WO2004030191A1 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

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WO2004030191A1
WO2004030191A1 PCT/JP2002/010000 JP0210000W WO2004030191A1 WO 2004030191 A1 WO2004030191 A1 WO 2004030191A1 JP 0210000 W JP0210000 W JP 0210000W WO 2004030191 A1 WO2004030191 A1 WO 2004030191A1
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WO
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voltage
transistor
charge pump
semiconductor integrated
circuit
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Application number
PCT/JP2002/010000
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English (en)
French (fr)
Inventor
Goichi Ono
Masayuki Miyazaki
Original Assignee
Hitachi, Ltd.
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/06Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider
    • H02M3/07Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using resistors or capacitors, e.g. potential divider using capacitors charged and discharged alternately by semiconductor devices with control electrode, e.g. charge pumps

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly, to a semiconductor integrated circuit device having a high voltage generation circuit.
  • a high voltage generator disclosed in Document 1 is known.
  • This prior art discloses the following configuration for the purpose of suppressing an increase in ripple voltage when the load on the charge pump is reduced. That is, this high-voltage generator is composed of a charge pump, a timer, an A / D converter, and a current limiting circuit, and the boosting ability can be changed by a load. This suppresses an increase in ripple voltage at low load.
  • a timer measures a preset time from the start of the charge pump operation. After a predetermined time, the voltage generated by the charge pump is input to the A / D converter and converted into a digital signal.
  • the current limiter circuit receives the digital signal and limits the current supplied to the charge pump. This makes it possible to change the boosting capacity according to the magnitude of the load.
  • the charge pump disclosed in Reference 1 can change the boosting capacity according to the size of the load, but the means for changing the boosting capacity is to use a current limiting circuit to charge the charge pump. This limits the supplied current.
  • the charge pump itself operates while maintaining the capability to realize the boosting capability corresponding to the maximum load, but it can be said that the boosting capability is controlled by reducing the current supplied to the load. Therefore, the power consumed by the pumping operation of the charge pump that generates a high voltage is constant regardless of the size of the load. Therefore, the charge pump according to Document 1 changes the boosting capability while consuming the same power even when the load is light as when the load is heavy.
  • the current during the stamping is reduced by supplying a reverse bias to the substrate terminal of the M0S transistor during the stamping, but with the miniaturization of the design process, If a reverse bias is applied to the substrate terminal of the M0S transistor too much, a leak current called a PN junction current or a GIDL (Gate Induced Drain Leakage) current increases remarkably.
  • a reverse bias is applied to the substrate terminal of the M0S transistor too much, a leak current called a PN junction current or a GIDL (Gate Induced Drain Leakage) current increases remarkably.
  • Figure 20 shows the substrate bias VB on the horizontal axis and the drain current ID on the vertical axis, and shows the drain current when the M0S transistor is off, that is, the dependence of the leakage current of the M0S transistor on the substrate bias.
  • the drain current I when a substrate bias of vbl is applied Is minimized, and when a reverse bias is applied deeper than vbl, the drain current starts to increase. Therefore, if the reverse bias applied to reduce the standby current is made too deep, the standby current will increase. Disclosure of the invention
  • the present invention has been made to solve the above-described problem.
  • the load is small, the power consumption is reduced more than when the load is large, and the current supply capability is controlled to be optimal for the load.
  • a semiconductor integrated circuit device having a charge pump. aimed to.
  • a semiconductor integrated circuit equipped with a voltage generation circuit that can supply an optimal substrate bias to reduce the leakage current during standby so that the sub-threshold leakage current can be reduced without increasing the leakage current such as PN junction current and GIDL current It is an object of the present invention to provide a circuit device.
  • the current supply capability I cp of the charge pump is represented as I cp f XCXV.
  • f is the oscillation frequency of the oscillator
  • C is the capacity of the charge pump
  • V is the oscillation voltage of the oscillator. Therefore, the current supply capability of the charge pump can be controlled by controlling one or more of f, C, and V.
  • the power consumption P cp due to the bombing operation of the charge pump circuit is represented by P cp oc f XCXV 2 . Therefore, when f, c, and V are reduced, the current supply capability and power consumption can be reduced. Conversely, when f, c, and V are increased, the current supply capability and power consumption also increase.
  • a semiconductor integrated circuit device includes a charge pump that generates a high positive or negative voltage by bombarding a power supply voltage, an oscillator that generates a pulse signal that drives a capacity of the charge pump, and a power supply voltage of the oscillator.
  • the charge pump includes one or more capacitors, a switch for connecting the capacitor and the charge pump, and a decoder for generating a signal for controlling the switch. Can be changed.
  • the oscillator is formed by looping a CMOS inverter circuit and a NAND circuit, has a function of controlling the operation and stop of the oscillator, and controls the oscillation voltage, the oscillation frequency, or both.
  • the voltage control circuit includes a bias generation circuit, and includes a PM0S transistor and an NM0S transistor.
  • a transistor is inserted in parallel between the power supply and the output of the voltage control circuit, and the gate voltage of the PM0S and M0S transistors is controlled by the output of the bias generation circuit to reduce the power supply voltage.
  • the load detection circuit compares the output voltage of the charge pump with one or a plurality of reference voltages, classifies the output voltage of the charge pump into levels, a counter that measures the number of oscillations of the pulse signal of the oscillator, A register that holds the output voltage level of the charge pump when the count number measured by the counter reaches a preset count number.
  • the load detection circuit compares the measured count number with one or more reference count numbers and divides the measured count number into levels by counting the number of oscillations of the oscillator pulse signal.
  • the comparator may include a register and a register that holds the level of the count number when the output voltage of the charge pump reaches a preset reference voltage.
  • a semiconductor integrated circuit device includes: a leakage current detection circuit for detecting a leakage current of an MOS transistor; and a substrate bias generation circuit for supplying a substrate bias voltage to a substrate terminal of a CMOS LSI.
  • the circuit controls the substrate bias so that the leakage current of the MOS transistor is minimized.
  • the leak current detection circuit is composed of two circuits connected in series with a PM0S transistor using a gate voltage as a power supply potential and an NM0S transistor using a gate voltage as a ground potential, and an output voltage of the substrate bias generation circuit and a ground. It consists of a resistor that divides the potential and generates two types of voltages, and a comparator that compares the connection point voltages of the PM0S transistor and the OSOS transistor and outputs the magnitude relationship between those voltages.
  • Two types of voltages obtained by dividing the output voltage of the above-described substrate bias generation circuit and the ground potential are supplied to the substrate terminals, and the increase and decrease of the leakage current of the transistor with respect to the change of the output voltage of the above-mentioned substrate bias generation circuit are detected. is there.
  • the leak current detection circuit is composed of two series-connected PM0S transistors each having a gate voltage as a power supply potential and an NM0S transistor having a gate voltage as a ground potential. And a resistor that divides the output voltage of the above-mentioned substrate bias generation circuit and ground potential to generate two types of voltages, and the connection point voltage of the PM0S and NM0S transistors, and compares the magnitude relationship between these voltages.
  • the comparator has a comparator that outputs two types of voltages obtained by dividing the output voltage of the substrate bias generation circuit and the power supply voltage to the substrate terminals of the two PM0S transistors. It may be configured to detect an increase or decrease in the leakage current of the transistor with respect to the change.
  • the substrate bias generation circuit includes an oscillator having a function of controlling the operation and stop of the circuit, and a charge pump that generates a substrate bias. By controlling the operation and stop of the charge pump operation, a substrate bias that minimizes the leakage current of the MOS transistor is generated.
  • a semiconductor integrated circuit device includes a leakage current detection circuit that detects a leakage current of an M0S transistor, a high voltage generation circuit that generates a high voltage, and a step-down circuit that reduces an output voltage of the high voltage generation circuit. And a step-down circuit for supplying a bias voltage to the substrate terminal of the semiconductor device, and the substrate bias is controlled by the step-down circuit so as to minimize the leak current of the MOS transistor.
  • the leakage current detection circuit includes a plurality of circuits in which a PM0S transistor whose gate voltage is a power supply potential, an OS transistor whose gate voltage is a ground potential is connected in series, A resistor that divides the output voltage and the ground potential to generate multiple types of voltages, a plurality of comparators that compare the voltage at the node between the PM0S transistor and the NM0S transistor, and an encoder that encodes the output of the comparator A plurality of types of voltages generated by dividing the output voltage of the high-voltage generation circuit and the ground potential are supplied to the substrate terminals of the plurality of OS transistors to minimize the leakage current of the transistors.
  • the substrate bias to be controlled is detected.
  • a semiconductor integrated circuit device includes a charge pump that generates a positive or negative high voltage, an oscillator that generates a pulse signal for driving the charge pump, a voltage control circuit that controls a power supply voltage of the oscillator, and a charge pump.
  • Load detection circuit that detects the magnitude of the load on the device and a leakage current detection circuit that detects the leakage current of the M0S transistor It is characterized by generating a positive or negative substrate bias that controls the current supply capacity that is optimal for the detected load size and minimizes the leakage current of the M0S transistor. .
  • the leakage current of the M0S transistor is a current that increases and decreases depending on the voltage applied to the substrate.
  • the transistor is turned off with the voltage between the gate and source set to 0 V, the sub-threshold current, the PN junction current, and the This is a current including the GIDL current.
  • FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of Embodiment 1 of the present invention
  • FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration example of the charge pump shown in FIG. 1,
  • FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of the oscillator shown in FIG. 1,
  • FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of the voltage control circuit shown in FIG. 1,
  • FIG. 5 is a block diagram of the load detection circuit shown in Figure 1,
  • FIG. 6 is a waveform diagram showing the operation of the charge pump circuit of the first embodiment
  • FIG. 7 is a diagram showing voltage-frequency characteristics of the oscillator shown in FIG. 3,
  • FIG. 8 is a diagram showing the current supply capability of the charge pump in the first embodiment
  • FIG. 9 is a circuit diagram showing another configuration example of the charge pump of the first embodiment.
