明 . 細 書
糖部 S型配座の新規人工核酸
[技術分野] '
本発明は、 優れたアンチセンス又はアンチジーン活性、 或いは、 デコイ核酸、 D N Aェンザィム及び R N A干渉機能を有し、 かつ、 生体内で安定な非天然型のオリゴヌ クレオチド類縁体を製造するための中間体となる、 新規架橋核酸誘導体に関する。
[背景技術]
優れたアンチセンス又はアンチジーン活性、 或いは、 デコィ核酸、 D N Aェンザィ ム及ぴ R N A干渉機能を有し、 かつ、 生体内で安定なオリゴヌクレオチドは、 有用な 医薬として期待される。
天然型オリゴヌクレオチドは、 血液中や細胞内に存在する各種ヌクレア一ゼにより、 速やかに分解されてしまうことが知られているため、 この欠点を克服すべく、 種々の 非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体が製造され、 それらを医薬として、 開発する試 みがなされている。
例えば、 オリゴヌクレオチドのホスホジエステル結合内のリン原子と結合する酸素 原子を硫黄原子に置換したもの、 該酸素原子をメチル基に置換したもの、 該酸.素原子 をホウ素原子に置換したもの、 オリゴヌクレオチドの糖部分や塩基部分を化学修飾し たもの等が知られている。 また、 より具体的には、 I S I S社は、 ヒトサイ トメガロ ウィルス性網膜炎の治療薬として、 チォェ一ト型オリゴヌクレオチドである ISIS2922を開発し、 VitraveneTMとして米国で販売している。
しかしながら、 上記の非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体における、 アンチセン ス又はアンチジーン活性の強さ、 すなわち、 m R N A又は D N Aとの安定な相補鎖形 成能や、 各種ヌクレア一ゼに対する安定性、 生体内の各種蛋白質と非特異的に結合す ることによる副作用の発現等を考慮すると、 さらに優れたアンチセン 又はアンチジ —ン活性を有し、 生体内で安定で、 かつ、 副作用の発現の少ない非天然型のオリゴヌ クレオチド類縁体が望まれる。
また核酸の糖部のコンホメ一シヨンについては、 S 型と N 型があることが知られ ており、 前者については DNA、 後者については RNA がそのコンホメーシヨンをと
ることが知られている(J. Am. C em. Soc. ,94, 8205(1992)及び Am. Chem. Soc. , 95, 2333(1993))。 従って、 S型をとる核酸については DNAと選択的に結合し、 前述 のアンチセンス用途等に用いる場合、 通常の核酸と比べて、 DNA 選択性という利点 がある。 さらに、 S 型配座を取り、 DNA を模倣した核酸誘導体は、 特にデコイ核酸 (Gene Thrapy, 8, 1635(2001))、 DNAェンザィム (Nature, 375, 611(1995)) とし て有用であることが期待される。 更に D N Aとの結合性の高い核酸誘導体は、 D N A チップ等の特定の遺伝子の検出薬、 診断薬若しくは増幅開始,のためのプライマーとし て有用である。
非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体の製造中間体となる化合物で、 本発明の中間 体と 連する化合物が、 特開 2 0 0 1— 6 4 2 9 7号に記載されている。 .即ち、 以下 の一般式
(上記式中 R 101及び R 103は、 同一又は異なって、 水素原子、 水酸基の核酸合成の保 護基等を示し、 R io2は、 水素原子、 炭素数 1乃至 6個のアルキル基又はアミノ基の 核酸合成の保護基を示し、 B iooは、 下記ひ 群から選択される置換基を有していて もよいプリン一 9ーィル又は 2—ォキソ一 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1一ィル基 を示す。) で表される化合物である。
( α ΐοο群) ハロゲン原子、 炭素数 1乃至 6個のアルキル基、 水酸基、 メルカプト基、 アミノ基等。
しかしながら、 上記化合物においては、 核酸の 2'位に水酸基又はその誘導体が必 須であり、 水素原子で置換されたような化合物は知られていなかった。
本発明の課題は、 優れたアンチセンス又はアンチジーン活性、 或いは、 デコイ核酸, D N Aェンザィム及ぴ R N A千渉機能を有し、 か,つ、 生体内で安定なオリゴヌクレオ チドを製造するための中間体となる、 新規なビシクロヌクレオシド誘導体を提供する
ことにある。
また、 本発明の課題は、 該ピシクロヌクレオシド構造を 1又は 2以上含有する新規 なオリゴヌクレオチド類縁体を提供することにある。
[発明の開示]
本発明の発明者は、 該課題を解決すべく、 鋭意研究を続けた結果、 3'·ァミノ- 3'- N,4'-C-メチレンを有し、 2'位が水素原子で置換された新規なビシクロヌクレオシド 誘導体が、 D N Aに対して二本鎖や三本鎖核酸を形成する性質を有するオリゴヌクレ ォチド類縁体を製造するための中間体として有用であること、 また、 該ビシクロヌク レオシド構造を 1又は 2以上含有する新規なォリゴヌクレオチド類縁体が優れたヌク レア一ゼ耐性を有し、 優れたアンチセンス薬、 アンチジーン薬、 デコイ核酸、 D N A ェンザィム又は R N A干渉核酸となり得ること、 更に D N Aとの結合性の高い核酸誘 導体は、 D N Aチップ等の特定の遺伝子の検出薬、 診断薬若しくは増幅開始のための プライマ一として有用であること、 を見出し本発明を完成した。
本発明の架橋核酸誘導体は、
1 ) 一般式 (1 )
[式中、 R i は、 水素原子、 水酸基の核酸合成の保護基、 リン酸基、 核酸合成の保 護基で保護されたリン酸基又は式一 P ( R 3a) R 3bで表される基 (式中、 RSa及び R は、 同一又は異なって、 水酸基、 核酸合成の保護基で保護された水酸基、 メルカプ ト基、 核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、 アミノ基、 核酸合成の保護基で 保護されたァミノ基、 炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基、 炭素数 1乃至 6個のアルキ ルチオ基、 炭素数 1乃至 7個のシァノアルコキシ基又は炭素数 1乃至 6個のアルキル 基で置換されたアミノ基を示す) で表される基を示し、
R 2は、 水素原子、 炭素数 1乃至 6個のアルキル基又はアミノ基の核酸合成の保護 基を示し、
Bは、 下記 a群から選択される置換基を有していてもよいプリン— 9ーィル又は 2
一ォキソ一 1 , 2—ジヒドロピリミジン— 1一ィル基を示す。]
で表される化合物及びその薬理上許容される塩である。
(ひ群)
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、
炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基、
メルカプト基、 '
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
炭素数 1乃至 6個のアルキルチオ基、
アミノ基、
核酸合成の保護基で保護されたァミノ基、
炭素数 1乃至 6個のアルキル基で置換されたァミノ基、
炭素数 1乃至 6個のアルキル基、 及び、
ハロゲン原子。
本発明の化合物又はその薬理上許容される塩の内、 好適なものは、
2 ) R iが、 水素原子、 脂肪族ァシル基、 芳香族ァシル基、 1乃至 3個のァリール基 で置換ざれたメチル基、 低級アルキル、 低級アルコキシ、 ハロゲン若しくはシァノ基 でァリール環が置換された 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチル基、 又は、 シ リル基である、 化合物又はその薬理上許容される塩、
3 ) R iが、 水素原子、 ァセチル基、 ベンゾィル基、 ベンジル基、 p—メトキシベン ジル基、 ジメトキシトリチル基、 モノメ トキシトリチル基、 tert-プチルジフエニル シリル基、 -P(OC2HUCN)(NCH(CH3)2)、 -P(OCH3)(NCH(CH3)2)、 ホスホニル基、 又 は、 2—クロ口フエニル若しくは 4一クロ口フエニルリン酸基である、 化合物又はそ の薬理上許容される塩、
4 ) R 2が、 水素原子、 炭素数 1乃至 6個のアルキル基、 脂肪族ァシル基、 芳香族ァ シル基、 モノメトキシトリチル基、 ァリールォキシカルボニル基、 又は、 1乃至 2個 の低級アルコキシ若しくは二卜口基でァリール環が置換されていてもよいァラルキル ォキシカルポニル基である、 化合物又はその薬理上許容される塩、
5 ) R 2が、 水素原子、 炭素数 1又は 2個のアルキル基、 脂肪族ァシル基、 モノメト キシ卜リチル基、 ァリールォキシカルポニル基、 又は、 1乃至 2個の低級アルコキシ 若しくはニトロ基でァリ一ル環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル 基である、 化合物又はその薬理上許容される塩、
6 ) R 2が、 水素原子、 メチル基、 トリフルォロアセチル基、 フエノキシァセチル基、 モノメトキシトリチル基、 又はべンジルォキシカルボニル基である、 化合物又はその 薬理上許容される塩、
7 ) Bが、 6—ァミノプリン一 9 一ィル基 (すなわち、 アデニニル基)、 ァミノ基が 核酸合成の保護基で保護された 6—ァミノプリン— 9 —ィル基、 2 , 6—ジアミノブ リ 一 9ーィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2, 6—ジァミノプリ ン— 9—ィル基、 2—アミノー 6—クロ口プリン— 9—ィル基、 ァミノ基が核酸合成 の保護基で保護された 2 —ァミノ一 6—クロ口プリン— 9ーィル基、 2 —アミノー 6 —フルォロプリン— 9—ィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2 —アミ ノ一 6—フルォロプリン一 9ーィル基、 2—ァミノ― 6—ブロモプリンー 9—ィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2—ァミノ— 6—ブロモプリン— 9—ィル 基、 2 —アミノー 6 —ヒドロキシプリン一 9 —ィル基 (すなわち、 グァニニル基)、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2—ァミノ一 6—ヒドロキシプリン一 9 一 ィル基、 アミノ基及び水酸基が核酸合成の保護基で保護された 2 —アミノー 6 —ヒド ロキシプリン一 9—ィル基、 6 —ァミノ一 2 —メ'トキシプリン— 9 —ィル基、 6—ァ ミノ一 2 —クロ口プリン一 9ーィル基、 6 —ァミノ一 2 —フルォロプリン一 9 Γル 基、 2 , 6—ジメトキシプリン一 9—ィル基、 2, 6—ジクロ口プリン一 9ーィル基、 6 —メルカプトプリン一 9 —ィル基、 2 —ォキソ一 4ーァミノ一 1 , 2—ジヒドロピ リミジン— 1—ィル基 (すなわち、 シトシ二ル基)、 ァミノ基が核酸合成の保護基で 保護された 2 —ォキソ一 4—アミノー 1 , 2 —ジヒドロピリミジン一 1—ィル基、 2 一ォキソ一 4—アミノー 5 —フルオロー 1 , 2—ジヒドロピリミジン一 1 —ィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2 —ォキソ一 4一アミノー 5 —フルオロー 1, 2 —ジヒドロピリミジン一 1ーィル基、 4—アミノー 2 —ォキソ一 5 —クロロー 1 , 2—ジヒドロピリミジン一 1ーィル基、 2 _ォキソ— 4ーメ卜キシー 1 , 2—ジ
ヒドロピリミジン一 1—ィル基、 2—ォキソ一4—メルカプト一 1, 2—ジヒドロピ リミジン一 1ーィル基、 2—ォキソ一 4ーヒドロ午シ— 1 , 2—ジヒドロピリミジン — 1一ィル基 (すなわち、 ゥラシニル基)、 2—ォキソ一 4ーヒドロキシ一 5—メチ ル— 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1—ィル基 (すなわち、 チミニル基)、 4一アミ ノー 5—メチルー 2—ォキソ一 1, 2—ジヒドロピリミジン一 1一ィル基 (すなわち、 5—メチルシトシニル基) 又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された 4ーァミノ 一 5—メチル一 2—ォキソ一 1 , 2—ジヒドロピリミジン一 1ーィル基である、 化合 物又はその薬理上許容される塩、
8) Bが、 6—ベンゾィルァミノプリン— 9—ィル基、 アデニニル基、 2—イソプチ リルアミノ一 6—ヒドロキシプリン一 9ーィル基、 グァニニル基、 2—ォキソ一 4— ベンゾィルアミノー 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1ーィル基、 シトシ二ル基、 2—. ォキソ一 5—メチルー 4—ベンゾィルァミノ一 1, 2ージヒドロピリミジン一 1—ィ ル基、 5—メチルシトシニル基、 ゥラシニル基又はチミニル基である、 化合物又はそ の薬理上許容される塩である。
上記において、 Riを上記 2) 又は 3) から選択し、 R2 を上記 4) 乃至 6 ) から 選択し、、 Bを上記 7) 乃至 8) から選択して得られる任意の組合せもまた好適であ り.、 特に好適には、 2)、 4) 及び 7) の組合せ並びに 3)、 6) 及び 8) の組合せで ある。 - 本発明の新規オリゴヌクレオチド類縁体を含有する核酸試薬及び医薬は、 ' 1) 一般式 (la)
[式中、
Bは、 下記 a;群から選択される置換基を有していてもよいプリン— 9一ィル基又は 2—ォキソ一 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1—ィル基を示す。] で表わされる構造 を 1又は 2以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩で ある。 但し、 上記構造を 2以上含有する場合には、 当該構造間で Bは同一又は異なる。 ( 0;群)
