WO2004029030A1 - ピリミジン誘導体およびそれを含有する除草剤 - Google Patents

ピリミジン誘導体およびそれを含有する除草剤 Download PDF

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WO2004029030A1
WO2004029030A1 PCT/JP2003/012289 JP0312289W WO2004029030A1 WO 2004029030 A1 WO2004029030 A1 WO 2004029030A1 JP 0312289 W JP0312289 W JP 0312289W WO 2004029030 A1 WO2004029030 A1 WO 2004029030A1
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group
atom
alkyl
alkoxy
alkyl group
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Application number
PCT/JP2003/012289
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English (en)
French (fr)
Inventor
Takashi Kuragano
Hajime Ikeda
Original Assignee
Sumitomo Chemical Takeda Agro Company, Limited
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/30Halogen atoms or nitro radicals
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/541,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines

Definitions

  • the present invention relates to pyrimidine derivatives and herbicides containing the same.
  • the pyrimidine derivative of the present invention has an excellent herbicidal action against paddy field weeds and upland field weeds, and is there any phytotoxicity against cultivated crops of useful plants such as rice, wheat, barley, corn, cotton, and soybeans? Or it is light and can be used as an excellent selective herbicide for paddy fields and fields.
  • an object of the present invention is to provide a pyrimidine herbicide exhibiting excellent selective herbicidal activity. More specifically, the weed killing effect on weeds High, on the other hand, has low phytotoxicity to crops such as rice, wheat, barley, corn, cotton, soybean, and has low environmental pollution such as low toxicity and low persistence to mammals and seafood. An object of the present invention is to provide a pyrimidine herbicide which has properties such as easy formulation.
  • the present inventors have conducted intensive studies with the aim of developing a selective herbicide that exhibits excellent herbicidal activity and does not cause harm to crops.As a result, the present inventors succeeded in creating a novel pyrimidine derivative or a salt thereof, and previously applied for a patent. (Patent Technical Documents 2 and 3). The present inventors have conducted various studies based on the M invention, and as a result, have completed the present invention.
  • R 1 represents a 6 haloalkyl group or a Ci- 6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • P 1 represents a cyano group or a halogen atom
  • Q 1 represents a hydrogen atom; Shiano group; _ 6 alkyl group; C 3 - 6 cycloalkyl Le group, a hydroxyl group, a mercapto group, - 6 alkoxy groups; - 6 alkoxy one C, _ 4 alkoxy group; C 3 - 6 cycloalkyl Okishi group; - 6 Haroaru Kokishi groups; C 2 _ 6 Arukeniruokishi groups; C 2 _ 6 haloalkenyl O dimethylvinylsiloxy groups; C 2 _ 6 Arukiniruokishi group; C 6 - i.
  • a cyclic amino group optionally containing 1 or 2 atoms selected from an oxygen atom, a zirconium atom and a nitrogen atom; or a general formula (7)
  • Y represents an oxygen atom, a zeo atom or one N—R 13 ,
  • R 11 is a hydrogen atom or. Represents a 6 alkyl group
  • R 12 is a hydrogen atom, — 6 alkyl group, — 6 haloalkyl group, C 3 _ 6 cycloalkyl group, C 2 — 6 alkenyl group, C 2 — 6 haloalkenyl group, C 2 — 6 alkynyl group, C 6 — i.
  • Aralkyloxycarbonyl— represents a CL- 4 alkyl group
  • Hydrogen atom, C, R 1 3 is - G alkyl group, - 6 alkoxy - _ 4 ⁇ alkyl group, - 7 Arukanoiru group, C 7 -, i ⁇ reel carbonyl group, c 2 It represents a 7 haloalkenyl O carboxymethyl Cal Po two group, - _ 7 alkoxycarbonyl group, C 2 7 haloalkoxy force Ruponiru group or C 3
  • R 1 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or - represents an alkyl group
  • R 1 5, R 1 6 is a each independently represent a hydrogen atom; C, _ 6 alkyl group; C 2 _ 6 alkenyl; C 2 6 alkynyl; C 3 6 cycloalkyl group;
  • R 2 is - optionally substituted with 6 haloalkyl group or a halogen atom (: represents Bok 6 alkoxy group,
  • P 2 represents a cyano group or a halogen atom
  • n represents an integer of 0 to 2
  • Scale 21 and 22 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, Al kill group, - it represents 7 Arukanoiru group, a C 7 Ariru force Ruponiru group or C 2 _ 7 haloalkoxy group.
  • W 1 represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 2 4, - a group represented by (wherein, R 24 represents a hydrogen atom, C t 6 alkyl group, C 2 _ G Represents an alkenyl group or an alkoxy group.
  • R 24 is combined with the nitrogen atom and R 23 to form a 5- to 6-membered heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms and 0 to 1 oxygen atom. It may be. ).
  • R 23 is a hydrogen atom; - 6 alkyl group; _ 6 haloalkyl groups; C 3 - 6 cycloalkyl group; C 2 6 alkenyl group; C 2 6 haloalkenyl; C 2 - 6 alkynyl; C 6 - i Q
  • R 3 represents a Cis alkyl group optionally substituted with a halogen atom or a d-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • Ha 1 1 represents a halogen atom
  • Q 3 are hydrogen atom, Shiano group, alkyl group, C 3 6 cycloalkyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, _ 6 alkoxy group, - 6 alkoxy C, _ 4 alkoxy group, C 3 6 cycloalkyl O alkoxy group, — 6 haloalkoxy, C 26 alkenyloxy, C 26 haloalkenyloxy, C 2 _ 6 alkynyloxy, C 6 _.
  • Y represents an oxygen atom, a zeo atom or N—R 13 ,
  • Y ' represents an oxygen atom or a yodo atom
  • R 11 represents a hydrogen atom or a _ 6 alkyl group
  • R 1 2 is hydrogen atom, - 6 alkyl group, - 6 haloalkyl group, C 3 - 6 cycloalkyl group, C 2 6 alkenyl, C 2 _ 6 haloalkenyl group, C 2 - 6 alkynyl group, C 6. Ariru group, C 7 2 Ararukiru group,
  • ⁇ 4 alkyl groups or C 8 _! 3 represents ⁇ Lal kill O carboxymethyl carbonylation Lou _ 4 Al kill group
  • R 1 3 is a hydrogen atom, d 6 alkyl group, CL - 6 alkoxy - - 4 ⁇ alkyl group, - 7 Arukanoiru group, c 7 -] i ⁇ reel carbonyl group, c 2 ⁇ 7 alkoxycarbonyl group, C 2 _ 7 haloalkoxyl ponyl group or C
  • 3 _ 7 represents a haloalkenyloxycarbonyl group
  • R 1 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or - represents an alkyl group, a R 1 5, R 1 6 are each independently a hydrogen atom; C 6 alkyl radical; C 2 6 alkenyl group; C 2 _ 6 alkynyl group; C 3 6 cycloalkyl group; C, _ 6 alkoxy - _ 4 alkyl group; C 7 _!
  • X 1 is, C, _ 6 alkyl group, - 6 haloalkyl group, C 3 - 6 cycloalkyl group, C 2 - 6 alkenyl group, C 2 - 6 C Roarukeniru groups, C 2 -.
  • 6 represents an alkynyl group, C 6 _ i Ariru group or c 7 _ x 2 Ararukiru group, X 2 Is a hydrogen atom, — 6 alkyl group, C — 6 haloalkyl group, c 2 _ 6 alkenyl group, C 2 _ 6 haloalkenyl group or C
  • R 4 is a haloalkyl group, P 4 is a cyano group, and Q 4 is a hydroxyl group, a mercapto group, one OX — SX -NHS 0 2 X one N (COX 1 ) S ⁇ 2 X 1 or one OCH ( X 2 ) COOX 1 (wherein X 1 and X 2 are the same as defined above),
  • R 4 is an alkyl group
  • P 4 is a halogen atom
  • Q 4 represents an isopropoxycarbonyl group
  • R is a C ⁇ 6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • P 4 is a cyano group
  • Q 4 is -N (COR 31 ) S ⁇ 2 R 32 (wherein R 31 is or R 32 is a methyl group at C! _ 6 alkyl group, or R 32 R 31 is in C 3 one alkyl group is a Echiru group.), one N (COOR 33) S0 2 R 34 (wherein , R 33 is C, and _ G alkyl group or R 34 is a methyl group or R 33 is C 2 _ 6 alkyl, And R 34 is an ethyl group.
  • N (R 35) S0 2 R 36 (wherein, R 35 is C 2 -. 6 alkynyl group, R 36 is a methyl group) or - N (R 37) S_ ⁇ 2 R 38 (wherein , R 37 may be substituted by a halogen atom - 6 alkyl group, optionally substituted with C androgenic atom C 2 - 6 alkenyl group or Ci be substituted by a halogen atom - 6 alkoxymethyl group , R 38 is a _ 6 alkyl group.) Or
  • R 4 is a 6 alkoxy group which may be substituted with a halogen atom, P 4 is a halogen atom, and Q 4 represents an isopropoxy group.
  • R 5 represents an alkyl group optionally substituted with a halogen atom or an alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • Ha 1 2 and Ha 1 3 represents a halogen atom independently,
  • Q 5 is one of S ⁇ 2 X 5 (X 5 is a cyclic amino group optionally containing one or two atoms selected from an oxygen atom, a zeo atom and a nitrogen atom, and one or two nitrogen atoms containing from 3 to 6-membered heterocyclic group, N- C 2 - 7 Arukanoiru - N-C! — 6 alkylamino group, N—C 2 — 7 alkanoylamino group, N—C 2 _ 7 alkoxycarbonyl C—, alkylamino group or formula (11)
  • n represents an integer of 0 to 2
  • R 1 1 Contact good beauty
  • R 1 1 'represents the same or different connexion hydrogen atom or _ 6 alkyl group.
  • a group represented by. ⁇ represents a group represented by ],
  • R 6 represents an alkyl group optionally substituted with a halogen atom or an alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • Ha 1 4 and Ha 1 5 represents a halogen atom independently
  • Q 6 is a hydrogen atom; Shiano group; - 6 alkyl group; C 3 _ 6 cycloalkyl Le group, a hydroxyl group, a mercapto group, - 6 alkoxy groups; Ci _ 6 alkoxy d 4 alkoxy group; C 3 _ 6 cycloalkyl O alkoxy groups; - 6 Haroaru Kokishi groups; C 2 _ 6 Arukeniruokishi groups; C 2 _ 6 haloalkenyl O dimethylvinylsiloxy groups; C 2 one 6 Arukiniruokishi group; C 6.
  • Y represents an oxygen atom, a y ⁇ atom or — ⁇ —R 13 ,
  • R 1 1 is hydrogen atom or - represents an alkyl group
  • R 12 is a hydrogen atom, — 6 alkyl group, — 6 haloalkyl group, C 3 _
  • C 8 _! 3 represents ⁇ Lal kill O alkoxycarbonyl _Ci one 4 Al kill group
  • R 1 3 is a hydrogen atom, Ci - 6 alkyl group, - 6 alkoxy one _ 4 ⁇ alkyl group, - 7 Arukanoiru group, c 7 _ ii Arirukarubo sulfonyl group, c 2
  • 3 - 7 represents haloalkenyl O carboxymethyl carbonylation group
  • R 1 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or - represents an alkyl group
  • R 1 5, R 1 6 is a independently a hydrogen atom; _ 6 alkyl group;
  • R 1, C: _ 6 haloalkyl group or an optionally substituted alkoxy group with a halogen atom
  • P 1 represents a cyano group or a halogen atom
  • Q 1 ' is a hydroxyl group, a mercapto group, _OX -SX -NHS 0 2 X-I N (COX 1 ) SC ⁇ X 1 or — OCH (X 2 ) COOX 1 (where X 1 is C, 1 6 alkyl Group, — 6 haloalkyl group, C 3 — 6 cycloalkyl group, C 2 _
  • Ariru group or C 7 - represents x 2 Ararukiru group, X 2 is a hydrogen atom, C
  • R 2 represents a C, _ 6 haloalkyl group or an optionally substituted alkoxy group with a halogen atom
  • P 2 represents a cyano group or a halogen atom
  • X 3 ′ is a hydrogen atom, a Ci _ 6 alkyl group, a — 6 haloalkyl group, a C 3 _ 6 cycloalkyl group, a C 2 _ 6 alkenyl group , C 2 - 6 haloalkenyl group, C 2 - 6 alkynyl group,
  • R 3 represents an alkyl group optionally substituted with a halogen atom or an alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • Q 3 ′ is a hydroxyl group, a mercapto group, — OX — SX 1 or mono-CH (X 2 ) COOX 1 (where X 1 is a C x _ 6 alkyl group, C t — 6 haloalkyl group, C
  • C 2 - 6 alkynyl group, c 1 0 Ariru group or C 7 - 1 represents a 2 Ararukiru group,
  • X 2 is a hydrogen atom, Ci - 6 alkyl group, - 6 eight-necked alkyl group,
  • R 6 represents an alkyl group optionally substituted with a halogen atom or a 6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
  • Q 6 ′ is a hydroxyl group, a mercapto group, ⁇ -SX 1 , —NHSC ⁇ X 1 , —N (COX 1 ) SOsX 1 or ⁇ CH (X 2 ) COOX 1 (where X 1 is _
  • R 1 '' represents a difluoromethyl group
  • ⁇ 1 "represents a cyano group
  • Q 1 is methoxy, propargyloxy, ethoxycarbonylmethoxy, A methylsulfonylamino group or an ethylsulfonylamino group which may have an acetyl group on nitrogen.
  • the compound represented by the general formula (2) is represented by the general formula (2 '')
  • R 2 '' represents a difluoromethyl group
  • P 2 "represents a chlorine atom
  • R 3 '' represents a Jifuruoromechiru group
  • Ha 1 1 represents a chlorine atom or odor atom
  • Q 3 ′′ represents a hydroxyl group, an isopropoxy group, a propargyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a methylsulfonylamino group or an ethylsulfonylamino group.
  • R 4 ′′ is a difluoromethyl group
  • P 4 ′′ is a chlorine atom
  • Q 4 ′′ is an isopropoxy group, a propargyloxy group, an ethoxycarbonylmethoxy group, an ethoxycarbonyl group, a methylsulfonyla Represents an amino group or an ethylsulfonylamino group
  • R 4 '' represents a difluoromethyl group
  • P 4 '' represents a cyano group
  • Q 4 '' represents an ethylsulfonylamino group
  • R 4 '' represents a methyl group
  • P 4 represents a chlorine atom
  • Q 4 '' represents an isopropoxyl propyl group
  • R 4 ′′ is a methoxy group
  • P 4 is a chlorine atom
  • Q 4 ′′ is an isopropoxy group
  • R 4 ′′ is a methoxy group
  • P 4 is a cyano group
  • Q 4 ′′ is a substituent on the nitrogen such as propyl, aryl, propargyl, methoxymethyl, acetyl, propionyl
  • R 5 '' represents a Jifuruoromechiru group
  • Ha 1 2 and Ha 1 3 represents a chlorine atom or a bromine atom and independent
  • Q 5 ′′ is —SO 2 X 5 ′ (X 5 ′ represents an acetylamino group, a methoxyacetylamino group, a butyrylamino group, an isoptyrylamino group, a methoxycarbonylamino group or an ethoxycarbonylamino group. ).
  • R 6 '' represents a Jifuruoromechiru group
  • Ha I 4 represents a chlorine atom or odor atom
  • Ha 1 5 represents a bromine atom or a fluorine atom
  • Q 6 ′′ represents a methoxy group, a propargyloxy group, an ethoxycarbonylmethoxy group, a methylsulfonylamino group or an ethylsulfonylamino group.
  • the compound of the present invention or a salt thereof has an excellent herbicidal action against a wide range of weeds, for example, paddy weeds, field weeds and the like at a low dose.
  • cultivated plants such as rice, Low phytotoxicity to wheat, barley, corn, soybeans, cotton, etc., showing excellent selective herbicidal effect.
  • the selective weeding effect lasts for a long time. It has low toxicity to mammals and seafood, and can be used very safely as a herbicide for paddy fields, fields, orchards or non-agricultural land without polluting the environment.
  • the compound of the present invention or a salt thereof is easily formulated as a herbicide.
  • examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • C, as the _ 6 alkyl groups may be linear or branched, for example methylation, Echiru, n- propyl, isopropyl, n- butyl, isobutyl, sec-butyl, tert- butyl, n- pentyl, sec —Pentyl, isopentyl, neopentyl, n-hexyl, isohexyl and the like.
  • Flip E is substituted with _ 6 haloalkyl group or a halogen atom -
  • the 6 Al kill group for example, chloromethyl, Promo methyl, 1 _ Kuroroechiru, triflumizole Ruo Russia methyl and the like.
  • Nitrogen atom, to 1 is selected from oxygen atom and Iou atom substituted with two atoms containing 5 _ 6-membered heterocycle -
  • the 4 alkyl group e.g., 4-pyridylmethyl, 2 - furylmethyl , 2-thiophene methyl and the like.
  • C 2 _ 6 alkenyl group for example, aryl, 1-buten-3-yl, 3-buten-1-yl and the like can be mentioned.
  • C 2 - Examples 6 haloalkenyl group, 2-chloro-2-propene one 1-I le, and the like.
  • aryl groups include phenyl, naphthyl and the like.
  • Examples of the C 7 — x 2 aralkyl group include benzyl, phenethyl and the like.
  • _ 6 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n- Provo alkoxy, Isopurobokishi, n- butoxy, isobutoxy and the like.
  • Examples of the C 6 -alkoxy group substituted with a C, — 6 haloalkoxy group or a halogen atom include trifluoromethoxy and the like.
  • the 6 cycloalkyl O alkoxy group for example, cycloprothrin pyrrol O key sheet, cyclobutyl O carboxymethyl include cyclopentyl Ruo carboxymethyl like.
  • the 6 haloalkenyl O alkoxy group for example, 2-black hole - - C 2 2-propene - 1 Iruokishi the like.
  • the 6 Arukiniruokishi group for example, propargyl O carboxymethyl, 2-butyne - - C 2 1 one Iruokishi, 3 - butyn - 2 Iruokishi the like.
  • aryloxy group examples include phenoxy and naphthyloxy.
  • the 2 Ararukiruokishi group for example, Benjiruokishi, Fuene Chiruokishi and the like.
  • the C x _ 6 alkylthio such as methylthio, Echiruchio, n- propylthio, isopropylthio, sec - Puchiruchio, n- pentylthio, and the like.
  • the 6 alkenylthio group for example, Ariruchio, 1-butene one 3 - - C 2 Iruchio, 3-buten - 1 - Iruchio the like.
  • the 6 Haroaruke two thio group for example, 2 _ chloro 2-Purobe emissions - - C 2 1-Iruchio the like.
  • the 6 alkynylthio for example, propargylthio, 2-Petit emissions - - C 2 1 Iruchio, 3-butyn - 2 Iruchio the like.
  • arylthio group examples include phenylthio, naphthylthio and the like.
  • the C 7 _ 1 2 Ararukiruchio group e.g., benzylthio, phenethyl Chio and the like.
  • C as the _ 6 alkylsulfonyl group, for example, methylsulfonyl, E Ji Rusuruhoniru, n- propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n- butyl Rusuruhoniru, iso-butylsulfonyl, sec over butylsulfonyl, tert
  • the 6 cycloalkylsulfonyl group e.g., cyclopropyl scan Ruhoniru, cycloalkyl cycloheptyl sulfonyl, Ru include cyclopentylsulfonyl like.
  • haloalkylsulfonyl group e.g., chloromethyl sulfonyl, triforine b methylsulfonyl and the like.
  • the C 2 _ 6 ⁇ Luque sulfonyl sulfonyl group e.g., Arirusuruhoniru, main evening Rirusuruhoniru the like.
  • the C 2 _ 6 haloalkenyl sulfonyl group e.g., 2-chloro-2-propene one 1- Irusuruhoniru the like.
  • the 'C 2 _ 6 alkynylsulfonyl group includes, for example, propargylsulfonyl and the like.
  • arylsulfonyl group examples include phenylsulfonyl, naphthylsulfonyl and the like.
  • _ 7 Arukanoiru group e.g., formyl, Asechiru, propionitrile, cycloalkenyl, Puchiriru, Isopuchiriru, Pentanoiru, Kisanoiru like to.
  • Examples of the c 2 _ 7 alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n_propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl and the like.
  • Ruponiru group e.g., chloromethoxy Cal Poni Le, Promo methoxycarbonyl include (1 one black hole) ethoxycarbonyl.
  • the 7 alkenylcarbonyl O alkoxycarbonyl group for example, Ariruokishi force Ruponiru, 1 - - C 3 butene - 3 - I Ruo butoxycarbonyl, 3-buten - 1 _ Iruo butoxycarbonyl, and the like.
  • the 7 haloalkenyl O alkoxycarbonyl group e.g., 2-black hole - - C 3 2-propene - 1 over I Ruo carboxymethyl cull Poni Le and the like.
  • the arylcarbonyl group includes, for example, benzoyl, naphthalenecarbonyl and the like.
  • alkynyl O carboxy Cal Poni group for example, Puroparugiruo Xycarbonyl, 2-butyn-1-yloxycarbonyl, 3-butyn-2-yloxycarbonyl and the like can be mentioned.
  • the C x _ 6 alkoxy _ d _ 4 alkylthio group for example, methoxy, methylthio, ethoxy methyl thio, methoxy E Ji thio, and the like.
  • the 4 alkoxy group for example, Metokishime butoxy, ethoxy-methoxy, n- Provo alkoxy methoxy, i- Purobokishimetoki sheet, n - - C 1 _ 6 alkoxy - butoxymethoxy and the like.
  • Arukeniruokishi -C i _ 4 alkyl group for example, Ariru Okishimechiru, 1 _ butene one 3 _ Iruokishimechiru, 3-butene-_ 1 _ Iruo Kishimechiru the like.
  • the C 2 _ 6 Arukiniruokishi one _ 4 alkyl group for example, prop-Le Gill O carboxymethyl, 2-butyne - 1 one ⁇ gamma Ruokishimechiru include 3 _ Buchin 1 Iruokishimechiru like.
  • the 6 cycloalkoxy -C i _ 4 alkyl group, such as cyclopropyl O carboxymethyl include cyclobutylmethyl O carboxyethyl and the like.
  • the _ 4 alkyl group for example, main Toki deer Lupo methylpropenylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, iso-propoxy-carbonitrile Nirumechiru, sec _ butoxycarbonylmethyl, 1 i (methoxy local Poni Le) Echiru like.
  • alkynyl O carboxy Cal Poni Le -d _ 4 alkyl group for example examples include propargyloxyl-ponylmethyl, 2-butyne-11-yloxycarbonylmethyl, 3-butyn-2-yloxycarbonylmethyl, and the like.
  • the 7 haloalkenyl O alkoxycarbonyl _ C i _ 4 alkyl group e.g., 2-black hole - - C 3 2-propene - 1 I Ruo alkoxycarbonylmethyl like are exemplified up.
  • Examples 4 alkoxy group for example, methoxycarbonyl methoxy, ethoxy Cal Poni Le methoxy, n- propoxy carbonyl methoxy, isopropoxycarbonyl methoxy, n- Butokishikaru Ponirumetokishi, isobutoxide deer Lupo methoxy, sec - butoxycarbonyl Nilmethoxy, tert-butoxycarbonylmethoxy, n-pentyloxyl-proponylmethoxy, 1- (methoxycarbonyl) ethoxy, 1- (ethoxyl-l-ponyl) ethoxy and the like.
  • alkoxy groups in example embodiment, ⁇ Lil O alkoxycarbonyl-methoxy, 1 - butene - 3 - Iruokishikarupo Nirumetokishi, 3-butene-one 1 over I Ruo alkoxycarbonyl methoxy etc. No.
  • alkylthio groups for example, methoxy, methylthio, ethoxy methyl thio, methoxy E Ji thio, and the like.
  • the 4 alkyl group for example, methylation sulfonyl methyl, E chill sulfonyl methyl and the like.
  • cyclic amino group optionally containing one or two selected from an oxygen atom, a zirconium atom and a nitrogen atom, for example, a morpholino group, a pyrrolidino group, a piperidino group and the like can be mentioned.
  • Examples of the 3- to 6-membered heterocyclic group containing 1 to 2 atoms selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and an oxo atom include, for example, an oxilanyl group, an oxenyl group, a 2-oxooxenyl group, Tetrahydrofuryl group, 2-oxotetrahydrofuryl group, furyl group, chenyl group, pyrrolyl group, pyrrolidinyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, imidazolyl group, isooxazolyl group, isothiazolyl group, pyrazolyl group, tetrahydropyranyl group, 2- Oxotetrahydropyrael, pyridyl, piperidyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, birazinyl, morpholinyl, piperazinyl, 1,3,5-triazinyl, 1,2,4-tri
  • Examples of the 5- to 6-membered heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms and 0 to 1 oxygen atom include: 1-pyrrolidinyl group, 1-pyrrolyl group, 2-isoxazolidinyl group, 1-pyrazolyl Groups, 1-imidazolyl group, 1-piperidyl group, 4-morpholinyl group, perhydro-1,2-oxazine-12-yl group, 1-pirazinyl group and the like.
  • the compounds represented by the general formulas (1) to (6) include all compounds in which groups selected arbitrarily from each of the above symbols are combined. Particularly preferred compounds include the following. Compounds.
  • R 1 is a 6- haloalkyl group, particularly preferably a difluoromethyl group, P 1 is particularly preferably a cyano group, and Q 1 is a hydroxyl group, a 6- alkoxy group, C 2 _ 6 alkenyloxy group, C 26 alkynyloxy group, Ci 6 alkoxycarbonyl Ci_ 4 alkoxy group or alkylsulfonylamino group which may have a substituent on nitrogen, particularly preferably Methoxy, propargyloxy or ethoxycarbonylmethoxy, and a compound represented by the general formula (1), which is methylsulfonylamino or ethylsulfonylamino which may have an acetyl group on nitrogen.
  • R 2 is a 6- haloalkyl group, particularly preferably a difluoromethyl group
  • P 2 is a halogen, particularly preferably chlorine
  • Q 2 is a formyl group, a cyano group
  • CH NOX 3 ′′
  • R 3 is a C E alkyl group optionally substituted by a halogen atom, particularly preferably a Jifuruoromechiru group
  • Q 3 is a hydroxyl group, an alkoxy group, C 2 _ 6 Arukeniruokishi group, C 2 _ 6 alkynyloxy group, alkoxycarbonyl (e.g., alkoxy group or alkylsulfonylamino group, etc., particularly preferably, hydroxyl group, isopropoxy, propargyloxy, ethoxycarbonylmethoxy, methylsulfonylamino or A compound represented by the general formula (3), which is tylsulfonylamino.
  • R 4 is a 6- haloalkyl group, particularly preferably a difluoromethyl group
  • P 4 is a halogen or cyano group, particularly preferably a chlorine or cyano group. If P 4 is chlorine, Q 4 is, C 6 alkoxy group, C 2 _ 6 Al Keniruokishi group, a C 2 _ 6 Arukiniruokishi group, alkoxy force Lupo sulfonyl ⁇ _ 4 alkoxy or C 6 alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl ⁇ amino group, particularly preferably Isopurobokishi, propargyl O alkoxy, E butoxy Carponylmethoxy, ethoxycarbonyl, methylsulfonylamino or ethylsulfonylamino, and when P 4 is a cyano group, Q 4 is an alkylsulfonylamino group, particularly preferably ethyl
  • R 4 is an alkyl group, particularly preferably a methyl group
  • P 4 is an octogen, particularly preferably chlorine
  • Q 4 is an isopropoxyl haponyl group.
  • R 4 is an alkoxy group which may be substituted by halogen, particularly preferably a methoxy group, and P 4 is a rho, logen, cyano group, and particularly preferably a chlorine or cyano group.
  • P 4 is chlorine
  • Q 4 is an isopropoxy group
  • P 4 is a cyano group
  • Q 4 is a methylsulfonylamino group having a substituent on the nitrogen
  • the substituent is particularly preferably a propyl group, an aryl group, a propargyl group, a methoxymethyl group, an acetyl group, a propionyl group, a ptyryl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group or a propyloxycarbonyl group.
  • ethylsulfonylamino group having a substituent on the nitrogen, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, a ptyryl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, or an aryl group.
  • R 5 is a 6- alkyl group which may be substituted by halogen, particularly preferably a difluoromethyl group, and Q 5 is —SO 2 X 5 (X 5 is the same as defined above.) And particularly preferably a general formula wherein X 5 is an acetylamino group, a methoxyacetylamino group, a butyrylamino group, an isoptyrylamino group, a methoxycarbonylamino group or an ethoxycarbonylamino group.
  • R 6 may be substituted with halogen (a ⁇ -6 alkyl group, particularly preferably a difluoromethyl group, and Q 6 represents an alkoxy group, a C 2 _ 6 alkenyloxy group, 26 alkynyloxy group, Ci-e alkoxycarbonyl ( ⁇ alkoxy group or alkylsulfonylamino group, etc., particularly preferably methoxy, propargyloxy, ethoxycarbonylmethoxy, methylsulfonylamino or A compound represented by the general formula (6), which is tylsulfonylamino.
  • halogen a ⁇ -6 alkyl group, particularly preferably a difluoromethyl group
  • Q 6 represents an alkoxy group, a C 2 _ 6 alkenyloxy group, 26 alkynyloxy group, Ci-e alkoxycarbonyl ( ⁇ alkoxy group or alkylsulfonylamino group, etc., particularly preferably
  • the compound of the present invention can form an agrochemically acceptable base addition salt in which an acidic group such as a sulfo group or a propyloxyl group in a substituted moiety in a molecule is combined with an inorganic base, an organic base, or the like.
  • a basic group such as a basic nitrogen atom in a molecule and an amino group in a substituent can form an agrochemically acceptable acid addition salt with an inorganic acid or an organic acid.
  • Inorganic base salts include, for example, salts with alkali metals (eg, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (eg, calcium, etc.), ammonia, and the like.
  • Organic base salts include, for example, dimethylamine, Triethylamine, N, N-dimethylaniline, piperazine, pyrrolidine, piperidine, pyridine, 2-phenylethylamine, benzylamine, ethanolamine, diethanolamine, 1,8-diazabicyclo [5 , 4, 0] —7-Pendecene (hereinafter abbreviated as DBU) and the like.
  • DBU 1,8-diazabicyclo [5 , 4, 0] —7-Pendecene
  • Examples of the inorganic acid addition salts of the compounds (1) to (6) include salts with hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, perchloric acid, and the like.
  • organic acid addition salts of (6) to (6) include salts with formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, succinic acid, benzoic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid and the like. It is.
  • the compound of the present invention or a salt thereof can be used as an agricultural chemical having excellent safety, for example, a herbicide.
  • herbicides for example, very low Extensive range of weeds by medicinal quantity, for example, Tainubiye, evening magayari, inuihoru, konagi, perica, matsubaye, mizugayari, kurogwai, heramodaka, omomodaka, evening iwanyamai, azena, kikashidasa, hirumiushi evening, chiyouji evening Paddy field weeds such as Zohakobe, Mehishiba, Enokorogusa, Aobu, Ichibi, Akaza, Inuyude, Suberihyu, American Godziga, Shirobanachiyosenasagao, Malvaasagao, Oonamomi, Himenuiboshi, Komassimagi, Ossamagosbi , Umanochi
  • the compound of the present invention or a salt thereof exhibits an excellent selective herbicidal effect between crops and various weeds, is low toxic to mammals and seafood, does not pollute the environment, and is suitable for paddy fields and fields. It can be used very safely as a herbicide for orchards or non-agricultural land.
  • one or more of the compounds or salts thereof may be used according to the purpose of use, that is, a form that can be taken by a general pesticide.
  • a suitable solid carrier e.g. emulsions, oils, sprays, wettable powders, powders, DL (driftless) powders, granules, Used as preparations such as fine granules, fine granules F, flowables, dry flowables, jumbo granules and tablets.
  • these preparations may contain, for example, an emulsifier, a dispersant, a spreading agent, a penetrant, a wetting agent, a mucilage, a stabilizer and the like, and can be prepared by a method known per se.
  • the liquid carrier (solvent) used include water, alcohols (eg, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, ether glycol), ketones (eg, acetone, methylethyl ketone, etc.).
  • Ethers eg, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono) Methyl ether, etc.
  • aliphatic hydrocarbons eg, kerosene, fuel oil, machine oil, etc.
  • aromatic hydrocarbons eg, benzene, toluene, xylene, solvent naphtha, methyl naphthalene, etc.
  • halogenated hydrocarbons Eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc.
  • acid amides eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.
  • esters eg, ethyl acetate, butyl acetate, fatty acid glycerin ester, etc.
  • nitriles Suitable solvents are, for example, acetonitrile, propionitrile and the like, and these are used
  • Solid carriers include vegetable powders (eg, soybean flour, tobacco flour, flour, wood flour, etc.) and mineral powders (eg, kaolin, bentonite, acid clay, clay, etc.) Talc, talc powder, talc powder, silica powder, diatomaceous earth, mica powder, etc.), alumina, sulfur powder, activated carbon, etc., and one or more of these are mixed in an appropriate ratio To use.
  • the liquid carrier or solid carrier can be used usually in an amount of about 1-99% by mass, preferably about 1-80% by mass, based on the whole preparation.
  • E A142 TM, TM is similarly shown to below that registered trademark; manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.), polyoxyethylene ⁇ reel esters (e.g., Nonal TM; Toho chemical Co., Ltd.) Alkyl sulfates (for example, Emul 10 TM and Emal 40 TM ; manufactured by Kao Corporation) Alkyl sulfonates (for example, Neogen TM , Neogen T TM ; Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Neo downy Rex TM; manufactured by Kao Corporation), polyethylene glycol ethers (e.g., Nonipol 8 5 TM, Nonipo Lumpur 1 0 0 TM, Nonipol 1 6 0 TM; Sanyo Kasei Co., Ltd.), a polyhydric alcohol ester lekind (for example, Tween Non-ionic and anionic surfactants such as 20 TM , Tween 80 TM ; manufactured by
  • the surfactant is usually used in an amount of about 0.1 to about 0.1 to about the entire preparation. About 50% by mass, preferably about 0.1 to 25% by mass Degree can be used.
  • the content of the compound of the present invention or a salt thereof in a herbicide is preferably about 1 to 90% by mass in the case of an emulsion or a wettable powder, and is suitable for oils, powders, and DL (driftless) type powders. Approximately 0.01 to 10% by mass is appropriate, and approximately 0.05 to 10% by mass is appropriate for the fine granules F and granules. However, depending on the purpose of use, these concentrations may be appropriately changed. Is also good. Emulsions, wettable powders, etc., are diluted appropriately with water or the like before use (for example, 100 to 100,000-fold) and sprayed.
  • the amount used depends on the application scene, application time, application method, target weeds, cultivated crops, etc., but generally the active ingredient (compound (1) to ( 6) or its salt) about 0.05 g to 50 g per arel of paddy field, preferably about 0.1 lg to about 5 g, and about 0.048 to 108 per field field, preferably about 0. It is about 5 from 088.
  • the compounds (1) to (6) or salts thereof are used for upland weeds as pre-emergence soil treatments or as foliage and soil treatment agents.
  • the herbicide of the present invention can be used safely without substantial phytotoxicity even after 2-3 weeks.
  • one or more (preferably 1 to 3) other herbicides containing the compounds (1) to (6) or a salt thereof of the present invention may be used. It can be applied at the same time as a nodal, fungicide, insecticide, acaricide, nematicide, etc.
  • One or more (preferably 1 to 3) other herbicides, plant growth regulators, fungicides, insecticides, acaricides, nematicides, etc. are blended and mixed. You can also.
  • herbicides include, for example, (1) sulfonylurea herbicides [chlors furon, sul fometuron-methyl, chlorimuron-ethyl] ), Triasu uron, Amidosul furon, Oxasulf Xoxasulfuron), tribenuron-methyl, prosulfuron, ethametsul furon-methyl, triflusulfuron-methyl, thifensulfuron-methyl, Flazasulfuron, rimsulfuron, nicosulfuron, flupyrsulfuron, bensul furon-methyl, pyrazosulfuron-methyl, imazosile Freon (imazosul furoru, sulfosulfuron), sinosulfuron (cinosulfuron), azimsulfuron, metsulfuron-methyl, halosul furon-methyl, ethoxy Ethoxysul furon, cyclosul
  • pyrazole herbicides [pyraflufene-ethyl (pyrafluf en-ethyl), pyrazolate (pyrazolate), pyrazoxyfen (pyrazoxyfen), benzofenap (benzofenap), etc.], (3) carbamate herbicides [dilate ( di-al late), butylate, tri-al late, phenmedi ham; phenmedi ham; chlorpropham; ashram sulam; phenisopham; benthiocarb), molinate, esprocarb, pyributicarb, dimepiperate; swep, etc.), (4) chloroacetanilide herbicide [propachlor] (Propachlor), metazachlor (metazachlor), arachlor (alachlor), acetochlor (acetochlor), metrachloryl (metolachlor), butachloryl (buta) chlor), pretilachlor, prephenyllachlor,
  • Triazine herbicides [simazine, atrazine, propazine, propazine, cyanazine, amethrin (ametoryn), simethrin (simetryn), dimethametryn (dimethametryn), fromme (7) phenoxy acid or benzoic acid herbicide [2,3,6-TBA, dicamba, quinclorac, quinmerac, clopyralid id), picloram, piclopram, triclopyr, fluroxypyr, benazol in, diclofop-methyl, fluazi fop-butyl, haloxyfop methyl -methyl), quizalofop-ethyl, cyhalohop-butyl, 2,4_PA, MCP, MCPB, phenothiol, etc.], (8) acid amides or Elemental herbicides [isoxaben, diflufenican, diuron, diuron, 1 inuron, fluometur
  • Organophosphorus herbicides [glyphosate, dalfosinate, bialaphos, amiprofos-methyl, bensulide, benzulide Lophos (piperophos), butamifos (butamifos;), anilofos (ani lofos), etc.), (10) dinitroaniline herbicide [bromoxynil], ioxynil (ioxyni 1), dinoceb (dinoseb), trifluralin (tr i flural in), prodiamine, Dimethalin (pendimethalin)], (11) cyclohexanedione herbicide [aroxydim (alloxydim), sethoxydim (sethoxydim), cloproxydim (cloproxydim), clesozym (clethodim), cycloxydim (cycloxydim), tra Lucoxydim (tralkoxydim), sulcotrione, mesotrione, etc
  • plant growth regulators active ingredients for regulating plant growth
  • examples of plant growth regulators include, for example, hymexazol, paclobutrazol, ⁇ niconazole-P (uniconazole-P), inabenfide, inabenfide calci ⁇ (prohexadi one-calcium) and the like.
  • fungicides include (1) polyoctaalkylthio fungicides [captan] etc., (2) organophosphorus fungicides [IBP, EDDP, tolclofos-methyl] Etc.], (3) Benzimidazole fungicides [benomyl, carbendazim, thiophanate-methyl etc.], (4) Carboxamide fungicides [mepronil, Flutolanil (f lutolani 1), thifluzamide (thi f luzamid), furametpyr (furametpyr), teclof thalam (teclof thalam), pencyclone (Pencycuron), carileflonomid (carpropamid), diclosymet (diclocymet), etc.
  • Azylalanine fungicides [metalaxyl etc.], (6) Azole fungicides [triflumizole, ipconazole, tpefurazoate] Phlogloraz (prochloraz), etc.), (7) Methoxyacrylic acid fungicides [azoxystrobin, metominostrobin, etc.], (8) Antibiotics fungicides [Valdamycin A), Blasticidin S, kasugamycin, polyoxin, etc., (9) other fungicides [fthalide, probenazole, isoprothiolane, Tricyclazosole (1 & 2016, pyroquilon pyroqui In), ferimzone (ferimzone), acibenzolarille S methylilile (acibenzolar S-methyl)> diclomezine, dioxomenic acid (oxol inic acid), phenazine oxide , TPN, iprodione, etc.] You.