  • FIG. 10 is a circuit diagram illustrating another configuration example of the oscillator according to the first embodiment.
  • FIG. 11 is a block diagram of a load detection circuit used in a modification of the first embodiment
  • FIG. 12 is a waveform diagram showing the operation of the charge pump circuit according to the modification of the first embodiment.
  • FIG. 13 is a block diagram showing the configuration of the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a diagram showing a configuration example of the leak current detection circuit shown in FIG. 13;
  • FIG. 15 is a diagram illustrating a configuration of a leak current detection circuit used in a first modification of the second embodiment.
  • FIG. 16 is a block diagram illustrating a configuration of a second modification of the second embodiment.
  • FIG. 17 is a diagram illustrating a configuration of a leak current detection circuit used in a second modification of the second embodiment.
  • FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration of a leakage current detection circuit used in a third modification of the second embodiment.
  • 9 is a block diagram showing a configuration of a fourth modification of the second embodiment,
  • Figure 20 shows the dependence of the leakage current of the M0S transistor on the substrate bias.
  • FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, this semiconductor integrated circuit device has a charge pump (CHP) 11, an oscillator (0SC) 12, a voltage control circuit (VCTL) 13, a load detection circuit (LDET) 14, and a voltage sensor. (VSE) 15 and drives the load 16.
  • CHP charge pump
  • SC oscillator
  • VCTL voltage control circuit
  • LDET load detection circuit
  • VSE voltage sensor.
  • the charge pump 11 controls one or more capacitors, a switch composed of M0S transistors connecting the capacitors to the charge pump, and controls this switch. It is composed of a decoder (DEC) 21.
  • Figure 2 shows an example of three capacitors, C1, C2, and C3.
  • the oscillator 12 is formed by connecting a CMOS amplifier and a NAND circuit in an odd number of stages in a loop, and has an en signal for controlling the operation and stop of the oscillator.
  • FIG. 3 shows an example of the oscillator 12, which is an oscillator composed of five stages of gates. The oscillator generates a pulse signal ck at the output.
  • the voltage control circuit 13 consists of a bias generation circuit (BVGEN) 41, a PM0S transistor 42 and an NM0S transistor 43 inserted in parallel between the power supply and the output of the voltage control circuit. Is done.
  • Bias generating circuit 4 1, vgp from v g signal Ru determining the current supply capability, generates a vgn signal to control the PM0S transistor 4 2 and Rei OS transistor 4 3.
  • the vddm voltage is reduced from the power supply voltage and determined by the impedance of the PM0S transistor 42 and the OS transistor 43.
  • the load detection circuit 14 compares the output voltage vbgn of the charge pump with one or more reference voltages, and divides the output voltage of the charge pump by a level.
  • the register 63 holds the output voltage level of the charge pump when the count number co measured by the counter reaches the preset count number.
  • Voltage sensor 15 determines whether output voltage vbgn of charge pump 11 has reached the set voltage.
  • the load-16 is a simple representation of the load of the charge pump in terms of a resistance component and a capacitance component.
  • FIG. 6 shows how the charge pump 11 detects the load 16 and switches to the optimal capacity for that load.
  • the vertical axis represents the output voltage vbgn of the charge pump
  • the horizontal axis represents time t
  • the characteristic line c when the load is small is shown.
  • the dashed line indicates the state before the charge pump switching control
  • the solid line indicates the state after the control
  • Vrpl indicates the ripple voltage.
  • the charge pump capability is operated at the time until time TL.
  • the load is detected by the load detection circuit 14, which is determined by the output voltage of the charge pump after a time TL from the start of operation.
  • the time TL is measured by counting the pulse output ck of the oscillator 12 with the power counter 62.
  • the counter 62 reaches a preset count number, it outputs a co signal.
  • the comparator 61 determines whether or not the output voltage vbgn of the charge pump 11 is in the following range (1) to (3).
  • the initial value of the vg signal is 2, and the charge pump 11 is operating at capacity, but when the time TL has elapsed since the start of operation and the register 63 receives the co signal, the register The output voltage vbgni signal of the comparator 61 is stored, and the current supply capability is changed.
  • the voltage control circuit 13 outputs, for example, the following three-stage voltages according to the vg signal, for example.
  • the oscillator voltage Vosc and the oscillation frequency f have voltage-frequency characteristics as shown in FIG.
  • the voltage vddm supplied to the oscillator changes by the voltage control circuit 13
  • the oscillation frequency f changes at the same time. In this way, the voltage and frequency of the output of the oscillator 12 and the capacity of the charge pump 11 are changed to control the current supply capability. Therefore, the power consumption of the present embodiment depends on the current supply capacity.
  • the voltage sensor 15 determines whether the output vbgn signal of the charge pump is higher or lower than -vdd, and activates the oscillator 12 if the vbgn signal is higher than -vdd, and stops the oscillator 12 if the vbgn signal is lower than -vdd. Due to this operation, the output vbgn voltage of the charge pump becomes -vdd.
  • the charge pump of the present embodiment detects the load 16 after the time TL, and determines the optimum current supply capability for the detected load as shown in FIG. Automatically controlled to step current supply capability.
  • the power consumption depends on the current supply capacity. Note that when generating a positive high voltage, The connection direction of the diodes D 1 and D 2 in the output section shown in Fig. 2 is reversed from the direction shown in Fig. 2, and the diode D 1 is connected to the positive power supply voltage vdd. .
  • a case where all three control means of the oscillation voltage of the oscillator, the oscillation frequency, and the capacity of the charge pump are controlled, but one or two of the three control means are controlled. May be controlled to control the voltage supply capability.
  • the oscillation frequency is controlled by using a PLL (Phase Looked Loop) circuit as the oscillator 12 without using the voltage control circuit 13.
  • the oscillator 12 is configured as shown in FIG. 10 and the voltage of the voltage level conversion circuit (LS) 28 1 is used by using the output vddiii of the voltage control circuit 13. Control.
  • the modification has the same configuration as that of FIG. 1 and includes a charge pump 11, an oscillator 12, a voltage control circuit 13, a load detection circuit 14, and a voltage sensor 15, and drives a load 16.
  • a charge pump 11 an oscillator 12
  • a voltage control circuit 13 a load detection circuit 14
  • a voltage sensor 15 drives a load 16.
  • Figure 11 shows the configuration of the load detection circuit 14.
  • the counter (CNT) 71 counts the number of oscillations of the oscillator pulse signal ck, and the measured count number co is counted as one or more reference counters.
  • RTT register
  • a load detection operation which is different from the first embodiment will be described. As an example, as in the first embodiment, consider a charge pump that can switch the voltage supply capability in three stages (large, medium, and small) and generates -vdd as the output voltage.
  • FIG. 12 shows a state in which the charge pump according to the present modification detects a load and switches to a capacity optimal for the load.
  • the vertical axis represents the output voltage vbgn of the charge pump
  • the horizontal axis represents the time TC indicated by the counter count
  • the characteristic line c when the load is small indicates the state before the charge pump switching control
  • the solid line indicates the state after the control.
  • the charge pump capacity is operated until the output vbgn signal of the charge pump 11 reaches -vdd / 2.
  • the load is detected by the load detection circuit 14, which is determined by the time when the vbgn signal reaches ⁇ vdd / 2.
  • the time required for the charge pump output vbgn signal to reach -vdd / 2 is measured by counting the number of oscillations of the pulse signal ck of the oscillator 12 with the counter 71 and comparing the value co with the comparator 7 2 Send to
  • the comparator 72 determines which of the following conditions (1) to (3) the time TC indicated by the count number co of the counter 71 meets.
  • the output vg of the register 74 is a signal for determining the current supply capability of the charge pump.
  • the initial value of register 7 4 is 2, and the charge pump 11 is operating at capacity, but the charge pump output vbgn signal reaches -vdd / 2, and the comparator 7 3 output vbgc signal goes to register ⁇ 4.
  • the register stores the value of the output coi of the comparator 72 at that time, and changes the current supply capability.
  • the method of generating a high voltage using the detected vg signal is the same as in the first embodiment.
  • the power consumption of the present modified example depends on the current supply capability.
  • the charge pump of this modification detects a load when the charge pump output signal reaches ⁇ vdd / 2, and provides an optimal current supply capability for the detected load. For example, as shown in Fig. 8, three levels of current supply capacity, large (L), medium (M), and small (S), are automatically controlled.
  • the power consumption depends on the current supply capacity.
  • the generation of a positive high voltage can be realized by using the charge pump 11 shown in FIG.
  • the voltage supply capability may be controlled by controlling only one or two of the control means.
  • a PLL Phase Looked Loop
  • the oscillator 12 is configured as shown in Fig. 10 and the voltage of the voltage level conversion circuit (LS) 28 1 is controlled using the output vddm of the voltage control circuit 13 I do.
  • FIG. 13 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
  • the semiconductor integrated circuit device of the present embodiment generates a desired negative high voltage used as a substrate bias that minimizes the leakage current of the MOS transistor.
  • a leak current detection circuit (LKDET) 81 that detects the leakage current of the M0S transistor and a substrate bias generation circuit (VBGEN) 82.
  • the leak current detection circuit 81 is composed of two PM0S transistors with the gate voltage set to the power supply potential Vdd and two ⁇ 0S transistors with the gate voltage set to the ground potential VSS.
  • Circuit 91, Circuit 92, and the output of the substrate bias generation circuit 82 Divide the output vbgn and the ground potential to generate two types of voltage.Connect the resistors 94, 95, the PM0S transistor and the 0S transistor. And a comparator (CP) 93 for comparing the voltages at the points. The voltages divided by the resistors 94 and 95 are input to the substrate terminals of the NM0S transistors of the circuits 91 and 92, respectively.
