、 大径 基板においては、 大半の砥粒がガラス板の主表面から脱するまでに描く軌跡は互 いに交差することが可能な程度の十分な長さを有しており、 軌跡同士の交差角は さして問題とせず、 軌跡の交点の個数を重要な要因とした。 これに対し、 小径基 板においては、 軌跡同士を交差させることすらできなくなるおそれがあるため、 軌跡の交点の個数のみならず交差角も重要な要因となる。
テクスチャーマシンを使用してクロスハッチ法を行うとき、 ガラス板の主表面 で内周縁には、 揺動時におけるローラ 3 1のスピンドルへの接触防止等のため、 テープ部材 3 3が摺接されない部分が存在している。 当該部分がガラス板 1 1 a の主表面全体に対して占'める割合は、 大径基板では極僅かなものであつたが、 小 径基板では大きなものとなる。 このため、 テープ部材 3 3が摺接されない部分の 面積を出来る限り低減する必要がある。 そして、 交差角を小さくする、 摺接され ない部分の面積を低減する等を目的とし、 小径基板のクロスハッチ法では、 揺動 周波数、 摇動ストローク、 回転速度等の加工条件が設定される。
小径基板のクロスハッチ法を行うときの加工条件について説明する。
小径基板のクロスハッチ法においても、 ガラス板 1 1 aのローラ 3 1に対する 揺動の周波数と、 回転速度とは、 非同期の状態とすることが好ましい。 これは、 揺動周波数 Fと回転速度 Rとを同期させると、 ガラス板 1 1 aの主表面で砥粒 3 4が描く軌跡が前述のように円形状又は楕円形状となるためである。 この場合、 巨視的及び微視的に見てテクスチャーの形状に偏りが生じ、 微小うねりの高低差 が大きくなつて表面品質が低下してしまうおそれがある。
小径基板のクロスハッチ法では、 ガラス板が揺動の始点から終点まで戻る時間 を長くするため、 大径基板のクロスハッチ法に比べて揺動周波数を低くすること が好ましい。 大径基板であれば、 砥粒 3 4の軌跡が長く、 互いに交差しやすいた め、 特にはこれを問題とせず、 むしろ面積が大きいが故に主表面全体にテクスチ ヤーを均一に形成することが問題となり、 ガラス板が揺動の始点から終点まで戻 る時間を短くするために摇動周波数を高めていた。 これに対し、 小径基板は面積 が小さいため主表面全体にテクスチャーを均一に形成することは容易であるが、 砥粒 3 4の軌跡が短く、 軌跡を互いに交差させることが難しくなる。 このため、 摇動周波数を低く してガラス板が揺動の始点から終点まで戻る時間を長くするこ とにより、 テープ部材 3 3に対してガラス板の主表面上で同箇所が摺接される時 間を延ばし、 1つの砥粒によって描かれる軌跡の長さを長く している。 但し、 摇 動周波数が過剰に低い場合、 軌跡同士が交差しなくなるため、 尾根部の形状が偏 つたり、 稜線の形状が不均一となったりして、 微小うねりが大きくなり、 表面品 質の低下を招くおそれがある。
具体的に、 揺動周波数は、 好ましくは OH zより高く、 4H z以下であり、 よ り好ましくは 0. 5〜2H zである。 揺動周波数が 4H zを超える場合、 ガラス 板の主表面において、 特に内径側の部分でテープ部材 3 3を摺接させる時間が不 十分となる。 この場合、 砥粒の軌跡が交差させるための十分な長さを有しておら ず、 テクスチャーが偏って形成され、 微小うねりが大きくなり、 表面品質の低下 を招くおそれがある。 揺動周波数を 0 H zとした場合、 ローラ 3 1に対してガラ ス板 1 1 aが揺動せず、 砥粒の軌跡を交差させることができなくなる。
揺動ストロークは、 大径基板に比べて小さくすることが好ましい。 これは、 小 径基板の外径が大径基板の外径に比べて小さいためである。 摇動ストロークは、 好ましくは 0. 5〜 1 mmである。 揺動ストロークが 0. 5 mm未満の場合、 砥 粒の軌跡同士の距離が不必要に近くなり、 複数の溝が集まった 1本の太い溝とし て形成されてしまい、 外観上では従来の同心円状のテクスチャーが形成されてし まうおそれがある。 揺動ストロークが 1 mmを超えると、 ガラス板が揺動の始点 から終点まで戻る時間が長くなるため、 内径側の部分が一時的にテープ部材 3 3 が摺接されない時間も長くなる可能性があり、 表面品質の低下を招くおそれがあ る。
