WO2004010746A1 - プラズマ処理装置及びその制御方法 - Google Patents

Abstract

検波器によって、処理容器から反射されるマイクロ波量を検出する。反射されたマイクロ波に基づいて負荷側インピーダンスを算出し、これをマイクロ波発振器側インピーダンスと整合させるための調整量を算出する。そして、算出された調整量を１未満の所定数倍して調整信号として出力する。この調整信号によって負荷整合器を制御することを繰返すことにより、負荷側インピーダンスは漸次に発振器側インピーダンスに近づき、整合状態が達成される。

Description

明 細 書 プラズマ処理装置及びその制御方法

発明の分野

本発明は半導体製造及び液晶ディ スプレイパネル製造に使用され るプラズマ処理装置及びその制御方法に係り、 特にマイ ク ロ波発振 器が発生するエネルギを負荷である真空容器内部のプラズマ状態の ガスに効率良く伝達できるマイ ク ロ波プラズマ処理装置に関する。

背景技術

半導体製造過程において、 ウェハ上に薄膜を形成するために P V D、 C V D等のプラズマ処理装置が使用されている。

プラズマ処理装置にも種々の形式が存在するが、 マグネ ト 口 ン等 のマイ ク ロ波発振器から導波管を介してアンテナにマイ ク ロ波を導 き、 アンテナからマイ ク ロ波を真空容器内に放射し、 マイク ロ波に よってガス分子を励起してウェハ表面に薄膜を形成するマイク ロ波 プラズマ処理装置も多用されている。

このマイク ロ波プラズマ処理装置にあっては、 エネルギの有効利 用及び製品の高品質化の観点から、 マイク ロ波発振器が発生するマ イク 口波を効率よく真空容器内部のプラズマに導く と と もに、 真空 容器内の電界を均一にするこ とが重要である （特開 2 0 0 2— 5 0 6 1 3公報参照） 。

と ころでマイ ク ロ波発振器が発生するエネルギを効率よく プラズ マに供給するためには、 発振器側から見た負荷イ ンピーダンス、 即 ちプラズマの等価イ ンピーダンスと負荷側から発振器を見たィ ンピ 一ダンスが整合するこ とが必要である。 したがって、 負荷側のイ ン ピーダンスを調整して整合状態を達成するために発振器とアンテナ の間に負荷整合器が設置されている。

しかしながら、 プラズマの等価ィ ンピーダンスはプラズマ密度に 応じて非線形に変化するため、 負荷整合器の調整は容易でない。 発明の開示

本発明は上記課題に鑑みなされたものであって、 マイ ク ロ波発振 器が発生するエネルギを負荷である真空容器内部のガスに効率良く 伝達するこ とが可能なプラズマ処理装置及びその制御方法を提供す るこ とを目的とする。

本発明は、 マイ ク ロ波をプラズマ生成のために利用するプラズマ 処理装置において、 イ ンピーダンスを調整可能な負荷整合器と、 処 理容器から反射されるマイ ク ロ波を検出する検波器とを備え、 検出 器によ り検出されたマイク ロ波に基づいて算出された処理容器側ィ ンピーダンスがマイク 口波発振器側ィ ンピーダンスと整合するよ う に前記負荷整合器を段階的に制御するものである。

本発明によれば、 イ ンピーダンス整合が確実にとれ、 マイ ク ロ波 発振器が発生するエネルギを効率よく処理容器に伝達するこ とが可 能となる。

また、 本発明においては、 処理容器側イ ンピーダンスがマイ ク ロ 波発振器側ィ ンピ一ダンス と整合するために必要な負荷整合器の調 整量を算出して、 算出された調整量の 1未満の所定倍を調整信号と して出力して、 処理容器側ィ ンピーダンスがマイ ク ロ波発振器側ィ ンピーダンス と整合するまで、 調整信号に基づく負荷整合器の制御 を段階的に繰返すものである。

倍数は可変であってもよ く 、 調整量が大きいときは倍数を大き く 、 調整量が小さいときは倍数を小さ く してもよい。 このよ う にして 、 プラズマの状態の変化に起因して負荷側イ ンピーダンスが変化し た場合にも確実に整合を達成するこ とが可能となる。

さ らに、 本発明による と、 処理容器にプラズマが生成されていな い場合には、 算出され調整量をそのまま調整信号と して出力し、 プ ラズマが生成されている場合には調整量の 1未満の所定倍を調整信 号と して出力するこ ともできる。