  • the substrate bias generation circuit 82 is configured by excluding the voltage control circuit 13, the load detection circuit 14, the voltage sensor 15, and the load 16 in FIG. 1, that is, is composed of the charge pump 11 and the oscillator 12. I have.
  • the charge pump 11 in the first embodiment The configuration of FIG. 2 described above can be used.
  • the oscillator 12 is controlled by the en signal to start and stop the oscillation.
  • the configuration shown in FIG. 3 described in the first embodiment can be used.
  • the charge pump 11 operates in response to the pulse signal ck, and generates a substrate bias. By controlling the start and stop of the oscillator 12, the charge pump 11 can generate a desired negative high voltage.
  • the leak current detection circuit 81 detects the leak current of the M0S transistor.
  • the leak current detection method of the M0S transistor is as follows.
  • the voltage input to the circuit 91 of the leak current detection circuit 81 is always higher than the voltage input to the circuit 92. Therefore, from the dependence of the leakage current of the M0S transistor of FIG. 20 on the substrate bias, when the output vbgn of the substrate bias generation circuit 82 is between 0 V and vbl, the output voltage of the circuit 91 is smaller than that of the circuit 9 2 Lower than the output voltage.
  • the output voltage of the circuit 91 becomes higher than the output voltage of the circuit 92.
  • the comparator 93 determines where the relationship between the circuit 91 and the circuit 92 is reversed, outputs the result to the substrate bias generation circuit 82, and detects the substrate bias that minimizes the leak current.
  • the substrate bias generation circuit 82 receives the en signal output from the leak current detection circuit 81 and controls the operation and stop of the oscillator 12 to generate a substrate bias vbgn.
  • this embodiment can generate the substrate bias that minimizes the leakage current of the MOS transistor.
  • the P-type components are separated.
  • an N-type isolation type is formed on the P-type substrate, It can be realized by a well-known isolation structure such as a triple-well structure in which a P-well for OS and an N-well for PM0S are formed in a mold well, or an SOI (Silicon on Insulator) structure.
  • the first modification is a case where a desired positive high voltage used as a substrate bias for minimizing the leakage current of the M0S transistor is generated.
  • a desired positive high voltage used as a substrate bias for minimizing the leakage current of the M0S transistor is generated.
  • Fig. 13 it is composed of a substrate bias generation circuit 82 and a leakage current detection circuit 81, but the charge pump 1 1 that constitutes the substrate bias generation circuit 82 to generate a positive high voltage
  • a charge pump having the configuration shown in FIG. 9 is used.
  • the output of the substrate bias generator 82 is vbgp '.
  • the specific circuit configuration of the leak current detection circuit 81 consists of a PM0S transistor whose gate voltage is set to the power supply potential Vdd and an OS transistor whose gate voltage is set to the ground potential VSS, as shown in Fig. 15.
  • a comparator (CP) 243 for comparing the voltage at the connection point of the PM0S transistor and the OSOS transistor.
  • the voltages divided by the resistors 244 and 245 are input to the substrate terminals of the PM0S transistors of the circuits 241 and 242, respectively.
  • the method of detecting the leak current of the M0S transistor is the same as in the second embodiment, and the magnitude relationship between the output voltages of the circuit 241 and the circuit 242 is inverted with respect to the change of the output vbgp of the substrate bias circuit. Detect voltage. This detection result is output to the substrate bias generation circuit 82, and the substrate bias generation circuit 82 generates a positive high voltage vbgp as a substrate bias that minimizes the leakage current of the M0S transistor.
  • the N-well since the N-well only needs to be separated in order to control the PM0S substrate voltage, the triple-well structure, the S0I structure, the structure in which the N-well for PM0S is formed on the P-substrate, or the PM-well for the PM-S This can be realized with a double-pellet structure in which N-pellet and P-shell for NM0S are formed.
  • the second modification is another configuration for generating a desired negative high voltage used as a substrate bias for minimizing the leakage current of the M0S transistor.
  • the configuration of the second modified example includes a high voltage generation circuit (HVGEN) 1 21 for generating a high voltage and a leakage current detection circuit (LKDET) 1 2 for detecting a leakage current of the M0S transistor. 2 and a step-down circuit (VREG) 123 that steps down the output vbgnh of the high-voltage generation circuit 121.
  • the leak current detection circuit 122 is composed of N N-channel transistors in which a PM0S transistor whose gate voltage is the power supply potential Vdd and an OS transistor whose gate voltage is the ground potential VSS are connected in series.
  • the voltage divided by the resistor 104 is input to the substrate terminal of each NM0S transistor of the circuit 101.
  • the comparator 102 compares the output voltages of two adjacent circuits in the circuit 101, and outputs 0 if the output voltage of the compared circuit with the smaller number is lower than the other output voltage. Conversely, if the output voltage of the circuit with the lower number is higher, 1 is output.
  • the comparator 102 outputs 0 from the comparator 1 to the comparator X (0 ⁇ X ⁇ N).
  • the comparators X + 1 to N that compare the circuits whose leakage current characteristics are reversed output 1s.
  • the encoder 103 encodes the output of the comparator 102 and outputs a value from 0 to N as an en signal.
  • the en signal is a signal that has information on the leak current of the detected MOS transistor.
  • the high voltage generating circuit 1 2 1 generates a negative high voltage.
  • a charge pump having the configuration of FIG. 2 can be used.
  • the step-down circuit 1 2 3 has the ability to step down to N stages, receives the en signal, and steps down the negative high-voltage vbgnh signal generated by the high-voltage generation circuit 1 21 to a voltage corresponding to the en signal. And outputs it as a vbgn signal.
  • the configuration of the step-down circuit 123 includes a DC-DC converter and a series regulator.
  • this modification generates a desired negative high voltage used as a substrate bias that minimizes the leakage current of the MOS transistor.
  • a high voltage may be directly input from outside without using the high voltage generating circuit 121.
  • the semiconductor integrated circuit device of this modification also needs to have separate P-cells in order to control the NM0S substrate voltage, similarly to the configuration of FIG. It can be realized using.
  • the third modification is another configuration for generating a desired positive high voltage used as a substrate bias for minimizing the leakage current of the M0S transistor.
  • the block configuration is the same as that of Fig. 16, and consists of a high-voltage generation circuit 1 2 1 that generates high voltage, a leakage current detection circuit 1 2 2 that detects the leakage current of the M0S transistor, and a high-voltage generation circuit 1 2 1
  • the high-voltage generating circuit 121 includes, for example, a charge pump having the configuration shown in FIG. 9 in order to generate a positive high voltage.
  • the output of the high voltage generation circuit 122 is vbgph.
  • the leak current detection circuit 122 consists of N circuits (CK) in which a PM0S transistor whose gate voltage is set to the power supply potential Vdd and an NM0S transistor whose gate voltage is set to the ground potential VSS are connected in series.
  • CKTN N-1 pieces of comparators (CPi ⁇ CP N - 2 6 2, the resistor 2 6 4 for dividing the high voltage generating circuit 1 2 1 of the output voltage vbgph and the power supply voltage, compare It consists of an encoder 2 63 that encodes the output of the amplifier 26 2.
  • the voltage divided by the resistor 26 4 is input to the substrate terminal of each PM0S transistor of the circuit 26 1.
  • the comparator 262 compares the output voltages of two adjacent circuits in the circuit 261 and, if the output voltage of the compared circuit having the lower number is higher than the other output voltage. , 0, and 1 if the output voltage of the lower numbered circuit is low.
  • the leakage current of the M0S transistor has a leakage characteristic as shown in Fig. 20, so that comparator 26 2 has 0 from comparator 1 to comparator X (0 x X x N). Is output, and 1 is output from the comparator X + 1 to the comparator N, which compare the circuits whose leakage current characteristics are reversed.
  • the encoder 263 encodes the output of the comparator 262 and outputs a value from 0 to N as an en signal.
  • the en signal is a signal that has information on the leak current of the detected MOS transistor.
  • Step-down circuit 1 2 3 has the ability to step down to N stages, In response to the en signal, the positive high voltage vbgph signal generated by the high voltage generating circuit 121 is reduced to a voltage corresponding to the en signal and output as a vbgp signal.
  • this modification generates a desired positive high voltage used as a substrate bias that minimizes the leakage current of the MOS transistor.
  • a high voltage may be directly input from outside without using the high voltage generating circuit 121.
  • This modified example can be realized by a triple-well structure, an S0I structure, or a double-well structure because it is only necessary to separate the N-well in order to control the PM0S substrate voltage.
  • a fourth modification of the present embodiment will be described with reference to FIG.
  • a positive or negative high voltage is generated as a substrate bias for controlling the current supply capability to be optimal for the detected load size and for minimizing the leakage current of the MOS transistor.
  • VSE voltage sensor
  • the operations of the charge pump 11, the oscillator 12, the voltage control circuit 13, and the load detection circuit 14 in FIG. 19 detect the load and detect the load as described in the first embodiment.
  • the current supply capacity is controlled to be optimal for the size of the load.
  • the leak current is detected by the leak current detection circuit 81, and an en signal having leak current information is output.
  • a positive or negative substrate bias is used as the substrate bias to control the current supply capability to the optimum for the detected load size and to minimize the leakage current of the M0S transistor. Generates high voltage.
  • a load is detected, and the load is detected in accordance with the magnitude of the load. It is possible to realize a semiconductor integrated circuit device that generates a positive or negative high voltage controlled to an appropriate current supply capability with power consumption according to the current supply capability.
  • a semiconductor integrated circuit device that generates a substrate bias for controlling the leakage current of the MOS transistor to a minimum.