  • insecticides include (1) organophosphorus insecticides [fenthion, fenitrothion, pirimiphos-methyl, diazinon, quinalphos, I Soxathion, pyridafenthion, chloropyrifos-methyl, vamidothion, malathion, malathion, phenthoate, dimethoate, disulfone Tophos (monocrotophos), tetrachlorvinphos (tetrachlorvinphos), chlorfenvinphos (chlorienvinphos), propaphos (propaphos), acephate (acephate), trichlorphon (trichlorphon), EPN, pyraclofos (pyraclofos), etc.
  • organophosphorus insecticides [fenthion, fenitrothion, pirimiphos-methyl, diazinon, quinalphos, I Soxathion, pyridafenthion, chlor
  • acaricides active miticide
  • examples thereof include hexthithiazox, pyridaben, pyrfenoximate, tebufenpyrad, chlorfenapyr, etoxazole, pyrimidifen and the like.
  • nematicides include, for example, fostiazate
  • pesticidal active ingredients e.g., herbicidal active ingredients, plant growth regulating active ingredients, fungicidal active ingredients, insecticidal active ingredients, acaricidal active ingredients, nematicidal active ingredients, etc.
  • pesticidal active ingredients e.g., herbicidal active ingredients, plant growth regulating active ingredients, fungicidal active ingredients, insecticidal active ingredients, acaricidal active ingredients, nematicidal active ingredients, etc.
  • About 0.1 to 20% by mass, preferably about 0.1 to 10% by mass can be used.
  • Herbicides containing the compounds (1) to (6) of the present invention or salts thereof further include a synergist (for example, piperonyl butoxide) and an attractant (for example, eugenol). ), Repellents (for example, creosote), pigments (for example, Food Blue No. 1), fertilizers (for example, urea) and the like may be appropriately mixed.
  • the compounds (1) to (6) of the present invention or salts thereof are novel compounds, but can be produced according to a method known per se or a method analogous thereto.
  • the compounds (1) to (6) of the present invention or salts thereof can be produced by the following production methods 1 to 5, but are not necessarily limited to these production methods. Manufacturing method 1
  • R 1 is as defined above.
  • Ha 16 and X independently represent a halogen atom.
  • Ar is given by equation (12);
  • the arylboronic acid (II) can be produced by a known method (eg, Org. Synth., 39, 3 (1959), J. Org. Chem., 56 (12), 3763 (1991), etc.) or a method analogous thereto. it can.
  • the compound (II) is generally used in a molar amount of about 0.8 to 2 times, preferably about 0.9 to 1.5 times the molar amount of the compound (I).
  • This reaction is carried out in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred solvents are, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, getyl ether and diisopropyl ether.
  • Ethers such as dioxane, tetrahydrofuran (THF) and dimethoxyethane; ketones such as acetone and methylethylketone; nitriles such as acetonitrile; aliphatic amides such as dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide; Sulfoxides such as dimethyl sulfoxide (DMSO), phosphoric amides such as hexamethylphosphoric triamide (HMPA), sulfones such as sulfolane, and water are used. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds at an appropriate ratio.
  • This reaction may be performed in the presence of a base.
  • bases used in this reaction include, for example, triethylamine, tri-n-propylamine, pyridine, dimethylaniline, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] _7_indene (DBU), Organic bases such as 4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DB0); Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and hydroxylating metal; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide; sodium carbonate Alkali metal carbonates such as sodium carbonate, alkaline metal carbonates such as sodium hydrogen carbonate, inorganic bases such as alkaline earth metal carbonates such as calcium carbonate; potassium hydride, hydrogen A metal hydride such as sodium chloride is used, and the amount of the base is about 0.7 to 10.0 equivalents, preferably about 0.9 to 4.0 equivalents, relative to compound (I).
  • This reaction may be performed in the presence of a catalyst.
  • a catalyst for example, tetrakis Refenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (1,4 diphenylphosphino) butaneparadimethy, dichlorobis (1,3-diphenylphosphino) propane nickel,
  • the amount of the catalyst is about 0.01 to 0.3 equivalent, preferably about 0.02 to 0.1 equivalent, relative to compound (I).
  • the reaction temperature varies depending on the solvent, base, etc. used, but is generally about 20 ° C. to 180 ° (preferably, about 50 ° C. to 110 ° C.)
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction takes about 30 minutes to
  • the reaction is completed in 20 hours, preferably about 1 to 8 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • the above is a method for producing the compound represented by the general formula (1).
  • the compounds represented by the general formulas (2) to (6) also have the substituents at the 5- and 6-positions of the pyrimidine ring, and It can be produced in the same manner except that the group represented by Ar is different.
  • Ha 17 represents a halogen atom
  • Ha 1 represents a bromine or iodine atom.
  • the target compound is produced by the following method (i), (ii) or (iii).
  • the Grignard method can be carried out by a known method (for example, J. Med. Cem., 29 (2), 171 (1986)) or a method analogous thereto.
  • the method for preparing the Grignard reagent from compound (IV) is performed in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred solvents include, for example, getyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane, and the like.
  • Compound (IV) is generally used in an amount of about 0.8 to 2 moles, preferably about 0.9 to 1.5 moles, relative to compound (la).
  • a metal exchange reaction of Grignard reagent with zinc bromide is performed at about 70 ° C to generate aryl bromozinc and reacted in the presence of a catalyst.
  • the catalyst include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (1,4-diphenylphosphine) butanepalladium, and dichlorobis (1,3-diphenylphosphino).
  • Propane nickel is used, and the amount of the catalyst is about 0.01 to 0.3 equivalent, preferably about 0.02 to 0.1 equivalent, relative to compound (la).
  • the reaction temperature varies depending on the solvent used, but is generally about 10 to 120 ° C, preferably about 30 to 80 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction is completed in about 10 minutes to 20 hours, preferably about 30 minutes to 8 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • the lithiation process can be carried out by a known method (for example, J. Org. Chem., 49 (5), 931 (1984), etc.) or a method analogous thereto.
  • the litho compound is prepared from the compound (IV) in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred examples of the solvent include getyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF) and dimethoxyethane. And the like.
  • Compound (IV) is generally used in an amount of about 0.8 to 2 times, preferably about 0.9 to 1.5 times, the moles of compound (la).
  • the metal exchange reaction of lithoide with zinc bromide is carried out at around 170 ° C to generate aryl zinc bromide, which is reacted in the presence of a catalyst.
  • a catalyst examples include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (1,4-diphenylphosphino) butanepalladium, dichlorobis (1,3-diphenylphosphino) Propane nickel is used, and the amount of the catalyst is about 0.01 to 0.3 equivalent, preferably about 0.02 to 0.1 equivalent, relative to compound (la).
  • Reaction temperature Although it depends on the solvent used, it is generally from about 10 to 120 ° C, preferably from about 30 to 80 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction is completed in about 10 minutes to 20 hours, preferably about 30 minutes to 8 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • the activated zinc method can be carried out by a known method (for example, J. Org. Chem., 56, 1445 (1991) and the like) or a method analogous thereto.
  • Activated zinc acts on compound (IV) to generate aryl halide.
  • the activated zinc is generally used in an amount of about 1.0 to 10 times, preferably about 1.5 to 5.0 times, the mole of Compound (IV).
  • the reaction is carried out in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred solvents include ethers such as getyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF) and dimethoxyethane.
  • the reaction is carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst examples include tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (1,4-diphenylphosphino) butanepalladium, Dichlorobis (1,3-diphenylphosphino) propane nickel is used, and the amount of the catalyst is about 0.01 to 0.3 equivalent, preferably about 0.02 to 0.1 equivalent, relative to compound (la). It is.
  • the reaction temperature varies depending on the solvent used, but is generally about 10 ° C to 110 ° C, preferably about 30 ° C to 80 ° C. Although the reaction time varies depending on the reaction temperature, the reaction is completed in about 10 minutes to 20 hours, preferably about 30 minutes to 8 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • the above is a method for producing the compound represented by the general formula (1).
  • the compounds represented by the general formulas (2) to (6) also have the substituents at the 5- and 6-positions of the pyrimidine ring, and It can be produced in the same manner except that the group represented by Ar is different.
  • R 1 and X are as defined above.
  • Ha 18 represents a halogen atom
  • R 1 Q 1 represents a hydrogen atom
  • R 1G2 represents the group represented by P 1 .
  • Me represents a methyl group.
  • R 17 represents a C ⁇ 4 alkyl group
  • R 18 is alkyl group, C 3 _ 6 an alkenyl group, C 3 _ 6 alkynyl, Ji 3 _ 6 cycloalkyl group, C 3 6 eight-necked alkyl group, 6 alkoxyalkyl group or general formula (8);
  • Compound (V) can be produced by Production Method 1 or Production Method 2.
  • Compound (VI) can be prepared from compound (V) by a known method (for example, Chem. Pharm. Bull., 38 (1), 2047 (1990), J. Hetrocyclic Chem., 25, 523 (1988)) or the like. It can be manufactured by a method corresponding thereto. In this reaction, compound (V) can be deprotected in hydrobromic acid or hydroiodic acid or a solution thereof in acetic acid.
  • hydrobromic acid or hydroiodic acid is generally used in an amount of about 5 to 50 times, preferably about 10 to 30 times, the moles of Compound (V).
  • Reaction temperature The temperature is generally from about 10 ° C to 180 ° C, preferably from about 50 ° C to 150 ° C.
  • reaction time varies depending on the reaction temperature, the reaction is completed in about 10 minutes to 24 hours, preferably about 1 hour to 12 hours.
  • compound (V) can be deprotected by reacting it with a Lewis acid.
  • a Lewis acid boron tribromide, aluminum chloride or the like is used.
  • a Lewis acid is generally used in an amount of about 1 to 10 times, preferably about 2 to 5 times, the moles of the compound (V).
  • This reaction can be carried out in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred solvents include, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, c-form, carbon tetrachloride, and dichloromethane.
  • ethers such as halogenated hydrocarbons, getyl ether, diisopropyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran (THF) are used. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds at an appropriate ratio.
  • the reaction temperature is generally from about 110 ° C. to 150 ° (preferably, from about 10 ° C. to 100 ° C.)
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction generally ranges from about 10 minutes to 24 hours, preferably about 1 hour. It takes 12 hours to complete.
  • Compound (IX) is produced by using Compound (VII) or Compound (VIII) in an amount of usually about 0.8 to 5 moles, preferably about 0.9 to 2.0 moles, based on Compound (VI). it can.
  • This reaction can be carried out in a solvent that does not affect the reaction.
  • Preferred solvents are, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, and dichloromethane.
  • Ethyl ether such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran (THF), ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide and the like
  • ketones such as acetone and methyl ethyl ketone
  • nitriles such as acetonitrile
  • dimethylformamide (DMF) dimethylacetamide
  • Aliphatic amides sulfoxides such as dimethyl sulfoxide (DMSO), phosphoric amides such as hexamethylphosphoric triamide (HMPA), and sulfones such as sulfolane. These solvents are used by mixing two or more at an appropriate ratio. You may use it.
  • This reaction may be performed in the presence of a base.
  • bases to be used in this reaction include, for example, triethylamine, tri-n-propylamine, pyridine, dimethylaniline, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -17-indene (DBU), Organic bases such as 1,2,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DB0); Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and hydroxylammonium, and alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide Bases, alkali metal hydrogencarbonates such as sodium hydrogencarbonate, inorganic bases such as alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkaline earth metal metals such as calcium carbonate; hydrogenation power, sodium hydride Metal hydride, potassium fluoride and the like are used.
  • the amount of the base to be used is about 0.8 to 4.0 equivalents, preferably about 1.0 to 1.5 equivalents, relative to compound (VI).
  • the reaction temperature varies depending on the solvent and base used, but is generally about -20 ° C to 100t: preferably about 0 to 50 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, the reaction is generally completed in about 10 minutes to 10 hours, preferably about 30 minutes to 3 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography. .
  • the substituents Q 1 is a method for producing it of compounds are ⁇ _R 18, the general formula (2) to the compound represented by (6) Can also be produced in the same manner except that the substituents at the 5- and 6-positions of the pyrimidine ring and the groups represented by R1Q1 and R1G2 are different.
  • Ha 1 9 represents a halogen atom
  • R 1 R 101, R 1Q2 , R 15 and R 1 6 symbols are as defined above.
  • Benzenesulfonyl chloride (XI) can be produced by a known method (for example, J. Org. Chem., 53 (9), 2047 (1988), etc.) or a method analogous thereto. That is, chlorosulfonic acid is used usually in an amount of about 1.5 to 20 times, preferably about 1.1 to 5 times, the moles of the compound (X).
  • Solvents used in this reaction include, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, and dichloromethane; getyl ether, diisopropyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran. Although ethers such as (THF) are used, a solvent may not be used in some cases.
  • the reaction temperature varies depending on the solvent used, but is generally about 10 ° C to 200 ° C, preferably about 50 ° C to 150 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but is about 1 hour to 20 hours, preferably about 3 hours to 8 hours.
  • the production of compound (XIII) can be carried out using compound (XII) in an amount of usually about 0.8 to 3 moles, preferably about 0.9 to 1.3 moles, relative to compound (XI).
  • This reaction can be carried out in a solvent that does not affect the reaction, and the same solvent as the reaction shown in Production method 1 is used as the solvent.
  • This reaction is performed in the presence of a base.
  • Preferred bases to be used in this reaction include the same bases and the like as in the reaction shown in Production Method 1.
  • the amount of the base is about 0.8 to 4.0 equivalents, preferably about 1.0 to 1.5 equivalents, relative to compound (XI).
  • compound (XII) also serves as a base
  • compound (XII) requires about 1.0 to 1.5 equivalents.
  • the reaction temperature varies depending on the solvent and base used, but is generally about -20 ° C to 100 ° C, preferably about 0 ° C to 50 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, the reaction is completed in about 10 minutes to 14 hours, preferably about 30 minutes to 5 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • substituents Q 1 is a process for the preparation of a compound which is SOzNR R 1 6, for even general formula (2) compounds represented by - (6) , 5-position and 6-position substituent and the group represented by R 1 ° 1 and R 1 Q 2 of the pyrimidine ring are different only it can be manufactured in a similar manner.
  • RR 101, R 102, R 16 and X are as defined above.
  • Ha l 10 represents a halo gen atom
  • R 2G is C alkyl, C 3 _ 6 alkenyl, C 3 _ 6 alkynyl group, a C 3 _ 6 cycloalkyl group or a haloalkyl group.
  • compound (XV) to known methods (e.g., Org. Synth., Coll. , Vol. II, 160, Org. Synth., Coll., Vol. V, 829, etc.) or an equivalent method. That is, compound (XV) can be produced using iron or tin as a reducing agent under acidic conditions such as acetic acid or hydrochloric acid.
  • the solvent examples include aliphatic sulfonic acids such as acetic acid, alcohols such as methanol and ethanol, aliphatic carboxylic acid esters such as ethyl acetate, and water. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds at an appropriate ratio.
  • the reaction temperature varies depending on the solvent used, but is generally about 0 to 150 ° C, preferably about 10 to 80 ° C.
  • the reaction time is about 30 minutes to 12 hours, preferably about 1 hour to 6 hours.
  • Compound (XV) Can also be produced by catalytic hydrogenation using palladium-carbon as a catalyst.
  • aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, aliphatic carboxylic esters such as ethyl acetate, alcohols such as methanol and ethanol, and the like are used.
  • the reaction temperature is generally from about 0 ° C to 50 ° C (: preferably from about 10 ° C to 25 ° C), at which point the reaction is terminated when the theoretical amount of hydrogen has been consumed.
  • sulfonyl chloride (XVI) is usually used in an amount of about 1.5 to 7.0 times, preferably about 1.8 to 4.0 times, the amount of compound (XV). It is carried out using moles.
  • This reaction can be carried out in a solvent that does not affect the reaction. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF), and dimethoxyethane.
  • Ethers ketones such as acetone and methylethylketone, nitriles such as acetonitrile, aliphatic amides such as dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide, and sulfoxides such as dimethylsulfoxide (DMSO) Phosphoramides such as hexamethylphosphoric triamide (HMPA) and sulfones such as sulfolane are used. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds at an appropriate ratio.
  • This reaction may be carried out in the presence of a base.
  • Preferred bases used in this reaction include the same bases and the like as those shown in Production Method 1.
  • the amount of the base is about 1.8 to 7.0 equivalents, preferably about 2.0 to 4.0 equivalents, relative to compound (XV).
  • the reaction temperature varies depending on the solvent and the base used, but is generally about -20 ° C to 150 ° C, preferably about 0 ° C to 100 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction is completed in about 10 minutes to 14 hours, preferably about 30 minutes to 8 hours.
  • Compound (XVIII) can be produced by hydrolyzing compound (XVII) under basic conditions.
  • Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline metal hydroxides such as calcium hydroxide, alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, and carbonic acid are used as bases.
  • Power Riu Inorganic bases such as alkali metal carbonates such as calcium carbonate and earth metal carbonates such as calcium carbonate are used.
  • the amount of the base is about 1.8 to 5.0 equivalents, preferably about 2.0 to 4.0 equivalents, relative to compound (XVII).
  • Reaction solvents include water, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran (THF), ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile, and dimethylformamide ( Aliphatic amides such as DMF) and dimethylacetamide are used. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds at an appropriate ratio.
  • the reaction temperature varies depending on the solvent and the base used, but is generally about -10 to 100 ° C, preferably about 0 to 50 ° C.
  • the reaction time depends on the reaction temperature, but the reaction is completed in about 10 minutes to 10 hours, preferably about 30 minutes to 5 hours.
  • Compound (XIX) can be produced by alkylating or acylating compound (XVIII) in the presence of a base.
  • the alkylating agent or the acylating agent (R ' 6 -X) is generally used in an amount of about 0.8 to 3 times, preferably about 0.9 times, 2.0 times the molar amount of the compound (XVIII).
  • This reaction can be carried out in a solvent that does not affect the reaction, and the same solvent as used in Production Method 1 is used as the solvent.
  • the preferred base to be used in this reaction the same bases and the like as in the reaction shown in Production Method 1 are used.
  • the amount of the base is about 0.8 to 4.0 equivalents, preferably about 1.0 to 1.5 equivalents, relative to compound (XVIII).
  • the reaction temperature varies depending on the solvent and base used, but is generally about -20 ° C to 150 ° C, preferably about 0 ° C to 80 ° C.
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature, but the reaction is completed in about 10 minutes to 14 hours, preferably about 30 minutes to 8 hours, and the target compound can be confirmed by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography.
  • the NMR spectrum shows 1 H or 19 F-NMR, and was measured with a Bruker A V400 (400 MHz) type spectrometer using tetramethylsilane and fluorotrichloromethane as internal standards. ⁇ values are shown in ppm.
  • the IR spectrum was measured with a Parkin Elma-Paragon 100 FT-IR spectrum meter, and the position of the absorption band was indicated by a wave number (cm 2).
  • the abbreviations used in the following Reference Examples, Examples and Tables have the following meanings.
  • reaction mixture is concentrated, water is added to the residue, and the precipitated crystals are collected by filtration, washed with water, and dried, and dried 2-5- (5-chloro-6-difluoromethylpyrimidine-14-yl)- 4_Fluorobenzenesulfonamide (0.24 g) was obtained.
  • the dimethyl ether layer was separated, the aqueous layer was extracted with dimethyl ether, the dimethyl ether layers were combined, washed with brine, dried, and the solvent was distilled off. A small amount of petroleum ether was added to the residue, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried to obtain 41-bromo-2-fluoro-5-methoxyphenylporonic acid (2.5 g).
  • the reaction mixture is concentrated, neutralized with dilute hydrochloric acid, and the precipitated crystals are collected by filtration, washed with water and getyl ether, dried, and dried with 5-cyano 4- [4-cyano 2-fluoro-5- (N-ethylsulfonyl). Amino) phenyl) -6-methoxypyrimidine (20.0 g) was obtained.
  • Wettable powder obtained by mixing and crushing (use dilution as appropriate in water) Formulation Example 2 wettable powder
  • Nonipol 85.RTM. 5% by mass of the emulsion ice prepared by mixing and grinding 5 mass%.
  • test solution was sprayed on the pot in the spraying device using a spray gun.
  • A-7 pre 10 (1) 0 (0) 0 (0) 0 (0) 2 (0) 5 (1) 5 (5) post 10 (1) 4 (2) 4 (4) 5 (3) 4 (1) 5 (5) 5 (5)
  • A-26 pre 10 (1) 3 (0) 0 (0) 5 (2) 5 (4) 5 (5) 5 (5) post 10 (1) 3 (3) 4 (4) 4 (2) 4 (3) 5 (5) 5 (5)
  • A-43 pre 10 (1) 2 (0) 2 (0) 3 (0) 4 (1) 5 (5) 5 (5) post 10 (1) 3 (2) 4 (2) 2 (1) 3 (1) 5 (4) 5 (5)
  • A-53 pre 10 (1) 3 (0) 0 (0) 5 (5) 5 (5) 2 (0) 5 (5) post 10 (1) 4 (4) 4 (4) 5 (3) 5 (5) 5 (5) 5 (5)
  • the compound of the present invention or a salt thereof has an excellent herbicidal action against a wide range of weeds, for example, paddy weeds, field weeds and the like at a low dose. In addition, it has less phytotoxicity to cultivated plants, for example, rice, wheat, barley, corn, soybean, cotton, and the like, and exhibits an excellent selective herbicidal effect. The selective weeding effect lasts for a long time. Low toxicity to mammals and seafood, without polluting the environment, in paddy fields, fields, orchards or non-farm It can be used very safely as a herbicide for arable land. Furthermore, the compound of the present invention or a salt thereof is useful as a herbicide because it can be easily formulated as a herbicide.

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Description

明 細 書 ピリミジン誘導体およびそれを含有する除草剤 技術分野
本発明はピリミジン誘導体およびそれを含有する除草剤に関する。 本発明の ピリミジン誘導体は水田雑草、 畑地雑草に対して優れた除草作用を有し、 しか も、 稲、 小麦、 大麦、 トウモロコシ、 綿、 大豆等の有用植物の栽培作物に対し て薬害はないかまたは軽微であって、 水田や畑地用の優れた選択的除草剤とし て用いることができる。 背景技術
従来、 ピリミジン系誘導体はいくつか報告されている。 し力、し、 従来のピリ ミジン系除草剤は、 雑草に対する殺草効果、 作物に対する薬害、 哺乳動物や魚 介類に対する毒性、環境汚染の面等でまだ十分とは言えず、これらの点につき、 さらに改良された選択的除草剤の開発が切望されている。
【特許技術文献 1】
特開 2001— 106675号公報 (請求項 1 )
【特許技術文献 2】
特開 2002— 205986号公報 (請求項 1 )
【特許技術文献 3】
国際公開第 02 38550号パンフレツト (請求の範囲第 1項) 発明の開示
このような事情に鑑み、 本発明は優れた選択除草活性を示すピリミジン系除 草剤を提供することを目的とする。 より具体的には、 雑草に対する殺草効果が 高く、 一方で稲、 小麦、 大麦、 トウモロコシ、 綿、 大豆等の作物に対する薬害 が少なく、 さらに、 哺乳動物や魚介類に対する毒性が低い、 残留性が低いなど 環境汚染が少ない、 持続性があるまたは製剤化しやすいなどの性質をさらに有 するピリミジン系除草剤を提供することを目的とする。
本発明者らは、 優れた除草活性を示し、 しかも作物に薬害のない選択的除草 剤の開発を目指し鋭意研究を重ねた結果、 新規ピリミジン誘導体またはその塩 の創製に成功し、 先に特許出願 (特許技術文献 2および 3) した。 本発明者ら は、 M記発明に基づいてさらに種々検討を重ねた結果、 本発明を完成するに至 つた。
すなわち、 本発明は、
(A) —般式 (1)
Figure imgf000004_0001
[式中、 R1は、 6ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されていても よい Ci— 6アルコキシ基を表し、
P1は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q1は、 水素原子; シァノ基; _ 6 アルキル基; C36 シクロアルキ ル基;水酸基;メルカプト基; — 6 アルコキシ基; — 6 アルコキシ一 C, _ 4 アルコキシ基; C36 シクロアルキルォキシ基; — 6 ハロアル コキシ基; C2 _ 6 アルケニルォキシ基; C2 _ 6 ハロアルケニルォキシ基; C2 _ 6 アルキニルォキシ基; C6 — i 。 ァリールォキシ基; C7 — i 2 ァラ ルキルォキシ基; _ 6 アルキルチオ基; Ct6 アルコキシ一 ― 4 ァ ルキルチオ基; C 36 シクロアルキルチオ基; _ 6 ハロアルキルチオ基; C26 アルケニルチオ基; C26 ハロアルケ二ルチオ基; C26 アルキ 二ルチオ基; C 6 — ! 。 ァリ一ルチオ基; C 7 — i 2 ァラルキルチオ基; C , ― 6 アルキルスルホニル基; C36 シクロアルキルスルホニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; C26 ァルケニルスルホニル基; C2 _ 6 ノ 口 ァルケニルスルホニル基; C2 _ 6 アルキニルスルホニル基;酸素原子、 ィォ ゥ原子および窒素原子から選択される 1ないし 2個含有していてもよい環状ァ ミノ基;または、 一般式 (7)
Figure imgf000005_0001
0 R15 R15 O
-C一 C一 C一 Y— R12 S02→ もしくは — Y-R12
H2 R„ R16 R16
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または一 N— R1 3 を表わし、
R1 1 は水素原子または。 ェ ― 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基、 C 26 アルキニル基、 C6 — i 。 ァリール基、 C7 _ i 2 ァラルキル基、 じ 丄 ― 6 アルコキシ一 _ 4 アルキル基、 C26 アルケニルォキシ _ 4 アルキル基、 C26 アルキニルォキシ ― 4 アルキル基、 C36 シク 口アルコキシ—Ci _ 4 アルキル基、 C27 アルコキシカルボ二ルー _ 4 アルキル基、 C37 アルケニルォキシ力ルポ二ルー _ 4 アルキル基、
C3 - 7 アルキニルォキシ力ルポ二ルー ― 4 アルキル基、 C47 シクロ アルコキシカルボニル— ― 4 アルキル基、 C2 _ 7 ハロアルコキシ力ルポ ニル— Ct ― , アルキル基、 C3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルボ二ルー(: 丄
4 アルキル基または C8 _ ! 3 ァラルキルォキシカルボニル— C L - 4 アル キル基を表わし、
R1 3 は水素原子、 C , — G アルキル基、 - 6 アルコキシ— _ 4 ァ ルキル基、 — 7 アルカノィル基、 C7 — , i ァリールカルボニル基、 c2 _ 7 アルコキシカルボニル基、 C2 7 ハロアルコキシ力ルポニル基または C 3 ― 7 ハロアルケニルォキシカルポ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または ― 6 アルキル基を表わし、 R1 5 、 R1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; C, _ 6 アルキル基; C2 _ 6 アルケニル基; C2 6 アルキニル基; C3 6 シクロアルキル基;
C, _ 6 アルコキシ— ― 4 アルキル基; C7 — i 2 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜6員の複素環で置換された _ 4 アルキル基; — 7 アルカノィル 基; C7 t ェ ァリ一ルカルポニル基; C2 7 ハロアルコキシ基; C27 アルコキシ力ルポニル基; C3 7 アルケニルォキシカルポニル基; C37 アルキニルォキシカルボ二ル基; C47 シクロアルキルォキシカルポニル 基; C2 7 ハロアルコキシカルボニル基; _ 6 アルキルスルホニル基; C2 _ 6 ァルケニルスルホニル基; C2 _ 6 ハロアルケニルスルホニル基; C
26 アルキニルスルホニル基; C3 _ 6 シクロアルキルスルホニル基; ― 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 。 ァリ一ルスルホニル基; C72 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
H ?
— C - C- Y - R12 (8)
(式中、 R1 1 、 R1 2 および Yは上記と同意義である。) で表わされる基を表 す。 }
で表わされる基を表す。 ]、
一般式 (2)
Figure imgf000007_0001
[式中、 R2は、 — 6ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されていても よい(:卜6アルコキシ基を表し、
P2は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q2は、 ホルミル基、 シァノ基または CH = NOX3 {X3は、 水素原子; _6アルキル基; — 6 ハロアルキル基; C3 _ 6 シクロアルキル基; C2 _
6 アルケニル基; C2 6 ハロアルケニル基; C2 _ 6 アルキニル基; C6 ― ! 0 ァリール基; C7 _ 2 ァラルキル基; — 7 アルカノィル基; C7 — ! ! ァリ一ルカルポ二ル基; C2 _ 7 ハロアルコキシ基; — 6 アルキルス ルホニル基; C2 _ 6 ァルケニルスルホニル基; C26 ハロアルケニルスル ホニル基; C2 6 アルキニルスルホニル基; C3 6 シクロアルキルスルホ ニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 i 。 ァリールスルホニル 基; c72 ァラルキルスルホニル基;窒素原子、 酸素原子およびィ才ゥ原 子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 3〜6員の複素環基; または 下記一般式 (9) (9)
Figure imgf000007_0002
(式中、 nは 0〜2の整数を表し、
21及び! 22は、 それぞれ独立して、 水素原子、 ハロゲン原子、 アル キル基、 — 7 アルカノィル基、 C7 ァリール力ルポニル基または C 2 _ 7 ハロアルコキシ基を表す。 W1は、 酸素原子、 硫黄原子、 または NR2 4—で表される基 (式中、 R24は、 水素原子、 C t 6 アルキル基、 C2 _ G アルケニル基または アルコキシ基を表す。 また、 R24は、 結合している 窒素原子及び R 23と一緒になつて、 1〜 2個の窒素原子及び 0〜 1個の酸素原 子を含有する 5〜 6員の複素環基を形成していてもよい。) を表す。
R23は、 水素原子; — 6アルキル基; _ 6 ハロアルキル基; C36 シクロアルキル基; C2 6 アルケニル基; C2 6 ハロアルケニル基; C26 アルキニル基; C6 — i Q ァリール基; C7 — i 2 ァラルキル基; もしく は窒素原子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を 含有する 3〜6員の複素環基を表す。) で表わされる基を表す。 }
で表わされる基を表す。]、
一般式 (3)
Figure imgf000008_0001
[式中、 R3は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい Ci sアルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい d— 6アルコキシ基を表し、
Ha 1 1はハロゲン原子を表し、
Q3は、 水素原子、 シァノ基、 6 アルキル基、 C3 6 シクロアルキ ル基、 水酸基、 メルカプト基、 _ 6 アルコキシ基、 — 6 アルコキシ C, _ 4 アルコキシ基、 C3 6 シクロアルキルォキシ基、 — 6 ハロアル コキシ基、 C2 6 アルケニルォキシ基、 C2 6 ハロアルケニルォキシ基、 C2 _ 6 アルキニルォキシ基、 C6 _ 。 ァリールォキシ基、 C7 2 ァラ ルキルォキシ基、 — 6 アルキルチオ基、 C, _ 6 アルコキシ C, _ 4 ァ ルキルチオ基、 C36 シクロアルキルチオ基、 C , ― 6 ハロアルキルチオ基、 C2 _ 6 アルケニルチオ基、 C2 _ 6 ハロアルケ二ルチオ基、 C26 アルキ 二ルチオ基、 C6 — i 。 ァリ一ルチオ基、 C7 2 ァラルキルチオ基、 _ 6 アルキルスルホニル基、 C3 シクロアルキルスルホニル基、 ― ハロアルキルスルホニル基、 c2 ァルケニルスルホニル基、 C 2 - 6 八口 ァルケニルスルホニル基、 c2 6 アルキニルスルホニル基、 または、 一般式 (10)
Figure imgf000009_0001
(10) o
15 O
CH2-CH-C-Y-R12 II
— S02-N — C-Y-R12 一 N(R15R16)
Rid '16 もしくは
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または N— R1 3 を表わし、
Y' は酸素原子またはィォゥ原子を表わし、
R1 1 は水素原子または _ 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 ― 6 シクロアルキル基、 C2 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基、 C 26 アルキニル基、 C6 。 ァリール基、 C7 2 ァラルキル基、
6 アルコキシ 4 アルキル基、 C2 6 アルケニルォキシ ― 4 アルキル基、 C2 6 アルキニルォキシ _ 4 アルキル基、 C3 - 6 シク 口アルコキシ—(^ _ 4 アルキル基、 c2 7 アルコキシ力ルポニル— ― 4 アルキル基、 C3 7 アルケニルォキシカルボニル— - 4 アルキル基、 C3 - 7 アルキニルォキシ力ルポニル— ― 4 アルキル基、 C4 7 シクロ アルコキシ力ルポニル— C , _ 4 アルキル基、 C27 ハロアルコキシカルボ ニル— ― 4 アルキル基、 C3 7 ハロアルケニルォキシカルボニル—
4 アルキル基または C8 _ ! 3 ァラルキルォキシカルボ二ルー _ 4 アル キル基を表わし、
R 1 3 は水素原子、 d 6 アルキル基、 C L - 6 アルコキシ— ― 4 ァ ルキル基、 - 7 アルカノィル基、 c7 - 】 i ァリールカルボニル基、 c27 アルコキシカルボニル基、 C2 _ 7 ハロアルコキシ力ルポニル基または C
3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルポ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または ― 6 アルキル基を表わし、 R1 5 、 R1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; C 6 アルキル基; C2 6 アルケニル基; C2 _ 6 アルキニル基; C3 6 シクロアルキル基; C, _ 6 アルコキシ— _ 4 アルキル基; C7 _ ! 2 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜 6員の複素環で置換された Ci _ 4 アルキル基; じェ _ 7 アルカノィル 基; C7 _ ァリールカルボニル基; C2 7 ハロアルコキシ基; C27 アルコキシカルポニル基; C3 7 アルケニルォキシカルボニル基; C37 アルキニルォキシカルポニル基; C4 7 シクロアルキルォキシカルボニル 基; C2 7 ハロアルコキシカルポニル基; 6 アルキルスルホニル基; C26 ァルケニルスルホニル基; C26 ハロアルケニルスルホニル基; C
26 アルキニルスルホニル基; C3 _ 6 シクロアルキルスルホニル基; じ丄
6 ハロアルキルスルホニル基; C6 ェ 。 ァリ一ルスルホニル基; C7 _ ! 2 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
H ? , 、
-C-C-Y-R12 (8)
«11
(式中、 R1 1 、 R1 2 および Yは上記と同意義である。) で表わされる基を表 す。}
で表わされる基を表す。]、
一般式 (4)
Figure imgf000011_0001
{式中、 ( i) R4 が — 6 ハロアルキル基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q4が、 水酸基、 メルカプト基、 一 OX4 (式中、 X4は、 C26 アルキル基、 C3 - 6 シクロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル 基、 C26 アルキニル基、 C6 — i。 ァリール基または C7 _ ! 2 ァラルキ ル基を表す。)、 -SX1, -NHS02X -N (COX1) SC^X1または— OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 C, _ 6 アルキル基、 ― 6 ハロ アルキル基、 C36 シクロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハ ロアルケニル基、 C26 アルキニル基、 C6 _ i。 ァリール基または c7 _ x 2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 — 6 アルキル基、 C — 6 ハロアルキル基、 c2 _ 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基または C
2 _ 6 アルキニル基を表す。) を表し、
(ii) R4 が ハロアルキル基で、 P4 がシァノ基で、かつ Q4が水酸基、 メルカプト基、 一 OX — SX -NHS 02X 一 N (COX1) S〇2 X1または一 OCH (X2) COOX1 (式中、 X1および X2は前記定義に同じ。) を表し、
(iii) R4 が アルキル基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q 4がイソ プロポキシカルボ二ル基を表し、
(iv) R がハロゲン原子で置換されていてもよい C ^6アルコキシ基で、 P4 がシァノ基で、 かつ Q4がー N (COR31) S〇2R32 (式中、 R31が C ! _ 6 アルキル基で R 32がメチル基であるか、または R31が C36 アルキル 基で R32がェチル基である。)、 一 N (COOR33) S02R34 (式中、 R33が C, _ G アルキル基で R 34がメチル基であるか、または R33が C2 _ 6 アルキ ル基で R34がェチル基である。)、 一 N (R35) S02R36 (式中、 R35が C26 アルキニル基、 R36がメチル基である。) または— N (R37) S〇2R38 (式中、 R37がハロゲン原子で置換されていてもよい ― 6 アルキル基、 ハ ロゲン原子で置換されていてもよい C26 アルケニル基またはハロゲン原子 で置換されていてもよい Ci ― 6 アルコキシメチル基、 R38が _ 6 アルキ ル基である。) を表すか、 もしくは、
(V) R4 がハロゲン原子で置換されていてもよいじい 6アルコキシ基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q4はイソプロポキシ基を表す。 }
一般式 (5)
Figure imgf000012_0001
[式中、 R5は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基を表し、
Ha 12および Ha 13は独立してハロゲン原子を表し、
Q5は、 一 S〇2X5 {X5は、 酸素原子、 ィォゥ原子および窒素原子から選択 される 1ないし 2個含有していてもよい環状アミノ基、 窒素原子を 1ないし 2 個の原子を含有する 3〜 6員の複素環基、 N— C27 アルカノィル— N— C ! ― 6 アルキルアミノ基、 N— C27 アルカノィルァミノ基、 N— C2 _ 7 アルコキシカルボ二ルー C ― , アルキルアミノ基または式 (1 1)
Figure imgf000012_0002
(式中、 nは 0〜2の整数を表し、 R1 1 お よ び R1 1 ' は同一または異な つて水素原子または _ 6 アルキル基を表す。) で表される基を表す。 } で表される基を表す。]、
もしくは一般式 (6)
Figure imgf000013_0001
[式中、 R6は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基を表し、
Ha 14および Ha 15は独立してハロゲン原子を表し、
Q6は、 水素原子; シァノ基; ― 6 アルキル基; C3 _ 6 シクロアルキ ル基;水酸基;メルカプト基; — 6 アルコキシ基; Ci _ 6 アルコキシ d 4 アルコキシ基; C3 _ 6 シクロアルキルォキシ基; — 6 ハロアル コキシ基; C2 _ 6 アルケニルォキシ基; C2 _ 6 ハロアルケニルォキシ基; C26 アルキニルォキシ基; C6 。 ァリールォキシ基; C72 ァラ ルキルォキシ基; C 6 アルキルチオ基; _ 6 アルコキシ— _ 4 ァ ルキルチオ基; C3 _ 6 シクロアルキルチオ基; ― 6 ハロアルキルチオ基; c2 _ 6 アルケニルチオ基; c2 6 ハロアルケ二ルチオ基; c2 6 アルキ 二ルチオ基; c6 _ i Q ァリールチオ基; c7 _ 2 ァラルキルチオ基;
_ 6 アルキルスルホニル基; C3 6 シクロアルキルスルホニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; C 2 - 6 ァルケニルスルホニル基; c 八□ ァルケニルスルホニル基; c2 _ 6 アルキニルスルホニル基;酸素原子、 ィォ ゥ原子および窒素原子から選択される 1ないし 2個含有していてもよい環状ァ ミノ基; または一般式 (7) — Y -
Figure imgf000014_0001
o "is R,, 0
II
-C— C一 C一 Y— R12 -S02— N
もしくは -C-Y— R12
H2 ., R16 R16
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または— Ν— R1 3 を表わし、
R1 1 は水素原子または ― 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 _
6 シクロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基、 C
26 アルキニル基、 C6 — i 。 ァリール基、 C7 _ 2 ァラルキル基、
_ 6 アルコキシ一 _ 4 アルキル基、 C26 アルケニルォキシ _ 4 アルキル基、 C26 アルキニルォキシ ― 4 アルキル基、 C36 シク 口アルコキシ—(^ _ 4 アルキル基、 C27 アルコキシカルボ二ルー ― アルキル基、 C37 アルケニルォキシカルボニル— _ 4 アルキル基、
C3 - 7 アルキニルォキシ力ルポニル— ― 4 アルキル基、 C47 シクロ アルコキシ力ルポ二ルー Ci _ 4 アルキル基、 C2 _ 7 ハロアルコキシ力ルポ ニル— ― 4 アルキル基、 c37 ハロアルケニルォキシカルポニル—(:丄
_ 4 アルキル基または C8 _ ! 3 ァラルキルォキシカルボニル _Ci 一 4 アル キル基を表わし、
R1 3 は水素原子、 Ci — 6 アルキル基、 — 6 アルコキシ一 _ 4 ァ ルキル基、 — 7 アルカノィル基、 c7 _ i iァリールカルボ二ル基、 c2
7 アルコキシカルボニル基、 C27 ハロアルコキシカルボニル基または C
3 ― 7 ハロアルケニルォキシカルボ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または ― 6 アルキル基を表わし、
R1 5 、 R1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; _ 6 アルキル基;
C 2 — 6 アルケニル基; C 2 - 6 アルキニル基; C シクロアルキル基 C, _ 6 アルコキシ—C _ 4 アルキル基; C7 — i 2 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜6員の複素環で置換された ― 4 アルキル基; ― 7 アルカノィル 基; C7 _ ァリ一ルカルポニル基; C27 ハロアルコキシ基; C27 アルコキシカルポニル基; C37 アルケニルォキシカルポニル基; C37 アルキニルォキシカルボニル基; C47 シクロアルキルォキシカルボニル 基; C27 ハロアルコキシカルボニル基; — 6 アルキルスルホニル基; C2 _ 6 ァルケニルスルホニル基; C2 _ 6 ハロアルケニルスルホニル基; C
26 アルキニルスルホニル基; C36 シクロアルキルスルホニル基;
_ 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 — i 。 ァリールスルホニル基; C7 — i 2 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
H 9 ,ヽ
-C-C-Y-R12 (8)
(式中、 R1 1 、 R1 2 お よ び Y は上記と同意義である。) で表わされる基 を表す。 }
で表わされる基を表す。]
で示される化合物、
または、 2—クロ口一 5— (5 _クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4—ィル) 一 4 _フルオロー N—メチルベンゼンスルホンアミド、
2—クロ口一 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4一ィル)
2—クロ口一 5 _(5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4一^ Γル) — 4—フルォロー N _ブチリルべンゼンスルホンアミド、
2—クロロー 5— (5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4—ィル) ― 4一フルオロー N—イソブチリルベンゼンスルホンアミド、 4一 〔5— (N—プロピルォキシカルボキシ— N—ェチルスルホニルァミノ) 一 4—シァノー 2—フルオロフェニル〕 一 5—クロロー 6—ジフルォロメチル ピリミジン、 および、
5—クロ口一 4— (4—クロ口— 2—フルオロー 5 Γソプロポキシフエニル) 一 6— (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ) ピリミジン
からなる群から選ばれる化合物
あるいは、 前記化合物の塩、
に関する。
また、 本発明は、
(B) 一般式 (1) で示される化合物が、 一般式 (1 ')
Figure imgf000016_0001
{式中、 R1は、 C: _ 6 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されてい てもよい アルコキシ基を表し、
P1は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q1'は、 水酸基、 メルカプト基、 _OX -SX -NHS 02X 一 N (COX1) SC^X1または— OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 C, 一 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C36 シクロアルキル基、 C2 _
6 アルケニル基、 c26 ハロアルケニル基、 c2 _ 6 アルキニル基、 c6
1 。 ァリール基または C7x 2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 C
! _ 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基または C26 アルキニル基を表す。) を表す。 } で示される化合物であり、
一般式 (2) で示される化合物が、 一般式 (2')
Figure imgf000017_0001
{式中、 R2は、 C, _ 6 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されてい てもよい アルコキシ基を表し、
P2は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q2'は、 ホルミル基、 シァノ基または CH = NOX3' (X3'は、 水素原子、 Ci _ 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基、 C26 アルキニル基、
C 6 一 ァリール基または C 1 2 ァラルキル基を表す。) を表す。 }、 で示される化合物であり、
一般式 (3) で示される化合物が、 一般式 (3 ')
Figure imgf000017_0002
{式中、 R3はハロゲン原子で置換されていてもよい アルキル基またはハ ロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基を表し、
Q3'は、 水酸基、 メルカプト基、 — OX — SX1または一〇CH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 Cx _ 6 アルキル基、 Ct6 ハロアルキル基、 C
3 _ 6 シクロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基、
C 2 - 6 アルキニル基、 c 1 0 ァリール基または C 7 - 1 2 ァラルキル基 を表し、 X2は、 水素原子、 Ci — 6 アルキル基、 — 6 八口アルキル基、
C26 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基または C26 アルキニル 基を表す。) を表す。 } で示される化合物であり、
一般式 (6) で示される化合物が、 一般式 (6')
Figure imgf000018_0001
{式中、 R6は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい 6アルコキシ基を表し、
Q6'は、 水酸基、 メルカプト基、 一〇Χ -SX1, — NHSC^X1, — N (COX1) SOsX1または一〇CH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 _
6 アルキル基、 _ 6 ハロアルキル基、 c3 6 シクロアルキル基、 c2 _ 6 アルケニル基、 c2 6 ハロアルケニル基、 c2 6 アルキニル基、 c6
! 。 ァリール基または C7 ― , 2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 C
! _ 6 アルキル基、 Ci 6 ハロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C2
6 ハロアルケニル基または c2 _ 6 アルキニル基を表す。) を表す。)、 で示される化合物であることを特徴とする前記 (A) に記載の化合物あるいは その化合物の塩、
に関する。
また、 本発明は、
(C) 一般式 (1) で示される化合物が、 一般式 ( ')
Figure imgf000018_0002
(式中、 R1''は、 ジフルォロメチル基を表し、
Ρ1"は、 シァノ基を表し、
Q1"は、 メ卜キシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルボニルメ卜キシ 基、 または窒素上にァセチル基を有していてもよいメチルスルホニルァミノ基 もしくはェチルスルホニルァミノ基を表す。 )
で示される化合物であり、
一般式 (2) で示される化合物が、 一般式 (2'')
Figure imgf000019_0001
(式中、 R2''は、 ジフルォロメチル基を表し、
P2"は、 塩素原子を表し、
Q2"は、 ホルミル基、 シァノ基、 CH = N〇Hまたは CH = N〇CH3を表 す。)、
で示される化合物であり、
一般式 (3) で示される化合物が、 一般式 (3'')
Figure imgf000019_0002
(式中、 R3''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha 11は、 塩素原子または臭 素原子を表し、
Q3''は、 水酸基、 イソプロポキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカル ボニルメトキシ基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニルァミノ 基を表す。)
で示される化合物であり、
一般式 (4) で示される化合物が、 一般式 (4'') (4")
R, CN .