この場合、 プラズマ生成前は、 プラズマ生成後よ り迅速に整合を とるこ とが可能となる。 図面の簡単な説明

以下、 本発明を添付の図面を参照しながら説明する。

図 1 は、 本発明が適用されるプラズマ処理装置の断面図、 図 2は、 プラズマ密度 n_eとプラズマ誘電率 _ε 。の関係を示すダラ フ、

図 3は 負荷整合器及び検波器を含む円形導波管部の第一の構成 図、

図 4は スタブ調整の概念図、

図 5 は 第一の負荷整合器制御部の構成図、

図 6 は 負荷整合器制御ルーチンのフ ローチヤ一ト、

図 7 は 第二の負荷整合器制御部の構成図、 及び

図 8 は、 負荷整合器及び検波器を含む円形導波管部の第二の構成 図である。 発明を実施するための最良の形態

図 1 は本発明が適用されるプラズマ処理装置の断面図であって、 処理容器 1 0は、 有底円筒容器 1 0 1 とこの有底円筒容器 1 0 1 の 蓋である石英板 1 0 2で構成される。 処理容器 1 0の内部には載置台 1 0 3が設置され、 その上に加工 対象であるウェハ 1 0 4が載置される。 ウェハ 1 0 4を载置台 1 0 3に固定するために、 載置台 1 0 3内に静電チャ ックを設けてもよ い。 なお、 この载置台 1 0 3にはバイ アス用高周波電源 1 0 5が接 続されている。

処理容器 1 0の側壁には処理容器 1 0内にガスを供給するガス供 給管 1 0 6が、 底面にはガスを排出するガス排気管 1 0 6 ' が設置 されている。

石英板 1 0 2の上には平板ス口 ッ トアンテナ 1 0 7が設置され、 平板ス口 ッ トアンテナ 1 0 7は円盤状のラジアル導波箱 1 0 8で覆 われている。

ラジアル導波箱 1 0 8の中央には円形導波管 1 0 9が接続され、 円形導波管 1 0 9 は矩形導波管 1 1 0 を介してマイ ク ロ波発振器 1 1 1 に接続される。

なお、 円形導波管 1 0 9 のラジアル導波箱 1 0 8側に負荷整合器 1 1 2が、 矩形導波管 1 1 0側には円偏波変換器 1 1 3が挿入され ている。 また負荷整合器 1 1 2 と円偏波変換器 1 1 3 の間には検波 器 1 1 4が設置される。

さ らに平板スロ ッ トアンテナ 1 0 7の中心にはマイク 口波を均等 に分布させるために例えば金属製の円錐状のバンプ 1 1 5が設置さ れている。

有底円筒容器 1 0 1 を石英板 1 0 2で蓋をして真空にした後、 ガ ス供給管 1 0 6からガスを注入して平板スロ ッ トアンテナ 1 0 7か らマイ ク ロ波を放射すると、 ガス分子はプラズマ化される。

このプラズマの誘電率_{∑ D}は [数 1 ] で表される。

で はプラズマの固有角周波数 ωはマイ ク 口波電源の発振角周波数 ここでプラズマ角周波数 _eの自乗はプラズマ密度 n_eに比例する ので [数 2 ] が成立する。

こ こで n_eはプラズマ密度

図 2はプラズマ密度 n_eとプラズマ誘電率 ε _ρの大略の関係を示す グラフであって、 マイ ク ロ波発振器の発振周波数を 2. 4 5 GH z である とする と、 プラズマ密度 n_eが 1立方センチメー トル当た り約 7 X 1 O ¹⁰のときプラズマ角周波数 o>_eとマイ ク ロ波発振器 1 1 1 の発振角周波数は等しく なり、 プラズマ誘電率 ε _pは零となる。 ま た、 プラズマの等価イ ンピーダンス Z_pは大略プラズマ誘電率 ε _ρの 一 1 Ζ 2乗に比例するので、 [数 3 ] が成立する。 一 1/2 1

oc

Ρ Ρ

Ρ よって [数 1 ] [数 3 ] よ り、 [数 4 ] が成立する。

、

一 k 2

、

ω ノ ただし、 k は比例定数 n _e はプラズマ密度 ωはマイ ク 2 1 口波発振器の発振周波数 このよ うに、 プラズマの等価イ ンピーダンス ζ _ρ は、 プラズマ密 度 n _e の関数となる。 従って、 プラズマイ ンピーダンスを含む処理 容器側イ ンピーダンスをマイ ク ロ波発振器側イ ンピーダンス と整合 させるために処理容器側イ ンピーダンスに対応して算出された量だ け負荷整合器を操作する と、 処理容器内のプラズマ状態が変化しプ ラズマの等価イ ンピーダンスが変化してしまい、 負荷整合器の調整 量を再度変更するこ とが必要となる。