回転速度は、 大径基板に比べて高くすることが好ましい。 これは、 砥粒によつ て単位時間当たりに描かれる軌跡を長くするためである。 回転速度は、 好ましく は 3 00〜 54 0m i n— 1 ( 3 0 0〜 54 0 r pm) である。 回転速度が 3 0 Om i n一1未満の場合、 一回の揺動における砥粒の移動距離が短くなることに より、 軌跡が短くなり、 軌跡同士を交差させることができなくなるおそれがある 。 また、 回転速度が 54 Om i n—1を超えると、 形成される尾根部の幅又は長 さが極端に短くなるおそれがあり、 テクスチャーとしての機能を発揮することが できなくなるおそれがある。
研磨剤としては、 ダイヤモンド製の砥粒を水等の溶媒に分散させて得られるダ ィャモンドスラリーが主に使用される。 砥粒の粒径は、 大径基板に比べて小さく することが好ましい。 これは、 砥粒の粒径を小さくすることで、 一対のローラ 3 1がガラス板の主表面に砥粒を押し付ける力を強く して溝をはっきりと確実に形 成するためである。 砥粒の粒径は、 平均粒径 （D50) で好ましくは 0. 0 8 5 〜0. 1 5 5 μ mである。 D 5。が 0. 0 8 5 μ m未満の場合、 形成される尾根 部の幅が極端に長くなるおそれがあり、 テクスチャーとしての機能を発揮するこ とができなくなるおそれがある。 05。カ；0. 1 5 5 / mを超える場合、 ガラス 板の主表面に砥粒が十分に押し付けられず、 良好な形状のテクスチャーを形成す ることができなくなるおそれがある。
I S 076 2 7 - 2に規定される、 ローラ 3 1の d u r o硬度は、 好ましくは 40〜 90である。 d u r o石 度が 40未満の場合、 ガラス板の主表面に砥粒を 押し付ける力が不十分となったり、 ガラス板に対して砥粒が位置ずれしたり等の 不具合を生じ、 良好な形状のテクスチャーを形成することができなくなるおそれ がある。 d u r o硬度が 90を超える場合、 ガラス板に対するローラ 3 1の接触 幅が短くなり、 砥粒によって描かれる軌跡がさらに短くなって軌跡同士を交差さ せることができなくなるおそれがある。 また、 ローラ 3 1の力が局所的に作用し てガラス板が割れてしまうおそれもある。
一対のローラ 3 1がガラス板の主表面に砥粒を押し付ける力は、 大径基板に比 ベて弱くすることが好ましい。 これは、 押し付ける力によるガラス板の割れを抑 えるためである。 但し、 押し付ける力を過剰に弱めると、 ガラス板の主表面で谷 部をはっきりと確実に形成することができなくなるおそれもある。 このため、 一 対のローラ 3 1がガラス板の主表面に砥粒を押し付ける力は、 好ましくは 1 3. 3〜2 6. 7 N (3. 0〜6. O l b s ) である。 押し付ける力が 1 3. 3 N ( 3. O l b s ) 未満の場合、 ローラ 3 1の接触幅が拡がらないか、 又は砥粒 34 が十分にガラス板に押し付けられず、 尾根部を十分な高さで形成することができ なくなるおそれがある。 押し付ける力が 2 6. 7N (6. O l b s ) を超えると 、 一対のローラ 3 1の間に挟まれたガラス板が割れたり、 ガラス板を回転させる 際に、 却って抵抗となる等の不具合を生じるおそれがある。