  • a semiconductor integrated circuit that generates a positive or negative high voltage as a substrate bias that controls the current supply capacity to the optimum level of the detected load and controls the leakage current of the M0S transistor to a minimum.
  • a circuit device can be realized.

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Abstract

本発明は、負荷を検出し、その負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御される正または負の高電圧を、電流供給能力に応じた消費電力で発生する半導体集積回路装置を提供する。正または負の高電圧を生成するチャージポンプと、チャージポンプを駆動するパルス信号を生成する発振器と、発振器の電源電圧を制御する電圧制御回路と、チャージポンプの負荷の大きさを検出する負荷検出回路と、チャージポンプの出力電圧を検出する電圧センサとを備える。

Description

技術分野
本発明は半導体集積回路装置に係り、 特に高電圧発生回路を有する半導体集積 回路装置に関する。
明 背景技術
先ず、 この明細書で参照される文献のリストを以下に示し、 文献の参照は文献 番号をもってすることとする。
[文献 1 ] :特開平 1 0— 2 0 8 4 8 9号公報
[文献 2 ] :特開平 1 1一 1 9 1 6 1 1号公報
従来、 この種の従来例として文献 1に開示される高電圧発生装置が知られてい る。 この従来例は、 チャージポンプの負荷が軽くなつたときのリップル電圧の増 大を抑制することを目的として、 次のような構成が開示されている。 すなわち、 この高電圧発生装置はチャージポンプ、 タイマ、 A-D変換器と電流制限回路から 構成され、 負荷によって昇圧能力を変化させることができる。 これにより、 低負 荷時のリップル電圧の増大を抑制する。
次に、 この高電圧発生装置の動作を簡単に述べる。 タイマによりチャージボン プ動作開始から、 予め設定された所定時間を計測する。 その所定時間後のチヤ一 ジポンプ発生電圧を A-D変換器に入力し、 ディジタル信号に変換する。 電流制限 回路ほこのディジタル信号を受けて、 チャージポンプに供給する電流を制限す る。 これにより、 負荷の大きさに応じて昇圧能力を変化させることが可能とな る。
また、 スタンパイ時のトランジスタのリーク電流を低減する従来例として、 文 献 2に開示されている技術がある。 この従来例は、 チャージポンプなど高電圧発 生手段により発生された高電圧を逆バイアス電圧として、 M0Sトランジスタの基 板端子に供給している。 逆バイアス印加により、 トランジスタのしきい値電圧を 上げることで、 スタンパイ時のトランジスタのリーク電流を低減できる。
前述したように文献 1に開示されるチャージポンプは、 負荷の大きさに応じて 昇圧能力を変化させることができるが、 その昇圧能力を変化させる手段は、 電流 制限回路を用いて、 チャージポンプに供給する電流を制限するものである。 つま り、 チャージポンプ自身は最大の負荷に対応した昇圧能力を実現できる能力を維 持したまま動作しているが、 負荷に供給する電流を絞ることにより、 昇圧能力を 制御しているといえる。 そのため、 高電圧を発生させるチャージポンプのポンピ ング動作で消費する電力は、 負荷の大きさによらず一定である。 従って、 この文 献 1によるチャージポンプは、 負荷が小さい時も、 負荷が大きい時と同じ電力を 消費しながら、 昇圧能力を変化させていることになる。
また前述したように、 文献 2に開示される技術では、 スタンパイ時に M0Sトラ ンジスタの基板端子に逆バイアスを供給することによりスタンパイ時の電流を低 減しているが、 設計プロセスの微細化に伴い、 M0Sトランジスタの基板端子に逆 バイアスを与え過ぎると、 PN接合電流や GIDL (Gate Induced Drain Leakage)電流 と呼ばれるリーク電流の増大が顕著になってくる。
図 2 0は横軸に基板バイアス VBを、 縦軸にドレイン電流 I Dをとり、 M0Sトラン ジスタがオフ状態の時のドレイン電流、 すなわち M0Sトランジスタのリーク電流 の基板バイアス依存性である。 図 2 0では、 vblの基板バイアスを印加した時に ドレイン電流 I。は最小となり、 vb lよりも深く逆バイアスを印加すると ドレイ ン電流は増加に転じる。 従って、 スタンバイ電流を減少させるために印加する逆 バイアスを深くし過ぎると、 逆にスタンバイ電流は増加するという問題が発生す る。 発明の開示
本発明は、 上記問題を解決するためになされたものであり、 負荷の小さい時 は、 負荷の大きい時よりも消費電力を低減しながら、 負荷に対して最適な電流供 給能力に制御されるチャージポンプを具備する半導体集積回路装置を提供するこ とを目的とする。
また、 PN接合電流や GIDL電流といったリーク電流を増加させずにサブスレツシ ョルドリーク電流を低減できるように、 スタンバイ時のリ ク電流低減のための 最適な基板バイアスを供給できる電圧発生回路を具備する半導体集積回路装置を 提供することも本発明の目的の一つである。
チャージポンプの電流供給能力 Icpは、 Icp f X C X Vと表される。 ここで、 fは 発振器の発振周波数、 Cはチャージポンプの容量、 Vは発振器の発振電圧である。 従って、 f、 C, Vを 1つまたは複数個制御することにより、 チャージポンプの電 流供給能力を制御できる。 また、 チャージポンプ回路のボンビング動作による消 費電力 Pcpは、 Pcp oc f X C X V2で表される。 よって、 f、 c、 Vを低下させると、 電流 供給能力も消費電力も減少でき、 逆に、 f、 c、 Vを増加させると、 電流供給能力 も消費電力も増大する。
本発明に係る半導体集積回路装置は、 電源電圧をボンビングすることにより、 正または負の高電圧を生成するチヤージポンプと、 チヤ一ジポンプの容量を駆動 するパルス信号を発生する発振器と、 発振器の電源電圧を制御する電圧制御回路 と、 チャージポンプの負荷の大きさを検出する負荷検出回路と、 チャージポンプ の出力電圧を検出する電圧センサとを備え、 チャージポンプを、 負荷検出回路で 検出された負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御すると共に、 電流供給能力 に応じた消費電力で、 正または負の高電圧を発生することを特徴とするものであ る。
上記チャージポンプは、 1個または複数個の容量と、 容量とチャージポンプと を接続するスィツチと、 このスィツチを制御する信号を発生するデコーダとから なり、 スィツチの切り替えによりチャージポンプの容量の大きさを変化させるこ とができる。
上記発振器は、 CMOSインパータ回路と NAND回路をループさせることにより構成 され、 発振器の動作及び停止を制御する機能を備え、 発振電圧、 あるいは発振周 波数、 あるいはその両方が制御される。
上記電圧制御回路は、 バイアス発生回路を備え、 PM0Sトランジスタと NM0Sトラ ンジスタを電源と電圧制御回路の出力との間に並列に揷入し、 バイアス発生回路 の出力により PM0Sトランジスタと M0Sトランジスタのゲート電圧を制御して電源 電圧を降圧する回路である。
上記負荷検出回路は、 チャージポンプの出力電圧を 1個あるいは複数個の基準 電圧と比較し、 チャージポンプの出力電圧をレベル分けする比較器と、 発振器の パルス信号の発振回数を計測するカウンタと、 カウンタで計測されたカウント数 が予め設定されたカウント数に達した時のチャージポンプの出力電圧のレベルを 保持するレジスタとから構成される。
また、 上記負荷検出回路は、 発振器のパルス信号の発振回数を計測するカウン タと、 計測されたカウント数を 1個あるいは複数個の基準カウント数と比較し、 計測されたカウント数をレベル分けする比較器と、 チャージポンプの出力電圧が 予め設定された基準電圧に達した時のカウント数のレベルを保持するレジスタと で構成しても良い。
また、 本発明に係る半導体集積回路装置は、 M0Sトランジスタのリーク電流を 検出するリーク電流検出回路と、 CMOS LSIの基板端子に基板バイアス電圧を供給 する基板バイアス発生回路とを備え、 この基板バイアス発生回路により基板パイ ァスを M0Sトランジスタのリーク電流が最小となるように制御することを特徴と するものである。
上記リーク電流検出回路は、 ゲート電圧を電源電位とした PM0Sトランジスタ と、 ゲート電圧を接地電位とした NM0Sトランジスタとを直列に接続した 2個の回 路と、 上記基板バイアス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧し 2種の電圧を 生成する抵抗と、 PM0Sトランジスタと丽 OSトランジスタの接続点電圧を比較し、 それらの電圧の大小関係を出力する比較器とからなり、 2個の NM0Sトランジスタ の基板端子に上記基板バイアス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧した 2種 の電圧をそれぞれ供給し、 上記基板バイアス発生回路の出力電圧の変化に対する トランジスタのリーク電流の増減を検出するものである。
また、 上記リーク電流検出回路は、 ゲート電圧を電源電位とした PM0Sトランジ スタと、 ゲート電圧を接地電位とした NM0Sトランジスタとを直列に接続した 2個 の回路と、 上記基板バイァス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧し 2種の電 圧を生成する抵抗と、 PM0Sトランジスタと NM0Sトランジスタの接続点電圧を比較 し、 それらの電圧の大小関係を出力する比較器を備え、 2個の PM0Sトランジスタ の基板端子に上記基板バイァス発生回路の出力電圧と電源電圧とを分圧した 2種 の電圧をそれぞれ供給し、 上記基板バイアス発生回路の出力電圧の変化に対する トランジスタのリーク電流の増減を検出するように構成しても良い。
