JP2019119739A - ヌクレオシド誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ＲＮＡ医薬等に適用するためのより実用的なヌクレオシド誘導体の製造方法の提供。【解決手段】下式の化合物１０などで表されるヌクレオチド誘導体の製造方法であって、１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノースから数工程を経て得られる下式の化合物９を、ウラシルと、ビス（トリメチルシリル）アセタミドで処理し、ヌクレオチド化合物１０を得る。【選択図】なし

Description

本明細書は、ヌクレオシド誘導体の製造方法に関する。

がんをはじめ、遺伝子変異や遺伝子発現異常が原因又は関連している疾患は多数知られている。遺伝子の発現を抑制するｓｉＲＮＡなどのＲＮＡ医薬は、こうした疾患に有用であり、優れた医薬品ポテンシャルを有しているといえる。

一方、ｓｉＲＮＡ等は、細胞膜透過が困難であったり、ヌクレアーゼによる分解を受けやすいという問題がある。また、標的選択性は高いものの、標的組織までの選択的輸送が困難であるという問題がある。こうした点を改善するべく、脂質ナノ粒子（ＬＮＰ）などの送達用のキャリアが検討されている。また、ＲＮＡのリボースに対してアミノメチル基を導入するなどの改変する試みも行われている（非特許文献１〜４）。

HELVATICA CHIMICA ACTA Vol. 83 (2000) 128-151 The Journal of Organic Chemistry 2012, 77, 3233-3245 Bioorganic & Chemistry letters(1999) 2667-2672 The Journal of Organic Chemistry 2013, 78, 9956-9962

しかしながら、こうした試みにもかかわらず、ＲＮＡ医薬の有効性の一層の向上が求められている。送達用キャリアにも不十分な点があるほか、こうしたＲＮＡの改変によっても、十分な細胞膜透過性、リボヌクレアーゼ耐性及び標的組織送達性を充足することはできていない。こうしたことから、現状においても、ｓｉＲＮＡ等においてその本来の優れた医薬品ポテンシャルを発揮できていない。また、こうしたＲＮＡ医薬等に適用するのに実用的なヌクレオシド等があっても、かかるヌクレオシド等を効率的に提供することが望まれる。

本明細書は、ＲＮＡ医薬等に適用するのにより実用的なヌクレオシド誘導体を効率的に提供することを目的とする。

本発明者らは、リボヌクレオチドの糖部であるリボースに着目し、リボースの第４’位にアミノ基などの塩基性を有する置換基を備えること、又は２’位の水酸基をハロゲン原子で置換することで、リボヌクレアーゼ耐性ほか細胞膜透過性を向上させうるという知見を得た。さらに、本発明者らは、４’−アミノアルキルヌクレオシド誘導体及び２’−ハロゲニルヌクレオシド誘導体を効率的に製造する方法を見出した。本明細書によれば、かかる知見に基づき以下の手段が提供される。

（１）以下の式（１）又は（２）で表される、ヌクレオシド誘導体又はその塩の製造方法であって、
以下の式（５）、（６）及び（７）からなる群から選択されるいずれかの反応を含む、製造方法。
（式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された基を表し、式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。式（１）及び式（２）中、Ｒ²及びＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基の保護基、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_nＲ⁵Ｒ⁶（ｎは０又は１を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基、保護された水酸基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルコキシ基、シアノ低級アルコキシ基、アミノ基、又は置換されたアミノ基のいずれかを示す。ただし、ｎが１のときには、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に水素原子となることはない。）を示し、Ｒ³は、それぞれ連結基を有するＮＨＲ⁷（Ｒ⁷は、水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアミノ基の保護基を表す。）、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基を表し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基のいずれかを表す。）
（式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立して又はＲ¹⁰及びＲ¹¹が一体となって水酸基の保護基を表し、Ｒ¹²は、式（８）を表し、Ｒ¹⁴は、アルキレン基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｔｆは、トリフルオロメタンスルホニル基を表す。）
（２）式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が一体となった環状アセタール基を表す、（１）に記載の製造方法。
（３）前記式（５）の反応に引き続き、以下の式（５）’の反応を含む、（１）又は（２）に記載の方法。
（４）前記式（５）’の反応に引き続き、以下の式（５）’ ’の反応を含む、（３）に記載の製造方法。
（５）前記式（７）の反応に先だって、以下の式（７）’及び式（７）’ ’の反応を含む、（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法。
（６）オリゴヌクレオチド誘導体の製造方法であって、
以下の式（１）又は（２）で表される、ヌクレオシド誘導体又はその塩を用いてオリゴヌクレオチド誘導体を製造する方法であって、
以下の式（５）、（６）及び（７）からなる群から選択されるいずれかの反応を含む、製造方法。
（式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された基を表し、式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。式（１）及び式（２）中、Ｒ²及びＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基の保護基、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_nＲ⁵Ｒ⁶（ｎは０又は１を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基、保護された水酸基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルコキシ基、シアノ低級アルコキシ基、アミノ基、又は置換されたアミノ基のいずれかを示す。ただし、ｎが１のときには、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に水素原子となることはない。）を示し、Ｒ³は、それぞれ連結基を有するＮＨＲ⁷（Ｒ⁷は、水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアミノ基の保護基を表す。）、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基を表し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基のいずれかを表す。）
（式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立して又はＲ¹⁰及びＲ¹¹が一体となって水酸基の保護基を表し、Ｒ¹²は、式（８）を表し、Ｒ¹⁴は、アルキレン基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｔｆは、トリフルオロメタンスルホニル基を表す。）

本明細書の開示は、ＲＮＡ医薬に好適な実用性のあるヌクレオシド誘導体又はその塩の製造方法に関する。本製造方法によれば、以下の利点を有するヌクレオシド誘導体又はその塩（以下、単に、本ヌクレオシド誘導体ともいう。）を効率的に製造することができる。

（１）リボヌクレアーゼ耐性を有するとともに、細胞膜透過性に優れている。このため、従来のＲＮＡ医薬に用いられてきた送達用のＬＮＰなどのキャリアを用いない投与に好適なオリゴヌクレオチドを提供できる。
（２）本ヌクレオシド誘導体は、ＲＮＡを用いた検出プローブなど試薬としても有用である。すなわち、種々のＲＮＡ試薬に好適なオリゴヌクレオチドを提供できる。
（３）本明細書に開示されるヌクレオシド誘導体は、従来困難であったリボースの第４’位に種々のアミノアルキル系置換基を導入し、その性質について精査したところ、予想を超える有用な特徴を見出したことに基づいている。従来、リボヌクレアーゼ耐性に関しては、リボースの２’位や３’位の置換体によることが一般的であった。本明細書に開示されるヌクレオシド誘導体によれば、予想を超えるリボヌクレアーゼ耐性と細胞膜透過性という、ＲＮＡ医薬等に有用な特性を兼ね備えることができる。以下、本明細書の開示の各種実施形態について詳細に説明する。

（本ヌクレオシド誘導体）
本ヌクレオシド誘導体は、以下の式（１）又は（２）で表されるヌクレオシド誘導体又はその塩とすることができる。本ヌクレオシド誘導体は、当業者の周知の方法で、オリゴヌクレオチドの部分構造に含めることができる。

本ヌクレオシド誘導体は、リボース及びデオキシリボースの第４’位に塩基性を有する置換基を備えることで、本ヌクレオシド誘導体に由来する部分構造を備えるオリゴヌクレオチドにおいて、オリゴヌクレオチドが有するリン酸基などに起因する負電荷の少なくとも一部を中和することができるという電荷調節能を備えることができる。

また、当該部分構造を備えるオリゴヌクレオチドの細胞膜透過性を向上させることができる。

さらに、本ヌクレオシド誘導体に由来する部分構造を備えるオリゴヌクレオチドにおいて、リボヌクレアーゼ耐性を向上することができる。

本明細書中、式等で表される化合物における置換基における「低級」の意は、該置換基を構成する炭素数が、最大１０個までであることを意味している。例えば、通常は炭素数１〜６個、又は炭素数１〜５個が例示され、さらには炭素数１〜４個、又は炭素数１〜３個であることが好ましい例として挙げられる。

以下、本明細書に開示される本ヌクレオシド誘導体又はその塩及びこれらの利用について説明する。

（ヌクレオシド誘導体及びその塩）
本ヌクレオシド誘導体又はその塩の一つの態様は、以下の式（１）で表されるヌクレオシド誘導体又はその塩である。

また、本ヌクレオシド誘導体又はその塩の他の一つの態様は、以下の式（２）で表されるヌクレオシド誘導体又はその塩である。

[Ｒ¹について]
式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された水酸基を表す。Ｒ¹が水素原子のとき、本ヌクレオシド誘導体は、デオキシリボヌクレオシド誘導体である。Ｒ¹が、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された水酸基であるとき、本ヌクレオシド誘導体は、リボヌクレオシド誘導体である。

[Ｘについて]
式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、特に限定するものではないが、塩素原子、ヨウ素原子、フッ素原子及び臭素原子等が挙げられる。Ｒ¹がハロゲン原子のとき、本ヌクレオシド誘導体は、デオキシリボヌクレオシド誘導体である。なお、ハロゲン原子は、式（２）からも明らかなように、リボースの２’位の炭素原子に対する結合方向は特に限定するものではないが、天然のリボースの水酸基に相当するようにハロゲン原子が結合することが好適である。

（アルキル基）
本明細書中、アルキル基としては、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせである飽和炭化水素基が挙げられる。通常は、低級アルキル基が好ましく、例えば炭素数１〜６個の低級アルキル基、又は炭素数１〜５個の低級アルキル基がより好ましい例として挙げられ、さらに炭素数１〜４個又は炭素数１〜３個の低級アルキル基が特に好ましい例として挙げられる。直鎖状の炭素数１から４までのアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又ｎ−ブチル基等が好適な例として挙げられ、このうち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基が好ましく、また例えばメチル基、エチル基が好ましく、また例えばメチル基が好ましい。また分枝状の炭素数１から４までのアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられ、このうち、イソプロピル基が特に好ましい例として挙げられる。又、環状の炭素数１から４までのアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、又はシクロプロピルメチル基等が挙げられる。

（アルケニル基）
本明細書中、アルケニル基としては、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせである飽和炭化水素基が挙げられる。通常は、低級アルケニル基が好ましく、低級アルケニル基としては、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基などが挙げられる。

（水酸基の保護基又は保護された水酸基）
本明細書において、水酸基の保護基としては、当業者に周知であって、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ、２００７年版）を参考にすることができる。水酸基の保護基としては、代表的な例を挙げると、例えば、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、低級アルコキシメチル基、適宜の置換基があってもよいオキシカルボニル基、適宜の置換基があってもよいテトラヒドロピラニル基、適宜の置換基があってもよいテトラチオピラニル基、合わせて１から３個の置換又は無置換のアリール基にて置換されたメチル基（但し前述の置換アリールにおける置換基としては、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン原子、又はシアノ基を意味する。）、又はシリル基、等が例示される。

なお、本明細書中、アルコキシ基としては、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせである飽和アルキルエーテル基が挙げられる。低級アルコキシ基が好ましく、低級アルコキシ基としては、例えば炭素数１〜６個の低級アルコシキ基、又は炭素数１〜５個の低級アルコシキ基が挙げられ、さらには炭素数１〜４個、又は炭素数１〜３個のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜４個のアルコキシ基が特に好ましい。炭素数１〜４個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、又はｎ−ブトキシ基等が好ましい例として挙げられる。また、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、又はｔ−ブトキシ基等も好ましい例として挙げられる。また、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基も好ましく、シクロプロピルメトキシ基も好ましい例として挙げられる。

本明細書中、アルキルチオ基としては、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせである飽和アルキルチオ基が挙げられる。低級アルキルチオ基が好ましく、低級アルキルチオ基としては、例えば炭素数１〜６個の低級アルキルチオ基、又は炭素数１〜５個の低級アルキルチオ基が好ましく、さらには炭素数１〜４個の低級アルキルチオ基、又は炭素数１〜３個までのアルキルチオ基が特に好ましい例として挙げられる。炭素数１〜４個の飽和アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチオルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基等が好ましい例として例示される。またイソプロピルチオ基、イソブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、又はｔ−ブチルチオ基等も好ましい例として例示される。またシクロプロピルチオ基、又はシクロブチルチオ基が好ましい例として挙げられ、さらにシクロプロピルメチルチオ基がさらに好ましい例として例示される。

これらのうち、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基が特に好ましい例として挙げられる。また、合わせて１から３個の置換又は無置換のアリール基にて置換されたメチル基（但しその置換アリールにおける置換基は、前述の通り）も好ましい例として挙げられる。

上記の脂肪族アシル基としては、例えば、アルキルカルボニル基、カルボキシアルキルカルボニル基、ハロゲノ低級アルキルカルボニル基、又は低級アルコキシ低級アルキルカルボニルが挙げられる。

なお、前記アルキルカルボニル基におけるアルキルは前述の説明の通りである。すなわち、アルキルカルボニル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ピバロイル基、バレリル基、イソバレリル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、３−メチルノナノイル基、８−メチルノナノイル基、３−エチルオクタノイル基、３，７−ジメチルオクタノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、１−メチルペンタデカノイル基、１４−メチルペンタデカノイル基、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル基、ヘプタデカノイル基、１５−メチルヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、１−メチルヘプタデカノイル基、ノナデカノイル基、アイコサノイル基、又はヘナイコサイル基が挙げられる。このうち、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ピバロイル基が好ましい例として挙げられ、さらにはアセチル基が特に好ましい例として挙げられる。また前記カルボキシ化アルキルカルボニル基におけるアルキルは前述の説明の通りである。カルボキシ化の置換位置などについても適宜選択できる。すなわち、カルボキシ化アルキルカルボニル基としては、例えばスクシノイル基、グルタロイル基、アジポイル基が挙げられる。