クロスハッチ法によるテクスチャー加工工程の後には、 前述のスクラブ工程を 施すことが好ましい。 これは、 クロスハッチ法によって形成されたテクスチャー 上からバリを除去するためである。 そして、 テクスチャー加工が施されて形成さ れた小径基板であるガラス基板は、 その主表面の微小うねりの高さ （NR a) が 0. 2 nm以下であり、 表面粗さ （R a) が 0. 5 nm以下である。 また、 この 場合の主表面のうねりの高さ （Wa) は、 好ましくは 0. 5 nm以下である。 当該ガラス基板のテクスチャーにおいて、 BH (00 1) 一 BH (04) は、 好ましくは 0. 0 1〜 1. O nmであり、 より好ましくは 0. 2〜0. 7 nmで ある。 BH (04) -BH (1) は、 好ましくは 0. 1 5〜0. 2 nmであり、 より好ましくは 0. 1 7〜0. 2 O nmである。 BH (1) — BH (1 5) ) は 、 BH (04) -BH (1) の値と同じ力、 それ以下であることが好ましい。 第 2の実施形態によれば以下の利点が得られる。
第 2の実施形態のガラス基板によれば、 クロスハッチ法でガラス板にテクスチ ヤーを形成することにより、 ガラス板の主表面に描かれる砥粒の軌跡が互いに交 差するようになっている。 このため、 ガラス板の同一箇所ばかりが削られたり、 大きな削り残しの部分が存在する等の弊害を防止することができ、 主表面の NR aが 0. 2 nm以下、 R aが 0. 5 n m以下のガラス基板を製造することができ る。 従って、 主表面の平滑性を低下させることなく、 凹凸状のテクスチャーを形 成することができる。
また、 第 2の実施形態のガラス基板は、 その外径が 48 mm以下の小径基板で ある。 小径基板においては、 大径基板に比べて砥粒の軌跡の長さが短く、 軌跡同 士を交差させにくいという問題もある。 このため、 小径基板では軌跡の交点を 1 6箇所以上とすることが好ましいとされている。 つまり、 大径基板に比べて交点 を増やすことにより、 軌跡同士を確実に交差させることができるように構成され ている。
また、 小径基板では軌跡同士の交差角が 0° を超えて 1 3° 以下とされている 。 これは、 交差角を小さく定めることにより、 軌跡同士を接近させ、 短い軌跡で あっても確実に交差させるためである。 従って、 軌跡同士を確実に交差させるこ とができ、 主表面の平滑性を低下させることなく、 均一なテクスチャーを形成す ることができる。
また、 クロスハッチ法においては、 大径基板に比べて外径の短い小径基板にあ わせて、 揺動周波数は低く、 摇動ストロークは短く、 回転速度は高くなるように 、 それぞれ範囲が設定されている。 このため、 小径基板のクロスハッチ法であつ ても、 軌跡同士を確実に交差させることができ、 主表面の平滑性を低下させるこ となく、 凹凸状のテクスチャーを形成することができる。
以下、 本発明の実施例について説明する。
(実施例 1及び比較例 1 )
フロート法により得られたアルミノシリケートガラスよりなるガラス板の主表 面に、 図 2に示したようなテクスチャーマシンを使用し、 機械式テクスチャ一形 成法に従い、 テクスチャーを形成した。 ガラス板の組成は、 S i〇2が 6 3 m o 1 %、 A 1 2 O 3が 1 6 m o 1 %、 N a 2 Oが 1 1 m o 1 %、 L i 2 Oが 4 m o 1 %、 M g Oが 2 m o 1 %、 C a O 4 m o 1 %であった。 また、 ガラス板のサイ ズは、 厚み 0 . 6 5 m m、 外径 6 5 m m、 内径 2 O mmであった。