(式中、 ( i) R4 '' がジフルォロメチル基で、 P4 " が塩素原子で、 かつ Q 4"がイソプロポキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルポニルメトキシ 基、 エトキシカルボニル基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニ ルァミノ基を表し、
(ii) R4 '' がジフルォロメチル基で、 P4 '' がシァノ基で、 かつ Q4'' がェチルスルホニルァミノ基を表し、
(iii) R4 ' ' がメチル基で、 P4 が塩素原子で、 かつ Q4''がイソプロ ポキシ力ルポ二ル基を表し、
(iv) R4 " がメトキシ基で、 P4 が塩素原子で、 かつ Q4''がイソプロ ポキシ基を表し、
(V) R4 " がメトキシ基で、 P4 がシァノ基で、 かつ Q4''が窒素上に 置換基としてプロピル基、 ァリル基、 プロパルギル基、 メトキシメチル基、 ァ セチル基、 プロピオニル基、 プチリル基、 メトキシカルポニル基、 エトキシカ ルポニル基もしくはプロピルォキシカルボ二ル基を有するメチルスルホニルァ ミノ基、 または窒素上に置換基としてメチル基、 ェチル基、 プチリル基、 メト キシカルポニル基、 エトキシカルボニル基もしくはァリル基を有するェチルス ルホニルァミノ基を表す。)
で示される化合物であり、
一般式 (5) で示される化合物が、 一般式 (5'')
Figure imgf000021_0001
{式中、 R5''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha 12および Ha 13は、 独 立して塩素原子または臭素原子を表し、
Q5''は、 — S02X5' (X5'はァセチルァミノ基、 メトキシァセチルァミノ 基、 プチリルアミノ基、 イソプチリルアミノ基、 メトキシカルポニルァミノ基 またはエトキシカルボニルァミノ基を表す。) を表す。 }
で示される化合物であり、
一般式 (6) で示される化合物が、 一般式 (6'')
Figure imgf000021_0002
(式中、 R6''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha I 4は、 塩素原子または臭 素原子を表し、 Ha 15は臭素原子またはフッ素原子を表し、
Q6''は、 メトキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルボニルメトキシ 基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニルァミノ基を表す。)、 で示される化合物であることを特徴とする前記 (A) に記載の化合物あるいは その化合物の塩、
(D) 前記 (A) 〜 (C) に記載の化合物またはその塩を含有することを 特徴とする除草剤、
に関する。
本発明の化合物またはその塩は、低薬量で広範囲の雑草、例えば、水田雑草、 畑地雑草等に対して優れた除草作用を有する。 しかも、栽培植物、例えば、稲、 小麦、 大麦、 トウモロコシ、 大豆、 綿等に対して薬害が少なく、 優れた選択的 除草効果を示す。 また、 選択的除草効果は長時間持続する。 哺乳動物や魚介類 に対して低毒性で、 環境を汚染することなく、 水田、 畑、 果樹園あるいは非農 耕地用等の除草剤として極めて安全に使用することができる。 さらに、 本発明 の化合物またはその塩は、 除草剤として製剤化しやすい。 発明を実施するための最良の形態
本発明において、 ハロゲン原子としては、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子等が挙げられる。
C , _ 6 アルキル基としては、 直鎖もしくは分枝状であってよく、 例えばメ チル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—ブチル、 イソブチル、 s e cーブチル、 t e r t—ブチル、 n—ペンチル、 s e c —ペンチル、 イソペン チル、 ネオペンチル、 n—へキシル、 イソへキシル等が挙げられる。
C , _ 6 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されているじェ ― 6 アル キル基としては、 例えば、 クロロメチル、 プロモメチル、 1 _クロロェチル、 トリフルォロメチル等が挙げられる。
窒素原子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を 含有する 5 _ 6員の複素環で置換された ― 4 アルキル基としては、例えば、 4—ピリジルメチル、 2 —フリルメチル、 2—チォフェンメチル等が挙げられ る。
C 3 - 6 シクロアルキル基としては、 例えば、 シクロプロピル、 シクロプチ ル、 シクロへキシル等が挙げられる。
C 2 _ 6 アルケニル基としては、 例えば、 ァリル、 1ーブテン— 3—ィル、 3 —ブテン— 1—ィル等が挙げられる。
C 26 ハロアルケニル基としては、 2—クロロー 2—プロペン一 1—ィル 等が挙げられる。 C 2 ― 6 アルキニル基としては、 例えば、 プロパルギル、 2—ブチン一 1— ィル、 3—ブチン一 2—ィル等が挙げられる。
C 6 — ェ 。 ァリール基としては、 例えば、 フエニル、 ナフチル等が挙げられ る。
C 7 _ x 2 ァラルキル基としては、 例えば、 ベンジル、 フエネチル等が挙げ られる。
C , _ 6 アルコキシ基としては、 例えば、 メトキシ、 エトキシ、 n—プロボ キシ、 イソプロボキシ、 n—ブトキシ、 イソブトキシ等が挙げられる。
C , _ 6 ハロアルコキシ基またはハロゲン原子で置換されている C i ― 6 ァ ルコキシ基としては、 例えば、 トリフルォロメトキシ等が挙げられる。
C 3 - 6 シクロアルキルォキシ基としては、 例えば、 シクロプロピロルォキ シ、 シクロブチルォキシ、 シクロペンチルォキシ等が挙げられる。
C 26 アルケニルォキシ基としては、 例えば、 ァリルォキシ、 1 _ブテン
- 3—ィルォキシ、 3—ブテン— 1—ィルォキシ等が挙げられる。
C 26 ハロアルケニルォキシ基としては、 例えば、 2—クロ口— 2—プロ ペン— 1ーィルォキシ等が挙げられる。
C 26 アルキニルォキシ基としては、 例えば、 プロパルギルォキシ、 2— ブチン— 1 一ィルォキシ、 3 —ブチン— 2—ィルォキシ等が挙げられる。
C 6 — ェ 。 ァリールォキシ基としては、 例えば、 フエノキシ、 ナフチルォキ シ等が挙げられる。
C 7 _ ! 2 ァラルキルォキシ基としては、 例えば、 ベンジルォキシ、 フエネ チルォキシ等が挙げられる。
C x _ 6 アルキルチオ基としては、 例えば、 メチルチオ、 ェチルチオ、 n— プロピルチオ、 イソプロピルチオ、 s e c —プチルチオ、 n—ペンチルチオ等 が挙げられる。
C , _ 6 ハロアルキルチオ基としては、 例えば、 トリフルォロメチルチオ等 が挙げられる。
C 3 - 6 シクロアルキルチオ基としては、 例えば、 シクロプロピルチオ、 シ クロプチルチオ、 シクロペンチルチオ等が挙げられる。
C 26 アルケニルチオ基としては、 例えば、 ァリルチオ、 1—ブテン一 3 —ィルチオ、 3—ブテン— 1 —ィルチオ等が挙げられる。
C 26 ハロアルケ二ルチオ基としては、 例えば、 2 _クロロー 2—プロべ ン— 1—ィルチオ等が挙げられる。
C 26 アルキニルチオ基としては、 例えば、 プロパルギルチオ、 2—プチ ン— 1ーィルチオ、 3—ブチン— 2—ィルチオ等が挙げられる。
C 6 _ ! 0 ァリールチオ基としては、 例えば、 フエ二ルチオ、 ナフチルチオ 等が挙げられる。
C 7 _ 1 2 ァラルキルチオ基としては、 例えば、 ベンジルチオ、 フエネチル チォ等が挙げられる。
C , _ 6 アルキルスルホニル基としては、 例えば、 メチルスルホニル、 ェチ ルスルホニル、 n—プロピルスルホニル、 イソプロピルスルホニル、 n—ブチ ルスルホニル、 イソブチルスルホニル、 s e cーブチルスルホニル、 t e r t
—ブチルスルホニル、 n—ペンチルスルホニリレ、 s e c—ペンチルスルホニル、 イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、 n—へキシルスルホニル、 ィソへキシルスルホニル等が挙げられる。
C 3 - 6 シクロアルキルスルホニル基としては、 例えば、 シクロプロピルス ルホニル、 シクロプチルスルホニル、 シクロペンチルスルホニル等が挙げられ る。
C , _ 6 ハロアルキルスルホニル基としては、 例えば、 クロロメチルスルホ ニル、 トリフォロメチルスルホニル等が挙げられる。
C 2 _ 6 ァルケニルスルホニル基としては、 例えば、 ァリルスルホニル、 メ 夕リルスルホニル等が挙げられる。 C 2 _ 6 ハロアルケニルスルホニル基としては、 例えば、 2—クロロー 2— プロペン一 1—ィルスルホニル等が挙げられる。
' C 2 _ 6 アルキニルスルホニル基としては、 例えば、 プロパルギルスルホニ ル等が挙げられる。
C 6 — ェ 。 ァリールスルホニル基としては、 例えば、 フエニルスルホニル、 ナフチルスルホニル等が挙げられる。
C 7 _ ! 2 ァラルキルスルホニル基としては、例えば、ベンジルスルホニル、 フエネチルスルホニル等が挙げられる。
C , _ 7 アルカノィル基としては、 例えば、 ホルミル、 ァセチル、 プロピオ ニル、プチリル、イソプチリル、ペンタノィル、へキサノィル等が挙げられる。 c 2 _ 7 アルコキシカルポニル基としては、 例えば、 メトキシカルボニル、 エトキシカルポニル、 n _プロポキシカルボニル、イソプロポキシ力ルポニル、 n—ブトキシカルポニル、 イソブトキシカルボニル等が挙げられる。
■C 27 ハロアルコキシ力ルポニル基 (例えば、クロロメトキシカルポニル、 プロモメトキシカルボニル、(1 一クロ口)エトキシカルボニル等が挙げられる。
C 47 シクロアルキルォキシカルポニル基としては、 例えば、 シクロプロ ピルォキシカルボニル、 シクロブチルォキシカルポニル、 シクロへキシルォキ シカルポニル等が挙げられる。
C 3 - 7 アルケニルォキシカルボニル基としては、 例えば、 ァリルォキシ力 ルポニル、 1 —ブテン— 3 —ィルォキシカルボニル、 3—ブテン— 1 _ィルォ キシカルボニル等が挙げられる。
C 3 - 7 ハロアルケニルォキシカルボニル基としては、 例えば、 2—クロ口 - 2—プロペン— 1ーィルォキシカルポニル等が挙げられる。
C 7 _ ! ! ァリールカルボニル基としては、 例えば、 ベンゾィル、 ナフタレ ンカルポニル等が挙げられる。
C 3 - 7 アルキニルォキシカルポニル基としては、 例えば、 プロパルギルォ キシカルポニル、 2—ブチン— 1—ィルォキシカルボニル、 3—ブチンー 2 _ ィルォキシカルボニル等が挙げられる。
C , ― 6 アルコキシ—C^ ― 4 アルキル基としては、 例えば、 メトキシメチ ル、 エトキシメチル、 n—プロボキシメチル、 イソプロポキシメチル等が挙げ られる。
C x _ 6 アルコキシ _ d _ 4 アルキルチオ基としては、 例えば、 メトキシ メチルチオ、 エトキシメチルチオ、 メトキシェチルチオ等が挙げられる。
C 1 _ 6 アルコキシ— ― 4 アルコキシ基としては、 例えば、 メトキシメ トキシ、 エトキシメトキシ、 n—プロボキシメトキシ、 i—プロボキシメトキ シ、 n —ブトキシメトキシ等が挙げられる。
C 26 アルケニルォキシ—C i _ 4 アルキル基としては、 例えば、 ァリル ォキシメチル、 1 _ブテン一 3 _ィルォキシメチル、 3—ブテン _ 1 _ィルォ キシメチル等が挙げられる。
C 2 _ 6 アルキニルォキシ一 _ 4 アルキル基としては、 例えば、 プロパ ルギルォキシメチル、 2—ブチン— 1 一^ Γルォキシメチル、 3 _ブチンー 1— ィルォキシメチル等が挙げられる。
C 3 - 6 シクロアルコキシ—C i _ 4 アルキル基としては、 例えば、 シクロ プロピルォキシメチル、 シクロブチルォキシメチル等が挙げられる。
c 27 アルコキシカルボニル— _ 4 アルキル基としては、 例えば、 メ トキシカルポニルメチル、 エトキシカルボニルメチル、 イソプロポキシカルボ ニルメチル、 s e c _ブトキシカルボニルメチル、 1一 (メトキシカルポニル) ェチル等が挙げられる。
C 3 - 7 アルケニルォキシカルボ二ルー ― 4 アルキル基としては、 例え ば、 ァリルォキシカルボニルメチル、 1ーブテン一 3—ィルォキシカルボニル メチル、 3—ブテン一 1ーィルォキシカルボニルメチル等が挙げられる。
C 37 アルキニルォキシカルポニル—d _ 4 アルキル基としては、 例え ば、 プロパルギルォキシ力ルポニルメチル、 2—ブチン一 1—ィルォキシカル ポニルメチル、 3—ブチン— 2—ィルォキシカルポニルメチル等が挙げられる。
C 47 シクロアルコキシ力ルポ二ルー ― 4 アルキル基としては、 シク 口プロピルォキシカルポニルメチル、シク口へキシルォキシカルボニルメチル、 1— (シクロプロピルォキシカルボニル) ェチル等が挙げられる。
C 2 _ 7 ハロアルコキシカルボニル—じェ ― 4 アルキル基としては、例えば、 クロロメトキシカルボニルメチル、 2—クロ口エトキシカルポニルメチル、 2 一 (クロロメトキシカルボニル) ェチル等が挙げられる。
C 3 - 7 ハロアルケニルォキシカルボニル _ C i _ 4 アルキル基としては、 例えば、 2—クロ口— 2—プロペン— 1—ィルォキシカルボニルメチル等が挙 げられる。
C 7 _ ! 2 ァラルキルォキシカルボニル _ C i ― 4 アルキル基としては、 例 えば、 ベンジルォキシカルボニルメチル、 2— (ベンジルォキシカルボニル) ェチル、 フエネチルォキシカルボニルメチル等が挙げられる。
C 2 _ 6 アルコキシ力ルポニル— ― 4 アルコキシ基としては、 例えば、 メトキシカルボニルメトキシ、 エトキシカルポニルメトキシ、 n—プロポキシ カルボニルメトキシ、 イソプロポキシカルボニルメトキシ、 n—ブトキシカル ポニルメトキシ、 イソブトキシカルポニルメトキシ、 s e c —ブトキシカルボ ニルメトキシ、 t e r t _ブトキシカルポニルメトキシ、 n—ペンチルォキシ 力ルポニルメトキシ、 1— (メトキシカルボニル) エトキシ、 1— (エトキシ 力ルポニル) エトキシ等が挙げられる。
C 3 - 7 アルケニルォキシカルボニル— C , ― 4 アルコキシ基としては、 例 えば、 ァリルォキシカルボニルメトキシ、 1 —ブテン— 3 —ィルォキシカルポ ニルメトキシ、 3—ブテン一 1ーィルォキシカルボニルメトキシ等が挙げられ る。
C 3 - 7 アルキニルォキシカルボニル— ― , アルコキシ基としては、 例 えば、 プロパルギルォキシカルボニルメ卜キシ、 2—ブチン一 1ーィルォキシ 力ルポニルメトキシ、 3—ブチン— 2—ィルォキシカルボニルメトキシ等が挙 げられる。
C , _ 6 アルキルチオ— C i ― 4 アルキル基としては、 例えば、 メチルチオ メチル、 ェチルチオメチル等が挙げられる。
C , ― 6 アルコキシ— ― 4 アルキルチオ基としては、 例えば、 メトキシ メチルチオ、 エトキシメチルチオ、 メトキシェチルチオ等が挙げられる。
C x _ 6 アルキルスルホ二ルー ― 4 アルキル基としては、 例えば、 メチ ルスルホニルメチル、 ェチルスルホニルメチル等が挙げられる。
酸素原子、 ィォゥ原子および窒素原子から選択される 1ないし 2個含有して いてもよい環状アミノ基としては、 例えば、 モルホリノ基、 ピロリジノ基、 ピ ペリジノ基等が挙げられる。
窒素原子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を 含有する 3〜 6員の複素環基としては、 例えば、 ォキシラニル基、 ォキセ夕二 ル基、 2 _ォキソォキセ夕ニル基、 テトラヒドロフリル基、 2—ォキソテトラ ヒドロフリル基、 フリル基、 チェニル基、 ピロリル基、 ピロリジニル基、 ォキ サゾリル基、 チアゾリル基、 イミダゾリル基、 イソォキサゾリル基、 イソチア ゾリル基、 ピラゾリル基、 テトラヒドロピラニル基、 2—ォキソテトラヒドロ ピラエル基、 ピリジル基、 ピペリジル基、 ピリミジニル基、 ピリダジニル基、 ビラジニル基、 モルホリニル基、 ピペラジニル基、 1 , 3, 5 _トリアジニル 基、 1 , 2 , 4—トリアジニル基などが挙げられる。
1〜 2個の窒素原子及び 0〜 1個の酸素原子を含有する 5〜 6員の複素環基 としては、 例えば、 1一ピロリジニル基、 1 _ピロリル基、 2—イソォキサゾ リジニル基、 1一ピラゾリル基、 1 _イミダゾリル基、 1—ピペリジル基、 4 —モルホリニル基、 ペルヒドロー 1 , 2—ォキサジン一 2—ィル基、 1—ピぺ ラジニル基等などが挙げられる。 一般式 (1) から一般式 (6) で表わされる化合物には、 上記した各記号の 中からそれぞれ任意に選択した基を組み合わせた化合物全てが包含されるが、 特に好ましい化合物としては、 次の化合物が挙げられる。
(a) R1がじ卜 6ハロアルキル基であり、 特に好ましくは、 ジフルォロメチ ル基であり、 P1はシァノ基が特に好ましく、 また、 Q1が水酸基、 じ卜6アル コキシ基、 C2_6アルケニルォキシ基、 C2 6アルキニルォキシ基、 Ci 6アル コキシカルボニル Ci_4アルコキシ基または窒素上に置換基を有していてもよ いアルキルスルホニルァミノ基等であり、 特に好ましくは、 メトキシ、 プロパ ルギルォキシまたはェ卜キシカルボニルメトキシであり、 窒素上にァセチル基 を有していてもよいメチルスルホニルァミノまたはェチルスルホニルァミノで ある一般式 (1) で表される化合物。
(b) R2が〇卜6ハロアルキル基であり、 特に好ましくは、 ジフルォロメチ ル基であり、 P2が、 ハロゲンであり、 特に好ましくは塩素であり、 また、 Q2 がホルミル基、 シァノ基または CH = NOX3'' (X3''は、 水素原子、 アルキル基) であり、 特に好ましくは、 ホルミル基、 シァノ基、 CH = NOH または CH = NOCH3である一般式 (2) で表される化合物。
( c ) R 3がハロゲン原子で置換されていてもよい Cェ アルキル基であり、 特に好ましくは、 ジフルォロメチル基であり、 Q3が、 水酸基、 アルコキ シ基、 C2_6アルケニルォキシ基、 C2_6アルキニルォキシ基、 アルコキ シカルボニル (:ェ アルコキシ基またはアルキルスルホニルァミノ基等であり、 特に好ましくは、 水酸基、 イソプロボキシ、 プロパルギルォキシ、 エトキシカ ルポニルメトキシ、 メチルスルホニルァミノまたはェチルスルホニルァミノで ある一般式 (3) で表される化合物。
(d) R4がじ卜 6ハロアルキル基であり、 特に好ましくは、 ジフルォロメチ ル基であり、 P4が、 ハロゲン、 シァノ基であり、 特に好ましくは塩素、 シァ ノ基である。 P4が塩素である場合、 Q4が、 C 6アルコキシ基、 C2_6アル ケニルォキシ基、 C2_6アルキニルォキシ基、 アルコキシ力ルポ二ル^ _4アルコキシ基または C 6アルコキシカルボニル基、 アルキルスルホニルァ ミノ基等であり、 特に好ましくは、 イソプロボキシ、 プロパルギルォキシ、 ェ トキシカルポニルメトキシ、 エトキシカルポニル、 メチルスルホニルァミノま たはェチルスルホニルァミノであり、また、 P 4がシァノ基である場合、 Q 4が、 アルキルスルホニルァミノ基であり、 特に好ましくは、 ェチルスルホニルアミ ノである一般式 (4) で表される化合物。
(e) R4が アルキル基であり、 特に好ましくは、 メチル基であり、 P 4が八ロゲンであり、 特に好ましくは塩素であり、 Q4が、 イソプロポキシ力 ルポニル基が好ましい一般式 (4) で表される化合物。
( f ) R4がハロゲンで置換されていてもよい アルコキシ基であり、 特に好ましくはメトキシ基であり、 P4が、ノ、ロゲン、 シァノ基であり、 特に 好ましくは塩素、 シァノ基である。 P 4が塩素である場合、 Q4が、 イソプロボ キシ基であり、 P 4がシァノ基である場合、 Q4が、 窒素上に置換基を有するメ チルスルホニルァミノ基であり、 窒素上の置換基として、 特に好ましくは、 プ 口ピル基、 ァリル基、 プロパルギル基、 メトキシメチル基、 ァセチル基、 プロ ピオニル基、 プチリル基、 メトキシカルボニル基、 エトキシカルボニル基また はプロピルォキシカルボニル基である。 また、 窒素上に置換基を有するェチル スルホニルァミノ基であり、 窒素上の置換基として、 特に好ましくは、 メチル 基、 ェチル基、 プチリル基、 メトキシカルポニル基、 エトキシカルポ二ル基ま たはァリル基である一般式 (4) で表される化合物。
(g) R5がハロゲンで置換されていてもよい 6アルキル基であり、 特 に好ましくは、 ジフルォロメチル基であり、 Q5が、 — S02X5 (X 5は前記定 義に同じ。) で表される基であり、 特に好ましくは X5がァセチルァミノ基、 メ トキシァセチルァミノ基、 プチリルアミノ基、 イソプチリルアミノ基、 メトキ シカルボニルァミノ基またはエトキシカルボニルァミノ基である一般式 (5) で表される化合物。
(h) R6がハロゲンで置換されていてもよい(^-6アルキル基であり、 特 に好ましくは、 ジフルォロメチル基であり、 Q6が、 アルコキシ基、 C2 _6アルケニルォキシ基、 C2 6アルキニルォキシ基、 Ci-eアルコキシカルボ ニル (^ アルコキシ基またはアルキルスルホニルァミノ基等であり、 特に好 ましくは、 メトキシ、 プロパルギルォキシ、 エトキシカルボニルメトキシ、 メ チルスルホニルァミノまたはェチルスルホニルァミノである一般式 (6) で表 される化合物。
本発明の化合物は、 分子中の置換分中のスルホ基、 力ルポキシル基等の酸性 基が無機塩基、 有機塩基等と農業化学的に許容されうる塩基付加塩を形成する ことができ、 また、 分子中の塩基性の窒素原子および置換基中のアミノ基等の 塩基性基が無機酸、 有機酸等と農業化学的に許容されうる酸付加塩を形成する ことができる。 無機塩基塩としては、 例えば、 アルカリ金属 (例えば、 ナトリ ゥム、 カリウム等)、 アルカリ土類金属 (例えば、 カルシウム等)、 アンモニア などとの塩、 また、 有機塩基塩としては、 例えば、 ジメチルァミン、 トリェチ ルァミン、 N, N-ジメチルァニリン、 ピぺラジン、 ピロリジン、 ピぺリジン、 ピリジン、 2-フエニルェチルァミン、 ベンジルァミン、 エタノールァミン、 ジ エタノールァミン、 1, 8-ジァザビシクロ [5, 4, 0]— 7—ゥンデセン (以 下、 DBUと略称する) 等との塩などが用いられる。 化合物 (1) 〜 (6) の 無機酸付加塩としては、 例えば、 塩酸、 臭化水素酸、 よう化水素酸、 硫酸、 硝 酸、 リン酸、 過塩素酸等との塩が、 化合物 (1) 〜 (6) の有機酸付加塩とし ては、 例えば、 ギ酸、 酢酸、 プロピオン酸、 蓚酸、 コハク酸、 安息香酸、 p— トルエンスルホン酸、 メタンスルホン酸、 トリフルォロ酢酸等との塩が用いら れる。
本発明の化合物またはその塩は、 安全性に優れた農薬、 例えば、 除草剤とし て使用することができる。 特に、 除草剤として有用であり、 例えば、 極めて低 薬量で広範囲の雑草、 例えば、 タイヌビエ、 夕マガヤッリ、 ィヌホ夕ルイ、 コ ナギ、 ゥリカヮ、 マツバイ、 ミズガヤッリ、 クログワイ、 ヘラォモダカ、 ォモ ダカ、 夕イワンャマイ、 ァゼナ、 キカシダサ、 ヒルムシ口、 チヨウジ夕デ、 ミ ゾハコべ等の水田雑草、 メヒシバ、 ェノコログサ、 ァオビュ、 ィチビ、 ァカザ、 ィヌ夕デ、 スベリヒュ、 アメリカキンゴジガ、 シロバナチヨウセンアサガオ、 マルバアサガオ、 ォナモミ、 ヒメィヌビエ、 ォォクサキビ、 セィバンモロコシ、 ハマスゲ、 カラスムギ、 ブラックグラス、 ゥマノチヤヒキ、 コハコべ、 力ラシ ナ類、 ェビスダサ、 力ミツレ、 ツユクサ等の畑地雑草に対して優れた殺草力を 有するのみならず、 稲,小麦、 大麦、 トウモロコシ、 大豆、 綿等の作物に対して 薬害はほとんどなく、 高い安全性を示す。 本発明の化合物またはその塩は、 作 物と各種雑草との間に優れた選択的除草効果を示し、 哺乳動物や魚介類に対し て低毒性で、 環境を汚染することもなく、 水田、 畑、 果樹園あるいは非農耕地 用の除草剤として極めて安全に使用することができる。
本発明の化合物またはその塩を農薬、 特に、 除草剤として使用するにあたつ ては、 一般の農薬のとりうる形態、 すなわち、 化合物またはその塩の 1種また は 2種以上を使用目的によって適当な液体担体に溶解するか分散させるか、 ま たは適当な固体担体と混合するか吸着させ、 例えば乳剤、 油剤、 噴霧剤、 水和 剤、 粉剤、 D L (ドリフトレス)型粉剤、 粒剤、 微粒剤、 微粒剤 F、 フロアブル 剤、 ドライフロアブル剤、 ジャンボ粒剤、 錠剤等の製剤として使用する。 これ らの製剤は必要に応じて、 例えば乳化剤、 分散剤、 展着剤、 浸透剤、 湿潤剤、 粘漿剤、安定剤等を添加してもよく、 自体公知の方法で調製することができる。 使用する液体担体 (溶剤)としては、 例えば、 水、 アルコール類 (例えば、 メタ ノール、 エタノール、 1 _プロパノール、 2 _プロパノール、 ェテレングリコ ール等)、ケトン類 (例えば、 アセトン、 メチルェチルケトン等)、エーテル類 (例 えば、 ジォキサン、 テトラヒドロフラン、 エチレングリコールモノメチルエー テル、 ジエチレングリコールモノメチルエーテル、 プロピレングリコ一ルモノ メチルエーテル等)、脂肪族炭化水素類 (例えば、 ケロシン、燃料油、機械油等)、 芳香族炭化水素類 (例えば、ベンゼン、 トルエン、キシレン、 ソルベントナフサ、 メチルナフタレン等)、 ハロゲン化炭化水素類 (例えば、 ジクロロメタン、 クロ 口ホルム、 四塩化炭素等)、 酸アミド類 (例えば、 ジメチルホルムアミド、 ジメ チルァセトアミド等)、 エステル類 (例えば、 酢酸ェチルエステル、 酢酸ブチル エステル、 脂肪酸グリセリンエステル等)、 二トリル類 (例えば、 ァセトニトリ ル、 プロピオ二トリル等)などの溶媒が適当であり、 これらは 1種または 2種以 上を適当な割合で混合して使用する。 固体担体 (例えば希釈 ·増量剤等)として は、 植物性粉末 (例えば、 大豆粉、 タバコ粉、 小麦粉、 木粉等)、 鉱物性粉末 (例 えば、 カオリン、 ベントナイト、 酸性白土、 クレイ等のクレイ類、 滑石粉、 口 ゥ石粉等のタルク類、 珪藻土、 雲母粉等のシリカ類等)、 アルミナ、 硫黄粉末、 活性炭等が適当であり、 これらは 1種または 2種以上を適当な割合で混合して 使用する。 該液体担体または固体担体は、 製剤全体に対して通常約 1〜9 9質 量%程度、 好ましくは約 1〜8 0質量%程度用いることができる。
乳化剤、 展着剤、 浸透剤、 分散剤等として使用される界面活性剤としては、 必要に応じて石鹼類、 ポリォキシエチレンアルキルァリールエーテル類(例え ば、 ノィゲン T M、 ィー ェ一 142 (E A142T M、 TMは登録商標であることを示 す。 以下同様;第一工業製薬 (株)製)、 ポリオキシエチレンァリールエステル類 (例えば、 ノナール T M ;東邦化学 (株)製)、 アルキル硫酸塩類 (例えば、 エマ一 ル 1 0 T M、 エマール 4 0 T M ;花王 (株)製)、 アルキルスルホン酸塩類 (例えば、 ネオゲン T M、ネオゲン TT M;第一工業製薬 (株)製、ネオべレックス T M;花王 (株) 製)、 ポリエチレングリコールエーテル類 (例えば、 ノニポール 8 5 T M、 ノニポ ール 1 0 0 T M、 ノニポール 1 6 0™;三洋化成 (株)製)、 多価アルコールエステ ル類 (例えば、 トウイーン 2 0 T M、 トウイーン 8 0 T M ;花王 (株)製)等の非ィォ ン系およびァニオン系界面活性剤が用いられる。 該界面活性剤は、 製剤全体に 対して、 通常約 0 . 1〜約 5 0質量%程度、 好ましくは約 0 . 1〜2 5質量% 程度用いることができる。 本発明の化合物またはその塩の除草剤中の含有割合 は乳剤、 水和剤等の場合は約 1〜90質量%程度が適当であり、 油剤、 粉剤、 DL (ドリフトレス) 型粉剤等としては約 0. 01〜10質量%程度が適当で あり、 微粒剤 F、 粒剤としては約 0. 05〜10質量%程度が適当であるが、 使用目的によっては、 これらの濃度を適宜変更してもよい。 乳剤、 水和剤等は 使用に際して、 水などで適宜希釈増量 (例えば 100〜 100, 000倍) し て散布する。
化合物 (1) 〜 (6) またはその塩を除草剤として用いる場合の使用量は、 適用場面、 適用時期、 施用方法、 対象雑草、 栽培作物等により異なるが一般に 有効成分 (化合物 (1) 〜 (6) またはその塩) として水田 1アール当たり約 0. 05 gから 50 g程度、 好ましくは約 0. l gから 5 g程度、 畑地 1ァー ル当たり約 0. 048から 108程度、 好ましくは約 0. 088から5 程度 である。 化合物 (1) 〜 (6) またはその塩は、 畑地雑草用としては、 発芽前 土壌処理あるいは茎葉兼土壌処理剤として使用するのが適用である。 例えば、 本発明の除草剤は 2〜 3週間後でも実質的に薬害が発現することなく安全に使 用できる。
本発明の化合物 (1) 〜 (6) またはその塩を含有する除草剤は、 必要に応 じて、 1種または 2種以上 (好ましくは 1〜3種) の他の除草剤、 植物生長調 節剤、 殺菌剤、 殺虫剤、 殺ダニ剤、 殺線虫剤等と同時に施用することができる。 また該 1種または 2種以上 (好ましくは 1〜3種) の他の除草剤、 植物生長調 節剤、 殺菌剤、 殺虫剤、 殺ダニ剤、 殺線虫剤等を配合し、 混合使用することも できる。
他の除草剤 (除草活性成分)としては、 例えば、 (1) スルホニル尿素系除草 剤 [ク ロルスルフ ロ ン (chlors furon) 、 スリレホメ ッ ロ ンメチル (sul fometuron-methyl) , クロリムロン工チリレ (chlorimuron- ethyl)、 トリァス ルフロン(triasu uron)、 アミドスルフロン(amidosul furon)、ォキサスルフ口 Xoxasulfuron), トリべニュロンェチル(tribenuron-methyl)、 プロスルフロ ン(prosulfuron)、ェ夕メトスルフロンメチル(ethametsul furon-methyl)、 トリ フルスルフロンメチル(triflusulfuron- methyl)、 チフェンスルフロンメチル (thifensulfuron-methyl), フルザスルフロン(f lazasul furon)、 リムスルフ口 ン(rimsulfuron)、 ニコスルフロン(nicosulfuron)、 フルピルスルフロン (flupyrsulfuron), ベンスルフロンメチル(bensul furon- methyl)、 ピラゾスル フロンェチリレ (pyrazosulfuron— ethyl)、イマゾスリレフロン (imazosul furoru、ス ルホスルフロン(sulfosulfuron)、 シノスルフロン(cinosulfuron)、アジムスル フロン(azimsulfuron)、 メトスルフロンメチル(metsul furon- methyl)、 ハロス ル フ ロ ン メ チル (halosul furon - methyl) 、 ェ ト キ シ ス ル フ ロ ン (ethoxysul furon)、 シクロスルファムロン (cyclosul famuron)等]、
(2) ピラゾール系除草剤 [ピラフルフェンェチル (pyrafluf en-ethyl)、 ビラ ゾレート (pyrazolate)、 ピラゾキシフェン (pyrazoxyfen)、 ベンゾフエナップ (benzofenap)等]、 (3) カーバメート系除草剤 [ジァレート(di-al late)、 プチ レー ト (butylate)、 ト リアレー ト (tri-al late)、 フェンメディ ファム (phenmedi ham; , クロロブ口ファム (chlorpropham)、 ァシュラム sulam)、 フ ェニソファム(phenisopham)、 ベンチォカーブ(benthiocarb)、 モリネ一卜 (molinate), エスプロカルプ(esprocarb)、 ピリブチカルプ(pyributicarb)、 ジ メピペレ一ト(dimepiperate;)、 スエップ(swep)等]、 (4) クロロアセトァニリ ド系除草剤 [プロパクロール(propachlor)、 メタザクロール(metazachlor)、 ァ ラクロ一ル (alachlor)、 ァセトクロール (acetochlor)、 メ トラクローリレ (metolachlor)、 ブタクローリレ(butachlor)、プレチラクロール(pret i lachlor)、 テニルクロ一ル(thenylchlor)、 ジメテナミド(dimethenamid)等]、 (5) ジフエ ニルエーテル系除草剤 [ァシフルオルフェン(ac i Π uorfen)、 ォキシフルオルフ ェン oxyfluor fen)、 ラク卜フェン (1 actofen)、 フオメサフェン (fomesafen)、 ァクロニフェン(aclonifen)、 クロメトキシニル(chlomethoxynil)、 ビフエノッ クス(bifenox)、 CNP等]、
(6) トリアジン系除草剤 [シマジン(simazine)、 アトラジン(atrazine)、 プロ パジン (propazine)、 シアナジン (cyanazine)、 ァメトリン (ametoryn)、 シメト リン (simetryn)、 ジメ夕メ卜リン (dimethametryn)、 フロメ卜リン tprometryn) 等]、 (7) フエノキシ酸または安息香酸系除草剤 [2,3,6-TBA、 ジカンパ (dicamba)、 キンク口ラック (quinclorac)、 千ンメラック (quinmerac)、 クロピ ラリ ド (clopyral id)、 ピクロラム (picloram)、 トリクロピル (triclopyr)、 フル ロキシピル(fluroxypyr)、 べナゾリン(benazol in)、 ジクロホップメチル (diclofop-methyl), フルアジホップブチル(fluazi fop- butyl)、 ハロキシホッ プメチル(haloxyfop-methyl)、 キザロホップェチル(quizalofop-ethyl)、 シハ 口ホップブチル(cyhalohop-butyl)、 2,4_PA、 MCP、 MCPB、 フエノチオール (phenothiol)等]、 ( 8 ) 酸アミ ド系または尿素系除草剤 [イソキサベン (isoxaben), ジフルフエ二カン(di f lufenican)、 ジゥロン(diuron)、 リニュ口 ン(1 inuron)、フルオメッ口ン(f luometuron)、ジフエノクスロン(di fenoxuron)、 メチルダィムロン(methy卜 daimuron)、 イソプロッロン(isoproturon)、 イソゥ ロン(isouron)、 テブチウロン(tebuthiuron)、 メタべンゾチアズゥロン (methabenzthiazuron)、 フ-ロノ、0ニリレ (propani 1)、 メフェナセッ卜 (mefenacet)、 クロメプロップ(clomeprop)、 ナプロアニリ ド(naproani 1 ide)、 ブロモブチド (bromobut ide)、 ダイムロン (daimuron)、 クミリレロン (cumyluron)、 エトベンザ ニド(etobenzanid)等]、
( 9 ) 有機リン系除草剤 [ダリホサート(glyphosate)、 ダルホシネート ( glufosinate ) ビ ア ラ ホ ス (bialaphos) 、 ア ミ プロ ホス メ チル (ami rof os-methyl), ベンスリ ド(bensul ide)、 ピぺロホス(piperophos)、 ブタ ミホス(butamifos;)、 ァニロホス(ani lofos)等]、 (10) ジニトロア二リン系除 草剤 [ブロモキシニル(bromoxynil)、 アイォキシニル(ioxyni 1)、 ジノセブ (dinoseb)、 トリフルラリン(tr i flural in)、 プロジァミン(prodi amine)、 ディメタリン(pendimethalin)等]、 (1 1) シクロへキサンジオン系除草剤 [ァ ロキシジム(alloxydim)、 セ卜キシジム(sethoxydim)、 クロプロキシジム (cloproxydim)、 クレソジム (clethodim)、 シクロキシジム (cycloxydim)、 卜ラ ルコキシジム(tralkoxydim)、 スルコトリオン(sulcotrione)、 メソトリオン (mesotrione)等]、 ( 1 2 ) イミダゾリ ン系除草剤 [イマザメタべンズ (imazamethabenz)、 イマザピリレ (imazapyiv、 イマザメタヒ レ (imazamethapyr)、 イマゼタピル(imazethapyr)、 イマザモックス(imazamox)、 イマザキン (imazaquin)等]、 (13) ビビリジゥム系除草剤 [パラコート(paraquat;)、 ジク ヮット(diquat)等]、
( 1 4) その他の系統の除草剤 [ベン夕ゾン(bentazon)、 トリジファン (tridiphane)、 インダノフアン(indanofan)、 アミトロール(ami trole)、 カルフ ェ ン ト ラゾンェチル(carfentrazone- ethyl) 、 スルフェ ン ト ラゾン (sur f entrazone)、 フェンク□ラ"/——リレエナリレ (fenchlorazole—ethyl)、 フェン トラザミド(fentrazamide)、 イソキサフルト一ル(isoxaflutole)、 クロマゾン (clomazone 、 マレイン酸ヒ ドラジ ド (maleic hydrazide)、 ピリ ^— ト (pyr idate) , クロリタゾン (chlor idazon)、 ノルフルラゾン (nor f lurazon)、 ピ リチォバックナトリウム(pyrithiobac-sodium)、 ブロマシル(bromaci 1)、 ター ノ シル(terbacil)、 メ トリブジン(metribuzin)、 ォキサジクロメホン (oxaziclomefone) > シンメチリン (cinmethyl in)、 フルミクロラックペンチル (f lumiclorac-pentyl) , シニドンェチリレ(cinidon - ethyl)、 フルミオキサジン (flumioxazin), フルチアセットメチル(fluthiacet- methyl), ァザフエ二ジン (azafenidin , ベンフレセ一ト (benfuresate)、 ォキサジァゾン xadi azon)、 ォキサジアルギル(oxadiargyl)、 ペントキサゾン(pentoxazone)、カフエンスト ロール(cafens ole)、 ピリミノノ ソクメチル(pyriminobac— methyl)、 ビスピリ ノヾックナトリウム (bispyribac - sodium)、 ピリべンゾキシム pyr ibenzoxim)、 ピ リフタリ ド(pyr talid)、 インダノフアン (inclanofan)、 ACN、 ベンゾビシクロ ン (benzobicyclon)、 ジチォピル(di thiopyr)、 ダラポン(dalapon)、 クロルチ アミド((;11101^1&11^)等) 等が挙げられる。
植物生長調節剤 (植物生長調節活性成分)としては、 例えば、 ヒメキサゾール (hymexazol)、 パク口ブトラゾール(paclobutrazol)、 ゥニコナゾール— P(uniconazole-P)、 イナべンフイド(inabenf ide)、 プロへキサジオンカルシゥ ム(prohexadi one - calcium)等が挙げられる。
殺菌剤 (殺菌活性成分)としては、 例えば、 (1) ポリ八ロアルキルチオ系殺菌 剤 [キヤブタン(captan)等]、 (2) 有機リン系殺菌剤 [IBP、 EDDP、 トルクロフ ォスメチル(tolclofos-methyl)等]、 (3)ベンズイミダゾ一ル系殺菌剤 [ベノミ ル(benomyl)、 カルベンダジム(carbendazim)、 チオファネートメチル (thiophanate-methyl)等]、 (4) カルボキシアミ ド系殺菌剤 [メプロニル (mepronil), フルトラニル(f lutolani 1)、 チフルザミド(thi f luzamid)、 フラメ ト ピル(furametpyr)、 テク口フタラム(teclof thalam)、 ペンシク ロン (Pencycuron)、 カリレフロノ ミド (carpropamid)、 ジクロシメッ卜 (diclocymet) 等]、 (5) ァシルァラニン系殺菌剤 [メタラキシル (metalaxyl)等]、 (6) ァゾ ール系殺菌剤 [ ト リ フルミゾール(triflumizole)、 ィ プコナゾール (ipconazole) ,ぺフラゾェ一ト tpefurazoate)、 フログロラズ (prochloraz)等]、 (7) メトキシアクリル酸系殺菌剤 [ァゾキシストロビン(azoxystrobin)、 メト ミノストロビン(metominostrobin)等]、 (8) 抗生物質系殺菌剤 [バリダマイシ ン A validamycin A)、 ブラストサイジン S(blasticidin S)、 カスガマイシン (kasugamycin), ポリオキシン(polyoxin)等]、 (9) その他の殺菌剤 [フサライ ド (fthalide) 、 プロべナゾール(probenazole) 、 イ ソ プロチオラ ン (isoprothiolane)、卜リシクラゾーゾレ( 1じ (;1&2016 、ピロキロン pyroqui In)、 フェリムゾン(ferimzone)、 ァシベンゾラリレ Sメチリレ(acibenzolar S-methyl) > ジクロメジン(diclomezine)、 才キソリニック酸(oxol inic ac i d)、 フエナジン ォキシド(phenazine oxide), TPN、 ィプロジオン(iprodione)等]等があげられ る。