前記ハロゲノ低級アルキルカルボニル基における、ハロゲン、低級、及びアルキルについては前述の説明の通りである。ハロゲンの置換位置などについても適宜選択できる。すなわち、ハロゲノ低級アルキルカルボニル基としては、例えばクロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基が挙げられる。

前記低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基における、アルコキシ及びアルキル、さらに低級については前述の説明の通りである。低級アルコキシが置換する位置などについても適宜選択できる。すなわち、低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基として、例えばメトキシアセチル基が挙げられる。

上記の芳香族アシル基としては、例えば、アリールカルボニル基、ハロゲノアリールカルボニル基、低級アルキル化アリールカルボニル基、低級アルコキシ化アリールカルボニル基、カルボキシ化アリールカルボニル基、ニトロ化アリールカルボニル基、又はアリール化アリールカルボニル基が挙げられる。

前記アリールカルボニル基としては、例えばベンゾイル基、α−ナフトイル基、β−ナフトイル基が挙げられ、さらに好ましくはベンゾイル基が挙げられる。前記ハロゲノアリールカルボニル基としては、例えば、２−ブロモベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基が挙げられる。前記低級アルキル化アリールカルボニル基としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、４−トルオイル基、３−トルオイル基、２−トルオイル基が挙げられる。前記低級アルコキシ化アリールカルボニル基としては、例えば４−アニソイル基、３−アニソイル基、２−アニソイル基が挙げられる。

前記カルボキシル化アリールカルボニル基としては、例えば２−カルボキシベンゾイル基、３−カルボキシベンゾイル基、４−カルボキシベンゾイル基が挙げられる。前記ニトロ化アリールカルボニル基としては、例えば、４−ニトロベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、２−ニトロベンゾイル基が挙げられる。前記アリール化アリールカルボニル基としては、例えば、４−フェニルベンゾイル基が挙げられる。

低級アルコキシメチル基としては、例えばメトキシメチル基、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基が挙げられる。特に好ましくはメトキシメチル基が挙げられる。

適宜の置換基があってもよいオキシカルボニル基としては、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン又はシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基、又はアルケニルオキシカルボニル基が挙げられる。

前記低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルイソブトキシカルボニル基が挙げられる。前記ハロゲン又はシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基としては、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基が挙げられる。

前記アルケニルオキシカルボニル基としては、ビニルオキシカルボニル基が挙げられる。上記の、適宜の置換基があってもよいテトラヒドロピラニル基としては、例えばテトラヒドロピラン−２−イル基、又は、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル基が好ましい例として挙げられ、特に好ましくはテトラヒドロピラン−２−イル基が挙げられる。

適宜の置換基があってもよいテトラチオピラニル基としては、例えばテトラヒドロチオピラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イル基が挙げられ、さらに好ましくはテトラヒドロチオピラン−２−イル基が挙げられる。合わせて１から３個の置換又は無置換のアリール基にて置換されたメチル基、においては、前述の置換アリールにおける置換基としては、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、又はシアノ基を意味する。

合わせて１から３個の置換又は無置換のアリール基にて置換されたメチル基としては、例えばベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、α−ナフチルジフェニルメチル基が挙げられ、好ましくはベンジル基、トリフェニルメチル基が挙げられる。その他に、例えば９−アンスリルメチル４−メチルベンジル基、２，４，６−トリメチルベンジル基、３，４，５−トリメチルベンジル基が挙げられ、好ましくは、２，４，６−トリメチルベンジル基、３，４，５−トリメチルベンジル基が挙げられる。その他の種類として、例えば４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基が挙げられ、好ましくは４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基が挙げられる。さらには、例えば４−クロロベンジル基、４−ブロモベンジル基が挙げられる。またその他に、例えば４−シアノベンジル基も好ましい例として挙げられる。

本明細書中、シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルジイソプロピルシリル基、メチルジ−ｔ−ブチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ジフェニルブチルシリル基、ジフェニルイソプロピルシリルフェニルジイソプロピルシリル基が挙げられる。このなかでさらに好ましくは、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基が挙げられ、特に好ましくは、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基が挙げられる。

本明細書における水酸基の保護基としては、化学的方法（例えば、加水素分解、加水分解、電気分解、又は光分解など）、又は生物学的方法（例えば、人体内で加水分解等。想像するに微生物等での誘導など）、のいずれかの方法により開裂し、脱離する置換基を意味する場合もある。水酸基の保護基としては、特に、加水素分解、又は加水分解により脱離する置換基が好ましい例として挙げられる。なお、保護された水酸基は、かかる保護基で水素原子が置換された水酸基ということができる。

[Ｒ²及びＲ⁴について]
式（１）及び式（２）中、Ｒ²及びＲ⁴は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基の保護基、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶を表す。水酸基の保護基は既に説明したとおりである。

（保護されたリン酸基）
保護されたリン酸基における保護基は当業者公知であり、上述の参考文献や説明を参考にすることができる。

リン酸基の保護基としては、例えば、低級アルキル基、シアノ基で置換された低級アルキル基、シリル基で置換されたエチル基、ハロゲンで置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、シアノ基で置換された低級アルケニル基、シクロアルキル基、シアノ基で置換された低級アルケニル基、アラルキル基、ニトロ基でアリール環が置換されたアラルキル基、ハロゲンでアリール環が置換されたアラルキル基、低級アルキル基で置換されたアリール基、ハロゲンで置換されたアリール基、又はニトロ基で置換されたアリール基が挙げられる。

前記の低級アルキル基としては、前述したとおりである。前記のシアノ基で置換された低級アルキル基としては、例えば２−シアノエチル基、２−シアノ−１、１−ジメチルエチル基が挙げられ、特に好ましくは、２−シアノエチル基が挙げられる。前記のシリル基で置換されたエチル基としては、例えば２−メチルジフェニルシリルエチル基、２−トリメチルシリルエチル基、２−トリフェニルシリルエチル基が挙げられる。

前記のハロゲンで置換された低級アルキル基としては、例えば２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２−トリブロモエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基が挙げられ、特に好ましくは、２，２，２−トリクロロエチル基が挙げられる。前記の低級アルケニル基としては、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基などが挙げられる。

前記のシアノ基で置換された低級アルケニル基としては、例えば２−シアノエチル基、２−シアノプロピル基、２−シアノブテニル基が挙げられる。前記のアラルキル基としては、例えばベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、インデニルメチル基、フェナンスレニルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル基、２−フェニルブチル基、３−フェニルブチル基、４−フェニルブチル基が挙げられ、さらに好ましくは、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基が挙げられ、特に好ましくは、ベンジル基が挙げられる。

前記のニトロ基でアリール環が置換されたアラルキル基としては、２−（４−ニトロフェニル）エチル基、０−ニトロベンジル基、４−ニトロベンジル基、２，４−ジニトロベンジル基、４−クロロ−２−ニトロベンジル基などが挙げられる。

本明細書においてリン酸の保護基としては、化学的方法（例えば、加水素分解、加水分解、電気分解、又は光分解など）、又は生物学的方法（例えば、人体内で加水分解等。想像するに微生物等での誘導など）、のいずれかの方法により開裂し、脱離する置換基を意味する場合もある。リン酸の保護基としては、特に、加水素分解、又は加水分解により脱離する置換基が好ましい例として挙げられる。

（−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶）
本発明のヌクレオシド類縁体のＲ²及びＲ⁴は、−Ｐ(＝Ｏ)_n(Ｒ⁵)Ｒ⁶となる場合がある。ｎは０又は１を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基、保護された水酸基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルコキシ基、シアノ低級アルコキシ基、アミノ基、又は置換されたアミノ基のいずれかを示す。ただし、ｎが１のときには、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に水素原子となることはない。保護された水酸基及び低級アルコキシ基については、既に説明したとおりである。

（保護されたメルカプト基）
保護されたメルカプト基は、当業者において周知である。保護されたメルカプト基としては、例えば上記水酸基の保護基として挙げたものの他、例えばアルキルチオ基、アリールチオ基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基が挙げられる。好ましくは、脂肪族アシル基、芳香族アシル基が挙げられ、特に好ましくは、芳香族アシル基が挙げられる。アルキルチオ基としては、低級アルキルチオ気が好ましく、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｔ−ブチルチオ基が好ましい例として挙げられる。アリールチオ基としては、例えばベンジルチオが挙げられる。また芳香族アシル基としてはベンゾイル基が挙げられる。

前記のシアノ低級アルコキシ基としては、例えば、シアノ基が置換した直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせである炭素数１〜５個のアルコキシ基（なお、シアノ基中の炭素の数を含めずに数えた場合）が好ましい例として挙げられ、具体的には例えば、シアノメトキシ、２−シアノエトキシ、３−シアノプロポキシ、４−シアノブトキシ、３−シアノ―２−メチルプロポキシ、又は１−シアノメチル−１，１−ジメチルメトキシ等が挙げられ、特に好ましくは、２−シアノエトキシ基が挙げられる。

Ｒ⁵及びＲ⁶として、置換されたアミノ基が選択できる。そのアミノ基の置換基は、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ低級アルコキシ基、又は低級アルキル基のいずれかを示す。なお前記Ｒ⁵及びＲ⁶が共に、置換されたアミノ基である場合では、該置換されたアミノ基として互いに異なった置換されたアミノ基であってもよい。前記の低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ低級アルコキシ基、及び低級アルキル基は、前述に説明された通りである。

−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶としては、より具体的には、ホスホロアミダイト基、H−ホスホネート基、又はホスホニル基が好ましい例として挙げられ、ホスホロアミダイト基が特に好ましい例として挙げられる。

−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶において、ｎが０であり、Ｒ⁵及びＲ⁶の少なくとも一方が置換されたアミノ基であり、他方は何であってもよい場合には、ホスホロアミダイト基となる。ホスホロアミダイト基としては、Ｒ⁵及びＲ⁶の一方が置換されたアミノ基であり、他方が低級アルコキシ基、又はシアノ低級アルコキシ基であるホスホロアミダイト基が、縮合反応の反応効率が良好であり、特に好ましい。その置換されたアミノ基としては、例えば、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基等が好ましい例として挙げられ、特に好ましくはジイソプロピルアミノ基が例示される。また、Ｒ⁵及びＲ⁶の他方の置換基における低級アルコキシ基としては、メトキシキ基が好ましい例として挙げられる。また、シアノ低級アルコキシ基としては、２−シアノエチル基が好ましい例として挙げられる。ホスホロアミダイト基としては、具体的には、−Ｐ（ＯＣ₂Ｈ₄ＣＮ）（Ｎ（ＣＨ（ＣＨ₃）₂）、又は−Ｐ（ＯＣＨ₃）（Ｎ（ＣＨ（ＣＨ₃）₂）が好ましい例として挙げられる。

−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶において、ｎが１であり、Ｒ⁵及びＲ⁶の少なくとも一方が水素原子であり、他方は水素原子以外であれば何であってもよい場合には、H−ホスホネート基となる。その、水素以外の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、チオール基等が挙げられ、特に好ましくはヒドロキシル基が例示される。

また、−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶において、ｎが１であり、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に低級アルコキシ基である場合には、ホスホニル基となる。なお、Ｒ⁵及びＲ⁶における低級アルコキシ基は互いに同一でも相違していてもよい。その低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい例として挙げられる。ホスホニル基としては、具体的には、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣＨ₃）₂が挙げられる。

本ヌクレオシド誘導体におけるＲ²としては、例えば、−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶であることが特に好ましい。−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶としては、ホスホロアミダイト基、Ｈ−ホスホネート基、又はホスホニル基が好ましい例として挙げられる。Ｒ²としては、その他にリン酸基、又は保護されたリン酸基であることも好ましい。さらにＲ²としては、水素原子、又は水酸基の保護基であることも好ましい。

Ｒ²の具体的な他の例示としては、水素原子、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、−Ｐ（ＯＣ₂Ｈ₄ＣＮ）（Ｎ（ＣＨ（ＣＨ₃）₂）、−Ｐ（ＯＣＨ₃）（Ｎ（ＣＨ（ＣＨ₃）₂）、又はホスホニル基が好ましい例として挙げられる。

本ヌクレオシド誘導体におけるＲ⁴としては、例えば、水素原子又は水酸基の保護基が好ましい。また例えば、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_n（Ｒ⁵）Ｒ⁶であることも好ましい。Ｒ⁴としての具体的な例示を挙げると、水素原子、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、又はトリメチルシリル基が好ましい例として挙げられる。

[Ｒ³について]
式（１）及び式（２）中、Ｒ³は、それぞれ連結基を有するＮＨＲ⁷、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基を表すことができる。すなわち、ＮＨＲ⁷、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基は、それぞれが連結基を介して４’位の炭素原子に結合している。

連結基としては、例えば、炭素数１個以上の２価炭化水素基を表すことができる。すなわち、２価の炭化水素基としては、炭素数１〜８個以下のアルキレン基、炭素数２〜８個以下のアルケニレン基などが挙げられる。