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、
炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基、
メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
炭素数 1乃至 6個のアルキルチオ基、
アミノ基、
核酸合成の保護基で保護されたァミノ基、 '
炭素数 1乃至 6個のアルキル基で置換されたアミ.ノ基、
炭素数 1乃至 6個のアルキル基、 及び、
ハロゲン原子。
ここで、 「オリゴヌクレオチド類縁体」 とは、 天然型のオリゴヌクレオチドにおけ るヌクレオシド単位が上記構造 (l a ) で 1又は 2以上置換された非天然型のものを いい、 そのような類縁伴においては、 例えば、 糖部分が修飾された糖誘導体、 リン酸 ジエステル結合部分がチォエート化されたチォエート誘導体、 末端のリン酸部分がェ ステル化されたエステル体、 プリン塩基上のアミノ基がアミド化されたアミド体を他 のヌクレオシド又はヌクレオチド単位として含有することもできる。
本発明の新規なオリゴヌクレオチド類縁体を含有する核酸試薬及び医薬のうち、 好 適なものは、
2 ) Bが、 6—ァミノプリン一 9—ィル基 (すなわち、 アデニニル基)、 ァミノ基が 核酸合成の保護基で保護された 6—ァミノプリン一 9ーィル基、 2 , 6—ジアミノブ リン一 9ーィル基、 2—アミノー 6—クロ口プリン— 9ーィル基、 ァミノ基が核酸合 成の保護基で保護された 2—アミノー 6—クロ口プリン一 9—ィル基、 2—アミノー
6 —フルォロプリン— 9—ィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2 —ァ ミノー 6 —フルォロプリン一 9ーィル基、 2—ァミノ一 6 —ブロモプリン一 9ーィル 基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2—アミノー 6—プロモプリンー 9 一 ィル基、 2 —アミノー 6—ヒドロキシプリン— 9 —ィル基 (すなわち、 グァニニル 基)、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2 —ァミノ— 6—ヒドロキシプリン 一 9—ィル基、 アミノ基及び水酸基が核酸合成の保護基で保護された 2 —アミノー 6 ーヒドロキシプリン— 9ーィル基、 6—ァミノ一 2—メトキシプリン— 9—ィル基、 6—ァミノ一 2 —クロ口プリン一 9ーィル基、 6—ァミノ一 2 —フルォロプリンー 9 —ィル基、 2 , 6 —ジメトキシプリン一 9ーィル基、 2, 6—ジクロロプリン一 9— ィル基、 6 —メルカプトプリン一 9ーィル基、 2—ォキソ— 4—アミノー 1, 2—ジ ヒドロピリミジン— 1 一ィル基 (すなわち、 シトシニル基)、 ァミノ基が核酸合成の 保護基で保護された 2—ォキソ— 4—ァミノ一 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1ーィ ル基、 2 —ォキソ一 4—アミノー 5 —フルォロ一 1 , 2 —ジヒドロピリミジン一 1— ィル基、 ァミノ基が核酸合成の保護基で保護された 2 —ォキソ一 4一アミノー 5—フ ルオロー 1 2—ジヒドロピリミジン一 1ーィル基、 4—ァミノ一 2—ォキソ一 5— クロ口一 1, 2—ジヒドロピリミジン一 1—ィル基、 2 —ォキソ一 4—メトキシー 1, 2 —ジヒドロピリミジン— 1ーィル基、 2 —ォキソ一 4—メルカプト一 1 , 2 —ジヒ ドロピリミジン一 1ーィル基、 2—ォキソ一 4—ヒドロキシ一 , 2—ジヒドロピリ ミジン一 1—ィル基 (すなわち、 ゥラシニル基)、 2—ォキソ一 4ーヒドロキシ一 5 一メチル— 1, 2—ジヒドロピリミジン— 1—ィル基 (すなわち、 チミニル基)、 4 一アミノー 5—メチル一 2 _ォキソ一 1 , 2 —ジヒドロピリミジン— 1—ィル基 (す なわち、 5—メチルシトシニル基) 又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された 4 —アミノー 5 —メチルー 2 —ォキソ一 1, 2 —ジヒドロピリミジン一 1ーィル基であ る、 オリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩、
3 ) Βが、 6 —べンゾィルァミノプリン— 9ーィル基、 アデニニル基、 2—イソブチ リルアミノー 6—ヒドロキシプリン一 9 —ィル基、 グァニニル基、 2—ォキソ一 4— ベンゾィルァミノ _ 1, 2—ジヒドロピリミジン一 1ーィル基、 シトシ二ル基、 2 - ォキソ一 5—メチルー 4一べンゾィルァミノ一 1, 2—ジヒドロピリミジン一 1 一ィ
ル基、 5—メチルシトシニル基、 ゥラシニル基又はチミニル基である、 オリゴヌクレ ォチド類縁体及びその薬理学上許容される塩である。
上記 R iの定義における 「水酸基の核酸合成の保護基」 は、 核酸合成の際に安定に 水酸基を保護し得るものであれば、 特に限定はないが、 例えば、 ホルミル、 ァセチル、 プロピオニル、 プチリル、 イソプチリル、 ペンタノィル、 ビバロイル、 バレリル、 ィ ソバレリル、 ォクタノィル、 デカノィル、 8—メチルノナノィル、 3ーェチルォクタ ノィル、 3, 7 —ジメチルォクタノィル、. ゥンデカノィル、 1、リデカノィル、 へキサ デカノィル、 1 4—メチルペンタデカノィル、 1 3, 1 3—ジメチルテトラデカノィ ル、 1—メチルヘプ夕デカノィル、 ノナデカノィル、 アイコサノィル及びへナイコサ ノィルのようなアルキルカルボニル基、 スクシノィル、 グルタロイル、 アジボイルの ようなカルボキシ化アルキルカルポニル基、 クロロアセチル、 ジクロロアセチル、 ト リクロロアセチル、 トリフルォロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル 基、 メ トキシァセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、 ( E ) 一 2—メチルー 2ーブテノィルのような不飽和アルキルカルボニル基等の 「脂肪族ァシ ル基」 ;
ベンゾィル、 α—ナフトイル、 β —ナフトイルのようなァリールカルボニル基、 2 一ブロモベンゾィル、 4 _クロ口ベンゾィルのようなハロゲノアリールカルボニル基、 2 , 4 , 6 —卜リメチルベンゾィル、 4 一トルオイルのような低級アルキル化ァリー ルカルポニル基、 4—ァニソィルのような低級アルコキシ化ァリ一ルカルボニル基、 2—カルボキシベンゾィル、 3 一カルボキシベンゾィル、 4 _カルボキシベンゾィル のようなカルボキシ化ァリ一ルカルボニル基、 4—ニトロべンゾィル、 2—二トロべ ンゾィルのようなニトロ化ァリールカルボニル基; 2 - (メトキシカルボニル) ベン ゾィルのような低級アルコキシカルボ二ル化ァリールカルボ二ル基、 4一フエニルべ ンゾィルのようなァリ一ル化ァリールカルボニル基等の 「芳香族ァシル基」 ;
テトラヒドロピラン一 2—ィル、 3 —プロモテトラヒドロピラン一 2—ィル、 4— メトキシテトラヒドロピラン一 4一ィル、 テトラヒドロチォピラン一 2 —ィル、 4― メトキシテトラヒドロチォピラン一 4ーィルのような 「テトラヒドロピラニル又はテ トラヒドロチォピラニル基」 ; テトラヒドロフラン一 2—ィル、 テトラヒドロチオフ
ラン一 2—ィルのような 「テトラヒドロフラニル又はテトラヒ ドロチオフラニル 基」 ;
トリメチルシリル、 トリェチルシリル、 イソプロピルジメチルシリル、 t 一ブチル ジメチルシリル、 メチルジイソプロピルシリル、 メチルジー t 一プチルシリル、 トリ イソプロピルシリルのような卜リ低級アルキルシリル基、 ジフェニルメチルシリル、 t—プチルジフエニルシリル、 ジフエ二ルイソプロビルシリル、 フエニルジイソプロ ビルシリルのような 1乃至 2個のァリール基で置換されたトリ低級アルキルシリル基 ' 等の 「シリル基」 ;
メ トキシメチル、 1, 1 _ジメチルー 1ーメトキシメチル、 エトキシメチル、 プロ ポキシメチル、 イソプロポキシメチル、 ブトキシメチル、 t 一ブトキシメチルのよう な 「低級アルコキシメチル基」 ;
2—メ トキシエトキシメチルのような 「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル 基」 ;
2 , 2, 2—トリクロ口エトキシメチル、 ビス ( 2—クロ口ェ卜キシ)' メチルのよ うな 「ハロゲノ低級アルコキシメチル」 ;
1 一エトキシェチル、 1 一 (イソプロボキシ) ェチルのような 「低級アルコキシ化 ェチル基」 ;
2, 2, 2 _トリクロ口ェチルのような 「ハロゲン化工チル基」 ;
ベンジル、 α—ナフチルメチル、 j3—ナフチルメチル、 ジフエニルメチル、 トリフ ェニルメチル、 α—ナフチルジフエニルメチル、 9一アンスリルメチルのような 「1 乃至 3個のァリール基で置換されたメチル基」 ;
4一メチルベンジル、 2, 4, 6—トリメチルベンジル、 3., 4, 5—トリメチル ベンジル、 4—メ トキシベンジル、 4ーメトキシフエ二ルジフエニルメチル、 4, 4 ' ージメ卜キシトリフエニルメチル、 4, 4 4 " ートリメトキシトリフエニル メチル、 2—ニトロベンジル、 4—ニトロベンジル、 4—クロ口ベンジル、 4一プロ • モベンジル、 4—シァノベンジルのような 「低級アルキル、 低級アルコキシ、 ハロゲ ン又はシァノ基でァリール環が置換された 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチ ル基」 ;
メトキシカルポニル、 エトキシカルポニル、 t—ブトキシカルポニル、 イソブトキ シカルポニルのような 「低級アルコキシカルポニル基」 ;
2 , 2 , 2—トリクロ口エトキシカルポニル、 2—トリメチルシリルエトキシカル ポニルのような 「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ シカルポニル基」 ;
ビニルォキシ力ルポニル、 ァリルォキシカルボニルのような 「アルケニルォキシ力 ルポニル基」 ; . ,
ベンジルォキシカルポニル、 4—メトキシベンジルォキシカルポニル、 3, 4ージ メトキシベンジルォキシカルボニル、 2 —ニトロベンジルォキシカルポニル、 4—二 トロべンジルォキシカルポニルのような 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基 でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 をあげること ができ、
R i においては、 好適には、 脂肪族ァシル基、 芳香族ァシル基、 1乃至 3個のァリ —ル基で置換されたメチル基、 低級アルキル、 低級アルコキシ、 ハロゲン若しくはシ ァノ基でァリール環が.置換された 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチル基、 又 は、 シリル基であり、 さらに好適には、 ァセチル基、 ベンゾィル基、 ベンジル基、 p ーメトキシベンジル基、 ジメトキシトリチル基、 モノメトキシトリチル基又は tert- プチルジフエニルシリル基でである。
上記における 「核酸合成の保護基で保護されたリン酸基」 の核酸合成の保護基とは、 核酸合成の際に安定にリン酸基を保護し得るものであれば、 特に限定はないが、 例え ば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n —プチル、 イソプチル、 s - ブチル、 tert—プチル、 n —ペンチル、 ィソペンチル、 2ーメチルブチル、 ネオペン チル、 1 一ェチルプロピル、 n—へキシル、 イソへキシル、 4—メチルペンチル、 3 ーメチルペンチル、 2—メチルペンチル、 1ーメチルペンチル、 3 , 3ージメチルブ チル、 2, 2ージメチルブチル、 1, 1ージメチルブチル、 1, 2ージメチルブチル、 1 , 3—ジメチルプチル、 2, 3—ジメチルプチル、 2 —ェチルブチルのような 「低' 級アルキル基」 ;
2ーシァノエチル、 2—シァノー 1, 1—ジメチルェチルのような 「シァノ化低級ァ
ルキル基 J ;
2—メチルジフエニルシリルェチル、 2—トリメチルシリルェチル、 2—トリフエ二 ルシリルェチルのような 「シリル基で置換されたェチル基」 ;
2, 2, 2—トリクロ口エヂル、 2, 2, 2—トリプロモェチル、 2, 2, 2—トリ フルォロェチル、 2, 2, 2—トリクロ口— 1、 1ージメチルェチルのような 「八口 ゲン化低級アルキル基」 ;
エテニル、 1 一プロぺニル、 2—プロぺニル、 1—メチル— 2—プロぺニル、 1ーメ チル— 1 一プロぺニル、 2—メチルー 1—プロぺニル、 2—メチルー 2—プロぺニル、 2—ェチル— 2—プロぺエル、 1—ブテニル、 2—ブテニル、 1 一メチル— 2—ブテ ニル、 1 —メチル— 1 —ブテニル、 3 —メチル— 2 —ブテニル、 1 一ェチル— 2—ブ テニル、 3—ブテニル、 1 —メチルー 3—ブテニル、 2 _メチル— 3—ブテニル、 1 —工チル一 3—ブテニル、 1 一ペンテニル、 2 —ペンテニル、 1—メチル— 2—ペン テニル、 2—メチル— 2 _ペンテニル、 3 —ペンテニル、 1—メチルー 3 —ペンテ二 ル、 2—メチルー 3 —ペンテニル、 4—ペンテニル、 1 —メチル— 4 一ペンテニル、 2—メチル— 4—ペンテニル、 1—へキセニル、 2—へキセニル、 3—へキセニル、 4—へキセニル、 5—へキセニルのような 「低級アルケニル基 J ;
シクロプロピル、 シクロブチル、 シクロペンチル、 シクロへキシル、 シクロへプチル、 ノルポルニル、 ァダマンチルのような 「シクロアルキル基」 ;
2—シァノブテニルのような 「シァノ化低級アルケニル基」 ; .