殺虫剤 (殺虫活性成分)としては、 例えば、 (1) 有機リン系殺虫剤 [フェンチ オン(fenthion)、 フエニトロチオン(feni trothion)、 ピリミホスメチル (pirimiphos-methyl), ダイアジノン(diazinon)、 キナルホス(quinalphos)、 ィ ソキサチオン(isoxathion)、 ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、 クロルピ リホスメチル(chlo卬 yrifos- methyl), バミドチオン(vamidothion)、 マラチォ ン(malathion)、 フェントエー卜 (phenthoate)、 ジメトエート (dimethoate)、 ジ スルホトン(disulfoton)、モノクロトホス(monocrotophos)、テトラクロルビン ホス(tetrachlorvinphos)、 クロルフェンビンホス(chlorienvinphos)、 プロパ ホス(propaphos)、 ァセフエ一卜(acephate)、 卜りクロルホン(trichlorphon)、 EPN、 ピラクロホス(pyraclofos)等]、 (2) 力ルバメート系殺虫剤 [力ルバリル (carbaryl), メトルカルブ(metolcarb)、 イソプロカルプ(isoprocarb)、 BPM プロボキスル(propoxur)、 XMC、 カルボフラン(carbofuran)、 カルボスルファン (carbosulfan) 、 ベ ンフ ラ カルブ (benfuracarb) 、 フ ラ チォカ ルプ (furathiocarb), メソミル(methomyl)、 チォジカルプ(thiodicarb)等]、 (3) 合成ピレスロイド系殺虫剤 [シクロプロトリン(cycloprothrin)、 エトフェンプ ロックス(ethofenprox)等]、 (4) ネライストキシン系殺虫剤 [カルタップ (cartap), ベンスルタップ(bensul tap)、 チオシクラム(Ihiocyclam)等]、 (5)ネオニコチノィド系殺虫剤 [イミダクロプリ ド(imidacloprid)、二テンピ ラム(ni tenpyram)、 ァセ夕ミプリ ド (acetamiprid)、 チアメ トキサム (thiamethoxam), チアクロプリド (3—(6—クロロー 3—ピリジルメチル)一 1, 3 — チ ア ゾ リ ジ ン 一 2 — イ リ デ ン シ ァ ナ ミ ド ) (thiacloprid (3 - (6 - chloro - 3 - pyr idylmethyl)-l, 3-thiazol idin-2-yl idenecyanamide) )、 ジノテフラン(dinotefuran)、 クロチア二ジン(clothianidin)等]、 (6) その他 の殺虫剤 [ブプロフエジン(buprofezin)、テブフエノジド(tebufenozide)、 フィ プロニル(fipronil)等]等があげられる。 殺ダニ剤 (殺ダニ活性成分)としては、 例えば、 へキシチアゾクス(hexythiazox)、 ピリダベン(pyridaben)、 フェンピ 口キシメ一ト (fenpyroximate)、テブフェンピラド (tebufenpyrad)、 クロリレフエ ナビル(chlorfenapyr)、 エ トキサゾール(etoxazole)、 ピリミジフェン (pyrimidi fen)等が挙げられる。
殺線虫剤(殺線虫活性成分)としては、 例えば、 フォスチアゼート
(fosthiazate)等が挙げられる。 このような他の農薬活性成分 (例えば、 除草活 性成分、 植物生長調節活性成分、 殺菌活性成分、 殺虫活性成分、 殺ダニ活性成 分、 殺線虫活性成分など)は製剤全体に対して通常約 0. 1〜20質量%程度、 好ましくは約 0. 1〜10質量%程度用いることができる。
本発明の化合物 (1) 〜 (6) またはその塩を含有する除草剤には、 更に共 力剤(例えば、ピぺロニルブトキシド(piperonyl butoxide)等)、誘引剤(例えば、 オイゲノール(eugenol)等)、 忌避剤(例えば、 クレオソート(creosote)等)、 色 素 (例えば、 食用青色 1号等)、 肥料 (例えば、 尿素等)等を適宜混合してもよい。 本発明化合物 (1) 〜 (6) またはその塩は新規化合物であるが、 自体公知 の方法あるいはそれに準じる方法に従い製造することができる。 本発明化合物 (1) 〜 (6) またはその塩は以下に示す製造方法 1から製造方法 5より製造 することができるが、 必ずしもこれら製造方法に限定されるものではない。 製造方法 1
Figure imgf000040_0001
(I) (II) (III- 1)
{式中、 R1は前記と同意義。 Ha 16および Xは独立してハロゲン原子を表 す。 A rは、 式 (12) ;
(12)
Figure imgf000040_0002
(式中、 P1および Q1は前記と同意義。)
で表される基を示す。 }
ァリールボロン酸 (II) は、 公知の方法(例えば、 Org. Synth., 39, 3 (1959), J. Org. Chem. , 56 (12), 3763 (1991)等) あるいはそれに準ずる方法により製 造できる。 本反応において、 化合物 (II) は化合物 ( I) に対して通常約 0. 8から 2倍モル、 好ましく約 0. 9から 1. 5倍モル用いる。 本反応は反応に 影響を与えない溶媒中で行われ、 好ましい溶媒としては、 例えばベンゼン、 ト ルェン等の芳香族炭化水素類、 メタノール、 エタノール、 プロパノール等のァ ルコール類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサン、 テト ラヒドロフラン (THF)、 ジメトキシェタン等のエーテル類、 アセトン、 メチ ルェチルケトン等のケトン類、 ァセトニトリル等の二トリル類、 ジメチルホル ムアミド (DMF)、 ジメチルァセトアミド等の脂肪族アミド類、 ジメチルスル ホキシド (DM SO)等のスルホキシド類、へキサメチルリン酸トリアミド(H MPA) 等のリン酸アミド類、 スルホラン等のスルホン類または水等が使用さ れる。 これらの溶媒は 2種以上を適宜の割合で混合して使用してもよい。
本反応は塩基の存在下に行ってよい。 本反応で使用する好ましい塩基として は、 例えばトリェチルァミン、 トリー n—プロピルァミン、 ピリジン、 ジメチ ルァニリン、 ジメチルァミノピリジン、 1, 8—ジァザビシクロ [5, 4, 0] _ 7 _ゥンデセン(DBU)、 1, 4—ジァザビシクロ [2, 2, 2]オクタン(DB0) 等の有機塩基;水酸化ナトリゥム、 水酸化力リゥム等の水酸化アル力リ金属、 水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リウ ム等の炭酸アル力リ金属類、炭酸水素ナ卜リゥム等の炭酸水素アル力リ金属類、 '炭酸カルシウム等の炭酸アルカリ土類金属等の無機塩基;水素化カリウム、 水 素化ナトリウム等の水素化金属等が用いられ、 塩基の量は化合物 (I ) に対し て、 約 0. 7から 1 0. 0当量、 好ましくは約 0. 9から 4. 0当量である。 本反応は触媒の存在下に行ってよい。触媒としては、例えば、テトラキス(卜 リフエニルホスフィン)パラジウム(0)、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィ ン) パラジウム、 ジクロロビス (1, 4ージフエニルホスフイノ) ブタンパラ ジゥム、 ジクロロビス (1, 3—ジフエニルホスフイノ) プロパンニッケルが 用いられ、 触媒の量は化合物 (I) に対して、 約 0. 01から0. 3当量、 好 ましくは約 0. 02から0. 1当量である。
反応温度は用いる溶媒、塩基等により異なるが一般に約 20°Cから 180° (:、 好ましくは約 50°Cから 1 10°Cである。 反応時間は反応温度によって異なる が、 反応は約 30分から 20時間、 好ましくは約 1時間から 8時間で完結し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィーあるいは高速液体ク口マトグラフィ一等 で確認しうる。
以上は一般式 (1) で表される化合物の製造方法であるが、 一般式 (2) 〜 (6) で表される化合物についても、 ピリミジン環の 5位と 6位の置換基およ び A rで表される基が異なるだけで、 同様にして製造することができる。
製造方法 2
Figure imgf000042_0001
(la) (IV) (III一 2)
(式中、 R1および A rは前記と同意義。 Ha 17はハロゲン原子を表し、 Ha 1は臭素またはヨウ素原子を表す。)
上記の反応式に従い、 下記 ( i)、 (ii) または (iii) の方法によって目的化 合物が製造される。
( i ) グリニャール法は、 公知の方法 (例えば、 J. Med. C em. , 29(2), 171 (1986) 等) あるいはそれに準ずる方法により実施できる。 化合物 (IV) からグ リニヤール試薬の調製法は、 反応に影響を与えない溶媒中で行われ、 好ましい 溶媒としては、 例えばジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサ ン、 テトラヒドロフラン (THF)、 ジメトキシェタン等のエーテル類が使用さ れる。 化合物 (IV) は化合物 (la) に対して通常約 0. 8から 2倍モル、 好ま しく約 0. 9から 1. 5倍モル用いる。 グリニャール試薬の臭化亜鉛との金属 交換反応を一 70°C前後で行いァリール臭化亜鉛を発生させ、 触媒の存在下、 反応させる。 触媒としては、 例えば、 テトラキス (トリフエニルホスフィン) パラジウム(0)、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム、 ジクロ 口ビス( 1, 4—ジフエ二ルホスフイノ)ブタンパラジウム、ジクロロビス( 1, 3—ジフエニルホスフイノ) プロパンニッケルが用いられ、 触媒の量は化合物 (la) に対して、 約 0. 01から0. 3当量、 好ましくは約 0. 02から0. 1当量である。 反応温度は用いる溶媒により異なるが一般に約 10 から 12 0°C、 好ましくは約 30°Cから 80°Cである。 反応時間は反応温度によって異 なるが、 反応は約 10分から 20時間、 好ましくは約 30分から 8時間で完結 し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィーあるいは高速液体クロマトグラフィ 一等で確認しうる。
(ii) リチォ化法は、 公知の方法(例えば、 J. Org. Chem. , 49 (5), 931 (1984) 等) あるいはそれに準ずる方法により実施できる。 化合物 (IV) からリチォ化 物の調製法は、反応に影響を与えない溶媒中で行われ、好ましい溶媒としては、 例えばジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサン、 テトラヒド 口フラン(THF)、ジメトキシェタン等のエーテル類が使用される。化合物(IV) は化合物(la) に対して通常約 0. 8から 2倍モル、好ましく約 0. 9から 1. 5倍モル用いる。 リチォ化物の臭化亜鉛との金属交換反応を一 70°C前後で行 ぃァリール臭化亜鉛を発生させ、 触媒の存在下、 反応させる。 触媒としては、 例えば、 テトラキス (トリフエニルホスフィン) パラジウム(0)、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム、 ジクロロビス (1, 4—ジフエ二ル ホスフイノ) ブタンパラジウム、 ジクロロビス (1, 3—ジフエ二ルホスフィ ノ) プロパンニッケルが用いられ、 触媒の量は化合物 (la) に対して、 約 0. 01から0. 3当量、 好ましくは約 0. 02から0. 1当量である。 反応温度 は用いる溶媒により異なるが一般に約 1 0 から 120°C、 好ましくは約 3 0°Cから 80°Cである。 反応時間は反応温度によって異なるが、 反応は約 10 分から 20時間、 好ましくは約 30分から 8時間で完結し、 目的化合物は薄層 クロマトグラフィーあるいは高速液体クロマトグラフィー等で確認しうる。
(iii)活性化亜鉛法は、公知の方法(例えば、 J. Org. Chem. , 56, 1445 (1991) 等) あるいはそれに準ずる方法により実施できる。 化合物 (IV) に対して活性 化亜鉛を作用させ、 ァリールハロゲン化亜鉛を発生させる。 活性化亜鉛は化合 物 (IV) に対して通常約 1. 0から 10倍モル、 好ましく約 1. 5から 5. 0 倍モル用いる。 反応溶媒は反応に影響を与えない溶媒中で行われ、 好ましい溶 媒としては、例えばジェチルエーテル、ジィソプロピルエーテル、ジォキサン、 テトラヒドロフラン(THF)、ジメトキシェタン等のエーテル類が使用される。 反応は触媒の存在下で行われ、 触媒としては、 例えば、 テトラキス (トリフエ ニルホスフィン) パラジウム(0)、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パ ラジウム、 ジクロロビス(1, 4—ジフエニルホスフィノ)ブタンパラジウム、 ジクロロビス(1, 3—ジフエニルホスフイノ)プロパンニッケルが用いられ、 触媒の量は化合物 (la) に対して、 約 0. 01から 0. 3当量、 好ましくは約 0. 02から 0. 1当量である。 反応温度は用いる溶媒により異なるが一般に 約 10 °Cから 110 °C、 好ましくは約 30 °Cから 80 °Cである。 反応時間は反 応温度によって異なるが、 反応は約 10分から 20時間、 好ましくは約 30分 から 8時間で完結し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィーあるいは高速液体 クロマトグラフィー等で確認しうる。
以上は一般式 (1) で表される化合物の製造方法であるが、 一般式 (2) 〜 (6) で表される化合物についても、 ピリミジン環の 5位と 6位の置換基およ び A rで表される基が異なるだけで、 同様にして製造することができる。
製造例 3
Figure imgf000045_0001
R18-X (VII) あるいは
R18-OS02Me (VIII)
Figure imgf000045_0002
{式中、 R1および Xは前記と同意義。 Ha 18はハロゲン原子を表し、 R1 Q 1 は水素原子を表し、 R1G2は前記 P1で表される基を表す。 Meはメチル基を表 す。 R17は C^ 4アルキル基を表し、 R18は、 6アルキル基、 C3_6アル ケニル基、 C3_6アルキニル基、 じ3_6シクロアルキル基、 C 3 6八口アルキル 基、 6アルコキシ アルキル基または一般式 (8) ;
Figure imgf000045_0003
(式中、 Ru、 Ri2および Yは上記と同意義である。) で表される基を表す。 } 化合物 (V) は、 製造方法 1あるいは製造方法 2により製造することができ る。化合物(VI)は、化合物(V)から公知の方法(例えば、 Chem. Pharm. Bull., 38(1), 2047 (1990), J. Hetrocyclic Chem. , 25, 523 (1988) 等) あるいはそ れに準ずる方法により製造できる。 本反応において、 化合物 (V) を臭化水素 酸あるいはよう化水素酸中またはそれらの酢酸溶液中で脱保護することができ る。 本反応において、 化合物 (V) に対して臭化水素酸あるいはよう化水素酸 を通常約 5から 50倍モル、 好ましくは約 10から 30倍モル用いる。 反応温 度は一般に約 10 °Cから 180 °C、 好ましくは約 50 °Cから 1 50 °Cである。 反応時間は反応温度によって異なるが、 約 1 0分から 24時間、 好ましくは約 1時間から 1 2時間で反応は完結する。
また、 本反応は化合物 (V) をルイス酸と反応させることにより脱保護する ことができる。 ルイス酸としては、 三臭化ホウ素、 塩化アルミニウム等を用い る。 本反応は、 化合物 (V) に対してルイス酸を通常約 1から 10倍モル、 好 ましくは約 2から 5倍モル用いる。 本反応は、 反応に影響を与えない溶媒中で 行うことができ、 好ましい溶媒としては、 例えばベンゼン、 トルエン、 キシレ ン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロメタン等のハ ロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサ ン、 テトラヒドロフラン (THF) 等のエーテル類等が使用される。 これらの 溶媒は 2種以上を適宜の割合で混合して使用してもよい。 反応温度は一般に約 一 10°Cから 1 50° (:、 好ましくは約 10°Cから 100 である。 反応時間は 反応温度によって異なるが、 反応は一般に約 1 0分から 24時間、 好ましくは 約 1時間から 12時間で完結する。
化合物 (IX)の製造方法は、化合物 (VII) または化合物 (VIII) を化合物 (VI) に対して通常約 0. 8から 5倍モル、 好ましく約 0. 9から 2. 0倍モル用い て実施できる。 本反応は反応に影響を与えない溶媒中で行うことができ、 好ま しい溶媒としては、 例えばベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化水素類、 クロ口 ホルム、 四塩化炭素、 ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルェ —テル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサン、 テトラヒドロフラン (THF) 等のエーテル類、 アセトン、 メチルェチルケトン等のケトン類、 ァセトニトリ ル等の二トリル類、 ジメチルホルムアミド (DMF)、 ジメチルァセトアミド等 の脂肪族アミド類、 ジメチルスルホキシド (DMSO) 等のスルホキシド類、 へキサメチルリン酸トリアミド (HMPA) 等のリン酸アミド類、 スルホラン 等のスルホン類等が使用される。 これらの溶媒は 2種以上を適宜の割合で混合 して使用してもよい。
本反応は塩基の存在下に行ってよい。 本反応で使用する好ましい塩基として は、 例えばトリェチルァミン、 トリ— n—プロピルァミン、 ピリジン、 ジメチ ルァニリン、 ジメチルァミノピリジン、 1, 8—ジァザビシクロ [5, 4, 0] 一 7—ゥンデセン(DBU)、 1, 4ージァザビシクロ [2, 2, 2]オクタン(DB0) 等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化力リゥム等の水酸化アル力リ金属類、 水酸化カルシウム等の水酸化アル力リ土類金属類、 炭酸水素ナトリゥム等の炭 酸水素アルカリ金属類、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属 類、炭酸カルシウム等の炭酸アル力リ土類金属等の無機塩基;水素化力リゥム、 水素化ナトリウム等の水素化金属、 フッ化カリウム等が用いられる。 使用する 塩基の量は化合物 (VI) に対して、 約 0. 8から 4. 0当量、 好ましくは約 1. 0から 1. 5当量である。 反応温度は用いる溶媒、 塩基により異なるが一般に 約— 20°Cから 100t:、 好ましくは約 0 から 50°Cである。 反応時間は反 応温度によって異なるが、 反応は一般に約 10分から 10時間、 好ましくは約 30分から 3時間で完結し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィーあるいは高 速液体ク口マトグラフィ一等で確認しうる。
以上は一般式 (1) で表される化合物のうち、 置換基 Q1が〇R18である化 合物の製造方法であるが、 一般式 (2)〜(6) で表される化合物についても、 ピリミジン環の 5位と 6位の置換基ならびに R1Q 1および R1G 2で表される基 が異なるだけで、 同様にして製造することができる。
製造方法 4
Figure imgf000048_0001
R15NHR16 (XII)
Figure imgf000048_0002
(XIII)
(式中、 Ha 19はハロゲン原子を表し、 R1 R101, R1Q2、 R15および R1 6は前記と同意義を表す。)
ベンゼンスルホニルクロライド(XI)は、公知の方法(例えば、 J. Org. Chem. , 53 (9), 2047 (1988) 等) あるいはそれに準ずる方法により製造できる。 すなわ ち、 化合物 (X) に対してクロロスルホン酸を通常約 1. 5から 20倍モル、 好 ましくは約 1. 1から 5倍モル用いる。 本反応に用いる溶媒としては、 例えば ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素類、 クロ口ホルム、 四塩化 炭素、 ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、 ジェチルエーテル、 ジイソ プロピルエーテル、 ジォキサン、 テトラヒドロフラン (THF) 等のエーテル 類等が使用されるが、 場合によっては、 溶媒を用いなくてもよい。 反応温度は 用いる溶媒により異なるが一般に約 10°Cから 200°C, 好ましくは約 50°C から 150°Cである。 反応時間は反応温度によって異なるが、 約 1時間から 2 0時間、 好ましくは約 3時間から 8時間である。
化合物 (XIII) の製造は、 化合物 (XII) を化合物 (XI) に対して通常約 0. 8から 3倍モル、 好ましくは約 0. 9から 1. 3倍モル用いて実施できる。 本 反応は反応に影響を与えない溶媒中で行うことができ、 溶媒としては製造方法 1で示される反応と同様の溶媒が用いられる。 本反応は塩基の存在下に行われ てよく、 本反応で使用する好ましい塩基としては製造方法 1で示される反応と 同様の塩基等が用いられる。 塩基の量は化合物 (XI) に対して、 約 0. 8から 4. 0当量、 好ましくは約 1. 0から 1. 5当量である。 また、 化合物 (XII) が塩基を兼ねる場合、 さらに、 化合物 (XII) が約 1. 0から 1. 5当量必要と なる。 反応温度は用いる溶媒、 塩基により異なるが一般に約— 20°Cから 10 0°C、 好ましくは約 0°Cから 50°Cである。 反応時間は反応温度によって異な るが、反応は約 10分から 14時間、好ましくは約 30分から 5時間で完結し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィーあるいは高速液体クロマトグラフィー等 で確認しうる。
以上は一般式 (1) で表される化合物のうち、 置換基 Q1が SOzNR R1 6である化合物の製造方法であるが、 一般式 (2) 〜 (6) で表される化合物 についても、 ピリミジン環の 5位と 6位の置換基ならびに R 1 ° 1および R 1 Q 2 で表される基が異なるだけで、 同様にして製造することができる。
製造方法 5
Figure imgf000050_0001
(XVII) (XVIII)
Figure imgf000050_0002
(XIX)
(式中、 R R101, R102, R16および Xは前記と同意義。 Ha l 10はハロ ゲン原子を表し、 R2Gは C アルキル基、 C3_6アルケニル基、 C3_6アルキ ニル基、 C3_6シクロアルキル基または ハロアルキル基を表わす。) 化合物 (XV) は、 公知の方法 (例えば、 Org. Synth., Coll. , Vol. II, 160, Org. Synth., Coll., Vol. V, 829 等) あるいはそれに準ずる方法により製造 できる。 すなわち、 化合物 (XV) は還元剤として鉄あるいはスズを用いて、 酢 酸あるいは塩酸等の酸性条件下で製造できる。 溶媒としては酢酸等の脂肪族力 ルボン酸類、 メタノール、 エタノール等のアルコール類、 酢酸ェチル等の脂肪 族カルボン酸エステル類、 水等が使用できる。 これらの溶媒は 2種以上を適宜 の割合で混合して使用してもよい。 反応温度は用いる溶媒により異なるが一般 に約 0 から 150°C、 好ましくは約 10°Cから 80°Cである。 反応時間は約 30分から 12時間、好ましくは約 1時間から 6時間である。また、化合物(XV) はパラジウム一炭素を触媒として接触水素添加により製造することもできる。 溶媒としては酢酸等の脂肪族カルボン酸類、 酢酸ェチル等の脂肪族カルボン酸 エステル類、 メタノール、 エタノール等のアルコール類等が用いられる。 反応 温度は一般に約 0°Cから 50° (:、 好ましくは約 10°Cから 25°Cであり、 理論 量の水素が消費された時点で反応の終点とする。
化合物 (XV) から化合物 (XVII) の合成は、 スルホニルクロライド (XVI) を 化合物 (XV) に対して通常約 1. 5から 7. 0倍モル、 好ましくは約 1. 8か ら 4. 0倍モル用いて実施される。 本反応は反応に影響を与えない溶媒中で行 うことができ、 溶媒としては、 ベンゼン、 トルエン等の芳香族炭化水素類、 ジ ェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 ジォキサン、 テトラヒドロフラン (THF)、 ジメトキシェタン等のエーテル類、 アセトン、 メチルェチルケトン 等のケトン類、 ァセトニトリル等の二トリル類、 ジメチルホルムアミド (DM F)、 ジメチルァセトアミド等の脂肪族アミド類、 ジメチルスルホキシド (DM SO) 等のスルホキシド類、 へキサメチルリン酸トリアミド (HMPA) 等の リン酸アミド類、 スルホラン等のスルホン類等が使用される。 これらの溶媒は 2種以上を適宜の割合で混合して使用してもよい。 本反応は塩基の存在下に行 われてよく、 本反応で使用する好ましい塩基としては製造方法 1で示される反 応と同様の塩基等が用いられる。 塩基の量は化合物 (XV) に対して、 約 1. 8 から 7. 0当量、 好ましくは約 2. 0から 4. 0当量である。 反応温度は用い る溶媒、塩基により異なるが一般に約— 20°Cから 150°C、好ましくは約 0°C から 100°Cである。 反応時間は反応温度によって異なるが、 反応は約 10分 から 14時間、 好ましくは約 30分から 8時間で完結する。
化合物 (XVIII) は、 化合物 (XVII) を塩基性条件下、 加水分解することによ り製造することができる。 使用する塩基として水酸化ナトリウム、 水酸化カリ ゥム等の水酸化アル力リ金属、水酸化カルシウム等の水酸化アル力リ土類金属、 炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リウ ム等の炭酸アル力リ金属類、 炭酸カルシウム等の炭酸アル力リ土類金属等の無 機塩基等が用いられる。塩基の量は化合物(XVII)に対して、 約 1. 8から 5. 0当量、 好ましくは約 2. 0から 4. 0当量である。 反応溶媒は水、 メタノ一 ル、 エタノール、 プロパノール等のアルコール類、 ジォキサン、 テトラヒドロ フラン (THF) 等のエーテル類、 アセトン、 メチルェチルケトン等のケトン 類、 ァセトニトリル等の二トリル類、 ジメチルホルムアミド (DMF)、 ジメチ ルァセトアミド等の脂肪族アミド類等が使用される。 これらの溶媒は 2種以上 を適宜の割合で混合して使用してもよい。 反応温度は用いる溶媒、 塩基により 異なるが一般に約— 10 から 100°C、好ましくは約 0°Cから 50°Cである。 反応時間は反応温度によって異なるが、 反応は約 10分から 10時間、 好まし くは約 30分から 5時間で完結する。
化合物 (XIX) は化合物 (XVIII) を塩基の存在下、 アルキル化またはァシル 化することにより製造できる。 アルキル化剤またはァシル化剤 (R'6-X) は化 合物 (XVIII) に対して通常約 0. 8から 3倍モル、 好ましく約 0. 9力、ら 2. 0倍モル用いられる。本反応は反応に影響を与えない溶媒中で行うことができ、 溶媒としては製造方法 1で示される反応と同様の溶媒が用いられる。 本反応で 使用する好ましい塩基としては、 製造方法 1で示される反応と同様の塩基等が 用いられる。 塩基の量は化合物 (XVIII) に対して、 約 0. 8から 4. 0当量、 好ましくは約 1. 0から 1. 5当量である。 反応温度は用いる溶媒、 塩基によ り異なるが一般に約— 20°Cから 150°C、 好ましくは約 0°Cから 80°Cであ る。 反応時間は反応温度によって異なるが、 反応は約 10分から 14時間、 好 ましくは約 30分から 8時間で完結し、 目的化合物は薄層クロマトグラフィー あるいは高速液体クロマトグラフィ一等で確認しうる。
以上は一般式 (1) で表される化合物のうち、 置換基 Q1が N (R16) S02 R 2 Qである化合物の製造方法であるが、 一般式 (2) 〜 (6) で表される化合 物についても、 ピリミジン環の 5位と 6位の置換基ならびに R 1 ° 1および R 10 2で表される基が異なるだけで、 同様にして製造することができる。 実施例
次に参考例および実施例を挙げて、 本発明をさらに詳しく説明するが、 本発 明はこれらの実施例に限定解釈されるべきものではない。
参考例および実施例のカラムクロマトグラフィーにおける溶出溶媒は、 TLC (Thin Layer Chromatograph 薄層クロマトグラフィー) 観察 (モニタリング) で使用した溶媒と同じ溶媒を用いた。 TLC観察は、 メルク(Merck)社製のシリカ ゲル 60 F 254、 TLC プレートを、 検出法として UV検出器を採用した。 カラ ム用シリカゲルはメルク社製のシリカゲル 60 (0. 063〜0. 200mm) を用いた。 溶出溶媒として混合溶媒を用いる場合は、 括弧内に各溶媒の容量混 合比を示した。 NMRスぺクトラムは1 Hあるいは19 F— NMRを示し、 内部基準とし てテトラメチルシランおよびフルォロトリクロロメタンを用いて、 ブルカー A V400 (400 MHz) 型スぺクトロメ一ターで測定し、 全 δ値を ppm で示し た。 I Rスぺクトラムはパ一キンエルマ一パラゴン 1 00型 FT— IRスぺクトル メーターで測定し、 吸収帯位置を波数(cm )で示した。なお、下記参考例、 実施例および表で用いる略語は、次のような意義を有する。 Me:メチル基、 Et : ェチル基、 n- Pr:ノルマルプロピル基、 i- Pr:イソプロピル基、 ter卜 Bu:ター シャリーブチル基、 Ph: フエニル基、 s : シングレツト、 b r :ブロード (幅 広い)、 d :ダブレット、 t : トリプレット、 Q :クワルテット、 m:マルチプ レツト、 d d:ダブルダブレツト、 septet:セプテツ卜、 〗:カツプリング定数、 Hz:ヘルツ、 CDC13:重クロ口ホルム、 DMS0- d 6:重ジメチルスルホキシド、 % : 質量%、 b.p. :沸点、 ni.p. :融点、 dec. :分解、 および室温とあるのは約 1 5 〜25 °Cを意味する。 実施例 1 5—シァノー 6—ジフルォロメチル一 4—ョ一ドピリミジン
(1) ナトリウムメトキシド (28% メタノール溶液) 19.5g(0. lmol)のメ夕ノ ール(50ml)溶液に、 シァノ酢酸メチル 10.0g(0. lmol)とジフルォロ酢酸メチル 12.5g(0. lmol)を加え 60°Cで 1 2時間撹拌した。反応液を濃縮後、残留物にジ ェチルエーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 2—シァノー 4, 4—ジフル オロー 3—ヒドロキシクロトン酸メチルエステルナトリウム塩(22. Og)を得た。
( 2 ) トルエン(10ml)に実施例 1の ( 1 ) で調製したナトリウム塩 3.0g(15匪 ol)と五塩化リン 3· lg(15mmol)を加え 45 :で 1時間撹拌した。 さら に、 五塩化リン 1.5g(7誦 ol)を加え 55°Cで 2時間撹拌した。 冷却後、 セライ ト層にてろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物を減圧蒸留して、 3—クロ口— 2—シ ァノ— 4, 4—ジフルォロクロトン酸メチルエステル(1.4g)の油状物を得た。 b.p. 90-100t:/40nimHg
'H-NMRCCDClj) δ 3.95(3Η, s), 7.45(1Η, t, 】=53· 6Hz)
(3) メタノール(200ml)にホルムアミジン塩酸塩 5.9g(73.3删 ol)を加え、 さらにナトリウムメトキシド(28% メタノール溶液) 42. Og (218匪 ol)を加えた。 そして、 実施例 1の (2) で調製した化合物 10.5g(53.7iMiol)を 15°C以下で 滴下し室温で 10分、 55 °Cで 2時間、 さらに 30°Cで 72時間撹拌した。 反 応液を濃縮後、 希塩酸で中和、 析出晶をろ取、 乾燥して、 5—シァノー 6—ジ フルォロメチル一 4—ヒドロキシピリミジン(4. Og)を得た。 さらに、 ろ液を酢 酸ェチルで抽出、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物にジェチルエーテルを加え 析出晶をろ取、 乾燥して上記化合物の精製物 (3. Og)を得た。
'H-NMR(DMS0-d6) δ 6.94(1H, t, J=52.8Hz), 14.00(1H, br s)
(4) 実施例 1の (3) で調製したヒドロキシピリミジン 4.0g(23.4mmol)に ォキシ塩化リン 7.2g(47. lmrnol), そして DMF ( 1滴) を添加し、 100°Cで 2 時間撹拌した。 冷却後、 反応液を濃縮後、 残留物をシリカゲルカラムクロマト グラフィ一 (へキサン:酢酸ェチル =1 : 1) により分離精製を行い、 4一クロ口 — 5—シァノ— 6—ジフルォロメチルピリミジン(3.5g)の結晶を得た。
'H-N R(CDC13) δ 6.72(1H, t, J=53.1Hz), 9.23(1H, s)
(5) アセトン(20ml)に実施例 1の (4) で調製した 4一クロ口ピリミジン 1.0g(5.3mmol)とよう化ナトリウム 2.5g(16.6mmol)を加え室温で 16時間撹拌 した。 反応液を濃縮後、 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキ サン:酢酸ェチル =1: 1) により分離精製を行い、 5—シァノ— 6—ジフルォロ メチル— 4—ョードピリミジン(1. Og)の結晶を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.65(1H, t, J=53.1Hz), 9.05(1H, s) 実施例 2
5—シァノ _4— [4—シァノ一5— (N—ェチルスルホニルァミノ) —2 —フルオロフェニル] — 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 B— 1 0)
(1) マグネシウム 0.33g(13.6匪 ol)とヨウ素(cat.)を THF(lOmi)に加え 2, 4—ジフルオロー 1—ブロモベンゼン 2.5g(13.0mmol)を 30°Cにて滴下し た。 発熱がおさまった後、 THF(lOml)を追加した。 このグリニャール試薬を 一 70°Cに冷却し、臭化亜鉛 2.9g(12.9mmol)を添加し、同温度で 1時間撹拌後、 室温まで昇温した。 この反応液に THF (10ml)を加えテトラキス (トリフエ二 ルホスフィン)パラジウム 0.3g(0.26mmol)と実施例 1で調製した 4—ョ一ドピ リミジン 1.5g(5.3匪 ol)を加え 50°Cで 1時間撹拌した。 冷却後、 酢酸ェチル で希釈し、 希塩酸で中和、 有機層を分液、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物を シリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル =1: 3) により分 離精製を行い、 5—シァノ— 6—ジフルォロメチルー 4— (2, 4—ジフルォ 口フエニル) ピリミジン(1.6g)を得た。
'H-丽 R(CDC13) δ 6.81 (1H, t, J=53.2Hz), 7.05-7.15 (2H, m), 7.65-7.75 (1H, m), 9.50(1H, s) (2) 実施例 2の (1) で調製した化合物 0.2g(0.75imnol) を濃硫酸 lmlに 加え 30分攪拌した。氷冷下、発煙硝酸 95mg(1.51mmol)を加え室温で 90分攪 拌した。 反応液を氷水にあけ酢酸ェチルで抽出(2回)、 水洗、 乾燥後、 溶媒を 留去した。残留物にへキサンを加え析出晶をろ取して、 5 _シァノ— 4— ( 2 , 4—ジフルオロー 5—ニトロフエニル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (0.2g)を得た。
m.p.70-71°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.81 (1Η, t, J=53.2Hz), 7.30-7.35 (1H, m), 8.50-8.60 (1H, m), 9.57(1H, s)
IR(Nujol) 2250, 1635, 1501, 1353, 1275cm—1
(3) 実施例 2の (2) で調製した化合物を 0.6g (1.92mmol)と 18-クラウン -6 0.15g(0.57關 ol)をァセトニトリル(10ml)に溶解し、 シアン化カリウム 0.15g(2.31匪 ol)を加え室温で 14時間撹拌した。反応液を濃縮後、残留物を酢 酸ェチルに溶かし、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラ ムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル =3: 1から 2: 1) により単離精 製を行い、 5—シァノ一4一 (4—シァノ一 2—フルォロ一 5—ニトロフエ二 ル) - 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.06g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.83(1H, t, J=53.0Hz), 7.89(1H, d, J=8.4Hz), 8.74(1H, d, J-6.0Hz), 9.62(1H, s)
(4) 還元鉄 0.16g(2.86匪 ol)を酢酸(2ml)とイソプロパノール(lml)の混合 液に加え、 60°Cに加温した。 そして、 実施例 2の (3) で調製した化合物 0.16g(0.5mmol)を加え 90分撹拌した。冷却後、反応液を酢酸ェチルで希釈し、 セライト層でろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物に水を加え酢酸ェチルで抽出、 水 洗、乾燥後、溶媒を留去した。残留物にへキサンを加え析出晶をろ取、乾燥し、 4— (5—ァミノ一 4—シァノー 2—フルオロフェニル) 一 5—シァノー 6— ジフルォロメチルピリミジン(0. llg)の結晶を得た。 -画 R(CDC13) δ 4.45(2Η, br. s), 6.81 (1Η, t, J=53.2Hz), 6.98(1H, d, J=5.5Hz), 7.35 (1H, d, J-9.2Hz), 9.52(1H, s)
(5) 実施例 2の (4) で調製した化合物 0.11g(0.38匪 ol)、 トリェチルァ ミン 0.2g(1.97mol)をジクロロェタン(5ml)に溶かし、 氷冷下、 エタンスルホニ ルクロライド 0.15g(11.7mniol)のジクロ口ェ夕ン溶液(lml)を 1時間かけて滴 下し、 室温で 1時間攪拌した。 冷却後、 反応液を濃縮後、 残留物を酢酸ェチル に溶かし希塩酸で洗浄し、 乾燥後、 溶媒を留去した。 この残留物にメタノール (10ml)と炭酸カリウム 0.27g(1.96mmol)を加え室温で 30分撹拌した。 反応液 を希塩酸で中和し、 酢酸ェチルで 2回抽出し、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留 物にジイソプロピルエーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 5—シァノ— 4 - [4—シァノ— 5— (N—ェチルスルホニルァミノ) —2—フルオロフェニ ル] - 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.13g)を得た。