連結基としてのアルキレン基としては、直鎖状、分枝状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、低級アルキル基が好ましく、例えば炭素数１〜６個の低級アルキル基、また例えば、炭素数２〜６個の低級アルキル基が好ましく、また例えば、炭素数２〜４個又は炭素数２〜３個の低級アルキル基が好ましい。直鎖状の炭素数１から４までのアルキル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンー１、３−ジイル基、ｎ−ブタン−１，１−ジイル基、ｎ−ペンチル−１−５，−ジイル基、ｎ−ヘキシル−１，６−ジイル基等が挙げられる。また、例えば、ブタン−１，２−ジイル基等が挙げられる。また例えば、エチレン基、プロパンー１、３−ジイル基、ｎ−ブタン−１，１−ジイル基が特に好ましい例として挙げられる。

連結基としてのアルケニレン基としては、直鎖状、分枝状であり、好ましくは直鎖状である。例えば、低級アルケニレン基が好ましく、低級アルケニレン基としては、例えば、エテン−１，２−ジイル基、プロペンー１，３−ジイル基、ブテン−１，４−ジイル基等が挙げられる。

式（１）で表されるヌクレオシド誘導体においては、例えばエチレン基などの炭素数２以上のアルキレン基などの２価炭化水素基であることがオリゴヌクレオチド誘導体のヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性の観点から好適である。また、式（２）で表されるヌクレオシド誘導体においては、例えばエチレン基などの炭素数１以上のアルキレン基などの２価炭化水素基であってもヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性の観点から好適である。

Ｒ⁷としては、水素原子、アルキル基又はアルケニル基又はアミノ基の保護基が挙げられる。アルキル基は、既に説明したアルキル基のほか、低級アルキル基が好ましく挙げられる。アルケニル基としては、既に説明したアルケニル基のほか、低級アルケニル基が好ましく挙げられる。Ｒ⁷が水素原子などこれらの基であるとき、連結基は、炭素数２以上、また例えば３以上、また例えば４以上で、例えば６以下、また例えば５以下、また例えば４以下のアルキレン基であることが好適である。

また、Ｒ⁷が水素原子のとき、Ｒ³は、連結基を有するＮＨ₂（アミノ基）、すなわち、連結基がアルキレン基やアルケニレン基のときには、アミノアルキル基やアミノアルケニル基などとなる。式（１）及び式（２）中、Ｒ³がアミノアルキル基などであることにより、本ヌクレオシド誘導体及び本ヌクレオシド誘導体に由来するモノマーユニットを備えるオリゴヌクレオチド誘導体は、周囲のｐＨ環境において電荷が変化するという特徴を伴う電荷付与性を発揮することができる。例えば、酸性下ではカチオニックであり、生理的条件下の中性ではプラス電荷が減少して電荷ゼロとなりうる。すなわち、かかる電荷調節能によれば、ｐＨ環境を変化させることで、必要時にヌクレオシド誘導体の電荷をダイナミックに変化させたり、所望の電荷を付与したりすることができる。したがって、このような本ヌクレオシド誘導体によれば、オリゴヌクレオチドの電荷を従来とは異なる態様であるいは従来よりも一層高い自由度で調整できるようになる。以上のことから、Ｒ³がかかるアミノアルキル基などである本ヌクレオシド誘導体は、オリゴヌクレオチド等に対する電荷（正電荷）付与剤又は電荷調節剤として有用である。

Ｒ³としては、それぞれ連結基を有する、アジド基、アミジノ基、すなわち、ＣＨ₃（ＮＨ）Ｃ（ＮＨ）−（アミジンのアミノ基から水素原子１個を除いたもの）、グアニジノ基、すなわち、ＮＨ₂（ＮＨ）Ｃ（ＮＨ）−（グアニジンのアミノ基から水素原子1個を除いたもの）が挙げられる。なかでも、グアニジノ基が挙げられる。Ｒ³が、これらの基を有するとき、連結基は、炭素数１以上、また例えば２以上などのアルキレン基又はアルケニレン基などとすることができる。なお、Ｒ³が、連結基を有するアミジノ基、グアニジノ基のときには、既述のアミノアルキル基などのときとは異なり、常にカチオニックとなる。かかる本ヌクレオシド誘導体は、Ｒ³がアミノアルキル基などである本ヌクレオシド誘導体と組み合わせて用いるのに有用である。

アミノ基に対する保護基は、当業者に周知されており、前述の参考文献を参照することができる。具体的には、上記にて水酸基の保護基として挙げたものの他、例えばベンジル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、フルオロベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ニトロベンジル基、メトキシフェニル基、メトキシメチル（ＭＯＭ）基、Ｎ−メチルアミノベンジル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジル基、フェナシル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、フタルイミド基、アリルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基、１−メチル−１−（４−ビフェニル）エトキシカルボニル（Ｂｐｏｃ）基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、ベンジルオキシメチル（ＢＯＭ）基、又は２−（トリメチルシリル）エトキシメチル（ＳＥＭ）基などが挙げられる。さらに好ましくは、ベンジル基、メトキシフェニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル（ＴＦＡ）基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）基、１−メチル−１−（４−ビフェニル）エトキシカルボニル（Ｂｐｏｃ）基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、ベンジルオキシメチル（ＢＯＭ）基、又は２−（トリメチルシリル）エトキシメチル（ＳＥＭ）基が挙げられ、特に好ましくは、ベンジル基、メトキシフェニル基、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジルオキシメチル基が挙げられる。

本発明においてアミノ基の保護基としては、化学的方法（例えば、加水素分解、加水分解、電気分解、又は光分解など）、又は生物学的方法（例えば、人体内で加水分解等。想像するに微生物等での誘導など）、のいずれかの方法により開裂し、脱離する置換基を意味する場合もある。特に、加水素分解、又は加水分解により脱離する置換基がアミノ基の保護基として好ましい。

[Ｂ：塩基について]
本ヌクレオシド誘導体におけるＢ：塩基としては、公知の天然塩基ほか、人工塩基が挙げられる。例えば、Ｂとしては、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基が選択できる。

すなわち、Ｂとしては、プリン−９−イル基、又は２−オキソ−ピリミジン−１−イル基が挙げられるほか、２，６−ジクロロプリン−９−イル、又は２−オキソ−ピリミジン−１−イルが挙げられる。さらに、２−オキソ−４−メトキシ−ピリミジン−１−イル、４−（１H−１，２，４−トリアゾール‐１−イル）−ピリミジン−１−イル、又は２，６−ジメトキシプリン−９−イルが挙げられる。

さらに、アミノ基が保護された２−オキソ−４−アミノ−ピリミジン−１−イル、アミノ基が保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、アミノ基及び／又は水酸基が保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、アミノ基が保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が保護された６−アミノプリン−９−イル、又はアミノ基が保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−ピリミジン−１−イル基が挙げられる。なお、水酸基及びアミノ基の各保護基については、既に説明したとおりである。

さらに、６−アミノプリン−９−イル（アデニン）、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（グアニジン）、２−オキソ−４−アミノ−ピリミジン−１−イル（シトシン）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−ピリミジン−１−イル（ウラシル）、又は２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イル（チミン）が挙げられる。

さらにまた、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−ピリミジン−１−イル（メチルシトシン）、２，６−ジアミノプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−ピリミジン−１−イル、又は２−オキソ−４−メルカプト−ピリミジン−１−イルが挙げられる。

また、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、又は２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イルが挙げられる。

置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基それぞれにおける置換基は、水酸基、保護された水酸基、低級アルコキシ基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルキルチオ基、アミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシメチル基、又はハロゲン原子のいずれか一つ、又はそれらの複数の組み合わせのいずれかである。これらの置換基は、既に説明したとおりである。

本ヌクレオシド誘導体におけるＢとしては、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基における置換基が既述の各置換基が好ましいが、これに加えてさらに、トリアゾール基、低級アルコキシメチル基が加わることも好ましい。

置換プリン−９−イル基の好ましい例としては、例えば、６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、又は６−メルカプトプリン−９−イル等が挙げられる。上述の置換基中にアミノ基や水酸基があれば、それらのアミノ基及び／又は水酸基が保護化された置換基が好ましい例として挙げられる。

置換２−オキソ−ピリミジン−１−イルとしては、例えば２−オキソ−４−アミノ−ピリミジン−１−イル、１Ｈ−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）−ピリミジン−１−イル、４−１Ｈ−１，４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−ピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−ピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−ピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−ピリミジン−1−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イル、又は４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−ピリミジン−１−イル等が挙げられる。
また、２−オキソ−４−メトキシ−ピリミジン−１−イル、又は４−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール‐１−イル）−ピリミジン−１−イルが好ましい例として挙げられる。

こうしたＢのうち、置換基中にアミノ基や水酸基があれば、それらのアミノ基又は水酸基が保護化された置換基が好ましい例として挙げられる。

本ヌクレオシド誘導体は、塩であってもよい。塩の形態は特に限定されないが、一般的には酸付加塩が例示され、分子内対イオンの形態をとっていてもよい。又は置換基の種類によっては塩基付加塩が形成される場合もある。塩としては、薬学的に許容される塩が好ましい。薬学的に許容しうる塩を形成する酸及び塩基の種類は当業者には周知であり、例えばＪ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．，１−１９（１９７７）に記載しているものなどを参考にすることができる。例えば、酸付加塩としては、鉱酸塩、有機酸塩が挙げられる。また、一個以上の置換基が酸性部分を含有する場合、塩基付加塩も好ましい例として挙げられる。

鉱酸塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素酸塩、リン酸塩、リン酸水素酸塩などが挙げられる。通常は、塩酸塩、リン酸塩、が好ましい例として挙げられる。有機酸塩としては、例えば、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、グルコン酸塩、乳酸塩、サリチル酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、アスコルビン酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、ギ酸塩、安息香酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、又はｐ−トルエンスルホン酸塩などが挙げられる。通常は、酢酸塩等が好ましい例として挙げられる。塩基付加塩としては、アルカリ金属の塩、アルカリ土類金属の塩、有機アミン塩、アミノ酸の付加塩が挙げられる。

前記のアルカリ金属の塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられる。また、アルカリ土類金属の塩としては、例えば、マグネシウム塩、カルシウム塩などが挙げられる。有機アミン塩としては、例えば、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、プロカイン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩等が例示される。また、アミノ酸の付加塩としては、例えば、アルギニン塩、リジン塩、オルニチン塩、セリン塩、グリシン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩などが挙げられる。

本ヌクレオシド誘導体又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあり、これらの物質も本明細書の開示の範囲に含まれる。本ヌクレオシド誘導体又はその塩は、後述の合成例や公知の方法に準じて、当業者は容易に製造することができる。

本ヌクレオシド誘導体は、オリゴヌクレオチドの少なくとも一部としてオリゴヌクレオチドに導入することで、一本鎖としてのオリゴヌクレオチド、二本鎖オリゴヌクレオチドのヌクレアーゼ耐性を向上させうることができるほか、哺乳動物細胞等の細胞膜透過性を向上させることができる。すなわち、本ヌクレオシド誘導体は、それ自体は、ヌクレアーゼ耐性向上剤及び／又は細胞膜透過性付与剤として有用である。また、本ヌクレオシド誘導体は、４’に塩基性の置換基を備えることができる。これにより、オリゴヌクレオチド等におけるリン酸基などに由来する負電荷を調整することができるという電荷調節剤又は正電荷付与剤として機能することができる。

（オリゴヌクレオチド誘導体及びその塩）
本明細書に開示されるオリゴヌクレオチド誘導体（以下、本オリゴヌクレオチド誘導体ともいう。）は、式（３）及び式（４）で表される部分構造を少なくとも１個含有することができる。式（３）及び式（４）で表される部分構造は、それぞれ、式（１）及び式（２）で表されるヌクレオシド誘導体又はその塩に基づいて取得されうる。

式（３）及び式（４）で表される部分構造におけるＲ¹、Ｘ，Ｒ³及びＢについては、式（１）及び式（２）におけるのとそれぞれ同義である。

式（３）及び式（４）で表される部分構造は、本オリゴヌクレオチド誘導体中において２個以上含んでいてもよい。その場合、これらの部分構造は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、本オリゴヌクレオチド誘導体に含まれる部分構造の全体は、式（３）で表される部分構造のみから構成されていてもよいし、式（４）で表される部分構造のみから構成されていてもよい。また、式（３）で表される部分構造１又は２以上有し、かつ式（４）で表される部分構造を１又は２以上有していてもよい。

また、式（３）及び式（４）で表される部分構造の配置としては、互いに隣り合ってもよいし、離れて存在してもよい。例えば、本オリゴヌクレオチド誘導体は、前記部分構造を少なくとも３個備えることができる。この場合、各部分構造を、本オリゴヌクレオチド誘導体の５’末端側、中央部及び３’末端側に略均等に備えることができる。部分構造を本オリゴヌクレオチド誘導体のこれら各部に略均等に備える、とは、これらの各部において、同数個を必ずしも部分構造を備えることを限定するものではなく、これら各部に少なくとも１個をそれぞれ備えることを少なくとも充足すれば足りる。例えば、各部に１〜３個程度の部分構造を備える場合には、略均等ということができる。部分構造は、本オリゴヌクレオチド誘導体において、少なくとも６個備えることができる。