ベンジル、 α—ナフチルメチル、 )3—ナフチルメチル、 インデニルメチル、 フエナン スレニルメチル、 アントラセニルメチル、 ジフエニルメチル、 トリフエニルメチル、 1ーフエネチル、 2—フエネチル、 1 一ナフチルェチル、 2—ナフチルェチル、 1 一 フエニルプロピル、 2—フエニルプロピル、 3—フエニルプロピル、 1—ナフチルプ 口ピル、 2—ナフチルプロピル、 3—ナフチルプロピル、 1 一フエニルブチル、 2— フエニルブチル、 3—フエニルブチル、 4 _フエニルブチル、 1—ナフチルプチル、 2 —ナフチルブチル、 3 —ナフチルブチル、 4 一ナフチルブチル、 1 一フエ二ルペン チル、 2—フエ二ルペンチル、 3—フエ二ルペンチル、 4—フエ二ルペンチル、 5— フエ二ルペンチル、 1 一ナフチルペンチル、 2—ナフチルペンチル、 3 —ナフチルぺ
ンチル、 4一ナフチルペンチル、 5 —ナフチルペンチル、 1 一フエ二ルへキシル、 2 一フエ二ルへキシル、 3 一フエ二ルへキシル、 4 一フエ二ルへキシル、 5—フエニル へキシル、 6—フエ二ルへキシル、 1 一ナフチルへキシル、 2—ナフチルへキシル、 3—ナフチルへキシル、 4—ナフチルへキシル、 5—ナフチルへキシル、 6—ナフチ ルへキシルのような 「ァラルキル基」 ;
4ークロロベンジル、 2 - ( 4—ニトロフエニル) ェチル、 0—二トロベンジル、 4 一二トロベンジル、 2、 4ージニトロベンジル、 4—クロロー 2 _ニトロベンジルの ような 「ニトロ基、 ハロゲン原子でァリール環が置換されたァラルキル基」 ; フエニル、 インデニル、 ナフチル、 フエナンスレニル、 アントラセニルのような 「ァ リール基」 ;
2 —メチルフエニル、 2, 6—ジメチルフエニル、 2—クロ口フエニル, 4—クロ口 フエニル、 2 , 4—ジクロ口フエニル、 2, 5—ジクロ口フエニル、 2 _ブロモフエ ニル、 4一二トロフエニル、 4一クロ口一 2—ニトロフエニルのような 「低級アルキ ル基、 ハロゲン原子、 ニトロ基で置換されたァリール基」 をあげることができ、 好適には、 「低級アルキル基」、 「シァノ基で置換された低級アルキル基」、 「ァラル キル基」、 「ニトロ基、 ハロゲン原子でァリール環が置換されたァラルキル基」 又は 「低級アルキル基、 ハロゲン原子、 ニトロ基で置換されたァリール基」 であり、 さら に好適には、 2—シァノエチル基、 2 , 2, 2—トリクロ口ェチル基、 ベンジル基、 2-クロ口フエニル基又は 4 -クロ口フエニル基である。
上記における 「炭素数 1乃至 6個のアルキル基」 としては、 例えば、 メチル、 ェチ ル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—ブチル、 ィソブチル、 s 一プチル、 tert—ブ チル、 ペンチル、 へキシルのような炭素数 1乃至 6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を あげることができ、 好適には、 炭素数 1乃至 4個のアルキル基であり、 さらに好適に は、 炭素数 1又は 2個のアルキル基であり、 最も好適には、 メチル基である。
上記 R 2の定義における 「ァミノ基の核酸合成の保護基」 とは、 核酸合成の際に安 定にァミノ基を保護し得るものであれば、 特に限定はないが、 例えば、 ホルミル、 ァ セチル、 プロピオニル、 プチリル、 イソブチリル、 ペンタノィル、 ピバロイル、 バレ リル、 イソバレリル、 ォクタノィル、 デカノィル、 8ーメチルノナノィル、 3—ェチ
ルォクタノィル、 3 , 7一ジメチルォクタノィル、 ゥンデカノィル、 トリデカノィル、 へキサデカノィル、 1 4ーメチルペンタデカノィル、 1 3, 1 3—ジメチルテトラデ カノィル、 1—メチルヘプ夕デカノィル、 ノナデカノィル、 アイコサノィル及びへナ ィコサノィルのようなアルキルカルポニル基、 スクシノィル、 グルタロイル、 アジポ ィルのような力ルポキシ化アルキルカルポニル基、 クロロアセチル、 ジクロロアセチ ル、 トリクロロアセチル、 トリフルォロアセチルのような八ロゲノ低級アルキルカル ボニル基、 メ トキシァセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボ二ル基、 ( E ) — 2—メチルー 2—ブテノィルのような不飽和アルキル力ルポニル基等の 「脂 肪族ァシル基」 ;
ベンゾィル、 α—ナフトイル、 ]3—ナフトイルのようなァリールカルボニル基、 2 一プロモベンゾィル、 4一クロ口ベンゾィルのようなハロゲノアリ一ルカルポニル基、 2, 4, 6—トリメチルベンゾィル、 4 -トルオイルのような低級アルキル化ァリー ルカルポニル基、 4ーァニソィルのような低級アルコキシ化ァリ一ルカルポニル基、 2—力ルポキシベンゾィル、 3—力ルポキシベンゾィル、 4—カルポキシベンゾィル のようなカルボキシ化ァリールカルボニル基、 4—ニトロべンゾィル、 2—二トロべ ンゾィルのようなニトロ化ァリールカルボニル基; 2一 (メトキシカルボニル) ベ ンゾィルのような低級アルコキシカルボニル化ァリールカルボニル基、 4一フエニル ベンゾィルのようなァリ一ル化ァリ一ルカルポニル基等の 「芳香族ァシル基」 '; メ卜キシカルポニル、 エトキシカルポニル、 tーブ卜キシカルボニル、 イソブトキ シカルポニルのような 「低級アルコキシカルポニル基」 ;
2 , 2, 2—トリクロ口エトキシカルポニル、 2—卜リメチルシリルエトキシカル ポニルのような 「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ シカルボ二ル基」 ;
ビニルォキシ力ルポニル、 ァリルォキシカルボニルのような 「アルケニルォキシ力 ルポニル基」 ;
ベンジルォキシカルボニル、 4ーメトキシベンジルォキシカルボニル、 3, 4ージ トロべンジルォキシカルポニルのような 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基
でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 ;
4—メチルベンジル、 2, 4 , 6 —トリメチルベンジル、 3 , 4 , 5 —トリメチル ベンジル、 4—メ トキシベンジル、 4ーメ トキシフエニル.ジフエニルメチル、 4, 4 ' ージメ トキシトリフエニルメチル、 4 , 4 ' , 4 " —トリメトキシトリフエニル メチル、 2—ニトロベンジル、 4一二トロベンジル、 4一クロ口ベンジル、 4ーブロ モベンジル、 4 一シァノベンジルのような 「低級アルキル、 低級アルコキシ、 ハロゲ ン又はシァノ基でァリール環が置換された 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチ ル基」 及び 「ァリールォキシカルポニル基」 をあげることができ、
'好適には、 「脂肪族ァシル基」、 「芳香族ァシル基」、 「 1乃至 2個の低級アルコキシ 又はニトロ基でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 又は 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基でァリール環が置換されていてもよ ぃァラルキルォキシカルポニル基」 であり、
さらに好適には、 「脂肪族ァシル基」、 「 1乃至 2個の低級ア コキシ又はニトロ基 でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 又は 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基でァリール環が置換されていてもよいァラルキル ォキシカルポニル基」 であり、
特に好適には、 トリフルォロアセチル基、 モノメトキシトリチル基、 又はべンジル ォキシカルポニル基である。
上記 α群の定義における 「ハロゲン原子」 としては、 弗素原子、 塩素原子、 臭素原 子又は沃素原子をあげることができ、 好適には、 弗素原子又は塩素原子である。
上記 R Sa及び R 並びに α群の定義における 「炭素数 1乃至 6個のアルキル基」 と しては、 例えば; メチル、 エヂル、 η—プロピル、 イソプロピル、 η—プチル、 イソ プチル、 sーブチル、 tert—プチル、 ペンチル、 へキシルのような炭素数 1乃至 6個 の直鎖又は分枝鎖アルキル基を挙げることができ、 好適には、 メチル基又はェチル基 である。
上記における 「核酸合成の保護基で保護された水酸基」 の核酸合成の保護基として は、 前記 「水酸基の核酸合成の保護基」 で例示した基と同様の基をあげることができ、 好適には、 「脂肪族ァシル基」 又は 「芳香族ァシル基」 であり、 さらに好適には、 ベ
ンゾィル基である。
上記における 「核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基」 の核酸合成の保護基 としては、 例えば、 前記 「水酸基の核酸合成の保護基」 としてあげたものの他、 メチ ルチオ、 ェチルチオ、 tert -プチルチオのようなアルキルチオ基、 ベンジルチオのよ う,なァリ一ルチオ基等の 「ジスルフイ ドを形成する基」 をあげることができ、 好適に は、 「脂肪族ァシル基」 又は 「芳香族ァシル基」 であり、 さらに好適には、 ベンゾィ ル基である。
上記 R Sa及び R Sb並びに α群の定義における 「核酸合成の保護基で保護されたアミ ノ基」 の核酸合成の保護基としては、 前記 「ァミノ基の核酸合成の保護基」 で例示し た基と同様の基を挙げることができ、 好適には、 「脂肪族ァシル基」 又は 「芳香族ァ シル基」 であり、 更に好適には、 ベンゾィル基である。
上記における 「炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基」 としては、 例えば、 メトキシ、 エトキシ、 η—プロポキシ、 イソプロポキシ、 η —ブトキシ、 イソブトキシ、 s—ブ トキシ、 tert—ブ卜キシ、 ペンチルォキシ、 へキシルォキシのような炭素数 1乃至 6 個の直鎖若しくは分枝鎖アルコキシ基を挙げることができ、 好適には、 メトキシ又は エトキシ基である。
上記 「炭素数 1乃至 6個のアルキルチオ基」 としては、 例えば、 メチルチオ、 ェチ ルチオ、 プロピルチオ、 イソプロピルチオ、 プチルチオ、 ィソブチルチオ、 s—プチ ルチオ、 tert—プチルチオ、 ペンチルチオ、 へキシルチオ基を挙げることができ、 好 適には、 メチルチオ又はェチルチオ基である。
' 上記における 「炭素数 1乃至 6個のアルキル基で置換されたアルキルアミノ基」 と しては、 例えば、 メチルァミノ、 エヂルァミノ、 プロピルァミノ、 イソプロピルアミ ノ、 プチルァミノ、 イソプチルァミノ、 s—プチルァミノ、 tert—プチルァミノ、 ぺ ンチルァミノ、 へキシルァミノ、 ジメチルァミノ、 ジェチルァミノ、 ジプロピルアミ ノ、 ジィソプロピルアミノ、 ジブチルァミノ、 ジィソブチルァミノ、 ジ ( s—プチ ル) ァミノ、 ジ (tert—プチル) ァミノ、 ジペンチルァミノ、 ジへキシルァミノ基を 挙げることができ、 好適には、 メチルァミノ、 ェチルァミノ、 ジメチルァミノ又はジ ェチルァミノ基である。
上記の炭素数 1乃至 7個のシァノアルコキシ基としては、 例えば、 シァノメトキシ、 シァノエトキシ、 シァノプロピルォキシ、 シァノプチルォキシ、 シァノペンチルォキ シ、 シァノへキシルォキシ基等を挙げることができ、 好適には、 2—シァノエトキシ 基である。
上記 「その薬理上許容される塩」 とは、 本発明の化合物 (I) 並びに上記構造 (I a ) を含有するオリゴヌクレオチド類縁体は、 塩にすることができるので、 その塩を いい、 そのような塩としては、 好適には、 ナトリウム塩、 カリウム塩、 リチウム塩の ようなアルカリ金属塩、 カルシウム塩、 マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、 アルミニウム塩、 鉄塩、 亜鉛塩、 銅塩、 ニッケル塩、 コバルト塩等の金属塩; アンモ ニゥム塩のような無機塩、 t一才クチルァミン塩、 ジベンジルァミン塩、 モルホリン 塩、 ダルコサミン塩、 フエニルダリシンアルキルエステル塩、 エチレンジァミン塩、
N—メチルダルカミン塩、 グァニジン塩、 ジェチルァミン塩、 トリェチルァミン塩、 ジシクロへキシルァミン塩、 N , N ' —ジベンジルエチレンジァミン塩、 クロ口プロ 力イン塩、 プロ力イン塩、 ジエタノールアミン塩、 N—べンジルーフエネチルァミン 塩、 ピぺラジン塩、 テトラメチルアンモニゥム塩、 トリス (ヒドロキシメチル) アミ ノメタン塩のような有機塩等のアミン塩;弗化水素酸塩、 塩酸塩、 臭化水素酸塩、 沃 化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、 硝酸塩、 過塩素酸塩、 硫酸塩、 燐酸塩等の' 無機酸塩; メタンスルホン酸塩、 トリフルォロメタンスルホン酸塩、 エタンスルホン 酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、 ベンゼンスルホン酸塩、 p-トルエンスルホ ン酸塩のよう'なァリールスルホン酸塩、 酢酸塩、 りんご酸塩、 フマール酸塩、 コハク 酸塩、 クェン酸塩、 酒石酸塩、 蓚酸塩、 マレイン酸塩等の有機酸塩;及び、 グリシン 塩、 リジン塩、 アルギニン塩、 オル二チン塩、 グルタミン酸塩、 ァスパラギン酸塩の ようなアミノ酸塩を挙げることができ、 ビシクロヌクレオシド構造 (l a ) を含有す るオリゴヌクレオチド類縁体の場合には、 ナトリウム塩、 カリウム塩及びトリェチル ァミン塩が好適であり、 化合物 (I) の場合には、 フリー体が好適である。
また、 本発明の化合物 (I) 並びに上記構造 (l a ) を含有するオリゴヌクレオチド 類縁体は、 大気中に放置しておくことにより、 水分を吸収し、 吸着水が付いたり、 水 和物となる場合があり、 そのような塩も本発明に包含される。
さらに、 本発明の化合物 (I) 並びに上記構造 (la) を含有するオリゴヌクレオチ ド類縁体は、 他のある種の溶媒を吸収し、 溶媒和物となる場合があるが、 そのような 塩も本発明に包含される。
本発明のピシクロヌクレオシド誘導体 (I) の具体例としては、 例えば、 下記表 1 及び表 2に示すような化合物をあげることができる。
表 1及び表 2において、