また、 処理容器内のプラズマの等価イ ンピーダンスは [数 4 ] に 示すよ う にプラズマ密度の非線形関数と して表されるので、 一回の 負荷整合器の操作で整合状態を実現するこ とは困難な場合がある。 そこで、 本発明では検波器 1 1 4 と負荷整合器 1 1 2 を、 制御部 を介して結合するこ とによって漸次整合状態を達成する。

図 3 は負荷整合器及び検波器を含む円形導波管の第一の構成図で あって、 負荷整合器 1 1 2はスタブ型である。 円形導波管 1 0 9の 軸方向に進行するマイ ク ロ波の管内波長 L _gの 1 / 4の間隔を隔て て設置された 3つのスタブ 1 1 2 1、 1 1 2 2、 1 1 2 3を一つの スタブ群 1 1 2 とするスタブ群が、 円形導波管 1 0 9の周上に 9 0 度間隔に四組設置される。

各スタブ群のそれぞれのスタブは、 例えばパルスモータと ラ ック • ピニオンで構成される駆動機構によって円形導波管 1 0 9の半径 方向に挿入 · 引き抜きが可能な構成となっている。

即ち、 スタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2、 1 1 2 3の円形導波管 1 0 9 への挿入量 _{X l}、 x ₂、 x ₃を調整し、 負荷側、 即ち処理容器 1 0 1 側で反射されて戻ってく るマイ ク ロ波のうち負荷側に再反射する割 合を変更するこ とによ り、 負荷側のイ ンピーダンスを調整するこ と ができる。

円形導波管 1 0 9の負荷調整器 1 1 2の上流側には検波器 1 1 4 が配置されるが、 検波器 1 1 4は負荷整合器 1 1 2 と同じく 円形導 波管 1 0 9の軸方向に進行するマイ ク ロ波の管内波長； L _gの 1 / 8 の間隔を隔てて設置された 3つの検波素子 1 1 4 1， 1 1 4 2， 1 1 4 3 を一つの検波素子群 1 1 4 とする検波素子群が、 円形導波管 1 0 9の周上に 9 0度間隔に四組又は 9 0度異なる位置に二組設置 される。

3つの検波素子 1 1 4 1， 1 1 4 2 , 1 1 4 3 によって検出され る電圧を V 、 v ₂、 v₃とすれば、 [数 5 ] が成立する。

+「²+ 2「 cose

2

v₂=K 1 +「²—2insin0

2

ν₃= 4 1 +「²-2|「|cos0

v iはマイ ク 口波発振器の出力電圧 Γは反射係数

Θは位相 従って 3つの検波素子 1 1 4 1 , 1 1 4 2， 1 1 4 3で検波電圧 V J , ν ₂、 V ₃が検出されれば、 反射係数 Γ及び位相 0 を算出する こ とができる。

この反射係数 Γ、 位相 0及びスタブ位置に基づいて各スタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2、 1 1 2 3のリ アクタンスが計算できるので負荷側 のイ ンピーダンスを算出するこ とができる。

その後負荷側のィ ンピーダンスがマイ ク 口波発振器.側のィ ンピ一 ダンスと整合するスタブの挿入位置を算出し、 現在の挿入位置から の偏差を求め、 この偏差に基づいてスタブを操作する。

図 4はスタブ調整の概念図であって、 スタブ挿入量 χ 、 χ ₂、 X ₃を右手三次元座標系の各軸にとる。

検波器から処理容器側を見たときのイ ンピーダンス Z _Lは、 [数 6 ] に示すよ う にブラズマ誘電率 _{ε ρ}だけでなく スタブ挿入量 X ₁、 x ₂、 x₃の関数と して表される。