式（３）で表される部分構造は、糖鎖部分がリボース又はデオキシリボースに由来していることから、本オリゴヌクレオチド誘導体は、オリゴリボヌクレオチドであってもよいし、オリゴデオキシリボヌクレオチドであってもよい。また、本オリゴヌクレオチド誘導体は、リボヌクレオチドとデオキシリボヌクレオチドとのキメラであってもよい。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、それ自体一本鎖であるが、オリゴリボヌクレオチド、オリゴデオキシリボヌクレオチド、及びオリゴデオキシリボ／リボヌクレオチド（キメラ鎖）とのハイブリッド、すなわち、二本鎖の形態を採ることもできる。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、式（３）及び式（４）で表される部分構造以外の部分構造としては、その他の天然のヌクレオチド、又は公知のヌクレオシド誘導体及び／又はヌクレオチド誘導体などに該当する部分構造を備えることができる。本明細書において規定する部分構造及びその他の部分構造は、互いに、例えば、リン酸ジエステル結合、リン酸モノエステル結合、チオリン酸エステル結合等によって結合されうる。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、部分構造及びその他のヌクレオシド誘導体の個数を単位として、少なくとも２個以上、さらには８個以上であることが好ましく、特に好ましくは１５個以上であることが挙げられる。上限としては特に限定されないが、例えば１００個以下であり、また例えば、８０個以下であり、また例えば、６０個以下であり、また例えば、５０個以下であり、また例えば、４０個以下であり、また例えば、３０個以下であり、また例えば、２０個以下であってもよい。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、式（３）及び式（４）で表される部分構造ほか、その他の部分構造において、一個以上の不斉中心を有する場合があり、立体異性体が存在する場合も同様であって、立体異性体の任意の混合物、又はラセミ体などはいずれも本発明の範囲に包含される。また互変異性体として存在しうる場合もある。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、塩であってもよい。塩の形態は特に限定されないが、薬学的に許容される塩が好ましい例として挙げられる。塩については、既述の本ヌクレオシド誘導体における塩の態様を適用することができる。本オリゴヌクレオチド誘導体又はその塩としては、水和物や溶媒和物であってもよく、これらも本発明の範囲に含まれる。

（本ヌクレオシド誘導体及び本オリゴヌクレオチド誘導体の製造）
本ヌクレオシド誘導体及び本オリゴヌクレオチド誘導体は、当業者であれば、後段の具体的な合成例のほか、本願出願時において公知のヌクレオシド及びオリゴヌクレオチドについての合成技術に基づいて、容易に合成されうる。

本ヌクレオシド誘導体及び本オリゴヌクレオチド誘導体は、例えば下記の方法により製造できるが、本発明のヌクレオシド類縁体又はオリゴヌクレオチド類縁体の製造方法は下記の方法に限定されるものではない。

それぞれの反応において、反応時間は特に限定されないが、後述の分析手段により反応の進行状態を容易に追跡できるため、目的物の収量が最大となる時点で終了すればよい。また、それぞれの反応は必要により、例えば、窒素気流下又はアルゴン気流下などの不活性ガス雰囲気下で行うことができる。それぞれの反応において、保護基による保護及びその後の脱保護が必要な場合は、後述の方法を利用することにより適宜反応を行うことができる。

なお、本明細書においては、Ｂｎはベンジル基を示し、Ａｃはアセチル基を示し、Ｂｚはベンゾイル基を示し、ＰＭＢはｐ−メトキシベンジル基を示し、Ｔｒはトリフェニルメチル基を示し、ＴＦＡは、トリフルオロアセチル基を示し、ＴｓＯは、トシルオキシ基を示し、ＭＭＴｒは４−メトキシトリフェニルメチル基を示し、ＤＭＴｒは４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基を示し、ＴＭＳはトリメチルシリル基を示し、ＴＢＤＭＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を示し、ＴＢＤＰＳはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基を示し、ＭＯＭはメトキシメチル基を示し、ＢＯＭはベンジルオキシメチル基を示し、ＳＥＭは２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基を示す。

（本ヌクレオシド誘導体の製造方法）
本ヌクレオシド誘導体は、例えば、以下のスキームに従い合成することができる。なお、以下のスキームＩ（化合物１〜１１まで）、同ＩＩ（化合物１１〜２０）及び同ＩＩＩ（化合物１５〜６６）は、グルコースを出発物質として、ウラシルリボヌクレオシド誘導体を合成し、本オリゴヌクレオチド誘導体の合成のためのホスホロアミダイト剤を合成するまでのスキームの一例である。なお、以下のスキーム中の化合物における保護基や連結基等はいずれも一例である。

（スキームＩ）

（スキームＩＩ）

（スキームＩＩＩ）

すなわち、常法に従い、グルコース１から、上記化合物２を取得する。化合物２から、Bioorganic & Medical Chemistry 11(2003) 211-2226, Bioorganic & Chemistry letters(1999) 2667-2672, The Journal of Organic Chemistry 2013, 78, 9956-9962, HELVATICA CHIMICA ACTA Vol. 83 (2000) 128-151等のほか、Bioorganic & Medicinal Chemistry 11(2003) 2211-2226, Bioorganic & Chemistry letters(1999) 2667-2672の記載に基づいて化合物３ないし化合物２０並びに化合物６６を得ることができる。

本明細書によれば、例えば、上記スキームＩ〜ＩＩＩなどで例示される本ヌクレオシド誘導体の製造方法における一部を以下の式（５）〜（７）で表される反応の少なくとも1つを含めるように置換することで、本ヌクレオシド誘導体を効率的に得ることができる。

上記式（５）〜（７）中において、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立して又はＲ¹⁰及びＲ¹¹が一体となって水酸基の保護基を表し、Ｒ¹²は、式（８）を表し、Ｒ¹⁴は、アルキレン基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｔｆは、トリフルオロメチルスルホニル基を表す。

上記式（５）の反応は、例えば、上記スキームＩで例示される化合物１から化合物４までのステップの一部を代替することができる。以下に、式（５）の反応を含む代替スキームＩを示す。式（５）で表される反応は、代替スキームＩの化合物２から化合物３への反応に相当する。なお、以下に順次示す代替スキームＩ〜ＩＩＩの詳細は、後段の実施例において説明する。

式（５）で表される反応によれば、リボースの４’位にＲ³としてアミノアルキルを導入するための基を導入（例えば、アルデヒド基など）に必要な工程数を短縮することができる。従来のスキームＩでは、リボースの４’に連結する２つのヒドロキシメチル基のジオールを選択的に保護するために、代替スキームＩ中の化合物Ａ及び同Ｂ（スキームＩ中の化合物２及び同３に相当する。）の反応で副生する異性体をシリカゲルなどのカラムクロマトグラフィーにて分離する必要があった。しかしながら、式（５）で表される反応を用いることで、すなわち、代替スキームＩ中の化合物２を用いて、同２から同３への反応を用いることで、立体選択的に、リボースの４’位にヒドロキシメチル基を導入して単一の立体異性体である化合物３を得ることができるとともに、当該化合物３を結晶化して精製することができ、意図しない異性体の分離操作を回避し、収率よく代替スキームＩ中の化合物３を得ることができる。

なお、当該代替スキームＩ〜ＩＩＩは、４’位にＲ³として、アミノエチル基（連結基がエチレン基）を導入する例であるが、例えば、アミノプロピル基などの他の連結基（同プロピレン基）やその他のＲ³を導入する場合、代替スキームＩに示すようなウィティッヒ反応を用いて、他のアルキル基を備えるウィティッヒ試薬を用いて他のアミノアルキル基などのＲ³に変換可能なオレフィンを導入するようにすることもでできる。あるいは、ホルナーエモンズ反応を用いて、意図するアミノアルキルなどのＲ³に変換可能なオレフィンを導入するようにすることもできる。例えば、ホルナーエモンズ反応を用いて、以下のようにして、４’位にアミノプロピル基に変換可能に修飾することができる。こうした反応は、例えば、Bioorganic & Medicinal Chemistry 11 (2003) 2211-2226に記載されている。

さらに、本明細書によれば、式（５）の反応に引き続いて、あるいは式（５）の反応に替えて、以下の式（５）’及び式（５）’’で表される反応を実施することができる。これらの反応は、上記スキームＩで例示される化合物１から化合物４まで他のステップのそれぞれ一部を代替することができる反応であり、組み合わせると代替スキームＩの化合物３から化合物５に至る反応に相当する。式（５）’の反応は、式中の左辺化合物の５’位水酸基を保護する反応であり、式（５）’’の反応は、式中の左辺化合物の４’位のＲ₁₂をアルデヒド基に変換する反応である。

式（５）’及び式（５）’’で表される反応によれば、式（５）で表される反応で得た化合物から効率的にリボースの１’位、２’位、３’位及び５’位の水酸基が保護されしかも、４’位にアミノアルキル基導入準備がなされた化合物（式（５）’’の右辺化合物）を効率的により高い収率で得ることができる。式（５）’の反応は、例えば、水素化ナトリウムなどの強塩基により、４’位のヒドロキシメチル基の水酸基からプロトンを引き抜くとともに、臭化ベンジルなどのハロゲン化ベンジルを用いて、結果として、５’位水酸基に保護基としてのベンジル基を導入する反応である。式（５）’’の反応は、過ヨウ素酸ナトリウムなどの酸化剤により、４’位のＲ₁₂をアルデヒド基に変換するものである。

こうして得られる（５）’’の反応の右辺化合物のアルデヒド基を、臭化メチルトリフェニルホスホニウムを用いたWitting反応等によってビニル基に変換して、その後、当該ビニル基に水酸基を付加して、ヒドロキシエチル基に変換することができる。

例えば、本発明者らは、式（５）、同（５）’及び同（５）’’で表される反応を組み合わせることで、代替スキームＩの化合物１から化合物５までの工程数を、対応する従来法では８工程であったのを５工程に減少することができ、対応する従来法の収率（典型的には、２８％）であったのを、４８％とすることができることを確認している。

上記式（６）の反応は、式中の左辺化合物のリボースの４’位へアジド基（Ｒ₁₄Ｎ₃基）の導入反応である。上記式（６）の反応は、例えば、上記スキームＩで例示される化合物６から化合物１０までのステップの一部を代替することができる。すなわち、リボースの４’位のアジド基の導入ステップの一部を代替することができる。以下に、式（６）の反応を含む代替スキームＩＩを示す。代替スキームＩＩの主体は、当該代替スキームＩＩ中の化合物７から化合物１０に至るステップである。式（６）で表される反応は、代替スキームＩＩの化合物７から化合物８への反応に相当する。

式（６）で表される反応によれば、代替スキームＩＩにおける化合物７から、光延反応を用いたアジド化反応を用いて、同化合物８を得ることができる。従来、光延反応においては、５’位の水酸基の保護基がベンジル基であると、副反応が生じることが予測されたため、化合物７は光延反応の出発物質としては好適でないと考えられていた。また、３’位及び５’位の水酸基保護基がベンジル基であることで、２’位ハロゲン化ヌクレオシド誘導体を得るためのスキームＩＩＩでの脱保護のための保護基の付け替えステップ（化合物５７〜化合物６４）を省略することができるようになる。

光延反応は、第二級アルコールに、典型的には、アゾジカルボン酸ジエチル、トリフェニルホスフィン(Ｐｈ₃Ｐ)、安息香酸を反応させると、立体反転(Ｓ_N２経路)を伴って、対応するベンゾイルオキシ誘導体が生成し、続くアルカリ加水分解により、対応するアルコールに変換できる。この光延反応に、ジフェニルリン酸アジド（ＤＰＰＡ）などのアジド化試薬を併用することで、水酸基をアジド化することができる。

さらに、本明細書によれば、式（６）の反応に引き続いて、代替スキームＩＩ中の化合物８から化合物９及び化合物９から化合物１０への反応を実施することができる。これらの反応を実施することで、代替スキームＩＩ中の化合物１０（スキーム１中の化合物１１）を効率的にかつ収率よく得ることができる。特に、代替スキームＩＩ中の化合物８に対して、イソプロピリデン基の加水分解及びアセチル化を２段階で行うことで化合物１０の収率を向上させることができる。

例えば、本発明者らは、式（６）で表される反応を組み合わせて代替スキームＩＩの化合物５から化合物１０までの工程における収率を、対応する従来法の収率（典型的には、１９％）であったのを、６５％とすることができることを確認している。

上記式（７）の反応は、式（７）中の左辺化合物のリボースの２’位へハロゲン原子の導入反応である。上記式（７）の反応は、例えば、上記スキームＩで例示される化合物１０から化合物１１を経て上記スキームＩＩの当該化合物１１から化合物１５並びに上記スキームＩＩＩの当該化合物１５〜化合物６１までのステップの一部を代替することができる。すなわち、リボースの２’位へのハロゲン原子の導入ステップの一部を代替することができる。以下に、式（７）の反応を含む代替スキームＩＩＩを示す。代替スキームＩＩＩの主体は、当該代替スキームＩＩＩ中の化合物１２から化合物１７に至るステップである。式（７）で表される反応は、代替スキームＩＩＩの化合物１５から化合物１６への反応に相当する。

式（７）で表される反応によれば、代替スキームＩＩＩにおける化合物１５を用いて、フッ化反応を実施することで、従来のスキームＩＩＩに比較して、２’−ハロゲニル体を収率良く得ることができる。また、既述のとおりに、３’位及び５’位の水酸基の保護基がいずれもベンジル基であることから、スキームＩＩＩに比較して保護基の付け替え工程を省略して、結果として脱保護工程を短縮化することができる。

さらに、本明細書によれば、式（７）の反応に先だって、あるいは式（７）の反応とは独立して、以下の式（７）’及び式（７）’’で表される反応を実施することができる。これらの反応は、代替スキームＩＩＩの化合物１２から化合物１５までのステップに対応する反応である。すなわち、式（７）’の反応は、式中の左辺化合物の２’位水酸基を脱保護するとともに反転させる反応であり、式（７）’’の反応は、式中の左辺化合物の２’位水酸基にＴｆ基を導入する反応である。