「Bn」 は、 ベンジル基、 「B z」 は、 ベンゾィル基、 「P hOAc」 は、 フエノキシ ァセチル基、 「Me」 は、 メチル基、 「PMBn」 は、 p—メトキシベンジル基、 「 i P r」 は、 イソプロピル基、 「MMT r」 は、 4—メ トキシトリフエニルメチル基、
「DMT r」 は、 4, 4 ' ージメトキシトリフエニルメチル基、 「TES」 は、 トリ ェチルシリル基、 「T f a」 は、 トリフルォロアセチル基、 「TMT r」 は、 4,4',4" ートリメトキシトリフエニルメチル基、 「TMS」 は、 卜リメチルシリル基、 「TBD, MS J は、 tert—プチルジメチルシリル基、 「TBDP S」 は、 tert—プチルジフエ二 ルシリル基、 ΓΡ CNJ はシァノエトキシ (ジィソプロピルァミノ) フォスフイノ基、
「PMN」 はメトキシ (ジイソプロピルァミノ) フォスフイノ基を示す。
(表 1)
w
1-1 H H H H
1-2 H H H OH
61
HO 29HN H οε-ι HO zaHN 3 0Md H 62- L 2删 H e H Z-1 28HN H 3V04d H ZZ-l Z
2HN H H 9Z-1
2HN H H 92-1 HO HN H Π-1 HO H H U-l
10 H H IZ-l
2HN H H 02-1
H 2HN H H 61 - 1 zHfi H H 81-1 9IIII0 SWO H H Zl-L 91 zm HO H H 91-1
HO HO H H 9L-1 H HO H H - 1
13 13 H H 11- 1 SHN ID H H OL-L
H 10 H H 6-L 2HN H H 8- 1
H H H L-l
9W0 H H H . 9- 1 zHti H SW H S - 1 2HN H H H ト I HS H H H ε-ι l7Cl0/£00Zdf/X3d ひ 8 o/ z OAV
1-31 Bn PhOAc H NHBz
1-32 PMBn PhOAc H NHBz
1-33 Bn Tfa H NHBz
1-34 PMBn Tfa H NHBz
1-35 Bn PhOAc NHBz OH
1-36 PMBn PhOAc NHBz OH
1-37 Bn Tfa NHBz OH
1-38 PMBn Tfa NHBz OH
1-39 MTr PhOAc H NHBz
1-40 D Tr PhOAc H NHBz
1-41 T Tr PhOAc H NHBz
1-42 匪 Tr Tfa H NHBz
1-43 DMTr Tfa H NHBz
1-44 TMTr Tfa H NHBz
1-45 MMTr PhOAc NHBz OH
1-46 DMTr PhOAc NHBz OH
1-47 TMTr PhOAc NHBz OH
1-48 MMTr Tfa NHBz OH
1-49 DMTr Tfa NHBz OH
1-50 TMTr Tfa NHBz OH
1-51 TBDPS PhOAc H NHBz
1-52 TBDMS PhOAc H ' NHBz
1-53 TMS PhOAc H NHBz
1-54 TBDPS Tfa H NHBz
1-55 TBDMS Tfa H NHBz
1-56 TMS Tfa H NHBz
1-57 TBDPS PhOAc NHBz OH
1-58 TBDMS PhOAc NHBz OH
1-59 TMS PhOAc NHBz OH
1-60 TBDPS Tfa NHBz OH
1-61 TBDMS Tfa NHBz OH
1-62 TMS Tfa NHBz OH
1-63 DMTr Tfa NHCOCH (CH3) 2 OH
1-64 DMTr PhOAc NHCOCH (CH3) 2 OH
1-65 DMTr Me NHCOCH (CH3) 2 OH
1-66 DMTr Me H NHBz
1-67 TBDMS Tfa NHCOCH (CH3) 2 OH
1-68 H Me NHCOCH (CH3) 2 OH
1-69 H Me H NHBz
1-70 TBDPS MMTr H NHBz
1-71 TBDPS MMTr NHCOCH (CH3) 2 OH
1-72 TBDMS MMTr H NHBz
1-73 TBDMS MMTr NHCOCH (CH3) 2 OH
1-74 H MMTr H NHBz
1-75 H MMTr NHCOCH (CH3) 2 OH
1-76 PCN MMTr H NHBz
1-77 PCN MMTr NHCOCH (CH3) 2 OH
1 - 78 P N MMTr H NHBz
1-79 P園 MMTr NHCOCH (CH3) 2 OH
畨 R1 R2 R6 R7
2-1 H H H H
2-2 H H CI H
2-3 H H OH H
2-4 H Me OH H
2-5 H H OH Me
2-6 H Me OH Me
2-7 H H SH H
2-8 H H NH2 H
2-9 H Me NH2 H
2-10 H H ' NH2 F
2-11 H H NH2 CI
2-12 H H NH2 Me
2-13 H H OMe H j
2-14 H PhOAc OH H
2-15 H Tfa OH H
2-16 H PhOAc OH Me
2-17 H Tfa OH Me
2-18 H PhOAc NHBz H
2-19 H Tfa NHBz H
2-20 Bn PhOAc OH H 2-21 PMBn PhOAc OH H 2-22 Bn Tfa OH H 2-23 PMBn Tfa OH H 2-24 Bn PhOAc OH Me 2-25 PMBn PhOAc OH Me 2-26 Bn Tfa OH Me 2-27 PMBn Tfa OH Me 2-28 Bn PhOAc 瞧 z H 2-29 PMBn PhOAc NHBz H 2 - 30 Bn Tfa NHBz H 2-31 PMBn Tfa NHBz H 2-32 MMTr PhOAc OH H 2-33 DMTr PhOAc OH H 2-34 TMTr PhOAc OH H 2-35 MMTr Tfa OH H 2-36 DMTr Tfa OH H 2-37 TMTr Tfa OH H 2-38 MMTr PhOAc OH Me 2-39 DMTr PhOAc OH Me 2-40 TMTr PhOAc OH Me 2-41 MMTr Tfa OH Me 2-42 DMTr Tfa OH Me 2-43 TMTr Tfa OH Me 2-44 MMTr PhOAc NHBz H 2-45 DMTr PhOAc NHBz H 2-46 TMTr PhOAc NHBz H 2 - 47 MMTr Tfa NHBz H
2-48 D Tr Tfa NHBz H
2-49 TMTr Tfa NHBz H
2-50 TBDPS PhOAc OH H
2-51 TBDMS PhOAc OH H
2-52 TMS PhOAc OH H
2-53 TBDPS Tfa OH H
2-54 TBDMS Tfa OH H
2-55 TMS Tfa OH H
2-56 TBDPS PhOAc OH Me
2-57 TBDMS PhOAc OH Me
2-58 TMS PhOAc OH Me
2-59 TBDPS Tfa OH Me
2-60 TBDMS Tfa OH Me
2-61 TMS Tfa OH Me
2-62 TBDPS PhOAc NHBz H
2-63 TBDMS PhOAc NHBz H ,
2-64 TMS PhOAc NHBz H
2-65 TBDPS Tfa NHBz H
2-65 TBDMS Tfa NHBz H
2-67 TMS Tfa NHBz H
2-68 DMTr Tfa NHBz Me
2-69 H Me NHBz Me
2-70 TBDPS ( Tr)NH OH H
2 - 71 TBDPS (關 Tr NH OH Me
2-72 TBDPS (MMTr)NH NHBz H
2-73 TBDPS (MMTr)NH NHBz Me
2-74 TBDMS ( MTr)NH OH H
2-75 TBDMS (MMTr)NH OH Me
2-76 TBDMS (MMTr)NH NHBz H
2-77 TBD S (MMTr)NH NHBz Me
2-78 H (關 T NH OH H
2-79 H ( Tr)NH OH Me
2-80 H ( MTr)NH NHBz H
2-81 H (MMTr)NH NHBz Me
2 - 82 PCN (MMTr)NH OH H
2-83 PCM ( MTr)NH OH Me
2-84 PCN (關 Tr)NH NHBz H
2-85 PCN ( Tr)NH NHBz Me
2-86 PMN (MMTr)NH OH H
2-87 PMN (MMTr)NH OH Me
2-88 PMN ( MTr)NH NHBz H
2-89 P關 ( Tr)NH NHBz Me 上記表中、 好適な化合物としては、 化合物番号 1-3、 1-4、 1-5、 1-8、 1-10、 1-11,
1- 17、 1-18、 1-20、 1-21、 1-22、 1.23、 1-24、 1·25、 1'28、 1-30, 1-54、 1-60, 1- 70 乃至 1-79、 2-5、 2-6、 2.7、 2.8、 2.9、 2·10、 2·11、 2·12、 2-13、 2-16、 2-17、 2- 19、 2-42、 2-56、 2-59、 2-65、 2_70乃至 2-90の化合物があげられ、
さらに好適な化合物としては、 化合物番号 1-4、 1-23、 1-76 乃至 1-79、 2-5、 2-6、
2- 8、 2-16、 2-17、 2-42、 2-56、 2-59, 2-83 乃至 2-90 の化合物を挙げることができ る。 '
[発明の実施の形態]
本発明のビシクロヌクレオシド誘導体 (I) は、 以下に記載する Α法により、 製造 することができる。
(I")
(I)
上記工程表中、 R i、 R2、 Bは、 前述と同意義である。
R 8は、 水酸基の核酸合成の保護基を示し、 好適には、 t 一プチルジメチルシリル、 トリメチルシリル、 卜リェチルシリル、 トリイソプロピルシリル、 ジメチルイソプ口 ビルシリル、 ジェチルイソプロビルシリル、 t —ブチルジフエニルシリル、 ジフエ二 ルメチルシリル、 トリフエニルシリルのようなシ'リル基、 4—メトキシトリフエニル メチル、 4,4' -ジメトキシトリフエニルメチル、 4,4',4" -トリメトキシトリフエニル メチルのようなトリチル基、 ベンジル、 p—メトキシベンジルのようなァラルキル基 であり、 更に好適には、 t-プチルジフエニルシリル基である。
, R 9は、 ァミノ基の核酸合成の保護基を示し、 好適には、 「脂肪族ァシル基」、 「芳 香族ァシル基」、 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基でァリール環が置換され. ていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 又は 「1乃至 2個の低級アルコキシ又 は二ト口基でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルポニル基」 で あり、 さらに好適には、 「脂肪族ァシル基」、 「 1乃至 2個の低級アルコキシ又はニト 口基でァリール環が置換されていてもよいァラルキルォキシカルボ二ル基」 又は 「1 ' 乃至 2個の低級アルコキシ又はニトロ基でァリール環が置換されていてもよいァラル キルォキシカルボニル基」 であり、 特に好適には、 トリフルォロアセチル基、 モノメ トキシトリチル基、 又はべンジルォキシカルボニル基である。
B iは、 下記 1群から選択される置換基を有していてもよいプリン一 9一ィル又 は 2—ォキソ一 1, 2—ジヒドロピリミジン一 1 一ィル基を示す。
( α 1群)
ハロゲン原子、
炭素数 1乃至 6個のアルキル基、
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、 , . メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
アミノ基、
核酸合成の保護基で保護されたァミノ基、
炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基、
炭素数 1乃至 6個のアルキルチオ基、 及び、
炭素数 1乃至 6個のアルキル基で置換された
モノ若しくはジアルキルアミノ基。
A法は、 化合物 (III) を出発原料として、 目的化合物 (I) を得る方法である。 以下、 A法の各工程につき、 詳細に説明する。
く八法>
(A - 1工程)
本工程は、 不活性溶剤中、 水素及び触媒の存在下、 公知の方法により製造すること ができる化合物 (II) の水酸基を水素原子に変換して、 化合物 (III) を製造するェ 程である。
化合物 (II) は、 特開 2 0 0 1— 6 4 2 9 7号における化合物 (1 ) と同一であり、 特開 2 0 0 1— 6 4 2 9 7号に記載の方法に従って得ることができる。
本工程は、 水酸基とチォカルポニル基の付加反応 (A-la) を行った後、 続いて還 元反応 (A-lb) を行うことにより行われる。
(A-la) 水酸基とチォカルボニル基の付加反応
使用される溶剤としては、 本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、 好 適には、 ジェチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジォキサンのようなェ一テル類、 ホルムアミ ド、 ジメチルホルムアミド、 ジメチルァセトアミド、 N—メチルー 2—ピ , ロリ ドン、 へキサメチルホスホロトリアミ ドのようなアミド類、 ァセトニトリル、 ィ
ソプチロニ卜リルのようなニトリル類が用いられ、 好適には二トリル類である。
使用される試薬としては、 通常、 チォカルポニル基付加反応に使用されるものであ れば、 特に限定はないが、 好適には、 ハロゲノフエノキシチ才力ルポニル類であり、 さらに好適には塩化フエノキシチォカルポエルが用いられる。
反応温度及び反応時間は、 出発物質、 溶媒及び触媒の種類等により異なるが、 通常、
0 °C乃至 1 0 0 °C (好適には、 2 0 °(:乃至4 0 °0、 5分乃至 4 8時間 (好適には、
1時間乃至 1 0時間) である。
反応終了後、 本反応の目的化合物は、 例えば、 反応混合物を濃縮し、 水と酢酸ェチ ルのような混和しない有機溶媒を加え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、 溶剤を留去することで得られる。