m.p.148-151°C
'H-NMR(CDC13) δ 1·49(3Η, t, J=7.4Hz), 3.28(2Η, q, J=7.4Hz), 6.81 (1H, t, J=53.2Hz), 6.94(1H, br s), 7.59 (1H, d, J=8.6Hz), 8.07(1H, d, J=6.0Hz), 9.56(1H, s)
IR(Nu'jol) 3100, 2232, 1336, 1065cm"1 実施例 3
4— (4—クロ口— 2—フルオロー 5—プロパルギルォキシフエニル) 一 5 —シァノ— 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 B— 1)
(1) 2—クロ口一 4—フルォロ一 5—ョ一ドア二ソール 0.38g(1.41誦 οθ を THF(lOml)に溶解し、 一 78 °Cで n—ブチルリチウム(1.57Mへキサン溶液、 lmK 1.56國 ol)を滴下し、 同温度で 30分撹拌した。 さらに、 — 78°Cで臭化 亜鉛 0.318g(1.41mmol)を添加し、 同温度で 1時間撹拌した。 室温に戻した後、 実施例 1で調製した 4—ョードピリミジン 0.2g(0.71mmol)とテトラキス(トリ フエニルホスフィン) パラジウム 0.04g(0.03mmol)を加え、 50°Cで 2時間撹 拌した。 冷却後、 希塩酸で中和し、 酢酸ェチルで 2回抽出、 乾燥後、 溶媒を留 去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチ ル =3: 1) により単離精製を行い、 4_ (4一クロ口—2—フルオロー 5—メト キシフエニル) 一 5—シァノ _ 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.085g)を得 た。
m.p. 113-115°C
'H-NMR(CDC13) δ 3.97(3Η, s), 6.81 (1Η, t, J-53.2Hz), 7.18(1H, d, J=6.1Hz), 7.38(1H, d, 9.3Hz), 9.51(1H, s)
(2) 実施例 3の (1) で調製した化合物 0.3g(0.95iraiol)をジクロロメタン (5ml)に溶解し、 室温で、 三臭化ホウ素(1.0M ジクロロメタン溶液, 7ml)を加え 同温度で 12時間撹拌した。 反応液を氷水にあけ酢酸ェチルで 2回抽出し、 乾 燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキ サン:酢酸ェチル =2: 1) により単離精製を行い、 4一 (4一クロロー 2_フル オロー 5—ヒドロキシフエニル) — 5—シァノ _ 6—ジフルォロメチルピリミ ジン(0.22g)の油状物を得た。
'Η-薩 R(CDC13) δ 5.80(1H, br s), 6.8K1H, t, J=53.2Hz), 7.30-7.36 (2H, m), 9.50(1H, s)
(3) 実施例 3の (2) で調製した化合物 0.20g(0.67imnol)、 炭酸カリウム 0.28g(2.03匪 ol)およびプロパルギルブロマイド 0.24g(2.02mmol)¾ DMF(5ml) に加え、 室温で 7時間撹拌した。 反応液を希塩酸で中和し、 酢酸ェチルで 2回 抽出し、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィ一 (へキサン:酢酸ェチル =2: 1) により単離精製を行い、 4一 (4_クロ口 - 2—フルオロー 5—プロパルギルォキシフエニル) ― 5—シァノー 6—ジフ ルォロメチルピリミジン(0.15g)を得た。
m.p. 119-121°C 'H-NMR(CDC13) δ 2.60(1H, t, J=2.3Hz), 4.84(2H, d, J=2.3Hz), 6.68(1H, t, J=53.1Hz), 7.73(1H, d, J=5.6Hz), 7.40(1H, d, J=8.6Hz), 9.52(1H, s) 実施例 4
N—ァセチルー 2—クロロー 5— (5 _クロロー 6—ジフルォロメチルピリ ミジン— 4—ィル) — 4—フルォロベンゼンスルホンアミド (化合物番号 A— 2) '
(1) 4, 5—ジクロロピリミジン 3.4g(17隨 ol)と 4—クロ口— 2—フルォ 口フエ二ルポロン酸 3.0g(17niniol)を DME 80mlに溶解させ、 ジクロロビス (ト リフエニルホスフィン) パラジウム 0.7g(l匪 ol) 、 炭酸水素ナトリウム 4.7g(56imnol)そして水 24mlを加え 4時間加熱還流させた。冷却後、反応液を濃 縮し、残留物に水を加え、 2N塩酸で中和、 クロ口ホルムで抽出、水洗、乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン: 酢酸ェチル = 5: 1) により単離精製を行い、 4一 (4一クロロー 2—フルォロ フエニル) _ 5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン(3.5g)を得た。 'H-NMR(CDC13) δ 6.93(1H, t, J=53.3Hz), 7.25-7.38 (2H, m), 7.43-7.53 (1H, m), 9.26(1H, s)
(2)氷冷下、実施例 4の(1)で調製した 4一フエニルピリミジン 3.2 g (10.9 mmol)にクロロスルホン酸 10.6mlを滴下し 80°Cで 1時間、 1 10°Cで 8時間 攪拌した。 冷却後、 反応液を氷に少量ずつあけ酢酸ェチルで抽出、 食塩水で洗 浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をへキサン:酢酸ェチル =3 : 1に溶解 し、 シリカゲル層にてろ過、 ろ液を濃縮して、 2—クロ口— 5— (5—クロ口 一 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4一^ ίル) —4一フルォロベンゼンスル ホニルク口ライド(4.2g)を得た。
'Η-匪 R(CDCI3) 6 6.91 (1H, t, J=53.1Hz), 7.57(1H, d, J=8.8Hz), 8.38(1H, d, J=6.8Hz), 9.31 (1H, s) ( 3) 実施例 4の ( 2 ) で調製したベンゼンスルホニルクロライ ド 0.3g(0.76mmol)をァセトニトリル(5ml)に溶解し、 氷冷下、 濃アンモニア水 (1.5ml)を滴下し室温で 1時間攪拌した。反応液を濃縮し残留物に水を加え析出 晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 2_クロ口— 5— (5—クロ口—6—ジフルォ ロメチルピリミジン一 4一ィル) — 4 _フルォロベンゼンスルホンアミ ド (0.24g)を得た。
m.p.174-176°C
'H-NMR(DMS0-d6) δ 7.33(1Η, t, J=52.5Hz), 7.82(2Η, s), 7.93-8.02 (1Η, m), 8.24(1H, d, J=7.4Hz) , 9.42(1H, s)
(4) 実施例 4の (3) で調製したベンゼンスルホンアミド 0.15g(0.4imnol) とトリエチルァミン 0.06g(0.6mmol)をァセトニトリル(5ml)に溶解させ、 氷冷 下、 ァセチルクロライド 0.047g(0.6mmol)を加え室温で 5時間撹拌した。 反応 液を濃縮後、 残留物に水を加え酢酸ェチルで抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶 媒を留去した。 残留物にジイソプロピルエーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥し て、 N—ァセチルー 2—クロ口— 5— (5—クロロー 6—ジフルォロメチルピ リミジン一 4—ィル) _ 4 _フルォロベンゼンスルホンアミド(0.13g)を得た。 m.p.195-198°C
NMR(CDC13; δ) 2.13(3Η, s), 6.9K1H, 0, 7·46(1Η, d, J=8.8Hz), 8.48(1Η, d, J=7.0Hz), 9.30(lH,s) 実施例 5
メチル N_ [2—クロロー 5— (5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリ ミジン—4—ィル) _ 4一フルォロベンゼンスルホニル] 力ルバメート (化合 物番号 A— 6)
実施例 4の (3) で調製したベンゼンスルホンアミド 0.2g(0.54mmol)とトリ ェチルァミン 0.114g(l.13mmol)をァセ卜二トリル(10ml)に溶解させ、 氷冷下、 クロ口炭酸メチル 0.053g(0.56mmol)のァセトニトリル溶液を滴下し同温度で 1時間撹拌した。 反応液を濃縮後、 残留物に水を加え 2N塩酸で中和、 析出晶 をろ取、 水洗、 乾燥して、 メチル N— [2—クロ口— 5— (5—クロロー 6 —ジフルォロメチルピリミジン一 4—ィル) 一 4 _フルォロベンゼンスルホ二 ル] 力ルバメート(0.18g)を得た。
m.p.:〜 85°C
'H-NMR(CDC13) δ 3.73(3H, s), 6.91(1Η, t, J=53.2Hz), 7.47(1H, d, J=8.8Hz), 7.80(br), 8.47(1H, d, J=7.1Hz), 9.30(1H, s) 実施例 6
5—クロ口— 4— [4—シァノー 3— (N—ェチルスルホニルァミノ) フエ ニル] _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A— 17)
(1) 4, 5—ジクロ口 _6—ジフルォロメチルピリミジン 2.5g(12.5nimol) と 4_フルオロフェニルポロン酸 1.73g(13.2匪 ol)を DME 60mlに溶解させ、 ジ クロ口ビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 0.52g(0.74誦 ol) 、 炭酸水 素ナトリウム 3.5g(41.4mol)そして水 17mlを加え 4時間加熱還流させた。冷却 後、反応液を濃縮し、残留物に水を加え、 2N塩酸で中和、 クロ口ホルムで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ ― (へキサン:酢酸ェチル = 3: 1) により単離精製を行い、 5—クロ口— 4— (4—フルオロフェニル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン(2.9g)を得た。 'H-NMR(CDC13) (5 6.94 (1H, t, J=53.3Hz), 7.17-7.24 (2H, m), 7.82-7.92 (1H, m), 9.22(1H, s)
(2) 氷冷下、 濃硫酸 14.5mlに実施例 6の (1) で調製した 4一フエニル ピリミジン 2.9g(11.2mmol)を加え、 発煙硝酸 0.6mlを加え、 氷冷下 3時間攪拌 した。 反応液を氷にあけ、 析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 5—クロロー 4 - (4—フルオロー 3 _ニトロフエニル) 一 6—ジフルォロメチルピリミジン (3.3g)を得た。
m.p.89-92°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.93(1H, t, J=53.2Hz), 7.45(1H, m) , 8.18-8.27(1H, m), 8.65-8.72 (1H, m), 9.27(1H, s)
(3)実施例 6の(2)で調製したニトロ体 2.8g(9.22nunol) を DMF(25ml) に 溶解させ、 室温で粉末のシアン化カリウム 0.78g(12minol)を加え同温度で 3時 間攪拌した。反応液を氷水にあけ酢酸ェチルで抽出して食塩水で洗浄、乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン: 酢酸ェチル =2: 1) により単離精製を行い、 5_クロ口— 4— (4—シァノ— 3 一二トロフエニル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン(1.6g)を得た。
m.p.97- 99で
'H-NMR(CDC13) δ 6.93(1H, t, J=53.1Hz), 8.09(1H, d, J=8.0Hz), 8.30-8.28 (1H, m), 8.87(1H, d, J = 1.6Hz), 9.33(1H, s)
(4) 実施例 6の (3) で調製したニトロ体 1.(^(2.95誦01)を酢酸(111111)、 イソプロパノール(4. ½1)に溶解させ、 60°Cで還元鉄 0.68g(12.0mmol)を少量 ずつ加え、 さらに 70°Cで 1時間撹拌した。 冷却後、 反応液に酢酸ェチルを加 え不溶物をろ去、 ろ液をシリカゲル層にてろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物にジ ェチルエーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥を行い、 4一 (3—ァミノ— 4—シ ァノフエ二ル)— 5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.56g)を得た。 m.p.140-142°C
'H-NMR(CDC13) δ 4.59 (2Η, br s), 6.93(1H, t, J=53.1Hz), 7.10-7.20 (2H, d, J=8.3Hz), 7.54(1H, d, J=8.3Hz), 9.24(1H, s)
(5) 実施例 6の (4) で調製したァニリン 0.25g(0.89mmol)とトリェチル ァミン 0.22g(2.2mmol)をジクロ口ェ夕ン(5ml)に溶解させ、 氷冷下、 エタンス ルホニルクロライド 0.29g(2.2闘 οθのジクロロェタン溶液を滴下し室温で 1 時間撹拌した。 さらに、 卜リエチルァミン 0.184g(1.8mmol)とエタンスルホニ ルクロライド 0.123(1.78咖01)を1時間ぉきに3回追加した。反応液を濃縮後、 残留物を酢酸ェチルに溶かし、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去してビス体(0.6g, crude)を得た。 ついで、 ビス体(0.6g)を THF (5ml)と水(2ml)に懸濁させ、 氷冷 下、 2N-水酸化ナトリウム(0.7ml)を滴下し室温で 1時間撹拌した。 さらに、 同 温度で 2N-水酸化ナトリウム(0.7ml)を加え 1時間撹拌した。 反応液に水 (5ml) を加え、 2N塩酸で中和、 析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥した。 得られた結晶を少 量の酢酸ェチルに溶かし、 シリカゲル層にてろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物に ジイソプロピルエーテルを加え析出晶をろ取、乾燥して、 5—クロ口— 4— [4 —シァノ— 3 _ (N—ェチルスルホニルァミノ) フエニル] — 6—ジフルォロ メチルピリミジン(0.32g)を得た。
m.p.〜160°C
'H-NMR(CDC13) δ 1.47(3Η, t, J=7.4Hz), 3.27(2Η, q, J=7.3Hz), 6.93(1H, t, J=53.2Hz), 7.01 (1H, m), 7.65-7.70 (1H, m), 7.78(1H, d, J=8.1Hz), 8.21 (1H, d, J = 1.4Hz), 9.28(1H, s) 実施例 7
4- [3 - (N—ァセチル— N—ェチルスルホニルァミノ) フエニル] —4 —シァノ] _ 5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A_ 18)
実施例 6で調製したェチルスルホニルァミノ体 0.15g(0.4mmol)とトリェチ ルァミン 0.08g(0.8mmol)をァセトニトリル(5ml)に懸濁させ、 氷冷下、 ァセチ ルクロライド 0.063g(0.8mmol)を加え室温で 2時間撹拌した。 反応液に食塩水 を加え酢酸ェチルで抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物を シリカゲルカラムクロマトグラフィー (クロ口ホルム:アセトン = 10: 1) によ り単離精製を行い、 4 _ [3— (N—ァセチル— N—ェチルスルホニルァミノ) フエニル] — 4—シァノ] 一 5—クロロー 6—ジフルォロメチルピリミジン (0. llg)を得た。
m.p.189 - 191。C
'H-NMR(CDC13) δ 1.57(3H, t, J=7.5Hz), 2.13(3H, s), 3.75-4.05 (2H, br d), 6.93(1H, t, J=53.2Hz), 7.95-8.15 (3H, m), 9.29(1H, s) 実施例 8
2—クロ口一 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4 f ル) _ 4—フルォロベンズアルデヒド (化合物番号 A— 20)
(1) 2 _クロ口一 4一フルオロー 5— (5—クロ口一 6—ジフルォロメチ ルピリミジン— 4 _イリレ)安息香酸 0.98(5.9mmol)のトルエン(9ml)溶液に塩化 チォニル 1.05g(8.8誦 ol)と DMF57mg(0.8minol)を加え、 70°Cで 3. 5時間撹拌 した。 冷却後、 反応液を濃縮し、 残留物をァセトニトリル (9ml)に溶解させ、 氷 冷下、 水素化ホウ素ナトリウム 0.26g(6.5mmol)の水溶液 (4ml)を滴下し 1時間 撹拌した。反応液に塩化アンモニゥム水溶液を(10ml)を加え減圧下、濃縮した。 残留物に水を加えクロ口ホルムで 2回抽出し、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を 留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェ チル =3: 1) により単離精製を行い、 2—クロ口— 5— (5—クロ口— 6—ジフ ルォロメチルピリミジン一 4 _ィル) 一 4—フルォ口べンジルアルコール 1.2g)を得た。
m.p.107-108°C
'H-NMR(CDC13) δ 2.48(1Η, br s), 4.80 (2Η, s), 6.93(1H, t, J-53.3Hz), 7.28(1H, d, J=8.2Hz), 7.69(1H, d, J=7.5Hz), 9.26(1H, s)
IR(Nujol) 3250, 1640, 1224, 1056, 907, 669cm-1
(2) 実施例 8の (1) で調製した化合物 0.32g(0. lmmol)のアセトン溶液 (25ml)に二酸化マンガン 0.68g(7.8mmol)を加え室温で 2. 5時間撹拌した。 さ らに、 二酸化マンガン 4g(4.6議 ol)を加え同温度で 1 5時間撹拌した。 反応 液をセライト層にてろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物をシリカゲルカラムクロマ トグラフィ一 (へキサン:酢酸ェチル =4: 1) により単離精製を行い、 2—クロ 口一 5— (5—クロロー 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4一ィル) 一 4_ m. p.84-86°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.92(1Η, t, J=53.2Hz), 7.40(1Η, d, J=9.1Hz), 8.15(1H, d, J=7.6Hz), 9.29(1H, s), 10.45(1H, s)
I9F-NMR(CDC13) δ - 100.8, - 121.1
IR(Nujol) 1708, 1693, 1608, 1222, 1111, 1049, 904, 670cm"1 実施例 9
2—クロロー 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4—ィ ル) _ 4—フルォ口べンズアルデヒド ォキシムメチルエーテル (化合物番号 A- 22)
実施例 8で調製した化合物 0.16g (0.5mmol)のメ夕ノール溶液(5ml)にピリジ ン 0.07g(0.9匪 ol)と 0—メトキシァミン塩酸塩 0.063g(0.9mmol)を加え室温で 3時間撹拌した。 反応液に氷水を加え析出した結晶をろ取、 水と石油エーテル で洗浄後、 乾燥して、 2—クロ口— 5— (5—クロ口— 6—ジフルォロメチル ピリミジン— 4一ィル) 一4—フルォロベンズアルデヒド ォキシムメチルェ 一テル (0. llg)を得た。
m.p.102-104°C
'H-NMR(CDC13) <5 3.99 (3H, s), 6.93(1H, t, J=53.4Hz), 7.30(1H, d, J=9.3Hz), 8.08(1H, d, J=7.4Hz), 8.44(1H, s), 9. 9(1H, s)
i9F-NMR(CDCl3) δ - 108.7, 一 121.2
IR(Nujol) 1616, 1556, 1233, 1061, 929, 668cm一1 実施例 10
5—クロ口 _4一 (4—シァノ _ 2—フルオロー 5 _プロパルギルォキシフ ェニル) —6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A_ 27)
(1)水(20ml)に濃塩酸(7ml)と 4—プロモ— 2—フルオロー 5—メトキシァ 二リン 6.0g(27.2irau)l)を加え 40°Cで 30分撹拌した。 氷冷下、 亜硝酸ナトリ ゥム 2. lg(30.4讓 ol)の水溶液(6ml)を滴下し、 同温度で 30分撹拌した。 つい で、 ヨウ化ナトリウム 4.55g(30.4mmol)を水(40ml)に溶解させ、 これにジェチ ルエーテル (40ml)を加え、 氷冷下、 先に得られたジァゾニゥム塩の溶液をスポ イトで滴下、 同温度で 30分、 さらに、 室温で 30分撹拌した。 反応液をジェ チルエーテルで抽出、 亜硫酸ナトリウム水と食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留 去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン) により単 離精製を行い、 2_ブロモ—4—フルオロー 5—ョードア二ソール(5.9g)を得 た。
'H-NMR(CDC13) (5 3.86 (3H, s), 7.18(1H, d, J=5.2Hz), 7.27(1H, d, J=6.9Hz) (2) 窒素気流下、 実施例 1 0の ( 1 ) で調製したョードア二ソ一ル
5.9g(17.8mmol)をジェチルエーテル(80ml)に溶解し、 一 78°Cで n—ブチルリ チウム (1.6Mへキサン溶液, 12.5ml, 20mmol) を 10分で滴下し同温度で 30 分攪拌した。 ついで、 —70〜一 78°Cでほう酸トリメチル 2.3g(22誦 ol)のジ ェチルエーテル(5ml)溶液を 20分で滴下し同温度で 3時間攪拌し、徐々に室温 まで昇温させた。 氷冷下、 1N塩酸 44mlを滴下し室温で 1時間攪拌した。 ジェ チルエーテル層を分液、 水層をジェチルエーテルで抽出、 ジェチルエーテル層 を合わして食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物に少量の石油ェ一 テルを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 4一ブロモ _ 2—フルォロ— 5—メトキ シフエ二ルポロン酸(2.5g)を得た。
'H-NMR(CDC13) 6 3.91 (3H, s), 5.08(2H, br), 7.26-7.45 (2H, m)
(3) 4, 5—ジクロ口— 6—ジフルォロメチルピリミジン 2.0g(10mmol)と 実施例 10の (2) で調製したフエ二ルポロン酸 2.5g(10mmol)を DME(50ml)に 溶解させ、ジクロロビス(トリフエニルホスフィン)パラジウム 0.5g(0.7mmol) 、 炭酸水素ナトリウム 2.7g (33匪 ol)そして水 16mlを加え 3.5時間加熱還流させ た。 冷却後、 反応液を濃縮し、 残留物に水を加え、 2N塩酸で中和、 酢酸ェチル で抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマト グラフィ一 (へキサン:酢酸ェチル = 3: 1) により単離精製を行い、 5_クロ 口一4— (4 _ブロモ一 2—フルォロ一 5—メトキシフエ二ル) _6—ジフル ォロメチルピリミジン(2.2g)を得た。
m.p.118-120T:
'H-NMR(CDC13) δ 3.92(3H, s) , 6.93(1Η, t, J=53.3Hz), 6.98(1Η, d, J=5.8Hz), 7.47(1H, d, J=8.6Hz), 9.27(1H, s)
(4) 実施例 10の (3) で調製した化合物 2.3g(6.3mmol)を N—メチルピ 口リ ドン(30ml)に溶解させ、 シアン化銅 1.2g(12.5Miol)とヨウ化第一銅
0.3g(1.6mmol)を加え 100°Cで 1時間、 150 で 3時間撹拌した。 冷却後、 反応液を氷水にあけ析出晶をろ取、 得られた結晶を酢酸ェチルに溶かし、 食塩 水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトダラ フィ一 (へキサン:酢酸ェチル = 2: 1) により単離精製を行い、 5—クロ口— 4— (4—シァノ一2—フルオロー 5—メトキシフエ二ル) _6—ジフルォロ メチルピリミジン(0.95g)を得た。
m.p.154-157°C
'Η-匪 R(CDC13) δ 3.97(3Η, s), 6.92(1Η, t, J=53.2Hz), 7.06(1H, d, J=5.1Hz), 7.45(1H, d, J=8.4Hz), 9.29(1H, s)
1. R(Nujol ;cr') 2231, 1556, 1505, 1464, 1421, 1377, 1057
(5) 実施例 10の (4) で調製した化合物 0.95g(3.0mmol)をクロ口ホルム (15ml)に溶解させ、 氷冷下、 三臭化ホウ素 (1M ジクロロメタン溶液) 6mlを滴 下し室温で 4時間攪拌した。反応液を濃縮後、残留物に水を加え析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 5—クロ口 _ 4一 (4—シァノー 2—フルオロー 5—ヒド ロキシフエニル) ― 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.9g)を得た。
m.p.195-197°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.38(1Η, br, s), 6·91(1Η, t, J=53.1Hz), 7.11(1H, d, J=5.4Hz), 7.38(1H, d, J=8.4Hz), 9.28(1H, s)
(6) 実施例 10の (5) で調製した化合物 0.15g(0.5匪 ol)と炭酸カリウム 0.09g(0.65隨 ol)を DMF4ml に加え、 氷冷下、 プロパルギルブ口マイ ド 0.077g(0.65mmol)を加え室温で 3時間撹拌した。 反応液に氷水を加え析出晶を ろ取、 水洗後、 乾燥して、 5—クロ口— 4_ (4—シァノー 2 _フルオロー 5 —プロパルギルォキシフエニル) 一 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.14g) を得た。 m.p.141-143°C
'H— NMR(CDC13) δ 2.6K1H, t, J=2.4Hz), 4.87(2H, d, J=2.3Hz), 6.92(1H, t, J=53.2Hz), 7.26(1H, d), 7.47(1H, d, J=8.4Hz), 9.30(1H, s)
実施例 1 1
5—クロ口— 4— (4—シァノ— 3 _プロパルギルォキシフエニル) —6— ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A— 31)
( 1 ) 4—ァミノサリチル酸 15.2g(99.2誦 ol)と水酸化ナト リウム 14.0g(0.21mol, pellet)をアセトン(250ml)に加え、 水冷下、 ジメチル硫酸 29.5g(0.23mol)を滴下し室温で 4時間撹拌した。 析出晶をろ去、 ろ液を濃縮し て、 残留物に水を加え析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 4一アミノー 2—メ トキシ安息香酸メチルエステル(14.6g)を得た。
m.p.141-144°C
'H-N R(CDCI3) δ 3.8 (3Η, s), 3.86 (3Η, s), 4.10 (2H, br), 6.18-6.28 (2H, m), 7.74(1H, d, J=8.4Hz)
(2) 水(45ml)に濃塩酸(12ml)と実施例 1 1の (1) で調製したァニリン 6.8g(45.5imol)を加え 40°Cで 30分撹拌した。 氷冷下、 亜硝酸ナトリウム 6.6g(43. lmmol)の水溶液(4ml)を滴下し、 同温度で 30分撹拌した。ついで、 ョ ゥ化ナトリウム 6.6g(44mmol) の水溶液(15ml)に先に得られたジァゾ二ゥム塩 の溶液をスポイトで滴下、 同温度で 30分、 さらに、 室温で 30分撹拌した。 反応液を酢酸ェチルで抽出、 亜硫酸ナトリウム水と水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を 留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェ チル = 2: 1) により単離精製を行い、 4—ョード—2—メトキシ安息香酸メチ ルエステル(8· 3g, 油状物)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 3.84(3H, s), 3.86(3H, s), 7.26-7.34(2H, m), 7.47(1H, d, J=8.2Hz)
(3) 実施例 1 1の (2) で調製したエステル体 8.6g(28.4miiK)l)をエタノー ル(60ml)に溶解させ、室温で水酸化ナトリウム 1.6g(39.4mmol)の水溶液 (20ml) を滴下し、 30分加熱還流させた。 冷却後、 エタノールを留去、 残留物に水を 加え濃塩酸で中和(PH 2)して、 析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 4一ョ一ド _2—メトキシ安息香酸(7.3g)を得た。
(4) 実施例 1 1の (3) で調製したカルボン酸(7.3g)に塩化チォニル (4ml) と DMF(5滴)を加え 2時間加熱還流させた。冷却後、反応液にトルエンを加え濃 縮乾固させた。 残留物をァセトニトリル(50nil)に溶解させ、 氷冷下、 濃アンモ ニァ水 (25ml)を滴下し室温で 1時間撹拌した。 反応液を濃縮後、 残留物に水を 加え析出晶をろ取、 乾燥して、 4ーョ一ド— 2—メトキシベンズアミド(7. Og) を得た。
'Η-匪 R(DMS0-dr>) δ 3.89(3H, s), 7.36-7.55 (3H, m), 7.59 (2H, br)
(5) 実施例 1 1の (4) で調製したベンズアミド 7.0g(25.2mmol)をピリジ ン(35ml)に溶解させ、 氷冷下、 ォキシ塩化リン 5.84g(37.6画 ol)を滴下し、 室 温で 2. 5時間撹拌した。反応液を氷水にあけ析出晶をろ取、水洗後、乾燥した。 得られた結晶をへキサン/酢酸ェチル == 1/1に溶解しシリカゲル層にてろ過、 ろ液を濃縮して、 4—ョード— 2—メトキシベンズニトリル(6.3g)を得た。 m.p.〜125。C
'H-NMR(CDC13) δ 3.82(3H, s), 7.22-7.42 (3Η, m)
I.R. (Nujol) 2227, 1585, 1484, 1389, 1253, 1024, 811cm-'
(6) 窒素気流下、 実施例 1 1の (5) で調製した化合物 2.0g(7.7匪 ol)を THF (25ml)に溶解し、 — 7 8でで n—ブチルリチウム (1.6M へキサン溶液, 5.7ml, 8.9mmol) を 1 0分で滴下し同温度で 30分攪拌した。 ついで、 — 7 0 〜一 Ί 8 °Cでほう酸トリメチル 0.97g(9.4誦 ol)の THF (25ml)溶液を 2 0分 で滴下し同温度で 3時間攪拌した。 そして、 徐々に室温まで昇温させた。 氷冷 下、 1N塩酸(20ml)を滴下し室温で 1時間攪拌した。 反応液をジェチルェ一テル で抽出 (2回)、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物にへキサン/ 酢酸ェチル = 5/1を加え析出晶をろ取、乾燥して、 4 _シァノ— 3—メトキシ フエ二ルポロン酸(1.16g)を得た。
'H-NMR(DMSO-de) 6 3.92 (3H, s), 7.45(br. s), 7.46(1H, d, J=7.5Hz), 7.58(1H, s), 7.66(1H, d, J=7.5Hz)
I.R. (Nujol) 3413, 2235, 1459, 1347, 1146, 825, 678cr'
(7) 4, 5—ジクロ口ピリミジン 1.3g(6.5inmol)と実施例 1 1の (6) で 調製したフエ二ルポロン酸 1. lg(6.5minol)を DME(30ml)に溶解させ、 ジクロロ ビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 0.23g(0.33mmol) 、 炭酸水素ナト リウム 1.8g(21mmol)そして水 10ml を加え 2時間加熱還流させた。 冷却後、 反 応液を濃縮し、残留物に水を加え、 2N塩酸で中和、クロ口ホルムで抽出、水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物にへキサン:酢酸ェチル =3: 1を加え析出晶 をろ取、 乾燥して、 5—クロ口一 4一 (4一シァノ一 3—メトキシフエ二ル) — 6—ジフルォロメチルピリミジン(1. lg)を得た。 さらに、 ろ液を濃縮後、 残 留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル = 1 : 1) により単離精製を行うことにより上記化合物の精製物(1.27g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 4·01(3Η, s), 6.94(1H, t, J=53.2Hz), 7.39(1H, s), 7.43-7.50(1H, m), 7.70-7.75 (1H, m), 9.27(1H, s)
(8) 実施例 1 1の (7) で調製した化合物 1.0g(3.4mmol)をクロ口ホルム (15ml)に溶解し、 氷冷下、 三臭化ホウ素(1M ジクロロメタン溶液, 6ml)を滴下 し室温で 3時間撹拌した。 さらに、 同温度で三臭化ホウ素(2ml)を追加し 3時間 撹拌した。 さらに、 室温で三臭化ホウ素(3ml)を追加し 16時間撹拌した。 反応 液に水を加えクロ口ホルムで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物に へキサン:酢酸ェチル =5: 1を加え析出晶をろ取、 乾燥して、 5—クロ口 _4 - (4一シァノ _ 3—ヒドロキシフエニル) 一 6—ジフルォロメチルピリミジ ン(0.52g)を得た。
■H-NMRCCDClj) δ 6.11(1H, s), 6.93(1H, t, J=53.2Hz), 7.42-7.47 (2H, m), 7.67(1H, d, J=7.8Hz), 9.26(1H, s)
(9) 実施例 1 1の (8) で調製したフエノール体 0.13g(0.46腳 ol)と炭酸 カリウム 0.083g(0.6mol)を DMF (2ml)に加え、 氷冷下、 プロパルギルブロミ ド 0.072g(0.6mol)を加え室温で 2時間撹拌した。反応液を水にあけ酢酸ェチル で抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラム クロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル = 1 : 1) により単離精製を行い、 5—クロ口— 4一 (4ーシァノー 3—プロパルギルォキシフエニル) —6—ジ フルォロメチルピリミジン(35mg)を得た。
m. p.99-101°C
'H-NMR(CDC13) δ 2.63(1H, t, J-2.4Hz), 4.93 (2H, s), 6.96(1H, t, J=53.2Hz), 7.53-7.63 (2H, m), 7.67(1H, d, J=7.9Hz), 9.30(1H, s) 実施例 12 4一 (4 _クロ口— 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエニル) 一 5—シ ァノー 6—メトキシピリミジン (化合物番号 B— 4)
ジメトキシェタン(8ml)と水(lml)の混合液に 4—クロ口一 5—シァノ— 6 —メトキシピリミジン 0.25g(1.5mmol)、 4 _クロ口— 2—フルオロー 5—イソ プロポキシフエ二ルポロン酸 0.35g(1.5mmol)、 ジクロロビス (トリフエニルホ スフイ ン) パラジウム(II)0.05g(0.07imnol)および炭酸水素ナトリウム 0.37g(4.4匪 ol)を加え 70°Cで 3時間撹拌した。 冷却後、 反応液を 2N 塩酸で 中和 (pH5)、 酢酸ェチルで 2回抽出し、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシ リカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル =4: 1) により分離 精製を行い、 4 _ (4—クロ口— 2—フルオロー 5—イソプロポキシフエニル) — 5—シァノー 6—メトキシピリミジン (0.2g)を得た。
m.p.119 - 120。C
'H-NMR(CDC13) δ 1.40(6H, d, J=6.0Hz), 4.19(3H, s), 4.50-4.60 (1H, m) , 7.16(1H, d, J=6.3Hz), 7.30(1H, d, J=9.4Hz), 8.96(1H, s)
IR(Nujol) 2250 cm1 実施例 13
2—クロ口 _ 4—フルオロー 5 - (5 _シァノ一 6—メチルピリミジン一 4 一ィル) 安息香酸イソプロピルエステル (化合物番号 B— 7)
( 1 ) 2— ( 1—エトキシェチリデン) —シァノ酢酸メチルエステル
15.23g(0.09mol) のエタノール(150ml)溶液にホルムアミ ジン塩酸塩 10.47g(0.13mol)を加えた。 氷冷下、 28 %ナトリウムメトキシドメ夕ノール 25.08g(0.13mol)を 30分で滴下し室温で 2時間、そして、 60°Cで 2時間撹拌 した。冷却後、反応液を濃縮し、残留物に水(150ml)を加え 1N塩酸により中和、 酢酸ェチルで 4回抽出、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物にジェチルエーテル を加え析出晶をろ取、 乾燥して、 5—シァノ _ 4ーヒドロキシ— 6—メチルビ リミジン(8.8g)を得た。
m.p.172-174°C
'Η-醒 (画- d6) δ 2.44(3Η, s), 8.40(1Η, s), 13.30-13.45(1Η, br s) IR(Nujol) 3373, 3184, 2231, 2207, 1691, 1631, 1587, 1165, 956, 842 cm (2)実施例 13の(1)で調製した 4—ヒドロキシピリミジン 0.67g(5mmol) にォキシ塩化リン 4.28g(28mol)を加え、 90 :で 1時間撹拌した。 冷却後、 反 応液を濃縮し、 残留物に酢酸ェチルを加え水および食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶 媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢 酸ェチル =3: 1) により分離精製を行い、 4一クロ口— 5—シァノ— 6—メチル ピリミジン (0.3g)を得た。
m.p.67-68T
'H-NMR(CDC13) 6 2.8Κ3Η, s), 9.01 (1H, s)
IR(Nujol) 2235, 1526, 1352, 1028, 896, 823, 760 cnf'
(3) ジメトキシェタン(28ml)と水(5ml)の混合液に実施例 13の (2) で調 製した 4—クロ口ピリミジン 0.61g(4mmol)、 4—クロ口一 2—フルォロ一 5 —メトキシカルボニルフエ二ルポロン酸 0.98g(4.2mmol)、 ジクロロビス (トリ フエニルホスフィン) パラジウム(11)0.28g(0.4mmol)および炭酸水素ナトリゥ ム 1.01g(12mmol)を加え 1時間加熱還流させた。 冷却後、 反応液を濃縮、 残留 物に水を加え 2N塩酸で中和 (pH5)、 クロ口ホルムで 3回抽出し、 水洗、 乾燥 後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサ ン:酢酸ェチル =2 : 1) により分離精製を行い、 2—クロ口— 4—フルオロー 5 - (5—シァノ _ 6 _メチルピリミジン—4—ィル) 安息香酸メチルエステル (0.87g)を得た。