上記基板バイアス発生回路は、 回路の動作及び停止を制御する機能を備えた発 振器と、 基板バイアスを発生するチャージポンプとからなり、 上記リーク電流検 出回路の検出結果を受けて、 発振器の動作及び停止を制御してチャージポンプ動 作を制御することにより、 M0Sトランジスタのリーク電流を最小にする基板バイ ァスを発生するものである。
また、 本発明による半導体集積回路装置は、 M0Sトランジスタのリーク電流を 検出するリーク電流検出回路と、 高電圧を発生する高電圧発生回路と、 高電圧発 生回路の出力電圧を降圧し、 CMOS LSIの基板端子にバイアス電圧を供給する降圧 回路とを備え、 この降圧回路により基板バイアスを M0Sトランジスタのリーク電 流が最小となるように制御することを特徴とするものである。
この場合、 上記リーク電流検出回路は、 ゲート電圧を電源電位とした PM0Sトラ ンジスタと、 ゲート電圧を接地電位とした丽 OSトランジスタとを直列に接続した 複数個の回路と、 上記高電圧発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧し複数種の 電圧を生成する抵抗と、 PM0Sトランジスタと NM0Sトランジスタの接続点の電圧を 比較する比較器を複数個と、 比較器の出力をェンコ一ドするエンコーダとからな り、 複数個の丽 OSトランジスタの基板端子に上記高電圧発生回路の出力電圧と接 地電位とを分圧して生成した複数種の電圧をそれぞれ供給してトランジスタのリ ーク電流を最小に制御する基板バイアスを検出する。
本発明に係る半導体集積回路装置は、 正または負の高電圧を生成するチャージ ポンプと、 チャージポンプを駆動するパルス信号を生成する発振器と、 発振器の 電源電圧を制御する電圧制御回路と、 チャージポンプの負荷の大きさを検出する 負荷検出回路と、 M0Sトランジスタのリーク電流を検出するリーク電流検出回路 を備え、 検出された負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御し、 かつ M0Sトラ ンジスタのリーク電流を最小に制御する正または負の基板バイアスを発生するこ とを特徴とするものである。
上記 M0Sトランジスタのリーク電流は基板印加電圧に依存して増減する電流で あって、 ゲート、 ソース間電圧を 0 Vとしてトランジスタをオフ状態にした時 の、 サブスレツショルド電流、 PN接合電流、 及ぴ GIDL電流を含む電流である。 図面の簡単な説明
図 1は本発明の実施例 1の構成を示したブロック図、
図 2は図 1に示したチヤ ジポンプの構成例を示す回路図、
図 3は図 1に示した発振器の構成例を示す回路図、
図 4は図 1に示した電圧制御回路の構成例を示す図、
図 5は図 1に示した負荷検出回路のプロック図、
図 6は実施例 1のチャージポンプ回路の動作を示す波形図、
図 7は図 3に示した発振器の電圧一周波数特性を示す図、
図 8は実施例 1におけるチャージポンプの電流供給能力を示す図、
図 9は実施例 1のチャージポンプの別の構成例を示す回路図、
図 1 0は実施例 1の発振器の別の構成例を示す回路図、
図 1 1は実施例 1の変形例で用いる負荷検出回路のプロック図、
図 1 2は実施例 1の変形例におけるチャージポンプ回路の動作を示す波形図、 図 1 3は本発明の実施例 2の構成を示したブロック図、
図 1 4は図 1 3に示したリーク電流検出回路の構成例を示す図、
図 1 5は実施例 2の第 1変形例で用いるリーク電流検出回路の構成を示す図、 図 1 6は実施例 2の第 2変形例の構成を示したプロック図、
図 1 7は実施例 2の第 2変形例で用いるリーク電流検出回路の構成を示す図、 図 1 8は実施例 2の第 3変形例で用いるリーク電流検出回路の構成を示す図、 図 1 9は実施例 2の第 4変形例の構成を示したブロック図、
図 2 0は M0Sトランジスタのリーク電流の基板バイアス依存性を示す図であ る' 発明を実施するための最良の形態
<実施例 1 >
図 1は、 本発明の第 1の実施例を示す図である。 図 1に示されるように、 この 半導体集積回路装置は、 チャージポンプ(CHP) 1 1、 発振器 (0SC) 1 2、 電圧制御 回路(VCTL) 1 3、 負荷検出回路(LDET) 1 4、 電圧センサ(VSE) 1 5を備え、 負荷 1 6を駆動する。
ここで、 チャージポンプ 1 1は、 図 2に示すように、 1個あるいは複数個の容 量と、 容量をチャージポンプに接続している M0Sトランジスタで構成されたスィ ツチと、 このスィッチを制御するデコーダ(DEC) 2 1から構成されている。 図 2 は、 容量が C1,C2,C3の 3個の時の例を示している。 このチャージポンプは容量の 値を変えることができ、 図 2では 3段階に変更が可能である。 例えば、 vg信号を 受けて、 デコーダ 2 1力 Svgc 2 = 0、 vgc 3 = 0を出力すると、 チャージポンプの 容量は C1となり、 vgc 2 = l、 vbc 3 = 0を出力した場合はチャージポンプの容量 は C1+C2となる。
発振器 1 2は CMOSィンパータと NAND回路をループ状に奇数段接続して構成され、 発振器の動作、 及び停止を制御する en信号を備えている。 図 3は、 発振器 1 2の 一例であり、 5段のゲートから構成される発振器である。 発振器は出力にパルス 信号 ckを発生する。
電圧制御回路 1 3は、 図 4に示すように、 バイアス発生回路(BVGEN) 4 1と、 電源と電圧制御回路の出力の間に並列に挿入された PM0Sトランジスタ 4 2と NM0S トランジスタ 4 3で構成される。 バイアス発生回路 4 1は、 電流供給能力を決め る vg信号から vgp、 vgn信号を生成し、 PM0Sトランジスタ 4 2と麗 OSトランジスタ 4 3を制御する。 PM0Sトランジスタ 4 2と丽 OSトランジスタ 4 3のインピーダン スにより、 vddm電圧が電源電圧から降圧されて、 決定される。
負荷検出回路 1 4は、 図 5に示されるように、 チャージポンプの出力電圧 vbgn を 1個あるいは複数個の基準電圧と比較し、 チャージポンプ出力電圧をレベル分 けする比較器 (CP) 6 1と、 発振器のパルス信号 ckの発振回数を計測するカウンタ (CNT) 6 2と、 レジスタ(RGT) 6 3から構成される。 レジスタ 6 3は、 カウンタで 計測されたカウント数 coが予め設定されたカウント数に達した時のチャージボン プの出力電圧のレベルを保持する。
電圧センサ 1 5は、 チャージポンプ 1 1の出力電圧 vbgnが設定した電圧に達し たかどうかを判断する。
負荷- 1 6は、 ここではチャージポンプの負荷を抵抗成分と容量成分とで簡単に 表現した。
本実施例の動作を述べる。 例として電圧供給能力を 3段階 (大、 中、 小)に切り 替えられ、 出力電圧値として - vddを発生するチャージポンプを考える。 図 6は、 チャージポンプ 1 1が負荷 1 6を検出し、 その負荷に最適な能力に切り替える様 子を示している。 図 6において、 縦軸にチャージポンプの出力電圧 vbgnをとり、 横軸に時間 tをとり、 負荷 1 6が大の場合のチャージポンプ出力の特性線 aと、 標準負荷の場合の特性線 bと、 負荷が小の場合の特性線 cを示す。 なお、 同図に おいて、 破線はチャージポンプの切り替え制御前、 実線は制御後を示し、 Vrplは リップル電圧を示している。
発振器 1 2が動作し、 チャージポンプ動作を開始してから、 時間 TLまではチヤ ージポンプ能力を中で動作させる。 負荷は負荷検出回路 1 4で検出され、 それは 動作開始から時間 TL後のチャージポンプの出力電圧で判断される。 時間 TLは、 力 ゥンタ 6 2にて発振器 1 2のパルス出力 ckをカウントすることにより計測され る。 カウンタ 6 2は予め設定されたカウント数に達すると、 co信号を出力する。 比較器 6 1ではチャージポンプ 1 1の出力電圧 vbgnが、 次の(1) から(3)の範囲 かどうかを判断する。
(1) vbgn ≥ -vdd/3
(2) -2vdd/3 ≤ vbgn < -vdd/3
(3) vbgn < -2vdd/3
(1)の場合 (図 6で言えば特性線 a ) は、 負荷が大きいと判断され、 出力電圧 vgbniは 3となり、 (2)の場合 (図 6で言えば特性線 b ) は、 最適な負荷と判断さ れ、 vbgniは 2となり、 (3)の場合 (図 6で言えば特性線 c) は、 負荷が小さいと 判断され、 vbgniは 1となる。 レジスタ 6 3の出力 vgは、 チャージポンプの電流 供給能力を決定する信号であり、 能力大 = 3、 能力中 = 2、 能力小 = 1である。 vg信号の初期値は 2であり、 チャージポンプ 1 1は能力中で動作しているが、 動 作開始から時間 TLが経過し、 レジスタ 6 3が co信号を入力されると、 レジスタは その時の比較器 6 1の出力電圧 vbgni信号を記憶して、 電流供給能力を変化させ る。 チャージポンプ 1 1のデコーダ 21は、 vg= lが入力されると、 (vgc2, vgc3) = (0 , 0)を、 vg= 2が入力されると、 (vgc2, vgc 3 ) = ( 1 , 0)を、 vg =3が入力されると、 (vgc2, vgc 3 ) = ( 1 , 1)を出力する。
電圧制御回路 1 3は、 例えば、 一例として次のような 3段階の電圧を、 vg信号 に応じて出力する。 電流供給能力が小の場合(vg= 1)には、 vgp= 3. 3V、 vgn = 2. 5Vを生成して vddraは 1. 9 5 Vに、 電流供給能力が中の場合(vg= 2)に は、 vgp= 3. 3V、 vgn= 3. 3 Vを生成して vddmは 2. 6 2Vに、 電流供給能力 が大の場合(vg= 3)には、 vgp= 0V、 vgn= 3. 3 Vを生成して vddmは 3. 3V に、 それぞれ電源電圧 Vdd= 3. 3Vから降圧して出力する。