得られた化合物は、 必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿、 シリカゲルカラ ムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。 また、 精製せずにそのまま次の反 応に用いることもできる。
(A-lb) 還元反応
使用される溶媒としては、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 キシレンのような芳香族 炭化水素類; ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジ ォキサン、 ジメトキシェタン、 ジエチレングリコールジメチルェ一テルのようなエー テル類類を挙げることができ、 好適には芳香族炭化水素類であり、 さらに好適にはト ルェンである。
使用される還元剤としては、 例えば、 ァゾビスイソプチロニトリル、 トリフエニル ホウ素のようなラジカル開始剤を触媒として用い、 水素化トリプチルスズ、 水素化ト リフエニルスズ、 水素化ジブチルスズのようなラジカル還元剤を用いる方法を挙げる ことができ、 好適には、 ァゾビスイソプチロニトリル及び水素化トリプチルスズの組 ' · み合わせである。
反応温度は、 原料化合物、 反応試薬によって異なるが、 20°C乃至 200°Cで行なわ れ、 好適には、 50°C乃至 120 である。
反応時間は、 反応温度、 原料化合物、 反応試薬又は使用される溶媒の種類によって '異なるが、 通常、 1時間乃至 3日間で、 好適には、 3時間乃至 24時間である。
反応終了後、 本反応の目的化合物は、 例えば、 反応混合物を濃縮し、 水と酢酸ェチ ルのような混和しない有機溶媒を加え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、 溶剤を留去することで得られる。
得られた化合物は、 必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿、 シリカゲルカラ ムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
( A— 2工程)
本工程は、 不活性溶剤中、 A— 1工程で製造される化合物 (II) に、 脱保護試薬を 反応させて、 また、 必要ならばアルキル化を行なって、 化合物 (I) 製造する工程 である。
脱保護の方法は、 保護基の種類によって異なるが、 他の副反応を生じない方法であ れば、 特に限定はなく、 例えば、" Protective Groups in Organic Synthesis " (Theodora W. Greene 著、 1981年、 A Wileylnterscience Publication発行)に記載 の方法によって、 行うことができる。
また、 異なる種類の保護基が複数個存在している場合は、 これらの方法を適宜組み 合わせて、 順次脱保護を行なうことができる。
特に、 保護基が、 (1 ) 「脂肪族ァシル基又は芳香族ァシル基」、 ( 2 ) 「1乃至 3個 のァリール基で置換されたメチル基」 又は 「低級アルキル、 低級アルコキシ、 ハロゲ ン、 シァノ基でァリール環が置換された 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチル 基」、 ( 3 ) 「シリル基」 の場合には、 以下の方法により行うことができる。
( 1 ) 脂肪族ァシル基及び芳香族ァシル基の場合は、 通常、 不活性溶剤中、 塩基を反 応して行う。
使用される溶剤としては、 通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定 はなく、 例えば、 水; メタノール、 エタノール、 n—プロパノールのようなアルコー ル類、 テトラヒドロフラン、 ジォキサンのようなエーテル類等の有機溶媒又は水と上 記有機溶媒との混合溶媒が用いられ、 好適には、 アルコール類である。
使用される塩基としては、 化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限 定はないが、 好適には、 ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド類;炭酸ナ トリ.ゥム、 炭酸カリウム、 炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリ
ゥム、 水酸化カリウム、 水酸化リチウム、 水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸 化物又はアンモニア水、 濃アンモニア一メタノールのようなアンモニア類が用いられ、 好適には、 アルカリ金属炭酸塩である。 '
反応温度及び反応時間は、 出発物質、 溶媒及び使用される塩基等により異なり特に 限定はないが、 副反応を抑制するために、 通常は 0 乃至 1 5 0 °Cで、 1乃至 1 0時 間実施される。
反応終了後、 本反応の目的化合物 (I) は常法に従って、 反応混合物から採取され る。 例えば、 反応混合物を濃縮し、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加 え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、 溶 剤を留去することで得られる。
得られた化合物は必要ならば常法、 例えば、 再結晶またはシリカゲルカラムクロマ トグラフィ一等によって更に精製できる。
( 2 ) 保護基が 「 1乃至 3個のァリール基で置換されたメチル基」 又は 「低級アルキ ル、 低級アルコキシ、 ハロゲン、 .シァノ基でァリール環が置換された 1乃至 3個のァ リール基で置換されたメチル基」 の場合には、 不活性溶剤中、 還元剤を用いて行う。 使用される溶剤としては、 好適には、 メタノール、 エタノール、 イソプロパノール のようなアルコール類; ジェチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジォキサンのよう なエーテル類; トルエン、 ベンゼン、 キシレンのような芳香族炭化水素類;へキサン、 シクロへキサンのような脂肪族炭化水素類;酢酸ェチル、 酢酸プロピルのようなエス テル類;酢酸のような有機酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒を挙げること ができる。
使用される還元剤としては、 通常、 接触還元反応に使用されるものであれば特に限 定はないが、 好適には、 パラジウム炭素、 ラネーニッケル、 酸化白金、 白金黒、 ロジ ゥム一酸化アルミニウム、 トリフエニルホスフィン—塩化ロジウム、 パラジウム—硫 酸バリウムを挙げることができる。
圧力は、 特に限定はないが、 通常 1乃至 1 0気圧で行なわれる。
反応温度は、 0 °C乃至 6 0でであり、 好適には、 2 0乃至 4 0 °Cである。
反応時間は、 1 0分乃至 2 4時間であり、 好適には、 1乃至 3時間である。 '
反応終了後、 本反応の目的化合物 (I) は常法に従って、 反応混合物から採取され る。 例えば、 反応混合物から、 還元剤を除去し、 水と酢酸ェチルのような混和しない 有機溶媒を加え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸ナトリウム等 で乾燥後、 溶剤を留去することで得られる。
得られた化合物は、 必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマ トグラフィ一等によって更に精製できる。
「3個のァリール基で置換されたメチル基」、 すなわち、 トリチル基の場合は酸を 用いて行うこともできる。
その場合に、 使用する溶剤としては、 例えば、 ベンゼン、 トルエン、 キシレンのよ うな芳香族炭化水素類'; メチレンクロリ ド、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 1, 2—ジ クロロェタン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類; メタノール、 エタノール、 イソプロパノール、 tert-ブタノ一ルのようなアルコール 類; ァセトニトリル、 イソブチロニトリルのような二トリル類; ホルムアミ ド、 N , ' N—ジメチルホルムアミ ド、 , N—ジメチルァセトアミド、 N—メチルー 2—ピロ リ ドン、 N—メチルピロリジノン、 へキサメチルホスホロトリアミ ドのようなアミド 類;酢酸のような有機酸類を挙げることができ、 好適には、 有機酸 (特に、 酢酸) 又 はアルコール-類 (特に、 tert-ブタノール) である。
使用する酸としては、 好適には、 酢酸又はトリフルォロ酢酸である。 , 反応温度は、 0 °C乃至 6 0 °Cであり、 好適には、 2 0乃至 4 0 °Cである。
反応時間は、 1 0分乃至 2 4時間であり、 好適には、 1乃至 3時間である。
反応終了後、 本反応の目的化合物 (I) は常法に従って、 反応混合物から採取され る。 例えば、 反応混合物を中和し、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加 え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、 溶 剤を留去することで得られる。
得られた化合物は、 必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、. シリカゲルカラムクロマ トグラフィ一等によって更に精製できる。
( 3 ) 保護基が、 「シリル基」 の場合は、 通常、 弗化テトラプチルアンモニゥム、 弗 化水素酸、 弗化水素酸—ピリジン、 弗化カリウムのような弗素ァニオンを生成する化
合物で処理するか、 又は、 酢酸、 メタンスルホン酸、 パラトルエンスルホン酸、 トリ フルォロ酢酸、 トリフルォロメ夕ンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような無機 酸で処理することにより除去できる。 '
尚、 弗素ァニオンにより除去する場合に、 蟻酸、 酢酸、 プロピオン酸のような有機 酸を加えることによって、 反応が促進することがある。
使用される溶媒としては、 反応を阻害せず、 出発物質をある程度溶解するものであ. れば特に限定はないが、 好適には、 ジェチルェ一テル、 ジイソプロピルェ一テル、 テ トラヒドロフラン、 ジォキサン、 ジメトキシェタン、 ジエチレングリコールジメチル エーテルのようなエーテル類; ァセトニトリル、 イソプチロニトリルのような二トリ ル類;水;酢酸のような有機酸及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
反応温度は、 0 °C乃至 1 0 0 °Cであり、 好適には、 2 0乃至 7 0でである。
反応時間は、 5分乃至 4 8時間であり、 好適には、 1乃至 2 4時間である。
反応終了後、 本反応の目的化合物 (I) は常法に従って、 反応混合物から採取され る。 例えば、 溶剤を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する ことで得られる。
R 2が炭素数 1乃至 6個のアルキル基である化合物は、 前述の方法で R iO を脱保護 した後、 アルキル化剤及び塩基を用いることにより製造することができる。
使用する溶媒としては、 反応を阻害せず、 出発物質をある程度溶解するものであれ ば特に限定はないが、 好適には、 ジェチルェ一テル、 ジォキサン、 テトラヒドロフラ ンのようなェ一テル類、 メチレンクロリ ド、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロェ' タン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼンのようなクロ口化炭化水素類及びこれらの 混合溶剤である。
使用するアルキル化剤としては、 ヨウ化アルキルが好適である。
使用する塩基としては、 トリェチルァミン、 ピリジン、 ジメチルァミノピリジン、 1,8_ジァザビシクロ [5,4,0]ゥンデ力- 7-ェンのような有機塩基が好適である。
反応温度は、 — 3 0 °C乃至 4 0 °Cであり、 好適には、 一 1 0乃至 2 0 °Cである。 反応時間は、 1乃至 1 0 0時間であり、 好適には、 1 2乃至 4 8時間である。
反応終了後、 本反応の目的化合物 (I) は常法に従って、 反応混合物から採取され
る。 例えば、 溶剤を留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製する ことで得られる。
R iが、 リン酸基や保護されたリン酸基の場合には、 さらに、 以下の方法を追加的 に行う。
すなわち、 不活性溶剤中で、 R iが水素である化合物 (I) に、 所望のリン酸化試薬 (例えば、 2—クロ口フエニルホスホロピストリアゾリ ド) を反応させる。
使用される溶剤としては、 反応を阻害しないものであれば、 特に限定はないが、 通 常は、 ピリジンのような芳香族ァミンが用いられる。
反応温度は、 — 2 0乃至 1 0 0 °Cまで特に限定はないが、 通常は、 室温で実施する c 反応時間は、 溶剤、 反応温度によって異なるが、 反応溶剤として、 ピリジンを用い、 室温で実施した場合は 1時間である。
反応終了後、 目的化合物は、 例えば、 反応混合物を適宜中和し、 又、 不溶物が存在 する場合には濾過により除去した後、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を 加え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、 溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は、 必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿又はクロマト グラフィ一等によって更に精製できる。
リン酸基上の保護基は、 核酸合成の際に通常用いられる方法で除去できる。
R 1が、 前述の式一 P ( R 3a) R 3bで表される基の場合には、 さらに、 以下の方法 を追加的に行う。
本工程は、 不活性溶剤中、 脱酸剤の存在下、 R iが水素である化合物に、 式 X— P