m.p.142- 144°C
'Η-蘭 R(CDC13) δ 2.87(3Η, s), 3.95(3Η, s), 7.43(1Η, d, J =9.5Hz), 8.25(1Η, d, J=7.2Hz), 9.3K1H, s) I9F-NMR(CDC13) δ - 105.5
IR(Nujol) 2230, 1740, 1610, 1242, 1106, 936 cm"1
(4)実施例 13の( 3)で調製した化合物 0.85g(2.8匪 ol)の THF溶液(15ml) に 2N水酸化ナトリウム 3.2ml (6. Ommol)を加え室温で 3時間撹拌した。さらに、 2N水酸化ナトリウム 3. Oml (6.4mmol)を加え 14.5時間撹拌した。 不溶物をろ 去した後、 ろ液を濃縮し、 残留物に水を加え 1N塩酸で中和 (pH 3) 後、 酢酸 ェチルで 2回抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物にジェチ ルエーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥して 0.63gの結晶を得た。 そして、 得ら れた結晶(0.63g)を THF(20ml)に溶解し、 CDI 0.49g(3腳 ol)を室温で加え 1時間 撹拌した後、 2 _プロパノール 1.58g(26mmol)を加え 5.5時間加熱還流させた。 さらに、 2 _プロパノール 1.58g(26iMiol)を加え 55°Cで 15時間撹拌後、 1 5時間加熱還流させた。 冷却後、 反応液を濃縮し、 残留物に酢酸ェチルを加え 水と食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロ マトグラフィ一 (へキサン:酢酸ェチル =3: 1) により分離精製を行い、 2—ク ロロ一 4—フルオロー 5— (5—シァノ一6—メチルピリミジン一 4 Γル) 安息香酸ィソプロピルエステル (0.21g)を得た。
m.p.79 - 80
'H -國 R(CDC13) δ 1.39(6H, d, J=6.3Hz), 2.87(3H, s), 5.28(1H, septet, J=6.3Hz), 3.95(3H, s), 7.42(1H, d, J=9.6Hz), 8.17(1H, d, J=7.4Hz), 9.31 (1H, s)
I9F-NMR(CDC13) δ -106.2
IR(Nujol) 2231, 1732, 1614, 1547, 1266, 1245, 1101, 910 cm"1 実施例 14
4— [4—クロ口 _ 2—フルオロー 5— (N—ェチルスルホニルァミノ) フ ェニル]— 5—シァノ— 6—ジフルォロメチルピリミジン(化合物番号 B— 9) (1) 4 _クロロー 2—フルオロー 1一ョードベンゼン 1.46g(5.69mmol)を THF (50ml)に溶解し、 ― 70でで n—ブチルリチウムへキサン溶液(1.59M) 3.6ml(65.69mmol)を滴下し同温度で 30分撹拌した。 — 70°Cで臭化亜鉛 1.40g(6.22mmol)を添加し同温度で 1時間撹拌した。室温まで昇温した後、実施 例 1で調製した 5—ョ一ドピリミジン 0.8g(2.85mmol)とテトラキス(トリフエ ニルホスフィン) パラジウム 0.2g(0.17mmol)を加え 55°Cで 2時間撹拌した。 冷却後、 希塩酸で中和し、 THF を留去、 残留物に酢酸ェチルを加え水洗、 乾燥 後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサ ン:酢酸ェチル =2 : 1) により分離精製を行い、 4一 (4一クロ口 _2_フルォ 口フエ二ル)— 5—シァノー 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.55g)の結晶を 得た。
'H-NMR(CDC13) (5 6.81 (1H, t, J=53.2Hz), 7.34-7.41 (2H, m), 7.62-7.67 (1H, m), 9.51 (1H, s)
(2) 実施例 14の (1) で調製した化合物 0.55g(1.93mmol)を濃硫酸(3ml) に溶解し、 氷冷下、 発煙硝酸 0.25g(3.97mmol)を滴下し室温で 1. 5時間撹拌 した。 反応液を氷水にあけ酢酸ェチルで抽出し、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去し た。 残留物にへキサンを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 4_ (4一クロ口— 2 —フルオロー 5—ニトロフエニル) — 5—シァノ一 6—ジフルォロメチルピリ ミジン(0.47g)の結晶を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.82(1H, t, J=53.3Hz), 7.58(1H, d, J=9.0Hz), 8.38 (1H, d, J=6.6Hz), 9.57(1H, s)
( 3 ) 還元鉄 0.47g(8. Ommol)を酢酸(6ml)とイソプロパノール(3ml)の混合溶 媒に加え、 これに実施例 14の (2) で調製したニトロ体 0.47g(1.47mmol)を 75°Cで少量ずつ加え、 同温度で 30分撹拌した。 冷却後、 反応液に酢酸ェチ ルを加え不溶物をセライト層でろ去、 ろ液を濃縮した。 残留物をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =3 :2)により分離精製を行い、 4— (5—アミノー 4—クロロー 2—フルオロフェニル) 一 5—シァノー 6— ジフルォロメチルピリミジン(0.24g)の結晶を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 4.15(2H, br s), 6.81 (1H, t, J=53.2Hz), 7.10(1H, d, J=6.4Hz), 7.27(1H, d, J=9.0Hz), 9.48(1H, s)
(4) 実施例 14の (3) で調製した化合物 0.12g(0.4mmol)、 トリェチルァ ミン 0.16g(1.58 iol)をジクロ口ェ夕ン(6ml)に溶かし、 氷冷下、 ェ夕ンスルホ ニルクロライド 0.155g(1.2mmol)のジクロ口ェ夕ン溶液(2ml)を滴下し、室温で 16時間攪拌した。 反応液を濃縮後、 残留物を希塩酸で中和し、 酢酸ェチルで 抽出、乾燥後、 溶媒を留去した。 この残留物にメタノール(5ml)と炭酸カリウム 0.2g(1.45imnol)を加え室温で 30分撹拌した。 反応液を希塩酸で中和し、 析出 晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 4— (4—クロ口— 2—フルオロー 5—ェチル スルホニルァミノフエニル) 一 5—シァノ一 6—ジフルォロメチルピリミジン (0.12g)を得た。
m.p.147- 149°C
'H-NMR(CDC13) δ 1.43(3Η, t, J=7.4Hz), 3.2Κ2Η, q, J=7.4Hz), 6.77(1H, br s), 6.80(1H, t, J=53.2Hz), 7.44(1H, d, J=8.9Hz), 8.02(1H, d, J=6.7Hz), 9.53(1H, s)
IR(Nujol) 2250 cm—1 実施例 1 5
4- [5 - (N—ァリル— N—ェチルスルホニルァミノ) —4—シァノー 2 一フルオロフェニル] —5—シァノー 6—メトキシピリミジン (化合物番号 B - 26)
(1) 還元鉄 20g(357画 ol)を酢酸(220ml)とイソプロパノール(110ml)の混合 溶媒に加え、 これに 4— (4 _シァノ— 2 _フルオロー 5—ニトロフエニル) - 5—シァノ— 6—メトキシピリミジン 0.47g(1.47mmol)を 70°Cで少量ずつ 加え、 同温度で 1時間撹拌した。 冷却後、 反応液に酢酸ェチルを加え不溶物を シリカゲル層でろ去、 ろ液を濃縮した。 残留物を酢酸ェチルに溶解させ再度シ リカゲル層にてろ過、 ろ液を濃縮した。 残留物にジイソプロピルエーテルを加 え析出晶をろ取、 得られた結晶をメタノールで洗浄、 乾燥して目的物を 9.2g 得た。 さらに、 ろ液と洗浄液を合わせ濃縮し残留物をシリカゲルカラムクロマ トグラフィー (クロ口ホルム:アセトン =6: 1) により分離精製を行い 4— (5 —ァミノ _4—シァノー 2—フルオロフェニル) 一 5—シァノ一6—メトキシ ピリミジン(5.6g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 4.20 (3Η, s), 4.48(2H, br s), 6.95(1H, d, J=5.6Hz), 7.30(1H, d, J=9.1Hz), 8.97(1H, s)
(2) 実施例 15の (1) で調製した化合物 16g(59.5誦 ol)、 トリェチルァ ミン 32g(316mmol)をジクロ口ェ夕ン(450ml)に溶かし、 氷冷下、 ェ夕ンスルホ ニルクロライド 20g(155mmol)を滴下し、 室温で 5時間攪拌した。 反応液を濃縮 後、残留物に酢酸ェチルを加え水と希塩酸で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去した。 この残留物にメタノール(400ml)と炭酸力リゥム 16g(116mmol)を加え室温で 30 分撹拌した。 反応液を濃縮し、 希塩酸で中和し、 析出晶をろ取、 水とジェチル エーテルで洗浄後、 乾燥して、 5—シァノー 4一 [4ーシァノー 2 _フルォロ - 5 - (N—ェチルスルホニルァミノ) フエニル) —6—メトキシピリミジン (20.0g)を得た。
m. p.187-189°C
'H-NMR(CDC13) δ 1.47(3H, t), 3.27(2H, q, J=7.4Hz), 4.22 (3H, s), 7.00(1H, br s), 7.53(1H, d, J=8.5Hz), 8.01 (1H, d, J=6.0Hz), 9.00(1H, s)
(3) 実施例 15の (2) で調製した化合物 0.2g(0.55mmol)と炭酸カリウム 0.115g(0.83mmol) を DMF(7ml) に加え、 そ して、 ァ リ ルブロマイ ド 0.042g(0.35隱 ol)を加え、 室温で 1 7時間撹拌した。 さらに、 炭酸カリウム 0.05g(0.36mmol)とァリルブロマイド 0.042g(0.35mmol)を加え、 室温で 24時 間撹拌した。 反応液を希塩酸で中和し、 析出晶をろ取、 水洗、 乾燥して、 4一 [5 - (N—ァリル— N—ェチルスルホニルァミノ) —4—シァノー 2—フル オロフェニル] 一 5—シァノ一6—メトキシピリミジン(0.12g)を得た。
m.p.93-95°C
'H-NMR(CDC13) δ 1.5K3H, t, J=7.3Hz), 3.26(2H, q, J=7.3Hz), 4.22(3H, s), 4.35-4.36 (2H, m), 5.15-5.25(2H, m), 7.58(1H, d, J=8.7Hz), 7.80 (1H, d, J=6.3Hz), 8.01 (1H, d, J=6.0Hz), 9.00(1H, s)
IR(Nujol) 2250 cm"1 実施例 16
2—ブロモ— 4-フルオロー 5— (5—クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミ ジン _ 4一ィル) フエノキシ酢酸ェチルエステル (化合物番号 A— 38)
(1) 実施例 10の (3) で調製した化合物 1· lg(3.0mmol)をクロ口ホルム (15ml)に溶解させ、 氷冷下、 三臭化ホウ素 (1M ジクロロメタン溶液) 6mlを滴 下し室温で 6時間攪拌した。 さらに、 室温で三臭化ホウ素 (1M ジクロロメタン 溶液) 1mlを追加して同温度で 17時間撹拌した。 反応液を濃縮後、 残留物に 水を加え酢酸ェチルで抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去して、 2 -ブ 口 f— 4-フルオロー 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4 —ィル) フエノール (0.95g) を得た。
m.p.164-167°C
'Η-画 R(CDC13) δ 5.55(1Η, br, s), 6.92(1Η, t, J=52.8Hz), 7.15(1H, d, J=5.9Hz), 7.39(1H, d, J=8.6Hz), 9.26(1H, s)
(2) 実施例 16の (1) で調製した化合物 0.15g(0.42mmol)と炭酸力リウ ム 0.075g(0.55mmol)を DMF(4ml)に加え、 氷冷下、 ブロモ酢酸ェチル 0.092g(0.55mmol)を加え室温で 14時間撹拌した。 反応液に氷水を加え酢酸ェ チルで抽出、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル =3: 1) により分離精製を行な レ 、 2—ブロモ一 4-フルオロー 5— (5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリ ミジン一 4—ィル) フエノキシ酢酸ェチルエステル (0.15g) を得た。
m.p.98-99°C
'H-NMR(CDC13) δ 1·29(3Η, t, J=7.1Hz), 4.27(2H, q, J=7.1Hz), 4.71 (2H, s), 6.92 (1H, t), 6.98(1H, d, J=5.8Hz), 7.49(1H, d, J=8.6Hz), 9.25(1H, s) 実施例 17
4— (4—ブロモ— 2—フルオロー 5—メチルスルホニルァミノフエニル) — 5—クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A— 39)
(1) 4—ブロモ一 2—フルォロア二リン 15.0g(78.9mmol)に 3.5N塩酸 (71mL)を加え、 45°Cで 0.5時間攪拌した。その後、 氷冷下で亜硝酸ナトリウ ム 6.1(^(86.8匪01)の水溶液(18111 を滴下し、 同温度で 0.5時間攪拌して、 ジ ァゾニゥム塩を調製した。 このものをヨウ化ナトリウム 23.6g (158匪 ol)の水 (120mL)/ジェチルエーテル(120mL)混合溶液に、 氷冷下で加え、 同温度で 0.5 時間、 室温で 1.5時間攪拌した。 エーテル層を分液、 水層をジェチルエーテル で抽出した。 エーテル層を合わせて飽和チォ硫酸ナトリウム水溶液、 純水、 飽 和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をへキサンに溶解させシリカゲル層にて濾過し、濾液を減圧下濃縮した。 濃縮残渣を蒸留し、 不純物である 1一ブロモ -3—フルォロベンゼンを留去 (55°C, 25mmHg)した。 蒸留後の残渣に石油エーテルを加え、 結晶化させた後、 濾取、 減圧下乾燥して、 4一ブロモ— 2 _フルオロー 1一ョ一ドベンゼン
(10.9g) を得た。
m.p. 46- 48°C
'HNMR (CDC13) 6 7.04-7.07 (111, m), 7.22-7.25 (1Η, m), 7.58-7.62 (1H, m). (2) 実施例 17の (1) で調製した化合物 10.9g(36.3mmol)のジェチルェ一 テル溶液(120mL)に— 70°C下、 n—ブチルリチウム(1.56M へキサン) 26.0mL(40.5mmol)を 15分間かけて滴下し、 同温度で 0.5時間攪拌した。その 後、 ほう酸トリメチル 4.72g(44.5mmol)のジェチルエーテル溶液(10mL)を 20 分間かけて滴下し、 同温度で 3時間攪拌し、 徐々に室温まで昇温させ一夜撹拌 した。 氷冷下、 1N塩酸 (90mL)を加え、 同温度で 1時間攪拌した。 有機層を分液 した後、 水層をジェチルェ一テルで抽出した。 ジェチルエーテル層を合わせ純 水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮 した。 残渣の結晶を石油エーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥して、 4一プロ モ— 2—フルオロフェニルポロン酸 (6.10g) を得た。
1讓 R (CDC") δ 5.09(2H, br.s), 7.24-7.27 (1H, m), 7.35-7.37 (1H, m), 7.69-7.72 (1H, m) .
(3) 4, 5—ジクロロ _6—ジフルォロメチルピリミジン 2.73g(13.7mmol) のジメトキシェタン(70mL)/水(22mL)混合溶液に、室温下で、実施例 17の(2) で調製した化合物 3.00g(13.7mmol)、 t固-ジゥロロビス(トリフエニルホスフ イ ン)パラジウム(II) 673mg(0.960mmol) , 及び、 炭酸水素ナトリウム 3.80g(45.2mmol)を加え、 加熱還流しながら 3時間攪拌した。減圧下濃縮し、 残 渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄 し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =10:1)により分離精製して、 4 - (4 _ブロモ一 2—フルオロフェニル) _ 5—クロ口 _ 6—ジフル才ロメ チルピリミジン (1.72g) を得た。
'HNMR (CDC13) δ 6.93(1H, t, J=53.3Hz), 7.37-7.50 (3H, m), 9.26(1H, s) . 19F匪 R (CDC13) δ -121.2(2F), -109.5 (IF).
(4) 実施例 17の (.3) で調製した化合物 1.78(5.011111101)に濃硫酸(811110を 加え、 氷冷下で、 発煙硝酸 0.32mL(7.6mmol)を滴下した。 同温度で 2時間攪拌 後、 反応液を氷冷水にあけ、 析出晶を濾取した。 得られた結晶を酢酸ェチルに 溶解し、 純水、 飽和食塩水の順で洗诤し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー(へキサン:酢 酸ェチル 5:1)により分離精製して、 4一 (4—ブロモ—2—フルオロー 5_二 トロフエニル) — 5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン (1.5g) を得 た。
m.p. 102-104°C
'HNMR (CDC13) 6 6.9K1H, t, J=53.1Hz), 7.68(1H, d, J=8.6Hz), 8.18(1H, d, J=6.4Hz), 9.30(1H, s).
19FNMR (CDCI3) 6 -121.3(2F), -102.2(1F).
IR (Nujol) 1616, 1535, 1239, 1219, 1107, 1052, 962, 904, 885, 862, 798, 685, 663, 624, 561 cm"1
(5)還元鉄 1.1(^(17.6腿01)に酢酸(7 )、 2 -プロパノール(15mL)の混合液 に加え、 70°Cに加温した。 その後、 実施例 17の (4) で調製した化合物 1.50g(3.92mol)の酢酸溶液 (8mL)を滴下し、 同温度で 0.5時間攪拌した。 反応 液をセライト層にて濾過、 セライト層を酢酸ェチルで洗浄した後、 濾液と洗液 を合して減圧下濃縮した。 残渣の結晶をジェチルエーテルで洗浄し、 濾取、 減 圧下乾燥して、 4— (5—ァミノ— 4_ブロモ—2—フルオロフェニル) 一 5 —クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン (1.33g) を得た。
m.p. 121-122°C
'HNMR (CDCI3) δ 4.1K2H, br.s.), 6.85(1Η, d, J=6.2Hz), 7.00(1H, t, J=53.3Hz), 7.34(1H, d, J=8.9Hz), 9.24(1H, s) .
IR (Nujol) 3453 (NH), 3370 (NH), 1625, 1606, 1557, 1387, 1197, 1129, 1063, 1048, 972, 870, 769, 752 cm"'
(6) 実施例 17の (5) で調製した化合物 0.30g(0.85mmol)の THF(15mL) 懸濁液に氷冷下でトリェチルァミン 0.60mL(4.3mmol)を加えた。 その後、 メタ ンスルホニルクロリ ド 0.33mL(4.3mniol)を滴下し、 同温度で 1.5時間攪拌し た。 減圧下濃縮した後、 残渣に純水(50ml)を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減 圧下濃縮した。 残留物に石油エーテルを加え、 結晶化させた後、 濾取、 減圧下 乾燥して、 4一 {5— [Ν,Ν-ビス (メチルスルホニル) ァミノ] 一 4ーブロ モ— 2—フルオロフェニル } _ 5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (0.41g) を得た。
m.p. 191-195°C
'HNMR (CDC13) δ 3.53 (6Η, s), 6.92(1Η, t, J-53.2Hz), 7.60(1H, d, J=6.5Hz), 7.65 (1H, d, J=8.7Hz), 9.28(1H, s).
(7) 実施例 17の (6) で調製した化合物 0.40g(0.78隨 ol)の THF(lOmL) 懸濁液に氷冷下、 13%水酸化ナトリウム水溶液(2mL)を滴下し、 室温で 2時間攪 拌した。 1N塩酸を加え、 pH3とした後、 純水(30ml)を加え、 酢酸ェチルで抽出 した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾 燥後、 減圧下濃縮した。 残渣の結晶を石油エーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下乾 燥して、 4_ (4—ブロモ _2_フルオロー 5—メチルスルホニルァミノフエ ニル) 一 5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.29g)得た。
m.p. 150-15TC
'HNMR (CDCI3) δ 3.06(3H, s), 6.78(1Η, br.s.), 6·91(1Η, t, J=53.2Hz), 7.54(1H, d, J=8.5Hz), 7.82(1H, d, J=6.5Hz), 9.28(1H, s) .
l9FNMR (CDCI3) δ -121.1 (2F), -113.4(1F).
IR (Nujol) 3201 (NH), 1612, 1558, 1493, 1379, 1273, 1156, 1128, 1056, 977, 877, 850, 755, 567, 533, 504 cm一1 実施例 18
N_ [2—ブロモー 5 _(5—クロロー 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4 rル) 一 4一フルォロベンゼンスルホニル]カルバミド酸メチルエステル(化 合物番号 A— 43)
(1) 氷冷下、 実施例 1 7の (3) で調製した化合物 1.75g(5.18mmol)にク ロロスルホン酸 5mLを滴下し、 80でで1時間、 さらに 1 10°Cで 5時間攪拌 した。 放冷後、 氷水(lOOmL)にあけ、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽 和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル = 1: 1 )で 分離精製して、 2—ブロモ— 5— (5—クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミ ジン— 4 Γル) 一4—フルォロベンゼンスルホニルクロライド (2.0g) を得 た。
1國 R (CDC13) 6 6.9K1H, t, J=53.1Hz), 7.78(1H, d, J=8.6Hz), 8.41 (1H, d, J=6.7Hz,), 9.3K1H, s) .
(2) 実施例 18の (1) で調製した化合物 2.00g(4.58iMiol)のァセトニト リル溶液(20mL)に室温下、 28 アンモニア水溶液(9mL)を滴下し、 同温度で 2時 間攪拌した。 減圧下濃縮した後、 残渣に純水を加え、 析出晶を濾取、 減圧下乾 燥した。 得られた結晶をジェチルエーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥するこ とにより、 2—ブロモ一 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン 一 4—ィル) —4—フルォロベンゼンスルホンアミド (1.45g) を得た。
m.p. 178-179°C
'H刚 R (DMS0-d6) δ 7.34(1H, t, J=52.4Hz), 7.80(2H, br.s), 8.13(1H, d, J=9.2Hz), 8.26(1H, d, 〗=7.3Hz), 9.43(1H, s) .
IR (Nujol) 3374 (NH), 3270 (NH), 1607, 1559, 1347, 1239, 1211, 1168, 1112, 1049, 902, 732, 684, 557 cm—1
(3) 実施例 1 8の (2) で調製した化合物 0.20g(0.48mmol)とトリェチル ァミン 0.14ml (l.Ommol)のァセトニトリル溶液(lOmL)に、 氷冷下、 クロ口炭酸 メチル 45mg(0.48mmol)のァセ卜二トリル溶液(lmL)を滴下し、 同温度で 1時間 攪拌した。 減圧下濃縮した後、 残渣に純水(30mL)を加え、 1N塩酸で pH 3とし た。 析出晶を濾取後、 減圧下乾燥した。 この結晶をジイソプロピルエーテルで 洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥して、 N— [2—プロモー 5— (5—クロ口— 6—ジ フルォロメチルピリミジン一 4一ィル) _ 4—フルォロベンゼンスルホニル] 力ルバミド酸メチルエステル (0.17g) を得た。
m.p. 〜160°C(dec.)
'HNMR (CDC13) 6 3.74(3H, s), 6.9K1H, t, J=52.2Hz), 7.67(1H, d, J=8.7Hz), 7.95(1H, br.s), 8.50(1H, d, J=7.0Hz), 9.30(1H, s).
19FNMR (CDCI3) δ -121.1 (2F), -101.4(1F).
IR (Nujol) 3590 (NH), 1742 (CO), 1607, 1557, 1350, 1301, 1175, 1063, 955, 772, 665, 564 cnf1 実施例 19
2—ブロモー 5— (5—クロロー 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4一^ Γ ル) —4一フルォロ安息香酸イソプロピルエステル (化合物番号 A— 46) (1) 水(80ml)に濃塩酸(100ml)と 4 _ブロモ—2—フルォロ m-トルイジン 27.7g(0.135mol)を加え 40°Cで 30分撹拌した。 氷冷下、 亜硝酸ナトリウム 10.4g(0.15mol)の水溶液(30ml)を 一 6 °C前後で滴下し、同温度で 30分撹拌し た。 ついで、 ヨウ化ナトリウム 22.5g(0.15mol)を水(100ml)に溶解させ、 これ にエーテル(100ml)を加え、氷冷下、先に得られたジァゾ二ゥム塩をスポィ卜で 滴下、 同温度で 30分、 さらに、 室温で 30分撹拌した。 反応液に亜硫酸ナト リウムを少量加え脱色し、 エーテル層を分液、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を 留去した。 残留物を減圧蒸留により 2—ブロモ— 4一フルオロー 5—ョードト ルェン (27.2 g) を得た。
b.p.99-103°C/0.2mmHg
'H-NMR(CDC13) δ 2.33(3H, s), 7.25(1H, d) , 7.60(1H, d)
( 2 ) 窒素気流下、 実施例 1 9の ( 1 ) で調製したョードトルエン体 27.2g(86.3mmol)をエーテル(300ml)に溶解し、 ― 78 °Cで n—ブチルリチウム
(1.6M ^ & ,601111,93画01) を 30分で滴下し同温度で 30分攪拌した。 ついで、 —70〜一 78。Cでほう酸トリメチル 10.0g(97誦 ol)のジェチルェ一 テル(15ml)溶液を 20分で滴下し同温度で 3時間攪拌した後、 徐々に室温まで 昇温させ一夜撹拌した。 そして、 氷冷下、 1N—塩酸 330ml を滴下し室温で 1 時間攪拌した。 ジェチルェ一テル層を分液、 水層をジェチルェ一テルで抽出、 有機層を合わして食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物に少量の石 油エーテルを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 4—ブロモ— 2 _フルオロー 5— メチルフエ二ルポロン酸 (12.5g) を得た。
m.p.220°C以上
'H-NMR(CDC13) 6 2.38(3H, d), 5.10(2H, br s), 7.28(1H, d), 7.67(1H, d, J=7.2Hz)
(3) 水酸化ナトリウム 44g(110誦 ol)を水(390ml)に溶解した液に実施例 1 9の (2) で調製したフエニルボロン酸 12.5g(53.6imninol)を加え、 室温で過マ ンガン酸カリウム 18.9g(120mmol)を少量ずつ加え、 50 °Cで 6時間撹拌した。 さらに、室温で 20時間撹拌後、反応液にエタノール(5ml)を加え 1時間撹拌し た。 ついで、 析出物をセライト層にてろ去、 ろ液を濃塩酸で中和 (pH2)、 析出 晶をろ取、 水洗、 乾燥して、 4—ブロモ _ 2—フルオロー 5—力ルポキシフエ 二ルポロン酸 (10.25g) を得た。
'H-NMR(DMSO-d6) δ 7.53(1H, d), 8.18(1H, d), 13.35(br)
(4) イソプロパノ一ル(15ml)に実施例 1 9の (3) で調整したフエ二ルポ ロン酸 3.0g(11.4mmol)と濃硫酸(1.37ml)を加え、 加熱還流( 1 0時間)させた。 冷却後、反応液を氷水にあけ析出晶をろ取、水洗した。得られた結晶を酢酸ェチ ルに溶かし、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物に少量のへキサ ンを加え析出晶をろ取、 乾燥して、 4一ブロモ— 2—フルオロー 5—イソプロ ポキシカルボニルフエ二ルポロン酸 (2.5g) を得た。 m.p.175-177°C
'H-NMR(CDC13) δ 1.39(6H, d), 5.27(1H, sept.), 7.39(1H, d, J=9.7Hz), 8.24(1H, d, J=7.0Hz)
(5) 4, 5—ジクロロ _6—ジフルォロメチルピリミジン 0.52g(2.0mmol) と実施例 19の (4) で調製したフエ二ルポロン酸 0.6g(2.0讓 ol)を ジメトキ シェタン(10ml)に溶解させ、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジ ゥム 0. lg(0.14匪 ol)、炭酸水素ナトリゥム 0.56g(6.7mol)そして水(3ml)を加え 加熱還流 (2.5時間) させた。 冷却後、 反応液を濃縮し、 残留物に水を加え、 クロ口ホルムで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル = 5: 1→3: 1) により分離精 製を行ない、 2—ブロモ—5— (5—クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミジ ン— 4—ィル) —4—フルォロ安息香酸イソプロピルエステル (0.22g) を得 た。
m.p.99-101oC
'H-NMR(CDC13) δ 3.94(3Η, s) , 6.92(1Η, t, J=53.3Hz), 7.60(1Η, d, J=9.1Hz), 8.09(1H, d, J=7.4Hz), 9.28(1H, s) 実施例 20
5—ブロモ一 4_ [4 _クロ口 _ 2—フルオロー 5— (1—メトキシェトキ シ) フエニル] — 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A— 50)
( 1 ) 4—ジフルォロメチル— 6—ヒドロキシピリミジン 5· 80g(39.7mmol) の酢酸溶液(60mL)に室温下、 酢酸ナトリウム 16.3g(198mmol)、 臭素
2.30ml(43.7mmol)を加え、 同温度で 22時間攪拌した。 減圧下濃縮した後、 残 渣に氷水(100ml)を加え、 析出晶を濾取した。 この結晶を水洗し、 濾取、 減圧下 乾燥することにより、 5—ブロモ一4—ジフルォロメチルー 6—ヒドロキシピ リミジン (7.42g) を得た。 'H-NMR(DMS0-d6) δ 7.02(1H, t, J=53.0Hz), 8.33(1H, s), 13.40(1H, s)
(2) 実施例 20の (1) で調製した化合物 7.4g(33mmol)に塩化チォニル 6.011^(8211111101)と触媒量の1^?を加え、 8 0°Cで 2時間攪拌した。減圧下濃縮し た後、 残渣に酢酸ェチル(lOOmL)を加え、 飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、 飽和 食塩水の順に洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残 留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =5:1)で分 離精製して、 5—ブロモ _ 4一クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミジン(7.53 g) を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.84(1H, t, J=53.2Hz), 9.00(1H, s)
(3) 実施例 20の (2) で調製した化合物 7.53g(30.9mmol)の四塩化炭素 溶液(50mL)に、 氷冷下、 57%よう化水素酸 19. OmL (82mmol)を加え、 室温で 40 時間攪拌した。 炭酸水素ナトリウムで中和した後、 純水を加え、 クロ口ホルム で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮することにより、 5_ブロモ _6—ジフルォロメチル— 4—ョ一ド ピリミジン (8.30g) を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.78(1H, t, J=53.2Hz), 8.87(1H, s)
(4) 実施例 20の (3) で調製した化合物 4.00g(11.9mmol)のジメトキシ ェタン(77mL)/水(20mL)混合溶液に、室温下で、 4一クロロー 2 _フルオロー 5 —メトキシフエ二ルポロン酸 2.44g(11.9mmol)、 / -ジクロロビス(トリフエ ニルホスフィン)パラジウム(II) 586mg(0.830mmol), 及び、 炭酸水素ナトリウ ム 3.31g(39.4mmol)を加え、加熱還流しながら 3時間攪拌した。減圧下濃縮し、 残渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗 浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲ ルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =3:1)で分離精製して、 5 一ブロモ一4一 (4—クロ口一 2—フルオロー 5—メトキシフエ二ル) 一 6— ジフルォロメチルピリミジン (2.57g) を得た。 m.p. 124- 126。C
'HNMR (CDC13) δ 3.92(3H, s), 6.94(1H, t, J=53.3Hz), 6.97(1H, d, J=6.0Hz), 7.29(1H, d, J=8.8Hz), 9.29(1H, s) .
I9FNMR (CDCI3) δ -121.0(1F), -120.6(2F).
IR (Nujol) 1610, 1552, 1490, 1415, 1300, 1267, 1199, 1127, 1042, 967, 878, 745 cm—1
(5) 実施例 20の (4) で調製した化合物 2.43g(6.61匪 ol)のジクロロェ タン溶液(20mL)に氷冷、 窒素気流下で、 三臭化ホウ素 13.2mL(lM in塩化メチ レン)(13.2腿 ol)を滴下し、 室温で 2時間攪拌した。 反応溶液を氷冷水にあけ、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を純水で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で 乾燥後、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー(クロ 口ホルム:酢酸ェチル =10:1)で分離精製して、 5—プロモー 4— (4—クロ口 - 2 _フルオロー 5—ヒドロキシフエニル) ― 6—ジフルォロメチルピリミジ ン (1.84g) を得た。
m.p. 114-116°C
'HNMR (CDCI3) δ 5.65(1Η, br.s), 6·93(1Η, t, J=53.3Hz), 7.10(1Η, d, J=6.3Hz), 7.24(1H, d, J=8.7Hz), 9.28(1H, s).
IR (Nujol) 3500-2500 (br., OH), 1621, 1555, 1329, 1235, 1187, 1113, 1061, 907, 875, 822, 798, 763, 686, 659, 570, 516 cm—1
(6)実施例 20の(5)で調製した化合物 0.20g(0.56mmol)の DMF溶液(5mL) に室温下で、 炭酸カリウム 0.10g(0.73腿 ol)を加えた。 その後、 ヨウ化イソプ 口ピル 0.12g(0.73誦 ol)を滴下し、 同温度で 16時間攪拌した。 反応液に酢酸 ェチルを加え、 純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾 燥した後、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(へキサン: 酢酸ェチル =5:1)で分離精製して、 5—プロモー 4— [4一クロ口— 2—フル オロー 5— (1—メトキシェ卜キシ) フエニル] 一 6—ジフルォロメチルピリ (0.19g) を得た。
'HNMR (CDCI3) δ 1.40(6H, d, J=6.1Hz), 4.53(1H, sept, J=6.1Hz), 6.94(1H, t, J=53.3Hz), 6.99C1H, d, J=6.0Hz), 7.28(1H, d, J=9.0Hz), 9.28(1H, s). 19FNMR (CDCI3) δ -121.0(1F, s), -120.5 (2F, s).
IR (Neat) 2980 (CH), 1552, 1490, 1418, 1375, 1244, 1189, 1111, 1061, 1002, 931, 853 cm"1 実施例 2 1
5 - (5 _ブロモ— 6—ジフルォロメチルピリミジン一 4 fル) — 一り ロロ— 4_フルォロ安息香酸イソプロピルエステル (化合物番号 A— 53) 実施例 20の (3) で調製した化合物 0.40g(1.2mmol)のジメトキシェタン (8mL)/水(2mL)混合溶液に、 室温下で、 実施例 1 9の (4) で調製したフエニル ボロン酸 0.3 lg (1.2mmo 1 )、 trans-ジクロ口ビス(トリフエニルホスフィン)パラ ジゥム(II) 60mg(0.083匪 ol)、 及び、 炭酸水素ナトリウム 0.33g(3.9mniol)をカロ え、 加熱還流しながら 3時間攪拌した。 減圧下濃縮した後、 残渣に酢酸ェチル を加え、 純水、 飽和食塩水の順で洗浄した。 有機層を硫酸マグネシウム(無水) で乾燥後、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(へ キサン:酢酸ェチル = 10:1)で分離精製して、 5— (5—ブロモ—6—ジフルォ ロメチルピリミジン— 4一ィル) 一 2—クロロー 4—フルォロ安息香酸イソプ 口ピルエステル (0.18g) を得た。
m.p. 80°C
'HNMR (CDCI3) δ 1.38(6Η, d, J=6.3Hz) , 5.28(1Η, sept, J=6.1Hz), 6.93(1Η, t, J=53.3Hz), 7.36(1H, d, J=9.3Hz), 8.00(1H, d, J=7.5Hz), 9.31 (1H, s) . I9F画 R (CDCI3) δ -120.9(2F), -105.5(1F).