式（７）’及び式（７）’’で表される反応によれば、式（７）で用いる化合物を効率的にかつ高い収率で得ることができる。

例えば、本発明者らは、式（７）、同（７）’及び同（７）’’で表される反応を組み合わせて代替スキームＩＩＩの化合物１０から化合物１８までにおける工程数を、対応する従来法では１０工程であったのに対し７工程に減少させることができ、また、これらの工程における収率を、対応する従来法の収率（典型的には、２２％）であったのを、５０％とすることができることを確認している。

代替スキームＩ〜ＩＩＩ後は、例えば、以下のスキームに従い、ヌクレオシド誘導体を得ることができる。なお、以下のスキームＩＶ及びＶについても後段の実施例において詳細に説明する。

上記式中のＲ¹⁰及びＲ¹¹におけるヒドロキシル基の保護基としては、水酸基の保護基であれば特に限定されないで、例えば、メトキシメチレンアセタール基、イソプロピリデン基、メチレンアセタール基、エチリデンアセタール基のような環状アセタール型の保護基、メチル基、ベンジル基、ベンゾイル基、t−ブチル基、アセチル基、メトキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルチオメチル基、トリフルオロアセチル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基、トルオイル基、４−メトキシメチルフェニル基等が挙げられる。

Ｒ¹及びＲ²におけるヒドロキシル基の保護基としては、酸加水分解反応により脱保護可能なヒドロキシル基の保護基が好ましい。酸加水分解反応により脱保護可能なヒドロキシル基の保護基としては、例えば、メトキシメチレンアセタール基、イソプロピリデン基、メチレンアセタール基、エチリデンアセタール基のような環状アセタール型の保護基、メトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基等が挙げられる。

Ｒ¹⁰及びＲ¹¹としては、反応の効率性の観点及び反応の立体選択性の観点から、Ｒ¹⁰とＲ¹¹が一体となった場合であるメトキシメチレンアセタール基、イソプロピリデン基、メチレンアセタール基、エチリデンアセタール基のような環状アセタール型の保護基が好ましく、特にイソプロピリデン基が好ましい。

上記式中のＲ₁₄は、Ｒ₃における連結基と同義である。また、上記式中のＲ₁₅は、脱離基であって、例えば、メタンスルホニル基、クロロメタンスルホナート基等が挙げられる。なかでも、メタンスルホニル基が好ましい。

式（５）〜式（７）で表される反応を含む、以上の代替スキームＩ〜ＩＩＩを用いることで、全体として、工程数を全体の７０％程度に低減できるとともに、総収率は、少なくとも２倍以上、また例えば３倍以上、また例えば４倍程度にまで向上させることができる。

式（５）〜式（７）で表される反応のうちの少なくとも一つの反応を用いることで、本ヌクレオシド誘導体を効率的に得ることができるため、結果として、式（３）及び式（４）で表される部分構造を備える本オリゴヌクレオチド誘導体も効率的に得ることができる。すなわち、こうしたヌクレオシド誘導体を用いることで、公知のＤＮＡシンセサイザーを用いて合成することができ、得られるオリゴヌクレオチド誘導体は、カラムを用いて精製し、生成物の純度を逆相ＨＰＬＣやＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳで分析することにより、精製された本オリゴヌクレオチド誘導体を得ることができる。なお、本オリゴヌクレオチド誘導体を酸付加塩とする方法は、当業者に周知である。

本オリゴヌクレオチド誘導体によれば、リボース４’位に連結基を介して所定のＮ含有基を備えることで、ＲＮＡ干渉能等の生体におけるＲＮＡ機能を維持しつつ、ＲＮＡの実質電荷量を調節できる。これにより、リボヌクレアーゼ耐性を向上させることができるほか、細胞膜透過性を向上させることができる。

本オリゴヌクレオチド誘導体においては、本部分構造を少なくとも２個備えることができる。本部分構造を複数個備えることで、細胞膜透過性、リボヌクレアーゼ耐性等を確実に向上させ、また調整することができる。また、本オリゴヌクレオチド誘導体は、本部分構造を少なくとも３個備えることもできる。

本オリゴヌクレオチド誘導体においては、１個又は２個以上の本部分構造の備える部位は特に限定するものではないが、例えば、５’末端側及び３’末端側のいずれか及び双方に備えることができる。５’末端側及び３’末端側とは、それぞれ、本オリゴヌクレオチドのポリマー鎖の各末端から適数個の範囲の領域をいい、それぞれ、ポリマー鎖の全構成単位の、例えば３０％を超えない構成単位からなる領域をいう。上記末端からの範囲の割合は、ポリマー鎖の全長によっても異なるが、例えば２５％以下、また例えば２０％以下、また例えば１０％以下、また例えば５％以下などとすることができる。より具体的には、５’末端側及び３’末端側とは、例えば各末端から１個〜３０個、また例えば例えば１個〜２５個、また例えば１個〜２０個、また例えば１個〜１５個、また例えば１個〜１０個、また例えば１個〜８個、また例えば１個〜６個、また例えば１個〜５個、また例えば１個〜４個、また例えば１〜３個、また例えば例えば１〜２個のヌクレオシド誘導体由来の構成単位の領域とすることができる。本オリゴヌクレオチド誘導体は、こうした末端領域のいずれかに１個又は２個以上の本部分構造を備えることができる。好ましくは、２個以上備えることができる。また、本オリゴヌクレオチド誘導体は、５’末端及び３’末端（すなわち、各末端から１個目の構成単位）のいずれか又は双方に本部分構造を備えることもできる。

本オリゴヌクレオチド誘導体においては、１個又は２個以上の本部分構造を、５’末端側及び３’末端側以外の部分である中央部に備えることもできる。本オリゴヌクレオチド誘導体が、中央部に本部分構造を備えることで、リボヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性の向上や調整が一層容易になる。また、オリゴヌクレオチド全体の電荷の調整もより容易になる。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、５’末端側及び３’末端側のいずれか又は双方と中央部に本部分構造を備えることもできる。好ましくは５’末端側、３’末端側及び中央部の各部に１個又は２個以上の本部分構造を備えることができる。このように、全体として、おおよそ均等にあるいは分散して本部分構造を備えることで、リボヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性さらには電荷調節性を向上させることができる。本オリゴヌクレオチド誘導体の中央部には、本部分構造を２個以上備えることが、特性向上の観点から有用である。

本オリゴヌクレオチド誘導体における本部分構造としては、式（３）で表されるリボヌクレオシド誘導体由来する部分構造、式（４）で表されるデオキシリボヌクレオチド誘導体に由来する部分構造を用いることができる。なお、式（３）で表されるリボヌクレオシド誘導体及び式（４）の部分構造は、Ｂの塩基として、ＲＮＡにおける塩基であるウラシル（Ｕ）他を備えることで、リボヌクレオシド誘導体の代替物として用いることができる。

また、本部分構造は、式（３）及び（４）におけるＲ³が、炭素数１又は２以上のアルキレン基を連結基として、ＮＨＲ⁷を有することが、リボヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性さらには電荷調節性の観点から好適である。この場合、Ｒ⁷は、水素原子であってもよいし、炭素数１〜６程度のアルキル基を有するアシル基であってもよい。当該アルキレン基は、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基などとすることができる。また、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などとすることができる。また例えば例えばエチレン基、プロピレン基などとすることができる。エチレン基、プロピレン基を連結基とすることで、メチレン基を用いた場合に比較して高いリボヌクレアーゼ耐性と細胞膜透過性さらには電荷調節性とを得ることができる。

また、本部分構造は、連結基を備えるアミジノ基、アジド基及びグアニジノ基であってもよい。かかる官能基を備えることでも、高いリボヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性を得ることができる。この場合、連結基は、炭素数１以上のアルキレン基であってもよい。

また、本部分構造は、式（３）及び式（４）のＲ³の連結基が炭素数１〜６程度のアルキル基、さらに、例えば、炭素数の下限が２以上、また例えば３以上であることが好適である。かかる構造は、リボヌクレアーゼ耐性及び細胞膜透過性に有効である。

本オリゴヌクレオチド誘導体は、少なくとも本部分構造を少なくとも６個備えることが好適である。６個以上備えることで、リボヌクレアーゼ耐性や細胞膜透過性、さらには電荷調節性に有利である。

以下、本明細書の開示をより具体的に説明するために具体例としての実施例を記載する。以下の実施例は、本明細書の開示を説明するためのものであって、その範囲を限定するものではない。

以下の実施例においては、既に説明した代替スキームＩ〜ＩＩＩ及び追加スキームＩＶ及びＶにおける各ステップについて説明する。

（化合物１から３）
１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコフラノース（５０．０ｇ、０．１９２ｍｏｌ）、臭化カリウム（２．２９ｇ、１９．２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１３０ｍＬ）に溶解した。０℃に冷却後、Ｎｏｒ−ＡＺＡＤＯ（１．３ｍｇ）、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（２０３ｍＬ）を滴下し、同温度で１時間撹拌した。飽和チオ硫酸ナトリウムを加え撹拌後、クロロホルムで５回抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥した後、減圧化濃縮乾固し、粗化合物２を得た。次いで、粗化合物２をテトラヒドロフラン（３７０ｍＬ）に溶解し、パラホルムアルデヒド（１１．１ｇ）、炭酸カリウム（５１．０ｇ）を加え、４０℃で２４時間撹拌した。不溶物をろ過により除去し、ろ液を減圧化濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン（３７０ｍＬ）、脱イオン水（７４．５ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。水素化ホウ素ナトリウム（１４．０ｇ、０．３７０ｍｏｌ）を加え、同温度で３時間撹拌した。反応液を減圧化濃縮後、クロロホルムで５回抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥した後、減圧化濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し、ヘキサンを加え撹拌した。析出した固体をろ取、乾燥し、化合物３（３０．７ｇ、０．１０６ｍｏｌ、５５．２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃): δ 5.92 (1H, d, J = 4.0), 4.73 (1H, dd, J = 4.0, 6.5), 4.59 (1H, dd, J = 6.5, 7.5), 4.32 (1H, t, J = 6.5), 4.16 (1H, dd, J = 7.5, 9.5), 3.91 (1H, dd, J = 6.5, 9.5), 3.79 (1H, dd, J = 2.5, 11.5), 3.62 (1H, dd, J = 7.0, 11.5), 2.78 (1H, d, J = 7.0), 2.06 (1H, br.t), 1.63, (3H, s), 1.47 (3H, s), 1.41 (3H, s), 1.35 (3H, s).

（化合物３から５）

化合物３（３０．０ｇ、０．１０３ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（３４３ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。水素化ナトリウム（６０％油性、１２．４ｇ、０．３１０ｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌後、臭化ベンジル（３６．８ｍＬ、０．３０９ｍｏｌ）を加え、室温で１７時間撹拌した。メタノール（１０ｍＬ）を加え撹拌した後、反応液を減圧化濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、２回水洗後、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮し、粗化合物４を得た。

粗化合物４をアセトニトリル（５１７ｍＬ）、脱イオン水（６８ｍＬ）に溶解し、過ヨウ素酸ナトリウム（４４．２ｇ、０．２０７ｍｏｌ）、ヨウ素（７．８５ｇ、３０．９ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で２４時間撹拌した。不溶物をろ過により除去後、ろ液を減圧化濃縮した。濃縮液を酢酸エチルで希釈し、飽和チオ硫酸ナトリウム、飽和重曹水で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル = １０：１〜３：１）より精製し、化合物５（３５．８０ｇ、８９．８５ｍｍｏｌ、８７．２％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 9.91 (1H, s), 7.37-7.23 (10H, m), 5.84, (1H, d, J = 3.5 Hz), 4.72 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.60 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.60 (1H, t, J = 3.5 Hz), 4.52 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.46 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.37 (1H, d, J = 4.5 Hz), 3.68 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.61 (1H, d, J = 12.0 Hz), 1.60 (3H, s), 1.35 (3H, s).

（化合物５から６）

臭化メチルトリフェニルホスホニウム（７０．６ｇ、０．１９８ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３９６ｍＬ）に懸濁し、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．６Ｍ、１１２ｍＬ、０．１７９ｍｏｌ）を２５分間かけて滴下後、０℃に昇温し、１時間撹拌した。同温度で化合物５（３５．８０ｇ、８９．８５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１８０ｍＬ）を２０分間かけて滴下した後（容器をテトラヒドロフラン２０ｍＬで３回洗浄）、室温に戻して２０時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウムを加え撹拌した後、溶液を減圧化留去した。濃縮液より酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をアセトン（１５０ｍＬ）に溶解後、シリカゲルを加え濃縮、乾燥し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）により精製した。化合物６（３０．９６ｇ、７８．０９ｍｍｏｌ、８６．９１％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 7.38-7.22 (10H, m), 6.19 (1H, dd, J = 11.0, 17.5 Hz), 5.77, (1H, d, J = 4.0 Hz), 5.52 (1H, dd, J = 2.0, 17.5 Hz), 5.25 (1H, dd, J = 1.5, 11.0 Hz), 4.76 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.59 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.57 (1H, t, J = 4.5 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.40 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.25 (1H, d, J = 5.0 Hz), 3.33 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.31 (1H, d, J = 12.0 Hz), 1.52 (3H, s), 1.29 (3H, s).