( R 3a2) R 3b2 (式中、 R Sa2及び R Sb2は、 同一又は異なって、 核酸合成の保護基で保 護された水酸基、 核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、 核酸合成の保護基で 保護されたァミノ基、 炭素数 1乃至 6個のアルコキシ基、 炭素数 1乃至 6個のアルキ ルチオ基、 炭素数 1.乃至 7個のシァノアルコキシ基又は炭素数 1乃至 6個のアルキル 基で置換されたアミノ基を示し、 Xはハロゲン原子を示す) で表される亜リン酸化剤 を反応させる。
使用される亜リン酸化剤として、 好適なものは、 クロ口モルホリノメトキシホスフ
イン、 クロ口モルホリノシァノエトキシホスフィン、 クロロジメチルアミノメトキシ ホスフィン、 クロロジメチルァミノシァノエトキシホスフィン、 クロロジイソプロピ ルアミノメトキシホスフィン、 クロロジィソプロピルアミノシァノエトキシホスフィ ンのようなホスフィン類であり、 さらに好適には、 クロ口モルホリノメトキシホ.スフ イン、 クロ口モルホリノシァノエトキシホスフィン、 クロロジイソプロピルアミノメ トキシホスフィン、 クロロジイソプロピルアミノシァノエトキシホスフィンである。 使用される溶剤としては、 反応に影響を与えないものであれば、 特に限定はないが、 好適には、 テトラヒドロフラン、 ジェチルエーテル、 ジォキサンのようなエーテル類 である。
使用される脱酸剤としては、 ピリジン、 ジメチルァミノピリジンのような複素環ァ ミン類、 トリメチルァミン、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミンのよう な脂肪族ァミン類があげられるが、 好適には、 脂肪族ァミン類 (特にジイソプロピル エヂルァミン) である。
反応温度は、 特に限定はないが、 通常一 5 0乃至 5 0 °Cであり、 好適には、 室温で ある。 反応時間は、 使用する原料、 試薬、 温度等により異なるが、 通常、 5分から 3 0時間であり、 好適には、 室温で反応した場合、 3 0分である。
反応終了後、 目的化合物は、 例えば、 反応混合物を適宜中和し、 又、 不溶物が存在 する場合には、 濾過により除去した後、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒 を加え、 水洗後、 目的化合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸マグネシウム等で乾燥 後、 溶剤を留去することによって得られる。 得られた目的化合物は必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
所望により、 各官能基上の保護基は、 核酸合成の際、 通常用いられる方法で除去で きる。
本発明の化合物 (I) を用い、 以下に述べる B 法により、 上記構造 (l a ) を含有 するオリゴヌクレオチド類縁体を製造することができる。
ΗΟ-η B-1 R110 B
、 N。R 10 L NrR>10 (lb) (IV)
B-2
才リゴヌクレオチド
上記工程表中、 R 1 Qは、 ァミノ基の核酸合成の保護基 (特に、 メトキシ基で置換さ れていてもよいトリチル基) を示し、 R 11 は、 ホスホニル基、 ίί述するモノ置換—ク ロロ (アルコキシ) ホスフィン類又はジ置換—アルコキシホスフィン類を反応するこ とに'より形成される基を示す。
以下 Β法の各工程について、 詳細に説明する。
<Β法 >
(B— 1工程)
本工程は、 不活性溶剤中、 Α法で製造される化合物 (lb) (該化合物は、 A— 2ェ 程で R iを脱保護して得られる化合物 (I) に相当する) に、 アミダイト化に通常用い るモノ置換一クロ口 (アルコキシ) ホスフィン類又はジ置換一アルコキシホスフィン 類を反応して、 化合物 (IV) を製造する工程である。
使用される溶剤としては、 反応に影響を与えないものであれば、 特に限定はないが、 好適には、 テ卜ラヒドロフラン、 ジェチルエーテル、 ジォキサンのようなエーテル類 である。
使用されるモノ置換一クロ口 (アルコキシ) ホスフィン類としては、 例えば、 クロ 口 (モルホリノ) メ卜キシホスフィン、 クロ口 (モルホリノ) シァノエトキシホスフ イン、 クロ口 (ジメチルァミノ) メ卜キシホスフィン、 クロ口 (ジメチルァミノ) シ ァノエトキシホスフィン、 クロ口 (ジイソプロピルァミノ) メトキシホスフィン、 ク ロロ (ジィソプロピルアミノ) シァノエトキシホスフィンのようなホスフィン類があ げられ、 好適には、 クロ口 (モルホリノ) メ 卜キシホスフィン、 クロ口 (モルホリ ノ) シァノエ卜キシホスフィン、 クロ口 (ジィソプロピルアミノ) メ卜キシホスフィ ン、 クロ口 (ジィソプロピルァミノ) シァノエ卜キシホスフィンである。
モノ置換—クロ口 (アルコキシ) ホスフィン類を用いる場合には、 脱酸剤が使用さ れ、 その場合に、 使用される脱酸剤としては、 ピリジン、 ジメチルァミノピリジンの ような複素環ァミン類、 トリメチルァミン、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチ ルァミンのような脂肪族ァミン類があげられるが、 好適には、 脂肪族ァミン類 (特に ジイソプロピルェチルァミン) である。
使用されるジ置換—アルコキシホスフィン類としては、 例えば、 ビス (ジェチルァ ミノ) シァノエトキシホスフィン、 ビス (ジェチルアミノ) メタンスルホニルェトキ シホスフィン、 ビス (ジィソプロピルァミノ) (2,2,2-トリクロ口エトキシ) ホスフ イン、 ビス (ジイソプロピルァミノ) (4-クロ口フエニルメトキシ) ホスフィンのよ うなホスフィン類をあげることができ、 好適には、 ビス (ジェチルァミノ) シァノエ トキシホスフィンである。
ジ置換—アルコキシホスフィン類を用いる場合には、 酸が使用され、 その場合に、 使用される酸としては、 好適には、 テトラゾ一ル、 酢酸又は p —トルエンスルホン酸 である。
反応温度は、 特に限定はないが、 通常— 5 0乃至' 5 CTCであり、 好適には、 室温で ある。
反応時間は、 使用する原料、 試薬、 温度等により異なるが、 通常、 5分から 3 0時 間であり、 好適には、 室温で反応した場合、 3 0分である。
反応終了後、 本反応の目的化合物 (1 3 ) は常法に従って、 反応混合物から採取さ れる。 例えば、 反応混合物を適宜中和し、 又、 不溶物が存在する場合には、 濾過によ り除去した後、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、 水洗後、 目的化 合物を含む有機層を分離し、 無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、 溶剤を留去することに よって得られる。 '
得られた目的化合物は必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿又はシリカゲル カラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
又は、 本工程は、 不活性溶剤中 (好適には、 メチレンクロリ ドのようなハロゲン化 炭化水素類)、 化合物 (lb) に、 トリスー ( 1, 2 , 4 —トリァゾリル) ホスフアイ トを反応した後、 水を加えて、 H—ホスホネート化して、 化合物 (IV) を製造する
工程である。
' 反応温度は、 特に限定はないが、 通常一 2 0乃至 1 0 0 °Cであり、 好適には、 1 0 乃至 4 0 °Cである。
反応時間は、 使用する原料、 試薬、 温度等により異なるが、 通常、 5分から 3 0時 間であり、 好適には、 室温で反応した場合、 3 0分である。
反応終了後、 本反応の目的化合物は常法に従って、 反応混合物から採取される。 例 えば、 反応混合物を適宜中和し、 又、 不溶物が存在する場合には、 濾過により除去し だ後、 水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、 水洗後、 目的化合物を含 む有機層を分離し、 無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、 溶剤を留去することによって得 られる。
得られた目的化合物は必要ならば、 常法、 例えば、 再結晶、 再沈殿又はクロマトグ ラフィ一等によって更に精製できる。
(B-2工程)
本工程は、 少なくとも 1つ以上の B-1で製造される化合物 (IV)、 及び、 所望のヌ クレオチド配列のオリゴヌクレオチドを製造するのに、 必要な市販のリン酸アミダイ ト試 ¾等を使用して、 通常 方法により、 D N A自動合成機上、 目的の構造 (l a ) を含有するオリゴヌクレオチド類縁体を製造する工程である。
所望のヌクレオチド配列を持つオリゴヌクレオチド類縁体は、 D N A合成機、 例え ばパ一キンエルマ一社のホスホロアミダイト法によるモデル 3 9 2などを用いて文献 (Nucleic Acids Research, 12, 4539(1984)) 記載の方法に準じて製造することがで さる。
又、 所望により、 チォェ一ト化する場合は、 硫黄のほかテトラエチルチウラムジス ルフイ ド (T E T D、 アプライドバイオシステムズ社)、 Beaucage 試薬 (ミリポア 社) 等の 3価のリ ン酸に反応してチォェ一 トを形成する試薬を用い、 文献 (Tetarhedron Letters, 32, 3005(1991)、 J. Am. Chem. Soc, 112, 1253(1990)) 記
+ 載の方法に準じてチォエート誘導体を製造することができる。
得られる粗製のオリゴヌクレオチドは、 オリゴパック (逆相クロマトカラム) を使 用して、 精製し、 精製物の純度を H P L Cで分析することにより確認することができ
る。
得られるオリゴヌクレオチド類縁体の鎖長は、 ヌクレオシド単位として、 通常、 2 乃至 5 0個であり、 好適には、 1 0乃至 3 0個である。
' 得られるオリゴヌクレオチド類縁体は、 各種ヌクレア一ゼに対して分解されにくく、 生体への投与後、 長時間生体内に存在することができる。 また、 例えば、 m R N Aと 安定な二重鎖を形成して、 病因となるタンパク質の生合成を阻害したり、 ゲノム中の 二重鎖 D N Aとの間で三重鎖を形成して、 m R N Aへの転写を阻害したり、 細胞に感 染したウィルスの増殖を抑えることもできる。 また、 得られるオリゴヌクレオチド類 縁体は、 S 型配座を取り、 DNA と RNA の混在している状況においては、 選択的に DNAと結合し、 例えば、 DNAェンザィムとして有用である。
本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、 抗腫瘍剤、 抗ウィルス剤をはじめ、 特定遺 伝子の働きを阻害し、 疾病を治療する医薬品として期待される。
本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、 例えば、 緩衝剤および/または安定剤等の 慣用の助剤を配合して非経口投与製剤としたり、 リボソーム製剤とすることができる。 また、 局所用の製剤としては、 慣用の医薬用担体を配合して軟膏、 クリーム、 液剤ま たは膏薬等に調剤できる。
その使用量は症状、 年齢、 投与方法等により異なるが、 例えば、 1回当り、 下限と して、 0.001mg/kg 体重 (好ましくは、 0.01mg/kg
体重)、 上限として、 100mg/kg 体重 (好ましくは、 10mg/kg 体重) を 1日当り 1乃 至数回症状に応じて使用することが望ましい。
以下に、 実施例及び参考例を示し、 本発明をさらに詳細に説明するが、 本発明の範 囲は、 これらに限定されるものではない。
[発明を実施するための最良の形態]
(実施例 1 ) 3'-(4-メトキシトリチル)ァミノ- 3'-デォキシ -3'-N,4'-C-メチレンチミジン ( la) 5'-0-tert-ブチルジフエニルシリル- 3'-フエノキシァセチルァミノ- 2'-0-フエノ キシチォカルボニル -3'·デォキシ -3'-N,4'-C-メチレン -5-メチルゥリジン
窒素気流下、 5'-0-tert-プチルジフエニルシリル- 3'-フエノキシァセチルァミノ- 3'- デォキシ -3'-N,4'-C-メチレン- 5-メチレンゥリジン (参考例 4で得られた化合物 ; 69
mg, 0.108 mmol) の無水ァセトニトリル溶液 (10 ml) に、 4- (ジメチルァミノ)ピリ ジン (32 mg, 0.259 raraol)、 塩化フエノキシチォカルポニル (18 ml, 0.130 mmol) を加え、 室温で 3 時間撹拌した。 水を加えた後溶媒留去し、 酢酸ェチルで抽出し、 有機層を飽和重曹水、 水、 飽和食塩水で洗浄した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾 燥した後、 溶媒留去し目的化合物 (104 mg) を得た。 化合物は精製せずそのまま次 の反応に用いた。
( lb) 5'-0-tert-プチルジフエニルシリル- 3'-フエノキシァセチルァミノ- 3'-デォキシ- 3'-N,4'-C-メチレンチミジン
窒素気流下、 前反応にて得られた la(104 mg) の無水トルエン溶液 (10 ml) に、 水素化トリプチルスズ (69 ml, 0.258 mmol)、 2,2 ' -ァゾビスイソプチロニトリル (11 mg, 0.065 mmol) を加え、 13 時間 reflux した。 さらに水素化トリプチルスズ (69 ml, 0.258 mmol), 2,2 ' -ァゾビスイソブチロニトリル (11 mg, 0.065 mmol) を 加え、 4 時間撹拌した。 溶媒留去し、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-へキ サン:酢酸ェチル =1:1) により精製し、 目的化合物 (37 mg, 0.059 mmol, 55 % from 5 in 2 steps) を無色油状物質として得た。
iH-NMR (DMSO-de, 150°C): δ 0.81 (s, 9H), 1.38 (s, 3H), 1.85 (s, 1H), 2.36 (dd, 1H, J = 6, 14 Hz), 3.71, 4.01 (AB, 2H, J = 11 Hz), 3.74, 3.80 (AB, 2H, J = 11 Hz), 4.33 (s, 2H), 4.70 (d, 1H, J = 5 Hz), 6.18 (t, 1H, J = 8 Hz), 6.67-7.39 (m, 16H).