機械式テクスチャー形成法において、 平均粒径が 0 . 2 mのダイヤモンド砥 粒を含む研磨剤を使用した。 そして、 表 1に示すような加工条件で実施例 1及ぴ 比較例 1のガラス基板を得た。 このとき、 実施例 1で砥粒の軌跡は、 図 4 Bに示 したような形状となり、 軌跡同士の交点数は 9 9個となった。 一方、 比較例 1で 砥粒の軌跡は、 図 5 Aに示したような形状となり、 軌跡同士の交点数は 0個であ つた。 なお、 実施例 1及ぴ比較例 1では、 例えば揺動ストローク、 テープ部材の 材質、 ローラの硬度、 一対のローラの間に加える荷重等は全て同じ条件とした。 実施例 1及ぴ比較例 1のガラス基板について、 テクスチャー形成前の N R a及 ぴテクスチャー形成後の N R aと、 B R及ぴ B Aとを測定した。 その結果を表 1 及び図 8のグラフに示した。 表 1
Figure imgf000029_0001
表 1の結果より、 比較例 1はテクスチャー形成前の NR aに比べ、 テクスチャ 一形成後の NR aが 0. 06 nm悪化し、 またテクスチャー形成後の N R aが 0 . 2 nmを超えることとなった。 これに対し、 実施例 1はテクスチャー形成の前 後で NR aの差が 0. 0 1しかなく、 またテクスチャー形成後の NR aが 0. 1 5 nmであり、 0. 2 nm以下となった。
図 8のグラフより、 比較例 1は全体的に BHが高く、 特に BRが 0. 4〜0. 1 %の間で BHがばらつくことが示された。 これは、 測定領域内で尾根部の高さ にばらつきがあることを示す。 これに対し、 実施例 1は BRに対し BHが比例す るように、 グラフの線が略直線状をなすものとなった。 これは、 テクスチャー （ 尾根部の高さ） が均一に揃えられており、 かつバリが形成されていないことを示 す。
これらの結果より、 砥粒の軌跡を交差させた実施例 1では、 軌跡を交差させな い比較例 1 と比べ、 テクスチャー形成後にも NR aを良好に維持することが可能 であることが示された。 また、 81 及ぴ811から、 形成されるテクスチャ一は、 尾根部の高さが均一に揃ったパリの無いものになることが示された。
(実施例 2〜 5及び比較例 2〜 9 )
次に、 実施例 1及び比較例 1と同様にして、 表 2に示すような加工条件で実施 例 2〜 5及び比較例 2〜 9のガラス基板を製造した。 このとき、 実施例 2〜5は 、 砥粒の軌跡が図 4 Bに示したような形状となり、 軌跡同士の交点数は 9 9個と なった。 比較例 2〜5は、 砥粒の軌跡が図 5 Aに示したような形状となり、 その 交点数は 0個であった。 比較例 6〜9は、 砥粒の軌跡が図 6 Bに示したような形 状となり、 その交点数は 2個であった。 表 2
Figure imgf000030_0001
実施例 2〜 5及ぴ比較例 2〜 9のガラス基板について、 B R及ぴ B Hを測定し た。 その結果を図 9〜図 1 1のグラフに示した。 ■
図 9のグラフより、 実施例 2〜5のガラス基板は、 それぞれ異なるものである にも係わらず、 B Hに大きな隔たりがなく、 形成されるテクスチャ一は、 高さが 均一に揃ったバリの無いものになることが示された。
これに対し、 図 1 0のグラフより、 比較例 2〜 5のガラス基板は、 それぞれで B Hに大きな隔たりがある。 なかでも、 比較例 5はグラフの描く線が直線から大 きくずれ、 テクスチャーの形状に大きなばらつきがあることが示された。 ^れは 、 前述したように、 交点数が 0の軌跡を描くものは、 同じ箇所を何度も削るよう に砥粒が移動すれば、 それ けガラス基板の表面状態は悪化することによるもの と思われる。 しかし、 比較例 2は良好な結果を示すことから、 欠点を修正するよ うに砥粒が移動すれば、 表面状態は良好になることも示された。
図 1 1のグラフより、 比較例 6〜 9のガラス基板は、 それぞれで B Hに大きな 隔たりがあるとともに、 グラフの描く線が大きく乱れることから、 テクスチャー の形状にも大きなばらつきがあることが示された。 これは、 前述したように、 交 点数が 2の軌跡を描くものは、 その交点では同じ箇所を何度も削るように砥粒が 移動し、 それだけガラス基板の表面状態を悪化させることによるものと思われる 。 特に、 比較例 9は表面状態の悪化が著しいものとなることが示された。