（化合物６から７）

化合物６（２６．６２ｇ、６７．１４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２６０ｍＬ）に溶解し、０℃で９−ボラビシクロノナンテトラヒドロフラン溶液（０．５Ｍ、４０４ｍＬ、０．２０２ｍｏｌ）を７０分間かけて滴下後、室温で１８時間撹拌した。反応液を０℃に冷却後、脱イオン水（２６．６ｍＬ）を１５分かけて滴下し、同温度で１５分間撹拌した。３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１３３ｍＬ、０．３９９ｍｏｌ）を１時間かけて滴下し、同温度で１５分間撹拌した後、３０％過酸化水素水（６６．６ｍＬ）を４０分間かけて滴下した。反応液を室温に戻し、２時間撹拌した。反応液に脱イオン水、酢酸エチルを加えて撹拌後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。水層より酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を合わせ、硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮後、残渣をトルエンで３回共沸した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１〜１：１）により精製し、化合物７（２６．４０ｇ、６３．６９ｍｍｏｌ、９４．８６％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 7.35-7.24 (10H, m), 5.78, (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.77 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.65 (1H, dd, J = 4.0, 5.0 Hz), 4.55 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.52 (1H, d, J = 13.5 Hz), 4.43 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.13 (1H, d, J = 5.5 Hz), 3.84 (1H, m), 3.76 (1H, m), 3.54 (1H, d, J = 10.0 Hz), 3.30 (1H, d, J = 10.5 Hz), 2.85 (1H, dd, J = 3.5, 7.5 Hz), 2.85 (1H, dd, J = 3.5, 7.5 Hz), 2.52 (1H, ddd, J = 4.0, 8.5, 15.5), 1.79 (1H, ddd, J = 3.5, 6.5, 15.5), 1.66 (3H, s), 1.33 (3H, s).

（化合物７から８）

化合物７（３０．４１ｇ、７３．３７ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（３８．５ｇ、０．１４７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４８９ｍＬ）に溶解し、０℃でアゾジカルボン酸ビス（２−メトキシエチル）（３４．４ｇ、０．１４７ｍｏｌ）を加え、同温度で５分間撹拌した。アジ化ジフェニルリン酸（３１．５ｍＬ、０．１４６ｍｏｌ）を同温度で３０分間かけて滴下し、室温で１５時間撹拌した。反応液に２８％アンモニア水（３０ｍＬ）を加え１時間撹拌後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮後、残渣をアセトン（２００ｍＬ）に溶解し、シリカゲルを加え濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１〜３：１）により精製し、化合物８（２９．８１ｇ、６７．８３ｍｍｏｌ、９２．００％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 7.37-7.24 (10H, m), 5.75 (1H, d, J = 4.5 Hz), 4.76 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.61 (1H, dd, J = 4.5, 5.5 Hz), 4.55 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.51 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.42 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.10 (1H, d, J = 5.5 Hz), 3.35 (1H, ddd, J = 5.0, 9.5, 12.5 Hz), 3.45 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.40 (1H, ddd, J = 7.0, 10.0, 12.5 Hz), 3.27 (1H, d, J = 10.0 Hz), 2.50 (1H, ddd, J = 5.0, 9.5, 14.5 Hz), 1.84 (1H, ddd, J = 7.0, 10.0, 14.5 Hz), 1.59 (3H, s), 1.33 (3H, s).

（化合物８から９）

化合物８（２６．３８ｇ、６０．０２ｍｍｏｌ）を７０％酢酸（６００ｍＬ）、トリフルオロ酢酸（６０．０ｍＬ）に溶解し、室温で１７時間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をトルエンで５回共沸し、粗ヘミアセタールを得た。
粗ヘミアセタールをピリジン（３００ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（３４．０ｍＬ、０．３６０ｍｏｌ）を加え、室温で１９時間撹拌した。反応液にメタノールを加え撹拌した後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解後、脱イオン水、ついで飽和重曹水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル １０００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）により精製し、化合物９（２７．０８ｇ、５６．０１ｍｍｏｌ、９３．３２％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 7.38-7.21 (12H, m), 6.34 (0.2H, d, J = 5.0 Hz), 6.10 (1H, s), 5.33 (1H, d, J = 5.0 Hz), 5.26 (0.2H, dd, J = 4.5, 6.5 Hz), 4.62-4.44 (4.8H, m), 4.28 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.22 (0.2H, d, J = 6.5 Hz), 3.49-3.27 (4.8H, m), 2.21-1.82 (2.4H, m), 2.12 (3H, s), 2.11 (0.6H, s), 2.06 (0.6H, s), 1.89 (3H, s).

（化合物９から１０）

化合物９（２９．５５ｇ、６１．１１ｍｍｏｌ）、ウラシル（１３．７ｇ、０．１２２ｍｏｌ）、ビス（トリメチルシリル）アセタミド（８９．５ｍＬ、０．３６６ｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン（３０６ｍＬ）を加え、８５℃で２時間加熱撹拌した。反応液を０℃に冷却した後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（２２．１ｍＬ、０．１２２ｍｏｌ）を加え、５０℃で２２時間撹拌した。反応液を０℃に冷却した後、飽和重曹水を加え撹拌した。生成した不溶物をセライト濾過により除去した後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、クロロホルム：メタノール＝１００：１）により精製し、化合物１０（３０．２４ｇ、５６．４６ｍｍｏｌ、９２．３９％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.33 (1H, s), 7.66 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.40-7.26 (10H, m), 6.13 (1H, d, J = 4.5 Hz), 5.35 (1H,dd, J = 5.0, 6.0Hz), 5.31 (1H, dd, J = 2.5, 8.0 Hz), 4.64 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.45 (1H, d, J = 11.0 Hz), 4.42 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.39 (1H, d, J = 11.0 Hz), 4.34 (1H, d, J = 6.0 Hz), 3.69 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.46 (1H , m), 3.37 (1H, m), 3.35 (1H, d, J = 10.5 Hz), 2.16 (1H, m), 2.11 (3H, s), 1.76 (1H, m).

（化合物１０から１４）

化合物１０（２７．４４ｇ、５１．２４ｍｍｏｌ）をメタノール（２５６ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３４．２ｍＬ、０．１０３ｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウムを加え、濃縮した。脱イオン水で希釈後、酢酸エチルで２回抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。粗化合物１１を得た。粗化合物１１をピリジンで３回共沸後、残渣をピリジン（２５６ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。塩化メタンスルホニル（７．９３ｍＬ、０．１０２ｍｏｌ）を加え、室温で２１時間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、脱イオン水を加え撹拌後、濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、洗浄（脱イオン水、次いで飽和重曹水）後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をトルエンで３回共沸し、粗化合物１２を得た。

粗化合物１２をメタノール（２５６ｍＬ）に溶解し、３ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５１．２ｍＬ、０．１５４ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウムを加え、濃縮した。脱イオン水で希釈後、酢酸エチルで２回抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０００ｃｃ、クロロホルム：メタノール＝５０：１〜２０：１）により精製し、化合物１４（２２．１１ｇ、４４．８０ｍｍｏｌ、８７．４３％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 9.75 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.38-7.26 (10H, m), 6.10 (1H, d, J = 3.5 Hz), 5.33 (1H, d, J = 8.0 Hz), 4.58 (2H, m), 4.56 (1H, d, J = 12.0 Hz), 4.53 (1H, d, J = 10.5 Hz), 4.46 (1H, d, J = 11.5 Hz), 4.13 (1H, d, J = 2.5 Hz), 3.68 (1H, d, J = 9.5 Hz), 3.50 (1H, d, J = 10.0 Hz), 3.44-3.32 (2H, m), 2.06 (1H, m), 1.90 (1H, m).

（化合物１４から１６）

化合物１４（５．００ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）、ピリジン（１２．２ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（４．９４ｇ、４０．４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２０２ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物（５．１０ｍＬ、３０．３ｍｍｏｌ）を１５分間かけて滴下後、同温度で３時間撹拌した。飽和重曹水を加え撹拌後、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１〜１：１〜酢酸エチル）により精製し、化合物１５（５．２３ｇ、８．３６ｍｍｏｌ、８４．４％）を得た。
化合物１５（５．２３ｇ、８．３６ｍｍｏｌ）をトルエン（８３．６ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン３フッ化水素（１６．４ｍＬ、０．１０１ｍｏｌ）、トリエチルアミン（９．３２ｍＬ、６６．９ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４０時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、脱イオン水、次いで飽和重曹水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮後、残渣をアセトンに溶解し、シリカゲルを加え濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１〜１：１）により精製し、化合物１６（３．１０ｇ、６．２６ｍｍｏｌ、６２．０％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.69 (1H, s), 7.71 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.40-7.22 (10H, m), 6.16 (1H, dd, J = 2.5, 15.5 Hz), 5.26 (1H, dd, J = 1.5, 8.5 Hz), 5.09 (1H, ddd, J = 3.0, 5.0, 53.0 Hz), 4.81 (1H, d, J = 11.5 Hz), 4.51 (1H, d, J = 11.5 Hz), 4.47 (1H, d, J = 10.5 Hz), 4.44 (1H, d, J = 11.0 Hz), 4.28 (1H, dd, J = 5.0, 17.5 Hz), 3.78 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.49-3.38 (3H, m), 2.21 (1H, m), 1.86 (1H, m).

（化合物１６から１７）

化合物１６（６．９０ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１１０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却した。三塩化ホウ素ジクロロメタン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ、１５３ｍＬ、０．１５３ｍｏｌ）を４０分間かけて滴下し、同温度で３時間、−２０℃で３時間撹拌した。同温度で反応液にメタノール（２０ｍＬ）を滴下、撹拌後、濃縮した。残渣をメタノールで５回共沸後、残渣をメタノールに溶解し、シリカゲルを加え濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｃｃ、クロロホルム：メタノール＝１０：１）により精製し、化合物１７（４．０６ｇ、１２．９ｍｍｏｌ、９２．８％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, DMSO-d₆): δ 7.91 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.05 (1H, dd, J = 4.0, 15.5 Hz), 5.80 (1H, d, J = 6.0 Hz), 5.67 (1H, dd, J = 1.0, 8.0 Hz), 5.37 (1H, t, J = 5.0 Hz), 5.17 (1H, dt, J = 4.5, 53.5 Hz), 4.29 (1H, dt, J = 5.0, 14.0 Hz), 3.55 (1H, dd, J = 5.0, 12.0 Hz), 3.45-3.39 (3H, m), 1.97 (1H, m), 1.77 (1H, m).

（化合物１７から１８）

化合物１７（９．０３ｇ、２８．６ｍｍｏｌ）をピリジン（１４３ｍＬ）に溶解し、塩化ジメトキシトリチル（１３．６ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応液にメタノール（５ｍＬ）を加え、濃縮後、残渣に酢酸エチルを加え、洗浄（脱イオン水、次いで飽和重曹水）した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濃縮後、残渣をトルエンで３回共沸し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５００ｃｃ、クロロホルム：メタノール＝５０：１）により精製した。化合物１８（１７．６０ｇ、２８．５ｍｍｏｌ、９９．７％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.53 (1H, s), 7.65 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.36-6.84 (13H, m), 6.14 (1H, dd, J = 3.5, 15.5 Hz), 5.35 (1H, dd, J = 2.5, 8.0 Hz), 5.18 (1H, ddd, J = 4.0, 5.5, 53.5), 4.62 (1H, dt, J = 5.5, 14.5 Hz), 3.80 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.38 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.35 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.33 (1H, m), 3.24 (1H, m), 2.59 (1H, dd, J = 3.0, 6.5 Hz), 2.05 (1H, m), 1.89 (1H, m).

（化合物１８から２０）

化合物１８（１．０ｇ，１．６２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解させた後、トリフェニルホスフィン（１．０６ｇ，４．０５ｍｍｏｌ）と脱イオン水（１．２ｍＬ）を順次加え、４５℃で５．５時間攪拌した。反応終了後、溶媒の減圧留去を行った。残渣をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させた後、トリエチルアミン（０．３４ｍＬ，２．４ｍｍｏｌ）とトリフルオロ酢酸エチル（０．５８ｍＬ，４．９ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で１４時間攪拌した。続いてトリエチルアミン（０．３４ｍＬ，２．４ｍｍｏｌ）とトリフルオロ酢酸エチル（０．５８ｍＬ，４．９ｍｍｏｌ）を順次追加し、室温で６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルによる抽出を行った。硫酸マグネシウムによる有機層の乾燥と溶媒の減圧留去を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１→酢酸エチル／ヘキサン＝２／１）で精製を行い、化合物２０（１．１２ｇ，１．６２ｍｍｏｌ，ｑｕａｎｔ．ｆｏｒ ２ｓｔｅｐｓ）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.16 (1H, brs), 7.55 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.35-7.24 (9H, m), 6.89 (1H, m), 6.85 (4H, d, J = 8.5 Hz), 6.12 (1H, dd, J = 15.0, 4.0 Hz), 5.41 (1H, dd, J = 8.0, 2.0 Hz), 5.25 (1H, ddd, J = 54, 4.5, 4.5 Hz), 4.54 (1H, m), 3.80 (6H, s), 3.35 (4H, m), 2.66 (1H, m), 2.06 (1H, m), 1.98 (1H, m).

（化合物２０から２１）

化合物２０（１．４７ｇ，２．１４ｍｍｏｌ）をトルエンで３回共沸脱水した後、ジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させた。続いて室温でＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．９３ｍＬ，５．４ｍｍｏｌ）を加えた後、２−シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジト（１．１ｍＬ，４．７１ｍｍｏｌ）を０℃で加え、室温で３０分撹拌した。反応終了後、飽和重曹水によるクエンチと酢酸エチルによる抽出を行った。硫酸マグネシウムによる有機層の乾燥と溶媒の減圧留去を行った後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）で精製を行い、化合物２１（１．６５ｇ，１．８６ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
³¹P-NMR (202 MHz, CDCl₃): δ 152.16 (0.55P, d, J = 12.12 Hz), 151.17 (0.45P, d, J = 12.12 Hz).