IR (Nujol) 1729 (CO), 1615, 1572, 1551, 1297, 1231, 1106, 1048, 977, 914, 900, 863 cm"1 実施例 2 2
5 - (5 _ブロモ一 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4 Tル) — 2—ク ロロ— 4—フルオロー N—プロピオニルベンゼンスルホンアミド (化合物番号 A- 5 5)
(1) 実施例 2 0の (3) で調製した化合物 3.52g(10.5mmol)のジメトキシ ェ夕ン(80mL)/水(20mL)混合溶液に、 室温下で、 4一クロ口- 2—フルオロフェ 二ルポロン酸 1.83g(10.5mmol)、 /ra/?5-ジクロロビス(トリフエニルホスフィ ン)パラジウム(II) 520mg(0.735mmol), 及び、 炭酸水素ナトリウム
2.91g(34.6皿 ol)を加え、加熱還流しながら 3時間攪拌した。減圧下濃縮した後、 残渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗 浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲ ルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =5:1)で分離精製して、 5 —ブロモ一 4一 (4—クロ口一 2—フルオロフェニル) 一 6—ジフルォロメチ ルピリミジン (1.80g) を得た。
m.p. 84-87°C
'HNMR (CDC13) 6 6.93 (1H, t, J=53.3Hz), 7.25-7.28(1H, m), 7.31-7.34 (1H, m), 7.39-7.43 (1H, m), 9.28(1H, s)
(2) 氷冷下、 実施例 2 2の (1) で調製した化合物 1.8g(5.3mmol)にクロ ロスルホン酸 (5mL)を滴下し、 80°Cで 1時間、 1 1 0 °Cで 5時間攪拌した。 放冷後、 氷水(lOOmL)にあけ、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩 水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物 をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル =5:1)で分離精 製し、 5— (5—ブロモ— 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4—ィル) — 2 一クロ口— 4—フルォロベンゼンスルホニルクロライド (0.42g) を得た。 m.p. 105-106°C 1顯 R (CDC13) δ 6.9K1H, t, J=53.2Hz), 7.56(1H, d, J=8.7Hz), 8.33(1H, d, J=6.8Hz), 9.33(1H, s).
IR (Nujol) 1610, 1565, 1234, 1211, 1179, 1109, 1061, 913, 670, 554, 534cm-'
(3) 実施例 22の (2) で調製した化合物 0.42g(0.96匪 ol)のァセ卜ニト リル溶液(10mL)に室温下、 28%アンモニア水溶液 (lmL)を滴下し、 同温度で 2時 間攪拌した。 減圧下濃縮した後、 残渣に純水を加え、 析出晶を濾取、 減圧下乾 燥することにより、 5— (5—ブロモ _6—ジフルォロメチルピリミジン一 4 —ィル)一 2 _クロ口— 4—フルォロベンゼンスルホンアミド(0.39g)を得た。 m.p. 174-175
'HNMR (DMSO- d6) δ 7.29(1H, t, J=52.6Hz), 7.83(2H, br.s), 7.98(1H, d, J=9.3Hz), 8.20(1H, d, J=7.3Hz), 9.43(1H, s).
IR (Nujol) 3377 (NH), 3279 (NH), 1609, 1338, 1168, 1128, 1073, 956, 721,
554cm"1
(4) 実施例 22の (3) で調製した化合物 0.22g(0.53誦 ol)とトリェチル ァミン 0.10mL(0.79誦 ol)をァセトニトリル (10mL)に溶解させ、 室温下、 プロ ピオニルクロリド 0.07ml(0.79minol)を滴下し、 同温度で 3時間攪拌した。減圧 下濃縮した後、 残渣に純水を加え、 1N塩酸で pH 4- 5とし、 酢酸ェチルで抽出 した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾 燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロ口ホル ム:エタノール =20:1)で分離精製し、 得られた結晶をジイソプロピルエーテル で洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥することにより、 5— (5—プロモー 6—ジフル ォロメチルピリミジン— 4一^ Γル) 一 2—クロ口一 4—フルォロ一 N—プロピ ォニルベンゼンスルホンアミド (0.18g) を得た。
m.p. 224-225°C
lH醒 R (DMS0 - d6) δ 0.933 (3H, t, J=7.5Hz), 2.28(2H, q, J=7.5Hz), 7.28(1H, t, J=52.8Hz), 8.0K1H, d, J=9.4Hz), 8.3K1H, d, J=10Hz), 9.43(1H, s), 12.6(1H, br.s).
IR (Nujol) cm—1 3107, (NH), 1690 (CO), 1612, 1559, 1375, 1352, 1233, 1165, 1113, 1060, 967, 864, 577, 549 cm"1 実施例 23
5—ブロモ _4— (4—クロ口— 2—フルオロー 5—メチルスルホニルアミ ノフエ二ル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (化合物番号 A— 56)
(1) 実施例 22の (1) で調製した化合物 1.8g(5.3匪 ol)に濃硫酸(8mL)を 加え、 氷冷下で、 発煙硝酸 0.34mL(8.2mmol)を滴下した。 同温度で 2時間、 室 温で 2時間攪拌した後、 氷冷水(lOOmL)にあけ、 酢酸ェチルで抽出した。有機層 を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下 濃縮した。 残渣の結晶を石油エーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥することに より、 5—ブロモ—4— (4—クロ口— 2 _フルオロー 5—ニトロフエニル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン (1.87g) を得た。
m.p. 98-99T:
'HNMR (CDClj) δ 6.91 (1Η, t, J=53.2Hz), 7.48(1H, d, J=8.8Hz), 8.17(1H, d, J=6.5Hz), 9.32(1H, s).
IR (Nujol) 1623, 1534, 1417, 1355, 1259, 1225, 1125, 1071, 977, 907 cm—' (2) 実施例 23の (1) で調製した化合物 1.85g(4.83mmol)に酢酸(10mL)/ 水(3mL)混合液を加え、 50°Cに加熱した。 その後、 還元鉄 1.20g(19.3mmol) を少量ずつ加え、 同温度で 0.5時間攪拌した。 冷却後、 反応液に酢酸ェチルを 加え、セライト層で不溶物を濾別した。濾液に 1N水酸化ナトリゥム水溶液でァ ルカリ性にした後、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で 洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮することにより、 4一 (5—ァミノ一 4—クロロー 2—フルオロフェニル) 一 5—ブロモ一 6—ジフ ルォロメチルピリミジン (1.56g) を得た。
m.p. 97-99°C
'HNMR (CDCI3) δ 4.10 (2Η, br.s), 6.85(1Η, br.s.), 6.93(1Η, t, J=53.2Hz), 7.18(1H, d, J=9.0Hz), 9.26(1H, s) .
(3) 実施例 23の (2) で調製した化合物 0.30g(0.85腿 ol)とトリェチル ァミン 0.60mL(4.3mmol)を THF溶液(15mL)に溶解させ、 氷冷下、 メタンスルホ ニルクロリド 0.33mL(4.3mmol)を滴下し、 室温で 1時間攪拌した。 酢酸ェチル を加え、 純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した 後、 減圧下濃縮して油状物(0.52g)を得た。 このものに THF(lOmL)を加え、 氷冷 下、 1N水酸化ナトリウム水溶液 (5mL)を滴下し、 同温度で 2時間攪拌した。 6N 塩酸を加え、 pH3とした後、 純水(50ml)を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機 層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧 下濃縮した。 残留物を酢酸ェチルに溶解させシリカゲル層にて濾過、 濾液を減 圧下濃縮した。 残渣の結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下 乾燥することにより、 5—ブロモー 4— (4—クロ口 _ 2—フルォロ一 5—メ チルスルホニルァミノフエニル) 一 6—ジフルォロメチルピリミジン(0.32g) を得た。
m.p. 163-165°C
'HNMR (CDCI3) (5 3.06 C3H, s), 6.80(1H, br.s.), 6.91(1H, t, J=53.3Hz), 7.37(1H, d, J=8.6Hz), 7.78(1H, d, J=6.6Hz), 9.29(1H, s) .
I9FNMR (CDCI3) δ -120.9(2F), -113.6(1F).
IR (Nujol) 3148(NH), 1615, 1557, 1493, 1339, 1273, 1156, 1122, 1051, 970, 862, 756, 537, 511 cm"1 実施例 24
5—ブロモ— 4— (4—シァノー 5—ェチルスルホニルァミノ一 2 _フルォ 口フエニル) _ 6—ジフルォロメチルピリミジン(化合物番号 A— 59)
(1) 実施例 20の (3) で調製した化合物 8.00g(23.9誦 ol)のジメトキシ ェ夕ン(160mL)/水(40mL)混合溶液に、 室温下で、 2, 4—ジフルオロフ xニル ボロン酸 4.15g(26.3誦 ol) 、 / 3/75-ジクロロビス(トリフエニルホスフィン)パ ラジウム(II) 1.17g(1.67匪 ol)、 及び、 炭酸水素ナトリウム 7.30g(86.8匪 ol) を加え、 加熱還流しながら 4時間攪拌した。 減圧下濃縮し、 残渣に水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネ シゥム (無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカゲルカラムクロマト グラフィー(へキサン:酢酸ェチル =10:1)で分離精製し、 5—プロモ— 4— (2, 4—ジフルオロフェニル) — 6—ジフルォロメチルピリミジン(4.80g)を得た。 m. p.〜60°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.94(1H, t, J=53.2Hz), 6.92-7.14(2H, m), 7.42-7.54(1H, m), 9.28 1H, s)
(2)実施例 24の (1)で調製した化合物 8.10g(25.2mmol)に濃硫酸 (40mL) を加え、 氷冷下で、 発煙硝酸 1.57mL(37.8mmol)を滴下した。 同温度で 1時間、 室温で 1時間攪拌した後、 氷冷水 (200mL)にあけ、 酢酸ェチルで抽出した。有機 層を純水、 飽和食塩水の順で洗诤し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧 下濃縮した。 残渣の結晶を石油エーテルで洗浄し、 濾取、 減圧下乾燥すること により、 5_ブロモ— 4— (2, 4—ジフルォロ— 5—二トロフエニル) ー6 —ジフルォロメチルピリミジン (8.66g) を得た。
'H-NMR(CDC13) (5 6.91 (1H, t, J=53.2Hz), 7.20-7.30 (1H, m), 8.30-8.38 (1H, m), 9.33(1H, s)
(3) 実施例 24の (2) で調製した化合物 8.60g(23.5mmol)のァセトニト リル溶液(50m に 18-クラウン- 6 -エーテル 700mg(2.67mmol)を加えた。その後、 シアン化カリウム 1.91g(39.4mmol)を加え、 室温で 4時間攪拌した。 減圧下濃 縮した後、 残渣に純水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を飽和食塩水で 洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃縮した。 残留物をシリカ ゲルカラムクロマトグラフィー(へキサン:酢酸ェチル:クロロホルム =4: 1: 1) で分離精製し、 5—ブロモー 4— (4ーシァノー 2—フルオロー 5—二トロフ ェニル) — 6—ジフルォロメチルピリミジン (4.34g) を得た。
m.p.129-131°C
'H-NMR(CDC13) δ 6.90(1Η, t, J=53.1Hz), 7.79(1H, d, J=8.04Hz), 8.54(1H, d, J=5.92Hz), 9.36(1H, s)
(4)実施例 24の(3)で調製した化合物 4.34g(11.6mmol)を酢酸(25mL)/2- プロパノール(35mL)混合液に加え、 70°Cに加温した。 その後、 還元鉄
3.67g(59.4誦 ol)を少量ずつ加え、 同温度で 0.5時間攪拌した。 反応液をセラ イトにて濾過し、 さらに、 酢酸ェチルでセライト層を洗浄した。 濾液と洗液を 合わせ減圧下濃縮した。残渣に酢酸ェチル(lOOmL)を加え、飽和炭酸水素ナトリ ゥム水溶液、 純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥 後、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー(へキサン: 酢酸ェチル =1:1)で分離精製し、 4— (5—アミノー 4_シァノ— 2—フルォ 口フエニル) ― 5—ブロモ— 6—ジフルォロメチルピリミジン(2.35g)を得た。 'HNMR (CDC13) δ 4.46(2H, br. s), 6.79(1H, d, J=4.0Hz), 6.91 (1H, t, J=54.5Hz), 7.26(1H, d, J=8.5Hz), 9.28(1H, s) .
(5) 実施例 24の (4) で調製した化合物 0.60g(1.8讓 ol)とトリェチルアミ ン 1.2mL(8.9mmol)を THF溶液(20mL)に溶解させ、氷冷下、ェタンスルホニルク ロリド 0.84mL(8.9mmol)を滴下し、 同温度で 0.5時間攪拌した。反応液に酢酸 ェチルを加え、 純水、 飽和食塩水の順で洗净し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾 燥後、 減圧下濃縮した。 残渣にジェチルエーテルを加え、 析出晶を濾取し、 減 圧下乾燥することにより、 褐色結晶(0.50g)を得た。 このものに THF(lOmL)を加 え、 氷冷下、 1N水酸化ナトリウム水溶液 (5mL)を滴下し、 同温度で 1時間攪拌 した。 6N塩酸を加え、 pH5とした後、 純水を加え、 酢酸ェチルで抽出した。 有 機層を純水、 飽和食塩水の順で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減 圧下濃縮した。 残渣の結晶をジイソプロピルェ一テルで洗浄し、 濾取、 減圧下 乾燥することにより、 5—ブロモ—4— (4—シァノ— 5—ェチルスルホニル ァミノ一 2—フルオロフェニル) 一 6—ジフルォロメチルピリミジン (0.36g) を得た。'
m.p. 183-185。C
'HNMR (DMS0-d6) δ 1.3K3H, t, J=7.3Hz), 3.22(2H, q, J=7.3Hz), 7.29(1H, t, J=52.5Hz), 7.7K1H, d, J-6.2Hz), 8.16(1H, d, J=9.2Hz), 9.44(1H, s), 10.3(1H, br. s.).
l9FNMR (DMS0-d6) <5 -121.9(2F), -115.7 (IF).
IR (Nujol) 3090 (NH), 2229 (CN), 1557, 1507, 1289, 1147, 1105, 1076, 1043, 1029, 906, 770, 541, 499cm-' 実施例 25
5—ブロモ—4一 (4_シァノ _ 2—フルォロ— 5—メチルスルホニルアミ ノフエ二ル) 一 6—メトキシピリミジン (化合物番号 A— 6 1)
(1) 4, 6—ジクロ口ピリミジン 5.0g(33.5匪 ol)と 2, 4—ジフルオロフ ェニルポロン酸 5.3g(35mniol)を ジメトキシェタン(220ml)に溶解させ、 ジクロ 口ビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 2.9g(4.2删 ol) 、 炭酸水素ナト リウム 9.1g(0. llmol)および水 36ml を加え加熱還流( 3時間)させた。冷却後、 反応液を濃縮し、 残留物に水を加え、 クロ口ホルムで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶 媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢 酸ェチル = 5: 1) により分離精製を行ない、 4—クロ口— 6— (2, 4—ジフ ルオロフェニル) ピリミジン (4.45g) を得た。
m.p.66-68°C
'H-NMR(CDC13) 6 6.90-7.00 (1H, m), 7.00-7.10(1H, m), 7.86(1H, s), 8.22-8.32 (1H, m)
( 2 )実施例 25の( 1 )で調製した化合物 4.45g(20mmol)をジォキサン(25ml) に溶解させ、 2 N—塩酸(25ml)を加え加熱還流(1時間)させた。 冷却後、 反応 液を濃縮、 残留物に水を加え析出晶をろ取、 水洗、 乾燥して、 4一 (2, 4- ジフルオロフェニル) — 6—ヒドロキシピリミジン(3.8g)を得た。
'H-N R(DMS0-d6) δ 6.69(1H, s), 7.20-7.30 (1H, m), 7.35-7.45 (1H, m), 8.00-8.10(1H, m), 8.30(1H, s), 12.66(1H, br. s)
(3) 実施例 25の (2) で調製した化合物 3.8g(18.2匪 ol)を酢酸(30ml)に 溶解し、 N—ブロモこはく酸イミド 3.56g(20nunol)を加え 80°Cで 30分、 1 20 で 2時間撹拌した。 冷却後、 反応液を濃縮、 残留物に水を加え析出晶を ろ取、 水洗、 乾燥して、 5—ブロモ—4— (2, 4—ジフルオロフェニル) ― 6—ヒドロキシピリミジン(5. Og)を得た。
m.p.230°C以上
'H-NMR(DMS0-d6) δ 7.13-7.25 (1H, m), 7.30-7.45 (1H, m), 7.47-7.55 (1H, m), 8.29 (1H, s), 13.22(1H, br s)
(4) 実施例 25の (3) で調製した化合物 5.0g(17.4mmol)をォキシ塩化リ ン(20ml)に懸濁させ加熱還流(1時間)させた。 冷却後、 過剰のォキシ塩化リン を留去、 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチ ル = 5: 1) により分離精製を行ない、 5—ブロモ— 6—クロロー 4一 (2, 4 —ジフルオロフェニル) ピリミジン(5.2g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 6.90- 7.10 (1H, s), 7.40-7.50(1H, s), 8.94(1H, s)
(5) 実施例 25の (4) で調製した化合物 5.2g(17mmol)を THF(30ml)に溶 かし、 氷冷下、 28% ナトリウムメトキシド 3.6g(l 8.7誦 ol)を滴下し室温で 15 時間撹拌した。反応液を濃縮後、残留物に水を加えクロ口ホルムで抽出、水洗、 乾燥、 溶媒を留去して、 5—ブロモ—4— (2, 4—ジフルオロフェニル) 一 6—メトキシピリミジン(4.8g)を得た。 m. p.68-70 :
'H-NMR(CDC13) δ 4.13(3H, s), 6.90-7.05 (2H, m), 7.40-7.48 (1H, m), 8.7K1H, s)
(6) 実施例 25の (5) で調製した化合物 4.8g(15.9mmol)を濃硫酸(23ml) に溶解し、 氷冷下、 発煙硝酸 1.0ml (23.8腿 ol)を滴下し同温度で 1時間、 室温 で 2時間撹拌した。 反応液を氷にあけ析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥した。 得ら れた結晶をへキサン/ /酢酸ェチル = 1 1に溶かしシリカゲル層にろ過、 ろ液 を濃縮して、 5—ブロモ—4— (2, 4—ジフルオロー 5—ニトロフエニル) — 6—メトキシピリミジン(5. Og)を得た。
m.p.100-lOlt:
'H-NMR(CDC13) δ 4.16(3Η, s), 7.13-7.22 (1Η, m), 8.28-8.35 (1H, m), 8.51(1H, s)
(7) 実施例 25の (6) で調製した化合物 1.0g(2.9mmol)と 18-crown- 6 0.60g(2.3讓 ol) をァセトニトリル(7ml)を溶解させ、 氷冷下、 シアン化力リウ ム 0.27g(4.1腿 ol)加え、 同温度で 35分攪拌した。 反応液を濃縮し残留物を酢 酸ェチルに溶かして、 水洗、 食塩水で洗浄、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物 をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル:クロ口ホル ム = 2 : 1 : 1) により分離精製を行ない、 5—ブロモ _ 4一 (4ーシァノ— 2—フルォロ一 5—ニトロフエニル)一 6—メトキシピリミジン(0.26g)を得た。 m.p. 137〜141°C
'H-NMR(CDC13) δ 4.17(3Η, s), 7.73(1Η, d), 8.51 (1Η, d), 8.77(1H, d)
(8)イソプロパノール(9ml)と酢酸(8ml)の混合液に還元鉄 1.5g(27. Ommol) ¾r 加え、 60°じで実施例25の (7) で調製した化合物 1.9g (5. lmmol)を少量ず つ加え、 30分間攪拌した。 反応液に酢酸ェチル (30ml) 加えて、 セライト層 にてろ過し、 ろ液を濃縮した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:アセトン = 1 : 2) により分離精製を行ない、 4一 (5—ァミノ 一 4—シァノー 2 _フルオロフェニル) 一 5—ブロモー 6—メトキシピリミジ ン(0.92g)を得た。
m.p. 207〜209°C
'H-NMR(CDC13) 6 4.13(3H, s), 6.77(1H, d), 7.2K1H, d), 8.71 (1H, d) (9) 実施例 25の (8) で調製した化合物 0.9g(2.8丽 ol)とトリェチルアミ ン 0.83ml (5.9誦 ol)を THF (9ml)に加え、氷冷下、塩化メタンスルホニル 0.46ml (5.9腿01)を11^11111に溶解して 1 5分間で滴下同温度で 1.5時間攪拌後、室温 で 1時間撹拌した。 さらに、 氷冷下、 トリェチルァミン 0.17ml(1.2i iol)と塩 化メタンスルホニル 0.12ml (1.5IM01)を追加し室温で 1時間攪拌した。 反応液 を濃縮後、 残渣を酢酸ェチルに溶かして、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 得 られた固体を n—へキサンで洗浄、 乾燥して、 白色の結晶を得た。 この結晶 400mg(0.83mmol)を THF(4ml)と水 (lml) の混合液に加え、 氷冷下、 10%水酸化 ナトリウム水溶液 0.78ml(1.87腿 ol) を滴下した。 氷冷下で 30分間攪拌した 後、 反応液を濃縮し、 残渣に水を加えて溶解し、 2規定塩酸で pH3にした。 析 出した結晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 5—プロモー 4— (4一シァノ— 2 _ フルオロー 5—メチルスルホニルァミノフエニル) _6—メトキシピリミジン (0.3g)を得た。
m.p. 195〜198°C)
'H-匪 l DMSO-c δ 3.11 (3Η, s), 4.09(3Η, s), 7.63(2Η, d), 8.13(1Η, d), 8.86(1Η, s), 10.20(1Η, s) 実施例 26
5 - (5—ブロモ— 6—メチルピリミジン— 4—ィル) —2—クロロー 4— フルオロー N—プロピオニルベンゼンスルホンアミド (化合物番号 A— 63) (1) 5—ブロモー 4—クロ口一 6—メチルピリミジン 1.7g(8.2画 ol)を四 塩化炭素 15mlに溶解させ、氷冷下、 28%よう化水素酸 3.4m 24mmol)を滴下し、 室温で 1 7時間攪拌した。 反応液に水を加え、 炭酸ナトリウムで中和し、 クロ 口ホルムで抽出した。 抽出液を水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィー(クロ口ホルム)で単離精製して、 5—ブロモ — 4—ョードー 6 _メチルピリミジン(2.3g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 2.73(1H, s), 8.61(1H, s)
(2) 実施例 26の (1) で調製した化合物 8.0g(26.7mmGl)と 4—クロ口— 2—フルオロー 5—メトキシフエ二ルポロン酸 5.4g(26.4mmol)を 1, 2—ジメ トキシェタン 300ml に加え、 さらに、 炭酸水素ナトリウム 7.0g(83.3mmol)、 trans-ジク ロ ロ ビス ( ト リ フエニルホスフィ ン)パラジウム (I I) 0.94g(1.3mniol)> 水 60mlを加え、 加熱還流 (2時間) させた。 冷却後、 反応液 を濃縮、 残渣をクロ口ホルムに溶かし、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留 物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル = 1 : 1) に より分離精製を行ない、 5 _ブロモ— 4— (4—クロロー 2 _フルオロー 5— メチキシフエニル) — 6—メチルピリミジン (5.35g) を得た。
m.p. 120〜123
'H-NMR(CDC13) δ 2.77(1H, s), 3.92(1H, s), 6.95(1H, d) , 7.26(1H, t), 9.03(1H, s)
(3) 実施例 26の (2) で調製した化合物 4.(^(3匪01)のクロロホルム溶 液(15mL)に、 氷冷下、 窒素気流下で、 三臭化ホウ素 6mL(lM in 塩化メチレン) を滴下し、 室温で 2時間攪拌した。 さらに、 三臭化ホウ素 3mL(lM in 塩化メチ レン)を加え 1時間撹拌した。 反応液を氷水(lOOmL)にあけ、 クロ口ホルムで抽 出した。 有機層を純水で洗浄し、 硫酸マグネシウム(無水)で乾燥後、 減圧下濃 縮して、 5—ブロモ一4一 (4—クロ口一 2—フルオロー 5—ヒドロキシフエ ニル) 一 6 _メチルピリミジン (3.0g) を得た。
m.p. 177-179°C
'H-NMR(CDC13) δ 2.77(3Η, s), 7.07(1Η, d, J=6.3Hz), 7.20(1Η, d, J=8.6Hz), 9.03(1H, s).
(4) 60%水素化ナトリウム 0.6g (16.3mmol) を DMF (30m l) に加え、 氷冷下で実施例 26の (3) で調製した化合物 4.0g(12.6mmol)を少量ずつ加え 同温度で 30分撹拌した。 そして、 氷冷下、 ジメチルチオカルバモイルクロラ イド 1.9g(15.3mmol)の DMF (5ml) 溶液を滴下し、 室温で 2時間撹拌した。 反応液を水にあけクロ口ホルムで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢酸ェチル = 1 : 1) により分離精製を行ない、 5—ブロモ—4一 (4一クロ口— 2 _フルオロー 5 一ジメチルチオ力ルバモイルォキシフエニル) 一 6—メチルピリミジン(3· 8g) を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 2.75(3H, s), 338 (3H, s), 3.46(3H, s), 7.25-7.35 (3H, m), 9.0K1H, s)
( 5 )実施例 26の( 4 )で調製した化合物 4· 0g(10.4mmol)をスルホラン(15ml) に溶解させ、 徐々に温度を上げ 230°Cで 4.5時間加熱した。 冷却後、 反応液 を水にあけ析出物をろ取し、 得られたものを酢酸ェチルに溶解し、 乾燥後、 溶 媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン:酢 酸ェチル = 1 : 1) により分離精製を行ない、 5 _ブロモ—4— (4—クロ口— 2—フルオロー 5 _ジメチルカルバモイルチオフエニル) 一 6—メチルピリミ ジン(0.9g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 2.77 (3Η, s), 3.00-3.20 (6H, br.d), 7.38(1H, d, J=7.2Hz),
7.72(1H, d, J-7.4Hz), 9.02(1H, s)
(6) 水酸化ナトリウム 0.5g(12.3mmol)をメタノール(8ml)に溶解させ、 室温 で実施例 26の (5) で調製した化合物0.98(2.511111101)を加ぇ、 同温度で 2 1時 間撹拌した。 反応液を濃縮後、 水 (50ml)を加えジェチルエーテルで抽出した。 水層を 2 N_塩酸で pH 3とした後、 ジェチルェ一テルで抽出、 水洗、 乾燥後、 溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (へキサン: 酢酸ェチル = 1 : 1) により分離精製を行ない、 5—ブロモ—4— (4一クロ口 ― 2—フルオロー 5—メルカプトフエニル) 一 6—メチルピリミジン(0.5g)を 得た。
'H-NMR(CDC13) δ 2.77 (3Η, s), 3.88(1H, s), 7.25-7.30 (1H, d), 7.43(1H, d, J=6.9Hz), 9.02(1H, s)
(7) 氷冷下、 塩化スルフリル 0.51g(3.75mmol)をァセトニトリル(5ml)溶液 に硝酸カリウム 0.38g(3.75 iol)を加え、 そして、 実施例 26の (6) で調製し た化合物 0.5g(1.5i iol)のァセトニトリル(10ml)溶液を滴下して、同温度で 1時 間撹拌した。 氷冷下、 10%炭酸ナトリウム (10ml) を滴下し、 ジェチルエーテル で抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去した。そして、残留物をァセトニトリル(10ml) に溶かし、 氷冷下、 28%アンモニア水(2ml)を滴下し、 室温で 30分撹拌した。 反応液を濃縮し、 残渣に水を加え析出晶をろ取、 水洗後、 乾燥して、 5— (5 —ブロモ一 6—メチルピリミジン一 4 _ィル) ― 2—クロ口— 4—フルォ口べ ンゼンスルホンアミド(0.29g)を得た。
'H-NMR(CDC13) δ 2.77(3H, s), 5.18(2H, s), 7.42(1H, d, J=8.9Hz), 8.24(1H, d, J=7.2Hz), 9.04(1H, s)
(8) 実施例 26の (7) で調製した化合物 0.29g(0.76mmol)とトリェチル ァミン 0.16g(l.6卿 ol)をァセトニトリル(5ml)に加え、 氷冷下、 プロピオニル クロライド 0.074g(0.8隱 ol)を滴下し、 同温度で 1時間撹拌した。 反応液を濃 縮後、 残渣に冷水を加え 2 N -塩酸で pH- 2に調整し析出晶をろ取、 水洗後、 乾 燥して、 5— (5—プロモー 6—メチルピリミジン— 4—ィル) —2—クロ口 - 4—フルォ口— N—プロピオニルべンゼンスルホンァミド(0.29g)を得た。 m. p. 〜95。C
'H - NMR(CDC13) 6 1.12(3H, t, J=7.4Hz), 3.27 (2H, q, J=7.4Hz), 7.40(1H, d, J=8.7Hz), 8.4K1H, d, J=7.1Hz), 8.48(1H, br.s), 9.05(1H, s)
IR (Nujol) 1723, 1609, 1563, 1185, 957, 860 cm"1 実施例 1から実施例 2 6と同様に得られた化合物を第 1表〜第 4表に実施例 から実施例 2 6で得られた化合物と共に示す。
1表
Figure imgf000104_0001
化合物番号 R >h(Phは下記置換基を有するフエニル基 _mp (°C)
A-1 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHMe 〜157 A-2 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHCO e 195-198 A- 3 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHCOCH2OMe 177-180 A - 4 HCF2 2-F, 4-Cl, 5- S02NHCOPr 205-207 A-5 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHCO/-Pr 160-163 A-6 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHCOOMe 〜85 A-7 HCF2 2-F, 4-Cl, 5 - S02NHCOOEt 〜75 A-8 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02N(Me)COMe 136-138 A-9 HCF2 2-F, 4-Cl, 5 - S〇2N(Me)C〇Et 141-143 A-10 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02N(Me)COOMe 148-150 A-l l HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02NHCH(Me)COOMe # A- 12 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02N(CH2)4 156-159 A- 13 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02N(CH2)5 193-194 A-14 HCF2 2-F, 4-Cl, 5-S02N(CH2CH2)20 180-182
Figure imgf000104_0002
Figure imgf000105_0001
化合物番号 R Ph(Phは下記置換基を有するフエニル基) mp (°C)
A - 34 HCF2 2-F, 4-Br, 5 - OH 164-167 A-35 HCF2 2-F, 4-Br, 5-OMe 118-120 A - 36 HCF2 2-F, 4-Br, 5-0/-Pr # A- 37 HCF2 2-F, 4-Br, 5- OCH2C≡CH 113-115 A- 38 HCF2 2-F, 4-Br, 5-OCH2COOEt 98- 99 A- 39 HCF2 2-F, 4-Br, 5-NHS02Me 150-151 A- 40 HCF2 2-F, 4-Br, 5-NHS02Et 148-149 A - 41 HCF2 2-F, 4-Br, 5-S02NHCOMe 〜136 A-42 HCF2 2-F, 4-Br, 5-S02NHCOEt 〜207 A - 43 HCF2 2-F, 4-Br, 5-S02NHCOO e 〜160 A-44 HCF2 2-F, 4-Br, 5-S02NHCOOEt 71-75 A- 45 HCF2 2-F, 4-Br, 5-COOMe 99- 101 A- 46 HCF2 2-F, 4-Br, 5-COOゾ -Pr 99-100 A— 47 HCF2 2,4-F2, 5— NHS〇2Et 129-131
S6〜 ¾ODHN¾S-9 '13-^ 'd-Z 29-V
£\Z-^OZ W¾S)N-S ' D-f 'd-Z o 29-V
ia¾SHN-S ' D-f 'd-Z o 19- V
861-961 sj/ OSHN- S ' D-f 'd-Z o 09-V
58ΐ-£8ΐ ¾¾SHN-9 ' D-f 'd-Z zdDH 6S-V
0ΖΪ-69Ϊ 3W¾SHN-S ' D-f 'd-Z zdDH 8S-V
6SI - 8SI iazOSHN-3 'Ό-f 'd-Z ¾DH S-V
S91-S9I ¾SHN-S 'Ό-f 'd-Z 9S-V
9ζζ-ηζ ¾ODHN¾S-S 'Ό-f 'd-Z ¾0H 9S-V s ΐ- ¾OODHN¾S-9 Ίつ- 'd-Z S-V
z.