以上の結果より、 軌跡同士を交差させることにより、 軌跡を交差させないもの と比較し、 表面状態を安定に維持しながらガラス基板にテクスチャーを形成する ことが可能であることが示された。 また、 表面状態の良好なガラス基板を安定し た歩留まりで得られることも示された。
上記の実施形態を次のように変更してもよい。
情報記録媒体として要求される耐衝撃性、 耐振動性、 耐熱性等を満たすため、 テクスチャー加工工程よりも前の工程でガラス板に化学強化処理を施してもよい 。 この化学強化処理とは、 ガラス基板の組成中に含まれるリチウムイオンゃナト リゥムイオン等の一価の金属イオンを、 これと比較してそのイオン半径が大きな ナトリゥムイオンや力リゥムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換すること をいう。 そして、 ガラス基板の主表面に圧縮応力を作用させて化学強化する方法 である。 この化学強化処理は、 化学強化塩を加熱溶融した化学強化処理液にガラ ス基板を所定時間浸漬することによって行われる。 化学強化塩の具体例としては 、 硝酸カリウム、 硝酸ナトリウム、 硝酸銀等をそれぞれ単独、 あるいは少なくと も 2種を混合したものが挙げられる。 化学強化処理液の温度は、 ガラス基板に用 いた材料の歪点よりも好ましくは 5 0〜 1 5 0 °C程度低い温度であり、 より好ま しくは化学強化処理液自身の温度が 3 0 0〜4 5 0 °C程度である。 ガラス基板の 材料の歪点よりも 1 5 0 °C程度低い温度未満では、 ガラス基板を十分に化学強化 処理することができない。 一方、 ガラス基板の材料の歪点よりも 5 0 °C程度低い 温度を超えると、 ガラス基板に化学 化処理を施すときに、 ガラス基板に歪みが 発生するおそれがある。
実施形態ではローラ 3 1を揺動させることとしたが、 これに限らず、 ガラス板 1 1 aを揺動させてもよい。 つまり、 この場合、 ガラス板 1 1 aは回転しながら 、 ローラ 3 1に対し、 その直径方向へ揺動することとなる。

Claims

請求の範囲
1. 円盤状をなすガラス板の主表面に砥粒を含む研磨剤を供給しつつ、 前記主表 面を研磨部材で摺接することにより、 前記主表面にテクスチャーを形成する工程 を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記砥粒が前記ガラス板の主表面上の少なくとも 3箇所で交差する一筆書きの 軌跡を周期的に描くように、 前記ガラス板を回転させながら、 前記研磨部材及ぴ 前記ガラス板のいずれか一方を他方に対して前記ガラス板の径方向へ揺動させる ことを特徴とする前記製造方法。
2. 前記揺動の周波数 F (H z ) と前記ガラス板の回転速度 R (m i n 1) は 、 前記回転速度尺が (F X 60 ) ± 5の範囲外になるように決められていること を特徴とする請求項 1に記載の製造方法。
3. 前記一筆書きの軌跡はその途中に少なくとも 5箇所の交点を有することを特 徴とする請求項 1又は請求項 2に記載の製造方法。
4. 前記揺動の周波数は OH zより高く、 2◦ H z以下であることを特徴とする 請求項 1から請求項 3のいずれか一項に記載の製造方法。
5. 前記回転速度は 24 0〜 54 0m i n 1であることを特徴とする請求項 1 から請求項 4のいずれか一項に記載の製造方法。
6. 前記揺動の1ス トロークは 0. 5〜 2 mmであることを特徴とする請求項 1か ら請求項 5のいずれか一項に記載の製造方法。
7. 前記研磨部材は、 I S O 7 6 2 7— 2に規定される d u r o硬度が 4◦〜 9 0である弾性材料製のローラであることを特徴とする請求項 1から請求項 6のい ずれか一項に記載の製造方法。