(lc)5'-0-tert-プチルジフエ二ルシリル -3'-(4·メトキシトリチル)ァミノ- 3'-デォキシ- 3'-N,4'-C-メチレンチミジン
lb (136 mg, 0.22 mmol) の 1,4-ジォキサン溶液 (5 ml) に、 28% アンモニア水溶 液 (1 ml) を加え、 55でにて攪拌した。 さらに、 28% アンモニア水溶液を 3 時間後 0.8 ml、 16時間後 1 ml、 20時間後 1 ml、 26時間後 2 ml追加し、 合計 40時間攪拌 した。 溶媒留去し、 11 の粗成績体 (200 mg) を得た。 続いて、 窒素気流下、 得ら れた 11の粗成績体 (200 mg のうち 100 mgを使用) の無水ピリジン溶液 (3 ml) に、 室温で、 4-メトキシトリチルクロリ ド (51 mg, 0.17 mmol) を加え、 室温で、 14 時
間攪拌した。 飽和重曹水を加え、 酢酸ェチルで抽出し、 有機層を水、 飽和食塩水で洗 浄した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロ マトグラフィ一 (n-へキサン:酢酸ェチル =3 : 1→1 : 1) により精製し、 目的化合物(12 mg, 0.016 mmol) を無色油状物質として得た。
iH-NMR (CDCls) : 6 0.95 (s, 9H), 1.24 (d, 3H, J = 1 Hz), 1.67 (m, 1H), 2.61, 3.50 (AB, 2H, J = 10 Hz) , 2.90, 3.58 (AB, 2H, J = 10 Hz), 2.80 (dd, 1H, J = 5, 13 Hz), 3.79 (s, 3H), 4.15 (d, 1H, J = 5 Hz), 6.84 (d, 2H, J = 9 Hz) , 7.11 (dd, 1H, J = 5, 10 Hz), 7.17-7.56 (m, 23H), 8.27 (brs, 1H) . d)3,-(4-メトキシトリチル)ァミノ- 3'-デォキシ -3'-N,4'-C-メチレンチミジン 垒素気流下、 lc (10 mg, 0.013 mmol), の無水テトラヒドロフラン溶液 (1 ml) に フッ化テトラブチルアンモニゥム (1.0 M in テトラヒドロフラン, 14 il l, 0.014 mmol) を加え、 室温で 2 時間撹拌した。 さらに、 フッ化テトラプチルアンモニゥム (1.0 M in テトラヒドロフラン, 14 l, 0.014 mmol) を追加し、 20時間攪拌した。 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-へキサン:酢酸ェチル =1 : 1) に より精製し、 目的化合物 (5 mg, 0.010 mmol, 77 %) を無色油状物質として得た。 iH-NME (CDCls) : δ 1.80 (m, 1H), 1.90 (d, 3H, J = 1 Hz), 2.52, 3.26 (AB, 2H, J = 12 Hz), 2.72 (dd, 1H, J = 5, 14 Hz), 2.97, 3.60 (AB, 2H, J = 10 Hz), 3.79 (s, 3H), 3.98 (d, 1H, J = 5 Hz) , 6.84 (d, 2H, J = 9 Hz), 6.89 (dd, 1H, J = 5, 9 Hz), 7.18-7.53 (m, 13H) .
(le)5'-0-(N,N-ジイソプロピルァミノ- j3 -シァノエトキシホスフイノ ) -3'-(4-メトキシ トリチル)ァミノ- 3'·デォキシ - 3'-N,4'-C-メチレンチミジン
Id (5 mg, 0.010 mmol)、 ジイソプロピルアンモニゥムテトラゾリ ド (2 mg, 0.012 mmol) の混合物を無水ァセトニトリルで 3 回共沸した後、 無水ァセ卜二トリル-無 水テトラヒドロフラン溶液 (3 : 1, Wv, 2 ml) とした。 窒素気流下、 室温で 2-シァノエ チル Ν,Ν,Ν ' ,Ν, -テトライソプロピルホスホロジアミダイト (5 Jil l, 0.017 mmol) を滴下し、 室温で 11 時間撹拌した。 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロマトダラ
フィー (n-へキサン:酢酸ェチル =2:1) により精製し、 目的化合物 (7 mg, 100 %) を 無色油状物質として得た。
31P-NMR (acetone-de): δ 149.7, 149.4. (参考例 1 ) 5— O— tert—ブチルジフエニルシリル一 3—デォキシ— 1, 2— O— イソプロピリデンー 3—フエノキシァセチルァミノ一 3— N, 4一 Cーメチレン一 α 一 D—リポフラノ一ス
窒素気流下、 3—アミノー 5—〇ー tert—プチルジフエニルシリル— 3—デォキシ — 1 , 2— O—イソプロピリデン一 3— N, 4— C—メチレン一 a— D—リポフラノ ース (特開 2 0 0 1— 6 4 2 9 7号公報の参考例 6として記載された化合物: 1. 7 0 g、 3. 8 7mmo 1 ) の無水塩化メチレン溶液 (7 0m l ) に 0 で塩化フエノ キシァセチル (0. 5 9 m 1 、 4, 2 6 mm o 1 )、 トリエチルアミン (0. 8 1 m し 5. 8 l mmo 1 ) を加え、 室温で 3 0分間撹拌した。 反応溶液に飽和重曹水を ' 加え、 塩化メチレンで抽出し、 水、 飽和食塩水で洗浄した。 有機層を無水硫酸ナトリ ゥムで乾燥し、 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (n—へキサン: 酢酸ェチル =4 : 1 ) により精製し、 標記化合物 (2. 0 2 g、 収率 9 1 %) を無色 油状物質として得た。
[a]D 25 +75.2 (c 1.05, CHC13).
IRvmax (KBr) cm—1: 2936, 2856, 1654, 1595, 1432, 1380, 1221, 1108.
Ή-NMR (CDC13) δ ppm: 1.0K27/4H, s), 1.03O/4H, s), 1.44(3/4H, s),
1.560/4H, s), 3.64, 3.79 (6/4H, AB, J = llHz), 3.66, 3.77 (2/4H, AB, J = llHz), 3.88, 4.05 (6/4H, AB, J = llHz), 4.18, 4.28(2/4H, AB, J = 10Hz), 4.53 - 4.85 (4H, m), 6.04(1/4H, d, J=5Hz), 6.08(3/4H, d, J=5Hz), 6.85-7.04 (3H, m) , 7.24-7.45 (8H, m), 7.54-7.61 (4H, m) .
Ή-NMR (DMS0-d6, 150 X: ) δ ppm: 1.06(9H, s), 1.35(3H, s), 1.48(3H, s), 3.81-4.01 (4H, m), 4.53, 4.61 (2H, AB, J = 15Hz), 4.75-4.78 (2H, m) , 6.01 (1H, d, J = 3Hz), 6.93-6.98 (3H, m), 7.24-7.30 (2H, m), 7.38-7. 7 (6H, m) , 7.62-7.64 (4H, m).
13C-NMR (DMS0-d6, 150°C) <5 ppm: 18.1, 18.5, 25.9, 26.0, 64. , 66.1, 78.9, 85.1, 109.0, 112.3, 114.0, 120.3, 126.8, 128.4, 128.8, 132.3, 134.1, 157.4. Mass (FAB) m/z 574 (MH+) .
Anal, caked for C33H39N06Si · Hz0: C, 69.08; H, 6.85; N, 2.44. Found: C, 68.87; H, 6.86; N, 2.43.
(参考例 2 ) 5—〇_tert—プチルジフエニルシリル— 3—デォキシ— 1, 2 -ジ— 〇一ァセチルー 3—フエノキシァセチルァミノ一 3— N, 4— C—メチレン一 α及び )3— D—リポフラノ一ス
窒素気流下、 参考例 1で得られた化合物 (2. 0 0 g、 3. 4 9mmo 1 ) の酢酸 溶液 (1 5m l ) に、 室温で無水酢酸 (3. 6 3m 1、 3 8. 4mmo 1 ), 濃硫酸 ( 0. 0 3 2m l , 0. 6 3mmo 1 ) を加え、 1時間撹拌した。 0°Cにて飽和重曹 水中に反応液を滴下して中和を行い、 それをろ過した。 母液を酢酸ェチルで抽出し、 飽和重曹水、 飽和食塩水で洗浄した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、 溶媒留 去後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (n—へキサン :酢酸ェチル = 2 : 1 ) により精製し、 標記化合物 (1. 6 0 8、 収率7 4 %) を無色油状物質として得た。 a異性体
[a]D 24 +60.7 (c 1.03, CHC13).
IR v max ( Br) cm—1: 3059, 2936, 2859, 1755, 1659, 1595, 1432, 1368, 1220, 1109, 1011.
Ή-NMR (CDC13) δ ppm: 1.02O/2H, s), 1.05O/2H, s), 1.76(3/2H, s),
1.95C3/2H, s), 2.07(3/2H, s), 2.10(3/2H, s), 3.71, 3.77(2/2H, AB, J = 12Hz), 3.76(2/2H, s), 4.08C2/2H, s), 4. 9, 4.35 (2/2H, AB, J = 10Hz), 4。 55, 4.57(2/2H, AB, J=15Hz), 4.61, .74(2/2H, AB, J = 15Hz), 5.04(1/2H, d, J=6Hz), 5.10(1/2H, d, J=6Hz), 5.17(1/2H, dd, J=5, 6Hz), 5.30(1/2H, dd, J=5, 6Hz), 6.57(1/2H, d, J=5Hz), 6.59C1/2H, d, J=5Hz), 6.85-7.02 (3H, m) , 7.24-7.45 (8H, m) , 7.54- 7.64 (4H, m).
■H-NMR (DMSO - d6, 150 : ) δ ppm: 1.07(9H, s), 1.95(3H, s), 2.00 (3H, s), 3.94C2H, s), 4.08, 4.25 (2H, AB, J=9Hz), 4.56, 4.64(2H, AB, J = 14Hz), 5.0K1H,
brs), 5.22C1H, brs), 6.93-6.96 (3H, m), 7.25-7.31 (2H, m), 7.43(6H, brs), 7.63(4H, brs).
13C-NMR (DMSO-d6, 150 ) δ ppm: 18.2, 19.0, 19.6, 26.0, 63.3, 65.9, 71.3, 83.4, 95.0, 114.0, 120.4, 126.8, 126.8, 128.4, 128.8, 132.2, 132.3, 134.1, 134.2, 157.3, 166.9, 167.9, 168.0.
Mass (FAB) m/z 618 (MH+) .
Anal, calced for C33H39N06Si: C, 66.10; H, 6.36; N, 2.27. Found: C, 66.19;
H, 6.42; N, 2.24. .
β異性体
[a]D 24 +17.0 (c 1.02, CHC13). ;
IR v max (KBr) cm—1: 3048, 2936, 2859, 1753, 1660, 1595, 1431, 1367, 1220, 1109.
Ή-NMR (CDC13) δ ppm: 1.04(27/8H, s), 1.06 (45/8H, s), 1.860/8H, s),
I.93C15/8H, s), 2.02C3H, s), 3.68, 3.76 (6/8H, AB, J = llHz), 3.72, 3.73 (10/8H, AB, J=llHz), 3.96, 4.30(6/8H, AB, J=llHz), 4.18, 4.44(10/8H, AB, J=10Hz),
4.58 (2H, s), 5.05(3/8H, d, J = 5Hz), 5.08(5/8H, d, J = 6Hz), 5.27(5/8H, dd, J = 3, 6Hz), 5.32(3/8H, dd, J=l, 6Hz) , 6.22(5/8H, d, J-3Hz), 6.23(3/8H, d, J=lHz), 6.84-7.02 (3H, m) , 7.24-7. 5 (8H, m), 7.61-7.63(4H, m) .
Ή-NMR (DMS0-d6, 150 °C ) δ ppm: 1.07(9H, s), 1.92(3H, s), 1.97(3H, s), 3.9K2H, s), 3.99, 4.31 (2H, AB, J = 10Hz), 4.55, 4.59 (2H, AB, J = 15Hz), 5.00(1H, d, J=5Hz), 5.26 (1H, brs), 6.23(1H, brs), 6.92-7.00 (3H, m) , 7.25-7.31 (2H, m), 7.40-7. 3 (6H, m), 7.63-7.65 (4H, m) .
13C-NMR (DMSO - d6, 150°C) δ ppm: 18.2, 19.2, 19.5, 26.0, 64.0, 65.9, 74.5, 83.9, 100.0, 114.0, 120.5, 126.'8, 128.4, 128.8, 132.2, 134.2, 157.1, 167.2, 167.3, 167.8.
Mass (FAB) m/z 618 (MH+) .
Anal, calced for C33H39N06Si - 1/10H20: C, 66.10; H, 6.36; N, 2.27. Found: C, 65.91; H, 6.38; N, 2.26.