（化合物１８から２２）

化合物１８（１４．０ｇ，２２．７ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４５ｍＬ）に溶解し、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（１０．２ｇ，６８．０ｍｍｏｌ）、イミダゾール（９．２６ｇ，１３６．０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２０時間攪拌した。反応終了後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルによる抽出を行った。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝３：１〜１：１）にて精製し、化合物２２（１６．２ｇ，９８％）を得た。
¹H-NMR (500MHz, CDCl₃): δ 8.21 (1H, s), 7.84 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.34-7.22 (9H, m), 6.85 (4H, dd, J = 8.8, 3.5 Hz), 6.10 (1H, dd, J = 16.1, 2.4 Hz), 5.25 (1H, d, J = 8.2 Hz), 4.89 (1H, m), 4.60 (1H, dd, J = 18.1, 5.3 Hz), 3.80 (6H, s), 3.50 (1H, d, J = 10.7 Hz), 3.35 (1H, m), 3.23 (1H, m), 3.18 (1H, d, J = 10.6 Hz), 2.15 (1H, m), 1.67 (1H, m), 0.86 (9H, s), 0.10 (3H, s), 0.01 (3H, s).

（化合物２２から２３）

化合物２２（１６．２ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）をピリジン（１１０ｍＬ）に溶解し、０℃に冷却した。塩化ホスホリル（１０．４ｍｌ，１１０．８ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、同温度でトリアゾール（２６．０ｇ，３７６．７ｍｍｏｌ）を加えた。室温に戻して４時間攪拌した後、酢酸エチルを加え、有機層を水、飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝２：１〜１：１）にて精製し、化合物２３（１４．１ｇ，８１％）を得た。
¹H-NMR (500MHz, CDCl₃): δ 9.25 (1H, s), 8.81 (1H, d, J = 7.3 Hz), 8.08 (1H, s), 7.35-7.28 (5H, m), 7.23 (4H, dd, J = 9.1, 6.6 Hz), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 1.9 Hz), 6.38 (1H, d, J = 7.3 Hz), 6.21 (1H, d, J = 16.1 Hz), 4.90 (1H, dd, J = 52.5, 4.9 Hz), 4.66 (1H, dd, J = 23.6, 5.0 Hz), 3.81 (6H, s), 3.70 (2H, d, J = 11.0 Hz), 3.38 (1H, m), 3.29 (1H, m), 3.27 (1H, d, J = 10.7 Hz), 2.25(1H, m), 1.67 (1H, m), 0.84 (9H, s), 0.09 (3H, s), -0.02 (3H, s).

（化合物２３から２４）

化合物２３（１４．１ｇ，１８．０ｍｍｏｌ）を１,４−ジオキサン（１３５ｍＬ）に溶解し、２８％アンモニア水（４５ｍｌ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応終了後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４０：１〜２０：１）にて精製し、化合物２４（１２．７ｇ，９６％）を得た。
¹H-NMR (500MHz, CDCl₃): δ 8.08 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.37-7.33 (2H, m), 7.30 (2H, t, J = 7.4 Hz), 7.28-7.21 (5H, m), 6.84 (4H, dd, J = 9.0, 4.6 Hz), 6.12 (1H, d, J = 16.1 Hz), 5.17 (1H, d, J = 7.6 Hz), 4.87 (1H, dd, J = 53.6, 5.7 Hz), 4.61 (1H, dd, J = 22.7, 5.0 Hz), 3.80 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.57 (2H, d, J = 10.4 Hz), 3.35 (1H, m), 3.26 (1H, m), 3.15 (1H, d, J = 10.4 Hz), 2.20 (1H, m), 1.68 (1H, m), 0.82 (9H, s), 0.07 (3H, s), -0.04 (3H, s).

（化合物２４から２５）

化合物２４（１２．７ｇ，１７．４ｍｍｏｌ）をピリジン（９０ｍＬ）に溶解し、塩化ベンゾイル（２．４ｍｌ，２０．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１４時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加え、有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝３：１〜１：１）にて精製し、化合物２５（１４．０ｇ，９７％）を得た。
¹H-NMR (500MHz, CDCl₃): δ8.49 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.90 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.62 (1H, t, J = 7.4 Hz), 7.52 (2H, t, J = 7. 7Hz), 7.37-7.30 (5H, m), 7.27-7.24 (6H, m), 6.87 (4H, d, J = 8.5 Hz), 6.20 (1H, d, J = 16.1 Hz), 4.90 (1H, dd, J = 53.0, 5.0 Hz), 4.62 (1H, dd, J = 22.5, 4.9 Hz), 3.82 (6H, s), 3.62 (1H, d, J = 10.7 Hz), 3.37 (1H, m), 3.29 (1H, m), 3.24 (1H, d, J = 10.7 Hz), 2.25 (1H, m), 1.69 (1H, m), 0.84 (9H, s), 0.09 (3H, s), -0.02 (3H, s).

（化合物２５から２６）

化合物２５（１４．０ｇ，１６．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８０ｍＬ）に溶解し、テトラブチルアンモニウムフルオリド（２０．１ｍｌ，２０．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１：１〜１：３）にて精製し、化合物２６（１１．５ｇ，９５％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.67 (1H, br), 8.23 (1H, s), 7.87 (2H, d, J = 6.9 Hz), 7.62 (1H, m), 7.52 (2H, t, J = 7.72 Hz), 7.41-7.24 (11H, m), 6.88 (4H, dd, J = 9.1, 1.3 Hz), 6.19 (1H, dd, J = 16.1, 1.6 Hz), 5.16 (1H, m), 4.67 (1H, d, J = 20.49 Hz), 3.81 (6H, s), 3.49 (1H, d, J = 10.7 Hz), 3.3 9(1H ,d, J = 10.7 Hz), 3.37 (1H, m), 3.27 (1H, m), 2.12 (1H, m), 1.8 (1H, m).

（化合物２６から２８）

化合物２６（１１．５ｇ，１５．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１６０ｍＬ）、水（５．３ｍｌ）に溶解した。トリフェニルホスフィン（１０．４ｇ，３９．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間攪拌後、濃縮し粗化合物２７を得た。粗化合物２７をトルエンで３回共沸した後、ジクロロメタン（１６０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸エチル（５．７ｍｌ，４７．７ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（３．３ｍｌ，２３．９ｍｍｏｌ）加えて室温で１６時間撹拌した。反応終了後、クロロホルムを加え、有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝８０：１〜５：１）にて精製し、化合物２８（９．６７ｇ，７７％）を得た。
¹H-NMR (500 MHz, CDCl₃): δ 8.74 (1H, brs), 8.19 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.85 (2H, d, J = 7.6Hz), 7.61 (1H, t, J = 7.4 Hz), 7.50 (2H, t, J = 7.7 Hz), 7.38 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.35-7.17 (9H, m), 6.86 (4H, dd, J = 9.0, 2.1 Hz), 6.18 (1H, dd, J = 15.6, 2.1 Hz), 5.20 (1H,m), 4.65 (1H, dd, J = 20.0, 5.2 Hz), 3.80 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.44 (2H, s), 3.36 (2H, q, J = 6.7 Hz), 2.14 (1H, m), 2.04 (1H, m).

（化合物２８から２９）

化合物２８（５．６７ｇ，７．１７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（７２ｍＬ）に溶解し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（３．１ｍＬ，１７．９ｍｍｏｌ）、２−シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジト（３．５ｍＬ，１５．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応終了後、クロロホルムを加え、有機層を飽和重曹水、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、ろ液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０：１）にて精製し、化合物２９（５．９６ｇ，８４％）を得た。
³¹P-NMR (202 MHz, CDCl₃): δ 151.53 (0.52P, d, J = 26.5 Hz), 150.76 (0.48P, d, J = 19.0 Hz).

本実施例では、
2’-Deoxy-3’-O-(2-cyanoethyl-N,N-diisopropylaminophosphino)-5’-O-dimethoxytrityl-2’-fluoro-4’-C-trifluoroacetamidopropyluridine（化合物１１４）を合成した。

3,5-di-O-Benzyl-4-C-ethoxycarbonylvinyl-1,2-O-isopropylidene-a-D-ribofuranose（化合物１０２）の合成

ホスホノ酢酸トリエチル（13.44 mL、67.14 mmol）をテトラヒドロフラン（149 mL）に」溶解し、0℃に冷却した。水素化ナトリウム（60% in oil、2.50 g、62.5 mmol）を加え1時間撹拌した。化合物１０１（実施例１における化合物５と同一である。）（17.89 g、44.77 mmol）のテトラヒドロフラン（149 mL）溶液を滴下後、室温に戻し、5時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝5：1）で精製し、化合物１０２を得た（19.49 g、41.42 mmol、92.52%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 7.37-7.21 (11H, m), 6.24 (1H, d, J = 16.0), 5.76 (1H, d, J = 4.0), 4.77 (1H, d, J = 12.5), 4.60 (1H, d, J = 12.0), 4.57 (1H, t, J = 4.0), 4.50 (1H, d, J = 12.0), 4.41 (1H, d, J = 12.0), 4.27 (1H, d, J = 4.5), 4.22-4.15 (2H, m), 3.35 (1H, d, J = 11.0), 3.32 (1H, d, J = 11.0), 1.47 (3H, s), 1.28 (3H, s), 1.27 (3H, t, J = 7.5).

3,5-di-O-Benzyl-4-C-ethoxycarbonylethyl-1,2-O-isopropylidene-a-D-ribofuranose（化合物１０３）の合成

化合物１０２（19.49 g、41.42 mmol）をメタノール（207 mL）に溶解し、Pd/C (en)（390 mg）を加え、水素雰囲気化、52時間撹拌した。触媒をセライト濾過により除去し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝5：1）で精製し、化合物１０３を得た（19.32 g、41.06 mmol、99.13%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 7.34-7.23 (10H, m), 5.75 (1H, d, J = 4.0), 4.76 (1H, d, J = 12.0), 4.62 (1H, dd, J = 4.0, 5.5), 4.56 (1H, d, J = 12.0), 4.49 (1H, d, J = 12.0), 4.40 (1H, d, J = 12.0), 4.13 (1H, d, J = 5.5), 4.10 (2H, q, J = 7.0), 3.40 (1H, d, J = 10.5), 3.25 (1H, d, J = 10.5), 2.58 (2H, m), 2.31 (1H, m), 1.87 (1H, m), 1.62 (3H, s), 1.32 (3H, s), 1.23 (3H, t, J = 7.0).

3,5-Di-O-benzyl-4-C-hydroxypropyl-1,2-O-isopropylidene-a-D-ribofuranose（化合物１０４）の合成

化合物１０３（19.32 g、41.06 mmol）をテトラヒドロフラン（205 mL）に溶解し、0℃に冷却した。水素化アルミニウムリチウム（3.12 g、82.2mmol）を加え、30分間撹拌した。脱イオン水（3.12 mL）、次いで15%水酸化ナトリウム水溶液（3.12 mL）を注意深く滴下後、脱イオン水（9.36 mL）を加え撹拌した。不溶物をセライト濾過により除去し、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、化合物１０４を得た（17.33 g、40.44 mmol、98.49%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 7.36-7.23 (10H, m), 5.76 (1H, d, J = 4.0), 4.75 (1H, d, J = 12.5), 4.62 (1H, dd, J = 4.0, 5.0), 4.57 (1H, d, J = 12.0), 4.51 (1H, d, J = 12.0), 4.41 (1H, d, J = 12.0), 4.16 (1H, d, J = 5.0), 3.70 (1H, m), 3.63 (1H, m), 3.50 (1H, d, J = 10.5), 3.32 (1H, d, J = 10.5), 2.21 (1H, m), 1.77-1.69 (3H, m), 1.87 (1H, m), 1.62 (3H, s), 1.33 (3H, s).

4-C-Azidopropyl-3,5-di-O-benzyl-1,2-O-isopropylidene-a-D-ribofuranose（化合物１０５）の合成

化合物１０４（17.23 g、40.21 mmol）、トリフェニルホスフィン（21.1 g、80.4 mmol）をテトラヒドロフラン（268 mL）に溶解し、0℃に冷却した。アゾジカルボン酸ビス（2-メトキシエチル）（18.8 g、80.3 mmol）、を加え、5分間撹拌後、アジ化ジフェニルリン酸（17.3 mL、80.5 mmol）を10分間かけて滴下した。反応液を室温に戻し、18時間撹拌後、28%アンモニア水（15 mL）を加え1時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウムを加え撹拌後、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮した。残渣をアセトン（100 mL）に溶解後、シリカゲルを加え濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝5：1）で精製し、化合物１０５を得た（15.82 g、34.88 mmol、86.74%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 7.35-7.23 (10H, m), 5.74 (1H, d, J = 4.0), 4.76 (1H, d, J = 12.0), 4.61 (1H, dd, J = 4.0, 5.5), 4.56 (1H, d, J = 12.0), 4.51 (1H, d, J = 12.0), 4.41 (1H, d, J = 12.0), 4.12 (1H, d, J = 5.5), 3.43 (1H, d, J = 10.5), 3.28 (1H, d, J = 10.5), 3.27 (2H, m), 2.17 (1H, m), 1.86 (1H, m), 1.68-1.57 (2H, m), 1.60 (3H, s), 1.33 (3H, s).