図 3の発振器 1 2は、 発信器電圧 Voscと発信周波数 fは、 図 7に示したような 電圧一周波数特性を持っている。 電圧制御回路 1 3により、 発振器に供給される 電圧 vddmが変化すると、 その発振周波数 fも同時に変化する。 このように発振器 1 2の出力の電圧、 周波数、 及びチャージポンプ 1 1の容量を変化させ、 電流供 給能力を制御している。 そのため、 本実施例の消費電力は電流供給能力に応じた ものとなる。 電圧センサ 1 5はチャージポンプの出力 vbgn信号が -vddより高いか 低いかを判定し、 vbgn信号が- vddより高ければ発振器 1 2を動作させ、 - vddより 低ければ発振器 1 2を停止させる。 この動作により、 チャージポンプの出力 vbgn 電圧は - vddとなる。
以上のような制御を行うことにより、 本実施例のチャージポンプは、 時間 TL後 に負荷 1 6を検出し、 検出した負荷に対して最適な電流供給能力として、 例えば 図 8に示すような 3段階の電流供給能力に自動制御される。 また、 その消費電力 は電流供給能力に応じたものとなる。 尚、 正の高電圧を発生させる場合は、 図 9 に示す出力部のダイォード D 1,D 2の接続の向きを図 2の向きと逆にし、 ダイォ 一ド D 1のァソードを正の電源電圧 vddに接続した構成のチャージポンプを用いる ことで実現できる。
本実施例の動作例として、 発振器の発振電圧、 発振周波数、 及びチャージボン プの容量の 3つの制御手段すベてを制御した場合をあげたが、 3つの制御手段の うち 1つまたは 2つだけを制御して、 電圧供給能力を制御してもよい。 発振器の 発振周波数のみを制御する場合は、 電圧制御回路 1 3を用いずに発振器 1 2とし て PLL (Phase Looked Loop)回路を用い、 その発振周波数を制御する。 また、 発振 器の発振電圧のみを制御する場合は、 発振器 1 2を図 1 0に示す構成にし、 電圧 レベル変換回路(LS) 2 8 1の電圧を電圧制御回路 1 3の出力 vddiiiを用いて制御す る。
[変形例]
次に、 本実施例の変形例について述べる。 変形例は、 図 1と同様の構成であ り、 チャージポンプ 1 1、 発振器 1 2、 電圧制御回路 1 3、 .負荷検出回路 1 4、 電圧センサ 1 5からなり、 負荷 1 6を駆動しているが、 負荷検出回路 1 4の構成 のみが異なる。 よって負荷検出方式も相違する。 図 1 1は負荷検出回路 1 4の構 成を示し、 発振器のパルス信号 ckの発振回数をカウントするカウンタ(CNT) 7 1 と、 計測されたカウント数 coを 1個あるいは複数個の基準カウンタと 匕較して力 ゥント数をレベル分けする比較器(CP) 7 2と、 チャージポンプ出力電圧 vbgn信号 を基準電圧と比較する比較器(CP) 7 3と、 vbgn信号が予め設定された基準電圧に 達した時のカウント数のレベルを保持する ジスタ(RGT) 7 4から構成される。 第 1の実施例との相違点である負荷検出動作について述べる。 例として第 1の 実施例と同様に、 電圧供給能力を 3段階(大、 中、 小)に切り替えられ、 出力電圧 として -vddを発生するチャージポンプを考える。
図 1 2は、 本変形例によるチャージポンプが負荷を検出し、 その負荷に最適な 能力に切り替える様子を示している。 図 1 2において、 縦軸にチャージポンプの 出力電圧 vbgnをとり、 横軸にはカウンタのカウント数が示す時間 TCをとり、 負荷 1 6が大の場合のチャージポンプ出力の特性線 aと、 標準負荷の場合の特性線 b と、 負荷が小の場合の特性線 cを示す。 なお、 同図において、 破線はチャージポ ンプの切り替え制御前、 実線は制御後を示している。
発振器 1 2が動作し、 チャージポンプ動作を開始してからチャージポンプ 1 1 の出力 vbgn信号が - vdd/2に達するまでは、 チャージポンプ能力を中で動作させ る。 負荷は、 負荷検出回路 1 4で検出され、 それは vbgn信号が- vdd/2に達したと きの時間で判断される。 チャージポンプの出力 vbgn信号が- vdd/2に達するまでの 時間は、 発振器 1 2のパルス信号 ckの発振回数をカウンタ 7 1でカウントするこ とにより計測して、 その値 coを比較器 7 2に送る。
比較器 7 2では、 カウンタ 7 1のカウント数 coが示す時間 TCが、 次の(1) から (3)のどの条件に合致するかを判定する。
(1) TC ≤ T1
(2) Tl < TC ≤T2
(3) Τ2 < TC
(1)の場合 (図 1 2で言えば特性線 c ) は、 負荷が小さいと判断され、 比較器 7 2の出力 coiは 1となり、 (2)の場合 (図 1 2で言えば特性線 b ) は、 最適な負 荷と判断され、 出力 coiは 2となり、 (3)の場合 (図 1 7で言えば特性線 a ) は、 負荷が大きいと判断され、 出力 coiは 3となる。 比較器 7 3は、 チャージポンプ 出力 vbgnが- vdd/2に達するとレジスタ 7 4に vbgc信号を出力する。
レジスタ 7 4の出力 vgは、 チャージポンプの電流供給能力を決定する信号であ り、 能力大 = 3、 能力中 = 2、 能力小 = 1である。 レジスタ 7 4の初期値は 2で あり、 チャージポンプ 1 1は能力中で動作しているが、 チャージポンプ出力 vbgn 信号が - vdd/2に達し、 比較器 7 3出力 vbgc信号がレジスタ Ί 4に入力されると、 レジスタはその時の比較器 7 2の出力 coiの値を記憶し、 電流供給能力を変化さ せる。 検出された vg信号を用いて、 高電圧を発生させる方法は第 1の実施例と同 様である。
また、 本変形例の消費電力は電流供給能力に応じたものとなる。 以上のような 制御を行うことにより、 本変形例のチャージポンプは、 チャージポンプ出力信号 が- vdd/2に達した時に負荷を検出し、 検出した負荷に対して最適な電流供給能力 として例えば図 8に示すような大(L)、 中(M)、 小(S)の 3段階の電流供給能力に 自動制御される。 また、 その消費電力は電流供給能力に応じたものとなる。 な お、 正の高電圧を発生させる場合は、 図 9に示すチャージポンプ 1 1を用いるこ とで実現できる。
本変形例の動作例として、 発振器の発振電圧、 発振周波数、 及びチャージボン プの容量の 3つの制御手段すベてを制御した場合をあげたが、 実施例 1で述べた と同様に 3つの制御手段のうち 1つまたは 2つだけを制御して、 電圧供給能力を 制御してもよい。 発振器の発振周波数のみを制御する場合は、 電圧制御回路 1 3 を用いずに発振器 1 2として PLL (Phase Looked Loop)回路を用い、 その発振周波 数を制御する。 また、 発振器の発振電圧のみを制御する場合は、 発振器 1 2を図 1 0に示す構成にし、 電圧レベル変換回路(LS) 2 8 1の電圧を電圧制御回路 1 3 の出力 vddmを用いて制御する。
<実施例 2 >
図 1 3は、 本発明の第 2の実施例を示す図である。 本実施例の半導体集積回路 装置は、 M0Sトランジスタのリーク電流を最小にする基板バイアスとして用いら れる所望の負の高電圧を発生する。 図 1 3に示されるように、 M0Sトランジスタ のリーク電流を検出するリーク電流検出回路(LKDET) 8 1と、 基板バイアス発生 回路(VBGEN) 8 2から構成される。 リーク電流検出回路 8 1は、 図 1 4に示され るようにゲート電圧を電源電位 Vddとした PM0Sトランジスタと、 ゲート電圧を接 地電位 VSSとした丽 0Sトランジスタとを直列に接続した 2個の回路 9 1、 回路 9 2と、 基板バイアス発生回路 8 2の出力 vbgnと接地電位とを分圧し、 2種の電圧 を生成する抵抗 9 4、 抵抗 9 5と、 PM0Sトランジスタと雇 0Sトランジスタの接続 点の電圧を比較する比較器(CP) 9 3とから構成される。 抵抗 9 4と抵抗 9 5によ つて分圧された電圧は、 それぞれ回路 9 1と回路 9 2の NM0Sトランジスタの基板 端子に入力される。
基板バイアス発生回路 8 2は、 図 1において電圧制御回路 1 3、 負荷検出回路 1 4、 電圧センサ 1 5、 負荷 1 6を除いた構成、 すなわち、 チャージポンプ 1 1 と発振器 1 2から構成されている。 チャージポンプ 1 1としては第 1の実施例で 述べた図 2の構成を用いることができる。 発振器 1 2は、 発振の動作及ぴ停止を en信号により制御される。 発振器 1 2としては、 第 1の実施例で述べた図 3の構 成を用いることができる。 チャージポンプ 1 1はパルス信号 ckを受けて動作し、 基板バイアスを発生する。 発振器 1 2の動作及ぴ停止を制御することにより、 チ ヤージポンプ 1 1は所望の負の高電圧を発生することができる。
本実施例の動作を説明する。 リーク電流検出回路 8 1で M0Sトランジスタのリ ーク電流が検出される。 M0Sトランジスタのリーク電流検出方法は以下の通りで ある。 リーク電流検出回路 8 1の回路 9 1に入力される電圧は、 常に回路 9 2に 入力される電圧より高い電圧となっている。 よって、 図 2 0の M0Sトランジスタ のリーク電流の基板バイアス依存性より、 基板バイアス発生回路 8 2の出力 vbgn が 0 Vから vb lまでの間は、 回路 9 1の出力電圧の方が回路 9 2の出力電圧より 低い。 しかし、 さらに出力 vbgn電圧が低下して vb l以下になると、 逆に回路 9 1 の出力電圧の方が回路 9 2の出力電圧より高くなる。 比較器 9 3は、 回路 9 1と 回路 9 2の関係が逆転するところを判定し、 その結果を基板バイアス発生回路 8 2に出力し、 リーク電流が最小となる基板バイアスを検出する。 基板バイアス発 生回路 8 2は、 リーク電流検出回路 8 1の出力である en信号を受けて、 発振器 1 2の動作及び停止を制御することにより、 基板パイァス vbgnを発生する。
以上の動作により、 本実施例は M0Sトランジスタのリーク電流を最小にする基 板バイアスを発生することができる。 本実施例は、 NM0S基板電圧を制御するた め、 Pゥヱルが分離されている必要があるが、 それは例えば、 P基板にアイソレー ション用の N型ゥエルを形成し、 更にこのアイソレーション用の N型ゥエル内に、 丽 OS用の Pゥエルと PM0S用の Nゥエルを形成したトリプルゥエル構造、 或いは、 SOI (Silicon on Insulator) 構造といった周知のアイソレーション構造で実現 可能である。
[第 1変形例] .