08 ¾- OOD-9 'Ό-f 'd-Z 6HDH S9-V
LL-9L ,00つ- S 'Ό-f 'd-Z
Ζ6-Ζ6 ¾OODzH30-9 'Ό-f ' -Ζ 6d3H IS-V
z
# Jd O-S 'Ό-f 'd-Z OS- V εοΐ-soi HD≡3zHDO-9 'Ό-f 'd-Z 6ト V
O- 'Ό-f 'd-Z 8 -V
Figure imgf000106_0001
拏 01 ZZT0/C00Zdf/X3d 0£06請 OOZ OAV 第 4表
Figure imgf000107_0001
化合物番号 R Ph(Phは下記置換基を有するフエニル基) mp (°C)
B-1 CF2H 2-F, 4— CI, 5_OCH2C≡CH 119 - 121
B-2 CF2H 2-F, 4-C1, 5- OCH2COOEt
B-3 CF2H 2-F, 4一 CI, 5— 0 — Pr #
B-4 OMe 2-F, 4-C1, 5 - O — Pr 119 - 120
B-5 CF2H 2-F, 4 - CI, 5— COOEt #
B— 6 CF2H 2-F, 4-C1, 5-COO—Pr #
B-7 Me 2-F, 4 - CI, 5- COO/ - Pr 79-80
B-8 CF2H 2-F, 4-C1, 5-NHS02Me 190 - 191
B-9 CF2H 2-F, 4— CI, 5_NHS02Et 147-149
B-10 CF2H 2-F, 4-CN, 5- NHS02Et 148-151
B-l l OMe 2_F, 4_CN, 5- N(Me)S02Et 123-126
B-12 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(Et)S02Et 107-109
B-13 OMe 2-F, 4-CN, 5-N(COOPr)S02Me #
B-14 OMe 2_F, 4- CN, 5- N(Pr)S02Me 119-121
B-15 OMe 2-F, 4-CN, 5-N(CH2C≡CH)S02Me 183-185
B-16 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(CH2CH=CH2)S〇2Me 〜231
B - 17 OMe 2-F, 4-CN, 5-N(CH2OMe)S02Me 142-144
B-18 OMe 2-F, 4-CN, 5 - N(COMe)S02Me #
B - 19 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(COEt)S02Me #
B-20 OMe 2-F, 4-CN, 5-N(COPr)S02 e #
B-21 OMe 2-F, 4-CN, 5 N(COOMe)S02Me 204-206
B-22 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(COOEt)S02Me U
B-23 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(COPr)S02Et 130-132
B-24 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(COOEt)S02Et 170-172
B - 25 OMe 2-F, 4-CN, 5- N(CH2OMe)S02Et 56 - 58
B-26 OMe 2-F, 4-CN, 5-N(CH2CH=CH2)S02Et 93-95
以上の第 1表〜第 4表に示した化合物のうち m p (°C) の欄に #を付した化 合物は油状物、 樹脂状物またはロウ状固体である。 これらの化合物の1 H - N MRスぺクトルデーターを以下に示す。
化合物番号 A— 1 1
(CDC13) 51.46(3H, d, J=7.2Hz), 3.62(3H, s), 4.04-4.17(1H, m), 5.72(1H, d, J=8.3Hz), 6.91 (IH, t, J=53.2Hz), 7.45(1H, d, J=8.9Hz), 8.24(1H, d, J=7.0z), 9.29(1H, s)
化合物番号 A - 32
(CDC13) (51.29(3H, t, J=7.1Hz), 4.28(2H, q, J-7.2Hz), 4.84(2H, s), 6.92(1H, t, J=53.3Hz), 7.29(1H, s), 7.50-7.60 (IH, m), 7.75(1H, d, J=7.9Hz), 9.25(1H, s)
化合物番号 A— 36
(CDC13) δ 1.40(6H, d, J=6.0Hz), 4.53(1H, septet, J=6.0Hz), 6.93(1H, t, J=54.1Hz), 7.00(1H, d, J=6.0Hz), 7.45(1H, d, J=8.8Hz), 9.2 (IH, s) 化合物番号 B - 2
(CDC13) δ 1.28(3H, t, J=7.1Hz), 4.28 (2H, q, J=7.2Hz), 4.75(2H, s), 6.81 (IH, t, J=53.1Hz), 7.19(1H, d, J=6.1Hz), 7.41 (IH, d, J=9.3Hz) , 9.50(1H, s) 化合物番号 B— 3
(CDC13) δ 1.41 (6H, d, J-6.1Hz), 4.50-4.60 (IH, m), 6.81 (IH, t, J=53.2Hz), 7.20(1H, d, J=6.3Hz), 7.37(1H, d, J=9.4Hz), 9.50(1H, s)
化合物番号 B— 5
(CDC13) δ 1.42(3H, t, J=7.1Hz), 4.4382h, q, J=7.1Hz), 6.81 (IH, t, J=53.2Hz), 7.46(1H, d, J=9.6Hz), 8.26(1H, d, J=7.7Hz), 9.53(1H, s) 化合物番号 B— 6
(CDC13) δ 1.4(6H, d, J=6.2Hz), 5.25-5.40 (IH, m), 6.81 (IH, t, J=53.2Hz), 7.45(1H, d, J=9.8Hz), 8.22(1H, d, J=7.6Hz), 9.54(1H, s)
化合物番号 B— 13
(CDC13) (50.89 (3H, t, J=7.4Hz), 1.64-1.74 (2H, m), 3.65 (3H, s), 4.22 (3H, s), 4.19-4.35 (2H, m), 7.63(1H, d, J=8.6Hz), 7.81 (1H, d, J=6.1Hz), 9.00(1H, s)
化合物番号 B— 18
(CDC13) δ 2.14(3H, s), 3.65(3H, s), 4.23(3H, s), 7.7K1H, d, J=8.5Hz), 7.86(1H, d, J=7.4Hz), 9.01 (1H, s)
化合物番号 B— 19
(CDC13) δ 1.17(3H, t, J=7.2Hz), 2.15-2.35 (2H, m), 3.66 (3H, s), 4.23 (3H, s), 7.70(1H, d, J=8.4Hz), 7.85(1H, d, J=6.1Hz), 9.01 (1H, s)
化合物番号 B— 20
(CDC13) (50.93 (3H, t, J=7.4Hz), 1.65-1.82 (2H, m), 2.05-2.35 (2H, m), 3.66C3H, s), 4.23(3H, s), 7.71(1H, d, J=8.5Hz), 7.84(1H, d, J=6.1Hz), 9.0K1H, s)
化合物番号 B— 22
(CDC13) δ 1.3K3H, t, J=7.1Hz), 3.65(3H, s), 4.22(3H, s), 7.63(1H, d, J=8.6Hz), 7.8K1H, d, J=6.1Hz), 9.00(1H, s) 製剤例 1 水和剤
化合物番号 A— 1 10質量%
トウィーン 20登録商標 20質量%
ホワイ卜カーボン 40質量%
クレイ 30質量%
を混合粉砕してなる水和剤 (水に適宜希釈使用) 製剤例 2 水和剤
化合物番号 A— 2 80質量%
'酸ソーダ ナフタレンスルホン酸ソーダ 3質量% クレイ 1 5質量% を混合粉砕してなる水和剤 (水に適宜希釈使用) 製剤例 3 水和剤
化合物番号 A— 6 1 0質量% トウィーン 2 0登録商標 2 0質量% ホワイ卜カーボン 4 0質量% クレイ 3 0質量% を混合粉砕してなる水和剤(水に適宜希釈して使用) 製剤例 4 水和剤
化合物番号 A— 1 7 8 0質量% ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 2質量% ナフタレンスルホン酸ソーダ 3質量% クレイ 1 5質量% を混合粉砕してなる水和剤(水に適宜希釈して使用) 製剤例 5 水和剤
化合物番号 A— 2 4 5質量% ポリオキシエチレングリコ一ルノニル
フエニルエーテル
(ノニポール 8 5登録商標) 3質量% リグニンスルホン酸ソ一ダ 5質量% クレイ 8 7質量% を混合粉砕してなる水和剤(水に適宜希釈使用) 製剤例 6 乳剤
化合物番号 A— 3 5 2質量%
キシレン 7 5質量%
ジメチルホルムアミド 1 8質量%
ポリオキシエチレングリコールノニル
フエニルエーテル
(ノニポール 8 5登録商標) 5質量%
を混合粉砕してなる乳剤冰に適宜希釈使用) 製剤例 7 フロアブル
化合物番号 A— 5 7 2質量%
ポリオキシエチレンァリルフエニル
エーテルホルムアミド縮合物
(ニューカルゲン E— 3 0 0登録商標) 3質量%
ポリオキシエチレンフエニルフエノール
エーテル硫酸塩
(ァダリゾール F L - 2 0 1 7登録商標) 2質量%
ポリオール系特殊高分子 (ァダリゾール
F L— 1 0 4 F A登録商標) 1 5質量%
ホワイトカーボン 2質量%
エチレングリコール 1 0質量%
水 6 6質量%
を混合し、 湿式粉砕して懸濁状としたフロアブル。 (水に適宜希釈使用) 製剤例 8 水和剤 化合物番号 B— 6
ポリォキシェチレングリコールノニル
フエニルエーテル
(ノニポール 8 5登録商標) 3質量% リグニンスルホン酸ソーダ 5質量% クレイ 8 7質量% を混合粉碎してなる水和剤 (水に適宜希釈して使用) 製剤例 9 乳剤
化合物番号 B— 1 0 2質量% キシレン 7 5質量% ジメチルホルムアミド 1 8質量% ポリオキシエチレングリコールノニル
フエニルエーテル
(ノニポール 8 5登録商標) 5質量% を混合粉砕してなる乳剤冰に適宜希釈して使用) 製剤例 1 0 フロアブル
化合物番号 B— 1 2 エーテルホルムアミド縮合物
(ニューカルゲン E— 3 0 0登録商標) 3質量% ポリオキシエチレンフエニルフエノール
エーテル硫酸塩
(ァグリゾ一ル F L— 2 0 1 7登録商標) 2質量% ポリオール系特殊高分子 (ァダリゾール F L - 1 0 4 F A登録商標) 1 5質量%
ホワイトカーボン 2質量%
エチレングリコール 1 0質量%
水 6 6質量%
を混合し、 湿式粉砕して懸濁状としたフロアブル。 (水に適宜希釈して使用) 試験例 1 畑地除草効果試験
供試植物の栽培方法
直径 10cmのジフィ一ポットに畑地土壌を 300g つめた後、蒸気滅菌する。出 芽前処理は、 このポットにメヒシバ、 アキノエノコログサ、 ィチビ、 ァォゲイ トウ、 トウモロコシ、 ダイズの種子を土壌表面にまき、 雑草は 0. 5cm、 作物は l cm の覆土後供試した。 一方、 出芽後処理は同種子を土壌表面にまき、 雑草は 0. 5cm,作物は l cmの覆土後栽培し、所定の発育ステージに達したときに供試し た。
検波の調整および処理方法
検体の所定量を Tween20 を含むアセトンに溶解し、純水で希釈し、 10g/a と lg/a 用の検液をそれぞれ調整した。この検液をスプレーガンを用いて散布装置 内のポットに散布した。
効果、 薬害の表示方法
最終調査は、 出芽後処理では処理後 2週間後、 また、 出芽前処理では処理後 3週間後に行い、 各雑草に対する効果、 各作物に対する薬害を 0〜 5の 6段階 で評価した。 試験結果は第 5表から第 7表に示した。 表中の略語は次のような 意義を有する。 pre :出芽前処理、 pos t :出芽後処理を意味する。
除草効果 第 5表 除草効果
指数 効果 抑制率 (殺草率) (%)
0 0
1 小 0. 1 50. 0
2 中 50. 1 75. 0
3 大 75. :! 87. 5
4 極大 87. 6 99. 9
5 極大 (完全枯死) 100
第 6表 ^rc
指数 効果 抑制率 (殺草率) (%)
0 0
1 小 0. 1 12. 5
2 中 12. 6 25. 0
3 大 25. 50. 0
4 極大 50. 99. 9
5 極大 (完全枯死) 100 7表
化合物 評 価 指 数
番号 処理法 g/a トウモロコシ ダイス' アキノエノコ口 シハ' ィチビ ァ才ケ 'ィトウ ク'サ
A-2 post 10(1) 5(4) 4(4) 4(1) 4(2) 5(4) 5(5)
A-3 post 10(1) 3(2) 4(4) 2(1) 1(0) 5(3) 5(5)
A-4 post 10(1) 4(2) 4(3) 3(1) 1(1) 5(5) 5(5)
A-5 post 10(1) 4(4) 4(3) 4(1) 4(1) 5(4) 5(5)
A-6 pre 10(1) 0(0) 0(0) 1(0) 4(1) 4(2) 5(5) post 10(1) 5(4) 5(4) 5(3) 4(1) 5(5) 5(5)
A-7 pre 10(1) 0(0) 0(0) 0(0) 2(0) 5(1) 5(5) post 10(1) 4(2) 4(4) 5(3) 4(1) 5(5) 5(5)
A-8 · post 10 1 3 1 2 4 5
A-11 post 10 4 3 3 1 4 5
A-16 post 10(1) 4(4) 4(2) 5(3) 4(2) 5(4) 5(5)
A-17 post 10(1) 4(1) 4(3) 5(3) 4(1) 5(4) 5(5)
A-18 post 10 1 2 2 1 4 5
A-19 post 10 2 2 1 2 5 5
A-20 post 10 4 4 4 4 5 5
A-21 post 10 4 4 4 4 4 5
A-22 pre 10(1) 1(0) 0(0) 5(2) 5(4) 4(1) 5(5) post 10(1) 4(3) 4(4) 4(2) 4(4) 5(5) 5(5)
A-23 pre 10 0 0 4 4 1 5 post 10 2 4 2 4 4 5
A-24 pre 10 4 1 5 4 4 5 post 10 3 4 4 2 4 5
A-25 post 10 2 3 1 2 4 5
A-26 pre 10(1) 3(0) 0(0) 5(2) 5(4) 5(5) 5(5) post 10(1) 3(3) 4(4) 4(2) 4(3) 5(5) 5(5)
A-27 pre 10(1) 4(0) 0(0) 5(2) 5(4) 5(4) 5(5) post 10(1) 4(2) 4(4) 4(3) 5(4) 5(5) 5(5)
A-28 pre 10(1) 3(0) 0(0) 5(2) 5(4) 5(4) 5(4) post 10(1) 3(2) 4(3) 4(3) 4(1) 5(3) 5(5)
A-31 post 10 2 4 2 2 4 5
A-32 post 10 3 4 4 1 4 5 8表
化合物 評 価 指 数
番号 処理法 e/a トウモロコシ ダイス' アキノエノコ口 メヒシハ' ィチビ ァ才ゲイトウ ク'サ
A-34 post 10 3 4 1 1 4 5
A-35 pre 10 4 1 5 5 4 5 pOSt 10 3 4 4 4 4 5
A-36 pre 10 2 0 4 4 4 5 post 10(1) 4(3) 4(4) 4(2) 4(4) 4(4) 5(5)
A-37 re 10 o 0 2 4 2 5 post 10(1) 4(3) 4(4) 4(2) 4(4) 5(4) 5(5)
A-38 pre 10 o 0 4 4 4 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 5(5) 4(4) 4(4) 5(5)
A-39 pre 10 1 0 3 3 5 5 post 10(1) 3(2) 4(3) 3(1) 4(1) 5(4) 5(5)
A-40 pre 10 1 0 3 2 4 5 post 10(1) 3(2) 4(2) 2(1) 3(1) 5(4) 5(5)
A-41 post 10(1) 4(3) 4(4) 4(2) 4(2) 5(4) 5
A-42 pre 10 0 0 2 2 5 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 4(2) 4(2) 5(4) 5(5)
A-43 pre 10(1) 2(0) 2(0) 3(0) 4(1) 5(5) 5(5) post 10(1) 3(2) 4(2) 2(1) 3(1) 5(4) 5(5)
A-44 pre 10 0 3 1 2 5 5 post 10(1) 3(1) 4(4) 2(1) 2(1) 5(4) 5(5)
A-45 pre 10 3 2 5 5 4 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 4(4) 4(3) 4(4) 5(5)
A-46 pre 10 3 0 5 5 1 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 4(4) 4(4) 4(4) 5(5) 9表 化合物 評 価 指 数
番号 処理法 g/a トウモ nコシ ダイス' アキノエノコ口 化シハ' イチヒ' ァ才ゲ仆ゥ ク'サ
A-48 pre 10 0 0 4 5 2 5 post 10(1) 3(2) 4(3) 4(2) 4(3) 4(4) 5(5)
A-49 pre 10 0 0 4 5 1 5 post 10(1) 4(3) 4(4) 4(3) 4(3) 4(4) 5(5)
A-50 pre 10 2 0 5 5 2 5 post 10(1) 4(3) 4(4) 4(2) 4(4) 5(4) 5(5)
A-51 pre 10 4 2 4 5 2 5 post 10(1) 4(4) 4(3) 4(3) 4(4) 4(4) 5(5)
A-52 pre 10 2 2 4 4 3 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 4(2) 4(4) 4(4) 5(5)
A-53 pre 10(1) 3(0) 0(0) 5(5) 5(5) 2(0》 5(5) post 10(1) 4(4) 4(4) 5(3) 5(5) 5(5) 5(5)
A-54 pre 10(1) 3(0) 1(0) 1(0) 3(0) 5(4) 5(4) post 10(1) 4(4) 4(4) 482) 4(3) 5(4) 5(5)
A-55 pre 10 4 1 1 3 5 5 post 10(1) 4(4) 4(4) 4(4) 4(4) 4(4) 5(5)
A-56 post 10(1) 2(1) 3(0) 3(1) 4(2) 5(5) 5(5)
A-57 post 10(1) 3(1) 3(2) 1(1) 3(1) 5(5) 5(5)
A-58 pre 10 3 0 2 5 5 5 post 10(1) 4(4) 3(3) 2(2) 2(2) 5(5) 5(5)
A-59 pre 10 0 0 2 4 5 5 post 10(1) 1(1) 3(2) 181) 2(1) 5(5) 5(5)
A-60 pre 10 0 0 2 4 5 5 post 10(1) 1(1) 3(2) 181) 2(1) 5(5) 5(5)
A-61 pre 10 0 0 2 4 5 5 post 10(1) 1(1) 3(2) 181) 2(1) 5(5) 5(5)
A-62 pre 10 0 0 2 4 5 5 post 10(1) 1(1) 3(2) 181) 2(1) 5(5) 5(5) 1 0表 化合物 評 価 指 数
番号 処理法 g/a トウモロコシ ダイス' アキノエノコ口 メヒシハ' ィチビ ァ才ケ 'ィトウ ゲサ
B-1 pre 10(1) 0(0) 0(0) 5(2) 5(4) 2(1) 5(5) post 10(1) 3(2) 4(4) 4(3) 4(3) 5(4) 5(5)
B-2 pre 10(1) 0(0) 0(0) 4(1) 4(1) 4(1) 5(5) post 10(1) 4(4) 4(4) 4(3) 4(2) 4(4) 5(5)
B-3 pre 10 1 0 5 4 2 5 post 10(1) 3(2) 4(3) 4(1) 4(1) 5(4) 5(5)
B-4 post 10(1) 2(1) 4(2) 2(1) 4(1) 5(4) 5(5)
B-5 pre 10(1) 1(0) 0(0) 5(0) 4(1) 2(1) 5(5) post 10(1) 4(4) 4(4) 4(3) 4(3) 5(4) 5(5)
B-7 pre 10(1) 0(0) 0(0) 5(1) 5(4) 3(1) 5(5) post 10(1) 3(3) 4(3) 4(3) 4(4) 5(4) 5(5)
B-8 pre ' 10(1) 1(0) 0(0) 4(1) 5(2) 3(1) 5(5) post 10(1) 3(2) 4(3) 2(1) 4(3) 5(5) 5(5)
B-9 pre 10(1) 0(0) 0(0) 4(1) 5(2) 3(1) 5(5) post 10(1) 3(2) 4(3) 4(1) 4(3) 5(4) 5(5)
B-10 pre 10(1) 0(0). 0(0) 3(0) 5(1) 5(3) 5(5) post 10(1) 4(3) 4(4) 5(5) 5(5) 5(5) 5(5)
B 11 pre 10(1) 4(1) 4(1) 4(1) 4(1) 5(4) 5(4) post 10(1) 3(1) 4(3) 3(1) 4(1) 4(4) 5(4)
B-12 pre 10(1) 4(2) 3(0) 4(2) 4(2) 5(5) 5(4) post 10(1) 4(1) 4(4) 4(1) 4(2) 5(4) 5(4)
B-13 pre 10(1) 0(0) 0(0) 2(1) 4(2) 5(5) 5(5) post 10(1) 2(1) 3(3) 2(1) 4(1) 5(5) 5(5) 第 1 1表
Figure imgf000119_0001
産業上の利用可能性
本発明の化合物またはその塩は、低薬量で広範囲の雑草、例えば、水田雑草、 畑地雑草等に対して優れた除草作用を有する。 しかも、栽培植物、例えば、稲、 小麦、 大麦、 トウモロコシ、 大豆、 綿等に対して薬害が少なく、 優れた選択的 除草効果を示す。 また、 選択的除草効果は長時間持続する。 哺乳動物や魚介類 に対して低毒性で、 環境を汚染することなく、 水田、 畑、 果樹園あるいは非農 耕地用等の除草剤として極めて安全に使用することができる。 さらに、 本発明 の化合物またはその塩は、 除草剤として製剤化しやすいので、 除草剤として有 用である。

Claims

1. 一般式 (1)
Figure imgf000121_0001
[式中、 R1は、 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されていても よい アルコキシ基を表し、 の
P1は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q1は、 水素原子; シァノ基; 6 アルキ囲ル基; C3 _ 6 シクロアルキ ル基;水酸基;メルカプト基; _ 6 アルコキシ基; - 6 アルコキシ—
C, _ 4 アルコキシ基; C3 _ 6 シクロアルキルォキシ基; — 6 ハロアル コキシ基; C2 6 アルケニルォキシ基; C2 _ 6 ハロアルケニルォキシ基;
C アルキニルォキシ基; C6 i。 ァリールォキシ基; C7 i 2 ァラ ルキルォキシ基; — 6 アルキルチオ基; _ 6 アルコキシ— ― 4 ァ ルキルチオ基; C36 シクロアルキルチオ基; ― 6 ハロアルキルチオ基;
C2 _ 6 アルケニルチオ基; C2 6 ハロアルケ二ルチオ基; C2 _ 6 アルキ 二ルチオ基; c6 _ i Q ァリールチオ基; c7— i 2 ァラルキルチオ基;
_ 6 アルキルスルホニル基; C3 6 シクロアルキルスルホニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; c2 _ _ァルケニルスルホニル基; c― _八口 ァルケニルスルホニル基; c2 _ 6 アルキニルスルホニル基;酸素原子、 ィォ ゥ原子および窒素原子から選択される 1ないし 2個含有していてもよい環状ァ ミノ基; または、 一般式 (7)
Figure imgf000122_0001
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または— N R1 3 を表わし、
R1 1 は水素原子または _ 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 C 6 アルキル基、 C 6 ハロアルキル基、 C36 シクロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C2 6 ハロアルケニル基、 C
26 アルキニル基、 C6 _ 。 ァリール基、 C7 — i 2 ァラルキル基、
6 アルコキシ _d― 4 アルキル基、 C2 6 アルケニルォキシ ― 4 アルキル基、 C2 _ 6 アルキニルォキシ _ 4 アルキル基、 c3 6 シク 口アルコキシ じェ ― 4 アルキル基、 C2 7 アルコキシカルボニル— d― 4 アルキル基、 C3 _ 7 アルケニルォキシカルポニル _ 4 アルキル基、 C3 - 7 アルキニルォキシカルボニル— _ 4 アルキル基、 C4 - 7 シクロ アルコキシカルボニル ― 4 アルキル基、 C2 7 ハロアルコキシカルボ 二ルー _ 4 アルキル基、 C3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルポニル— Ci
_ 4 アルキル基または C8 ― , 3 ァラルキルォキシカルボ二ルー ― 4 アル キル基を表わし、
R1 3 は水素原子、 Ci _ 6 アルキル基、 _ 6 アルコキシ ― 4 ァ ルキル基、 _ 7 アルカノィル基、 C7 — i i ァリールカルポニル基、 c27 アルコキシカルポニル基、 C2Ί ハロアルコキシカルボニル基または C
3 ― 7 八ロアルケニルォキシカルポ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または Ci ― 6 アルキル基を表わし、
R1 5 、 R 1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; じェ — 6 アルキル基;
C2 6 アルケニル基; C2 6 アルキニル基; C3 6 シクロアルキル基; C: _ 6 アルコキシ一 ― 4 アルキル基; C72 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜6員の複素環で置換された _ 4 アルキル基; — 7 アルカノィル 基; C7 — ! ァリールカルボニル基; C27 ハロアルコキシ基; C27 アルコキシ力ルポニル基; C37 アルケニルォキシカルボニル基; C37 アルキニルォキシカルボニル基; c47 シクロアルキルォキシカルボニル 基; C27 ハロアルコキシカルボニル基; ― 6 アルキルスルホニル基; C26 ァルケニルスルホニル基; C2 _ 6 ハロアルケニルスルホニル基; C
26 アルキニルスルホニル基; C3 _ 6 シクロアルキルスルホニル基; ― 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 — i 。 ァリールスルホニル基; C71 2 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
H ?
— C-C-Y-R12 (8)
(式中、 R1 1 、 R1 2 および Yは上記と同意義である。) で表わされる基を表 す。 }
で表わされる基を表す。 ]、
一般式 (2)
Figure imgf000123_0001
[式中、 R2は、 八口アルキル基またはハロゲン原子で置換されていても よい C ,_6アルコキシ基を表し、
P2は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q2は、 ホルミル基、 シァノ基または CH = NOX3 (X3は、 水素原子; _6アルキル基; — 6 ハロアルキル基; C3 6 シクロアルキル基; C2 _ 6 アルケニル基; C2 _ 6 ハロアルケニル基; C2 6 アルキニル基; C6 i 。 ァリール基; C 7 2 ァラルキル基; C i _ 7 アル力ノィル基; C 7 _ ! ! ァリールカルボニル基; C2 7 ハロアルコキシ基; _ 6 アルキルス ルホニル基; C2 6 ァルケニルスルホニル基; C2 6 ハロアルケニルスル ホニル基; c2 6 アルキニルスルホニル基; c3 6 シクロアルキルスルホ ニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 - i 。 ァリールスルホニル 基; c7 _ ェ 2 ァラルキルスルホニル基;窒素原子、 酸素原子およびィォゥ原 子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 3〜 6員の複素環基; または 下記一般式 (9)
、 ( CH2 ) 、23 (9)
0
(式中、 nは 0〜2の整数を表し、
R21及び R22は、 それぞれ独立して、 水素原子、 ハロゲン原子、 (:卜 6アル キル基、 — 7 アルカノィル基、 C7 _ i i ァリールカルボニル基または C 2 _ 7 ハロアルコキシ基を表す。 W1は、 酸素原子、 硫黄原子、 または— NR2 4—で表される基 (式中、 R24は、 水素原子、 ― 6 アルキル基、 C26 アルケニル基または アルコキシ基を表す。 また、 R24は、 結合している 窒素原子及び R 23と一緒になつて、 1〜 2個の窒素原子及び 0〜 1個の酸素原 子を含有する 5〜 6員の複素環基を形成していてもよい。) を表す。
R23は、 水素原子; — 6アルキル基; _ 6 ハロアルキル基; C36 シクロアルキル基; C2 6 アルケニル基; C2 6 ハロアルケニル基; C2 _ 6 アルキニル基; C 6 Q ァリール基; C 7 _ ェ 2 ァラルキル基; もしく は窒素原子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を 含有する 3〜 6員の複素環基を表す。) で表わされる基を表す。 } で表わされる基を表す。]、
一般式 (3)
Figure imgf000125_0001
[式中、 R3は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい (^_6アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい Ci_6アルコキシ基を表し、
Ha 11はハロゲン原子を表し、
Q3は、 水素原子、 シァノ基、 ― 6 アルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキ ル基、 水酸基、 メルカプト基、 — 6 アルコキシ基、 _ 6 アルコキシ Cl _ 4 アルコキシ基、 C3 6 シクロアルキルォキシ基、 — 6 ハロアル コキシ基、 C2 6 アルケニルォキシ基、 C2 _ 6 ハロアルケニルォキシ基、 C2 _ 6 アルキニルォキシ基、 C6 — i 。 ァリールォキシ基、 C72 ァラ ルキルォキシ基、 — 6 アルキルチオ基、 〇ェ — 6 アルコキシ—Ci ― 4 ァ ルキルチオ基、 C3 _ 6 シクロアルキルチオ基、 _ 6 ハロアルキルチオ基、 C2 _ 6 アルケニルチオ基、 C2 _ 6 ハロアルケ二ルチオ基、 C2 6 アルキ 二ルチオ基、 C6 ェ 。 ァリールチオ基、 C7 i 2 ァラルキルチオ基、
_ 6 アルキルスルホニル基、 C3 6 シクロアルキルスルホニル基、 _ 6 ハロアルキルスルホニル基、 C2 6 ァルケニルスルホニル基、 C2 6 ノ\口 ァルケニルスルホニル基、 c2 6 アルキニルスルホニル基、 または、 一般式 ( 1 0) 一 Y— CH—
I
Figure imgf000126_0001
o
CH2-CH-C-Y-R12 15
— S02— N、 - 9C-Y-R12 -N(R15R16)
R14 R16 , もしくは
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または— N— R1 3 を表わし、
Y' は酸素原子またはィォゥ原子を表わし、
R1 1 は水素原子または ― 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 — 6 アルキル基、 C, _ 6 ハロアルキル基、 C36 シクロアルキル基、 C2 6 アルケニル基、 C2 6 ハロアルケニル基、 C
26 アルキニル基、 C6 — i 。 ァリール基、 C7 — i 2 ァラルキル基、 一 6 アルコキシ— 一 4 アルキル基、 C2 _ 6 アルケニルォキシ _ 4 アルキル基、 C2 _ 6 アルキニルォキシ ― 4 アルキル基、 C3 6 シク 口アルコキシ—C^ ― 4 アルキル基、 C2 7 アルコキシ力ルポニル— _
4 アルキル基、 C3 7 アルケニルォキシカルボ二ルー ― 4 アルキル基、
C37 アルキニルォキシカルボ二ルー _ 4 アルキル基、 C4 7 シクロ アルコキシカルポニル _ 4 アルキル基、 C2 _ 7 ハロアルコキシ力ルポ ニル— ― 4 アルキル基、 C3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルポ二ルー Ci
_ 4 アルキル基または C8 _ ! 3 ァラルキルォキシカルボ二ルー ― 4 アル キル基を表わし、
R1 3 は水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 アルコキシ— _ 4 ァ ルキル基、 — 7 アルカノィル基、 c7 ァリールカルポニル基、 c2
7 アルコキシカルボニル基、 C2 7 ハロアルコキシカルボニル基または C
3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルボ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または Ci 一 6 アルキル基を表わし、
R1 5 、 R1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; C _ 6 アルキル基; c2 _ 6 アルケニル基; c2 6 アルキニル基; c3 6 シクロアルキル基;
Cx _ 6 アルコキシ ― 4 アルキル基; C7 — i 2 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜6員の複素環で置換された _ 4 アルキル基; ― 7 アルカノィル 基; C7 — i ! ァリールカルボニル基; C2 7 ハロアルコキシ基; C27 アルコキシカルポニル基; C3 _ 7 アルケニルォキシカルポニル基; C37 アルキニルォキシカルボニル基; C4 _ 7 シクロアルキルォキシカルボニル 基; C2 7 ハロアルコキシカルポニル基; — 6 アルキルスルホニル基; C2 _ 6 ァルケニルスルホニル基; C26 ハロアルケニルスルホニル基; C
2 ― 6 アルキニルスルホニル基; C3 _ 6 シクロアルキルスルホニル基;
_ 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 — i Q ァリ一ルスルホニル基; C7 ― !
2 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
Figure imgf000127_0001
(式中、 R1 1 、 R1 2 および Υは上記と同意義である。) で表わされる基を表 す。 }
で表わされる基を表す。]、
一般式 (4)
Figure imgf000127_0002
{式中、 ( i) R4 が Ct 6 ハロアルキル基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q4が、 水酸基、 メルカプト基、 OX4 (式中、 X4は、 C2 6 アルキル基、 C, _ 6 シクロアルキル基、 C2 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル 基、 C2 _ 6 アルキニル基、 C6 - i 。 ァリール基または c7 _ ! 2 ァラルキ ル基を表す。)、 -SX -NHS02X -N (COX1) SOzX1または一 OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 C, ― 6 アルキル基、 _ 6 ハロ アルキル基、 c36 シクロアルキル基、 c26 アルケニル基、 c2 _ 6 ハ ロアルケニル基、 c26 アルキニル基、 c6 — i Q ァリール基または c7
2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基または C
26 アルキニル基を表す。) を表し、
(ii) R4 が (^_6ハロアルキル基で、 P4 がシァノ基で、かつ Q4が水酸基、 メルカプト基、 —〇X -SX -NHS02X -N (COX1) S02
X1または— OCH (X2) COOX1 (式中、 X1および X2は前記定義に同じ。) を表し、
(iii) R4 が アルキル基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q4がイソ プロポキシ力ルポ二ル基を表し、
(iv) R4 がハロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基で、 P4 がシァノ基で、 かつ Q4が _N (COR31) S02R32 (式中、 R31が C ! ― 6 アルキル基で R 32がメチル基であるか、または R31が C3 _ 6 アルキル 基で R32がェチル基である。)、 — N (COOR33) S02R34 (式中、 R33が C, ― 6 アルキル基で R34がメチル基であるか、または R33が C26 アルキ ル基で R34がェチル基である。)、 — N (R35) S02R36 (式中、 R35が C26 アルキニル基、 R36がメチル基である。) または— N (R37) S02R38 (式中、 R37がハロゲン原子で置換されていてもよい d ― 6 アルキル基、 ハ ロゲン原子で置換されていてもよい C2 _ 6 アルケニル基またはハロゲン原子 で置換されていてもよい _ 6 アルコキシメチル基、 R386 アルキ ル基である。) を表すか、 もしくは、
(V) R4 がハロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基で、 P4 がハロゲン原子で、 かつ Q4はイソプロポキシ基を表す。)、
一般式 (5)
Figure imgf000129_0001
[式中、 R5は、ハロゲン原子で置換されていてもよいじェ アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい アルコキシ基を表し、
Ha 12および Ha 13は独立してハロゲン原子を表し、
Q5は、 — S〇2X5 {X5は、 酸素原子、 ィォゥ原子および窒素原子から選択 される 1ないし 2個含有していてもよい環状アミノ基、 窒素原子を 1ないし 2 個の原子を含有する 3〜 6員の複素環基、 N_C27 アルカノィル— N— C ! _ 6 アルキルアミノ基、 N— C2 _ 7 アルカノィルァミノ基、 N_C27 アルコキシカルボ二ルーじェ _ , アルキルアミノ基または式 (11)
N—— CO十 CHり -OR (11)
R11'
(式中、 nは 0〜2の整数を表し、 R1 1 お よび R1 1 は同一または異な つて水素原子または ― 6 アルキル基を表す。) で表される基を表す。 } で表される基を表す。]、
もしくは一般式 (6)
Figure imgf000129_0002
[式中、 R6は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。 アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい Ci-eアルコキシ基を表し、
Ha 14および Ha 15は独立してハロゲン原子を表し、
Q6は、 水素原子; シァノ基; _ 6 アルキル基; C3 6 シクロアルキ ル基;水酸基;メルカプト基; — 6 アルコキシ基; 0^ 6 アルコキシ— C , _ 4 アルコキシ基; C3 6 シクロアルキルォキシ基; _ 6 ハロアル コキシ基; c2 6 アルケニルォキシ基; c2 6 ハロアルケニルォキシ基; c2 6 アルキニルォキシ基; c6 _ i 。 ァリールォキシ基; c72 ァラ ルキルォキシ基; — 6 アルキルチオ基; _ 6 アルコキシ Ci _ 4 ァ ルキルチオ基; C3 ― 6 シクロアルキルチオ基; _ 6 ハロアルキルチオ基; c2 _ 6 アルケニルチオ基; c2 _ 6 ハロアルケ二ルチオ基; c2 6 アルキ 二ルチオ基; c6 _ i Q ァリールチオ基; c7 _ i 2 ァラルキルチオ基;
_ 6 アルキルスルホニル基; C3 6 シクロアルキルスルホニル基; — 6 ハロアルキルスルホニル基; C2 6 ァルケニルスルホニル基; C2 6 ハロ ァルケニルスルホニル基; c2 _ 6 アルキニルスルホニル基;酸素原子、 ィォ ゥ原子および窒素原子から選択される 1ないし 2個含有していてもよい環状ァ ミノ基; または一般式 (7)
Figure imgf000130_0001
{式中、 Yは酸素原子、 ィォゥ原子または N— R1 3 を表わし、
R1 1 は水素原子または ― 6 アルキル基を表わし、
R1 2 は水素原子、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 一 ; シクロアルキル基、 C2 6 アルケニル基、 C2 6 ハロアルケニル基、 C
, ― 6 アルキニル基、 c6— i 。 ァリール基、 c7 — i ァラルキル基、 ― 6 アルコキシ— ― 4 アルキル基、 C2 _ 6 アルケニルォキシ
アルキル基、 C2 _ 6 アルキニルォキシ—Ci _ 4 アルキル基、 C3 _ 6 シク 口アルコキシ _Ci 一 4 アルキル基、 C2 7 アルコキシカルボ二ルー Ci ― 4 アルキル基、 C3 _ 7 アルケニルォキシカルボ二ルー _ 4 アルキル基、 C3 - 7 アルキニルォキシ力ルポニル— ― 4 アルキル基、 C4 7 シクロ アルコキシカルボニル— _ 4 アルキル基、 C2 7 ハロアルコキシ力ルポ ニル— _ 4 アルキル基、 c3 7 ハロアルケニルォキシカルボ二ルーじ 丄 _ 4 アルキル基または C8 ― ! 3 ァラルキルォキシ力ルポ二ルー _ 4 アル キル基を表わし、
R1 3 は水素原子、 CL 6 アルキル基、 — 6 アルコキシ _ 4 ァ ルキル基、 Ci 7 アルカノィル基、 c7 _ i i ァリールカルボニル基、 c2
_ 7 アルコキシカルボニル基、 C2 7 ハロアルコキシカルボニル基または C
3 _ 7 ハロアルケニルォキシカルポ二ル基を表わし、
R1 4 は水素原子、 ハロゲン原子または _ 6 アルキル基を表わし、 R1 5 、 R1 6 はそれぞれ独立であって、 水素原子; — 6 アルキル基; C2 6 アルケニル基; C2 6 アルキニル基; C3 6 シクロアルキル基; C, _ 6 アルコキシ _ 4 アルキル基; c7 — i 2 ァラルキル基;窒素原 子、 酸素原子およびィォゥ原子から選択される 1ないし 2個の原子を含有する 5〜 6員の複素環で置換された ― 4 アルキル基; — 7 アルカノィル 基; C7 ! ァリール力ルポニル基; C2 7 ハロアルコキシ基; C2 アルコキシカルボニル基; C3 7 アルケニルォキシ力ルポニル基; C37 アルキニルォキシカルボ二ル基; C47 シクロアルキルォキシカルポニル 基; C2 7 ハロアルコキシカルボニル基; — 6 アルキルスルホニル基; C2 _ 6 ァルケニルスルホニル基; C26 ハロアルケニルスルホニル基; C
2 ― 6 アルキニルスルホニル基; C3 6 シクロアルキルスルホニル基; (: 丄 ― 6 ハロアルキルスルホニル基; C6 — i 。 ァリールスルホニル基; C7 ― ! 2 ァラルキルスルホニル基; または一般式 (8)
Figure imgf000132_0001
(式中、 R1 1 、 R1 2 お よ び Y は上記と同意義である。) で表わされる基 を表す。 }
で表わされる基を表す。]
で示される化合物、
または、 2—クロ口— 5— (5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチルピリミジン—
4—ィル) 一 4—フルオロー N—メチルベンゼンスルホンアミド、
2—クロ口— 5—(5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4—ィル) —4—フルオロー N—ァセチルベンゼンスルホンアミド、
2—クロ口一 5—(5—クロ口一 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4—ィル)
2—クロ口一 5— (5 _クロ口— 6—ジフルォロメチルピリミジン— 4—ィル) 4— 〔5— (N—プロピルォキシカルボキシ— N—ェチルスルホニルァミノ) —4—シァノ一2—フルオロフェニル〕 一 5—クロ口 _ 6—ジフルォロメチル ピリミジン、 および、
5—クロ口一 4— (4一クロ口 _ 2—フルオロー 5—^ fソプロポキシフエニル) —6— (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ) ピリミジン
からなる群から選ばれる化合物
あるいは、 前記化合物の塩。
2. 一般式 (1) で示される化合物が、 一般式 (1 ')
Figure imgf000133_0001
{式中、 R1は、 C, _ 6 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されてい てもよい(:ぃ 6アルコキシ基を表し、
P1は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q1'は、 水酸基、 メルカプト基、 — OX1, -SX1, -NHS02X -N (COX1) SOsX1または一 OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 _
6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキル基、 C2
6 アルケニル基、 c26 ハロアルケニル基、 c26 アルキニル基、 c6
! 。 ァリール基または C7 _ ! 2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 C ! ― 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基または C26 アルキニル基を表す。) を表す。) で示される化合物であり、
一般式 (2) で示される化合物が、 一般式 (2 ')
Figure imgf000133_0002
{式中、 R2は、 C, _ 6 ハロアルキル基またはハロゲン原子で置換されてい てもよい C,^アルコキシ基を表し、
P2は、 シァノ基またはハロゲン原子を表し、
Q2'は、 ホルミル基、 シァノ基または CH = NOX3' (X3'は、 水素原子、 C, _ 6 アルキル基、 Ci — 6 ハロアルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基、 C2 _ 6 アルキニル基、 Cfi — i Q ァリール基または C7λ 2 ァラルキル基を表す。) を表す。 }、 で示される化合物であり、
一般式 (3) で示される化合物が、 一般式 (3')
Figure imgf000134_0001
{式中、 R3はハロゲン原子で置換されていてもよい Ci— eアルキル基またはハ ロゲン原子で置換されていてもよい Ci_6アルコキシ基を表し、
Q3'は、 水酸基、 メルカプト基、 —OX1, — SX1または— OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C
3 ― 6 シクロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C26 ハロアルケニル基、 C2 _ 6 アルキニル基、 C6 _ i 。 ァリール基または C7 _ ! 2 ァラルキル基 を表し、 X2は、 水素原子、 Ci — 6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C2 _ 6 アルケニル基、 C2 _ 6 ハロアルケニル基または C2 _ 6 アルキニル 基を表す。) を表す。 }
で示される化合物であり、
一般式 (6) で示される化合物が、 一般式 (6')
Figure imgf000134_0002
{式中、 R6は、 ハロゲン原子で置換されていてもよい アルキル基または ハロゲン原子で置換されていてもよい — 6アルコキシ基を表し、
Q6'は、 水酸基、 メルカプト基、 — OX -SX1, -NHS02X 一 N (COX1) SC^X1または— OCH (X2) COOX1 (式中、 X1は、 d 一
6 アルキル基、 — 6 ハロアルキル基、 C3 _ 6 シクロアルキル基、 C26 アルケニル基、 C2 6 ハロアルケニル基、 C2 6 アルキニル基、 C6
, 。 ァリール基または C7 ― ! 2 ァラルキル基を表し、 X2は、 水素原子、 C x6 アルキル基、 _ 6 ハロアルキル基、 c2 6 アルケニル基、 c2 _
6 ハロアルケニル基または C2 _ 6 アルキニル基を表す。) を表す。 }、 で示される化合物であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の化合物あ るいはその化合物の塩。
3. 一般式 (1) で示される化合物が、 一般式 (1 '')
Figure imgf000135_0001
(式中、 R1''は、 ジフルォロメチル基を表し、
P1"は、 シァノ基を表し、
Q1''は、 メトキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルポニルメトキシ 基、 または窒素上にァセチル基を有していてもよいメチルスルホニルァミノ基 もしくはェチルスルホニルァミノ基を表す。)
で示される化合物であり、
一般式 (2) で示される化合物が、 一般式 (2'')
Figure imgf000135_0002
(式中、 R2''は、 ジフルォロメチル基を表し、
P2"は、 塩素原子を表し、
Q2 は、 ホルミル基、 シァノ基、 CH = NOHまたは CH = NOCH3を表 す丄 で示される化合物であり、
一般式 (3) で示される化合物が、 一般式 (3 '')
Figure imgf000136_0001
(式中、 R3''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha 1 1は、 塩素原子または臭 素原子を表し、
Q3''は、 水酸基、 イソプロポキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカル ポニルメトキシ基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニルァミノ 基を表す。)
で示される化合物であり、
一般式 (4) で示される化合物が、 一般式 (4'')
(4")
Figure imgf000136_0002
(式中、 ( i ) R4 '' がジフルォロメチル基で、 Ρ4 " が塩素原子で、 かつ Q
4"がイソプロポキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルボニルメトキシ 基、 エトキシカルボニル基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニ ルァミノ基を表し、
(ii) R4 ' ' がジフルォロメチル基で、 P4 ' ' がシァノ基で、 かつ Q4'' がェチルスルホニルァミノ基を表し、
(iii) R4 '' がメチル基で、 P4 '' が塩素原子で、 かつ Q4''がイソプロ ポキシカルボ二ル基を表し、
(iv) R4 '' がメトキシ基で、 P4 '' が塩素原子で、 かつ Q4''がイソプロ ポキシ基を表すか、 もしくは、
(V) R4 " がメトキシ基で、 P4 " がシァノ基で、 かつ Q4''が窒素上に 置換基としてプロピル基、 ァリル基、 プロパルギル基、 メトキシメチル基、 ァ セチル基、 プロピオニル基、 プチリル基、 メトキシカルボニル基、 エトキシカ ルポニル基もしくはプロピルォキシ力ルポ二ル基を有するメチルスルホニルァ ミノ基、 または窒素上に置換基としてメチル基、 ェチル基、 プチリル基、 メト キシカルボ二ル基、 エトキシカルボ二ル基もしくはァリル基を有するェチルス ルホニルァミノ基を表す。)
で示される化合物であり、
—般式 (5) で示される化合物が、 一般式 (5'')
Figure imgf000137_0001
{式中、 R5''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha 12および Ha 13は、 独 立して塩素原子または臭素原子を表し、
Q5''は、 一 S02X5' (X5'はァセチルァミノ基、 メトキシァセチルァミノ 基、 プチリルアミノ基、 イソプチリルアミノ基、 メトキシカルボニルァミノ基 またはエトキシカルポニルァミノ基を表す。) を表す。 }
で示される化合物であり、
一般式 (6) で示される化合物が、 一般式 (6'')
Figure imgf000137_0002
(式中、 R6''は、 ジフルォロメチル基を表し、 Ha 14は塩素原子または臭素 原子を表し、 H a l 5は臭素原子、 フッ素原子を表し、
Q 6 ''は、 メトキシ基、 プロパルギルォキシ基、 エトキシカルポニルメトキシ 基、 メチルスルホニルァミノ基またはェチルスルホニルァミノ基を表す。)、 で示される化合物であることを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の化合物あ るいはその化合物の塩。
4. 請求の範囲第 1項〜第 3項に記載の化合物またはその塩を含有すること を特徴とする除草剤。
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