即ち、 スタブ調整は、 三次元座標系において各軸成分が （ χ _{1 0}，

X 20 , X 3θ ) であるべク トルと して表される検波器から処理容器側 を見たときのイ ンピーダンス Z_L。を、 各軸成分が （ x _{1 N} x _{2 N} x _3N) であるべク トルと して表される整合イ ンピーダンス z_LNに移動させ る操作と考えるこ とができる。

そして、 二つのべク トノレ （ X I Q， X 20 , X 30 ) 及び （ X I N X 2 N X ₃

) の各成分が既知であれば、 イ ンピーダンス z _LQを整合イ ンピー ダンス Z_LNまで移動させる操作べク トルは一義的に決定される。

しかし、 前述したよ う に検波器から処理容器側を見たときのイ ン ピーダンス Z まプラズマ誘電率 ε _pの関数でもあるから、 破線で示 すよ う に初期位置 （ X _{1 0}， X 20 , 30 ) から最終位置 （ X _{1 N} X _{2 N} X _{3 N}) まで直接移動させる と、 移動中にプラズマ誘電率 ε _pが変化し、 その結果処理容器側を見たときのイ ンピーダンス Z_Lが変化するの で、 整合状態となるこ とは保証されない。

そこで本発明では、 実線で表されるよ うに負荷イ ンピーダンスを 監視しながら徐々 にス タブ挿入量を調節して、 最終的に整合状態を 達成するよ う にしている。

即ち、 初期位置 （ X _{1 ()}， X 20 , X 30 ) を最終位置 （ x _{1 N}， X _{2 N} ,

X _{3 N}) に移動させる操作べク トルを求め、 負荷側ィ ンピ一ダンスを 初期位置 から操作べク トルの 1未満の所定倍だけ移動させる。 以後移動後の負荷イ ンピーダンスを初期位置と して上記手順を繰 り返すことによ り最終的に整合状態を達成する。

図 5は本発明に係るプラズマ処理装置に適用される第一の負荷整 合器制御部の構成図であって、 検波素子 1 1 4 1、 1 1 4 2及び 1 1 4 3の出力は制御部 5 1 に取り込まれる。 また、 スタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2及び 1 1 2 3の挿入量を調整するァクチユエータ 5 2 1 、 5 2 2及び 5 2 3は制御部 5 1から出力される操作信号によって 駆動される。

制御部 5 1 は、 例えばマイ ク ロ コ ンピュータシステムであり、 端 末 5 3を介して操作される。

図 6は制御部 5 1で実行される負荷整合器制御ルーチンのフ ロー チャー トであって、 所定の時間間隔ごとに割り込み処理と して実行 される。

まず、 ステップ 6 0で検波器 1 1 4を構成する 3つの検波素子 1 1 4 1、 1 1 4 2及び 1 1 4 3の出力電圧 _{V l}、 v₂、 v₃を読み込 み、 ステップ 6 1で [数 4 ] を使用して反射係数 Γ及び位相差 0を 算出する。 ステップ 6 2でスタブ位置に基づいて各スタブ 1 1 2 1、 1 1 2 2及び 1 1 2 3のリ アクタンスを求める。

次にステップ 6 3で反射係数 Γ及び位相差 0 を使用して、 3つの スタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2及び 1 1 2 3が 1 Z 4波長間隔で配置さ れているこ とを考慮して検波器 1 1 4から負荷側を見たインピーダ ンス、 即ち処理容器 1 0 1 内のプラズマ、 平面スロ ッ トアンテナ 1 0 7、 ラジアル導波管 1 0 8、 及び負荷整合器 1 1 2の合成イ ンピ 一ダンス Z_Lを算出する。

ステップ 6 4で検波器 1 1 4からマイク ロ波発振器 1 1 1 を見た イ ンピーダンス Z_sと整合する整合負荷側イ ンピーダンス Z_{L N} を算 出し、 ステップ 6 5で整合負荷側イ ンピーダンス Z_{L N} を実現する 整合スタブ挿入量 x _{1 N} 、 x_{2 N} 、 x_{3 N} を算出する。

ステップ 6 6で現在のスタブ挿入量 （ _{X l}、 x₂、 x ₃) と整合ス タブ挿入量 （ x _{1 N} 、 x_{2 N} 、 x_{3 N} ) の差である挿入量偏差 （Δ χ ₁ 、 Δ χ₂、 Δ χ ₃) を算出する。