次に、 本実施例の第 1変形例について ¾ベる。 第 1変形例は、 M0Sトランジス タのリーク電流を最小にする基板バイアスとして用いられる所望の正の高電圧を 発生する場合である。 図 1 3と同様に、 基板バイアス発生回路 8 2とリーク電流検出回路 8 1とから 構成されるが、 正の高電圧を生成するために基板バイアス発生回路 8 2を構成す るチャージポンプ 1 1としては、 図 9に示した構成のチャージポンプを用いる。 基板バイアス発生回路 8 2の出力は、 vbgp'とする。
リーク電流検出回路 8 1の具体的回路構成は、 図 1 5に示されるようにゲート 電圧を電源電位 Vddとした PM0Sトランジスタと、 ゲート電圧を接地電位 VSSとした 丽 OSトランジスタとを直列に接続した 2個の回路 2 4 1、 回路 2 4 2と、 基板バ ィァス発生回路 8 2の出力 vbgpと電源電位とを分圧し、 2種の電圧を生成する抵 抗 2 4 4、 抵抗 2 4 5と、 PM0Sトランジスタと丽 OSトランジスタの接続点の電圧 を比較する比較器(CP) 2 4 3とから構成される。 抵抗 2 4 4と抵抗 2 4 5によつ て分圧された電圧は、 それぞれ回路 2 4 1と回路 2 4 2の PM0Sトランジスタの基 板端子に入力される。
M0Sトランジスタのリーク電流を検出する方法は、 第 2の実施例と同様に、 基 板バイアス回路の出力 vbgpの変化に対して回路 2 4 1と回路 2 4 2の出力電圧の 大小関係が反転する電圧を検出する。 この検出結果を基板バイアス発生回路 8 2 に出力し、 基板バイアス発生回路 8 2は M0Sトランジスタのリーク電流を最小に する基板バイアスとして正の高電圧 vbgpを発生する。 本変形例は、 PM0S基板電圧 を制御するため、 Nゥエルが分離されていればよいから、 トリプルゥヱル構造、 S0I構造、 P基板に PM0S用の Nゥヱルを形成した構造、 或いは P基板に PM0S用の Nゥ ヱルと NM0S用の Pゥヱルを形成した 2重ゥヱル構造で実現可能である。
[第 2変形例]
更に、 本実施例の第 2変形例について述べる。 第 2変形例は、 M0Sトランジス タのリーク電流を最小にする基板バイアスとして用いられる所望の負の高電圧を 発生する場合の別の構成である。
第 2変形例の構成は、 図 1 6に示すように、 高電圧を発生する高電圧発生回路 (HVGEN) 1 2 1と、 M0Sトランジスタのリーク電流を検出するリーク電流検出回路 (LKDET) 1 2 2と、 高電圧発生回路 1 2 1の出力 vbgnhを降圧する降圧回路(VREG) 1 2 3とから構成される。 図 1 7に示すように、 リーク電流検出回路 1 2 2は、 ゲート電圧を電源電位 Vddとした PM0Sトランジスタと、 ゲート電圧を接地電位 VSSとした丽 OSトランジス タとを直列に接続した N個の回路(CKT^ CKTN) 1 0 1と、 N— 1個の比較器(CPi CP^) 1 0 2と、 高電圧発生回路 1 2 1の出力電圧 vbgnhと接地電圧 VSSとを分圧 する抵抗 1 0 4と、 比較器 1 0 2の出力をエンコードするエンコーダ(ENC) 1 0 3から構成される。
回路 1 0 1の各 NM0Sトランジスタの基板端子には、 抵抗 1 0 4にて分圧された 電圧がそれぞれ入力される。 比較器 1 0 2は、 回路 1 0 1内の隣合う 2つの回路 の出力電圧を比較し、 比較した 2つの回路の番号の若い方の出力電圧がもう一方 の出力電圧より低ければ 0を出力し、 逆に番号の若い回路の出力電圧が高ければ 1を出力する。
ここで、 M0Sトランジスタのリーク電流は、 図 2 0に示すような特性を持って いるから、 比較器 1 0 2は、 比較器 1から比較器 X ( 0 < X < N )までは 0を出 力し、 リーク電流特性が逆転した回路を比較した比較器 X + 1から比較器 Nまで は 1を出力する。
エンコーダ 1 0 3は、 比較器 1 0 2の出力をエンコードし、 0から Nまでの値 を en信号として出力する。 en信号は検出した M0Sトランジスタのリーク電流情報 を持った信号である。 高電圧発生回路 1 2 1は、 負の高電圧を発生する。 高電圧 発生回路 1 2 1の構成としては、 例えば、 図 2の構成のチャージポンプを用いる ことができる。 降圧回路 1 2 3は、 N段階に降圧する能力を持っており、 en信号 を受けて、 高電圧発生回路 1 2 1で生成された負の高電圧 vbgnh信号を en信号に 応じた電圧に降圧し、 vbgn信号として出力する。 例えば、 降圧回路 1 2 3の構成 としては、 D C— D Cコンバータやシリーズレギユレータがある。
以上の動作により、 本変形例は M0Sトランジスタのリーク電流を最小にする基 板バイアスとして用いられる所望の負の高電圧を発生する。 尚、 本変形例では高 電圧発生回路 1 2 1を用いずに、 外部から直接高電圧を入力してもよい。 本変形 例の半導体集積回路装置も、 図 1 3の構成と同様に NM0S基板電圧を制御するた め、 Pゥヱルが分離されている必要があり、 トリプルゥヱル構造或いは S0I構造を 用いて実現できる。
[第 3変形例]
また更に、 本実施例の第 3変形例について述べる。 第 3変形例は、 M0Sトラン ジスタのリーク電流を最小にする基板バイアスとして用いられる所望の正の高電 圧を発生する場合の別の構成である。
ブロック構成は図 1 6と同じであり、 高電圧を発生する高電圧発生回路 1 2 1 と、 M0Sトランジスタのリーク電流を検出するリーク電流検出回路 1 2 2と、 高 電圧発生回路 1 2 1の出力を降圧する降圧回路 1 2 3とから構成されるが、 高電 圧発生回路 1 2 1としては正の高電圧を生成するために、 例えば、 図 9に示した 構成のチャージポンプを用いる。 高電圧発生回路 1 2 1の出力は、 vbgphとす る。
図 1 8に示すようにリーク電流検出回路 1 2 2は、 ゲート電圧を電源電位 Vdd とした PM0Sトランジスタと、 ゲート電圧を接地電位 VSSとした NM0Sトランジスタ とを直列に接続した N個の回路(CK CKTN) 2 6 1と、 N— 1個の比較器(CPi〜 CPN— 2 6 2と、 高電圧発生回路 1 2 1の出力電圧 vbgphと電源電圧とを分圧する 抵抗 2 6 4と、 比較器 2 6 2の出力をェンコ一ドするエンコーダ 2 6 3とから構 成される。 回路 2 6 1の各 PM0Sトランジスタの基板端子には、 抵抗 2 6 4にて分 圧された電圧がそれぞれ入力される。 比較器 2 6 2は、 回路 2 6 1内の隣合う 2 つの回路の出力電圧を比較し、 比較した 2つの回路の番号の若い方の出力電圧が もう一方の出力電圧より高ければ、 0を出力し、 逆に番号の若い回路の出力電圧 が低ければ、 1を出力する。
ここで、 M0Sトランジスタの.リーク電流は、 図 2 0に示すようなリーク特性を 持っているから、 比較器 2 6 2は、 比較器 1から比較器 X ( 0く Xく N)までは 0 を出力し、 リーク電流特性が逆転した回路を比較した比較器 X + 1から比較器 N までは 1を出力する。
エンコーダ 2 6 3は、 比較器 2 6 2の出力をエンコードし、 0から Nまでの値 を en信号として出力する。 en信号は検出した M0Sトランジスタのリーク電流情報 を持った信号である。 降圧回路 1 2 3は、 N段階に降圧する能力を持っており、 en信号を受けて、 高電圧発生回路 1 2 1で生成された正の高電圧 vbgph信号を en 信号に応じた電圧に降圧し、 vbgp信号として出力する。
以上の動作により、 本変形例は M0Sトランジスタのリーク電流を最小にする基 板バイアスとして用いられる所望の正の高電圧を発生する。 尚、 本変形例でも高 電圧発生回路 1 2 1を用いずに、 外部から直接高電圧を入力してもよい。 本変形 例は、 PM0S基板電圧を制御するため、 Nゥエルが分離されていればよいから、 ト リプルゥエル構造、 S0I構造、 或いは 2重ゥエル構造で実現可能である。
[第 4変形例]
更に、 本実施例の第 4変形例について図 1 9を用いて述べる。 第 4変形例は、 検出された負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御し、 かつ M0Sトランジスタ のリーク電流を最小に制御する基板バイアスとして、 正または負の高電圧を発生 する。 本変形例は図 1 9に示されるように、 チャージポンプ(CHP) 1 1、 発振器 (0SC) 1 2、 電圧制御回路(VCTL) 1 3、 負荷検出回路(LDET) 1 4、 リーク電流検 出回路 (LKDET) 8 1を備え、 負荷 1 6を駆動する。 本変形例は、 図 1に示した第 1の実施例の電圧センサ(VSE) 1 5を、 図 1 3に示した第 2の実施例で述べたリ ーク電流検出回路 8 1に置き換えたものであり、 リーク電流検出回路 8 1以外の 回路動作は第 1の実施例と同様である。