8. 前記テクスチャーを形成する工程後、 J I S K 7 1 1 3に規定される 1 0 0%モジュラスが 2. 9〜3 9. 2 MP aであるスクラブ材で前記ガラス板の主 表面を擦る工程を更に備えることを特徴とする請求項 1から請求項 6のいずれか 一項に記載の製造方法。
9. 前記ガラス板の外径が 48 mm以下の場合、 前記揺動の周波数は 0 H zより 高く、 4H z以下であり、 前記外径が 4 8 mmを超える場合、 前記揺動の周波数 は 4H zより高く、 20H z以下であることを特徴とする請求項 4から請求項 6 のいずれか一項に記載の製造方法。 '
1 0. 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
主表面と中心円孔とを有する円盤状のガラス板を用意する工程と、
各々が前記中心円孔の周りの少なくとも 3箇所で交差する閉じた曲線に沿って 延びる複数の溝を含むテクスチャーを、 前記主表面に形成する工程とを備える。
1 1. 前記テクスチャーを形成する工程は、
前記ガラス板の主表面に砥粒を含む研磨剤を供給することと、
研磨部材を前記ガラス板の主表面に押し付けることと、
前記ガラス板と前記研磨部材のいずれか一つを当該ガラス板の径方向に周期的 に揺動させることと、
前記ガラス板を一定の速度で回転させる工程とを同時に行なうことを含む請求 項 1 0に記載の製造方法。
1 2. 前記テクスチャーを形成する工程は、 前記ガラス板の回転速度、 前記揺動 の周波数、 及び前記揺動のストロークを決めることを含む、 請求項 1 1に記載の 製造方法。 '
1 3. 前記揺動のストロークは 0. 5〜 2mmであり、 前記揺動の周波数 F (H z ) と前記ガラス板の回転速度 R (m i n つ は、 前記回転速度 が (F X 6 0) ± 5の範囲外になるように決められていることを特徴とする請求項 1 2に記 載の製造方法。
14. 前記揺動の周波数は前記ガラス板の外径寸法に応じて変更されることを特 徴とする請求項 1 3に記載の製造方法。
1 5. テクスチャの形成された主表面を有する情報記録媒体用ガラス基板であつ て、
原子間力顕微鏡を用いて測定される、 前記主表面の算術平均粗さ R aが 0. 5 nm以下であり、 0. 2〜1. 4 mmの測定波長の光を用いた三次元主表面構造 解析顕微鏡により測定される、 前記主表面の微小うねりの高さ NR aが 0. 2 n m以下であることを特徴とする前記ガラス基板。 '
1 6. 前記テクスチャは複数の突起を含むものであり、
前記主表面において所定の基準面積を有する一領域内において、 前記複数の突 起の断面積の合計値が前記基準面積に対して 50 %となるように前記複数の突起 を横切る、 仮想の基準面を設定した場合、
前記複数の突起の断面積の合計値が前記基準面積に対して 0. 4 %となるよう に前記複数の突起を横切る、 前記主表面と平行な第 1の仮想面は、 前記仮想の基 準面から第 1の距離だけ離間しており、 1
複数の突起の断面積の合計値が前記基準面積に対して 0. 0 1 %となるように 前記複数の突起を横切る、 前記主表面と平行な第 2の仮想面が、 前記仮想の基準 面から第 2の距離だけ離間しており、
前記第 1の距離と第 2の距離との差が 0. 0 1〜 1. O nmであることを特徴 とする請求項 1 5に記載のガラス基板。 _
1 7. 中心円孔と主表面とを有する円盤状の情報記録媒体用ガラス基板であって 前記主表面に、 各々が前記中心円孔の周りの少なくとも 3箇所で交差する閉じ た曲線に沿って延びる複数の溝を含むテクスチャーが形成されていることを特徴 とする情報記録媒体用ガラス基板。
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122 Ep: pct application non-entry in european phase