そしてステップ 6 7で挿入量偏差 （Δ χい Δ χ₂、 Δ X ₃) が予 め定められた閾値 Ε未満であるかを判定する。

そして、 ステップ 6 7で否定判定されたとき、 即ち挿入量偏差 （ Δ X J , Δ χ₂、 厶 x₃) が予め定められた閾値 E以上である ときは 、 ステップ 6 8で揷入量偏差 （Δ χい Δ χ₂、 Δ X ₃) の m (ただ し、 mく 1. 0であり、 例えば 0. 5 ) 倍を操作信号と して出力し てこのルーチンを終了する。 する と、 パルスモータ 5 2 1、 5 2 2 及び 5 2 3はこの操作信号に応じて回転し、 スタブ 1 1 2 1、 1 1 2 2及び 1 1 2 3の挿入量が調節される。

逆にステップ 6 7で肯定判定されたとき、 即ち挿入量偏差 （△ X ！ , Δ χ₂、 Δ χ ₃) が予め定められた閾値 Ε未満である ときは整合 が達成されたものと して、 操作信号を出力せずに直接このルーチン を終了する。 この場合はスタブの挿入量は変化せず整合状態が維持 される。

上記方法によれば確実に整合状態に到達可能であるが、 処理容器

1 0 1 内にプラズマが形成される前は負荷側のイ ンピーダンスはほ ぼ一定であるにも係らず、 スタブの挿入量が制限されて整合状態に 到達するまでに時間を要する。

そこで、 プラズマ形成前は m = l . 0 と してスタブの挿入量を大 き く して整合状態に到達するまでの時間を短縮し、 プラズマ形成後 は m < l . 0 と して確実に整合状態に到達するよ うにしてもよい。 プラズマが形成されこ とは、 処理容器側壁に石英ガラスをはめ込 んだ窓 1 2 0 (図 1 )を介して光電素子 1 2 1 によ り プラズマ光を検 出するこ とによ り判定可能である。 即ち、 光電素子 1 2 1 がプラズ マ光を検出していないと きは m = l . 0 と し、 プラズマ光を検出後 は m < 1 . 0 とすればよい。

上記制御部は一台のマイ ク ロ コンピュータで全ての機能を実行す るため、 負荷整合器制御ルーチンの実行間隔をある程度短く しなけ れば、 整合状態に到達するまでの時間が一層長く なってしま う。

図 7は本発明に係るプラズマ処理装置に適用される第二の負荷整 合器制御部の構成図であって、 上記課題を解決するために、 制御部 を階層構成と している。

即ち制御部 5 1 は、 演算部 5 1 0 と三台の位置制御部 5 1 1 、 5 1 2、 5 1 3で構成されている。

さ らに、 スタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2、 1 1 2 3の挿入量を調節す る三台のパルスモータ 5 2 1 、 5 2 2、 5 2 3にロータ リーェンコ ーダ 5 4 1 、 5 4 2、 5 4 3が直結されている。

そして、 ロータ リ ーエンコーダ 5 4 1 、 5 4 2 、 5 4 3で検出さ れるスタブの挿入量は対応する位置制御部 5 1 1 、 5 1 2、 5 1 3 にフィー ドバック されるほか、 演算部 5 1 0にも取り込まれる。 本構成においては、 負荷整合器制御ルーチンのステップ 6 0〜 6 7までが演算部 5 1 0で実行され、 3つのスタブ 1 1 2 1 、 1 1 2 2、 1 1 2 3に対する操作指令を各位置制御部 5 1 1 、 5 1 2、 5 1 3に出力する。

各位置制御部 5 1 1 、 5 1 2、 5 1 3は、 操作指令及び口一タ リ 一エンコーダ 5 4 1 、 5 4 2、 5 4 3で検出されるスタブの実際の 挿入量に基づいてスタブ挿入量を制御する。

本構成によれば、 演算部 5 1 0は各パルスモータの動作が終了を 待つこ となく、 各スタブの目標挿入量の算出及び各位置制御部 5 1 1 、 5 1 2、 5 1 3 は各スタブの挿入量の制御に専念できるので、 整合状態に迅速に到達するこ とが可能となる。

このとき、 偏差量が大きい時にモータ速度を大き く 、 偏差量が小 さい時にモータ速度を小さ く して、 スタブの移動速度を大き く最終 的には負荷整合までの時間を短くするこ とができる。