(参考例 3 ) 2 ' —0—ァセチル— 5, — 0— tert—プチルジフエニルシリル一 3 ' —デォキシー 3 ' —フエノキシァセチルァミノ一 3 ' — N, 4 ' — Cーメチレンー 5 ーメチルゥリジン
窒素気流下、 参考例 2で得られた化合物 (1 8 9mg、 0. 3 l mmo 1 ) の無水 ジクロロェタン溶液 (3 m l ) にチミン (5 9mg、 0. 4 7 mmo 1 )、 N, O— ビス (トリメチルシリル) ァセタミド (0. 3 1 m l、 1. 2 4 mmo 1 ) を加え、 2時間加熱還流した。 0°Cに冷却し、 トリメチルシリルトリフルォロメタンスルホン 酸 (0. 0 6mし 0. 3 4 mmo 1 ) を加え、 7時間加熱還流した。 反応溶液に飽 和重曹水を加え、 溶媒留去後、 酢酸ェチルで抽出し、 水、 飽和食塩水で洗浄した。 有 機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロマトグラフ ィ一 (n—へキサン:酢酸ェチル = 1 : 1 ) で精製し、 標記化合物 (2 1 5mg、 収 率 1 0 0 %) を白色粉末として得た。
mp 99 - 101°C.
[ α ] D 24 +35.6 (c 0.80, CHC13).
IR v max (KBr) cm-1: 3199, 3068, 2954, 2859, 1691, 1595, 1463, 1374, 1225, 1110. ·
•H-NMR (CDC13) (5 ppm: 1.06O/3H, s), 1.10(18/3H, s), 1.61 (6/3H, s), 1.65C3/3H, s), 1.98(3/3H, s), 2.08 (6/3, s), 3.71, 3.93(2/3H, AB, J = 12Hz), 3.78, 3.92 C4/3H, AB, J = llHz), 4.04, 4.1K2/3H, AB, J = llHz), 4.29, 4.33(4/3H, AB, J = llHz), 4.54-4.76 (2H, m) , 5.08(1/3H, d, J=6Hz), 5.09(2/3H, dd, J = 6, 8Hz), 5.2K2/3H, d, J = 6Hz), 5.37(1/3H, dd, J=6, 8Hz) , 6.48(1H, d, J=8Hz), 6.84-7.17 (4H, m) , 7.29-7.47 (7H, m), 7.54-7.65 (4H, m) , 9.19(1/3H, s), 9.23C2/3H, s).
'H-NMR (DMSO— d6, 150°C) 6 ppm: 1.08(9H, s), 1.66(3H, s), 1.93(3H, s), 4.03, 4.07C2H, AB, J = llHz), 4.10, 4.40(2H, AB, J = llHz), 4.58, 4.65 (2H, AB, J = 15Hz), 5.07(1H, d, J = 6Hz), 5.41 (1H, dd, J=6, 7Hz) , 6.28(1H, J=7Hz), 6.93-7.00 (3H, m), 7.25-7.42 (8H, m) , 7.63-7.65 (4H, m) , 10.73(1H, s) . .
I C-NMR (DMS0-d6, 150°C) δ ppm: 11.5, 19.1, 20.1, 27.0, 64.5, 66.8, 73.2, 82.4, 87.0, 110.6, 115.0, 121.4, 127.7, 129.3, 129.8' 133.0, 133.3, 135.0, 135.1, 135.7, 150.4, 158.1, 163.0, 168.2, 169.1.
Mass (FAB) m/z 684 (MH+) .
Anal, calced for C37H41N308Si · 1/7H20: C, 64.99; H, 6.04; N, 6.14. Found: C, 64.74; H, 6.06; N, 6.12.
(参考例 4) 5 ' 一 O— tert—ブチルジフエニルシリル一 3 ' —フエノキシァセチル アミノ一 3 ' —デォキシ一 3 ' -N, 4 ' — Cーメチレン一 5—メチルゥリジン 窒素気流下、 参考例 3で得られた化合物 (1 0 Omg、 0. 1 5mmo l ) の無水 メタノール溶液 ( 1 Om 1 ) に(TCで炭酸カリウム (6 mg、 0. 0 4 3mmo 1 ) を加え、 室温で 3時間撹拌した。 酢酸で中和した後溶媒留去し、 水を加え、 酢酸ェチ ルで抽出し、 有機層を水、 飽和食塩水で洗浄した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾 燥し、 溶媒留去後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (n—へキサン:酢酸ェチ ル = 1 : 2) により精製し、 標記化合物 (9 2mg、 収率 9 8 %) を無色結晶として 得た。
mp 89 - 92°C.
[a]D 24 +64.5 (c 0.97, CHC13).
IRvmax (KBr) cm"1: 3207, 3068, 2933, 2859, 1692, 1467, 1240, 1109.
Ή-NMR (CDC13) δ ppm: 1.08(9H, s), 1.59(9/5H, s), 1.62(6/5H, s), 1.94(3/5H, s), 2.35C2/5H, s), 3.72, 4.01 (2H, m) , 4.18-4.37 (2H, m) , 4.59-4.82 (2H, m), 4.88-4.95 (1H, m), 5.10(3/5H, d, J=5Hz), 5.26(2/5H, d, J=8Hz), 6.38(3/5H, d, J=8Hz), 6.44C2/5H, d, J=7Hz), 6.85-7.03 (3H, m), 7.11-7. 7 (8H, m) , 7.60- 7.62(4H, m), 9.22(3/5H, s), 9.7K2/5H, s) .
Mass (FAB) m/z 642 (MH+) .
(実施例 2 ) (オリゴヌクレオチド類緣体の合成)
核酸合成機 (Applied Biosystems 社製 Expedite(TM) 8909) を用い、 2.0
mol スケールで行った。 各合成サイクルにおける溶媒、 試薬、 ホスホロアミダイ トの濃度は天然オリゴヌクレオチド合成の場合と同じであり、 溶媒、 試薬、 天然 型ヌクレオシドの 5'-ホスホロアミダイト体は全て GLEN RESEARCH社製のも のを用いた。 固相には GLEN RESEARCH社製 Universal Support (0.2 /X mol) を用いた。 5'—の水酸基が固相に結合した 3'—〇— D M T r —チミジンの D M T r基をトリクロ口酢酸によって脱保護し、 その 3' _水酸基に天然ヌクレオチド合 成用のホスホロアミダイト及び実施例 le の化合物を用いて縮合反応を繰り返し 行い、 それぞれの配列の修飾オリゴヌクレオチド類縁体を合成した。 合成サイク ルは以下の通りである。
合成サイクル (天然型 5'-ホスホロアミダイト体を用いる場合)
1) detritylation トリクロ口酢酸/ジクロロメタン; 70sec
2) couplin ホスホロアミダイト(25eq)、 テトラゾール /ァセトニトリル; 300sec
3) capping 1-メチルイミダゾール /テトラヒドロフラン、 無水酢酸/ピリジン/テト ラヒドロフラン; 30sec
4) oxidation ョゥ素/水/ピリジン /テトラヒドロフラン; 5sec 合成サイクル (実施例 leの化合物を用いる場合)
1) detritylation トリクロ口酢酸/ジクロロメタン; 120sec
2) coupling ホスホロアミダイト(25eq)、 テトラゾ一ル /ァセトニトリル; 1200se c
3) , capping 1-メチルイミダゾール /テトラヒドロフラン、 無水酢酸/ピリジン/テト ラヒドロフラン; 30sec
4) oxidation ョゥ素/水/ピリジン /テトラヒドロフラン; 5sec 目的配列を有するオリゴヌクレオチド合成した後、 トリクロ口酢酸ジクロロメ タンによる脱トリチル化を行い 3'— DMT r基を脱保護した。 その後、 常法に従い 、 濃アンモニア水処理によってオリゴマーを支持体から切り出すとともに、 リン 原子上の保護基シァノエチル基をはずし、 さらに核酸塩基上の保護基をはずした
得られた天然型オリゴヌクレオチド、 及び修飾オリゴヌクレオチド類縁体は, 逆相 HPLCで精製を行い、 目的のオリゴヌクレオチドを得た。
本合成法に従い、 以下の配列:
5'-gcgttntttgct-3' (配列表の配列番号 1 ):オリゴヌクレオチド 1
5'-gcgttntntgct-3' (配列表の配列番号 2 ):オリゴヌクレオチド 2
5'-gcgntntntgct-3' (配列表の配列番号 3 ):オリゴヌクレオチド 3
5'-gcgttmmtgct-3, (配列表の配列番号 4 ) :オリゴヌクレオチド 4
5'-ttttttttnt-3' (配列表の配列番号 5 ) :オリゴヌクレオチド 5 上記配列において nは実施例 leのホスホロアミダイト体を用いた下記
の構造を有するヌクレオシド単位を表す。
得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、 逆相 HPLC (HPLC :島津製 作所製 LC— VP;カラム: WAKO WAKOPAK WS_DNA(10 X 250mm); 0.1M酢 酸トリェチルアミン水溶液(TEAA), pH7 ; 8→16%CH3CN I 30min, linear gradient; 50で; 3.0ml/min; 254nm) にて行った。
得られたオリゴヌクレオチドは MALDI-TOF-MS により構造確認を行った。 結果を表 3に示す。
(表 3 )
M-H
被験化合物 Cald. Found オリゴヌクレオチド 1 3643.45 3643.76
オリゴヌクレオチド 2 3654.47 3654.41
オリゴヌクレオチド 3 3665.50 3665.30
オリゴヌクレオチド 4 3665.50 3665.44
オリゴヌクレオチド 5 2990.08 2990.14
(試験例 1 ) ヌクレア一ゼ酵素耐性の測定
オリゴヌクレオチド 5 (10 μ g )を含むバッファ一溶液 400 /z l (50mM Tris(pH8.0) and lOmM MgC12) に 3'-ェキソヌクレアーゼ (phosphodiesterase from Crotalus ■ durissus (Boehringer Mannheim)) 0.24 /_i gを加え、 混合液を 37°Cに保ち反応を行 つた。 一定時間後に混合液の一部を取り、 9 0 °Cで 2分間加熱することにより、 酵素 を失活させ反応を停止させる。 各時間における混合液中のオリゴヌクレオチドの残量 を逆相高速液体カラムクロマトグラフィーで定量し、 ヌクレアーゼ存在下でのオリゴ ヌクレオチド量の経時的変化を測定した。 対照として、 オリゴヌクレオチド 5と同一 配列を持つ天然型 DNAを合成して比較した。 結果を表 4に示す。
ほ 4 )
オリゴヌクレオチド残存率 ( % ) 被験化合物 開始時 (0分) 2 0分 9 0分
オリゴヌクレオチド 100 90 83
5 '
オリゴヌクレオチド 100 検出できなかった 検出できなかった
(天然型) 上記より明らかであるように、 本発明の化合物は顕著なヌクレア一ゼ耐性を示した,
(試験例 2 ) コンホメーシヨンの測定
核酸のコンホメ一シヨンの確認手段としては、 NMR の結合定数 (J) を用いた Altona 式が知られている(J. Am. Chem. Soc. ,94, 8205(1992)及び J. Am. Chem.
Soc. , 95, 2333(1993)。
(^, 2,β - 1) χ 100 (A l tona
S(%) = 式)
6.9
実施例 1の化合物について上記式に従って計算すると、 Jr,2' 0の値が 10 であり、 S(%)は 1 0 0以上となる。 従って、 実施例 1の化合物は S 型のコンホメーシヨンを 取っており、 DNA選択性を有することが分かった。
(試験例 3 ) DNA選択性の測定
オリゴヌクレオチド 1乃至 4に相補的な配列を持つ DNA 及び : RNA との融解温度
(Tm) を以下の方法に従って測定した。 即ち、 4 Mとしたオリゴヌクレオチド及 び相補配列を持つ DNA 又は RNA を含むサンプル溶液(100 mM NaCl, 10 mM Na2HP0 buffer ( H 7.2)、 400 L )を沸騰水中に浴し、 約 8時間をかけてゆつくり 室温まで冷却した。 サンプル溶液を、 分光光度計 (BECKMAN DU650) を用いて加
温測定した。 温度は 5X:から 90°Cまで 0.5 /min で上昇させ、 0.5°C間隔で 260mn 付近の吸収極大波長における紫外吸収強度を測定した。 1°Cあたりの変化量が最大に なる温度を Tm (融解温度) とし、 この温度で本発明の化合物の相補鎖形性能を評価 した。 対照として天然型 DNAの融解温度も測定した。 結果を表 5に示す。
(表 5 )
オリゴヌクレオチド残存率 ( % )
Tm ( Tm) °C
被験化合物 DNA RNA 天然型 DNA 51.7 47.0
オリゴヌクレオチド 1 51.9 (+0.2) 45.7 (-1.3)
オリゴヌクレオチド 2 52.4 (+0.4) 46.0 (-0.5)
オリゴヌクレオチド 3 52.9 (+0.4) 43.9 (-1.0)
オリゴヌクレオチド 4 52.2 r+0.2) 45.2 (-0.6) 上記より明らかであるように、 本発明の化合物は顕著な DNA選択性を示した。
[産業上の利用の可能性]
本発明の新規なビシクロヌクレオシド誘導体を含有する核酸試薬は、 優れたアンチ センス又はアンチジーン活性、 或いは、 デコイ核酸、 D N Aェンザィム及ぴ R N A干 渉機能を有し、 かつ、 生体内で安定なオリゴヌクレオチドを製造するための中間体と して有用である。
本発明の新規なオリゴヌクレオチド類縁体は、 生体内で安定であり、 アンチセンス 薬、 アンチジーン薬、 デコイ核酸、 D N Aェンザィム、 R N A干渉核酸として有用で あり、 さらに、 特定遺伝子の検出用 (プローブ) として有用であり、 さらにまた、 特 定遺伝子の増幅開始用 (プライマ一) として有用である。