1,2-Di-O-acetyl-4-C-azidopropyl-3,5-di-O-benzyl-D-ribofuranose（化合物１０６）の合成

化合物１０５（15.85 g、34.88 mmol）を70%酢酸（349 mL）に溶解し、トリフルオロ酢酸（35mL）を加え、15時間撹拌した。反応液を濃縮後、残渣をトルエンで5回共沸した。残渣をピリジン（174 mL）に溶解し、無水酢酸（19.8 mL、0.209 mol）を加え、24時間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をトルエンで5回共沸した。残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝10：1〜5：1）で精製し、化合物１０６を得た（14.8 g、29.7 mmol、85.1%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d7.38-7.25 (10H, m), 6.34 (0.14H, d, J = 4.6), 6.10 (0.87H, s), 5.33 (0.87H, d, J = 5.5), 5.27 (0.14H, dd, J = 5.0, 6.4), 4.62-4.42 (4H, m), 4.30 (0.87H, d, J = 5.0), 4.21 (0.14H, d, J = 6.4), 3.41-3.33 (2H, m), 3.30-3.19 (2H, m), 2.11 (2.61H, s), 2.10 (0.42H, s), 2.05 (0.42H, s), 1.88 (2.61H, s), 1.97-1.59 (4H, m).

4’-C-Azidopropyl-3’,5’-di-O-benzyl-b-D-arabinofuranosyluracil （化合物１０８）の合成

化合物１０６（14.27 g、28.68 mmol）、ウラシル（6.43 g、57.4 mmol）、N,O-ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（42.5 mL、0.172 mol）に1,2-ジクロロエタン（143 mL）を加え、85℃で2時間撹拌した。反応液を0℃に冷却後、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（10.4 mL、57.6 mmol）を加え、85℃で20時間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌後、不溶の固体をセライトろ過により除去した。ろ液有機層を硫酸マグネシウム上乾燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝2：1〜1：1）で精製し、化合物１０７を得た（12.28 g、22.34 mmol、77.89%）。

化合物１０７（12.28 g、23.34 mmol）をメタノール（117 mL）に溶解し、3 mol/L水酸化ナトリウム水溶液（15.6 mL、48.8 mmol）を加え、室温で30分間撹拌した。反応液を1 mol/L塩酸で中和後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解、水洗後、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥し、濃縮した。残渣をピリジンで3回共沸後、ピリジン（117 mL）に溶解した。溶液を0℃に冷却後、塩化メタンスルホニル（3.61 mL、46.6 mmol）を加え、室温で16時間撹拌した。反応液に脱イオン水を加え濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解、水洗した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥し、濃縮した後、残渣をトルエンで3回共沸した。
残渣をメタノール（117 mL）に溶解し、3 mol/L水酸化ナトリウム水溶液（23.3 mL、69.9 mmol）を加え、室温で2時間撹拌した。反応液を1 mol/L塩酸で中和後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解、水洗後、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝2：1〜1：1）で精製し、化合物１０８を得た（10.67 g、21.02 mmol、90.06%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 9.76 (1H, br.s), 7.73 (1H, d, J = 8.2), 7.38-7.24 (10H, m), 6.12 (1H, d, J = 4.6), 5.32 (1H, d, J = 7.8), 4.81 (1H, d, J = 12.4), 4.61-4.43 (5H, m), 4.14 (1H, d, J = 3.7), 3.63 (1H, d, J = 10.1), 3.47 (1H, d, J = 10.1), 3.25 (2H, m), 1.79-1.53 (4H, m).

4’-C-Azidopropyl-3’,5’-di-O-benzyl-2’-deoxy-2’-fluorouridine（化合物１０９）の合成

化合物１０８（10.50ｇ、20.69 mmol）、ピリジン（25.0 mL）、4-ジメチルアミノピリジン（10.1 g）をジクロロメタン（414 mL）に溶解し、0℃に冷却した。無水トリフルオロメタンスルホン酸（10.2 mL、62.2 mmol）を加え、90分間撹拌後、飽和重曹水を加え撹拌した。有機層を1 mol/L塩酸、次いで飽和重曹水で洗浄後、硫酸マグネシウム上乾燥し、濃縮した。残渣をトルエンで3回共沸後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝3：1〜1：1）により精製した。残渣をトルエン（168 mL）に溶解後、トリエチルアミン3フッ化水素塩（33.0 mL）、トリエチルアミン（18.8 mL）を加え、50℃で41時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、脱イオン水、次いで飽和重曹水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥した。乾燥した溶液を濃縮し、析出した固体をろ取した。ろ液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝2：1〜1：1）で精製し、化合物１０９を得た（7.00 g、13.7 mmol、66.2%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 8.20 (1H, br.s), 7.72 (1H, d, J = 7.8), 7.41-7.20 (10H, m), 6.18 (1H, dd, J = 3.2, 15.1), 5.26 (1H, d, J = 8.2), 5.01 (1H, ddd, J = 3.2, 5.0, 53.1), 4.82 (1H, d, J = 11.9), 4.51 (1H, d, J = 11.9), 4.47 (1H, d, J = 11.0), 4.43 (1H, d, J = 10.5), 4.25 (1H, dd, J = 5.0, 17.4), 3.73 (1H, d, J = 10.5), 3.46 (1H, d, J = 10.1), 3.28 (2H, m), 1.95-1.65 (4H, m).

4’-C-Azidopropyl-2’-deoxy-2’-fluorouridine（化合物１１０）の合成

化合物１０９（7.00 g、13.7 mmol）をジクロロメタン（108 mL）に溶解し、-78℃に冷却した。1 mol/L三塩化ホウ素ジクロロメタン溶液（151 mL、151 mmol）を加え、-20℃に昇温し、2時間撹拌した。反応液を再度-78℃に冷却し、にメタノール（20 mL）を滴下後、濃縮した。残渣をメタノールで5回共沸後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝20：1〜10：1）で精製し、化合物１１０を得た（4.15 g、12.6 mmol、92.0%）。
¹H-NMR (DMSO-d₆): d 11.40 (1H, s), 7.91 (1H, d, J = 8.2), 6.04 (1H, dd, J = 4.1, 14.6), 5.69-5.66 (2H, m), 5.30 (1H, t, J = 5.0), 5.14 (1H, dt, J = 5.0, 53.5), 4.27 (1H, dt, 5.5, 12.8), 3.54 (1H, dd, J = 5.0, 11.9), 3.43 (1H, dd, J = 5.0, 11.9), 3.32 (2H, m), 1.73-1.50 (4H, m).

4’-C-Azidopropyl-2’-deoxy-5’-O-dimethoxytrityl-2’-fluorouridine(化合物１１１)の合成

化合物１１０（3.50 g、10.6mmol）をピリジン（53.0mL）に溶解し、塩化ジメトキシトリチル（5.03 g、14.8 mmol）を加え、室温で14時間撹拌した。反応液にメタノール（5mL）を加え濃縮後、残渣に酢酸エチルを加え、脱イオン水、次いで飽和重曹水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮後、残渣をトルエンで3回共沸した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝50：1）で精製し、化合物１１１を得た（6.51 g、10.3 mmol、97.2%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 8.19 (1H, br.s), 7.68 (1H, d, J = 8.2), 7.37-6.84 (13H, m), 6.15 (1H, dd, J = 3.2, 15.1), 5.15 (1H, ddd, J = 3.7, 5.0, 53.5), 4.63 (1H, dt, J = 5.5, 15.1), 3.81 (6H, s), 3.38 (1H, d, J = 10.5), 3.33 (1H, d, J = 10.5), 3.23 (2H, m), 2.34 (1H, dd, J = 3.7, 6.4), 1.82-1.36 (4H, m).

4’-C-Aminopropyl-2’-deoxy-5’-O-dimethoxytrityl-2’-fluorouridine（化合物１１２）の合成

化合物１１１（6.30 g、9.97mmol）をテトラヒドロフラン（24.6mL）、脱イオン水（7.4 mL）に溶解し、トリフェニルホスフィン（6.54 g、24.9 mmol）を加え、45℃で17時間撹拌した。反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝10：1〜5：1-1%トリエチルアミン）で精製し、化合物１１２を得た（5.86 g、9.68 mmol、97.1%）。
¹H-NMR (DMSO-d6): d 7.68 (1H, d, J = 8.2), 7.36-6.85 (13H, m), 5.90 (1H, dd, J = 2.7, 18.3), 5.22 (1H, d, J = 8.2), 5.13 (1H, ddd, J = 2.7, 5.5, 54.0), 4.49 (1H, dd, 5.5, 20.1), 3.70 (6H, s), 3.29 (2H, br.s), 3.12 (1H, d, J = 10.1), 3.07 (1H, d, J = 10.5), 2.37 (2H, t, J = 6.9), 1.66-1.49 (2H, m), 1.24-0.97 (2H, m).

2’-Deoxy-5’-O-dimethoxytrityl-2’-fluoro-4’-C-trifluoroacetamidopropyluridine（化合物１１３）の合成

化合物１１２（2.50 g、4.13 mmol）をジクロロメタン（51.0 mL）に懸濁し、トリエチルアミン（1.74 mL、12.5 mmol）、トリフルオロ酢酸エチル（1.48 mL）を加え、室温で19時間撹拌した。反応液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝20：1）で精製し、化合物１１３を得た（2.82 g、4.02 mmol、97.3%）。
¹H-NMR (CDCl₃): d 8.60 (1H, br.s), 7.64 (1H, d, J = 7.6), 7.35-6.84 (13H, m), 6.66 (1H, br.s), 6.17 (1H, dd, J = 4.6, 14.6), 5.35 (1H, d, J = 8.2), 5.20 (1H, dt, J = 4.6, 53.1), 4.59 (1H, dt, J = 5.0, 11.9), 3.80 (6H, s), 3.36-3.25 (4H, m), 2.70 (1H, br.s), 1.79-1.38 (4H, m).

2’-Deoxy-3’-O-(2-cyanoethyl-N,N-diisopropylaminophosphino)-5’-O-dimethoxytrityl-2’-fluoro-4’-C-trifluoroacetamidopropyluridine（化合物１１４）の合成

化合物１１３（2.77 g、3.95 mmol）をジクロロメタン（19.8 mL）に溶解し、N,N-ジイソプロピルエチルアミン（1.72 mL、10.1 mmol）、2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジト（2.03 mL）を加え、室温で2時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、飽和重曹水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウム上乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝1：1）で精製し、化合物１１４を得た（3.10 g、3.44 mmol、87.1%）。
³¹P-NMR (CDCl₃): d 152.25 (0.43P, d, J = 16.8), 151.20 (0.64P, d, J = 16.8).

Claims (6)

1. 以下の式（１）又は（２）で表される、ヌクレオシド誘導体又はその塩の製造方法であって、
   以下の式（５）、（６）及び（７）からなる群から選択されるいずれかの反応を含む、製造方法。
   （式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された基を表し、式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。式（１）及び式（２）中、Ｒ²及びＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基の保護基、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_nＲ⁵Ｒ⁶（ｎは０又は１を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基、保護された水酸基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルコキシ基、シアノ低級アルコキシ基、アミノ基、又は置換されたアミノ基のいずれかを示す。ただし、ｎが１のときには、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に水素原子となることはない。）を示し、Ｒ³は、それぞれ連結基を有するＮＨＲ⁷（Ｒ⁷は、水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアミノ基の保護基を表す。）、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基を表し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基のいずれかを表す。）
   （式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立して又はＲ¹⁰及びＲ¹¹が一体となって水酸基の保護基を表し、Ｒ¹²は、式（８）を表し、Ｒ¹⁴は、アルキレン基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｔｆは、トリフルオロメタンスルホニル基を表す。）
2. 式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹が一体となった環状アセタール基を表す、請求項１に記載の製造方法。
3. 前記式（５）の反応に引き続き、以下の式（５）’の反応を含む、（１）又は（２）に記載の方法。
   
4. 前記式（５）’の反応に引き続き、以下の式（５）’ ’の反応を含む、（３）に記載の製造方法。
   
5. 前記式（７）の反応に先だって、以下の式（７）’及び式（７）’ ’の反応を含む、（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法。
   
6. オリゴヌクレオチド誘導体の製造方法であって、
   以下の式（１）又は（２）で表される、ヌクレオシド誘導体又はその塩を用いてオリゴヌクレオチド誘導体を製造する方法であって、
   以下の式（５）、（６）及び（７）からなる群から選択されるいずれかの反応を含む、製造方法。
   （式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、水酸基、水素原子がアルキル基又はアルケニル基で置換された水酸基又は保護された基を表し、式（２）中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。式（１）及び式（２）中、Ｒ²及びＲ⁴は互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基の保護基、リン酸基、保護されたリン酸基、又は−Ｐ（＝Ｏ）_nＲ⁵Ｒ⁶（ｎは０又は１を示し、Ｒ⁵及びＲ⁶は、互いに同一又は異なっていてもよく、水素原子、水酸基、保護された水酸基、メルカプト基、保護されたメルカプト基、低級アルコキシ基、シアノ低級アルコキシ基、アミノ基、又は置換されたアミノ基のいずれかを示す。ただし、ｎが１のときには、Ｒ⁵及びＲ⁶が共に水素原子となることはない。）を示し、Ｒ³は、それぞれ連結基を有するＮＨＲ⁷（Ｒ⁷は、水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアミノ基の保護基を表す。）、アジド基、アミジノ基又はグアニジノ基を表し、Ｂは、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、置換プリン−９−イル基、又は置換２−オキソ−ピリミジン−１−イル基のいずれかを表す。）
   （式（５）〜式（７）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、それぞれ独立して又はＲ¹⁰及びＲ¹¹が一体となって水酸基の保護基を表し、Ｒ¹²は、式（８）を表し、Ｒ¹⁴は、アルキレン基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｔｆは、トリフルオロメタンスルホニル基を表す。）