さ らに上記実施形態にあっては、 負荷整合器と してスタブ構造を 使用しているが、 他の形式を適用するこ と も可能である。

図 8は円形導波管部の第二の構成図であって、 負荷整合器はスタ ブ構造に代えてショー トブランジャ構造を採用している。

即ち、 円形導波管 1 0 9 には外側半径方向に延びる中空筒 8 1 1 、 8 1 2及び 8 1 3が取り付けられている。 この中空筒 8 1 1 、 8 1 2及び 8 1 3の内部で金属板 8 2 1 、 8 2 2及び 8 2 3 を移動さ せるこ とによって、 ィ ンピーダンスを調整するこ とができる。

金属板はスタブと同じく ラ ック · ピニオンとパルスモータによつ て駆動されるので、 上記第一及び第二の負荷整合器制御部を適用で きる。

Claims

請 求 の 範 囲

1 . 処理容器と、

マイ ク ロ波を生成するマイ ク ロ波発振器と、

前記処理容器内に前記マイ ク ロ波を放射するアンテナと、 前記マイ ク ロ波発振器で発生した前記マイ ク ロ波を前記アンテナ に導く 導波管と、

前記導波管に設置され、 イ ンピーダンスを調整可能な負荷整合器 と、

前記導波管に設置され、 前記処理容器から反射されるマイ ク ロ波 を検出する検波器と、

前記検出されたマイ ク 口波に基づいて算出された処理容器側ィ ン ピーダンスがマイ ク ロ波発振器側イ ンピーダンス と整合する よ う に 前記負荷整合器を段階的に制御する制御部と

を具備するプラズマ処理装置。

2 . 前記制御部が、 前記処理容器側イ ンピーダンスがマイ ク ロ波 発振器側イ ンピーダンスと整合するために必要な前記負荷整合器の 調整量を算出する負荷整合器調整量算出部と、

前記算出された調整量の 1未満の所定倍を調整信号と して出力す る調整信号出力部とを備え、

前記処理容器側ィ ンピーダンスがマイ ク ロ波発振器側イ ンピーダ ンス と整合するまで、 前記調整信号に基づく前記負荷整合器の制御 を段階的に繰返す請求項 1 に記載のプラズマ処理装置。

3 . 前記制御部が、 前記処理容器内にプラズマが生成されたこ と を検出するプラズマ検出部をさ らに具備し、

前記調整信号出力部が、 前記プラズマ検出部によ り プラズマが生 成されていないと判定されたときには前記負荷整合器調整量算出部 で算出され調整量をそのまま調整信号と して出力し、 前記プラズマ 検出部によ り プラズマが生成されていると判定されだときには前記 負荷整合器調整量算出部で算出された調整量の 1未満の所定倍を調 整信号と して出力する請求項 2に記載のプラズマ処理装置。

4 . 前記制御部が、 前記負荷整合器の調整位置を検出する調整位 置検出器をさ らに具備し、

前記制御部が、 前記調整信号出力部から出力される前記調整信号 と前記調整位置との差に応じて前記負荷整合器を制御する請求項 2 に記載のプラズマ処理装置。

5 . 前記負荷整合器が、 スタブ構造である請求項 1 に記載のブラ ズマ処理装置。

6 . 前記負荷整合器が、 ショー トプランジャ構造である請求項 1 に記載のプラズマ処理装置。

7 . 処理容器内にマイ ク ロ波を放射して生成されるプラズマを利 用するプラズマ処理装置の制御方法であって、

前記処理容器から反射されるマイ ク 口波に基づいて処理容器側ィ ンピーダンスを算出する段階と、

前記算出された処理容器側ィ ンピ一ダンスが発振器側ィ ンビーダ ンスと整合するために必要な処理容器側ィ ンピ一ダンスの調整量を 算出する段階と、

前記算出された調整量の 1未満の所定倍を調整信号と して出力す る段階と、

前記処理容器側ィ ンピ一ダンスがマイ ク 口波発振器側ィ ンビーダ ンス と整合するまで、 前記出力される調整信号に基づく 前記処理容 器側イ ンピーダンスの制御を繰り返し実行するプラズマ処理装置の 制御方法。

8 . 前記信号出力段階が、 プラズマが生成されていないと きには 前記算出された調整量をそのまま調整信号と して出力し、 プラズマ が生成されているきには前記算出された調整量の 1未満の所定倍を 調整信号と して出力する請求項 7 に記載のプラズマ処理装置の制御 方法。