図 1 9の、 チャージポンプ 1 1、 発振器 1 2、 電圧制御回路 1 3、 負荷検出回 路 1 4の動作により、 第 1の実施例で述べたように、 負荷を検出し、 その検出さ れた負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御される。 さらに、 本実施例で説明 したように、 リーク電流検出回路 8 1でリーク電流が検出され、 リーク電流情報 を持った en信号を出力する。 この en信号を用いることにより、 本変形例では、 検 出された負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御し、 かつ M0Sトランジスタの リーク電流を最小に制御する基板バイアスとして、 正または負の高電圧を発生す る。 産業上の利用可能性
以上、 説明してきたように本発明では、 負荷を検出し、 その負荷の大きさに最 適な電流供給能力に制御される正または負の高電圧を、 電流供給能力に応じた消 費電力で発生する半導体集積回路装置を実現できる。
また、 本発明では、 M0S トランジスタのリーク電流を最小に制御する基板バイ ァスを発生する半導体集積回路装置を実現できる。 - 更に、 本発明では、 検出された負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御し、 かつ M0Sトランジスタのリーク電流を最小に制御する基板バイァスとして正また は負の高電圧を発生する半導体集積回路装置を実現できる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 正または負の高電圧を生成するチャージポンプと、 チャージポンプを駆動 するパルス信号を生成する発振器と、 発振器の電源電圧を制御する電圧制御回 路と、 チャージポンプの負荷の大きさを検出する負荷検出回路と、 チャージポ ンプの出力電圧を検出する電圧センサとを備える半導体集積回路装置であつ て、 前記チャージポンプを、 前記負荷検出回路で検出された負荷の大きさに最 適な電流供給能力に制御すると共に、 電流供給能力に応じた消費電力で、 正ま たは負の高電圧を発生することを特徴とする半導体集積回路装置。
2 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記チャージポンプは、 1個または複数個の容量と、 該容量とチャージボン プとを接続するスィッチと、 該スィッチを制御するデコーダとからなり、 前記 スィツチの切り替えによりチャージポンプの容量の大きさを変化させることを 特徴とする半導体集積回路装置。
3 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記発振器は、 CMOSインバータ回路と NAND回路とのループ接続からなり、 さ らに前記発振器の発振電圧、 あるいは発振周波数、 あるいはその両方の動作及 ぴ停止を制御するための信号を備えることを特徴とする半導体集積回路装置。
4 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記電圧制御回路は、 バイアス発生回路と、 電源と電圧制御回路出力の間に 並列に揷入された PM0Sトランジスタと NM0Sトランジスタを有し、 前記バイアス 発生回路の出力により前記 PM0Sトランジスタと前記丽 OSトランジスタのゲート 電圧が制御され、 降圧された電源電圧が出力されることを特徴とする半導体集
5 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記負荷検出回路は、 チャージポンプ出力電圧を 1個あるいは複数個の基準 電圧と比較し、 チャージポンプ出力電圧をレベル分けする比較器と、 前記発振 器のパルス信号の発振回数を計測する力ゥンタと、 該カゥンタで計測されたカ ゥント数が所定のカウント数に達した時の前記チャージポンプの出力電圧レべ ルを保持するレジスタとを有することを特徴とする半導体集積回路装置。
6 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記負荷検出回路は、 前記発振器のパルス信号の発振回数を計測するカウン タと、 計測されたカウント数を 1個あるいは複数個の基準カウント数と比較 し、 カウント数をレベル分けする第 1比較器と、 前記チャージポンプ出力電圧 を基準電圧と比較する第 2比較器と、 前記チャージポンプ出力電圧が基準電圧 に達した時のカウンタ数のレベルを保持するレジスタとを有することを特徴と する半導体集積回路装置。
7 . M0Sトランジスタのリーク電流を検出するリーク電流検出回路と、 CMOS LSI の基板端子にバイアス電圧を供給する基板バイアス発生回路とを有し、 前記リ • ーク電流検出回路の検出結果に基づいて前記基板バイアス発生回路が前記 M0Sト ランジスタのリーク電流を最小とする基板バィァス電圧を発生することを特徴 とする半導体集積回路装置。
8 . 請求の範囲第 7項記載の半導体集積回路装置において、
前記リーク電流検出回路は、 ゲート電圧を電源電位とした PM0Sトランジスタ と、 ゲート電圧を接地電位とした NM0Sトランジスタとを直列に接続した第 1及 ぴ第 2の回路と、 前記基板パイァス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧し 第 1及び第 2の電圧を生成する第 1及び第 2の抵抗と、 前記第 1及び第 2の回 路の PM0Sトランジスタと丽 OSトランジスタの各接続点の電圧を比較する比較器 とを有し、 前記第 1及び第 2の回路の各 NM0Sトランジスタの基板端子に前記基 板バイアス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧して生成した前記第 1及び 第 2の電圧をそれぞれ供給し、 前記基板バイアス発生回路の出力電圧の変化に 対する トランジスタのリーク電流の増減を検出することを特徴とする半導体集 積回路装置。
9 . 請求の範囲第 7項記載の半導体集積回路装置において、
前記リーク電流検出回路は、 グート電圧を電源電位とした PM0Sトランジスタ と、 グート電圧を接地電位とした丽 OSトランジスタとを直列に接続した第 1及 ぴ第 2の回路と、 前記基板バイアス発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧し 第 1及び第 2の電圧を生成する第 1及び第 2の抵抗と、 前記第 1及び第 2の回 路の PM0Sトランジスタと NM0Sトランジスタの各接続点の電圧を比較する比較器 とを有し、 前記第 1及び第 2の回路の各 PM0Sトランジスタの基板端子に前記基 板バイァス発生回路の出力電圧と電源電圧とを分圧して生成した前記第 1及び 第 2の電圧をそれぞれ供給し、 前記基板バイアス発生回路の出力電圧の変化に 対するトランジスタのリーク電流の増減を検出することを特徴とする半導体集
1 0 . 請求の範囲第 7項記載の半導体集積回路装置において、
前記基板バイアス発生回路は、 動作及び停止を制御する機能を備えた発振器 と、 前記発振器出力を受けて基板バイアスを発生するチャージポンプとを有 し、 前記リーク電流検出回路の検出結果を受けて、 前記発振器の動作及び停止 を制御することにより、 所要の高電圧を発生させることを特徴とする半導体集 積回路装置。
1 1 . M0Sトランジスタのリーク電流を検出するリーク電流検出回路と、 高電圧 を発生する高電圧発生回路と、 高電圧発生回路の出力電圧を降圧して CMOS LSI の基板端子にバイアス電圧を供給する降圧回路とを有し、 前記リーク電流検出 回路の検出結果に基づいて前記 M0Sトランジスタのリーク電流を最小に制御する 基板バイアスを前記基板端子に供給することを特徴とする半導体集積回路装 置。
1 2 . 請求の範囲第 1 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記リーク電流検出回路は、 グート電圧を電源電位とした PM0Sトランジスタ と、 ゲート電圧を接地電位とした NM0Sトランジスタとを直列に接続した複数個 の回路と、 前記高電圧発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧して複数種の電 圧を生成するために直列接続した複数個の抵抗と、 PM0Sトランジスタと NM0Sト ランジスタの接続点の電圧を比較する比較器を複数個と、 該複数個の比較器の 出力をェンコ一ドするエンコーダを有し、 前記複数個の NM0Sトランジスタの基 板端子に前記高電圧発生回路の出力電圧と接地電位とを分圧して生成した複数 種の電圧をそれぞれ供給してトランジスタのリーク電流を最小に制御する基板 バイアスを検出することを特徴とする半導体集積回路装置。
1 3 . 請求の範囲第 1項記載の半導体集積回路装置において、
前記電圧センサに代えて M0S トランジスタのリーク電流を検出するリーク電 流検出回路を設け、 前記チャージポンプを、 前記負荷検出回路により検出され た負荷の大きさに最適な電流供給能力に制御すると共に、 前記リーク電流検出 回路の検出結果により前記正または負の高電圧を M0S トランジスタのリーク電 流を最小にする基板バイアス電圧に制御することを特徴とする半導体集積回路
1 4 . 請求の範囲第 7項に記載の半導体集積回路装置において、
前記 M0Sトランジスタのリーク電流は、 ゲート、 ソース間電圧を 0 Vとしてト ランジスタをオフ状態にした時の、 基板印加電圧に依存して増減する電流であ つて、 サブスレツショルド電流、 PN接合電流、 及ぴ Gate Induced Drain Leakage電流を含む電流であることを特徴とする半導体集積回路装置。
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